JP2008534898A - コーティングおよび／または不純物を熱的に除去する装置および方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、コーティングされ、及び／又は汚染された原料をデコーティングし、及び／又は乾燥する装置に関する。該装置は、支持体、および、支持体に取り付けられ、処理すべき原料を受け取る炉（１０）を含んでいる。炉（１０）は、第一の部分が第二の部分より高い第一の位置と、その逆となる第二の位置との間で移動することができる。使用の際には、炉は、原料が一方の部分から他方の部分へ落下するように、第一の位置と第二の位置との間で繰り返し移動することができる。

Description

本発明は、コーティングおよび／または不純物を原料から、詳しくは、特にバッチプロセス処理に適した原料から熱的に除去する装置および方法に関する。詳細には、本発明は、ＷＯ ０１／９８０９２ Ａ１として公開された出願人の国際特許出願に記載されている炉のタイプの開発に関し、その内容が、全部参照により組み込まれている。

アルミニウム、マグネシウムおよび他の金属と非金属などの原料をリサイクルする必要性が増大している。このような原料は、塗料、油、水、ラッカー、プラスチック、あるいは他の揮発性有機化合物（ＶＯＣ）でコーティングされていることが多く、これらは、原料を再溶解する前に除去しなければならない。溶解なしに比較的高い温度で処理できる原料については、このような不純物は、一般に、デコーティングと呼ばれる場合がある熱処理を用いて除去される。このような熱的デコーティング処理は、再溶解前に原料を乾燥し、及び／又は消毒するのに使用することもできる。

例えば、アルミニウムは、一般に、塗料、ラッカーおよび／または他のＶＯＣでコーティングされている飲料缶の生産に使用されることが多い。使用済みの飲料缶（ＵＢＣ）や飲料缶の製造中に生じるスクラップ原料は、リサイクリングのために溶解できる前に、全てのコーティングや他の不純物を除去して、金属の損失を最小限に抑えねばならない。

しかしながら、熱的デコーティングは、アルミニウムへの応用に限らず、熱的デコーティング処理に存在する温度に耐えられるあらゆる金属や非金属の原料を洗浄あるいは純化するのに使用できる。熱的デコーティングは、例えば、マグネシウムやマグネシウム合金、あるいはチタンやチタン合金をデコートし、あるいは純化するのに使用できる。

既知の熱的デコーティング処理は、処理すべき原料を熱ガスに露出し、除去すべきコーティングおよび／または不純物を酸化する工程を含んでいる。この露出は、熱ガスの温度および酸素含有量が制御できる閉鎖環境内で行なわれる。大部分の有機化合物を除去するには、３００℃を超える温度が必要であり、６％〜１２％の範囲の酸素レベルが、一般に必要とされている。

熱ガスの温度および酸素レベルを注意深く制御しないと、デコーティング処理は、非常に危険な場合がある非制御動作となる可能性がある。

原料は、一般に、処理の前に粉砕され、かつ、効果的なデコーティングを行なうためには、粉砕された原料の全表面を熱ガスに露出することが重要である。これを行なわないと、処理は、効果が減少し、特にＵＢＣの場合には、黒いしみが、処理された原料の表面に残る場合がある。原料からコーティングや不純物を物理的に除去し、消失させるために、処理中に原料を撹拌することも望ましい。

現在、熱的デコーティングに使用されている主なシステムは、３種類あり、以下、それらについて述べる。

１．静止型炉
静止型炉では、原料は、金網上に積み重ねられ、熱ガスは、炉を通して再循環されて、原料を必要な処理温度に加熱する。

この配置は、熱ガスが網上の原料スタック内に封入された原料と接触しないため、能率的ではない。上述のように、デコーティングでは、処理中の原料の全表面が、熱ガスに露出されることが重要である。処理中の原料の撹拌もない。

２．運搬型炉
このシステムは、網ベルトコンベヤを使用し、炉を通して処理用の原料を運ぶ。熱ガスは、原料が炉を通る時、ベルト上の原料を通過する。この方法の問題点は、次の通りである。

