JP2008304388A - Method for treating solution after ferrite membrane formation - Google Patents

Method for treating solution after ferrite membrane formation Download PDF

Info

Publication number
JP2008304388A
JP2008304388A JP2007153022A JP2007153022A JP2008304388A JP 2008304388 A JP2008304388 A JP 2008304388A JP 2007153022 A JP2007153022 A JP 2007153022A JP 2007153022 A JP2007153022 A JP 2007153022A JP 2008304388 A JP2008304388 A JP 2008304388A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solution
waste liquid
ferrite film
film
pipe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007153022A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4771994B2 (en
Inventor
Makoto Nagase
誠 長瀬
Hideyuki Hosokawa
秀幸 細川
Satoshi Morisawa
諭 森澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi GE Nuclear Energy Ltd
Original Assignee
Hitachi GE Nuclear Energy Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi GE Nuclear Energy Ltd filed Critical Hitachi GE Nuclear Energy Ltd
Priority to JP2007153022A priority Critical patent/JP4771994B2/en
Publication of JP2008304388A publication Critical patent/JP2008304388A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4771994B2 publication Critical patent/JP4771994B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin

Landscapes

  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten the processing time required for disposal of solution having been used for forming a ferrite film. <P>SOLUTION: A film forming device is connected to a pipe system for film formation. Chemistry decontamination of the pipe inner surface of the pipe system is carried out. After the completion of the decontamination, film forming aqueous solution to be used for ferrite film formation (containing organic acid solution containing iron (II) ion, oxidizer, and pH adjustor) is adjusted in temperature, and the ferrite film is formed on the pipe inner surface. The method for treating the used film forming aqueous solution (waste liquid) after the ferrite film formation is as follows. Solid particles contained in the waste liquid is removed by a filter. A pH adjustor (hydrazine) is injected into the waste liquid so that the pH of the waste liquid circulating in a place for film formation (for example, recirculating system pipe). Iron (II) ions contained in the waste liquid are removed by cation-exchange resin while the pH is maintained and organic acid (formic acid) contained in the waste liquid is decomposed using the oxidizer and catalyst. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、フェライト皮膜形成後における溶液の処理方法に係り、特に、原子力発電プラントの構成部材にフィライト皮膜を形成する際に用いた溶液を処理するのに好適なフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法に関する。   The present invention relates to a method for treating a solution after forming a ferrite film, and in particular, treating a solution after forming a ferrite film suitable for treating a solution used when forming a philite film on a component of a nuclear power plant. Regarding the method.

例えば、沸騰水型原子力発電プラント(以下、BWRプラントと略記する。)は、原子炉圧力容器(RPVと称する)内に炉心を内蔵した原子炉を有する。再循環ポンプ(またはインターナルポンプ)によって炉心に供給された冷却水は、炉心内に装荷された燃料集合体内の各燃料物質の核分裂で発生する熱によって加熱され、一部が蒸気になる。この蒸気は、原子炉からタービンに導かれ、タービンを回転させる。タービンから排出された蒸気は、復水器で凝縮され、水になる。この水は、給水として原子炉に供給される。給水は、原子炉内での放射性腐食生成物の発生を抑制するため、給水配管に設けられたろ過脱塩装置で主として金属不純物が除去される。   For example, a boiling water nuclear power plant (hereinafter abbreviated as a BWR plant) has a nuclear reactor with a reactor core built in a reactor pressure vessel (RPV). The cooling water supplied to the core by the recirculation pump (or internal pump) is heated by the heat generated by the fission of each fuel material in the fuel assembly loaded in the core, and a part thereof becomes steam. This steam is led from the nuclear reactor to the turbine and rotates the turbine. The steam exhausted from the turbine is condensed in a condenser to become water. This water is supplied to the reactor as feed water. In order to suppress the generation of radioactive corrosion products in the nuclear reactor, metal impurities are mainly removed by a filtration and desalination apparatus provided in the water supply pipe.

また、放射性腐食生成物の元となる腐食生成物は、RPV及び再循環系配管等の接水部からも発生することから、主要な一次系の構成部材には腐食の少ないステンレス鋼、ニッケル基合金などの不銹鋼が使用されている。また、低合金鋼製のRPVは内面にステンレス鋼の肉盛りが施され、低合金鋼が、直接、炉水と接触することを防いでいる。炉水とは、原子炉内に存在する冷却水である。さらには、炉水の一部を原子炉浄化系のろ過脱塩装置によって浄化し、炉水中に僅かに存在する金属不純物を積極的に除去している。   In addition, since corrosion products that are the source of radioactive corrosion products are also generated from water contact parts such as RPV and recirculation piping, the primary primary components are made of stainless steel and nickel bases with low corrosion. Stainless steel such as alloy is used. In addition, the low alloy steel RPV has a stainless steel overlay on the inner surface to prevent the low alloy steel from coming into direct contact with the reactor water. Reactor water is cooling water present in the nuclear reactor. Furthermore, a part of the reactor water is purified by a filter demineralizer of the reactor purification system to positively remove metal impurities that are slightly present in the reactor water.

しかし、上述のような腐食対策を講じても、炉水中における極僅かな金属不純物の存在は避けられないため、一部の金属不純物が、金属酸化物として、燃料集合体に含まれる燃料棒の表面に付着する。燃料棒表面に付着した金属不純物(例えば、金属元素)は、燃料棒内の核燃料から放出される中性子の照射により原子核反応を起こし、コバルト60、コバルト58、クロム51、マンガン54等の放射性核種になる。これらの放射性核種は、大部分が酸化物の形態で燃料棒表面に付着したままであるが、一部の放射性核種は、取り込まれている酸化物の溶解度に応じて炉水中に溶出し、又はクラッドと呼ばれる不溶性固体として炉水中に再放出される。炉水中の放射性物質は、原子炉浄化系によって取り除かれる。しかしながら、除去されなかった放射性物質は炉水とともに再循環系などを循環している間に、構成部材の炉水と接触する表面に蓄積される。その結果、構成部材表面から放射線が放射され、定検作業時の従事者の放射線被曝の原因となる。その従業者の被曝線量は、各人毎に規定値を超えないように管理されている。近年この規定値が引き下げられ、各人の被曝線量を経済的に可能な限り低くする必要が生じている。   However, even if the above-described corrosion countermeasures are taken, the presence of very few metal impurities in the reactor water is inevitable, so some metal impurities are converted into metal oxides to the fuel rods contained in the fuel assembly. Adhere to the surface. Metal impurities (for example, metal elements) adhering to the surface of the fuel rod cause a nuclear reaction when irradiated with neutrons emitted from the nuclear fuel in the fuel rod, and become radioactive nuclides such as cobalt 60, cobalt 58, chromium 51, and manganese 54. Become. Most of these radionuclides remain attached to the fuel rod surface in the form of oxides, but some radionuclides elute into the reactor water depending on the solubility of the incorporated oxides, or It is released again into the reactor water as an insoluble solid called clad. Radioactive material in the reactor water is removed by the reactor purification system. However, the radioactive material that has not been removed accumulates on the surface of the component that contacts the reactor water while circulating in the recirculation system together with the reactor water. As a result, radiation is radiated from the surface of the component member, which causes radiation exposure of workers during regular inspection work. The exposure dose of the employee is managed so that it does not exceed the prescribed value for each person. In recent years, this regulation value has been lowered, and it has become necessary to make the exposure dose of each person as low as economically possible.

そこで、配管への放射性核種の付着を低減する方法、及び炉水中の放射性核種の濃度を低減する方法が様々検討されている。例えば、亜鉛などの金属イオンを炉水に注入して、炉水と接触する再循環系配管内面に亜鉛を含む緻密な酸化皮膜を形成させることにより、酸化皮膜中へのコバルト60及びコバルト58等の放射性核種の取り込みを抑制する方法が提案されている(特許文献1)。   Thus, various methods for reducing the adhesion of radionuclides to piping and methods for reducing the concentration of radionuclides in the reactor water have been studied. For example, by injecting metal ions such as zinc into the reactor water, and forming a dense oxide film containing zinc on the inner surface of the recirculation piping that contacts the reactor water, cobalt 60 and cobalt 58 in the oxide film, etc. A method for suppressing the uptake of radionuclides has been proposed (Patent Document 1).

冷却水中に放射性核種が溶出ないし放出される状態になる前に、再循環系配管及び原子炉浄化系の浄化系配管の内面に、予め定められた条件で酸化皮膜を形成させることが提案されている(特許文献2)。   It has been proposed that an oxide film be formed on the inner surface of the recirculation system piping and the purification system piping of the reactor purification system before the radionuclide is dissolved or released in the cooling water. (Patent Document 2).

しかし、特許文献1における亜鉛などの金属イオンを炉水に注入する方法は、亜鉛自体の放射化を避けるため、高価な同位体分離した亜鉛イオンを運転中に連続注入する必要がある。特許文献2における酸化皮膜を形成させる方法では、例えばBWRの運転温度域(250〜300℃)において酸化皮膜を形成させる必要がある。このような高温雰囲気で酸化皮膜を、例えば、ステンレス鋼の構成部材の表面に形成したとする。形成されたその酸化皮膜は、クロム成分が多い内層、及び内層の外側に位置する、鉄成分の多い外層を含んでいる。外層は結晶の膜構造が必ずしも緻密でないため、炉水中のコバルトなどの放射性核種が外層を通過して内層に取り込まれ易くなるので、構成部材への放射性核種の付着抑制効果が小さくなる。   However, in the method of injecting metal ions such as zinc into the reactor water in Patent Document 1, it is necessary to continuously inject zinc ions separated from expensive isotopes during operation in order to avoid activation of zinc itself. In the method of forming an oxide film in Patent Document 2, for example, it is necessary to form an oxide film in a BWR operating temperature range (250 to 300 ° C.). It is assumed that the oxide film is formed on the surface of, for example, a stainless steel component in such a high temperature atmosphere. The formed oxide film includes an inner layer rich in chromium components and an outer layer rich in iron components located outside the inner layer. Since the outer layer has a crystal film structure that is not necessarily dense, radionuclides such as cobalt in the reactor water easily pass through the outer layer and be taken into the inner layer, thereby reducing the effect of suppressing the attachment of the radionuclide to the constituent members.

そこで、より効果的に放射性核種の付着を抑制できる方法として、鉄(II)イオン、過酸化水素及びヒドラジンを含む溶液を100℃以下の低温で構成部材の表面に接触させ、その表面にフェライトの緻密な皮膜を形成させる方法が提案されている(特許文献3)。鉄(II)イオンはギ酸に溶解させて使用するので、その溶液はギ酸を含んでいる。この方法によれば、構成部材の表面に放射性核種の取り込みが少ないフェライト皮膜を形成できるため、放射性核種の付着を抑制することができる。   Therefore, as a method that can more effectively suppress the attachment of radionuclides, a solution containing iron (II) ions, hydrogen peroxide and hydrazine is brought into contact with the surface of the constituent member at a low temperature of 100 ° C. or less, and ferrite is deposited on the surface. A method for forming a dense film has been proposed (Patent Document 3). Since iron (II) ions are used after dissolved in formic acid, the solution contains formic acid. According to this method, since a ferrite film with less radionuclide uptake can be formed on the surface of the component member, adhesion of the radionuclide can be suppressed.

