JP2009044018A - プリント基板用材料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シアノ基(−CN)、特定の一般式で表される第1官能基および特定の一般式で表される第2官能基より成る群から選択される少なくとも1種の反応性官能基を有する架橋性ポリテトラフルオロエチレン、又は架橋性ポリテトラフルオロエチレンを架橋反応させて得られるポリテトラフルオロエチレン架橋体が含有されるプリント基板用材料。
【選択図】なし
Description
本実施の形態に係る架橋性PTFEとしては、架橋反応可能な部位として、シアノ基(−CN基)ならびに下記一般式(1)および(2)で表される架橋性反応基を有するものが好ましく挙げられる。
このタイプの架橋反応では、アゾール、トリアゾール、アジン、ジアジン、トリアジン等が形成される。このような架橋反応としてはトリアジン環化反応を経て形成される架橋構造が一例として挙げられる(化学反応式(A)参照)。
COOHやCOOMeは150℃以上に加熱すれば脱CO2を起こしてラジカルを生成する。また、COHやCOClの場合は、脱COを起こしてラジカルを生成する。そして、これらのラジカルがカップリングすることにより架橋構造が形成される(化学反応式(C)および(D)参照)。
CY1Y2=CY3(O)m(R8)n−Z1 (3)
(式中、Y1〜Y3はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、−CH3、または−CF3であり、R8は2価の有機基であり、nは0または1であり、mは、nが0である場合は0、nが1である場合は0または1であり、Z1は上記官能基のいずれかである)
(i)直鎖型の最小構造単位:
−CH2−、−CHF−、−CF2−、−CHCl−、−CFCl−、−CCl2−
(ii)分岐型の最小構造単位:
などを挙げることができる。また、上記の構成から、下記の化合物が一例として例示し得る。
CH2=CH−(CF2)n−Z2 (4)
(式中、nは2〜8の整数)
CY4 2=CY4(CF2)n−Z2 (5)
(式中、Y4は水素原子またはフッ素原子、nは1〜8の整数である)
CF2=CFCF2Rf 4−Z2 (6)
(式中、
CF2=CFCF2(OCF(CF3)CF2)m
(OCH2CF2CF2)nOCH2CF2−Z2 (7)
(式中、mは0〜5の整数であり、nは0〜5の整数である)
CF2=CFCF2(OCH2CF2CF2)m
(OCF(CF3)CF2)nOCF(CF3)−Z2 (8)
(式中、mは0〜5の整数であり、nは0〜5の整数である)
CF2=CF(OCF2CF(CF3))mO(CF2)n−Z2 (9)
(式中、mは0〜5の整数であり、nは1〜8の整数である)
CF2=CF(OCF2CF(CF3))m−Z2 (10)
(式中、mは1〜5の整数である)
CF2=CFOCF2(CF(CF3)OCF2)nCF(−Z2)CF3 (11)
(式中、nは1〜4の整数である)
CF2=CFO(CF2)nOCF(CF3)−Z2 (12)
(式中、nは2〜5の整数である)
CF2=CFO(CF2)n−(C6H4)−Z2 (13)
(式中、nは1〜6の整数である)
CF2=CF(OCF2CF(CF3))nOCF2CF(CF3)−Z2 (14)
(式中、nは1〜2の整数である)
CH2=CFCF2O(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)−Z2 (15)
(式中、nは0〜5の整数である)、
CF2=CFO(CF2CF(CF3)O)m(CF2)n−Z2 (16)
(式中、mは0〜5の整数、nは1〜3の整数である)
CH2=CFCF2OCF(CF3)OCF(CF3)−Z2 (17)
CH2=CFCF2OCH2CF2−Z2 (18)
CF2=CFO(CF2CF(CF3)O)mCF2CF(CF3)−Z2 (19)
(式中、mは0以上の整数である)
CF2=CFOCF(CF3)CF2O(CF2)n−Z2 (20)
(式中、nは1以上の整数である)
CF2=CFOCF2OCF2CF(CF3)OCF2−Z2 (21)
CF2=CF−(CF2C(CF3)F)n−Z2 (22)
(式中、nは、1〜5の整数である)、
CF2=CFO−(CFY5)n−Z2 (23)
(式中、Y5はFまたは−CF3であり、nは1〜10の整数である)
CF2=CFO−(CF2CFY6O)m−(CF2)n−Z2 (24)
