JP2009037107A - Defect correcting device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect correcting method where using efficiency of correcting ink is high, and a period required for application of the correcting ink is short. <P>SOLUTION: In this defect correcting method, when a black defect 36 occurs over two adjacent pixels 33 and 34, a laser beam is radiated to form a white defect 35 in a part corresponding to a black matrix 31 of a black defect 36, the white defect 35 is filled with black correcting ink 40, and the ink is hardened, then a laser beam is radiated to form a white defect 35 in a part corresponding to each of the pixels 33 and 34 of the black defect 36, and each white defect 35 is filled with correcting inks 41 and 42 of the same color as the pixels 33 and 34 and is hardened. Correction is efficiently made, therefore, with a small amount of correction ink 40 comparing with the conventional method where the entire black defect 36 is removed at once. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

この発明は欠陥修正装置に関し、特に、LCD(液晶ディスプレイ)のカラーフィルタの欠陥を修正する欠陥修正装置に関する。   The present invention relates to a defect correction apparatus, and more particularly to a defect correction apparatus for correcting a defect in a color filter of an LCD (Liquid Crystal Display).

近年、LCDの大型化、高精細化に伴い画素数も増大し、LCDを無欠陥で製造することは困難となり、欠陥の発生確率も増加してきている。このような状況下において歩留まり向上のために、LCDのカラーフィルタの製造工程において発生する欠陥を修正する欠陥修正装置が生産ラインに不可欠となってきている。   In recent years, with the increase in size and resolution of LCDs, the number of pixels has increased, making it difficult to manufacture LCDs without defects, and the probability of occurrence of defects has also increased. Under these circumstances, in order to improve the yield, a defect correcting apparatus that corrects a defect that occurs in the manufacturing process of an LCD color filter has become indispensable for a production line.

図10(a)〜(c)は、LCDのカラーフィルタの製造工程において発生する欠陥を示す図である。図10(a)〜(c)において、カラーフィルタは、透明基板の表面にブラックマトリクス31を格子状に形成し、そのブラックマトリクス31で囲まれた各領域にR(赤色)画素32、G(緑色)画素33、またはB(青色)画素34を形成したものである。R画素32、G画素33およびB画素34は、所定の周期で形成される。   FIGS. 10A to 10C are diagrams showing defects that occur in the manufacturing process of the color filter of the LCD. 10A to 10C, the color filter has a black matrix 31 formed in a lattice pattern on the surface of a transparent substrate, and R (red) pixels 32, G ( A green pixel 33 or a B (blue) pixel 34 is formed. The R pixel 32, the G pixel 33, and the B pixel 34 are formed with a predetermined cycle.

このようなカラーフィルタの製造工程においては、図10(a)に示すように画素やブラックマトリクス31の色が抜けてしまった白欠陥35や、図10(b)に示すように隣の画素と色が混色したり、ブラックマトリクス31が画素にはみ出してしまった黒欠陥36や、図10(c)に示すように画素に異物が付着した異物欠陥37などが発生する。   In the manufacturing process of such a color filter, the white defect 35 in which the color of the pixel or the black matrix 31 is lost as shown in FIG. 10A or the adjacent pixel as shown in FIG. Colors are mixed, or a black defect 36 in which the black matrix 31 protrudes from the pixel, a foreign object defect 37 in which a foreign object adheres to the pixel as shown in FIG.

白欠陥35を修正する方法としては、白欠陥35が存在する画素と同色のインクを塗布針の先端部に付着させ、塗布針の先端部に付着したインクを白欠陥35に塗布して修正する方法がある。また、黒欠陥36や異物欠陥37を修正する方法としては、欠陥部分をレーザカットして矩形の白欠陥35を形成した後、塗布針の先端部に付着したインクをその白欠陥35に塗布して修正する方法がある。   As a method of correcting the white defect 35, ink having the same color as that of the pixel in which the white defect 35 exists is attached to the tip of the application needle, and the ink attached to the tip of the application needle is applied to the white defect 35 to be corrected. There is a way. As a method for correcting the black defect 36 and the foreign matter defect 37, the defective portion is laser-cut to form a rectangular white defect 35, and then the ink adhered to the tip of the coating needle is applied to the white defect 35. There is a way to fix it.

