JP2008281740A - Method of forming spacer and blanket substrate used for the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of forming spacer, in which spacer beads are precisely placed at a low cost on an arbitrary pattern of a glass substrate or a film substrate on which the functional pattern is preliminarily formed, and to provide a blanket substrate used for the method of forming spacer. <P>SOLUTION: This invention relates to the method of forming spacer, in which spacer beads are placed on the substrate preliminarily provided with the functional pattern by using an inkjet method, wherein at first, a spacer-bead-containing solution is ejected in a pattern on a blanket substrate subjected to water-repellent surface treatment, according to the inkjet method, solvent is dried, the spacer beads are arranged, thereafter, the spacer beads on the blanket substrate are transferred to the substrate on which the functional pattern is formed. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、あらかじめ機能性パターンが設けられた、ガラス基材やプラスチックフィルム上の所定の位置に、効率よくスペーサービーズを配置して設けるスペーサーの形成方法に関するものである。   The present invention relates to a spacer forming method in which spacer beads are efficiently provided at predetermined positions on a glass substrate or plastic film, on which a functional pattern is provided in advance.

液晶表示装置は、近年のカラー化や高精細化を経て、小型の電子機器やテレビ用途として一般に広く用いられるようになったが、今後さらに薄型化、大型化、低価格化が期待されている。   Liquid crystal display devices have been widely used for small electronic devices and television applications in recent years due to colorization and high definition. However, liquid crystal display devices are expected to be thinner, larger and cheaper in the future. .

一般にカラーテレビ等に用いられるパネル部材は、透明導電極が設けられたカラーフィルター基材と、TFT等の画素電極が設けられた透明基材を貼り合わせることにより形成された微小な空間(セル)に、液晶材料が封止されている。この封止されたセルの厚みは、一方の基材に設けられたスペーサーと呼ばれる微小な構造物によって規制され、維持されている。セルの厚みは、そのまま液晶層の厚みとなるため、パネルの一部でセルの厚みが0.1μm程度の差異があるだけで、その部分の発色や液晶の応答速度が不均一になり、表示のムラの原因や色再現の不具合がでてしまう。   A panel member generally used for a color television or the like is a minute space (cell) formed by bonding a color filter base material provided with a transparent conductive electrode and a transparent base material provided with a pixel electrode such as a TFT. In addition, a liquid crystal material is sealed. The thickness of the sealed cell is regulated and maintained by a minute structure called a spacer provided on one substrate. Since the cell thickness is the thickness of the liquid crystal layer as it is, there is only a difference of about 0.1 μm in the cell thickness in a part of the panel. Cause unevenness of color and defects in color reproduction.

従来の液晶表示装置の製造方法では、画素電極を設けた基材上にスペーサービーズやガラスファイバー片をランダムに散布しており、画素パターン上にもこれらスペーサーが配置されていた。このため、スペーサー周辺の配向不良や光漏れ、加圧による画素電極の損傷などの不具合が問題となっていた。   In a conventional method for manufacturing a liquid crystal display device, spacer beads and glass fiber pieces are randomly scattered on a substrate provided with pixel electrodes, and these spacers are also arranged on the pixel pattern. For this reason, problems such as poor alignment around the spacer, light leakage, and damage to the pixel electrode due to pressurization have been problems.

また、最近ではフォトリソ法によりカラーフィルターのブラックマトリクス上に精度良く樹脂柱を形成する方法が非常に多くの製品に用いられている。しかし、このフォトリソ法によるスペーサーの製造方法は、製膜、露光、現像、剥離の工程を含むので製造設備が大掛かりとなるという問題が指摘されている。また、フォトレジストの使用効率が低いため製造コストが高くなってしまう問題もあるが、今後製造装置の大型化が進むと、コーティングの均一性が無視できない問題となり、樹脂柱の高さを均一に揃えることが困難となってくる問題がある。   Recently, a method of forming resin columns with high accuracy on a black matrix of a color filter by a photolithography method has been used for a large number of products. However, the spacer manufacturing method by the photolithography method has a problem that a manufacturing facility becomes large because it includes steps of film formation, exposure, development, and peeling. In addition, there is a problem that the manufacturing cost increases because the use efficiency of the photoresist is low. However, as the manufacturing equipment increases in size in the future, the uniformity of the coating becomes a problem that cannot be ignored, and the height of the resin column is made uniform. There is a problem that it becomes difficult to align.

一方、スペーサーとして樹脂製のスペーサービーズを用いてセル化を行った場合、スペーサービーズが数%程度圧縮された状態で保持されることから、外気温度の変化で空間が膨張した場合や、たえず振動にさらされる状況でもスペーサービーズの形状復元により、セル構造の維持が容易である。このため、温度環境の厳しい車載用ディスプレイや、製造工程でたわみを持ちやすい大型パネルやフィルム基材を用いた液晶ディスプレイなどでの使用が見直されている。   On the other hand, when using plastic spacer beads as a spacer, since the spacer beads are held in a compressed state of several percent, the space expands due to changes in the outside air temperature or constantly vibrates. The cell structure can be easily maintained by reconstructing the shape of the spacer beads even in the situation exposed to the above. For this reason, the use in the vehicle-mounted display with severe temperature environment, the liquid crystal display using the large sized panel and film base material which are easy to have a bending in a manufacturing process, etc. is reviewed.

そこで、インクジェット方式を用いて、基材上の任意のパターン上にスペーサービーズを配置する試みがなされている(特許文献1参照)。   Therefore, an attempt has been made to arrange spacer beads on an arbitrary pattern on a base material using an ink jet method (see Patent Document 1).

しかし、スペーサーとして用いられる3〜5μm径のビーズをインク中に含むため、目詰まりや吐出位置精度を確保する為に、30μm以上のノズル径を使用しなければならない。この為、インクジェット法で吐出されるインキ滴を小さくすることが困難である。   However, since 3 to 5 μm diameter beads used as spacers are included in the ink, a nozzle diameter of 30 μm or more must be used to ensure clogging and ejection position accuracy. For this reason, it is difficult to reduce the ink droplets ejected by the inkjet method.

使用するノズル径が5〜6μm程度の場合に、着弾の精度が8〜10μmとすると、このノズル径を30μmに広げると、着弾の精度が20μm以上に悪化してしまう。そのた
め、カラーフィルターのパターンに設けられた、数十から数百μm幅の画素上にスペーサービーズを配置することは十分可能であるが、線幅が10〜20μm程度であるブラックマトリクス上に選択的に配置することは困難である。
If the nozzle diameter to be used is about 5 to 6 μm and the landing accuracy is 8 to 10 μm, if the nozzle diameter is increased to 30 μm, the landing accuracy is deteriorated to 20 μm or more. For this reason, it is possible to arrange spacer beads on pixels with a width of several tens to several hundreds μm provided in the color filter pattern, but selective on a black matrix having a line width of about 10 to 20 μm. Is difficult to place.

下記に公知文献を記す。
特開平9−105946号公報
The known literature is described below.
JP-A-9-105946

本発明は、上記の技術的背景を考慮してなされたものであって、あらかじめ機能性パターンが設けられたガラス基材あるいはフィルム基材の任意のパターン上に、スペーサービーズを安価に精度良く設置するスペーサーの形成方法およびそれに用いるブランケット基材を提供するものである。   The present invention has been made in consideration of the above technical background, and spacer beads are placed on a glass substrate or film substrate on which a functional pattern has been provided in advance at a low cost and with high accuracy. And a blanket substrate used therefor.

本発明において上記課題を達成する為に、まず請求項1の発明は、インクジェット法を用いて、スペーサービーズをあらかじめ機能性パターンが設けられた基材上に設置するスペーサーの形成方法であって、
まず、撥水表面加工を施したブランケット基材上にスペーサービーズ含有溶液をインクジェット法によりパターン吐出し、溶剤を乾燥させて前記スペーサービーズを配置した後、前記ブランケット基材上の前記スペーサービーズを前記機能性パターンが設けられた基材上に転写することを特徴とするスペーサーの形成方法である。
In order to achieve the above object in the present invention, first, the invention of claim 1 is a method for forming a spacer, in which spacer beads are placed on a substrate provided with a functional pattern in advance using an inkjet method,
First, a spacer bead-containing solution is pattern-discharged by an ink jet method on a blanket base material that has been subjected to a water-repellent surface treatment, and after the solvent is dried and the spacer beads are arranged, the spacer beads on the blanket base material are It is a method for forming a spacer, which is characterized by transferring onto a base material provided with a functional pattern.

