JP2008285704A - Partial plating apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は部分めっき装置に関し、金属条材、特にリードフレームにマスクを用いて部分めっきを施す技術に係るものである。 The present invention relates to a partial plating apparatus and relates to a technique for performing partial plating using a mask on a metal strip, particularly a lead frame.
従来、電子部品に用いられるリードフレームに部分めっきを施す方法としては、例えば特許文献1に示すように、マスク用治具をプレスブロックで押圧してめっき液漏れを防止しながらリードフレームに部分めっきを施しているものがある。 Conventionally, as a method of performing partial plating on a lead frame used in an electronic component, for example, as shown in Patent Document 1, partial plating is performed on a lead frame while preventing a plating solution from leaking by pressing a mask jig with a press block. There is something that has been given.
図2は、従来のリードフレームのめっき方法を示した断面図である。図2において、マスク用治具103は取付治具部102で支持しており、マスク用治具103の下方にめっき槽104がパッキン105を介して接続してあり、マスク用治具103の上にはリードフレーム106を載置している。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a conventional lead frame plating method. In FIG. 2, the
めっき槽104内にはノズル107が配設してあり、マスク用治具103に形成した開口部103aに向けてノズル107からめっき液を噴射する。マスク用治具103の上方には電極108を埋設したプレスブロック109が配置してあり、プレスブロック109は本体フレーム101に上下動可能に支持されたプレスブロック取付部110に装着してある。プレスブロック109の底部にはリードフレーム106に当接するマスクゴム111を取り付けている。
A
この構成により、プレスブロック109をエアシリンダなどにより降下させてマスクゴム111をリードフレーム106に当接させた状態で、めっき液をリードフレーム106に噴射し、電極108により電解作用を奏してめっきを施す。
しかしながら、上述した従来のリードフレームのめっき装置では、リードフレームをめっき装置内へ搬入・搬出する際にリードフレームとマスクとが摺動することにより、マスクの磨耗が早いといった問題点がある。これがマスクの短命化につながり、コストアップの要因となる。また、リードフレームの部分めっき精度の変化や、マスクから発生する微細異物の付着等の問題が起こる可能性がある。また、リードフレームのめっき処理面への傷発生の可能性も考えられる。 However, the conventional lead frame plating apparatus described above has a problem in that the mask wears quickly because the lead frame and the mask slide when the lead frame is carried into and out of the plating apparatus. This leads to a shortened life of the mask and increases costs. In addition, problems such as changes in the accuracy of partial plating of the lead frame and adhesion of fine foreign matters generated from the mask may occur. In addition, the possibility of scratches on the plated surface of the lead frame is also considered.
本発明は上記のような従来の課題を解決するためのものであって、リードフレームとマスクとの摺動に起因するマスクの磨耗およびめっき処理面での傷の発生を防ぐことができる部分めっき装置を提供することを目的とする。 The present invention is intended to solve the above-described conventional problems, and is a partial plating that can prevent the wear of the mask and the generation of scratches on the plating surface due to the sliding between the lead frame and the mask. An object is to provide an apparatus.
上記の課題を解決するために、本発明の部分めっき装置は、金属条材に施す部分めっきの領域に相応する開口パターンを有するマスクと、前記マスクの開口パターンに相応する開口部を有するノズル板と、前記ノズル板の上方に位置して前記マスクを上面で支持し、前記マスクの開口パターンに相応する開口部を有する上板と、前記上板の上面にスペーサーにより所定高さ保持して配置するリフトプレートを備え、前記金属条材の搬送時に前記リフトプレートが前記金属条材を持ち上げて前記金属条材と前記マスクとの間に間隙を形成することを特徴とする。 In order to solve the above problems, a partial plating apparatus according to the present invention includes a mask having an opening pattern corresponding to a region of partial plating applied to a metal strip, and a nozzle plate having an opening corresponding to the opening pattern of the mask. And an upper plate that is positioned above the nozzle plate and supports the mask on the upper surface, and has an opening corresponding to the opening pattern of the mask, and is arranged on the upper surface of the upper plate with a predetermined height held by a spacer. The lift plate lifts the metal strip when the metal strip is transported to form a gap between the metal strip and the mask.