また、図11に示すように、黒欠陥36が隣接する複数(図では2つ)の画素(図では33,34)に渡って発生する場合もある。この場合は、まず図12に示すように、黒欠陥36を含む矩形の領域にレーザ光を照射して黒欠陥36を除去し、矩形の白欠陥35を形成する。なお、白欠陥35では、透明基板38の表面が露出している。   In addition, as shown in FIG. 11, the black defect 36 may occur over a plurality of (two in the figure) adjacent pixels (33 and 34 in the figure). In this case, first, as shown in FIG. 12, a rectangular region including the black defect 36 is irradiated with laser light to remove the black defect 36 and form a rectangular white defect 35. In the white defect 35, the surface of the transparent substrate 38 is exposed.

次いで図13(a)に示すように、白欠陥35のうちのブラックマトリクス31に対応する部分にブラックマトリクス31用の黒色の修正インク40を塗布する。このとき図13(a)のXIIIB−XIIIB線断面図である図13(b)に示すように、修正インク40のブラックマトリクス31に対応する部分の厚さが、ブラックマトリクス31の正常部分の厚さ程度になるように修正インク40を塗布する。このとき、修正インク40の粘性は低いので、修正インク40はブラックマトリクス31の両側の画素33,34の領域まで広がる。   Next, as shown in FIG. 13A, the black correction ink 40 for the black matrix 31 is applied to the portion of the white defect 35 corresponding to the black matrix 31. At this time, as shown in FIG. 13B, which is a cross-sectional view taken along line XIIIB-XIIIB in FIG. 13A, the thickness of the portion corresponding to the black matrix 31 of the correction ink 40 is the thickness of the normal portion of the black matrix 31. The correction ink 40 is applied so that the thickness is about. At this time, since the viscosity of the correction ink 40 is low, the correction ink 40 extends to the areas of the pixels 33 and 34 on both sides of the black matrix 31.

次に、塗布した修正インク40に紫外線を照射して修正インク40を硬化させる。次いで、硬化した修正インク40のうちのブラックマトリクス31の幅からはみ出た部分をレーザ照射によって除去する。これにより、図14に示すように、ブラックマトリクス31が修正され、白欠陥35がブラックマトリクス31によって2分割された状態になる。   Next, the applied correction ink 40 is irradiated with ultraviolet rays to cure the correction ink 40. Next, a portion of the cured correction ink 40 that protrudes from the width of the black matrix 31 is removed by laser irradiation. As a result, as shown in FIG. 14, the black matrix 31 is corrected, and the white defect 35 is divided into two parts by the black matrix 31.

次いで図15に示すように、白欠陥35のうちのG画素33に対応する部分に緑色の修正インク41を塗布するとともに、白欠陥35のうちのB画素34に対応する部分に青色の修正インク42を塗布する。次に、紫外線を照射して修正インク41,42を硬化させれば、図16に示すように、黒欠陥36の修正が終了する(たとえば、特許文献1参照)。
特開2006−208716号公報
Next, as shown in FIG. 15, the green correction ink 41 is applied to the portion corresponding to the G pixel 33 in the white defect 35, and the blue correction ink is applied to the portion corresponding to the B pixel 34 in the white defect 35. 42 is applied. Next, when the correction inks 41 and 42 are cured by irradiating ultraviolet rays, the correction of the black defect 36 is completed as shown in FIG. 16 (see, for example, Patent Document 1).
JP 2006-208716 A

しかし、従来の欠陥修正方法では、ブラックマトリクス31用の修正インク40の粘性が低いので、所定の厚みを確保するために修正インク40を多量に塗布する必要があった。このため、塗布回数が多くなり、修正インク40の塗布に要する時間(塗布タクト)が長くなるという問題があった。また、多量に塗布した修正インク40のうちのブラックマトリクス31の所定の線幅よりも広い範囲に広がった多くの不要な部分を除去していたので、修正インク40の使用効率が悪かった。   However, in the conventional defect correction method, since the viscosity of the correction ink 40 for the black matrix 31 is low, it is necessary to apply a large amount of the correction ink 40 in order to ensure a predetermined thickness. For this reason, there has been a problem that the number of times of application increases and the time required for application of the correction ink 40 (application tact) becomes longer. In addition, since many unnecessary portions of the correction ink 40 applied in a large amount were removed from a wider range than the predetermined line width of the black matrix 31, the use efficiency of the correction ink 40 was poor.