(式中、Y6はFまたは−CF3であり、mは1〜10の整数であり、nは1〜3の整数である)
CH2=CFCF2O−(CF(CF3)CF2O)n−CF(CF3)−Z2 (25)
(式中、nは0〜10の整数である)
CF2=CFCF2O−(CF(CF3)CF2O)n−CF(CF3)−Z2 (26)
(式中、nは1〜10の整数である)
(一般式(4)〜(26)中、Z2は、上記官能基のいずれかである)
CF2=CF−CF2−CN、CF2=CF−CF2CF2−CN、
CF2=CF−CF2−COOCH3、CF2=CF−CF2CF2−COOCH3、
などが挙げられるが、架橋反応性の点で、
CF2=CF−CF2−CN、CF2=CF−CF2CF2−CN
CF2=CF−CF2−COOH、CF2=CF−CF2CF2−COOH、
CF2=CF−CF2−COOCH3、CF2=CF−CF2CF2−COOCH3であることが好ましい。
CF2=CFCF2C(CF3)FCN、CF2=CF(CF2C(CF3)F)2CN、
CF2=CF(CF2C(CF3)F)2COOH、
CF2=CFCF2C(CF3)FCOOCH3、
CF2=CF(CF2C(CF3)F)2COOCH3、
などが挙げられるが、重合反応性という点で、CF2=CFCF2C(CF3)FCOOHであることが好ましい。
CF2=CFOCF2CF2CF2CN、CF2=CFOCF2CF2CN、
CF2=CFOCF2CN、
CF2=CFOCF2COOH、
CF2=CFOCF2CF2CF2COOCH3、
CF2=CFOCF2CF2COOCH3、CF2=CFOCF2COOCH3
などが挙げられるが、架橋反応性、重合反応性という点で、
CF2=CFOCF2CF2CF2COOH、CF2=CFOCF2CF2COOH、
CF2=CFOCF2CF2CF2COOCH3、
CF2=CFOCF2CF2COOCH3であることが好ましい。
CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2CN、
CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2COOCH3、
などが挙げられるが、反応性の点で、
CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2CN、
CH2=CFCF2OCF(CF3)CN、
CH2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)CN、
CH2=CFCF2O(CF(CF3)CF2O)2CF(CF3)CN、
CH2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COOH、
CH2=CFCF2O(CF(CF3)CF2O)2CF(CF3)COOH、
CH2=CFCF2OCF(CF3)COOCH3、
CH2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COOCH3、
CH2=CFCF2O(CF(CF3)CF2O)2CF(CF3)COOCH3、
などが挙げられるが、重合反応性という点で、CH2=CFCF2OCF(CF3)CN、
CH2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)CN、
CH2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COOH、
CH2=CFCF2OCF(CF3)COOCH3、
CH2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COOCH3、
であることが好ましい。
CF2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)CN、
CF2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COOCH3、
などが挙げられるが、反応性の点で、
CF2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)CN、
CF2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COOH、
CF2=CFCF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)COOCH3であることが好ましい。
