JP2010224384A - Method for arranging and forming microspheres, and spacer forming method for color filter for flat panel display using the same - Google Patents

Method for arranging and forming microspheres, and spacer forming method for color filter for flat panel display using the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a forming method which enhances the arrangement precision and transferability of microspheres by inexpensive means while employing a method for discharging microspheres by an inkjet system and arranging and forming them. <P>SOLUTION: A surface of a blanket 200 is put over an indirect base 102 on which microspheres 106 are arranged, and they are uniformly stuck to each other using a rubber roller or the like and then are peeled from each other. The microspheres 106 arranged on the indirect base 102 are adsorbed to the surface of the blanket 200 because they are light-weight and are peeled from the surface of the indirect base 102. The surface of the blanket 200 to which the microspheres 106 have been transferred is placed over a surface of a transfer target substrate 206. A pressure treatment with heating at 60 to 120°C is performed from the side of a blanket base material 201 or both sides of the blanket base material 201 and the transfer target substrate 206 by using a heat roller or a hot plate; thereby the microspheres 106 are transferred to the transfer target substrate 206 and the transferred microspheres 106 are fixed. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、インクジェット方式やその他機能性部材を用いて、微小球体の配列や固定を伴う形成方法であり、ガラス基材やプラスチックフィルムに設けられたカラーフィルター上の所定の位置に、効率よく微小球体を配置して設けるフラットパネルディスプレイ向けカラーフィルター用スペーサー形成方法に関するものである。   The present invention is a forming method involving the arrangement and fixation of microspheres using an ink jet method and other functional members, and is efficiently microscopically arranged at a predetermined position on a color filter provided on a glass substrate or a plastic film. The present invention relates to a method for forming a color filter spacer for a flat panel display provided with a spherical body.

一般にカラーテレビ等に用いられる液晶パネル部材は、透明導電極が設けられたカラーフィルター基材と、TFT等の画素電極が設けられた透明基材を貼り合わせて製造される。
これら両基板の間にはスペーサーと呼ばれる構造物を用いて形成された微小な空間(セル)が作られ、液晶材料が封止されている。
Generally, a liquid crystal panel member used for a color television or the like is manufactured by bonding a color filter base material provided with a transparent conductive electrode and a transparent base material provided with a pixel electrode such as TFT.
Between these two substrates, a minute space (cell) formed using a structure called a spacer is created, and a liquid crystal material is sealed.

この封止されたセルの厚みは、一方の基材に設けられたスペーサーの厚さによって規制され、維持されている。   The thickness of the sealed cell is regulated and maintained by the thickness of the spacer provided on one substrate.

セルの厚みは、そのまま液晶層の厚みとなるため、パネルの一部でセルの厚みが0.1μm程度の差異があるだけで、その部分の発色や液晶の応答速度が不均一になり、表示のムラの原因や色再現の不具合が生じてしまう。   Since the cell thickness is the thickness of the liquid crystal layer as it is, there is only a difference of about 0.1 μm in the cell thickness in a part of the panel. Cause unevenness in color and defects in color reproduction.

従来の液晶表示装置の製造方法では、画素電極を設けた基材上にスペーサービーズやガラスファイバー片をランダムに散布しており、画素パターン上にもこれらスペーサーが配置されていた。   In a conventional method for manufacturing a liquid crystal display device, spacer beads and glass fiber pieces are randomly scattered on a substrate provided with pixel electrodes, and these spacers are also arranged on the pixel pattern.

このため、スペーサー周辺の配向不良や光漏れ、加圧による画素電極の損傷などの不具合が問題となっていた。   For this reason, problems such as poor alignment around the spacer, light leakage, and damage to the pixel electrode due to pressurization have been problems.

また、最近ではフォトリソ法によりカラーフィルターのブラックマトリクス上に精度良く樹脂柱を形成する方法が非常に多くの製品に用いられている。   Recently, a method of forming resin columns with high accuracy on a black matrix of a color filter by a photolithography method has been used for a large number of products.

しかし、このフォトリソ法によるスペーサーの製造方法は、製膜、露光、現像、剥離の工程を含むので製造設備が大掛かりとなるという問題が指摘されている。   However, the spacer manufacturing method by the photolithography method has a problem that a manufacturing facility becomes large because it includes steps of film formation, exposure, development, and peeling.

今後製造装置の大型化が進むと、コーティングの均一性が無視できない問題となり、樹脂柱の高さを均一に揃えることが困難となってくる問題がある。   If the size of the manufacturing apparatus is increased in the future, the uniformity of the coating becomes a problem that cannot be ignored, and there is a problem that it becomes difficult to make the heights of the resin columns uniform.

また、そのスペーサーとしての性質上フォトレジストの使用効率が著しく低い。   Further, the use efficiency of the photoresist is remarkably low due to the property as the spacer.

一方、スペーサーとして樹脂製のビーズ(微小球体)を用いてセル化を行った場合、スペーサービーズが数%程度圧縮された状態で保持されることから、外気温度の変化で空間が膨張した場合や、たえず振動にさらされる状況でもスペーサービーズの形状復元により、セル構造の維持が容易である。   On the other hand, in the case of cell formation using resin beads (microspheres) as spacers, the spacer beads are held in a compressed state of about several percent, so the space expands due to changes in the outside air temperature or The cell structure can be easily maintained by reconstructing the shape of the spacer beads even in a situation where it is constantly exposed to vibration.

このため、温度環境の厳しい車載用ディスプレイや、製造工程でたわみを持ちやすい大型パネルやフィルム基材を用いた液晶ディスプレイなどでの使用が見直されている。   For this reason, the use in the vehicle-mounted display with severe temperature environment, the liquid crystal display using the large sized panel and film base material which are easy to have a bending in a manufacturing process, etc. is reviewed.

そこで、インクジェット方式を用いて、基材上の任意のパターン上にスペーサービーズを配置する試みがなされている(特許文献1〜3)。   Then, the trial which arrange | positions a spacer bead on the arbitrary patterns on a base material is made | formed using the inkjet system (patent documents 1-3).

しかし、スペーサーとして用いられる3〜5μm径のビーズ(微小球体)を溶液中に含むため、目詰まりや吐出位置精度を確保する為に、30μm以上のノズル径を使用しなければならない。この為、インクジェット法で吐出される液滴を小さくすることが困難である。   However, since 3 to 5 μm diameter beads (microspheres) used as spacers are included in the solution, a nozzle diameter of 30 μm or more must be used in order to ensure clogging and discharge position accuracy. For this reason, it is difficult to reduce the droplets ejected by the inkjet method.

使用するノズル径が5〜6μm程度の場合に、着弾の精度が8〜10μmとすると、このノズル径を30μmに広げると、着弾の精度が20μm以上に悪化してしまう。   If the nozzle diameter to be used is about 5 to 6 μm and the landing accuracy is 8 to 10 μm, if the nozzle diameter is increased to 30 μm, the landing accuracy is deteriorated to 20 μm or more.

そのため、カラーフィルターのパターンに設けられた、数十から数百μm幅の画素上に微小球体を配置することは十分可能であるが、現在線幅が10〜20μm程度まで微細化が進んだブラックマトリクス上に、選択的に配置することは困難である。   For this reason, it is possible to arrange microspheres on pixels with a width of several tens to several hundreds μm provided in the color filter pattern, but the current line width has been reduced to about 10 to 20 μm. It is difficult to selectively arrange on the matrix.

また、インクジェット方式による微小球体の吐出位置精度を、被転写基材表面の構造物により補正する方法が考案された(特許文献4〜5)。   Further, a method has been devised that corrects the ejection position accuracy of the microspheres by the ink jet method using the structure on the surface of the substrate to be transferred (Patent Documents 4 to 5).

しかし、被転写基材上に別途構造物を設けることが必要で、露光工程や使用材料の増加を伴う欠点があった。   However, it is necessary to provide a separate structure on the substrate to be transferred, and there is a drawback associated with an increase in the exposure process and materials used.

そこで、インクジェット方式による微小球体の吐出位置精度を間接基盤により補正し、間接基盤に配置された微小球体を被転写基材上に転写する方法が提案された(特許文献6)。   Therefore, a method has been proposed in which the ejection position accuracy of the microspheres by the ink jet method is corrected by the indirect base, and the microspheres arranged on the indirect base are transferred onto the substrate to be transferred (Patent Document 6).

この間接基盤を用いる方式では、微小球体を配置する部位に、凹部を配列させるパターン状に加工しておき、間接基盤表面を撥水性に保つことで、微小球体含有溶液の液滴が正確にパターン中心に着弾しなくても、凹部を含む位置に液滴が着弾すれば、溶液の乾燥過程で液滴表面の表面張力と、凹部縁部分への溶液の固着性により、微小球体が凹部に自己集合する性質を利用してインクジェット方式の着弾位置精度を実用に耐える精度に補正可能とした。   In the method using the indirect substrate, the droplets of the microsphere-containing solution are accurately patterned by processing the pattern in which the concave portions are arranged in the portion where the microsphere is arranged and keeping the surface of the indirect substrate water-repellent. Even if the droplets do not land at the center, if the droplets land on the position including the recesses, the microspheres self-adhere in the recesses due to the surface tension of the droplet surface and the adhesiveness of the solution to the edge of the recesses during the drying process of the solution. Using the property of gathering, the landing position accuracy of the ink jet system can be corrected to an accuracy that can be practically used.

しかし、この方式では間接基盤から被転写基材への微小球体の転写は可能であるが、十分な転写性を確保するためには、転写時の加熱が必要となり、間接基盤の反りや膨張を招く問題があった。   However, with this method, it is possible to transfer microspheres from the indirect substrate to the substrate to be transferred, but in order to ensure sufficient transferability, heating at the time of transfer is required, which causes warping and expansion of the indirect substrate. There was an inviting problem.

