JP2009024915A - Microwave oven - Google Patents

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JP2009024915A
JP2009024915A JP2007187298A JP2007187298A JP2009024915A JP 2009024915 A JP2009024915 A JP 2009024915A JP 2007187298 A JP2007187298 A JP 2007187298A JP 2007187298 A JP2007187298 A JP 2007187298A JP 2009024915 A JP2009024915 A JP 2009024915A
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heating chamber
microwave
microwave oven
food
heater
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JP2007187298A
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Japanese (ja)
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Yoshito Fukuda
義人 福田
Takaaki Hyodo
孝昭 兵頭
Katsuaki Hayamizu
克明 速水
Kazuhiko Kawamura
一彦 川村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
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Sanyo Electric Co Ltd
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    • Y02B40/00Technologies aiming at improving the efficiency of home appliances, e.g. induction cooking or efficient technologies for refrigerators, freezers or dish washers

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microwave oven capable of correctly detecting a state of a cooked food when two microwave radiating means are disposed. <P>SOLUTION: An infrared ray sensor 30 is disposed on a symmetric center of a pair of antenna portions 15. That is, the pair of antenna portions 15 are disposed at symmetric positions to a view of the infrared ray sensor 30. The infrared ray sensor 30 thus has an equal view range to the pair of antenna portions 15. Thus the state of the cooked food can be correctly detected when the cooked food is heated by microwave, by the pair of antenna portions 15. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

この発明は、電子レンジに関する。   The present invention relates to a microwave oven.

従来より、加熱室に被調理食品を収容し、この被調理食品をマイクロ波によって誘導加熱(マイクロ波加熱)する電子レンジが知られている。電子レンジでは、マグネトロンが発生したマイクロ波が、導波管によってアンテナに導かれ、アンテナから加熱室内の被調理食品へ放射される。
たとえば、特許文献1に記載の電子レンジでは、加熱室の下部に、平板アンテナが配置され、さらに、平板アンテナ上には、2つの回転スターラーが設けられている。この電子レンジでは、マグネトロンが発生したマイクロ波が、平板アンテナおよび2つの回転スターラーを順に経て加熱室内に放射される。つまり、2つの回転スターラーが加熱室に最も近いアンテナであるといえる。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is known a microwave oven that accommodates food to be cooked in a heating chamber and induction-heats (microwave heating) the food to be cooked with microwaves. In the microwave oven, the microwave generated by the magnetron is guided to the antenna by the waveguide, and is radiated from the antenna to the food to be cooked in the heating chamber.
For example, in the microwave oven described in Patent Document 1, a flat antenna is disposed below the heating chamber, and two rotating stirrers are provided on the flat antenna. In this microwave oven, the microwave generated by the magnetron is radiated into the heating chamber through the flat antenna and the two rotating stirrers in order. That is, it can be said that the two rotating stirrers are the antennas closest to the heating chamber.

また、特許文献2に記載の電子レンジでは、加熱室の右側面上部に赤外線センサを設け、この赤外線センサによって、加熱室内の被調理食品の温度を非接触で検知する。これにより、被調理食品の調理の進捗状況(加熱状態)を検知することができる。
特開2005−203230号公報 特開2002−260840号公報
Moreover, in the microwave oven of patent document 2, an infrared sensor is provided in the upper part of the right side surface of a heating chamber, and the temperature of the food to be cooked in a heating chamber is detected non-contactingly by this infrared sensor. Thereby, the progress status (heating state) of cooking of the food to be cooked can be detected.
JP-A-2005-203230 JP 2002-260840 A

特許文献1に記載の電子レンジでは、回転スターラーを2つ設けている。つまり、この電子レンジには、被調理食品をマイクロ波加熱する波源(給電部)が2つある。この場合に、特許文献2の赤外線センサによって加熱室内の被調理食品の温度を検知しようとすると、赤外線センサは、被調理食品の温度を、各波源に応じて偏って検知してしまう虞がある。その場合、被調理食品の加熱状態を正確に検知することは困難であり、調理の進捗状況を正確に検知することも困難である。   In the microwave oven described in Patent Document 1, two rotating stirrers are provided. That is, this microwave oven has two wave sources (power feeding units) for microwave-heating food to be cooked. In this case, when the temperature of the food to be cooked in the heating chamber is detected by the infrared sensor of Patent Document 2, the infrared sensor may detect the temperature of the food to be cooked in a biased manner according to each wave source. . In that case, it is difficult to accurately detect the heating state of the food to be cooked, and it is also difficult to accurately detect the progress of cooking.

この発明は、かかる課題を解決するためになされたもので、2つのマイクロ波放射手段を備える場合において、被調理食品の調理状況を正確に検知することができる電子レンジを提供することを主たる目的とする。
この発明は、良好にマイクロ波加熱を行うことができる電子レンジを提供することを他の目的とする。
This invention was made in order to solve this subject, and when it is provided with two microwave radiation | emission means, the main objective is to provide the microwave oven which can detect the cooking condition of to-be-cooked food correctly. And
Another object of the present invention is to provide a microwave oven that can perform microwave heating satisfactorily.

請求項1記載の発明は、前面が扉で開閉され、被調理食品を収容するための加熱室と、前記加熱室の左右方向中央部に対して対称な位置に設けられ、前記加熱室内へマイクロ波を放射するための一対のマイクロ波放射手段と、前記加熱室へ収容された被調理食品を上方から臨む位置であって、かつ、前記一対のマイクロ波放射手段の対称中心に設けられた調理状況検知手段と、を含むことを特徴とする電子レンジである。   According to the first aspect of the present invention, the front surface is opened and closed by a door, the heating chamber for storing the food to be cooked, and the central portion in the left-right direction of the heating chamber are provided symmetrically to the heating chamber. A pair of microwave radiating means for radiating waves and a cooking food provided at the center of symmetry of the pair of microwave radiating means at a position facing the food to be cooked contained in the heating chamber from above A microwave oven characterized by including a situation detecting means.

請求項2記載の発明は、前記一対のマイクロ波放射手段は、前記加熱室の底面沿いに左右に設けられていることを特徴とする、請求項1記載の電子レンジである。
請求項3記載の発明は、前記一対のマイクロ波放射手段は、それぞれ、回転軸を中心に回転する回転式マイクロ波放射アンテナを含むことを特徴とする、請求項1または2記載の電子レンジである。
A second aspect of the present invention is the microwave oven according to the first aspect, wherein the pair of microwave radiating means are provided on the left and right along the bottom surface of the heating chamber.
According to a third aspect of the present invention, in the microwave oven according to the first or second aspect, the pair of microwave radiating means includes a rotary microwave radiating antenna that rotates about a rotation axis. is there.

請求項4記載の発明は、前記調理状況検知手段は、前記加熱室の左右方向中央部の背面上方から底面を臨むように設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の電子レンジである。
請求項5記載の発明は、前記調理状況検知手段は、前記加熱室の底面ほぼ全面を検知する視野を有することを特徴とする、請求項4記載の電子レンジである。
Invention of Claim 4 is provided so that the said cooking condition detection means may face a bottom face from the back upper surface of the horizontal direction center part of the said heating chamber, The one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. It is a microwave oven as described in.
A fifth aspect of the present invention is the microwave oven according to the fourth aspect, wherein the cooking state detecting means has a visual field for detecting substantially the entire bottom surface of the heating chamber.

請求項6記載の発明は、前記調理状況検知手段は、前記加熱室底面の左右方向中央部を前端から後端まで検知するための複数の視野を有し、前記複数の視野が底面上を左右に移動するように、前記調理状況検知手段を揺動させる揺動機構が備えられていることを特徴とする、請求項5記載の電子レンジである。
請求項7記載の発明は、前記加熱室の近傍に設けられたマグネトロンと、前記マグネトロンから放射されるマイクロ波を2つの分路へ誘導するための分岐導波管とを有し、2つの前記分路に、それぞれ、前記マイクロ波放射手段が設けられており、前記分岐導波管の分岐位置には、前記分岐導波管内へ膨出する半球状の突起が形成されていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の電子レンジである。
According to a sixth aspect of the present invention, the cooking status detecting means has a plurality of fields of view for detecting a central portion in the left-right direction of the bottom surface of the heating chamber from the front end to the rear end, and the plurality of fields of view are horizontally aligned on the bottom surface. The microwave oven according to claim 5, further comprising a swinging mechanism that swings the cooking condition detection unit so as to move to the cooking position.
The invention according to claim 7 includes a magnetron provided in the vicinity of the heating chamber, and a branching waveguide for guiding the microwave radiated from the magnetron to two shunts. Each of the shunts is provided with the microwave radiating means, and a branching position of the branching waveguide is formed with a hemispherical protrusion that bulges into the branching waveguide. The microwave oven according to any one of claims 1 to 6.

請求項1記載の発明によれば、マイクロ波放射手段は、加熱室の左右方向中央部に対して対称に、左右に一対設けられている。これら左右一対のマイクロ波放射手段により加熱室内へマイクロ波が放射され、加熱室内に収容された被調理食品がマイクロ波加熱により調理される。
調理状況検知手段は、たとえば赤外線センサで構成することができ、マイクロ波加熱により調理される食品表面の変化を検知する。これにより調理の進捗状況を検知することができる。
According to the first aspect of the present invention, a pair of microwave radiating means are provided on the left and right sides symmetrically with respect to the central portion in the left-right direction of the heating chamber. A microwave is radiated into the heating chamber by the pair of left and right microwave radiation means, and the food to be cooked accommodated in the heating chamber is cooked by microwave heating.
The cooking status detection means can be constituted by an infrared sensor, for example, and detects a change in the surface of the food to be cooked by microwave heating. Thereby, the progress of cooking can be detected.

請求項1の構成では、調理状況検知手段は、一対のマイクロ波放射手段の対称中心に設けられている。換言すれば、調理状況検知手段の視野に対して対称な位置に一対のマイクロ波放射手段が配置されている。このため、調理状況検知手段は、一対のマイクロ波放射手段に対して均等な視野範囲を有することになる。よって、一対のマイクロ波放射手段によるマイクロ波加熱の調理状況を自動制御する場合において安定した仕上がりが達成されるように、調理状況を正確に検知することができる。   In the first aspect of the present invention, the cooking condition detection means is provided at the symmetrical center of the pair of microwave radiation means. In other words, the pair of microwave radiating means are arranged at positions symmetrical to the visual field of the cooking condition detecting means. For this reason, a cooking condition detection means has an equal visual field range with respect to a pair of microwave radiation means. Therefore, the cooking status can be accurately detected so that a stable finish is achieved when the cooking status of microwave heating by the pair of microwave radiation means is automatically controlled.

一対のマイクロ波放射手段は、たとえば加熱室の左右側面からマイクロ波を放射するように設置することもできるが、請求項2記載のように、加熱室の底面沿いに左右に設けることにより、良好にマイクロ波加熱を行うことができる。
一対のマイクロ波放射手段は、請求項3記載のように、回転式マイクロ波放射アンテナとすることにより、加熱室内へほぼ均等にマイクロ波を放射することができる。
The pair of microwave radiating means can be installed so as to radiate microwaves from the left and right side surfaces of the heating chamber, for example. Microwave heating can be performed.
As the pair of microwave radiating means is a rotary microwave radiating antenna as described in claim 3, it is possible to radiate microwaves almost uniformly into the heating chamber.

請求項4記載の発明によれば、調理状況検知手段により、加熱室に収容された食品の調理状況を上方から良好に把握できる。また、加熱室の背面上方は、加熱される食品が吹き上がった際等に、その吹き上がりが到達しにくい位置であり、調理状況検知手段が食品等によって汚れにくい。
請求項5記載の発明によれば、調理状況検知手段は、加熱室の底面のほぼ全面を検知視野としており、収容された食品の調理状況を正確に検知することができる。
According to invention of Claim 4, the cooking condition detection means can grasp | ascertain well the cooking condition of the foodstuff accommodated in the heating chamber from upper direction. In addition, the upper part of the back of the heating chamber is a position where it is difficult for the food to be heated to reach when the food to be heated is blown up, and the cooking state detection means is not easily contaminated by food or the like.
According to the fifth aspect of the present invention, the cooking status detection means uses the entire bottom surface of the heating chamber as the detection visual field, and can accurately detect the cooking status of the stored food.

請求項6記載の発明によれば、調理状況検知手段は、一対のマイクロ波放射手段の対称中心からその視野を左右へ移動するようにして調理状況を検知するため、マイクロ波加熱される食品の調理状況を、公平に、正しく、かつ安定して検知することができる。
請求項7記載の発明によれば、マグネトロンで発生されるマイクロ波を、分岐導波管を通じて一対のマイクロ波放射手段へ誘導する際に、分岐導波管内でマイクロ波がマグネトロンに戻るように反射することが半球状の突起で阻止され、分岐導波管内のマイクロ波を各マイクロ波放射手段へ良好に誘導することができる。
According to the invention described in claim 6, the cooking status detection means detects the cooking status by moving the visual field from the symmetrical center of the pair of microwave radiating means to the left and right. The cooking status can be detected fairly, correctly and stably.
According to the seventh aspect of the present invention, when the microwave generated by the magnetron is guided to the pair of microwave radiating means through the branch waveguide, the microwave is reflected so as to return to the magnetron in the branch waveguide. This is prevented by the hemispherical projection, and the microwave in the branching waveguide can be guided well to each microwave radiation means.