I(CF2CF2)nI (27)
ICH2CF2CF2(OCF(CF3)CF2)mOCF(CF3)−Z3 (28)
ICH2CF2CF2(OCH2CF2CF2)mOCH2CF2−Z3 (29)
I(CF2)nZ3 (30)
I(CH2CF2)nZ3 (31)
ICF2CF2OCF2CF(CF3)OCF2CF2−Z3 (32)
ICH2CF2CF2OCH2CF2−Z3 (33)
ICF2CF2OCF2CF2−Z3 (34)
ICF2CF2O(CF2)nOCF2CF2−Z3 (35)
(式中、Z3は上記官能基のいずれかであり、mは0〜5の整数であり、nは1以上の整数である)で示される化合物などを用いることができる。これらの中でも、架橋剤と反応可能な架橋部位を有する点から、一般式(28)〜(35)で示される連鎖移動剤が好ましい。
PTFE架橋体粉末は、架橋性PTFEの粉末を適宜適切であると思われる条件下で処理されて得られる。シアノ基およびシアノ基誘導体を用いる場合は、200℃以上で熱処理してPTFE架橋体粉末を得ることができる。この場合、架橋反応処理としては、架橋性PTFE粉末を空気循環炉等にて270℃以上で長時間加熱することが好ましく、反応速度を速めるために270℃〜320℃で1〜50時間加熱することがより好ましい。また、あらかじめPTFE架橋体粉末を得る工程を経ずとも、成形・焼成工程において架橋反応を進行させることができる。また、カルボン酸およびカルボニル誘導体を用いる場合も200℃以上で熱処理することによりPTFE架橋体粉末を得ることができる。この場合、架橋反応処理としては、架橋性PTFE粉末を空気循環炉等にて250℃以上で長時間加熱することが好ましく、反応速度を速めるために250℃〜320℃で1〜30時間加熱することがより好ましい。あらかじめPTFE架橋体粉末を得る工程を経ずに成形・焼成工程において架橋反応を進行させることも可能である。
架橋性PTFEあるいはPTFE架橋体粉末から成形体を得る方法は通常の方法でよく、例えば、圧縮成形法や、ラム押出成形法、ペースト押出成形法などの公知の方法が挙げられる。圧縮成形法により成形体を得る場合は、ホットコイニング法での成形も可能であるが、ホットコイニング法よりも生産性の高いフリーベーキング法での成形も可能である。上記架橋性PTFEあるいはPTFE架橋体粉末を金型に充填し、2〜100MPa、好ましくは10〜70MPaの圧力で圧縮して予備成形体を得た後に、得られた予備成形体を空気循環炉中において融点〜420℃、好ましくは融点〜380℃の温度で10分間〜10日間、好ましくは30分〜50時間焼成すればよい。この際、昇温速度、冷却速度は、任意であってもかまわないが、10〜100℃/hrが好ましく、20〜60℃/hrがより好ましい。また、例えば、300℃までは昇温速度を高くし、300℃以上で昇温速度を低くし、300℃までは冷却速度を低くし、300℃以下で冷却速度を高めるといった段階的な温度調整方法を採用することもできる。
(1)架橋性PTFEの製造方法
(合成例1)
内容量6Lの撹拌機付きステンレススチール製反応器に、3560gの脱イオン水、94gのパラフィンワックス及び5.4gのパーフルオロオクタン酸アンモニウム分散剤を入れた。次いで反応器の内容物を70℃まで加熱しながら吸引すると同時にTFE単量体でパージして反応器内の酸素を除いた。その後、0.17gのエタンガスと15.2gのパーフルオロ[3−(1−メチル−2−ビニルオキシ−エトキシ)プロピオニックアシッド](以下、CBVEと略する)とを反応器に加え、内容物を280rpmで攪拌した。反応器中にTFE単量体を0.73MPaの圧力となるまで加えた。20gの脱イオン水に溶解した0.36gの過硫酸アンモニウム(APS)開始剤を反応器に注入し、反応器を0.83MPaの圧力にした。開始剤の注入後に圧力の低下が起こり重合の開始が観測された。TFE単量体を反応器に加えて圧力を保ち、約1.1KgのTFE単量体が反応し終わるまで重合を続けた。その後に、反応器を排気し、内容物を反応器から取り出して冷却した。さらにその後に、その水性分散液から上澄みのパラフィンワックスを取り除いた。
合成例1における15.2gのCBVEを14.6gのパーフルオロ[3−(1−メチル−2−ビニルオキシ−エトキシ)プロピオニトニル](以下、CNVEと略する)とした以外は合成例1と同様に重合を行った。