上記した構成によれば、マスクの上方の位置においてバネ性を持ったリフトプレートを上板の上面に取付け、リフトプレート上でリードフレームを搬送することで、搬送時にリードフレームとマスクが摺動しない構造を実現するものである。 According to the configuration described above, a lift plate having spring properties is attached to the upper surface of the upper plate at a position above the mask, and the lead frame is transported on the lift plate, so that the lead frame and the mask do not slide during transport. The structure is realized.
また、部分めっき時にはバックプレートが下降してリードフレームをマスクに押し付け、リフトプレートがマスクの上面と同じ高さまで撓むことにより、リードフレームとマスクとの密着が可能となる。 Further, during partial plating, the back plate is lowered to press the lead frame against the mask, and the lift plate is bent to the same height as the upper surface of the mask, so that the lead frame and the mask can be in close contact with each other.
よって、リードフレームとマスクとの摺動によるマスクの磨耗およびめっき処理面の傷を防止すると共に、高精度な部分めっきが可能となる。 Therefore, mask wear and scratches on the plating surface due to sliding between the lead frame and the mask can be prevented, and high-precision partial plating can be performed.
以上のように、本発明のリードフレームのめっき装置によれば、リードフレームとマスクとの摺動を抑えることにより、マスクの磨耗を防ぐことが出来る。このことから、マスクの短命化を延ばすことが可能となり、コストを抑えることが出来る。また、リードフレームへの部分めっき精度の変化や、マスクから発生する微細な異物の付着等の問題に関しても有効である。また、めっき面に凸部形状を有しているリードフレームについても有効である。 As described above, according to the lead frame plating apparatus of the present invention, wear of the mask can be prevented by suppressing sliding between the lead frame and the mask. For this reason, it is possible to extend the life of the mask and to reduce the cost. It is also effective for problems such as changes in the accuracy of partial plating on the lead frame and adhesion of fine foreign matters generated from the mask. It is also effective for a lead frame having a convex shape on the plated surface.
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
図1(a)、(b)は、本発明の実施の形態1における金属条材であるリードフレームのめっき装置の動作フローに沿った断面図である。
The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
1 (a) and 1 (b) are cross-sectional views along an operation flow of a lead frame plating apparatus which is a metal strip in the first embodiment of the present invention.
図1(a)、(b)において、めっき装置は、ノズル板3と、ノズル板3の上方にノズル板3の一部に当接して配置する上板4と、上板4の上面に取付けられて周囲が一定ピッチで切り取られたマスク5と、マスク5の上方に配置するリードフレーム1を支持するリフトプレート6と、上板4の上面においてリフトプレート6を所定高さに保持するスペーサー7とからなり、リフトプレート6はマスク5に対応する部分を除いて上板4の上面の両サイドに配置し、内側端部でリードフレーム1の端部を摺動自在に支持し、外側端部でスペーサー7に固定支持される。
1 (a) and 1 (b), the plating apparatus is attached to the
ノズル板3はチタンなどの材質からなり、ノズル板3の下方に配置するめっき液タンク(図示せず)から供給されためっき液をイオン化し、上板4へめっき液を供給する役目を担っており、めっき対象物であるリードフレーム1の部分めっき部に対応した複数の開口部3aと、その周りに通電を目的とした電極(例えば白金など)3bを有している。
The
マスク5は上板4にシリコンなどで接着されており、ノズル板3と同様にリードフレーム1の部分めっき部に対応した複数の開口部5aを有している。マスク5はエポキシガラスとシリコンゴムを貼り合わせたものからなり、表面にシリコンゴムを配置することでリードフレーム1との密着性を高めている。
The