特開昭58−79196号公報JP 58-79196 A 特開昭62−95498号公報JP-A-62-95498 特開2006−38483号公報JP 2006-38483 A

ところで、特許文献3に記載の方法を用いて、原子力発電プラントの配管等の構成部材の、炉水と接触する表面にフェライト皮膜を形成した後、このフェライト皮膜の形成に用いられた上記溶液(以下、廃液という。)を浄化して排水する必要がある。すなわち、廃液中には、フェライト皮膜の形成時に生成された粒状物(例えば、鉄酸化物)などに加えて、フェライト皮膜の原料となる鉄(II)イオンなどが含まれている。排水する前にはこれらの粒状物及びイオンを除去する必要がある。粒状物の除去にはフィルタを用いれば良いが、イオン成分を全てイオン交換樹脂で除去すると二次廃棄物が多くなる。このため、廃液に含まれる有機酸及びpH調整剤を分解する。しかし、有機酸及びpH調整剤の分解のしやすさに差があるため、分解プロセスの途中でpHが低下し、形成されたフェライト皮膜を溶解させてしまう可能性がある。   By the way, after forming a ferrite film on the surface of a component such as a pipe of a nuclear power plant in contact with the reactor water using the method described in Patent Document 3, the solution used for forming this ferrite film ( Hereinafter, it is necessary to purify and drain the waste liquid). That is, the waste liquid contains iron (II) ions or the like as a raw material for the ferrite film in addition to the particulate matter (for example, iron oxide) generated during the formation of the ferrite film. It is necessary to remove these particulate matter and ions before draining. A filter may be used to remove the particulate matter, but if all the ionic components are removed with an ion exchange resin, the amount of secondary waste increases. For this reason, the organic acid and pH adjuster contained in the waste liquid are decomposed. However, since there is a difference in the easiness of decomposition of the organic acid and the pH adjuster, the pH is lowered during the decomposition process, and the formed ferrite film may be dissolved.

本発明の目的は、形成されたフェライト皮膜の溶解を抑制すると共に廃液処理に要する時間を短縮することができるフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法を提供することにある。   The objective of this invention is providing the processing method of the solution after the ferrite film formation which can suppress the melt | dissolution of the formed ferrite film and can shorten the time which a waste liquid process requires.

上記した目的を達成する本発明の特徴は、プラントを構成する金属部材の表面へのフェライト皮膜の形成に用いられて鉄(II)イオン、有機酸及びpH調整剤を含んでいる溶液を、フェライト皮膜形成後に処理するとき、pH調整剤を用いてその溶液のpHを4以上10以下に調整し、その溶液に含まれている鉄(II)イオンのカチオン交換樹脂での除去と並行して、その溶液に含まれる有機酸を分解することにある。   A feature of the present invention that achieves the above-described object is that a solution containing iron (II) ions, an organic acid, and a pH adjuster is used for forming a ferrite film on the surface of a metal member constituting a plant. When processing after film formation, the pH of the solution is adjusted to 4 or more and 10 or less using a pH adjuster, and in parallel with the removal of iron (II) ions contained in the solution with a cation exchange resin, The purpose is to decompose the organic acid contained in the solution.

フェライト皮膜の形成に用いた溶液のpHを4以上10以下にして、この溶液に含まれている第1の薬剤に含まれている有機酸を分解するため、形成されたフェライト皮膜の溶解を抑制することができる。また、溶液に含まれている鉄(II)イオンの除去と並行して、その溶液に含まれる有機酸を分解するので、その溶液の処理時間を短縮することができる。   The pH of the solution used for forming the ferrite film is set to 4 to 10, and the organic acid contained in the first chemical contained in this solution is decomposed, so that the dissolution of the formed ferrite film is suppressed. can do. Further, in parallel with the removal of iron (II) ions contained in the solution, the organic acid contained in the solution is decomposed, so that the processing time of the solution can be shortened.

本発明によれば、フェライト皮膜の成膜後の廃液処理時に形成されたフェライト皮膜の溶解を抑制することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, melt | dissolution of the ferrite film formed at the time of the waste liquid process after film-forming of a ferrite film can be suppressed.

本発明の発明者らは、フェライト皮膜の形成処理後の廃液中に溶解して存在する有機酸を分解除去プロセスとして、化学除染で使用する有機酸の分解と同じ装置の適用を検討した。この結果、発明者らは、廃液に含まれる有機酸及びpH調整剤を分解するプロセス中において、皮膜形成処理によって形成されたフェライト皮膜が溶解するという新たな知見を見出した。   The inventors of the present invention examined the application of the same apparatus as the decomposition of organic acids used in chemical decontamination as a process of decomposing and removing organic acids dissolved in the waste liquid after the ferrite film formation treatment. As a result, the inventors have found a new finding that the ferrite film formed by the film formation treatment dissolves during the process of decomposing the organic acid and the pH adjuster contained in the waste liquid.

発明者らは、この原因について検討を行った。分解装置の中では過酸化水素の添加と触媒の存在により、ギ酸は(1)式、ヒドラジンは(2)式にしたがって分解される。   The inventors examined this cause. In the decomposition apparatus, formic acid is decomposed according to the equation (1) and hydrazine is decomposed according to the equation (2) due to the addition of hydrogen peroxide and the presence of a catalyst.

HCOOH+H → CO+2HO ……(1)
4+2H → N+4HO ……(2)
ギ酸及びヒドラジンの分解率は図2に示すように異なっており、pH調整剤として使用されているヒドラジンの分解率がギ酸の分解率より高くなっている。したがって、分解装置の出口では廃液に含まれるギ酸の比率がその入口よりも大きくなる。すなわち、分解装置から排出された廃液のpHが酸性側にシフトしていることを、発明者らは新たに見出した。そして、発明者らは、廃液のpHが酸性側にシフトすることが、原子力プラントの構造部材の表面に形成されたフェライト皮膜の溶解をもたらしていることを突き止めたのである。
HCOOH + H 2 O 2 → CO 2 + 2H 2 O (1)
N 2 H 4 + 2H 2 O 2 → N 2 + 4H 2 O (2)
The decomposition rates of formic acid and hydrazine are different as shown in FIG. 2, and the decomposition rate of hydrazine used as a pH adjuster is higher than the decomposition rate of formic acid. Therefore, the ratio of formic acid contained in the waste liquid is larger at the outlet of the decomposition apparatus than at the inlet. That is, the inventors have newly found that the pH of the waste liquid discharged from the decomposition apparatus is shifted to the acidic side. The inventors have found that the shift of the pH of the waste liquid to the acidic side results in the dissolution of the ferrite film formed on the surface of the structural member of the nuclear power plant.

上記の検討から得た新たな知見によれば、フェライト皮膜の溶解を防止するためには廃液のpHの低下を抑制することが望ましい。平衡論的には、図3の電位とpHの関係に基づけば、廃液のpHを、形成された皮膜のマグネタイトが電位にかかわらず安定な6.5以上とすればフェライト皮膜の溶解は生じ得ない。しかし、分解中の溶液のpHを6.5以上に保持しようとすれば、pH調整剤(例えば、ヒドラジン)を廃液に多量に注入する必要が生じる。原子力プラントにおいては、有限の分解時間の間に生じる、形成されたフェライト皮膜の溶解は無視できるほど小さければ良いので、廃液のpHをできるだけ低い値に制御できれば注入するヒドラジンの量が減り、無駄な薬剤を使用することがなくなる。そこで、発明者らは、廃液に含まれたギ酸及びヒドラジンの分解中におけるpHの下限値を変化させ、この下限値と形成されたフェライト皮膜の溶解との関係を調べる実験を行った。この実験により図4に示す結果を得た。この結果に基づいて、廃液に含まれているギ酸及びヒドラジンの分解処理を行っている間、フェライト皮膜を形成した、原子力プラントの配管系内を、pHを4以上に保持することによって、その配管系の内面に形成されたフェライト皮膜の溶解が無視できることが新たに分かった。廃液に含まれる薬剤である有機酸(例えばギ酸)及びpH調整剤(例えばヒドラジン)の分解処理を行う際には、廃液のpHは4以上10以下にすることが望ましい。薬剤の分解によって発生する固体放射性廃棄物(使用済のカチオン交換樹脂)の量を低減するために、薬剤分解時における廃液のpHは4〜7の範囲にすることが望ましい。これによって、薬剤分解時に廃液に注入されるpH調整剤の量も低減できる。   According to the new knowledge obtained from the above study, it is desirable to suppress a decrease in pH of the waste liquid in order to prevent dissolution of the ferrite film. Equilibriumally, based on the relationship between the potential and pH in FIG. 3, the dissolution of the ferrite film can occur if the pH of the waste liquid is stable at 6.5 or higher, regardless of the potential of the magnetite of the formed film. Absent. However, if the pH of the solution being decomposed is to be maintained at 6.5 or more, it is necessary to inject a large amount of a pH adjuster (for example, hydrazine) into the waste liquid. In nuclear power plants, the dissolution of the formed ferrite film that occurs during a finite decomposition time should be negligibly small. If the pH of the waste liquid can be controlled to the lowest possible value, the amount of hydrazine to be injected is reduced, which is useless. Eliminates the use of drugs. Therefore, the inventors changed the lower limit value of pH during decomposition of formic acid and hydrazine contained in the waste liquid, and conducted an experiment to examine the relationship between the lower limit value and dissolution of the formed ferrite film. This experiment yielded the results shown in FIG. Based on this result, while the formic acid and hydrazine contained in the waste liquid are being decomposed, the piping inside the nuclear power plant in which the ferrite film is formed is maintained at a pH of 4 or higher, thereby maintaining the piping. It was newly found that the dissolution of the ferrite film formed on the inner surface of the system is negligible. When performing a decomposition treatment of an organic acid (for example, formic acid) and a pH adjuster (for example, hydrazine), which are chemicals contained in the waste liquid, the pH of the waste liquid is desirably 4 or more and 10 or less. In order to reduce the amount of solid radioactive waste (used cation exchange resin) generated by the decomposition of the drug, the pH of the waste liquid at the time of the drug decomposition is preferably in the range of 4-7. Thereby, the amount of the pH adjusting agent injected into the waste liquid at the time of drug decomposition can also be reduced.

有機酸は、鉄を溶解して緻密なフェライト皮膜の形成に必要な鉄(II)イオンを生成するために用いられ、ギ酸以外にマロン酸、ジグリゴール酸及びシュウ酸などが存在する。   Organic acids are used to dissolve iron and generate iron (II) ions necessary for the formation of a dense ferrite film. In addition to formic acid, malonic acid, diglycolic acid, oxalic acid, and the like exist.

以上の検討結果から、発明者らは、原子力プラントの構造部材の表面にフェライト皮膜を形成する際に用いられた溶液(廃液)を処理するときにおいて、その表面に形成されたフェライト皮膜の溶解を抑制するためには、廃液のpHが4未満にならないようにpH調整剤を廃液内に供給しながら、廃液に含まれる有機酸を分解すればよいという新たな発想に至った。pH調整剤の廃液への供給量は、フェライト皮膜の形成対象箇所に供給される廃液のpH指示値に基づいて調節すればよい。   From the above examination results, the inventors have solved the dissolution of the ferrite film formed on the surface of the structural member of the nuclear power plant when treating the solution (waste liquid) used in forming the ferrite film. In order to suppress it, it came to the new idea that the organic acid contained in the waste liquid should be decomposed while supplying the pH adjuster into the waste liquid so that the pH of the waste liquid does not become less than 4. The supply amount of the pH adjuster to the waste liquid may be adjusted based on the pH indication value of the waste liquid supplied to the formation target portion of the ferrite film.

廃液の処理に使用するpH調整剤としては、皮膜形成時に用いる第3の薬剤を使用するとよい。これにより、フェライト皮膜形成に用いる薬剤と廃液処理に用いる薬剤を共通化できるため、薬剤の供給設備をコンパクト化することができる。ここで、第3の薬剤としては、例えば、ヒドラジンを用いることができる。   As a pH adjuster used for the treatment of the waste liquid, it is preferable to use a third agent used at the time of film formation. Thereby, since the chemical | medical agent used for a ferrite membrane | film | coat formation and the chemical | medical agent used for a waste liquid process can be made shared, the supply equipment of a chemical | medical agent can be reduced in size. Here, as the third drug, for example, hydrazine can be used.

廃液中の有機酸の分解に先立って、廃液中に含まれるフェライト皮膜形成中に溶液中に生成したマグネタイトの粒子などの粒状物をフィルタで除去することによって、有機酸の分解効率を高く維持できるために分解処理時間を短縮することができる。   Prior to the decomposition of the organic acid in the waste liquid, the organic acid decomposition efficiency can be maintained high by removing particulate matter such as magnetite particles generated in the solution during the formation of the ferrite film contained in the waste liquid with a filter. Therefore, the decomposition processing time can be shortened.

