JP2008532306A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008532306A5 JP2008532306A5 JP2007557614A JP2007557614A JP2008532306A5 JP 2008532306 A5 JP2008532306 A5 JP 2008532306A5 JP 2007557614 A JP2007557614 A JP 2007557614A JP 2007557614 A JP2007557614 A JP 2007557614A JP 2008532306 A5 JP2008532306 A5 JP 2008532306A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- gas
- metal
- source
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 claims description 55
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 42
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 35
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 29
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 26
- TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N nitride(3-) Chemical compound [N-3] TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 210000004027 cells Anatomy 0.000 claims description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims 4
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 claims 4
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims 4
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 claims 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 230000000644 propagated Effects 0.000 claims 2
- 230000003213 activating Effects 0.000 claims 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium(0) Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000903 blocking Effects 0.000 claims 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 claims 1
- 230000003000 nontoxic Effects 0.000 claims 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 claims 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 claims 1
- 210000003491 Skin Anatomy 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 210000004544 DC2 Anatomy 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 201000002161 intrahepatic cholestasis of pregnancy Diseases 0.000 description 1
- 230000002530 ischemic preconditioning Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
Description
基板ホルダである堆積アセンブリ50は、絶縁体26によって堆積チャンバー20とは電気的に絶縁される。1つ又は複数の基板支持部54は、抵抗ヒーターやランプヒーター等の加熱手段によって裏側から加熱される。基板支持部54は、誘電体窓28の近傍のプラズマ密度が最高値の域から数表皮厚さ(通常5〜20)だけ離れて配置される。本発明では、通常の作動圧において表皮厚さは約1cmとされる。基板ホルダ50は、接地されるかもしくは電気的に浮遊した状態で配置される。また、基板ホルダ50は、DC自己バイアスを生じさせるべく、DCバイアス電源に接続されるか、インピーダンス整合回路網56を介して高周波発生器58に結合されてもよい。これらの手段は、基板54の電位をプラズマの電位に関連して制御するために行われる。このようにすることで、基板54の表面に対して垂直な電場部成分を、プラズマ36を制御するパラメーターとは独立して制御することが可能となる。このように、基板に衝突するイオンのエネルギーをエピタキシャル成長に最適な条件に調整することが可能となる。
図1に開示される本発明の好適な具体案において、基板支持部54のアセンブリは上方に向けられている。このような構造は、半導体処理に通常用いられるもので、ウエハーの処理及び基板ホルダである堆積アセンブリ50の設計を容易にする。本発明によると、LEPEVPEは基板支持部54の表面に高密度低エネルギープラズマが直接接触することを特徴とする。よって、基板支持部54の表面は、低エネルギーイオンの激しい衝突を受けることとなり、イオンのエネルギーは基板バイアスを適切に選択することによって調節される。この点、通常ラジカルのみを生成し、基板表面において非常に低いイオン密度を有するリモートプラズマ源を用いたプラズマ処理方法と対照的である。低エネルギーイオンによる激しい基板衝突は、500℃という低い基板温度及び5nm/s以上の非常に高い成長率でデバイス品質半導体層のエピタキシャル成長を行う上で有益であることが分かっている(参照することにより本件に組み込まれるvon Kanel et al.によるAppl.Phys.Lett.80,2922(2002)を例として参照)。本発明によると、LEPEVPEと最先端のウエハー処理器具(図示なし)を組み合わせることで、非常に高いスループットが期待できる。