また、請求項2の発明は、前記撥水表面加工を施したブランケット基材上に、使用する前記スペーサービーズ径よりも浅い凹凸部を有するパターンを設けることにより、前記スペーサービーズ分散液を凹部へ誘導し、該スペーサービーズの配置を行なうことを特徴とする請求項1に記載のスペーサーの形成方法である。   The invention according to claim 2 provides the spacer bead dispersion to the recess by providing a pattern having an uneven portion shallower than the diameter of the spacer bead used on the blanket base material subjected to the water-repellent surface treatment. 2. The spacer forming method according to claim 1, wherein the spacer beads are arranged by guiding.

また、請求項3の発明は、前記スペーサービーズを配置したブランケット基材面上に、既に前記機能性パターンが設けられた基材のパターン面を平行に近づけ、カメラなどの観察機器を用いて各基材上にあらかじめ設けた位置合わせマークを基準に位置合わせを行なった後、両基材を重ね合わせ、加圧した後、剥離し、前記スペーサービーズを転写することを特徴とする請求項1又は2に記載のスペーサーの形成方法である。   In the invention of claim 3, on the blanket base material surface on which the spacer beads are arranged, the pattern surface of the base material on which the functional pattern has already been provided is made parallel to each other using an observation device such as a camera. The alignment is performed based on an alignment mark provided in advance on a base material, and then both base materials are superposed, pressed, peeled off, and the spacer beads are transferred. 2. The method for forming a spacer according to 2.

また、請求項4の発明は、前記ブランケット基材上に配置された前記スペーサービーズを既に前記機能性パターンが設けられた基材へ転写する際に、接着層を介して転写を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のスペーサーの形成方法である。   Further, the invention of claim 4 is characterized in that when the spacer beads arranged on the blanket substrate are transferred to the substrate already provided with the functional pattern, the transfer is performed via an adhesive layer. The method for forming a spacer according to any one of claims 1 to 3.

また、請求項5の発明は、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の撥水表面加工を施したブランケット基材として、透明な基材上へ前記スペーサービーズ径よりも薄い印刷パターン層を設けた後、さらに基材全面にシリコーン樹脂層を積層することを特徴とするブランケット基材である。   Further, the invention of claim 5 is a printed pattern layer that is thinner than the spacer bead diameter on a transparent substrate as a blanket substrate subjected to the water-repellent surface treatment according to any one of claims 1 to 4. After providing, a blanket base material characterized by further laminating a silicone resin layer on the whole surface of the base material.

本発明は以上の特徴を持つことから、下記に示す効果がある。   Since the present invention has the above features, the following effects are obtained.

即ち、請求項1に係る発明によれば、インクジェット法を用いて、スペーサービーズを既に機能性パターンが設けられた基材上に設置する方法であって、まず撥水表面加工を施したブランケット基材上にスペーサービーズをパターン状に配置した後、目的の基材上に転写することから、目的の基材上にスペーサービーズを適切に配置するための加工などを
特に設けることなく、高精細パターンにあわせたスペーサーの形成を行う事が可能となる。また、ガラス基材やフィルム基材など転写対象となる基材を問うことなくスペーサーの形成を行うことが可能となる。
That is, according to the first aspect of the present invention, there is provided a method of installing spacer beads on a substrate already provided with a functional pattern using an ink jet method, and first a blanket substrate having a water-repellent surface treatment. Since the spacer beads are arranged in a pattern on the material and then transferred onto the target substrate, a high-definition pattern is provided without any special processing for properly arranging the spacer beads on the target substrate. It is possible to form a spacer in accordance with In addition, the spacer can be formed without questioning the base material to be transferred such as a glass base material or a film base material.

また、請求項2に係る発明によれば、該撥水表面加工を施したブランケット基材上の、インクジェット法によるスペーサービーズ分散液の着弾エリアの範囲に、段差を有するパターンを配列して設ける事により、溶剤の揮発過程において、スペーサービーズの前記パターン中心部への自己配列を誘発する事で、任意のパターンに応じたスペーサービーズの設置を行う事ができる。   According to the invention of claim 2, a pattern having a step is arranged in the range of the landing area of the spacer bead dispersion by the inkjet method on the water-repellent surface-treated blanket substrate. Thus, in the process of volatilization of the solvent, the spacer beads can be placed according to an arbitrary pattern by inducing self-alignment of the spacer beads at the center of the pattern.

また、請求項3に係る発明によれば、前記ブランケット基材上にスペーサービーズを配列した面上に、既に機能性パターンが設けられた基材のパターン面を平行に近づけ、カメラなどの観察機器を用いて各基材上にあらかじめ設けた位置合わせマークを基準に位置合わせを行なった後、両基材を重ね合わせ、加圧した後、剥離して被転写基材へスペーサービーズを転写する事で、高精細パターン上に再現性良くスペーサーを形成することが可能となる。   According to the invention of claim 3, an observation device such as a camera is provided by bringing the pattern surface of the base material already provided with the functional pattern close to parallel on the surface on which the spacer beads are arranged on the blanket base material. After aligning with the alignment mark provided on each substrate as a reference, the both substrates are overlapped, pressed, peeled, and the spacer beads are transferred to the substrate to be transferred. Thus, the spacer can be formed on the high-definition pattern with good reproducibility.

さらに、請求項4に係る発明によれば、前記ブランケット基材上に配置されたスペーサービーズを目的の基材へ転写する際に、接着層を介する事で、スペーサービーズの基材上への転写を完全に行うことが可能であり、被転写基材との密着を強めることで、後工程でのスペーサー欠落を防ぎ、たわみや振動による不具合を低減することが可能である。   Furthermore, according to the invention which concerns on Claim 4, when transferring the spacer bead arrange | positioned on the said blanket base material to the target base material, a spacer bead is transferred on the base material through an adhesive layer. It is possible to completely perform the process, and by strengthening the close contact with the substrate to be transferred, it is possible to prevent a spacer from being lost in a later process and to reduce defects due to deflection and vibration.

また、請求項5に係る発明によれば、前記撥水表面加工を施したブランケット基材として、透明な基材上へ前記スペーサービーズ径よりも薄い印刷パターン層を設けた後、さらに基材全面にシリコーン樹脂層を積層する事で、表面に凹凸のある撥水表面加工を施したブランケット基材を安価に入手することができる。   Further, according to the invention according to claim 5, after providing the printing pattern layer thinner than the spacer bead diameter on the transparent substrate as the blanket substrate subjected to the water-repellent surface treatment, the entire substrate surface is further provided. By laminating a silicone resin layer, a blanket base material having a water-repellent surface treatment with irregularities on the surface can be obtained at low cost.

従って、本発明はインクジェット方式と転写方式を併用することで、既に機能性パターンを有するガラス基材あるいはフィルム基材を用いた任意の基材パターン上にスペーサーを安価に精度良く、形成する方法とする事ができる。   Therefore, the present invention is a method for forming a spacer inexpensively and accurately on an arbitrary substrate pattern using a glass substrate or a film substrate that already has a functional pattern by using an inkjet method and a transfer method together. I can do it.

以下に図面に基づいて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本発明に用いるブランケット基材は、表面に撥水性を持ち、表面に任意の凹凸パターンを施すことが可能な基材を用いる事ができるが、母型の凹凸表面をシリコーン樹脂により型取りする、レプリカ型ブランケット基材105や、あらかじめ設けた印刷パターン層111にシリコーン薄膜層112を設けた印刷パターン型ブランケット基材113を用いるのが好ましい。   The blanket substrate used in the present invention can be a substrate having water repellency on the surface and capable of giving an arbitrary uneven pattern on the surface, but molds the uneven surface of the mother mold with a silicone resin. It is preferable to use a replica-type blanket substrate 105 or a print pattern-type blanket substrate 113 in which a silicone thin film layer 112 is provided on a print pattern layer 111 provided in advance.

レプリカ型ブランケット基材105は、支持基材103や、アンカー層104、シリコーン樹脂層102より形成される。(図1c)
一方、印刷パターン型ブランケット基材113は、支持基材103や印刷パターン層111、シリコーン薄膜層112から形成される。(図1e)
支持基材103は、ソーダガラスや無アルカリガラス等のガラス基材やプラスチック等の基材に加工し用いることが可能である。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができる。さらに光透過性の基材を用いることにより、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすること
ができる。
The replica blanket base material 105 is formed of a support base material 103, an anchor layer 104, and a silicone resin layer 102. (Fig. 1c)
On the other hand, the printing pattern type blanket substrate 113 is formed of the supporting substrate 103, the printing pattern layer 111, and the silicone thin film layer 112. (Fig. 1e)
The support base material 103 can be processed and used as a glass base material such as soda glass or non-alkali glass, or a base material such as plastic. For example, films and sheets of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, and the like can be used. Further, by using a light-transmitting substrate, alignment can be facilitated during pattern superposition.