また、被転写基材がガラス基材など厚く加熱しにくい物である場合、転写の際に微小球体や固着成分への加熱が十分でなく、間接基盤から被転写基材への微小球体の転写不良が起こりやすい傾向があった。   Also, if the substrate to be transferred is thick and difficult to heat, such as a glass substrate, the microspheres and fixing components are not sufficiently heated during transfer, and the transfer of the microspheres from the indirect substrate to the substrate to be transferred There was a tendency for defects to occur.

さらに、間接基盤と被転写基材の双方がガラス基材を用いている場合には、基材の破損を防ぐために基材の保持や重ねあわせ、加圧、剥離等の工程で複雑な機構や精度が求められる欠点があった。   Furthermore, when both the indirect substrate and the substrate to be transferred use a glass substrate, in order to prevent damage to the substrate, complicated mechanisms and processes such as holding and stacking the substrate, pressing, peeling, etc. There was a drawback that required accuracy.

特開平9−105946号公報JP-A-9-105946 特許第3997038号公報Japanese Patent No. 3997038 特開2001−188235号公報JP 2001-188235 A 特許第4023287号公報Japanese Patent No. 4023287 特開2006−227590号公報JP 2006-227590 A 特開2008−281740号公報JP 2008-281740 A

本発明は、上記の技術的背景を考慮してなされたものであって、フラットパネルディスプレイ向けカラーフィルターにインクジェット方式により微小球体含有溶液を吐出して任意のパターン状に微小球体を配置して形成する方法を用いながら、安価な方法で微小球体の配置精度や転写性を高める形成方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above technical background, and is formed by disposing a microsphere-containing solution to a color filter for a flat panel display by an ink jet method and arranging the microspheres in an arbitrary pattern. It is an object of the present invention to provide a formation method that improves the arrangement accuracy and transferability of microspheres by an inexpensive method while using the method.

上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、被転写基板上に微小球体を配置して固定する方法であって、複数の凹部が間隔をおいて形成された間接基盤を用意し、該間接基盤の表面に、インクジェット法を用いて微小球体を含有する溶液を吐出することにより各凹部に前記微小球体を配置させる第1工程と、前記各凹部に前記微小球体が配置された前記被転写基板の表面に、吸着性を有するブランケットの表面を重ね合わせることで、前記微小球体を前記ブランケットの表面に転写させる第2工程と、前記微小球体が転写された前記ブランケットの表面を前記被転写基板の表面に重ね合わせた状態で、前記ブランケットおよび前記被転写基板の少なくとも一方を加熱しつつ加圧することにより前記微小球体を前記被転写基板の表面に転写し固着させる第3工程とを含む事を特徴とする微小球体の配置形成方法である。   As means for solving the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is a method of arranging and fixing microspheres on a substrate to be transferred, indirectly having a plurality of recesses formed at intervals. Preparing a base, and discharging the solution containing microspheres onto the surface of the indirect base by using an ink jet method to dispose the microspheres in the recesses; and the microspheres in the recesses A second step of transferring the microspheres to the surface of the blanket by overlaying the surface of the adsorbent blanket on the surface of the substrate to be transferred, and the blanket to which the microspheres have been transferred. In a state where the surface is superimposed on the surface of the transfer substrate, the microspheres are transferred to the transfer substrate by applying pressure while heating at least one of the blanket and the transfer substrate. A third step and the arrangement method for forming microspheres, which comprises a to fix and transferred to the surface of the substrate.

また、請求項2に記載の発明は、前記間接基盤の表面を、前記凹部と該凹部を除く平坦面とで構成し、前記凹部および前記平坦面の双方に撥水加工を施し、前記間接基盤の凹部を前記微小球体の粒子径よりも浅い深さで形成する事を特徴とする請求項1記載の微小球体の配置形成方法である。   In the invention according to claim 2, the surface of the indirect base is constituted by the concave portion and a flat surface excluding the concave portion, and both the concave portion and the flat surface are subjected to water-repellent processing, and the indirect base is provided. The method for forming and arranging microspheres according to claim 1, wherein the recesses are formed at a depth shallower than the particle diameter of the microspheres.

また、請求項3に記載の発明は、前記間接基盤の表面を、前記凹部と該凹部を除く平坦面とで構成し、前記平坦面に、位置合わせ用凹部を設け、前記第2工程に先立って、前記ブランケットの表面が前記位置合わせ用凹部に対応する箇所に、前記位置合わせ用凹部を包含する大きさのインク膜を塗布しておき、前記第2工程において前記ブランケットの表面へ前記微小球体を転写する際に、前記ブランケットの表面に塗布されたインク膜を前記位置合わせ用凹部パターン周辺の前記ブランケットの表面の部分に転移させることで、前記ブランケットの表面に前記位置合わせ用凹部に対応する形状を有する位置合わせマークを設ける事を特徴とする請求項1記載の微小球体の配置形成方法である。   According to a third aspect of the present invention, the surface of the indirect base is constituted by the concave portion and a flat surface excluding the concave portion, and an alignment concave portion is provided on the flat surface, and prior to the second step. Then, an ink film having a size including the alignment recess is applied to a location where the surface of the blanket corresponds to the alignment recess, and the microspheres are applied to the blanket surface in the second step. When transferring the ink, the ink film applied to the surface of the blanket is transferred to a portion of the blanket surface around the positioning recess pattern, thereby corresponding to the positioning recess on the surface of the blanket. 2. The method for forming and arranging microspheres according to claim 1, wherein an alignment mark having a shape is provided.

また、請求項4に記載の発明は、前記ブランケットは、ブランケット基材と該ブランケット基材の表面を構成する吸着層とを有し、前記ブランケット基材は透明フィルムで構成され、前記吸着層は前記透明フィルムに3μm〜20μm厚に塗布されたシリコーン樹脂で構成される事を特徴とする請求項1乃至3に何れか1項記載の微小球体の配置形成方法である。   In the invention according to claim 4, the blanket has a blanket base material and an adsorption layer constituting the surface of the blanket base material, the blanket base material is constituted by a transparent film, 4. The method for forming and arranging microspheres according to any one of claims 1 to 3, comprising a silicone resin applied to the transparent film to a thickness of 3 to 20 [mu] m.

また、請求項5に記載の発明は、前記微小球体を含有する溶液は、沸点150℃以上の有機溶剤を主成分とする分散溶媒が粒子径1〜10μmの微小球体を0.1〜10重量%含有することで構成され、前記微小球体を含有する溶液の23℃条件下での粘度が30cps以下、表面張力が20〜50mN/mである事を特徴とする請求項1乃至4に何れか1項記載の微小球体の配置形成方法である。   In the invention according to claim 5, the solution containing the microspheres is 0.1 to 10 weights of microspheres having a dispersion solvent whose main component is an organic solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and having a particle diameter of 1 to 10 μm. 5. The composition according to claim 1, wherein the solution containing the microspheres has a viscosity at 23 ° C. of 30 cps or less and a surface tension of 20 to 50 mN / m. 2. A method for forming and arranging microspheres according to item 1.

また、請求項6に記載の発明は、前記微小球体を含有する溶液は接着樹脂成分を含み、前記第3工程による前記微小球体の前記被転写基板の表面への固着は、前記接着成分が熱硬化、またはエネルギー線硬化、または紫外線硬化することでなされる事を特徴とする請求項1乃至5に何れか1項記載の微小球体の配置形成方法である。   According to a sixth aspect of the present invention, the solution containing the microspheres includes an adhesive resin component, and the adhesion of the microspheres to the surface of the substrate to be transferred in the third step is performed when the adhesive component is heated. 6. The method for forming and arranging microspheres according to claim 1, wherein the method is performed by curing, energy ray curing, or ultraviolet curing.

また、請求項7に記載の発明は、請求項1乃至6に何れか1項記載の微小球体の配置形成方法を用いて、画素電極が形成された基材とカラーフィルターとの間に配置されるスペーサー粒子としての微小球体を配置し、前記スペーサー粒子を数密度1000〜50000個/cmに形成した事を特徴とするフラットパネルディスプレイ向けカラーフィルター用スペーサー形成方法である。 The invention described in claim 7 is arranged between the base material on which the pixel electrode is formed and the color filter using the method for forming and arranging microspheres according to any one of claims 1 to 6. This is a method for forming a color filter spacer for a flat panel display, in which microspheres as spacer particles are arranged and the spacer particles are formed to a number density of 1000 to 50000 / cm 2 .

本発明は以上の特徴を持つことから、下記に示す効果がある。   Since the present invention has the above features, the following effects are obtained.

即ち、請求項1に係る発明によれば、被転写基板上に微小球体を配置して固定する方法であって、複数の凹部が間隔をおいて形成された間接基盤を用意し、該間接基盤の表面に、インクジェット法を用いて微小球体を含有する溶液を吐出することにより各凹部に前記微小球体を配置させる第1工程と、前記各凹部に前記微小球体が配置された前記被転写基板の表面に、吸着性を有するブランケットの表面を重ね合わせることで、前記微小球体を前記ブランケットの表面に転写させる第2工程と、前記微小球体が転写された前記ブランケットの表面を前記被転写基板の表面に重ね合わせた状態で、前記ブランケットおよび前記被転写基板の少なくとも一方を加熱しつつ加圧することにより前記微小球体を前記被転写基板の表面に転写し固着させる第3工程とを含む。
したがって、着弾精度の低い一般的なインクジェット方式を用いて微小球体を吐出する場合においても、間接基盤上に設けられた凹部への微小球体の自己配列現象を用いて、着弾精度の補正を行うことが可能であり、さらに基盤上に配置した微小球体を一度ブランケット基材へ転写し、ブランケット基材から被転写基材へ転写することで、パターンの重ね合わせ精度の確保や十分な熱圧を用いて被転写基材側への微小球体の転移が可能となる。
That is, according to the first aspect of the invention, there is provided a method for arranging and fixing microspheres on a substrate to be transferred, wherein an indirect base having a plurality of recesses formed at intervals is prepared, and the indirect base is provided. A first step of disposing the microspheres in the recesses by discharging a solution containing the microspheres using an inkjet method on the surface of the substrate, and the substrate to be transferred in which the microspheres are disposed in the recesses. A second step of transferring the microspheres to the surface of the blanket by superimposing an adsorbent blanket surface on the surface; and a surface of the substrate to be transferred with the surface of the blanket onto which the microspheres have been transferred. The microspheres are transferred and fixed onto the surface of the substrate to be transferred by applying pressure while heating at least one of the blanket and the substrate to be transferred in a state where they are superposed on each other. And a third step.
Therefore, even when ejecting microspheres using a general inkjet method with low landing accuracy, the landing accuracy is corrected using the self-alignment phenomenon of the microspheres in the recesses provided on the indirect substrate. In addition, once the microspheres placed on the substrate are transferred to the blanket substrate and transferred from the blanket substrate to the transfer substrate, pattern overlay accuracy is ensured and sufficient heat pressure is used. Therefore, the microspheres can be transferred to the transfer substrate side.

