JP2008291136A - Molding for optical material - Google Patents

Molding for optical material Download PDF

Info

Publication number
JP2008291136A
JP2008291136A JP2007138909A JP2007138909A JP2008291136A JP 2008291136 A JP2008291136 A JP 2008291136A JP 2007138909 A JP2007138909 A JP 2007138909A JP 2007138909 A JP2007138909 A JP 2007138909A JP 2008291136 A JP2008291136 A JP 2008291136A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mass
less
optical material
molded article
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007138909A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Watabe
真大 渡部
Fumiki Murakami
史樹 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Chemicals Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Chemicals Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Chemicals Corp filed Critical Asahi Kasei Chemicals Corp
Priority to JP2007138909A priority Critical patent/JP2008291136A/en
Publication of JP2008291136A publication Critical patent/JP2008291136A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polarising Elements (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molding for an optical material having a low absolute value of photo-elastic coefficient and excellent in molding stability, when used for a liquid crystal display or the like. <P>SOLUTION: This molding for the optical material is formulated at a specified ratio of wt.% with a resin composition containing (a) 100 pts.wt. of acrylic resin comprising 25 wt.% or more-85 wt.% or less of acrylic compound, 10 wt.% or more-50 wt.% or less of aromatic vinyl compound, and 5 wt.% or more-25 wt.% or less of six-membered ring acid anhydride, (b) 0.1 pt.wt. or more-10 pts.wt. or less of ultraviolet absorber, and (c) 0.1 pt.wt. or more-10 pts.wt. or less of thermal stabilizer. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学特性に優れた光学材料用成形体に関する。   The present invention relates to a molded article for an optical material having excellent optical characteristics.

最近、ディスプレイ市場の拡大に伴い、より画像を鮮明に見たいという要求が高まっており、単なる透明材料ではなく、より高度な光学特性が付与された光学材料が求められている。
現在、表示素子として広く用いられている液晶ディスプレイにおいては、液晶を構成する液晶素子や偏光板を構成する偏光子が紫外線により劣化するため、液晶や偏光板近傍に用いられる光学フィルムには紫外線吸収能が要求される。また、高分子は分子主鎖方向とそれに垂直方向とで屈折率が異なるために複屈折を生じる。用途によっては、この複屈折を厳密にコントロールすることが求められており、液晶の偏光板に用いられる保護フィルムの場合は、全光線透過率が同じであっても複屈折がより小さい高分子材料成形体が必要とされる。この用途ではセルローストリアセテート、ポリ乳酸のフィルムを偏光板保護フィルムに検討した例が知られており(特許文献1参照)、セルローストリアセテートが代表的な材料として挙げられる。一方、液晶ディスプレイにおいて偏光板により偏光された光を円偏光にかえる機能を持つ1/4波長板等の位相差フィルムには、高分子材料成形体に意識的に複屈折を生じさせることで機能を付与しており、ポリカーボネート等が代表的な材料として挙げられる。
Recently, with the expansion of the display market, there is an increasing demand for clearer images, and there is a demand for optical materials with higher optical properties than simple transparent materials.
Currently, in liquid crystal displays that are widely used as display elements, the liquid crystal elements that make up liquid crystals and the polarizers that make up polarizing plates are deteriorated by ultraviolet rays. Performance is required. In addition, the polymer has birefringence because the refractive index differs between the molecular main chain direction and the direction perpendicular thereto. Depending on the application, it is required to strictly control this birefringence. In the case of a protective film used for a polarizing plate of a liquid crystal, a polymer material having a smaller birefringence even if the total light transmittance is the same. A molded body is required. In this application, an example in which a film of cellulose triacetate or polylactic acid is studied as a polarizing plate protective film is known (see Patent Document 1), and cellulose triacetate is a representative material. On the other hand, a retardation film such as a quarter-wave plate having a function of converting light polarized by a polarizing plate into circularly polarized light in a liquid crystal display functions by consciously generating birefringence in a polymer material molded body. As a typical material, polycarbonate or the like can be given.

近年、液晶ディスプレイの大型化に伴い、それに必要な高分子光学材料成形品が大型化するにつれて、外力の偏りによって生じる複屈折の分布を小さくするために、外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さい材料が求められている。しかし、現在光学フィルムとして一般的に用いられているセルロースアセテートやポリカーボネートは、光弾性係数が大きくこれらの要求に対しては満足のゆくものではない。   In recent years, with the increase in size of liquid crystal displays, the required size of polymer optical material moldings has increased. In order to reduce the distribution of birefringence caused by bias of external force, the change in birefringence due to external force, that is, photoelasticity A material with a small coefficient is required. However, cellulose acetate and polycarbonate that are generally used as optical films at present have a large photoelastic coefficient and are not satisfactory for these requirements.

そこでこれらに代わる光弾性係数の小さい複屈折性光学材料が切望されている。アクリル系樹脂に添加剤を併用し光学特性を制御した技術として、グルタル酸無水物単位を含有するガラス転移温度が120℃以上のアクリル系樹脂に低分子化合物を添加し複屈折を制御したことが示されている(特許文献2参照)。しかし、光弾性係数については示唆されておらず、光弾性係数の絶対値が小さく、さらなる成形加工性が向上した光学材料が求められている。   Therefore, a birefringent optical material having a small photoelastic coefficient instead of these is desired. As a technique for controlling optical properties by using an additive in combination with an acrylic resin, a birefringence was controlled by adding a low molecular weight compound to an acrylic resin containing a glutaric anhydride unit and having a glass transition temperature of 120 ° C. or higher. It is shown (refer patent document 2). However, the photoelastic coefficient is not suggested, and there is a demand for an optical material having a small absolute value of the photoelastic coefficient and further improved moldability.

特開2002−82223号公報JP 2002-82223 A 特開2006−241197号公報JP 2006-241197 A

本発明は、光弾性係数の絶対値が小さく、成形安定性に優れる光学材料用成形体及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a molded article for an optical material having a small absolute value of a photoelastic coefficient and excellent molding stability, and a method for producing the same.

本発明者らは前記課題に対して鋭意検討を行った結果、特定の組成比からなるアクリル系樹脂(a)と紫外線吸収剤(b)及び熱安定性剤(c)とを含む樹脂組成物を、特定の割合で配合して製造することにより、光弾性係数の絶対値が小さく、成形安定性に優れた光学材料用成形体を提供できることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have found that a resin composition containing an acrylic resin (a) having a specific composition ratio, an ultraviolet absorber (b) and a heat stabilizer (c). It was found that by blending and producing at a specific ratio, the optical material has a small absolute value of the photoelastic coefficient and can provide a molded article for optical material having excellent molding stability, and the present invention has been completed.

即ち本発明は、
(1)アクリル系化合物単位25質量%以上85質量%以下、芳香族ビニル系化合物単位10質量%以上50質量%以下、六員環酸無水物単位5質量%以上25質量%以下からなるアクリル系樹脂(a)と、
紫外線吸収剤(b)及び熱安定剤(c)と、を含む樹脂組成物からなる少なくとも一方向に延伸された光学材料用成形体であって、
前記アクリル系樹脂(a)100質量部に対して、前記紫外線吸収剤(b)が0.1質量部以上10質量部以下、及び前記熱安定剤(c)が0.1質量部以上10質量部以下である光学材料用成形体
(2)前記六員環酸無水物単位が、式[1]で表される六員環酸無水物単位である(1)に記載の光学材料用成形体
式[1]