また、シリコーン樹脂層102や印刷パターン層111との密着性を向上させるため易接着層を設ける事や、加工前にUV処理やコロナ処理を行なうのが好ましい。   Moreover, it is preferable to provide an easy-adhesion layer in order to improve the adhesiveness with the silicone resin layer 102 and the printed pattern layer 111, or to perform UV treatment or corona treatment before processing.

ブランケット基材として、シリコーン樹脂によるレプリカ型ブランケット基材105を用いる場合は、ブランケット支持基材103とシリコーン樹脂層102の密着を向上させるため、アンカー層104を設けることが好ましい。   When a replica blanket substrate 105 made of silicone resin is used as the blanket substrate, an anchor layer 104 is preferably provided to improve the adhesion between the blanket support substrate 103 and the silicone resin layer 102.

アンカー層104には、熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン樹脂やこれら樹脂とシリコーン樹脂との混合体やシランカップリング剤など、最表面に設けるシリコーン樹脂層102に対してより基材との接着性の高い樹脂層を、アンカー層104としてあらかじめブランケット支持基材103上に設けておくこともできる。   The anchor layer 104 has a thermosetting or ultraviolet curable acrylic resin, epoxy resin, melamine resin, a mixture of these resins with a silicone resin, a silane coupling agent, or the like on the silicone resin layer 102 provided on the outermost surface. Thus, a resin layer having higher adhesion to the base material can be provided on the blanket support base material 103 in advance as the anchor layer 104.

シリコーン樹脂層102としては、母型から鋳型をとることができるものなら使用可能であり、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたものが使用可能であるが、いわゆる型取り用として市販されている室温硬化型のものが好適である。縮重合タイプと付加重合タイプがあるが、どちらも使用可能である。例えば、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のTSE―3504,TSEー350,TSE―3502、TSE―3508、TSE―12−A4001、TSE―3457,TSE―3477、TSE―3450、TSE―3453、TSE―3453T、XE−15−A1814、TSE―3450、TSE―3466、TSE―3402,YE―5626等の一連の製品、また信越シリコーン社製の型取り用の、KE10,KE12、KE17、KE20、KE111、KE112、KE113、KE24、KE26、KE1400、KE1402、KE1404、KE1300、KE1600等が使用可能である。さらに硬度を調整するために硬度の異なるものを混合してもよい。また、母型のパターンが数十μmの細かなパターンの場合、重合時に副生成物の生じない付加重合タイプのものが好ましい。   The silicone resin layer 102 can be used as long as it can take a mold from a matrix, and a combination of a two-component diorganopolysiloxane with a trifunctional or higher functional silane as a crosslinking agent, or a siloxane and a curing catalyst. A room-temperature curing type that is commercially available for so-called mold making is preferable. There are a condensation polymerization type and an addition polymerization type, both of which can be used. For example, TSE-3504, TSE-350, TSE-3502, TSE-3508, TSE-12-A4001, TSE-3457, TSE-3477, TSE-3450, TSE-3453 manufactured by Momentive Performance Materials Japan A series of products such as TSE-3453T, XE-15-A1814, TSE-3450, TSE-3466, TSE-3402, YE-5626, etc., and KE10, KE12, KE17, KE20 KE111, KE112, KE113, KE24, KE26, KE1400, KE1402, KE1404, KE1300, KE1600, etc. can be used. Furthermore, in order to adjust hardness, you may mix the thing from which hardness differs. Further, when the matrix pattern is a fine pattern of several tens of μm, an addition polymerization type that does not generate a by-product during polymerization is preferable.

母型101としては、無アルカリガラス等の低膨張ガラス表面に感光性樹脂を用いてマスクパターンを形成した後、既存のドライエッチング処理やウエットエッチング処理、もしくはサンドブラスト処理を用いて、使用するスペーサービーズ202の直径や設置密度に応じて、2μmから5μmの版深を設けたものを用いることができる。   As the matrix 101, spacer beads are used by forming a mask pattern on a surface of a low expansion glass such as alkali-free glass using a photosensitive resin, and then using an existing dry etching process, wet etching process, or sand blasting process. Depending on the diameter and installation density of 202, a plate having a plate depth of 2 to 5 μm can be used.

また、同じく無アルカリガラス等の低膨張ガラス表面に感光性樹脂を用いてパターニングし、2μmから5μmの厚みのパターンを設けたものを利用する事ができる。感光性材料は無機分を含有する必要がなく、シリコーンゴム等の型取りに耐える強度だけが必要である。そのため各種の感光性材料を使用することができる。例えば3次元光造形法に使用する感光性材料を使用することができる。また、感光性フィルム(ドライフィルム)を使用することもできる。   Similarly, it is possible to use a pattern obtained by patterning a surface of a low-expansion glass such as an alkali-free glass with a photosensitive resin to provide a pattern having a thickness of 2 μm to 5 μm. The photosensitive material does not need to contain an inorganic component, and only needs to be strong enough to withstand mold making such as silicone rubber. Therefore, various photosensitive materials can be used. For example, a photosensitive material used for the three-dimensional stereolithography can be used. Moreover, a photosensitive film (dry film) can also be used.

母型101上へ上記シリコーン樹脂層102を形成する方法としては、インキの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。すなわち、例えばスピンコート、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインキについて均一なインキ液膜を形成することができ、さらにその中でもダイコートが最も効率的で好適な形成方法である。   As a method for forming the silicone resin layer 102 on the matrix 101, a known coating method can be used depending on the viscosity of the ink and the drying property of the solvent. That is, for example, spin coating, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method and the like can be mentioned. Among them, a die coat, a cap coat, a roll coat, and an applicator can form a uniform ink liquid film with respect to an ink having a wide range of viscosity, and among them, a die coat is the most efficient and preferred forming method.

まず、母型101上に型取り用シリコーンを塗布し(図1a、b)、あらかじめアンカー層を設けた支持基材をラミネート後、必要によっては加熱し、常温で放置し型取り用シリコーンを硬化させた後、支持基材を母型から剥離することで凹部パターンを持つレプリカ型ブランケット基材105を得る。(図1c)
一方、あらかじめ設けた印刷パターン層111にシリコーン薄膜層112を設けた印刷パターン型ブランケット基材113を用いる事もできる。
First, mold making silicone is applied on the mother die 101 (FIGS. 1a and b), and a support base provided with an anchor layer in advance is laminated, then heated if necessary, and left at room temperature to cure the mold taking silicone. Then, the support base material is peeled off from the matrix to obtain a replica blanket base material 105 having a concave pattern. (Fig. 1c)
On the other hand, a printing pattern type blanket base material 113 in which a silicone thin film layer 112 is provided on a printing pattern layer 111 provided in advance can also be used.

印刷パターン層111は、既存のパターニング方式を用いる事ができ、スクリーン印刷方式やグラビア印刷方式、凹版印刷方式、反転印刷方式を用いる事ができるが、高精度のパターンを形成する場合は、光硬化性樹脂を用いた、いわゆるフォトリソ方式を用いるのが好ましい。   For the printing pattern layer 111, an existing patterning method can be used, and a screen printing method, a gravure printing method, an intaglio printing method, and a reverse printing method can be used. It is preferable to use a so-called photolithography method using a conductive resin.

また、印刷パターン層111の膜厚は、使用するスペーサービーズ202の直径や設置密度により2μmから5μmに設けるのが好ましい。   The thickness of the printed pattern layer 111 is preferably 2 μm to 5 μm depending on the diameter and installation density of the spacer beads 202 to be used.

印刷パターン層111上に設けるシリコーン薄膜層112には、シリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を用いても良いし、あるいはシリコーンゴムを薄く設けてもをよい。また同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用されうるし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。   For the silicone thin film layer 112 provided on the printed pattern layer 111, a release agent represented by silicone oil or silicone varnish may be used, or a thin silicone rubber may be provided. For the same purpose, fluorine-based resins and fluorine-based rubbers may be used, or the fluororesin fine powder may be mixed with silicone rubber or ordinary rubber to obtain releasability.

具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。 シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。   Specific silicones include dimethylpolysiloxanes with various molecular weights, other methylhydropolysiloxanes, methylphenylsilicone oils, methylchlorinated phenylsilicone oils, or copolymers of these polysiloxanes with organic compounds. Can be used. Silicone rubber is a combination of two-component diorganopolysiloxane and a tri- or higher functional silane as a crosslinking agent, or a combination of siloxane and a curing catalyst, or one-component diorganopolysiloxane, acetone oxime, and various methoxys. Combinations of silane, methyltriacetoxysilane, and the like are used, and other polysiloxanes for adjusting rubber hardness are appropriately used.

