JP2009038292A - Light emitting device, and manufacturing method thereof - Google Patents

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裕紀 辻村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emitting device capable of preventing polarized light emitted by a light emitting element from being disordered, and to provide a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: The light emitting device 1 includes a mounting base 3, the light emitting element 2 which is mounted on the mounting base 3 and emits the polarized light 20, and a light-transmissive resin portion 4 which covers the light emitting element 2 to transmit the polarized light 20 emitted by the light emitting element, and has resin molecules having a non-oriented structure. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、発光装置及びその製造方法に関し、特に偏向光を発する発光素子が実装される発光装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a light emitting device and a method for manufacturing the same, and more particularly to a light emitting device in which a light emitting element that emits polarized light is mounted and a method for manufacturing the same.

例えば液晶ディスプレイのバックライト等には発光素子から入射される光の伝搬方向を変更して出力する光学素子(導光板)が使用されている。この導光板から出力された光は偏光板を介して液晶パネルに入力され、液晶ディスプレイに画像を表示することができる。導光板に入射された光(以下、単に「入射光」という。)は導光板の内部において散乱された後、光を取り出す発光面全体において散乱された光を均一に発光させることができる。すなわち、導光板の内部において入射光を反射する反射面の表面に反射パターンが形成されており、入射光が反射パターンによって方向付けされて導光板の内部を伝搬し、導光板の内部を伝搬した光は発光面から出力される。   For example, an optical element (light guide plate) that changes the propagation direction of light incident from a light emitting element and outputs the light is used for a backlight of a liquid crystal display or the like. The light output from the light guide plate is input to the liquid crystal panel via the polarizing plate, and an image can be displayed on the liquid crystal display. Light incident on the light guide plate (hereinafter simply referred to as “incident light”) is scattered inside the light guide plate, and then the scattered light can be uniformly emitted over the entire light emitting surface from which the light is extracted. That is, a reflection pattern is formed on the surface of the reflection surface that reflects incident light inside the light guide plate. The incident light is directed by the reflection pattern and propagates inside the light guide plate, and propagates inside the light guide plate. Light is output from the light emitting surface.

近年、出力光を偏向光とする発光素子が採用される傾向にある。この種の発光素子を液晶バックライトやプロジェクタの光源として使用すれば、偏光板においてカットされる光の成分が少なくなり、発光効率を向上することができるものであると、下記非特許文献1に記載されているように期待がなされている。
タケウチ(T. Takeuchi)他著、「ジャパニーズ ジャーナル オブ アプライド フィジクス、第39巻 (Japanese Journal of Applied Physics vol.39) 」、2000年、413頁−416頁。
In recent years, there is a tendency to employ light emitting elements that use output light as deflected light. If this type of light-emitting element is used as a light source for a liquid crystal backlight or projector, the light component cut by the polarizing plate is reduced, and the luminous efficiency can be improved. Expectations are made as described.
T. Takeuchi et al., “Japanese Journal of Applied Physics vol.39”, 2000, pages 413-416.

偏向光を発する発光素子はベース基板上やパッケージ基板にダイボンディングにより実装され、この実装された発光素子はシリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の光透過性樹脂によりモールドされる。すなわち、発光素子を光透過性樹脂によりモールドした発光装置を製造することができる。光透過性樹脂のモールド成型には射出成型法や押出成型法が使用されている。しかしながら、このような発光装置においては、光透過性樹脂の熱硬化時に樹脂分子に配向が生じる。また、熱硬化時に光透過性樹脂の内部に残留応力が発生する。樹脂分子の配向の発生や残留応力の発生は光透過性樹脂の内部に複屈折性を発現させ、この複屈折性の発現により発光素子から発せられた偏向光に乱れが生じる。   A light-emitting element that emits deflected light is mounted on a base substrate or a package substrate by die bonding, and the mounted light-emitting element is molded with a light-transmitting resin such as silicone resin or epoxy resin. That is, a light emitting device in which the light emitting element is molded with a light transmissive resin can be manufactured. An injection molding method or an extrusion molding method is used for molding the light-transmitting resin. However, in such a light-emitting device, orientation occurs in the resin molecules during thermosetting of the light-transmitting resin. Further, residual stress is generated inside the light-transmitting resin during thermosetting. The occurrence of orientation of the resin molecules and the occurrence of residual stress cause birefringence to appear inside the light-transmitting resin, and the occurrence of this birefringence disturbs the deflected light emitted from the light emitting element.

本発明は上記課題を解決するためになされたものである。従って、本発明は、発光素子から発せられた偏向光の乱れを防止することができる発光装置及びその製造方法を提供することである。   The present invention has been made to solve the above problems. Accordingly, an object of the present invention is to provide a light emitting device and a method for manufacturing the same that can prevent the disturbance of the deflected light emitted from the light emitting element.

