JP2008275654A - Method of manufacturing microprojection - Google Patents

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Yuichiro Takashima
Hideyuki Yamada
英幸 山田
Mamoru Tamakoshi
守 玉越
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of forming microprojections which are uniform in height like spacer resin columns for a liquid crystal display device and need to be positioned with higher precision, by a low-cost method. <P>SOLUTION: In a method of manufacturing microprojections, a curable resin ink film is formed on an ink peelable glass substrate, and unnecessary parts are removed using a removing plate to form a microprojection pattern of a curable resin ink film. This ink film is brought into contact with a target printed matter so as to match an arrangement part of the target printed matter and is transferred. At this time, bead spacers are discharged by an ink jet method to opening portions on the ink peelable glass substrate, and the height of the ink film during transfer is prescribed by the bead spacers. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は基板上に微小突起物を製造する方法であって、パターニングによる高さを制御した微小突起物の製造方法に関し、特に液晶表示装置のスペーサー樹脂柱の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a microprojection on a substrate, and relates to a method of manufacturing a microprojection having a height controlled by patterning, and more particularly to a method of manufacturing a spacer resin column of a liquid crystal display device.

液晶カラーテレビ等に用いられるパネル部材は、透明電極が設けられたカラーフィルター基板とTFT等の画素電極が設けられた透明基板とを貼り合わせることによって形成された微小な空間(セル)に液晶層が封止されている。液晶表示装置用スペーサーは、セルの厚みを規定・制御するために用いられるものである。セルの厚みはそのまま液晶層の厚みとなるため、パネルの一部でセルの厚みが0.1μm程度の差異があるだけでその部分の発色や液晶の応答速度が不均一になり、表示ムラやコントラストの低下が発生してしまう。   A panel member used for a liquid crystal color television or the like has a liquid crystal layer in a minute space (cell) formed by bonding a color filter substrate provided with a transparent electrode and a transparent substrate provided with a pixel electrode such as a TFT. Is sealed. The spacer for a liquid crystal display device is used for defining and controlling the thickness of the cell. Since the thickness of the cell is the thickness of the liquid crystal layer as it is, there is only a difference of about 0.1 μm in the thickness of the cell in a part of the panel. A decrease in contrast occurs.

従来、液晶表示装置用スペーサーの製造方法として、画素電極を設けた基板上に、ガラスや樹脂のスペーサービーズをランダムに散布する方法が用いられてきた。しかしながら散布法では、画素パターン上にもビーズが配置されるため、ビーズ周辺の液晶配向不良や光漏れが問題となっていた。   Conventionally, as a method for manufacturing a spacer for a liquid crystal display device, a method of randomly dispersing glass or resin spacer beads on a substrate provided with pixel electrodes has been used. However, in the spraying method, beads are also arranged on the pixel pattern, so liquid crystal alignment failure and light leakage around the beads have been problems.

これを解決すべく、特許文献1ではインクジェット法によってカラーフィルターにおける遮光部であるブラックマトリクス上にスペーサービーズを配置する方法が提案されている。しかしながら、インクジェット法はインキ滴を小さくすることが困難であることや着弾の精度が20μm程度であることから、カラーフィルターにおける数十〜数百μm程度の画素のスペースに配置することは十分可能であるが、線幅が10μm程度であるカラーフィルターのブラックマトリクス上に高精細に且つ精密に形成する方法としては採用できない。   In order to solve this, Patent Document 1 proposes a method in which spacer beads are arranged on a black matrix, which is a light-shielding portion in a color filter, by an inkjet method. However, since it is difficult to make ink droplets small and the accuracy of landing is about 20 μm, the ink jet method can be sufficiently arranged in a pixel space of about several tens to several hundreds of μm in a color filter. However, it cannot be adopted as a method for forming the black matrix of a color filter having a line width of about 10 μm with high definition and precision.

また、近年においてはブラックマトリクス上にスペーサーを形成する方法として、フォトリソ法により柱状のスペーサーを形成する方法が、例えば特許文献2に開示されている。この方法によれば前記方法に比べてパターニング精度が高く、従ってブラックマトリクス上に配置することが可能となるが、感光性樹脂層を基板上に塗布し、パターン露光・現像処理を行うという工程が必要となるため、製造設備が大掛かりとなり製造コストが高く、また、特に大型パネルにおいては樹脂柱の高さを均一に揃えることが困難であるという問題がある。   In recent years, as a method for forming a spacer on a black matrix, for example, Patent Document 2 discloses a method of forming a columnar spacer by a photolithography method. According to this method, the patterning accuracy is higher than that of the above method, and thus it can be arranged on the black matrix. However, there is a step of applying a photosensitive resin layer on the substrate and performing pattern exposure / development processing. Therefore, there is a problem that the manufacturing equipment becomes large and the manufacturing cost is high, and particularly in the case of a large panel, it is difficult to make the resin pillars uniform in height.