上記に示した印刷パターン層111上へシリコーン薄膜層112を形成する方法としては、インキの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。すなわち、例えばスピンコート、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインキについて均一なインキ液膜を形成することができ、さらにその中でもダイコートが最も効率的で好適な形成方法である。   As a method of forming the silicone thin film layer 112 on the printed pattern layer 111 shown above, a known coating method can be used depending on the viscosity of the ink and the drying property of the solvent. That is, for example, spin coating, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method and the like can be mentioned. Among them, a die coat, a cap coat, a roll coat, and an applicator can form a uniform ink liquid film with respect to an ink having a wide range of viscosity, and among them, a die coat is the most efficient and preferred forming method.

このように印刷パターン層111上へシリコーン薄膜層112を塗布した後、シリコーン薄膜層112の硬化促進の為に過熱処理を行い、印刷パターン型ブランケット基材113を得る。(図1e)
本発明に用いるスペーサービーズ202は粒子径3〜5μmの球状粒子を、1種または2種以上を混合して用いることができる。
Thus, after apply | coating the silicone thin film layer 112 on the printing pattern layer 111, it heat-processes in order to accelerate | stimulate hardening of the silicone thin film layer 112, and the printing pattern type | mold blanket base material 113 is obtained. (Fig. 1e)
As the spacer beads 202 used in the present invention, spherical particles having a particle diameter of 3 to 5 μm can be used alone or in combination of two or more.

スペーサービーズ202の材質としては特に限定されず、例えば、樹脂、有機物、無機物、これらの化合物や混合物等が挙げられる。上記樹脂としては特に限定されず、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール等の線状又は架橋高分子重合体;エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジビニルベンゼン重合体、ジビニルベンゼン−スチレン共重合体、ジビニルベンゼン−アクリル酸エステル共重合体、ジアリルフタレート重合体、トリアリルイソシアヌレート重合体等の架橋構造を有する樹脂等が挙げられる。また、無機物としてはシリカ等があげられる。
The material of the spacer beads 202 is not particularly limited, and examples thereof include resins, organic substances, inorganic substances, and compounds and mixtures thereof. The resin is not particularly limited. For example, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polytetrafluoroethylene, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyamide, polyimide, polysulfone, polyphenylene oxide. Linear or cross-linked polymer such as polyacetal; epoxy resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, unsaturated polyester resin, divinylbenzene polymer, divinylbenzene-styrene copolymer, divinylbenzene-acrylate copolymer Examples thereof include resins having a crosslinked structure such as a polymer, diallyl phthalate polymer, and triallyl isocyanurate polymer. Moreover, silica etc. are mention | raise | lifted as an inorganic substance.

また、スペーサービーズ202は液晶セル化工程の際の圧力によるセル厚のムラを低減させるため、あるいは転写工程において加えられる圧力に耐えるために圧縮弾性率(10%K値)が2500MPa〜13000MPaであるものが好ましい。   The spacer beads 202 have a compressive elastic modulus (10% K value) of 2500 MPa to 13000 MPa in order to reduce cell thickness unevenness due to pressure during the liquid crystal cell forming process or to withstand the pressure applied in the transfer process. Those are preferred.

本発明のスペーサービーズ分散液201中におけるスペーサービーズ202の固形分濃度は、特に限定されないが、例えば分散液全体の0.2〜3%であることが好ましい。   The solid content concentration of the spacer beads 202 in the spacer bead dispersion 201 of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 3% of the total dispersion, for example.

スペーサービーズ分散液201におけるスペーサービーズ202の固形分濃度が0.2%未満であると、吐出された液滴中にスペーサービーズ202が含まれなくなり易く、カラーフィルター基材上のスペーサー密度が低下し、また3%を超えると、スペーサービーズ202同士が凝集したり、インクジェット塗工ヘッド203のノズルが詰まったり、また、吐出された液滴中のスペーサービーズ202の含有量が過剰となり易くなる傾向があるため好ましくない。   If the solid content concentration of the spacer beads 202 in the spacer bead dispersion 201 is less than 0.2%, the spacer beads 202 are not easily contained in the discharged droplets, and the spacer density on the color filter substrate is lowered. If it exceeds 3%, the spacer beads 202 are aggregated, the nozzles of the inkjet coating head 203 are clogged, and the content of the spacer beads 202 in the discharged droplets tends to be excessive. This is not preferable.

本発明のスペーサービーズ分散液201に用いる水溶性溶剤としては沸点150℃以上、好ましくは180℃以上のものを1種または2種以上混合して用いることができる。   As the water-soluble solvent used in the spacer bead dispersion 201 of the present invention, those having a boiling point of 150 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or higher can be used alone or in combination.

本発明に用いられる水溶性溶剤としては、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,2,4−ブタントリオール、2,2‘−チオジエタノール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の高沸点低揮発性の多価アルコール類が用いられ、その他N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、モノエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、N−n−ブチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン等の水溶性溶剤を添加することが出来る。   Examples of the water-soluble solvent used in the present invention include glycerin, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, hexylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,2 , 4-butanetriol, 2,2′-thiodiethanol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and other high-boiling low-volatility polyhydric alcohols are used, and other N-methyl-2-pyrrolidone and 1,3-dimethylimidazo Add water-soluble solvent such as lydinone, monoethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, diethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, triisopropanolamine, triethanolamine To it can be.

また、本発明における沸点150℃以上の水溶性溶剤の添加量は50〜90%であることが好ましい。添加量が50%以下であるとスペーサービーズ分散液201の揮発性が高くなり、インキ安定性を低下させ、また、90%以上であるとスペーサービーズ分散液201の粘度が上昇し、インクジェット塗工時の吐出不良の原因となるため好ましくない。   Moreover, it is preferable that the addition amount of the water-soluble solvent whose boiling point is 150 degreeC or more in this invention is 50 to 90%. If the added amount is 50% or less, the volatility of the spacer bead dispersion 201 is increased and the ink stability is lowered. If it is 90% or more, the viscosity of the spacer bead dispersion 201 is increased, and the ink jet coating is performed. This is not preferable because it causes a discharge failure at the time.

また必要に応じ、カラーフィルター基材およびインクジェット塗工ヘッド203とスペーサービーズ分散液201との濡れ性を制御する目的でアルコール類や界面活性剤を用いられ、1種または2種以上を混合して用いることができる。   Also, if necessary, alcohols or surfactants are used for the purpose of controlling the wettability between the color filter substrate and the inkjet coating head 203 and the spacer bead dispersion 201, and one or more kinds are mixed. Can be used.

アルコール類としてはメチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール等が使用でき、界面活性剤としては、水溶性のアニオン性、カチオン性、両性、ノニオン性の界面活性剤を一種類または複数種を添加できる。   As alcohols, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, etc. can be used, and as the surfactant, one kind of water-soluble anionic, cationic, amphoteric, nonionic surfactant is used. Or multiple types can be added.

本発明のスペーサービーズ分散液201においては、スペーサービーズ202が単粒子状に分散していることが好ましく、その効果を阻害しない範囲で、各種添加剤、例えば、粘接着性付与剤、粘性調整剤、pH調整剤、界面活性剤、消泡剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤が添加されていても良い。   In the spacer bead dispersion 201 of the present invention, it is preferable that the spacer beads 202 are dispersed in a single particle form, and various additives such as an adhesive imparting agent, viscosity adjustment, etc., as long as the effect is not impaired. An agent, a pH adjuster, a surfactant, an antifoaming agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, and a colorant may be added.

本発明ではスペーサービーズ202をインクジェット塗工方式で所定の位置に配置する。インクジェット方式は、インク滴の生成原理により、連続ジェット(コンティヌアス)方式とドロップ・オン・デマンド方式の2方式に分類される。本発明では、いずれの方式も好ましく採用できる。   In the present invention, the spacer beads 202 are arranged at predetermined positions by the ink jet coating method. Inkjet systems are classified into two systems, a continuous jet system and a drop-on-demand system, depending on the principle of ink droplet generation. In the present invention, any method can be preferably employed.

連続ジェット方式は、インク滴を連続して生成させ、記録信号に応じてインク滴を選択して記録を行う方式であり、Sweet型、マイクロドット型、Herz型、IRIS型などがある。また、ドロップ・オン・デマンド方式は、記録信号に応じてインク滴を噴出させる方式であり、圧力パルス方式、サーマルジェット方式、ERF方式などがある。
いずれの方式においても、インキ滴の吐出再現性やスペーサービーズ径、スペーサービーズ202によるノズル詰まりの防止を考慮すると、ノズル径が20〜60μmであることが望ましい。
The continuous jet method is a method in which ink droplets are continuously generated and ink droplets are selected according to a recording signal to perform recording, and there are a Sweet type, a microdot type, a Herz type, an IRIS type, and the like. The drop-on-demand method is a method for ejecting ink droplets according to a recording signal, and includes a pressure pulse method, a thermal jet method, and an ERF method.
In any system, the nozzle diameter is preferably 20 to 60 μm in consideration of ink droplet discharge reproducibility, spacer bead diameter, and prevention of nozzle clogging by the spacer beads 202.

