JP2008535880A - チオラクトンの製造 - Google Patents

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Abstract

本発明は、金属触媒の存在下での環状チオ無水物の水素化による、環状チオエステル(チオラクトン)および関連化合物の製造方法に関する。
【選択図】 なし

Description

発明の詳細な説明
本発明は、金属触媒の存在下での環状チオ無水物の水素化による、環状(チオラクトン)および関連化合物の製造方法に関する。この方法の生成物は、薬学的またはビタミン型活性物質として、あるいはこのような活性物質の製造のための中間物質として有用である。
出発材料がプロキラル環状チオ無水物であり得る、本発明の方法を適用することによって、そのように製造されたチオラクトンが、驚くほど高い化学選択性およびエナンチオ選択性を特徴とし、かつ、驚くほど高い化学的および光学的収率で得られることが判った。
本発明は、以下の一般式で表されるチオラクトン
Figure 2008535880

または、例えば以下の一般式I’またはI’’’で表される、ヒドロキシチオラクトンまたはその異性体
Figure 2008535880

または、例えば以下の一般式I’’、I’’’’、I’’’’’で表される、開環されたヒドロキシチオラクトンまたはその異性体
Figure 2008535880

[式中、RおよびRの各々は、独立して、−NRを意味し、
そして、RおよびRは、各々独立して、水素、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換シクロアルキル、置換または非置換アリール、任意に芳香族的に置換されたアリールアルキル、任意に芳香族的に置換されたアリールアルケニル、シクロアルキル部分において置換されているかまたは非置換のシクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、置換または非置換アルカノイル、置換または非置換アロイル、置換または非置換アルキルスルホニル、置換または非置換アリールスルホニル、あるいはシリル基、Si(アルキル)、Si(アリール)またはSi(アルキル)1もしくは2(アリール)2もしくは1を意味し、
あるいは、2つの記号Rが一緒になってカルボニル基を形成し、そして2つの残りの記号Rが、各々独立して、RおよびRについて述べられた上記の意味の1つを有する]
の製造方法であって、
以下の一般式で表される環状チオ無水物
Figure 2008535880