つまり、分岐導波管の分岐位置に半球状の突起を設けることにより、分岐位置でのマイクロ波のインピーダンス整合を改善して、マグネトロンから出力されたマイクロ波がマグネトロン側へ反射するのを抑えることができる。   In other words, by providing a hemispherical projection at the branching position of the branching waveguide, the impedance matching of the microwave at the branching position is improved, and the microwave output from the magnetron is suppressed from being reflected to the magnetron side. Can do.

以下では、電子レンジ(電子オーブンスチームレンジ)を例にとって説明するが、本発明は、電子レンジ機能だけのものにも、もちろん適用できる。
<電子レンジの基本構成>
図1は、この発明の一実施形態に係る食品調理装置としての電子レンジ1の正面右側斜視図である。図2は、図1において、扉2を開いた状態を示す。図3は、電子レンジ1の底面図である。図4は、扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の正面上側斜視図である。図5は、加熱室11の底である凹部16の平面図であって、回転アンテナ20A、20Bの配置および形状を示す図である。図6(a)は、拡散モード、図6(b)は、集中モードにおけるマイクロ波放射のイメージ図である。図7は、調理状況検知手段としての赤外線センサ30の揺動に伴って視野32が加熱室11内で移動する様子を説明するための模式図であって、図7(a)は、本実施例を適用した場合を示し、図7(b)は、比較例を適用した場合を示す。図8は、扉2を取り除いた状態にあるケーシング4の正面図である。図9は、後ヒータ23を一部抜き出して示した図である。図10は、加熱循環室74内を示す試作品の写真である。図11は、扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の右側断面図である。図12(a)は、電子レンジ1の予熱工程に係る電気的構成を示すブロック図であり、図12(b)は、予熱工程を説明するためのフローチャートである。図13は、扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の正面左側斜視図である。図14は、扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の正面右側斜視図である。図15は、過熱スチーム生成ユニット51の正面右側斜視図である。図16は、図15に示す過熱スチーム生成ユニット51の分解斜視図である。図17は、正面左側から見た過熱スチーム生成ユニット51の分解斜視図である。図18は、図8に角皿25および金網7を追加した図である。図19は、変形例に係る過熱スチーム生成ユニット51の右側面図である。
In the following, a microwave oven (microwave oven steam range) will be described as an example, but the present invention is naturally applicable to a microwave oven function only.
<Basic configuration of microwave oven>
FIG. 1 is a front right perspective view of a microwave oven 1 as a food cooking device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 shows a state in which the door 2 is opened in FIG. FIG. 3 is a bottom view of the microwave oven 1. FIG. 4 is a front upper perspective view of the casing 4 in a state in which the door 2 and the decorative plate 3 (outer cover plate) are removed. FIG. 5 is a plan view of the recess 16 that is the bottom of the heating chamber 11 and shows the arrangement and shape of the rotating antennas 20A and 20B. FIG. 6A is an image view of microwave radiation in the diffusion mode, and FIG. 6B is an image view of microwave radiation in the concentrated mode. FIG. 7 is a schematic diagram for explaining how the visual field 32 moves in the heating chamber 11 in accordance with the swinging of the infrared sensor 30 serving as a cooking status detection unit. FIG. The case where an example is applied is shown, and FIG. 7B shows the case where a comparative example is applied. FIG. 8 is a front view of the casing 4 with the door 2 removed. FIG. 9 is a view showing a part of the rear heater 23 extracted. FIG. 10 is a photograph of a prototype showing the inside of the heating circulation chamber 74. FIG. 11 is a right sectional view of the casing 4 in a state in which the door 2 and the decorative plate 3 (outer cover plate) are removed. FIG. 12A is a block diagram showing an electrical configuration related to the preheating process of the microwave oven 1, and FIG. 12B is a flowchart for explaining the preheating process. FIG. 13 is a front left perspective view of the casing 4 with the door 2 and the decorative plate 3 (outer cover plate) removed. FIG. 14 is a front right perspective view of the casing 4 with the door 2 and the decorative plate 3 (outer cover plate) removed. FIG. 15 is a front right perspective view of the superheated steam generation unit 51. FIG. 16 is an exploded perspective view of the superheated steam generation unit 51 shown in FIG. FIG. 17 is an exploded perspective view of the superheated steam generation unit 51 as viewed from the front left side. FIG. 18 is a view in which a square plate 25 and a wire mesh 7 are added to FIG. FIG. 19 is a right side view of the superheated steam generation unit 51 according to a modification.

以下、説明の便宜上、図1において扉2が設けられた側を前方(正面側)とし、電子レンジ1を正面側から見たときを基準として、電子レンジ1の方向を特定する(図示方向矢印参照)。なお、左右方向は、幅方向と同義である。
電子レンジ1は、その外殻をなすケーシング4を有している。ケーシング4は、図2に示すように、前面が開放された(この部分を開口8という。)中空のボックス状をした金属製のフレーム12と、フレーム12の外側(左右外側面および上外表面)を覆う化粧板3(外カバー板)とを備えている。フレーム12によって加熱室11が形成されている。加熱室11は、フレーム12の左右側壁、天壁、底壁および後壁によって区画された横長の略直方体形状の空間であり、前面に開口8を有している。底壁は、そのほぼ全域に亘って窪む凹部16を形成している(図4参照)。そして、凹部16を上から塞ぐように、平板状の底板6が載置されている。つまり、加熱室11の底面は、被調理食品が載置される底板6と、その下に窪まされた凹部16という二重構造を有している。
Hereinafter, for convenience of explanation, the direction in which the door 2 is provided in FIG. 1 is defined as the front (front side), and the direction of the microwave oven 1 is specified with reference to the time when the microwave oven 1 is viewed from the front side (the illustrated direction arrow). reference). The left-right direction is synonymous with the width direction.
The microwave oven 1 has a casing 4 that forms an outer shell thereof. As shown in FIG. 2, the casing 4 has a metal frame 12 in the shape of a hollow box whose front surface is open (this portion is referred to as an opening 8), and the outside (left and right outer surfaces and upper and outer surfaces) of the frame 12. ) And a decorative board 3 (outer cover board). A heating chamber 11 is formed by the frame 12. The heating chamber 11 is a horizontally long, substantially rectangular parallelepiped space defined by the left and right side walls, the top wall, the bottom wall, and the rear wall of the frame 12, and has an opening 8 on the front surface. The bottom wall forms a recess 16 that is recessed over substantially the entire area (see FIG. 4). The flat bottom plate 6 is placed so as to close the recess 16 from above. That is, the bottom surface of the heating chamber 11 has a double structure of the bottom plate 6 on which the food to be cooked is placed and the concave portion 16 recessed below.

左右側壁の各内面には、前後方向に延びるレール24が、上下方向に一定の間隔を隔てて複数(この実施例では3つ)設けられている。以下では、説明の便宜上、これらのレール24を、上から順にレール24U、レール24M、レール24Lと区別することがある。レール24は、加熱室11内へ突出している。図18に示すように、左側のレール24と、このレール24と対向する右側のレール24とによって、トレイ状の角皿25を、底板6から浮いた状態で保持することができる。角皿25にも被調理食品を載置することができる。   A plurality of rails 24 extending in the front-rear direction are provided on each inner surface of the left and right side walls (three in this embodiment) at regular intervals in the vertical direction. Hereinafter, for convenience of explanation, these rails 24 may be distinguished from the rails 24U, 24M, and 24L in order from the top. The rail 24 protrudes into the heating chamber 11. As shown in FIG. 18, the tray-shaped square dish 25 can be held in a state of floating from the bottom plate 6 by the left rail 24 and the right rail 24 facing the rail 24. A food to be cooked can also be placed on the square dish 25.

角皿25には、金網7を載置することができる。金網7は、水平方向に延びる平坦部26と、平坦部26の幅方向両端から下方へ延びる脚部27とを備えている。角皿25に金網7を載置すると、金網7は、脚部27が角皿25に嵌り、かつ、平坦部26が角皿25の底面から浮くように、保持される。金網7にも被調理食品を載置することができる。その場合、被調理食品は、平坦部26に載置され、加熱された被調理食品から染み出した塩分や油脂などは、平坦部26の下方の角皿25に受け止められる。   A wire mesh 7 can be placed on the square plate 25. The metal mesh 7 includes a flat portion 26 extending in the horizontal direction and leg portions 27 extending downward from both ends in the width direction of the flat portion 26. When the wire mesh 7 is placed on the square plate 25, the wire mesh 7 is held such that the legs 27 fit into the square plate 25 and the flat portion 26 floats from the bottom surface of the square plate 25. A cooked food can also be placed on the wire mesh 7. In that case, the food to be cooked is placed on the flat portion 26, and the salt content, fats and oils and the like exuded from the heated food to be cooked are received by the square dish 25 below the flat portion 26.

図2に示すように、ケーシング4の正面には、開口8を開閉する扉2が設けられている。扉2は、その下端において幅方向に延びる回動軸を中心に、起立して開口8を塞ぐ閉位置(図1参照)と、閉位置から前側へ傾倒して開口8を開放し、扉2の内面が底板6と略面一になる開位置(図2参照)との間で回動する。図1に示すように、扉2の正面において、上端には取っ手9が設けられ、下端には操作パネル10が設けられている。取っ手9を掴むことにより、扉2を、上述した開位置と閉位置との間で回動させることができる。操作パネル10を操作することにより、ケーシング4内に内蔵された図示しない制御部に対して、調理条件の設定や調理開始の指示を行うことができる。また、操作パネル10には、調理状況が表示される。   As shown in FIG. 2, a door 2 that opens and closes the opening 8 is provided on the front surface of the casing 4. The door 2 rises around the rotation shaft extending in the width direction at the lower end thereof (see FIG. 1), and the door 2 tilts forward from the closed position to open the opening 8 to open the door 2. Is rotated between an open position (see FIG. 2) where the inner surface of the plate is substantially flush with the bottom plate 6. As shown in FIG. 1, a handle 9 is provided at the upper end and an operation panel 10 is provided at the lower end on the front of the door 2. By grasping the handle 9, the door 2 can be rotated between the open position and the closed position described above. By operating the operation panel 10, it is possible to set cooking conditions and give instructions for starting cooking to a control unit (not shown) built in the casing 4. In addition, the cooking status is displayed on the operation panel 10.

図3に示すように、ケーシング4の底面には、マイクロ波を発生するマグネトロン13と、マイクロ波をガイドする導波管14(分岐導波管)とが設けられている。マグネトロン13は、ケーシング4(フレーム12)の底面の後端部の幅方向中央において、加熱室11の近傍に配置されている(図11も参照)。導波管14は、マグネトロン13のアンテナ29を収容し、マグネトロン13から前側に延びた後に左右へ分岐する底面視T字状である。なお、導波管14の左右2つの分岐部分を、それぞれ、分路18という。マグネトロン13から放射されるマイクロ波は、導波管14によって各分路18へ案内される。導波管14の内側壁面には、分岐位置に、導波管14内へ膨出する半球状の突起28が形成されている(図11も参照)。マグネトロン13のアンテナ29から導波管14の分岐位置まで到達したマイクロ波は、突起28に当たることによって、マグネトロン13側へほとんど反射することなく、図示矢印で示すように、各分路18へと円滑に分散される。つまり、導波管14の分岐位置に半球状の突起28を設けることにより、分岐位置でのマイクロ波のインピーダンス整合を改善して、マグネトロン13から出力されたマイクロ波がマグネトロン13側へ反射するのを抑えることができる。これにより、マグネトロン13で発生されるマイクロ波を、導波管14を通じて各分路18へ案内する際に、導波管14内のマイクロ波を各分路18(後述するアンテナ部15)へ良好に案内することができる。この結果、マグネトロン13側へ反射するマイクロ波がマグネトロン13のアンテナ29付近等で放電を生じさせる等の不具合を防止することができる。   As shown in FIG. 3, a magnetron 13 that generates a microwave and a waveguide 14 (branch waveguide) that guides the microwave are provided on the bottom surface of the casing 4. The magnetron 13 is disposed in the vicinity of the heating chamber 11 in the center in the width direction of the rear end portion of the bottom surface of the casing 4 (frame 12) (see also FIG. 11). The waveguide 14 accommodates the antenna 29 of the magnetron 13 and has a T-shape in a bottom view that extends from the magnetron 13 to the front and then branches to the left and right. Note that the left and right branch portions of the waveguide 14 are each referred to as a shunt 18. The microwave radiated from the magnetron 13 is guided to each shunt 18 by the waveguide 14. A hemispherical protrusion 28 bulging into the waveguide 14 is formed at the branch position on the inner wall surface of the waveguide 14 (see also FIG. 11). The microwave that has reached the branching position of the waveguide 14 from the antenna 29 of the magnetron 13 hits the protrusion 28 and is hardly reflected to the magnetron 13 side, and smoothly flows to each shunt 18 as shown by the arrows in the figure. To be distributed. That is, by providing the hemispherical projection 28 at the branching position of the waveguide 14, the impedance matching of the microwave at the branching position is improved, and the microwave output from the magnetron 13 is reflected to the magnetron 13 side. Can be suppressed. Thereby, when the microwave generated in the magnetron 13 is guided to each shunt 18 through the waveguide 14, the microwave in the waveguide 14 is favorably sent to each shunt 18 (antenna portion 15 described later). Can be guided to. As a result, it is possible to prevent problems such as that the microwave reflected toward the magnetron 13 causes discharge in the vicinity of the antenna 29 of the magnetron 13 or the like.