上記課題を解決するために、本発明の第1の特徴は、発光装置において、実装ベースと、実装ベース上に実装され、偏向光を発する発光素子と、発光素子を覆い、発光素子から発せられる偏向光を透過し、樹脂分子に非配列構造を有する光透過性樹脂部とを備える。更に、第1の特徴に係る発光装置において、光透過性樹脂部は樹脂分子をランダムに存在させていることが好ましい。また、第1の特徴に係る発光装置において、光透過性樹脂部は複屈折を発現させないことが好ましい。更に、第1の特徴に係る発光装置において、発光素子は、非極性面又は半極性面を主面とするIII族窒化物半導体により構成され、第1導電型の第1半導体層、この第1半導体層上の発光層及びこの発光層上の第2導電型の第2半導体層を備えることが好ましい。   In order to solve the above problems, a first feature of the present invention is that a light emitting device includes a mounting base, a light emitting element that is mounted on the mounting base and emits polarized light, covers the light emitting element, and is emitted from the light emitting element. A light-transmitting resin portion that transmits the polarized light and has a non-aligned structure in the resin molecule. Furthermore, in the light emitting device according to the first feature, it is preferable that the light transmissive resin portion has resin molecules randomly present. In the light emitting device according to the first feature, it is preferable that the light transmissive resin portion does not exhibit birefringence. Furthermore, in the light-emitting device according to the first feature, the light-emitting element is formed of a group III nitride semiconductor having a nonpolar plane or a semipolar plane as a main surface, the first conductivity type first semiconductor layer, A light emitting layer on the semiconductor layer and a second semiconductor layer of the second conductivity type on the light emitting layer are preferably provided.

本発明の第2の特徴は、発光装置の製造方法において、実装ベース上に偏向光を発する発光素子を実装する工程と、発光素子から発せられる偏向光を透過する光透過性樹脂を発光素子に滴下塗布し、この発光素子を覆う光透過性樹脂部を形成する工程とを備える。   According to a second feature of the present invention, in a method for manufacturing a light emitting device, a step of mounting a light emitting element that emits deflected light on a mounting base, and a light-transmitting resin that transmits the deflected light emitted from the light emitting element are used as the light emitting element. And a step of forming a light-transmitting resin portion covering the light-emitting element.

本発明の第3の特徴は、発光装置の製造方法において、実装ベース上に偏向光を発する発光素子を実装する工程と、発光素子から発せられる偏向光を透過する光透過性樹脂を発光素子に滴下塗布する工程と、光透過性樹脂を段階的に昇温し、この光透過性樹脂を硬化させ、発光素子を覆う光透過性樹脂部を形成する工程とを備える。第2の特徴又は第3の特徴に係る発光装置の製造方法において、光透過性樹脂を滴下塗布する工程には樹脂をシリンジから滴下塗布する工程が考えられる。   According to a third aspect of the present invention, in a method for manufacturing a light emitting device, a step of mounting a light emitting element that emits deflected light on a mounting base, and a light-transmitting resin that transmits the deflected light emitted from the light emitting element are used as the light emitting element. A step of dropping, and a step of gradually raising the temperature of the light-transmitting resin, curing the light-transmitting resin, and forming a light-transmitting resin portion that covers the light emitting element. In the method for manufacturing a light emitting device according to the second feature or the third feature, a step of dropping and applying a resin from a syringe can be considered as a step of dropping and applying a light transmitting resin.

本発明によれば、発光素子から発せられた偏向光の乱れを防止することができる発光装置及びその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the light-emitting device which can prevent disorder of the deflection | deviation light emitted from the light emitting element, and its manufacturing method can be provided.

次に、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、現実のものとは異なる。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている。また、以下に示す実施の形態はこの発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の技術的思想は各構成部品の配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の技術的思想は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, the drawings are schematic and different from actual ones. Moreover, the part from which the relationship and ratio of a mutual dimension differ also in between drawings is contained. Further, the following embodiments exemplify apparatuses and methods for embodying the technical idea of the present invention, and the technical idea of the present invention is to arrange the components and the like as follows. Not specific. The technical idea of the present invention can be variously modified within the scope of the claims.

(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態は、発光素子にLED(light emitting diode)を使用し、面実装構造を有する発光装置に本発明を適用した例を説明するものである。
(First embodiment)
In the first embodiment of the present invention, an example in which an LED (light emitting diode) is used as a light emitting element and the present invention is applied to a light emitting device having a surface mounting structure will be described.

[発光装置の構成]
図1に示すように、第1の実施の形態に係る発光装置1は、実装ベース3と、実装ベース3上に実装され、偏向光20を発する発光素子2と、発光素子2を覆い、発光素子2から発せられる偏向光20を透過し、樹脂分子(4m)に非配列構造を有する光透過性樹脂部4とを備えている。
[Configuration of light emitting device]
As shown in FIG. 1, the light emitting device 1 according to the first embodiment includes a mounting base 3, a light emitting element 2 that is mounted on the mounting base 3 and emits polarized light 20, covers the light emitting element 2, and emits light. A light transmissive resin portion 4 that transmits the polarized light 20 emitted from the element 2 and has a non-aligned structure in the resin molecules (4 m) is provided.

実装ベース3は、第1の実施の形態において面実型構造のパッケージ基板であり、リフレクタ30Rを兼ねた断面凹型形状の実装面30を備えている。実装ベース3の実装面30の底面上に発光素子2が実装され、この実装された発光素子2の側面周囲において実装ベース3上にテーパ面からなるリフレクタ30Rが構成されている。実装面30とリフレクタ30Rとは一体に構成されている。   The mounting base 3 is a package substrate having a real surface structure in the first embodiment, and includes a mounting surface 30 having a concave cross-sectional shape that also serves as the reflector 30R. The light emitting element 2 is mounted on the bottom surface of the mounting surface 30 of the mounting base 3, and a reflector 30 </ b> R having a tapered surface is formed on the mounting base 3 around the side surface of the mounted light emitting element 2. The mounting surface 30 and the reflector 30R are integrally formed.