また、請求項2に係る発明によれば、間接基盤の凹部を微小球体の粒子径よりも浅い深さで形成することで、ブランケット基材への吸着をより高めることができ、且つ凹部および前記平坦面の双方に撥水加工を施したことにより、インクジェット法を用いて吐出された微小球体含有溶液中の溶液乾燥過程において、微小球体の基盤凹部への自己配列現象を誘発し、着弾精度の低い一般的なインクジェット方式を用いても微小球体を精度良く配置することが可能となる。   Further, according to the invention according to claim 2, by forming the concave portion of the indirect base at a depth shallower than the particle size of the microsphere, the adsorption to the blanket substrate can be further increased, and the concave portion and the By applying water-repellent treatment to both flat surfaces, in the process of drying the solution containing the microspheres ejected using the inkjet method, a self-alignment phenomenon is induced in the concave portions of the base of the microspheres. Even if a low general ink jet method is used, the microspheres can be accurately arranged.

また、請求項3に係る発明によれば、間接基盤の表面を、凹部と該凹部を除く平坦面とで構成し、平坦面に、位置合わせ用凹部を設け、第2工程に先立って、ブランケットの表面が位置合わせ用凹部に対応する箇所に、位置合わせ用凹部を包含する大きさのインク膜を塗布しておき、第2工程においてブランケットの表面へ微小球体を転写する際に、ブランケットの表面に塗布されたインク膜を位置合わせ用凹部パターン周辺のブランケットの表面の部分に転移させることで、ブランケットの表面に位置合わせ用凹部に対応する形状を有する位置合わせマークを設けることにより、ブランケット基材上に転移した微小球体の配列パターンと被転写基材上のパターンとの位置合わせが容易となる。   According to the invention of claim 3, the surface of the indirect base is constituted by a concave portion and a flat surface excluding the concave portion, the concave portion for alignment is provided on the flat surface, and the blanket is provided prior to the second step. The surface of the blanket is coated with an ink film having a size including the concave portion for alignment at a position corresponding to the concave portion for alignment, and the microsphere is transferred to the surface of the blanket in the second step. By transferring the ink film applied to the surface of the blanket surface around the alignment concave pattern, by providing an alignment mark having a shape corresponding to the alignment concave on the surface of the blanket, the blanket base material It becomes easy to align the arrangement pattern of the microspheres transferred above and the pattern on the transferred substrate.

また、請求項4に係る発明によれば、ブランケットは、ブランケット基材と該ブランケット基材の表面を構成する吸着層とを有し、ブランケット基材は透明フィルムで構成され、吸着層は透明フィルムに3μm〜20μm厚に塗布されたシリコーン樹脂で構成される事で、ブランケット表面に吸着性を発現させ微小球体の転移が可能となる。   According to the invention of claim 4, the blanket has a blanket base material and an adsorption layer constituting the surface of the blanket base material, the blanket base material is constituted by a transparent film, and the adsorption layer is a transparent film. In addition, it is composed of a silicone resin applied to a thickness of 3 μm to 20 μm, so that the adsorptivity is expressed on the blanket surface and the microspheres can be transferred.

また、請求項5に係る発明によれば、微小球体を含有する溶液は、沸点150℃以上の有機溶剤を主成分とする分散溶媒が粒子径1〜10μmの微小球体を0.1〜10重量%含有することで構成され、微小球体を含有する溶液の23℃条件下での粘度が30cps以下、表面張力が20〜50mN/mであることで、一般的なインクジェット方式を用いたインクの吐出が可能となり、安定な運用を行うことが可能となる。   Moreover, according to the invention which concerns on Claim 5, the solution containing a microsphere has 0.1-10 weight of microspheres whose dispersion | distribution solvent which has an organic solvent whose boiling point is 150 degreeC or more as a main component has a particle diameter of 1-10 micrometers. Ink discharge using a general ink jet system is possible because the viscosity of a solution containing microspheres is 23 cps or less and the surface tension is 20 to 50 mN / m. It becomes possible to perform stable operation.

また、請求項6に係る発明によれば、微小球体を含有する溶液は接着樹脂成分を含み、第3工程による微小球体の被転写基板の表面への固着は、接着成分が熱硬化、またはエネルギー線硬化、または紫外線硬化することでなされるので、被転写基材への微小球体の十分な固定を可能とする。   According to the invention of claim 6, the solution containing microspheres contains an adhesive resin component, and the adhesion of the microspheres to the surface of the substrate to be transferred in the third step is that the adhesive components are thermoset or energy. Since the curing is performed by linear curing or ultraviolet curing, the microspheres can be sufficiently fixed to the substrate to be transferred.

また、請求項7に係る発明によれば、請求項1乃至6に何れか1項記載の微小球体の配置形成方法を用いて、画素電極が形成された基材とカラーフィルターとの間に配置されるスペーサー粒子としての微小球体を配置し、スペーサー粒子を数密度1000〜50000個/cmに形成したことで、安価で精度のよいフラットパネルディスプレイ向けカラーフィルター用スペーサー形成方法を提供することができる。 According to the invention of claim 7, the microsphere arrangement forming method according to any one of claims 1 to 6 is used to arrange the pixel electrode between the base material on which the pixel electrode is formed and the color filter. By providing microspheres as spacer particles to be formed and forming spacer particles at a density of 1000 to 50000 pieces / cm 2 , it is possible to provide an inexpensive and accurate method for forming a color filter spacer for a flat panel display. it can.

(A)は凹部パターンを設けた間接基盤への微小球体配置工程の概略図、(B)は微小球体含有溶液着弾部の着弾直後の拡大図、(C)は微小球体含有溶液着弾部の乾燥過程の拡大図、(D)は微小球体含有溶液着弾部の乾燥時の拡大図である。(A) is a schematic diagram of a microsphere arrangement process on an indirect base provided with a concave pattern, (B) is an enlarged view immediately after landing of a microsphere-containing solution landing portion, and (C) is drying of the microsphere-containing solution landing portion. The enlarged view of a process and (D) are the enlarged views at the time of drying of a microsphere containing solution landing part. (A)乃至(F)はカラーフィルタ基板への微小球体の転写工程を示す概略図である。(A) thru | or (F) is the schematic which shows the transfer process of the microsphere to a color filter substrate.

以下に図面に基づいて本発明を詳細に説明する。
図1、図2に示すように、本発明に用いる、パターン状に凹部103が設けられた間接基盤102は、ソーダガラスや無アルカリガラス等のガラス基材や、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート等のプラスチック基材を加工し用いることも可能であるが、耐熱性や寸法安定性の点からガラス基材が好ましい。
凹部103は、微小球体106が配置される箇所であり微小球体受容加工部を構成している。
複数の凹部103は、各凹部103に配置された微小球体106を被転写基材206の予め定められた位置に転写させるものであり、したがって、各凹部103は、予め定められた位置に設けられている。
より詳細には、間接基盤102は、複数の凹部103が間隔をおいて形成された表面を有しており、間接基盤102の表面は、凹部103と該凹部を除く平坦面とで構成されている。
なお、本明細書において、予め定められた位置に各凹部103が設けられることをパターン状に凹部103が設けられるといい、予め定められた位置に設けられた複数の凹部103を凹部パターンというものとする。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the indirect substrate 102 provided with a recess 103 in a pattern used in the present invention is made of a glass substrate such as soda glass or alkali-free glass, polycarbonate, polyethersulfone, poly Although it is possible to process and use a plastic substrate such as methyl methacrylate, a glass substrate is preferable from the viewpoint of heat resistance and dimensional stability.
The concave portion 103 is a portion where the microsphere 106 is disposed and constitutes a microsphere receiving processing portion.
The plurality of recesses 103 are for transferring the microspheres 106 arranged in each recess 103 to a predetermined position of the substrate 206 to be transferred. Therefore, each recess 103 is provided at a predetermined position. ing.
More specifically, the indirect substrate 102 has a surface on which a plurality of recesses 103 are formed at intervals, and the surface of the indirect substrate 102 is composed of the recesses 103 and a flat surface excluding the recesses. Yes.
In addition, in this specification, it is said that each recessed part 103 is provided in a predetermined position when the recessed part 103 is provided in a pattern, and a plurality of recessed parts 103 provided in a predetermined position are referred to as a recessed pattern. And

本発明における間接基盤102表面の凹部103(凹部パターン)は、基材表面に感光性樹脂を塗布し、マスクを介して円形や矩形等の独立パターンを形成した後、既存のドライエッチング処理やウェットエッチング処理もしくはサンドブラスト処理を用いて、またプラスチック基材の場合は掘削などを行い、形成する微小球体106の大きさや設置密度に応じて、0.3μmから10μmの深さに設ける。
本実施の形態では、凹部103を微小球体106の粒子径よりも浅い深さで形成する。
In the present invention, the recess 103 (recess pattern) on the surface of the indirect substrate 102 is formed by applying a photosensitive resin on the surface of the substrate and forming an independent pattern such as a circle or a rectangle through a mask, and then performing an existing dry etching process or wet process. Etching or sandblasting is used, and in the case of a plastic substrate, excavation or the like is performed, and the depth is set to 0.3 to 10 μm depending on the size and installation density of the microspheres 106 to be formed.
In the present embodiment, the recess 103 is formed with a depth shallower than the particle diameter of the microsphere 106.