それゆえに、この発明の主たる目的は、修正インクの使用効率が高く、修正インクの塗布に要する時間の短い欠陥修正方法および欠陥修正装置を提供することである。   SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, a main object of the present invention is to provide a defect correction method and a defect correction apparatus that have high use efficiency of correction ink and a short time required for application of correction ink.

この発明に係る欠陥修正方法は、透明基板上に格子状に形成されたブラックマトリクスと、該ブラックマトリクスで囲まれた各領域に形成された着色層とを含むカラーフィルタにおいて、隣接する少なくとも2つの着色層に渡って発生した欠陥を修正する欠陥修正方法であって、レーザ光を照射して欠陥のうちのブラックマトリクスに対応する部分を除去し、除去した部分にブラックマトリクス用の第1の修正インクを充填して硬化させた後、レーザ光を照射して欠陥のうちの着色層に対応する部分を除去し、除去した部分に着色層用の第2の修正インクを充填して硬化させることを特徴とする。   The defect correcting method according to the present invention is a color filter including a black matrix formed in a grid pattern on a transparent substrate and a colored layer formed in each region surrounded by the black matrix. A defect correction method for correcting a defect generated over a colored layer, wherein a portion corresponding to a black matrix is removed by irradiating a laser beam, and a first correction for a black matrix is performed on the removed portion. After the ink is filled and cured, the portion corresponding to the colored layer in the defect is removed by irradiating the laser beam, and the removed portion is filled with the second correction ink for the colored layer and cured. It is characterized by.

好ましくは、第1および第2の修正インクに紫外線を照射して硬化させる。
また好ましくは、第1および第2の修正インクにハロゲンランプ光を照射して硬化させる。
Preferably, the first and second correction inks are cured by irradiating with ultraviolet rays.
Preferably, the first and second correction inks are cured by irradiation with halogen lamp light.

また好ましくは、レーザ光としてYAGレーザ光を使用する。
また好ましくは、YAGレーザ光としてYAGレーザの第2高調波または第3高調波を使用する。
Preferably, YAG laser light is used as the laser light.
Preferably, the second harmonic or the third harmonic of the YAG laser is used as the YAG laser light.

また、この発明に係る欠陥修正装置は、透明基板上に格子状に形成されたブラックマトリクスと、該ブラックマトリクスで囲まれた各領域に形成された着色層とを含むカラーフィルタにおいて、隣接する少なくとも2つの着色層に渡って発生した欠陥を修正する欠陥修正装置であって、レーザ光を照射して欠陥のうちの所望の部分を除去するレーザ照射手段と、レーザ照射手段によって除去された部分にブラックマトリクス用の第1の修正インクまたは着色層用の第2の修正インクを選択的に充填する充填手段と、充填手段によって充填された第1および第2の修正インクを硬化させる硬化手段とを備え、レーザ光を照射して欠陥のうちのブラックマトリクスに対応する部分を除去し、除去した部分に第1の修正インクを充填して硬化させた後、レーザ光を照射して欠陥のうちの着色層に対応する部分を除去し、除去した部分に第2の修正インクを充填して硬化させることを特徴とする。   Further, the defect correction apparatus according to the present invention is a color filter including a black matrix formed in a grid pattern on a transparent substrate and a colored layer formed in each region surrounded by the black matrix. A defect correction apparatus for correcting a defect that has occurred across two colored layers, a laser irradiation unit that irradiates a laser beam to remove a desired portion of the defect, and a portion that is removed by the laser irradiation unit Filling means for selectively filling the first correction ink for the black matrix or the second correction ink for the colored layer, and curing means for curing the first and second correction inks filled by the filling means. The portion corresponding to the black matrix of the defect was removed by irradiating the laser beam, and the removed portion was filled with the first correction ink and cured. , By irradiating a laser beam to remove the portion corresponding to the colored layer of the defect, and wherein the curing by filling a second modified ink removed portion.

