JP2008305445A - Information recording medium - Google Patents

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和慶 安達
Hiroshi Shirai
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phase-change optical recording medium wherein a large capacity and high speed recording are possible and satisfactory rewrite property is obtained. <P>SOLUTION: An information recording medium is provided with: a substrate; a first dielectric layer provided on the substrate; a first interface layer which is provided on the first dielectric layer and formed of either a material containing hafnium oxide and stannic oxide or a material containing hafnium oxide and chrome oxide; a recording layer which is provided on the first interface layer and formed of a phase-change material; a second dielectric layer provided on the recording layer; and a reflection layer provided on the second dielectric layer. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザビームの照射により情報の記録が行われる情報記録媒体に関し、特に、高密度記録可能な相変化型光ディスクに関する。   The present invention relates to an information recording medium on which information is recorded by laser beam irradiation, and more particularly to a phase change optical disc capable of high density recording.

近年、ハードディスクドライブ(HDD)の大容量化、パーソナルコンピュータ(PC)の高機能化、インターネット等を用いたデータ及び画像等の配信サービスの普及、高解像度映像を撮影可能なハイビジョン対応カメラの登場等により、PCやHDD搭載の家庭用ビデオレコーダで扱うデータ量は飛躍的に増大している。これに伴い、HDDに蓄積されたデータのバックアップなどに必要な大容量リムーバブル媒体に対するニーズも高まりつつある。   In recent years, the capacity of hard disk drives (HDD) has increased, the functionality of personal computers (PCs) has increased, the distribution of data and images using the Internet has become popular, the appearance of high-definition cameras capable of shooting high-resolution images, etc. As a result, the amount of data handled by a home video recorder equipped with a PC or HDD has increased dramatically. Accordingly, there is an increasing need for a large-capacity removable medium necessary for backup of data stored in the HDD.

リムーバブルで且つ書換え可能な情報記録媒体の一つに相変化型光記録媒体がある。相変化型光記録媒体は、光ビームの照射により原子配列が2つの異なる状態間(アモルファス−結晶間)で可逆的に変化する記録層を備え、その記録層の2つの異なる原子配列の状態により情報が記録される。   There is a phase change optical recording medium as one of removable and rewritable information recording media. A phase change optical recording medium includes a recording layer in which an atomic arrangement reversibly changes between two different states (between amorphous and crystal) by irradiation with a light beam, and the two different atomic arrangement states of the recording layer Information is recorded.

相変化型光記録媒体は、書換え可能な媒体の中でも特に安価であるので民生用媒体としての普及が著しく、特に、DVDレコーダなどの家庭用ビデオ録画媒体としての普及が急速に伸びつつある。これまでテープであったビデオ録画媒体が、相変化型光記録媒体に代わることにより、後追い再生のような新たな機能も可能となる。それゆえ、この様な用途では、コンピュータ用バックアップ媒体として必要であったこれまでの相変化型光記録媒体の特性以上の高度な特性が必要になる。   Phase change type optical recording media are particularly inexpensive among rewritable media, and thus are widely used as consumer media. In particular, they are rapidly spreading as home video recording media such as DVD recorders. A video recording medium that has been a tape until now is replaced with a phase-change optical recording medium, thereby enabling a new function such as follow-up reproduction. Therefore, in such an application, advanced characteristics more than those of the phase change type optical recording medium that has been necessary as a backup medium for computers are required.

例えば、後追い再生を行なう場合、録画中に、録画したばかりの画像を後から追って再生する必要があるので、記録と再生とを一定時間毎に高速に切り替えなければならない。そのためには、情報の記録及び再生のアクセススピードをこれまで以上に高速にする必要がある。さらに高速記録が可能な書換え型相変化記録媒体には、情報の高速記録が可能であることと同時に、従来の低速記録においても情報が良好に記録されることが要求される。例えば、現行の赤色レーザを用いた4.7GBのDVD−RAMの場合、規格書において定義されている低速記録の記録線速度(2倍速)は8.2m/sであるが、5倍速記録対応のDVD−RAMでは、8.2m/s〜20.5m/sと、極めて広い線速度範囲において良好な記録性能を備えることが要求される。また、放送分野においてはデジタル化とハイビジョン化が進められており、そのような用途では録画される画像もより高精細となるので、記録媒体としては、上述した情報記録の高速化だけでなく大容量化も求められている。   For example, when the follow-up playback is performed, it is necessary to switch back and forth between recording and playback at a constant time since it is necessary to playback the image just recorded during the recording. For this purpose, it is necessary to increase the access speed for recording and reproducing information. Furthermore, a rewritable phase change recording medium capable of high-speed recording is required to record information satisfactorily in conventional low-speed recording as well as to enable high-speed recording of information. For example, in the case of a 4.7-GB DVD-RAM using the current red laser, the recording linear velocity (double speed) defined in the standard is 8.2 m / s, but it is compatible with five-times speed recording. In the DVD-RAM, it is required to have good recording performance in a very wide linear velocity range of 8.2 m / s to 20.5 m / s. Also, in the broadcasting field, digitalization and high-definition are being promoted. In such applications, recorded images have higher definition. Therefore, as a recording medium, not only high-speed information recording described above but also large-scale recording is possible. Capacity is also required.

高速記録が可能な相変化記録層材料としては、Ge、Sb及びTeを頂点とする三角組成図中で、GeTeとSbTeを結ぶ線上の組成を有するGe−Sb−Te系材料が、結晶化速度が速いためによく使われている。さらに、従来、上記Ge−Sb−Te系相変化材料中のGeTeをSnTeに置換することで、結晶化速度が更に上がることが知られている。しかしながら、例えば、特開2006−182005によれば、Ge−Sb−Te系相変化材料中のGeTeをSnTeに置換すると、Snの増加にともない結晶状態と非結晶状態(アモルファス状態)における記録層の屈折率の差が小さくなったり、あるいは、低線速側で記録層の結晶化速度が速すぎるため、レーザビームにより記録層を融点以上に加熱した直後の冷却過程で、溶融領域外縁から結晶成長が起こり記録マークサイズを小さくしてしまう、いわゆる再結晶化が起こったりする。このように低線速側で再結晶化が起こると、再生信号が小さくなるという問題が発生し、低速から高速までの広い線速度範囲において特性を満足することが困難となる。 As a phase change recording layer material capable of high-speed recording, a Ge—Sb—Te-based material having a composition on a line connecting GeTe and Sb 2 Te 3 in a triangular composition diagram having Ge, Sb and Te as vertices, It is often used because of its high crystallization speed. Furthermore, it has been conventionally known that the crystallization speed is further increased by replacing GeTe in the Ge—Sb—Te phase change material with SnTe. However, for example, according to Japanese Patent Laid-Open No. 2006-182005, when GeTe in a Ge—Sb—Te phase change material is replaced with SnTe, the recording layer in a crystalline state and an amorphous state (amorphous state) as Sn increases. Crystal growth from the outer edge of the molten region during the cooling process immediately after the recording layer is heated to the melting point or higher by the laser beam because the difference in refractive index is small or the recording layer is crystallized too fast on the low linear velocity side. Occurs, so-called recrystallization occurs, which reduces the recording mark size. Thus, when recrystallization occurs on the low linear velocity side, there arises a problem that the reproduction signal becomes small, and it becomes difficult to satisfy the characteristics in a wide linear velocity range from low speed to high speed.

また、高速記録可能で且つ広い線速度範囲に対応し得る記録層材料として、Bi−Ge−Te系相変化材料が提案されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1には、高速記録可能で且つ広い線速度範囲に対応し得るBi−Ge−Te系相変化材料の組成範囲も記載されている。   In addition, a Bi—Ge—Te phase change material has been proposed as a recording layer material capable of high-speed recording and capable of dealing with a wide linear velocity range (see, for example, Patent Document 1). Patent Document 1 also describes a composition range of a Bi—Ge—Te phase change material capable of high-speed recording and capable of dealing with a wide linear velocity range.

一方、相変化型光記録媒体の大容量化する技術としては、従来のDVDで用いられている赤色レーザを青色レーザに変更し、すなわち、光の波長を約650nmから約405nmに短波長化し、レーザスポット径を小さくしてより高密度の情報を記録する方法がある。波長405nmの青色レーザ光を用いるディスクとしては、現在、Blu−ray DiscとHD−DVDが提案され、規格化されている。   On the other hand, as a technology for increasing the capacity of the phase change optical recording medium, the red laser used in the conventional DVD is changed to a blue laser, that is, the wavelength of light is shortened from about 650 nm to about 405 nm, There is a method for recording higher density information by reducing the laser spot diameter. Currently, Blu-ray Disc and HD-DVD have been proposed and standardized as disks using blue laser light having a wavelength of 405 nm.

