JP2009035495A - Bis(4-oxocyclohexyl) compound and tetrakisphenol compound derived from the same - Google Patents

Bis(4-oxocyclohexyl) compound and tetrakisphenol compound derived from the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new bis(4-oxocyclohexyl) compound which can be used for photosensitive resist compositions, photosensitive polyimide resins, epoxy resins, and the like, has a low melting point, and has improved solubility in solvents and the like, and to provide a new tetrakisphenol compound derived from the same. <P>SOLUTION: Provided is a compound represented by the Figure, which can easily be produced, for example, by a two step reaction method comprising hydrogenating the nuclei of a bisphenol compound, to produce the biscyclohexanol, and then oxidizing the biscyclohexanol, to produce the bis(oxocyclohexyl) compound. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、新規なビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物及びそれから誘導される新規なテトラキスフェノール化合物に関する。
さらに詳しくは、本発明は、中心骨格に1,3−フェニレンビスアルキレン基を有するビス(4−オキソシクロヘキシル)及びそのビス(4−オキソシクロヘキシル)の両末端のオキソ基に各々2つのフェニル基が結合した構造をもつテトラキスフェノール化合物に関する。
本発明で得られたビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物は、医薬品原料、工業薬品原料、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フェノール樹脂等の樹脂原料、又は酸化防止剤等の中間原料として有用であり、また、上記ビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物から誘導される、テトラキスフェノール化合物は、感光性レジスト材料、感光性ポリイミド材料、感光性透明樹脂絶縁膜材料、フェノール樹脂、エポキシ樹脂の原料や硬化剤等として有用である。
The present invention relates to a novel bis (4-oxocyclohexyl) compound and a novel tetrakisphenol compound derived therefrom.
More specifically, the present invention relates to bis (4-oxocyclohexyl) having a 1,3-phenylenebisalkylene group in the central skeleton and two phenyl groups in each oxo group at both ends of the bis (4-oxocyclohexyl). The present invention relates to a tetrakisphenol compound having a bonded structure.
The bis (4-oxocyclohexyl) compound obtained by the present invention is useful as a raw material for pharmaceuticals, industrial raw materials, resin raw materials such as epoxy resins, imide resins and phenol resins, or an intermediate raw material such as antioxidants. Tetrakisphenol compounds derived from the above bis (4-oxocyclohexyl) compounds are used as photosensitive resist materials, photosensitive polyimide materials, photosensitive transparent resin insulating film materials, phenol resins, epoxy resin raw materials and curing agents, etc. Useful.

従来、ビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物としては、例えば、4,4’−ビシクロヘキサノン、ビス(4−オキソシクロヘキシル)メタン、2,2−ビス(4−オキソシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル−4−オキソシクロヘキシル)プロパン等いくつかの化合物が知られている(特開昭49−250号公報、特開平8−134009号公報、特開平11−158108号公報)。
また、それらのビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物から誘導されるテトラキスフェノールとしては、4,4,4’,4’−テトラ(4−ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキシル2,2−ビス[4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]プロパン、2,2−ビス[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]プロパン、2,2−ビス[4,4−ビス(2−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]プロパン等が知られている(特開2000−34248号公報、特開昭49−250号公報)。しかしながら、これらはいずれも、アルキリデンビス(シクロヘキシル)骨格又はビシクロヘキサン骨格を有するものである。
一方、テトラキスフェノールにおいては、このような中心骨格を有する化合物は、いずれも融点が高く、溶媒等への溶解性が劣るため、例えば、感光性レジスト組成物用途等において、耐熱性、耐水性を維持しつつ、溶媒への溶解性の改良が望まれている。
Conventionally, as the bis (4-oxocyclohexyl) compound, for example, 4,4′-bicyclohexanone, bis (4-oxocyclohexyl) methane, 2,2-bis (4-oxocyclohexyl) propane, 2,2-bis Several compounds such as (3-methyl-4-oxocyclohexyl) propane are known (Japanese Patent Laid-Open No. 49-250, Japanese Patent Laid-Open No. 8-134209, Japanese Patent Laid-Open No. 11-158108).
Examples of tetrakisphenol derived from these bis (4-oxocyclohexyl) compounds include 4,4,4 ′, 4′-tetra (4-hydroxyphenyl) bicyclohexyl 2,2-bis [4,4- Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [4,4-bis (2- [t-Butyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] propane and the like are known (JP 2000-34248, JP 49-250). However, all of these have an alkylidene bis (cyclohexyl) skeleton or a bicyclohexane skeleton.
On the other hand, in tetrakisphenol, all of the compounds having such a central skeleton have a high melting point and poor solubility in a solvent or the like. Therefore, for example, in photosensitive resist composition applications, heat resistance and water resistance are improved. There is a desire to improve solubility in solvents while maintaining.

特開昭49−000250号公報Japanese Patent Laid-Open No. 49-000250 特開平08−134009号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-134209 特開平11−158108号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-158108 特開2000−34248号公報JP 2000-34248 A

従って、本発明は、従来の上記のような問題点を改良する為になされたもので、感光性レジスト組成物、感光性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等に用いることができる、耐熱性、耐水性、可とう性等に優れ、しかも融点が低く、溶媒等への溶解性の改良された新規なテトラキスフェノールを提供することを目的とし、及び、本発明はそのようなテトラキスフェノールの原料化合物となり得る新規なビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention was made to improve the conventional problems as described above, and can be used for a photosensitive resist composition, a photosensitive polyimide resin, an epoxy resin, etc., heat resistance, water resistance, An object of the present invention is to provide a novel tetrakisphenol which is excellent in flexibility and has a low melting point and improved solubility in a solvent, and the present invention is a novel compound which can be a raw material compound of such tetrakisphenol. The object is to provide a novel bis (4-oxocyclohexyl) compound.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、中心骨格に、1,3−フェニレンビスアルキル基を持つ新規なテトラキスフェノール化合物が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。
また、このようなテトラキスフェノール化合物の原料化合物となり得る、中心骨格に、対応する1,3−フェニレンビスアルキル基を持つ新規なビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物を見出し、本発明を完成した。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a novel tetrakisphenol compound having a 1,3-phenylenebisalkyl group in the central skeleton can solve the above problems, and completed the present invention. .
Further, a novel bis (4-oxocyclohexyl) compound having a corresponding 1,3-phenylenebisalkyl group in the central skeleton, which can be a raw material compound of such a tetrakisphenol compound, was found and the present invention was completed.

本発明によれば、一般式(1)
一般式(1)
(式中、Xは、炭素原子数1〜8の2価の飽和炭化水素基を示し、Rは、炭素原子数1〜8のアルキル基を示し、nは0〜4の整数を示す。)で表されるビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物が提供される。
According to the invention, the general formula (1)
General formula (1)
(In the formula, X represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 4. The bis (4-oxocyclohexyl) compound represented by this is provided.

また、本発明によれば、一般式(2)
一般式(2)
(式中、R及びRは、各々独立して水素原子又は炭素原子数1〜8のアルキル基を示し、R、X及びnは、一般式(1)のそれと同じである。)で表されるテトラキスフェノール化合物が提供される。
Moreover, according to the present invention, the general formula (2)
General formula (2)
(In the formula, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 1 , X and n are the same as those in the general formula (1).) The tetrakisphenol compound represented by these is provided.