また、同じく基材表面に感光性樹脂を塗布し、マスクを介してパターンを形成し、0.3μmから5μmの厚みのパターンを設け、感光性樹脂を硬化させることで間接基盤102を得る事ができる。   Similarly, a photosensitive resin is applied to the substrate surface, a pattern is formed through a mask, a pattern having a thickness of 0.3 to 5 μm is provided, and the photosensitive resin is cured to obtain the indirect substrate 102. it can.

間接基盤102は、インクジェット法により吐出され着弾した微小球体106を含有する溶液、すなわち微小球体含有溶液105の液滴が、乾燥過程で着弾中央付近に集まるように、表面を(より詳細には間接基盤102の凹部103および前記平坦面の双方を)低分子の有機オイルやフッ素系の表面改質剤をコーティングあるいは、プラズマ処理を行い撥水加工をすることが好ましい。
さらに、間接基盤102の前記平坦面には、図1(A)に示すように、位置合わせ用凹部104が設けられている。位置合わせ用凹部104としては、例えば、複数の溝からなる溝パターンを用いることができる。
The indirect substrate 102 has a surface (more specifically, indirect) so that a solution containing the microspheres 106 discharged and landed by the ink jet method, that is, the droplets of the microsphere-containing solution 105 are collected near the center of the landing during the drying process. It is preferable that both the concave portion 103 of the base plate 102 and the flat surface are coated with a low-molecular organic oil or a fluorine-based surface modifier or subjected to a water-repellent treatment by performing a plasma treatment.
Further, as shown in FIG. 1 (A), an alignment recess 104 is provided on the flat surface of the indirect substrate 102. As the alignment recess 104, for example, a groove pattern composed of a plurality of grooves can be used.

本発明の微小球体含有溶液105に用いる水溶性有機溶剤としては、沸点150℃以上、好ましくは180℃以上のものが用いられ、1種または2種以上を混合して用いることができる。   As the water-soluble organic solvent used for the microsphere-containing solution 105 of the present invention, those having a boiling point of 150 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or higher are used, and one or a mixture of two or more can be used.

本発明に用いられる水溶性有機溶剤としては、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,2,4−ブタントリオール、2,2‘−チオジエタノール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の高沸点低揮発性の多価アルコール類が用いられ、その他にN−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、モノエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、N−n−ブチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン等の水溶性有機溶剤を添加することが出来る。   Examples of the water-soluble organic solvent used in the present invention include glycerin, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, hexylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1, High boiling point and low volatility polyhydric alcohols such as 2,4-butanetriol, 2,2′-thiodiethanol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc. are used, and N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3- Water-soluble such as dimethylimidazolidinone, monoethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, diethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, triisopropanolamine, triethanolamine It can be added to the solvent.

また、本発明における沸点150℃以上の水溶性有機溶剤の添加量は50〜90%であることが好ましい。添加量が50%以下であると微小球体含有溶液105の揮発性が高くなり、インク安定性を低下させ、また、90%以上であると微小球体含有溶液105の粘度が上昇し、インクジェット吐出時の吐出不良の原因となるため好ましくない。   Moreover, it is preferable that the addition amount of the water-soluble organic solvent whose boiling point is 150 degreeC or more in this invention is 50 to 90%. When the added amount is 50% or less, the volatility of the microsphere-containing solution 105 is increased, and the ink stability is lowered. When the added amount is 90% or more, the viscosity of the microsphere-containing solution 105 is increased, and at the time of inkjet discharge. This is not preferable because it causes a discharge failure.

本発明の微小球体含有溶液105に用いる微小球体106として、粒子径1μm〜10μm、液晶パネルのスペーサーとして用いる場合には、液晶層の光学特性や応答性を考慮し、好ましくは粒子径3〜6μmのものを1種または2種以上を混合して用いることができる。   The microsphere 106 used in the microsphere-containing solution 105 of the present invention has a particle diameter of 1 μm to 10 μm. When used as a spacer of a liquid crystal panel, the particle diameter is preferably 3 to 6 μm in consideration of the optical characteristics and responsiveness of the liquid crystal layer. These may be used alone or in combination of two or more.

パネルに過剰な荷重が加わった際のスペーサーの塑性変形、破壊といった問題に対する対策を目的とした場合、粒子径の大きい種類の弾性変形の範囲に粒子径の小さな種類の粒径が設定されているのが好ましく、通常用いられるスペーサーの範囲から考えると、これら微小球体106間の粒径の差は0.02μm〜0.5μmが好ましい。   For the purpose of countermeasures such as plastic deformation and fracture of the spacer when an excessive load is applied to the panel, a particle size of a small particle size is set in the range of elastic deformation of a large particle size. In view of the range of commonly used spacers, the particle size difference between the microspheres 106 is preferably 0.02 μm to 0.5 μm.

微小球体106の材質としては特に限定されず、例えば、樹脂、有機物、無機物、これらの化合物や混合物等が挙げられる。上記樹脂としては特に限定されず、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール等の線状又は架橋高分子重合体;エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジビニルベンゼン重合体、ジビニルベンゼン−スチレン共重合体、ジビニルベンゼン−アクリル酸エステル共重合体、ジアリルフタレート重合体、トリアリルイソシアヌレート重合体等の架橋構造を有する樹脂等が挙げられる。また、無機物としてはシリカ等が挙げられる。   The material of the microsphere 106 is not particularly limited, and examples thereof include resins, organic substances, inorganic substances, compounds and mixtures thereof, and the like. The resin is not particularly limited. For example, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polytetrafluoroethylene, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyamide, polyimide, polysulfone, polyphenylene oxide. Linear or cross-linked polymer such as polyacetal; epoxy resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, unsaturated polyester resin, divinylbenzene polymer, divinylbenzene-styrene copolymer, divinylbenzene-acrylic acid ester Examples thereof include resins having a crosslinked structure such as a polymer, diallyl phthalate polymer, and triallyl isocyanurate polymer. Moreover, silica etc. are mentioned as an inorganic substance.

本発明の微小球体含有溶液105における微小球体106の固形分濃度は、特に限定されないが、例えば分散液全体の0.2〜3%であることが好ましい。   The solid content concentration of the microspheres 106 in the microsphere-containing solution 105 of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 3% of the total dispersion, for example.

微小球体含有溶液105における微小球体106の固形分濃度が0.2%未満であると、吐出された液滴中に微小球体106が含まれにくく、カラーフィルタ基板上のスペーサー密度が低下し、また3%を超えると、微小球体106同士が凝集し、インクジェットヘッドのノズルが詰まりったり、また、吐出された液滴中の微小球体106の含有量が過剰となり易くなる傾向があるため好ましくない。   When the solid content concentration of the microspheres 106 in the microsphere-containing solution 105 is less than 0.2%, the microspheres 106 are less likely to be contained in the discharged droplets, and the spacer density on the color filter substrate is reduced. If it exceeds 3%, the microspheres 106 are aggregated, the nozzles of the inkjet head are clogged, and the content of the microspheres 106 in the discharged droplets tends to be excessive, which is not preferable.

本発明の微小球体含有溶液105中の接着樹脂成分の例としては、ポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステル、ポリエチルアクリル酸エステル、スチレンーブタジエン共重合体、ブタジエン共重合体、アクリロニトリルーブタジエン共重合体、クロロプレン共重合体、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン、ベンゾグアナミン樹脂、フエノール樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタアクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、スチレン−アクリルアミド共重合体、n−イソブチルアクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリルアミド、シリコーン樹脂、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ロジン系樹脂、ポリエチレン、ポリカーボネート、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース系樹脂、エポキシ樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−アクリル共重合体、塩化ビニル樹脂、ポリウレタン、等が挙げられるがこれに限定されるものではない。これら樹脂成分にアクリル基、カルボキシル基、イソシアネート基などの反応性部位を付与したもの、更にはこれらに必要に応じて架橋剤、光開始剤などを添加したものを硬化型樹脂として使用できる。   Examples of the adhesive resin component in the microsphere-containing solution 105 of the present invention include polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, polyethylacrylic acid ester, styrene-butadiene copolymer, butadiene copolymer, and acrylonitrile-butadiene. Copolymer, Chloroprene copolymer, Cross-linked acrylic resin, Cross-linked styrene resin, Fluorine resin, Vinylidene fluoride, Benzoguanamine resin, Phenolic resin, Polyolefin resin, Cellulose, Styrene-acrylic acid ester copolymer, Styrene-methacrylic acid ester Copolymer, polystyrene, styrene-acrylamide copolymer, n-isobutyl acrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, acrylamide, silicone resin, polyvinyl acetal, polyamide, rosin resin, polyethylene Examples include, but are not limited to, polycarbonate, vinylidene chloride resin, polyvinyl alcohol, cellulose resin, epoxy resin, vinyl acetate resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, vinyl acetate-acrylic copolymer, vinyl chloride resin, polyurethane, etc. Is not to be done. Those obtained by adding a reactive site such as an acrylic group, a carboxyl group or an isocyanate group to these resin components, and those obtained by adding a crosslinking agent, a photoinitiator or the like to these can be used as the curable resin.

また、本発明における微小球体含有溶液105の接着樹脂成分の添加量は微小球体106の添加量に準じて0.2〜10%であり、且つ微小球体106と同量以上であることが好ましい。   Further, the addition amount of the adhesive resin component of the microsphere-containing solution 105 in the present invention is 0.2 to 10% in accordance with the addition amount of the microsphere 106 and is preferably equal to or more than the microsphere 106.

接着樹脂成分の添加量が0.2%以下であると被転写基板206(図2)上での密着性が乏しくなり、また、10%以上であると微小球体含有溶液105の粘度が著しく上昇し、インクヘッドがノズル詰まりを起こすため好ましくない。   When the addition amount of the adhesive resin component is 0.2% or less, the adhesion on the transfer substrate 206 (FIG. 2) is poor, and when it is 10% or more, the viscosity of the microsphere-containing solution 105 is remarkably increased. However, it is not preferable because the ink head causes nozzle clogging.