一般に、レーザビームのスポット径はレーザ波長λ、レンズ開口数NAとしたときにλ/NAに比例することが知られており、波長405nmの半導体レーザ、開口数NA0.85の対物レンズを用いるBlu−ray Discの場合にはレーザスポット径は、従来のDVDで用いられているレーザスポット径(波長650nmの半導体レーザ、開口数NA0.60の対物レンズ)の約半分となる。また、波長405nmの半導体レーザ、開口数NA0.65の対物レンズを用いるHD−DVD場合においても、そのレーザスポット径は、従来のDVDの場合の6割程度に小さくなる。   In general, it is known that the spot diameter of a laser beam is proportional to λ / NA when the laser wavelength is λ and the lens numerical aperture NA. Blu is used using a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm and an objective lens having a numerical aperture NA of 0.85. In the case of -ray Disc, the laser spot diameter is about half of the laser spot diameter (semiconductor laser having a wavelength of 650 nm, objective lens having a numerical aperture NA of 0.60) used in a conventional DVD. Also, in the case of HD DVD using a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm and an objective lens having a numerical aperture NA of 0.65, the laser spot diameter is as small as about 60% of that in the case of a conventional DVD.

さらに、書換型の相変化光記録媒体では、上述した高速化及び大容量化以外に求められる重要な特性として、繰り返し書換耐久性がある。相変化型光記録媒体では、記録の際にレーザビームにより記録層を融点以上に加熱し、その後冷却するため、情報を繰り返し書き換えると、記録層と、記録層に隣接したZnS−SiO等からなる誘電体保護層との間で、両層の構成元素が互いに相手側の層に侵入および拡散したり、両層の構成元素が互いに化学反応を起こすといった現象が発生し、これにより、情報を繰り返し書き換えを行うと特性が劣化するという問題が生じる。 Furthermore, the rewritable phase change optical recording medium has repeated rewriting durability as an important characteristic required in addition to the above-described high speed and large capacity. In the phase change type optical recording medium, the recording layer is heated to the melting point or higher by a laser beam at the time of recording, and then cooled. Therefore, when information is rewritten repeatedly, the recording layer and ZnS-SiO 2 adjacent to the recording layer are used. The constituent elements of both layers invade and diffuse into each other's layers, and the constituent elements of both layers cause a chemical reaction with each other. When rewriting is performed repeatedly, there arises a problem that characteristics deteriorate.

この両層間の構成元素の侵入、拡散及び化学反応を防止するために、従来、記録層と保護層間に界面層を設け、保護層と記録層との化学反応や原子拡散を防止し、繰り返し書換耐久性を向上させる構造の情報記録媒体が提案されている(例えば、特許文献2〜6参照)。特許文献2〜4では、記録層のレーザビーム入射側の界面層にTaとCrの混合物を形成している。また、特許文献5では、青色レーザ対応の書換型相変化光記録媒体が提案されており、記録層をGe−Sb−Te系相変化材料で形成し、界面層にハフニウム酸化物を含む膜、より具体的には、HfO膜、または、HfOにCeO,TiO,ZrOを混合した材料で形成された膜を用いている。さらに、特許文献6では、界面層をハフニウム、酸素及び窒素を含む膜で形成した書換型相変化光記録媒体が提案されている。 In order to prevent the intrusion, diffusion and chemical reaction of the constituent elements between the two layers, conventionally, an interface layer has been provided between the recording layer and the protective layer to prevent chemical reaction and atomic diffusion between the protective layer and the recording layer, and rewrites repeatedly. An information recording medium having a structure for improving durability has been proposed (see, for example, Patent Documents 2 to 6). In Patent Documents 2 to 4, a mixture of Ta 2 O 5 and Cr 2 O 3 is formed in the interface layer on the laser beam incident side of the recording layer. Patent Document 5 proposes a rewritable phase change optical recording medium for blue laser, a recording layer is formed of a Ge—Sb—Te phase change material, and a film containing hafnium oxide in an interface layer; More specifically, an HfO 2 film or a film formed of a material obtained by mixing CeO 2 , TiO 2 , and ZrO 2 with HfO 2 is used. Further, Patent Document 6 proposes a rewritable phase change optical recording medium in which the interface layer is formed of a film containing hafnium, oxygen and nitrogen.

特開2004−155177号公報JP 2004-155177 A 特開2003−178487号公報JP 2003-178487 A 特開2005−285165号公報JP 2005-285165 A 特開2006−182005号公報JP 2006-182005 A 特開2004−171724号公報JP 2004-171724 A 特開2006−103067号公報JP 2006-103067 A

本発明者らは、上記特許文献1において、従来の赤色レーザを用いた書換型DVDにおいて、記録層材料に高速化に適したBiGeTeを用い、界面層材料にCrとTaの混合物を用いた場合に、高速記録が可能であり且つ十分な書き換え特性が得られることを確認した。そこで、本発明者らは、更なる大容量化を図るために、記録層材料としてBi−Ge−Te系材料を用い、光入射側の第1界面層材料にCr−Ta混合物を用いた書換型相変化記録媒体に対して、青色レーザを用いた情報の記録再生を行ったところ、従来の赤色レーザを用いた場合と同等の書き換え耐久性が得られなかった。 In the above-mentioned patent document 1, the present inventors use BiGeTe suitable for high speed as the recording layer material in the rewritable DVD using the conventional red laser, and Cr 2 O 3 and Ta 2 O 5 as the interface layer material. It was confirmed that high-speed recording was possible and sufficient rewriting characteristics were obtained when this mixture was used. Therefore, the present inventors use a Bi—Ge—Te-based material as the recording layer material in order to further increase the capacity, and Cr 2 O 3 —Ta 2 O as the first interface layer material on the light incident side. When information was recorded / reproduced using a blue laser on a rewritable phase change recording medium using the 5 mixture, rewriting durability equivalent to that obtained using a conventional red laser could not be obtained.

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、高速記録が可能であり且つ良好な書き換え特性が得られる大容量の相変化型光記録媒体を提供することである。   The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a large-capacity phase-change optical recording medium capable of high-speed recording and obtaining good rewriting characteristics. is there.

本発明の態様に従えば、情報記録媒体であって、基板と、上記基板上に設けられた第1誘電体層と、第1誘電体層上に設けられ、ハフニウム酸化物と、錫酸化物またはクロム酸化物とを含む材料で形成された第1界面層と、第1界面層上に設けられ、相変化材料により形成された記録層と、上記記録層上に設けられた第2誘電体層と、第2誘電体層上に設けられた反射層とを備える情報記録媒体が提供される。   According to an aspect of the present invention, there is provided an information recording medium, a substrate, a first dielectric layer provided on the substrate, a hafnium oxide provided on the first dielectric layer, and a tin oxide. Alternatively, a first interface layer formed of a material containing chromium oxide, a recording layer formed on the first interface layer and formed of a phase change material, and a second dielectric provided on the recording layer There is provided an information recording medium including a layer and a reflective layer provided on the second dielectric layer.

上述したように、本発明者らが、記録層材料として高速記録可能で且つ広い線速度範囲に対応し得るBi−Ge−Te系材料を用い、光入射側の第1界面層材料にCr−Ta混合物を用いた書換型相変化記録媒体に対して、青色レーザを用いた情報の記録再生を行ったところ、従来の赤色レーザを用いた場合と同等の書き換え耐久性が得られなかった。これは、以下のような原因によるものと考えられる。 As described above, the present inventors use a Bi—Ge—Te-based material that can record at high speed and can correspond to a wide linear velocity range as the recording layer material, and Cr 2 is used as the first interface layer material on the light incident side. When information was recorded / reproduced using a blue laser on a rewritable phase change recording medium using an O 3 —Ta 2 O 5 mixture, the rewriting durability was the same as when a conventional red laser was used. It was not obtained. This is considered due to the following causes.

記録層と誘電体層(保護層)との間に界面層を設けた構造の媒体であっても書き換えによる特性劣化が生じる要因としては、繰り返し書き換えを行うことにより、レーザビームが照射された部分とそれ以外の部分の間で熱膨張及び収縮が繰り返されるため、界面層に亀裂が生じ、その亀裂を介して記録層と誘電体層との間で、構成元素の侵入、拡散及び化学反応が生じたことが考えられる。特に、青色レーザを用いた場合には、赤色レーザの場合よりビームスポット径が小さくなり、ビーム中心のエネルギー強度が高くなる。それゆえ、青色レーザを用いて繰り返し書き換えを行った場合には、より局所的に且つ高温度で記録層の溶融及び冷却が繰り返されるので、上述した熱ストレスによる影響がより顕著になるものと考えられる。   Even in the case of a medium having an interface layer between the recording layer and the dielectric layer (protective layer), the characteristic deterioration due to rewriting is caused by repeated rewriting and the portion irradiated with the laser beam. Since the thermal expansion and contraction are repeated between and the other parts, a crack occurs in the interface layer, and the intrusion, diffusion and chemical reaction of constituent elements occur between the recording layer and the dielectric layer through the crack. It may have occurred. In particular, when a blue laser is used, the beam spot diameter is smaller than that of a red laser, and the energy intensity at the center of the beam is increased. Therefore, when repeated rewriting is performed using a blue laser, the recording layer is repeatedly melted and cooled more locally and at a higher temperature. It is done.