導波管14の各分路18には、導波管14によって案内されてきたマイクロ波を加熱室11内へ放射するアンテナ部15(マイクロ波放射手段)が設けられている。これら2つのアンテナ部15は、対をなし、導波管14の分岐位置(突起28、さらには加熱室11の左右方向中央部)を基準として幅方向に対称となるように、左右に配置されている。アンテナ部15は、モータ19と、回転式マイクロ波放射アンテナとしての回転アンテナ20(図4参照)とを備えている。モータ19は、分路18に対して下側から取付けられている。また、図4に示すように、モータ19の回転軸は、回転アンテナ20の回転軸21と結合し、この回転軸21は、分路18内を上方へ凹部16内まで延びている。左右の回転軸21は、導波管14の分岐位置(後述する基準面X)を基準として幅方向に対称となるように配置されている。回転アンテナ20は、凹部16内において、回転軸21に取付けられている。回転アンテナ20は、図示では細長い矩形薄板状であって、長手方向において中央から外れた位置において回転軸21に取付けられている。なお、回転アンテナ20は、上述した形状に限らず、たとえば、略円盤形状であって、回転軸21に対して水平に非対称に張り出したものとしてもよい。回転アンテナ20は、モータ19の駆動力を受けて、回転軸21を中心に底板6の下面に沿って回転する。   Each shunt 18 of the waveguide 14 is provided with an antenna portion 15 (microwave radiation means) that radiates the microwave guided by the waveguide 14 into the heating chamber 11. These two antenna portions 15 form a pair and are arranged on the left and right sides so as to be symmetrical in the width direction with respect to the branching position of the waveguide 14 (the projection 28 and further the central portion in the left-right direction of the heating chamber 11). ing. The antenna unit 15 includes a motor 19 and a rotating antenna 20 (see FIG. 4) as a rotating microwave radiation antenna. The motor 19 is attached to the shunt 18 from below. As shown in FIG. 4, the rotating shaft of the motor 19 is coupled to the rotating shaft 21 of the rotating antenna 20, and the rotating shaft 21 extends upward in the shunt 18 into the recess 16. The left and right rotating shafts 21 are arranged so as to be symmetrical in the width direction with respect to a branching position (a reference plane X described later) of the waveguide 14. The rotating antenna 20 is attached to the rotating shaft 21 in the recess 16. The rotary antenna 20 is in the form of an elongated rectangular thin plate in the drawing, and is attached to the rotary shaft 21 at a position off the center in the longitudinal direction. The rotating antenna 20 is not limited to the shape described above, and may be, for example, a substantially disk shape that protrudes horizontally and asymmetrically with respect to the rotating shaft 21. The rotating antenna 20 receives the driving force of the motor 19 and rotates along the lower surface of the bottom plate 6 around the rotating shaft 21.

導波管14によって各分路18(図3参照)へ案内されたマイクロ波は、左右一対のアンテナ部15において、回転アンテナ20の回転軸21を経て回転アンテナ20に到達し、回転する回転アンテナ20から放射される。そして、このマイクロ波は、図2に示す底板6を透過して、加熱室11内へ供給される。底板6は、セラミック板等の、マイクロ波が透過する材料で形成されている。アンテナ部15によってマイクロ波が加熱室11内へ放射されることで、マイクロ波運転が実行され、マイクロ波加熱(誘電加熱)によって、加熱室11内の被調理食品が調理される。なお、一対のアンテナ部15は、たとえば加熱室11の左右側面からマイクロ波を放射するように設置することもできるが、本実施例のように、加熱室11の底板6の下方に左右に設けることにより、良好にマイクロ波加熱を行うことができる。また、回転アンテナ20を用いることにより、加熱室11内へほぼ均等にマイクロ波を放射、攪拌することができる。   The microwaves guided to the respective shunts 18 (see FIG. 3) by the waveguide 14 reach the rotating antenna 20 via the rotating shaft 21 of the rotating antenna 20 and rotate in the pair of left and right antenna units 15. 20 is emitted. Then, this microwave passes through the bottom plate 6 shown in FIG. 2 and is supplied into the heating chamber 11. The bottom plate 6 is formed of a material that transmits microwaves, such as a ceramic plate. Microwave operation is performed by radiating microwaves into the heating chamber 11 by the antenna unit 15, and the food to be cooked in the heating chamber 11 is cooked by microwave heating (dielectric heating). The pair of antenna portions 15 can be installed so as to radiate microwaves from the left and right side surfaces of the heating chamber 11, for example, but are provided on the left and right below the bottom plate 6 of the heating chamber 11 as in this embodiment. Therefore, microwave heating can be performed satisfactorily. Further, by using the rotating antenna 20, microwaves can be radiated and stirred almost uniformly into the heating chamber 11.

回転アンテナ20は、図4に示すものに代えて、図5に示す回転アンテナ20A、20Bとしてもよい。
図5に示す回転アンテナ20A、20Bは、薄い金属板で形成され、互いに等しい平面形状をした大型の平板アンテナである。すなわち、回転アンテナ20A、20Bは、それぞれ、回転軸21から所定の角度方向に張り出した幅の広い矩形主張出し部211、その両側に張り出した幅の狭い一対の矩形副張出し部212、213、矩形主張出し部211の張り出し方向と反対の角度方向に張り出した半リング状張出し部214、および、半リング状張出し部214の内側に形成された椀形張出し部215を有している。
The rotating antenna 20 may be the rotating antennas 20A and 20B shown in FIG. 5 instead of the one shown in FIG.
Rotating antennas 20A and 20B shown in FIG. 5 are large flat antennas that are formed of thin metal plates and have the same planar shape. That is, each of the rotary antennas 20A and 20B includes a wide rectangular projecting portion 211 projecting from the rotation shaft 21 in a predetermined angular direction, a pair of narrow rectangular sub projecting portions 212 and 213 projecting on both sides thereof, and a rectangular shape. It has a semi-ring-shaped projecting portion 214 projecting in an angle direction opposite to the projecting direction of the assertion projecting portion 211, and a hook-shaped projecting portion 215 formed inside the semi-ring-shaped projecting portion 214.

このような大型の平板アンテナを左右一対に備えた大型Wアンテナ構造とすることによって、電子レンジ1に次のようなマイクロ波加熱を行わせることができる。
まず、拡散モードとして、2つの回転アンテナ20A、20Bを互いに逆方向に一定速度で回転させながらマイクロ波加熱を行う。拡散モードでは、大型のWアンテナ20A、20Bからマイクロ波が拡散され、加熱室11の隅々までマイクロ波が行き渡り、食品の加熱ムラを抑えておいしく調理できる。
By adopting such a large W antenna structure that includes a pair of large flat antennas on the left and right, the microwave oven 1 can be made to perform the following microwave heating.
First, as a diffusion mode, microwave heating is performed while rotating the two rotating antennas 20A and 20B in the opposite directions at a constant speed. In the diffusion mode, microwaves are diffused from the large W antennas 20A and 20B, and the microwaves are spread to every corner of the heating chamber 11, and cooking can be performed while suppressing uneven heating of food.

また、集中モードとして、2つの回転アンテナ20A、20Bの回転を図5に示す位置で停止させ、マイクロ波加熱を行う。集中モードは、たとえば、ごはん一膳を素早くあたためたい、おかず一品を素早くあたためたい、という欲求に応えられるスピード加熱モードである。
回転アンテナ20A、20Bの矩形主張出し部211、211は、マイクロ波を強く放射する部分であり、図5の位置で回転アンテナ20A、20Bを停止させ、マイクロ波を放射させると、加熱室11の中央部へマイクロ波が強く放射される。よって、加熱室11の中央部に置いた食品を素早く加熱できる。
Further, as the concentrated mode, the rotation of the two rotary antennas 20A and 20B is stopped at the position shown in FIG. 5, and microwave heating is performed. The concentration mode is, for example, a speed heating mode that can satisfy the desire to quickly heat a bowl of rice or to quickly heat a dish.
The rectangular asserting portions 211 and 211 of the rotating antennas 20A and 20B are portions that radiate microwaves strongly. When the rotating antennas 20A and 20B are stopped at the position shown in FIG. Microwaves are emitted strongly to the center. Therefore, the food placed in the central portion of the heating chamber 11 can be quickly heated.

図6(a)、(b)は、上記拡散モードおよび集中モードのマイクロ波放射のイメージ図である。図6(a)が拡散モード、図6(b)が集中モードを表わしている。回転アンテナ20A、20Bを用いることによって、拡散モードと集中モードとを必要に応じて切り換えられる。
<赤外線センサ>
図4および図11に示すように、ケーシング4(フレーム12)の背面上端部には、赤外線センサ30が、加熱室11の左右方向中央部の背面上方から底板6を臨むように、取付けられている。また、赤外線センサ30に対応して、ケーシング4の背面上端部には、図8に示すように、検出窓31が形成されている。
FIGS. 6A and 6B are image diagrams of microwave radiation in the diffusion mode and the concentrated mode. FIG. 6A shows the diffusion mode and FIG. 6B shows the concentration mode. By using the rotating antennas 20A and 20B, the diffusion mode and the concentration mode can be switched as necessary.
<Infrared sensor>
As shown in FIGS. 4 and 11, the infrared sensor 30 is attached to the upper surface of the back surface of the casing 4 (frame 12) so as to face the bottom plate 6 from above the back of the central portion in the left-right direction of the heating chamber 11. Yes. Also, corresponding to the infrared sensor 30, a detection window 31 is formed at the upper rear portion of the casing 4 as shown in FIG.

図4に示すように、赤外線センサ30および検出窓31は、上述した左右2つのアンテナ部15(詳しくは回転アンテナ20の回転中心である回転軸21)に対して等しい距離の位置にある基準面X上に位置する。詳しくは、基準面Xには、左右の回転アンテナ20の回転中心同士を結んだ線Yの中央位置Zが含まれ、基準面Xは、ケーシング4(フレーム12)の幅方向中央を通っている。言い換えれば、赤外線センサ30および検出窓31は、1対のアンテナ部15の対称中心に配置されている。   As shown in FIG. 4, the infrared sensor 30 and the detection window 31 are located at the same distance from the two left and right antenna portions 15 (more specifically, the rotation axis 21 that is the rotation center of the rotation antenna 20). Located on X. Specifically, the reference plane X includes the center position Z of the line Y connecting the rotation centers of the left and right rotary antennas 20, and the reference plane X passes through the center of the casing 4 (frame 12) in the width direction. . In other words, the infrared sensor 30 and the detection window 31 are disposed at the symmetry center of the pair of antenna units 15.

赤外線センサ30は、検出窓31を介して、加熱室11内の被調理食品から生じる赤外線を検知する。詳しくは、赤外線センサ30は、図11に示すように、加熱室11内において右側面視で前後方向に連続して並ぶ複数(本実施例ではたとえば8つ)の視野32を有している。さらに詳しくは、赤外線センサ30は、視野32を有する赤外線検出素子(図示せず)を複数(本実施例では8つ)備えている。各視野32の視野角θは、等しく設定されている。赤外線センサ30は、後述するように左右に揺動可能に設けられており、ホームポジション(基本位置)では、8つの視野32によって底板6の左右方向中央部を、その前端から後端まで検知することができる。つまり、赤外線センサ30が基本位置にある場合、8つの視野32は、一対のアンテナ部15の対称中心(図4に示す基準面X)にある。そして、赤外線センサ30には、揺動機構87が設けられている。揺動機構87によって、赤外線センサ30は、前側へ傾斜した方向に延びる揺動軸33を中心に、上述した基本位置から左右へ向けて揺動可能であり、赤外線センサ30の揺動に応じて、複数の視野32は、底板6上を左右へ移動する。これにより、視野32は、加熱室11内において、底板6のほぼ全面を検知することができる。そのため、赤外線センサ30は、底板6上に収容された被調理食品を上方から臨み、加熱される被調理食品の表面から生じる赤外線を視野32において検知する。そして、その検知結果をもとに、図示しない制御部が被調理食品の現時点での温度を判断する。これにより調理の進捗状況を検知することができる。また、上述したように、赤外線センサ30は、加熱室11の底板6のほぼ全面を検知視野としているので、収容された食品の調理状況を正確に検知することができる。そして、制御部(図示せず)は、被調理食品の現時点での温度に応じて、マイクロ波の供給時間を制御する。つまり、マイクロ波加熱時間が自動制御される。   The infrared sensor 30 detects infrared rays generated from the food to be cooked in the heating chamber 11 through the detection window 31. Specifically, as shown in FIG. 11, the infrared sensor 30 has a plurality of (e.g., eight in this embodiment) visual fields 32 arranged in the heating chamber 11 continuously in the front-rear direction when viewed from the right side. More specifically, the infrared sensor 30 includes a plurality (eight in this embodiment) of infrared detection elements (not shown) having a visual field 32. The viewing angle θ of each field of view 32 is set equal. As will be described later, the infrared sensor 30 is provided so as to be able to swing left and right. At the home position (basic position), the left and right central portions of the bottom plate 6 are detected from the front end to the rear end by the eight visual fields 32. be able to. That is, when the infrared sensor 30 is at the basic position, the eight visual fields 32 are at the symmetry center (reference plane X shown in FIG. 4) of the pair of antenna units 15. The infrared sensor 30 is provided with a swing mechanism 87. By the swing mechanism 87, the infrared sensor 30 can swing from the basic position to the left and right about the swing shaft 33 extending in a direction inclined to the front side, and according to the swing of the infrared sensor 30. The plurality of visual fields 32 move left and right on the bottom plate 6. Thereby, the visual field 32 can detect almost the entire surface of the bottom plate 6 in the heating chamber 11. Therefore, the infrared sensor 30 faces the food to be cooked accommodated on the bottom plate 6 from above, and detects infrared rays generated from the surface of the food to be cooked to be heated in the visual field 32. Based on the detection result, a control unit (not shown) determines the current temperature of the food to be cooked. Thereby, the progress of cooking can be detected. In addition, as described above, the infrared sensor 30 has a detection visual field over almost the entire surface of the bottom plate 6 of the heating chamber 11, so that the cooking status of the stored food can be accurately detected. And a control part (not shown) controls the supply time of a microwave according to the present temperature of the food to be cooked. That is, the microwave heating time is automatically controlled.