Figure 2008291136
(式中、R1、R2は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表す。)
(3)光弾性係数の絶対値が3.0×10-12/Pa以下である(1)又は(2)に記載の光学材料用成形体
(4)前記紫外線吸収剤(b)がベンゾトリアゾール系化合物又はベンゾトリアジン系化合物であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の光学材料用成形体
(5)前記熱安定剤(c)がヒンダードフェノール系酸化防止剤又はリン系加工安定剤である(1)〜(4)のいずれかに記載の光学材料用成形体
(6)少なくとも一方向の延伸倍率が0.1%以上300%以下である(1)〜(5)のいずれかに記載の光学材料用成形体
(7)(1)〜(6)のいずれかに記載の光学材料用成形体からなる偏光板保護フィルム
(8)(1)〜(6)のいずれかに記載の光学材料用成形体からなる位相差フィルム
(9)アクリル系化合物単位25質量%以上85質量%以下、芳香族ビニル系化合物単位10質量%以上50質量%以下、六員環酸無水物単位5質量%以上25質量%以下からなるアクリル系樹脂(a)に、紫外線吸収剤(b)及び熱安定剤(c)を添加し、樹脂組成物を得る工程と、
前記樹脂組成物を、少なくとも一方向に延伸させる工程と、を含む光学材料用成形体の製造方法であって、
前記アクリル系樹脂(a)100質量部に対して、前記紫外線吸収剤(b)が0.1質量部以上10質量部以下、及び前記熱安定剤(c)が0.1質量部以上10質量部以下である製造方法
を提供する。 That is, the present invention
(1) Acrylic compound unit comprising 25% by mass or more and 85% by mass or less of an acrylic compound unit, 10% by mass or more and 50% by mass or less of an aromatic vinyl compound unit, and 5% by mass or more and 25% by mass or less of a six-membered cyclic acid anhydride unit. Resin (a);
A molded article for an optical material, stretched in at least one direction, comprising a resin composition comprising an ultraviolet absorber (b) and a heat stabilizer (c),
The ultraviolet absorber (b) is 0.1 to 10 parts by mass and the thermal stabilizer (c) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin (a). The molded article for optical material according to (1), wherein the six-membered cyclic acid anhydride unit is a six-membered cyclic acid anhydride unit represented by the formula [1]. Formula [1]
Figure 2008291136
(In formula, R < 1 >, R < 2 > represents a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group each independently.)
(3) The molded article for optical material according to (1) or (2), wherein the absolute value of the photoelastic coefficient is 3.0 × 10 −12 / Pa or less (4) The ultraviolet absorber (b) is benzotriazole (5) The molded article for an optical material according to any one of (1) to (3), wherein the heat stabilizer (c) is a hindered phenol antioxidant Or the molded object for optical materials according to any one of (1) to (4), which is a phosphorus-based processing stabilizer (6) The stretch ratio in at least one direction is 0.1% to 300% (1) to (5) Polarized material protective film (8) (1)-(6) which consists of a molded object for optical materials in any one of (7) (1)-(6). ) Retardation film comprising the molded article for optical material according to any one of (9) Acrylic Acrylic resin (a) comprising 25% by mass to 85% by mass of compound unit, 10% by mass to 50% by mass of aromatic vinyl compound unit, and 5% by mass to 25% by mass of 6-membered cyclic acid anhydride unit. A step of adding a UV absorber (b) and a heat stabilizer (c) to obtain a resin composition;
Stretching the resin composition in at least one direction, and a method for producing a molded article for an optical material,
The ultraviolet absorber (b) is 0.1 to 10 parts by mass and the thermal stabilizer (c) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin (a). A manufacturing method is provided.

本発明により、光弾性係数の絶対値が小さく、成形安定性に優れた光学材料用成形体を提供することができる。
また、液晶表示装置等に用いた場合、光弾性係数の絶対値が小さいために色再現性、画面の均一性、コントラストに優れる光学材料用成形体を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a molded article for an optical material having a small absolute value of a photoelastic coefficient and excellent molding stability.
Further, when used in a liquid crystal display device or the like, since the absolute value of the photoelastic coefficient is small, it is possible to provide a molded article for an optical material that is excellent in color reproducibility, screen uniformity, and contrast.

以下、本発明を、望ましい実施の形態とともに詳細に説明するが、本発明はこれらの態様に限定されるものではない。   Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail with desirable embodiment, this invention is not limited to these aspects.

本発明の光学材料用成形体は、アクリル系樹脂(a)と、紫外線吸収剤(b)及び熱安定剤(c)とを含む樹脂組成物からなる少なくとも一方向に延伸された光学材料用成形体である。   The molded article for an optical material of the present invention is a molded article for an optical material stretched in at least one direction comprising a resin composition containing an acrylic resin (a), an ultraviolet absorber (b) and a heat stabilizer (c). Is the body.

本発明で用いるアクリル系樹脂(a)は、アクリル系化合物単位と芳香族ビニル系化合物単位、六員環酸無水物単位からなる共重合体である。   The acrylic resin (a) used in the present invention is a copolymer comprising an acrylic compound unit, an aromatic vinyl compound unit, and a six-membered cyclic acid anhydride unit.

アクリル系化合物単位としては、メタクリル系単量体やアクリル系単量体等に由来する単位が挙げられ、メタクリル系単量体やアクリル系単量体((メタ)アクリル系単量体)としては、メタクリル酸、アクリル酸、及びこれらの誘導体をいい、好ましくはメタクリル酸、メタクリル酸エステル及びアクリル酸エステルである。   Examples of acrylic compound units include units derived from methacrylic monomers and acrylic monomers, and as methacrylic monomers and acrylic monomers ((meth) acrylic monomers) Methacrylic acid, acrylic acid and derivatives thereof, preferably methacrylic acid, methacrylic acid ester and acrylic acid ester.

メタクリル酸エステルの具体例としては、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸t−ブチルシクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、及びメタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル等が挙げられ、代表的なものはメタクリル酸メチルである。   Specific examples of the methacrylic acid ester include butyl methacrylate, ethyl methacrylate, methyl methacrylate, propyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, t-butylcyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, And 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate and the like, and a typical one is methyl methacrylate.

アクリル酸エステルの具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、及びアクリル酸フェニル等が挙げられる。   Specific examples of the acrylate ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isopropyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and phenyl acrylate.

上記(メタ)アクリル系単量体は一種又は二種以上組み合わせて使用することもできる。   The (meth) acrylic monomers can be used alone or in combination of two or more.

メタクリル酸を含有する場合は、アクリル系樹脂(a)中2質量%以上20質量%以下が好ましく、2質量%以上15質量%以下がより好ましく、3質量%以上10質量%以下がさらに好ましい。   When it contains methacrylic acid, it is preferably 2% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 15% by mass or less, and further preferably 3% by mass or more and 10% by mass or less in the acrylic resin (a).

芳香族ビニル系化合物単位としては、スチレン系化合物単量体やイソプロペニルベンゼン系化合物単量体等に由来する単位が挙げられる。   Examples of the aromatic vinyl compound unit include units derived from a styrene compound monomer, an isopropenylbenzene compound monomer, and the like.

スチレン系化合物単量体の具体例としては、スチレンの他、例えば、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、3,4−ジメチルスチレン、3,5−ジメチルスチレン、p−エチルスチレン、m−エチルスチレン、о−エチルスチレン、及びp−tert−ブチルスチレン等のアルキル置換スチレン類等;1,1−ジフェニルエチレン等が挙げられ、代表的なものはスチレンである。   Specific examples of the styrene compound monomer include, in addition to styrene, for example, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 3,4 -Alkyl-substituted styrenes such as dimethyl styrene, 3,5-dimethyl styrene, p-ethyl styrene, m-ethyl styrene, о-ethyl styrene, and p-tert-butyl styrene; 1,1-diphenylethylene and the like A typical one is styrene.

イソプロペニルベンゼン系化合物単量体の具体例としては、例えば、イソプロペニルベンセン(α−メチルスチレン)、イソプロペニルトルエン、イソプロペニルエチルベンゼン、イソプロペニルプロピルベンゼン、イソプロペニルブチルベンゼン、イソプロペニルペンチルベンゼン、イソプロペニルヘキシルベンゼン、及びイソプロペニルオクチルベンゼン等のアルキル置換イソプロペニルベンゼン類等が挙げられ、代表的なものはイソプロペニルベンゼンである。   Specific examples of the isopropenylbenzene compound monomer include, for example, isopropenylbenzene (α-methylstyrene), isopropenyltoluene, isopropenylethylbenzene, isopropenylpropylbenzene, isopropenylbutylbenzene, isopropenylpentylbenzene, Examples thereof include alkyl-substituted isopropenylbenzenes such as propenylhexylbenzene and isopropenyloctylbenzene, and a typical one is isopropenylbenzene.

上記スチレン系化合物単量体やイソプロペニルベンゼン系化合物単量体等は、一種又は二種以上組み合わせて使用することもできる。   The above styrene compound monomers and isopropenyl benzene compound monomers can be used alone or in combination of two or more.

六員環酸無水物単位としては、その構造中に五又は六員環を有する単位であればいかなる単位であってもよく、不飽和カルボン酸単量体及び、必要に応じて不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体の分子内又は分子間環化反応によって得られる化合物等に由来する単位が挙げられる。六員環構造の酸無水物単位を生成するための不飽和カルボン酸単量体の具体例としては、例えば、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、及び桂皮酸等が挙げられ、不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体の具体例としては、例えば、メタクリル酸メチル及びアクリル酸メチル等が挙げられる。
上記不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体は一種又は二種以上組み合わせて使用することもできる。
The 6-membered cyclic acid anhydride unit may be any unit as long as it has a 5- or 6-membered ring in its structure, and may be an unsaturated carboxylic acid monomer and, if necessary, an unsaturated carboxylic acid. Examples include units derived from compounds obtained by intramolecular or intermolecular cyclization of alkyl ester monomers. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid monomer for producing a six-membered ring acid anhydride unit include, for example, methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and cinnamic acid. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid alkyl ester monomer include, for example, methyl methacrylate and methyl acrylate.
The unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic acid alkyl ester monomer may be used alone or in combination of two or more.

