JP2009016739A - Organic light emitting device and its manufacturing method - Google Patents

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健一 怒
Koichi Nakada
浩一 中田
Koichi Suzuki
幸一 鈴木
Kazunori Ueno
和則 上野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic light emitting device which has an optical output of high efficiency, high brightness and high lifetime and has a stable light emitting surface without any film defects when a film is formed. <P>SOLUTION: The organic light emitting element consists of organic layers sandwiched between a positive electrode and a negative electrode, wherein at least one layer among the organic layers is formed by acrylic thin film containing at least one kind of acrylic compound or an acrylic cured film obtained by curing the acrylic thin film. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機発光素子及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic light emitting device and a method for manufacturing the same.

有機発光素子の製造プロセスは、乾式法と湿式法とに分類される。ここで乾式法とは、製膜工程に際して主に低分子系材料を使用し、真空蒸着法等の気相プロセスを用いて薄膜形成を行う方法である。これに対し湿式法とは、製膜工程に際して主に高分子系材料を使用し、スピン塗布法、インクジェット塗布法、ディスペンサー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法等の方法を用い薄膜形成を行う方法である。   The manufacturing process of the organic light emitting device is classified into a dry method and a wet method. Here, the dry method is a method of forming a thin film using a gas phase process such as a vacuum vapor deposition method mainly using a low molecular weight material in the film forming process. On the other hand, the wet method mainly uses a polymer material in the film forming process, and forms a thin film using a spin coating method, an ink jet coating method, a dispenser coating method, a spray coating method, a dip coating method, or the like. Is the method.

真空蒸着法等の乾式法は生産装置がバッチ式であり、素子作製において、素子の発光のために必要の無い部分にも材料の膜が形成され必要量よりはるかに多い材料を無駄に消費してしまうため、生産性に課題のある方法である。   In dry methods such as vacuum evaporation, the production equipment is batch-type, and in device fabrication, material films are also formed on parts that are not necessary for light emission of the device, and much more material is wasted than necessary. Therefore, this method has a problem in productivity.

一方、湿式法による製造は、素子の発光のために必要の無い部分に材料の膜が形成されることが少ない上、連続式処理による生産が可能である。例えば、インクジェット塗布法、ディスペンサー塗布法のような液滴吐出法による塗布を選択することができる。これらの方法では、塗布するときに、素子の発光のために必要とする部分のみに材料を塗り分けるパターンニングを同時に行うことができるので、素子の生産性を大幅に改善することができる。   On the other hand, manufacturing by a wet method is less likely to form a film of material in a portion that is not necessary for light emission of the device, and production by continuous processing is possible. For example, application by a droplet discharge method such as an inkjet application method or a dispenser application method can be selected. In these methods, when applying, patterning can be simultaneously performed in which a material is applied only to a portion necessary for light emission of the element, so that the productivity of the element can be greatly improved.

故に、昨今、有機発光素子の電荷注入層、電荷輸送層、発光層等の有機層を生産性のよい、湿式法で製膜することが要求されている。   Therefore, recently, organic layers such as a charge injection layer, a charge transport layer, and a light emitting layer of an organic light emitting element are required to be formed by a wet method with good productivity.

塗布系の正孔注入材料としては、電荷注入性を改善するためにポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸の混合物の薄膜を用いることが知られている。ただし、これらの注入材料を用いた素子は初期特性に優れるが、長時間使用した場合の輝度劣化が著しいことが問題である。   As a coating-type hole injection material, it is known to use a thin film of a mixture of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid in order to improve charge injection properties. However, devices using these injection materials are excellent in initial characteristics, but there is a problem that luminance deterioration is significant when used for a long time.

現状では、湿式法に使用可能な電荷注入材料、電荷輸送材料は限られており、また、現在使用可能な材料を使用したとしても発光効率等の初期特性や長時間の発光による輝度劣化等の耐久特性が十分でないという問題があった。   At present, there are only a limited number of charge injection materials and charge transport materials that can be used in the wet method, and even if materials that can be used at present are used, initial characteristics such as light emission efficiency and luminance deterioration due to long-time light emission, etc. There was a problem that durability characteristics were not sufficient.

ところで湿式法で使用可能な重合性官能基を有する電荷輸送性材料が提案されており、先行技術として、特許文献1乃至3が知られている。ただし、これらの材料を用いても十分な特性を得るに至っていない。   Incidentally, a charge transporting material having a polymerizable functional group that can be used in a wet method has been proposed, and Patent Documents 1 to 3 are known as prior arts. However, even if these materials are used, sufficient characteristics have not been obtained.

他方で、電荷輸送性構造を有するアクリル化合物又はその硬化物も提案されており、これらを有機発光素子へ用いた先行技術として、特許文献4乃至6が知られている。これらの先行文献ではアクリル化合物を硬化する方法として、紫外線の照射に加えて、架橋剤の添加、重合開始剤の添加、加熱等を組み合わせた例が示されている。しかし、開始剤等を用いずに加熱のみで硬化した例は述べられていない。   On the other hand, an acrylic compound having a charge transporting structure or a cured product thereof has also been proposed, and Patent Documents 4 to 6 are known as prior arts using these for organic light emitting devices. In these prior literatures, examples of a method for curing an acrylic compound include a combination of addition of a crosslinking agent, addition of a polymerization initiator, heating and the like in addition to ultraviolet irradiation. However, there is no description of an example of curing by heating alone without using an initiator or the like.

特開2001−297882号公報JP 2001-297882 A 特開2002−212150号公報JP 2002-212150 A 特開2004−199935号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-199935 特開2000−268974号公報JP 2000-268974 A 特開2005−340043号公報JP 2005-340043 A 特開2006−66574号公報JP 2006-66574 A

本発明の目的は、高効率かつ高輝度で、極めて高寿命の光出力を有し、製膜時の膜欠陥の発生が非常に少なく、安定した発光面を有する有機発光素子を提供することである。また、本発明の他の目的は、製造が容易でかつ比較的安価な塗布法で作製可能な有機発光素子を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an organic light emitting device having a stable light emitting surface with high efficiency, high brightness, extremely long life light output, very few film defects during film formation. is there. Another object of the present invention is to provide an organic light emitting device that is easy to manufacture and can be manufactured by a relatively inexpensive coating method.

本発明の有機発光素子は、陽極と陰極と、該陽極と該陰極と間に挟持される有機化合物からなる層と、から構成され、該有機化合物からなる層のうち少なくとも一層が、下記一般式(1)あるいは(2)で示されるアクリル化合物を少なくとも一種類含むアクリル薄膜又は該アクリル薄膜を硬化したアクリル硬化膜で形成されることを特徴とする。   The organic light-emitting device of the present invention comprises an anode, a cathode, and a layer made of an organic compound sandwiched between the anode and the cathode, and at least one of the layers made of the organic compound has the following general formula It is characterized by being formed of an acrylic thin film containing at least one kind of acrylic compound represented by (1) or (2) or an acrylic cured film obtained by curing the acrylic thin film.

Figure 2009016739
Figure 2009016739

(式(1)において、A11及びA12は、それぞれ炭素数2乃至8の2価の炭化水素基を表す。R11及びR12は、それぞれ水素原子又はメチル基を表す。Ar11及びAr13は、それぞれ置換もしくは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナントレン、置換もしくは無置換のジヒドロフェナントレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン及び置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる1価の置換基を表す。Ar12は、置換もしくは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナントレン、置換もしくは無置換のジヒドロフェナントレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のベンゾアントラセン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン及び置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる2価の置換基を示す。) (In the formula (1), A 11 and A 12 each represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms. R 11 and R 12 each represent a hydrogen atom or a methyl group. Ar 11 and Ar 13 is substituted or unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, substituted or unsubstituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, substituted or unsubstituted dihydrophenanthrene, substituted or .Ar 12 representing the unsubstituted pyrene, a substituted or unsubstituted perylene, a substituted or unsubstituted carbazole, a monovalent substituent selected from a substituted or unsubstituted dibenzofuran, and substituted or unsubstituted dibenzothiophene, substituted or Unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, substituted Is substituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, substituted or unsubstituted dihydrophenanthrene, substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted perylene, substituted or unsubstituted benzoanthracene And a divalent substituent selected from substituted or unsubstituted carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran, and substituted or unsubstituted dibenzothiophene.

Figure 2009016739
Figure 2009016739

(式(2)において、A21及びA22は、それぞれ炭素数2乃至8の2価の炭化水素基を表す。R21及びR22は、それぞれ水素原子又はメチル基を表す。Ar21及びAr24は、それぞれ置換あるいは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナンスレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン、置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる1価の置換基を表す。Ar22及びAr23は、それぞれ置換あるいは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナンスレン、置換もしくは無置換のジヒドロフェナントレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のベンゾアントラセン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン、置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる2価の置換基を表す。Z21は、置換あるいは無置換の芳香族炭化水素基又は置換あるいは無置換の芳香族複素環基を表す。nは1乃至4の整数を表す。) (In the formula (2), A 21 and A 22 each represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms. R 21 and R 22 each represent a hydrogen atom or a methyl group. Ar 21 and Ar 24 is substituted or unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, substituted or unsubstituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted A monovalent substituent selected from substituted perylene, substituted or unsubstituted carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran, substituted or unsubstituted dibenzothiophene, Ar 22 and Ar 23 are substituted or unsubstituted biphenyl, respectively. Substituted or unsubstituted fluorene, substituted or unsubstituted fluoranthene, Substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, substituted or unsubstituted dihydrophenanthrene, substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted perylene, substituted or unsubstituted benzoanthracene, substituted or unsubstituted Z 21 represents a divalent substituent selected from carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran, substituted or unsubstituted dibenzothiophene, and Z 21 represents a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted aromatic complex. Represents a cyclic group, and n represents an integer of 1 to 4.)

本発明によれば、高効率かつ高輝度で、極めて高寿命の光出力を有し、製膜時の膜欠陥の発生が非常に少なく、安定した発光面を有する有機発光素子を提供することができる。また、本発明によれば、製造が容易でかつ比較的安価な塗布法で作製可能な有機発光素子を提供することができる。本発明の有機発光素子は、特に、湿式法で電荷注入層、電荷輸送層を製膜すると、生産性が向上する。   According to the present invention, it is possible to provide an organic light emitting device having a stable light emitting surface, having a light output with high efficiency, high brightness, extremely long life, very few film defects during film formation. it can. In addition, according to the present invention, it is possible to provide an organic light emitting device that can be easily manufactured and can be manufactured by a relatively inexpensive coating method. The productivity of the organic light-emitting device of the present invention is improved particularly when the charge injection layer and the charge transport layer are formed by a wet method.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の有機発光素子は、陽極と陰極と、該陽極と該陰極と間に挟持される有機化合物からなる層と、から構成される。   The organic light emitting device of the present invention includes an anode, a cathode, and a layer made of an organic compound sandwiched between the anode and the cathode.

以下、図面を参照しながら本発明の有機発光素子を説明する。   Hereinafter, the organic light-emitting device of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の有機発光素子における第一の実施形態を示す断面図である。図1の有機発光素子10は、基板1上に陽極2、発光層3及び陰極4が順次設けられている。図1の有機発光素子10は、発光層3が、正孔輸送能、電子輸送能及び発光性の性能を全て有している有機化合物で構成されている場合に有用である。また、正孔輸送能、電子輸送能及び発光性の性能のいずれかの特性を有する有機化合物を混合して構成される場合にも有用である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of the organic light-emitting device of the present invention. In the organic light emitting device 10 of FIG. 1, an anode 2, a light emitting layer 3, and a cathode 4 are sequentially provided on a substrate 1. The organic light emitting device 10 of FIG. 1 is useful when the light emitting layer 3 is composed of an organic compound having all of hole transport ability, electron transport ability, and light emitting performance. Further, it is also useful when an organic compound having any one of the characteristics of hole transport ability, electron transport ability and light emitting performance is mixed.