また必要に応じ、カラーフィルタ基板(被転写基板206)およびインクジェットヘッドと微小球体含有溶液105との濡れ性を制御する目的でアルコール類や界面活性剤を用いられ、1種または2種以上を混合して用いることができる。   If necessary, alcohols or surfactants are used to control the wettability between the color filter substrate (transfer substrate 206) and the inkjet head and the microsphere-containing solution 105, and one or more types are mixed. Can be used.

アルコール類としてはメチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール等が使用でき、界面活性剤としては、水溶性のアニオン性、カチオン性、両性、ノニオン性の界面活性剤を一種類または複数種を添加できる。   As alcohols, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, etc. can be used, and as the surfactant, one kind of water-soluble anionic, cationic, amphoteric, nonionic surfactant is used. Or multiple types can be added.

本発明の微小球体含有溶液105においては、スペーサー粒子としての微小球体106が単粒子状に分散していることが好ましく、その効果を阻害しない範囲で、各種添加剤、例えば、粘接着性付与剤、粘性調整剤、pH調整剤、界面活性剤、消泡剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤が添加されていても良い。   In the microsphere-containing solution 105 of the present invention, it is preferable that the microspheres 106 as spacer particles are dispersed in the form of single particles, and various additives such as, for example, imparting adhesiveness can be used as long as the effect is not impaired. An agent, a viscosity modifier, a pH adjuster, a surfactant, an antifoaming agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, and a colorant may be added.

本発明では、微小球体含有溶液105をインクジェット方式で間接基盤102上の凹部106(微小球体受容パターン)に配置する。   In the present invention, the microsphere-containing solution 105 is disposed in the recess 106 (microsphere receiving pattern) on the indirect substrate 102 by an ink jet method.

インクジェット方式は、液滴の生成原理により、連続ジェット(コンティヌアス)方式とドロップ・オン・デマンド方式の2方式に分類される。本発明では、いずれの方式も好ましく採用できる。   The ink jet method is classified into two methods, a continuous jet method and a drop-on-demand method, depending on a droplet generation principle. In the present invention, any method can be preferably employed.

連続ジェット方式は、インク滴を連続して生成させ、記録信号に応じてインク滴を選択して記録を行う方式であり、Sweet型、マイクロドット型、Herz型、IRIS型などがある。   The continuous jet method is a method in which ink droplets are continuously generated and ink droplets are selected according to a recording signal to perform recording, and there are a Sweet type, a microdot type, a Herz type, an IRIS type, and the like.

また、ドロップ・オン・デマンド方式は、記録信号に応じてスペーサー分散液を噴出させる方式であり、圧力パルス方式、サーマルジェット方式、ERF方式などがある。   The drop-on-demand method is a method in which a spacer dispersion liquid is ejected according to a recording signal, and includes a pressure pulse method, a thermal jet method, an ERF method, and the like.

本発明に用いるブランケット基材201は、プラスチック等の可撓性基材を加工して用いることが可能である。   The blanket substrate 201 used in the present invention can be used by processing a flexible substrate such as plastic.

ブランケット基材201として、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができる。   As the blanket substrate 201, for example, a film or sheet of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, or the like is used. be able to.

さらに光透過性の基材をブランケット基材201として用いることにより、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすることができる。   Furthermore, by using a light-transmitting base material as the blanket base material 201, alignment can be facilitated during pattern superposition.

これら可撓性基材は長尺の巻き取りロールで供給され、ブランケット基材201へ加工された後使用される。   These flexible base materials are supplied by a long winding roll and used after being processed into a blanket base material 201.

図2(A)に示すように、ブランケット200は、ブランケット基材201とブランケット基材201の表面を構成する吸着層202とを有している。
ブランケット基材201に設ける吸着層202は、透明性やインク剥離性さらに微小球体106の吸着性を考慮して、シリコーン系の剥離剤を用いることが好ましい。
As illustrated in FIG. 2A, the blanket 200 includes a blanket base material 201 and an adsorption layer 202 that constitutes the surface of the blanket base material 201.
For the adsorption layer 202 provided on the blanket substrate 201, it is preferable to use a silicone-based release agent in consideration of transparency, ink releasability, and adsorptivity of the microspheres 106.

シリコーン系の剥離剤は、通常シール台紙などの表面に1μm以下の膜厚で塗工されており、インクなどの濡れ性を低く抑え、粘着物からの剥離性を付与している。   Silicone release agents are usually applied to the surface of a sticker mount or the like with a film thickness of 1 μm or less, and the wettability of ink or the like is kept low, and the release property from an adhesive is imparted.

しかし、たとえば携帯電話の液晶パネル表面の保護シートなど再剥離可能な吸着フィルムとして用いられている様に、3μm以上好ましくは8μm以上の膜厚に塗工すると、剥離性を持ちつつ吸着性を有する性質があることが知られている。   However, when it is applied to a film thickness of 3 μm or more, preferably 8 μm or more, as it is used as a releasable adsorption film such as a protective sheet on the surface of a liquid crystal panel of a mobile phone, it has adsorbability while having releasability It is known to have properties.

また、これらシリコーン系の塗膜は通常フィルム基材との密着が低いが、熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、最表面に設けるシリコーン層に対して、より基材との接着性の高い樹脂層を、アンカー層としてあらかじめフィルム基材上に設け、その上層に設けることもできる。   In addition, these silicone-based coatings usually have low adhesion to the film substrate, but the thermosetting or ultraviolet-curing acrylic resin, epoxy resin, and the silicone layer provided on the outermost surface are more in contact with the substrate. A resin layer having high adhesiveness can be provided on the film substrate in advance as an anchor layer and provided on the upper layer.

いずれも適度のインク受容性を有すると同時に、一度受容したインクの完全なインク剥離性を有することが望ましい。   It is desirable that both of them have an appropriate ink receptivity and at the same time have a complete ink peelability of the ink once received.

具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。   Specific silicones include dimethylpolysiloxanes with various molecular weights, other methylhydropolysiloxanes, methylphenylsilicone oils, methylchlorinated phenylsilicone oils, or copolymers of these polysiloxanes with organic compounds. Can be used.

シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。   Silicone rubber is a combination of two-component diorganopolysiloxane and a tri- or higher functional silane as a crosslinking agent, or a combination of siloxane and a curing catalyst, or one-component diorganopolysiloxane, acetone oxime, and various methoxys. Combinations of silane, methyltriacetoxysilane, and the like are used, and other polysiloxanes for adjusting rubber hardness are appropriately used.

上記に示した吸着層202を形成する方法としては、インクの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。   As a method for forming the adsorption layer 202 shown above, a known coating method can be used depending on the viscosity of the ink and the drying property of the solvent.

例えばスピンコート、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインクについて均一なインク液膜を形成することができる。   Examples include spin coating, dipping, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen printing, spray coating, and gravure offset. Among them, the die coat, cap coat, roll coat, and applicator can form a uniform ink liquid film for ink having a wide range of viscosity.

また、アライメントマーク形成(位置合わせ用マーク形成)に用いられるインク膜は、ブランケット200表面(吸着層202)への塗工性を有し、間接基盤102上の位置合わせ用凹部104によるパターニングが行われるものであれば良いが、一般的にインク液膜中にフィラーや顔料が配合されている場合に、端面の切れが良い傾向がある。   The ink film used for alignment mark formation (alignment mark formation) has a coating property on the surface of the blanket 200 (adsorption layer 202) and is patterned by the alignment recess 104 on the indirect substrate 102. However, in general, when the filler or pigment is blended in the ink liquid film, the end face tends to be cut.

また、本発明の実施例としてアライメントマークの光学系での認識のし易さから、カーボンブラックやチタンブラックを単独又は混合して用いているが、光学系での認識に問題がなければ他の着色顔料を用いることもできる。   Also, as an example of the present invention, carbon black or titanium black is used alone or in combination for ease of recognition in the optical system of the alignment mark. Color pigments can also be used.

インク膜の樹脂成分には、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂からなる群から選ばれる1つ以上のものが使用される。   As the resin component of the ink film, one or more selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a melamine resin, and a benzoguanamine resin are used.

溶剤には、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤などが使用される。エステル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、アルコール系溶剤として、1−ブタノール、3メトキシ−3メチル−1ブタノール、1−ヘキサノール、1,3ブタンジオール、1−ペンタノール、2−メチル1−ブタノール、4−メチル−2−ペンタノール、エーテル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、炭化水素系溶剤として、ソルベッソ100、ソルベッソ150(製品名エクソン化学社製)などがを用いることができる。   As the solvent, an ester solvent, an alcohol solvent, an ether solvent, a hydrocarbon solvent, or the like is used. As ester solvents, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethoxyethyl propionate, as alcohol solvents, 1-butanol, 3methoxy-3methyl-1butanol, 1-hexanol, 1,3 butanediol, 1-pentanol, 2-methyl 1-butanol, 4-methyl-2-pentanol, ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol tertiary butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol butyl ether, ethylene glycol Ethyl ether, ethylene glycol methyl ether, diethylene glycol butyl ether, diethylene glycol ethyl ether, hydrocarbon As the solvent, Solvesso 100, Solvesso 150 (trade name, manufactured by Exxon Chemical Co.), etc. can be used.

上記に示したブランケット200表面(吸着層202)上へインク液膜を形成する方法としては、インクの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。   As a method of forming an ink liquid film on the blanket 200 surface (adsorption layer 202) shown above, a known coating method can be used depending on the viscosity of the ink and the drying property of the solvent.

すなわち、例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。   That is, for example, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method and the like can be mentioned.

中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインクについて均一なインク液膜を形成することができ、さらにその中でもブランケット200表面(吸着層202)上の任意の部分にインク液膜を形成する場合は、ダイコートが最も効率的で好適な形成方法である。   Among them, the die coat, cap coat, roll coat, and applicator can form a uniform ink liquid film for inks with a wide range of viscosity, and moreover, on any part on the surface of the blanket 200 (adsorption layer 202). In the case of forming an ink liquid film, die coating is the most efficient and preferred forming method.