(式中、RおよびRは、上記で与えられた意味を有する)
を、第VIII族金属触媒の存在下で水素化することを特徴とする方法に関する。
代替の方法において、RおよびRは、独立して、基(a)または(b)を意味し得、
−OR (a)
−NR (b)
は、RおよびRの意味を有する。
、RおよびRについての種々の意味の上記定義において、いずれのアルキルも、好ましくは12個までの炭素原子、より好ましくは6個までの炭素原子を有する、直鎖または(3以上の炭素原子の場合)分枝鎖アルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、tert−ブチル、ネオペンチルおよびn−ヘキシルを含む。これは、同様に、アリールアルキル、シクロアルキルアルキル、アルカノイルおよびアルキルスルホニル基のような置換または非置換基のアルキル部分に、ならびに、シリル基 Si(アルキル)またはSi(アルキル)1もしくは2(アリール)2もしくは1のアルキルに適用される。いずれのアルケニル(それ自体、あるいは置換または非置換アリールアルケニル基の部分として)も、好適には12個までの炭素原子、より好ましくは6個までの炭素原子を有する、直鎖または分枝鎖アルケニル基を含み、炭素原子の数に依存して3個までの二重結合、好ましくは1個の二重結合を特徴とする。アルケニル基の例はアリルである。いずれのシクロアルキル(それ自体、あるいは置換または非置換シクロアルキルアルキル基の部分として)も、好適には、3〜8個の炭素原子、好ましくは4〜7個の炭素原子を含有する。いずれのアリール(それ自体、あるいは置換または非置換アリールアルキル、アリールアルケニル、アロイルまたはアリールスルホニル基の部分として、ならびにシリル基 Si(アルキル)またはSi(アルキル)1もしくは2(アリール)2もしくは1の部分として)も、好適には、フェニル、1−ナフチルまたは2−ナフチル、好ましくはフェニルである。いずれのヘテロシクリルも、少なくとも部分的に飽和された性質または芳香族(ヘテロ芳香族)性質の基であり得、そして環ヘテロ原子として酸素、硫黄および窒素原子から選択される少なくとも1つを特徴とし、ここで、該環におけるこのような原子の2以上が、同一または異なるヘテロ原子であり得る。このような基の例は、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロジオキサニル、テトラヒドロチオフェニル、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリニル、ピペラジニル、ジヒドロフラニル、ジヒドロジオキサニル、ジヒドロチオフェニル、ピロリルおよびピリジルであり、そしてこのような基はいずれも、1以上の融合されたベンゼン環を特徴としそして/または第2級環窒素原子上に置換基(特に、アルキル基)を有し得る。
置換または非置換アルキル、アルケニル、アルカノイルまたはアルキルスルホニルについての好適な置換基としては、C1−4−アルコキシおよびC1−4−アルキルチオから選択される、1以上の置換基が挙げられ、ここで、同一のアルキルまたはアルケニル上の2以上の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。アルコキシアルキルの場合、これは、好ましくは、メチレン部分に1または2のアルキル置換基を任意に有するアルコキシメチルである。置換または非置換のシクロアルキルについての好適な置換基としては、1以上の、同一のまたは異なる、C1−4−アルキルが挙げられる。置換または非置換アリールについての好適な置換基としては、C1−4−アルキルおよびC1−4−アルコキシが挙げられ、ここで、この場合もまた、2以上の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。問題になる置換基の種類についてのこの情報は、適切である場合、任意に芳香族的に置換されたアリールアルキル、任意に芳香族的に置換されたアリールアルケニル、置換または非置換シクロアルキルアルキル、置換または非置換アロイル、ならびに置換または非置換アリールスルホニルの部分の場合のシクロアルキルおよびアリール部分に同様に適用される。
使用される第VIII族金属触媒において、第VIII族金属(鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、または白金)は、特に、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)またはイリジウム(Ir)である。触媒は、均一系または不均一系、キラルまたはアキラルであり得る。
金属触媒は、金属自体、キラルおよび/またはアキラル修飾剤を有する金属、あるいは、金属が形式的にゼロまたは正の酸化状態を有する金属錯体であり得る。金属錯体は、遊離しているかまたは好適な支持体(例えば、活性炭、有機ポリマー、無機もしくは有機イオン交換体または無機材料、例えば、シリカ、チタニアもしくはアルミナ)上に固定され得る。金属自体の場合における修飾剤、および金属錯体触媒の場合における錯化分子は、金属原子への連結部位として機能する1以上のリン、窒素、酸素および/または硫黄原子を特徴とする単座、二座または多座化合物であり得る。
さらに、1以上のリン、窒素および/または硫黄原子ならびに/あるいは金属に配位し得る官能基を特徴とし、かつ、金属錯化性を有する、追加の有機化合物が、触媒系の部分として、あるいは触媒系の一体部分として存在し得る。好適な官能基は、1以上の二重結合を有するオレフィン中および芳香族化合物中に存在するような二重結合を含む。
触媒系のさらなる成分は、無機塩および/または有機塩ならびに/あるいはプロトン酸であり得る。
好適な均一系金属錯体触媒は、例えば、式IIIまたはIVで表されるものである。
[AMeYZ] III
[AMeY] IV
式中、Aは、2つの第3級モノホスフィンリガンド、またはジ第3級ジホスフィンリガンドを意味し、これらは、該金属原子(Me)と一緒になって、5〜10員、好ましくは5〜8員、特には5〜7員の環を形成し、
Meは、貴金属、好ましくはRh、RuまたはIrを意味し、
Yは、2つのオレフィン、またはジエンを意味し、
Zは、Cl、BrまたはIを意味し、そして
は、プロトン酸または錯酸(complex acid)のアニオンを意味する。
好適なオレフィンYとしては、C2−12−、好ましくはC2−6−および特にはC2−4−オレフィン、例えば、プロペン、1−ブテンおよび(最も好ましくは)エチレンが挙げられる。Yの代替の意味である、ジエンは、5〜12個、好ましくは5〜8個の炭素原子を含有し得、そして脂肪族、環式、または多環式であり得る。ジエンにおける2個の二重結合は、好ましくは、単一または2つのメチレン基によって隔離されている。例えば、1,3−ペンタジエン、シクロペンタジエン、1,5−ヘキサジエン、1,4−シクロヘキサジエン、1,4−もしくは1,5−ヘプタジエン、1,4−もしくは1,5−シクロヘプタジエン、1,4−もしくは1,5−オクタジエン、1,4−もしくは1,5−シクロオクタジエンおよびノルボルナジエンである。好ましくは、Yは、2つのエチレン、あるいは1,5−ヘキサジエン、1,5−シクロオクタジエン、またはノルボルナジエンを意味する。
式IIIにおけるZは、好ましくは、ClまたはBrである。式IVにおけるE の例は、ClO 、CFSO 、CHSO 、HSO 、BF 、B(フェニル) 、B(3,5−ジ(トリフルオロメチル)−フェニル) 、PF 、SbCl 、AsF およびSbF である。
式IIIおよびVIの両方におけるAについての2つの意味のうちの1つである、第3級モノホスフィンリガンドは、1つのリン原子へ結合された、3つの酸素結合化置換基(ホスファイト)、2つの酸素結合化置換基および1つの窒素結合化置換基、あるいは3つの炭素結合化置換基を特徴とする。代替の(単一の)ジ第3級ジホスフィンリガンドは、2つのリン原子が架橋基で連結されており、かつ、該リン原子が酸素、窒素または炭素原子を介して該架橋基へ結合されており、かつ、該リン原子が2つの酸素または炭素結合化置換基を有するものである。
2つの酸素結合化置換基は、好ましくは、ジオールの残基を形成し、その結果、環状ホスホナイト基が存在する。ジオールは、好ましくは、2,2’−ジヒドロキシ−1,1’−ジフェニルまたは−ビナフチルであり、これは、例えば、C1−8−アルキル、C5−8−シクロアルキル、C5−8−シクロアルキル−C1−4−アルキル、C6−10−アリール、C7−12−アラルキル、C1−8−アルコキシ、C5−8−シクロアルキルオキシ、C5−8−シクロアルキル−C1−4−アルコキシ、C6−10−アリールオキシまたはC7−12−アラルキルオキシで、特に6および/または6’位で、一置換または多置換され得る。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、フェニル、ベンジル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ、フェニルオキシ、およびベンジルオキシである。
第3級モノホスフィンおよびジ第3級ジホスフィンは、多数の例において周知であり、そして文献に記載されている。モノホスフィンおよびジホスフィンは、キラルであり得、従って、プロキラル環状ジカルボン酸無水物が本発明の方法に従って水素化される場合、光学異性体の形成を大幅に促進する。
3つの酸素結合化置換基、あるいは2つの酸素結合化置換基および1つの窒素結合化置換基を有する好適な第3級モノホスフィンは、式VおよびVIのものである。
Figure 2008535880

式中、R、R、RおよびRは、独立して、一価の、非置換または置換脂肪族、ヘテロ脂肪族、脂環式、ヘテロ脂環式、脂環式−脂肪族、ヘテロ脂環式−脂肪族、芳香族、ヘテロ芳香族、芳香族−脂肪族、あるいはヘテロ芳香族−脂肪族基を意味し、RおよびRは、一緒になって、二価の、非置換または置換脂肪族、ヘテロ脂肪族、脂環式、ヘテロ脂環式、脂環式−脂肪族、ヘテロ脂環式−脂肪族、芳香族、ヘテロ芳香族、芳香族−脂肪族、あるいはヘテロ芳香族−脂肪族基を形成し、そしてRおよびRは、窒素原子と一緒になって5または6員環を形成する。
およびRは、一緒になって、好ましくは二価の基、特には、非置換または置換1,1’−ビナフト−2,2’−ジイルまたは1,1’−ビフェン−2,2’−ジイルを形成する。後者の例は、以下の式で表されるリガンドである。
Figure 2008535880