図2は、本発明の有機発光素子における第二の実施形態を示す断面図である。図2の有機発光素子20は、基板1上に陽極2、正孔輸送層5、電子輸送層6及び陰極4が順次設けられている。この有機発光素子20は、正孔輸送性及び電子輸送性のいずれかを備える発光性の有機化合物と電子輸送性のみ又は正孔輸送性のみを備える有機化合物とを組み合わせて使用する場合に有用である。また、有機発光素子20は、正孔輸送層5又は電子輸送層6が発光層を兼ねている。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the organic light emitting device of the present invention. In the organic light emitting device 20 of FIG. 2, an anode 2, a hole transport layer 5, an electron transport layer 6 and a cathode 4 are sequentially provided on a substrate 1. This organic light emitting device 20 is useful when a light emitting organic compound having either a hole transporting property or an electron transporting property and an organic compound having only an electron transporting property or only a hole transporting property are used in combination. is there. In the organic light emitting device 20, the hole transport layer 5 or the electron transport layer 6 also serves as a light emitting layer.

図3は、本発明の有機発光素子における第三の実施形態を示す断面図である。図3の有機発光素子30は、図2の有機発光素子20において、正孔輸送層5と電子輸送層6との間に発光層3を設けたものである。この有機発光素子30は、キャリア輸送の機能と発光の機能とを分離したものであり、正孔輸送性、電子輸送性、発光性の各特性を有した化合物を適宜組み合わせて使用することができる。このため、材料選択の自由度が増すとともに、発光波長を異にする種々の化合物を使用することができるので、発光色相の多様化が可能になる。さらに、中央の発光層3に各キャリアあるいは励起子を有効に閉じこめて有機発光素子30の発光効率の向上を図ることも可能になる。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing a third embodiment of the organic light-emitting device of the present invention. An organic light emitting device 30 in FIG. 3 is obtained by providing the light emitting layer 3 between the hole transport layer 5 and the electron transport layer 6 in the organic light emitting device 20 in FIG. The organic light emitting device 30 is a device in which the function of transporting carriers and the function of emitting light are separated, and compounds having hole transporting properties, electron transporting properties, and light emitting properties can be used in appropriate combinations. . For this reason, the degree of freedom of material selection is increased, and various compounds having different emission wavelengths can be used, so that the emission hue can be diversified. Furthermore, it is possible to effectively confine each carrier or exciton in the central light emitting layer 3 to improve the light emission efficiency of the organic light emitting device 30.

図4は、本発明の有機発光素子における第四の実施形態を示す断面図である。図4の有機発光素子は、図3の有機発光素子30において、陽極2と正孔輸送層5との間に正孔注入層7を設けたものである。この有機発光素子40は、正孔注入層7を設けることにより、陽極2と正孔輸送層5の密着性又は正孔注入性が改善されるので、低電圧化に効果的である。また、正孔注入層7の代わりにバッファー層を設けてもよいが、その機能は正孔注入層と同じである。   FIG. 4 is a cross-sectional view showing a fourth embodiment of the organic light emitting device of the present invention. The organic light emitting device of FIG. 4 is obtained by providing a hole injection layer 7 between the anode 2 and the hole transport layer 5 in the organic light emitting device 30 of FIG. The organic light emitting device 40 is effective in lowering the voltage because the hole injection layer 7 is provided to improve the adhesion between the anode 2 and the hole transport layer 5 or the hole injection property. Further, a buffer layer may be provided in place of the hole injection layer 7, but the function is the same as that of the hole injection layer.

図5は、本発明の有機発光素子における第五の実施形態を示す断面図である。図5の有機発光素子50は、図3の有機発光素子30において、発光層3と電子輸送層6との間に正孔/エキシトンブロッキング層8を設けたものである。正孔/エキシトンブロッキング層8を設けることにより、正孔又は励起子が発光層3から陰極4側に抜けることが抑制されるので、発光効率を向上させるのに効果的な構成といえる。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing a fifth embodiment of the organic light-emitting device of the present invention. An organic light emitting device 50 in FIG. 5 is obtained by providing a hole / exciton blocking layer 8 between the light emitting layer 3 and the electron transport layer 6 in the organic light emitting device 30 in FIG. By providing the hole / exciton blocking layer 8, it is possible to prevent holes or excitons from being released from the light emitting layer 3 to the cathode 4 side, which is an effective configuration for improving the light emission efficiency.

図6は、本発明の有機発光素子における第六の実施形態を示す断面図である。図6の有機発光素子60は、図4の有機発光素子40において、電子輸送層6と陰極4との間に電子注入層9が設けられたものである。図6の有機発光素子60は、電子注入層9を設けているので素子の低電圧化に効果的である。   FIG. 6 is a cross-sectional view showing a sixth embodiment of the organic light emitting device of the present invention. The organic light emitting device 60 of FIG. 6 is obtained by providing an electron injection layer 9 between the electron transport layer 6 and the cathode 4 in the organic light emitting device 40 of FIG. The organic light emitting device 60 of FIG. 6 is effective in lowering the voltage of the device because the electron injection layer 9 is provided.

図7は、本発明の有機発光素子における第七の実施形態を示す断面図である。図7の有機発光素子70は、基板1上に陽極2、正孔注入層7、発光層3、電子注入層8及び陰極4が順次設けられている。   FIG. 7 is a cross-sectional view showing a seventh embodiment of the organic light-emitting device of the present invention. In the organic light emitting device 70 of FIG. 7, an anode 2, a hole injection layer 7, a light emitting layer 3, an electron injection layer 8, and a cathode 4 are sequentially provided on a substrate 1.

ただし、図1乃至図7はあくまでごく基本的な素子構成であり、本発明の有機発光素子はこれらに限定されるものではない。例えば、電極と有機層界面に絶縁性層、接着層又は干渉層を設ける、正孔注入層又は正孔輸送層がイオン化ポテンシャルの異なる2層から構成される、等多様な層構成を採用することができる。   However, FIG. 1 to FIG. 7 are very basic device configurations, and the organic light-emitting device of the present invention is not limited to these. For example, various layer configurations such as providing an insulating layer, an adhesive layer or an interference layer at the interface between the electrode and the organic layer, and a hole injection layer or a hole transport layer including two layers having different ionization potentials should be adopted. Can do.

本発明の有機発光素子は、有機化合物からなる層のうち少なくとも一層が、アクリル化合物を少なくとも一種類含むアクリル薄膜又は該アクリル薄膜を硬化したアクリル硬化膜で形成されることを特徴とする。ここでアクリル化合物の例として、下記一般式(1)で示される化合物が挙げられる。   The organic light-emitting device of the present invention is characterized in that at least one of the layers made of an organic compound is formed of an acrylic thin film containing at least one kind of acrylic compound or a cured acrylic film obtained by curing the acrylic thin film. Here, examples of the acrylic compound include a compound represented by the following general formula (1).

Figure 2009016739
Figure 2009016739

式(1)において、A11及びA12は、それぞれ炭素数2乃至8の2価の炭化水素基を表す。 In the formula (1), A 11 and A 12 each represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms.

11及びA12で表される炭素数2以上8以下の2価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、オクチレン基等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms represented by A 11 and A 12 include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, and an octylene group.

上記の2価の炭化水素基は、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等の分枝を有していてもよい。また、上記の2価の炭化水素基は、エーテル結合を1ヶ所含んでいてもよい。   The divalent hydrocarbon group may have a branch such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Further, the above divalent hydrocarbon group may contain one ether bond.

式(1)において、R11及びR12は、それぞれ水素原子又はメチル基を表す。 In the formula (1), R 11 and R 12 each represent a hydrogen atom or a methyl group.

式(1)において、Ar11及びAr13は、それぞれ置換もしくは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナントレン、置換もしくは無置換のジヒドロフェナントレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン及び置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる1価の置換基を表す。 In the formula (1), Ar 11 and Ar 13 are each a substituted or unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, a substituted or unsubstituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenyl naphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, Monovalent substitution selected from substituted or unsubstituted dihydrophenanthrene, substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted perylene, substituted or unsubstituted carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran and substituted or unsubstituted dibenzothiophene Represents a group.

上記のAr11及びAr13で表される1価の置換基が有してもよい置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、トリフルオロメチル基等のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基、フルオレニル基等の芳香族炭化水素環基、カルバゾリル基、ジベンゾフリル基、ジベンゾチオフェニル基、チエニル基等の芳香族複素環基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。 Examples of the substituent that the monovalent substituent represented by Ar 11 or Ar 13 may have include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a tert-butyl group, and a trifluoromethyl group. Group, benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group and other aralkyl groups, phenyl group, naphthyl group, anthryl group, pyrenyl group, fluorenyl group and other aromatic hydrocarbon ring groups, carbazolyl group, dibenzofuryl group, dibenzothiophenyl group , Aromatic heterocyclic groups such as thienyl groups, alkoxy groups such as methoxy groups, ethoxy groups and propoxy groups, aryloxy groups such as phenoxy groups and naphthoxy groups, halogen atoms such as fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms and iodine atoms , A nitro group, a cyano group, and the like.

式(1)において、Ar12は、置換もしくは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナントレン、置換もしくは無置換のジヒドロフェナントレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のベンゾアントラセン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン及び置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる2価の置換基を示す。 In the formula (1), Ar 12 is substituted or unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, substituted or unsubstituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, substituted or unsubstituted Selected from dihydrophenanthrene, substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted perylene, substituted or unsubstituted benzoanthracene, substituted or unsubstituted carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran and substituted or unsubstituted dibenzothiophene A divalent substituent is shown.

上記のAr12で表される2価の置換基が有してもよい置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、トリフルオロメチル基等のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基、フルオレニル基等の芳香族炭化水素環基、カルバゾリル基、ジベンゾフリル基、ジベンゾチオフェニル基、チエニル基等の芳香族複素環基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。 As the substituent that the divalent substituent represented by Ar 12 may have, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a tert-butyl group, or a trifluoromethyl group, benzyl Group, aralkyl group such as phenethyl group, naphthylmethyl group, aromatic hydrocarbon ring group such as phenyl group, naphthyl group, anthryl group, pyrenyl group, fluorenyl group, carbazolyl group, dibenzofuryl group, dibenzothiophenyl group, thienyl group Aromatic heterocyclic groups such as, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group and naphthoxy group, halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, nitro group And a cyano group.

また、上記アクリル化合物の他の例として、下記一般式(2)で示される化合物が挙げられる。   Another example of the acrylic compound is a compound represented by the following general formula (2).

Figure 2009016739
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式(2)において、A21及びA22は、それぞれ炭素数2乃至8の2価の炭化水素基を表す。 In the formula (2), A 21 and A 22 each represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms.

21及びA22で表される炭素数2以上8以下の2価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms represented by A 21 and A 22 include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, and a pentylene group.

上記の2価の炭化水素基は、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等の分枝を有していてもよい。また、上記の2価の炭化水素基は、エーテル結合を1ヶ所含んでいてもよい。   The divalent hydrocarbon group may have a branch such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Further, the above divalent hydrocarbon group may contain one ether bond.

式(2)において、R21及びR22は、それぞれ水素原子又はメチル基を表す。 In the formula (2), R 21 and R 22 each represent a hydrogen atom or a methyl group.