インクジェット装置としては、インクジェット塗工ヘッド203のほかにブランケット基材を設置し、吐出開始位置や傾きを調節するX,Y,θ軸移動や、ヘッドの吐出信号と同期してブランケット基材の移動を行うことが可能なステージからなる搬送系や、吐出位置や吐出状態を観測する観測系、スペーサービーズ分散体の供給系等から構成されるが、ブランケット基材に配置された任意のパターンにスペーサービーズ分散液201を吐出することが可能であれば、吐出位置の移動方法や装置構成、インクジェット塗工ヘッド203のマウント方法や搭載するヘッドの数は限定されるものではない。   As an ink jet device, a blanket base material is installed in addition to the ink jet coating head 203, and the X, Y, and θ axes are moved to adjust the discharge start position and inclination, and the blanket base material is moved in synchronization with the head discharge signal. It consists of a transport system consisting of a stage that can perform the operation, an observation system for observing the discharge position and discharge state, a supply system for spacer bead dispersions, etc., but spacers can be placed on any pattern placed on the blanket substrate. As long as the bead dispersion 201 can be discharged, there are no limitations on the method of moving the discharge position, the apparatus configuration, the mounting method of the inkjet coating head 203, and the number of heads to be mounted.

本発明の対象となる被転写基板としては、スペーサービーズ202を配置して設ける用途に用いられ、各種表示素子やタッチスイッチ等に使用可能であるが、特に液晶ディスプレイに好適である。この基板は、特に限定されるものではなく、ガラス基材やフィルム基材等の一般的に液晶ディスプレイとして用いられているものであってよい。   The substrate to be transferred, which is the subject of the present invention, is used for arranging and providing spacer beads 202 and can be used for various display elements, touch switches, etc., but is particularly suitable for a liquid crystal display. This substrate is not particularly limited, and may be one generally used as a liquid crystal display such as a glass substrate or a film substrate.

通常、液晶ディスプレイは2枚の基板を重ね合わせて形成される。このため、通常は一方の基材にスペーサーが形成または配置される。そして他方の基材と重ね合わせて液晶表示素子を作製する。スペーサーを形成する基材としては、位置合わせの点からは、遮光パターンを有するカラーフィルター基材204とすることが好ましい。また、本発明によるスペーサービーズ202の配置方法によれば、転写によるブランケットやスペーサービーズ202自体の接触を伴う工程の為、配向膜を設ける前の透明導電膜層207上にスペーサービーズ202を設ける際に用いる事が好ましい。よって、以下被転写基材として、フィルム基材を用いたカラーフィルター基材204の透明導電膜層207へスペーサーの形成を行う場合を例に、工程の説明を行なう。   Usually, a liquid crystal display is formed by overlapping two substrates. For this reason, a spacer is usually formed or arranged on one substrate. And a liquid crystal display element is produced by superimposing on the other substrate. The base material for forming the spacer is preferably the color filter base material 204 having a light shielding pattern from the viewpoint of alignment. Further, according to the arrangement method of the spacer beads 202 according to the present invention, when the spacer beads 202 are provided on the transparent conductive film layer 207 before the alignment film is provided because of the process involving the contact of the blanket by transfer and the spacer beads 202 themselves. It is preferable to use it. Therefore, the process will be described below by taking as an example the case where a spacer is formed on the transparent conductive film layer 207 of the color filter substrate 204 using a film substrate as a transfer substrate.

カラーフィルター基材204上におけるスペーサービーズ202の配置は、スペーサービーズ202に起因する光抜けなどの表示品質の低下を抑制するという観点からも、パネルの遮光パターン(ブラックマトリクスパターン層206)上にスペーサービーズ202を配置することが好ましい。また、基材上におけるスペーサービーズ202の粒子密度は、ブラックマトリクスパターン層206の解像度にもより、特に限定されるものではないが、通常1cm平方の領域に1000〜20000個であることが好ましい。   The arrangement of the spacer beads 202 on the color filter substrate 204 is also arranged on the light-shielding pattern (black matrix pattern layer 206) of the panel from the viewpoint of suppressing deterioration in display quality such as light leakage caused by the spacer beads 202. It is preferable to arrange the beads 202. Further, the particle density of the spacer beads 202 on the substrate is not particularly limited depending on the resolution of the black matrix pattern layer 206, but it is usually preferably 1000 to 20000 in a 1 cm square region.

凹凸パターンを設けたブランケット基材上の凹部パターン付近に、スペーサービーズ分散液201を着弾させると、溶液の表面張力によって、その凹部が隔壁となりほとんどが凹部内に留まる。また、凹部溶剤の乾燥と共にスペーサービーズが液滴中を移動するが、一度凹部に進入すると、その外部へ拡散する事は無く、よってブランケット基材の凹部パターンに、ほとんどのスペーサービーズ202が定着する。   When the spacer bead dispersion 201 is landed in the vicinity of the concave pattern on the blanket substrate provided with the concave / convex pattern, the concave portion becomes a partition due to the surface tension of the solution, and almost remains in the concave portion. In addition, the spacer beads move in the droplet as the recess solvent is dried, but once entering the recess, the spacer beads do not diffuse to the outside, so that most spacer beads 202 are fixed to the recess pattern of the blanket substrate. .

スペーサービーズ202を配置したブランケット基材105、113は、転写装置20
1に搬送し、スペーサービーズ202のカラーフィルター基材204への転写を行なう。
The blanket base materials 105 and 113 on which the spacer beads 202 are arranged correspond to the transfer device 20.
1 to transfer the spacer beads 202 to the color filter substrate 204.

転写装置201は、カラーフィルター基材204の巻き出し部211、巻き取り部212、可動ステージ216、乾燥炉213、アライメント用カメラ214、加圧部215によって構成される。   The transfer device 201 includes an unwinding unit 211, a winding unit 212, a movable stage 216, a drying furnace 213, an alignment camera 214, and a pressure unit 215 for the color filter base material 204.

巻き出し部211、巻き取り部212は、それぞれ巻き取りロールで供給されるカラーフィルター基材204の原反を設置または、巻き取るため直径3インチから30インチの芯を装着できるマウンターを備えたシリンダーと、回転やテンションを制御して基材を搬送するためのモーターを備える。装着されるフィルム原反幅は100mm〜1000mmが選択できるが、パターンの実用性と転写位置精度を考慮し300mm幅が選択される。   The unwinding unit 211 and the winding unit 212 are each a cylinder having a mounter on which a core with a diameter of 3 inches to 30 inches can be mounted in order to install or wind the original fabric of the color filter base material 204 supplied by a winding roll. And a motor for controlling the rotation and tension to convey the substrate. The original film width to be mounted can be selected from 100 mm to 1000 mm, but the width of 300 mm is selected in consideration of the practicality of the pattern and the transfer position accuracy.

また、カラーフィルター基材204のテンションの制御は、これら装置以外に搬送系にニップ部を設置して基材を保持することでも調節を行うことができる。ニップ部は、主に搬送ロールに備わったエアー吸着孔による吸着ニップが用いられる。   Further, the tension of the color filter base material 204 can be adjusted by holding the base material by installing a nip portion in the transport system in addition to these devices. As the nip portion, an adsorption nip formed mainly by air adsorption holes provided in the transport roll is used.

可動ステージ216は、ボールねじや、リニアモーター等で駆動するものを用いることができ、金属製、石製などのものを用いることができるが、少なくとも水平方向に水平を保ったまま上下運動することができ、さらにブランケット基材を吸着することができる。吸着による表面の凹凸を防ぐためにフィルムのエッジ付近のみ吸着孔を設ける方法や、多孔質性材料を用いた吸着表面を用いる方法を選択することができる。   The movable stage 216 can be driven by a ball screw, a linear motor, or the like, and can be made of metal, stone, etc., but moves up and down while maintaining at least the horizontal direction. In addition, the blanket substrate can be adsorbed. In order to prevent unevenness of the surface due to adsorption, a method of providing adsorption holes only near the edge of the film or a method of using an adsorption surface using a porous material can be selected.