また、廃液に含まれる鉄(II)イオンの除去として、酸化剤を注入して粒子化した後、前述のフィルタで除去することも可能であるが、分解装置の通水前にカチオン交換樹脂に通水して除去すると良い。これによれば、鉄(II)イオンを粒子化する場合に比べて粒子の成長を待つ必要がなくなり、鉄(II)イオンの除去、及び有機酸及びpH調整剤の分解除去が同時に行われるため、廃液の処理時間を短縮することができる。   It is also possible to remove iron (II) ions contained in the waste liquid by injecting an oxidant into particles and then removing them with the above-mentioned filter. It should be removed by passing water. According to this, it is not necessary to wait for the growth of the particles as compared with the case where the iron (II) ions are made into particles, and the removal of the iron (II) ions and the decomposition and removal of the organic acid and the pH adjuster are simultaneously performed. The processing time of the waste liquid can be shortened.

また、原子力プラントの構造部材の表面に付着している酸化皮膜を含む汚染物を、過マンガン酸イオンを用いる酸化溶解、及び有機酸(例えば、シュウ酸)を用いる還元溶解を繰り返して化学的に除去した後、その構造部材の冷却水(炉水)と接する表面にフェライト皮膜を形成してもよい。ろ過した廃液に含まれる薬剤成分を分解処理し、この分解処理された廃液をイオン交換樹脂に通して排水するようにしてもよい。   In addition, the contaminants including the oxide film adhering to the surface of the structural member of the nuclear power plant are chemically treated by repeatedly oxidizing and dissolving using permanganate ions and reducing and dissolving using an organic acid (for example, oxalic acid). After the removal, a ferrite film may be formed on the surface of the structural member in contact with the cooling water (reactor water). The chemical component contained in the filtered waste liquid may be decomposed, and the decomposed waste liquid may be drained through an ion exchange resin.

本発明の実施例を、以下に説明する。   Examples of the present invention will be described below.

本発明の好適な一実施例であるフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法を、図1、図5及び図6を用いて以下に説明する。この処理方法は、BWRプラントに適用したフェライト皮膜の形成に用いた溶液を廃棄処理する一例である。本実施例における、フェライト皮膜形成後における溶液の処理、すなわち、廃液の処理を説明する前に、上記のBWRプラントの概略構成を図5に基づいて、上記の廃液の処理に使用される皮膜形成装置の概略構成を図6に基づいて、それぞれ説明する。図6に示す皮膜形成装置は、フェライト皮膜の形成時にも使用される。   A method for treating a solution after forming a ferrite film, which is a preferred embodiment of the present invention, will be described below with reference to FIGS. This processing method is an example in which the solution used for forming the ferrite film applied to the BWR plant is discarded. Before explaining the treatment of the solution after the formation of the ferrite film in this example, that is, the treatment of the waste liquid, the film formation used for the treatment of the waste liquid is described based on the schematic configuration of the BWR plant based on FIG. The schematic configuration of the apparatus will be described with reference to FIG. The film forming apparatus shown in FIG. 6 is also used when forming a ferrite film.

原子力発電プラントであるBWRプラントは、原子炉1、タービン3、復水器4、再循環系、原子炉浄化系及び給水系等を備えている。原子炉1は、炉心13を内蔵する原子炉圧力容器(以下、RPVという)12を有し、RPV12内にジェットポンプ14を設置している。原子炉1は原子炉格納容器11内に設置される。炉心13には多数の燃料集合体(図示せず)が装荷されている。燃料集合体は、核燃料で製造された複数の燃料ペレットが充填された複数の燃料棒を含んでいる。再循環系は再循環ポンプ21及び再循環系配管22を有し、再循環ポンプ21が再循環系配管22に設置されている。給水系は、復水器4とRPV12を連絡する給水配管10に、復水ポンプ5、復水浄化装置6、給水ポンプ7、低圧給水加熱器8及び高圧給水加熱器9を設置して構成される。原子炉浄化系は、再循環系配管22と給水配管10を連絡する浄化系配管20に、浄化系ポンプ24、再生熱交換器25、非再生熱交換器26及び炉水浄化装置27を設置して構成される。浄化系配管20は、再循環ポンプ21より上流で再循環系配管22に接続される。   A BWR plant, which is a nuclear power plant, includes a nuclear reactor 1, a turbine 3, a condenser 4, a recirculation system, a nuclear reactor purification system, a water supply system, and the like. The nuclear reactor 1 has a nuclear reactor pressure vessel (hereinafter referred to as RPV) 12 in which a core 13 is built, and a jet pump 14 is installed in the RPV 12. The nuclear reactor 1 is installed in a nuclear reactor containment vessel 11. The core 13 is loaded with a large number of fuel assemblies (not shown). The fuel assembly includes a plurality of fuel rods filled with a plurality of fuel pellets made of nuclear fuel. The recirculation system has a recirculation pump 21 and a recirculation system pipe 22, and the recirculation pump 21 is installed in the recirculation system pipe 22. The feed water system is configured by installing a condensate pump 5, a condensate purification device 6, a feed water pump 7, a low pressure feed water heater 8, and a high pressure feed water heater 9 in a feed water pipe 10 connecting the condenser 4 and the RPV 12. The In the reactor purification system, a purification system pump 24, a regenerative heat exchanger 25, a non-regenerative heat exchanger 26 and a reactor water purification device 27 are installed in a purification system pipe 20 that connects the recirculation system pipe 22 and the feed water pipe 10. Configured. The purification system pipe 20 is connected to the recirculation system pipe 22 upstream from the recirculation pump 21.

RPV12内の冷却水は、再循環ポンプ21で昇圧され、再循環系配管22を通ってジェットポンプ14内に噴出される。周囲に存在する冷却水も、ジェットポンプ14内に吸引され、炉心13に供給される。炉心13に供給された冷却水は、燃料棒内の核燃料物質の核分裂で発生する熱によって加熱され、一部が蒸気になる。この蒸気は、RPV12から主蒸気配管2を通ってタービン3に導かれ、タービン3を回転させる。タービン3に連結された発電機(図示せず)が回転され、電力が発生ずる。タービン3から排出された蒸気は、復水器4で凝縮され、水になる。この水は、給水として、給水配管10を通りRPV12内に供給される。給水配管10を流れる給水は、復水ポンプ5で昇圧され、復水浄化装置6で不純物が除去され、給水ポンプ7でさらに昇圧され、低圧給水加熱器8及び高圧給水加熱器9で加熱される。抽気配管15で主蒸気配管2、タービン3から抽気された抽気蒸気が、低圧給水加熱器8及び高圧給水加熱器9にそれぞれ供給され、給水の加熱源となる。   The cooling water in the RPV 12 is boosted by the recirculation pump 21, and jetted into the jet pump 14 through the recirculation system pipe 22. The cooling water existing around is also sucked into the jet pump 14 and supplied to the core 13. The cooling water supplied to the core 13 is heated by the heat generated by the nuclear fission of the nuclear fuel material in the fuel rod, and a part thereof becomes steam. This steam is guided from the RPV 12 through the main steam pipe 2 to the turbine 3 to rotate the turbine 3. A generator (not shown) connected to the turbine 3 is rotated to generate electric power. The steam discharged from the turbine 3 is condensed by the condenser 4 to become water. This water is supplied into the RPV 12 through the water supply pipe 10 as water supply. The feed water flowing through the feed water pipe 10 is boosted by the condensate pump 5, impurities are removed by the condensate purification device 6, further boosted by the feed water pump 7, and heated by the low pressure feed water heater 8 and the high pressure feed water heater 9. . Extracted steam extracted from the main steam pipe 2 and the turbine 3 by the extracted pipe 15 is supplied to the low-pressure feed water heater 8 and the high-pressure feed water heater 9, respectively, and serves as a heating source for the feed water.

再循環系配管22内を流れる冷却水の一部は、浄化系ポンプ24の駆動によって浄化系配管20内に流入し、炉水浄化装置27で浄化される。浄化された冷却水は、浄化系配管20及び給水配管10を経てRPV12内に戻される。   A part of the cooling water flowing in the recirculation system pipe 22 flows into the purification system pipe 20 by the drive of the purification system pump 24 and is purified by the reactor water purification device 27. The purified cooling water is returned into the RPV 12 through the purification system pipe 20 and the water supply pipe 10.

BWRプラントの運転が停止された後、皮膜形成装置30の循環配管35が、再循環系配管22及び浄化系配管20に接続される。皮膜形成装置30は、仮設の設備であり、フェライト皮膜の形成に使用した溶液の処理が終了した後、再循環系配管22及び浄化系配管20から取り外される。皮膜形成装置30は、再循環系配管22の内面へのフェライト皮膜の形成、及びこの皮膜の形成に使用された溶液(廃液)の処理の両方に用いられる。さらに、皮膜形成装置30は、再循環系配管22内の化学除染を行う際にも用いられる。   After the operation of the BWR plant is stopped, the circulation pipe 35 of the film forming apparatus 30 is connected to the recirculation system pipe 22 and the purification system pipe 20. The film forming apparatus 30 is a temporary facility, and is removed from the recirculation system pipe 22 and the purification system pipe 20 after the processing of the solution used for forming the ferrite film is completed. The film forming apparatus 30 is used for both the formation of a ferrite film on the inner surface of the recirculation pipe 22 and the treatment of the solution (waste liquid) used for forming this film. Furthermore, the film forming apparatus 30 is also used when performing chemical decontamination in the recirculation piping 22.

皮膜形成装置30の詳細な構成を、図6により説明する。皮膜形成装置30は、サージタンク31、循環配管35、薬液タンク40,45,46,フィルタ51、分解装置64及びカチオン交換樹脂塔60を備えている。上流より、開閉弁47、循環ポンプ48、加熱器53、弁55,56,57、サージタンク31、循環ポンプ32、弁49,33及び開閉弁34が、上流よりこの順に循環配管35に設けられている。加熱器53及び弁55をバイパスする配管66の両端が循環配管35に接続される。冷却器58及び弁59が配管66に設置される。両端が循環配管35に接続されて弁56をバイパスする配管67に、カチオン交換樹脂塔60及び弁61が設置される。両端が循環配管35に接続されて弁56をバイパスする配管68に、混床樹脂塔62及び弁63が設置される。弁65及び分解装置64が設置される配管69が、弁57をバイパスして循環配管35に接続される。分解装置64は、内部に、例えば、ルテニウムを活性炭の表面に添着した活性炭触媒を充填している。弁49をバイパスして、フィルタ51及び弁50が設置される配管71が循環配管35に接続される。弁36及びエゼクタ37が設けられる配管70が、弁33と弁49の間で循環配管35に接続され、さらに、サージタンク31に接続される。化学除染の対象となる配管(例えば、再循環系配管22)の内面の汚染物を酸化溶解するための過マンガン酸、さらには配管内の汚染物を還元溶解するためのシュウ酸をサージタンク31内に供給するためのホッパ(図示せず)がエゼクタ37に設けられている。化学除染の対象となる配管は、フェライト皮膜を内面に形成する対象の配管である。   The detailed configuration of the film forming apparatus 30 will be described with reference to FIG. The film forming apparatus 30 includes a surge tank 31, a circulation pipe 35, chemical liquid tanks 40, 45, 46, a filter 51, a decomposition apparatus 64, and a cation exchange resin tower 60. From the upstream, the opening / closing valve 47, the circulation pump 48, the heater 53, the valves 55, 56, 57, the surge tank 31, the circulation pump 32, the valves 49, 33, and the opening / closing valve 34 are provided in the circulation pipe 35 in this order from the upstream. ing. Both ends of a pipe 66 that bypasses the heater 53 and the valve 55 are connected to the circulation pipe 35. A cooler 58 and a valve 59 are installed in the pipe 66. A cation exchange resin tower 60 and a valve 61 are installed in a pipe 67 having both ends connected to the circulation pipe 35 and bypassing the valve 56. A mixed bed resin tower 62 and a valve 63 are installed in a pipe 68 having both ends connected to the circulation pipe 35 and bypassing the valve 56. A pipe 69 in which the valve 65 and the decomposition device 64 are installed bypasses the valve 57 and is connected to the circulation pipe 35. The decomposition apparatus 64 is filled with, for example, an activated carbon catalyst in which ruthenium is impregnated on the surface of the activated carbon. By bypassing the valve 49, a pipe 71 in which the filter 51 and the valve 50 are installed is connected to the circulation pipe 35. A pipe 70 provided with the valve 36 and the ejector 37 is connected to the circulation pipe 35 between the valve 33 and the valve 49, and further connected to the surge tank 31. Surge tank for permanganic acid for oxidizing and dissolving pollutants on the inner surface of piping (for example, recirculation system piping 22) subject to chemical decontamination, and oxalic acid for reducing and dissolving contaminants in the piping. The ejector 37 is provided with a hopper (not shown) for supplying the inside of the ejector 31. The pipe to be subjected to chemical decontamination is a pipe to be formed with a ferrite film on the inner surface.