以下に、上記背景技術文献を示す。
特開平9−105946号公報 特開平5−11256号公報
The above background art documents are shown below.
JP-A-9-105946 JP-A-5-11256

本発明は、上記のような問題点を解決するものであって、その目的とするところは液晶表示用スペーサー樹脂柱などに用いることが可能な、精度よくパターニングされ、高さが均一に揃った微小突起物を形成する方法を提供することである。   The present invention solves the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to be used for a liquid crystal display spacer resin column, etc., which is accurately patterned and has a uniform height. It is to provide a method for forming microprojections.

本発明は、かかる課題を解決するために為されたものであり、本発明の請求項1に係る発明は、被印刷基板上の所定の位置に形成する微小突起物の製造方法であって、
(1)インキ剥離性ガラス基板上に硬化性樹脂インキを塗布し、予備乾燥して膜とする工程、
(2)硬化性樹脂インキ膜の一部を除去することにより、インキ剥離性ガラス基板上に硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンを形成する工程、
(3)硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンの除去開口部にスペーサーを配置する工程、
(4)硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンと、被印刷基板上の所定の位置とを一致させる工程、
(5)硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンと被印刷基板表面を接触させ、転写する工程
(6)被印刷基板上に転写された硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンを硬化させる工程
(7)被印刷基板上に残留するスペーサーを除去する工程
からなることを特徴とする微小突起物の製造方法である。
The present invention has been made to solve such a problem, and the invention according to claim 1 of the present invention is a method of manufacturing a microprojection formed at a predetermined position on a substrate to be printed,
(1) A process of applying a curable resin ink on an ink-peelable glass substrate and pre-drying it into a film,
(2) forming a microprojection pattern made of a curable resin ink film on an ink peelable glass substrate by removing a part of the curable resin ink film;
(3) a step of arranging a spacer in the removal opening of the microprojection pattern made of a curable resin ink film;
(4) a step of matching a microprojection pattern made of a curable resin ink film with a predetermined position on a substrate to be printed,
(5) A process of bringing the microprojection pattern made of a curable resin ink film into contact with the surface of the substrate to be printed and transferring it (6) Curing the microprojection pattern made of the curable resin ink film transferred onto the substrate to be printed (7) A method for producing a microprojection comprising the step of removing a spacer remaining on a substrate to be printed.

本発明の請求項2に係る発明は、スペーサーがガラス又は樹脂からなる球状のスペーサーであることを特徴とする、請求項1に記載の微小突起物の製造方法である。   The invention according to claim 2 of the present invention is the method for producing a microprojection according to claim 1, wherein the spacer is a spherical spacer made of glass or resin.

本発明の請求項3に係る発明は、インクジェット法によりスペーサーを配置することを特徴とする、請求項1または2に記載の微小突起物の製造方法である。   The invention according to claim 3 of the present invention is the method for producing a microprojection according to claim 1 or 2, wherein the spacer is arranged by an ink jet method.

本発明の請求項4に係る発明は、請求項1に記載した工程(4)において、インキ剥離性ガラス基板上に設けられたマークパターンと、被印刷基板上に設けられたマークパターンとを一致させることにより、微小突起物パターンと、被印刷基板上の所定の位置とを一致させることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の微小突起物の製造方法である。   In the invention according to claim 4 of the present invention, in the step (4) described in claim 1, the mark pattern provided on the ink-peeling glass substrate and the mark pattern provided on the substrate to be printed are matched. 4. The method of manufacturing a microprojection according to claim 1, wherein the microprojection pattern and a predetermined position on the substrate to be printed are made coincident with each other.

本発明の請求項5に係る発明は、前記被印刷基板が、液晶表示装置用カラーフィルターであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の液晶表示装置用スペーサー樹脂柱の製造方法である。   The invention according to claim 5 of the present invention is the manufacture of a spacer resin column for a liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 4, wherein the substrate to be printed is a color filter for a liquid crystal display device. Is the method.