そして、上述したように、また、図7(a)で模式的に示すように、赤外線センサ30は、2つの回転アンテナ20の回転中心から等しい距離を隔てた位置(基準面X上)にある。つまり、赤外線センサ30の揺動軸33と基準面Xとが一致している。さらに換言すれば、赤外線センサ30は、上述した一対のアンテナ部15の対称中心にあるので、赤外線センサ30の視野32に対して対称な位置に一対のアンテナ部15が配置されているといえる。この場合、赤外線センサ30を左右へ等しく揺動させたとき、視野32は、基準面Xを基準として左右対称となるように左右へ等しく移動し、また、その大きさ(図7(a)における範囲W)は、左右の回転アンテナ20側で等しい。つまり、赤外線センサ30は、一対のアンテナ部15に対して均等な視野範囲を有することになる。これにより、赤外線センサ30は、左右の回転アンテナ20のいずれかの側へ偏ることなく、正確に赤外線を検知することができる。そのため、上述した制御部(図示せず)では、被調理食品の正確な温度判断が可能となり、一対のアンテナ部15によるマイクロ波加熱の調理状況を自動制御する場合において安定した仕上がりが達成されるように、調理状況を正確に検知することができる。そして、赤外線センサ30は、一対のアンテナ部15の対称中心(上述した基本位置)からその視野32を左右へ移動するようにして調理状況を検知するため、マイクロ波加熱される食品の調理状況を、食品の位置によってばらつくことなく、公平に、正しく、かつ安定して検知することができる。   As described above and as schematically shown in FIG. 7A, the infrared sensor 30 is at a position (on the reference plane X) that is separated from the rotation center of the two rotary antennas 20 by an equal distance. . That is, the swing shaft 33 of the infrared sensor 30 and the reference plane X coincide. In other words, since the infrared sensor 30 is located at the center of symmetry of the pair of antenna units 15 described above, it can be said that the pair of antenna units 15 are disposed at positions symmetrical to the field of view 32 of the infrared sensor 30. In this case, when the infrared sensor 30 is swung equally to the left and right, the field of view 32 moves equally to the left and right so as to be symmetrical with respect to the reference plane X, and the size (in FIG. 7A). The range W) is equal on the left and right rotating antennas 20 side. That is, the infrared sensor 30 has a uniform visual field range for the pair of antenna units 15. Thereby, the infrared sensor 30 can accurately detect infrared rays without being biased to either side of the left and right rotating antennas 20. Therefore, the above-described control unit (not shown) enables accurate temperature determination of the food to be cooked, and a stable finish is achieved when the cooking status of microwave heating by the pair of antenna units 15 is automatically controlled. Thus, the cooking situation can be detected accurately. And since the infrared sensor 30 detects the cooking condition by moving the visual field 32 from the symmetrical center (the above-mentioned basic position) of the pair of antenna units 15 to the left and right, the cooking condition of the food that is microwave-heated is detected. It can be detected fairly, correctly and stably without variation depending on the position of the food.

これに対し、図7(b)に示すように、赤外線センサ30が左右の回転アンテナ20の回転中心から等しい距離を隔てた位置(基準面X上)にない場合には、赤外線センサ30を左右へ揺動させても、視野32は、基準面Xを基準として左右対称に移動せず、その大きさ(範囲W)は、左右の回転アンテナ20側で異なる。図7(b)は、赤外線センサ30を基準面Xから右側にずらして配置した例を示しており、視野32の範囲Wは、左の回転アンテナ20側では広くなる一方で、右の回転アンテナ20側では狭くなり、検知精度が異なる(左の回転アンテナ20の方が精度が低い。)。そのため、赤外線センサ30は、左右の回転アンテナ20側で偏って赤外線を検知することとなり、正確な赤外線の検知が困難である。   On the other hand, as shown in FIG. 7B, when the infrared sensor 30 is not located at a position (on the reference plane X) at an equal distance from the rotation center of the left and right rotating antennas 20, the infrared sensor 30 is Even if it is swung to the right, the field of view 32 does not move symmetrically with respect to the reference plane X, and the size (range W) differs between the left and right rotating antennas 20. FIG. 7B shows an example in which the infrared sensor 30 is shifted from the reference plane X to the right side. The range W of the field of view 32 is wide on the left rotating antenna 20 side, while the right rotating antenna is shown. On the 20th side, it becomes narrower and the detection accuracy is different (the left rotating antenna 20 has lower accuracy). For this reason, the infrared sensor 30 is biased on the left and right rotating antennas 20 side to detect infrared rays, and it is difficult to accurately detect infrared rays.

また、図11に示すように、加熱室11の背面上方から底板6を望むように赤外線センサ30を配置することにより、赤外線センサ30は、加熱室11に収容された食品の調理状況を上方から良好に把握できる。加熱室11の背面上方は、加熱される食品が吹き上がった際等に、その吹き上がりが到達しにくい位置であり、赤外線センサ30が食品等によって汚れにくい。
<ヒータ>
主として図11を参照して、加熱室11の上方および後方には、通電されることによって輻射熱を発生するヒータが配置されている。なお、上方のヒータを上ヒータ22といい、後方のヒータを後ヒータ23という。この電子レンジ1では、上述したマイクロ波運転に加えて、上ヒータ22および後ヒータ23が発生する熱を用いて被調理食品を加熱するヒータ運転(オーブン加熱)が実行される。
Moreover, as shown in FIG. 11, the infrared sensor 30 arrange | positions the infrared rays sensor 30 so that the baseplate 6 may be desired from the back upper surface of the heating chamber 11, and the infrared sensor 30 changes the cooking condition of the food accommodated in the heating chamber 11 from the upper direction. I can grasp it well. The upper rear surface of the heating chamber 11 is a position where it is difficult for the heated food to reach when the heated food is blown up, and the infrared sensor 30 is not easily contaminated with food.
<Heater>
Referring mainly to FIG. 11, heaters that generate radiant heat when energized are disposed above and behind heating chamber 11. The upper heater is referred to as an upper heater 22, and the rear heater is referred to as a rear heater 23. In the microwave oven 1, in addition to the above-described microwave operation, a heater operation (oven heating) is performed in which the food to be cooked is heated using heat generated by the upper heater 22 and the rear heater 23.

図11および図13を参照して、上ヒータ22は、通電されることによって発熱するニクロム線(図示せず)をマイカ(雲母)で形成された2枚の平板で挟みこむことによって形成されている。上ヒータ22は、加熱室11内の被調理食品に対して上方から対向するので、被調理食品の上側表面に焦げ目を付けることができる。
図8および図11を参照して、後ヒータ23は、フレーム12の後側壁に内蔵されている。言い換えれば、フレーム12の後側壁は、外部に面する外壁(図11では表れていない。)と加熱室11に面する内壁41(壁面)とを含む2重構造であり、後ヒータ23は、上述した外壁と内壁41との間の空間(加熱循環室74という。)に配置されている。加熱循環室74は、加熱室11に対して後側から隣接しており、内壁41によって、加熱室11と加熱循環室74とが区画されている。加熱循環室74には、図8に示すように、後ヒータ23に加えて、ファン35が備えられている。ファン35は、正面視において、加熱循環室74の略中央位置に配置されている。ファン35は、前後方向に延びる回転軸を中心に、正面視反時計回りの方向(図示矢印参照)へ回転する。ファン35は、その周辺に沿って16枚の羽根を有し、中央前方から取り込んだ空気を16枚の羽根できめ細かく周囲へ送り出す。ファン35の回転数は、通常回転で、たとえば、約2100rpmである。
Referring to FIGS. 11 and 13, upper heater 22 is formed by sandwiching a nichrome wire (not shown) that generates heat when energized between two flat plates made of mica (mica). Yes. Since the upper heater 22 faces the food to be cooked in the heating chamber 11 from above, the upper surface of the food to be cooked can be burnt.
With reference to FIGS. 8 and 11, the rear heater 23 is built in the rear side wall of the frame 12. In other words, the rear side wall of the frame 12 has a double structure including an outer wall (not shown in FIG. 11) facing the outside and an inner wall 41 (wall surface) facing the heating chamber 11. It arrange | positions in the space (it is called the heating circulation chamber 74) between the outer wall and the inner wall 41 mentioned above. The heating circulation chamber 74 is adjacent to the heating chamber 11 from the rear side, and the heating chamber 11 and the heating circulation chamber 74 are partitioned by the inner wall 41. As shown in FIG. 8, the heating circulation chamber 74 is provided with a fan 35 in addition to the rear heater 23. The fan 35 is disposed at a substantially central position of the heating circulation chamber 74 in a front view. The fan 35 rotates in the counterclockwise direction when viewed from the front (see the arrow in the figure) around a rotation axis extending in the front-rear direction. The fan 35 has 16 blades along its periphery, and sends out air taken in from the center front to the surroundings with 16 blades. The rotation speed of the fan 35 is normal rotation, for example, about 2100 rpm.

後ヒータ23は、図9に示すように、発熱体としてのたとえばニクロム線36と、ニクロム線36の外周を覆う金属製の外皮37と、ニクロム線36と外皮37との間に充填された絶縁粉末34とを備える、いわゆるシーズヒータである。そして、後ヒータ23は、さらに、外皮37の外周面から張り出した放熱フィン38を備えている。放熱フィン38は、熱伝導率の高い素材で形成され、外皮37の周面に、その長さ方向(軸方向)に亘って螺旋状に連続するように突設されている。この放熱フィン38は、外皮37に対して、たとえば、かしめ止められている。このように、放熱フィン38を、外皮37の軸方向に連続した螺旋状に、外皮37の外周面から張り出す形状とすることにより、放熱フィン38を簡単に作成できる。また、放熱フィン38が付いた後ヒータ23を容易に作成することができる。そして、ニクロム線36に通電すると、ニクロム線36が発熱し、その熱が外皮37を介して放熱フィン38に伝えられる。放熱フィン38に伝えられた熱によって、放熱フィン38の周囲の空気が加熱される。後ヒータ23は、放熱フィン38を備えていることにより、通常のシーズヒータ(放熱フィンのないもの)と比較して、約8倍の表面積で熱を効率よく放出する。   As shown in FIG. 9, the rear heater 23 includes, for example, a nichrome wire 36 as a heating element, a metal outer skin 37 covering the outer periphery of the nichrome wire 36, and an insulation filled between the nichrome wire 36 and the outer skin 37. This is a so-called sheathed heater including the powder 34. The rear heater 23 is further provided with heat radiation fins 38 protruding from the outer peripheral surface of the outer skin 37. The heat radiating fins 38 are formed of a material having high thermal conductivity, and project from the circumferential surface of the outer skin 37 so as to be spirally continuous over its length direction (axial direction). The radiating fins 38 are, for example, caulked against the outer skin 37. In this way, the radiating fins 38 can be easily created by forming the radiating fins 38 so as to protrude from the outer peripheral surface of the outer skin 37 in a spiral shape that is continuous in the axial direction of the outer skin 37. Further, the heater 23 can be easily formed after the heat radiation fins 38 are attached. When the nichrome wire 36 is energized, the nichrome wire 36 generates heat, and the heat is transmitted to the heat radiating fins 38 through the outer skin 37. The air around the radiation fin 38 is heated by the heat transmitted to the radiation fin 38. Since the rear heater 23 includes the heat radiation fins 38, the rear heater 23 efficiently releases heat with a surface area about eight times that of a normal sheathed heater (having no heat radiation fins).

図8、図10および図11を参照して、後ヒータ23は、正面視において、ファン35を取り囲むように延びている。詳しくは、後ヒータ23は、内壁41の左側下端部付近を開始位置39として上方へ延び、相対的に大きな曲率で屈曲してから右側へ延び、その後、相対的に小さな曲率で屈曲して下方へ延び、さらに相対的に小さな曲率で屈曲して左側へ延び、上述した開始位置39の右側において逆S字を描くように屈曲してから下方の終了位置40へと延びている。このように、後ヒータ23は、開始位置39および終了位置40の近傍において密集(配置密度が他の部分より高い)しており、この密集部分では、他の部分に比べて発熱量が大きい。ファン35は、屈曲配置された後ヒータ23の内側に配置されている。   Referring to FIGS. 8, 10, and 11, rear heater 23 extends to surround fan 35 in a front view. Specifically, the rear heater 23 extends upward from the vicinity of the lower left end portion of the inner wall 41 as a start position 39, bends with a relatively large curvature, then extends to the right, and then bends with a relatively small curvature and then downwards. And bent to a left side after bending with a relatively small curvature, and then bent to draw an inverted S-shape on the right side of the above-described start position 39 and then extended to a lower end position 40. As described above, the rear heater 23 is densely arranged (the arrangement density is higher than that of the other part) in the vicinity of the start position 39 and the end position 40, and the heat generation amount is larger in the dense part than in the other part. The fan 35 is disposed inside the heater 23 after being bent.