鉄(II)イオン注入装置が、薬液タンク45、注入ポンプ43及び注入配管72を有する。薬液タンク45は、注入ポンプ43及び弁41を有する注入配管72によって循環配管35に接続される。薬液タンク45は、鉄をギ酸で溶解して調製した2価の鉄(II)イオンを含む薬剤が充填されている。この薬剤はギ酸を含んでいる。なお、鉄を溶解させる薬剤としては、ギ酸に限らず、鉄(II)イオンの対アニオンとなる有機酸又は炭酸を用いることができる。酸化剤注入装置が、薬液タンク46、注入ポンプ44及び注入配管73を有する。薬液タンク46は、注入ポンプ44及び弁42を有する注入配管73によって循環配管35に接続される。薬液タンク46は、酸化剤である過酸化水素が充填されている。pH調整剤注入装置が、薬液タンク40、注入ポンプ39及び注入配管74を有する。薬液タンク40は、注入ポンプ39及び弁38を有する注入配管74によって循環配管35に接続される。薬液タンク40はpH調整剤であるヒドラジンを充填する。酸化剤注入装置の循環配管35への第1接続点は、鉄(II)イオン注入装置の循環配管35への第2接続点よりも下流であって、pH調整剤注入装置の循環配管35への第3接続点よりも上流に位置している。第3接続点の位置は、循環配管35において、化学除染及びフェライト皮膜形成の対象箇所にできるだけ近づけることが好ましい。弁54を設けた配管75が配管73と配管69を連絡する。サージタンク31は、処理に用いられる水が充填されている。薬液タンク45及びサージタンク31内に、水溶液に含まれる酸素を除去するために、窒素又はアルゴンなどの不活性ガスをバブリングすることが好ましい。   The iron (II) ion implantation apparatus includes a chemical solution tank 45, an injection pump 43, and an injection pipe 72. The chemical tank 45 is connected to the circulation pipe 35 by an injection pipe 72 having an injection pump 43 and a valve 41. The chemical liquid tank 45 is filled with a medicine containing divalent iron (II) ions prepared by dissolving iron with formic acid. This drug contains formic acid. In addition, as a chemical | medical agent which dissolves iron, the organic acid or carbonic acid which becomes a counter anion of iron (II) ion can be used not only formic acid. The oxidant injection device includes a chemical tank 46, an injection pump 44, and an injection pipe 73. The chemical tank 46 is connected to the circulation pipe 35 by an injection pipe 73 having an injection pump 44 and a valve 42. The chemical tank 46 is filled with hydrogen peroxide which is an oxidant. The pH adjuster injection device includes a chemical tank 40, an injection pump 39, and an injection pipe 74. The chemical tank 40 is connected to the circulation pipe 35 by an injection pipe 74 having an injection pump 39 and a valve 38. The chemical tank 40 is filled with hydrazine which is a pH adjusting agent. The first connection point to the circulation pipe 35 of the oxidant injection device is downstream of the second connection point to the circulation pipe 35 of the iron (II) ion injection device and to the circulation pipe 35 of the pH adjuster injection device. Is located upstream of the third connection point. The position of the third connection point is preferably as close as possible to the target location for chemical decontamination and ferrite film formation in the circulation pipe 35. A pipe 75 provided with a valve 54 communicates the pipe 73 and the pipe 69. The surge tank 31 is filled with water used for processing. In order to remove oxygen contained in the aqueous solution, chemical gas tank 45 and surge tank 31 are preferably bubbled with an inert gas such as nitrogen or argon.

分解装置64は、鉄(II)イオンの対アニオンとして使用する有機酸(例えば、ギ酸)、及びpH調整剤のヒドラジンを分解できるようになっている。つまり、鉄(II)イオンの対アニオンとしては、廃棄物量の低減化を考慮して水及び二酸化炭素に分解できる有機酸、又は気体として放出可能で廃棄物を増やさない炭酸を用いている。   The decomposition device 64 can decompose an organic acid (for example, formic acid) used as a counter anion of iron (II) ions and a hydrazine as a pH adjusting agent. That is, as the counter anion of the iron (II) ion, an organic acid that can be decomposed into water and carbon dioxide in consideration of reduction of the amount of waste, or carbonic acid that can be released as a gas and does not increase waste is used.

本実施例におけるフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法を、図1を用いて詳細に説明する。図1に示す手順は、溶液の処理方法だけでなく、化学除染及びフェライト皮膜の形成も含んでいる。まず、皮膜形成装置30を皮膜形成対象の配管系に接続する(ステップS1)。すなわち、BWRプラントの運転がそのプラントの定期検査(保守点検)のために停止された後、前述したように、循環配管35が再循環系配管22及び浄化系配管20に接続される。皮膜形成対象の配管系は、例えば、再循環系配管22である。浄化系配管20には弁23が設けられている。この弁23のボンネットを開放して浄化系配管20の炉水浄化装置26側を閉鎖する。弁23のフランジに循環配管35の一端を接続する。循環配管35の他端は、再循環ポンプ21よりも下流で再循環系配管22、例えば、再循環系配管22に接続された枝管(ドレン配管または計装配管などを切り離した枝管)に接続する。このようにして、皮膜形成装置30が再循環系配管22に接続される。なお、再循環系配管22内に供給された除染液及び皮膜形成水溶液がRPV12内に流入しないように、再循環系配管22の両端は、プラグ(図示せず)でそれぞれ封鎖される。   The processing method of the solution after forming the ferrite film in the present embodiment will be described in detail with reference to FIG. The procedure shown in FIG. 1 includes not only a solution processing method but also chemical decontamination and formation of a ferrite film. First, the film forming apparatus 30 is connected to the piping system to be coated (Step S1). That is, after the operation of the BWR plant is stopped for periodic inspection (maintenance inspection) of the plant, the circulation pipe 35 is connected to the recirculation system pipe 22 and the purification system pipe 20 as described above. The piping system to be coated is, for example, the recirculation piping 22. A valve 23 is provided in the purification system pipe 20. The bonnet of the valve 23 is opened to close the reactor water purification device 26 side of the purification system pipe 20. One end of the circulation pipe 35 is connected to the flange of the valve 23. The other end of the circulation pipe 35 is connected to a recirculation system pipe 22 downstream of the recirculation pump 21, for example, a branch pipe connected to the recirculation system pipe 22 (a branch pipe from which a drain pipe or an instrumentation pipe is separated). Connecting. In this way, the film forming apparatus 30 is connected to the recirculation piping 22. Note that both ends of the recirculation system pipe 22 are sealed with plugs (not shown) so that the decontamination solution and the film-forming aqueous solution supplied into the recirculation system pipe 22 do not flow into the RPV 12.

皮膜形成対象箇所に対する化学除染を実施する(ステップS2)。RPV12内の冷却水(炉水)と接触する、再循環系配管22の内面は、放射性核種を取り込んだ酸化皮膜(汚染物)が形成されている。ステップS2の一例は、化学的な処理により放射性核種を取り込んだ酸化皮膜を、皮膜形成対象箇所である再循環系配管22の内面から取り除く処理である。皮膜形成対象の配管系へのフェライト皮膜の形成は、その配管系への放射性核種の付着抑制を目的とするものであるが、その形成に際してはその配管系の内面に対して予め化学除染を実施しておくことが好ましい。フェライト皮膜を形成する前に皮膜形成対象の構造部材の金属表面が露出されていればよいので、化学除染の替りに機械的な除染処理を適用することも可能である。   Chemical decontamination is performed on the film formation target portion (step S2). On the inner surface of the recirculation system pipe 22 that comes into contact with the cooling water (reactor water) in the RPV 12, an oxide film (contaminant) incorporating the radionuclide is formed. An example of step S2 is a process of removing the oxide film that has taken in the radionuclide by a chemical process from the inner surface of the recirculation pipe 22 that is a film formation target location. The formation of a ferrite film on the piping system to be coated is intended to suppress the attachment of radionuclides to the piping system. It is preferable to carry out. Since it is sufficient that the metal surface of the structural member to be coated is exposed before the ferrite film is formed, mechanical decontamination processing can be applied instead of chemical decontamination.

ステップS2で適用する化学除染は、特開2006−38483号公報に記載されたステップS2と同様に行われる。この化学除染を簡単に説明する。まず、弁34,33,49,57,56,55及び47を開き、他の弁を閉じた状態で、循環ポンプ32、循環ポンプ48を起動して、除染対象となる再循環系配管22内にサージタンク31内の水を循環させる。温度制御装置80によって制御される加熱器53により循環する水の温度を約90℃まで昇温させる。水の温度が設定温度になった後、弁36を開く。エゼクタ37に接続されたホッパからの必要量の過マンガン酸カリウムが、配管70内を流れる水の駆動力を利用してサージタンク31内に供給される。サージタンク31内で生成された過マンガン酸カリウム水溶液(酸化除染液)は、循環配管35を通り、弁34及び浄化系配管20を経て再循環系配管22内に供給される。酸化除染液は、再循環系配管22の内面に形成されている酸化皮膜などの汚染物を酸化して溶解する。   The chemical decontamination applied in step S2 is performed in the same manner as step S2 described in JP 2006-38483 A. This chemical decontamination will be briefly described. First, with the valves 34, 33, 49, 57, 56, 55 and 47 opened and the other valves closed, the circulation pump 32 and the circulation pump 48 are activated, and the recirculation piping 22 to be decontaminated. The water in the surge tank 31 is circulated inside. The temperature of the circulating water is raised to about 90 ° C. by the heater 53 controlled by the temperature control device 80. After the water temperature reaches the set temperature, the valve 36 is opened. A required amount of potassium permanganate from the hopper connected to the ejector 37 is supplied into the surge tank 31 by using the driving force of the water flowing in the pipe 70. The potassium permanganate aqueous solution (oxidation decontamination solution) generated in the surge tank 31 passes through the circulation pipe 35 and is supplied into the recirculation system pipe 22 through the valve 34 and the purification system pipe 20. The oxidative decontamination solution oxidizes and dissolves contaminants such as an oxide film formed on the inner surface of the recirculation pipe 22.

酸化除染液による除染が終了した後、酸化除染液に残留する過マンガン酸イオンは、上記のホッパから供給されるシュウ酸によって分解される。過マンガン酸カリウムの分解後、シュウ酸水溶液である還元除染液を用いて、再循環系配管22内面に形成されている酸化皮膜等の汚染物の還元溶解を行う。還元除染液は、サージタンク31内にシュウ酸を供給することによって生成される。薬液タンク40から供給されたpHを調整するヒドラジンを含む還元除染液が、フェライト皮膜を形成する再循環系配管22の内面を還元除染する。還元除染時に、還元除染液の一部がカチオン交換樹脂塔60に導かれる。再循環系配管22の内面から還元除染液中に溶出した金属陽イオンが、カチオン交換樹脂塔60内のカチオン交換樹脂に吸着され、除去される。   After the decontamination by the oxidative decontamination liquid is completed, permanganate ions remaining in the oxidative decontamination liquid are decomposed by the oxalic acid supplied from the hopper. After the decomposition of potassium permanganate, a reducing decontamination solution that is an aqueous oxalic acid solution is used to reduce and dissolve contaminants such as an oxide film formed on the inner surface of the recirculation system pipe 22. The reductive decontamination liquid is generated by supplying oxalic acid into the surge tank 31. The reductive decontamination liquid containing hydrazine for adjusting the pH supplied from the chemical tank 40 decontaminates the inner surface of the recirculation pipe 22 that forms the ferrite film. At the time of reductive decontamination, a part of the reductive decontamination liquid is guided to the cation exchange resin tower 60. Metal cations eluted from the inner surface of the recirculation system pipe 22 into the reducing decontamination liquid are adsorbed and removed by the cation exchange resin in the cation exchange resin tower 60.