被印刷基板上の所定の位置とは、例えば液晶表示装置用スペーサー樹脂柱として本発明の微小突起物を用いる場合には、カラーフィルター中ブラックマトリクスの直上部である。上記インキ剥離性ガラス基板とは硬化性樹脂インキ膜を容易に剥離することが可能な材料からなる基板を意味する。また硬化性樹脂とは光や熱等により硬化させることのできる樹脂である。   The predetermined position on the substrate to be printed is, for example, immediately above the black matrix in the color filter when the microprojection of the present invention is used as a spacer resin column for a liquid crystal display device. The ink-removable glass substrate means a substrate made of a material that can easily peel the curable resin ink film. The curable resin is a resin that can be cured by light or heat.

本発明の請求項1に係る発明によれば、インキ剥離性ガラス基板上に形成したパターンを転写することによって、製造工程において被印刷基板に損傷を与えることなくパターン形成でき、また、微小突起物の高さをスペーサーの高さによって規定することができるため、微小突起物の高さを均一に揃えることに効果がある。   According to the first aspect of the present invention, by transferring the pattern formed on the ink-peelable glass substrate, the pattern can be formed without damaging the substrate to be printed in the manufacturing process. Since the height can be defined by the height of the spacer, it is effective to make the heights of the microprojections uniform.

本発明の請求項2に係る発明によれば、ガラス又は樹脂からなる球状のスペーサーを用いることで、高精度に高さの揃った微小突起物が得られる。   According to the second aspect of the present invention, by using a spherical spacer made of glass or resin, microprojections having a uniform height can be obtained with high accuracy.

本発明の請求項3に係る発明によれば、インクジェット法を用いて、硬化性樹脂インキ
膜からなる微小突起物パターンの除去開口部に選択的にスペーサーを配置することで、少ないスペーサーの量においても高さの揃った微小突起物を転写することができる。
According to the invention according to claim 3 of the present invention, by using the inkjet method, a spacer is selectively disposed in the removal opening portion of the microprojection pattern made of the curable resin ink film, so that the amount of the spacer can be reduced. It is possible to transfer microprojections having a uniform height.

本発明の請求項4に係る発明によれば、インキ剥離性ガラス基板上に設けられたマークパターンと、被印刷基板上に設けられたマークパターンとを一致させて位置合わせを行うことにより、微小突起物を所定の位置に形成することできる。   According to the invention of claim 4 of the present invention, the mark pattern provided on the ink releasable glass substrate and the mark pattern provided on the substrate to be printed are aligned to perform fine alignment. The protrusion can be formed at a predetermined position.

本発明の請求項5に係る発明によれば、請求項1から4に係る発明の被印刷基板として液晶表示装置用カラーフィルターを用いることにより、高さの揃った微小突起物を精密に形成でき、TFT等の画素電極が設けられた透明基板と貼り合わせることで、均一なセル厚みのパネルができ、表示ムラのない、高品質の液晶表示装置が得られる。   According to the invention according to claim 5 of the present invention, by using the color filter for a liquid crystal display device as the substrate to be printed of the invention according to claims 1 to 4, it is possible to precisely form microprojections having a uniform height. By attaching to a transparent substrate provided with pixel electrodes such as TFTs, a panel having a uniform cell thickness can be obtained, and a high-quality liquid crystal display device without display unevenness can be obtained.

本発明の微小突起物の製造方法の実施形態について、図面(図2)、(図3)に基づいて以下に詳細に説明する。   An embodiment of a method for producing a microprojection of the present invention will be described in detail below based on the drawings (FIG. 2) and (FIG. 3).

図2は、本発明に係るインキ剥離性ガラス基板201上に硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターン204を形成する工程の一例を説明する図である。   FIG. 2 is a diagram for explaining an example of a process of forming a microprojection pattern 204 made of a curable resin ink film on the ink peelable glass substrate 201 according to the present invention.

インキ剥離性ガラス基板201としては、後述する硬化性樹脂インキ膜に対して剥離性を持つものであればよい。   The ink releasable glass substrate 201 may be any one having releasability with respect to the curable resin ink film described later.

