JP2008526284A - エネルギー入力ビームをコリメートするための方法及び装置 - Google Patents
エネルギー入力ビームをコリメートするための方法及び装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】特に対象物(1)の検査領域(2)を撮像するための照射方法であって、少なくとも1つのエネルギー入力ビーム源(210)によって、複数の個々のエネルギー入力ビーム構成要素(3.1、3.2、3.3、・・・)を備える少なくとも1つのエネルギー入力ビーム(3)を生成することと、複数の投影方向に沿って、少なくとも1つのエネルギー入力ビーム(3)によって検査領域(2)を照射することとの各工程を備える方法において、このエネルギー入力ビーム構成要素(3.1、3.2、3.3、・・・)は、貫通穴を有し、エネルギー入力遮蔽材でできている少なくとも1つのビームマスク(211)によって形成されることを特徴とする方法。さらに、対象物を照射するまたは撮像するための撮像方法および装置が記述される。
【選択図】 図1
Description
本出願は、2004年12月30日出願の米国特許仮出願第60/640,426号、2004年12月30日出願の欧州特許出願第04031043.5号、および2005年5月23日出願の欧州特許出願第05011136.8号の利益を主張する。
本発明は、全米科学財団(米国)により与えられた認可番号第DMS−02011669号における政府の助成をもってなされたものである。アメリカ合衆国政府は、本発明における一定の権利を有する。
Claims (26)
- 特に対象物(1)の検査領域(2)を撮像するための照射方法であって、
少なくとも1つのエネルギー入力ビーム源(210)によって、複数の個々のエネルギー入力ビーム構成要素(3.1、3.2、3.3、・・・)を有する少なくとも1つのエネルギー入力ビーム(3)を発生させる工程と、
複数の投影方向に沿って、前記少なくとも1つのエネルギー入力ビーム(3)によって前記検査領域(2)を照射する工程とを具備する方法において、
前記エネルギー入力ビーム構成要素(3.1、3.2、3.3、・・・)は、複数の貫通穴(213)を有し、エネルギー入力遮蔽材でできている少なくとも1つのビームマスク(211)によって形成されることを特徴とする方法。 - 前記ビームマスク(211)は、前記エネルギー入力ビーム源(210)に取り付けられており、
前記複数の投影方向は、前記検査領域(2)に対して前記エネルギー入力ビーム源(210)を前記ビームマスク(211)と共に移動させることによって設定される、請求項1に記載の照射方法。 - 複数のビームマスク(211)と前記検査領域(2)とは、互いに固定された位置を有し、かつ
前記複数の投影方向は、前記ビームマスク(211)のそれぞれにおいて前記少なくとも1つのエネルギー入力ビーム源を動作させることによって設定される、請求項1に記載の照射方法。 - 前記エネルギー入力ビーム構成要素(3.1、3.2、3.3、・・・)を形成する工程は、異なる寸法を有する貫通穴(213)を有する平面ビームマスク(211)を介して、または全て等しい寸法を有する貫通穴(213)を有する湾曲したビームマスク(211)を介して、前記エネルギー入力ビームを送出することを備える、前記全ての請求項のいずれか1項に記載の照射方法。
- 前記エネルギー入力ビーム構成要素(3.1、3.2、3.3、・・・)を形成する工程は、全て等しい寸法を有する貫通穴(213)を有する平面ビームマスク(211)を介して、または、異なる寸法を有する貫通穴(213)を有する湾曲したビームマスク(211)を介して、前記エネルギー入力ビームを送出することを備える、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の照射方法。
- 前記ビームマスク(211)と前記エネルギー入力ビーム源(210)との間の距離を調整する工程を更に具備する、前記全ての請求項のいずれか1項に記載の照射方法。
- 前記エネルギー入力ビーム(3)のビーム角(α)を設定する工程を更に具備する、前記全ての請求項のいずれか1項に記載の照射方法。
- 前記ビーム角(α)は、開口部(216)によって設定される、請求項7に記載の照射方法。
- 前記開口部(216)の直径と、前記開口部(216)と前記エネルギー入力ビーム源(210)との間の距離とのの少なくとも一方を調整する工程を更に具備する、請求項8に記載の照射方法。
- 対象物(1)の検査領域(2)を撮像するための撮像方法であって、
前記全ての請求項のいずれか1項に記載の方法で前記検査領域(2)を照射する工程と、
各々が現在の投影方向に対して平行であるエネルギー入力ビーム構成要素によって測定される減弱値を有する、複数の投影方向に対応する複数の投影関数を決定する工程と、
複数の前記減弱値に画像再構成手順を受けさせる工程とを具備する方法。 - 前記減弱値は、検出装置(300)によって測定され、