乾燥炉213は、カラーフィルター基材204上に転写したスペーサービーズ202を、搬送や巻取り、配向膜の塗布の際に剥離することを防ぐ為、接着パターン層301や接着層302をより硬化させる為に設けることができ、ホットプレート、オーブン、温風、減圧乾燥、紫外線照射などの乾燥装置を設けてもよい。   The drying furnace 213 further hardens the adhesive pattern layer 301 and the adhesive layer 302 in order to prevent the spacer beads 202 transferred onto the color filter base material 204 from being peeled off during transportation, winding, and application of the alignment film. Therefore, a drying device such as a hot plate, an oven, hot air, reduced-pressure drying, or ultraviolet irradiation may be provided.

アライメント用カメラ214は、カラーフィルター基材204に設けられたブラックマトリクスパターン層206と、スペーサービーズを配置したブランケット基材との位置合わせを行うために設ける。可動性ステージ216上に吸着したブランケット基材上に、カラーフィルター基材204上のブラックマトリクスパターン層206を100〜250μmに近づけた後、カラーフィルター基材204上に得られたパターンの一部やアライメント用のマークパターンと、ブランケット基材上のパターンを透過画像で認識し、それぞれの基材パターンを認識した画像を基に可動性ステージ216を動作させ転写位置の補正を行うことができる。   The alignment camera 214 is provided to align the black matrix pattern layer 206 provided on the color filter base material 204 with the blanket base material on which spacer beads are arranged. After the black matrix pattern layer 206 on the color filter substrate 204 is brought close to 100 to 250 μm on the blanket substrate adsorbed on the movable stage 216, a part of the pattern obtained on the color filter substrate 204 The alignment mark pattern and the pattern on the blanket substrate can be recognized as a transmission image, and the movable stage 216 can be operated based on the image in which each substrate pattern is recognized to correct the transfer position.

上記アライメント用カメラ214は光学顕微鏡、CCD(Charge Coupled Device)顕微鏡のどちらであっても良いが、オートフォーカス、電気的に制御可能な手動焦点制御機構のいずれか、もしくはその両方の機能を必要とし、観察の為に外部に設置したモニターや位置補正の為の画像処理装置へのインターフェースを持つものとすることができる。   The alignment camera 214 may be either an optical microscope or a CCD (Charge Coupled Device) microscope, but requires an autofocus function, an electrically controllable manual focus control mechanism, or both. It is possible to have an interface with an external monitor for observation or an image processing apparatus for position correction.

また、カラーフィルター基材204とブランケット基材の間に顕微鏡カメラを挿入し、それぞれの基材上のパターンを認識した画像を基に位置の補正を行う方法も選択できる。   In addition, a method can be selected in which a microscope camera is inserted between the color filter base material 204 and the blanket base material, and the position is corrected based on an image in which the pattern on each base material is recognized.

加圧部215は、可動性ステージ216上に金属ローラーまたはゴムローラーが設けられる。   The pressure unit 215 is provided with a metal roller or a rubber roller on the movable stage 216.

可動性ステージに固定されたブランケット基材と、わずかな隙間をあけて設置されたカラーフィルター基材204の上からローラーを押し当て、可動性ステージ216の移動と
共にローラーを回転させながら印圧をかけ、つぎにカラーフィルター基材204をブランケット基材から剥がすことによりスペーサービーズ202をカラーフィルター基材204上へ転写することができる。
A roller is pressed from the blanket base material fixed to the movable stage and the color filter base material 204 installed with a slight gap, and printing pressure is applied while rotating the roller as the movable stage 216 moves. Next, the spacer beads 202 can be transferred onto the color filter substrate 204 by peeling the color filter substrate 204 from the blanket substrate.

ブランケット基材の凹部パターンに定着したスペーサービーズ202は、そのまま転写しても、カラーフィルター基材204上の透明導電膜層207への密着力が弱く、転写することが困難であり、またスペーサービーズ202の固着力により転写を行なう事ができたとしても、その後の搬送や配向膜の塗布などの際に剥離してしまう可能性がある。   Even if the spacer beads 202 fixed on the concave pattern of the blanket base material are transferred as they are, the adhesion to the transparent conductive film layer 207 on the color filter base material 204 is weak and difficult to transfer. Even if the transfer can be performed by the fixing force of 202, there is a possibility that the film will be peeled off during the subsequent transport or alignment film application.

そこで、接着成分を介してスペーサービーズ202とカラーフィルター基材204を接着させる必要がある。   Therefore, it is necessary to bond the spacer beads 202 and the color filter base material 204 through an adhesive component.

接着成分を介して、スペーサービーズの転写を行なう方法としては、あらかじめカラーフィルター基材204上に接着パターン層301を設けておく方法(図3a)や、インクジェットによる塗工の際に用いる、スペーサービーズ分散液201に硬化性樹脂を添加しておく方法(図3b)、ブランケット基材に定着したスペーサービーズ202上に、再度インクジェットにより接着インキ滴303を吐出する方式(図3c)が考えられる。   As a method for transferring spacer beads via an adhesive component, a method in which an adhesive pattern layer 301 is provided on a color filter substrate 204 in advance (FIG. 3a), or a spacer bead used for ink-jet coating. A method of adding a curable resin to the dispersion 201 (FIG. 3b) and a method of ejecting the adhesive ink droplets 303 by inkjet again onto the spacer beads 202 fixed to the blanket substrate (FIG. 3c) can be considered.

あらかじめカラーフィルター基材204上に接着パターン層301を設けておく方法図3a)で用いられる接着パターン層301は、硬化性樹脂から成り、液晶表示装置向けスペーサー用樹脂柱成分としてとして公知の光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂を用いることが可能である。例えば、エポキシ系樹脂、ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂を挙げることができ、必要に応じて硬化剤、架橋剤を混合し硬化する。   Method for Providing Adhesive Pattern Layer 301 on Color Filter Substrate 204 In advance The adhesive pattern layer 301 used in FIG. 3a) is made of a curable resin, and is known as a photo-curing as a resin column component for spacers for liquid crystal display devices. A thermosetting resin or a thermosetting resin can be used. For example, an epoxy resin, a polystyrene resin, a melamine resin, a phenol resin, an acrylic resin, an unsaturated polyester resin, and a polyurethane resin can be used. If necessary, a curing agent and a crosslinking agent are mixed and cured.

また、上記硬化性樹脂はパターニング時においては、必要に応じて溶剤に溶解して使用することが可能である。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、メトキシアルコール、エトキシアルコール、メトキシエトキシエタノール、エトキシエトキシエタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテート、メトキシエトキシエチルアセテート、エトキシエトキシエチルアセテート、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン等が挙げることができる。   In addition, the curable resin can be used by dissolving in a solvent as necessary at the time of patterning. For example, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, methoxy alcohol, ethoxy alcohol, methoxyethoxyethanol, ethoxyethoxyethanol, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethyl lactate, acetone , Methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methoxyethyl acetate, ethoxyethyl acetate, ethyl cellosolve acetate, methoxyethoxyethyl acetate, ethoxyethoxyethyl acetate, diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, tetrahydrofuran, N, N -Dimethylformua De, N, N- dimethylacetamide, N- methylpyrrolidone, .gamma.-butyrolactone, benzene, toluene, xylene, n- hexane, n- heptane, can be n- octane exemplified.

接着パターン層301は、カラーフィルター基材204上のブラックマトリクスパターン206上に設けるが、パターニングする方法としては、既存のパターニング方式を用いる事ができ、スクリーン印刷方式やグラビア印刷方式、凹版印刷方式、反転印刷方式インクジェット方式を用いる事ができる。   The adhesive pattern layer 301 is provided on the black matrix pattern 206 on the color filter substrate 204. As a patterning method, an existing patterning method can be used, and a screen printing method, a gravure printing method, an intaglio printing method, A reverse printing ink jet method can be used.

スペーサービーズ分散液201に硬化性樹脂を添加しておく方法(図3b)では、あらかじめ添加しておいた硬化性樹脂が、溶剤の乾燥と共にスペーサービーズ表面にコーティングされ、密着性を発現することから、スペーサービーズ202の転写やその後のスペーサービーズ202の固定化を行なう。   In the method of adding the curable resin to the spacer bead dispersion 201 (FIG. 3b), the curable resin added in advance is coated on the surface of the spacer beads together with the drying of the solvent, so that adhesion is exhibited. Then, transfer of the spacer beads 202 and subsequent fixation of the spacer beads 202 are performed.