次に、図5には本発明の別の具体案が開示されており、堆積チャンバー20における基板ホルダ50に取り付けられる基板支持部54は、ここでも下方に向けられている。堆積チャンバー20はプラズマ形成を補助するコイル又は永久磁石が選択的に具備されてもよい(図3を参照)。
この具体案において、金属元素蒸気は、スパッタターゲット62を保持する水冷スパッタ源60によってプラズマに供給される。スパッタターゲット62は、同心円状又は環状の形態でIPC源の誘電体窓28の周囲を囲むように配置されることが望ましい。スパッタターゲットは、インピーダンス整合回路64を介して高周波電源66に接続され、これによって電源66は、ICPコイル30に電力供給するための発生器34で用いられる周波数と好適には大幅に異なる周波数で交流電圧を供給する。これによって、2種の電源34と66の間で望ましくない干渉が生じることが軽減される。本発明の別の具体案では、スパッタ源60はDC電源によって電力供給される。約0.2×10−2mbar mの一般的な圧力−距離(pressures−distance)の製品の場合、スパッタ源を用いて電子グレード半導体物質を成長させることが可能なように、基板に達するスパッタ粒子はほぼ完全に熱化されていることが分かっている(参照することにより本件に組み込まれるSutter et al.によるAppl.Phys.Lett.67,3954(1995)を例として参照)。
本発明の好適な具体案では、エピタキシャル窒化物半導体成長において反応ガスは全く用いられない。付加的なスパッタターゲット60aには、アクセプタ不純物として作用するマグネシウム、亜鉛やその類似金属等の元素形態で用いられるのが好ましいドーピング種が含まれる場合もある。同様に、シリコン等のドナーとして作用するドーパントも、付加的なスパッタターゲット60aから供給されてもよい。また別の具体案においては、各ターゲット62の間で二次汚染が生じるのを防ぐために、各スパッタ源60にはシャッター(図示なし)が選択的に備えられてもよい。
エピタキシャル成長の間、誘導コイル30に供給される高周波電力及びチャンバー20内のガス圧は、加熱された基板54が低エネルギープラズマに完全にさらされるように選択される。通常、チャンバー20内のガス圧は10-3mbarから10-1mbarの範囲であり、最も一般的には10-2から10-1mbarの範囲である。このような条件下で、活性窒素とスパッタ源60から注入される金属蒸気は拡散輸送によってプラズマを移動し、上記されるように工程は進められる。
本発明の別の具体案では、スパッタ源60はエフュージョンセル40と組み合わされてもよく、その場合この2つのソースは誘電体窓28の周囲に対称的に配置される。元素形態の反応物質及びドーパントを気化させるためのエフュージョンセル及びスパッタ源を、エピタキシャル層成長に適した高密度低エネルギープラズマと組み合わせることは、これまで提案されたことはない。本発明の好適な具体案では、1つの気化金属につき1つ以上のスパッタ源60及びエフュージョンセル40が用いられる。それぞれのソースは、金属蒸気の異なるフラックスを運ぶように作動することができ、これにより1つのソースから別のソースに切り替えることによって、成長率又はドーピング密度の急激な変化を容易に可能にする。また別の具体案では、エフュージョンセル40及びスパッタ源60は、電子線気化器(electron beam evaporator)に代替もしくは補完されてもよい。電子線気化器は、エフュージョンセル40では大きなフラックスを得るのが困難な低い蒸気圧の元素を気化させるのに特に適する。
Claims (32)
- 半導体エピタキシーのための真空装置(10)であって、該装置は
a.圧力制御された堆積チャンバー(20,200)と、
b.上記堆積チャンバー内に配置され、基板(54,400)を保持及び加熱する基板ホルダ(50,230)と、
c.物質を、元素金属、金属合金及びドーパント等の気体粒子に気化し、上記堆積チャンバーに供給するソース(40,40’,60,60’,300,300’)と、
d.上記堆積チャンバーにガスを供給するガス供給システム(22’,23’,240’)と、
e.上記堆積チャンバー(20,200)に適切なプラズマを供給するように適合されたプラズマ源(31,100)と、
f.上記堆積チャンバー(20,200)においてプラズマ(36,140)の分布を成形するための磁場を生成するのに適した任意の磁場発生器(70,250)と
からなり、上記堆積チャンバー(20,200)内にガス及び気体粒子を拡散的に伝搬するように適合され、該ガス及び気体粒子は、反応して低エネルギープラズマ気相エピタキシーによって上記基板ホルダ(50,230)に固定され加熱された基板(54,400)上に均一なエピタキシャル層(55)を形成するように、プラズマ(36,140)によって活性化されることを特徴とする装置(10)。 - 上記プラズマ源(31)は、電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマ源、誘導結合プラズマ(ICP)源又は低電圧アーク放電源等の低エネルギーイオンを供給することが可能なプラズマ源の群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 物質を気化し、元素金属及び金属合金の気体を供給する上記ソースは、エフュージョンセル(40,300)及びスパッタ源(60)を含む、蒸気フラックスを供給することが可能なソースの群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 上記ドーパント源は、エフュージョンセル(40’)、スパッタ源(60’)及び反応ガス源(23’)を含む源/ソースの群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 上記ガス供給システム(22’)によって堆積領域に供給されるガスは、アルゴン及び窒素を含む非毒性且つ不活性のガスであることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- エピタキシャル成長の際に維持される圧力は10-4−1mbarの範囲内から選択されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 上記ICP源(31)は、スパイラル誘導結合器(30)を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