六員環酸無水物単位としては、式[1]で表される六員環酸無水物単位であることが好ましい。
式[1]

Figure 2008291136
(式中、R1、R2は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表す。) The six-membered cyclic acid anhydride unit is preferably a six-membered cyclic acid anhydride unit represented by the formula [1].
Formula [1]
Figure 2008291136
(In formula, R < 1 >, R < 2 > represents a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group each independently.)

耐熱性、光弾性係数の観点から、アクリル系樹脂(a)中のアクリル系化合物単位が25質量%以上85質量%以下、芳香族ビニル系化合物単位が10質量%以上50質量%以下、六員環酸無水物単位が5質量%以上25質量%以下である。
好ましくは、アクリル系樹脂(a)中のアクリル系化合物単位が40質量%以上75質量%以下、芳香族ビニル系化合物単位が15質量%以上40質量%以下、六員環酸無水物単位が10質量%以上20質量%以下であり、より好ましくは、アクリル系樹脂(a)中のアクリル系化合物単位が45質量%以上68質量%以下、芳香族ビニル系化合物単位が20質量%以上37質量%以下、六員環酸無水物単位が12質量%以上18質量%以下である。
From the viewpoints of heat resistance and photoelastic coefficient, the acrylic compound unit in the acrylic resin (a) is 25% by mass to 85% by mass, the aromatic vinyl compound unit is 10% by mass to 50% by mass, and six members. The cyclic acid anhydride unit is 5% by mass or more and 25% by mass or less.
Preferably, the acrylic compound unit in the acrylic resin (a) is 40% by mass to 75% by mass, the aromatic vinyl compound unit is 15% by mass to 40% by mass, and the six-membered cyclic acid anhydride unit is 10%. The acrylic compound unit in the acrylic resin (a) is 45% by mass to 68% by mass and the aromatic vinyl compound unit is 20% by mass to 37% by mass. Hereinafter, the 6-membered cyclic acid anhydride unit is 12% by mass or more and 18% by mass or less.

アクリル系樹脂(a)を製造する方法としては、例えばキャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、及びアニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができる。中でも、光学用途としては不都合な微小異物の混入を低減することが可能であるため、懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合や溶液重合が好ましい。
溶液重合を行う場合には、単量体の混合物をトルエン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素の溶媒に溶解して調製した溶液を用いることができる。塊状重合により重合させる場合には、通常行われるように加熱により生じる遊離ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させることができる。
As a method for producing the acrylic resin (a), generally used polymerization methods such as cast polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, and anionic polymerization can be used. Among them, bulk polymerization and solution polymerization without using a suspending agent or an emulsifier are preferable because it is possible to reduce the mixing of minute foreign matters that are inconvenient for optical applications.
When solution polymerization is performed, a solution prepared by dissolving a mixture of monomers in an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene or ethylbenzene can be used. In the case of polymerization by bulk polymerization, the polymerization can be started by irradiation with free radicals generated by heating or ionizing radiation as is usually done.

重合反応に用いられる開始剤としては、ラジカル重合において用いられる任意の開始剤を使用することができ、例えば、アゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物等;ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、及びt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物等を用いることができる。
90℃以上の高温下で重合を行う場合には、溶液重合が一般的であるので、開始剤としては、10時間半減期温度が80℃以上で、かつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤等を用いることが好ましい。具体的には、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、及び2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は、例えば、全体のモノマー100質量%に対して、0.005〜5質量%の範囲で用いることが好ましい。
As the initiator used in the polymerization reaction, any initiator used in radical polymerization can be used. For example, azo compounds such as azobisisobutylnitrile; benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, and t-butyl Organic peroxides such as peroxy-2-ethylhexanoate can be used.
When polymerization is performed at a high temperature of 90 ° C. or higher, solution polymerization is generally used. Therefore, the initiator has a 10-hour half-life temperature of 80 ° C. or higher, and is a peroxide that is soluble in the organic solvent used. It is preferable to use an azobis initiator or the like. Specifically, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, cyclohexane peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, , 1-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), 2- (carbamoylazo) isobutyronitrile, and the like. These initiators are preferably used in the range of 0.005 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the whole monomer, for example.

重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤としては、ラジカル重合において一般に用いられる任意のものが使用でき、例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、及びチオグリコール酸2−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物等が挙げられる。   As the molecular weight regulator used as necessary in the polymerization reaction, any one generally used in radical polymerization can be used, for example, mercaptan compounds such as butyl mercaptan, octyl mercaptan, dodecyl mercaptan, and 2-ethylhexyl thioglycolate. Etc.

六員環酸無水物単位を含むアクリル系樹脂(a)は、例えば、特公平02−26641号公報、特開2006−265543号公報、特開2006−274069号公報、特開2006−274071号公報、特開2006−283013号公報に記載の方法を参照して、製造することができる。
アクリル系樹脂(a)の収率・性能向上を目的として、重合条件を調整することが好ましい。このような重合条件の調整としては、例えば、重合時の熱履歴を抑えて熱的処理時間を短くすること、重合時に重合系内に存在する酸素量を低減すること、低分子量物の脱揮時の真空度を高くすること等が挙げられる。
Examples of the acrylic resin (a) containing a 6-membered cyclic acid anhydride unit include Japanese Patent Publication No. 02-26641, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-265543, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-274069, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-274071. It can be produced with reference to the method described in JP-A-2006-283013.
For the purpose of improving the yield and performance of the acrylic resin (a), it is preferable to adjust the polymerization conditions. Such polymerization conditions can be adjusted, for example, by suppressing the thermal history during polymerization to shorten the thermal treatment time, reducing the amount of oxygen present in the polymerization system during polymerization, and devolatilizing low molecular weight products. For example, increasing the degree of vacuum at the time.

アクリル系樹脂(a)は、ブロックポリマーであってもランダムポリマーであってもよく、耐熱性や剛性やリサイクル性の観点では、統計的ランダムポリマーであることが好ましい。   The acrylic resin (a) may be a block polymer or a random polymer, and is preferably a statistical random polymer from the viewpoints of heat resistance, rigidity, and recyclability.

アクリル系樹脂(a)の分子量分布範囲は、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.6〜4.0の範囲にあることが好ましい。より好ましくは、1.7〜3.7であり、さらに好ましくは1.8〜3.5の範囲である。Mw/Mnが、1.6より小さいと、樹脂のフィルム加工性と機械物性のバランスが悪くなる。一方、Mw/Mnが4.0より大きくなると、溶融流動性が悪くなり、加工性が悪くなる。
Mw/Mnの制御方法としては、例えば連続重合法により反応器内の撹拌羽根の回転数を制御することにより1.6〜2.3の範囲のアクリル系樹脂(a)を得ることができる。また、高分子量体成分を溶液又は溶融ブレンドすることによってMw/Mnを2.0〜4.0の間に制御できる。
本発明でいう重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、ポリスチレン換算によって求めた値のことである。
GPCにより測定した重量平均分子量(Mw)は、好ましくは5万〜50万、より好ましくは10〜35万、さらに好ましくは15〜30万である。重量平均分子量が50万以下のアクリル系樹脂(a)を用いることで、押出し延伸加工に十分な流動性が得られ、溶融押出、延伸成膜が大きな支障がなく行え、また重量平均分子量が5万以上のアクリル系樹脂(a)を用いることで、延伸安定性とフィルムに十分な配向度を与えることができる。
The molecular weight distribution range of the acrylic resin (a) is preferably such that the ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) is in the range of 1.6 to 4.0. More preferably, it is 1.7-3.7, More preferably, it is the range of 1.8-3.5. When Mw / Mn is smaller than 1.6, the balance between resin film processability and mechanical properties is deteriorated. On the other hand, when Mw / Mn is larger than 4.0, melt fluidity is deteriorated and workability is deteriorated.
As a method for controlling Mw / Mn, for example, acrylic resin (a) in the range of 1.6 to 2.3 can be obtained by controlling the rotation speed of the stirring blade in the reactor by a continuous polymerization method. Moreover, Mw / Mn can be controlled between 2.0-4.0 by carrying out the solution or melt blending of the high molecular weight component.
The ratio (Mw / Mn) between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) in the present invention is a value determined by gel conversion using gel permeation chromatography (GPC).
The weight average molecular weight (Mw) measured by GPC is preferably 50,000 to 500,000, more preferably 10 to 350,000, and still more preferably 150 to 300,000. By using the acrylic resin (a) having a weight average molecular weight of 500,000 or less, sufficient fluidity can be obtained for the extrusion stretching process, melt extrusion and stretching film formation can be performed without any major trouble, and the weight average molecular weight is 5 By using 10,000 or more acrylic resins (a), it is possible to give sufficient stability to the stretching stability and the film.