式中、RおよびRは、上記に与えられる意味を有する。
好適な第3級モノホスフィンは、非置換または置換脂肪族、ヘテロ脂肪族、脂環式、ヘテロ脂環式、脂環式−脂肪族、ヘテロ脂環式−脂肪族、芳香族、ヘテロ芳香族、芳香族−脂肪族、およびヘテロ芳香族−脂肪族基から選択される、3つのC結合化置換基を含み、これは、好適には、18個まで、好ましくは12個まで、そして特には8個までの炭素および/またはへテロ原子、ならびに4〜8個、好ましくは5〜7個、特には5または6個の環メンバーを含有する。環式基は、多環式基へ連結、融合、または融合および連結され得、そしてこのような環系は、例えば、2〜6個、好ましくは2〜4個の、環式またはヘテロ環式炭素原子を含有し得る。
ヘテロ環式基中のヘテロ原子または集団は、−O−、−S−、=N−、−HN−または−RNから選択され得、ここで、Rは、好ましくは、C1−8−アルキル、C5−8−シクロアルキル、C5−8−シクロアルキル−C1−4−アルキル、C6−10−アリール、C7−12−アラルキル、またはC1−8−アシルを意味する。脂肪族基またはヘテロ脂肪族基は、例えば、任意に1以上の挿入された酸素および/または硫黄原子を特徴とする、直鎖または分枝鎖のC1−12−アルキル、好ましくはC3−8−アルキルであり得る(そしてしたがって、例えば、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルチオアルキルチオアルキルなどの基、あるいは酸素鎖メンバーおよびチオ鎖メンバーの両方を特徴とする類似の基である)。脂環式基は、好適には、C5−8−シクロアルキルであり、そしてヘテロ脂環式基は、好適には、炭素原子と、ヘテロ原子または集団として、1以上の−O−、−S−および/または−NR−(Rは、上記に与えられる通り)とを含む、5〜8の環メンバーを有する環式基である。脂環式−脂肪族基は、好適には、C5−8−シクロアルキル−C1−4−アルキルであり、そしてヘテロ脂環式−脂肪族基は、「ヘテロ脂環式」について上記で説明される通りの該基のヘテロ脂環式部分と、1〜4の炭素原子を有するアルキル部分とを特徴とする。芳香族基およびヘテロ芳香族基は、好適には、それぞれ、C6−12−アリール、ならびに−O−、−S−、=N−、−HN−および−RN−(Rは、上記に与えられる通り)から選択される1以上のヘテロ原子または集団を特徴とするC5−11−ヘテロアリールである。好適には、それぞれ、C6−12−アリール−C1−4−アルキルまたはC5−11−ヘテロアリール−C1−4−アルキルである、芳香族−脂肪族基またはヘテロ芳香族−脂肪族基において、後者の基のC5−11−ヘテロアルキル部分は、「C5−11−ヘテロアリール」について上記で説明される通りである。
第3級モノホスフィンはまた、全部で4〜6の環メンバーを有する、P置換化P環式環(P−subsituted P−cyclic rings)であり得る(ホスフェタン、ホスホラン、およびホスファン)。P置換基は、例えば、ジ第3級ジホスフィンについて後で説明されるように、置換され得る。モノホスフィンの例は、トリメチルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリノルボルニルホスフィン、トリアダマンチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリトルイルホスフィン、トリキシリルホスフィン、フェニルホスホラン、およびジフェニル−tert−ブチルホスフィンである。
アキラルおよびキラルジ第3級ジホスフィンとしては、両方のホスフィン基が、異なる位置で直鎖または環式の連結炭化水素基へ、好ましくは以下へ、結合されているものが挙げられる。
(a)C2−6−炭素鎖の種々の炭素原子、該鎖は、単環式環の部分または二環式環系の部分である(例えば、フェロセン中のビフェニルまたはビナフチル、あるいはシクロペンタジエニル−フェニル、シクロペンタジエニル−CH−フェニル、またはシクロペンタジエニル−CH(OCH)−フェニルとして)、あるいは、
(b)各場合において、置換または非置換フェロセンのシクロペンタジエニル環。
ジ第3級ジホスフィンリガンドは、2つの同一または異なる炭化水素基、好ましくは2つの同一の炭化水素基を含有し得る、2つの第2級ホスフィン基XおよびXを含有する。さらに、第2級ホスフィン基XおよびXは、同一であるかまたは異なり得る。
炭化水素基は、非置換または置換であり得、そして/あるいは、O、SまたはNから選択されるヘテロ原子を含有し得る。それらは、1〜22個、好ましくは1〜12個、そして特には1〜8個の炭素原子を含有し得る。好ましい第2級ホスフィンは、ホスフィン基が以下から選択される2つの同一または異なる基を含有するものである。直鎖または分枝鎖のC1−12−アルキル;非置換C5−12−シクロアルキルまたはC5−12−シクロアルキルメチルまたはC1−6−アルキルもしくはC1−6−アルコキシで置換されたこの基;フェニル、ナフチル、フリルまたはベンジル;あるいは、ハロゲン(特には、F、ClもしくはBr)、C1−6−アルキル、C1−6−ハロアルキル(例えば、トリフルオロメチル)、C1−6−アルコキシ、C1−6−ハロアルコキシ(例えば、トリフルオロメトキシ)、(CSi、(C1−12−アルキル)Si、ジアルキルアミノまたは−CO−C1−6−アルキル(例えば、−COCH)で置換された(ベンジルの場合、芳香族環において)フェニルまたはベンジル。
好ましくは1〜6の炭素原子を有するアルキルであるP置換基の例は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチルならびにペンチルおよびヘキシルの異性体である。任意にアルキル置換されたシクロアルキルであるP置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチル−およびエチルシクロヘキシル、およびジメチルシクロヘキシルである。アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシおよびハロゲン置換されたフェニルおよびベンジルであるP置換基の例は、o−、m−およびp−フルオロフェニル、o−、m−およびp−クロロフェニル、ジフルオロ−およびジクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビス−トリフルオロメチルフェニル、トリス−トリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビス−トリフルオロメトキシフェニル、ならびに3,5−ジメチル−4−メトキシフェニルである。
好ましい第2級ホスフィン基は、以下から選択される同一の基を特徴とするものである。C1−6−アルキル;非置換シクロペンチルまたはシクロヘキシル基;1〜3のC1−4−アルキルおよび/またはC1−4−アルコキシ基で置換されたシクロペンチルまたはシクロヘキシル;ならびに1〜3のC1−4−アルキル、C1−4−アルコキシ、フッ素、塩素、C1−4−フルオロアルキルおよび/またはC1−4−フルオロアルコキシ(3つまでの同一または異なる置換基)で各々が置換された(ベンジルの場合、芳香族的に)あるいは非置換のフェニルおよびベンジル。
第2級ホスフィノ基は、好ましくは、式−PR10を有し、式中、RおよびR10の各々は、互いに独立して、1〜18の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、そしてこれは、ハロゲン、C1−6−アルキル、C1−6−ハロアルキル、C1−6−アルコキシ、C1−6−ハロアルコキシ、(C1−4−アルキル)アミノ、(CSi、(C1−12−アルキル)Siまたは−CO−C1−6−アルキル、および/またはヘテロ原子Oで置換されているかまたは置換されていない。
好ましくは、RおよびR10は、以下から選択される同一の基である。直鎖または分枝鎖のC1−6−アルキル、非置換シクロペンチルまたはシクロヘキシル;1〜3のC1−4−アルキルおよび/またはC1−4−アルコキシ基で置換されたシクロペンチルまたはシクロヘキシル;フリル;非置換ベンジル;1〜3のC1−4−アルキルおよび/またはC1−4−アルコキシ基で芳香族的に置換されたベンジル;あるいは、特に、非置換フェニル、あるいは、同一または異なるC1−4−アルキル、C1−4−アルコキシ、アミノ、ジ(C1−6−アルキル)アミノ、ヒドロキシル、フッ素、塩素、C1−4−フルオロアルキルおよびC1−4−フルオロアルコキシから選択される1〜3の基/原子で置換されたフェニル。RおよびR10は、最も好ましくは、C1−6−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フリル、あるいは、置換または非置換フェニルから選択される同一の基を意味し、任意に存在する置換基は、3までのC1−4−アルキル、C1−4−アルコキシおよびC1−4−フルオロアルキル基であり、そして、ここで、2または3のこのような置換基が存在し、これらは同一であるかまたは異なっている。
第2級ホスフィン基XおよびXは、例えば置換または非置換環構造を有する、環状第2級ホスフィノであり得る。
Figure 2008535880