- 上記プラズマ源(100)は、1つ又は複数の熱陰極(130)を備えた直流プラズマ源であり、
上記プラズマ源における陰極アセンブリはプラズマに透過性のある陽極(110)と連通されることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。 - 上記直流プラズマ源はブロードエリア型プラズマ源(100)であって、それによりプラズマ抽出領域(plasma extraction region)(125)がシャワーヘッドによって形成され、上記シャワーヘッドは堆積領域において均一なプラズマ密度(140)を形成するように透過性陽極(110)に連通されることを特徴とする請求項1、2又は8のいずれか1に記載の装置。
- 上記プラズマによって活性化されるガスが、上記堆積領域においてプラズマによって活性化された金属蒸気と反応されることによって、その後の窒化物半導体層エピタキシーに用いられるのに十分な品質のエピタキシャルテンプレート層(55,410)が、加熱された基板ホルダ(50,230)に保持された加熱された基板(54,400)に形成されることを特徴とする請求項1、3又は5のいずれか1に記載の装置。
- 上記窒化物ガスは、上記ガス供給システム(22’,240’)によって堆積領域に供給されると、プラズマによって活性化され、上記堆積領域においてプラズマによって活性化された、ガリウム、インジウム及びアルミニウムからなる金属の群から選択された金属蒸気と反応されることで、加熱された上記基板ホルダによって保持された基板にエピタキシャル窒化物半導体層が形成されることを特徴とする請求項1、3又は5のいずれか1に記載の装置。
- 上記ドーパント源(40’,60’,300’,23’)は、シリコン、マグネシウム、亜鉛、ベリリウム及びカドミウムから構成される元素群から選択される元素を含むことを特徴とする請求項1又は4に記載の装置。
- 金属及びドーパント蒸気のフラックスを遮断するためのシャッター(42,80,310)が備えられることを特徴とする請求項1、3又は4のいずれか1に記載の装置。
- 上記のソースのうち少なくとも1つは差動排気(320)されるように装備されることを特徴とする請求項1、4又は5のいずれか1に記載の装置。
- 1つの気化物質につき1つ以上のソース(40,40’,60,60’,300,300’)が備えられ、同一物質に用いられるソースは稼動において気体粒子の異なるフラックスが得られるように適合されることを特徴とする請求項1、3、4又は5のいずれか1に記載の装置。
- 上記装置は、不活性ガスで希釈されたシラン等のドーピングガス(23’)を堆積チャンバーに供給するように適合されることを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 上記プラズマ源(100)は、上記基板に衝突するイオンが約20eV以下のエネルギーを有するように、アーク電圧が30V以下の低電圧アーク放電源であることを特徴とする請求項2に記載の装置。
- 上記基板(55,40)におけるプラズマ密度を急激に変えることができるように、基板位置の磁場強度を変えるための手段(70)が備えられることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 上記基板(55,400)における平均プラズマ均一性を向上させるように、磁場の方向を周期的に変化させるための手段(70)が備えられることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1に記載の装置。
- 請求項27に記載の方法を用いて製造された、炭素非含有で最大300mmまでエピタキシャル成長された窒化物半導体層が堆積した基板からなる半導体。
- 水素非含有エピタキシャル窒化物層からなる半導体。
- 0.1nm/sから10nm/sの範囲の成長率で堆積されたエピタキシャル窒化物層からなる請求項21に記載の半導体。
- 1nm/sから10nm/sの範囲の成長率で堆積されたエピタキシャル窒化物層からなる請求項21に記載の半導体。
- ドープエピタキシャル窒化物層からなる請求項21に記載の半導体。
- 1000℃以下の温度で基板上に堆積されたエピタキシャル窒化物層からなる請求項21に記載の半導体。
- 800℃以下の温度で基板上に堆積されたエピタキシャル窒化物層からなる請求項21に記載の半導体。
- 化合物半導体層のエピタキシャル成長のための方法であって、
a.ガス粒子及び金属粒子が活性化される密度及び圧力でプラズマが維持され、プラズマ内で該粒子が拡散的に伝搬される堆積チャンバーにおいて、1つ又は複数の金属が気化され、
b.プラズマにさらされ加熱された基板上に半導体層が形成され、化合物半導体層のエピタキシャル成長が行われるように、金属蒸気を非常に活性化された非金属元素のガスと反応させる
というステップからなる方法。 - プラズマ気相エピタキシーのためのプラズマ発生装置であって、
ガス粒子及び金属粒子が活性化されると共にプラズマ内を拡散的に伝搬されるプラズマ(36,140)を含有し、半導体基板(54,400)を該プラズマ(36,140)とイオン的に接触するように支持するよう形成されたチャンバー内部を有する真空性の堆積チャンバー(20,200)と、
上記チャンバー内部(21)においてプラズマ(36,140)を生成及び制御するために蒸気堆積チャンバー(22)と連通して配置されたプラズマ発生器(31,100)と、
上記チャンバー内部に少なくとも部分的に包囲され、上記堆積チャンバーと電気的に絶縁される(26)と共に、上記チャンバー内部で生成されたプラズマと直接的にイオン接触を行うように半導体基板(54)を保持する基板支持部と、該半導体基板を1100℃まで加熱するように制御可能な熱源(53,230)とを備えた堆積アセンブリ(50,230)と、
上記チャンバー内部に制御可能にガスを注入するように配置され、上記チャンバー内部におけるガス圧及びガス混合を規制し、上記チャンバー内部にガスを注入するための注入口(22,23,240)を少なくとも1つ備えたガス供給システム(22’,23’,240’)と、
上記チャンバー内部からガスを除去するための排気システム(24’,210)と、
上記チャンバー内部に金属蒸気を注入するように配置された少なくとも1つの金属蒸気源(40,60,300)と、