また、図8に示すように、内壁41には、多数の貫通穴42(吹き出し孔)が形成されている。詳しくは、内壁41における第1位置43、第2位置44、第3位置45、第4位置46、第5位置47および第6位置48のそれぞれに貫通穴42が複数形成されている。第1位置43は、ファン35の中心に対向する位置である。第2位置44は、後ヒータ23における上述した密集部分に対向する位置であり、第1位置43の左側にある。第3位置45、第4位置46、第5位置47は、後ヒータ23におけるファン35より上側部分、右側部分および下側部分にそれぞれ対向する位置である。第6位置48は、内壁41の左側上端部近傍である。   As shown in FIG. 8, the inner wall 41 has a large number of through holes 42 (blowing holes). Specifically, a plurality of through holes 42 are formed in each of the first position 43, the second position 44, the third position 45, the fourth position 46, the fifth position 47, and the sixth position 48 in the inner wall 41. The first position 43 is a position facing the center of the fan 35. The second position 44 is a position facing the above-described dense portion of the rear heater 23 and is on the left side of the first position 43. The third position 45, the fourth position 46, and the fifth position 47 are positions facing the upper portion, the right portion, and the lower portion of the rear heater 23 from the fan 35, respectively. The sixth position 48 is near the upper left end portion of the inner wall 41.

上述したようにファン35が正面視反時計回りの方向(図示矢印参照)へ回転すると、加熱室11内の空気が、第1位置43の貫通穴42を介して、加熱循環室74内に取り込まれる。取り込まれる空気は、ファン35の中心から放射状に周囲の後ヒータ23へと放出され、ファン35の周りを正面視反時計回りの方向へ流れながら、加熱循環室74内において、後ヒータ23によって加熱される。詳しくは、ファン35によって後ヒータ23へ放出された空気が外皮37および放熱フィン38を通過する。放熱フィン38を有することにより、外皮37だけの場合と比べて、通過する空気との接触面積が増大し、空気が効率良く加熱される。加熱された空気(加熱空気)は、ファン35によって、第2位置44、第3位置45、第4位置46、第5位置47および第6位置48の各貫通穴42を介して、加熱室11内へ送り出され、加熱室11内の被調理食品を加熱する。このように、加熱室11内の空気が、ファン35および後ヒータ23によって、加熱室11と加熱循環室74との間で循環されながら加熱され、この空気によって加熱室11内の被調理食品が加熱される。たとえば、複数の角皿25(図18参照)を上下方向に並べて配置した場合において、上ヒータ22(図4参照)のみを駆動しても、最上位置にある角皿25の被調理食品しか十分に加熱できない。最上位置にある角皿25より下方の角皿25まで上ヒータ22の熱が届き難いからである。これに対し、本実施例のように空気を加熱および循環させることによって、複数の角皿25のすべての被調理食品に熱を行き届かせ、これらの被調理食品を十分に加熱することができる。このように空気を加熱循環させるタイプの後ヒータ23は、コンベクションヒータと呼ばれる。そして、上述したように、加熱室11の空気を加熱循環室74へ取り込み、取り込んだ空気を加熱して加熱室11へ送り出す際に、後ヒータ23が放熱フィン38(図9参照)を備えたシーズヒータであるから、後ヒータ23の加熱効率が極めて良好で、高温の空気を加熱室11へ送り出すことができる。よって、高出力で一気に食品を調理でき、食品本来のおいしさを引き出すことができる。また、調理時間も短縮できる。また、放熱フィン38を設けることにより、後ヒータ23表面(外皮37)の温度が過加熱状態になることを防止でき、後ヒータ23自体の寿命を長くすることが可能になる。   As described above, when the fan 35 rotates in the counterclockwise direction when viewed from the front (see the arrow in the drawing), the air in the heating chamber 11 is taken into the heating circulation chamber 74 through the through hole 42 at the first position 43. It is. The taken-in air is discharged radially from the center of the fan 35 to the surrounding rear heater 23 and heated by the rear heater 23 in the heating circulation chamber 74 while flowing around the fan 35 in a counterclockwise direction when viewed from the front. Is done. Specifically, the air discharged to the rear heater 23 by the fan 35 passes through the outer skin 37 and the heat radiating fins 38. By having the radiation fin 38, compared with the case of only the outer skin 37, the contact area with the passing air increases, and the air is efficiently heated. The heated air (heated air) is heated by the fan 35 through the through holes 42 in the second position 44, the third position 45, the fourth position 46, the fifth position 47, and the sixth position 48. The food to be cooked in the heating chamber 11 is heated. Thus, the air in the heating chamber 11 is heated while being circulated between the heating chamber 11 and the heating circulation chamber 74 by the fan 35 and the rear heater 23, and the food to be cooked in the heating chamber 11 is heated by this air. Heated. For example, when a plurality of square dishes 25 (see FIG. 18) are arranged in the vertical direction, even if only the upper heater 22 (see FIG. 4) is driven, only the food to be cooked in the square dish 25 at the uppermost position is sufficient. Cannot be heated. This is because it is difficult for the heat of the upper heater 22 to reach the square plate 25 below the square plate 25 at the uppermost position. On the other hand, by heating and circulating air as in the present embodiment, heat can be delivered to all the cooked foods of the plurality of square dishes 25, and these cooked foods can be sufficiently heated. . The post heater 23 that heats and circulates air is called a convection heater. And as above-mentioned, when taking in the air of the heating chamber 11 to the heating circulation chamber 74, heating the taken-in air and sending it out to the heating chamber 11, the back heater 23 was equipped with the radiation fin 38 (refer FIG. 9). Since it is a sheathed heater, the heating efficiency of the rear heater 23 is extremely good, and high-temperature air can be sent to the heating chamber 11. Therefore, food can be cooked at a stretch with high output, and the original deliciousness of the food can be brought out. In addition, cooking time can be shortened. Further, by providing the radiation fins 38, the temperature of the surface of the rear heater 23 (outer skin 37) can be prevented from being overheated, and the life of the rear heater 23 itself can be extended.

ここで、後ヒータ23において、上述した密集部分(開始位置39および終了位置40の近傍)で加熱された空気は、それ以外の部分で加熱された空気よりも温度が高く、上述したように正面視反時計回りの方向へ流れて第5位置47の貫通穴42(特定吹き出し孔)を介して、加熱室11の下部へ吹き出される。換言すれば、加熱循環室74内で第5位置47の貫通穴42へ向かう空気の流路85に、後ヒータ23の密集部分が配置されている。これにより、後ヒータ23によって加熱された空気のうち、第5位置47の貫通穴42から加熱室11の下部(底板6)へ送り出される熱風を特に高温にすることができる。そのため、底板6に載置された被調理食品を確実に加熱することができ、また、角皿25(図18参照)に載置されることで底板6から浮いた位置に配置された被調理食品を下側から加熱(オーブン加熱)する際に、下火効果を高めることができる。   Here, in the rear heater 23, the air heated in the above-described dense portion (in the vicinity of the start position 39 and the end position 40) has a higher temperature than the air heated in other portions, and as described above, It flows in the counterclockwise direction and is blown out to the lower part of the heating chamber 11 through the through hole 42 (specific blowing hole) at the fifth position 47. In other words, a dense portion of the rear heater 23 is disposed in the air flow path 85 toward the through hole 42 at the fifth position 47 in the heating circulation chamber 74. Thereby, the hot air sent out from the through-hole 42 of the 5th position 47 to the lower part (bottom plate 6) of the heating chamber 11 among the air heated by the back heater 23 can be made into especially high temperature. Therefore, the food to be cooked placed on the bottom plate 6 can be surely heated, and the food to be cooked placed at a position floating from the bottom plate 6 by being placed on the square plate 25 (see FIG. 18). When heating food from the lower side (oven heating), the lower fire effect can be enhanced.

また、図11に示すように、後ヒータ23は、放熱フィン38が内壁41に接した状態で設けられていることが望ましい。これにより、後ヒータ23の熱は、通過する空気を加熱するのみでなく、放熱フィン38を通して加熱室11の内壁41も加熱するから、内壁41自体が加熱されることにより、加熱室11内の温度をより高温にすることができ、短時間で良好な加熱調理を実現することができる。   Further, as shown in FIG. 11, it is desirable that the rear heater 23 be provided in a state in which the radiating fins 38 are in contact with the inner wall 41. As a result, the heat of the rear heater 23 not only heats the air passing therethrough but also heats the inner wall 41 of the heating chamber 11 through the radiation fins 38. The temperature can be increased, and good cooking can be achieved in a short time.

上述した加熱循環室74の放熱フィン38付の後ヒータ23、多枚数の羽根を有する大型ファン35を具備する構成は、高出力のオーブン調理を実現でき、ジェットヒートエンジンと称することができる。
なお、内壁41を除く加熱室11および加熱循環室74の壁面は、たとえば、空気層、断熱板、断熱材、断熱板を挟んだ多層断熱鋼板で形成するのが好ましく、これによって、加熱室11内の熱を閉じ込めてよりスムーズな高火力調理を実現できる。
The above-described configuration including the rear heater 23 with the radiation fins 38 of the heating circulation chamber 74 and the large fan 35 having a large number of blades can realize high-power oven cooking and can be referred to as a jet heat engine.
The wall surfaces of the heating chamber 11 and the heating circulation chamber 74 excluding the inner wall 41 are preferably formed of, for example, an air layer, a heat insulating plate, a heat insulating material, and a multilayer heat insulating steel plate sandwiching the heat insulating plate. The heat inside can be confined to achieve smoother high-heat cooking.

また、通常、被調理食品の調理工程に先立って加熱室11内を予め加熱する工程(予熱工程)が実施される。予熱工程では、図8に示すファン35の回転数は、上述した通常回転数(約2100rpm)よりも低くされる。
この電子レンジ1では、図12(a)に示すように、制御部17(ファン制御手段)が、操作パネル10、ファン35および後ヒータ23のそれぞれに対して電気的に接続されている。操作パネル10の操作による予熱工程の実施指令に応じて、制御部17は、ファン35および後ヒータ23をそれぞれ駆動させる。
Moreover, the process (preheating process) which heats the inside of the heating chamber 11 previously is normally implemented prior to the cooking process of to-be-cooked food. In the preheating step, the rotational speed of the fan 35 shown in FIG. 8 is set lower than the normal rotational speed (about 2100 rpm) described above.
In the microwave oven 1, as shown in FIG. 12A, the control unit 17 (fan control means) is electrically connected to each of the operation panel 10, the fan 35 and the rear heater 23. The control unit 17 drives the fan 35 and the rear heater 23 in response to a preheating process execution command by operating the operation panel 10.

予熱工程では、図12(b)に示すように、制御部17は、操作パネル10の操作に応じて予熱行程を実施するか否かを判断する(ステップS1)。予熱行程を実施する場合には(ステップS1のYES)、制御部17は、後ヒータ23に通電し、ファン35を、たとえば約900rpmで低速回転させる(ステップS2)。このように、予熱工程において、ファン35の回転数を相対的に低速にすることにより、加熱空気の循環速度を比較的低くできる。そのため、より高温の加熱空気が加熱室11内へゆるやかに供給されて加熱室11内に留まり、加熱室11を短時間で温めることができる。よって、予熱時間の短縮を図ることができる。一方、予熱工程を実施しない場合、たとえば、予熱工程後の調理工程では(ステップS1のNO)、後ヒータ23に通電し、上述した通常回転数(約2100rpm)でファン35を回転させる(ステップS3)。
<過熱スチーム生成装置>
図13に示すように、加熱室11の左外側には、調理用の過熱スチームを生成する過熱スチーム生成装置5の過熱スチーム生成ユニット51が配置されている。この電子レンジ1では、上述したマイクロ波運転およびヒータ運転に加えて、過熱スチーム生成装置5が生成する過熱スチームで被調理食品を加熱するスチーム運転が実行される。加熱室11内に過熱スチームを供給して被調理食品を過熱スチームで加熱することにより、被調理食品の脱塩や脱脂を図ることができる。なお、通常のスチームの温度が約100℃であるのに対し、過熱スチームの温度は約130℃である。スチーム運転おいて、上ヒータ22および/または後ヒータ23を連動させることにより、これらのヒータが生じる熱によって加熱室11内の過熱スチームを加熱することで、加熱室11内の過熱スチームの温度を350℃〜400℃に上昇させることもできる。
In the preheating process, as shown in FIG. 12B, the control unit 17 determines whether or not to perform the preheating process according to the operation of the operation panel 10 (step S1). When the preheating process is performed (YES in step S1), the control unit 17 energizes the rear heater 23 and rotates the fan 35 at a low speed of, for example, about 900 rpm (step S2). Thus, in the preheating step, the circulating speed of the heated air can be made relatively low by making the rotational speed of the fan 35 relatively low. Therefore, higher-temperature heated air is slowly supplied into the heating chamber 11 and stays in the heating chamber 11, and the heating chamber 11 can be warmed in a short time. Therefore, the preheating time can be shortened. On the other hand, when the preheating process is not performed, for example, in the cooking process after the preheating process (NO in step S1), the rear heater 23 is energized and the fan 35 is rotated at the above-described normal rotation speed (about 2100 rpm) (step S3). ).
<Superheated steam generator>
As shown in FIG. 13, an overheated steam generation unit 51 of the overheated steam generation device 5 that generates overheated steam for cooking is disposed on the left outer side of the heating chamber 11. In the microwave oven 1, in addition to the above-described microwave operation and heater operation, a steam operation is performed in which the food to be cooked is heated by the superheated steam generated by the superheated steam generation device 5. By supplying superheated steam into the heating chamber 11 and heating the food to be cooked with superheated steam, the food to be cooked can be desalted and degreased. In addition, the temperature of normal steam is about 100 ° C., whereas the temperature of superheated steam is about 130 ° C. In the steam operation, the upper heater 22 and / or the rear heater 23 are interlocked to heat the overheated steam in the heating chamber 11 with the heat generated by these heaters, thereby adjusting the temperature of the overheated steam in the heating chamber 11. It can also be raised to 350 ° C to 400 ° C.