[発光素子の構成]
発光素子2は、第1の実施の形態において、偏向光20を発するLEDである。ここで、「偏向光」とは直線偏光成分が均等(ランダム)ではなく偏りがあるものを意味するが、第1の実施の形態においては100%の直線偏光である必要はない。従って、偏向光20の偏光方向とは最も直線偏光成分の大きい方向である。
[Configuration of Light Emitting Element]
The light emitting element 2 is an LED that emits the deflected light 20 in the first embodiment. Here, “polarized light” means that the linearly polarized light component is not uniform (random) but biased, but in the first embodiment, it is not necessary to be 100% linearly polarized light. Therefore, the polarization direction of the deflected light 20 is the direction with the largest linearly polarized light component.

第1の実施の形態に係る発光素子2は、例えば、図2に示すように、偏向光20を発生する発光部220と、この発光部220を搭載し発光部20から発せられる偏向光20を出力する出力部(基板)210とを備えている。   For example, as illustrated in FIG. 2, the light emitting element 2 according to the first embodiment includes a light emitting unit 220 that generates the deflected light 20 and a deflected light 20 that is mounted on the light emitting unit 220 and is emitted from the light emitting unit 20. And an output unit (substrate) 210 for outputting.

発光部220は、GaN結晶の非極性面(non-polar plane)又は半極性面(semi-polar plane)を結晶成長表面として使用し、第1導電型の第1半導体層221、活性層222及び第2導電型の第2半導体層223のそれぞれを、順次、結晶成長表面の法線方向に積層して形成されている。例えば、結晶成長表面が非極性面であるm面とすると、発光素子2はm面を主面とするIII族窒化物半導体により構成される。III族窒化物半導体には、例えば窒化アルミニウム(AlN)、窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウム(InN)等がある。代表的なIII族窒化物半導体はAlxInyGa1-x-yN(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1)により表される。GaN半導体は、窒素を含む六方晶化合物半導体の中でもよく知られたIII−V族化合物半導体である。 The light emitting unit 220 uses a non-polar plane or semi-polar plane of a GaN crystal as a crystal growth surface, and includes a first semiconductor layer 221 of the first conductivity type, an active layer 222, and Each of the second conductivity type second semiconductor layers 223 is sequentially stacked in the normal direction of the crystal growth surface. For example, if the crystal growth surface is an m-plane that is a nonpolar plane, the light-emitting element 2 is composed of a group III nitride semiconductor having the m-plane as a main surface. Examples of the group III nitride semiconductor include aluminum nitride (AlN), gallium nitride (GaN), and indium nitride (InN). A typical group III nitride semiconductor is represented by Al x In y Ga 1-xy N (0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ x + y ≦ 1). The GaN semiconductor is a group III-V compound semiconductor well known among hexagonal compound semiconductors containing nitrogen.

活性層222には、第1半導体層221から第1導電型のキャリアが供給され、第2半導体層223から第2導電型のキャリアが供給される。第1導電型がn型であり、第2導電型がp型である場合、活性層222において第1半導体層221から供給される電子と第2半導体層223から供給される正孔との再結合がなされ、活性層222から偏向光20が発せられる。なお、活性層222には、例えば、井戸層(ウェル層)を井戸層よりもバンドギャップの大きなバリア層(層障壁層)でサンドイッチ状に挟んだ量子井戸(quantum well)構造を採用することができる。また、量子井戸構造には井戸層が1つではなく多重化された量子井戸構造が含まれ、更に活性層222を多重量子井戸(MQW)構造とする量子井戸構造が含まれる。   The active layer 222 is supplied with carriers of the first conductivity type from the first semiconductor layer 221 and supplied with carriers of the second conductivity type from the second semiconductor layer 223. When the first conductivity type is n-type and the second conductivity type is p-type, the electrons supplied from the first semiconductor layer 221 and the holes supplied from the second semiconductor layer 223 in the active layer 222 are regenerated. Coupling is performed, and the polarized light 20 is emitted from the active layer 222. The active layer 222 may employ, for example, a quantum well structure in which a well layer (well layer) is sandwiched between barrier layers (layer barrier layers) having a larger band gap than the well layer. it can. The quantum well structure includes not only one well layer but a multiplexed quantum well structure, and further includes a quantum well structure in which the active layer 222 has a multiple quantum well (MQW) structure.

通常、GaN結晶の極性面であるc面を結晶成長表面とするIII族窒化物半導体からなる活性層から取り出される光はランダム偏光(無偏光)状態である。一方、c面以外のa面、m面等の非極性面又は半極性面を結晶成長表面とするIII族窒化物半導体を用いて形成した活性層222から取り出される光においては強い偏光状態を実現することができる。例えば、m面を主面として活性層222が構成される場合、m面に平行な偏光成分、より具体的にはa軸方向の偏光成分を多く含む偏向光20を活性層222から発生させることができる。非極性面及び半極性面の詳細な説明は後述する。   Usually, light extracted from an active layer made of a group III nitride semiconductor having a c-plane which is a polar plane of a GaN crystal as a crystal growth surface is in a randomly polarized (non-polarized) state. On the other hand, a strong polarization state is realized in the light extracted from the active layer 222 formed by using a group III nitride semiconductor whose crystal growth surface is a non-polar surface or semipolar surface such as a-plane, m-plane other than c-plane can do. For example, when the active layer 222 is configured with the m-plane as the main surface, the polarized light 20 containing a large amount of polarized light components parallel to the m-plane, more specifically, the polarized light components in the a-axis direction, is generated from the active layer 222. Can do. Detailed descriptions of the nonpolar plane and the semipolar plane will be described later.