この発明に係る欠陥修正方法および欠陥修正装置では、レーザ光を照射して欠陥のうちのブラックマトリクスに対応する部分を除去し、除去した部分にブラックマトリクス用の第1の修正インクを充填して硬化させた後、レーザ光を照射して欠陥のうちの着色層に対応する部分を除去し、除去した部分に着色層用の第2の修正インクを充填して硬化させる。したがって、欠陥のうちのブラックマトリクスに対応する部分のみを除去し、除去した部分にブラックマトリクス用の第1の修正インクを充填するので、第1の修正インクが広がるのを抑制することができ、修正インクを効率的に使用することができる。また、修正インクを塗布する回数が少なくて済み、修正インクを塗布するのに要する時間(塗布タクト)も短くて済む。   In the defect correction method and the defect correction apparatus according to the present invention, the portion corresponding to the black matrix is removed by irradiating the laser beam, and the removed portion is filled with the first correction ink for the black matrix. After curing, the laser beam is irradiated to remove a portion corresponding to the colored layer in the defect, and the removed portion is filled with the second correction ink for the colored layer and cured. Therefore, only the portion corresponding to the black matrix in the defect is removed, and the removed portion is filled with the first correction ink for the black matrix, so that the first correction ink can be prevented from spreading. The correction ink can be used efficiently. Further, the number of times of applying the correction ink can be reduced, and the time required for applying the correction ink (application tact) can be shortened.

図1は、この発明の一実施の形態による欠陥修正装置の全体構成を示す図である。図1において、この欠陥修正装置は、基板の表面を観察する観察光学系1と、観察中の基板表面を撮影するCCDカメラ2と、撮影された基板表面の画像を表示するモニタ3と、レーザ光を照射して基板表面の欠陥を除去するレーザ照射装置4と、欠陥のサイズや向きに合わせてレーザ光の照射領域を調整するスリット機構5と、塗布針を用いて欠陥に修正インクを塗布する塗布ユニット6と、欠陥に塗布された修正インクに紫外線を照射して硬化させる硬化用光源7とを備える。   FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a defect correction apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the defect correcting apparatus includes an observation optical system 1 for observing the surface of the substrate, a CCD camera 2 for photographing the surface of the substrate being observed, a monitor 3 for displaying an image of the photographed substrate surface, and a laser. A laser irradiation device 4 that irradiates light to remove defects on the surface of the substrate, a slit mechanism 5 that adjusts the irradiation region of the laser light according to the size and orientation of the defect, and applying a correction ink to the defect using a coating needle And a curing light source 7 that irradiates the correction ink applied to the defect with ultraviolet rays and cures it.

また、この欠陥修正装置は、基板を水平に保持するチャック部8と、チャック部8をXY方向(水平方向)に移動させるXYステージ9と、観察光学系1、CCDカメラ2、レーザ照射装置4、スリット機構5、塗布ユニット6、および硬化用光源7を搭載してZ方向(垂直方向)に移動させるZステージ10と、撮影された画像に基づいて欠陥を認識する画像処理部11と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ12と、装置全体を制御するホストコンピュータ13とを備える。   In addition, the defect correcting apparatus includes a chuck unit 8 that holds the substrate horizontally, an XY stage 9 that moves the chuck unit 8 in the XY direction (horizontal direction), an observation optical system 1, a CCD camera 2, and a laser irradiation device 4. A Z stage 10 mounted with a slit mechanism 5, a coating unit 6, and a curing light source 7 and moved in the Z direction (vertical direction), an image processing unit 11 for recognizing a defect based on a photographed image, and an apparatus A control computer 12 for controlling the operation of the mechanism unit and a host computer 13 for controlling the entire apparatus are provided.

XYステージ9は、観察光学系1によって基板の表面を観察する際や、塗布ユニット6によって修正インクを欠陥に塗布する際などに、基板を適切な位置に相対移動させるために用いられる。図1に示したXYステージ9は、2つの一軸ステージを直角方向に重ねた構成を有している。ただし、XYステージ9は、観察光学系1や塗布ユニット6に対して基板を相対的に移動させることができるものであればよく、図1に示すXYステージ9の構成に限定されるものではない。近年では、基板サイズの大型化に伴い、基板が固定され、観察光学系1や塗布ユニット6などを搭載したZステージ10が、X軸方向とY軸方向にそれぞれ独立して移動可能なガントリー型のXYステージが多く採用されている。   The XY stage 9 is used to relatively move the substrate to an appropriate position when observing the surface of the substrate with the observation optical system 1 or when applying correction ink to a defect with the application unit 6. The XY stage 9 shown in FIG. 1 has a configuration in which two uniaxial stages are stacked in a perpendicular direction. However, the XY stage 9 only needs to be able to move the substrate relative to the observation optical system 1 and the coating unit 6, and is not limited to the configuration of the XY stage 9 shown in FIG. . In recent years, as the substrate size increases, the substrate is fixed, and the Z stage 10 on which the observation optical system 1 and the coating unit 6 are mounted can move independently in the X-axis direction and the Y-axis direction, respectively. Many XY stages are used.