任意に存在する置換基は、ヒドロキシル、C1−8−アルキル、C4−8−シクロアルキル、C1−6−アルコキシ、C1−4−アルコキシ−C1−4−アルキル、フェニル、C1−4−アルキル−またはC1−4−アルコキシフェニル、ベンジルC1−4−アルキル−またはC1−4−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、C1−4−アルキル−またはC1−4−アルコキシベンジルオキシ、およびC1−4−アルキリジエン−ジオキシから選択される1以上の基である。
置換基は、リン原子に対して一方または両方のα位に存在し、キラル炭素原子の存在を可能にし得る。好ましくは、一方または両方のα位における置換基は、C1−4−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−またはイソ−プロピル;C1−4−アルコキシメチル;ベンジル;あるいは、C6−10−アリールオキシメチルである。
あるいは、任意に存在する置換基は、リン原子に対して2つの位置βおよびγに存在し得、そしてこの場合、置換基としては、β位およびγ位に結合された二価の置換基が挙げられ得る。β位および/またはγ位についての置換基の例は、C1−4−アルキル、C1−4−アルコキシ、ベンジルオキシ、ならびに(二価の置換基)−O−CH−O−、−O−CH(C1−4−アルキル)−O−および−O−C(C1−4−アルキル)−O−である。好ましいこのような置換基は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−O−CH(メチル)−O−、および−O−C(メチル)−O−である。
さらなる公知かつ好適なホスフィン基は、環に7個の炭素原子を有する環状かつキラルなホスホランから誘導されるもの、例えば、以下の式のものである。
Figure 2008535880

式中、芳香族環は、C1−4−アルキル、C1−4−アルコキシ、C1−4−アルコキシ−C1−2−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、およびC1−4−アルキリデン−ジオキシおよびC1−4−アルキレン−ジオキシから選択される1以上の置換基を特徴とし得る。このような環状かつキラルなホスホランについての情報は、米国特許出願公開第2003/0073868 A1号明細書および国際公開第02/048161号パンフレットのような刊行物から公知である。
置換基の種類、位置および数に依存して、環状ホスフィン基は、C−キラル、P−キラル、あるいはC−およびP−キラルであり得る。
環状第2級ホスフィノ基は、例えば、以下の式に従い得、これらの各々において、可能なジアステレオ異性体の1つだけが示される。
Figure 2008535880

式中、R’あるいはR’およびR’’の各々は、独立して、C1−4−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−もしくはイソプロピル;C1−4−アルコキシメチル;ベンジル;あるいはC6−10−アリールオキシメチルを意味する。さらに、R’およびR’’が同一の炭素原子へ結合されているこれらのケースにおいて、それらは、一緒になってC−またはC−アルキレンを形成し得る。
好ましい実施形態において、XおよびXは、以下から選択される同一または異なる非環状第2級ホスフィン基を意味する。−P(C1−6−アルキル)、−P(C5−8−シクロアルキル)、−P(C7−8−ビシクロアルキル)、−P(o−フリル)、−P(C、−P[2−(C1−6−アルキル)−C、−P[3−(C1−6−アルキル)−C、−P[4−(C1−6−アルキル)−C、−P[2−(C1−6−アルコキシ)−C、−P[3−(C1−6−アルコキシ)−C、−P[4−(C1−6−アルコキシ)−C、−P[2−トリフルオロメチル−C、−P[3−トリフルオロメチル−C、−P[4−トリフルオロメチル−CH4]、−P[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−C、−P[3,5−ジ(C1−6−アルキル)−C、−P[3,5−ジ(C1−6−アルコキシ)−C、および−P[3,5−ジ(C1−6−アルキル)−4−(C1−6−アルコキシ)−C、あるいは以下の式の1つで表される環状第2級ホスフィン基
Figure 2008535880

これは、各場合において、非置換であるか、あるいはC1−4−アルキル、C1−4−アルコキシ、C1−4−アルコキシ−C1−2−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシまたはC1−4−アルキリデン−ジオキシで一置換または多置換されている。
非環状および環状第2級ホスフィン基のいくつかの具体例は、以下である。−P(CH、−P(イソC、−P(n−C、−P(イソC、−P(C11、−P(ノルボルニル)、−P(o−フリル)、−P(C、P[2−メチル−C、P[3−メチル−C、−P[4−メチル−C、−P[2−メトキシ−C、−P[3−メトキシ−C、−P[4−メトキシ−C、−P[3−トリフルオロメチル−C、−P[4−トリフルオロメチル−C、−P[3,5−ジ(トリフルオロメチル)−C、−P[3,5−ジメチル−C、−P[3,5−ジメトキシ−C、および−P[3,5−ジメチル−4−メトキシ−C、ならびに以下の式で表される基
Figure 2008535880