この検出装置(300)の検出素子の所定のグループのみが、前記減弱値を得るために読出される、請求項10に記載の撮像方法。 - 前記画像再構成手順は、
前記投影関数の値が乗じられる多項式の和として画像関数を決定すること、または、
前記減弱値を分解し、この分解がフィルタ補正逆投影再構成を受けること
を含む、請求項10または11に記載の撮像方法。 - X線コンピュータ断層撮像(CT)装置、
PET撮像装置、
光断層撮像、
SPECT撮像装置、または、
中性子ベースの透過検出システム
において測定されるラドンデータを提供するために、前記減弱値が測定される、請求項10ないし12のいずれか1項に記載の撮像方法。 - 対象物(1)の検査領域(2)を撮像するための撮像装置(100)であって、
複数の投影方向に対応する投影関数を測定するための測定装置(200、300)を具備し、この測定装置(200、300)は、複数の個々のエネルギー入力ビーム構成要素(3.1、3.2、3.3、・・・)を有する少なくとも1つのエネルギー入力ビーム(3)を形成するための少なくとも1つのエネルギー入力ビーム源(200、210)と、検出装置(300)とを含む撮像装置において、
貫通穴(213)を有するエネルギー入力遮蔽材でできており、前記エネルギー入力ビーム構成要素(3.1、3.2、3.3、・・・)を形成するために適合される少なくとも1つのビームマスク(211)を具備することを特徴とする撮像装置。 - 前記ビームマスク(211)は、異なる寸法を有する貫通穴(213)を有する平面ビームマスク(211)、または、全て等しい寸法を有する貫通穴(213)を有する湾曲したソースマスク(211)を備える、請求項14に記載の撮像装置。
- 前記ビームマスク(211)は、全て等しい寸法を有する貫通穴(213)を有する平面ビームマスク(211)、または異なる寸法を有する貫通穴(213)を有する湾曲したソースマスク(211)を備える、請求項14に記載の撮像装置。
- 前記ビームマスク(211)と前記エネルギー入力ビーム源(200、210)との間の距離を調整するための第1の調整装置(217)を更に具備する、前記請求項14ないし16のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記エネルギー入力ビーム源(200、210)は、前記対象物(1)に対して移動可能である、前記請求項14ないし17のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記ビームマスクは、前記エネルギー入力ビーム源(210)と共に移動可能であるソースマスク(211)を備える、前記請求項14ないし18のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記ソースマスク(211)は、前記エネルギー入力ビーム源(200、210)に対して着脱可能である、請求項19に記載の撮像装置。
- 前記エネルギー入力ビーム源(200、210)のエネルギー分布関数を成形するための複数のフレームマスク(224)を備え、これらフレームマスク(224)は、所定の複数の位置でビーム源キャリヤ(220)に固定されている、前記請求項14ないし18のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記フレームマスク(224)の前記複数の位置は、互に等しい弧長だけ間隔をあけられている、請求項21に記載の撮像装置。
- 前記ビーム源キャリヤ(220)は、前記フレームマスク(224)を含むリング形状の遮蔽体(222)を備え、このリング形状の遮蔽体(222)は、前記フレームマスク(224)の前記位置以外の位置で前記エネルギー入力ビーム源(200、210)を遮蔽する、請求項21または22に記載の撮像装置。
- 前記検出装置(300)は、複数の所定の投影方向に対応するエネルギー入力の減弱を表す、減弱値を検出するための複数のフレームセンサー(320)を備え、これらフレームセンサー(320)は、所定の位置で前記ビーム源キャリヤ(220)に固定されている、前記請求項21ないし23のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記測定装置(200、300)は、
X線コンピュータ断層撮像(CT)装置、
超音波断層撮像装置、
PET撮像装置、
光断層撮像、
ガンマ線撮像装置、
SPECT撮像装置、または、
中性子ベースの透過検出システム
を備える、前記請求項14ないし24のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 対象物(1)の検査領域(2)を撮像するためのエネルギー入力ビーム構成要素(3.1、3.2、3.3、・・・)を形成するために適合されている貫通穴(213)を有する、エネルギー入力遮蔽材でできているビームマスク(211)。
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