上記チャンバー内部にドープ剤を注入するように配置された少なくとも1つのドーパント源(40’,60’,300)とからなる、
気相エピタキシーのためのプラズマ装置を提供可能な組み合わせで構成された装置。 - プラズマ気相単結晶エピタキシーのための請求項27に記載の方法であって、
気化を行うステップにおいて、
ガリウム、アルミニウム及びインジウムからなる金属群から選択された金属蒸気とN2ガスの形態の窒素は、上記装置の堆積チャンバー(20,200)においてガス粒子及び金属粒子が拡散的に伝搬されるようなそれぞれの適切な濃度及び圧力で混合され、
反応を行うステップにおいて、
上記金属蒸気とN2ガスは上記装置の堆積チャンバーにおいて適切なプラズマ(36,140)にさらされ、上記金属蒸気と窒素ガスは活性化され、上記プラズマにおいて活性化された蒸気金属と活性化された窒素ガスとを反応させ、単結晶窒化物半導体を形成するべく、プラズマに配置された半導体支持基板上に金属窒化物層をプラズマ内で形成及びエピタキシーする
というステップからなる方法。 - プラズマ気相単結晶エピタキシーのための請求項27に記載の方法であって、
気化を行うステップにおいて、蒸気状のガリウムとN2の形態の窒素とは上記装置の堆積チャンバー内で、ガス粒子及び金属粒子がプラズマ内で拡散的に伝搬されるようなそれぞれの適切な濃度及び圧力で混合され、上記装置の堆積チャンバー内でガリウム蒸気と
N2ガスをプラズマにさらし、窒素ガスを活性化させ、
反応を行うステップにおいて、反応性の蒸気状のガリウム及び窒素ガスを上記プラズマにおいて反応させ、
それによってプラズマ内で単結晶窒化物半導体を形成するべく、プラズマに配置された半導体支持基板上に金属窒化物層を形成及びエピタキシーする方法。 - 請求項27に記載の方法によって形成されたエピタキシャル金属窒化物層であって、
エピタキシャル金属窒化物層は、エピタキシャル金属窒化物へテロ構造を構成する活性層を成長させるためのテンプレートを形成し、
上記活性層を形成するための方法は、分子線エピタキシー、有機金属化学気相成長法及び低エネルギープラズマ気相エピタキシーからなる群から選択されることを特徴とするエピタキシャル金属窒化物層。 - 請求項31に記載の方法によって形成されたエピタキシャル金属窒化物へテロ構造であって、
上記エピタキシャル金属窒化物へテロ構造は、発光ダイオード、レーザー及び高周波高出力電子装置からなる装置の群から選択される装置の形成のための活性積層を含むことを特徴とするエピタキシャル金属窒化物ヘテロ構造。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US65720805P | 2005-02-28 | 2005-02-28 | |
US60/657,208 | 2005-02-28 | ||
PCT/IB2006/000421 WO2006097804A2 (en) | 2005-02-28 | 2006-02-28 | System and process for high-density,low-energy plasma enhanced vapor phase epitaxy |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008532306A JP2008532306A (ja) | 2008-08-14 |
JP2008532306A5 true JP2008532306A5 (ja) | 2009-03-26 |
JP5214251B2 JP5214251B2 (ja) | 2013-06-19 |
Family
ID=36972965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007557614A Expired - Fee Related JP5214251B2 (ja) | 2005-02-28 | 2006-02-28 | 高密度低エネルギープラズマ気相エピタキシーの装置 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8647434B2 (ja) |
EP (1) | EP1872383A2 (ja) |
JP (1) | JP5214251B2 (ja) |
KR (2) | KR101358966B1 (ja) |
CN (1) | CN101128911B (ja) |
AU (1) | AU2006224282B2 (ja) |
CA (1) | CA2597623C (ja) |
RU (1) | RU2462786C2 (ja) |
SG (1) | SG160345A1 (ja) |
WO (1) | WO2006097804A2 (ja) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1513233B1 (en) * | 2003-09-05 | 2008-10-29 | Epispeed S.A. | InGaAs/GaAs lasers on Silicon produced by LEPECVD and MOCVD |
KR100754404B1 (ko) * | 2006-05-25 | 2007-08-31 | 삼성전자주식회사 | 확산튜브와, 확산공정용 도펀트 소스 및 상기 확산튜브와도펀트 소스를 이용한 확산방법 |
JP5041883B2 (ja) * | 2007-06-07 | 2012-10-03 | 昭和電工株式会社 | Iii族窒化物半導体層の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法 |
JP4982259B2 (ja) * | 2007-06-14 | 2012-07-25 | 昭和電工株式会社 | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法 |
US20110017127A1 (en) * | 2007-08-17 | 2011-01-27 | Epispeed Sa | Apparatus and method for producing epitaxial layers |
US20100086703A1 (en) | 2008-10-03 | 2010-04-08 | Veeco Compound Semiconductor, Inc. | Vapor Phase Epitaxy System |
CN101494151B (zh) * | 2009-03-05 | 2013-11-13 | 苏州晶能科技有限公司 | 高效率的一维线性等离子体清洗磁控阴极装置 |