また、上記特許文献1で開示されているように、高速記録に適し且つ広い線速度範囲に対応し得るBi−Ge−Te系粗変化材料の組成は、Ge50Te50近傍であり、微量のBiTeを添加した組成であり、且つ、Bi、Ge及びTeを頂点とする三角組成図上でGe50Te50とBiTeとを結ぶ線状の組成より過剰なGeが存在する領域の組成である。しかしながら、Ge50Te50の融点は約725℃、Geの融点は約937℃と高いため、上述のような組成のBi−Ge−Te系粗変化材料の融点は少なくとも700℃以上になる。一方、従来のGe−Sb−Te系またはGe−Sb−Sn−Te系相変化材料の融点は約650℃である。それゆえ、Bi−Ge−Te系相変化材料からなる記録層に情報記録を行う場合には、Ge−Sb−Te系またはGe−Sb−Sn−Te系相変化材料からなる記録層に情報記録を行う場合に比べて、より高い温度まで記録層を加熱する必要があり、上述した熱ストレスによる影響も従来より大きくなるものと考えられる。すなわち、Bi−Ge−Te系粗変化材料は、従来の記録層材料に比べて、繰り返し書き換え耐久性に不利な材料である。 Further, as disclosed in Patent Document 1, the composition of the Bi—Ge—Te rough change material that is suitable for high-speed recording and can correspond to a wide linear velocity range is in the vicinity of Ge 50 Te 50 , Bi 2 Te 3 is added, and there is more Ge than the linear composition connecting Ge 50 Te 50 and Bi 2 Te 3 on the triangular composition diagram with Bi, Ge, and Te as vertices. The composition of the region. However, since Ge 50 Te 50 has a high melting point of about 725 ° C. and Ge has a high melting point of about 937 ° C., the melting point of the Bi—Ge—Te coarse change material having the above composition is at least 700 ° C. or more. On the other hand, the melting point of the conventional Ge—Sb—Te or Ge—Sb—Sn—Te phase change material is about 650 ° C. Therefore, when information is recorded on the recording layer made of a Bi—Ge—Te phase change material, the information recording is performed on the recording layer made of a Ge—Sb—Te type or Ge—Sb—Sn—Te type phase change material. It is necessary to heat the recording layer to a higher temperature than in the case of performing the above, and it is considered that the influence of the above-described thermal stress is greater than in the conventional case. That is, the Bi—Ge—Te based coarse change material is a material that is disadvantageous in repeated rewriting durability as compared with the conventional recording layer material.

以上のことから、青色レーザを用いてBi−Ge−Te系相変化材料からなる記録層に情報記録を行った場合には、上述した熱ストレスの影響が非常に大きくなるものと考えられ、従来、赤色レーザ対応の相変化型光記録媒体に用いられていた界面層材料では十分な書き換え耐久性を得ることができなかったものと考えられる。   From the above, when information recording is performed on a recording layer made of a Bi—Ge—Te phase change material using a blue laser, it is considered that the influence of the above-described thermal stress becomes very large. It is considered that sufficient rewriting durability could not be obtained with the interface layer material used in the phase change optical recording medium compatible with the red laser.

また、本発明者らは、Bi−Ge−Te系相変化材料からなる記録層を備える相変化型光記録媒体において、従来用いられているHfO膜、または、HfOにCeO,TiO,ZrOを混合した材料で形成された膜を光入射側の第1界面層に用いた媒体を作製し、青色レーザを用いて記録再生特性を評価した。しかしながら、10回オーバーライト後の初期特性としては十分な特性が得られたが、さらに、書き換えを繰り返した場合に特性が急激に劣化し、書換型相変化記録媒体として十分な書き換え耐久性が得られないことが分かった。 In addition, the inventors of the present invention use a conventionally used HfO 2 film or HfO 2 with CeO 2 , TiO 2 in a phase change optical recording medium having a recording layer made of a Bi—Ge—Te phase change material. , ZrO 2 mixed material was used as the first interface layer on the light incident side, and a recording medium was evaluated using a blue laser. However, although sufficient characteristics were obtained as initial characteristics after overwriting 10 times, the characteristics deteriorated rapidly when rewriting was repeated, and sufficient rewriting durability as a rewritable phase change recording medium was obtained. I found it impossible.

そこで、本発明者らが、上記課題を解決するために、高速記録が可能な相変化材料(例えば、Bi−Ge−Te系、Ge−Sb−Sn−Te系等の相変化材料)からなる記録層を備えた相変化光記録媒体において、記録層の光入射側に位置する第1界面層の形成材料について検討を重ねたところ、第1界面層の形成材料としてハフニウム酸化物及び錫酸化物を含む材料、または、ハフニウム酸化物及びクロム酸化物を含む材料を用いた場合に、良好な書き換え特性が得られる青色レーザ対応の相変化型光記録媒体を提供することができることを見出した。すなわち、第1界面層の形成材料としてハフニウム酸化物及び錫酸化物を含む材料、または、ハフニウム酸化物及びクロム酸化物を含む材料を用いることにより、高速記録が可能であり且つ良好な書き換え特性が得られる大容量の相変化型光記録媒体が得られることが分かった。   Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, the present inventors are made of a phase change material capable of high-speed recording (for example, a phase change material such as Bi—Ge—Te, Ge—Sb—Sn—Te). In a phase change optical recording medium having a recording layer, studies have been made on the formation material of the first interface layer located on the light incident side of the recording layer. As the formation material of the first interface layer, hafnium oxide and tin oxide are used. It has been found that a phase change optical recording medium compatible with a blue laser can be provided, which can provide good rewriting characteristics when a material containing, or a material containing hafnium oxide and chromium oxide is used. That is, by using a material containing hafnium oxide and tin oxide or a material containing hafnium oxide and chromium oxide as a material for forming the first interface layer, high-speed recording is possible and good rewriting characteristics are obtained. It was found that the obtained large-capacity phase change optical recording medium can be obtained.

本発明の情報記録媒体では、第1界面層がハフニウム酸化物及び錫酸化物を含む材料で形成され、該材料中に含まれる錫酸化物の割合が5〜15mol%であることが好ましい。   In the information recording medium of the present invention, the first interface layer is preferably formed of a material containing hafnium oxide and tin oxide, and the ratio of tin oxide contained in the material is preferably 5 to 15 mol%.

また、本発明の情報記録媒体では、第1界面層がハフニウム酸化物及びクロム酸化物を含む材料で形成され、該材料中に含まれるクロム酸化物の割合が2.5〜10mol%であることが好ましい。   In the information recording medium of the present invention, the first interface layer is formed of a material containing hafnium oxide and chromium oxide, and the ratio of the chromium oxide contained in the material is 2.5 to 10 mol%. Is preferred.

なお、本発明の第1界面層に含まれるハフニウム酸化物は化学量論組成ではHfOと表されるが、HfOは原料母材であるHfの精製過程において純度を高めることが難しく、通常ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)などが不純物元素として1〜2%程度混入している。しかしながら、この程度で不純物元素またはその酸化物がこの程度の量で第1界面層中に含まれていても本発明の効果に影響を与えず、本発明の範囲を逸脱するものではない。 The hafnium oxide contained in the first interface layer of the present invention is represented as HfO 2 in the stoichiometric composition, but it is difficult to increase the purity of HfO 2 in the purification process of Hf, which is a raw material base material. Zirconium (Zr), titanium (Ti), and the like are mixed as an impurity element in an amount of about 1 to 2%. However, even if the impurity element or the oxide thereof is contained in this amount in this amount in the first interface layer, it does not affect the effect of the present invention and does not depart from the scope of the present invention.

本発明の情報記録媒体では、上記記録層が、Bi、Ge及びTeを含む相変化材料で形成されていることが好ましい。上述したように、Bi−Ge−Te系相変化材料は高速記録に適し且つ広い線速度範囲に対応し得る材料であるので、記録層をBi−Ge−Te系相変化材料で形成した本発明の情報記録媒体では、広い線速度範囲に対応可能であり且つ良好な書き換え特性が得られる。なお、記録層の形成材料としては、Bi−Ge−Te系以外では、例えば、Ge−Sb−Te系、Ge−Sb−Sn−Te系等の相変化材料が用いてもよい。   In the information recording medium of the present invention, the recording layer is preferably formed of a phase change material containing Bi, Ge, and Te. As described above, the Bi-Ge-Te phase change material is suitable for high-speed recording and can be used in a wide linear velocity range. Therefore, the present invention has a recording layer formed of a Bi-Ge-Te phase change material. In this information recording medium, it is possible to deal with a wide linear velocity range and to obtain good rewriting characteristics. As a material for forming the recording layer, a phase change material such as a Ge—Sb—Te system or a Ge—Sb—Sn—Te system may be used other than the Bi—Ge—Te system.