本発明の目的化合物の新規なテトラキスフェノール化合物は、フェニレン基の1,3−位置に結合したアルキル基を介してシクロヘキサン環が2つ結合した中心骨格を有するテトラキスフェノール類であるため、溶媒に対する高い溶解性を有し工業的に効率良く、しかも高純度品が製造できるので経済的に有利である。また、感光性レジスト等の組成物の成分として用いた場合、融点が低く、溶解しやすく、組成物からの結晶析出も抑制できる効果が期待できる。さらに、各種樹脂の原料化合物として使用した場合、耐熱性、耐水性、可撓性の向上が期待できる。
そして、本発明で得られた化合物は従来の高価なロジウムカーボン触媒(特開昭62−281832号公報等)に比べて安価なパラジウムカーボンを用いて、比較的穏和な条件下、原料のビス(4−オキソシクロヘキシル)類の製造が容易に行えるので、工業的な実施に有利である。
また、シクロヘキシルアルキル基を(1,4−位ではなく、)非対称な1,3−位に結合させることによって、溶剤への溶解性の向上をはかることができた。
さらに、本発明の原料化合物の新規なビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物も、本発明の新規なテトラキスフェノール化合物と同様に、フェニレン基の1,3−位置に結合したアルキル基を介してシクロヘキサン環が2つ結合した骨格を有するジオキソ化合物であるので、各種化学品の中間体化合物として使用した場合、融点が低く、溶媒に対する高い溶解性を有し、また、耐熱性、耐水性、可撓性の向上が期待でき、本発明のテトラキスフェノール化合物の原料として有用である
従って、本発明の新規なテトラキスフェノール化合物、及び本発明の新規なビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物は、感光性レジスト材料、感光性ポリイミド材料、感光性透明樹脂絶縁膜材料、フェノール樹脂、エポキシ樹脂の原料や硬化剤、感熱記録材料に用いられる顕色剤や退色防止剤等として、又はこれらの原料又は原料中間体として好適に用いることができる。
Since the novel tetrakisphenol compound as the target compound of the present invention is a tetrakisphenol having a central skeleton in which two cyclohexane rings are bonded via an alkyl group bonded to the 1,3-position of the phenylene group, it is highly resistant to solvents. It is economically advantageous because it is soluble, industrially efficient, and can produce high-purity products. Further, when used as a component of a composition such as a photosensitive resist, the melting point is low, the composition is easily dissolved, and the effect of suppressing crystal precipitation from the composition can be expected. Furthermore, when used as a raw material compound for various resins, improvements in heat resistance, water resistance and flexibility can be expected.
The compound obtained in the present invention is obtained by using a raw material bis (relative to mild conditions) by using palladium carbon which is cheaper than a conventional expensive rhodium carbon catalyst (JP-A-62-281832 or the like). Since 4-oxocyclohexyl) can be easily produced, it is advantageous for industrial implementation.
Moreover, the solubility in a solvent could be improved by bonding a cyclohexylalkyl group to an asymmetric 1,3-position (not 1,4-position).
Furthermore, the novel bis (4-oxocyclohexyl) compound of the raw material compound of the present invention is also a cyclohexane ring via an alkyl group bonded to the 1,3-position of the phenylene group, similarly to the novel tetrakisphenol compound of the present invention. Is a dioxo compound having a skeleton with two bonds, so when used as an intermediate compound of various chemicals, it has a low melting point, high solubility in solvents, and heat resistance, water resistance, flexibility Therefore, it is useful as a raw material for the tetrakisphenol compound of the present invention. Therefore, the novel tetrakisphenol compound of the present invention and the novel bis (4-oxocyclohexyl) compound of the present invention are photosensitive resist materials, Photosensitive polyimide material, photosensitive transparent resin insulation film material, phenol resin, epoxy resin raw material and curing agent, thermal recording It can be suitably used as a developer or anti-fading agent used in the material, or as these raw materials or raw material intermediates.

本発明における原料化合物のビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物は、上記一般式(1)で表される。
上記一般式(1)においてXは、炭素原子数1〜8の2価の飽和単価水素基を示し、具体的には、メチレン基、エチリデン基、プロパン−2−イリデン基、プロパン−1−イリデン基、ペンタン−3−イリデン基、2−メチルプロパン−1−イリデン基、2−メチルブタン−1−イリデン基、n−ペンタン−1−イリデン基等の直鎖状又は分枝鎖状のアルキリデン基、エチレン基、1,2−プロピレン基等の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基であり、Xとしては、下記一般式(3)のアルキリデン基が好ましい。
The bis (4-oxocyclohexyl) compound as a starting compound in the present invention is represented by the above general formula (1).
In the general formula (1), X represents a divalent saturated monovalent hydrogen group having 1 to 8 carbon atoms, and specifically includes a methylene group, an ethylidene group, a propane-2-ylidene group, and propane-1-ylidene. A linear or branched alkylidene group such as a group, pentane-3-ylidene group, 2-methylpropane-1-ylidene group, 2-methylbutane-1-ylidene group, n-pentane-1-ylidene group, It is a linear or branched alkylene group such as an ethylene group or a 1,2-propylene group, and X is preferably an alkylidene group of the following general formula (3).

一般式(3)
式中、R及びRは各々独立して水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、但し、RとRの炭素原子数の和は0〜7の整数を示す。
上記炭素原子数1〜4のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、直鎖状又は分岐鎖状のプロピル基、ブチル基を示し、メチル基、エチル基等の1級又は2級アルキル基が好ましい。
General formula (3)
In the formula, R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, provided that the sum of the number of carbon atoms of R 4 and R 5 represents an integer of 0 to 7.
Specific examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a linear or branched propyl group, and a butyl group. Secondary alkyl groups are preferred.

また、上記一般式(1)において、式中Rは、炭素原子数1〜8のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、エチル基、炭素原子数3〜8の直鎖状、分岐鎖状のプロピル、ブチル、ペンチル、オクチル等のアルキル基、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等のシクロアルキル基等が挙げられる。これらのうち好ましくは炭素原子数1〜3のアルキル基である。また、nは0〜4の整数を示し、好ましくは0又は1〜2であり、0又は1が特に好ましい。アルキル基の置換位置としては、nが1の場合は、2−位又は3−位、nが2の場合は、2,5−位又は3,5−位、nが3の場合は、2,3,5−位が挙げられ、nが1の場合の2−位、nが2の場合の2,5−位が好ましい。 In the general formula (1), R 1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a straight chain having 3 to 8 carbon atoms, Examples include branched alkyl groups such as propyl, butyl, pentyl and octyl, and cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl and cycloheptyl. Of these, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable. Moreover, n shows the integer of 0-4, Preferably it is 0 or 1-2, and 0 or 1 is especially preferable. As the substitution position of the alkyl group, when n is 1, 2-position or 3-position, when n is 2, 2,5-position or 3,5-position, when n is 3, 2 , 3,5-positions, and the 2-position when n is 1 and the 2,5-position when n is 2 are preferred.

従って、一般式(1)で表されるビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物としては、具体的には、例えば、
1,3−ビス[1−メチル−1−(4−オキソシクロヘキシル)エチル]ベンゼン
Therefore, as the bis (4-oxocyclohexyl) compound represented by the general formula (1), specifically, for example,
1,3-bis [1-methyl-1- (4-oxocyclohexyl) ethyl] benzene

1,3−ビス[1−メチル−1−(2−メチル−4−オキソシクロヘキシル)エチル]ベンゼン 1,3-bis [1-methyl-1- (2-methyl-4-oxocyclohexyl) ethyl] benzene

1,3−ビス[1−メチル−1−(3,5−ジメチル−4−オキソシクロヘキシル)エチル]ベンゼン 1,3-bis [1-methyl-1- (3,5-dimethyl-4-oxocyclohexyl) ethyl] benzene