過熱スチーム生成装置5は、タンク49(図1参照)と、パイプ50と、図示しないポンプと、1つの過熱スチーム生成ユニット51とを含んでいる。
タンク49は、水を収容し、図1に示すように、ケーシング4の正面下部に対して、いわゆるカセット方式として、着脱可能に装着される。
図13に示すように、過熱スチーム生成ユニット51は、フレーム12の左側壁外面に取り付けられている。また、過熱スチーム生成ユニット51は、上下の噴射ノズルを備えていて、図14に示すように、左側壁の内面86(区画面)に、それら上噴射ノズル52および下噴射ノズル53が上下2段に表れている。上噴射ノズル52および下噴射ノズル53は、それぞれ、前後方向に並んで複数(本実施例では3つ)設けられている。上噴射ノズル52は、最上位置のレール24Uの上方において、内面86から加熱室11内を臨んでおり、下噴射ノズル53は、最上位置のレール24Uと最上位置から2番目のレール24Mとの間において、内面86から加熱室11内を臨んでいる。上噴射ノズル52および下噴射ノズル53については、以降で詳説する。
The superheated steam generator 5 includes a tank 49 (see FIG. 1), a pipe 50, a pump (not shown), and one superheated steam generation unit 51.
The tank 49 accommodates water and is detachably attached to the lower front portion of the casing 4 as a so-called cassette system as shown in FIG.
As shown in FIG. 13, the superheated steam generation unit 51 is attached to the outer surface of the left side wall of the frame 12. Further, the superheated steam generation unit 51 includes upper and lower injection nozzles. As shown in FIG. 14, the upper injection nozzle 52 and the lower injection nozzle 53 are arranged in two upper and lower stages on the inner surface 86 (section screen) of the left side wall. It appears in A plurality (three in this embodiment) of the upper injection nozzle 52 and the lower injection nozzle 53 are provided side by side in the front-rear direction. The upper injection nozzle 52 faces the heating chamber 11 from the inner surface 86 above the uppermost rail 24U, and the lower injection nozzle 53 is located between the uppermost rail 24U and the second rail 24M from the uppermost position. , The inside of the heating chamber 11 is faced from the inner surface 86. The upper injection nozzle 52 and the lower injection nozzle 53 will be described in detail later.

図13に戻って、過熱スチーム生成ユニット51と、図13で図示されていないタンク49とは、パイプ50で連結されている。パイプ50の途中(詳しくは、タンク49の近傍)には、ポンプ(図示せず)が備えられており、このポンプが駆動されると、タンク49内の水が、パイプ50を介して、過熱スチーム生成ユニット51へ供給される。この水は、過熱スチーム生成ユニット51によって加熱されて過熱スチームとなり、図14に示す上噴射ノズル52および下噴射ノズル53から加熱室11内に噴射される。ここで、図18に示すように、最上位置から2番目の左右のレール24Mで角皿25を保持し、さらに、角皿25に金網7を載置する場合において、金網7の平坦部26が上下方向において上噴射ノズル52と下噴射ノズル53との間に配置されるように、脚部27の長さが設定されている。これにより、平坦部26に載置された被調理食品は、上噴射ノズル52および下噴射ノズル53のそれぞれから噴射される過熱スチーム(図示矢印参照)によって上下方向から挟まれることになり、過熱スチームに効率的に晒され、加熱調理が行われ、その際に、上述した脱塩および脱脂効果を促進することができる。このように、この過熱スチーム生成ユニット51では、上噴射ノズル52および下噴射ノズル53を2段に備えるので、加熱室11内へ立体的に過熱スチームを供給することができる。これにより、加熱室11内に過熱スチームを比較的速やかに充満させることができ、かつ、食品に対して多面的に過熱スチームを付与でき、被調理食品を良好に加熱できるとともに、調理時間の短縮を図ることができる。なお、噴射ノズルは2段に限らず、3段以上としてもよい。   Returning to FIG. 13, the superheated steam generation unit 51 and the tank 49 not shown in FIG. 13 are connected by a pipe 50. A pump (not shown) is provided in the middle of the pipe 50 (specifically, in the vicinity of the tank 49). When this pump is driven, water in the tank 49 is overheated via the pipe 50. It is supplied to the steam generation unit 51. This water is heated by the superheated steam generation unit 51 to become superheated steam, and is jetted into the heating chamber 11 from the upper jet nozzle 52 and the lower jet nozzle 53 shown in FIG. Here, as shown in FIG. 18, when the square plate 25 is held by the second left and right rails 24 </ b> M from the uppermost position and the wire mesh 7 is placed on the square plate 25, the flat portion 26 of the wire mesh 7 is The length of the leg portion 27 is set so as to be disposed between the upper injection nozzle 52 and the lower injection nozzle 53 in the vertical direction. As a result, the food to be cooked placed on the flat portion 26 is sandwiched from above and below by superheated steam (see the arrow in the figure) sprayed from each of the upper spray nozzle 52 and the lower spray nozzle 53. In this case, the desalting and degreasing effects described above can be promoted. As described above, the superheated steam generation unit 51 includes the upper injection nozzle 52 and the lower injection nozzle 53 in two stages, so that the superheated steam can be supplied into the heating chamber 11 in a three-dimensional manner. As a result, the heating chamber 11 can be filled with superheated steam relatively quickly, and the food can be multifacetedly provided with superheated steam, and the food to be cooked can be heated well, and the cooking time can be shortened. Can be achieved. The number of spray nozzles is not limited to two but may be three or more.

次に、過熱スチーム生成ユニット51について詳説する。
図15に示すように、過熱スチーム生成ユニット51は、右側面視において略矩形の薄板形状をしている。図16および図17に示すように、過熱スチーム生成ユニット51は、本体54と左蓋55と右蓋56とに3分割される。本体54、左蓋55および右蓋56は、熱伝導性の良好な、たとえばアルミニウムでダイカスト成形された金属体である。なお、金属体に代えて、セラミック体でもよい。過熱スチーム生成ユニット51は、左蓋55(第1の金属体)、本体54(第2の金属体)および右蓋56(第3の金属体)が、左からこの順で3層に重ね合わせられて構成されており、本体54が中央に配置される。
Next, the superheated steam generation unit 51 will be described in detail.
As shown in FIG. 15, the superheated steam generation unit 51 has a substantially rectangular thin plate shape in a right side view. As shown in FIGS. 16 and 17, the superheated steam generation unit 51 is divided into a main body 54, a left lid 55, and a right lid 56. The main body 54, the left lid 55, and the right lid 56 are metal bodies having good thermal conductivity, for example, die-cast with aluminum. A ceramic body may be used instead of the metal body. The superheated steam generation unit 51 includes a left lid 55 (first metal body), a main body 54 (second metal body), and a right lid 56 (third metal body), which are stacked in three layers in this order from the left. The main body 54 is arranged at the center.

図16に示すように、略矩形の薄板形状をした本体54の右側面の前後方向中央には、右側へ突出する凸条(本体右凸条57という。)が設けられている。本体右凸条57は、右側面視において矩形状をなし、その内側には、窪み(本体右窪み58という。)が形成されている。本体右窪み58の上端には、本体54を幅方向に貫通する小孔(上小孔59という。)が前後方向に並んで3つ形成されている。前側2つの上小孔59は、互いに隣接している。上小孔59の下側には、本体54を幅方向に貫通する小孔(下小孔60という。)が前後方向に並んで3つ形成されている。3つの下小孔60は、等間隔で配置されている。本体右窪み58には、各下小孔60を取り囲むように右側へ延びる管が設けられている。この管が、上述した上噴射ノズル52である。   As shown in FIG. 16, a protrusion (referred to as a main body right protrusion 57) that protrudes to the right is provided at the center in the front-rear direction of the right side surface of the main body 54 having a substantially rectangular thin plate shape. The main body right ridge 57 has a rectangular shape in a right side view, and a recess (referred to as a main body right recess 58) is formed inside thereof. Three small holes (referred to as upper small holes 59) penetrating the main body 54 in the width direction are formed at the upper end of the main body right depression 58 side by side in the front-rear direction. The two front upper small holes 59 are adjacent to each other. Below the upper small hole 59, three small holes (referred to as lower small holes 60) penetrating the main body 54 in the width direction are formed side by side in the front-rear direction. The three lower small holes 60 are arranged at equal intervals. The main body right depression 58 is provided with a pipe extending rightward so as to surround each lower small hole 60. This tube is the above-described upper injection nozzle 52.

図17に示すように、本体54の左側面には、左側へ突出する凸条(本体第1左凸条61という。)が設けられている。本体第1左凸条61は、左側面視において上向きに突出する凸形状をなし、その内側には、窪み(本体左窪み78という。)が形成されている。本体左窪み78は、下方に位置する相対的に容量の大きな水貯留部76と、水貯留部76の上方につながった、前後方向(左側面視において左右方向)に幅が狭いスチーム上昇路77とを含んでいる。さらに、本体54の左側面には、本体第1左凸条61の外側において、本体第1左凸条61に沿い、左側へ突出する凸条(本体第2左凸条62という。)が設けられている。本体第1左凸条61と本体第2左凸条62との間には、本体第1左凸条61および本体第2左凸条62に沿う溝(本体左溝63という。)が形成されている。本体左窪み78の上端には、上述した上小孔59および下小孔60が位置している。本体左窪み78には、左側に突出する複数のリブが設けられている。これらのリブには、傾斜リブ64と上下方向リブ65とが含まれる。傾斜リブ64は、各下小孔60の下方において、やや下向きに傾斜して延びている。上下方向リブ65は、傾斜リブ64の下方において、略上下方向に沿って延びている。   As shown in FIG. 17, the left side surface of the main body 54 is provided with a ridge projecting leftward (referred to as a main body first left ridge 61). The main body first left ridge 61 has a convex shape protruding upward in a left side view, and a recess (referred to as a main body left recess 78) is formed inside thereof. The main body left recess 78 has a relatively large-capacity water storage portion 76 located below, and a steam ascending passage 77 that is connected to the upper side of the water storage portion 76 and has a narrow width in the front-rear direction (left-right direction in the left side view). Including. Further, on the left side surface of the main body 54, a protrusion (referred to as a main body second left protrusion 62) that protrudes to the left along the main body first left protrusion 61 is provided outside the main body first left protrusion 61. It has been. Between the main body first left protrusion 61 and the main body second left protrusion 62, a groove (referred to as a main body left groove 63) is formed along the main body first left protrusion 61 and the main body second left protrusion 62. ing. The upper small hole 59 and the lower small hole 60 described above are located at the upper end of the main body left recess 78. The main body left recess 78 is provided with a plurality of ribs protruding leftward. These ribs include inclined ribs 64 and vertical ribs 65. The inclined rib 64 extends slightly downward and below each lower small hole 60. The vertical rib 65 extends substantially along the vertical direction below the inclined rib 64.

本体54には、ヒータ66(共用ヒータ)が取付けられている。ヒータ66は、上下方向に間隔を隔てて前後に延びる2本のシーズヒータであり、端部以外が本体54に埋設されるように、本体54に取付けられている。なお、説明の便宜上、上側を上ヒータ66Uといい、下側を下ヒータ66Lという。上ヒータ66Uは、下小孔60のやや下側(傾斜リブ64および上下方向リブ65の近傍)に位置し、下ヒータ66Lは、本体左窪み78では下端部に位置し、本体右窪み58では、その上下方向中央からやや下側(図16参照)に位置している。各ヒータ66は、通電されることで発熱し、本体左窪み78および本体右窪み58(図16参照)では、各ヒータ66の周囲が加熱される。   A heater 66 (common heater) is attached to the main body 54. The heaters 66 are two sheathed heaters that extend in the front-rear direction with an interval in the vertical direction, and are attached to the main body 54 so that the portions other than the end portions are embedded in the main body 54. For convenience of explanation, the upper side is referred to as an upper heater 66U and the lower side is referred to as a lower heater 66L. The upper heater 66U is positioned slightly below the lower small hole 60 (in the vicinity of the inclined rib 64 and the vertical rib 65), and the lower heater 66L is positioned at the lower end in the main body left recess 78 and in the main body right recess 58. , Located slightly below the center in the vertical direction (see FIG. 16). Each heater 66 generates heat when energized, and the periphery of each heater 66 is heated in the main body left recess 78 and the main body right recess 58 (see FIG. 16).