発光部220は出力部210の結晶成長面上に結晶成長により成長させ形成される。すなわち、図2に示すように、発光素子2は、出力部210を含み、この出力部210と、この出力部210上の第1半導体層221と、この第1半導体層221上の活性層222と、この活性層222上の第2半導体層223とを備えている。第1の実施の形態において、出力部210は例えばGaN単結晶基板により構成されている。出力部10の結晶成長表面となる主面が非極性面であるm面を主面とした場合、この主面上に結晶成長により発光部220を形成することができる。つまり、発光部220はm面を結晶成長主面とするGaNにより構成され、発光素子2はm面を結晶成長面主面として成長させたIII族窒化物半導体により構成される。出力部210の主面は発光部220の結晶成長表面と同一である。   The light emitting unit 220 is formed by growing on the crystal growth surface of the output unit 210 by crystal growth. That is, as shown in FIG. 2, the light emitting element 2 includes an output unit 210, the output unit 210, the first semiconductor layer 221 on the output unit 210, and the active layer 222 on the first semiconductor layer 221. And a second semiconductor layer 223 on the active layer 222. In the first embodiment, the output unit 210 is composed of, for example, a GaN single crystal substrate. In the case where the main surface that is a non-polar surface is the main surface serving as the crystal growth surface of the output unit 10, the light emitting unit 220 can be formed on this main surface by crystal growth. That is, the light emitting section 220 is composed of GaN having the m plane as the crystal growth principal surface, and the light emitting element 2 is composed of a group III nitride semiconductor grown with the m plane as the crystal growth principal surface. The main surface of the output unit 210 is the same as the crystal growth surface of the light emitting unit 220.

発光素子2は、更に第1半導体層221に動作電圧を供給する第1電極211と、第2半導体層223に動作電圧を供給する第2電極212とを備える。同図2に示すように、第2半導体層223、活性層222及び第1半導体層221の一部の領域がメサエッチングにより除去され第1半導体層221が露出された表面上に第1電極211が配設される。第1の半導体層221と第1電極211との間は電気的に接続されている。第2電極212は第2半導体層223上に配設される。第2半導体層223と第2電極212との間は電気的に接続されている。   The light emitting element 2 further includes a first electrode 211 that supplies an operating voltage to the first semiconductor layer 221 and a second electrode 212 that supplies an operating voltage to the second semiconductor layer 223. As shown in FIG. 2, the first electrode 211 is formed on the surface where the second semiconductor layer 223, the active layer 222, and a part of the first semiconductor layer 221 are partially removed by mesa etching and the first semiconductor layer 221 is exposed. Is disposed. The first semiconductor layer 221 and the first electrode 211 are electrically connected. The second electrode 212 is disposed on the second semiconductor layer 223. The second semiconductor layer 223 and the second electrode 212 are electrically connected.

第1電極211には例えばアルミニウム(Al)が使用され、第2電極212には例えばパラジウム(Pd)−金(Au)合金が使用される。第1電極211は第1半導体層211にオーミック接続され、第2電極212は第2半導体層233にオーミック接続される。なお、第1半導体層221と第1電極211の間に第1導電型のコンタクト層を介在させてもよい。また、第2半導体層223と第2電極212との間に第2導電型のコンタクト層を介在させてもよい。   For example, aluminum (Al) is used for the first electrode 211, and palladium (Pd) -gold (Au) alloy is used for the second electrode 212, for example. The first electrode 211 is ohmically connected to the first semiconductor layer 211, and the second electrode 212 is ohmically connected to the second semiconductor layer 233. A first conductivity type contact layer may be interposed between the first semiconductor layer 221 and the first electrode 211. In addition, a second conductivity type contact layer may be interposed between the second semiconductor layer 223 and the second electrode 212.

発光素子2において、出力部210の第1半導体層221に接する結晶成長表面(主面若しくは表面)に対向する面(裏面)は出力面210Aである。活性層222から発せられた偏向光20は、出力光として出力面210Aから発光素子2の外部に出力される。なお、発光素子2は第2半導体層223側から光を取り出すこともできる。第1の実施の形態に係る発光素子2は、図示しないが実装ベース3の実装面30上にバンプ電極を介して電気的に接続され、フリップチップ方式により実装されている。   In the light emitting element 2, the surface (back surface) facing the crystal growth surface (main surface or surface) in contact with the first semiconductor layer 221 of the output unit 210 is an output surface 210A. The deflected light 20 emitted from the active layer 222 is output from the output surface 210A to the outside of the light emitting element 2 as output light. Note that the light-emitting element 2 can extract light from the second semiconductor layer 223 side. Although not shown, the light emitting element 2 according to the first embodiment is electrically connected to the mounting surface 30 of the mounting base 3 via the bump electrodes, and is mounted by a flip chip method.

[発光素子の結晶構造]
発光素子2を構成するIII族窒化物半導体のユニットセルの結晶構造は図3及び図4に示すように六方晶系の結晶構造により近似することができる。六方晶系の結晶構造において、c軸は六角柱の軸方向に沿う結晶軸である。このc軸を法線とする面(六角柱の頂面)はc面{0001}である。c面に平行な2つの面においてIII族窒化物半導体の結晶を劈開すると、+c軸側の面(+c面)はIII族原子を並べた結晶面になる。−c軸側の面(−c面)は窒素原子を並べた結晶面となる。このため、c面は、+c軸側と−c軸側とにおいて異なる性質を示すので、極性面(polar plane)と呼ばれている。
[Crystal structure of light-emitting element]
The crystal structure of the group cell of III nitride semiconductor constituting the light emitting element 2 can be approximated by a hexagonal crystal structure as shown in FIGS. In the hexagonal crystal structure, the c-axis is a crystal axis along the axial direction of the hexagonal column. The surface (the top surface of the hexagonal column) having the c-axis as a normal line is a c-plane {0001}. When a group III nitride semiconductor crystal is cleaved in two planes parallel to the c-plane, the + c-axis side plane (+ c plane) becomes a crystal plane in which group III atoms are arranged. The plane on the −c axis side (−c plane) is a crystal plane in which nitrogen atoms are arranged. For this reason, the c-plane is called a polar plane because it exhibits different properties on the + c-axis side and the −c-axis side.