図2は、塗布ユニット6の構成を示す図である。図2において、この塗布ユニット6では、塗布針21がアクチュエータ22によって垂直方向に移動可能に設けられるとともに、塗布パレット23がモータ24によって水平面内で回転可能に設けられている。塗布パレット23上には、それぞれR(赤色),G(緑色),B(青色)および黒色の修正インクが注入された4つのインクタンク25と、洗浄ユニット26と、乾燥ユニット27とが設けられている。円形の塗布パレット23の一部には、塗布針21を通過させるための切欠部28が設けられている。   FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the coating unit 6. In FIG. 2, in the application unit 6, an application needle 21 is provided so as to be movable in the vertical direction by an actuator 22, and an application pallet 23 is provided to be rotatable in a horizontal plane by a motor 24. On the coating pallet 23, four ink tanks 25 into which correction inks of R (red), G (green), B (blue), and black are respectively injected, a cleaning unit 26, and a drying unit 27 are provided. ing. A part of the circular application pallet 23 is provided with a notch 28 for allowing the application needle 21 to pass therethrough.

欠陥を修正するときは、塗布パレット23が回転されて所望の修正液タンク25が塗布針21の下に移動され、アクチュエータ22によって塗布針21が上下動されて、塗布針21の先端に所望の修正インクが付着される。次に、塗布パレット23が回転されて塗布パレット23の切欠部28が塗布針21の下に移動され、アクチュエータ22によって塗布針21が上下動されて、塗布針21の先端が基板(図示せず)の欠陥部に接触され、修正インクが欠陥部に塗布される。   When correcting the defect, the application pallet 23 is rotated, the desired correction liquid tank 25 is moved below the application needle 21, and the application needle 21 is moved up and down by the actuator 22, so that the desired tip is applied to the tip of the application needle 21. Correction ink is deposited. Next, the coating pallet 23 is rotated to move the notch 28 of the coating pallet 23 below the coating needle 21, and the coating needle 21 is moved up and down by the actuator 22, so that the tip of the coating needle 21 is a substrate (not shown). ) And the correction ink is applied to the defective portion.

修正インクの塗布後は、洗浄ユニット26が塗布針21の下に移動されて塗布針21が洗浄ユニット26内に挿入され、洗浄液によって塗布針21から不要な修正インクが除去される。その後、乾燥ユニット27が塗布針21の下に移動され、塗布針21が乾燥ユニット27内に挿入されて乾燥される。   After application of the correction ink, the cleaning unit 26 is moved below the application needle 21 and the application needle 21 is inserted into the cleaning unit 26, and unnecessary correction ink is removed from the application needle 21 by the cleaning liquid. Thereafter, the drying unit 27 is moved below the application needle 21, and the application needle 21 is inserted into the drying unit 27 and dried.

なお、塗布ユニット6としては、図2に示したように塗布針21をZ方向のみに移動させるものでもよいし、塗布針21をさらにXY方向に移動させるものでもよい(たとえば、特開2006−130460号公報参照)。   The application unit 6 may be one that moves the application needle 21 only in the Z direction as shown in FIG. 2, or may be one that further moves the application needle 21 in the XY direction (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-2006). No. 130460).

次に、この欠陥修正装置を用いた欠陥修正方法について説明する。今、図3に示すように、LCDのカラーフィルタにおいて、黒欠陥36が隣接する複数(図では2つ)の画素(図では33,34)に渡って発生しているものとする。まず図3に示すように、レーザ光を通過させるスリットSを黒欠陥36のうちのブラックマトリクス31に対応する部分に位置決めし、黒欠陥36のうちのブラックマトリクス31に対応する部分がスリットSの開口部内に収まるように、スリットSの幅および長さを設定する。   Next, a defect correction method using this defect correction apparatus will be described. Now, as shown in FIG. 3, in the color filter of the LCD, it is assumed that the black defect 36 occurs over a plurality of adjacent pixels (two in the drawing) (33, 34 in the drawing). First, as shown in FIG. 3, the slit S through which the laser beam is passed is positioned in a portion corresponding to the black matrix 31 in the black defect 36, and the portion corresponding to the black matrix 31 in the black defect 36 is the slit S. The width and length of the slit S are set so as to be within the opening.