ガラス基板へインキ剥離性を付与するために、シリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を塗っても良いし、あるいはシリコーンゴムの薄膜層を形成してもよい。また同様の効果を得るために、フッ素系樹脂、フッ素系ゴムを用いることもできる。あるいはフッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を付与してもよい。これらシリコーン系の塗膜は通常ガラス基板との密着が低いが、熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、最表面に設けるシリコーン層に対して、よりガラス基板との接着性の高い樹脂層やシランカップリング剤を、アンカー層としてあらかじめガラス基板上に設け、その上層に設けることもできる。   In order to impart ink releasability to the glass substrate, a release agent represented by silicone oil or silicone varnish may be applied, or a thin film layer of silicone rubber may be formed. In order to obtain the same effect, a fluorine resin or a fluorine rubber can also be used. Alternatively, the fluororesin fine powder may be mixed with silicone rubber or ordinary rubber to impart peelability. Although these silicone-based coatings usually have low adhesion to the glass substrate, they are more adhesive to the glass substrate than the thermosetting or UV-curable acrylic resin, epoxy resin, or silicone layer provided on the outermost surface. A high resin layer or a silane coupling agent may be provided on the glass substrate in advance as an anchor layer, and may be provided on the upper layer.

具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。   Specific silicones include dimethylpolysiloxanes with various molecular weights, other methylhydropolysiloxanes, methylphenylsilicone oils, methylchlorinated phenylsilicone oils, or copolymers of these polysiloxanes with organic compounds. Can be used.

シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせや、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサン等を用いることができる。   Silicone rubber is a combination of two-component diorganopolysiloxane and a tri- or higher functional silane as a crosslinking agent, or a combination of siloxane and a curing catalyst, or one-component diorganopolysiloxane, acetone oxime, and various methoxys. Combinations of silane, methyltriacetoxysilane, etc., and other polysiloxanes for adjusting rubber hardness can be used.

また、ガラス基板表面のインキ剥離性を付与するその他の処理方法として、シランカップリング剤を用いることもできる。シランカップリング剤は、ガラスと反応できるトリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類などを用いることができる。シランカップリング剤の一部位は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基などの有機化合物との反応性基を持つものから選ぶことができ、あるいは、アルキル基やその一部にフッ素原子が置換されたものやシロキサンが結合して、表面エネルギーの小さな表面を形成できる置換基が結合したものを用いることができる。前者の反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シランカップリング剤でガラス表面を処理した後、所
定の表面自由エネルギーになるような他のモノマー成分を塗工して、結合させることができる。反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどを用いることができ、モノマーとして、スチレン、 エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、 ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどを用いることができる。また、反応性基を有さないシランカップリング剤としてはメチルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシランなどを用いることができる。但し、アルキル基に限定されるものではない。
Moreover, a silane coupling agent can also be used as another processing method which provides the ink peelability of the glass substrate surface. As the silane coupling agent, trimethoxysilanes and triethoxysilanes that can react with glass can be used. One part of the silane coupling agent can be selected from those having a reactive group with an organic compound such as a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a methacryl group, a mercapto group, or an alkyl group or a part thereof. Those having a fluorine atom substituted or those having a substituent bonded to form a surface with a small surface energy by bonding with siloxane can be used. When the former silane coupling agent having a reactive group is used, after the glass surface is treated with the silane coupling agent, other monomer components that give a predetermined surface free energy are applied and bonded. be able to. Examples of the silane coupling agent having a reactive group include vinyl methoxy silane, vinyl ethoxy silane, p-styryl trimethoxy silane, 3-glycidoxy propyl trimethoxy silane, 2- (3,4 epoxy cyclohexyl) ethyl trimethoxy silane. , 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, etc., and styrene, ethylene glycol diglycidyl ether, trimethylpropane triglycidyl ether, lauryl acrylate, dipentaerythritol hexa Acrylate or the like can be used. As the silane coupling agent having no reactive group, methyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane and the like can be used. However, it is not limited to an alkyl group.

まず、図2の(a)に示すように、インキ剥離性ガラス基板201上に、硬化性樹脂インキを塗布する。   First, as shown to (a) of FIG. 2, curable resin ink is apply | coated on the ink peelable glass substrate 201. FIG.