ベルト上の原料の深さは、処理を制限する。原料は積み重ねられており、スタックの中心における原料が熱ガスと接触しない静止型炉で見出されたのと同様の問題が生ずる。

原料の撹拌がないため、疎なコーティングは除去されない。

コンベヤベルトの寿命が短い。

原料を絶えず供給しなければならない。

この処理は、少量の製品または常に変化する製品には適していない。

３．回転式キルン
大形キルンは、水平線に対して傾斜させてある。これは、キルンの最も高い端部で供給され、もしくは、投入された原料が、重力の影響下で、原料が排出される最も低い端部に向かって移動するようにするためである。キルンは、キルン内の原料が撹拌されるように回転される。また、熱ガスの流れが供給され、原料がキルンを通して移動する時に原料を加熱する。しかし、下記のように、この方法に伴う幾つかの問題が有る。

原料を絶えず供給しなければならない。

この処理は、少量の製品または常に変化する製品には適していない。

この連続的な処理は、原料投入端および原料排出端の両端におけるエアロックを必要とする。

キルンは、高いレベルのメンテナンスが必要である回転シールを必要とする。

ＷＯ０１/９８０９２Ａ１では、熱的デコーティングのための既知の装置および方法の欠点のうちの多くを克服する回転可能または傾斜可能な炉が記載されている。この炉の構造および動作の詳細な説明については、ＷＯ０１/９８０９２Ａ１を参照されたい。しかしながら、手短に言えば、この炉は、処理すべき原料を受け取る投入部および転換部を有している。転換部内には、熱ガスのストリームまたは流れが通過可能な熱処理室が組み込まれている。この炉は、転換部が投入部より高い第一の位置と、投入部が転換部より高い第二の位置との間を旋回的に移動可能である。この配置では、炉を第一の位置と第二の位置との間で繰り返し移動させることができる。これにより、炉内の原料が、熱処理室内の熱ガスの流れを通過して、一方の部分から他方の部分へ落下する。この装置の使用方法も開示されている。

上記の既知の炉は、比較的少量の原料をバッチ処理で処理するのに使用できるという利点を有している。さらなる利点は、炉の移動を制御することによって、処理中の原料を随意に熱処理室内に入れたり出したりすることができ、したがって、自立処理加熱（自熱処理とも呼ばれる）を生ずる可能性がある過剰量のＶＯＣの放出を伴わずに炉を安全に運転することができる、ということである。この制御された移動は、ＶＯＣが制御された様態で放出されることを保証し、処理過程の程よい制御を可能にする。

ＷＯ０１/９８０９２Ａ１に記載されている炉の好適な実施形態では、投入箱体は、炉に取り外し可能に取り付けられている。これは、炉から離れた場所で、原料を投入箱体に簡便に充填し、それから取り出すことを可能にする。投入箱体は、一旦炉に取り付けられると、炉の構造の一体的な一部となり、炉と共に回転する。これにより、原料が投入箱体を出入し処理室を通る。投入箱体は、好ましくは、該投入箱体を炉に、かつ、炉から運ぶためのフォークリフトトラックまたは任意の他の適当な手段を用いて、取り外せるようにすることが教示されている。

ＷＯ０１/９８０９２Ａ１に記載されている炉は、良好に動作し、比較的少量の原料を熱的にデコーティングするための商業的に、かつ、技術的に許容できる手段であることが分かった。しかしながら、取り外し可能な投入箱体の使用は、ある種の用途では、理想的でないことが分かった。

本発明の目的は、既知の炉の問題を克服する或は少なくとも軽減する、改良された炉を提供することである。

したがって、本発明の第１の態様によれば、コーティングされ、及び／又は汚染された原料を熱的にデコーティングし、及び／又は乾燥する装置が提供され、該装置は、
支持体と、
該支持体に取り付けられ、処理すべき原料を受け取るようにされている炉と、
を含み、
該炉は、該炉の第一の部分が一般に第二の部分より高い第一の位置と、該第二の部分が一般に該第一の部分より高い第二の位置との間で該支持体に対して移動可能であり、使用の際に、該炉内の原料が一方の部分から他方の部分へ落下するよう、該炉を、該第一の位置と第二の位置との間で繰り返し移動させることができるように配置されている、
装置において、
該第一の部分は、処理すべき原料を投入することができる閉鎖可能な開口部を組み込んでおり、かつ、熱ガスの流れが通過できる処理ゾーンが設けられている、ことを特徴としている。