還元除染の終了後、除染液に残存するシュウ酸を分解するため、循環配管35内を流れる還元除染液の一部を分解装置64に供給する。このとき薬液タンク46内の過酸化水素が配管75を通して分解装置64に供給される。分解装置64は、過酸化水素及び活性炭触媒の作用によって還元除染液に含まれるシュウ酸及びヒドラジンを分解する。シュウ酸及びヒドラジンの分解後、除染液の加熱器53への供給を停止し、除染液を冷却器58に供給する。混床樹脂塔62に通水できる温度(例えば、60℃)に低下した除染液を混床樹脂塔62に供給する。混床樹脂塔62は除染液に含まれる不純物を除去する。   After the completion of the reductive decontamination, a part of the reductive decontamination liquid flowing in the circulation pipe 35 is supplied to the decomposing device 64 in order to decompose the oxalic acid remaining in the decontamination liquid. At this time, hydrogen peroxide in the chemical solution tank 46 is supplied to the decomposition device 64 through the pipe 75. The decomposition device 64 decomposes oxalic acid and hydrazine contained in the reductive decontamination solution by the action of hydrogen peroxide and activated carbon catalyst. After decomposing oxalic acid and hydrazine, the supply of the decontamination solution to the heater 53 is stopped, and the decontamination solution is supplied to the cooler 58. A decontamination liquid lowered to a temperature at which water can be passed through the mixed bed resin tower 62 (for example, 60 ° C.) is supplied to the mixed bed resin tower 62. The mixed bed resin tower 62 removes impurities contained in the decontamination solution.

昇温から酸化溶解、酸化剤分解、還元溶解、還元剤分解、浄化運転を、例えば2〜3回程度繰り返すことにより、除染対象箇所における構造部材の表面に形成されていた酸化皮膜を含む汚染物を溶解して除去することができる。   Contamination that includes an oxide film formed on the surface of the structural member at the decontamination target site by repeating, for example, about 2 to 3 times, from temperature rise to oxidative dissolution, oxidant decomposition, reductive dissolution, reductant decomposition, and purification operation. Objects can be dissolved and removed.

このようにして、金属部材の酸化皮膜を含む汚染物を除去した後、フェライト皮膜の形成処理に切り換える。フェライト皮膜の形成方法は、公知であるが(特許文献3参照)、ここでは簡単に説明する。   In this way, after removing the contaminants including the oxide film of the metal member, the process is switched to the ferrite film forming process. A method for forming a ferrite film is known (see Patent Document 3), but will be briefly described here.

皮膜形成対象箇所の除染が終了した後、皮膜形成水溶液の温度調整を行う(ステップS3)。皮膜形成対象箇所の除染終了後において、皮膜形成装置30による最後の浄化運転が終了した後、以下の弁操作が行われる。弁50を開いて弁49を閉じ、フィルタ51への通水を開始する。弁56を開いて弁63を閉じることにより、混床樹脂塔62への通水を停止する。さらに、弁55を開いて加熱器53によって循環配管35内の水を所定温度まで加熱する。弁47,57,33,34は開いており、弁36,59,61,65,38,41,42,54は閉じている。フィルタ51への通水は水中に残留している微細な固形物を除去するためである。この固形物が残留していると、皮膜形成対象箇所でのフェライト皮膜の形成の際に、その固形物の表面にもフェライト皮膜が形成され、薬剤が無駄に使用されることになる。上記の固形物の除去によって、皮膜形成水溶液に含まれる薬剤を有効に使用できる。フィルタ51への通水を除染中に実施した場合には、溶解した高い放射能の放射性核種を含む固形物によってフィルタ51の線量率が高くなりすぎる恐れがある。このため、フィルタ51への通水は除染終了後に行う。上記固形物の除去が終了した時点で、弁49を開いて弁50を閉じる。   After the decontamination of the film forming target portion is completed, the temperature of the film forming aqueous solution is adjusted (step S3). After the decontamination of the film formation target portion, after the final purification operation by the film forming apparatus 30, the following valve operation is performed. The valve 50 is opened, the valve 49 is closed, and water flow to the filter 51 is started. By opening the valve 56 and closing the valve 63, water flow to the mixed bed resin tower 62 is stopped. Further, the valve 55 is opened and the water in the circulation pipe 35 is heated to a predetermined temperature by the heater 53. Valves 47, 57, 33, and 34 are open, and valves 36, 59, 61, 65, 38, 41, 42, and 54 are closed. The water flow through the filter 51 is for removing fine solids remaining in the water. If this solid substance remains, a ferrite film is also formed on the surface of the solid substance when the ferrite film is formed at the film formation target site, and the drug is wasted. By removing the solid matter, the drug contained in the film-forming aqueous solution can be used effectively. When water is passed through the filter 51 during decontamination, the dose rate of the filter 51 may become too high due to the dissolved solid matter containing the high-activity radionuclide. For this reason, water is passed through the filter 51 after the decontamination is completed. When the removal of the solid matter is completed, the valve 49 is opened and the valve 50 is closed.

皮膜形成処理時における皮膜形成水溶液の設定温度は、100℃程度が好ましいが、これに限られない。要は原子炉の運転時に冷却水に含まれる放射性核種が、皮膜形成対象箇所に生成されるフェライト皮膜に取り込まれない程度に、その皮膜の結晶等の膜構造が緻密に形成できればよいのである。したがって、皮膜形成水溶液の温度は少なくとも200℃以下が好ましく、下限は常温でもよいが、皮膜の生成速度が実用範囲になる60℃以上が好ましい。100℃以上では皮膜形成水溶液の沸騰を抑制するため、加圧しなければならず仮設設備の耐圧性が要求されるようになり設備が大型化するため好ましくない。皮膜形成水溶液の温度の、設定温度である100℃への調節は、温度制御装置80によって加熱器53を制御することによって行われる。   The set temperature of the aqueous solution for film formation during the film formation treatment is preferably about 100 ° C., but is not limited thereto. In short, it is only necessary that the film structure such as crystals of the coating can be densely formed so that the radionuclide contained in the cooling water during operation of the nuclear reactor is not taken into the ferrite coating generated at the coating formation target site. Therefore, the temperature of the aqueous solution for forming a film is preferably at least 200 ° C. and the lower limit may be room temperature, but is preferably 60 ° C. or higher at which the film formation rate is within the practical range. When the temperature is 100 ° C. or higher, pressure must be applied in order to suppress boiling of the film-forming aqueous solution, and the pressure resistance of the temporary equipment is required. Adjustment of the temperature of the film-forming aqueous solution to the set temperature of 100 ° C. is performed by controlling the heater 53 with the temperature control device 80.

皮膜形成対象箇所にフェライト皮膜を形成する(ステップS4)。フェライト皮膜を形成させるためには、鉄(II)イオンが皮膜形成対象箇所の金属部材の表面に吸着される必要がある。しかし、皮膜形成水溶液中の鉄(II)イオンは、溶存酸素によって(3)式に従って鉄(III)イオンに酸化される。鉄(III)イオンは、鉄(II)イオンに比べて溶解度が低いため、(4)式に従って水酸化鉄として析出してしまい、フェライト皮膜の形成に寄与しなくなってしまう。そこで、皮膜形成水溶液中の溶存酸素を除去するため、上記したように、不活性ガスのバブリング又は真空脱気を行うことが好ましい。   A ferrite film is formed at a film formation target location (step S4). In order to form a ferrite film, iron (II) ions need to be adsorbed on the surface of the metal member at the film formation target location. However, iron (II) ions in the film-forming aqueous solution are oxidized to iron (III) ions by dissolved oxygen according to the formula (3). Since iron (III) ions have lower solubility than iron (II) ions, they precipitate as iron hydroxide according to the formula (4) and do not contribute to the formation of a ferrite film. Therefore, in order to remove dissolved oxygen in the film-forming aqueous solution, it is preferable to perform bubbling of inert gas or vacuum degassing as described above.

4Fe2++O+2HO → 4Fe3++4OH ……(3)
Fe3++3OH → Fe(OH) ……(4)
循環配管35内を循環する水の温度が所定温度に達した後、弁41を開いて注入ポンプ43を駆動し、鉄をギ酸で溶解して調製した鉄(II)イオンを含む薬剤を、薬液タンク45から循環配管35内を流れる皮膜形成水溶液に注入する。薬剤タンク45からはギ酸も循環配管35内に供給される。続いて、弁42を開いて注入ポンプ44を駆動し、酸化剤の過酸化水素を薬液タンク46から循環配管35内を流れる皮膜形成水溶液に注入する。過酸化水素は、皮膜形成対象箇所の金属部材の表面に吸着された鉄(II)イオンをフェライト化させる。最後に、弁38を開いて注入ポンプ39を駆動し、ヒドラジンを薬液タンク40から循環配管35内を流れる皮膜形成水溶液に注入する。鉄(II)イオンを含む薬剤、過酸化水素及びヒドラジンの注入により、循環配管35内で皮膜形成水溶液が生成される。この皮膜形成水溶液が循環配管35を通って再循環系配管22に供給される。皮膜形成水溶液と接触する再循環系配管22の内面でフェライト皮膜の生成反応が生じる。ヒドラジンは、皮膜形成水溶液のpHを反応開始条件となる5.5乃至9.0に調整するために用いられる。皮膜形成水溶液のpHはpH計79によって計測される。pH制御装置81は、pH計測値に基づいて注入ポンプ39の回転速度(または弁38の開度)を制御し、循環配管22内に注入するヒドラジンの注入速度を調整する。この制御によって、皮膜形成水溶液のpHが上記の範囲内に調節される。このようにpHが調整された皮膜形成水溶液が再循環系配管22に供給されることによって、再循環系配管22の内面に、マグネタイトを主成分とするフェライト皮膜(以下、マグネタイト皮膜という。)が形成される。
4Fe 2+ + O 2 + 2H 2 O → 4Fe 3+ + 4OH (3)
Fe 3+ + 3OH → Fe (OH) 3 (4)
After the temperature of the water circulating in the circulation pipe 35 reaches a predetermined temperature, a drug containing iron (II) ions prepared by opening the valve 41 and driving the injection pump 43 and dissolving iron with formic acid is used as a chemical solution. It inject | pours into the film formation aqueous solution which flows in the circulation piping 35 from the tank 45. FIG. Formic acid is also supplied into the circulation pipe 35 from the chemical tank 45. Subsequently, the valve 42 is opened and the injection pump 44 is driven to inject oxidant hydrogen peroxide from the chemical tank 46 into the film-forming aqueous solution flowing in the circulation pipe 35. Hydrogen peroxide ferritizes iron (II) ions adsorbed on the surface of the metal member at the film formation target location. Finally, the valve 38 is opened and the injection pump 39 is driven to inject hydrazine from the chemical solution tank 40 into the film-forming aqueous solution flowing in the circulation pipe 35. A film-forming aqueous solution is generated in the circulation pipe 35 by injection of a chemical containing iron (II) ions, hydrogen peroxide, and hydrazine. This film-forming aqueous solution is supplied to the recirculation system pipe 22 through the circulation pipe 35. The formation reaction of the ferrite film occurs on the inner surface of the recirculation piping 22 that comes into contact with the film-forming aqueous solution. Hydrazine is used to adjust the pH of the film-forming aqueous solution to 5.5 to 9.0, which is a reaction initiation condition. The pH of the film-forming aqueous solution is measured by a pH meter 79. The pH control device 81 controls the rotation speed of the injection pump 39 (or the opening degree of the valve 38) based on the measured pH value, and adjusts the injection speed of hydrazine to be injected into the circulation pipe 22. By this control, the pH of the film-forming aqueous solution is adjusted within the above range. By supplying the film-forming aqueous solution whose pH is adjusted in this way to the recirculation system pipe 22, a ferrite film containing magnetite as a main component (hereinafter referred to as magnetite film) is formed on the inner surface of the recirculation system pipe 22. It is formed.