さらに、
1,3−ビス[1−メチル−1−(3−メチル−4−オキソシクロヘキシル)エチル]ベンゼン、
1,3−ビス[1−メチル−1−(2,3,5−トリメチル−4−オキソシクロヘキシル)エチル]ベンゼン、
1,3−ビス[(4−オキソシクロヘキシル)メチル]ベンゼン、
1,3−ビス[(3−メチル−4−オキソシクロヘキシル)メチル]ベンゼン、
1,3−ビス[1−(2−メチル−4−オキソシクロヘキシル)エチル]ベンゼン、
1,3−ビス[1−メチル−1−(2,5−ジメチル−4−オキソシクロヘキシル)エチル]ベンゼン、
1,3−ビス[2−メチル−2−(2−メチル−4−オキソシクロヘキシル)エチル]ベンゼン、
1,3−ビス[1−エチル−1−(2−メチル−4−オキソシクロヘキシル)エチル]ベンゼン、
1,3−ビス[1−エチル−1−(2−メチル−4−オキソシクロヘキシル)プロピル]ベンゼン、
1,3−ビス[1−イソプロピル−1−(2−メチル−4−オキソシクロヘキシル)ブチル]ベンゼン
等が挙げられる。
further,
1,3-bis [1-methyl-1- (3-methyl-4-oxocyclohexyl) ethyl] benzene,
1,3-bis [1-methyl-1- (2,3,5-trimethyl-4-oxocyclohexyl) ethyl] benzene,
1,3-bis [(4-oxocyclohexyl) methyl] benzene,
1,3-bis [(3-methyl-4-oxocyclohexyl) methyl] benzene,
1,3-bis [1- (2-methyl-4-oxocyclohexyl) ethyl] benzene,
1,3-bis [1-methyl-1- (2,5-dimethyl-4-oxocyclohexyl) ethyl] benzene,
1,3-bis [2-methyl-2- (2-methyl-4-oxocyclohexyl) ethyl] benzene,
1,3-bis [1-ethyl-1- (2-methyl-4-oxocyclohexyl) ethyl] benzene,
1,3-bis [1-ethyl-1- (2-methyl-4-oxocyclohexyl) propyl] benzene,
1,3-bis [1-isopropyl-1- (2-methyl-4-oxocyclohexyl) butyl] benzene and the like.

このような本発明における、一般式(1)で表されるビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物の製造方法としては、特に制限はないが、例えば、ビスフェノール類を出発原料とし、これを核水添して、ビスシクロヘキサノールとし、ついで、これを酸化してビス(オキソシクロヘキシル)とする2段反応方法が提示できる。   The method for producing the bis (4-oxocyclohexyl) compound represented by the general formula (1) in the present invention is not particularly limited. For example, bisphenols are used as a starting material, and this is subjected to nuclear hydrogenation. Thus, a two-stage reaction method can be presented in which biscyclohexanol is converted to bis (oxocyclohexyl) by oxidation.

これは、例えば、4,4’−ビス[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]フェノールのような中心骨格にフェニル基を有するビスフェノール類を担持Rh触媒、担持Ru触媒、ラネーニッケル触媒等の存在下に特定条件において両端のフェニル核を水素化することにより、4,4’−ビス[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]シクロヘキサノール等の対応するビスシクロヘキサノールを得(特開昭62−281832号公報)、ついで、これを次亜ハロゲン酸もしくはその塩により酸化(特開平4−59742号公報)又は銅系酸化触媒の存在下に酸化(特開2002−179609号公報)してビスオキソシクロヘキシルを得る2段反応方法であり、下記にその反応式(反応式1)を示す。   This includes, for example, a supported Rh catalyst, a supported Ru catalyst, a Raney nickel catalyst and the like having a bisphenol having a phenyl group in the central skeleton such as 4,4′-bis [1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] phenol. Hydrogenation of the phenyl nuclei at both ends under the specific conditions in the presence of ## STR4 ## yields the corresponding biscyclohexanol such as 4,4′-bis [1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] cyclohexanol ( This is oxidized with hypohalous acid or a salt thereof (Japanese Patent Laid-Open No. 4-59742) or oxidized in the presence of a copper-based oxidation catalyst (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-179609). ) To obtain bisoxocyclohexyl, and its reaction formula (reaction formula 1) is shown below.

反応式1 Reaction formula 1

また、他の方法としては、同じくビスフェノール類を出発原料とし、パラジウム系触媒及びアルカリ金属化合物の存在下(特開平8−134009号公報)で,又は、アルカリ金属含有パラジウム触媒の存在下(特開平11−158108号公報)に直接核水添して、ビスオキソシクロヘキシルを得る1段反応方法等が挙げられる。下記に一段反応の反応式(反応式2)を示す。   As other methods, bisphenols are similarly used as starting materials, in the presence of a palladium-based catalyst and an alkali metal compound (Japanese Patent Laid-Open No. 8-134209), or in the presence of an alkali metal-containing palladium catalyst (Japanese Patent Laid-Open No. 11-158108), and a one-step reaction method for obtaining bisoxocyclohexyl by direct hydrogenation. The reaction formula (reaction formula 2) of the one-step reaction is shown below.

反応式2 Reaction formula 2

1段反応方法は、通常、比較的低圧の1〜10kg/cm2程度で実施することができるが、目的物のビスオキソシクロヘキシル以外に、オキソシクロヘキシルシクロへキサノールや、ビスシクロへキサノールが生成する。しかしながら、原料フェニル基の不飽和結合が水素化されていれば、この混合物を次亜ハロゲン化酸もしくはその塩で酸化することで、副生したアルコール体がケトンになり、高選択的にビスオキソシクロヘキシルを製造することができる。従って、本発明のビス(4−オキソシクロヘキシル)の製造方法としては、下記一般式(3)で表されるビスフェノール類を原料とし、これをパラジウム系触媒及びアルカリ金属化合物の存在下、又は、アルカリ金属含有パラジウム触媒の存在下に水素添加した後、触媒等を除去して得られた粗製ビス(4−オキソシクロヘキシル)を酸化処理するビス(4−オキソシクロヘキシル)の製造方法が好ましく、工業的に容易に実施可能で、しかも収率よく、高純度で得ることができる。 The one-stage reaction method can usually be carried out at a relatively low pressure of about 1 to 10 kg / cm 2 , but oxocyclohexylcyclohexanol and biscyclohexanol are produced in addition to the target bisoxocyclohexyl. However, if the unsaturated bond of the raw material phenyl group is hydrogenated, by oxidizing this mixture with hypohalous acid or a salt thereof, the by-produced alcohol form becomes a ketone, which is highly bisoxo. Cyclohexyl can be produced. Therefore, as a method for producing bis (4-oxocyclohexyl) of the present invention, a bisphenol represented by the following general formula (3) is used as a raw material, and this is used in the presence of a palladium catalyst and an alkali metal compound, or an alkali. A method for producing bis (4-oxocyclohexyl), in which crude bis (4-oxocyclohexyl) obtained by hydrogenation in the presence of a metal-containing palladium catalyst and then removing the catalyst, etc. is oxidized, is preferred. It can be easily carried out and can be obtained with high yield and high purity.

一般式(3)
(式中、X、R及びnは一般式(1)のそれと同じである。)
General formula (3)
(In the formula, X, R 1 and n are the same as those in the general formula (1).)