紫外線吸収剤(b)としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、フェノール系化合物、オキサゾール系化合物、マロン酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、ラクトン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、及びベンズオキサジノン系化合物等が挙げられ、好ましくはベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物である。これらを単独で用いても、2種以上併用して用いても構わない。   Examples of the ultraviolet absorber (b) include benzotriazole compounds, benzotriazine compounds, benzoate compounds, benzophenone compounds, oxybenzophenone compounds, phenol compounds, oxazole compounds, malonic acid ester compounds, cyanoacrylate compounds. , Lactone compounds, salicylic acid ester compounds, benzoxazinone compounds, and the like, and benzotriazole compounds and benzotriazine compounds are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

紫外線吸収剤(b)は、20℃における蒸気圧(P)が1.0×10-4Pa以下である場合に成形加工性に優れる。好ましい範囲は蒸気圧(P)が1.0×10-6Pa以下であり、より好ましい範囲は蒸気圧(P)が1.0×10-8Pa以下である。成形加工性に優れるとは、例えば、フィルム成形時に、低分子化合物のロールへの付着が少ないこと等を示す。例えば、低分子化合物がロールへ付着すると、光学材料用成形体表面へロールを介して低分子化合物が付着し、光学材料用成形体の外観、光学特性を悪化させるため、光学材料として好ましくないものとなる。
紫外線吸収剤(b)は、融点(Tm)が80℃以上である場合に成形加工性に優れる。好ましい範囲は融点(Tm)が130℃以上であり、より好ましい範囲は融点(Tm)が160℃以上である。
紫外線吸収剤(b)は、23℃から260℃まで20℃/minの速度で昇温した場合の紫外線吸収剤(b)の重量減少率が50%以下である場合に成形加工性に優れる。好ましい範囲は重量減少率が15%以下であり、より好ましい範囲は重量減少率が2%以下である。
The ultraviolet absorber (b) is excellent in moldability when the vapor pressure (P) at 20 ° C. is 1.0 × 10 −4 Pa or less. A preferable range is a vapor pressure (P) of 1.0 × 10 −6 Pa or less, and a more preferable range is a vapor pressure (P) of 1.0 × 10 −8 Pa or less. “Excellent molding processability” means, for example, that there is little adhesion of a low molecular compound to a roll during film formation. For example, when a low molecular weight compound adheres to a roll, the low molecular weight compound adheres to the surface of the molded article for optical material via the roll, which deteriorates the appearance and optical characteristics of the molded article for optical material. It becomes.
The ultraviolet absorber (b) is excellent in moldability when the melting point (Tm) is 80 ° C. or higher. A preferable range is a melting point (Tm) of 130 ° C. or higher, and a more preferable range is a melting point (Tm) of 160 ° C. or higher.
The ultraviolet absorbent (b) is excellent in moldability when the weight reduction rate of the ultraviolet absorbent (b) is 50% or less when the temperature is increased from 23 ° C. to 260 ° C. at a rate of 20 ° C./min. A preferred range is a weight reduction rate of 15% or less, and a more preferred range is a weight reduction rate of 2% or less.

本発明の光学材料用成形体は、380nmにおける分光透過率が5%以下、かつ400nmにおける分光透過率が65%以上であることが好ましい。紫外領域である380nmの分光透過率が低いほど偏光子や液晶素子の劣化を防ぎ、可視領域である400nm分光透過率が高いほど色再現性に優れるため、光学フィルムとして好ましく用いることができる。この範囲内に設計するには、紫外線吸収剤(b)の量が、アクリル系樹脂(a)100質量部に対し、0.1質量部以上10質量部以下であることが必要である。0.1質量部より多いと、380nmにおける分光透過率が小さくなり、10質量部より少ないと光弾性係数の増加が小さく、成形加工性、機械強度も向上する。紫外線吸収剤(b)の量の好ましい範囲は、0.3質量部以上8質量部以下、より好ましい範囲は0.5質量部以上5質量部以下である。
紫外線吸収剤(b)の量は、核磁気共鳴装置(NMR)によりプロトンNMRを測定し、ピークシグナルの積分値の比から求める方法や、良溶媒を用い樹脂から抽出後、ガスクロマトグラフ(GC)で測定する方法等により定量できる。
The molded article for optical material of the present invention preferably has a spectral transmittance at 380 nm of 5% or less and a spectral transmittance at 400 nm of 65% or more. The lower the spectral transmittance at 380 nm in the ultraviolet region, the lower the deterioration of the polarizer and the liquid crystal element, and the higher the 400 nm spectral transmittance in the visible region, the better the color reproducibility. Therefore, it can be preferably used as an optical film. In order to design within this range, the amount of the ultraviolet absorber (b) needs to be 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin (a). When the amount is more than 0.1 parts by mass, the spectral transmittance at 380 nm is small, and when the amount is less than 10 parts by mass, the increase in the photoelastic coefficient is small, and the moldability and mechanical strength are also improved. A preferable range of the amount of the ultraviolet absorber (b) is 0.3 part by mass or more and 8 parts by mass or less, and a more preferable range is 0.5 part by mass or more and 5 parts by mass or less.
The amount of the ultraviolet absorber (b) is determined by measuring proton NMR with a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR) and obtaining from the ratio of integral values of peak signals, or by extracting from a resin using a good solvent and then gas chromatograph (GC). It can be quantified by the method of measuring by

熱安定剤(c)としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤又はリン系加工安定剤等の酸化防止剤等が挙げられ、好ましくはヒンダードフェノール系酸化防止剤である。ヒンダードフェノール系酸化防止剤の具体例としては、ペンタエリスリトールテラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N'−ヘキサン−1,6−ジイルビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド]、3,3',3'',5,5',5''−ヘキサ−tert−ブチル−a,a',a''−(メシチレン−2,4,6−トリイル)トリ−p−クレゾール、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール、4,6−ビス(ドデシルチオメチル)−o−クレゾール、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート、ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、1,3,5−トリス[(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−キシリン)メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミン)フェノール等が挙げられ、より好ましくは、ペンタエリスリトールテラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]である。
フィルムの成形熱安定性を向上させるためには、熱安定剤(c)の量が、アクリル系樹脂(a)100質量部に対し、0.1質量部以上10質量部以下であることが必要である。0.1質量部より多いとフィルム成形時に溶融流動性が向上し成形性が安定化し、10質量部より少ないと透明性、機械的強度が安定する。熱安定剤(c)の量の好ましい範囲は、0.3質量部以上8質量部以下、より好ましい範囲は0.5質量部以上5質量部以下である。
Examples of the heat stabilizer (c) include antioxidants such as hindered phenol antioxidants or phosphorus processing stabilizers, and preferably hindered phenol antioxidants. Specific examples of the hindered phenol antioxidant include pentaerythritol terakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], thiodiethylenebis [3- (3,5- Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N′-hexane-1,6-diylbis [3 -(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionamide], 3,3 ′, 3 ″, 5,5 ′, 5 ″ -hexa-tert-butyl-a, a ′, a ''-(Mesitylene-2,4,6-triyl) tri-p-cresol, 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol, 4,6-bis (dodecylthiomethyl) -o-cresol, Ethylene bi (Oxyethylene) bis [3- (5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate, hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 3,5-tris [(4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-xylin) methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 2, , 6-di-tert-butyl-4- (4,6-bis (octylthio) -1,3,5-triazin-2-ylamine) phenol, and more preferably pentaerythritol terakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4 Is hydroxy phenyl) propionate].
In order to improve the molding thermal stability of the film, the amount of the heat stabilizer (c) needs to be 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin (a). It is. When the amount is more than 0.1 parts by mass, the melt fluidity is improved at the time of film forming and the moldability is stabilized. A preferable range of the amount of the heat stabilizer (c) is 0.3 part by mass or more and 8 parts by mass or less, and a more preferable range is 0.5 part by mass or more and 5 parts by mass or less.