図4に示すように、1つのIII族原子に対して4つの窒素原子が結合されている。4つの窒素原子はIII族原子を中央に配置した正四面体の4つの頂点に位置している。これらの4つの窒素原子のうち、1つの窒素原子はIII族原子に対して+c軸方向に位置し、他の3つの窒素原子はIII族原子に対して−c軸側に位置している。このような結晶構造を有するので、III族窒化物半導体において分極方向はc軸に沿っている。   As shown in FIG. 4, four nitrogen atoms are bonded to one group III atom. The four nitrogen atoms are located at the four vertices of a regular tetrahedron with a group III atom arranged in the center. Of these four nitrogen atoms, one nitrogen atom is located in the + c axis direction with respect to the group III atom, and the other three nitrogen atoms are located on the −c axis side with respect to the group III atom. Since it has such a crystal structure, the polarization direction is along the c-axis in the group III nitride semiconductor.

六方晶系の結晶構造においては、六角柱の側面のそれぞれはm面{1−100}である。隣り合わない一対の稜線を通る面はa面{11−20}である。m面並びにa面は、c面に対して直角な結晶面であり、分極方向に対して直交しているため、極性のない平面すなわち非極性面である。更に、c面に対して傾斜している(c面に平行でもなく、直角でもない)結晶面は、分極方向に対して斜めに交差しているので、若干の極性のある平面すなわち半極性面(semi-polar plane)である。半極性面の具体例は、図5(A)に示す{10−11}面、図5(B)に示す{10−13}面等である。   In the hexagonal crystal structure, each side surface of the hexagonal column is an m-plane {1-100}. A plane passing through a pair of ridge lines that are not adjacent to each other is a-plane {11-20}. The m-plane and the a-plane are crystal planes perpendicular to the c-plane and are orthogonal to the polarization direction, and thus are nonpolar planes, that is, nonpolar planes. Furthermore, since the crystal plane that is inclined with respect to the c-plane (not parallel to the c-plane or perpendicular to it) crosses the polarization direction obliquely, it is a slightly polar plane, that is, a semipolar plane (Semi-polar plane). Specific examples of the semipolar plane include a {10-11} plane shown in FIG. 5A and a {10-13} plane shown in FIG. 5B.

[光透過性樹脂部の分子構造]
第1の実施の形態に係る発光装置1において光透過性樹脂部4は前述のように樹脂分子(4m)に非配列構造を有し、この非配列構造を有する光透過性樹脂部4は複屈折を発現しない。ここで、複屈折率Δnとは、下記式において表されるように、図6に示す樹脂分子4mの分子軸に垂直方向の屈折率nと樹脂分子4mの分子軸に平行方向の屈折率n//との差で定義されている。
[Molecular structure of light-transmitting resin part]
In the light emitting device 1 according to the first embodiment, the light transmissive resin portion 4 has a non-arranged structure in the resin molecule (4m) as described above, and the light transmissive resin portion 4 having this non-aligned structure has a plurality of structures. Does not develop refraction. Here, as shown in the following formula, the birefringence Δn is a refractive index n perpendicular to the molecular axis of the resin molecule 4m and a refractive index parallel to the molecular axis of the resin molecule 4m shown in FIG. It is defined by the difference from n // .

Δn = n - n//
屈折率nと屈折率n//とが等しければ、光透過性樹脂部4において複屈折は存在しない。光透過性樹脂部の製造過程において、応力、熱等が急激に加わると、図7に示すように、光透過性樹脂部の樹脂分子4mに配向が生じる。つまり、樹脂分子4mの分子軸は一方向に規則的に整列される。このような樹脂分子4mが配向されている光透過性樹脂部においては、巨視的な複屈折が発現する。これに対して、第1の実施の形態に係る発光装置1においては、光透過性樹脂部4の製造過程において、少なくとも応力の発生が減らされ、又は急激な加熱が減らされ、樹脂分子4mの配列つまり樹脂分子4mの分子軸の方向がランダムに制御されている。樹脂分子4mに非配列構造を有する光透過性樹脂部4においては、巨視的に複屈折が発現しないので、発光素子2から発せられる偏向光20が透過の際に乱されない。
Δn = n -n //
If the refractive index n 存在 and the refractive index n // are equal, there is no birefringence in the light transmissive resin portion 4. In the manufacturing process of the light transmissive resin part, when stress, heat, etc. are applied suddenly, as shown in FIG. 7, the resin molecules 4m of the light transmissive resin part are oriented. That is, the molecular axes of the resin molecules 4m are regularly aligned in one direction. In the light-transmitting resin part in which the resin molecules 4m are oriented, macroscopic birefringence appears. On the other hand, in the light emitting device 1 according to the first embodiment, at least the generation of stress or the rapid heating is reduced in the manufacturing process of the light transmissive resin portion 4, and the resin molecules 4 m are reduced. The arrangement, that is, the direction of the molecular axis of the resin molecule 4m is randomly controlled. In the light transmissive resin part 4 having a non-aligned structure in the resin molecule 4m, since the birefringence does not appear macroscopically, the deflected light 20 emitted from the light emitting element 2 is not disturbed during transmission.