(式中、R’およびR’’は、同一の意味を有し、そして各々、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチルまたはベンジルオキシメチルである)。
ジ第3級ジホスフィンは、好ましくは、以下で表される式に従う。
−R11−X (IX)
式中、XおよびXは、上記で与えられる意味を有し、そしてR11は、以下を意味する。非置換C2−4−アルキレン、あるいはC1−6−アルキル、C1−6−アルコキシ、C−もしくはC−シクロアルキル、フェニル、ナフチルまたはベンジルで置換されたC2−4−アルキレン;各々4〜10の炭素原子を有し、そして非置換であるかまたはC1−6−アルキル、フェニルもしくはベンジルで置換されている、1,2−もしくは1,3−シクロアルキレン、1,2−もしくは1,3−シクロアルケニレン、1,2−もしくは1,3−ビシクロアルキレンまたは1,2もしくは1,3−ビシクロアルケニレン;各々4〜10の炭素原子を有し、そしてその1位および/または2位であるいはその3位で結合メチレンまたはC−アルキリデンで強化されている、1,2−もしくは1,3−シクロアルキレン、1,2−もしくは1,3−シクロアルケニレン、1,2−もしくは1,3−ビシクロアルキレンまたは1,2−もしくは1,3−ビシクロアルケニレン;1,4−ブチレン[これは、−O−CR−O−で2位および3位で置換されており、かつ、その1位および/または4位で非置換であるかあるいはこのような位置でC1−6−アルキル、フェニルもしくはベンジルで置換されており、そして式中、RおよびRの各々は、独立して、水素、C1−6−アルキル、フェニル、またはベンジルを意味し、この3,4−もしくは2,4−ピロリジニレンまたはメチレン−4−ピロリジン−4−イルは、各場合において、窒素原子が、非置換であるかあるいはC1−12−アルキル、フェニル、ベンジル、C1−12−アルコキシカルボニル、C1−8−アシルまたはC1−12−アルキルアミノカルボニルで置換されている];あるいは、各々が非置換であるかあるいはハロゲン、ヒドロキシル、C1−6−アルキル、C1−6−アルコキシ、フェニル、ベンジル、フェノキシまたはベンジルオキシで置換されている、1,2−フェニレン、2−ベンジレン、1,2−キシリレン、1,8−ナフチレン、1,1’−ジナフチレンまたは1,1’−ジフェニレン;あるいは、以下の式で表される1つの基:
Figure 2008535880

式中、R12は、水素、C1−8−アルキル、C1−4−フルオロアルキル、非置換フェニル、あるいはフッ素、塩素、臭素、C1−4−アルキル、C1−4−アルコキシおよびフルオロメチルから選択される、同一または異なる3個までの置換基を有するフェニルを意味し;
nは、0または1〜4の整数を意味し、そしてR’または各R’は、独立して、C1−4−アルキル、C1−4−フルオロアルキルまたはC1−4−アルコキシを意味し;
Tは、C6−20−アリーレンまたはC3−16−ヘテロアリーレンを意味し;
フリーの結合は、T−シクロペンタジエニルに対してオルト位に配置され;
R’’は、水素、R001002003Si−、C1−8−アルコキシ、ヒドロキシル、ハロゲンで置換されたC1−18−アシル;R004005N−、またはR006−X001C(O)−を意味し;
001、R002およびR003の各々は、独立して、C1−12−アルキル、非置換C6−10−アリールまたはC7−12−アリールアルキル、あるいはC1−4−アルキルまたはC1−4−アルコキシで置換されたこのような基を意味し;
004およびR005の各々は、独立して、水素、C1−12−アルキル、C3−8−シクロアルキル、C6−10−アリールまたはC7−12−アラルキルを意味するか、あるいはR004およびR005は、一緒になってトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、または3−オキサペンチレンを形成し;
006は、C1−18−アルキル;非置換であるかあるいはC1−4−アルキルもしくはC1−4−アルコキシで置換されたC3−8−シクロアルキル;C6−10−アリールまたはC7−12−アラルキルを意味し、そして
001は、−O−または−NH−を意味する。
上記式におけるシクロペンタジエニル環は、各々、独立して、例えばC1−4−アルキルで置換され得る。第3級モノホスフィンおよびジ第3級ジホスフィンは、ラセミ体またはジアステレオ異性体の混合物の形態で使用され得るか、あるいは、それらは、本質的にエナンチオマー的に純粋な形態で使用され得る。
アキラルおよびキラルジホスフィンの好ましい群は、以下の式X〜XXIXで表されるものである。
Figure 2008535880

Figure 2008535880

式中、R、T、R’、R’’、XおよびXは、好ましい意味を含む、上記で与えられる意味を有し、
13およびR14は、各々独立して、水素、C1−4−アルキル、フェニルまたはベンジルを意味し、後者の2つの基は、非置換であるか、または、1〜3のC1−4−アルキルおよび/またはC1−4−アルコキシ基で(芳香族的に)置換されており、
15およびR16は、各々独立して、水素、C1−4−アルキル、フェニルまたはベンジルを意味し、
17およびR18は、各々独立して、水素、C1−4−アルキル、C1−4−アルコキシ、フェニルまたはベンジルを意味し、後者の2つの基は、非置換であるか、または、1〜3のC1−4−アルキルおよび/またはC1−4−アルコキシ基で(芳香族的に)置換されており、
19は、水素、C1−12−アルキル、フェニル、ベンジルを意味し、後者の2つの基は、非置換であるか、あるいは、1〜3のC1−4−アルキルおよび/またはC1−4−アルコキシ基、C1−12−アルコキシ−C(O)−、フェニル−C(O)−、ベンジル−C(O)−で(芳香族的に)置換されており、後者の2つの基は、非置換であるか、あるいは、1〜3のC1−4−アルキルおよび/またはC1−4−アルコキシ基、C1−12−アルキル−NH−CO、フェニル−NH−C(O)−またはベンジル−NH−C(O)−で置換されており、後者の2つの基は、非置換であるか、あるいは、1〜3のC1−4−アルキルおよび/またはC1−4−アルコキシ基で置換されており、
Xは、0、1または2を意味し、
20およびR21は、各々独立して、C1−4−アルキルまたはC1−4−アルコキシを意味するか、あるいはR20およびR21は、一緒になって、オキサジメチレンを形成し、
22、R23、R24、R25、R26およびR27は、各々独立して、水素、C1−4−アルキル、C1−4−アルコキシ、C−もしくはC−シクロアルキルまたはシクロアルコキシ、フェニル、ベンジル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、−(CH−C(O)−O−C1−4−アルキル、−(CH−C(O)−N(C1−4−アルキル)または−N(C1−4−アルキル)を意味し、あるいはR22およびR24、ならびに/あるいはR20およびR24、ならびに/あるいはR23およびR25、ならびに/あるいはR21およびR25、あるいはR24およびR26ならびに/あるいはR25およびR27が、各々一緒になって、融合された5員または6員の単環式または二環式の炭化水素環を形成し、そして
28は、水素、C1−6−アルキル、シクロヘキシル、またはフェニルを意味する。
キラルジ第3級ジホスフィンのいくつかの好ましい例は、以下の式で表されるものである。
Figure 2008535880