合成例1における0.17gのエタンガスを0.03gのエタンガスに代え、15.2gのCBVEを15.7gのパーフルオロ[3−(1−メチル−2−ビニルオキシ−エトキシ)プロピオン酸メチル](以下、RVEEと略する)とした以外は合成例1と同様に重合を行った。
合成例1における0.17gのエタンガスを添加せず、15.2gのCBVEを7.3gのCNVEとした以外は合成例1と同様に重合を行った。
合成例1における0.17gのエタンガスを添加せず、15.2gのCBVEを14.6gのCNVEとした以外は合成例1と同様に重合を行った。
内容量6Lの撹拌機付きステンレススチール製反応器に、3380gの脱イオン水を入れた。次いで反応器の内容物を70℃まで加熱しながら吸引すると同時にTFE単量体でパージして反応器内の酸素を除いた。その後、14.6gのCNVEを反応器に加え、内容物を700rpmで攪拌した。反応器中にTFE単量体を0.73MPaの圧力となるまで加えた。20gの脱イオン水に溶解した0.68gのAPS開始剤を反応器に注入し、反応器を0.83MPaの圧力にした。開始剤の注入後に圧力の低下が起こり重合の開始が観測された。TFE単量体を反応器に加えて圧力を保ち、約0.8KgのTFE単量体が反応し終わるまで重合を続けた。そして、反応器を排気し室温まで冷却した後、得られた架橋性PTFE粉末を脱イオン水で洗浄した上で濾別した。
PTFE架橋体粉末200gを直径50mmの円筒形の金型へ室温で充填した。次に、金型に充填されたPTFE架橋体粉末を徐々に加圧し、29.4MPaの圧力で5分間保持した後、金型から取り出して予備成形体を得た。そして、この予備成形体を200度Cの空気循環炉に入れ25度C/時間の昇温速度で365度Cまで加熱した後、同温度で1時間焼結した。その後、この予備成形体を60度C/時間の冷却速度で200度Cまで冷却した。そして、その予備成形体を空気循環炉から取り出し室温までゆっくりと冷却した。そして、このようにして得られた予備成形体をスカイブ加工して厚み0.5mm、幅55mm、長さ150mmの誘電率測定用シート試験片を作製した。
ASTM D−1457−81Aに則って耐熱性の指標となる数値であるthermal instability index (熱不安定指数)(TII)を求めた。
PTFE架橋体粉末200gを直径50mmの円筒形の金型へ室温で充填した。次に、金型に充填されたPTFE架橋体粉末を徐々に加圧し、29.4MPaの圧力で5分間保持した後、金型から取り出して予備成形体を得た。そして、この予備成形体を200度Cの空気循環炉に入れ25度C/時間の昇温速度で365度Cまで加熱した後、同温度で1時間焼結した。その後、この予備成形体を60度C/時間の冷却速度で200度Cまで冷却した。そして、その予備成形体を空気循環炉から取り出し室温までゆっくりと冷却した。そして、このようにして得られた予備成形体から直径5mm、高さ10mmの線膨張率試験片を削り出した。なお、このとき、線膨張率試験片は、軸が成形圧力方向に平行になるものと、軸が成形圧力方向に垂直になるものとの両方が作製された。
(上式中、αは線膨張率(mm/(mm・度C))であり、ΔLは50度Cから120度Cまでの間の線膨張率試験片の伸び(mm)であり、L0は線膨張率試験片のもとの長さ(mm)であり、Δtは温度差、つまり、ここでは70度Cである)
合成例2で得られた架橋性PTFE粉末200gを直径50mmの円筒形の金型へ室温で充填した。次に、金型に充填された架橋性PTFE粉末を徐々に加圧し、29.4MPaの圧力で5分間保持した後、金型から取り出して予備成形体を得た。そして、この予備成形体を50度Cの空気循環炉に入れ50度C/時間の昇温速度で300度Cまで加熱し、さらに25度C/時間の昇温速度で350度Cまで加熱した後、同温度で25時間焼結した。その後、この予備成形体を25度C/時間の冷却速度で300度Cまで冷却し、さらに50度C/時間の冷却速度で50度Cまで冷却した。そして、その予備成形体を空気循環炉から取り出し室温までゆっくりと冷却した。そして、このようにして得られた予備成形体をスカイブ加工して厚み0.5mm、幅55mm、長さ150mmの誘電率測定用シート試験片を作製した。
ASTM D−1457−81Aに則って耐熱性の指標となる数値であるthermal instability index (TII)を求めた。