このように、第1の実施の形態においては、樹脂分子4mに非配列構造を有する光透過性樹脂部4を備えたので、発光素子2から発せられた偏向光の乱れを防止することができる発光装置1を実現することができる。   As described above, in the first embodiment, since the resin molecule 4m includes the light transmissive resin portion 4 having a non-arrayed structure, it is possible to prevent disturbance of the deflected light emitted from the light emitting element 2. The light emitting device 1 can be realized.

[発光装置の製造方法]
次に、前述の第1の実施の形態に係る発光装置1の製造方法を図9乃至図12を用いて説明する。まず最初に、図9に示すように、実装ベース3の実装面30上にダイボンディング法により発光素子2が実装される。ここでは、図示しないが、実装ベース3に発光素子2が実装された段階で又は後に、発光素子2の第1電極211及び第2電極212が実装ベース3の実装面30に配設された電極に電気的に接続される。
[Method for Manufacturing Light Emitting Device]
Next, a method for manufacturing the light emitting device 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 9, the light emitting element 2 is mounted on the mounting surface 30 of the mounting base 3 by a die bonding method. Here, although not shown in the figure, the electrode in which the first electrode 211 and the second electrode 212 of the light emitting element 2 are disposed on the mounting surface 30 of the mounting base 3 at or after the light emitting element 2 is mounted on the mounting base 3. Is electrically connected.

図10に示すように、シリンジ滴下塗布法が使用され、実装ベース3の実装面30上に実装された発光素子2にシリンジ6から光透過性樹脂41が滴下塗布される。図11に示すように、発光素子2は光透過性樹脂41により覆われ、この発光素子2はこの光透過性樹脂41により樹脂封止される。シリンジ滴下塗布法を使用した光透過性樹脂41においては、射出成型や押出成型等のモールド樹脂の成型方法に比べて、光透過性樹脂41に生じる内部応力を減少することができる。   As shown in FIG. 10, a syringe dropping application method is used, and a light-transmitting resin 41 is dropped and applied from the syringe 6 to the light emitting element 2 mounted on the mounting surface 30 of the mounting base 3. As shown in FIG. 11, the light emitting element 2 is covered with a light transmissive resin 41, and the light emitting element 2 is resin-sealed with the light transmissive resin 41. In the light transmissive resin 41 using the syringe dropping application method, the internal stress generated in the light transmissive resin 41 can be reduced as compared with a molding resin molding method such as injection molding or extrusion molding.

引き続き、図12に示すように、滴下塗布された光透過性樹脂41が段階的に昇温され、光透過性樹脂41を硬化して光透過性樹脂部4が形成される。ここで、図12は本願発明者が一般的な封止樹脂を用いて実際に行ったデータであり、図中、横軸は昇温時間(時)であり、縦軸は加熱温度(℃)である。この段階的な昇温方法は、まず最初に、光透過性樹脂41の硬化のための加熱が開始され、0.5時間の間に常温から80℃までリニアに加熱温度が上昇される。次に、1.0時間の間、80℃に加熱温度が一定に保持される。引き続き、0.5時間の間に80℃から最高加熱温度の150℃までリニアに加熱温度が上昇される。引き続き、1.0時間の間、150℃に加熱温度が一定に保持される。この後、1.0時間の間に、最高加熱温度の150℃から常温までリニアに冷却される。本願発明者によれば、このような段階的な昇温方法を実際に使用した結果、硬化後の光透過性樹脂部4において、複屈折が発現しなかった。   Subsequently, as shown in FIG. 12, the light-transmitting resin 41 applied dropwise is heated in a stepwise manner, and the light-transmitting resin 41 is cured to form the light-transmitting resin portion 4. Here, FIG. 12 is data actually performed by the inventor of the present application using a general sealing resin. In the figure, the horizontal axis represents the temperature raising time (hour), and the vertical axis represents the heating temperature (° C.). It is. In this stepwise temperature raising method, first, heating for curing the light transmissive resin 41 is started, and the heating temperature is linearly increased from room temperature to 80 ° C. in 0.5 hours. Next, the heating temperature is kept constant at 80 ° C. for 1.0 hour. Subsequently, the heating temperature is linearly increased from 80 ° C. to a maximum heating temperature of 150 ° C. in 0.5 hours. Subsequently, the heating temperature is kept constant at 150 ° C. for 1.0 hour. Thereafter, in 1.0 hour, it is cooled linearly from the maximum heating temperature of 150 ° C. to room temperature. According to the inventor of the present application, as a result of actually using such a stepwise temperature raising method, birefringence did not appear in the light-transmitting resin part 4 after curing.

このような第1の実施の形態に係る発光装置1の製造方法においては、滴下塗布法により発光素子2を覆う光透過性樹脂部4を形成し、又光透過性樹脂部4を段階的な昇温方法により硬化し形成したので、発光素子2から発せられる偏向光20の乱れを防止することができる。   In the method of manufacturing the light emitting device 1 according to the first embodiment, the light transmissive resin portion 4 that covers the light emitting element 2 is formed by the drop coating method, and the light transmissive resin portion 4 is formed stepwise. Since it is cured and formed by the temperature raising method, the disturbance of the deflected light 20 emitted from the light emitting element 2 can be prevented.