皮膜形成水溶液内の酸化剤はその水溶液に含まれている鉄(II)イオンの酸化反応を生じさせる。このため、皮膜形成水溶液内での、鉄(II)イオンと鉄(III)イオンの存在比率がフェライト皮膜の生成反応に適した条件となる。ただし、皮膜形成水溶液が酸性である場合には、フェライト皮膜が形成されない。このため、pH調整剤(例えば、ヒドラジン)を添加して皮膜形成水溶液のpHを5.5乃至9.0に調整することによって、フェライト皮膜の生成反応が開始される。したがって、循環配管35の内面への無駄なフェライト皮膜の形成を防止するため、pH調整剤の注入ポイントは皮膜形成対象箇所の近くにするとよい。   The oxidizing agent in the film-forming aqueous solution causes an oxidation reaction of iron (II) ions contained in the aqueous solution. For this reason, the abundance ratio of iron (II) ions and iron (III) ions in the film-forming aqueous solution is a condition suitable for the formation reaction of the ferrite film. However, when the film-forming aqueous solution is acidic, the ferrite film is not formed. For this reason, the production | generation reaction of a ferrite membrane | film | coat is started by adding pH adjuster (for example, hydrazine) and adjusting the pH of film-forming aqueous solution to 5.5 thru | or 9.0. Therefore, in order to prevent the formation of a useless ferrite film on the inner surface of the circulation pipe 35, the injection point of the pH adjusting agent is preferably close to the film formation target location.

薬液の注入を、酸化剤、鉄イオン及びpH調整剤の順番に行った場合には、過酸化水素は温度が高い金属表面で分解し易いので、先に注入される酸化剤の一部が無駄に消費されてしまう。鉄イオン、pH調整剤及び酸化剤の順に注入した場合には、皮膜形成対象箇所でのフェライト皮膜の形成は認められるものの、フェライト皮膜を形成するマグネタイトの粒子が大きくなる。薬剤を有効活用し、より緻密なフェライト皮膜を形成する観点からも、薬液の注入は鉄(II)イオン、酸化剤及びpH調整剤の順に行うことが望ましい。   When chemicals are injected in the order of oxidant, iron ion, and pH adjuster, hydrogen peroxide easily decomposes on the metal surface at a high temperature, so some of the oxidant that is injected first is wasted. Will be consumed. When iron ions, a pH adjuster, and an oxidizing agent are injected in this order, the formation of a ferrite film at the film formation target site is recognized, but the magnetite particles that form the ferrite film become larger. From the viewpoint of effectively using a chemical and forming a denser ferrite film, it is desirable to inject the chemical solution in the order of iron (II) ions, an oxidizing agent, and a pH adjusting agent.

再循環系配管22内面でのフェライト皮膜の形成が完了した後、使用された皮膜形成水溶液(以下、廃液という)の処理(図1に示すステップS5〜S10の処理)が、皮膜形成装置30内で実行される。この廃液は液体放射性廃棄物となる。廃液の処理を実行している期間において、廃液は、循環ポンプ32の駆動によって循環配管35の一端から再循環系配管22の一端に供給され、再循環系配管22内を通って循環配管35の他端に戻される。弁47を介して循環配管35に戻された廃液は、循環ポンプ48の駆動により、加熱器53、弁55,56,57を通ってサージタンク31に戻される。   After the formation of the ferrite film on the inner surface of the recirculation system pipe 22 is completed, the processing of the used film forming aqueous solution (hereinafter referred to as waste liquid) (processing of steps S5 to S10 shown in FIG. 1) is performed in the film forming apparatus 30. Is executed. This waste liquid becomes liquid radioactive waste. During the period during which the waste liquid is being processed, the waste liquid is supplied from one end of the circulation pipe 35 to one end of the recirculation system pipe 22 by driving the circulation pump 32, and passes through the recirculation system pipe 22 to the circulation pipe 35. Returned to the other end. The waste liquid returned to the circulation pipe 35 through the valve 47 is returned to the surge tank 31 through the heater 53 and the valves 55, 56, 57 by driving of the circulation pump 48.

再循環系配管22及び皮膜形成装置30内に残存する皮膜形成水溶液には、例えば、フェライト皮膜の形成に伴い生成されたマグネタイトなどの粒状物、フェライト皮膜の形成に寄与しなかった鉄(II)イオンなどが残留している。廃液処理工程において、まず初めに、フェライト皮膜形成中に生成した廃液内に存在する粒状物を除去する(ステップS5)。ステップS5において、残留しているマグネタイト及び水酸化第二鉄などの固形物(粒子)はフィルタ51で除去される。すなわち、これらの粒子の除去は、弁50を開けて弁49を閉じ、フィルタ51に廃液を流すことによって行われる。フィルタ51への廃液の供給により、廃液内の粒子濃度は徐々に低下する。   Examples of the film-forming aqueous solution remaining in the recirculation system pipe 22 and the film-forming apparatus 30 include, for example, particulate matter such as magnetite generated with the formation of the ferrite film, and iron (II) that has not contributed to the formation of the ferrite film. Ions etc. remain. In the waste liquid treatment process, first, particulate matter present in the waste liquid generated during the formation of the ferrite film is removed (step S5). In step S <b> 5, the remaining solid matter (particles) such as magnetite and ferric hydroxide is removed by the filter 51. That is, the removal of these particles is performed by opening the valve 50 and closing the valve 49 and flowing waste liquid through the filter 51. By supplying the waste liquid to the filter 51, the particle concentration in the waste liquid gradually decreases.

弁49、50及びフィルタ51の皮膜形成装置30内での設置位置は、廃液内で生成された粒子を除去できれば何処でもかまわない。しかしながら、それらの設置位置は、図6に示すようにサージタンク31より下流がより好ましい。これは、フェライト皮膜形成対象箇所における粒子濃度を優先して低減させることができるので、その対象箇所内で粒子が沈降することを抑制することができる。   The installation positions of the valves 49 and 50 and the filter 51 in the film forming apparatus 30 may be anywhere as long as particles generated in the waste liquid can be removed. However, the installation position is more preferably downstream from the surge tank 31 as shown in FIG. This can preferentially reduce the particle concentration at the location where the ferrite film is to be formed, so that the particles can be prevented from settling within the location.

次に、廃液内に存在する鉄(II)イオンを除去する(ステップS6)。弁61を開いて弁56を閉じ、廃液をカチオン交換樹脂塔60に供給する。廃液に含まれるカチオン成分である鉄(II)イオンが、カチオン交換樹脂塔60内のカチオン交換樹脂に吸着されて除去される。カチオン交換樹脂塔60がヒドラジンをブレークしていない場合には、ヒドラジンもカチオン交換樹脂によって吸着されて除去される。しかしながら、鉄(II)イオンはヒドラジンよりもカチオン交換樹脂に吸着されやすいため、ヒドラジンがカチオン交換樹脂の廃棄物量を増やすことはない。   Next, iron (II) ions present in the waste liquid are removed (step S6). The valve 61 is opened and the valve 56 is closed, and the waste liquid is supplied to the cation exchange resin tower 60. Iron (II) ions, which are cation components contained in the waste liquid, are adsorbed and removed by the cation exchange resin in the cation exchange resin tower 60. When the cation exchange resin tower 60 does not break hydrazine, hydrazine is also adsorbed and removed by the cation exchange resin. However, since iron (II) ions are more easily adsorbed to the cation exchange resin than hydrazine, hydrazine does not increase the waste amount of the cation exchange resin.

廃液に含まれる薬剤を分解する(ステップS7)。例えばカチオン交換樹脂塔60への廃液の供給によって、カチオン交換樹脂塔60の出口の温度が循環配管35内を流れる廃液の温度になったとき、カチオン交換樹脂塔60の出口における廃液には鉄(II)イオンが含まれていない。この廃液が分解装置64に供給される。すなわち、弁65を開いて弁57の開度を調整する。カチオン交換樹脂塔60から排出されたギ酸及びヒドラジンを含む廃液の一部が分解装置64に供給される。このとき、弁54を開いて注入ポンプ44を駆動し、薬液タンク46内の過酸化水素を、配管75を通して分解装置64に導く。分解装置64は、過酸化水素及び活性炭触媒の作用によって廃液に含まれるギ酸及びヒドラジンを分解する。ヒドラジンは窒素と水に、ギ酸は二酸化炭素と水にそれぞれ分解される。分解されるヒドラジンはカチオン交換樹脂塔60からブレークされたものである。本実施例では、この薬剤の分解に際して、廃液のpHが例えば5に調節される。このpHの調節は、pH制御装置81がpH計79のpH計測値に基づいて注入ポンプ39の回転数を制御することによって行われる。説明の都合上、ステップS6の後にステップS7を説明したが、本実施例では鉄(II)イオンの除去と薬剤の分解は並行して行われる。   The chemical | medical agent contained in a waste liquid is decomposed | disassembled (step S7). For example, when the temperature of the outlet of the cation exchange resin tower 60 becomes the temperature of the waste liquid flowing through the circulation pipe 35 by supplying the waste liquid to the cation exchange resin tower 60, iron ( II) Does not contain ions. This waste liquid is supplied to the decomposition device 64. That is, the valve 65 is opened to adjust the opening degree of the valve 57. A part of the waste liquid containing formic acid and hydrazine discharged from the cation exchange resin tower 60 is supplied to the decomposition device 64. At this time, the valve 54 is opened to drive the injection pump 44, and the hydrogen peroxide in the chemical tank 46 is guided to the decomposition device 64 through the pipe 75. The decomposition device 64 decomposes formic acid and hydrazine contained in the waste liquid by the action of hydrogen peroxide and activated carbon catalyst. Hydrazine is decomposed into nitrogen and water, and formic acid is decomposed into carbon dioxide and water. The hydrazine to be decomposed is broken from the cation exchange resin tower 60. In this embodiment, the pH of the waste liquid is adjusted to, for example, 5 when the medicine is decomposed. This pH adjustment is performed by the pH controller 81 controlling the number of revolutions of the infusion pump 39 based on the pH measurement value of the pH meter 79. For convenience of explanation, step S7 has been described after step S6, but in this embodiment, the removal of iron (II) ions and the decomposition of the drug are performed in parallel.

触媒を用いた分解処理装置64の替りに紫外線照射装置を用いることも可能である。紫外線照射装置も、酸化剤の存在下でヒドラジン、ギ酸及びシュウ酸を分解することができる。ヒドラジン及びギ酸を分解装置64において上記のように気体及び水に分解することによって、混床樹脂塔62によるギ酸の除去を回避できるので、放射性廃棄物となるイオン交換樹脂の廃棄物量を著しく低減できる。   It is also possible to use an ultraviolet irradiation device instead of the decomposition processing device 64 using a catalyst. An ultraviolet irradiation device can also decompose hydrazine, formic acid and oxalic acid in the presence of an oxidizing agent. By decomposing hydrazine and formic acid into gas and water in the decomposition apparatus 64 as described above, removal of formic acid by the mixed bed resin tower 62 can be avoided, so that the amount of waste of ion exchange resin that becomes radioactive waste can be significantly reduced. .

廃液のpHが4以上であるかを判定する(ステップS8)。カチオン交換樹脂塔60への廃液の供給と分解装置64によるヒドラジン及びギ酸の分解が開始されると、廃液に含まれたカチオン成分である鉄(II)イオン及びヒドラジンが、アニオン成分であるギ酸イオンより早く除去される。このため、循環配管35内を流れる廃液のpHが低下し始める。pH計79で計測されたpH計測値が、pH制御装置81に入力される。pH制御装置81は、pH計測値が、フェライト皮膜が溶解しない4以上となっているかを判定する。pHが4未満となった場合には、pH調整剤を注入して4以上を維持するように注入量を制御する(ステップS9)。ここでも、pH調整剤としては化学除染及びフェライト皮膜の形成時に用いたヒドラジンを用いる。   It is determined whether the pH of the waste liquid is 4 or more (step S8). When the supply of the waste liquid to the cation exchange resin tower 60 and the decomposition of the hydrazine and formic acid by the decomposition apparatus 64 are started, iron (II) ions and hydrazine, which are cation components contained in the waste liquid, are formate ions that are anion components. Removed faster. For this reason, the pH of the waste liquid flowing in the circulation pipe 35 starts to decrease. The measured pH value measured by the pH meter 79 is input to the pH controller 81. The pH controller 81 determines whether the measured pH value is 4 or more at which the ferrite film does not dissolve. When the pH is less than 4, the injection amount is controlled so as to maintain a pH of 4 or more by injecting the pH adjuster (step S9). Again, hydrazine used during chemical decontamination and ferrite film formation is used as the pH adjuster.