式(2)において、Ar21及びAr24は、それぞれ置換あるいは無置換のビフェニル、置換あるいは無置換のフルオレン、置換あるいは無置換のフルオランテン、置換あるいは無置換のフェニルナフタレン、置換あるいは無置換のフェナンスレン、置換あるいは無置換のピレン、置換あるいは無置換のペリレン、置換あるいは無置換のカルバゾール、置換あるいは無置換のジベンゾフラン、置換あるいは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる1価の置換基を表す。 In the formula (2), Ar 21 and Ar 24 are each substituted or unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, substituted or unsubstituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, This represents a monovalent substituent selected from substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted perylene, substituted or unsubstituted carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran, substituted or unsubstituted dibenzothiophene.

上記のAr21及びAr24で表される1価の置換基が有してもよい置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基等のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基、フルオレニル基等の芳香族炭化水素環基、カルバゾリル基、ジベンゾフリル基、ジベンゾチオフェニル基、チエニル基等の芳香族複素環基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。 Examples of the substituent that the monovalent substituent represented by Ar 21 and Ar 24 may have include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and an octyl group, and a benzyl group. , Aralkyl groups such as phenethyl group and naphthylmethyl group, aromatic hydrocarbon ring groups such as phenyl group, naphthyl group, anthryl group, pyrenyl group, fluorenyl group, carbazolyl group, dibenzofuryl group, dibenzothiophenyl group, thienyl group, etc. Aromatic heterocyclic group, alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, aryloxy group such as phenoxy group, naphthoxy group, halogen atom such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, nitro group, A cyano group etc. are mentioned.

式(2)において、Ar22及びAr23は、それぞれ置換あるいは無置換のビフェニル、置換あるいは無置換のフルオレン、置換あるいは無置換のフルオランテン、置換あるいは無置換のフェニルナフタレン、置換あるいは無置換のフェナンスレン、置換あるいは無置換のジヒドロフェナントレン、置換あるいは無置換のピレン、置換あるいは無置換のペリレン、置換あるいは無置換のベンゾアントラセン、置換あるいは無置換のカルバゾール、置換あるいは無置換のジベンゾフラン、置換あるいは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる2価の置換基を表す。 In the formula (2), Ar 22 and Ar 23 are each substituted or unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, substituted or unsubstituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, Substituted or unsubstituted dihydrophenanthrene, substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted perylene, substituted or unsubstituted benzoanthracene, substituted or unsubstituted carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran, substituted or unsubstituted dibenzo Represents a divalent substituent selected from thiophene.

上記のAr22及びAr23で表される2価の置換基ビフェニル、フルオレン及びカルバゾールが有してもよい置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基等のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基、フルオレニル基等の芳香族炭化水素環基、カルバゾリル基、ジベンゾフリル基、ジベンゾチオフェニル基、チエニル基等の芳香族複素環基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。 Examples of the substituent that the divalent substituents biphenyl, fluorene, and carbazole represented by Ar 22 and Ar 23 may have include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and an octyl group. Aralkyl groups such as alkyl group, benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group, aromatic hydrocarbon ring groups such as phenyl group, naphthyl group, anthryl group, pyrenyl group, fluorenyl group, carbazolyl group, dibenzofuryl group, dibenzothiophenyl Group, aromatic heterocyclic group such as thienyl group, alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group, aryloxy group such as phenoxy group and naphthoxy group, halogen such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom An atom, a nitro group, a cyano group, etc. are mentioned.

式(2)において、Z21は、置換あるいは無置換の芳香族炭化水素基又は置換あるいは無置換の芳香族複素環基を表す。 In the formula (2), Z 21 represents a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group.

21で表される芳香族炭化水素環基として、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基、フルオレニル基等が挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon ring group represented by Z 21 include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a pyrenyl group, and a fluorenyl group.

21で表される芳香族複素環基として、ピリジル基、チエニル基、フリル基、キノリル基等が挙げられる。 Examples of the aromatic heterocyclic group represented by Z 21 include a pyridyl group, a thienyl group, a furyl group, and a quinolyl group.

上記芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基が有してもよい置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基及びナフチルメチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基、フルオレニル基等の芳香族炭化水素環基、カルバゾリル基、ジベンゾフリル基及びジベンゾチオフェニル基等の芳香族複素環基、メトキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基及びナフトキシ基等のアリールオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。   Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon ring group and aromatic heterocyclic group may have include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group, benzyl group, phenethyl group and naphthylmethyl group. Aromatic hydrocarbon ring groups such as aralkyl group, phenyl group, naphthyl group, anthryl group, pyrenyl group, fluorenyl group, aromatic heterocyclic groups such as carbazolyl group, dibenzofuryl group and dibenzothiophenyl group, methoxy group, ethoxy group And alkoxy groups such as propoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group and naphthoxy group, halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, nitro group, cyano group and the like.

式(2)において、nは1乃至4の整数を表す。   In the formula (2), n represents an integer of 1 to 4.

式(1)又は式(2)で表されるアクリル化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the acrylic compound represented by formula (1) or formula (2) are shown below. However, the present invention is not limited to these.

Figure 2009016739
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有機化合物からなる層のうち少なくとも1つの層は、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物より形成されるアクリル薄膜、又はこのアクリル薄膜を硬化して形成されるアクリル硬化膜で形成されるものである。ここで有機化合物からなる層とは、図1乃至図7の有機発光素子においては、発光層3、正孔輸送層5、電子輸送層6、正孔注入層7、正孔/エキシトンブロッキング層8及び電子注入層9が該当する。   At least one of the organic compound layers is formed of an acrylic thin film formed from the acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2), or an acrylic cured film formed by curing the acrylic thin film. It is what is done. In the organic light emitting device shown in FIGS. 1 to 7, the layer made of an organic compound is a light emitting layer 3, a hole transport layer 5, an electron transport layer 6, a hole injection layer 7, a hole / exciton blocking layer 8 or the like. And the electron injection layer 9 corresponds.

一方、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物は、電荷輸送性機能を有するトリアリールアミン骨格を有している。このため、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物より形成されるアクリル薄膜又はアクリル硬化膜は、好ましくは、電荷注入層又は電荷輸送層を形成する。より好ましくは、正孔注入層7を形成する。   On the other hand, the acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2) has a triarylamine skeleton having a charge transporting function. For this reason, the acrylic thin film or acrylic cured film formed from the acrylic compound represented by formula (1) or formula (2) preferably forms a charge injection layer or a charge transport layer. More preferably, the hole injection layer 7 is formed.

本発明の有機発光素子は、公知な正孔輸送性化合物、発光性化合物あるいは電子輸送性化合物等と一緒に使用することもできる。   The organic light emitting device of the present invention can be used together with a known hole transporting compound, light emitting compound, electron transporting compound or the like.

以下にこれらの公知な化合物例を挙げる。   Examples of these known compounds are given below.

Figure 2009016739
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ここで、式(1)又は(2)で示されるアクリル化合物を、発光層のゲストとして使用する場合、アクリル化合物の含有量は、発光層の全重量を基準として、好ましくは、0.1重量%以上50重量%以下である。より好ましくは、0.5重量%以上30重量%以下である。   Here, when the acrylic compound represented by the formula (1) or (2) is used as a guest of the light emitting layer, the content of the acrylic compound is preferably 0.1 weight based on the total weight of the light emitting layer. % To 50% by weight. More preferably, it is 0.5 wt% or more and 30 wt% or less.

また、式(1)又は(2)で示されるアクリル化合物を、発光層のホストとして使用する場合、アクリル化合物の含有量は、発光層の全重量を基準として、好ましくは、50重量%以上99.9重量%以下である。より好ましくは、70重量%以上99.5重量%以下である。   Further, when the acrylic compound represented by the formula (1) or (2) is used as a host of the light emitting layer, the content of the acrylic compound is preferably 50% by weight or more and 99% based on the total weight of the light emitting layer. .9% by weight or less. More preferably, it is 70 weight% or more and 99.5 weight% or less.

陽極の構成材料は、仕事関数がなるべく大きなものがよい。例えば、金、銀、白金、ニッケル、パラジウム、コバルト、セレン、バナジウム等の金属単体あるいはこれらを複数組み合わせた合金、酸化錫、酸化亜鉛、酸化錫インジウム(ITO),酸化亜鉛インジウム等の金属酸化物が使用できる。また、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリフェニレンスルフィド等の導電性ポリマーも使用できる。これらの電極物質は、一種類を単独で使用してもよく、二種類以上を併用して使用してもよい。   The constituent material of the anode should have a work function as large as possible. For example, a simple metal such as gold, silver, platinum, nickel, palladium, cobalt, selenium, vanadium or an alloy obtained by combining a plurality of these metals, a metal oxide such as tin oxide, zinc oxide, indium tin oxide (ITO), and zinc indium oxide Can be used. In addition, conductive polymers such as polyaniline, polypyrrole, polythiophene, and polyphenylene sulfide can also be used. These electrode materials may be used alone or in combination of two or more.

一方、陰極の構成材料は、仕事関数の小さなものがよい。例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、インジウム、銀、鉛、錫、クロム等の金属単体、これら金属単体を複数組み合わせた合金又はこれら金属単体の塩等を使用することができる。また、酸化錫インジウム(ITO)等の金属酸化物の利用も可能である。ここで、陰極は一層で構成されていてもよく、複数の層で構成されていてもよい。   On the other hand, the constituent material of the cathode preferably has a small work function. For example, it is possible to use a simple metal such as lithium, sodium, potassium, cesium, calcium, magnesium, aluminum, indium, silver, lead, tin, chromium, an alloy in which a plurality of these metals are combined, or a salt of these metals. it can. Also, metal oxides such as indium tin oxide (ITO) can be used. Here, the cathode may be composed of a single layer or a plurality of layers.

本発明の有機発光素子で使用する基板としては、特に限定するものではないが、金属製基板、セラミックス製基板等の不透明性基板、ガラス、石英、プラスチックシート等の透明性基板が用いられる。また、基板にカラーフィルター膜、蛍光色変換フィルター膜、誘電体反射膜等を用いて発色光をコントロールすることも可能である。   Although it does not specifically limit as a board | substrate used with the organic light emitting element of this invention, Transparent substrates, such as opaque board | substrates, such as a metal board | substrate and a ceramic board | substrate, glass, quartz, a plastic sheet, are used. It is also possible to control the color light by using a color filter film, a fluorescent color conversion filter film, a dielectric reflection film or the like on the substrate.

尚、作製した素子に対して、酸素や水分等との接触を防止する目的で、保護層又は封止層を設けることもできる。保護層としては、ダイヤモンド薄膜、金属酸化物、金属窒化物等の無機材料膜、フッ素樹脂、ポリパラキシレン、ポリエチレン、シリコーン樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂等の高分子膜又は光硬化性樹脂等が挙げられる。また、ガラス、気体不透過性フィルム、金属等をカバーし、適当な封止樹脂により素子自体をパッケージングすることもできる。   Note that a protective layer or a sealing layer can be provided for the manufactured element in order to prevent contact with oxygen or moisture. As the protective layer, diamond thin films, inorganic material films such as metal oxides and metal nitrides, polymer films such as fluorine resin, polyparaxylene, polyethylene, silicone resin, polystyrene resin, epoxy resin, phenol resin, urea resin, or the like Examples thereof include a photocurable resin. Further, it is possible to cover glass, a gas-impermeable film, a metal, etc., and to package the element itself with an appropriate sealing resin.

次に本発明の有機発光素子の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the organic light emitting element of this invention is demonstrated.

本発明の有機発光素子の製造方法は、以下の工程(i)及び(ii)を含むことを特徴とするものである。   The method for producing an organic light emitting device of the present invention includes the following steps (i) and (ii).