(第2の実施の形態)
本発明の第2の実施の形態は、前述の第1の実施の形態に係る面実装構造を有する発光装置1に代えて砲弾型パッケージ構造を備えた発光装置に本発明を適用した例を説明するものである。図13に示すように、第2の実施の形態に係る発光装置1は、実装ベース3と、実装ベース3上に実装され、偏向光20を発する発光素子2と、発光素子2を覆い、発光素子2から発せられる偏向光20を透過し、樹脂分子(4m)に非配列構造を有する光透過性樹脂部4とを備えている。
(Second Embodiment)
In the second embodiment of the present invention, an example in which the present invention is applied to a light emitting device having a shell-type package structure instead of the light emitting device 1 having the surface mounting structure according to the first embodiment described above will be described. To do. As shown in FIG. 13, the light emitting device 1 according to the second embodiment includes a mounting base 3, a light emitting element 2 that is mounted on the mounting base 3 and emits deflected light 20, covers the light emitting element 2, and emits light. A light transmissive resin portion 4 that transmits the polarized light 20 emitted from the element 2 and has a non-aligned structure in the resin molecules (4 m) is provided.

実装ベース3は、第2の実施の形態において、リード31の一端に配設され、このリード31に一体に構成されている。リード31は第2の実施の形態においてカソード電極として使用されている。実装ベース3の基本的構成は、前述の第1の実施の形態に係る発光装置1の実装ベース3と同様であり、リフレクタ30Rを兼ねた断面凹型形状の実装面30を備えている。実装ベース3の実装面30の底面上に発光素子2が実装され、この実装された発光素子2の側面周囲において実装ベース3上にテーパ面からなるリフレクタ30Rが構成されている。リード31に近接した領域にはリード32が配設されている。このリード32はアノード電極として使用され、リード32の一端は符号を付けないがワイヤを通して発光素子2に電気的に接続されている。   In the second embodiment, the mounting base 3 is disposed at one end of the lead 31 and is configured integrally with the lead 31. The lead 31 is used as a cathode electrode in the second embodiment. The basic configuration of the mounting base 3 is the same as that of the mounting base 3 of the light emitting device 1 according to the first embodiment described above, and includes a mounting surface 30 having a concave cross-sectional shape that also serves as the reflector 30R. The light emitting element 2 is mounted on the bottom surface of the mounting surface 30 of the mounting base 3, and a reflector 30 </ b> R having a tapered surface is formed on the mounting base 3 around the side surface of the mounted light emitting element 2. A lead 32 is disposed in a region close to the lead 31. The lead 32 is used as an anode electrode, and one end of the lead 32 is not connected with a symbol but is electrically connected to the light emitting element 2 through a wire.

光透過性樹脂部4は、リード31の一端の実装ベース3並びにリード32の一端を被覆し、発光素子20上、すなわち発光素子2から偏向光20を発する部分に半円球形状のレンズ部42を有する。この光透過性樹脂部4は、前述の第1の実施の形態に係る発光装置1の光透過性樹脂部4と同様に、樹脂分子4mに非配列構造を有し、複屈折の発現を減少するように構成されている。   The light transmissive resin portion 4 covers the mounting base 3 at one end of the lead 31 and one end of the lead 32, and a hemispherical lens portion 42 on the light emitting element 20, that is, a portion that emits the deflected light 20 from the light emitting element 2. Have Similar to the light transmissive resin portion 4 of the light emitting device 1 according to the first embodiment, the light transmissive resin portion 4 has a non-aligned structure in the resin molecules 4m, thereby reducing the expression of birefringence. Is configured to do.

このように構成される第2の実施の形態に係る発光装置1においては、前述の第1の実施の形態に係る発光装置1により得られる効果と同様の効果を奏することができる。   In the light emitting device 1 according to the second embodiment configured as described above, the same effect as that obtained by the light emitting device 1 according to the above-described first embodiment can be obtained.

(その他の実施の形態)
上記のように、本発明は前述の第1の実施の形態及び第2の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものでない。例えば、第1の実施の形態及び第2の実施の形態に係る発光装置1においては透明な光透過性樹脂部4を前提として説明したが、この光透過性樹脂部4は必ずしも透明である必要はなく、本発明は青色、緑色、赤色、オレンジ色等のいずれかの染料を光透過性樹脂に混入して光透過性樹脂部4を構成してもよい。
(Other embodiments)
As described above, the present invention has been described according to the first embodiment and the second embodiment described above. However, the description and the drawings constituting a part of this disclosure do not limit the present invention. For example, in the light emitting device 1 according to the first embodiment and the second embodiment, the description has been made on the assumption that the transparent light transmissive resin portion 4 is used. However, the light transmissive resin portion 4 is not necessarily transparent. In the present invention, the light-transmitting resin portion 4 may be formed by mixing any dye such as blue, green, red, or orange into the light-transmitting resin.

このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態等を含む。従って、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。   As described above, the present invention includes various embodiments and the like not described herein. Therefore, the technical scope of the present invention is defined only by the invention specifying matters according to the scope of claims reasonable from the above description.