ステップS9でのヒドラジンの注入は、薬剤の分解を行っている間、弁38を開けて注入ポンプ39を駆動することにより行われる。pH制御装置81は、入力するpH計測値が、pH4以上である上記のpH設定値の5になるように注入ポンプ39の回転数を制御する。この制御により、ヒドラジンは薬液タンク40から循環配管35内に注入される。廃液のpHは、本実施例のように、5以上になるようにヒドラジンを注入することが望ましい。pHを5以上にする理由を、以下に説明する。薬剤の分解が進んで廃液内の有機酸濃度が低下してヒドラジンの注入量が注入ポンプ39の最小流量以下となった場合には、注入ポンプ39はON、OFF制御となり、廃液のpHの変動が増大する。廃液のpHを5以上にすることによって、上記のようにpHの変動が大きくなった場合にも、廃液のpHをpH4以上に安定に維持するための裕度を持つことができる。ステップS9のヒドラジン注入による廃液のpH調整が行われ、ステップS6〜S8の処理が行われる。   The injection of hydrazine in step S9 is performed by opening the valve 38 and driving the injection pump 39 while the medicine is being decomposed. The pH control device 81 controls the number of revolutions of the infusion pump 39 so that the input pH measurement value is 5 which is the above pH setting value which is pH 4 or higher. By this control, hydrazine is injected from the chemical tank 40 into the circulation pipe 35. It is desirable to inject hydrazine so that the pH of the waste liquid is 5 or more as in this embodiment. The reason why the pH is 5 or more will be described below. When the decomposition of the chemical progresses and the organic acid concentration in the waste liquid decreases and the injection amount of hydrazine falls below the minimum flow rate of the injection pump 39, the injection pump 39 is turned on and off, and the pH of the waste liquid changes. Will increase. By setting the pH of the waste liquid to 5 or more, even when the fluctuation in pH becomes large as described above, it is possible to have a tolerance for stably maintaining the pH of the waste liquid at pH 4 or higher. The pH of the waste liquid is adjusted by hydrazine injection in step S9, and the processes in steps S6 to S8 are performed.

ステップS9でのヒドラジンの注入量の調節は、表示装置に表示されるpH計79の計測値に基づいて、オペレータが弁38の開度を調節して行ってもよい。   The adjustment of the injection amount of hydrazine in step S9 may be performed by the operator adjusting the opening of the valve 38 based on the measured value of the pH meter 79 displayed on the display device.

ステップS8でpHが4以上であると判定された場合には、有機酸の濃度が設定値以下であるかを判定する(ステップS10)。ステップS10の判定を行うために定期的に廃液に含まれる有機酸、すなわち、ギ酸の濃度を測定し、ギ酸濃度が分析下限とみなせる設定値以下となったときにギ酸の分解処理を終了する。ここで、有機酸濃度は、サンプリングバルブ76を開いて採取した廃液を、例えばイオンクロマトグラフ法を用いて測定することができる。ステップS10でギ酸濃度が設定値より大きいと判定された場合には、ステップS6〜S10の処理が行われる。廃液内のギ酸濃度が設定値以下になるころには、ヒドラジンの廃液への注入は停止されており、廃液に含まれるヒドラジンの濃度もその分解終了設定値以下になっている。   If it is determined in step S8 that the pH is 4 or higher, it is determined whether the concentration of the organic acid is equal to or lower than a set value (step S10). In order to make the determination in step S10, the concentration of the organic acid contained in the waste liquid, that is, formic acid, is measured periodically, and the formic acid decomposition process is terminated when the formic acid concentration falls below a set value that can be regarded as the lower limit of analysis. Here, the organic acid concentration can be measured by using, for example, an ion chromatography method for the waste liquid collected by opening the sampling valve 76. If it is determined in step S10 that the formic acid concentration is greater than the set value, the processes in steps S6 to S10 are performed. When the formic acid concentration in the waste liquid becomes equal to or lower than the set value, the injection of hydrazine into the waste liquid is stopped, and the concentration of hydrazine contained in the waste liquid is also lower than the decomposition end set value.

ただし、ギ酸分解時において廃液のpHが許容範囲内で高めに設定されているとき、すなわち、例えば、そのpHが10に近い値であるときには、ギ酸濃度が設定値以下になっても廃液に含まれるヒドラジンの濃度が上記の分解終了設定値を超えている場合がある。このように、ギ酸濃度が設定値以下になっても廃液がヒドラジンを分解終了設定値以上含んでいる場合には、廃液を、循環配管35を通して循環させる。このヒドラジンは、過酸化水素が供給される分解装置64で分解される。廃液に含まれるヒドラジンの濃度が分析下限とみなせる設定値以下になったとき、廃液に含まれる薬剤の分解処理が終了し、循環ポンプ32,48を停止させる。   However, when the pH of the waste liquid is set within a permissible range at the time of formic acid decomposition, that is, for example, when the pH is a value close to 10, even if the formic acid concentration falls below the set value, it is included in the waste liquid. The concentration of hydrazine to be exceeded may exceed the above-mentioned decomposition end setting value. As described above, even when the formic acid concentration becomes equal to or lower than the set value, if the waste liquid contains hydrazine at the decomposition end set value or more, the waste liquid is circulated through the circulation pipe 35. This hydrazine is decomposed by a decomposition apparatus 64 to which hydrogen peroxide is supplied. When the concentration of hydrazine contained in the waste liquid falls below a set value that can be regarded as the lower limit of analysis, the decomposition process of the chemical contained in the waste liquid ends, and the circulation pumps 32 and 48 are stopped.

廃液に含まれるギ酸濃度が設定値以下になりヒドラジンの分解が開始された後においては、薬剤タンク40から循環配管35内へのヒドラジンの注入が停止されている。分解によりヒドラジン濃度が低下するが、廃液のギ酸濃度が設定値以下になっているため、この廃液が再循環系配管22の内面に形成されているフェライト皮膜と接触してもその皮膜が溶解されることはない。   After the concentration of formic acid contained in the waste liquid falls below the set value and hydrazine decomposition starts, injection of hydrazine from the chemical tank 40 into the circulation pipe 35 is stopped. Although the hydrazine concentration decreases due to decomposition, since the formic acid concentration of the waste liquid is below the set value, even if this waste liquid comes into contact with the ferrite film formed on the inner surface of the recirculation system pipe 22, the film is dissolved. Never happen.

本実施例は、有機酸の分解中に廃液のpHを4以上に維持できるので皮膜形成対象箇所、例えば再循環系配管22の内面に形成されたフェライト皮膜の溶解を抑制することができる。有機酸の分解中に廃液に含まれる鉄(II)イオンをカチオン交換樹脂で除去するため、全ての鉄(II)イオンが粒子化されてフィルタで除去できるようになることを待つ必要がない。本実施例は、鉄(II)イオンの除去と有機酸の分解除去が一緒にできるため、フェライト皮膜形成後に発生する使用済の皮膜形成水溶液、すなわち、廃液の処理時間を著しく短縮することができる。   In this embodiment, since the pH of the waste liquid can be maintained at 4 or more during the decomposition of the organic acid, dissolution of the ferrite film formed on the film formation target site, for example, the inner surface of the recirculation system pipe 22 can be suppressed. Since the iron (II) ions contained in the waste liquid are removed by the cation exchange resin during the decomposition of the organic acid, it is not necessary to wait for all the iron (II) ions to be particulated and removed by the filter. In this embodiment, since the removal of iron (II) ions and the decomposition and removal of organic acid can be performed together, it is possible to significantly reduce the treatment time of the used film-forming aqueous solution generated after the ferrite film formation, that is, the waste liquid. .

また、本実施例によれば、皮膜形成対象である構成部材(例えば、再循環系配管22)の冷却水と接触する面に付着している酸化皮膜を含む汚染物を除去した後に、その面にフェライト皮膜を形成しているため、その面にフェライト皮膜を、直接、形成することができる。したがって、その面への放射性核種の付着を効果的に抑制することができる。また、ギ酸及びヒドラジンの分解処理が完了した後、廃液を、フィルタ51及び混床樹脂塔62に通過させて排水している。このため、使用済のイオン交換樹脂であるの廃棄物の量を低減することができる。   In addition, according to the present embodiment, after removing contaminants including an oxide film adhering to the surface of the constituent member (for example, the recirculation system pipe 22) that is the target of film formation, which contacts the cooling water, Since the ferrite film is formed on the surface, the ferrite film can be directly formed on the surface. Therefore, the attachment of the radionuclide to the surface can be effectively suppressed. Further, after the decomposition treatment of formic acid and hydrazine is completed, the waste liquid is passed through the filter 51 and the mixed bed resin tower 62 and drained. For this reason, the amount of waste, which is a used ion exchange resin, can be reduced.

本実施例は、還元除染で使用するシュウ酸の分解、フェライト皮膜の形成及び皮膜形成水溶液の廃液の処理において酸化剤を用い、還元除染、フェライト皮膜の形成及び皮膜形成水溶液の廃液の処理においてpH調整剤を用い、還元除染で使用するシュウ酸の分解及び皮膜形成水溶液のギ酸の分解において分解装置64を用いている。このため、酸化剤タンク、pH調整剤タンク及び分解装置64を、化学除染及びフェライト皮膜形成(廃液の処理を含む)で共用することができ、装置構成を単純化することができる。フェライト皮膜の形成及び皮膜形成水溶液の廃液の処理において用いる酸化剤としては、過酸化水素以外に酸素及びオゾンのいずれかを用いてもよい。   This example uses an oxidizing agent in the decomposition of oxalic acid used in reductive decontamination, the formation of ferrite film and the treatment of the waste liquid of the film formation aqueous solution, the reduction decontamination, the formation of ferrite film and the treatment of the waste liquid of the film formation aqueous solution. In Example 1, a pH adjuster is used, and a decomposition apparatus 64 is used in decomposition of oxalic acid used in reductive decontamination and decomposition of formic acid in a film-forming aqueous solution. For this reason, the oxidant tank, the pH adjuster tank, and the decomposition apparatus 64 can be shared for chemical decontamination and ferrite film formation (including treatment of waste liquid), and the apparatus configuration can be simplified. As the oxidizing agent used in the formation of the ferrite film and the treatment of the waste liquid of the film-forming aqueous solution, oxygen or ozone may be used in addition to hydrogen peroxide.

ギ酸の替りにマロン酸、ジグリゴール酸及びシュウ酸のいずれか1つを用いた場合にも、ギ酸の場合と同様な効果を得ることができる。   Even when any one of malonic acid, diglycolic acid and oxalic acid is used instead of formic acid, the same effect as in the case of formic acid can be obtained.

鉄を炭酸で溶解して鉄(II)イオンを作成し、薬剤タンク45から鉄(II)イオンを含み炭酸が溶解した薬剤を、フェライト皮膜形成時において循環配管35内を流れる皮膜形成水溶液に注入した場合には、ステップS6で廃液に含まれる鉄(II)イオンを除去した段階で、廃液から炭酸を除去する。この炭酸の除去は、例えば、サージタンク31内で廃液中に窒素をバブリングすることによって行われる。窒素を廃液中にバブリングすることによって、廃液に溶解している炭酸がガス状となるので、炭酸を廃液から容易に分離することができる。廃液に含まれるヒドラジンの分解は、ステップS7で行われる。   Iron is dissolved in carbonic acid to create iron (II) ions, and the chemicals containing carbonic acid and iron (II) ions are injected from the drug tank 45 into the film-forming aqueous solution flowing in the circulation pipe 35 during the formation of the ferrite film. If so, the carbonic acid is removed from the waste liquid at the stage where the iron (II) ions contained in the waste liquid are removed in step S6. This removal of carbonic acid is performed, for example, by bubbling nitrogen into the waste liquid in the surge tank 31. By bubbling nitrogen into the waste liquid, the carbonic acid dissolved in the waste liquid becomes gaseous, so that the carbonic acid can be easily separated from the waste liquid. Decomposition of hydrazine contained in the waste liquid is performed in step S7.