該処理ゾーンは、該処理すべき原料およびそのトポロジーにより、該炉の該第一の部分または第二の部分内に、あるいは、各部分内に部分的に配置することができる。

本発明の第２の態様によれば、コーティングされ、及び／又は汚染された原料を熱的にデコーティングし、及び／又は乾燥する方法が提供され、該方法は、
処理すべき原料を受け取るようにされた炉および転換部を設け、該炉を該炉の第一の部分が一般に第二の部分より高い第一の位置と、該第二の部分が一般に該第一の部分より高い第二の位置との間で移動可能にするステップ、
該原料を該炉内に入れるステップ、
該炉内の該原料が該一方の部分から該他方の部分へ落下するように、該第一の位置と第二の位置との間で該炉を繰り返し移動するステップ、
を含み、
該第一の部分は、処理すべき原料を投入することができる閉鎖可能な開口部を組み込んでおり、かつ、熱ガスの流れが通過できる処理ゾーンが設けられている、ことを特徴としている。

該処理ゾーンは、処理すべき該原料およびそのトポロジーにより、該炉の該第一の部分または第二の部分内に、あるいは、各部分内に部分的に配置することができる。

ここで本発明の好適な実施形態を、添付の図を引用して、単に例として説明する。

図１〜図３を参照すると、コーティングされ、及び／又は汚染された原料を熱的にデコーティングおよび／または乾燥する装置の一部を形成する炉（一般に１０で示してある）が示されている。

炉１０は、中心ゾーン８と共に、第一の部分４および第二の部分６を含む一般に２で示されている処理室を含んでいる。処理ゾーンは、第一の部分４および中心ゾーン８を含んでいる。熱ガスの流れ１２は、炉１０の一方の側から処理ゾーンを通って他方の側へ移動することができる。

炉の一方の側には、再循環室１４が有り、ガスが、中心ゾーン８から、第一の再循環ファン１６および第二の再循環ファン１７によって、この再循環室に引き込まれる。空気混合ジャケット１８は、ガスを再循環室１４からアフターバーナー室２０へと案内し、このアフターバーナーで、ガスがバーナー２２によって加熱される。アフターバーナー室２０の壁部は、空気冷却のステンレス鋼の壁部にすることができ、あるいは別法として、適当な耐熱材でライニングすることができる。

ガスを加熱するバーナー２２は、ガス状または液状燃料のいずれか、または両方で動作するよう設計することができる。一つの好適な実施形態では、バーナーはまた、処理ゾーンにおいて、原料から熱的に剥離される揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を燃焼させることができるようにも設計されている。これらのＶＯＣは、再循環ファン１６によって、ガス１２と共に処理ゾーンから引き出され、かつ、必要なら、混合ジャケット１８内で空気３０と混合される。空気混合ジャケット１８は、矢印で示したように、ガスがらせん状の流れとなってアフターバーナーに入ることが保証されるように、設計されている。これにより、ＶＯＣが最高の滞留時間およびバーナー炎の高温ゾーンに対する露出時間を有することが、保証されている。

ＶＯＣを燃焼させることによって、炉の総合熱効率が増大するが、これは、ガス１２を必要な操作温度に加熱するのに、より少ない燃料の供給で済むからである。十分なＶＯＣが存在する場合、ガスを必要な温度に加熱するために追加燃料を加える必要がない。これにより、処理が自熱的に行なうことができる。

ＶＯＣを燃焼させることはまた、再循環ガスからこれら汚染物を除去し、かつ、後述するように、アフターバーナー室から排気されるガスのさらなる高価な処理の必要性を減少することによって、排気に対する制御を改善する。

熱ガスは、アフターバーナー室２０から、再循環室１４に対して炉の反対側で処理室２の側壁部に形成されている開口部２４を通って、処理室２の第一の部分４および中心ゾーン８に亘って伸長している処理ゾーンに入る。