式中、Rは、分枝鎖C3−8−アルキル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチル、非置換フェニル、あるいは、1〜3のC1−4−アルキル、C1−4−アルコキシおよび/またはトリフルオロメチル基、あるいはアミノ、(C1−4−アルキル)NH−または(C1−4−アルキル)N−で置換されたフェニルを意味し、
は、水素またはC1−4−アルキルを意味し、
Tは、1,2−フェニレン、R’水素およびR’’C1−4−アルキルを意味し、
29およびR30は、各々独立して、C1−4−アルキル、フェニルまたはベンジル、最も好ましくは、メチルを意味し、
31は、C1−8−アルキル、C1−8−アシルまたはC1−8−アルコキシカルボニルを意味し、
32は、水素、または、独立して、R33の意味を有し、そしてR33は、C1−4−アルキル、フェニルまたはベンジルを意味し、
34は、メチル、メトキシ、または両方のR34が一緒になってオキサジメチレンを意味し、
35およびR36は、各々独立して、水素、C1−4−アルキル、C1−4−アルコキシ、または(C1−4−アルキル)N−意味し、
37およびR38は、各々独立して、水素、C1−4−アルキル、C1−4−アルコキシ、−(CH−C(O)−O−C1−4−アルキル、または−(CH−C(O)−N(C1−4−アルキル)を意味し、そして
39は、C1−4−アルキル、最も好ましくはメチルを意味する。
ヘテロ環式構造を有する好適なジ第3級ジホスフィンは、EP−A−0 770 085号明細書、T.ベニンコーリ(Benincoriら)、J.Organomet.Chem.529(1997年)、445−453頁、およびJ.Org.Chem.61、6244頁(1996年)、F.ボニファシオ(Bonifacio)ら、Chiratech 1997、11−13、1997年11月、米国ペンシルバニア州フィラデルフィア(Philadelphia,Pennsylvania,USA)、およびL.F.ティーチェ(Tietze)ら、Chem.Commun.1811−1812頁(1999年)に記載されている。いくつかの例は以下である。
Figure 2008535880
好適なジ第3級ジホスフィンはまた、例えば、「Comprehensive Asymmetric Catalysis」(E.N.ヤコブセン(Jacobsen)、A.ファルツ(Pfalz)およびH.ヤマモト(Yamamoto)(編))、第I−III巻、Springer−Verlag、ベルリン(Berlin)、1999年に記載されている。
いくつかの好ましい触媒としては、以下が挙げられる。
Figure 2008535880

Josphosリガンド
Figure 2008535880

Walphosリガンド
Figure 2008535880

他のリガンド
Figure 2008535880
水素化のための水素源として、水素自体、あるいは水素供給体、例えば、脂肪族アルコール、例えば、イソプロパノール、またはギ酸アンモニウムが使用され得る。
本発明に従う方法は、不活性溶媒中において、あるいは溶媒の非存在下で行われ得る。好適な溶媒としては、脂肪族、脂環式、および芳香族炭化水素が挙げられ、その例は、以下である。ペンタン、ヘキサン、ガソリンエステル(petrol esters)、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレン;任意にフッ素化されたアルコール、その例は、以下である。メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテルおよびジエチレングリコールモノメチルおよびモノエチルエーテル(後者の3例は、溶媒クラスエーテルにも属する)、ならびに1,1,1−トリフルオロエタノール;脂肪族および環状エーテル、その例は、以下である。ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびジエチレングリコールモノメチルおよびモノエチルエーテル(後者の2例は、溶媒クラスアルコールにも属する);脂肪族ケトン、その例は、以下である。アセトンおよびメチルイソブチルケトン;脂肪族カルボン酸、例えば、酢酸;脂肪族カルボン酸エステルおよびラクトン、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、およびバレロラクトン;脂肪族カルボン酸アミド、例えば、N,N−ジメチルアセトアミドおよびジメチルホルムアミド;N−置換ラクトン、例えば、N−メチルピロリドン;環状尿素、例えば、N,N−ジメチル−イミダゾリジン−2−オン;脂肪族および脂環式スルホキシドおよびスルホン、その例は、以下である。ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシドおよびテトラメチレンスルホン;ならびに水。溶媒は、本方法において、唯一のものとして使用され得、あるいは、例えば上記のクラスまたはその例から選択される、少なくとも2つの溶媒の混合物が、使用されてもよい。溶媒の好ましいクラスは、炭化水素、アルコール、およびエーテルである。
金属または金属錯体触媒の金属成分は、好適には、環状ジカルボン酸無水物出発材料の量に対して、約0.0001〜約10モル%、好ましくは約0.001〜約10モル%、そして最も好ましくは約0.1〜約5モル%の範囲の量で使用される。
使用される金属触媒に加えて、共触媒が、本発明に従う方法において使用され得る。このような共触媒は、好適には、アルカリ金属、あるいは置換または非置換アンモニウム、特にハロゲン化第4級アンモニウムである。アルカリ金属は、特に、リチウム、ナトリウム、またはカリウムであり、そしてハロゲン化物は、特に、臭化物またはヨウ化物、好ましくは後者である。ハロゲン化第4級アンモニウムについて、アンモニウム上の置換基は、好適には、低級アルキル(特には、C1−6−アルキル)基および/またはアリール(特には、フェニル)基である。共触媒が使用される場合、使用される金属触媒1当量に対するその量は、好適には、約0.1〜約100当量、好ましくは約10〜約80当量である。
さらに、共触媒を用いるのと同様に、本発明の方法はまた、プロトン酸、例えば、鉱酸、カルボン酸、またはスルホン酸の存在下で行われ得る。このようなプロトン酸の例は、それぞれ、塩酸、酢酸、およびp−トルエンスルホン酸である。本方法についての溶媒の役割において同時でない場合、プロトン酸は、好適には、約0.001重量%(wt.%)〜約50wt.%、好ましくは約0.1wt.%〜約50wt.%の量で使用される。
共触媒とプロトン酸との同時使用についての文献としては、米国特許第5,371,256号明細書、米国特許第5,446,884号明細書、米国特許第5,583,241号明細書およびEP−A−0 691 949号明細書が挙げられる。
本発明に従う方法は、好都合には約80℃〜約200℃、好ましくは約100℃〜約180℃、そして最も好ましくは約120℃〜約170℃の温度で行われる。一般的に、達成される光学収率は、反応がより高い温度で行われるよりもこれらの範囲内のより低い温度で行われる場合に、より高くなる。他方、より迅速な変換は、一般的に、低温よりも高温で達成される。
さらには、該(水素化)方法は、常圧下または高圧下で行われ得る。典型的に、約0.1MPa〜約150MPaの範囲の圧力が使用される。本発明の1実施形態において、該方法は、1barの大気圧を超える、好ましくは20〜150bar、より好ましくは20〜100bar、そして最も好ましくは50〜80barの圧力下で行われる。
金属触媒は、そのままで(予め形成された状態で)本発明に従う方法において使用され得、あるいは、環状チオ無水物出発材料ならびに反応に関与する他の材料(例えば、溶媒および共触媒)の存在下においてインサイチュで形成されてもよい。さらに、予め形成された触媒を使用する場合、反応混合物をリガンドで強化すること、または触媒のインサイチュ作製の場合、過剰量のリガンドを使用することが有利であり得;このようなリガンド過剰量は、使用する貴金属触媒のモル量に基づいて、6モル過剰まで、好ましくは2モル過剰までの量であり得る。
使用される触媒、反応条件および溶媒(使用される場合)に依存して、式Iのチオラクトンまたは式I’のヒドロキシチオラクトンもしくはその異性体または式I’’の開環されたヒドロキシラクトンもしくはその異性体が、化学選択的に得られる。I、I’またはI’’、I’’’、I’’’’、I’’’’’が得られる立体選択性もまた、使用される触媒、反応条件および溶媒(使用される場合)に依存する。
一般的に、本発明の方法は、バッチ式または連続的に行われ得る。
本発明に従う方法は、好ましくは、以下の一般式で表される環状チオ無水物:
Figure 2008535880