次いでスリットSを介して黒欠陥36にレーザ光を照射し、図4(a)(b)に示すように、黒欠陥36のうちのブラックマトリクス31に対応する部分を除去し、スリットSの開口部と同じ形状の白欠陥35を形成する。なお、図4(b)は図4(a)のIVB−IVB線断面図であり、白欠陥35では透明基板38の表面が露出している。好ましくは、レーザ光としてYAGレーザ光を使用し、より好ましくは、YAGレーザの第2高調波または第3高調波を使用する。欠陥によっては、YAGレーザの基本波または第4高調波を使用してもよい。   Next, the black defect 36 is irradiated with laser light through the slit S, and the portion corresponding to the black matrix 31 in the black defect 36 is removed as shown in FIGS. A white defect 35 having the same shape as the portion is formed. 4B is a cross-sectional view taken along the line IVB-IVB in FIG. 4A, and the surface of the transparent substrate 38 is exposed at the white defect 35. FIG. Preferably, YAG laser light is used as the laser light, and more preferably, the second harmonic or the third harmonic of the YAG laser is used. Depending on the defect, the fundamental wave or the fourth harmonic of the YAG laser may be used.

次に、図5(a)(b)に示すように、ブラックマトリクス31に形成した白欠陥35に、塗布針を用いてブラックマトリクス用の修正インク40を充填する。このとき、図5(a)のVB−VB線断面図である図5(b)に示すように、白欠陥35の内壁によって修正インク40の広がりが抑制される。したがって、図13(a)(b)の場合に比べて修正インク40の広がりが少なくなり、少量の修正インク40で効率的に修正することができる。このため、修正インク40を塗布する回数が少なくて済み、修正インク40を塗布するのに要する時間(塗布タクト)も短くて済む。   Next, as shown in FIGS. 5A and 5B, the black defect correction ink 40 is filled into the white defect 35 formed in the black matrix 31 using an application needle. At this time, as shown in FIG. 5B, which is a cross-sectional view taken along the line VB-VB in FIG. 5A, the spread of the correction ink 40 is suppressed by the inner wall of the white defect 35. Therefore, the spread of the correction ink 40 is smaller than in the case of FIGS. 13A and 13B, and the correction can be efficiently performed with a small amount of the correction ink 40. For this reason, the number of times of applying the correction ink 40 can be reduced, and the time required for applying the correction ink 40 (application tact) can be shortened.

白欠陥35に充填した修正インク40に紫外線を照射して硬化させた後、図6に示すように、黒欠陥36のうちのG画素33に対応する部分にスリットSを位置決めし、黒欠陥36のうちのG画素33に対応する部分と、塗布した修正インク40のうちのブラックマトリクス31からはみ出た部分とがスリットSの開口部内に収まるように、スリットSの幅および長さを設定する。次いで、黒欠陥36などを含む矩形の領域にスリットSを介してレーザ光を照射し、図7に示すように、矩形の白欠陥35を形成する。   After the correction ink 40 filled in the white defect 35 is irradiated with ultraviolet rays and cured, as shown in FIG. 6, the slit S is positioned in a portion corresponding to the G pixel 33 in the black defect 36, and the black defect 36. The width and length of the slit S are set so that the portion corresponding to the G pixel 33 and the portion of the applied correction ink 40 that protrudes from the black matrix 31 fit within the opening of the slit S. Next, a rectangular region including the black defect 36 and the like is irradiated with a laser beam through the slit S to form a rectangular white defect 35 as shown in FIG.

同様に、図6に示すように、黒欠陥36のうちのB画素34に対応する部分にスリットSを位置決めし、黒欠陥36のうちのB画素34に対応する部分と、塗布した修正インク40のうちのブラックマトリクス31からはみ出た部分とがスリットSの開口部内に収まるように、スリットSの幅および長さを設定する。次いで、黒欠陥36などを含む矩形の領域にスリットSを介してレーザ光を照射し、図7に示すように、矩形の白欠陥35を形成する。   Similarly, as shown in FIG. 6, the slit S is positioned at a portion corresponding to the B pixel 34 in the black defect 36, and the portion corresponding to the B pixel 34 in the black defect 36 and the applied correction ink 40 are applied. The width and length of the slit S are set so that the portion protruding from the black matrix 31 is within the opening of the slit S. Next, a rectangular region including the black defect 36 and the like is irradiated with a laser beam through the slit S to form a rectangular white defect 35 as shown in FIG.