このような、一般式(3)で表されるビスフェノールとしては、具体的には、例えば、
1,3−ビス〔1−メチル−1−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン、1,3−ビス〔1−メチル−1−(2−メチル−5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン、1,3−ビス〔1−メチル−1−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン、1,3−ビス〔1−メチル−1−(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン、1,3−ビス〔(4−ヒドロキシフェニル)メチル〕ベンゼン、1,3−ビス〔(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフェニル)メチル〕ベンゼン等を挙げることができる。
また、このような上記一般式(3)で表され、Xがアルキリデン基であるビスフェノール類は、特開平9−143115号公報、特開2001−58968号公報等に記載の方法により、例えば、1,3−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼンのような1,3−ジ(1−ヒドロキシアルキル)ベンゼンに塩化水素ガス等の酸触媒の存在下、過剰のフェノール類を反応させる方法により、容易に得ることができる。
一般式(3)で表されるビスフェノール類が1,3−ビス〔1−メチル−1−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンである場合の、上記2段反応により対応するビス(4−オキソシクロヘキシル)を得る製造方法を下記に反応式(反応式3)で示す。
As such a bisphenol represented by the general formula (3), specifically, for example,
1,3-bis [1-methyl-1- (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene, 1,3-bis [1-methyl-1- (2-methyl-5-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) ethyl] Benzene, 1,3-bis [1-methyl-1- (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene, 1,3-bis [1-methyl-1- (2,3,5-trimethyl-4 -Hydroxyphenyl) ethyl] benzene, 1,3-bis [(4-hydroxyphenyl) methyl] benzene, 1,3-bis [(2,3,5-trimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl] benzene, etc. be able to.
Further, such bisphenols represented by the above general formula (3) and X being an alkylidene group can be obtained, for example, by the method described in JP-A-9-143115, JP-A-2001-58968, etc. 1,3-di (1-hydroxyalkyl) benzene such as 1,3-di (2-hydroxy-2-propyl) benzene is reacted with excess phenols in the presence of an acid catalyst such as hydrogen chloride gas. Can be easily obtained.
When the bisphenol represented by the general formula (3) is 1,3-bis [1-methyl-1- (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene, the corresponding bis (4-oxo The production method for obtaining (cyclohexyl) is shown in the following reaction formula (reaction formula 3).

反応式3
水素化反応において、水素添加に用いられる水素化触媒としては、収率よく反応するものであれば特に制限はないが、例えば、ラネー触媒、貴金属触媒、貴金属担持触媒、貴金属錯体触媒等が挙げられる。これらの貴金属触媒に用いられる貴金属としては、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、金(Au)、銀(Ag)等が挙げられるが、好ましくはロジウムである。また、貴金属担持触媒に用いられる担持体としては、カーボン、アルミナ、シリカ等が挙げられる。
また、上記反応式2の一段反応で用いられるアルカリ金属含有パラジウム触媒としては、触媒金属活性成分としてのパラジウムと助触媒成分としてのアルカリ金属の双方を担体に担持したものであり、担体としては、カーボン及びアルミナが好ましく、アルカリ金属成分としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩などが挙げられ、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムが好ましい。
Reaction formula 3
In the hydrogenation reaction, the hydrogenation catalyst used for hydrogenation is not particularly limited as long as it reacts with high yield, and examples thereof include Raney catalysts, noble metal catalysts, noble metal supported catalysts, noble metal complex catalysts, and the like. . As the noble metal used in these noble metal catalysts, palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os), iridium (Ir), platinum (Pt), gold (Au), silver (Ag) Among them, rhodium is preferable. Examples of the support used for the noble metal supported catalyst include carbon, alumina, silica and the like.
In addition, as the alkali metal-containing palladium catalyst used in the one-step reaction of the above reaction formula 2, both a palladium as a catalytic metal active component and an alkali metal as a promoter component are supported on a carrier. Carbon and alumina are preferred. Specific examples of the alkali metal component include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and the like. Sodium and sodium carbonate are preferred.

上記水素化反応に際し、用いられる触媒量としては、触媒の種類、貴金属担持量、ビスフェノール類、濃度等によっても変わるが、原料ビスフェノールに対し、通常、0.1〜100wt%の範囲、好ましくは0.5〜10wt%の範囲である。
水素化反応は、好ましくは、溶媒の存在下に行われる。用いられる溶媒としては、原料を溶解して、反応を阻害しないものであれば特に制限はないが、エタノール、2−ブタノール、2−プロパノール等の脂肪族アルコールが好ましい。溶媒量としては、通常、原料ビスフェノール100重量部に対して50〜1000重量部の範囲、好ましくは100〜300重量部の範囲である。反応温度としては、通常、20〜200℃の範囲、好ましくは100〜150℃の範囲である。また、反応圧力(水素圧)は、通常、常圧〜10MPa程度、好ましくは0.1〜5MPaの範囲である。このような反応条件において、水素化反応は、通常、2〜40時間程度で完結する。
In the hydrogenation reaction, the amount of catalyst used varies depending on the type of catalyst, the amount of noble metal supported, bisphenols, concentration, etc., but is usually in the range of 0.1 to 100 wt%, preferably 0, relative to the raw material bisphenol. It is the range of 5-10 wt%.
The hydrogenation reaction is preferably performed in the presence of a solvent. The solvent to be used is not particularly limited as long as it dissolves the raw materials and does not inhibit the reaction, but aliphatic alcohols such as ethanol, 2-butanol and 2-propanol are preferable. The amount of the solvent is usually in the range of 50 to 1000 parts by weight, preferably in the range of 100 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the raw material bisphenol. As reaction temperature, it is the range of 20-200 degreeC normally, Preferably it is the range of 100-150 degreeC. The reaction pressure (hydrogen pressure) is usually in the range of normal pressure to about 10 MPa, preferably 0.1 to 5 MPa. Under such reaction conditions, the hydrogenation reaction is usually completed in about 2 to 40 hours.

上記反応終了後、反応生成混合物から触媒を濾別分離し、ついで中間原料であるビス(4−ヒドロキシシクロキサン)を含んだ濾液又はその濾液から溶媒を溜去して得られた蒸留残渣に次亜ハロゲン化酸等の酸化剤または酸化触媒及び必要に応じて溶媒を加えて酸化反応を行う。
上記酸化反応に用いられる酸化剤又は酸化触媒としては、収率よく反応するものであれば特に制限はないが、例えば、銅酸化物、銅−クロム酸化物、銅−亜鉛酸化物等の銅系酸化触媒、次亜塩素酸、次亜臭素酸等の次亜ハロゲン酸又はその塩等が挙げられる。好ましくは、次亜ハロゲン酸又はその塩であり、用いられる酸化剤の量としては、通常、中間原料のビス(4−ヒドロキシシクロキサン)類1モル部に対し、2〜4モル倍の範囲である。
酢酸等の有機カルボン酸を次亜ハロゲン化酸又はその塩と併用するのが、反応を短時間で完結できる理由でさらに好ましく、用いられる有機カルボン酸の量は、次亜ハロゲン化酸又はその塩1モルに対して1〜2モル倍である。
After completion of the above reaction, the catalyst is separated from the reaction product mixture by filtration, and then the filtrate containing the intermediate raw material bis (4-hydroxycycloxan) or the distillation residue obtained by distilling off the solvent from the filtrate is added to the distillation residue. An oxidizing agent such as a halogenated acid or an oxidation catalyst and, if necessary, a solvent are added to carry out the oxidation reaction.
The oxidizing agent or oxidation catalyst used in the oxidation reaction is not particularly limited as long as it reacts with a high yield. For example, copper-based oxides such as copper oxide, copper-chromium oxide, and copper-zinc oxide Examples include oxidation catalysts, hypohalous acids such as hypochlorous acid and hypobromite, or salts thereof. Preferably, it is hypohalous acid or a salt thereof, and the amount of the oxidizing agent used is usually in the range of 2 to 4 mol times relative to 1 mol part of bis (4-hydroxycycloxanane) as an intermediate raw material. is there.
It is more preferable to use an organic carboxylic acid such as acetic acid together with a hypohalous acid or a salt thereof for the reason that the reaction can be completed in a short time. The amount of the organic carboxylic acid used is a hypohalous acid or a salt thereof. It is 1-2 mol times with respect to 1 mol.