ブランケット200表面(吸着層202)上へ前記方法によりインク液膜を形成した後に、前記インク液膜を予備乾燥する。   After the ink liquid film is formed on the surface of the blanket 200 (adsorption layer 202) by the above method, the ink liquid film is preliminarily dried.

この予備乾燥には自然乾燥、冷風・温風乾燥、マイクロ波、減圧乾燥などを用いることができ、また、紫外線、電子線などの放射線を用いることもできる。   For this preliminary drying, natural drying, cold / hot air drying, microwave, vacuum drying, or the like can be used, and radiation such as ultraviolet rays or electron beams can also be used.

この予備乾燥では、前記インク液膜の粘度またはチキソトロピー性、脆性を上げることを目的とする。   The purpose of this preliminary drying is to increase the viscosity, thixotropy and brittleness of the ink liquid film.

予備乾燥による乾燥が不十分な場合は、後工程の凸版の凸部(間接基盤102の位置合わせ用凹部104の周囲の箇所)を押し当て剥離する際に、インク液膜が断裂し不良が発生してしまう。   If the drying by pre-drying is insufficient, the ink liquid film tears when the convex part of the relief printing in the subsequent process (the area around the concave part 104 for alignment of the indirect substrate 102) is peeled off to cause a defect. Resulting in.

逆に乾燥が行き過ぎた場合は、インク膜表面のタック性が無くなり、前記凸版にインクが転写されない。   On the contrary, when the drying is excessive, the tackiness of the ink film surface is lost, and the ink is not transferred to the relief printing plate.

そのため、使用するインクの組成によって乾燥状態を乾燥時間や雰囲気温度により調節するが、乾燥したインク膜に対して0.5%から4%の溶剤の残留が認められる状態が好ましい。   Therefore, although the drying state is adjusted by the drying time and the atmospheric temperature depending on the composition of the ink to be used, a state in which 0.5% to 4% of solvent remains in the dried ink film is preferable.

本発明の被転写基材206としては、微小球体106を規則的に配置する必要のある部材に用いられ、各種表示素子やタッチスイッチ等に使用可能であるが、特に液晶ディスプレイに好適である。   The transferred substrate 206 of the present invention is used as a member for which the microspheres 106 need to be regularly arranged, and can be used for various display elements, touch switches, etc., but is particularly suitable for a liquid crystal display.

この被転写基材206は、特に限定されるものではなく、ガラス板や樹脂板等の一般的に液晶ディスプレイとして用いられているものであってよい。   The substrate to be transferred 206 is not particularly limited, and may be one generally used as a liquid crystal display such as a glass plate or a resin plate.

液晶ディスプレイは2枚の基板を重ね合わせて形成される。   The liquid crystal display is formed by overlapping two substrates.

このため、通常は一方の基板(被転写基材206)に本発明の微小球体106が間接基盤102やブランケット200を介した転写工程にて配置される。   For this reason, usually, the microspheres 106 of the present invention are arranged on one substrate (transfer base material 206) in the transfer process via the indirect substrate 102 and the blanket 200.

そして他方の基板と重ね合わせて液晶表示素子を作製する。   Then, a liquid crystal display element is manufactured by overlapping with the other substrate.

微小球体106が吐出される間接基盤102は、位置合わせの点からは、カラーフィルタ基板(被転写基材206)の遮光部パターンに対応した位置に凹部103からなる凹部パターンを有することが好ましい。   The indirect substrate 102 on which the microspheres 106 are discharged preferably has a concave pattern including the concave portions 103 at positions corresponding to the light-shielding pattern of the color filter substrate (transfer target substrate 206) from the viewpoint of alignment.

また必要に応じ、微小球体106を形成するカラーフィルター基板(被転写基材206)を微小球体106との密着性を制御する目的で表面処理を施してもよい。   If necessary, the color filter substrate (transfer base material 206) on which the microspheres 106 are formed may be subjected to a surface treatment for the purpose of controlling the adhesion with the microspheres 106.

表面処理の方法としては、コロナ処理、常圧プラズマ処理、UVオゾン処理など任意の方法が選択できる。   As the surface treatment method, any method such as corona treatment, atmospheric pressure plasma treatment, or UV ozone treatment can be selected.

凹部パターンを形成した間接基盤102上への微小球体含有溶液105の吐出は、凹部103すべてに微小球体含有溶液105を吐出してもよく、場合によってはスペーサー設置箇所の密度を調節するために、微小球体含有溶液105を吐出しない凹部103を選定してもよい。   The discharge of the microsphere-containing solution 105 onto the indirect substrate 102 formed with the recess pattern may be performed by discharging the microsphere-containing solution 105 to all the recesses 103. In some cases, in order to adjust the density of the spacer installation location, You may select the recessed part 103 which does not discharge the microsphere containing solution 105. FIG.

また、凹部103の配置密度が高く、凹部103間の幅が微小球体含有溶液105の着弾時の液滴径に対して狭く、一度の連続吐出では液滴同士がくっついてしまう場合には、たとえば凹部103の1つ置きに連続吐出を行い、乾燥を待ってから、まだ吐出していない凹部103に連続吐出を行ってもよい。   Further, when the arrangement density of the recesses 103 is high, the width between the recesses 103 is narrower than the droplet diameter when the microsphere-containing solution 105 is landed, and the droplets stick to each other in one continuous discharge, for example, Continuous discharge may be performed every other recess 103, and after waiting for drying, continuous discharge may be performed on the recess 103 that has not yet been discharged.

また、被転写基材206上におけるスペーサーの粒子密度は、特に限定されるものではないが、通常1cm平方の領域に1000〜20000個であることが好ましい。   Further, the particle density of the spacer on the transferred substrate 206 is not particularly limited, but it is usually preferably 1000 to 20000 in a 1 cm square region.

次に、図を用いて本発明によるスペーサー付カラーフィルター基板の製造方法を詳細に説明する。   Next, the manufacturing method of the color filter substrate with a spacer according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

まず図1において、本発明であるカラーフィルター基板(被転写基材206)への微小球体106の形成方法のうち、間接基盤102上へのインクジェット吐出によるスペーサー粒子(微小球体)の配置方法について説明する。   First, in FIG. 1, among the methods for forming the microspheres 106 on the color filter substrate (transfer base material 206) according to the present invention, a method for arranging spacer particles (microspheres) by ink jet ejection onto the indirect substrate 102 will be described. To do.

本発明では、微小球体含有溶液105に含まれる微小球体106の配置精度を、インクジェット法による直接配置を行う場合に比べ飛躍的に向上させるため、まず微小球体含有溶液105を、対象となるカラーフィルタ基板のパターンに合わせて作られた間接基盤102上に吐出することを特徴としている。   In the present invention, in order to dramatically improve the placement accuracy of the microspheres 106 contained in the microsphere-containing solution 105 as compared with the case where direct placement is performed by the inkjet method, first, the microsphere-containing solution 105 is used as the target color filter. It discharges on the indirect board | substrate 102 produced according to the pattern of the board | substrate.

これは、微小球体含有溶液105の着弾液滴が、凹部103を含むように着弾した場合、その乾燥過程(図1(B),(C),(D))において、微小球体106が凹部103に自然に集まってくる自己配置現象を用いている。   This is because, when the landing droplet of the microsphere-containing solution 105 has landed so as to include the concave portion 103, the microsphere 106 has the concave portion 103 in the drying process (FIGS. 1B, 1C, and 1D). Self-placement phenomenon that naturally gathers.

自己配置現象は、微小球体含有溶液105中の溶剤界面が、乾燥により液滴中央へ移動する際に、微小球体106を液滴中央へ集めようとする現象と、凹部103に着弾した微小球体含有溶液105の溶剤膜厚が厚く周囲に比べて乾燥が遅く、周辺の溶剤を牽きつけるため微小球体106が凹部103に集まり易くなる事、一度凹部103に落ちた微小球体106はそのまま凹部103内に滞在する事などの理由で発現する。   The self-arrangement phenomenon includes a phenomenon that the microsphere 106 is collected to the center of the droplet when the solvent interface in the microsphere-containing solution 105 moves to the center of the droplet due to drying, and a microsphere that has landed on the recess 103. Since the solvent film thickness of the solution 105 is thick and drying is slow compared to the surroundings, the microspheres 106 easily gather in the recesses 103 because the surrounding solvent is caught up, and the microspheres 106 that have once fallen into the recesses 103 remain in the recesses 103 as they are. It appears for reasons such as staying.

つぎに図2において、本発明であるカラーフィルター基板への微小球体106の形成方法のうち、凹部103に配置した微小球体106の被転写基材206への転写方法について説明する。   Next, among the methods for forming the microspheres 106 on the color filter substrate according to the present invention, a method for transferring the microspheres 106 arranged in the recesses 103 to the transfer substrate 206 will be described with reference to FIG.

図2(A)に示すように、塗工ヘッド204を用いてインク液膜203をブランケット200表面(吸着層202)の一部に形成する。
次に、図2(B)、(C),(D)に示すように、ブランケット200の表面を、微小球体106を配置した間接基盤102上に重ね、ゴムローラー等を用いて均一に貼り合わせた後、剥離する。
As shown in FIG. 2A, the ink liquid film 203 is formed on a part of the surface of the blanket 200 (adsorption layer 202) using the coating head 204.
Next, as shown in FIGS. 2B, 2C, and 2D, the surface of the blanket 200 is overlaid on the indirect substrate 102 on which the microspheres 106 are arranged, and is uniformly bonded using a rubber roller or the like. After peeling.

すると、図2(E)に示すように、間接基盤102上に配置された微小球体106は、その重量が軽いためブランケット200表面(吸着層202)に吸着され、間接基盤102表面から剥離される。   Then, as shown in FIG. 2E, the microspheres 106 arranged on the indirect substrate 102 are adsorbed on the surface of the blanket 200 (adsorption layer 202) and peeled off from the surface of the indirect substrate 102 because the weight is light. .