なお、薬剤タンク45に充填される薬剤の温度が低い場合、例えば、その薬剤の温度が90℃と低い場合には、炭酸が薬剤に溶解しないので、この薬剤を注入する皮膜形成水溶液に溶解した炭酸が含まれていることはない。したがって、この場合には、上記した窒素のバブリングによる炭酸の分離を行う必要がなくなる。   In addition, when the temperature of the chemical | medical agent with which the chemical | medical agent tank 45 is filled is low, for example, when the temperature of the chemical | medical agent is as low as 90 degreeC, since carbonic acid does not melt | dissolve in a chemical | medical agent, it melt | dissolved in the film formation aqueous solution which inject | pours this chemical | medical agent. It does not contain carbonic acid. Therefore, in this case, it is not necessary to perform carbonic acid separation by nitrogen bubbling.

以上に述べたフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法の各実施例は、金属部材の、冷却水に接する表面へのフェライト皮膜の形成も含めて、BWRプラントのみならず、加圧水型原子力発電プラントにも適用することができる。   Each example of the method for treating a solution after forming a ferrite film as described above includes not only a BWR plant but also a pressurized water nuclear power plant including the formation of a ferrite film on the surface of a metal member in contact with cooling water. Can also be applied.

本発明の好適な一実施例である実施例1のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the processing method of the solution after the ferrite film formation of Example 1 which is one suitable Example of this invention. 分解装置におけるギ酸とヒドラジンの分解率の関係について説明した図である。It is a figure explaining the relationship between the decomposition rate of formic acid and hydrazine in a decomposition apparatus. 鉄−水系における鉄化合物の形態を電位とpHの関係で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented the form of the iron compound in an iron-water system by the relationship between an electric potential and pH. 分解時のpH下限値と皮膜の重量変化の関係を示した図である。It is the figure which showed the relationship between the pH lower limit at the time of decomposition | disassembly, and the weight change of a membrane | film | coat. 図1に示す溶液の処理方法に用いられる皮膜形成装置を接続したBWRプラントの構成図である。It is a block diagram of the BWR plant which connected the film forming apparatus used for the processing method of the solution shown in FIG. 図5に示す皮膜形成装置の詳細な構成図である。It is a detailed block diagram of the film formation apparatus shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1…原子炉、12…原子炉圧力容器、20…浄化系配管、21…再循環ポンプ、22…再循環系配管、30…皮膜形成装置、31…サージタンク、32、48…循環ポンプ、35…循環配管、39、43、44…注入ポンプ、40、45、46…薬液タンク、51…フィルタ、53…加熱器、60…カチオン交換樹脂塔、62…混床樹脂塔、64…分解装置、79…pH計、81…pH制御装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Reactor, 12 ... Reactor pressure vessel, 20 ... Purification system piping, 21 ... Recirculation pump, 22 ... Recirculation system piping, 30 ... Film formation apparatus, 31 ... Surge tank, 32, 48 ... Circulation pump, 35 ... circulation piping, 39, 43, 44 ... injection pump, 40, 45, 46 ... chemical tank, 51 ... filter, 53 ... heater, 60 ... cation exchange resin tower, 62 ... mixed bed resin tower, 64 ... decomposition apparatus, 79 ... pH meter, 81 ... pH control device.

Claims (12)

プラントを構成する金属部材の表面へのフェライト皮膜の形成に用いられて鉄(II)イオン、有機酸、及びpH調整剤を含んでいる溶液を処理する方法であって、
前記溶液を処理する際に、pH調整剤を用いて前記溶液のpHを4以上10以下に調整し、前記溶液に含まれている前記鉄(II)イオンをカチオン交換樹脂で除去し、この鉄(II)イオンの除去と並行して、前記溶液に含まれている有機酸を分解することを特徴とするフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。
A method for treating a solution containing iron (II) ions, an organic acid, and a pH adjuster used for forming a ferrite film on the surface of a metal member constituting a plant,
When processing the solution, the pH of the solution is adjusted to 4 or more and 10 or less using a pH adjuster, and the iron (II) ions contained in the solution are removed with a cation exchange resin. (II) A method for treating a solution after the formation of a ferrite film, wherein the organic acid contained in the solution is decomposed in parallel with the removal of ions.
前記溶液のpHを4以上7以下にする請求項1に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The method for treating a solution after forming a ferrite film according to claim 1, wherein the pH of the solution is 4 or more and 7 or less. 前記鉄(II)イオン及び前記有機酸の分解が、前記溶液に含まれる固形物の除去の後に行われる請求項1または請求項2に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The method for treating a solution after the formation of a ferrite film according to claim 1 or 2, wherein the decomposition of the iron (II) ions and the organic acid is performed after removal of solid substances contained in the solution. 前記固形物の除去はフィルタ装置を用いて行われる請求項3に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The method for treating a solution after forming a ferrite film according to claim 3, wherein the solid matter is removed using a filter device. 前記pH調整剤が前記カチオン交換樹脂で除去される請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The processing method of the solution after the ferrite film formation of any one of Claim 1 thru | or 3 with which the said pH adjuster is removed with the said cation exchange resin. 前記pH調整剤が分解される請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The processing method of the solution after the ferrite film formation according to any one of claims 1 to 3, wherein the pH adjuster is decomposed. 前記分解は、触媒を有し、酸化剤が供給される分解装置で行われる請求項1ないし請求項3及び請求項6のいずれか1項に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The method for treating a solution after forming a ferrite film according to any one of claims 1 to 3 and claim 6, wherein the decomposition is performed in a decomposition apparatus having a catalyst and supplied with an oxidizing agent. 前記フェライト皮膜の形成前における前記金属部材の前記表面の化学除染に使用された除染液内の有機酸の分解に用いられた分解装置を、前記分解装置として用いる請求項7に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The ferrite according to claim 7, wherein a decomposition apparatus used for decomposing an organic acid in a decontamination solution used for chemical decontamination of the surface of the metal member before the formation of the ferrite film is used as the decomposition apparatus. Solution processing method after film formation. 前記酸化剤は前記フェライト皮膜形成時に用いる酸化剤を使用し、前記溶液の処理時にこの溶液のpHを調製する前記pH調整剤は、前記フェライト皮膜形成時に用いるpH調整剤を使用する請求項7に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The said oxidizing agent uses the oxidizing agent used at the time of the said ferrite film formation, The said pH adjuster which adjusts the pH of this solution at the time of the process of the said solution uses the pH adjusting agent used at the time of the said ferrite film formation. The processing method of the solution after the ferrite film formation of description. 前記酸化剤は過酸化水素、酸素及びオゾンのいずれか一つである請求項7または請求項9に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The method for treating a solution after forming a ferrite film according to claim 7 or 9, wherein the oxidizing agent is any one of hydrogen peroxide, oxygen, and ozone. 前記pH調整剤はヒドラジンである請求項1ないし請求項10のいずれか1項に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The method for treating a solution after forming a ferrite film according to any one of claims 1 to 10, wherein the pH adjuster is hydrazine. 前記溶液のpHを5以上7以下にする請求項1に記載のフェライト皮膜形成後における溶液の処理方法。   The method for treating a solution after forming a ferrite film according to claim 1, wherein the pH of the solution is 5 or more and 7 or less.
JP2007153022A 2007-06-08 2007-06-08 Method for treating solution after formation of ferrite film Active JP4771994B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007153022A JP4771994B2 (en) 2007-06-08 2007-06-08 Method for treating solution after formation of ferrite film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007153022A JP4771994B2 (en) 2007-06-08 2007-06-08 Method for treating solution after formation of ferrite film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008304388A true JP2008304388A (en) 2008-12-18
JP4771994B2 JP4771994B2 (en) 2011-09-14

Family

ID=40233235

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007153022A Active JP4771994B2 (en) 2007-06-08 2007-06-08 Method for treating solution after formation of ferrite film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4771994B2 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5879196A (en) * 1981-11-06 1983-05-12 東京電力株式会社 Method of controlling radioactive ion adhesion
JPS6295498A (en) * 1985-10-23 1987-05-01 株式会社日立製作所 Constitutional member of nuclear power plant
JP2006038483A (en) * 2004-07-22 2006-02-09 Hitachi Ltd Method of restraining radionuclide from being deposited onto nuclear power plant constitutive member, and film forming device
JP2006162522A (en) * 2004-12-09 2006-06-22 Toshiba Corp Nuclear power plant, anticorrosion coating film forming method therefor, and nuclear reactor operation method
JP2007024644A (en) * 2005-07-14 2007-02-01 Hitachi Ltd Adhesion control method of radionuclide on component member of nuclear power plant and film forming method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5879196A (en) * 1981-11-06 1983-05-12 東京電力株式会社 Method of controlling radioactive ion adhesion
JPS6295498A (en) * 1985-10-23 1987-05-01 株式会社日立製作所 Constitutional member of nuclear power plant
JP2006038483A (en) * 2004-07-22 2006-02-09 Hitachi Ltd Method of restraining radionuclide from being deposited onto nuclear power plant constitutive member, and film forming device
JP2006162522A (en) * 2004-12-09 2006-06-22 Toshiba Corp Nuclear power plant, anticorrosion coating film forming method therefor, and nuclear reactor operation method
JP2007024644A (en) * 2005-07-14 2007-02-01 Hitachi Ltd Adhesion control method of radionuclide on component member of nuclear power plant and film forming method

Also Published As

Publication number Publication date
JP4771994B2 (en) 2011-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7889828B2 (en) Suppression method of radionuclide deposition on reactor component of nuclear power plant and ferrite film formation apparatus
JP2007024644A (en) Adhesion control method of radionuclide on component member of nuclear power plant and film forming method
JP4538022B2 (en) Method for suppressing radionuclide adhesion to nuclear plant components and ferrite film forming apparatus
JP4567765B2 (en) Radionuclide adhesion suppression method and film forming apparatus for nuclear plant components
JP2012247322A (en) Method for forming platinum film on plant component
JP2007192672A (en) Method and device for forming ferrite coating film on surface of carbon steel member in nuclear power plant
JP2011247651A (en) Ferrite film formation method to plant configuration member
JP3972050B1 (en) Method for treating solution after formation of ferrite film
JP5500958B2 (en) Method for forming ferrite film on nuclear member, method for suppressing progress of stress corrosion cracking, and ferrite film forming apparatus
JP5420472B2 (en) Method for forming ferrite film on plant components
JP5377147B2 (en) Method of forming nickel ferrite film on carbon steel member
JP2008180740A (en) Nuclear power plant constitutive member
JP2009210307A (en) Adhesion suppression method of radioactive nuclide on nuclear power plant constituting member, and ferrite film forming device
JP2010276490A (en) Method and device for forming ferrite coating on member which constitutes nuclear power plant
JP7344132B2 (en) Method of adhering precious metals to carbon steel members of a nuclear power plant and method of suppressing adhesion of radionuclides to carbon steel members of a nuclear power plant
JP6322493B2 (en) Method for suppressing radionuclide adhesion to carbon steel components in nuclear power plants
JP4861252B2 (en) Chemical decontamination method before reactor demolition
JP4771994B2 (en) Method for treating solution after formation of ferrite film
JP2011149764A (en) Method for reducing dose of nuclear power plant component member
JP2017138139A (en) Chemical decontamination method, chemical decontamination device, and nuclear power plant using them
JP6751010B2 (en) Method for forming radioactive substance adhesion suppression film
JP4945487B2 (en) Method and apparatus for forming ferrite film on carbon steel member
JP4959196B2 (en) Nuclear power plant replacement member and nuclear power plant member handling method
JP6894862B2 (en) Method for suppressing radionuclide adhesion to carbon steel components of nuclear power plants
TWI825540B (en) Chemical decontamination methods and chemical decontamination devices

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090513

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100819

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100831

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101029

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110524

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110621

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140701

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4771994

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150