左蓋55は、左側面視において上向きに突出する凸形状の薄板形状に形成されている。左蓋55の前後方向における略中央には、左蓋55を幅方向に貫通する小孔(左蓋小孔67という。)が形成されている。左蓋55の左側面には、左蓋小孔67を取り囲むように左側へ延びる管(ジョイントパイプ68という。)が設けられている。
図16に示すように、左蓋55の右側面(内面)には、左蓋55の周縁の全てに沿って右側へ突出する凸条(左蓋凸条69という。)が設けられている。左蓋凸条69の内側には、窪み(左蓋窪み79という。)が形成されている。左蓋小孔67は、左蓋凸条69内に配置されている。
The left lid 55 is formed in a convex thin plate shape protruding upward in the left side view. A small hole (referred to as a left lid small hole 67) that penetrates the left lid 55 in the width direction is formed at substantially the center in the front-rear direction of the left lid 55. On the left side surface of the left lid 55, a pipe (referred to as a joint pipe 68) extending leftward is provided so as to surround the left lid small hole 67.
As shown in FIG. 16, a right ridge (inner surface) of the left lid 55 is provided with a ridge (referred to as a left lid ridge 69) that protrudes to the right along the entire periphery of the left lid 55. A depression (referred to as a left lid depression 79) is formed inside the left lid protrusion 69. The left lid small hole 67 is disposed in the left lid ridge 69.

右蓋56は、右側面視において略矩形の薄板状に形成されている。右蓋56の上端部には、右蓋56を幅方向に貫通する穴(右壁穴70という。)が、前後方向に等しい間隔を隔てて3つ形成されている。また、右蓋56の下端部には、右蓋56を幅方向に貫通する小孔(右壁小孔83という。)が、前後方向に等しい間隔を隔てて3つ形成されている。さらに、右蓋56には、各右壁小孔83を取り囲むように右側へ延びる管が設けられている。この管が、上述した下噴射ノズル53である。   The right lid 56 is formed in a substantially rectangular thin plate shape when viewed from the right side. Three holes (referred to as right wall holes 70) penetrating the right lid 56 in the width direction are formed in the upper end portion of the right lid 56 at equal intervals in the front-rear direction. Further, three small holes (referred to as right wall small holes 83) penetrating the right lid 56 in the width direction are formed at the lower end portion of the right lid 56 at equal intervals in the front-rear direction. Further, the right lid 56 is provided with a pipe extending rightward so as to surround each right wall small hole 83. This pipe is the lower injection nozzle 53 described above.

図17に示すように、右蓋56の左側面(内面)には、右蓋56の周縁の全てに沿って左側へ突出する凸条(右蓋第1凸条71という。)が設けられている。さらに、右蓋56の左側面には、右蓋第1凸条71の内側において、右蓋第1凸条71に沿い、左側へ突出する凸条(右蓋第2凸条72という。)が設けられている。右蓋第1凸条71と右蓋第2凸条72との間には、右蓋第1凸条71および右蓋第2凸条72に沿う溝(右蓋溝73という。)が形成されている。右蓋第2凸条72の内側には、窪み(右蓋窪み80という。)が形成されている。3つの右壁穴70において、前端の右壁穴70は、右蓋溝73の前側上端部に位置し、後端の右壁穴70は、右蓋溝73の後側上端部に位置し、中央の右壁穴70は、右蓋窪み80内に位置している。これに対し、全ての右壁小孔83は、右蓋窪み80内に位置している。   As shown in FIG. 17, the left side surface (inner surface) of the right lid 56 is provided with a ridge (referred to as a right lid first ridge 71) that protrudes to the left along the entire periphery of the right lid 56. Yes. Further, on the left side surface of the right lid 56, a ridge projecting to the left along the right lid first ridge 71 (referred to as the right lid second ridge 72) is provided inside the right lid first ridge 71. Is provided. Between the right lid first ridge 71 and the right lid second ridge 72, a groove along the right lid first ridge 71 and the right lid second ridge 72 (referred to as a right lid groove 73) is formed. ing. A recess (referred to as a right lid recess 80) is formed inside the second right protrusion 72 of the right lid. In the three right wall holes 70, the front right wall hole 70 is located at the front upper end of the right lid groove 73, and the rear right wall hole 70 is located at the rear upper end of the right lid groove 73, The central right wall hole 70 is located in the right lid recess 80. On the other hand, all the right wall small holes 83 are located in the right lid recess 80.

本体54に対して、左蓋55および右蓋56が取付けられる。
左蓋55は、本体54に対して、左側から取付けられる。このとき、左蓋凸条69(図16参照)が本体左溝63に嵌めこまれる。ここで、予め本体左溝63に流し込まれた耐熱性の接着剤、たとえばシリコンの接着剤によって、左蓋凸条69と本体左溝63との間は塞がれる。そして、本体54および左蓋55のそれぞれの周縁に設けられた各ねじ部81をねじ(図示せず)で連結することによって、本体54に対する左蓋55の取付けが完了する。なお、各ねじ部81のうち、左蓋55および本体54の上端中央寄りの2つのねじ部81は、右蓋56の上端にある2つのねじ部81と共締めされる。この状態において、本体左窪み78と左蓋窪み79(図16参照)とは、互いに連通する。ここで、本体54と左蓋55との間で互いに連通状態にある本体左窪み78および左蓋窪み79において、上下方向リブ65より下側の部分に、前述した水貯留部76が形成され、上下方向リブ65以上の部分に、幅(前後の幅)が狭いスチーム上昇路77(供給路)が形成されている。スチーム上昇路77は、水貯留部76から上方に延びている。なお、説明の便宜上、水貯留部76およびスチーム上昇路77を、本体左窪み78に示している。また、左蓋小孔67は、水貯留部76に連通し、上小孔59および下小孔60は、スチーム上昇路77の上部に連通している。なお、下小孔60に対応する上噴射ノズル52(図16参照)は、スチーム上昇路77の上部に形成されているといえる。
A left lid 55 and a right lid 56 are attached to the main body 54.
The left lid 55 is attached to the main body 54 from the left side. At this time, the left lid ridge 69 (see FIG. 16) is fitted in the main body left groove 63. Here, the space between the left lid ridge 69 and the main body left groove 63 is closed by a heat-resistant adhesive previously poured into the main body left groove 63, for example, an adhesive of silicon. Then, by connecting the screw portions 81 provided on the peripheral edges of the main body 54 and the left lid 55 with screws (not shown), the attachment of the left lid 55 to the main body 54 is completed. Of the screw portions 81, the two screw portions 81 near the center of the upper end of the left lid 55 and the main body 54 are fastened together with the two screw portions 81 at the upper end of the right lid 56. In this state, the main body left recess 78 and the left lid recess 79 (see FIG. 16) communicate with each other. Here, in the main body left recess 78 and the left lid recess 79 that are in communication with each other between the main body 54 and the left lid 55, the above-described water storage portion 76 is formed in a portion below the vertical rib 65, A steam ascending passage 77 (supply passage) having a narrow width (front and rear width) is formed in a portion above the vertical rib 65. The steam ascending path 77 extends upward from the water storage section 76. For convenience of explanation, the water reservoir 76 and the steam ascending path 77 are shown in the main body left depression 78. The left lid small hole 67 communicates with the water reservoir 76, and the upper small hole 59 and the lower small hole 60 communicate with the upper portion of the steam ascending path 77. It can be said that the upper injection nozzle 52 (see FIG. 16) corresponding to the lower small hole 60 is formed in the upper part of the steam ascending path 77.

一方、右蓋56は、本体54に対して、右側から取付けられる。このとき、本体右凸条57(図16参照)が右蓋溝73に嵌めこまれる。ここで、予め右蓋溝73に流し込まれたたとえばシリコンの接着剤によって、本体右凸条57と右蓋溝73との間は塞がれる。そして、本体54および右蓋56のそれぞれの周縁に設けられた各ねじ部81をねじ(図示せず)で連結することによって、本体54に対する右蓋56の取付けが完了する。この状態において、本体右窪み58(図16参照)と右蓋窪み80とは、互いに連通する。以下では、本体54と右蓋56との間で連通状態にある本体右窪み58および右蓋窪み80をまとめてスチーム誘導路82(供給路)という。なお、説明の便宜上、スチーム誘導路82を、本体右窪み58に示している(図16参照)。また、各上噴射ノズル52は、対応する右壁穴70に挿通され、右側に露出される(図15参照)。そして、図16に示すように、上小孔59は、スチーム誘導路82の上部に連通し、右壁小孔83は、スチーム誘導路82の下部に連通している。なお、右壁小孔83に対応する下噴射ノズル53は、スチーム誘導路82の下部に形成されているといえる。また、スチーム誘導路82は、上小孔59を介して、スチーム上昇路77(図17参照)の上部に連通している。そして、各ヒータ66がスチーム誘導路82内まで膨出していることから、スチーム誘導路82は、各ヒータ66に近接して配置されているといえる。   On the other hand, the right lid 56 is attached to the main body 54 from the right side. At this time, the main body right ridge 57 (see FIG. 16) is fitted into the right lid groove 73. Here, the gap between the main body right ridge 57 and the right lid groove 73 is closed by, for example, silicon adhesive previously poured into the right lid groove 73. Then, by connecting the screw portions 81 provided on the peripheral edges of the main body 54 and the right lid 56 with screws (not shown), the attachment of the right lid 56 to the main body 54 is completed. In this state, the main body right depression 58 (see FIG. 16) and the right lid depression 80 communicate with each other. Hereinafter, the main body right depression 58 and the right lid depression 80 in communication between the main body 54 and the right lid 56 are collectively referred to as a steam guide path 82 (supply path). For convenience of explanation, the steam guide path 82 is shown in the main body right depression 58 (see FIG. 16). Each upper injection nozzle 52 is inserted through the corresponding right wall hole 70 and exposed to the right side (see FIG. 15). As shown in FIG. 16, the upper small hole 59 communicates with the upper part of the steam guide path 82, and the right wall small hole 83 communicates with the lower part of the steam guide path 82. It can be said that the lower injection nozzle 53 corresponding to the right wall small hole 83 is formed in the lower part of the steam guide path 82. Further, the steam guide path 82 communicates with the upper part of the steam ascending path 77 (see FIG. 17) through the upper small hole 59. Since each heater 66 swells into the steam guide path 82, it can be said that the steam guide path 82 is disposed in proximity to each heater 66.

以上により、図15に示すように、過熱スチーム生成ユニット51が完成する。なお、図17に示すジョイントパイプ68には、上述したパイプ50(図13参照)が取付けられる。
この状態において、上述したポンプ(図示せず)を駆動して、タンク49(図1参照)の水を、パイプ50(図13参照)を介して過熱スチーム生成ユニット51に供給する。
As described above, the superheated steam generation unit 51 is completed as shown in FIG. In addition, the pipe 50 (refer FIG. 13) mentioned above is attached to the joint pipe 68 shown in FIG.
In this state, the above-described pump (not shown) is driven to supply water in the tank 49 (see FIG. 1) to the superheated steam generation unit 51 via the pipe 50 (see FIG. 13).

過熱スチーム生成ユニット51に供給された水は、左蓋小孔67を通過してから、水滴となって落下し、水貯留部76に貯留される。この水は、水貯留部76において、下ヒータ66Lによって加熱されて(詳しくは、下ヒータ66Lに加熱された水貯留部76によって加熱されて)、スチームとなり、図示矢印に示すように、上下方向リブ65同士の間、傾斜リブ64同士の間を順に通過しながらスチーム上昇路77を上昇する。このとき、このスチームは、上下方向リブ65および傾斜リブ64から放熱される上ヒータ66Uの熱によってさらに加熱されて過熱スチームとなる。スチーム上昇路77の上部まで上昇した過熱スチームにおいて、一部は、下小孔60から上噴射ノズル52(図16参照)を流れ、上述したように、加熱室11内へ噴射される(図18参照)。   The water supplied to the superheated steam generation unit 51 passes through the left lid small hole 67, falls as water droplets, and is stored in the water storage unit 76. This water is heated by the lower heater 66L in the water reservoir 76 (specifically, heated by the water reservoir 76 heated by the lower heater 66L) and becomes steam, as shown by the arrows in the figure. The steam rising path 77 is raised while passing between the ribs 65 and between the inclined ribs 64 in order. At this time, the steam is further heated by the heat of the upper heater 66U radiated from the vertical ribs 65 and the inclined ribs 64 to become overheated steam. In the superheated steam rising to the upper part of the steam rising path 77, a part flows from the lower small hole 60 through the upper injection nozzle 52 (see FIG. 16) and is injected into the heating chamber 11 as described above (FIG. 18). reference).