JP2011213557A (ja) * | 2010-04-01 | 2011-10-27 | Hitachi Cable Ltd | 導電性iii族窒化物単結晶基板の製造方法 |
TWI562195B (en) | 2010-04-27 | 2016-12-11 | Pilegrowth Tech S R L | Dislocation and stress management by mask-less processes using substrate patterning and methods for device fabrication |
US8884525B2 (en) * | 2011-03-22 | 2014-11-11 | Advanced Energy Industries, Inc. | Remote plasma source generating a disc-shaped plasma |
DE102012201953A1 (de) * | 2012-02-09 | 2013-08-14 | Singulus Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Passivierung von Solarzellen mit einer Aluminiumoxid-Schicht |
CN102534511B (zh) * | 2012-02-28 | 2013-10-16 | 东北大学 | 一种气相沉积薄膜的装置及其使用方法 |
KR102152786B1 (ko) * | 2012-07-13 | 2020-09-08 | 갈리움 엔터프라이지즈 피티와이 엘티디 | 필름 형성 장치 및 방법 |
KR101456549B1 (ko) * | 2012-09-10 | 2014-10-31 | 한국표준과학연구원 | 플라즈마 도움 화학 기상 증착 장치 및 플라즈마 도움 화학 기상 증착 방법 |
RU2548578C2 (ru) * | 2013-08-19 | 2015-04-20 | Валерий Анатольевич Буробин | Способ получения эпитаксиального слоя бинарного полупроводникового материала на монокристаллической подложке посредством металлоорганического химического осаждения из газовой фазы |
US9378941B2 (en) | 2013-10-02 | 2016-06-28 | Applied Materials, Inc. | Interface treatment of semiconductor surfaces with high density low energy plasma |
CN104752162A (zh) * | 2013-12-31 | 2015-07-01 | 江西省昌大光电科技有限公司 | 一种半绝缘GaN薄膜及其制备方法 |
CN103806093B (zh) * | 2014-02-17 | 2017-01-18 | 清华大学 | 基于icp的化合物半导体的外延生长装置及方法 |
RU2578870C2 (ru) * | 2014-03-26 | 2016-03-27 | Открытое акционерное общество "Ордена Трудового Красного Знамени Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова" (ОАО "НИФХИ им. Л.Я. Карпова") | Способ выращивания пленки нитрида галлия |
CN103938272A (zh) * | 2014-04-03 | 2014-07-23 | 清华大学 | 等离子体辅助的外延生长装置及方法 |
RU2570099C1 (ru) * | 2014-08-05 | 2015-12-10 | Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина") | Способ изготовления полупроводниковой гетероструктуры |
CN105612276B (zh) * | 2014-08-29 | 2017-02-01 | 创光科学株式会社 | 外延生长用模板以及其制作方法、和氮化物半导体装置 |
WO2018081144A1 (en) | 2016-10-24 | 2018-05-03 | Kla-Tencor Corporation | Process module(s) integrated into a metrology and/or inspection tool |
WO2019005144A1 (en) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | Intel Corporation | HIGH FLOW MOLECULAR BEAM EPITAXY AND SELECTIVE EPITAXIAL APPARATUS |
RU2657674C1 (ru) * | 2017-08-14 | 2018-06-14 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова Российской академии наук (ИОНХ РАН) | Способ получения гетероструктуры Mg(Fe1-xGax)2O4/Si со стабильной межфазной границей |
CN107675141B (zh) * | 2017-10-25 | 2023-08-04 | 南昌大学 | 一种用于制备氮化物材料的装置 |
US10892137B2 (en) * | 2018-09-12 | 2021-01-12 | Entegris, Inc. | Ion implantation processes and apparatus using gallium |
DE102018220678A1 (de) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | Thyssenkrupp Ag | Verfahren zum PVD-Beschichten von Werkstücken |