(i)式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物を少なくとも一種類含むアクリル薄膜を湿式法により製膜する工程
(ii)アクリル薄膜を不活性ガス中で加熱重合又は加熱硬化することで、アクリル硬化膜を形成する工程
湿式法により、有機発光素子を作製する場合は、塗布の容易性、結晶化のない塗料を調製するのが可能である等の理由により、通常高分子材料が使用される。
(I) Step of forming an acrylic thin film containing at least one kind of acrylic compound represented by formula (1) or formula (2) by a wet method (ii) Heat polymerization or heat curing of the acrylic thin film in an inert gas In the case of producing an organic light emitting device by a wet method, a polymer material is usually used for reasons such as ease of application and the ability to prepare a coating without crystallization. used.

ここで、有機発光素子の発光効率や耐久性を向上させるためには、層を構成する有機材料の純度を向上させる必要があるが、高分子材料では困難である場合が多い。即ち、高分子材料では、一般的に、その材料を製造したときに生成する副生成物又は脱離物、副反応による不純物、残留した触媒又は重合開始剤等を当該材料中から除去することが困難な場合が多い。また、材料の製造時に発生する副生成物、不純物、残留触媒、残留重合開始剤等は、有機発光素子の特性のうち、特に、輝度特性、寿命特性に悪影響を与える。   Here, in order to improve the light emission efficiency and durability of the organic light emitting element, it is necessary to improve the purity of the organic material constituting the layer, but it is often difficult with a polymer material. That is, in general, in a polymer material, a by-product or a desorption product generated when the material is manufactured, impurities due to a side reaction, a residual catalyst or a polymerization initiator, etc. can be removed from the material. Often difficult. Further, by-products, impurities, residual catalyst, residual polymerization initiator, and the like generated during the production of the material adversely affect luminance characteristics and lifetime characteristics among the characteristics of the organic light emitting device.

一方、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物は、低分子化合物又はオリゴマーとして存在するものである。このアクリル化合物は、高分子材料と比べて精製(不純物除去)が容易であるので、純度の高い有機層を形成することができる。従って、これらの化合物を使用することにより、高分子材料特有の問題点である不純物等の除去の問題は解決される。   On the other hand, the acrylic compound represented by Formula (1) or Formula (2) exists as a low molecular compound or oligomer. Since this acrylic compound is easier to purify (impurities removal) than a polymer material, an organic layer with high purity can be formed. Therefore, by using these compounds, the problem of removing impurities and the like, which is a problem peculiar to polymer materials, is solved.

ところで、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物は、重合性のアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルを有する。このため加熱、重合開始剤等によるラジカル重合反応により、分子間架橋反応が起こり、このアクリル化合物は硬化する。   By the way, the acrylic compound shown by Formula (1) or Formula (2) has polymerizable acrylic ester or methacrylic ester. For this reason, an intermolecular crosslinking reaction occurs due to radical polymerization reaction by heating, a polymerization initiator or the like, and the acrylic compound is cured.

ここで、アクリル酸エステル基及びメタクリル酸エステル基の重合反応は、通常の空気中の環境下では、酸素による重合阻害作用を受けて所望の重合特性を得ることが困難である。このため、重合反応を行う際は、不活性ガス中で行う必要がある。   Here, the polymerization reaction of acrylic acid ester groups and methacrylic acid ester groups is difficult to obtain desired polymerization characteristics due to a polymerization inhibition action by oxygen under an ordinary air environment. For this reason, when performing a polymerization reaction, it is necessary to carry out in inert gas.

実際に重合反応を行う際、不活性ガス中の酸素濃度は、好ましくは、10ppm以下である。また、この不活性ガスは、好ましくは、窒素又はアルゴンである。   When actually carrying out the polymerization reaction, the oxygen concentration in the inert gas is preferably 10 ppm or less. The inert gas is preferably nitrogen or argon.

一方で、アクリル薄膜を製膜する際には、好ましくは、重合開始剤を含ませない方がよい。上述した酸素による重合阻害作用を克服する方法としては、通常重合開始剤を含ませるべきである。しかし重合開始剤が存在することにより、層を構成する当該アクリル化合物の純度が低下するだけでなく、その重合開始剤が素子の特性に悪影響を及ぼすためである。   On the other hand, when forming an acrylic thin film, it is preferable not to include a polymerization initiator. As a method for overcoming the above-described polymerization inhibitory action by oxygen, a polymerization initiator should usually be included. However, the presence of the polymerization initiator not only lowers the purity of the acrylic compound constituting the layer, but also the polymerization initiator adversely affects the characteristics of the device.

また、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物は、構造的要因から、製造環境の酸素濃度を一定の値以下にすることにより、開始剤、触媒等を使用せずとも加熱のみで重合反応が進行する。また、加熱温度も130℃乃至200℃と比較的低温で重合が進み、素子の他の部分に対する悪影響も小さい。   In addition, the acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2) is heated only without using an initiator, a catalyst, or the like by reducing the oxygen concentration in the production environment to a certain value or less due to structural factors. The polymerization reaction proceeds. Further, the polymerization proceeds at a relatively low heating temperature of 130 ° C. to 200 ° C., and the adverse effect on other parts of the device is small.

硬化後の膜は不溶不融の有機薄膜となっている。よって次の工程として、この硬化膜の上から湿式法により他の有機層を積層したとしても、上から塗布する塗料に含まれる溶剤によって硬化膜が溶かされることはない。よって層を構成する材料同士の混入がない安定した積層体を有する有機発光素子を作製することができる。   The cured film is an insoluble and infusible organic thin film. Therefore, as a next step, even if another organic layer is laminated on the cured film by a wet method, the cured film is not dissolved by the solvent contained in the paint applied from above. Therefore, an organic light-emitting element having a stable stacked body in which the materials constituting the layers are not mixed can be manufactured.

さらに、有機発光素子を使用する場合でも、当該硬化膜は3次元架橋構造を有しているため、マイグレーションによる結晶化や界面付近での不均質化、不安定化が発生することがない。従って、低分子化合物をそのまま製膜している場合よりも、安定性が高い素子を提供することができる。   Further, even when an organic light emitting element is used, the cured film has a three-dimensional cross-linking structure, so that crystallization due to migration, non-homogenization near the interface, and instability do not occur. Therefore, it is possible to provide an element having higher stability than the case where a low molecular compound is formed as it is.

また、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物は、熱硬化を行う際に発生しやすい膜欠陥を発生しにくいという特徴も有する。   In addition, the acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2) also has a feature that it is difficult to generate film defects that are likely to occur when thermosetting.

この特徴は、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物が、嵩高く剛直で比較的分子量の大きいトリアリールアミン骨格と適度な長さのアルキル基とを有するためである。   This feature is because the acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2) has a triarylamine skeleton having a bulky, rigid, relatively large molecular weight and an alkyl group having an appropriate length.

この構造的な特徴により、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物は、耐熱性の向上と化合物同士の相溶性を両立し得るものである。このため、製膜過程における応力や体積収縮の緩和特性を示し、耐熱性を有していることにより昇温過程の面アレを起こしにくいという特徴を有する。これらの理由により得られる素子の発光面の欠陥も非常に少なくなる。   Due to this structural feature, the acrylic compound represented by Formula (1) or Formula (2) can achieve both improved heat resistance and compatibility between the compounds. For this reason, it has the characteristic of exhibiting relaxation characteristics of stress and volume shrinkage in the film forming process, and is less likely to cause surface alignment in the temperature rising process due to its heat resistance. For these reasons, the defect of the light emitting surface of the device obtained is also extremely reduced.

また、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物は、π電子の共役系が大きく広がる構造を有するため、分子間での軌道の重なりが大きいため、特に、電極からの正孔注入性や層内の正孔輸送性が向上するものと考えられる。   In addition, since the acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2) has a structure in which a conjugated system of π electrons spreads greatly, orbital overlap between molecules is large, in particular, hole injection from an electrode is performed. It is considered that the property and the hole transport property in the layer are improved.

以上より、本発明の有機発光素子は、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物を塗料状態にした上で塗布法等の湿式法により製膜し、塗膜の乾燥工程に続いて重合・硬化させて機能性硬化膜を形成する、というプロセスを踏むことが好ましい。一方で、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物は、加熱反応性を有するため、蒸着法による製膜には適さない。   As described above, the organic light-emitting device of the present invention is formed by a wet method such as a coating method after the acrylic compound represented by formula (1) or formula (2) is in a paint state, followed by a coating film drying step. It is preferable to follow a process of polymerizing and curing to form a functional cured film. On the other hand, since the acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2) has heat reactivity, it is not suitable for film formation by a vapor deposition method.

湿式法により、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物の薄膜を形成する際には、以下に説明する塗料組成物を調製して、この塗料組成物を塗膜した方がよい。   When forming a thin film of an acrylic compound represented by formula (1) or formula (2) by a wet method, it is better to prepare a coating composition described below and coat this coating composition. .

ここで塗料組成物とは、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物を少なくとも一種類含有するものである。この塗料組成物を使用すれば、有機発光素子を構成する有機化合物からなる層、特に、電荷注入層又は電荷輸送層を塗布法により作製することが可能となり、比較的安価で大面積の有機発光素子を容易に作製することができる。   Here, the coating composition contains at least one acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2). If this coating composition is used, it becomes possible to produce a layer made of an organic compound constituting an organic light emitting device, in particular, a charge injection layer or a charge transport layer by a coating method, and it is a relatively inexpensive and large area organic light emitting device. An element can be easily manufactured.

この塗料組成物に使用する溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、n−ドデシルベンゼン、メチルナフタレン等の炭化水素系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエーテル系溶剤、クロロホルム、モノクロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル系溶剤、メタノール、エタノール、n−プロパノール等のアルコール系溶剤、等が挙げられる。これらの溶媒は一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を混合して使用してもよい。また、これらの溶媒の粘度や、溶液中のアクリル化合物の濃度を調整することにより、アクリル化合物から形成されるアクリル薄膜の膜厚を調整することができる。   Examples of the solvent used in the coating composition include hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, mesitylene, tetralin, n-dodecylbenzene, and methylnaphthalene, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, and diglyme, chloroform, and monochlorobenzene. 1, halogen solvents such as 1,2-dichlorobenzene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, methanol, ethanol, n-propanol, etc. Alcohol-based solvents, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the film thickness of the acrylic thin film formed from an acrylic compound can be adjusted by adjusting the viscosity of these solvents and the concentration of the acrylic compound in the solution.

また式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物の他に、例えば、上述の公知な正孔輸送性化合物、発光性化合物、電子輸送性化合物等を含ませてもよい。   In addition to the acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2), for example, the above-mentioned known hole transporting compound, light emitting compound, electron transporting compound, and the like may be included.

塗料組成物における式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物の含有量は、好ましくは、0.05重量%以上20重量%以下であり、より好ましくは、0.1重量%以上5重量%以下である。   The content of the acrylic compound represented by formula (1) or formula (2) in the coating composition is preferably 0.05% by weight or more and 20% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or more and 5% or less. % By weight or less.

塗布方法としては、キャスト法、スピンコート法、スリットコーター法、印刷法、インクジェット法、デイスペンス法、スプレー法、ディップ法、LB膜法等が挙げられる。   Examples of the coating method include a casting method, a spin coating method, a slit coater method, a printing method, an ink jet method, a dispensing method, a spray method, a dip method, and an LB film method.

本発明の有機発光素子は、式(1)又は式(2)で示されるアクリル化合物を、塗布法等の湿式法により陽極と陰極との間に形成する。アクリル化合物を含む層の膜厚は、10μmより薄く、好ましくは、0.5μm以下であり、より好ましくは、0.005μm乃至0.5μmである。   In the organic light emitting device of the present invention, the acrylic compound represented by the formula (1) or the formula (2) is formed between the anode and the cathode by a wet method such as a coating method. The thickness of the layer containing the acrylic compound is less than 10 μm, preferably 0.5 μm or less, and more preferably 0.005 μm to 0.5 μm.