(式中、各Rは、独立して、RおよびRについて上記で与えられた意味の1つ、好ましくは、水素、置換または非置換アルケニル、置換または非置換アリールアルキル、ヘテロシクリル、−COアルキル、−SOアルキル、−SOアリールまたは−Si(アルキル)、特にはアリル、ベンジル、p−メトキシベンジル、1−フリル、2−フリル、1−チエニルまたは2−チエニルを意味する)
の金属触媒の存在下での水素化に適用され、好ましくは(3aS,6aR形態で)50%eeを超える光学純度でエナンチオ選択的に、以下の一般式で表される好適なチオラクトン:
Figure 2008535880

が得られる。
本発明を以下の実施例によって例示する。
「シクロチオ無水物」(式IIa、式中、R=R=ベンジル)の不斉水素化のための実験手順
グローブボックス中において、酸素を排除したアルゴン雰囲気下、室温(20〜22℃)で、ガラス挿入物を備えた15mlのステンレス鋼オートクレーブを、出発材料チオ無水物IIa(0.50g、1.412mmol)で充填した。第2のフラスコ中において、[Ir(cod)Cl](2mg、0.00296mmol)および(S)−(−)MeOBIPHEP(3.45mg、0.00592mmol)を、2.5mlのテトラヒドロフラン(ナトリウム/ベンゾフェノンケチル/アルゴンにおいて蒸留)と混合し、そして10分間振盪した。次いで、この溶液(リガンド:イリジウム比=2:1)を、無水物出発材料を含有する前記オートクレーブ中に配置した。基質/Ir比は約500である。該オートクレーブを前記グローブボックス中に閉じた。次いで、オートクレーブを窒素で(5bar、3回)、次いで水素(10bar、3回)でパージし、30barに設定し、温度を150℃に維持し、そしてオートクレーブをその温度で20時間振盪した。次いで、オートクレーブを室温へ冷却し、そして圧力を放出した。有機反応混合物(透明な溶液)を減圧下で蒸発乾固し、0.53gの褐色固体を得た。変換率および化学選択性をH−NMRおよびHPLCで測定し、得られたチオラクトンのエナンチオマー純度をHPLCで測定した(Chiralpak AS−H,250×4.6mm、溶媒 イソプロパノール:n−ヘキサン:アセトニトリル=62:35:3、210nmで検出、t(D−チオラクトン)34分、t(L−チオラクトン)38分)。チオラクトンの収率2.1%、D−チオラクトン:L−チオラクトン比=39.3:60.7(エナンチオマー過剰率21%)。
別の実施例において、0.05gチオ無水物IIaから出発し、約50の基質/Ir比で、その他は上述の実施例において与えられた同一条件下で、以下の結果が得られた:0.065gの褐色オイル、チオラクトンの収率4%、D−チオラクトン:L−チオラクトン比=41.0:59.0(エナンチオマー過剰率18%)。

Claims (15)

  1. 以下の一般式で表されるチオラクトン
    Figure 2008535880

    または、以下の一般式で表されるヒドロキシチオラクトン
    Figure 2008535880

    または、以下の一般式I’’で表される開環されたヒドロキシチオラクトンまたはその異性体
    Figure 2008535880

    [式中、RおよびRの各々は、独立して、−NRを意味し、
    そして、RおよびRは、各々独立して、水素、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換シクロアルキル、置換または非置換アリール、任意に芳香族的に置換されたアリールアルキル、任意に芳香族的に置換されたアリールアルケニル、シクロアルキル部分において置換されているかまたは非置換のシクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、置換または非置換アルカノイル、置換または非置換アロイル、置換または非置換アルキルスルホニル、置換または非置換アリールスルホニル、あるいはシリル基、Si(アルキル)、Si(アリール)またはSi(アルキル)1もしくは2(アリール)2もしくは1を意味し、
    あるいは、2つの記号Rが一緒になってカルボニル基を形成し、そして2つの残りの記号Rが、各々独立して、RおよびRについて述べられた上記の意味の1つを有する]
    の製造方法であって、
    以下の一般式で表される環状チオ無水物
    Figure 2008535880