制御システムは、処理ゾーンにおける酸素のレベルおよびガスの温度を監視し制御して、システムが処理中の原料の熱的デコーティングを行うための安全で効果的な限度内で動作することを保証する。一般に、酸素レベルは、１６％以下に維持されることになり、大部分の有機化合物を除去するのに必要な温度は、３００℃を超える。制御システムによって規制されるランス２６は、新鮮な空気をアフターバーナー室２０に供給し、酸素の所要レベルおよびガスの温度の両方を制御する。アフターバーナー室２０は、排気管２８を通して、燃焼ガスを排気し、排気ガスの流れは、温度および圧力制御ダンパー（図示せず）を介して制御される。

再循環室１４には、新鮮な空気の補助入口３０も設けられている。補助入口３０は、空気が空気供給室３２を介して再循環室に入り、熱ガスと混合し、かつ、必要なら、ファン１６を冷却することを可能にする。制御システムは、ファンの温度を監視し、バルブを動作させ、補助入口を通る空気の流れを制御し、ファンの温度を最高許容使用温度以下に維持する。制御システムは、ランス２６および補助入口３０を通る空気の流れを平衡させ、それにより、処理ゾーンにおける必要な酸素含有量およびガスの温度を維持する。

処理室２の第一の部分４の外側壁部は、処理すべきスクラップ原料３６を最初に受け取る開口部３４を含んでいる。開口部３４は、ドア３８によって閉鎖されている。

炉１０は、ベースフレーム４６を有する支持構造体４４に旋回可能に取り付けられている（図３Ａ参照）。図３Ｂ〜図３Ｊに示すように、炉は、第一の部分４が第二の部分６より高い第一の位置３Ｂと、第二の部分６が第一の部分４より高い第二の位置３Ｄとの間で移動できる。別の動作モードでは、移動は、連続的な回転移動で、３６０度回転させることができるだろう。

装置の制御システムの制御下、炉を第一の位置と第二の位置との間で自動的に移動させる手段（図示せず）が設けられている。この手段は、任意の適当な形態にすることができ、例えば一つまたはそれ以上の電動モータまたは油圧モータを含むことができる。モータは、必要なら、ギヤボックスを介して作用することができる。別法として、この手段は、一つまたはそれ以上の油圧または空圧ラムを含むことができる。この手段はまた、モータとラムの組合せを含むこともできるだろう。

以下、図３Ａ〜図３Ｊを参照して、装置の動作を詳しく説明する。

処理すべき原料３６は、開口部３４を介して処理室２に充填され、重力で第二の部分６に落下する。すると、制御システムの制御下で処理プロセスを開始することができる。

処理ゾーンを通るガスが加熱され、炉は、図３Ｂに示した第一の位置から、図３Ｄに示した炉がほぼ反転される第二の位置に到達するまで回転される。

炉を回転させるにつれて、処理室２内の原料は、重力の影響で、処理ゾーン内の熱ガスの流れを通過して第一の部分４に落下する。原料は、処理ゾーンを通る熱ガスの流れの方向を横切って、熱ガス１２の流れを通過することに注目されたい。

炉の回転移動は、３６０度回しで続き、或は、図３Ｅおよび図３Ｆに示すように、炉を第一の位置に到達するまで逆転させることができる。この回転移動中、原料は、再び熱ガス１２の流れを通過し、第一の部分４から第二の部分６に落下する。第一の位置と第二の位置との間での炉の回転移動は、原料３６が完全に処理されるまで、処理制御に必要な回数で繰返される。

処理プロセスは、多数の段階もしくはサイクルを通って進行する。すなわち、熱ガスおよび原料が必要な処理温度まで加熱される加熱サイクル、ガスおよび原料の温度が処理温度に維持される処理サイクル、および最後に、ガスおよび処理された原料の温度を、原料を安全に取り出せるレベルまで低下させる冷却サイクルである。

処理プロセスが完了するとすぐ、炉が図３Ｉに示した位置まで戻され、図３Ｊに示したようにドア３８が開けられる。これにより、処理された原料は、冷却、貯蔵、あるいは、所要のさならる処理のために運搬されることができる。

炉の回転運動は、処理すべき原料が、制御された様態で処理室内のガスの流れを通過することを保証する。原料の落下作用はまた、原料の全表面がガスに完全に露出されることを保証し、能率的で効果的なデコーティングおよび／またはデコンタミネーションを促進する。