インキ剥離性ガラス基板201上へ硬化性樹脂インキ膜202を形成する方法としては、インキの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗布方法を用いることができる。すなわち、スピンコート、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、ギャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインキについて均一なインキ液膜を形成することができ、さらにその中でも可動するインキ剥離性ガラス板上へ連続的に形成する場合は、ダイコートが最も効率的で好適な塗布方法である。   As a method for forming the curable resin ink film 202 on the ink peelable glass substrate 201, a known coating method can be used depending on the viscosity of the ink and the drying property of the solvent. That is, spin coating, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method and the like can be mentioned. Among them, the die coat, gap coat, roll coat, and applicator can form a uniform ink film for inks with a wide range of viscosity, and continuously form them on a movable ink-peelable glass plate. In some cases, die coating is the most efficient and preferred coating method.

インキ剥離性ガラス基板201上へ前記方法により硬化性樹脂インキを塗布した後に、これを予備乾燥させる。この予備乾燥には自然乾燥、冷風・温風乾燥、マイクロ波、減圧乾燥などを用いることができる。あるいは、紫外線、電子線などの放射線を用いることもできる。この予備乾燥では、硬化性樹脂インキの粘度またはチキソトロピー性を高めることを目的とするもので、硬化性樹脂インキを完全に硬化させることはしない。そのため使用する硬化性樹脂インキの組成によって乾燥状態を調整することが好ましい。このとき形成する予備乾燥状態の硬化性樹脂インキ膜202の膜厚は、後述するスペーサーの粒径と等しいか、あるいはそれよりも多少大きい膜厚であることが重要である。このことにより、被印刷基板に転写した際に微小突起物の高さを均一に揃えることができる。   After the curable resin ink is applied onto the ink peelable glass substrate 201 by the above method, it is preliminarily dried. For this preliminary drying, natural drying, cold air / hot air drying, microwave, vacuum drying, or the like can be used. Alternatively, radiation such as ultraviolet rays and electron beams can be used. This preliminary drying is intended to increase the viscosity or thixotropy of the curable resin ink, and does not completely cure the curable resin ink. Therefore, it is preferable to adjust a dry state with the composition of the curable resin ink to be used. It is important that the film thickness of the curable resin ink film 202 in the pre-dried state formed at this time is equal to or slightly larger than the particle diameter of the spacer described later. As a result, the height of the fine protrusions can be made uniform when transferred to the substrate to be printed.

本発明に用いる硬化性樹脂インキとしては、公知の光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂を用いることが可能である。例えば、エポキシ系樹脂、ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等を挙げることができ、必要に応じて硬化剤、架橋剤を混合してもよい。また、位置合わせを行う場合、必要に応じて着色することができる。   As the curable resin ink used in the present invention, a known photocurable resin or thermosetting resin can be used. For example, an epoxy resin, a polystyrene resin, a melamine resin, a phenol resin, an acrylic resin, an unsaturated polyester resin, a polyurethane resin, and the like can be used, and a curing agent and a crosslinking agent may be mixed as necessary. Moreover, when aligning, it can color as needed.

また、硬化性樹脂は必要に応じて溶剤に溶解して使用することが可能である。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、メトキシアルコール、エトキシアルコール、メトキシエトキシエタノール、エトキシエトキシエタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテート、メトキシエトキシエチルアセテート、エトキシエトキシエチルアセテート、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、γ−
ブチロラクトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン等を挙げることができる。
Further, the curable resin can be used by dissolving in a solvent as necessary. For example, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, methoxy alcohol, ethoxy alcohol, methoxy ethoxy ethanol, ethoxy ethoxy ethanol, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethyl lactate, acetone , Methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methoxyethyl acetate, ethoxyethyl acetate, ethyl cellosolve acetate, methoxyethoxyethyl acetate, ethoxyethoxyethyl acetate, diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, tetrahydrofuran, N, N -Dimethylformua De, N, N- dimethylacetamide, N- methylpyrrolidone, .gamma.
Examples include butyrolactone, benzene, toluene, xylene, n-hexane, n-heptane, and n-octane.