合成例2で得られた架橋性PTFE粉末200gを直径50mmの円筒形の金型へ室温で充填した。次に、金型に充填された架橋性PTFE粉末を徐々に加圧し、29.4MPaの圧力で5分間保持した後、金型から取り出して予備成形体を得た。そして、この予備成形体を50度Cの空気循環炉に入れ50度C/時間の昇温速度で300度Cまで加熱し、さらに25度C/時間の昇温速度で350度Cまで加熱し、同温度で25時間焼結した。その後、この予備成形体を25度C/時間の冷却速度で300度Cまで冷却し、さらに50度C/時間の冷却速度で50度Cまで冷却した。そして、その予備成形体を空気循環炉から取り出し室温までゆっくりと冷却した。そして、このようにして得られた予備成形体から直径5mm、高さ10mmの線膨張率試験片を削りだした。なお、このとき、線膨張率試験片は、軸が成形圧力方向に平行になるものと、軸が成形圧力方向に垂直になるものとの両方が作製された。
合成例4で得られた架橋性PTFE粉末200gを直径50mmの円筒形の金型へ室温で充填した。次に、金型に充填された架橋性PTFE粉末を徐々に加圧し、29.4MPaの圧力で5分間保持した後、金型から取り出して予備成形体を得た。そして、この予備成形体を50度Cの空気循環炉に入れ50度C/時間の昇温速度で300度Cまで加熱し、さらに25度C/時間の昇温速度で380度Cまで加熱した後、同温度で25時間焼結した。その後、この予備成形体を25度C/時間の冷却速度で300度Cまで冷却し、さらに50度C/時間の冷却速度で50度Cまで冷却した。そして、その予備成形体を空気循環炉から取り出し室温までゆっくりと冷却した。そして、このようにして得られた予備成形体をスカイブ加工して厚み0.5mm、幅55mm、長さ150mmの誘電率測定用シート試験片を作製した。
ASTM D−1457−81Aに則って耐熱性の指標となる数値であるthermal instability index (TII)を求めた。
実施例2における合成例2の架橋性PTFE粉末を合成例4の架橋性PTFE粉末に代え、実施例2と同様に予備成形体を得、この予備成形体を50度Cの空気循環炉に入れ50度C/時間の昇温速度で300度Cまで加熱し、さらに25度C/時間の昇温速度で380度Cまで加熱し、同温度で25時間焼結した。そして、このようにして得られた予備成形体から、直径5mm、高さ10mmの線膨張率試験片を削りだした。なお、このとき、線膨張率試験片は、軸が成形圧力方向に平行になるものと、軸が成形圧力方向に垂直になるものとの両方が作製された。
実施例4におけるPTFE架橋体粉末をダイキン工業社製PTFE粉末(F−104)に代えた以外は実施例4と同様に各測定用の試験片を作製し、試験を行った。結果は表2に示す。
実施例1におけるPTFE架橋体粉末をダイキン工業社製PTFE粉末(F−104)に代え、実施例1と同様に各測定用の試験片を作製した後、その試験片に真空下で100kGyのガンマ線を照射した。その後、実施例1と同様に試験を行った。
実施例1におけるPTFE架橋体粉末をダイキン工業社製PTFE粉末(F−104)に代え、実施例1と同様に各測定用の試験片を作製した後、その試験片に真空下で1000kGyのガンマ線を照射した。その後、実施例1と同様に試験を行った。
先の実施の形態では特に言及しなかったが、架橋性PTFEは、架橋剤との反応により架橋されてもよい。なお、かかる場合、架橋部位を与える単量体の含有量は、必須の単量体となるTFEに対して、好ましくは0.01モル%以上、より好ましくは0.03モル%以上、更に好ましくは0.06モル%以上、好ましくは50モル%以下、より好ましくは20モル%以下、更に好ましくは5モル%以下である。架橋部位を与える単量体の含有量が0.01モル%以下であれば十分な効果が得られず、単量体の含有量が50モル%以上であれば重合体を得るのが困難になるからである。
架橋剤は、1または複数の反応性官能基と反応して環状構造を形成可能なものである。この架橋剤は、架橋反応可能な官能基のなかでも、1または複数の反応性官能基と反応して複素環を形成することが好ましい。なお、この架橋剤としては、特にπ電子欠乏型複素環環化反応を引き起こすものが好ましい。そして、この場合、架橋反応中に、耐酸化性および耐薬品性などに優れたπ電子欠乏型複素環(アゾ―ル、トリアゾール、アジン、ジアジン、トリアジンなど)が形成される。このような、π電子欠乏型複素環を形成する架橋反応としては、例えば、「新編へテロ環化合物 基礎編、応用編、山中ら、講談社サイエンテイフィック 2004」に記載の公知の反応が利用できる。