本発明の有機発光素子において、式(1)又は(2)で示されるアクリル化合物を含有する層以外の層は、一般的な真空蒸着法等の乾式法又は適当な溶媒に溶解させた湿式法等により薄膜を形成する。本発明の有機発光素子は、好ましくは、正孔注入層に接するように発光層を設け、この発光層が塗布法により製膜されることを特徴とするものである。   In the organic light emitting device of the present invention, the layers other than the layer containing the acrylic compound represented by the formula (1) or (2) may be a dry method such as a general vacuum deposition method or a wet method dissolved in an appropriate solvent. A thin film is formed by, for example. The organic light emitting device of the present invention is preferably characterized in that a light emitting layer is provided so as to be in contact with the hole injection layer, and this light emitting layer is formed by a coating method.

湿式法として、具体的には、キャスト法、スピンコート法、スリットコーター法、印刷法、インクジェット法、デイスペンス法、スプレー法、ディップ法、LB膜法等が挙げられる。   Specific examples of the wet method include a cast method, a spin coat method, a slit coater method, a printing method, an ink jet method, a dispense method, a spray method, a dip method, and an LB film method.

特に、塗布法で成膜する場合は、適当な結着樹脂と組み合わせて膜を形成することもできる。   In particular, when a film is formed by a coating method, the film can be formed in combination with an appropriate binder resin.

上記結着樹脂としては広範囲な結着性樹脂より選択できる。例えば、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリーレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリメタクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、結着樹脂の形態はホモポリマーであってもよいし共重合体ポリマーであってもよい。また、結着樹脂は一種類を単独で使用してもよいし、また二種類以上を混合して使用してもよい。   The binder resin can be selected from a wide range of binder resins. For example, polyvinyl carbazole resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, polystyrene resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl acetal resin, diallyl phthalate resin, phenol resin, epoxy resin, silicone resin, polysulfone Examples thereof include, but are not limited to, resins and urea resins. The form of the binder resin may be a homopolymer or a copolymer polymer. In addition, one type of binder resin may be used alone, or two or more types may be mixed and used.

本発明の有機発光素子は、発光層の他に複数の有機層を有してもよく、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、正孔/エキシトンブロッキング層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。これらの層は、上述したように、真空蒸着法や溶液塗布法等いかなる方法によっても作製することができる。素子を作成する際にこれらの層の膜厚は、5μmより薄く、好ましくは、1μm以下、より好ましくは、5nm以上500nm以下である。   The organic light emitting device of the present invention may have a plurality of organic layers in addition to the light emitting layer, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a hole / exciton blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer. Etc. As described above, these layers can be produced by any method such as vacuum vapor deposition or solution coating. When forming an element, the thickness of these layers is less than 5 μm, preferably 1 μm or less, more preferably 5 nm to 500 nm.

本発明の有機発光素子は、適宜組み合わされることによりディスプレイを構成することができる。具体的には、本発明のディスプレイは、有機発光素子と駆動回路とをそれぞれ複数有することを特徴とし、パッシブマトリックス方式又はアクティブマトリックス方式で駆動される。以下、図面を参照しながら、本発明の素子において、その応用例を説明する。尚、以下の応用例において、その駆動方式はアクティブマトリクス方式を用いている。   The organic light emitting device of the present invention can constitute a display by being appropriately combined. Specifically, the display of the present invention includes a plurality of organic light emitting elements and driving circuits, and is driven by a passive matrix system or an active matrix system. Hereinafter, application examples of the element of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following application examples, the active matrix method is used as the driving method.

図8は、基板上の有機発光素子とその外部に配置されている回路、データ線の配置を示す断面模式図である。回路は、TFTと保持容量等から構成されている。   FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing the arrangement of organic light emitting elements on a substrate, circuits arranged outside the organic light emitting elements, and data lines. The circuit includes a TFT and a storage capacitor.

図8において有機発光素子は、1つのみ図示されているが、ディスプレイを構成する場合は後述する図10のように2次元状に複数配置されている。本実施形態に係る有機化合物はこの有機化合物層に含まれる。   Although only one organic light emitting element is shown in FIG. 8, when a display is configured, a plurality of organic light emitting elements are two-dimensionally arranged as shown in FIG. The organic compound according to this embodiment is included in this organic compound layer.

図9は、図8で示した回路の構成の詳細を示す回路図である。図9で示す回路は、電流プログラミング方式とよばれる代表的な回路構成である。尚、本発明のディスプレイが有する回路はこれに限るものではない。   FIG. 9 is a circuit diagram showing details of the configuration of the circuit shown in FIG. The circuit shown in FIG. 9 has a typical circuit configuration called a current programming method. The circuit of the display of the present invention is not limited to this.

図9で示される回路は、ドライブトランジスタT1、スイッチングトランジスタT2、保持容量Ch、有機発光素子から構成されている。尚、この回路は周知な回路構成であるため、動作の詳細については説明を省略する。   The circuit shown in FIG. 9 includes a drive transistor T1, a switching transistor T2, a storage capacitor Ch, and an organic light emitting element. Since this circuit has a well-known circuit configuration, detailed description of the operation is omitted.

この有機発光素子を1つの発光点として利用してディスプレイや照明装置や電子写真方式の画像形成装置の露光光源に用いることができる。   This organic light emitting element can be used as a light emitting point and used as an exposure light source for a display, an illumination device, or an electrophotographic image forming apparatus.

次に、本発明の有機発光素子をディスプレイに利用した場合について説明する。   Next, the case where the organic light emitting device of the present invention is used for a display will be described.

図8、図9で示した有機発光素子と回路を1画素として同一面内に2次元状に複数配置した状態、即ちマトリックス状に配置したものを図10に模式的に示す。   FIG. 10 schematically shows a state in which a plurality of organic light emitting elements and circuits shown in FIGS. 8 and 9 are arranged in a two-dimensional manner on the same plane as one pixel, that is, arranged in a matrix.

図10のディスプレイが有する画素は、配線を介してゲートドライバ、ソースドライバと接続され、駆動パルスが供給されることで、発光状態あるいは非発光状態となる。   The pixel included in the display in FIG. 10 is connected to a gate driver and a source driver through wirings, and enters a light emitting state or a non-light emitting state when a driving pulse is supplied.

このような有機発光素子が画素として同一面内に面内方向に複数配置されている領域が、ディスプレイの表示領域である。即ち、本実施形態に係る有機発光素子はディスプレイの表示領域に用いることができる。   A region where a plurality of such organic light-emitting elements are arranged in the same plane as pixels in the in-plane direction is a display region of the display. That is, the organic light emitting device according to this embodiment can be used in a display area of a display.

このディスプレイは例えばテレビやPC用の表示装置、あるいは画像を表示する部分を有する機器であれば如何なる形態も問わない。例えばこのディスプレイを搭載する携帯型の表示装置であってもよい。あるいはデジタルカメラ等の電子撮像装置や携帯電話の表示部に本実施形態に係るディスプレイを用いることができる。   This display may take any form as long as it is a display device for a television or a PC, or a device having a part for displaying an image. For example, a portable display device equipped with this display may be used. Or the display which concerns on this embodiment can be used for electronic imaging devices, such as a digital camera, and the display part of a mobile telephone.

尚、図10で示したディスプレイをパネルモジュール化した構成を図11に示す。パネルモジュールとは、図10で示した構成に加え、インターフェースドライバ、接続端子等の外部機器との接続に必要な部品を備え、これらを筐体で一体化した構成を意味する。   FIG. 11 shows a configuration in which the display shown in FIG. 10 is made into a panel module. The panel module means a configuration in which parts necessary for connection to an external device such as an interface driver and a connection terminal are provided in addition to the configuration shown in FIG.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明していくが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

[合成例1]例示化合物No.1−16の合成
フラスコ内で、以下の試薬、溶媒を仕込み、フラスコを氷水バスで冷却した。
[Synthesis Example 1] Exemplified Compound No. 1 Synthesis of 1-16 In the flask, the following reagents and solvent were charged, and the flask was cooled in an ice water bath.

下記式で示されるジヒドロキシ体:1.0g(1.19mmol)     Dihydroxy compound represented by the following formula: 1.0 g (1.19 mmol)

Figure 2009016739
トリエチルアミン:0.42g(4.17mmol)
テトラヒドロフラン:10ml
Figure 2009016739
Triethylamine: 0.42 g (4.17 mmol)
Tetrahydrofuran: 10ml

次に、反応溶液の温度を10℃以下に保ちながら、この反応溶液中にアクリル酸クロライド0.32g(3.57mmol)を滴下した。滴下終了後、反応溶液を徐々に昇温させ、反応用液の温度を50℃に保ちながらさらに30分間反応を続けた。   Next, 0.32 g (3.57 mmol) of acrylic acid chloride was dropped into the reaction solution while keeping the temperature of the reaction solution at 10 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, the temperature of the reaction solution was gradually raised, and the reaction was continued for another 30 minutes while maintaining the temperature of the reaction solution at 50 ° C.

反応終了後、反応溶液を冷却した。次にこの反応溶液に、酢酸エチル100ml、10%水酸化ナトリウム水溶液50mlをそれぞれ加えて攪拌した後、分液操作を行い、有機層を回収した。回収した有機層を、さらにイオン交換水30mlで2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。   After completion of the reaction, the reaction solution was cooled. Next, 100 ml of ethyl acetate and 50 ml of 10% aqueous sodium hydroxide solution were added to the reaction solution and stirred, and then a liquid separation operation was performed to recover the organic layer. The collected organic layer was further washed twice with 30 ml of ion exchange water and dried over magnesium sulfate.

次に、この有機層中の溶媒を、ロータリーエバポレーターを用いて除去し、粗生成物を得た。この粗生成物について、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製を行った。具体的には、シリカゲル約10gを使用し、展開溶媒は、始めはトルエンを使用し、途中からトルエン/テトラヒドロフラン混合溶媒(混合比:10/1)を使用した。   Next, the solvent in the organic layer was removed using a rotary evaporator to obtain a crude product. This crude product was purified using silica gel column chromatography. Specifically, about 10 g of silica gel was used, and toluene was initially used as a developing solvent, and a toluene / tetrahydrofuran mixed solvent (mixing ratio: 10/1) was used from the middle.

最後に目的化合物に該当するフラクションを回収し溶媒を減圧除去することにより、目的とする例示化合物No.1−16を0.73g得た。例示化合物No.1−16は、結晶性を示さない淡黄色の固体であった。   Finally, the fraction corresponding to the target compound is recovered, and the solvent is removed under reduced pressure. 0.73 g of 1-16 was obtained. Exemplified Compound No. 1-16 was a light yellow solid which did not show crystallinity.

[合成例2]例示化合物No.1−2の合成
各合成試薬を下記の分量で使用し、合成例1と同様な操作により合成を行った。
[Synthesis Example 2] Exemplified Compound No. 2 1-2 Synthesis Each synthesis reagent was used in the following amounts and synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1.

下記構造式で示されるジヒドロキシ体:1.0g(1.32mmol)   Dihydroxy compound represented by the following structural formula: 1.0 g (1.32 mmol)

Figure 2009016739
トリエチルアミン:0.47g(4.62mmol)
テトラヒドロフラン:10ml
アクリル酸クロライド:0.36g(3.96mmol)
Figure 2009016739
Triethylamine: 0.47 g (4.62 mmol)
Tetrahydrofuran: 10ml
Acrylic acid chloride: 0.36 g (3.96 mmol)

反応終了後、合成例1と同様に後処理を行い、実施例1と同様に精製を行った。これにより目的とする例示化合物No.1−2を0.77g得た。   After completion of the reaction, post-treatment was performed in the same manner as in Synthesis Example 1, and purification was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the target Exemplified Compound No. 0.77g of 1-2 was obtained.