次に、図8に示すように、塗布針21を用いてG画素33内の白欠陥35にG画素33用の修正インク41を塗布し、B画素34内の白欠陥35にB画素34用の修正インク42を塗布する。白欠陥35が大きい場合は、塗布針21の位置を移動させて複数点(図では2点)に修正インク41または42を塗布すればよい。次いで、紫外線を照射して修正インク41,42を硬化させれば、図9に示すように、黒欠陥36の修正が終了する。   Next, as shown in FIG. 8, the correction ink 41 for the G pixel 33 is applied to the white defect 35 in the G pixel 33 using the application needle 21, and the white defect 35 in the B pixel 34 is applied to the B defect 34. The correction ink 42 is applied. When the white defect 35 is large, the correction ink 41 or 42 may be applied to a plurality of points (two points in the figure) by moving the position of the application needle 21. Next, when the correction inks 41 and 42 are cured by irradiating ultraviolet rays, the correction of the black defect 36 is completed as shown in FIG.

なお、この実施の形態では、修正インク40〜42として紫外線硬化型のものを使用したが、修正インク40〜42として熱硬化型のものを使用してもよい。熱硬化型の修正インク40〜42を使用した場合は、紫外線の代わりにハロゲンランプ光を照射すればよい。   In this embodiment, ultraviolet curable inks are used as the correction inks 40 to 42, but thermosetting inks may be used as the correction inks 40 to 42. When thermosetting correction inks 40 to 42 are used, halogen lamp light may be irradiated instead of ultraviolet rays.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

この発明の一実施の形態による欠陥修正装置の全体構成を示す図である。It is a figure showing the whole defect repairing device composition by one embodiment of this invention. 図1に示した塗布ユニットの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the application | coating unit shown in FIG. 図1および図2に示した欠陥修正装置を用いて黒欠陥を修正する一工程を示す図である。It is a figure which shows one process of correcting a black defect using the defect correction apparatus shown in FIG. 1 and FIG. 図3に示した工程の次の工程を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a step subsequent to the step shown in FIG. 3. 図4に示した工程の次の工程を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a step subsequent to the step shown in FIG. 4. 図5に示した工程の次の工程を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a step subsequent to the step shown in FIG. 5. 図6に示した工程の次の工程を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a step subsequent to the step shown in FIG. 6. 図7に示した工程の次の工程を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a step subsequent to the step shown in FIG. 7. 図3に示した黒欠陥の修正が終了した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which correction | amendment of the black defect shown in FIG. 3 was complete | finished. LCDのカラーフィルタに発生する欠陥を示す図である。It is a figure which shows the defect which generate | occur | produces in the color filter of LCD. 複数の画素に渡って発生した黒欠陥を示す図である。It is a figure which shows the black defect which generate | occur | produced over several pixels. 図11に示した黒欠陥を修正する一工程を示す図である。It is a figure which shows one process of correcting the black defect shown in FIG. 図12に示した工程の次の工程を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a step subsequent to the step shown in FIG. 12. 図13に示した工程の次の工程を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a step subsequent to the step shown in FIG. 13. 図14に示した工程の次の工程を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a step subsequent to the step shown in FIG. 14. 図11に示した黒欠陥の修正が終了した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which correction of the black defect shown in FIG. 11 was complete | finished.

符号の説明Explanation of symbols

1 観察光学系、2 CCDカメラ、3 モニタ、4 レーザ照射装置、5 スリット機構、6 塗布ユニット、7 硬化用光源、8 チャック部、9 XYステージ、10 Zステージ、11 画像処理部、12 制御用コンピュータ、13 ホストコンピュータ、21 塗布針、22 アクチュエータ、23 塗布パレット、24 モータ、25 インクタンク、26 洗浄ユニット、27 乾燥ユニット、28 切欠部、31 ブラックマトリクス、32 R画素、33 G画素、34 B画素、35 白欠陥、36 黒欠陥、37 異物欠陥、38 透明基板、40〜42 修正インク。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Observation optical system, 2 CCD camera, 3 Monitor, 4 Laser irradiation apparatus, 5 Slit mechanism, 6 Coating unit, 7 Curing light source, 8 Chuck part, 9 XY stage, 10 Z stage, 11 Image processing part, 12 For control Computer, 13 Host computer, 21 Application needle, 22 Actuator, 23 Application pallet, 24 Motor, 25 Ink tank, 26 Cleaning unit, 27 Drying unit, 28 Notch, 31 Black matrix, 32 R pixel, 33 G pixel, 34 B Pixel, 35 White defect, 36 Black defect, 37 Foreign object defect, 38 Transparent substrate, 40-42 Correction ink.