上記酸化反応は、通常、溶媒の存在下に行われる。用いられる溶媒としては、原料を溶かして反応を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケトン類、又は酢酸等が好ましい溶媒として挙げられる。溶媒量としては、通常、原料ビス(4−ヒドロキシシクロキサン)類100重量部に対して50〜1000重量部の範囲、好ましくは100〜300重量部の範囲である。
また、反応温度は、通常、0〜100℃の範囲 好ましくは20〜50℃の範囲である。
このような反応条件において、酸化反応は、通常、0.1〜5時間程度で完結する。
The oxidation reaction is usually performed in the presence of a solvent. The solvent to be used is not particularly limited as long as it dissolves the raw materials and does not inhibit the reaction. Examples of preferred solvents include aliphatic ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, and acetic acid. The amount of the solvent is usually in the range of 50 to 1000 parts by weight, preferably in the range of 100 to 300 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the raw material bis (4-hydroxycyclooxane).
Moreover, reaction temperature is the range of 0-100 degreeC normally, Preferably it is the range of 20-50 degreeC.
Under such reaction conditions, the oxidation reaction is usually completed in about 0.1 to 5 hours.

上記反応終了後、得られた反応終了混合物から目的物を精製するには、公知の方法を適宜用いることができる。例えば、反応終了混合物に水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ水を加え、中和する。中和後、水層を分離除去するために必要に応じてトルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン又はエーテル等の水と分離可能な溶媒を加え、その後、水層を分離すると共に得られた油層を水洗し、次いで、必要に応じて溶媒を溜去した後、これに適宜の晶析溶媒を添加し、晶析又は沈析させ、ろ過することによって、また、必要に応じて、前記濾別して得られた結晶に、晶析に用いた溶媒を注いで洗浄した後、目的物の結晶を得ることができる。
必要に応じてさらに精製が必要な場合は、このような再結晶を複数回繰り返しても良い。
In order to purify the target product from the obtained reaction completion mixture after completion of the above reaction, a known method can be used as appropriate. For example, the reaction-terminated mixture is neutralized by adding alkaline water such as an aqueous sodium hydroxide solution. After neutralization, if necessary, a solvent that can be separated from water such as toluene, xylene, methyl isobutyl ketone or ether is added to separate and remove the aqueous layer, and then the aqueous layer is separated and the obtained oil layer is washed with water. Then, after distilling off the solvent as necessary, an appropriate crystallization solvent is added thereto, and the solution is crystallized or precipitated, filtered, and if necessary, obtained by filtration. The target crystal can be obtained after the solvent used for crystallization is poured into the crystal and washed.
If further purification is required as necessary, such recrystallization may be repeated a plurality of times.

次に、本発明による今ひとつの新規化合物であるテトラキスフェノール化合物は上記一般式2)で表される。
式中、R及びRは、各々独立して水素原子又は炭素原子数1〜8のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、エチル基、炭素原子数3〜8の直鎖状、分岐鎖状のプロピル、ブチル、ペンチル、オクチル等のアルキル基、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等のシクロアルキル基等が挙げられる。これらのうち好ましくは炭素原子数1〜4のアルキル基である。また、RとRの両方がアルキル基の場合少なくとも一つが1級または2級アルキル基であることが好ましい。
また、nが1のときRの置換位置は2−位が好ましく、nが2のときRの置換位置は2−位および6−位が好ましい。
Next, the tetrakisphenol compound which is another novel compound according to the present invention is represented by the above general formula 2).
In the formula, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, or a straight chain having 3 to 8 carbon atoms. And branched alkyl groups such as propyl, butyl, pentyl and octyl, and cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl and cycloheptyl. Of these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferred. When both R 2 and R 3 are alkyl groups, at least one is preferably a primary or secondary alkyl group.
When n is 1, the substitution position of R 1 is preferably the 2-position, and when n is 2, the substitution positions of R 1 are preferably the 2-position and the 6-position.

従って、このような一般式(2)で表されるテトラキスフェノール化合物としては、具体的には、例えば、
1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]エチル}ベンゼン
Therefore, as a tetrakisphenol compound represented by the general formula (2), specifically, for example,
1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] ethyl} benzene

1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]エチル}ベンゼン 1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] ethyl} benzene

1, 3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]エチル}ベンゼン 1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] ethyl} benzene

さらに、
1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(3−エチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(3−sec−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,5−ジメチルシクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]メチル}ベンゼン、
1,3−ビス{[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2―メチルシクロヘキシル]メチル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−メチル−1−[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2,3,5−トリメチルシクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{2−メチル−2−[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−エチル−1−[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシクロヘキシル]エチル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−エチル−1−[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシクロヘキシル]プロピル}ベンゼン、
1,3−ビス{1−イソプロピル−1−[4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシクロヘキシル]ブチル}ベンゼン、
等が挙げられる。
further,
1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (3-ethyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (3-isopropyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (3-sec-butyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (4-hydroxyphenyl) -2-methylcyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (4-hydroxyphenyl) -2,5-dimethylcyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -2-methylcyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {[4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] methyl} benzene,
1,3-bis {[4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -2-methylcyclohexyl] methyl} benzene,
1,3-bis {1-methyl-1- [4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -2,3,5-trimethylcyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {2-methyl-2- [4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {1-ethyl-1- [4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -2-methylcyclohexyl] ethyl} benzene,
1,3-bis {1-ethyl-1- [4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -2-methylcyclohexyl] propyl} benzene,
1,3-bis {1-isopropyl-1- [4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -2-methylcyclohexyl] butyl} benzene,
Etc.

本発明における、新規なテトラキスフェノール化合物の製造方法としては、特に限定はされないが、工業的に容易に、高収率で、高純度品が得られる理由で、本発明の新規なビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物を原料とし、これを好ましくは溶媒中、酸触媒の存在下に、フェノール類と縮合反応させることにより製造する方法が好ましい。
従って、本発明によるテトラキスフェノール化合物の製造方法において、原料のビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物と共に用いられる原料のフェノール類としては、下記一般式(4)
The production method of the novel tetrakisphenol compound in the present invention is not particularly limited, but the novel bis (4- An oxocyclohexyl) compound is preferably used as a raw material, which is preferably produced by a condensation reaction with a phenol in a solvent in the presence of an acid catalyst.
Therefore, in the method for producing a tetrakisphenol compound according to the present invention, the raw material phenols used together with the raw material bis (4-oxocyclohexyl) compound include the following general formula (4):

一般式(4)
(式中、R及びRは、一般式(2)のそれと同じである。)
で表わされるフェノール類であり、具体的には、例えば、フェノール、o−クレゾール、2,6−キシレノール、2−イソブチルフェノール、2−シクロペンチルフェノール、2−シクロヘキシルフェノール、2−sec−ブチルフェノール、2−t−ブチルフェノール、2−イソプロピルフェノール、2−エチルフェノール、2−シクロヘキシル−6−メチルフェノール等が挙げられる。
General formula (4)
(In the formula, R 2 and R 3 are the same as those in the general formula (2).)
Specifically, for example, phenol, o-cresol, 2,6-xylenol, 2-isobutylphenol, 2-cyclopentylphenol, 2-cyclohexylphenol, 2-sec-butylphenol, 2- Examples thereof include t-butylphenol, 2-isopropylphenol, 2-ethylphenol, 2-cyclohexyl-6-methylphenol.

このようなフェノール類とビス(4−オキソシクロヘキシル)との反応において、フェノール類は、ビス(4−オキソシクロヘキシル)1モル部に対して、通常、4〜20モル部の範囲、好ましくは8〜12モル部の範囲で用いられる。
フェノール類とビス(4−オキソシクロヘキシル)との反応において、反応溶媒は用いてもよく、また、用いなくてもよい。しかしながら、原料及び酸触媒が均一に溶解できない場合、又は、反応液の粘度が高い等の理由で十分攪拌できない場合は、溶媒を用いることが好ましい。反応溶媒としては、メタノール、n−ブタノール、t−ブタノール、シクロヘキサノール等の低級脂肪族アルコール類、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン等の飽和炭化水素類を挙げることができ、これらの内では、メタノール等の炭素原子数1〜4の低級脂肪族アルコール類が好ましい。
このような溶媒は、通常、用いるフェノール類1重量部に対して、0.1〜10重量倍の範囲、好ましくは0.5〜2重量倍で用いられるが、これに限定されるものではない。
In the reaction of such phenols with bis (4-oxocyclohexyl), the phenol is usually in the range of 4 to 20 mol parts, preferably 8 to 1 mol parts with respect to 1 mol parts of bis (4-oxocyclohexyl). It is used in the range of 12 mole parts.
In the reaction of phenols with bis (4-oxocyclohexyl), a reaction solvent may or may not be used. However, it is preferable to use a solvent when the raw materials and the acid catalyst cannot be dissolved uniformly, or when stirring is not sufficient due to the high viscosity of the reaction solution. As a reaction solvent, lower aliphatic alcohols such as methanol, n-butanol, t-butanol and cyclohexanol, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and benzene, saturation such as n-hexane, cyclohexane and n-pentane. Examples thereof include hydrocarbons, and among these, lower aliphatic alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as methanol are preferred.
Such a solvent is usually used in a range of 0.1 to 10 times by weight, preferably 0.5 to 2 times by weight, based on 1 part by weight of phenols to be used, but is not limited thereto. .