本発明の情報記録媒体では、上記記録層と第2誘電体層との間に、さらに、第2界面層を備えることが好ましい。第2界面層の形成材料としては、記録層と第2誘電体層の間の構成元素の侵入、拡散および化学反応を防止し得る材料であれば、任意の材料が用い得る。例えば、第2界面層の形成材料としては、従来、赤色レーザ対応の相変化型光記録媒体に用いられていた材料(Cr等)を用いてもよい。 In the information recording medium of the present invention, it is preferable that a second interface layer is further provided between the recording layer and the second dielectric layer. As the material for forming the second interface layer, any material can be used as long as it can prevent the intrusion, diffusion and chemical reaction of the constituent elements between the recording layer and the second dielectric layer. For example, as the material for forming the second interface layer, a material (such as Cr 2 O 3 ) conventionally used for a phase change optical recording medium compatible with a red laser may be used.

本発明の情報記録媒体によれば、記録層の光入射側に配置する第1界面層をハフニウム酸化物及び錫酸化物を含む材料、または、ハフニウム酸化物及びクロム酸化物を含む材料で形成することにより、高速記録が可能であり且つ良好な書き換え特性が得られる大容量の相変化型光記録媒体を提供することができる。   According to the information recording medium of the present invention, the first interface layer disposed on the light incident side of the recording layer is formed of a material containing hafnium oxide and tin oxide, or a material containing hafnium oxide and chromium oxide. Thus, it is possible to provide a large-capacity phase-change optical recording medium capable of high-speed recording and obtaining good rewriting characteristics.

以下、本発明の情報記録媒体の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。   Examples of the information recording medium of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited thereto.

[光ディスク及びその製造方法]
実施例1で作製した相変化型の光ディスク(サンプルNo.1)の概略断面図を図1に示した。この例で作製した光ディスク100は、図1に示すように、基板1上に、第1誘電体層2、第1界面層3、記録層4、第2界面層5、第2誘電体層6、遮断層7、反射層8、保護層9及びダミー基板10がこの順で積層された構造を有する。また、この例の光ディスク100では、図1に示すように、基板1側からレーザ光200が入射される。
[Optical disk and manufacturing method thereof]
A schematic cross-sectional view of the phase change type optical disc (sample No. 1) produced in Example 1 is shown in FIG. As shown in FIG. 1, an optical disc 100 manufactured in this example has a first dielectric layer 2, a first interface layer 3, a recording layer 4, a second interface layer 5, and a second dielectric layer 6 on a substrate 1. The blocking layer 7, the reflective layer 8, the protective layer 9, and the dummy substrate 10 are stacked in this order. In the optical disc 100 of this example, as shown in FIG. 1, a laser beam 200 is incident from the substrate 1 side.

また、この例で作製した光ディスク100は、未記録部である結晶部の反射率Rcと記録部である非晶質部の反射率Raとの間に、Rc>Raの関係が成立する媒体、いわゆる、High−to−Low媒体である。   In addition, the optical disc 100 manufactured in this example is a medium in which a relationship of Rc> Ra is established between the reflectance Rc of the crystal part which is an unrecorded part and the reflectance Ra of the amorphous part which is a recording part. This is a so-called High-to-Low medium.

次に、この例の光ディスク100の作製方法を説明する。まず、基板1として、直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート製基板を用意した。なお、基板1は射出成形により作製し、基板1には0.4μmピッチで深さ30nmのグルーブを形成した。次いで、基板1を、膜厚分布を小さくすることができ且つ再現性の高いスパッタ装置にセットし、スパッタリングにより基板1のグルーブが形成された面上に第1誘電体層2〜反射層8を形成した。なお、スパッタ装置としては複数のスパッタ室を備え、各スパッタ室には複数のスパッタターゲットが装着可能であり、同時スパッタリングが可能な装置を用いた。   Next, a manufacturing method of the optical disc 100 of this example will be described. First, a polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm was prepared as the substrate 1. The substrate 1 was produced by injection molding, and grooves having a depth of 30 nm were formed on the substrate 1 at a pitch of 0.4 μm. Next, the substrate 1 is set in a sputtering apparatus capable of reducing the film thickness distribution and having high reproducibility, and the first dielectric layer 2 to the reflective layer 8 are formed on the surface of the substrate 1 on which the grooves are formed by sputtering. Formed. As the sputtering apparatus, a plurality of sputtering chambers were provided, and each sputtering chamber was equipped with a plurality of sputtering targets, and an apparatus capable of simultaneous sputtering was used.

基板1上に、第1誘電体層2として(ZnS)80−(SiO20[mol%]膜を60nmの厚さで形成した。 A (ZnS) 80- (SiO 2 ) 20 [mol%] film having a thickness of 60 nm was formed on the substrate 1 as the first dielectric layer 2.

次いで、第1誘電体層2上に、第1界面層3としてHfO−SnO膜を厚さ5nmで形成した。この際、スパッタターゲットにはHfO及びSnOを用い、同時スパッタリングにより第1界面層3を形成した。なお、この例では、第1界面層3のHfOとSnOとの混合比率がHfO:SnO=95:5mol%となるように、すなわち、第1界面層3の形成材料中に含まれるSnOの割合が5mol%となるように、各々のスパッタターゲットに印加するスパッタリングパワーを調整した。 Next, an HfO 2 —SnO 2 film having a thickness of 5 nm was formed as the first interface layer 3 on the first dielectric layer 2. At this time, HfO 2 and SnO 2 were used as the sputtering target, and the first interface layer 3 was formed by simultaneous sputtering. In this example, the mixing ratio of HfO 2 and SnO 2 in the first interface layer 3 is HfO 2 : SnO 2 = 95: 5 mol%, that is, included in the forming material of the first interface layer 3. The sputtering power applied to each sputtering target was adjusted so that the ratio of SnO 2 to be 5 mol%.

次に、第1界面層3上に、記録層4としてBiGe44.2Te50.8(at%)膜を厚さ12.5nmで形成した。次いで、記録層4上に、第2界面層5としてCr膜を厚さ3nmで形成した。次いで、第2界面層5上に、第2誘電体層6として(ZnS)80−(SiO20[mol%]膜を厚さ14nmで形成した。次いで、第2誘電体層6上に、遮断層7としてCr膜を厚さ3nmで形成した。次いで、遮断層7上に、反射層8としてAgCu(1wt%)Ca(500ppm)膜を厚さ100nmで形成した。なお、この例では、第1界面層3以外の層をスパッタリングで形成する際には、成膜しようとする膜に相当する組成を有するスパッタターゲットを用いた。 Next, a Bi 5 Ge 44.2 Te 50.8 (at%) film having a thickness of 12.5 nm was formed as the recording layer 4 on the first interface layer 3. Next, a Cr 2 O 3 film having a thickness of 3 nm was formed as the second interface layer 5 on the recording layer 4. Next, a (ZnS) 80- (SiO 2 ) 20 [mol%] film having a thickness of 14 nm was formed as the second dielectric layer 6 on the second interface layer 5. Next, a Cr 2 O 3 film having a thickness of 3 nm was formed as the blocking layer 7 on the second dielectric layer 6. Next, an AgCu (1 wt%) Ca (500 ppm) film having a thickness of 100 nm was formed on the blocking layer 7 as the reflective layer 8. In this example, when the layers other than the first interface layer 3 are formed by sputtering, a sputtering target having a composition corresponding to the film to be formed is used.

次いで、基板1上に第1誘電体層2〜反射層8を形成されたディスクをスパッタ装置から取り出した。次いで、反射層8上に、保護層9として紫外線硬化樹脂を塗布し、その上に、0.6mm厚のポリカーボネート製ダミー基板10を載置した。次いで、ダミー基板10越しに紫外線照射を行い、紫外線硬化樹脂を硬化させることによりダミー基板10を貼り合わせた。この例では、以上のようにして図1に示すような構造の光ディスク100を作製した。   Next, the disk on which the first dielectric layer 2 to the reflective layer 8 were formed on the substrate 1 was taken out from the sputtering apparatus. Next, an ultraviolet curable resin was applied as a protective layer 9 on the reflective layer 8, and a polycarbonate dummy substrate 10 having a thickness of 0.6 mm was placed thereon. Subsequently, the dummy substrate 10 was bonded together by irradiating the dummy substrate 10 with ultraviolet rays and curing the ultraviolet curable resin. In this example, the optical disk 100 having the structure shown in FIG. 1 was produced as described above.

なお、この例では、第1誘電体層2、第2誘電体層6の膜厚は第1界面層3の光学定数に合わせて、未記録状態の反射率Rが11〜15%の範囲となり、且つ、記録再生信号の変調度が0.45以上となるように膜厚を調整した。この例で作製した光ディスク100では、未記録状態の反射率Rは13.6%であり、変調度は0.54であった。   In this example, the film thicknesses of the first dielectric layer 2 and the second dielectric layer 6 are in the range where the reflectance R in the unrecorded state is 11 to 15% in accordance with the optical constant of the first interface layer 3. In addition, the film thickness was adjusted so that the modulation degree of the recording / reproducing signal was 0.45 or more. In the optical disc 100 manufactured in this example, the reflectance R in the unrecorded state was 13.6%, and the degree of modulation was 0.54.