Claims (6)

透明基板上に格子状に形成されたブラックマトリクスと、該ブラックマトリクスで囲まれた各領域に形成された着色層とを含むカラーフィルタにおいて、隣接する少なくとも2つの着色層に渡って発生した欠陥を修正する欠陥修正方法であって、
レーザ光を照射して前記欠陥のうちの前記ブラックマトリクスに対応する部分を除去し、除去した部分に前記ブラックマトリクス用の第1の修正インクを充填して硬化させた後、
レーザ光を照射して前記欠陥のうちの前記着色層に対応する部分を除去し、除去した部分に前記着色層用の第2の修正インクを充填して硬化させることを特徴とする、欠陥修正方法。
In a color filter including a black matrix formed in a lattice pattern on a transparent substrate and a colored layer formed in each region surrounded by the black matrix, defects generated in at least two adjacent colored layers are removed. A defect correction method for correcting,
After irradiating a laser beam to remove a portion of the defect corresponding to the black matrix, the removed portion is filled with the first correction ink for the black matrix and cured,
Defect correction characterized by removing a portion corresponding to the colored layer of the defect by irradiating a laser beam, filling the removed portion with a second correction ink for the colored layer and curing it Method.
前記第1および第2の修正インクに紫外線を照射して硬化させることを特徴とする、請求項1に記載の欠陥修正方法。   The defect correction method according to claim 1, wherein the first and second correction inks are irradiated with ultraviolet rays to be cured. 前記第1および第2の修正インクにハロゲンランプ光を照射して硬化させることを特徴とする、請求項1に記載の欠陥修正方法。   The defect correction method according to claim 1, wherein the first and second correction inks are cured by irradiation with a halogen lamp light. 前記レーザ光としてYAGレーザ光を使用することを特徴とする、請求項1から請求項3までのいずれかに記載の欠陥修正方法。   The defect correction method according to claim 1, wherein a YAG laser beam is used as the laser beam. 前記YAGレーザ光としてYAGレーザの第2高調波または第3高調波を使用することを特徴とする、請求項4に記載の欠陥修正方法。   5. The defect correction method according to claim 4, wherein a second harmonic or a third harmonic of a YAG laser is used as the YAG laser light. 透明基板上に格子状に形成されたブラックマトリクスと、該ブラックマトリクスで囲まれた各領域に形成された着色層とを含むカラーフィルタにおいて、隣接する少なくとも2つの着色層に渡って発生した欠陥を修正する欠陥修正装置であって、
レーザ光を照射して前記欠陥のうちの所望の部分を除去するレーザ照射手段と、
前記レーザ照射手段によって除去された部分に前記ブラックマトリクス用の第1の修正インクまたは前記着色層用の第2の修正インクを選択的に充填する充填手段と、
前記充填手段によって充填された第1および第2の修正インクを硬化させる硬化手段とを備え、
レーザ光を照射して前記欠陥のうちの前記ブラックマトリクスに対応する部分を除去し、除去した部分に前記第1の修正インクを充填して硬化させた後、
レーザ光を照射して前記欠陥のうちの前記着色層に対応する部分を除去し、除去した部分に前記第2の修正インクを充填して硬化させることを特徴とする、欠陥修正装置。
In a color filter including a black matrix formed in a lattice pattern on a transparent substrate and a colored layer formed in each region surrounded by the black matrix, defects generated in at least two adjacent colored layers are removed. A defect correcting device for correcting,
Laser irradiation means for irradiating a laser beam to remove a desired portion of the defect;
Filling means for selectively filling the first correction ink for the black matrix or the second correction ink for the colored layer into the portion removed by the laser irradiation means;
Curing means for curing the first and second correction inks filled by the filling means,
After irradiating a laser beam to remove a portion of the defect corresponding to the black matrix, the removed portion is filled with the first correction ink and cured,
A defect correcting apparatus, wherein a portion corresponding to the colored layer in the defect is removed by irradiating a laser beam, and the removed correction portion is filled with the second correction ink and cured.
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