RU2715080C1 (ru) * | 2018-12-18 | 2020-02-25 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук (ФИАН) | Способ наращивания монокристаллических слоёв полупроводниковых структур |
CN109817518B (zh) * | 2019-01-18 | 2020-03-10 | 重庆市妙格科技有限公司 | 一种发光二极管原材料加热磷扩装置 |
CN109830419B (zh) * | 2019-01-24 | 2020-05-19 | 中国原子能科学研究院 | 一种微型潘宁离子源 |
CN113710833B (zh) * | 2019-04-22 | 2023-04-28 | 杜鹏 | 直接蒸发泵至冷板的分子束外延系统 |
RU2723477C1 (ru) * | 2019-04-26 | 2020-06-11 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" | Узел фиксации нагреваемой подложки в вакуумной камере (варианты) |
US11150120B2 (en) * | 2019-09-22 | 2021-10-19 | Applied Materials, Inc. | Low temperature thermal flow ratio controller |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4368092A (en) | 1981-04-02 | 1983-01-11 | The Perkin-Elmer Corporation | Apparatus for the etching for semiconductor devices |
JPH0652716B2 (ja) * | 1984-08-24 | 1994-07-06 | 日本電信電話株式会社 | 半導体結晶性膜製造装置 |
JPS61135126A (ja) * | 1984-12-06 | 1986-06-23 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
US4948458A (en) | 1989-08-14 | 1990-08-14 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for producing magnetically-coupled planar plasma |
JPH03146656A (ja) * | 1989-11-02 | 1991-06-21 | Hitachi Ltd | 膜形成装置及び膜形成方法 |
US5633192A (en) * | 1991-03-18 | 1997-05-27 | Boston University | Method for epitaxially growing gallium nitride layers |
TW264601B (ja) | 1993-09-17 | 1995-12-01 | Hitachi Seisakusyo Kk | |
JPH07288237A (ja) * | 1994-04-15 | 1995-10-31 | Nippon Steel Corp | プラズマ励起セル装置 |
US5783101A (en) | 1994-09-16 | 1998-07-21 | Applied Materials, Inc. | High etch rate residue free metal etch process with low frequency high power inductive coupled plasma |
JP3769059B2 (ja) * | 1996-02-02 | 2006-04-19 | 雅弘 西川 | 超音波・プラズマ・粒子ビーム複合プロセス装置及び薄膜の形成方法並びに表面の平滑化方法 |
US5788799A (en) | 1996-06-11 | 1998-08-04 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for cleaning of semiconductor process chamber surfaces |
JPH1012908A (ja) * | 1996-06-21 | 1998-01-16 | Toshiba Corp | 半導体装置及び微粒子半導体膜の製造方法及び光電変換素子 |
EP0988407B9 (de) | 1997-06-13 | 2004-12-15 | Unaxis Trading AG | Verfahren zur herstellung von werkstücken, die mit einer epitaktischen schicht beschichtet sind |
US6472300B2 (en) | 1997-11-18 | 2002-10-29 | Technologies And Devices International, Inc. | Method for growing p-n homojunction-based structures utilizing HVPE techniques |
AU2001241947A1 (en) | 2000-03-02 | 2001-09-12 | Tokyo Electron Limited | Esrf source for ion plating epitaxial deposition |
US6573164B2 (en) | 2001-03-30 | 2003-06-03 | Technologies And Devices International, Inc. | Method of epitaxially growing device structures with sharp layer interfaces utilizing HVPE |
US6992011B2 (en) | 2003-01-15 | 2006-01-31 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for removing material from chamber and wafer surfaces by high temperature hydrogen-containing plasma |