次に、上記の作製方法で得られた光ディスク100を初期化装置(不図示)に装着し、波長810nm、ビームスポットの長径が100μm、短径が1μmである楕円ビームのレーザ光を光ディスク100全面に渡って照射し、記録層4を初期結晶化した。   Next, the optical disc 100 obtained by the above manufacturing method is mounted on an initialization apparatus (not shown), and an elliptical laser beam having a wavelength of 810 nm, a beam spot major axis of 100 μm, and a minor axis of 1 μm is applied to the entire surface of the optical disc 100. The recording layer 4 was initially crystallized.

この例では、上述のように、第1誘電体層2及び第2誘電体層6を(ZnS)80(SiO20の混合物で形成したが、本発明はこれに限定されず、例えば、ZnSとSiOの混合物の混合比を変えた材料、SiO,Ta,Al等の酸化物、あるいは、Si−N,Al−N,Ge−N等の窒化物が用い得る。 In this example, as described above, the first dielectric layer 2 and the second dielectric layer 6 are formed of a mixture of (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 , but the present invention is not limited to this, for example, A material in which the mixture ratio of the mixture of ZnS and SiO 2 is changed, an oxide such as SiO 2 , Ta 2 O 5 , Al 2 O 3 , or a nitride such as Si—N, Al—N, Ge—N, etc. is used. obtain.

また、この例では、第2界面層5をCr膜で形成したが、本発明はこれに限定されず、記録層4と第2誘電体層6との間における構成元素の拡散、進入及び反応を防止できる効果が得られる材料であれば任意の材料が用い得る。なお、第2誘電体層6を、記録層4と反応しない、あるいは、反応性の小さい材料(例えば、Sを含まない系の材料)で形成した場合には第2界面層5を設けなくても良い。 In this example, the second interface layer 5 is formed of a Cr 2 O 3 film. However, the present invention is not limited to this, and the diffusion of constituent elements between the recording layer 4 and the second dielectric layer 6 can be improved. Any material can be used as long as the material has an effect of preventing entry and reaction. When the second dielectric layer 6 is formed of a material that does not react with the recording layer 4 or has a low reactivity (for example, a material that does not contain S), the second interface layer 5 is not provided. Also good.

この例では、反射層8としてAgCu(1wt%)Ca(500ppm)膜を用いたが、本発明はこれに限定されず、例えば、AgCaCu膜の組成比を変えたもの、Agを主成分とした合金、あるいはAlを主成分とした合金等が用い得る。   In this example, an AgCu (1 wt%) Ca (500 ppm) film is used as the reflective layer 8, but the present invention is not limited to this. For example, the composition ratio of the AgCaCu film is changed, and Ag is the main component. An alloy or an alloy containing Al as a main component can be used.

また、遮断層7は、反射層8として用いたAg合金膜中のAgと第2誘電体層6に用いた(ZnS)80(SiO20膜の混合物中のS(硫黄)との反応による記録特性の劣化を防止するために設けられた層である。この例では、遮断層7の形成材料としてCrを用いたが、本発明はこれに限定されず、反射層8中のAgと第2誘電体層6中のSとの反応を防止し、且つ、反射層8のAg合金膜と第2誘電体層6の(ZnS)80(SiO20膜との接着性に優れた材料であれば任意の材料が用い得る。なお、第2誘電体層6と反射層8とが互いに反応しない、あるいは反応性の少ない材料で構成されている場合には遮断層7を形成しなくても良い。 The blocking layer 7 reacts with Ag in the Ag alloy film used as the reflective layer 8 and S (sulfur) in the mixture of the (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 film used in the second dielectric layer 6. This layer is provided in order to prevent the recording characteristics from being deteriorated by the recording. In this example, Cr 2 O 3 is used as a material for forming the blocking layer 7, but the present invention is not limited to this, and reaction between Ag in the reflective layer 8 and S in the second dielectric layer 6 is prevented. In addition, any material can be used as long as the material is excellent in adhesion between the Ag alloy film of the reflective layer 8 and the (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 film of the second dielectric layer 6. If the second dielectric layer 6 and the reflective layer 8 do not react with each other or are made of a material with low reactivity, the blocking layer 7 may not be formed.

実施例2の光ディスク(サンプルNo.2)では、第1界面層3を厚さ5nmのHfO−Cr膜で形成した。この際、スパッタターゲットにはHfO及びCrを用い、同時スパッタリングにより第1界面層3を形成した。なお、この例では、第1界面層3のHfOとCrとの混合比率がHfO:Cr=95:5mol%となるように、各々のスパッタターゲットに印加するスパッタリングパワーを調整した。この例の光ディスクでは、第1界面層3の形成材料を変えたこと以外は、実施例1と同様の構成とした。なお、この例で作製した光ディスク100では、未記録状態の反射率Rは13.2%であり、変調度は0.50であった。 In the optical disk of Example 2 (Sample No. 2), the first interface layer 3 was formed of a 5 nm thick HfO 2 —Cr 2 O 3 film. At this time, HfO 2 and Cr 2 O 3 were used as the sputtering target, and the first interface layer 3 was formed by simultaneous sputtering. In this example, the sputtering power applied to each sputtering target so that the mixing ratio of HfO 2 and Cr 2 O 3 in the first interface layer 3 is HfO 2 : Cr 2 O 3 = 95: 5 mol%. Adjusted. The optical disc of this example has the same configuration as that of Example 1 except that the material for forming the first interface layer 3 is changed. In the optical disc 100 manufactured in this example, the reflectance R in an unrecorded state was 13.2%, and the modulation factor was 0.50.

実施例3の光ディスク(サンプルNo.3)では、記録層4を厚さ11nmのGe24Sb10Sn14Te52(at%)膜で形成した。また、この例では、第2誘電体層6を厚さ10nmの(ZnS)80(SiO20膜で形成した。この例では、記録層4及び第2誘電体層6以外の光ディスクの構成は、実施例1と同様の構成とした。なお、この例で作製した光ディスク100では、未記録状態の反射率Rは14.3%であり、変調度は0.50であった。 In the optical disc of Example 3 (sample No. 3), the recording layer 4 was formed of a Ge 24 Sb 10 Sn 14 Te 52 (at%) film having a thickness of 11 nm. In this example, the second dielectric layer 6 is formed of a (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 film having a thickness of 10 nm. In this example, the configuration of the optical disk other than the recording layer 4 and the second dielectric layer 6 is the same as that of the first embodiment. In the optical disc 100 manufactured in this example, the reflectance R in the unrecorded state was 14.3%, and the modulation factor was 0.50.

実施例4の光ディスク(サンプルNo.4)では、記録層4を厚さ11nmのGe24Sb10Sn14Te52(at%)膜で形成した。また、この例では、第2誘電体層6を厚さ10nmの(ZnS)80(SiO20膜で形成した。この例では、記録層4及び第2誘電体層6以外の光ディスクの構成は、実施例2と同様の構成とした。なお、この例で作製した光ディスク100では、未記録状態の反射率Rは14.0%であり、変調度は0.47であった。 In the optical disk of Example 4 (sample No. 4), the recording layer 4 was formed of a Ge 24 Sb 10 Sn 14 Te 52 (at%) film having a thickness of 11 nm. In this example, the second dielectric layer 6 is formed of a (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 film having a thickness of 10 nm. In this example, the configuration of the optical disk other than the recording layer 4 and the second dielectric layer 6 is the same as that of the second embodiment. In the optical disc 100 manufactured in this example, the reflectance R in the unrecorded state was 14.0%, and the modulation factor was 0.47.

[比較例1]
比較例1の光ディスクでは、第1界面層3を厚さ5nmのCr−Ta膜で形成した。この際、スパッタターゲットにはCr及びTaを用い、同時スパッタリングにより第1界面層3を形成した。また、この例では、第1界面層3のCrとTaとの混合比率がCr:Ta=60:40mol%となるように、各々のスパッタターゲットに印加するスパッタリングパワーを調整した。この例の光ディスクでは、第1界面層3の形成材料を変えたこと以外は、実施例1と同様の構成とした。この例で作製した光ディスク100では、未記録状態の反射率Rは13.0%であり、変調度は0.48であった。なお、この例で用いた第1界面層3の形成材料は、従来の赤色レーザ対応の書換型DVDで用いられている材料であり、赤色レーザ対応の書換型DVDでは、第1界面層にCr−Ta膜を用いることにより十分な書き換え耐久性が得られている。
[Comparative Example 1]
In the optical disk of Comparative Example 1, the first interface layer 3 was formed of a Cr 2 O 3 —Ta 2 O 5 film having a thickness of 5 nm. At this time, Cr 2 O 3 and Ta 2 O 5 were used as the sputtering target, and the first interface layer 3 was formed by simultaneous sputtering. In this example, each sputter target is mixed so that the mixing ratio of Cr 2 O 3 and Ta 2 O 5 in the first interface layer 3 is Cr 2 O 3 : Ta 2 O 5 = 60: 40 mol%. The sputtering power to be applied was adjusted. The optical disc of this example has the same configuration as that of Example 1 except that the material for forming the first interface layer 3 is changed. In the optical disc 100 manufactured in this example, the reflectance R in an unrecorded state was 13.0%, and the degree of modulation was 0.48. The material for forming the first interface layer 3 used in this example is a material used in a conventional rewritable DVD compatible with a red laser. In the rewritable DVD compatible with a red laser, the first interface layer 3 has a Cr layer in the first interface layer. Sufficient rewriting durability is obtained by using the 2 O 3 —Ta 2 O 5 film.