本発明において用いられる酸触媒としては、反応混合液に溶解する酸であれば特に制限はなく、例えば、塩酸、硫酸、塩化水素ガス、リン酸等の鉱酸、蟻酸、シュウ酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸があげられるが、好ましくは、塩酸、塩化水素ガスである。
このような酸触媒は、通常、ビス(4−オキソシクロヘキシル)に対して5wt%〜100wt%の範囲で用いられ、また、乾燥塩化水素ガスの場合は、好ましくは、反応系内を飽和させる量において用いられる。
The acid catalyst used in the present invention is not particularly limited as long as it is an acid that dissolves in the reaction mixture, and examples thereof include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrogen chloride gas, phosphoric acid, formic acid, oxalic acid, and p-toluene. Examples of the organic acid include sulfonic acid, methanesulfonic acid, trichloroacetic acid, and trifluoroacetic acid, and hydrochloric acid and hydrogen chloride gas are preferable.
Such an acid catalyst is usually used in the range of 5 wt% to 100 wt% with respect to bis (4-oxocyclohexyl). In the case of dry hydrogen chloride gas, it is preferable to saturate the reaction system. Used in

上記反応に際し、反応速度が遅い又は収率が低い等の場合、反応を促進させるために、必要に応じて助触媒を用いることができる。このような助触媒としては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、n−ドデカンチオール、n−オクタンチオール等のアルキルメルカプタン類を挙げることができる。このような助触媒は、ビス(4−オキソシクロヘキシル)に対して、通常、1〜10wt%の範囲で用いられる。
反応温度は、通常、0〜60℃の範囲、好ましくは10〜40℃の範囲である。このような反応条件において、反応は、通常、1〜20時間程度、好ましくは1〜10時間程度で完結する。
In the case of the above reaction, when the reaction rate is slow or the yield is low, a promoter can be used as necessary to promote the reaction. Examples of such promoters include alkyl mercaptans such as methyl mercaptan, ethyl mercaptan, n-dodecanethiol, and n-octanethiol. Such a cocatalyst is usually used in the range of 1 to 10 wt% with respect to bis (4-oxocyclohexyl).
The reaction temperature is usually in the range of 0 to 60 ° C, preferably in the range of 10 to 40 ° C. Under such reaction conditions, the reaction is usually completed in about 1 to 20 hours, preferably about 1 to 10 hours.

上記反応に際し、原料等の添加方法は特に限定されないが、フェノール類が存在してもよい酸触媒存在溶液中に、ビス(4−オキソシクロヘキシル)類とフェノール類の混合溶液を滴下する方法が好ましい。その際、反応混合物を液状に保つために溶媒を適宜使用してもよい。
反応終了後、得られた反応終了混合物から目的物を精製するには、公知の方法を適宜用いることができる。例えば、反応終了混合物に水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ水を加え、中和する。中和後、水層を分離除去するために必要に応じてトルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン又はエーテル等の水と分離可能な溶媒を加え、その後、水層を分離すると共に得られた油層を水洗し、次いで、必要に応じて溶媒や原料フェノール類を留去した後、これに適宜の晶析溶媒を添加し、晶析又は沈析させ、ろ過することによって、結晶体、又は非結晶体(アモルファス体)として目的物を得ることができる。また、テトラキスフェノール化合物によっては、フェノール類又は晶析に用いた溶媒との付加物結晶として得ることもできる。
In the above reaction, the method for adding the raw materials and the like is not particularly limited, but a method in which a mixed solution of bis (4-oxocyclohexyl) s and phenols is dropped into an acid catalyst solution in which phenols may be present is preferable. . At that time, a solvent may be appropriately used in order to keep the reaction mixture in a liquid state.
In order to purify the target product from the obtained reaction completion mixture after completion of the reaction, a known method can be appropriately used. For example, the reaction-terminated mixture is neutralized by adding alkaline water such as an aqueous sodium hydroxide solution. After neutralization, if necessary, a solvent that can be separated from water such as toluene, xylene, methyl isobutyl ketone or ether is added to separate and remove the aqueous layer, and then the aqueous layer is separated and the obtained oil layer is washed with water. Then, if necessary, after distilling off the solvent and raw material phenols, an appropriate crystallization solvent is added thereto, and crystallization or precipitation is performed. The target product can be obtained as an amorphous body. Depending on the tetrakisphenol compound, it can also be obtained as an adduct crystal with phenols or a solvent used for crystallization.

晶析溶媒としては、具体的には、晶析条件、精製効果、経済性等を考慮して、適宜に選択されるが、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メタノール、ブタノール、エタノール等の脂肪族アルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、γ−ブチロラクトン等の鎖状、環状の脂肪族エステル類、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、酢酸、ブタン酸等の脂肪族カルボン酸類を挙げることができる。   Specifically, the crystallization solvent is appropriately selected in consideration of crystallization conditions, purification effects, economy, etc., for example, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene, methanol, Aliphatic alcohols such as butanol and ethanol, aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, linear and cyclic aliphatic esters such as methyl acetate, ethyl acetate and γ-butyrolactone, n-heptane, n-hexane, Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, and aliphatic carboxylic acids such as acetic acid and butanoic acid.

本発明では、得られた目的生成物の純度が低い場合等、必要なら、得られた目的生成物の性状に応じて、さらに精製をおこなってもよい。そのような精製方法としては、目的生成物が結晶体の場合は、再結晶、又は再沈を1回〜複数回行って精製してもよいし、また、晶析あるいは再結晶に使用される溶媒を、得られた結晶体又は非結晶体に注いで再度洗浄して精製してもよい。
また、得られた目的生成物が低沸点化合物(溶媒)との付加物結晶(アダクト結晶)の場合には、減圧下、100〜200℃程度で付加物結晶を熱で分解し、付加した化合物(溶媒)を除去して精製してもよい。
さらに、得られた目的生成物が結晶体又は個体状(非結晶体)として得られない場合は、上記得られた反応混合物を、蒸留等で原料フェノール類除去した後、その蒸留残渣として、目的物の粗製物を得ることができ、又は、カラム分離法等でも高純度品を得ることができる。
In the present invention, if the purity of the obtained target product is low, further purification may be performed according to the properties of the obtained target product, if necessary. As such a purification method, when the target product is a crystal, it may be purified by recrystallization or reprecipitation one to several times, or used for crystallization or recrystallization. The solvent may be purified by pouring into the obtained crystalline or non-crystalline material and washing again.
In addition, when the obtained target product is an adduct crystal (adduct crystal) with a low boiling point compound (solvent), the adduct crystal is decomposed by heat at about 100 to 200 ° C. under reduced pressure, and the added compound (Solvent) may be removed for purification.
Furthermore, when the obtained target product is not obtained as a crystal or solid (non-crystal), the reaction mixture obtained above is subjected to distillation etc. to remove raw phenols, A crude product can be obtained, or a high-purity product can be obtained by a column separation method or the like.