本発明の第1の実施の形態に係る発光装置の構成図である。It is a block diagram of the light-emitting device which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 図1に示す発光装置の発光素子の構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the structure of the light emitting element of the light-emitting device shown in FIG. 図2に示す発光素子のIII族窒化物半導体の非極性面を説明する結晶構造図である。FIG. 3 is a crystal structure diagram for explaining a nonpolar plane of a group III nitride semiconductor of the light emitting device shown in FIG. 2. 図2に示す発光素子のIII族窒化物半導体の原子配列を説明する結晶構造図である。FIG. 3 is a crystal structure diagram illustrating an atomic arrangement of a group III nitride semiconductor of the light emitting device shown in FIG. 2. (A)及び(B)はいずれも図2に示す発光素子のIII族窒化物半導体の半極性面を説明する結晶構造図である。(A) And (B) is a crystal structure figure explaining the semipolar surface of the group III nitride semiconductor of the light emitting element shown in FIG. 図1に示す発光装置において光透過性樹脂部の樹脂分子のモデル図である。FIG. 2 is a model diagram of resin molecules in a light transmissive resin portion in the light emitting device shown in FIG. 1. 光透過性樹脂の樹脂分子の配向状態を示す図である。It is a figure which shows the orientation state of the resin molecule | numerator of light transmissive resin. 図1に示す発光装置において光透過性樹脂部の樹脂分子がランダムに存在する場合を示すモデル図である。FIG. 2 is a model diagram illustrating a case where resin molecules in a light transmissive resin portion are present randomly in the light emitting device illustrated in FIG. 1. 第1の実施の形態に係る発光装置の製造方法を説明する第1の工程断面図である。It is 1st process sectional drawing explaining the manufacturing method of the light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第2の工程断面図である。It is 2nd process sectional drawing. 第3の工程断面図である。It is 3rd process sectional drawing. 第1の実施の形態に係る発光装置の光透過性樹脂部の昇温方法を説明するチャートである。It is a chart explaining the temperature rising method of the light transmissive resin part of the light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 本発明の第2の実施の形態に係る発光装置の構成図である。It is a block diagram of the light-emitting device which concerns on the 2nd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…発光装置
2…発光素子
20…偏向光
210…出力部
210A…出力面
211…第1電極
212…第2電極
220…発光部
221…第1半導体層
222…活性層
223…第2半導体層
3…実装ベース
30…実装面
4…光透過性樹脂部
41…光透過性樹脂
4m…樹脂分子
6…シリンジ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light-emitting device 2 ... Light emitting element 20 ... Deflection light 210 ... Output part 210A ... Output surface 211 ... 1st electrode 212 ... 2nd electrode 220 ... Light emission part 221 ... 1st semiconductor layer 222 ... Active layer 223 ... 2nd semiconductor layer DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 ... Mounting base 30 ... Mounting surface 4 ... Light-transmitting resin part 41 ... Light-transmitting resin 4m ... Resin molecule 6 ... Syringe

Claims (6)

実装ベースと、
前記実装ベース上に実装され、偏向光を発する発光素子と、
前記発光素子を覆い、前記発光素子から発せられる偏向光を透過し、樹脂分子に非配列構造を有する光透過性樹脂部と、
を備えたことを特徴とする発光装置。
Implementation base,
A light emitting element mounted on the mounting base and emitting polarized light;
A light-transmitting resin portion that covers the light-emitting element, transmits polarized light emitted from the light-emitting element, and has a non-aligned structure in resin molecules;
A light-emitting device comprising:
前記光透過性樹脂部は、前記樹脂分子をランダムに存在させていることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。   The light-emitting device according to claim 1, wherein the light-transmitting resin portion has the resin molecules randomly present. 前記光透過性樹脂部は、前記樹脂分子の分子軸に垂直方向の屈折率と分子軸に平行方向の屈折率とを等しく設定していることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の発光装置。   The refractive index in the direction perpendicular to the molecular axis of the resin molecule and the refractive index in the direction parallel to the molecular axis are set to be equal to each other in the light transmissive resin portion. Light-emitting device. 前記発光素子は、非極性面又は半極性面を主面とするIII族窒化物半導体により構成され、第1導電型の第1半導体層、この第1半導体層上の発光層及びこの発光層上の第2導電型の第2半導体層を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の発光装置。   The light emitting element is formed of a group III nitride semiconductor having a nonpolar plane or a semipolar plane as a main surface, and includes a first semiconductor layer of a first conductivity type, a light emitting layer on the first semiconductor layer, and the light emitting layer. The light-emitting device according to claim 1, further comprising a second semiconductor layer of the second conductivity type. 実装ベース上に偏向光を発する発光素子を実装する工程と、
前記発光素子から発せられる偏向光を透過する光透過性樹脂を前記発光素子に滴下塗布し、この発光素子を覆う光透過性樹脂部を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする発光装置の製造方法。
Mounting a light emitting element that emits polarized light on a mounting base;
A step of dropping and applying a light-transmitting resin that transmits polarized light emitted from the light-emitting element to the light-emitting element, and forming a light-transmitting resin portion that covers the light-emitting element;
A method for manufacturing a light emitting device, comprising:
実装ベース上に偏向光を発する発光素子を実装する工程と、
前記発光素子から発せられる偏向光を透過する光透過性樹脂を前記発光素子に滴下塗布する工程と、
前記光透過性樹脂を段階的に昇温し、この光透過性樹脂を硬化させ、前記発光素子を覆う光透過性樹脂部を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする発光装置の製造方法。
Mounting a light emitting element that emits polarized light on a mounting base;
A step of dropping and applying a light-transmitting resin that transmits polarized light emitted from the light emitting element to the light emitting element;
A step of gradually raising the temperature of the light transmissive resin, curing the light transmissive resin, and forming a light transmissive resin portion covering the light emitting element;
A method for manufacturing a light emitting device, comprising:
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