[比較例2]
比較例2の光ディスクでは、第1界面層3を厚さ5nmのHfO膜で形成した。この際、スパッタターゲットにはHfOを用いた。この例の光ディスクでは、第1界面層3の形成材料を変えたこと以外は、実施例1と同様の構成とした。この例で作製した光ディスク100では、未記録状態の反射率Rは14.0%であり、変調度は0.54であった。なお、HfOは、従来、例えば、上述した特許文献5等において、青色レーザ対応の書換型相変化媒体の界面層の形成材料として用いられている材料である。
[Comparative Example 2]
In the optical disc of Comparative Example 2, the first interface layer 3 was formed of a 5 nm thick HfO 2 film. At this time, HfO 2 was used as a sputtering target. The optical disc of this example has the same configuration as that of Example 1 except that the material for forming the first interface layer 3 is changed. In the optical disc 100 manufactured in this example, the reflectance R in an unrecorded state was 14.0%, and the degree of modulation was 0.54. In addition, HfO 2 is a material conventionally used as a material for forming an interface layer of a rewritable phase change medium compatible with a blue laser in, for example, Patent Document 5 described above.

[特性評価]
次に、パルステック工業(株)製のディスク評価装置ODU−1000を用いて、実施例1〜4並びに比較例1及び2で作製した光ディスク100の特性評価を行なった。なお、この評価装置は、波長405nmの青紫色半導体レーザと、開口数NA0.65の対物レンズとを備えている。また、この例の評価方法では、情報の記録は、光入射側から見て基板1の凸部となる部分に記録する方式、いわゆる、グルーブ記録方式を採用した。記録条件は線速6.61m/s、チャネルビット長T=0.102μmとなるように設定した。
[Characteristic evaluation]
Next, characteristics evaluation of the optical disc 100 manufactured in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 was performed using a disc evaluation apparatus ODU-1000 manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. This evaluation apparatus includes a blue-violet semiconductor laser having a wavelength of 405 nm and an objective lens having a numerical aperture NA of 0.65. Further, in the evaluation method of this example, a method of recording information on a portion that becomes a convex portion of the substrate 1 when viewed from the light incident side, that is, a so-called groove recording method is adopted. The recording conditions were set so that the linear velocity was 6.61 m / s and the channel bit length T = 0.102 μm.

この例では、初期特性として、10回オーバーライト記録後のビットエラーレートbER(初期bER特性)を評価した。また、繰り返し書き換え特性として、2000回書き換え後のビットエラーレートbER及び初期bER特性からビットエラーレートが2桁劣化した際の書き換え回数を評価した。なお、この例では、実使用上問題のない書き換え回数としては2000回を想定した。また、2000回書き換え後のbERの初期bERからの劣化が2桁未満の場合には、bERが2桁劣化する書き換え回数を2000回以上とした。   In this example, the bit error rate bER (initial bER characteristic) after 10 overwrite recordings was evaluated as the initial characteristic. In addition, as the repeated rewrite characteristics, the number of rewrites when the bit error rate deteriorated by two digits was evaluated from the bit error rate bER after 2000 rewrites and the initial bER characteristic. In this example, it is assumed that the number of rewrites causing no problem in actual use is 2000. In addition, when the deterioration of the bER from the initial bER after 2000 rewrites is less than 2 digits, the number of rewrites in which the bER deteriorates by 2 digits is set to 2000 or more.

なお、上記評価において、ビットエラーレートbERは、次のようにして測定した。まず、2Tから13Tまでのパターンがランダムに含まれたRLL(1,10)変調方式のランダムパターンを測定トラックに記録し、次いで、測定トラックの両側の隣接トラックに同じランダムパターンを記録した後、測定トラックに戻ってbERを測定した。   In the above evaluation, the bit error rate bER was measured as follows. First, a random pattern of RLL (1, 10) modulation method including patterns from 2T to 13T is randomly recorded on the measurement track, and then the same random pattern is recorded on the adjacent tracks on both sides of the measurement track. Returning to the measurement track, bER was measured.

上記評価結果を図2に示した。図2中のサンプルNo.1〜4がそれぞれ実施例1〜4の光ディスクに対応する。また、図2中には、各サンプルの膜構成(形成材料、組成あるは混合比率、及び、膜厚)、未記録状態の反射率R及び変調度も併せて記載した。   The evaluation results are shown in FIG. Sample No. 2 in FIG. 1 to 4 correspond to the optical disks of Examples 1 to 4, respectively. FIG. 2 also shows the film configuration (formation material, composition or mixing ratio, and film thickness) of each sample, the reflectance R in the unrecorded state, and the degree of modulation.

また、図2の最下段には、各サンプルの評価結果の総合評価を◎、○、△及び×で記載したが、これらの評価基準は以下の通りである。
◎:2000回書き換え後のbER劣化が2桁未満であり、且つ、2000回書き換え後のbERが5.0E−5以下である場合
○:2000回書き換え後のbER劣化が2桁以上であり、2000回書き換え後のbERが1.0E−04以下であり、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が1000回以上である場合
△:2000回書き換え後のbERが1.0E−4より大きく、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が1000回以上である場合
×:2000回書き換え後のbERが1.0E−4より大きく、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が1000回未満である場合
Moreover, although the comprehensive evaluation of the evaluation result of each sample was described by (double-circle), (circle), (triangle | delta), and x in the lowest stage of FIG. 2, these evaluation criteria are as follows.
◎: When the bER degradation after 2000 rewrites is less than 2 digits and the bER after 2000 rewrites is 5.0E-5 or less. ○: The bER degradation after 2000 rewrites is 2 digits or more. When bER after 2000 rewrites is 1.0E-04 or less and the number of rewrites when bER deteriorates by 2 digits is 1000 or more. Δ: bER after 2000 rewrites from 1.0E-4 Large and the number of rewrites when the bER deteriorates by two digits is 1000 or more x: The number of rewrites when the bER after 2000 rewrites is greater than 1.0E-4 and the bER deteriorates by two digits Is less than 1000 times

ここで、上記評価基準の内容をより具体的に説明する。現在の技術レベルでは、実用上、エラー訂正可能なbERは1.0E−4以下である。また、光ディスクの製造バラツキや記録条件のマージン等を考慮すると、bERの実使用レベルは5.0E−5以下となる。それゆえ、上記評価基準では、◎評価は、2000回書き換え後のbERが実使用レベルにあり、書き換え耐性に優れている場合である。○評価は、2000回書き換え後のbER劣化が2桁以上となるものの、2000回書き換え後のbERがエラー訂正可能なレベルにあり、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が従来の光ディスク(例えば、比較例1及び2の光ディスク)に比べて増大する場合である。△評価は、2000回書き換え後のbERがエラー訂正可能なレベルを超えているものの、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が従来に比べて増大する場合である。また、×評価は、2000回書き換え後のbERがエラー訂正可能なレベルを超えており、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数も小さい場合である。   Here, the content of the evaluation criteria will be described more specifically. At the current technical level, the error-correctable bER is practically 1.0E-4 or less. In consideration of manufacturing variations of optical disks, margins of recording conditions, and the like, the actual use level of bER is 5.0E-5 or less. Therefore, according to the above evaluation criteria, ◎ evaluation is when bER after 2000 rewrites is at the actual use level and has excellent rewrite endurance. ○ Evaluation shows that bER degradation after 2000 rewrites is 2 digits or more, but bER after 2000 rewrites is at a level where error correction is possible, and the number of rewrites when bER degrades by 2 digits is the conventional optical disc (For example, the optical disk of Comparative Examples 1 and 2) is increased. The evaluation is a case where the number of rewrites when the bER deteriorates by two digits increases compared to the conventional case, although the bER after 2000 rewrites exceeds the level capable of error correction. In addition, x evaluation is a case where the bER after 2000 rewrites exceeds a level capable of error correction, and the number of rewrites when the bER deteriorates by two digits is small.