制御システムは、ガスの温度および酸素レベルと共に、炉の回転移動の速度および頻度を制御して、原料３６上のコーティングまたは不純物を酸化すると同時に、処理中の原料の損失を最小限にして、処理が安全かつ能率的に行なわれることを保証する。

装置の具体的な特徴は、システムが、炉の回転運動を随時に停止できる能力にある。これは、厚くコーティングされた原料を処理する際に特に有用であり、アフターバーナーの温度が、ガスに存在する高いレベルのＶＯＣによって、非制御的に上昇しないことを保証する。装置が回転を止めると、ガス内の可燃性原料の量が減少し、燃焼処理が減速し、したがって、温度が再び制御されたレベルまで低下する。温度が許容できるレベルまで戻ると、装置は回転を再開し、処理プロセスが継続する。炉の回転を止めるこの能力は、処理プロセスの過程で揮発性物質の放出が制御されることを保証する。燃焼処理は、原料が第二の部分６に落下する位置で炉を止めることによって、さらに減速されることができる。これは、原料が、ガス流れから出て、処理ゾーンの高温な表面から離れることを保証する。

炉の回転移動に加えて、装置には、炉あるいは炉の少なくとも一部を振動させる電気／機械的な振動機（図示せず）などの手段が設けられることができる。この振動手段も、制御システムによって制御されることができる。この追加の振動作用により、装置は、より精密でより制御された量で原料を第一の部分４と第二の部分６との間で転送することができ、熱ガスと原料との間でのよりよい交換を促進する。

振動運動はまた、コーティングおよび汚染物の、原料３６からの機械的な剥離を容易にするためにも使用できる。例えば、原料がその固有または共振振動数に等しいかあるいはそれに近い振動数で振動するように配置されることができる。別法として、炉（または、第一の部分４および／または第二の部分６のような炉の少なくとも一部）をその固有または共振振動数で振動させることができる。したがって、原料を能率的に振動させることにより、研磨力が増大し、ガスが原料３６を貫通し処理することが可能となる。

本発明によるこの装置は、特に比較的少量の原料の処理に適している。この装置は、既知のロータリーキルンまたは運搬型の炉装置よりはるかに小さな規模で、費用効率の高い原料処理が可能である一方、静止型炉の欠点がない。原料は、バッチ単位で処理されるため、この装置は、バッチ間で制御システムを再設定することにより、各種の原料を処理することに適応できる。

本発明によるこの装置は、既知のロータリーキルンや運搬型炉に比べて比較的小型にできるので、所要床面積は、はるかにより少なくて済む。本発明によるこの装置はまた、比較的シンプルであり、既知の装置より所要のメンテナンスも少ない。

本発明によるこの装置のさらなる利点は、一般に連続的な動作を維持するための送りコンベヤベルト、排出コンベヤベルト、および貯蔵ホッパーが必要となる既知のロータリーキルンおよび運搬型の炉装置より、本発明の装置が、少ない支援機器で済むことである。

上記の装置は、多数の方法で変更できる。例えば、噴流撹拌システム（図示せず）を設けて、熱処理室内の原料を撹拌することができる。これは、熱処理室内の熱ガスが、処理中の原料に更に多く到達することを可能にするので、処理の効率を向上させる。このようなシステムは、ガス状の原料の一定の流れあるいは噴射を放出し、熱処理室内の原料を撹拌できる一つまたはそれ以上の噴出口を含むことができる。ガス状の原料は、新鮮な空気とすることができ、炉内の酸素および温度レベルを制御するための制御システムの一部を形成することができる。別法として、ガス状の原料は、炉の周りを再循環するガス１２の一部とすることができる。

また、一つまたはそれ以上のツール（図示せず）を装置に組み込んで、炉内の原料のさらなる処理または制御を行なうことができる。装置に組み込むことができるツール（図示せず）の種類としては、例えば、次のようなものがある。

すなわち、原料が第一の部分４から第二の部分６に落下するにつれて、原料を粉砕する粉砕手段である。このような粉砕手段は、回転式せん断粉砕機または技術上既知の任意の他の適当な形態の粉砕機とすることができる。

別法として、あるいは、追加として、本装置は、処理中の原料の残部から非鉄金属を分離するための電磁非鉄金属分離器を保持することができる。分離器は、第一の部分４と第二の部分６との間を通過する原料に作用する。一般にこのような分離は、処理の冷却サイクルの終わりごろに行なわれ、かつ、非鉄金属は、原料の残部から分離ビンに集められることになる。分離器は、技術上既知の任意の適当なタイプのものとすることができる。