上板4はエポキシガラスなどの材質からなり、ノズル板3と同様にリードフレーム1の部分めっき部に対応した複数の開口部4aを有し、ノズル板3から供給されためっき液を確実にリードフレーム1の部分めっき部へ供給するための通り道の役目を担っている。
The
このようにノズル板3、上板4、マスク5はそれぞれ、めっき液タンクから供給されためっき液を確実にリードフレーム1の部分めっき部に噴きつける役目を担っている。また、リフトプレート6はスペーサー7とともに、リードフレーム1を保持する役目を担っている。
As described above, the
リフトプレート6は、リードフレーム1が自重により落下することや、自重により撓むことのない最小限の接触面積でリードフレーム1を持ち上げている。この状態でリードフレーム1はリフトプレート6で持ち上げられてマスク5と一定の距離を保っているので、リードフレーム1はその搬送に際してマスク5と摺動することがない。よって、リードフレーム1との摺動によるマスク5の磨耗を防ぐことができる。
The
リードフレーム1は搬送時には一定のピッチで送られてリフトプレート6と摺動するので、リフトプレート6は摩擦抵抗の少ない材質が望ましい(例えば、ニューライト、テフロン(登録商標)など)。また、リフトプレート6にリードフレーム1の幅に合わせた段差もしくはガイド手段を設けることにより、リードフレーム1の幅方向の位置規制を行うことも可能である。
Since the lead frame 1 is sent at a constant pitch and slides with the
上記した構成により、一定のピッチで搬送されたリードフレーム1と、マスク5の開口パターンとが合致したところで、図1(b)に示すように、バックプレート2が下降し、バックプレート2によってリードフレーム1とそれを持ち上げているリフトプレート6とを同時に押し下げる。この際に、リフトプレート6はリードフレーム1とマスク5とが密着するまで撓む。
With the above configuration, when the lead frame 1 transported at a constant pitch and the opening pattern of the
リードフレーム1とマスク5とが気密性を保って密着する状態で、めっき液タンク(図示せず)から供給するめっき液をノズル板3の開口部3aおよび上板4の開口部4aを通してリードフレーム1の部分めっき部に噴きつけて部分めっきを施す。
In a state where the lead frame 1 and the
部分めっきが施された後、バックプレート2が上昇すると、リードフレーム1を保持しているリフトプレート6がバネの作用によりリードフレーム1とマスク5が接触しない高さまで復帰する。以上のようにして、リードフレーム1の搬送と部分めっき処理とを交互に繰り返してリードフレーム1をめっき処理する。
When the
上述した構成において、スペーサー7の上面内側の角を丸面取りすることにより、リフトプレート6がバックプレート2により押し下げられて撓む際のリフトプレート6のストレスを軽減することができる。
In the above-described configuration, by rounding the corners inside the upper surface of the
このように本発明は従来の部分めっき治具の構成を大きく変えることなく、上記のような効果を安価で実現することが出来る。 As described above, the present invention can realize the above effects at a low cost without greatly changing the configuration of the conventional partial plating jig.
1 リードフレーム
2 バックプレート
3 ノズル板
3a 開口部
3b 電極
4 上板
4a 開口部
5 マスク
5a 開口部
6 リフトプレート
7 スペーサー
101 本体フレーム
102 取付治具部
103 マスク用治具
104 めっき槽
105 パッキン
106 リードフレーム
107 ノズル
108 電極
109 プレスブロック
110 プレスブロック取付部
111 マスクゴム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007129935A JP2008285704A (en) | 2007-05-16 | 2007-05-16 | Partial plating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2007129935A JP2008285704A (en) | 2007-05-16 | 2007-05-16 | Partial plating apparatus |
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JP2008285704A true JP2008285704A (en) | 2008-11-27 |
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JP2007129935A Pending JP2008285704A (en) | 2007-05-16 | 2007-05-16 | Partial plating apparatus |
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JP (1) | JP2008285704A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114808056A (en) * | 2022-04-29 | 2022-07-29 | 潍坊裕元电子有限公司 | Local gold plating production process for product |
-
2007
- 2007-05-16 JP JP2007129935A patent/JP2008285704A/en active Pending
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