    (式中、RおよびRは、上記で与えられた意味を有する)
    を、第VIII族金属触媒の存在下で水素化することを特徴とする、方法。
  2. 前記金属が、ルテニウム、ロジウムまたはイリジウム、好ましくはイリジウムである、請求項1に記載の方法。
  3. 前記触媒が、均一系または不均一系、キラルまたはアキラルである、請求項1または請求項2に記載の方法。
  4. 前記金属触媒が、金属自体、キラルおよび/またはアキラル修飾剤を有する金属、あるいは、金属および錯化分子を含む金属錯体であり、ここで、該金属は、好ましくは、形式的にゼロまたは正の酸化状態を有し、該金属錯体は、遊離しているかまたは好適な支持体上に固定されている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記キラルおよび/またはアキラル修飾剤、ならびに/あるいは前記錯化分子が、前記金属原子への連結部位として好ましくは機能する、1以上のリン、窒素、酸素および/または硫黄原子を有する単座、二座または多座化合物である、請求項4に記載の方法。
  6. 1以上のリン、窒素および/または硫黄原子ならびに/あるいは前記金属に配位し得る官能基を特徴とし、かつ、金属錯化性を有する、1以上の追加の有機化合物が、前記触媒系の部分である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 式IIIまたはIV
    [AMeYZ] III
    [AMeY] IV
    (式中、Aは、2つの第3級モノホスフィンリガンド、またはジ第3級ジホスフィンリガンドを意味し、これらは、該金属原子(Me)と一緒になって、5〜10員、好ましくは5〜8員、特には5〜7員の環を形成し、
    Meは、貴金属、好ましくはRh、RuまたはIrを意味し、
    Yは、2つのオレフィン、またはジエンを意味し、
    Zは、Cl、BrまたはIを意味し、そして
    は、プロトン酸または錯酸のアニオンを意味する)
    で表されるものである、均一系金属錯体触媒が使用される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記方法が、溶媒、好ましくは、不活性溶媒、より好ましくは、脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素、フッ素化されたまたはフッ素化されていないアルコール、開環脂肪族または環式脂肪族エーテル、脂肪族ケトン、脂肪族カルボン酸、カルボン酸エステルまたはラクトン、脂肪族カルボン酸アミド、N置換ラクトン、環状尿素、脂肪族または脂環式スルホキシドまたはスルホン、または水、あるいは上記クラスから選択される少なくとも2つの溶媒の混合物中で行われる、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記金属または前記金属錯体触媒の金属成分が、環状チオ無水物出発材料の量に対して、約0.0001〜約10モル%、好ましくは約0.001〜約10モル%、そして最も好ましくは約0.1〜約5モル%の範囲の量で使用される、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記使用される金属触媒に加えて、アルカリ金属あるいは置換または非置換ハロゲン化アンモニウム、好ましくは置換または非置換第4級ハロゲン化アンモニウムである、共触媒が使用される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
  11. 前記方法が、プロトン酸、特には、鉱酸、カルボン酸またはスルホン酸の存在下で行われる、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 前記方法が、約80℃〜約200℃、好ましくは約100℃〜約180℃、そして最も好ましくは約120℃〜約170℃の温度で行われる、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
  13. 以下の一般式で表される環状チオ無水物
    Figure 2008535880

    (式中、各Rは、独立して、RおよびRについて上記で与えられる意味の1つ、好ましくは、水素、置換または非置換アルケニル、置換または非置換アリールアルキル、ヘテロシクリル、−COアルキル、−SOアルキル、−SOアリールまたは−Si(アルキル)、特に、アリル、ベンジル、p−メトキシベンジル、1−フリル、2−フリル、1−チエニルまたは2−チエニルを意味する)
    を金属触媒の存在下で水素化し、以下の一般式で表される好適なチオラクトン
    Figure 2008535880

    を得る、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
  14. 前記圧力が、1barの大気圧を超え、好ましくは20〜150bar、より好ましくは20〜100bar、そして最も好ましくは50〜80barである、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
  15. 以下の一般式で表されるチオラクトン
    Figure 2008535880

    または、以下の一般式で表されるヒドロキシチオラクトンまたはその異性体
    Figure 2008535880

    または、以下の一般式で表される開環されたヒドロキシチオラクトンまたはその異性体
    Figure 2008535880

    [式中、RおよびRの各々は、独立して、−NRを意味し、
    そして、RおよびRは、各々独立して、水素、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換シクロアルキル、置換または非置換アリール、任意に芳香族的に置換されたアリールアルキル、任意に芳香族的に置換されたアリールアルケニル、シクロアルキル部分において置換されているかまたは非置換のシクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、置換または非置換アルカノイル、置換または非置換アロイル、置換または非置換アルキルスルホニル、置換または非置換アリールスルホニル、あるいはシリル基、Si(アルキル)、Si(アリール)またはSi(アルキル)1もしくは2(アリール)2もしくは1を意味し、
    あるいは、2つの記号Rが一緒になってカルボニル基を形成し、そして2つの残りの記号Rが、各々独立して、RおよびRについて述べられた上記の意味の1つを有する]
    の製造方法における、請求項1〜7のいずれか一項に記載の第VIII族金属触媒の使用。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6163690A (ja) * 1984-09-04 1986-04-01 Takasago Corp ルテニウム−ホスフイン錯体
JP2004346078A (ja) * 2000-02-04 2004-12-09 F Hoffmann La Roche Ag 3,6−ジアルキル−5,6−ジヒドロ−4−ヒドロキシ−2h−ピラン−2−イルの合成

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5446884A (en) 1992-02-13 1995-08-29 International Business Machines Corporation Database recovery apparatus and method
DE59309554D1 (de) 1992-04-02 1999-06-10 Novartis Ag Ferrocenyldiphosphine als Liganden für homogene Katalysatoren
SG42925A1 (en) 1993-10-01 1997-10-17 Ciba Geigy Ag Fluoroalkyl-substituted ferrocenyl diphosphines as ligands for homogeneous catalysts
DE69505312T2 (de) * 1994-02-02 1999-04-08 Novartis Ag Verfahren zur hydrierung von iminen
IT1270082B (it) 1994-07-12 1997-04-28 Univ Degli Studi Milano Difosfine eteroaromatiche come leganti chirali, complessi tra dette difosfine e metalli di transizione ed impiego di detti complessi come catalizzatori chirali
CA2428778A1 (en) 2000-12-13 2002-06-20 Warner-Lambert Company Llc P-chirale bisphospholane ligands, their transition metal complexes
MXPA02001147A (es) 2001-03-19 2004-04-21 Warner Lambert Co Sintesis de ligandos bisfosina no-c2-simetricos como catalizadores para la hidrogenacion asimetrica.
JP5203184B2 (ja) 2005-04-08 2013-06-05 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. ラクトンの製造

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6163690A (ja) * 1984-09-04 1986-04-01 Takasago Corp ルテニウム−ホスフイン錯体
JP2004346078A (ja) * 2000-02-04 2004-12-09 F Hoffmann La Roche Ag 3,6−ジアルキル−5,6−ジヒドロ−4−ヒドロキシ−2h−ピラン−2−イルの合成

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN5008003708; FEN-ER CHEN,: SYNTHESIS N14, 2000, P2004-2008 *
JPN6012015176; Tetrahedron Letters vol.22, 1981, p.4297-4300 *
JPN6012020718; 第4版 実験化学講座26有機合成VIII-不斉合成・還元・糖・標識化合物- , 1992, pp.32-37 *

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