次に、図2の(b)、(c)に示すように、微小突起物パターンに対してネガのパターンを有する除去版203を用いて不要部を除去し、硬化性樹脂インキ膜の微小突起物パターン204を形成する。除去版203としては、公知の樹脂製の凸版を用いることができる。例えば、ナイロン、アクリル、シリコーン樹脂、スチレン−ジエン共重合体などからなるもの、或いはエチレン−プロピレン系、ブチル系、ウレタン系ゴムなどのゴム製の版を用いることができる。このような樹脂製の凸版は、すでに凸版印刷やフレキソ印刷用に用いられており、予め作製した型に所定の樹脂を流し込んで版とするか、あるいは彫刻によっても作製することができるが、感光性樹脂を用いる方法がより高精度のものを作製できるために好ましい。また、版深は2μmから30μm程度設けたものを用いることができる。   Next, as shown in FIGS. 2B and 2C, unnecessary portions are removed using a removal plate 203 having a negative pattern with respect to the fine protrusion pattern, and the fine protrusion of the curable resin ink film is removed. An object pattern 204 is formed. As the removal plate 203, a known resin relief plate can be used. For example, a plate made of nylon, acrylic, silicone resin, styrene-diene copolymer, or a rubber plate such as ethylene-propylene, butyl, or urethane rubber can be used. Such resin-made relief plates have already been used for relief printing and flexographic printing, and can be produced by pouring a predetermined resin into a previously produced mold or by engraving. A method using a conductive resin is preferable because a highly accurate one can be produced. A plate depth of about 2 μm to 30 μm can be used.

次に、図3に基づいて、本発明に係る形成した硬化性樹脂インキ膜の微小突起物パターン204を被印刷基板上に転写する工程を説明する。   Next, based on FIG. 3, the process of transferring the fine projection pattern 204 of the formed curable resin ink film according to the present invention onto the substrate to be printed will be described.

本発明で用いる被印刷基板としては、スペーサー樹脂柱を直接形成しないので、基材への損傷が少なく、ガラスだけでなく、プラスチック等に加工して用いることもできる。   As the substrate to be printed used in the present invention, since the spacer resin pillar is not directly formed, there is little damage to the base material, and it can be processed into not only glass but also plastic.

プラスチック基板は具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができる。さらに光透過性の基板を用いることは、後述するパターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすることができ好ましい。   Specifically, a film or sheet of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, or the like is used as the plastic substrate. be able to. Furthermore, it is preferable to use a light-transmitting substrate because alignment can be facilitated when patterns to be described later are superimposed.

本発明では、図3の(d)に示すように、製造する微小突起物の高さを規定するために、インキ剥離性ガラス基板上の硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターン204の除去開口部にスペーサー301を配置する。この工程により、均一な高さを持つ突起物が形成され、さらに微笑突起物の近傍にスペーサー301を配置することが、転写時の印圧により突起物の形状が不均一に変形してしまうこともなくより効果的である。   In the present invention, as shown in FIG. 3 (d), in order to define the height of the microprojection to be manufactured, the microprojection pattern 204 made of a curable resin ink film on the ink peelable glass substrate is removed. A spacer 301 is disposed in the opening. By this process, a projection having a uniform height is formed, and further, the spacer 301 is disposed in the vicinity of the smile projection, and the shape of the projection is deformed unevenly due to the printing pressure during transfer. Is more effective.

スペーサーの配置には、公知のインクジェット装置及びインクジェットヘッドを用いることができる。インクジェットノズル302から分散媒に分散させたスペーサーを吐出することにより、被印刷基板上の微小突起物を形成する所定の位置の近傍に選択的にスペーサーを配置する。インクジェットヘッドのノズル径はインキ滴の吐出性や、スペーサーによるノズル閉塞の防止を考慮すると、限定されるものではないがスペーサーの粒径に対して5倍以上の径であることが望ましい。   A known inkjet device and inkjet head can be used for the spacer arrangement. By ejecting the spacer dispersed in the dispersion medium from the ink jet nozzle 302, the spacer is selectively disposed in the vicinity of a predetermined position where the minute protrusions are formed on the substrate to be printed. The nozzle diameter of the ink jet head is not limited in consideration of ink droplet ejection properties and prevention of nozzle clogging by the spacer, but it is preferably 5 or more times the diameter of the spacer.