[合成例3]例示化合物No.1−10の合成
各合成試薬を下記の分量で使用し、合成例1と同様な操作により合成を行った。
[Synthesis Example 3] Exemplified Compound No. 1 Synthesis of 1-10 Each synthesis reagent was used in the following amounts, and the synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 1.

下記構造式で示されるジヒドロキシ体:1.0g(1.30mmol)   Dihydroxy compound represented by the following structural formula: 1.0 g (1.30 mmol)

Figure 2009016739
トリエチルアミン:0.46g(4.55mmol)
テトラヒドロフラン:10ml
アクリル酸クロライド:0.35g(3.9mmol)
Figure 2009016739
Triethylamine: 0.46 g (4.55 mmol)
Tetrahydrofuran: 10ml
Acrylic acid chloride: 0.35 g (3.9 mmol)

反応終了後、合成例1と同様に後処理を行い、実施例1と同様に精製を行った。これにより目的とする例示化合物No.1−2を0.75g得た。   After completion of the reaction, post-treatment was performed in the same manner as in Synthesis Example 1, and purification was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the target Exemplified Compound No. 0.75g of 1-2 was obtained.

[合成例4]例示化合物No.1−17の合成
各合成試薬を下記の分量で使用し、合成例1と同様な操作により合成を行った。
[Synthesis Example 4] Exemplified Compound No. 1 Synthesis of 1-17 Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 using each synthesis reagent in the following amounts.

下記構造式で示されるジヒドロキシ体:1.0g(1.14mmol)   Dihydroxy compound represented by the following structural formula: 1.0 g (1.14 mmol)

Figure 2009016739
トリエチルアミン:0.40g(3.99mmol)
テトラヒドロフラン:10ml
アクリル酸クロライド:0.31g(3.42mmol)
Figure 2009016739
Triethylamine: 0.40 g (3.99 mmol)
Tetrahydrofuran: 10ml
Acrylic acid chloride: 0.31 g (3.42 mmol)

反応終了後、合成例1と同様に後処理を行い、実施例1と同様に精製を行った。これにより目的とする例示化合物No.1−17を0.77g得た。   After completion of the reaction, post-treatment was performed in the same manner as in Synthesis Example 1, and purification was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the target Exemplified Compound No. 0.77g of 1-17 was obtained.

[合成例5]例示化合物No.1−19の合成
各合成試薬を下記の分量で使用し、合成例1と同様な操作により合成を行った。下記構造式で示されるジヒドロキシ体:1.0g(1.19mmol)
[Synthesis Example 5] Exemplified Compound No. 1 Synthesis of 1-19 Each synthesis reagent was used in the following amounts, and the synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 1. Dihydroxy compound represented by the following structural formula: 1.0 g (1.19 mmol)

Figure 2009016739
トリエチルアミン:0.42g(4.18mmol)
テトラヒドロフラン:10ml
メタアクリル酸クロライド:0.37g(3.57mmol)
Figure 2009016739
Triethylamine: 0.42 g (4.18 mmol)
Tetrahydrofuran: 10ml
Methacrylic acid chloride: 0.37 g (3.57 mmol)

反応終了後、合成例1と同様に後処理を行い、実施例1と同様に精製を行った。これにより目的とする例示化合物No.1−19を0.78g得た。   After completion of the reaction, post-treatment was performed in the same manner as in Synthesis Example 1, and purification was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the target Exemplified Compound No. 0.78 g of 1-19 was obtained.

[合成例6]例示化合物No.1−21の合成
各合成試薬を下記の量使用し、合成例1と同様な操作により合成を行った。
[Synthesis Example 6] Exemplified Compound No. 6 Synthesis of 1-21 Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 using the following amounts of each synthesis reagent.

下記構造式で示されるジヒドロキシ体:1.0g(1.12mmol)   Dihydroxy compound represented by the following structural formula: 1.0 g (1.12 mmol)

Figure 2009016739
トリエチルアミン:0.40g(3.92mmol)
テトラヒドロフラン:10ml
アクリル酸クロライド:0.30g(3.36mmol)
Figure 2009016739
Triethylamine: 0.40 g (3.92 mmol)
Tetrahydrofuran: 10ml
Acrylic acid chloride: 0.30 g (3.36 mmol)

反応終了後、合成例1と同様に後処理を行い、実施例1と同様に精製を行った。目的とする例示化合物No.1−21を0.67g得た。   After completion of the reaction, post-treatment was performed in the same manner as in Synthesis Example 1, and purification was performed in the same manner as in Example 1. The target exemplified compound No. 0.67g of 1-21 was obtained.

[合成例7]例示化合物No.2−1の合成
各合成試薬を下記の量使用し、合成例1と同様な操作により合成を行った。
[Synthesis Example 7] Exemplified Compound No. 7 Synthesis of 2-1 Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 using the following amounts of each synthesis reagent.

下記構造式で示されるジヒドロキシ体:0.5g   Dihydroxy compound represented by the following structural formula: 0.5 g

Figure 2009016739
トリエチルアミン:0.40g
テトラヒドロフラン:20ml
アクリル酸クロライド0.30g
Figure 2009016739
Triethylamine: 0.40g
Tetrahydrofuran: 20ml
Acrylic acid chloride 0.30g

反応終了後、合成例1と同様に後処理を行い、実施例1と同様に精製を行った。これにより目的とする例示化合物No.2−1を0.36g得た。   After completion of the reaction, post-treatment was performed in the same manner as in Synthesis Example 1, and purification was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the target Exemplified Compound No. 0.36g of 2-1 was obtained.

[合成例8]例示化合物No.2−2の合成
各合成試薬を下記の量使用し、合成例1と同様な操作により合成を行った。
[Synthesis Example 8] Exemplified Compound No. 8 Synthesis of 2-2 The synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 using the following amounts of each synthesis reagent.

下記構造式で示されるジヒドロキシ体:0.5g   Dihydroxy compound represented by the following structural formula: 0.5 g

Figure 2009016739
トリエチルアミン:0.40g
テトラヒドロフラン:30ml
アクリル酸クロライド:0.30g
Figure 2009016739
Triethylamine: 0.40g
Tetrahydrofuran: 30ml
Acrylic acid chloride: 0.30 g

反応終了後、合成例1と同様に後処理を行い、実施例1と同様に精製を行った。これにより目的とする例示化合物No.2−2を0.35g得た。   After completion of the reaction, post-treatment was performed in the same manner as in Synthesis Example 1, and purification was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the target Exemplified Compound No. 0.35g of 2-2 was obtained.

[合成例9]例示化合物No.2−14の合成
各合成試薬を下記の量使用し、合成例1と同様な操作により合成を行った。
Synthesis Example 9 Exemplified Compound No. Synthesis of 2-14 Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 using the following amounts of each synthesis reagent.

下記構造式で示されるジヒドロキシ体:0.5g   Dihydroxy compound represented by the following structural formula: 0.5 g

Figure 2009016739
トリエチルアミン:0.40g
テトラヒドロフラン:20ml
メタアクリル酸クロライド0.30g
Figure 2009016739
Triethylamine: 0.40g
Tetrahydrofuran: 20ml
Methacrylic acid chloride 0.30 g

反応終了後、合成例1と同様に後処理を行い、実施例1と同様に精製を行った。これにより目的とする例示化合物No.2−14を0.33g得た。   After completion of the reaction, post-treatment was performed in the same manner as in Synthesis Example 1, and purification was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the target Exemplified Compound No. 0.33g of 2-14 was obtained.

[実施例1]
図7に示される有機発光素子を作製した。
[Example 1]
The organic light emitting device shown in FIG. 7 was produced.

ガラス基板(基板1)上に、酸化錫インジウム(ITO)をスパッタ法にて成膜し、陽極2を形成した。このとき陽極2の膜厚を120nmとした。次に、これをアセトン、イソプロピルアルコール(IPA)で順次超音波洗浄し、IPAで煮沸洗浄後に乾燥をした。さらにUV/オゾン洗浄した。以上の方法で処理した基板を透明導電性支持基板として使用した。   An indium tin oxide (ITO) film was formed on a glass substrate (substrate 1) by sputtering to form an anode 2. At this time, the film thickness of the anode 2 was 120 nm. Next, this was ultrasonically washed successively with acetone and isopropyl alcohol (IPA), boiled and washed with IPA, and then dried. Further, UV / ozone cleaning was performed. The substrate processed by the above method was used as a transparent conductive support substrate.

次に、例示化合物No.1−16をメチルイソブチルケトンに溶解して、濃度0.5重量%の塗布液を調製した。この塗布液を、上記の透明導電性支持基板上にスピンコート法により1000rpmで成膜した(成膜工程)。次に、作製した膜を、200℃で30分間加熱し硬化することにより、正孔注入層7を形成した(加熱硬化工程)。このとき正孔注入層7の膜厚を30nmとした。尚、上記の成膜工程及び加熱硬化工程を酸素濃度5ppmの窒素雰囲気下で行った。この熱硬化膜は、架橋構造を有している膜であり、溶剤に不溶である。   Next, Exemplified Compound No. 1-16 was dissolved in methyl isobutyl ketone to prepare a coating solution having a concentration of 0.5% by weight. This coating solution was formed on the transparent conductive support substrate at a rate of 1000 rpm by a spin coating method (film formation step). Next, the hole injection layer 7 was formed by heating and curing the produced film at 200 ° C. for 30 minutes (heat curing step). At this time, the thickness of the hole injection layer 7 was set to 30 nm. In addition, said film-forming process and heat-curing process were performed in nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 5 ppm. This thermosetting film is a film having a crosslinked structure and is insoluble in a solvent.

次に、以下に示す(a)乃至(c)をクロロホルム99質量部に溶解して、塗布液を調製した。   Next, the following (a) to (c) were dissolved in 99 parts by mass of chloroform to prepare a coating solution.

(a)下記式で示されるIr(ppy)3(トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム):0.01質量部 (A) Ir (ppy) 3 (tris (2-phenylpyridine) iridium) represented by the following formula: 0.01 part by mass

Figure 2009016739
Figure 2009016739

(b)下記式で示される電子輸送性化合物であるPBD(2−(4−ビフェニル)−5−(4−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール):0.3質量部   (B) PBD (2- (4-biphenyl) -5- (4-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole) which is an electron transport compound represented by the following formula: 0.3 part by mass

Figure 2009016739
Figure 2009016739

(c)下記式で示されるPVK(ポリビニルカルバゾール、Mn=35,000):0.7質量部   (C) PVK (polyvinylcarbazole, Mn = 35,000) represented by the following formula: 0.7 parts by mass

Figure 2009016739
Figure 2009016739

次に、この塗布液を正孔注入層7上に滴下し、回転数1000rpmで1分間スピンコートを行うことで発光層3である薄膜を形成した。この後、80℃で30分間加熱して、薄膜中の溶剤を蒸発させた。加熱処理後の発光層3の膜厚は50nmであった。   Next, this coating solution was dropped on the hole injection layer 7 and spin coating was performed at a rotation speed of 1000 rpm for 1 minute to form a thin film as the light emitting layer 3. Then, it heated at 80 degreeC for 30 minute (s), and the solvent in a thin film was evaporated. The film thickness of the light emitting layer 3 after the heat treatment was 50 nm.

次に、発光層3の上に、真空蒸着法によりフッ化リチウムを蒸着し、電子注入層9を形成した。このとき電子輸送層9の膜厚を0.5nmとし、蒸着時の真空度を1.0×10-4Paとし、成膜速度を0.05nm/secとした。 Next, on the light emitting layer 3, lithium fluoride was vapor-deposited by the vacuum vapor deposition method, and the electron injection layer 9 was formed. At this time, the thickness of the electron transport layer 9 was 0.5 nm, the degree of vacuum during vapor deposition was 1.0 × 10 −4 Pa, and the film formation rate was 0.05 nm / sec.