一方、同時にあらかじめブランケット200表面に設けられたインク液膜203を、間接基盤102表面に設けられたアライメントパターン(位置合わせ用凹部104)に沿って余分なインク液膜203を間接基盤102側に転移させることで、ブランケット200表面上にブランケット側アライメントマーク205を設ける。
言い換えると、図2(B)に示すように、ブランケット200表面が位置合わせ用凹部104に対応する箇所に、位置合わせ用凹部104を包含する大きさのインク膜203を塗布しておく。
そして、図2(C)に示すように、ブランケット200表面へ微小球体106を転写する際に、ブランケット200表面に塗布されたインク膜203を位置合わせ用凹部104周辺のブランケット200表面の部分に転移させる。
これにより、図2(D)に示すように、ブランケット200表面に位置合わせ用凹部104に対応する形状を有する位置合わせマーク205を設ける。
On the other hand, the ink liquid film 203 previously provided on the surface of the blanket 200 is transferred to the indirect base 102 side along the alignment pattern (positioning recess 104) provided on the surface of the indirect base 102 at the same time. By doing so, the blanket side alignment mark 205 is provided on the surface of the blanket 200.
In other words, as shown in FIG. 2B, the ink film 203 having a size including the alignment recess 104 is applied to a location where the blanket 200 surface corresponds to the alignment recess 104.
Then, as shown in FIG. 2C, when the microsphere 106 is transferred to the surface of the blanket 200, the ink film 203 applied to the surface of the blanket 200 is transferred to the portion of the blanket 200 surface around the positioning recess 104. Let
Thereby, as shown in FIG. 2D, an alignment mark 205 having a shape corresponding to the alignment recess 104 is provided on the surface of the blanket 200.

そして、図2(E)に示すように、微小球体106が転写されたブランケット200の表面を被転写基板206の表面に重ね合わせる。すなわち、あらかじめ被転写基材206に設けられた被転写基材側アライメントマーク207と、ブランケット200に設けられたブランケット側アライメントマーク205とを確認し、位置合わせを行った後、ブランケット基材201側もしくはブランケット基材201と被転写基材206の両側から熱ローラーやホットプレートを用いて60℃〜120℃の加熱を伴う加圧処理を行い、図2(F)に示すように、被転写基材206側に微小球体106を転写する。   Then, as shown in FIG. 2E, the surface of the blanket 200 onto which the microspheres 106 are transferred is overlaid on the surface of the transfer substrate 206. That is, after confirming and aligning the transferred substrate side alignment mark 207 provided in advance on the transferred substrate 206 and the blanket side alignment mark 205 provided on the blanket 200, the blanket substrate 201 side Alternatively, pressure treatment with heating at 60 ° C. to 120 ° C. is performed from both sides of the blanket substrate 201 and the transferred substrate 206 using a heat roller or a hot plate, and as shown in FIG. The microsphere 106 is transferred to the material 206 side.

ブランケット200へ転写した後も微小球体106の表面には、微小球体含有溶液105中に含まれる接着樹脂成分が覆っており、被転写基材206への転写時の加熱処理または、転写後100℃から230℃の加熱処理を行い、転写した微小球体106の固定を行う。   Even after the transfer to the blanket 200, the surface of the microsphere 106 is covered with the adhesive resin component contained in the microsphere-containing solution 105, and heat treatment at the time of transfer to the transfer substrate 206 or 100 ° C. after transfer. To 230 ° C., and the transferred microspheres 106 are fixed.

以下、本発明を更に詳しく説明するため以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

〜微小球体含有溶液の調製〜
ポリビニルアセタール樹脂(積水化学製、KW−1、固形分20%)を攪拌しながら、エポキシ化合物(ナガセケムテックス製、デナコールEX−521)を固形分比で5%となる添加量で少量ずつ添加し、熱硬化型ポリマー液を調製した。次いでスペーサー粒子(積水化学製、ミクロパールEX004、粒子径4.2μm/4.0μm=1/1.5 (重量比))、前記熱硬化型ポリマー液、エチレングリコール/ブチルセルソルブ/水=65/5/30(重量比)の混合溶媒を、微小球体/ポリマー液/混合溶媒=0.2/5/94.8(重量比)となるように混合、超音波分散させ、目開き10μmのステンレスメッシュで濾過し、実施例1の微小球体含有溶液105を得た。得られた分散液の粘度は13.4mPa・s(23℃)であった。
-Preparation of microsphere-containing solution-
While stirring the polyvinyl acetal resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., KW-1, solid content 20%), the epoxy compound (manufactured by Nagase ChemteX, Denacol EX-521) is added in small amounts at an addition amount of 5% in the solid content ratio. Then, a thermosetting polymer liquid was prepared. Subsequently, spacer particles (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Micropearl EX004, particle diameter 4.2 μm / 4.0 μm = 1 / 1.5 (weight ratio)), the thermosetting polymer liquid, ethylene glycol / butyl cellosolve / water = 65 / 5/30 (weight ratio) mixed solvent was mixed so as to be microspheres / polymer solution / mixed solvent = 0.2 / 5 / 94.8 (weight ratio), and ultrasonically dispersed. Filtration through a stainless steel mesh gave the microsphere-containing solution 105 of Example 1. The viscosity of the obtained dispersion was 13.4 mPa · s (23 ° C.).

〜アライメントマーク用インクの作成〜
ポリイミド前駆体(東レ社製「セミコファインSP−510」) 10重量部、カーボンブラック 7.5重量部、溶剤(N-メチルピロリドン) 130重量部、分散剤(銅フタロシアニン誘導体) 5重量部、開始剤 5重量部、及びレベリング剤((DIC社製「メガファックF−483SF」)1重量部、をビーズミル分散機で冷却しながら3時間分散し隔壁用インクを調製した。
-Creation of alignment mark ink-
Polyimide precursor (“Semicofine SP-510” manufactured by Toray Industries, Inc.) 10 parts by weight, carbon black 7.5 parts by weight, solvent (N-methylpyrrolidone) 130 parts by weight, dispersant (copper phthalocyanine derivative) 5 parts by weight, start 5 parts by weight of the agent and 1 part by weight of the leveling agent (“Megafac F-483SF” manufactured by DIC) were dispersed for 3 hours while cooling with a bead mill disperser to prepare a partition wall ink.

〜間接基盤の作成〜
無アルカリガラス(コーニング社、1737ガラス、300mm角、1.1mm厚)にスパッタ法を用いてCr膜を形成し、次に酸化Cr膜を形成した。この金属性のエッチングレジスト層上に感光性ポジ型レジスト(シプレイ製、S1813)をスピンコート法で塗布し、遮光部幅10〜30μmの種々の解像度パターンを有するカラーフィルタ基板の遮光部上に配置できるように開口部幅10〜30μmのパターンをデザインしたマスクを介して露光し、アルカリ現像液(シプレイ製、MFCD−26)で現像処理を行うことでレジストパターンを形成した。さらに、Cr/酸化Cr膜をエッチングすることで、金属性のエッチングレジストパターンを得た。
-Creation of indirect infrastructure-
A Cr film was formed on alkali-free glass (Corning, 1737 glass, 300 mm square, 1.1 mm thickness) by sputtering, and then a Cr oxide film was formed. A photosensitive positive type resist (Shipley, S1813) is applied onto the metallic etching resist layer by a spin coating method, and is disposed on the light shielding portion of the color filter substrate having various resolution patterns having a light shielding portion width of 10 to 30 μm. The resist pattern was formed by exposing through the mask which designed the pattern of the opening part width | variety of 10-30 micrometers so that it could, and developing with an alkali developing solution (the product made by Shipley, MFCD-26). Furthermore, a metallic etching resist pattern was obtained by etching the Cr / Cr oxide film.

このパターンの開口部分をフッ酸により、版深0.5μmとなるようにエッチング処理をし、レジスト剥膜剤(シプレイ製、リムーバ1165)により、レジストを剥膜してガラス凹板を得た。このガラス凹板上にフッ素系撥水処理剤(3M製、EGC−1720)をディップコーティング、80℃で30分間乾燥処理することにより表面処理層を設け、間接基盤102を得た。   The opening of this pattern was etched with hydrofluoric acid to a plate depth of 0.5 μm, and the resist was stripped with a resist stripping agent (manufactured by Shipley, remover 1165) to obtain a glass concave plate. A surface treatment layer was provided on the glass concave plate by dip coating a fluorine-based water repellent treatment agent (manufactured by 3M, EGC-1720) and drying treatment at 80 ° C. for 30 minutes to obtain an indirect substrate 102.

〜ブランケットの作成〜
ブランケット基材201としての75μm厚の透明PET基材上に、ロールコーターを用いて、剥離用シリコーン樹脂溶液(東レ・ダウコーニング社製LTC750Aのトルエン溶液:固形分比20%に希釈)を乾燥膜厚10μmに塗工し、130℃のオーブンで3min間乾燥させ、これにより吸着性を有する吸着層202を形成し、表面に吸着性を持つブランケット200を得た。
~ Blanket creation ~
Using a roll coater on a 75 μm thick transparent PET base material as the blanket base material 201, a release silicone resin solution (toluene solution of LTC750A manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. diluted to a solid content ratio of 20%) is dried. The coating was applied to a thickness of 10 μm and dried in an oven at 130 ° C. for 3 minutes, thereby forming an adsorptive adsorbing layer 202 and obtaining a blanket 200 having adsorbing properties on the surface.