本発明における「光弾性係数」とは、外力による複屈折の変化の生じやすさを表す係数で、下式により定義される。
R[/Pa]=Δn/σR
ここで、σRは伸張応力[Pa]、Δnは応力付加時の複屈折であり、Δnは下式により定義される。
Δn=n1−n2
ここで、n1は伸張方向と平行な方向の屈折率、n2は伸張方向と垂直な方向の屈折率である。
光弾性係数の値がゼロに近いほど外力による複屈折の変化が小さいことを示している。光弾性係数の絶対値は3.0×10-12/Pa以下であることが好ましく、1.0×10-12/Pa以下であることがより好ましい。光弾性係数がこの範囲内であれば、応力による複屈折の変化が少ないため、液晶表示装置等に使用した場合にコントラストや画面の均一性に優れる。本発明においては、紫外線吸収剤(b)の量と延伸倍率を好ましい範囲に設計すると、光弾性係数の絶対値を好ましい範囲に制御できる。
The “photoelastic coefficient” in the present invention is a coefficient representing the ease with which birefringence changes due to external force, and is defined by the following equation.
C R [/ Pa] = Δn / σ R
Here, σ R is extensional stress [Pa], Δn is birefringence when stress is applied, and Δn is defined by the following equation.
Δn = n 1 −n 2
Here, n 1 is the refractive index in the direction parallel to the stretching direction, and n 2 is the refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction.
It shows that the change in birefringence due to external force is smaller as the value of the photoelastic coefficient is closer to zero. The absolute value of the photoelastic coefficient is preferably 3.0 × 10 −12 / Pa or less, and more preferably 1.0 × 10 −12 / Pa or less. If the photoelastic coefficient is within this range, the change in birefringence due to stress is small, so that the contrast and the uniformity of the screen are excellent when used in a liquid crystal display device or the like. In the present invention, the absolute value of the photoelastic coefficient can be controlled within a preferable range by designing the amount of the ultraviolet absorber (b) and the draw ratio within a preferable range.

本発明の光学材料用成形体には、本発明の目的を損なわない範囲で、他の重合体を混合することができる。このような重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、並びにポリアセタール等の熱可塑性樹脂、及びフェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、並びにエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。   The polymer for optical material of the present invention can be mixed with other polymers as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of such polymers include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyamides, polyphenylene sulfide resins, polyether ether ketone resins, polyesters, polysulfones, polyphenylene oxides, polyimides, polyether imides, and thermoplastic resins such as polyacetals, And thermosetting resins such as phenol resins, melamine resins, silicone resins, and epoxy resins.

また、本発明の光学材料用成形体には、本発明の目的を損なわない範囲内で、各種目的に応じて任意の添加剤を配合することができる。添加剤の種類は、樹脂やゴム状重合体の配合に一般的に用いられるものであれば特に制限はない。二酸化珪素等の無機充填剤、酸化鉄等の顔料、ステアリン酸、ベヘニン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、エチレンビスステアロアミド等の滑剤、離型剤、パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、芳香族系プロセスオイル、パラフィン、有機ポリシロキサン、ミネラルオイル等の軟化剤・可塑剤、難燃剤、帯電防止剤、有機繊維、ガラス繊維、炭素繊維、金属ウィスカ等の補強剤、着色剤、その他添加剤或いはこれらの混合物等が挙げられる。   Moreover, arbitrary additives can be mix | blended with the molded object for optical materials of this invention according to various objectives within the range which does not impair the objective of this invention. The type of additive is not particularly limited as long as it is generally used for blending resins and rubber-like polymers. Inorganic fillers such as silicon dioxide, pigments such as iron oxide, lubricants such as stearic acid, behenic acid, zinc stearate, calcium stearate, magnesium stearate, ethylene bisstearamide, mold release agents, paraffinic process oil, naphthene -Based process oil, aromatic process oil, paraffin, organic polysiloxane, mineral softener / plasticizer, flame retardant, antistatic agent, organic fiber, glass fiber, carbon fiber, metal whisker reinforcing agent, coloring Agents, other additives, or a mixture thereof.

本発明における光学材料用成形体の製造方法は、特に制限されるものではなく、公知の方法が利用できる。例えば単軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー、各種ニーダー等の溶融混練機を用いて樹脂組成物を製造することができる。本発明の光学材料用成形体の形態がフィルム又はシートである場合は、その後、Tダイ、円形ダイ等が装着された押出機等を用いて、未延伸フィルムまたはシートを押し出し成形することにより製造することができる。押し出し成形により成形品を得る場合は、事前にアクリル系樹脂(aと紫外線吸収剤(b)、熱安定剤(c)を溶融混錬した材料を用いることもできれば、押し出し成形時に溶融混錬を経て成形することもできる。   The method for producing the molded article for optical material in the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. For example, the resin composition can be produced using a melt kneader such as a single screw extruder, a twin screw extruder, a Banbury mixer, a Brabender, or various kneaders. In the case where the form of the molded article for optical material of the present invention is a film or sheet, it is manufactured by extruding an unstretched film or sheet using an extruder or the like equipped with a T die, a circular die, etc. can do. When obtaining a molded product by extrusion molding, it is possible to use a material in which an acrylic resin (a, an ultraviolet absorber (b), and a heat stabilizer (c) is previously melt-kneaded. It can also be molded after that.

本発明における光学材料用成形体は、未延伸成形体を少なくとも一方向に延伸することにより得られる。延伸方法は特に制限されるものではなく、機械的流れ方向(MD)に縦一軸延伸、機械的流れ方向に直行する方向(TD)に横一軸延伸する方法等が利用できる。例えば、工業的には、ロール延伸又はテンター延伸による一軸延伸法、ロール延伸とテンター延伸の組み合わせによる逐次2軸延伸法、テンター延伸による同時2軸延伸法、チューブラー延伸による2軸延伸法等によって延伸フィルムを製造することができる。延伸倍率は、少なくとも一方向に0.1%以上300%以下であることが好ましい。より好ましくは、1%以上200%以下であり、さらに好ましくは10%を超えて130%を超えない範囲である。この範囲に設計することにより、光弾性係数、機械強度において好ましい延伸成形体が得られる。
本発明における光学材料用成形体の厚さは300μm以下であり、好ましくは1μm以上、より好ましくは5μm以上である。
The molded article for optical material in the present invention can be obtained by stretching an unstretched molded article in at least one direction. The stretching method is not particularly limited, and a longitudinal uniaxial stretching in the mechanical flow direction (MD), a transverse uniaxial stretching in a direction orthogonal to the mechanical flow direction (TD), and the like can be used. For example, industrially, by uniaxial stretching method by roll stretching or tenter stretching, sequential biaxial stretching method by combination of roll stretching and tenter stretching, simultaneous biaxial stretching method by tenter stretching, biaxial stretching method by tubular stretching, etc. A stretched film can be produced. The draw ratio is preferably 0.1% or more and 300% or less in at least one direction. More preferably, it is 1% or more and 200% or less, More preferably, it is the range which does not exceed 130% exceeding 10%. By designing in this range, a stretched molded article preferable in terms of photoelastic coefficient and mechanical strength can be obtained.
The thickness of the molded article for optical material in the present invention is 300 μm or less, preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more.

本発明においては、アクリル系樹脂(a)と紫外線吸収剤(b)の組成、延伸倍率及び光学材料用成形体の厚みを好ましい範囲内に設計することにより、平面レタデーション(Re)を制御することができる。
平面レタデーション(Re)は下式により定義されるものである。
Re=(nx−ny)×d
(式中、nx、ny:平面の主屈折率、d:厚み)
本発明の光学材料用成形体からなる偏光板保護フィルムとする場合には、光学材料用成形体のReの絶対値は、好ましくは0nm以上50nm以下であり、より好ましくは30nm以下、さらに好ましくは10nm以下、とりわけ好ましくは5nm以下である。
本発明の光学材料用成形体からなる1/4波長板とする場合には、光学材料用成形体のReの絶対値は、好ましくは100nm以上180nm以下、より好ましくは120nm以上160nm以下、さらに好ましくは130nm以上150nm以下である。
In the present invention, the planar retardation (Re) is controlled by designing the composition of the acrylic resin (a) and the ultraviolet absorber (b), the draw ratio, and the thickness of the molded article for the optical material within a preferable range. Can do.
The planar retardation (Re) is defined by the following formula.
Re = (nx−ny) × d
(Where, nx, ny: main refractive index of plane, d: thickness)
In the case of a polarizing plate protective film comprising the molded article for optical material of the present invention, the absolute value of Re of the molded article for optical material is preferably 0 nm or more and 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and still more preferably. It is 10 nm or less, and particularly preferably 5 nm or less.
In the case of a quarter-wave plate comprising the molded article for optical material of the present invention, the absolute value of Re of the molded article for optical material is preferably 100 nm or more and 180 nm or less, more preferably 120 nm or more and 160 nm or less, and still more preferably. Is 130 nm or more and 150 nm or less.

延伸倍率は、得られた延伸フィルムをガラス転移温度よりも20℃以上高い温度で収縮させ以下の関係式から延伸倍率を決定できる。
延伸倍率(%)=[(収縮前の長さ/収縮後の長さ)−1]×100
また、ガラス転移温度はDSC法や粘弾性法により求めることができる。
The draw ratio can be determined from the following relational expression by shrinking the obtained stretched film at a temperature 20 ° C. or higher than the glass transition temperature.
Stretch ratio (%) = [(length before shrinkage / length after shrinkage) −1] × 100
The glass transition temperature can be determined by a DSC method or a viscoelastic method.