最終的に形成される架橋構造としては、例えば、シアノ基を含有する架橋性PTFEとシアノ基を複数個含有する架橋剤とからトリアジン環化反応を経て形成される架橋構造、シアノ基を含有する架橋性PTFEとヒドラジン基を複数個含有する架橋剤とからトリアゾール環化反応を経て形成される架橋構造、酸ハライド基、カルボキシル基、あるいはアルコキシカルボニル基を含有する架橋性PTFEとグアニジンを複数個含有する架橋剤とからトリアゾール環化反応を経て形成される架橋構造、酸ハライド基、カルボキシル基、あるいはアルコキシカルボニル基を含有する架橋性PTFEとアミドラゾンを複数個含有する架橋剤とから成るトリアゾール環化による架橋構造などが挙げられる。この中でもとりわけ、1,2結合形成による閉環反応を利用した1,3アゾ―ルの環合成反応を架橋反応として利用することが好ましい。また、複素環を架橋点として導入することにより、PTFE架橋体の他材との密着性が向上するという効果もある。
架橋性PTFE組成物は、架橋性PTFEと架橋剤とを、密閉式混合機などを用いて混合する等の乾式の混合方法により調製することができる。また、この架橋性PTFE組成物は、架橋剤を水もしくは有機溶媒に溶解もしくは分散させた液に架橋性PTFEを浸漬させる若しくは浸漬した後に溶液を攪拌する、または水もしくは有機溶媒に分散した架橋性PTFEディスパージョン液と架橋剤を混合して攪拌する等の湿式の混合方法により調製することも可能である。なお、湿式の混合手法を採用する場合には、さらに架橋剤と架橋性PTFEの接触性を高めるため、超音波振動を利用することが好ましい。また、重合後、一次粒子を保持したディスパージョン溶液を攪拌しつつ、NMP、DMF、あるいはDMSOといった極性の高い有機溶媒に溶解させた架橋剤溶液を滴下することにより、架橋密度を向上させることができる。
PTFE架橋体粉末は、適宜適切であると思われる条件下で処理されて得られる。例えば、オキサゾール架橋を行なう場合は、架橋性PTFE組成物あるいはPTFE架橋体粉末を空気循環炉に入れ、120〜320℃で1〜300分間保持することによってPTFE架橋体を得ることができる。また、イミダゾール架橋行なう場合は、比較的低い架橋温度(例えば、120〜280℃、好ましくは120〜250℃)で良好な物性をもつPTFE架橋体を得ることができる。なお、加熱温度は一定でなく、段階的に変化させるようにしてもよい。例えば、架橋剤の融点付近の温度で保持して架橋剤を架橋性PTFEに十分含浸させた後に昇温し架橋反応を行わせる手法なども考えられる。また、生成したPTFE架橋体粉末を100℃以上で一定時間保持することにより、内在する未反応の架橋剤や架橋反応時の副生物などの不純物を除去することができる。かかる場合、200℃以上で1時間以上保持することが好ましい。
架橋性PTFE組成物あるいはPTFE架橋体粉末から成形体を得る方法は通常の方法でよく、例えば、圧縮成形法や、ラム押出成形法、ペースト押出成形法などの公知の方法が挙げられる。圧縮成形法により成形体を得る場合は、ホットコイニング法での成形も可能であるが、ホットコイニング法よりも生産性の高いフリーベーキング法での成形も可能である。上記架橋性PTFE組成物あるいはPTFE架橋体粉末を金型に充填し、2〜100MPa、好ましくは10〜70MPaの圧力で圧縮して予備成形体を得た後に、得られた予備成形体を空気循環炉中において融点〜420℃、好ましくは融点〜380℃の温度で10分間〜10日間、好ましくは30分〜5時間焼成すればよい。この際、昇温速度、冷却速度は、任意であってもかまわないが、10〜100℃/hrが好ましく、20〜60℃/hrがより好ましい。また、例えば、300℃までは昇温速度を高くし、300℃以上で昇温速度を低くし、300℃までは冷却速度を低くし、300℃以下で冷却速度を高めるといった段階的な温度調整方法を採用することもできる。
(1)架橋性PTFEの製造方法
(合成例7)
内容量6Lの撹拌機付きステンレススチール製反応器に、3560gの脱イオン水、94gのパラフィンワックス及び5.4gのパーフルオロオクタン酸アンモニウム分散剤を入れた。次いで反応器の内容物を70℃まで加熱しながら吸引すると同時にTFE単量体でパージして反応器内の酸素を除いた。その後、0.17gのエタンガスと16.6gのパーフルオロブテン酸(PFBA)とを反応器に加え、内容物を280rpmで攪拌した。反応器中にTFE単量体を0.73MPaの圧力となるまで加えた。20gの脱イオン水に溶解した0.36gの過硫酸アンモニウム(APS)開始剤を反応器に注入し、反応器を0.83MPaの圧力にした。開始剤の注入後に圧力の低下が起こり重合の開始が観測された。TFE単量体を反応器に加えて圧力を保ち、約1.1KgのTFE単量体が反応し終わるまで重合を続けた。その後に、反応器を排気し、内容物を反応器から取り出して冷却した。さらにその後、架橋性PTFE水性分散液から上澄みのパラフィンワックスを取り除いた。