添加される硬化性樹脂としては、ポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステル、ポリエチルアクリル酸エステル、スチレンーブタジエン共重合体、ブタジエン共重合
体、アクリロニトリルーブタジエン共重合体、クロロプレン共重合体、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン、ベンゾグアナミン樹脂、フエノール樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタアクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、スチレン−アクリルアミド共重合体、n−イソブチルアクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリルアミド、シリコーン樹脂、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ロジン系樹脂、ポリエチレン、ポリカーボネート、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース系樹脂、エポキシ樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−アクリル共重合体、塩化ビニル樹脂、ポリウレタン、等が挙げられるがこれに限定されるものではない。これら水分散型エマルションポリマーにアクリル基、カルボキシル基、イソシアネート基などの反応性部位を付与したもの、更にはこれらに必要に応じて架橋剤、光開始剤などを添加したものを使用できる。
Examples of the curable resin to be added include polyacrylate, polymethacrylate, polyethylacrylate, styrene-butadiene copolymer, butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, chloroprene copolymer, Cross-linked acrylic resin, cross-linked styrene resin, fluororesin, vinylidene fluoride, benzoguanamine resin, phenol resin, polyolefin resin, cellulose, styrene-acrylate copolymer, styrene-methacrylate copolymer, polystyrene, styrene-acrylamide Copolymer, n-isobutyl acrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, acrylamide, silicone resin, polyvinyl acetal, polyamide, rosin resin, polyethylene, polycarbonate, vinyl chloride Resin, polyvinyl alcohol, cellulose resin, epoxy resin, vinyl acetate resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, vinyl acetate-acrylic copolymer, vinyl chloride resin, polyurethane, etc. is not. Those obtained by adding a reactive site such as an acryl group, a carboxyl group, or an isocyanate group to these water-dispersed emulsion polymers, and those obtained by adding a crosslinking agent, a photoinitiator or the like to these as necessary can be used.

また、これら水分散型エマルジョンを、ブランケット基材上に配置したスペーサービーズ202のパターンに沿って、インクジェット方式を用いて吐出することで、スペーサービーズ202表面に接着層302を設けることも可能である。   Moreover, it is also possible to provide the adhesive layer 302 on the surface of the spacer beads 202 by discharging these water-dispersed emulsions along the pattern of the spacer beads 202 arranged on the blanket substrate using an ink jet method. .

その場合、スペーサービーズ分散液を塗布する際に使用したインクジェット塗工ヘッド203よりも、ノズル径の小さなより精度の高いヘッドを用いる事ができる。   In that case, a more accurate head having a smaller nozzle diameter can be used than the inkjet coating head 203 used when applying the spacer bead dispersion.

上記、スペーサービーズ202を被転写基材に転写するための接着性を付与する方法により、ブランケット基材上に配置したスペーサービーズ202の転写を行なった後、被転写基材を乾燥路213に搬送し、加熱・乾燥を行なう事で、スペーサービーズ202の被転写基材上への固定化を行なう。   After transferring the spacer beads 202 arranged on the blanket substrate by the above-described method for imparting adhesiveness for transferring the spacer beads 202 to the transfer substrate, the transfer substrate is conveyed to the drying path 213. Then, the spacer beads 202 are immobilized on the substrate to be transferred by heating and drying.

以下、本発明を更に詳しく説明するため以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

ブランケット基材として、シリコーン樹脂によるレプリカ版を作製し用いた。レプリカの母型としては、300mmのガラス基材上にフォトリソ方式によりパターン(パターン有効エリアは150mm、凸部25μm幅、凹部125μm幅の連続したストライプパターンと、パターン有効幅の内外へアライメントマークを設けた。)を作製した物を用いた。   A replica plate made of silicone resin was used as a blanket substrate. As a replica matrix, a photolithographic method is used on a 300 mm glass substrate (pattern effective area is 150 mm, convex 25 μm wide, concave 125 μm wide stripe pattern, and alignment marks are provided inside and outside the pattern effective width. The product produced was used.

二液型取り用シリコーン樹脂(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製、TSE−3450(A)液、(B)液)を混合し、減圧下で脱気しておいたものを、母型上にコーティングし、あらかじめPET基材上にアンカー剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製、XP81−A6361)を膜厚0.5μmで設けた支持基材で挟み込み、室温下でラミネート処理を行ってシリコーン樹脂層を均一の膜厚に引き伸ばした状態で、2日間保持させシリコーン樹脂層を硬化させた。   A two-part silicone resin (Momentive Performance Materials Japan, TSE-3450 (A), (B)) mixed and degassed under reduced pressure is used as a matrix It is coated on top, and an anchor agent (made by Momentive Performance Materials Japan Co., XP81-A6361) is put on a PET base material in advance with a support base provided with a film thickness of 0.5μm, and then laminated at room temperature. In the state where the silicone resin layer was stretched to a uniform film thickness, the silicone resin layer was cured by holding for 2 days.

硬化したシリコーン樹脂層をフィルム基材と共に、母型から剥離しパターン有効エリア150mm、凸部125μm幅、凹部25μm幅の連続したストライプパターンを有するブランケット基材を得た。   The cured silicone resin layer was peeled from the matrix together with the film base material to obtain a blanket base material having a continuous stripe pattern having a pattern effective area of 150 mm, a convex portion width of 125 μm, and a concave portion width of 25 μm.

次に、反応性を有する水分散型ウレタンアクリレートエマルション(荒川化学製、EM−90、固形分40%)を攪拌しながら、光開始剤(チバスペシャリティケミカル製、ダロキュア4265)を固形分比で5%となる添加量で少量ずつ添加し、光硬化型エマルションポリマー液を調製した。次いでスペーサービーズ(早川ゴム製、ハヤビーズL−11
S、粒子径5μm)、前記光硬化型エマルションポリマー液、エチレングリコール/ブチルセルソルブ/水=65/5/30(重量比)の混合溶媒を、スペーサービーズ/ポリマー液/混合溶媒=0.3/5/94.7(重量比)となるように混合、超音波分散させ、目開き10μmのステンレスメッシュで濾過し、実施例1のスペーサービーズ分散液を得た。得られたスペーサービーズ分散液の粘度は11.0mPa・s(23℃)であった。このスペーサー分散液を、ピエゾ式インクジェットヘッドを搭載した観察システム付インクジェット印刷装置を用いて、ブランケット基材上に設けたストライプパターン(凹部)に合わせて吐出した。ブランケット基材を60℃オーブンで1分間乾燥させた後、転写装置の可動ステージにエアー吸引により固定した。
Next, while stirring a water-dispersible urethane acrylate emulsion having a reactivity (Arakawa Chemical, EM-90, solid content 40%), a photoinitiator (Ciba Specialty Chemical, Darocur 4265) was added at a solid content ratio of 5 % Was added little by little to prepare a photocurable emulsion polymer solution. Next, spacer beads (Hayakawa Rubber, Haya beads L-11
S, particle diameter 5 μm), the photocurable emulsion polymer liquid, a mixed solvent of ethylene glycol / butyl cellosolve / water = 65/5/30 (weight ratio), spacer beads / polymer liquid / mixed solvent = 0.3. /5/94.7 (weight ratio) was mixed and ultrasonically dispersed, and filtered through a stainless mesh having an aperture of 10 μm to obtain a spacer bead dispersion of Example 1. The viscosity of the obtained spacer bead dispersion was 11.0 mPa · s (23 ° C.). This spacer dispersion was discharged in accordance with the stripe pattern (concave portion) provided on the blanket substrate using an inkjet printing apparatus with an observation system equipped with a piezo inkjet head. The blanket base material was dried in an oven at 60 ° C. for 1 minute, and then fixed to the movable stage of the transfer device by air suction.

被転写基材として、PET基材上に母型と同様のストライプ状遮光パターンを有するフィルム状カラーフィルターを重ね合わせ、アライメントカメラによる観察を行ないながら、可動ステージによる位置の微調整を行った。さらに、転写ローラーによる加圧(0.3MPa/cm2)により、スペーサービーズを被転写基材であるフィルム状カラーフィルター基材に密着させた。
可動ステージを下降させ、被転写基材を剥離した後、100℃、2minで乾燥させ、さらに紫外線照射を行うことで、スペーサービーズの基材への固着を行ない、フィルム状カラーフィルターへスペーサーを形成した。
As a substrate to be transferred, a film-like color filter having a striped light-shielding pattern similar to that of the matrix was superimposed on a PET substrate, and fine adjustment of the position with a movable stage was performed while observing with an alignment camera. Furthermore, the spacer beads were brought into close contact with the film-like color filter substrate, which is the transfer substrate, by pressurization (0.3 MPa / cm 2) with a transfer roller.
After moving the movable stage and peeling off the substrate to be transferred, it is dried at 100 ° C for 2 minutes, and further irradiated with ultraviolet rays to fix the spacer beads to the substrate and form a spacer on the film-like color filter. did.