〜間接基盤上への微小球体形成〜
吐出量40plのピエゾ式インクジェットヘッド、およびアライメント機構を有する精密ステージを搭載したインクジェット印刷装置に、上記微小球体含有溶液105を真空脱泡処理した後、充填し、上記間接基盤102上に形成されたパターン(凹部103からなるパターン)を光学機器を用いて確認し、アライメントを行った後、パターンに相当する位置に微小球体含有溶液105液滴を定点配置し、80℃のホットプレート上で1分間乾燥を行った。
-Microsphere formation on indirect substrate-
The microsphere-containing solution 105 was vacuum degassed into an ink jet printing apparatus equipped with a piezo-type ink jet head with a discharge amount of 40 pl and a precision stage having an alignment mechanism, and was then formed on the indirect substrate 102. After confirming the pattern (pattern consisting of the recesses 103) using an optical instrument and performing alignment, 105 droplets of the microsphere-containing solution are fixedly arranged at positions corresponding to the pattern, and are placed on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute. Drying was performed.

〜ブランケット上への微小球体転写〜
この微小球体106を配置した間接基盤102を転写装置に搭載し、アライメントマーク位置付近にあらかじめインクを乾燥膜厚1μmになるように塗工しておいたブランケット200を上部に配置し、ゴムローラーにて加圧を加えた後剥離し、ブランケット200上に微小球体106の配列とアライメントマークを得た。
-Microsphere transfer onto blanket-
The indirect substrate 102 on which the microspheres 106 are arranged is mounted on a transfer device, and a blanket 200 on which an ink is applied in advance so as to have a dry film thickness of 1 μm is arranged in the vicinity of the alignment mark position. After applying pressure, the film was peeled off to obtain an array of microspheres 106 and an alignment mark on the blanket 200.

〜被転写基材上への微小球体形成〜
被転写基材206と微小球体106を配置したブランケット200を、一定の間隔を保ち重ねた後、両基材のアライメントマークを観察し、位置合わせを行った後、被転写基材206側に100℃の熱を加えながらローラーにより転写処理を行った。
-Microsphere formation on transfer substrate-
After the blanket 200 on which the substrate 206 to be transferred and the microspheres 106 are arranged is kept at a certain interval, the alignment marks on both substrates are observed and aligned, and then 100 is placed on the substrate 206 side to be transferred. The transfer process was performed with a roller while applying heat at 0 ° C.

この微小球体106を形成したカラーフィルター基板を120℃で30分間硬化処理を行い、スペーサーを形成したカラーフィルター基板を得た。   The color filter substrate on which the microspheres 106 were formed was cured at 120 ° C. for 30 minutes to obtain a color filter substrate on which spacers were formed.

微小な空間を得る為のスペーサーや、突起形状を微細パターン上に形成する用途、例えば各種表示素子やタッチスイッチ等に使用可能であるが、特にガラス基材やフィルム基材を用いた液晶ディスプレイのスペーサー形成に利用可能である。   It can be used for spacers for obtaining minute spaces and for forming projection shapes on fine patterns, such as various display elements and touch switches, but it is particularly useful for liquid crystal displays using glass substrates and film substrates. It can be used for spacer formation.

101・・・インクジェットヘッド、102・・・間接基盤、103・・・凹部(微小球体受容加工部)、104・・・位置決め用凹部(アライメント用加工部)、105・・・微小球体含有溶液、106・・・微小球体、200・・・ブランケット(フィルム状ブランケット)、201・・・ブランケット基材、202・・・吸着層(シリコーン吸着層)、202・・・インク塗工膜、204・・・塗工ヘッド、205・・・ブランケット側アライメントマーク、206・・・被転写基材、207・・・被転写基材側アライメントマーク。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Inkjet head, 102 ... Indirect base | substrate, 103 ... Recessed part (microsphere receiving process part), 104 ... Recessed part for positioning (working part for alignment), 105 ... Microsphere containing solution, 106 ... microspheres, 200 ... blanket (film blanket), 201 ... blanket base material, 202 ... adsorption layer (silicone adsorption layer), 202 ... ink coating film, 204 Coating head, 205: blanket side alignment mark, 206: transferred substrate, 207: transferred substrate side alignment mark.

Claims (7)

被転写基板上に微小球体を配置して固定する方法であって、
複数の凹部が間隔をおいて形成された間接基盤を用意し、該間接基盤の表面に、インクジェット法を用いて微小球体を含有する溶液を吐出することにより各凹部に前記微小球体を配置させる第1工程と、
前記各凹部に前記微小球体が配置された前記被転写基板の表面に、吸着性を有するブランケットの表面を重ね合わせることで、前記微小球体を前記ブランケットの表面に転写させる第2工程と、
前記微小球体が転写された前記ブランケットの表面を前記被転写基板の表面に重ね合わせた状態で、前記ブランケットおよび前記被転写基板の少なくとも一方を加熱しつつ加圧することにより前記微小球体を前記被転写基板の表面に転写し固着させる第3工程とを含む、
事を特徴とする微小球体の配置形成方法。
A method of arranging and fixing microspheres on a transfer substrate,
First, an indirect base having a plurality of recesses formed at intervals is prepared, and the microspheres are arranged in the respective recesses by discharging a solution containing the microspheres onto the surface of the indirect base using an ink jet method. 1 process,
A second step of transferring the microspheres to the surface of the blanket by superimposing the surface of the blanket having adsorptivity on the surface of the substrate to be transferred in which the microspheres are disposed in the concave portions;
In a state where the surface of the blanket to which the microsphere has been transferred is superimposed on the surface of the substrate to be transferred, at least one of the blanket and the substrate to be transferred is pressed while being heated to thereby apply the microsphere to the surface to be transferred A third step of transferring and fixing to the surface of the substrate,
A method for forming and arranging microspheres characterized by the above.
前記間接基盤の表面を、前記凹部と該凹部を除く平坦面とで構成し、
前記凹部および前記平坦面の双方に撥水加工を施し、
前記間接基盤の凹部を前記微小球体の粒子径よりも浅い深さで形成する、
事を特徴とする請求項1記載の微小球体の配置形成方法。
The surface of the indirect base is composed of the concave portion and a flat surface excluding the concave portion,
Water repellent treatment is performed on both the concave portion and the flat surface,
Forming the concave portion of the indirect base at a depth shallower than the particle size of the microsphere,
The method for forming and arranging microspheres according to claim 1, wherein:
前記間接基盤の表面を、前記凹部と該凹部を除く平坦面とで構成し、
前記平坦面に、位置合わせ用凹部を設け、
前記第2工程に先立って、前記ブランケットの表面が前記位置合わせ用凹部に対応する箇所に、前記位置合わせ用凹部を包含する大きさのインク膜を塗布しておき、
前記第2工程において前記ブランケットの表面へ前記微小球体を転写する際に、前記ブランケットの表面に塗布されたインク膜を前記位置合わせ用凹部パターン周辺の前記ブランケットの表面の部分に転移させることで、前記ブランケットの表面に前記位置合わせ用凹部に対応する形状を有する位置合わせマークを設ける、
事を特徴とする請求項1記載の微小球体の配置形成方法。
The surface of the indirect base is composed of the concave portion and a flat surface excluding the concave portion,
An alignment recess is provided on the flat surface,
Prior to the second step, an ink film having a size including the alignment recess is applied to a location where the surface of the blanket corresponds to the alignment recess,
When transferring the microspheres to the surface of the blanket in the second step, by transferring the ink film applied to the surface of the blanket to a portion of the surface of the blanket around the positioning recess pattern, An alignment mark having a shape corresponding to the alignment recess is provided on the surface of the blanket.
The method for forming and arranging microspheres according to claim 1, wherein:
前記ブランケットは、ブランケット基材と該ブランケット基材の表面を構成する吸着層とを有し、
前記ブランケット基材は透明フィルムで構成され、
前記吸着層は前記透明フィルムに3μm〜20μm厚に塗布されたシリコーン樹脂で構成される、
事を特徴とする請求項1乃至3に何れか1項記載の微小球体の配置形成方法。
The blanket has a blanket base material and an adsorption layer constituting the surface of the blanket base material,
The blanket substrate is composed of a transparent film,
The adsorption layer is composed of a silicone resin applied to the transparent film in a thickness of 3 μm to 20 μm.
The method for forming and arranging microspheres according to any one of claims 1 to 3, wherein:
前記微小球体を含有する溶液は、沸点150℃以上の有機溶剤を主成分とする分散溶媒が粒子径1〜10μmの微小球体を0.1〜10重量%含有することで構成され、
前記微小球体を含有する溶液の23℃条件下での粘度が30cps以下、表面張力が20〜50mN/mである、
事を特徴とする請求項1乃至4に何れか1項記載の微小球体の配置形成方法。
The solution containing the microspheres is constituted by containing 0.1 to 10% by weight of microspheres having a particle diameter of 1 to 10 μm as a dispersion solvent mainly composed of an organic solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher,
The viscosity of the solution containing the microspheres at 23 ° C. is 30 cps or less, and the surface tension is 20 to 50 mN / m.
5. The method for forming and arranging microspheres according to any one of claims 1 to 4, characterized in that:
前記微小球体を含有する溶液は接着樹脂成分を含み、
前記第3工程による前記微小球体の前記被転写基板の表面への固着は、前記接着成分が熱硬化、またはエネルギー線硬化、または紫外線硬化することでなされる、
事を特徴とする請求項1乃至5に何れか1項記載の微小球体の配置形成方法。
The solution containing the microspheres includes an adhesive resin component,
The fixing of the microspheres to the surface of the substrate to be transferred in the third step is made by the thermosetting, energy ray curing, or ultraviolet curing of the adhesive component.
The method for forming and arranging microspheres according to any one of claims 1 to 5, wherein:
請求項1乃至6に何れか1項記載の微小球体の配置形成方法を用いて、画素電極が形成された基材とカラーフィルターとの間に配置されるスペーサー粒子としての微小球体を配置し、前記スペーサー粒子を数密度1000〜50000個/cmに形成した、
事を特徴とするフラットパネルディスプレイ向けカラーフィルター用スペーサー形成方法。
Using the method for forming and arranging microspheres according to any one of claims 1 to 6, disposing microspheres as spacer particles disposed between a substrate on which pixel electrodes are formed and a color filter, The spacer particles were formed at a number density of 1000 to 50000 pieces / cm 2 .
A method for forming a color filter spacer for flat panel displays.
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