JP2004288964A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | GaN結晶の成長方法 |
US6818061B2 (en) | 2003-04-10 | 2004-11-16 | Honeywell International, Inc. | Method for growing single crystal GaN on silicon |
RU2244984C1 (ru) * | 2003-08-08 | 2005-01-20 | Институт физики полупроводников Объединенного института физики полупроводников СО РАН | Способ изготовления гетероструктуры |
EP1774562B1 (en) | 2004-06-08 | 2012-02-22 | Dichroic cell s.r.l. | System for low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition |
WO2008000846A1 (es) | 2006-06-19 | 2008-01-03 | Natraceutical S.A. | Método para la esterilización de materiales de cacao mediante co2 supercrítico |
-
2006
- 2006-02-28 WO PCT/IB2006/000421 patent/WO2006097804A2/en active Application Filing
- 2006-02-28 KR KR1020127009425A patent/KR101358966B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-02-28 KR KR1020077021605A patent/KR101366181B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-02-28 SG SG201001337-3A patent/SG160345A1/en unknown
- 2006-02-28 CN CN2006800063432A patent/CN101128911B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-02-28 EP EP06755827A patent/EP1872383A2/en not_active Withdrawn
- 2006-02-28 JP JP2007557614A patent/JP5214251B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-02-28 RU RU2007135977/28A patent/RU2462786C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2006-02-28 AU AU2006224282A patent/AU2006224282B2/en not_active Ceased
- 2006-02-28 CA CA2597623A patent/CA2597623C/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-02-28 US US11/817,208 patent/US8647434B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-03-11 US US13/792,238 patent/US9466479B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008532306A5 (ja) | ||
KR101366181B1 (ko) | 고밀도 저에너지의 플라즈마 인헨스드 기상 에피택시를위한 시스템 및 공정 | |
US6454912B1 (en) | Method and apparatus for the fabrication of ferroelectric films | |
EP2396808B1 (en) | Migration and plasma enhanced chemical vapor deposition | |
US5039548A (en) | Plasma chemical vapor reaction method employing cyclotron resonance | |
US20190112708A1 (en) | Electrostatic control of metal wetting layers during deposition | |
EP1037268A1 (en) | METHOD FOR SYNTHESIZING SINGLE CRYSTAL AlN THIN FILMS OF LOW RESISTANT n-TYPE AND LOW RESISTANT p-TYPE | |
US20020005159A1 (en) | Method of producing thin semiconductor film and apparatus therefor | |
JP4741060B2 (ja) | 基板の析出表面上に反応ガスからの原子又は分子をエピタキシャルに析出させる方法及び装置 | |
JPH11504753A (ja) | 窒化炭素冷陰極 | |
JPH11504751A (ja) | 窒化ホウ素冷陰極 | |
US6811611B2 (en) | Esrf source for ion plating epitaxial deposition | |
JPS5957416A (ja) | 化合物半導体層の形成方法 | |
TW202113900A (zh) | 延長分子碳植入物離子源壽命的系統和方法 | |
AU2012202511B2 (en) | System and Process for High-Density, Low-Energy Plasma Enhanced Vapor Phase Epitaxy | |
JPH04338633A (ja) | 化合物半導体薄膜への不純物添加方法と分子線結晶成長装置 | |
JPH01187920A (ja) | 結晶成長装置 |