以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

(1,3−ビス(1−メチル−1−(4−オキソシクロヘキシル)エチル)ベンゼンの合成);
1L容量のSUS製オートクレーブに1,3−ビス〔1−メチル−1−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン(以下BisP-Mと略称)266.0g(0.768モル)、川研ファイン製5%Pd/C(ADタイプ)2.5g、2−ブタノール400gを仕込み、オートクレーブ内部を水素で置換した後、攪拌しながら135℃に昇温した。その後、反応温度135℃、水素圧0.25MPaを保持しながら13時間反応をおこなった。
反応液をガスクロマトグラフィー分析した結果、その組成値(Area%)は、ビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物が71.8%、1−(1−メチル−1−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)エチル)−3−(1−メチル−1−(4−オキソシクロヘキシル)エチル)ベンゼンが26.3%、1,3−ビス(1−メチル−1−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)エチル)ベンゼンが1.5%であった。
反応終了後、触媒を濾別し、濾液を蒸留し、溶媒を留出させ、除去した。 得られた蒸留残渣267gにメチルイソブチルケトン400g、酢酸20.5gを加えて溶解させた後、室温で10%次亜塩素酸水溶液233.0gを1.5時間かけて滴下し、滴下終了後、室温で1時間、酸化反応をおこなった。
反応終了後、反応終了混合液に16%水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、水層を分液除去した。得られた油層に水を加えて攪拌後、水層を分液除去した。得られた油層に同様の水洗操作を2回行った。その後、溶媒を蒸留により除去した後、残渣にヘプタン266gを加えて加熱溶解して、晶析し、結晶を析出させた。
析出した結晶を濾別、乾燥して純度99%(ガスクロマトグラフィー分析法)、融点100〜101℃(DSC法)の淡黄色結晶232.0g(原料のBisP-Mに対する収率84モル%)を得た。
プロトンNMR分析及び液体クロマトグラフィー質量分析により目的物であることを確認した。
(Synthesis of 1,3-bis (1-methyl-1- (4-oxocyclohexyl) ethyl) benzene);
In a 1 L capacity SUS autoclave, 26,0 g (0.768 mol) of 1,3-bis [1-methyl-1- (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene (hereinafter abbreviated as BisP-M), Kawaken Fine 5% After charging 2.5 g of Pd / C (AD type) and 400 g of 2-butanol and replacing the inside of the autoclave with hydrogen, the temperature was raised to 135 ° C. with stirring. Thereafter, the reaction was carried out for 13 hours while maintaining a reaction temperature of 135 ° C. and a hydrogen pressure of 0.25 MPa.
As a result of gas chromatography analysis of the reaction solution, the composition value (Area%) was 71.8% for the bis (4-oxocyclohexyl) compound, 1- (1-methyl-1- (4-hydroxycyclohexyl) ethyl) 26.3% of -3- (1-methyl-1- (4-oxocyclohexyl) ethyl) benzene, 1.5 of 1,3-bis (1-methyl-1- (4-hydroxycyclohexyl) ethyl) benzene %Met.
After completion of the reaction, the catalyst was filtered off, the filtrate was distilled and the solvent was distilled off. After 400 g of methyl isobutyl ketone and 20.5 g of acetic acid were added to and dissolved in 267 g of the obtained distillation residue, 233.0 g of a 10% hypochlorous acid aqueous solution was added dropwise over 1.5 hours at room temperature. The oxidation reaction was carried out at room temperature for 1 hour.
After completion of the reaction, the reaction mixture was neutralized by adding a 16% aqueous sodium hydroxide solution, and the aqueous layer was separated and removed. Water was added to the obtained oil layer and stirred, and then the aqueous layer was separated and removed. The same water washing operation was performed twice on the obtained oil layer. Then, after removing the solvent by distillation, 266 g of heptane was added to the residue and dissolved by heating, followed by crystallization to precipitate crystals.
The precipitated crystals were separated by filtration and dried to obtain 232.0 g of pale yellow crystals having a purity of 99% (gas chromatography analysis method) and a melting point of 100 to 100 ° C. (DSC method) (yield of 84 mol% based on BisP-M as a raw material). Got.
It was confirmed to be the target product by proton NMR analysis and liquid chromatography mass spectrometry.

分子量 377(M+Na)(液体クロマトグラフィー質量分析法/大気圧化学イオン化法)
プロトンNMR分析結果(400MHz、溶媒:DMSO-d6、基準物質:テトラメチルシラン)
Molecular weight 377 (M + Na) + (liquid chromatography mass spectrometry / atmospheric pressure chemical ionization method)
Proton NMR analysis results (400MHz, solvent: DMSO-d6, reference material: tetramethylsilane)

(1,3−ビス(1−メチル−1−(4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)エチル)ベンゼンの合成);
1Lのガラス製四つ口フラスコにメタノール33.0g、ドデシルメルカプタン4.2gを仕込み、塩酸ガスでフラスコ内を置換した。その後、実施例1で得られた1,3−ビス(1−メチル−1−(4−オキソシクロヘキシル)エチル)ベンゼン(以下4H-BPMと略称)70.9g (0.200モル)に フェノール225.8g(2.40モル)とメタノール113gを加えて溶解した混合液をこの溶液に塩酸ガスの吹き込みを続けながら攪拌下1.5時間かけて滴下した。滴下中、反応液を25〜30℃に保持した。滴下終了後、塩酸ガス吹き込みを続けながら25〜30℃で1時間反応を続けたところで結晶が析出し、反応液が固化したためトルエン316gとメタノール45gを加えた。その後さらに塩酸ガス吹き込みを続けながら4時間反応を続けた。
反応終了後、反応液に16%水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、70℃に昇温して水層を分離した。得られた油層に水を加えて攪拌して水洗した後、水層を分離した。得られた油層から溶媒を留去した後、フェノールを減圧蒸留することにより回収し、残った蒸留残渣に酢酸エチル278gとシクロヘキサン139gの混合液を添加して加熱溶解し、晶析した。析出した結晶を濾別して粗結晶約200gを得た。
得られた粗結晶を2−プロパノールとメタノールの混合液で再晶析した後、冷却、ろ過して、減圧下、180℃で乾燥し、純度99.1%(HPLC分析法)の透明固体(非結晶体)71.0g(原料の4H-BPMに対する収率54%)を得た。液体クロマトグラフィー質量分析及びプロトンNMR分析より目的物であることを確認した。
(Synthesis of 1,3-bis (1-methyl-1- (4,4-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexyl) ethyl) benzene);
A 1 L glass four-necked flask was charged with 33.0 g of methanol and 4.2 g of dodecyl mercaptan, and the inside of the flask was replaced with hydrochloric acid gas. Thereafter, 70.9 g (0.200 mol) of 1,3-bis (1-methyl-1- (4-oxocyclohexyl) ethyl) benzene (hereinafter abbreviated as 4H-BPM) obtained in Example 1 was added to 225.8 g of phenol. (2.40 mol) and 113 g of methanol dissolved therein were added dropwise to the solution over 1.5 hours with stirring while continuing to blow hydrochloric acid gas. During the dropping, the reaction solution was kept at 25-30 ° C. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 1 hour at 25 to 30 ° C. while continuing to blow hydrochloric acid gas. Crystals were precipitated, and the reaction solution was solidified, so 316 g of toluene and 45 g of methanol were added. Thereafter, the reaction was continued for 4 hours while continuing to blow hydrochloric acid gas.
After completion of the reaction, the reaction solution was neutralized by adding a 16% aqueous sodium hydroxide solution, heated to 70 ° C., and the aqueous layer was separated. Water was added to the obtained oil layer, stirred and washed with water, and then the aqueous layer was separated. After the solvent was distilled off from the obtained oil layer, phenol was recovered by distillation under reduced pressure, and a mixed solution of 278 g of ethyl acetate and 139 g of cyclohexane was added to the remaining distillation residue, and the mixture was heated to dissolve and crystallized. The precipitated crystals were separated by filtration to obtain about 200 g of crude crystals.
The obtained crude crystals were recrystallized with a mixed solution of 2-propanol and methanol, cooled, filtered, dried at 180 ° C. under reduced pressure, and a transparent solid having a purity of 99.1% (HPLC analysis method) (Amorphous) 71.0 g (yield 54% based on 4H-BPM of the raw material) was obtained. It was confirmed to be the target product by liquid chromatography mass spectrometry and proton NMR analysis.