本装置には、供給手段を設けて、第一の部分４と第二の部分６との間での原料の移動を制御することもできる。供給手段は、原料の第二の部分６からの放出を制御するためのダンパーシステムまたは任意の他の適当なシステムを含むことができる。このような供給手段の使用は、原料を第二の部分６から第一の部分４に緩徐に放出し、実質的に連続的な様態で処理することを可能にする。これは、ＶＯＣの放出を制御するのに有用であろう。

本発明による装置の炉の概略斜視図である。 図１の炉の側面図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。 図１の炉を含む本発明による装置の動作サイクルの一つの段階を示す概略図である。

Claims (10)

1. コーティングされ、及び／又は汚染された原料を熱的にデコーティングし、及び／又は乾燥する装置であって、該装置は、
   支持体と、
   前記支持体に取り付けられ、かつ、処理すべき原料を受け取るようにされている炉と、
   を含み、
   前記炉は、該炉の第一の部分が一般に第二の部分より高い第一の位置と、前記第二の部分が一般に前記第一の部分より高い第二の位置との間で前記支持体に対して移動可能であり、使用の際に、前記炉内の原料が一方の部分から他方の部分へ落下するよう、前記炉を前記第一の位置と前記第二の位置との間で繰り返し移動させることができるように配置されている、
   装置において、
   前記第一の部分は、処理すべき原料を投入することができる閉鎖可能な開口部を組み込んでおり、かつ、熱ガスの流れが通過できる処理ゾーンが設けられている、
   ことを特徴とする装置。
2. 前記処理ゾーンは、処理すべき前記原料およびそのトポロジーにより、前記炉の前記第一の部分または前記第二の部分内に、或いは、各部分内に部分的に配置されている請求項１に記載の装置。
3. コーティングされ、及び／又は汚染された原料を熱的にデコーティングし、及び／又は乾燥する方法であって、該方法は、
   処理すべき原料を受け取るようにされた炉および転換部を設け、前記炉は、該炉の第一の部分が一般に第二の部分より高い第一の位置と、前記第二の部分が一般に前記第一の部分より高い第二の位置との間で移動可能にするステップ、
   前記原料を前記炉内に入れるステップ、
   前記炉内の前記原料が前記一方の部分から前記他方の部分へ落下するように、前記第一の位置と前記第二の位置との間で前記炉を繰り返し移動するステップ、
   を含む方法において、
   前記第一の部分は、処理すべき原料を投入することができる閉鎖可能な開口部を組み込んでおり、かつ、熱ガスの流れが通過できる処理ゾーンが、前記炉内に配置されている、
   ことを特徴とする方法。
4. 前記炉は、中心ゾーンと共に第一の部分および第二の部分を含む処理室を含む上記請求項のうちのいずれか一項に記載の装置。
5. 前記炉に再循環室を取り付けることができ、該室に前記ガスが前記中心ゾーンから引き込まれる請求項４に記載の装置。
6. 空気混合ジャケットが、前記ガスを前記再循環室から、アフターバーナー室へ案内し、前記アフターバーナーにおいて前記ガスがバーナーによって加熱される請求項５に記載の装置。
7. 前記バーナーは、前記処理ゾーン内の前記原料から熱的に剥離される前記揮発性有機化合物を燃焼させる上記請求項のうちのいずれか一項に記載の装置。
8. 制御システムが、前記処理ゾーン内の酸素のレベルおよび前記ガスの温度を監視し制御し、前記システムが、処理中の原料の熱的デコーディングを行うための安全で効果的な限度内で動作することを保証する上記請求項のうちのいずれか一項に記載の装置。
9. 前記方法は、温度が３００℃を超えると同時に、前記酸素レベルを１６％以下に制御するステップを含む請求項８に記載の方法。
10. 前記処理ゾーン（１５）は、処理すべき前記原料およびそのトポロジーにより、前記炉の前記第一の部分または前記第二の部分内に、あるいは、各部分内に部分的に配置することができる請求項８または請求項９に記載の方法。

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