さらに、アルミニウムを蒸着することで陰極4である金属層を形成した。このとき、陰極4の膜厚を100nmとし、蒸着時の真空度を1.0×10-4Paとし、成膜速度を1.0nm/sec乃至1.2nm/secとした。最後に、窒素雰囲気下で、保護用ガラス板を被せてアクリル樹脂系接着剤で封止した。以上により有機発光素子を得た。 Furthermore, the metal layer which is the cathode 4 was formed by vapor-depositing aluminum. At this time, the film thickness of the cathode 4 was set to 100 nm, the degree of vacuum during vapor deposition was set to 1.0 × 10 −4 Pa, and the film formation rate was set to 1.0 nm / sec to 1.2 nm / sec. Finally, under a nitrogen atmosphere, a protective glass plate was placed and sealed with an acrylic resin adhesive. Thus, an organic light emitting device was obtained.

得られた素子について、ITO電極を陽極に、アルミニウム電極を陰極にして8.0Vの直流電圧を印加すると素子に電流が流れた。このときの電流密度は46mA/cm2であった。また、直流電圧の印加時に輝度2350cd/m2の緑色発光が観測できた。さらに、電流密度を30mA/cm2に保ちながら素子を連続駆動したところ、初期輝度は1610cd/m2であり、50時間後の輝度は1400cd/m2であった。 When a direct current voltage of 8.0 V was applied to the obtained device using an ITO electrode as an anode and an aluminum electrode as a cathode, a current flowed through the device. The current density at this time was 46 mA / cm 2 . Also, green light emission luminance 2350cd / m 2 could be observed upon application of the DC voltage. Furthermore, was continuously driven element while keeping the current density 30 mA / cm 2, the initial luminance was 1610cd / m 2, the luminance after 50 hours was 1400cd / m 2.

また、本発明の有機発光素子において、製膜工程における膜欠陥の発生状況を観察するために、本実施例1の素子を輝度500cd/m2で発光させながら、発光面の状態を光学顕微鏡で観察して膜欠陥の有無を評価した。発光面の均一性の観察結果も含めた評価結果を表1に示す。 In addition, in the organic light emitting device of the present invention, the state of the light emitting surface was observed with an optical microscope while the device of Example 1 was made to emit light at a luminance of 500 cd / m 2 in order to observe the occurrence of film defects in the film forming process. Observation was made to evaluate the presence or absence of film defects. Table 1 shows the evaluation results including the observation results of the uniformity of the light emitting surface.

[実施例2]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−2を使用した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価した。結果を表1に示す。
[Example 2]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 1 except that 1-2 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例3]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−10を使用した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Example 3]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 1 except that 1-10 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例4]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−17を使用した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Example 4]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 1 except that 1-17 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例5]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−19を使用した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Example 5]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 1 except that 1-19 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例6]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−21を使用した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Example 6]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 1 except that 1-21 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例7]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.2−1を使用した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Example 7]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 1 except that 2-1. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例8]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.2−2を使用した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Example 8]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 1 except that 2-2 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[実施例9]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.2−14を使用した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Example 9]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 1 except that 2-14 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[参考例1]
実施例1において、正孔注入層7の作製工程(塗布工程及び熱硬化工程)を酸素濃度21%の乾燥空気雰囲気下で実施した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Reference Example 1]
A device was produced in the same manner as in Example 1 except that the production process (coating process and thermosetting process) of the hole injection layer 7 was performed in a dry air atmosphere with an oxygen concentration of 21%. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、下記式に示される4−ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS、商品名:バイトロンP Al−4083、バイエル社製)を使用した。また、正孔注入層7を形成する際に、スピンコート法によりPEDOT/PSS薄膜を成膜した後、120℃で30分加熱し、膜厚を35nmとした。これらを除いては実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. Instead of 1-16, 4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS, trade name: Vitron P Al-4083, manufactured by Bayer) represented by the following formula was used. When forming the hole injection layer 7, a PEDOT / PSS thin film was formed by spin coating, and then heated at 120 ° C. for 30 minutes to a film thickness of 35 nm. Except for these, a device was fabricated in the same manner as in Example 1. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 2009016739
Figure 2009016739

[比較例2]
実施例1において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、下記式に示される化合物を使用した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
In Example 1, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to the exemplified compound No. A device was produced in the same manner as in Example 1 except that a compound represented by the following formula was used instead of 1-16. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 2009016739
Figure 2009016739

[比較例3]
実施例1において、正孔注入層7を以下に示す方法により形成した。即ち、以下に示す(a)及び(b)をクロロホルム80質量部に溶解して塗布液を調製した。
[Comparative Example 3]
In Example 1, the hole injection layer 7 was formed by the following method. That is, the following (a) and (b) were dissolved in 80 parts by mass of chloroform to prepare a coating solution.

(a)下記式に示される化合物:1質量部   (A) Compound represented by the following formula: 1 part by mass

Figure 2009016739
Figure 2009016739

(b)4−(チオフェンオキシフェニル)−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート:0.05質量部(光開始剤)   (B) 4- (thiophenoxyphenyl) -diphenylsulfonium hexafluoroantimonate: 0.05 parts by mass (photoinitiator)

次に、この塗布液を透明導電性支持基板上に滴下し、回転数1000rpmで1分間スピンコートして製膜した。さらにUV照射装置により280nmの紫外線を1分間照射した後、窒素雰囲気下、150℃で10分間加熱して正孔注入層7を形成した。このとき正孔注入層7の膜厚は30nmであった。これを除いては、実施例1と同様に素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様を行った。結果を表1に示す。   Next, this coating solution was dropped onto a transparent conductive support substrate, and a film was formed by spin coating at 1000 rpm for 1 minute. Furthermore, after irradiating UV light of 280 nm with a UV irradiation device for 1 minute, the hole injection layer 7 was formed by heating at 150 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere. At this time, the thickness of the hole injection layer 7 was 30 nm. Except for this, an element was fabricated in the same manner as in Example 1. About the obtained element, it carried out similarly to Example 1. FIG. The results are shown in Table 1.

Figure 2009016739
Figure 2009016739

[実施例10]
図7に示す構造の素子を作製した。
[Example 10]
An element having the structure shown in FIG. 7 was produced.

ガラス基板(基板1)上に、酸化錫インジウム(ITO)をスパッタ法にて成膜し陽極2を形成した。このとき陽極の膜厚を120nmとした。次に、アセトン、イソプロピルアルコール(IPA)で順次超音波洗浄し、IPAで煮沸洗浄後に乾燥をした。さらにUV/オゾン洗浄した。以上のようにして処理した基板を透明導電性支持基板として使用した。   On the glass substrate (substrate 1), indium tin oxide (ITO) was formed by sputtering to form the anode 2. At this time, the film thickness of the anode was set to 120 nm. Next, ultrasonic cleaning was sequentially performed with acetone and isopropyl alcohol (IPA), followed by boiling with IPA and drying. Further, UV / ozone cleaning was performed. The substrate treated as described above was used as a transparent conductive support substrate.

次に、例示化合物No.1−16をメチルエチルケトンに溶解し、濃度0.5重量%の塗布液を調製した。次にこの塗布液を、上記透明導電性支持基板上にスピンコート法により塗布した(塗布工程)。ここで塗布するときの回転数を1000rpmとした。次に、200℃で30分間加熱することで硬化した(加熱硬化工程)。硬化した後の正孔注入層7の膜厚は30nmであった。尚、上記の塗布工程及び加熱硬化工程は、酸素濃度5ppmの窒素雰囲気下で行った。   Next, Exemplified Compound No. 1-16 was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a coating solution having a concentration of 0.5% by weight. Next, this coating solution was applied onto the transparent conductive support substrate by a spin coating method (application step). The number of rotations when applying here was 1000 rpm. Next, it hardened | cured by heating at 200 degreeC for 30 minutes (heat-hardening process). The film thickness of the hole injection layer 7 after curing was 30 nm. In addition, said application | coating process and heat-curing process were performed in nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 5 ppm.

次に、下記式で示されるポリ(9、9―ジオクチル)フルオレンをトルエンに溶解し、1重量%の発光層塗布液を調製した。この塗布液を上記正孔注入層7上にスピンコートして製膜した。その後80℃で30分間加熱乾燥することにより発光層3を形成した。加熱乾燥後の発光層3の膜厚は50nmであった。   Next, poly (9,9-dioctyl) fluorene represented by the following formula was dissolved in toluene to prepare a 1 wt% light emitting layer coating solution. This coating solution was spin-coated on the hole injection layer 7 to form a film. Thereafter, the light emitting layer 3 was formed by heating and drying at 80 ° C. for 30 minutes. The film thickness of the light emitting layer 3 after heat drying was 50 nm.

Figure 2009016739
Figure 2009016739

次に、上記有機薄膜層の上に、フッ化リチウムを真空蒸着法により蒸着し、電子注入層9を形成した。このとき電子注入層9の膜厚を0.5nmとし、蒸着時の真空度を1.0×10-4Paとし、成膜速度を0.05nm/secとした。 Next, lithium fluoride was deposited on the organic thin film layer by a vacuum deposition method to form the electron injection layer 9. At this time, the thickness of the electron injection layer 9 was 0.5 nm, the degree of vacuum during vapor deposition was 1.0 × 10 −4 Pa, and the film formation rate was 0.05 nm / sec.

次に、アルミニウムを蒸着して陰極4となる金属層を形成した。このとき陰極4の膜厚を100nmとし、蒸着時の真空度を1.0×10-4Paとし、成膜速度を1.0nm/sec乃至1.2nm/secとした。最後に、窒素雰囲気下で保護用ガラス板を被せ、アクリル樹脂系接着剤で封止した。以上のようにして有機発光素子を得た。 Next, aluminum was vapor-deposited to form a metal layer that becomes the cathode 4. At this time, the thickness of the cathode 4 was 100 nm, the degree of vacuum during vapor deposition was 1.0 × 10 −4 Pa, and the film formation rate was 1.0 nm / sec to 1.2 nm / sec. Finally, a protective glass plate was placed under a nitrogen atmosphere and sealed with an acrylic resin adhesive. An organic light emitting device was obtained as described above.

得られた素子について、ITO電極を陽極に、アルミニウム電極を陰極にして、6.0Vの直流電圧を印加すると素子に電流が流れた。このときの電流密度は55mA/cm2の電流密度であった。また、直流電圧を印加したときに輝度1150cd/m2の青色発光が観測できた。さらに、電流密度を30mA/cm2に保ちながら素子を連続駆動したところ、初期輝度は750cd/m2であり、100時間後の輝度は610cd/m2であった。 When a direct current voltage of 6.0 V was applied to the obtained device using an ITO electrode as an anode and an aluminum electrode as a cathode, a current flowed through the device. The current density at this time was a current density of 55 mA / cm 2 . Further, blue light emission with a luminance of 1150 cd / m 2 was observed when a DC voltage was applied. Further, when the device was continuously driven while maintaining the current density at 30 mA / cm 2 , the initial luminance was 750 cd / m 2 and the luminance after 100 hours was 610 cd / m 2 .

また、本発明の有機発光素子において、製膜工程における膜欠陥の発生状況を観察するために、本実施例1の素子を輝度500cd/m2で発光させながら、発光面の状態を光学顕微鏡で観察して膜欠陥の有無を評価した。発光面の均一性の観察結果も含めて表1に表す。 In addition, in the organic light emitting device of the present invention, the state of the light emitting surface was observed with an optical microscope while the device of Example 1 was made to emit light at a luminance of 500 cd / m 2 in order to observe the occurrence of film defects in the film forming process. Observation was made to evaluate the presence or absence of film defects. Table 1 also includes the observation results of the uniformity of the light emitting surface.