合成例7における0.17gのエタンガスを3.0mLのエタンガスとし、16.6gのPFBAを1.7gのPFBAとした以外は合成例7と同様に重合を行った。
合成例7における16.6gのPFBAを14.6gのCNVEとした以外は合成例7と同様に重合を行った。
合成例7における0.17gのエタンガスを0.07gのエタンガスとし、16.6gのPFBAを15.7gのRVEEとした以外は合成例7と同様に重合を行った。
PTFE架橋体粉末200gを直径50mmの円筒形の金型へ室温で充填した。次に、金型に充填されたPTFE架橋体粉末を徐々に加圧し、29.4MPaの圧力で5分間保持した後、金型から取り出して予備成形体を得た。そして、この予備成形体を50度Cの空気循環炉に入れ50度C/時間の昇温速度で300度Cまで加熱し、さらに25度C/時間の昇温速度で340度Cまで加熱し、同温度で5時間焼結した。その後、この予備成形体を25度C/時間の冷却速度で300度Cまで冷却し、さらに50度C/時間の冷却速度で50度Cまで冷却した。そして、その予備成形体を空気循環炉から取り出し室温までゆっくりと冷却した。そして、このようにして得られた予備成形体をスカイブ加工して厚み0.5mm、幅55mm、長さ150mmの誘電率測定用シート試験片を作製した。
そして、実施例1と同様にして共振周波数及びQ値の変化を測定した後、12GHzにおける誘電率εrを算出した。結果は表3に示す。
ASTM D−1457−81Aに則って耐熱性の指標となる数値であるthermal instability index (TII)を求めた。
PTFE架橋体粉末200gを直径50mmの円筒形の金型へ室温で充填した。次に、金型に充填されたPTFE架橋体粉末を徐々に加圧し、29.4MPaの圧力で5分間保持した後、金型から取り出して予備成形体を得た。そして、この予備成形体を50度Cの空気循環炉に入れ50度C/時間の昇温速度で300度Cまで加熱し、さらに25度C/時間の昇温速度で340度Cまで加熱し、同温度で5時間焼結した。その後、この予備成形体を25度C/時間の冷却速度で300度Cまで冷却し、さらに50度C/時間の冷却速度で50度Cまで冷却した。そして、その予備成形体を空気循環炉から取り出し室温までゆっくりと冷却した。そして、このようにして得られた予備成形体から直径5mm、高さ10mmの線膨張率試験片を削りだした。なお、このとき、線膨張率試験片は、軸が成形圧力方向に平行になるものと、軸が成形圧力方向に垂直になるものとの両方が作製された。
架橋性PTFE組成物200gを直径50mmの円筒形の金型へ室温で充填した。次に、金型に充填された架橋性PTFE粉末を徐々に加圧し、29.4MPaの圧力で5分間保持した後、金型から取り出して予備成形体を得た。そして、この予備成形体を50度Cの空気循環炉に入れ50度C/時間の昇温速度で300度Cまで加熱し、さらに25度C/時間の昇温速度で340度Cまで加熱した後、同温度で5時間焼結した。その後、この予備成形体を25度C/時間の冷却速度で300度Cまで冷却し、さらに50度C/時間の冷却速度で50度Cまで冷却した。そして、その予備成形体を空気循環炉から取り出し室温までゆっくりと冷却した。そして、このようにして得られた予備成形体をスカイブ加工して厚み0.5mm、幅55mm、長さ150mmの誘電率測定用シート試験片を作製した。
ASTM D−1457−81Aに則って耐熱性の指標となる数値であるthermal instability index (TII)を求めた。
架橋性PTFE組成物200gを直径50mmの円筒形の金型へ室温で充填した。次に、金型に充填された架橋性PTFE組成物を徐々に加圧し、29.4MPaの圧力で5分間保持した後、金型から取り出して予備成形体を得た。そして、この予備成形体を50度Cの空気循環炉に入れ50度C/時間の昇温速度で300度Cまで加熱し、さらに25度C/時間の昇温速度で340度Cまで加熱し、同温度で5時間焼結した。その後、この予備成形体を25度C/時間の冷却速度で300度Cまで冷却し、さらに50度C/時間の冷却速度で50度Cまで冷却した。そして、その予備成形体を空気循環炉から取り出し室温までゆっくりと冷却した。そして、このようにして得られた予備成形体から直径5mm、高さ10mmの線膨張率試験片を削りだした。なお、このとき、線膨張率試験片は、軸が成形圧力方向に平行になるものと、軸が成形圧力方向に垂直になるものとの両方が作製された。