図2から明らかなように、実施例1〜4並びに比較例1及び2で作製したいずれの光ディスクにおいても、良好な初期bER特性が得られたが、比較例1及び2の光ディスクでは、ともに2000回書き換え後にbERが2桁以上劣化し、bERが2桁劣化する書き換え回数がそれぞれ100回及び300回となり、総合評価は×であった。それに対して、実施例1〜4の光ディスクでは、いずれも、2000回書き換え後のbER劣化が2桁未満であり、2000回書き換え後のbERが5.0E−5以下であり、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が2000回を超えており、総合評価は◎評価であった。すなわち、図2の評価結果から、実施例1〜4の高速記録に適した材料で記録層を形成した光ディスクでは、第1界面層3をHfO−SnO膜またはHfO−Cr膜で形成することにより、高速記録可能で且つ優れた書き換え特性が得られる青色レーザ対応の相変化型光ディスクを提供することができることが分かった。特に、記録層の相変化材料にBi−Ge−Te系材料を用いた場合には、Bi−Ge−Te系材料は上述したように高速記録可能で且つ広い線速範囲に対応可能な材料であるので、広い線速範囲に対応可能で且つ良好な書き換え特性が得られる青色レーザ対応(大容量)の相変化型光ディスクを提供することができることが分かった。 As is clear from FIG. 2, good initial bER characteristics were obtained in any of the optical disks manufactured in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2, but both of the optical disks of Comparative Examples 1 and 2 were 2000. The number of rewrites in which the bER deteriorated by 2 digits or more after the rewrite and the bER deteriorated by 2 digits was 100 times and 300 times, respectively, and the overall evaluation was x. On the other hand, in each of the optical disks of Examples 1 to 4, the bER degradation after 2000 rewrites is less than 2 digits, the bER after 2000 rewrites is 5.0E-5 or less, and the bER is The number of rewrites when it deteriorated by two digits exceeded 2000, and the overall evaluation was ◎ evaluation. That is, from the evaluation results of FIG. 2, in the optical disk in which the recording layer is formed of a material suitable for high-speed recording in Examples 1 to 4, the first interface layer 3 is formed as an HfO 2 —SnO 2 film or an HfO 2 —Cr 2 O 3. It was found that a phase change optical disc compatible with a blue laser capable of high-speed recording and having excellent rewriting characteristics can be provided by forming the film. In particular, when a Bi-Ge-Te-based material is used as the phase change material of the recording layer, the Bi-Ge-Te-based material is a material capable of high-speed recording and compatible with a wide linear velocity range as described above. Therefore, it has been found that a blue laser compatible (large capacity) phase change optical disk capable of supporting a wide linear velocity range and obtaining good rewriting characteristics can be provided.

実施例5では、実施例1の光ディスク100において、第1界面層3のHfOとSnOとの混合比率を変化させた種々の光ディスクを作製した。 In Example 5, various optical disks were manufactured by changing the mixing ratio of HfO 2 and SnO 2 in the first interface layer 3 in the optical disk 100 of Example 1.

具体的には、第1界面層3に含まれるSnOの割合を2.5mol%(サンプルNo.5)、5mol%(サンプルNo.1:実施例1の光ディスク)、7.5mol%(サンプルNo.6)、10mol%(サンプルNo.7)、12.5mol%(サンプルNo.8)、15mol%(サンプルNo.9)及び17.5mol%(サンプルNo.10)とした種々の光ディスクを作製した。なお、第1界面層3は、HfO及びSnOの2つのスパッタターゲットを用いて同時スパッタリングすることにより形成し、第1界面層3のHfOとSnOとの混合比率の調整は、用いた各々のスパッタターゲットに印加するスパッタリングパワーを調整することにより行なった。これらの種々の光ディスクでは、第1界面層3のHfOとSnOとの混合比率を変化させたこと以外は、実施例1と同様の構成とし、同様の方法で作製した。 Specifically, the proportion of SnO 2 contained in the first interface layer 3 is 2.5 mol% (sample No. 5), 5 mol% (sample No. 1: optical disc of Example 1), 7.5 mol% (sample) No. 6) Various optical discs with 10 mol% (sample No. 7), 12.5 mol% (sample No. 8), 15 mol% (sample No. 9) and 17.5 mol% (sample No. 10). Produced. The first interface layer 3 was formed by co-sputtering using two sputter target HfO 2 and SnO 2, adjustment of the mixing ratio of HfO 2 and SnO 2 of the first interface layer 3, use The sputtering power applied to each of the sputtering targets was adjusted. These various optical discs were manufactured in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of HfO 2 and SnO 2 in the first interface layer 3 was changed.

なお、サンプルNo.8〜10の光ディスクでは、第1誘電体層2及び第2誘電体層6の膜厚は第1界面層3の光学定数に合わせて、未記録状態の反射率Rが11〜15%の範囲となり、且つ、記録再生信号の変調度が0.45以上となるように、実施例1とは膜厚を変えた。具体的には、サンプルNo.8〜10の光ディスクでは、第1誘電体層2の膜厚を62nmとし、第2誘電体層6の膜厚を13nmとした。   Sample No. In the optical discs of 8 to 10, the thicknesses of the first dielectric layer 2 and the second dielectric layer 6 are in the range where the unrecorded reflectance R is 11 to 15% in accordance with the optical constants of the first interface layer 3. Further, the film thickness was changed from that of Example 1 so that the modulation degree of the recording / reproducing signal was 0.45 or more. Specifically, sample no. In 8-10 optical disks, the film thickness of the first dielectric layer 2 was 62 nm, and the film thickness of the second dielectric layer 6 was 13 nm.

上記種々の光ディスクに対しても、上記実施例1〜4と同様にして、書き換え特性の評価を行なった。その結果を図3に示した。図3中の総合評価の基準は、実施例1〜4の基準と同様である。また、図3中には、各サンプルの膜構成、未記録状態の反射率R及び変調度も併せて記載した。   The rewriting characteristics were also evaluated for the various optical discs in the same manner as in Examples 1 to 4. The results are shown in FIG. The standard of comprehensive evaluation in FIG. 3 is the same as the standard of Examples 1-4. FIG. 3 also shows the film configuration of each sample, the reflectance R in the unrecorded state, and the degree of modulation.

図3から明らかなように、サンプルNo.1及びNo.6〜9の光ディスクでは、いずれも、2000回書き換え後のbER劣化が2桁未満であり、2000回書き換え後のbERが5.0E−5以下であり、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が2000回を超えており、総合評価は◎評価であった。   As is clear from FIG. 1 and no. In all of the optical discs 6 to 9, the bER deterioration after 2000 rewrites is less than 2 digits, the bER after 2000 rewrites is 5.0E-5 or less, and the bER deteriorates by 2 digits. The number of rewrites exceeded 2000, and the overall evaluation was ◎ evaluation.

また、サンプルNo.5及びNo.10の光ディスクでは、いずれも、2000回書き換え後のbER劣化が2桁以上ではあるものの、2000回書き換え後のbERが1.0E−04以下であり(エラー訂正可能なレベルにあり)、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が1000回以上となり、○評価であった。   Sample No. 5 and no. In all of the 10 optical discs, although the bER degradation after 2000 rewrites is 2 digits or more, the bER after 2000 rewrites is 1.0E-04 or less (at a level where error correction is possible), and When the bER deteriorated by two digits, the number of rewrites was 1000 or more, which was a good evaluation.

図3の結果から、第1界面層3にHfO−SnO膜を用いた光ディスクでは、第1界面層3に含まれるSnOの割合が2.5mol%〜17.5mol%である場合には、良好な繰り返し書き換え特性(◎及び○評価)が得られることが分かった。特に、第1界面層3に含まれるSnOの割合を5mol%〜15mol%にした場合には、一層優れた繰り返し書き換え特性(◎評価)が得られることが分かった。 From the result of FIG. 3, in the optical disk using the HfO 2 —SnO 2 film for the first interface layer 3, the ratio of SnO 2 contained in the first interface layer 3 is 2.5 mol% to 17.5 mol%. It was found that good repeated rewriting characteristics (◎ and ○ evaluations) were obtained. In particular, it has been found that when the proportion of SnO 2 contained in the first interface layer 3 is 5 mol% to 15 mol%, further excellent repeated rewriting characteristics (◎ evaluation) can be obtained.

実施例6では、実施例2の光ディスク100において、第1界面層3のHfOとCrとの混合比率を変化させた種々の光ディスクを作製した。 In Example 6, various optical disks were prepared by changing the mixing ratio of HfO 2 and Cr 2 O 3 in the first interface layer 3 in the optical disk 100 of Example 2.

具体的には、第1界面層3に含まれるCrの割合を2.5mol%(サンプルNo.11)、5mol%(サンプルNo.2:実施例2の光ディスク)、7.5mol%(サンプルNo.12)、10mol%(サンプルNo.13)、12.5mol%(サンプルNo.14)、15mol%(サンプルNo.15)及び17.5mol%(サンプルNo.16)とした種々の光ディスクを作製した。なお、第1界面層3は、HfO及びCrの2つのスパッタターゲットを用いて同時スパッタリングすることにより形成し、第1界面層3のHfOとCrとの混合比率の調整は、用いた各々のスパッタターゲットに印加するスパッタリングパワーを調整することにより行なった。これらの種々の光ディスクでは、第1界面層3のHfOとCrとの混合比率を変化させたこと以外は、実施例2と同様の構成とし、同様の方法で作製した。 Specifically, the ratio of Cr 2 O 3 contained in the first interface layer 3 is 2.5 mol% (sample No. 11), 5 mol% (sample No. 2: optical disc of Example 2), 7.5 mol%. (Sample No. 12), 10 mol% (Sample No. 13), 12.5 mol% (Sample No. 14), 15 mol% (Sample No. 15), and 17.5 mol% (Sample No. 16) An optical disc was produced. The first interface layer 3 was formed by co-sputtering using two sputter target HfO 2 and Cr 2 O 3, the mixing ratio of the HfO 2 and Cr 2 O 3 of the first interface layer 3 Adjustment was performed by adjusting the sputtering power applied to each sputtering target used. These various optical disks were manufactured in the same manner as in Example 2 except that the mixing ratio of HfO 2 and Cr 2 O 3 in the first interface layer 3 was changed.