また、本発明は、アクリル系樹脂(a)と、紫外線吸収剤(b)及び熱安定剤(c)とを含む樹脂組成物からなる少なくとも一方向に延伸された光学材料用成形体の製造方法にも関する。
本発明の光学材料用成形体の製造方法は、アクリル系化合物単位25質量%以上85質量%以下、芳香族ビニル系化合物単位10質量%以上50質量%以下、六員環酸無水物単位5質量%以上25質量%以下からなるアクリル系樹脂(a)に、紫外線吸収剤(b)及び熱安定剤(c)を添加し、樹脂組成物を得る工程と、前記樹脂組成物を、少なくとも一方向に延伸させる工程とを含む光学材料用成形体の製造方法である。
本発明の製造方法により得られる光学材料用成形体は、アクリル系樹脂(a)100質量部に対して、紫外線吸収剤(b)が0.1質量部以上10質量部以下、及び熱安定剤(c)が0.1質量部以上10質量部以下で樹脂組成物を得て製造されるので、光弾性係数の絶対値が小さく、成形安定性に優れた光学材料用成形体である。
[実施例]
Moreover, this invention is a manufacturing method of the molded object for optical materials extended | stretched at least to one direction which consists of a resin composition containing acrylic resin (a), a ultraviolet absorber (b), and a heat stabilizer (c). Also related.
The method for producing a molded article for an optical material according to the present invention is an acrylic compound unit of 25 mass% to 85 mass%, an aromatic vinyl compound unit of 10 mass% to 50 mass%, and a 6-membered cyclic acid anhydride unit of 5 mass. The step of adding a UV absorber (b) and a heat stabilizer (c) to an acrylic resin (a) comprising 25% by mass or more and 25% by mass or less to obtain a resin composition, and the resin composition at least in one direction And a method of producing a molded body for an optical material, which comprises a step of stretching the film.
The molded article for an optical material obtained by the production method of the present invention has an ultraviolet absorber (b) of 0.1 part by mass or more and 10 parts by mass or less, and a thermal stabilizer with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin (a). Since the resin composition is obtained with (c) being 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, it is a molded article for optical materials having a small absolute value of photoelastic coefficient and excellent molding stability.
[Example]

次に実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。
実施例で用いた評価方法について述べる。
<評価方法>
(1)光弾性係数(CR)の測定
測定光の経路に引張装置(井元製作所製)を配置し、試験片に伸張応力をかけながらその複屈折をRets−RFI(大塚電子製)を用いて測定した。伸張時の歪速度は0.3%/分(チャック間:30mm、チャック移動速度0.1mm/分)、試験片幅は10mmとした。25℃、試験片の0〜0.5%の歪範囲における複屈折の絶対値(|Δn|)をy軸、伸張応力(σR)をx軸としてプロットし、最小二乗近似により線形領域の直線の傾きを求め、光弾性係数の絶対値(|CR|)を計算した。
(2)平面レタデーション(Re)の測定
大塚電子(株)社製複屈折測定装置RETS−100を用いて、回転検光子法により25℃における平面レタデーション(Re)を測定した。
(3)分光透過率
日立製作所製U−3310を用いて分光スペクトルを測定し、380nmにおける透過率を求めた。
(4)ガラス転移温度(Tg)測定
DSC−7型(パーキン・エルマー社製)を用い、室温から200℃までの昇温測定において、昇温速度20℃/分で原反フィルムサンプル重量8.0〜10mgのTgを測定した。
(5)フィルム膜厚の測定
マイクロメーター(ミツトヨ製)を用いて各延伸フィルムの中央部を測定した。
(6)フィルム成形評価法
◎:溶融粘度が低下し低温加工が可能になり、成形性が非常に良好である。
○:溶融粘度が低下し低温加工が可能になり、成形性が良好である。
△:溶融粘度が上昇し高温加工でないと成形性が安定化しない。
EXAMPLES Next, although an Example is given and demonstrated in detail, this invention is not restrict | limited to these Examples.
The evaluation method used in the examples will be described.
<Evaluation method>
(1) Tensile in the path of the measurement the measurement beam of the photoelastic coefficient (C R) apparatus (Imoto Seisakusho) arranged, with RETS-RFI (manufactured by Otsuka Electronics) The birefringence while applying a tensile stress to the test piece Measured. The strain rate during stretching was 0.3% / min (between chucks: 30 mm, chuck moving speed 0.1 mm / min), and the specimen width was 10 mm. The absolute value of birefringence (| Δn |) in the strain range of 0 to 0.5% of the specimen at 25 ° C. is plotted as the y-axis and the tensile stress (σ R ) as the x-axis. The slope of the straight line was obtained, and the absolute value (| C R |) of the photoelastic coefficient was calculated.
(2) Measurement of planar retardation (Re) Using a birefringence measuring apparatus RETS-100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., planar retardation (Re) at 25 ° C. was measured by a rotating analyzer method.
(3) Spectral transmittance The spectral spectrum was measured using U-3310 manufactured by Hitachi, Ltd., and the transmittance at 380 nm was determined.
(4) Glass transition temperature (Tg) measurement Using a DSC-7 type (manufactured by Perkin Elmer Co., Ltd.), in the temperature rise measurement from room temperature to 200 ° C., the raw film sample weight is 8. 0-10 mg Tg was measured.
(5) Measurement of film thickness The center part of each stretched film was measured using a micrometer (manufactured by Mitutoyo Corporation).
(6) Film molding evaluation method A: Melt viscosity is reduced, low temperature processing is possible, and moldability is very good.
◯: Melt viscosity is reduced, low temperature processing is possible, and moldability is good.
(Triangle | delta): A melt viscosity rises and a moldability will not be stabilized unless it is high temperature processing.

(1)アクリル系樹脂(a)
(原料I)アクリル系樹脂(メタクリル酸メチル−スチレン−メタクリル酸−六員環酸無
水物)の調製
メタクリル酸メチル35wt%、スチレン25wt%、メタクリル酸20wt%、メタキシレン20wt%、パーヘキサC(1,1−ジ(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン)50ppm、n−オクチルメルカプタン1500ppmからなる混合液を調製し、これを1.5L/hrの速度で連続して内容量3Lのジャケット付き、完全混合反応器に供給して、125℃の温度で重合を行った。さらに、重合液を260℃に設定した高温脱気装置へ連続して供給し、2時間滞留、脱気環化させ未反応物の除去及び六員環酸無水物の生成を行った。このアクリル系樹脂の中和滴定、IRスペクトル、13CNMRによる組成分析結果は、メタクリル酸メチル単位45wt%、スチレン単位30wt%、六員環酸無水物単位18wt%、メタクリル酸単位7wt%であった。得られたアクリル系樹脂のメルトフローレート値(ASTM−D1238;230℃、3.8kg荷重)は、1.1g/10分であり、Tg=135℃であった。
(1) Acrylic resin (a)
(Raw material I) Preparation of acrylic resin (methyl methacrylate-styrene-methacrylic acid-six-membered cyclic acid anhydride) Methyl methacrylate 35 wt%, styrene 25 wt%, methacrylic acid 20 wt%, metaxylene 20 wt%, perhexa C (1 , 1-di (tert-butylperoxy) cyclohexane) 50ppm, n-octyl mercaptan 1500ppm mixed liquid prepared continuously at a rate of 1.5L / hr, with a jacket of 3L capacity, complete mixing The polymerization was carried out at a temperature of 125 ° C. by feeding the reactor. Further, the polymerization solution was continuously supplied to a high-temperature deaerator set at 260 ° C., and stayed for 2 hours and deaerated and cyclized to remove unreacted substances and produce a six-membered cyclic acid anhydride. The results of composition analysis by neutralization titration, IR spectrum, and 13 CNMR of this acrylic resin were methyl methacrylate unit 45 wt%, styrene unit 30 wt%, six-membered cyclic acid anhydride unit 18 wt%, and methacrylic acid unit 7 wt%. . The resulting acrylic resin had a melt flow rate value (ASTM-D1238; 230 ° C., 3.8 kg load) of 1.1 g / 10 min and Tg = 135 ° C.