[実施例11]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−2を使用した以外は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例10と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Example 11]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 10 except that 1-2 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 2.

[実施例12]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−10を使用した以外は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例10と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Example 12]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was produced in the same manner as in Example 10 except that 1-10 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 2.

[実施例13]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−17を使用した以外は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例10と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Example 13]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 10 except that 1-17 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 2.

[実施例14]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−19を使用した以外は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例10と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Example 14]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was produced in the same manner as in Example 10 except that 1-19 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 2.

[実施例15]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.1−21を使用した以外は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例10と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Example 15]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 10 except that 1-21 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 2.

[実施例16]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.2−1を使用した以外は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例10と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Example 16]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was produced in the same manner as in Example 10 except that 2-1. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 2.

[実施例17]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.2−2を使用した以外は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例10と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Example 17]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 10 except that 2-2 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 2.

[実施例18]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、例示化合物No.2−14を使用した以外は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例10と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Example 18]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. In place of 1-16, Exemplified Compound No. 1 A device was fabricated in the same manner as in Example 10 except that 2-14 was used. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 2.

[参考例2]
実施例10において、正孔注入層7の作製工程(塗布工程及び熱硬化工程)を酸素濃度21%の乾燥空気雰囲気下で実施した以外は、実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例10と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Reference Example 2]
In Example 10, a device was produced in the same manner as in Example 1 except that the production process (application process and thermosetting process) of the hole injection layer 7 was performed in a dry air atmosphere with an oxygen concentration of 21%. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 10. The results are shown in Table 2.

[比較例4]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、PEDOT/PSSを使用した。また、正孔注入層7を形成する際に、スピンコート法によりPEDOT/PSS薄膜を成膜した後、120℃で30分加熱し、膜厚を30nmとした。これらを除いては実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Comparative Example 4]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. Instead of 1-16, PEDOT / PSS was used. Further, when forming the hole injection layer 7, a PEDOT / PSS thin film was formed by spin coating, and then heated at 120 ° C. for 30 minutes to a film thickness of 30 nm. Except for these, an element was fabricated in the same manner as in Example 10. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

[比較例5]
実施例10において、正孔注入層7の構成材料を、例示化合物No.1−16に代えて、比較例2で使用した化合物を使用した以外は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Comparative Example 5]
In Example 10, the constituent material of the hole injection layer 7 was changed to Exemplified Compound No. A device was produced in the same manner as in Example 10 except that the compound used in Comparative Example 2 was used instead of 1-16. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

[比較例6]
実施例10において、正孔注入層7を上記比較例3と同様の方法により形成した他は、実施例10と同様にして素子を作製した。得られた素子について実施例1と同様に評価をした。結果を表2に示す。
[Comparative Example 6]
A device was fabricated in the same manner as in Example 10, except that the hole injection layer 7 was formed by the same method as in Comparative Example 3 in Example 10. The obtained device was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

Figure 2009016739
Figure 2009016739

本発明によれば、高発光効率で高耐久であり、かつ発光面の製膜欠陥が無い有機発光素子を作製することができる。また、本発明の有機発光素子はディスプレイパネル等の表示装置への応用が可能である。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the organic light emitting element which is highly luminous with high luminous efficiency and has no film forming defect of a light emitting surface can be produced. The organic light emitting device of the present invention can be applied to a display device such as a display panel.

本発明の有機発光素子における第一の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1st embodiment in the organic light emitting element of this invention. 本発明の有機発光素子における第二の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd embodiment in the organic light emitting element of this invention. 本発明の有機発光素子における第三の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 3rd embodiment in the organic light emitting element of this invention. 本発明の有機発光素子における第四の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 4th embodiment in the organic light emitting element of this invention. 本発明の有機発光素子における第五の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 5th embodiment in the organic light emitting element of this invention. 本発明の有機発光素子における第六の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 6th embodiment in the organic light emitting element of this invention. 本発明の有機発光素子における第七の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 7th embodiment in the organic light emitting element of this invention. 本発明の実施の形態に係る有機発光素子とそれの駆動するため回路と配線を示す模式的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an organic light emitting device according to an embodiment of the present invention, a circuit for driving the organic light emitting device, and wiring. 図8の回路の詳細を示す図である。It is a figure which shows the detail of the circuit of FIG. 図8及び図9で示した有機発光素子と回路を1画素としてマトリックス状に配置し、ディスプレイを構成した状態を示す模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram showing a state in which a display is configured by arranging the organic light emitting elements and circuits shown in FIGS. 8 and 9 in a matrix form as one pixel. 図10で示したディスプレイをパネルモジュール化した構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure which made the display shown in FIG. 10 into the panel module.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 陽極
3 発光層
4 陰極
5 正孔輸送層
6 電子輸送層
7 正孔注入層(バッファ層)
8 正孔/エキシトンブロッキング層
9 電子注入層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode 3 Light emitting layer 4 Cathode 5 Hole transport layer 6 Electron transport layer 7 Hole injection layer (buffer layer)
8 Hole / exciton blocking layer 9 Electron injection layer

Claims (10)

陽極と陰極と、
該陽極と該陰極と間に挟持される有機化合物からなる層と、から構成され、
該有機化合物からなる層のうち少なくとも一層が、下記一般式(1)あるいは(2)で示されるアクリル化合物を少なくとも一種類含むアクリル薄膜又は該アクリル薄膜を硬化したアクリル硬化膜で形成されることを特徴とする、有機発光素子。
Figure 2009016739
(式(1)において、A11及びA12は、それぞれ炭素数2乃至8の2価の炭化水素基を表す。R11及びR12は、それぞれ水素原子又はメチル基を表す。Ar11及びAr13は、それぞれ置換もしくは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナントレン、置換もしくは無置換のジヒドロフェナントレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン及び置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる1価の置換基を表す。Ar12は、置換もしくは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナントレン、置換もしくは無置換のジヒドロフェナントレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のベンゾアントラセン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン及び置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる2価の置換基を示す。)
Figure 2009016739
(式(2)において、A21及びA22は、それぞれ炭素数2乃至8の2価の炭化水素基を表す。R21及びR22は、それぞれ水素原子又はメチル基を表す。Ar21及びAr24は、それぞれ置換あるいは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナンスレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン、置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる1価の置換基を表す。Ar22及びAr23は、それぞれ置換あるいは無置換のビフェニル、置換もしくは無置換のフルオレン、置換もしくは無置換のフルオランテン、置換もしくは無置換のフェニルナフタレン、置換もしくは無置換のフェナンスレン、置換もしくは無置換のジヒドロフェナントレン、置換もしくは無置換のピレン、置換もしくは無置換のペリレン、置換もしくは無置換のベンゾアントラセン、置換もしくは無置換のカルバゾール、置換もしくは無置換のジベンゾフラン、置換もしくは無置換のジベンゾチオフェンより選ばれる2価の置換基を表す。Z21は、置換あるいは無置換の芳香族炭化水素基又は置換あるいは無置換の芳香族複素環基を表す。nは1乃至4の整数を表す。)
An anode and a cathode;
A layer made of an organic compound sandwiched between the anode and the cathode, and
At least one layer of the organic compound layer is formed of an acrylic thin film containing at least one kind of acrylic compound represented by the following general formula (1) or (2) or an acrylic cured film obtained by curing the acrylic thin film. An organic light emitting device characterized by the above.
Figure 2009016739
(In the formula (1), A 11 and A 12 each represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms. R 11 and R 12 each represent a hydrogen atom or a methyl group. Ar 11 and Ar 13 is substituted or unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, substituted or unsubstituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, substituted or unsubstituted dihydrophenanthrene, substituted or Ar 12 represents a monovalent substituent selected from unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted perylene, substituted or unsubstituted carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran, and substituted or unsubstituted dibenzothiophene. Unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, substituted Is substituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, substituted or unsubstituted dihydrophenanthrene, substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted perylene, substituted or unsubstituted benzoanthracene And a divalent substituent selected from substituted or unsubstituted carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran, and substituted or unsubstituted dibenzothiophene.
Figure 2009016739
(In the formula (2), A 21 and A 22 each represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms. R 21 and R 22 each represent a hydrogen atom or a methyl group. Ar 21 and Ar 24 is substituted or unsubstituted biphenyl, substituted or unsubstituted fluorene, substituted or unsubstituted fluoranthene, substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted A monovalent substituent selected from substituted perylene, substituted or unsubstituted carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran, substituted or unsubstituted dibenzothiophene, Ar 22 and Ar 23 are substituted or unsubstituted biphenyl, respectively. Substituted or unsubstituted fluorene, substituted or unsubstituted fluoranthene, Substituted or unsubstituted phenylnaphthalene, substituted or unsubstituted phenanthrene, substituted or unsubstituted dihydrophenanthrene, substituted or unsubstituted pyrene, substituted or unsubstituted perylene, substituted or unsubstituted benzoanthracene, substituted or unsubstituted Z 21 represents a divalent substituent selected from carbazole, substituted or unsubstituted dibenzofuran, substituted or unsubstituted dibenzothiophene, and Z 21 represents a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted aromatic complex. Represents a cyclic group, and n represents an integer of 1 to 4.)
前記アクリル薄膜又は前記アクリル硬化膜が正孔注入層を形成することを特徴とする、請求項1に記載の有機発光素子。   The organic light emitting device according to claim 1, wherein the acrylic thin film or the cured acrylic film forms a hole injection layer. 以下の工程(i)及び(ii)を含むことを特徴とする、請求項1又は2に記載の有機発光素子の製造方法。
(i)前記アクリル化合物を少なくとも一種類含む前記アクリル薄膜を湿式法により製膜する工程
(ii)前記アクリル薄膜を不活性ガス中で加熱重合又は加熱硬化することで、前記アクリル硬化膜を形成する工程
The method for producing an organic light-emitting element according to claim 1, comprising the following steps (i) and (ii):
(I) Step of forming the acrylic thin film containing at least one kind of the acrylic compound by a wet method (ii) The acrylic thin film is formed by heat polymerization or heat curing of the acrylic thin film in an inert gas. Process
前記不活性ガス中の酸素濃度が10ppm以下であることを特徴とする、請求項3に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 3, wherein an oxygen concentration in the inert gas is 10 ppm or less. 前記不活性ガスが窒素又はアルゴンであることを特徴とする、請求項3及び4に記載の製造方法。   The method according to claim 3 or 4, wherein the inert gas is nitrogen or argon. 前記アクリル薄膜を製膜する際に重合開始剤を含ませないことを特徴とする、請求項3乃至5のいずれか一項に記載の有機発光素子の製造方法。   The method for producing an organic light-emitting device according to claim 3, wherein a polymerization initiator is not included when the acrylic thin film is formed. 前記正孔注入層に接するように発光層を設け、該発光層が塗布法により製膜されることを特徴とする、請求項3乃至6のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 3, wherein a light emitting layer is provided so as to be in contact with the hole injection layer, and the light emitting layer is formed by a coating method. 請求項1又は2に記載の有機発光素子と駆動回路とをそれぞれ複数有することを特徴とする、ディスプレイ。   A display comprising a plurality of the organic light emitting elements according to claim 1 and a plurality of driving circuits. 請求項8に記載のディスプレイと、外部機器とのインターフェースとを備えることを特徴とする、パネルモジュール。   A panel module comprising the display according to claim 8 and an interface with an external device. 請求項8に記載のディスプレイを搭載することを特徴とする、携帯型の表示装置。   A portable display device equipped with the display according to claim 8.
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