ブランケット基材として、印刷パターン型ブランケット基材を作製し用いた。
まず、アルカリ可溶性樹脂として、アクリレート樹脂(ダイセル化学工業(株)社製:商品名「サイクロマーP−ACA200M」)100重量部、光重合性モノマーとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(東亜合成(株)社製:商品名:M400)30重量部、光重合開始剤として、イルガキュア369(チバスペシャルケミカル社製)6重量部、希釈溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート300重量部を、撹拌して希釈することにより、ネガレジスト組成物を調製した。
A printed pattern blanket substrate was prepared and used as the blanket substrate.
First, 100 parts by weight of an acrylate resin (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .: trade name “Cyclomer P-ACA200M”) as an alkali-soluble resin, and dipentaerythritol hexaacrylate (Toagosei Co., Ltd.) as a photopolymerizable monomer Company: Trade name: M400) 30 parts by weight, Irgacure 369 (manufactured by Ciba Special Chemicals) as a photopolymerization initiator, 6 parts by weight, and 300 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a diluent solvent are diluted by stirring. Thus, a negative resist composition was prepared.

300mm、0.7mm厚ガラスに、スピンコートにより2.5μm厚になるように均一に塗工し、減圧下で乾燥した。その後、パターン有効エリア150mm、開口部25μm幅、遮光部125μm幅の連続したストライプパターンと、パターン有効幅の内外へアライメントマークの開口部を持つマスクを用いて露光、現像を行い、210℃1hrの環境で硬化させることで、ガラス基材上にパターンを得た。   A 300 mm, 0.7 mm thick glass was uniformly coated to a thickness of 2.5 μm by spin coating, and dried under reduced pressure. Thereafter, exposure and development are performed using a continuous stripe pattern having a pattern effective area of 150 mm, an opening of 25 μm width, and a light shielding portion of 125 μm width, and a mask having an opening of an alignment mark inside and outside the pattern effective width, at 210 ° C. for 1 hr. A pattern was obtained on the glass substrate by curing in the environment.

二液型剥離用シリコーン樹脂(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製、TPR―6712、CM630硬化剤1%、トルエンにて4倍希釈)を混合し、同じくスピンコートにより1μm厚になるようにガラスパターン上に積層し、200℃、20minでシリコーン薄膜層を硬化させることで、印刷パターン型ブランケット基材を得た。   Two-part silicone resin for peeling (Momentive Performance Materials Japan, TPR-6712, CM630 hardener 1%, diluted 4-fold with toluene) is mixed, and the thickness is also 1 μm by spin coating. It laminated | stacked on the glass pattern and the printing pattern type | mold blanket base material was obtained by hardening a silicone thin film layer by 200 degreeC and 20 minutes.

後は、実施例1と同様の要領で、スペーサービーズ分散液をブランケット上に吐出し、スペーサービーズをブランケット基材上に配置した後、フィルム状カラーフィルター基材の所定の位置にスペーサービーズを転写しスペーサー形成を行なった。   After that, the spacer bead dispersion liquid is discharged onto the blanket in the same manner as in Example 1, the spacer beads are placed on the blanket substrate, and then the spacer beads are transferred to a predetermined position on the film-like color filter substrate. Then, spacer formation was performed.

微小な空間を得る為のスペーサーを微細パターン上に形成する用途、例えば各種表示素子やタッチスイッチ等に使用可能であるが、特にガラス基材やフィルム基材を用いた液晶ディスプレイのスペーサー形成に利用可能である。   It can be used for applications such as various display elements and touch switches for forming spacers on a fine pattern to obtain a minute space, but it is especially used for forming spacers for liquid crystal displays using glass substrates and film substrates. Is possible.

本発明におけるブランケット基材の製造プロセスを示す概略図。Schematic which shows the manufacturing process of the blanket base material in this invention. 本発明におけるスペーサービーズの設置工程を示す概略図。Schematic which shows the installation process of the spacer bead in this invention. 本発明における接着層を用いたスペーサービーズの転写工程を示す概略図。Schematic which shows the transcription | transfer process of the spacer bead using the contact bonding layer in this invention.

符号の説明Explanation of symbols

101…母型
102…シリコーン樹脂層
103…ブランケット支持基材
104…アンカー層
105…シリコーンレプリカ型ブランケット基材
111…印刷パターン層
112…シリコーン薄膜層
113…印刷パターン型ブランケット基材
201…スペーサービーズ分散液
202…スペーサービーズ
203…インクジェット塗工ヘッド
204…カラーフィルター基材
205…カラーフィルターパターン層
206…ブラックマトリクスパターン層
207…透明導電膜層
210…転写装置
211…巻き出し部
212…巻取り部
213…乾燥炉
214…アライメント用カメラ
215…加圧部
216…可動ステージ
301…接着パターン層
302…接着層
303…接着インキ滴
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Master mold 102 ... Silicone resin layer 103 ... Blanket support base material 104 ... Anchor layer 105 ... Silicone replica type blanket base material 111 ... Print pattern layer 112 ... Silicone thin film layer 113 ... Print pattern type blanket base material 201 ... Spacer bead dispersion Liquid 202 ... Spacer beads 203 ... Inkjet coating head 204 ... Color filter substrate 205 ... Color filter pattern layer 206 ... Black matrix pattern layer 207 ... Transparent conductive film layer 210 ... Transfer device 211 ... Unwinding part 212 ... Winding part 213 ... Drying furnace 214 ... Alignment camera 215 ... Pressure unit 216 ... Moving stage 301 ... Adhesive pattern layer 302 ... Adhesive layer 303 ... Adhesive ink droplets

Claims (5)

インクジェット法を用いて、スペーサービーズをあらかじめ機能性パターンが設けられた基材上に設置するスペーサーの形成方法であって、
まず、撥水表面加工を施したブランケット基材上にスペーサービーズ含有溶液をインクジェット法によりパターン吐出し、溶剤を乾燥させて前記スペーサービーズを配置した後、前記ブランケット基材上の前記スペーサービーズを前記機能性パターンが設けられた基材上に転写することを特徴とするスペーサーの形成方法。
A method of forming a spacer by using an inkjet method to place spacer beads on a substrate provided with a functional pattern in advance,
First, a spacer bead-containing solution is pattern-discharged by an ink jet method on a blanket base material that has been subjected to a water-repellent surface treatment, and after the solvent is dried and the spacer beads are arranged, the spacer beads on the blanket base material are A method for forming a spacer, which comprises transferring onto a substrate provided with a functional pattern.
前記撥水表面加工を施したブランケット基材上に、使用する前記スペーサービーズ径よりも浅い凹凸部を有するパターンを設けることにより、前記スペーサービーズ分散液を凹部へ誘導し、該スペーサービーズの配置を行なうことを特徴とする請求項1に記載のスペーサーの形成方法。   On the blanket base material subjected to the water repellent surface treatment, by providing a pattern having an uneven portion shallower than the diameter of the spacer beads to be used, the spacer bead dispersion is guided to the recesses, and the spacer beads are arranged. The method for forming a spacer according to claim 1, wherein the method is performed. 前記スペーサービーズを配置したブランケット基材面上に、既に前記機能性パターンが設けられた基材のパターン面を平行に近づけ、カメラなどの観察機器を用いて各基材上にあらかじめ設けた位置合わせマークを基準に位置合わせを行なった後、両基材を重ね合わせ、加圧した後、剥離し、前記スペーサービーズを転写することを特徴とする請求項1又は2に記載のスペーサーの形成方法。   On the blanket substrate surface on which the spacer beads are arranged, the pattern surface of the substrate on which the functional pattern has already been provided is brought close to the parallel, and the alignment is provided in advance on each substrate using an observation device such as a camera. 3. The method for forming a spacer according to claim 1 or 2, wherein after aligning with the mark as a reference, both substrates are superposed and pressed, then peeled off, and the spacer beads are transferred. 前記ブランケット基材上に配置された前記スペーサービーズを既に前記機能性パターンが設けられた基材へ転写する際に、接着層を介して転写を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のスペーサーの形成方法。   4. When transferring the spacer beads arranged on the blanket substrate to a substrate already provided with the functional pattern, transfer is performed through an adhesive layer. A method for forming a spacer according to claim 1. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の撥水表面加工を施したブランケット基材として、透明な基材上へ前記スペーサービーズ径よりも薄い印刷パターン層を設けた後、さらに基材全面にシリコーン樹脂層を積層することを特徴とするブランケット基材。   5. The blanket base material subjected to the water-repellent surface treatment according to claim 1, wherein a printed pattern layer that is thinner than the spacer bead diameter is provided on a transparent base material, and then the whole surface of the base material. A blanket substrate characterized by laminating a silicone resin layer.
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