Claims (1)
- シアノ基(−CN)、一般式(1)で表される第1官能基:
プリント基板用材料。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9881714B2 (en) | 2014-06-19 | 2018-01-30 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Laser-markable insulation material for wire or cable assemblies |
US10256009B2 (en) | 2014-06-19 | 2019-04-09 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Laser-markable insulation material for wire or cable assemblies |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10259216A (ja) * | 1996-05-30 | 1998-09-29 | Asahi Glass Co Ltd | 含フッ素共重合体の成形体 |
JP2002040659A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-02-06 | Fujifilm Arch Co Ltd | ネガ型感光性樹脂組成物 |
WO2007052664A1 (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-10 | Daikin Industries, Ltd. | ポリテトラフルオロエチレンの成形方法、ポリテトラフルオロエチレン成形体、架橋性ポリテトラフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン架橋体粉末、樹脂ブレンド組成物、および樹脂ブレンド成形体 |
-
2007
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10259216A (ja) * | 1996-05-30 | 1998-09-29 | Asahi Glass Co Ltd | 含フッ素共重合体の成形体 |
JP2002040659A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-02-06 | Fujifilm Arch Co Ltd | ネガ型感光性樹脂組成物 |
WO2007052664A1 (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-10 | Daikin Industries, Ltd. | ポリテトラフルオロエチレンの成形方法、ポリテトラフルオロエチレン成形体、架橋性ポリテトラフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン架橋体粉末、樹脂ブレンド組成物、および樹脂ブレンド成形体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9881714B2 (en) | 2014-06-19 | 2018-01-30 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Laser-markable insulation material for wire or cable assemblies |
US10256009B2 (en) | 2014-06-19 | 2019-04-09 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Laser-markable insulation material for wire or cable assemblies |
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