一方で、スチーム上昇路77の上部まで上昇した過熱スチームにおいて、下小孔60へ流れる過熱スチーム以外の過熱スチームは、上小孔59から、図16に示すスチーム誘導路82に流入し、スチーム誘導路82によって下方(図示矢印参照)へ導かれる。ここで、スチーム誘導路82は、上述したように、ヒータ66に近接して配置されているので、スチーム誘導路82を下降する過熱スチームは、上ヒータ66Uおよび下ヒータ66Lを順に通過し、これらのヒータ66によって再加熱される。これにより、この過熱スチームの温度低下を抑制することができる。また、これらのヒータ66に到達する以前に過熱スチームが冷えてスチームや水滴になったとしても、これらのヒータ66によって加熱されるので、再び過熱スチームが生成される。そして、再加熱された過熱スチームは、右壁小孔83から下噴射ノズル53を流れ、上述したように、加熱室11内へ噴射される(図18参照)。このように、この過熱スチーム生成ユニット51では、上噴射ノズル52および下噴射ノズル53から噴出されるまで過熱スチームを維持することができる。   On the other hand, in the superheated steam that has risen to the upper part of the steam ascending path 77, the superheated steam other than the superheated steam that flows to the lower small hole 60 flows into the steam guide path 82 shown in FIG. It is guided downward (see the arrow in the figure) by the path 82. Here, as described above, since the steam guide path 82 is disposed in the vicinity of the heater 66, the overheated steam descending the steam guide path 82 sequentially passes through the upper heater 66U and the lower heater 66L. The heater 66 is reheated. Thereby, the temperature fall of this overheated steam can be suppressed. Even if the superheated steam is cooled and becomes steam or water droplets before reaching these heaters 66, they are heated by these heaters 66, so that overheated steam is generated again. Then, the reheated superheated steam flows from the right wall small hole 83 through the lower injection nozzle 53 and is injected into the heating chamber 11 as described above (see FIG. 18). As described above, the superheated steam generation unit 51 can maintain the superheated steam until it is ejected from the upper injection nozzle 52 and the lower injection nozzle 53.

また、上述したように、ヒータ66が埋設された本体54は、熱伝導性の良好な材料で形成されている。そのため、左蓋55と本体54との間に形成された水貯留部76およびスチーム上昇路77(図17参照)、ならびに、本体54と右蓋56との間に形成されるスチーム誘導路82に対して、良好にヒータ66の熱を供給することができる。
また、この電子レンジ1では、1つの過熱スチーム生成ユニット51で上噴射ノズル52および下噴射ノズル53の両方に過熱スチームを供給することにより、部品点数の削減を図ることができる。さらに、この過熱スチーム生成ユニット51では、ヒータ66が、上噴射ノズル52へ過熱スチームを供給するスチーム上昇路77(図17参照)と、下噴射ノズル53へ過熱スチームを供給するスチーム誘導路82との両方を加熱するので、構成の簡素化を図ることができる。なお、ヒータ66は、上ヒータ66Uおよび下ヒータ66Lの2本のヒータで構成されているが、これら2本のヒータをコ字状に連結することによって1本化することも可能である。その場合、2本のヒータの連結部分がスチーム誘導路82内に配置されればよい。
Further, as described above, the main body 54 in which the heater 66 is embedded is formed of a material having good thermal conductivity. Therefore, the water storage section 76 and the steam ascending path 77 (see FIG. 17) formed between the left lid 55 and the main body 54 and the steam guide path 82 formed between the main body 54 and the right lid 56 are provided. On the other hand, the heat of the heater 66 can be supplied satisfactorily.
In the microwave oven 1, the number of parts can be reduced by supplying superheated steam to both the upper injection nozzle 52 and the lower injection nozzle 53 with one superheated steam generation unit 51. Further, in the superheated steam generating unit 51, the heater 66 has a steam rising path 77 (see FIG. 17) for supplying superheated steam to the upper injection nozzle 52, and a steam guide path 82 for supplying superheated steam to the lower injection nozzle 53. Since both are heated, the structure can be simplified. The heater 66 is composed of two heaters, an upper heater 66U and a lower heater 66L. However, the two heaters can be integrated by connecting them in a U-shape. In that case, the connecting portion of the two heaters may be disposed in the steam guide path 82.

また、変形例として、図19に示す過熱スチーム生成ユニット51を用いてもよい。なお、図19において、上述した部品と共通する部品には共通の符号を付し、その説明を省略する。
変形例に係る過熱スチーム生成ユニット51では、右蓋56(図17参照)が省略され、その代わりに、略S字状に屈曲するパイプ(ガイドパイプ84という。)が設けられている。ガイドパイプ84において、直線部分は、アルミニウムや銅やステンレスなどの金属で形成され、屈曲部分は、シリコンなどで形成されている。もちろん、ガイドパイプ84は、全部が金属で形成されていてもよいし、全部がシリコンで形成されていてもよい。各ガイドパイプ84において、一端が、対応する上小孔59(図16参照)に接続され、他端には、下噴射ノズル53が接続されている。そして、各ガイドパイプ84は、上ヒータ66Uおよび下ヒータ66Lに対して、右側から接触するように、本体54に取付けられている。そのため、上述したようにスチーム上昇路77(図17参照)から上小孔59(図16参照)に到達した過熱スチームは、ガイドパイプ84を流れ、上記した実施例と同様に、上ヒータ66Uおよび下ヒータ66Lによって再加熱される。
As a modification, an overheated steam generation unit 51 shown in FIG. 19 may be used. In FIG. 19, parts that are the same as the parts described above are given the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted.
In the overheated steam generation unit 51 according to the modification, the right lid 56 (see FIG. 17) is omitted, and instead, a pipe (referred to as a guide pipe 84) that is bent in a substantially S shape is provided. In the guide pipe 84, the straight portion is formed of a metal such as aluminum, copper, or stainless steel, and the bent portion is formed of silicon or the like. Of course, the guide pipe 84 may be entirely made of metal or may be entirely made of silicon. In each guide pipe 84, one end is connected to the corresponding upper small hole 59 (see FIG. 16), and the lower injection nozzle 53 is connected to the other end. Each guide pipe 84 is attached to the main body 54 so as to come into contact with the upper heater 66U and the lower heater 66L from the right side. Therefore, as described above, the superheated steam that has reached the upper small hole 59 (see FIG. 16) from the steam ascending passage 77 (see FIG. 17) flows through the guide pipe 84, and similarly to the above-described embodiment, the upper heater 66U and Reheated by the lower heater 66L.

この発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。   The present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications can be made within the scope of the claims.

この発明の一実施形態に係る食品調理装置としての電子レンジ1の正面右側斜視図である。It is a front right perspective view of microwave oven 1 as a food cooking device concerning one embodiment of this invention. 図1において、扉2を開いた状態を示す。In FIG. 1, the state which opened the door 2 is shown. 電子レンジ1の底面図である。2 is a bottom view of the microwave oven 1. FIG. 扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の正面上側斜視図である。It is a front upper side perspective view of the casing 4 in the state which removed the door 2 and the decorative board 3 (outer cover board). 加熱室11の底である凹部16の平面図であって、回転アンテナ20A、20Bの配置および形状を示す図である。It is a top view of the recessed part 16 which is the bottom of the heating chamber 11, Comprising: It is a figure which shows arrangement | positioning and shape of rotating antenna 20A, 20B. 図6(a)は、拡散モード、図6(b)は、集中モードにおけるマイクロ波放射のイメージ図である。FIG. 6A is an image view of microwave radiation in the diffusion mode, and FIG. 6B is an image view of microwave radiation in the concentrated mode. 調理状況検知手段としての赤外線センサ30の揺動に伴って視野32が加熱室11内で移動する様子を説明するための模式図であって、図7(a)は、本実施例を適用した場合を示し、図7(b)は、比較例を適用した場合を示す。It is a schematic diagram for demonstrating a mode that the visual field 32 moves in the heating chamber 11 with the rocking | fluctuation of the infrared sensor 30 as a cooking condition detection means, Comprising: Fig.7 (a) applied the present Example. FIG. 7B shows a case where a comparative example is applied. 扉2を取り除いた状態にあるケーシング4の正面図である。It is a front view of casing 4 in the state where door 2 was removed. 後ヒータ23を一部抜き出して示した図である。It is the figure which extracted and showed the back heater 23 partially. 加熱循環室74内を示す試作品の写真である。It is a photograph of a prototype showing the inside of the heating circulation chamber 74. 扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の右側断面図である。It is right side sectional drawing of the casing 4 in the state which removed the door 2 and the decorative board 3 (outer cover board). 図12(a)は、電子レンジ1の予熱工程に係る電気的構成を示すブロック図であり、図12(b)は、予熱工程を説明するためのフローチャートである。FIG. 12A is a block diagram showing an electrical configuration related to the preheating process of the microwave oven 1, and FIG. 12B is a flowchart for explaining the preheating process. 扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の正面左側斜視図である。It is a front left perspective view of the casing 4 in the state which removed the door 2 and the decorative board 3 (outer cover board). 扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の正面右側斜視図である。It is a front right perspective view of casing 4 in the state where door 2 and decorative board 3 (outer cover board) were removed. 過熱スチーム生成ユニット51の正面右側斜視図である。It is a front right perspective view of the superheated steam generation unit 51. 図15に示す過熱スチーム生成ユニット51の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the superheated steam production | generation unit 51 shown in FIG. 正面左側から見た過熱スチーム生成ユニット51の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the superheated steam production | generation unit 51 seen from the front left side. 図8に角皿25および金網7を追加した図である。It is the figure which added the square plate 25 and the metal-mesh 7 to FIG. 変形例に係る過熱スチーム生成ユニット51の右側面図である。It is a right view of the superheated steam production | generation unit 51 which concerns on a modification.

符号の説明Explanation of symbols

1 電子レンジ
2 扉
6 底板
11 加熱室
13 マグネトロン
14 導波管
15 アンテナ部
18 分路
20 回転アンテナ
21 回転軸
28 突起
30 赤外線センサ
32 視野
87 揺動機構
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Microwave oven 2 Door 6 Bottom plate 11 Heating chamber 13 Magnetron 14 Waveguide 15 Antenna part 18 Shunt 20 Rotating antenna 21 Rotating shaft 28 Protrusion 30 Infrared sensor 32 Field of view 87 Oscillation mechanism

Claims (7)

前面が扉で開閉され、被調理食品を収容するための加熱室と、
前記加熱室の左右方向中央部に対して対称な位置に設けられ、前記加熱室内へマイクロ波を放射するための一対のマイクロ波放射手段と、
前記加熱室へ収容された被調理食品を上方から臨む位置であって、かつ、前記一対のマイクロ波放射手段の対称中心に設けられた調理状況検知手段と、
を含むことを特徴とする電子レンジ。
The front is opened and closed with a door, and a heating chamber for storing cooked food,
A pair of microwave radiating means provided at symmetrical positions with respect to the central portion in the left-right direction of the heating chamber, and for radiating microwaves into the heating chamber;
A cooking state detection means provided at a position facing the food to be cooked stored in the heating chamber from above, and provided at the center of symmetry of the pair of microwave radiation means,
Including a microwave oven.
前記一対のマイクロ波放射手段は、前記加熱室の底面沿いに左右に設けられていることを特徴とする、請求項1記載の電子レンジ。   2. The microwave oven according to claim 1, wherein the pair of microwave radiating means are provided on the left and right along the bottom surface of the heating chamber. 前記一対のマイクロ波放射手段は、それぞれ、回転軸を中心に回転する回転式マイクロ波放射アンテナを含むことを特徴とする、請求項1または2記載の電子レンジ。   3. The microwave oven according to claim 1, wherein each of the pair of microwave radiating means includes a rotary microwave radiating antenna that rotates about a rotation axis. 前記調理状況検知手段は、前記加熱室の左右方向中央部の背面上方から底面を臨むように設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の電子レンジ。   The microwave oven according to any one of claims 1 to 3, wherein the cooking status detection means is provided so as to face the bottom surface from above the back of the central portion in the left-right direction of the heating chamber. 前記調理状況検知手段は、前記加熱室の底面ほぼ全面を検知する視野を有することを特徴とする、請求項4記載の電子レンジ。   5. The microwave oven according to claim 4, wherein the cooking status detection means has a visual field for detecting substantially the entire bottom surface of the heating chamber. 前記調理状況検知手段は、前記加熱室底面の左右方向中央部を前端から後端まで検知するための複数の視野を有し、
前記複数の視野が底面上を左右に移動するように、前記調理状況検知手段を揺動させる揺動機構が備えられていることを特徴とする、請求項5記載の電子レンジ。
The cooking status detection means has a plurality of fields of view for detecting the center in the left-right direction of the bottom surface of the heating chamber from the front end to the rear end,
6. The microwave oven according to claim 5, further comprising a swinging mechanism that swings the cooking condition detecting means so that the plurality of fields of view move left and right on the bottom surface.
前記加熱室の近傍に設けられたマグネトロンと、
前記マグネトロンから放射されるマイクロ波を2つの分路へ誘導するための分岐導波管とを有し、
2つの前記分路に、それぞれ、前記マイクロ波放射手段が設けられており、
前記分岐導波管の分岐位置には、前記分岐導波管内へ膨出する半球状の突起が形成されていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の電子レンジ。
A magnetron provided in the vicinity of the heating chamber;
A branch waveguide for guiding the microwave radiated from the magnetron into two shunts,
Each of the two shunts is provided with the microwave radiation means,
The microwave oven according to any one of claims 1 to 6, wherein a hemispherical protrusion that bulges into the branch waveguide is formed at a branch position of the branch waveguide.
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