(原料II)アクリル系樹脂(メタクリル酸メチル−α-メチルスチレン−メタクリル酸−六員環酸無水物)の調製
メタクリル酸メチル48wt%、α-メチルスチレン6wt%、メタクリル酸6wt%、t−ブタノール40wt%、1,1−ジ−tert−ブチルパ−オキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン500ppm、n−オクチルメルカプタン200ppmからなる混合液を調製し、これを1.5L/hrの速度で連続して内容量3Lのジャケット付き、完全混合反応器に供給して、125℃の温度で重合を行った。さらに、重合液を260℃に設定した高温脱気装置へ連続して供給し、2時間滞留、脱気環化させ未反応物の除去及び六員環無水物の生成を行った。この重合体の中和滴定、IRスペクトル、13CNMRによる組成分析結果は、メタクリル酸メチル単位80wt%、α−メチルスチレン単位11wt%、六員環酸無水物単位6wt%、メタクリル酸単位3wt%であった。得られたアクリル系樹脂のメルトフローレート値(ASTM−D1238;230℃、3.8kg荷重)は、1.5g/10分であり、Tg=132℃であった。
(Raw material II) Preparation of acrylic resin (methyl methacrylate-α-methylstyrene-methacrylic acid-six-membered cyclic acid anhydride) Methyl methacrylate 48 wt%, α-methylstyrene 6 wt%, methacrylic acid 6 wt%, t-butanol A mixed liquid consisting of 40 wt%, 1,1-di-tert-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane 500 ppm, and n-octyl mercaptan 200 ppm was prepared and continuously mixed at a rate of 1.5 L / hr. Then, the mixture was supplied to a complete mixing reactor equipped with a jacket having an internal volume of 3 L, and polymerization was carried out at a temperature of 125 ° C. Further, the polymerization solution was continuously supplied to a high-temperature degassing apparatus set at 260 ° C., and retained for 2 hours and degassed and cyclized to remove unreacted substances and produce a six-membered ring anhydride. The results of composition analysis by neutralization titration, IR spectrum, and 13 C NMR of this polymer were as follows: methyl methacrylate unit 80 wt%, α-methyl styrene unit 11 wt%, six-membered cyclic acid anhydride unit 6 wt%, and methacrylic acid unit 3 wt%. there were. The resulting acrylic resin had a melt flow rate value (ASTM-D1238; 230 ° C., 3.8 kg load) of 1.5 g / 10 min and Tg = 132 ° C.

(2)紫外線吸収剤(b)
ベンゾトリアゾール系化合物である旭電化(株)社製アデカスタブLA−31(融点(
Tm):195℃)を用いた。理学電気(株)社製ThermoPlus TG8120
を用いて、23℃から260℃まで20℃/minの速度で昇温した場合の重量減少率を
測定したところ、0.03%であった。
(2) UV absorber (b)
Adekastab LA-31 (melting point (Asahi Denka Co., Ltd.), a benzotriazole compound.
Tm): 195 ° C) was used. ThermoPlus TG8120 manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.
Was used to measure the weight reduction rate when the temperature was increased from 23 ° C. to 260 ° C. at a rate of 20 ° C./min, and it was 0.03%.

(3)熱安定剤(c)
チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)社製のIRGANOX1010(白色粉末、融点(Tm):110−125℃、蒸気圧:1.3×10-10Pa(20℃))を用いた。
(3) Thermal stabilizer (c)
IRGANOX 1010 (white powder, melting point (Tm): 110-125 ° C., vapor pressure: 1.3 × 10 −10 Pa (20 ° C.)) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. was used.

[実施例1〜4及び比較例1、2]
プラスチック工学研究所製Tダイ装着押し出し機(BT−30−C−36−L型/幅400mmTダイ装着/リップ厚0.8mm)を用いて、スクリュー回転数、押し出し機のシリンダー内樹脂温度、Tダイの温度を調整し押出し成形をすることにより未延伸フィルムを得た。フィルムの流れ(押し出し方向)をMD方向、MD方向に垂直な方向をTD方向とした。実施例1〜4においては、各樹脂とLA−31及びIRGANOX1010をドライブレンドし、押出し成形を行った。
次に、得られた未延伸フィルムの縦(MD方向)一軸延伸を、市金工業社製ロール式縦延伸機を用いて行った。目標とする設定延伸倍率にするために二つのロール(低速側ロール/高速側ロール)の回転速度を変えてロール間で延伸を行った。引き続き、得られた縦一軸延伸フィルムの横(TD方向)延伸を、市金工業社製テンター延伸機を用いて行った。目標とする設定延伸倍率にするために流れ速度2m/分で、テンターチャック間の距離を変えて延伸を行った。配合、成形条件、フィルム光学特性を表1に示した。
[実施例1]
[Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2]
Using a T-die mounting extruder (BT-30-C-36-L type / width 400 mm, T-die mounting / lip thickness 0.8 mm) manufactured by the Institute of Plastics Engineering, screw rotation speed, resin temperature in the cylinder of the extruder, T An unstretched film was obtained by adjusting the temperature of the die and performing extrusion molding. The flow (extrusion direction) of the film was defined as the MD direction, and the direction perpendicular to the MD direction was defined as the TD direction. In Examples 1 to 4, each resin, LA-31, and IRGANOX 1010 were dry blended and extruded.
Next, longitudinal (MD direction) uniaxial stretching of the obtained unstretched film was performed using a roll-type longitudinal stretching machine manufactured by Ichikin Kogyo Co., Ltd. In order to obtain a target set stretching ratio, stretching was performed between rolls by changing the rotation speed of two rolls (low speed side roll / high speed side roll). Subsequently, transverse (TD direction) stretching of the obtained longitudinally uniaxially stretched film was performed using a tenter stretching machine manufactured by Ichikin Kogyo Co., Ltd. Stretching was performed by changing the distance between the tenter chucks at a flow rate of 2 m / min in order to obtain a target set stretching ratio. The composition, molding conditions, and film optical properties are shown in Table 1.
[Example 1]

原料Iに対し、LA−31(1.5重量部)、IRGANOX1010(1.0重量部)を混
合し、原反フィルムを作成した。その後、MD方向に100%、TD方向に100%延伸を行い、二軸延伸フィルムを得た。
[実施例2]
LA-31 (1.5 parts by weight) and IRGANOX 1010 (1.0 parts by weight) were mixed with the raw material I to prepare a raw film. Thereafter, the film was stretched 100% in the MD direction and 100% in the TD direction to obtain a biaxially stretched film.
[Example 2]

原料Iに対し、LA−31(1.0重量部)、IRGANOX1010(0.5重量部)を混
合し、原反フィルムを作成した。その後、MD方向に100%の延伸を行い、一軸延伸フィルムを得た。
[実施例3]
LA-31 (1.0 part by weight) and IRGANOX 1010 (0.5 part by weight) were mixed with the raw material I to prepare a raw film. Thereafter, 100% stretching was performed in the MD direction to obtain a uniaxially stretched film.
[Example 3]

原料IIに対し、LA−31(1.5重量部)、IRGANOX1010(1.0重量部)を混合し、原反フィルムを作成した。その後、MD方向に50%、TD方向に50%延伸を行い、二軸延伸フィルムを得た。
[実施例4]
LA-31 (1.5 parts by weight) and IRGANOX 1010 (1.0 parts by weight) were mixed with the raw material II to prepare a raw film. Thereafter, the film was stretched 50% in the MD direction and 50% in the TD direction to obtain a biaxially stretched film.
[Example 4]

原料IIに対し、LA−31(1.0重量部)、IRGANOX1010(0.5重量部)を混合し、原反フィルムを作成した。その後、MD方向に100%の延伸を行い、一軸延伸フィルムを得た。   LA-31 (1.0 part by weight) and IRGANOX 1010 (0.5 part by weight) were mixed with the raw material II to prepare a raw film. Thereafter, 100% stretching was performed in the MD direction to obtain a uniaxially stretched film.

(比較例1)
LA−31及びIRGANOX1010を混合しなかった以外は、実施例1と同様に行った。
(Comparative Example 1)
It carried out like Example 1 except not having mixed LA-31 and IRGANOX1010.

(比較例2)
LA−31及びIRGANOX1010を混合しなかった以外は、実施例3と同様に行った。
(Comparative Example 2)
It carried out like Example 3 except not having mixed LA-31 and IRGANOX1010.

実施例1〜4においては、アクリル系樹脂、LA−31、IRGANOX1010の特定の組成比で配合することにより、光弾性係数の絶対値が小さく、フィルムの成形安定性に優れた樹脂組成物が得られた。また、延伸加工を制御することにより、実施例1、3では、平面レタデーションが小さく偏光板保護フィルムが得られた。さらに、実施例2、4では、平面レタデーションがλ/4(nm)付近であり、位相差フィルムに適している。
比較例1では、LA−31を混合していないため、380nmの分光透過性が89%であり、IRGANOX1010を混合していないため、フィルム成形時、250℃以上でないとフィルム成形が安定化しなかった。
また、比較例2では、LA−31を混合していないため、光弾性係数の絶対値が3.0×10―12/Paより大きくなり、IRGANOX1010を混合していないため、フィルム成形時、250℃以上でないとフィルム成形が安定化しなかった。
In Examples 1 to 4, a resin composition having a small absolute value of the photoelastic coefficient and excellent film forming stability is obtained by blending at specific composition ratios of acrylic resin, LA-31, and IRGANOX 1010. It was. Moreover, in Example 1, 3, the polarizing plate protective film was obtained with small plane retardation by controlling extending | stretching process. Further, in Examples 2 and 4, the planar retardation is in the vicinity of λ / 4 (nm), which is suitable for a retardation film.
In Comparative Example 1, since LA-31 was not mixed, the spectral transmittance at 380 nm was 89%, and IRGANOX 1010 was not mixed. Therefore, the film molding was not stabilized unless the temperature was 250 ° C. or higher. .
In Comparative Example 2, since no mixing LA-31, the absolute value of the photoelastic coefficient is larger than 3.0 × 10- 12 / Pa, not mixed with IRGANOX1010, during film forming, 250 The film forming was not stabilized unless it was over ℃.