なお、サンプルNo.13〜16の光ディスクでは、第1誘電体層2の膜厚は第1界面層3の光学定数に合わせて、未記録状態の反射率Rが11〜15%の範囲となり、且つ、記録再生信号の変調度が0.45以上となるようにするために、実施例1とは膜厚を変えた。具体的には、サンプルNo.13〜16の第1誘電体層2の膜厚をいずれも62nmとした。また、サンプルNo.15及び16の光ディスクでは、第2誘電体層6の膜厚を、第1誘電体層2と同様に未記録状態の反射率R及び記録再生信号の変調度を考慮して、実施例1とは膜厚を変えた。具体的には、サンプルNo.15及び16の光ディスクでは、第2誘電体層6の膜厚をそれぞれ15nm及び16nmとした。   Sample No. In the 13-16 optical disks, the film thickness of the first dielectric layer 2 is in the range of the reflectance R in the unrecorded state of 11-15% in accordance with the optical constant of the first interface layer 3, and the recording / reproducing signal In order to make the degree of modulation of 0.45 or more, the film thickness was changed from that in Example 1. Specifically, sample no. The film thicknesses of the 13th to 16th first dielectric layers 2 were all set to 62 nm. Sample No. In the optical disks of 15 and 16, the thickness of the second dielectric layer 6 is set in the same manner as in Example 1 in consideration of the reflectance R in the unrecorded state and the modulation degree of the recording / reproducing signal as in the first dielectric layer 2. Changed the film thickness. Specifically, sample no. In the 15 and 16 optical disks, the thickness of the second dielectric layer 6 was 15 nm and 16 nm, respectively.

上記種々の光ディスクに対しても、上記実施例1〜4と同様にして、書き換え特性の評価を行なった。その結果を図4に示した。図4中の総合評価の基準は、実施例1〜4の基準と同様である。また、図4中には、各サンプルの膜構成、未記録状態の反射率R及び変調度も併せて記載した。   The rewriting characteristics were also evaluated for the various optical discs in the same manner as in Examples 1 to 4. The results are shown in FIG. The standard of comprehensive evaluation in FIG. 4 is the same as the standard of Examples 1-4. FIG. 4 also shows the film configuration of each sample, the reflectance R in the unrecorded state, and the degree of modulation.

図4から明らかなように、サンプルNo.2及びNo.12〜14の光ディスクでは、いずれも、2000回書き換え後のbER劣化が2桁未満であり、2000回書き換え後のbERが5.0E−5以下であり、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が2000回を超えており、総合評価は◎評価であった。   As is clear from FIG. 2 and no. In any of the optical discs 12 to 14, the bER deterioration after 2000 rewrites is less than 2 digits, the bER after 2000 rewrites is 5.0E-5 or less, and the bER deteriorates by 2 digits. The number of rewrites exceeded 2000, and the overall evaluation was ◎ evaluation.

また、サンプルNo.11の光ディスクでは、2000回書き換え後のbER劣化が2桁以上ではあるものの、2000回書き換え後のbERが1.0E−04以下であり(エラー訂正可能なレベルにあり)、且つ、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が1000回以上となり、○評価であった。   Sample No. In the 11 optical disk, the bER degradation after 2000 rewrites is 2 digits or more, but the bER after 2000 rewrites is 1.0E-04 or less (at an error correction level), and the bER is 2 The number of rewrites when the digits deteriorated was 1000 or more, which was evaluated as “good”.

また、サンプルNo.15及び16の光ディスクでは、いずれも、2000回書き換え後のbER劣化が2桁以上となり且つ2000回書き換え後のbERが1.0E−04より大きくなったものの、bERが2桁劣化した際の書き換え回数が1000回以上となり、従来、例えば、比較例2及び3(図2参照)に比べて良好な書き換え回数が得られた。   Sample No. In both 15 and 16 optical discs, the bER degradation after 2000 rewrites was 2 digits or more and the bER after 2000 rewrites was greater than 1.0E-04, but the rewrite when the bER deteriorated by 2 digits The number of times was 1000 times or more, and a good number of times of rewriting was obtained as compared with, for example, Comparative Examples 2 and 3 (see FIG. 2).

図4の結果から、第1界面層3にHfO−Cr膜を用いた光ディスクでは、第1界面層3中のCrの組成が2.5mol%〜12.5mol%である場合には、良好な繰り返し書き換え特性(◎及び○評価)が得られることが分かった。特に、第1界面層3中のCrの組成を5mol%〜12.5mol%にした場合には、一層優れた繰り返し書き換え特性(◎評価)が得られることが分かった。 From the result of FIG. 4, in the optical disk using the HfO 2 —Cr 2 O 3 film for the first interface layer 3, the composition of Cr 2 O 3 in the first interface layer 3 is 2.5 mol% to 12.5 mol%. In some cases, it was found that good repeated rewriting characteristics (特性 and ○ evaluations) can be obtained. In particular, when the composition of the Cr 2 O 3 of the first interface layer 3 to 5mol% ~12.5mol% It was found that more excellent repeated rewriting properties (◎ Evaluation) is obtained.

本発明の情報記録媒体では、記録層の光入射側に位置する第1界面層をハフニウム酸化物及び錫酸化物を含む材料、並びに、ハフニウム酸化物及びクロム酸化物を含む材料のいずれか一方で形成することにより、記録再生に青色レーザを用いた場合でも優れた繰り返し書き換え特性が得られる。それゆえ、本発明の情報記録媒体は、例えば、HD DVDやBru−ray Discのような青色レーザ対応の大容量化可能な相変化型光記録媒体に好適である。   In the information recording medium of the present invention, the first interface layer located on the light incident side of the recording layer is any one of a material containing hafnium oxide and tin oxide, and a material containing hafnium oxide and chromium oxide. By forming, excellent repeated rewriting characteristics can be obtained even when a blue laser is used for recording and reproduction. Therefore, the information recording medium of the present invention is suitable for a phase-change optical recording medium capable of increasing the capacity corresponding to a blue laser, such as HD DVD and Bru-ray Disc.

図1は、実施例1の光ディクの概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc according to the first embodiment. 図2は、実施例1〜4並びに比較例1及び2で作製した光ディスクの評価結果を示した図である。FIG. 2 is a diagram showing the evaluation results of the optical disks produced in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2. 図3は、実施例5で作製した光ディスクの評価結果を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing the evaluation results of the optical disc manufactured in Example 5. 図4は、実施例6で作製した光ディスクの評価結果を示した図である。FIG. 4 is a diagram showing the evaluation results of the optical disc produced in Example 6.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 第1誘電体層
3 第1界面層
4 記録層
5 第2界面層
6 第2誘電体層
7 遮断層
8 反射層
9 保護層
10 ダミー基板
100 光ディスク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 First dielectric layer 3 First interface layer 4 Recording layer 5 Second interface layer 6 Second dielectric layer 7 Blocking layer 8 Reflective layer 9 Protective layer 10 Dummy substrate 100 Optical disc

Claims (5)

情報記録媒体であって、
基板と、
上記基板上に設けられた第1誘電体層と、
第1誘電体層上に設けられ、ハフニウム酸化物と、錫酸化物またはクロム酸化物とを含む材料で形成された第1界面層と、
第1界面層上に設けられ、相変化材料により形成された記録層と、
上記記録層上に設けられた第2誘電体層と、
第2誘電体層上に設けられた反射層とを備える情報記録媒体。
An information recording medium,
A substrate,
A first dielectric layer provided on the substrate;
A first interface layer provided on the first dielectric layer and formed of a material containing hafnium oxide and tin oxide or chromium oxide;
A recording layer provided on the first interface layer and formed of a phase change material;
A second dielectric layer provided on the recording layer;
An information recording medium comprising: a reflective layer provided on the second dielectric layer.
第1界面層がハフニウム酸化物及び錫酸化物を含む材料で形成され、該材料中に含まれる錫酸化物の割合が5〜15mol%であることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体。 2. The information recording according to claim 1, wherein the first interface layer is formed of a material containing hafnium oxide and tin oxide, and a ratio of tin oxide contained in the material is 5 to 15 mol%. Medium. 第1界面層がハフニウム酸化物及びクロム酸化物を含む材料で形成され、該材料中に含まれるクロム酸化物の割合が2.5〜10mol%であることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体。 The first interface layer is formed of a material containing hafnium oxide and chromium oxide, and the ratio of the chromium oxide contained in the material is 2.5 to 10 mol%. Information recording medium. 上記記録層が、Bi、Ge及びTeを含む相変化材料で形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の情報記録媒体。 The information recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein the recording layer is made of a phase change material containing Bi, Ge, and Te. 上記記録層と第2誘電体層との間に、さらに、第2界面層を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の情報記録媒体。
The information recording medium according to claim 1, further comprising a second interface layer between the recording layer and the second dielectric layer.
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