分子量693(M−H)(液体クロマトグラフィー質量分析法/大気圧化学イオン化法)
ガラス転移温度 137.3℃(示差走査熱量計による)融点は認められなかった。
プロトンNMR分析結果(400MHz、溶媒:DMSO-d6、基準物質:テトラメチルシラン)
Molecular weight 693 (M−H) (liquid chromatography mass spectrometry / atmospheric pressure chemical ionization method)
Glass transition temperature 137.3 ° C. (by differential scanning calorimeter) No melting point was observed.
Proton NMR analysis results (400MHz, solvent: DMSO-d6, reference material: tetramethylsilane)

(1,3−ビス(1−メチル−1−(4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)エチル)ベンゼンの合成);
1Lのガラス製四つ口フラスコにo−クレゾール108.0g、メタノール26.6g、ドデシルメルカプタン4.4gを仕込み、塩酸ガスでフラスコ内を置換した。その後、実施例1で得られた4H-BPM88.6g(0.250モル) にo−クレゾールを216.0g(2.00モル)とメタノール17.7gを加えて溶解した混合液を攪拌下塩酸ガスの供給を続けながら1.0時間かけて滴下した。滴下中、反応液を25〜30℃に保持した。滴下終了後、塩酸ガスの供給を続けながら25〜30℃で1.5時間反応を続けたところで結晶が析出し、反応液が固化したためメタノール44.3gを加えた。その後、さらに塩酸ガス吹き込みを続けながら4時間反応を続けた。
反応終了後、反応液に16%水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、78℃に昇温して水層を分離した。得られた油層にトルエン376gと水を加えて攪拌して水洗した後、水層を分離した。得られた油層から溶媒を留去した後、o−クレゾールを減圧蒸留することにより回収し、残った蒸留残渣にトルエン469gを加え、加熱溶解して晶析した。析出した結晶を濾別して粗結晶318gを得た。
この粗結晶を2−プロパノールとメタノールの混合液で溶解、再晶析した後、冷却、ろ過し、4KPa、180℃で乾燥して純度98.0%(HPLC)の透明固体(非結晶)67.0gを得た。液体クロマトグラフィー質量分析及びプロトンNMR分析より目的物であることを確認した。
(Synthesis of 1,3-bis (1-methyl-1- (4,4-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexyl) ethyl) benzene);
A 1 L glass four-necked flask was charged with 108.0 g of o-cresol, 26.6 g of methanol, and 4.4 g of dodecyl mercaptan, and the inside of the flask was replaced with hydrochloric acid gas. Thereafter, the mixed solution prepared by adding 216.0 g (2.00 mol) of o-cresol and 17.7 g of methanol to 88.6 g (0.250 mol) of 4H-BPM obtained in Example 1 was supplied with hydrochloric acid gas while stirring. It was dripped over 1.0 hour, continuing. During the dropping, the reaction solution was kept at 25-30 ° C. When the reaction was continued at 25-30 ° C. for 1.5 hours while the supply of hydrochloric acid gas was continued after completion of dropping, 44.3 g of methanol was added since the reaction solution was solidified. Thereafter, the reaction was continued for 4 hours while further blowing hydrochloric acid gas.
After completion of the reaction, the reaction solution was neutralized with a 16% aqueous sodium hydroxide solution, heated to 78 ° C., and the aqueous layer was separated. To the resulting oil layer, 376 g of toluene and water were added, stirred and washed with water, and then the aqueous layer was separated. After the solvent was distilled off from the obtained oil layer, o-cresol was recovered by distillation under reduced pressure, and 469 g of toluene was added to the remaining distillation residue, which was dissolved by heating and crystallized. The precipitated crystals were separated by filtration to obtain 318 g of crude crystals.
This crude crystal was dissolved in a mixed solution of 2-propanol and methanol, recrystallized, cooled, filtered, dried at 4 KPa, 180 ° C., and dried at 48.0 Pa (HPLC), a transparent solid (non-crystalline) 67 0.0 g was obtained. It was confirmed to be the target product by liquid chromatography mass spectrometry and proton NMR analysis.

収率35.4%(対4H-BPM)
分子量 749(M−H)(液体クロマトグラフィー質量分析法/大気圧化学イオン化法)
ガラス転移温度 110.6℃(示差走査熱量計による)融点は認められなかった。
プロトンNMR分析結果(400MHz、溶媒:DMSO-d6、基準物質:テトラメチルシラン)
Yield 35.4% (vs. 4H-BPM)
Molecular weight 749 (M−H) (liquid chromatography mass spectrometry / atmospheric pressure chemical ionization method)
Glass transition temperature 110.6 ° C. (by differential scanning calorimeter) Melting point was not observed.
Proton NMR analysis results (400MHz, solvent: DMSO-d6, reference material: tetramethylsilane)

〔比較例〕
(1,4−ビス〔1−メチル−1−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンの水素化);
1LのSUS製オートクレーブに1,4−ビス〔1−メチル−1−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンを20g(0.058モル)、川研ファイン製5%Pd/C(ADタイプ)2.0g、2−ブタノール400gを仕込み、水素置換後、攪拌しながら反応温度120℃/水素圧0.4MPaを保持しながら反応をおこなった。しかし理論吸収量の約20%で水素の吸収が停止した。このことから、1,4−結合体は、本発明の1,3−結合体と比べ水素化反応性が困難で、容易にビス(4−オキソシクロヘキシル)が得られないことが判った。
室温下、オートクレーブを開けてみると白色結晶が析出して反応液が固化していた。この白色結晶はテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒にもまったく溶けなかった。
[Comparative example]
(Hydrogenation of 1,4-bis [1-methyl-1- (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene);
1 L of SUS autoclave, 20 g (0.058 mol) of 1,4-bis [1-methyl-1- (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene, 2.0 g of Kawaken Fine 5% Pd / C (AD type) Then, 400 g of 2-butanol was charged, and after replacing with hydrogen, the reaction was carried out while maintaining the reaction temperature of 120 ° C./hydrogen pressure of 0.4 MPa while stirring. However, hydrogen absorption stopped at about 20% of the theoretical absorption. This indicates that the 1,4-conjugate is difficult to hydrogenate compared to the 1,3-conjugate of the present invention, and bis (4-oxocyclohexyl) cannot be easily obtained.
When the autoclave was opened at room temperature, white crystals were precipitated and the reaction solution was solidified. The white crystals did not dissolve in polar solvents such as tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide.

Claims (2)

一般式(1)
一般式(1)
(式中、Xは、炭素原子数1〜8の2価の飽和炭化水素基を示し、Rは、炭素原子数1〜8のアルキル基を示し、nは0〜4の整数を示す。)で表されるビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物。
General formula (1)
General formula (1)
(In the formula, X represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 4. The bis (4-oxocyclohexyl) compound represented by this.
一般式(2)
一般式(2)
(式中、R及びRは、各々独立して水素原子又は炭素原子数1〜8のアルキル基を示し、R、X及びnは、一般式(1)のそれと同じである。)で表されるテトラキスフェノール化合物。
General formula (2)
General formula (2)
(In the formula, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 1 , X and n are the same as those in the general formula (1).) The tetrakisphenol compound represented by these.
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