Figure 2008291136
Figure 2008291136

本発明の光学材料用成形体は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる導光板、拡散板、偏光板保護フィルム、1/4波長板、1/2波長板、視野角制御フィルム、液晶光学補償フィルム等の位相差フィルム、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、レンズ、タッチパネル等、また、太陽電池に用いられる透明基盤等への利用可能性を有する。その他にも、光通信システム、光交換システム、光計測システムの分野において、導波路、レンズ、光ファイバー、光ファイバーの被覆材料、LEDのレンズ、レンズカバー等にも利用することができる。本発明の光学材料用成形体は、例えば反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の表面機能化処理をすることもできる。   The molded article for an optical material of the present invention includes a light guide plate, a diffusion plate, a polarizing plate protective film, a quarter-wave plate, which are used in a display such as a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL display, a field emission display, and a rear projection TV. It has applicability to half-wave plates, viewing angle control films, retardation films such as liquid crystal optical compensation films, display front plates, display substrates, lenses, touch panels, and transparent substrates used in solar cells. . In addition, in the fields of optical communication systems, optical switching systems, and optical measurement systems, the present invention can also be used for waveguides, lenses, optical fibers, optical fiber coating materials, LED lenses, lens covers, and the like. The molded article for an optical material of the present invention can be subjected to surface functionalization treatment such as antireflection treatment, transparent conductive treatment, electromagnetic wave shielding treatment, gas barrier treatment and the like.

Claims (9)

アクリル系化合物単位25質量%以上85質量%以下、芳香族ビニル系化合物単位10質量%以上50質量%以下、六員環酸無水物単位5質量%以上25質量%以下からなるアクリル系樹脂(a)と、
紫外線吸収剤(b)及び熱安定剤(c)と、を含む樹脂組成物からなる少なくとも一方向に延伸された光学材料用成形体であって、
前記アクリル系樹脂(a)100質量部に対して、前記紫外線吸収剤(b)が0.1質量部以上10質量部以下、及び前記熱安定剤(c)が0.1質量部以上10質量部以下である光学材料用成形体。
Acrylic resin (a) comprising 25% by mass to 85% by mass of acrylic compound units, 10% by mass to 50% by mass of aromatic vinyl compound units, and 5% by mass to 25% by mass of 6-membered cyclic acid anhydride units. )When,
A molded article for an optical material, stretched in at least one direction, comprising a resin composition comprising an ultraviolet absorber (b) and a heat stabilizer (c),
The ultraviolet absorber (b) is 0.1 to 10 parts by mass and the thermal stabilizer (c) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin (a). The molded part for optical materials which is less than the part.
前記六員環酸無水物単位が、式[1]で表される六員環酸無水物単位である請求項1に記載の光学材料用成形体。
式[1]
Figure 2008291136
(式中、R1、R2は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表す。)
The molded article for an optical material according to claim 1, wherein the six-membered cyclic acid anhydride unit is a six-membered cyclic acid anhydride unit represented by the formula [1].
Formula [1]
Figure 2008291136
(In formula, R < 1 >, R < 2 > represents a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group each independently.)
光弾性係数の絶対値が3.0×10-12/Pa以下である請求項1又は2に記載の光学材料用成形体。 The molded article for an optical material according to claim 1 or 2, wherein the absolute value of the photoelastic coefficient is 3.0 × 10 -12 / Pa or less. 前記紫外線吸収剤(b)がベンゾトリアゾール系化合物又はベンゾトリアジン系化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学材料用成形体。   The said ultraviolet absorber (b) is a benzotriazole type compound or a benzotriazine type compound, The molded object for optical materials of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記熱安定剤(c)がヒンダードフェノール系酸化防止剤又はリン系加工安定剤である請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学材料用成形体。   The molded article for an optical material according to any one of claims 1 to 4, wherein the thermal stabilizer (c) is a hindered phenol-based antioxidant or a phosphorus-based processing stabilizer. 少なくとも一方向の延伸倍率が0.1%以上300%以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学材料用成形体。   The molded article for an optical material according to any one of claims 1 to 5, wherein a stretch ratio in at least one direction is 0.1% or more and 300% or less. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学材料用成形体からなる偏光板保護フィルム。   The polarizing plate protective film which consists of a molded object for optical materials of any one of Claims 1-6. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学材料用成形体からなる位相差フィルム。   The retardation film which consists of a molded object for optical materials of any one of Claims 1-6. アクリル系化合物単位25質量%以上85質量%以下、芳香族ビニル系化合物単位10質量%以上50質量%以下、六員環酸無水物単位5質量%以上25質量%以下からなるアクリル系樹脂(a)に、紫外線吸収剤(b)及び熱安定剤(c)を添加し、樹脂組成物を得る工程と、
前記樹脂組成物を、少なくとも一方向に延伸させる工程と、を含む光学材料用成形体の製造方法であって、
前記アクリル系樹脂(a)100質量部に対して、前記紫外線吸収剤(b)が0.1質量部以上10質量部以下、及び前記熱安定剤(c)が0.1質量部以上10質量部以下である製造方法。
Acrylic resin (a) comprising 25% by mass to 85% by mass of acrylic compound units, 10% by mass to 50% by mass of aromatic vinyl compound units, and 5% by mass to 25% by mass of 6-membered cyclic acid anhydride units. ), An ultraviolet absorber (b) and a heat stabilizer (c) are added to obtain a resin composition;
Stretching the resin composition in at least one direction, and a method for producing a molded article for an optical material,
The ultraviolet absorber (b) is 0.1 to 10 parts by mass and the thermal stabilizer (c) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin (a). Part or less of the manufacturing method.
JP2007138909A 2007-05-25 2007-05-25 Molding for optical material Pending JP2008291136A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007138909A JP2008291136A (en) 2007-05-25 2007-05-25 Molding for optical material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007138909A JP2008291136A (en) 2007-05-25 2007-05-25 Molding for optical material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008291136A true JP2008291136A (en) 2008-12-04

Family

ID=40166208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007138909A Pending JP2008291136A (en) 2007-05-25 2007-05-25 Molding for optical material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008291136A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011001526A (en) * 2009-06-22 2011-01-06 Asahi Kasei Chemicals Corp Resin composition obtained by heat-stabilizing low-birefringence acrylic copolymer
JP2019077855A (en) * 2017-10-24 2019-05-23 株式会社日本触媒 (meth)acrylic resin composition, and molded article and film using the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011001526A (en) * 2009-06-22 2011-01-06 Asahi Kasei Chemicals Corp Resin composition obtained by heat-stabilizing low-birefringence acrylic copolymer
JP2019077855A (en) * 2017-10-24 2019-05-23 株式会社日本触媒 (meth)acrylic resin composition, and molded article and film using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5248094B2 (en) Resin composition for optical materials
JP4068120B2 (en) Optical compensation film
JP5284058B2 (en) Thermoplastic resin composition
JP2010070646A (en) Resin composition for use as optical material
WO2007043356A1 (en) Resin composition for optical material
JP5196519B2 (en) Optical film with excellent mechanical and thermal properties
JP6247373B1 (en) Methacrylic resin composition, optical film, optical component
WO2007061041A1 (en) Optical film
JP2008262180A (en) Resin composition for optical material
JP2008268913A (en) Laminated optical film
JP2008262182A (en) Retardation film
JP6151421B1 (en) Methacrylic resin composition
JP2009282146A (en) Optical film excellent in mechanical strength
JP5403777B2 (en) Molded body for optical materials
JP2018035331A (en) Methacrylic resin composition, optical film, and optical component
JP2008276208A (en) Optical film
JP6181840B1 (en) Methacrylic resin composition, optical film, optical component
JP5074010B2 (en) Excellent resin composition for optical material and molded article
JP2008225462A (en) Laminated optical film
JP2012052023A (en) Optical film
JP2009128638A (en) Optical molded body
JP2008268929A (en) Resin composition for optical element
JP2008291136A (en) Molding for optical material
JP2008255149A (en) Resin composition for optical material
JP2015197483A (en) Retardation film