本発明に用いるスペーサー301としては、液晶表示装置用スペーサーとして公知のスペーサービーズを用いることができる。例えば、無機系成分ではガラス、有機系成分としてはアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジビニルベンゼン共重合体、ジビニルベンゼン―アクリルエステル共重合体、ジアクリルフタレート共重合体、アリルイソシアヌレート共重合体等が使用可能である。また、スペーサーの粒径は微小突起物の高さを規定するものであるが、インキ膜の予備乾燥や硬化時にインキ膜の体積収縮が起こるため、予めインキの体積収縮分を計算し、予備乾燥膜の膜厚と同じか、やや小さく、かつ、目的とするスペース樹脂柱の高さよりもやや大きいビーズを用いることが良い。当然ながら、体積収縮の度合いはインキ中における硬化性樹脂の濃度や、分散媒の種類と混合比によって異なる。   As the spacer 301 used in the present invention, known spacer beads can be used as a spacer for a liquid crystal display device. For example, glass for inorganic components, acrylic resin, epoxy resin, phenol resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, divinylbenzene copolymer, divinylbenzene-acrylic ester copolymer, diacrylphthalate as organic components Copolymers, allyl isocyanurate copolymers and the like can be used. In addition, the particle size of the spacer defines the height of the microprojections. Since the ink film undergoes volume shrinkage during ink film pre-drying and curing, the ink volume shrinkage is calculated in advance and pre-dried. It is preferable to use beads that are the same as or slightly smaller than the film thickness and slightly larger than the height of the target space resin column. Naturally, the degree of volume shrinkage varies depending on the concentration of the curable resin in the ink, the type of the dispersion medium, and the mixing ratio.

スペーサーをインクジェット法にて配置する際には適当な分散媒に分散させることが考えられるが、具体的な分散媒としては、水、エチレングリコール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、必要に応じて適宜混合し、揮発性や粘度を調節して用いることができる。また分散媒中のスペーサーの濃度としては、インキ剥離性ガラス基板上に吐出した際に、スペーサー同士が凝集したり、重なったりしない範囲に設定する必要がある。   When arranging the spacers by the ink jet method, it is conceivable to disperse them in a suitable dispersion medium. Specific examples of the dispersion medium include water, ethylene glycol, isopropyl alcohol, etc. The volatility and viscosity can be adjusted. The concentration of the spacer in the dispersion medium needs to be set in a range in which the spacers do not aggregate or overlap when discharged onto the ink peelable glass substrate.

次に、図3の(e)に示すように硬化性樹脂インキ膜の微小突起物パターン307が形成されたインキ剥離性ガラス基板306に被印刷基板の透明電極304を接触させ、パターンを転写する。   Next, as shown in FIG. 3E, the transparent electrode 304 of the substrate to be printed is brought into contact with the ink-peelable glass substrate 306 on which the fine protrusion pattern 307 of the curable resin ink film is formed, and the pattern is transferred. .

液晶表示装置用スペーサーとして微小突起物を用いる場合においては、ブラックマトリクス上に微小突起物パターンを一致させることが望ましい。位置合わせには、可動性ステージ上に微小突起物パターンを設けたインキ剥離性ガラス基板を固定し、上部から被印刷基板を100〜250μm程度に近づけた後、インキ剥離性ガラス基板上に得られたパターンの一部や位置合わせ用のマークパターンと、被印刷基板上のマークパターンを透過画像で認識し、それぞれの基板上のパターンを認識した画像を基に可動性ステージを動作させ転写位置の補正を行うことができる。また、インキ剥離性ガラス基板と被印刷基板の間に顕微鏡カメラを挿入し、それぞれの基板上のパターンを認識した画像を基に位置の補正を行う方法も選択できる。上記顕微鏡カメラは光学顕微鏡、CCD(Charge Coupled Device)顕微鏡のどちらであっても良いが、オートフォーカス、電気的に制御可能な手動焦点制御機構のいずれか、もしくはその両方の機能を必要とし、観察の為に外部に設置したモニターや位置補正の為の画像処理装置へのインターフェースを持つものとすることができる。   In the case where a microprojection is used as a spacer for a liquid crystal display device, it is desirable that the microprojection pattern be matched on the black matrix. For alignment, an ink peelable glass substrate provided with a microprojection pattern is fixed on a movable stage, and the printed substrate is brought close to about 100 to 250 μm from above, and then obtained on the ink peelable glass substrate. A part of the pattern and the mark pattern for alignment and the mark pattern on the substrate to be printed are recognized in the transmission image, and the movable stage is operated based on the image on which the pattern on the respective substrate is recognized to determine the transfer position. Correction can be performed. In addition, a method can be selected in which a microscope camera is inserted between the ink-peelable glass substrate and the substrate to be printed, and the position is corrected based on images obtained by recognizing patterns on the respective substrates. The microscope camera may be either an optical microscope or a CCD (Charge Coupled Device) microscope, but requires either autofocus, an electrically controllable manual focus control mechanism, or both. For this purpose, it is possible to have an interface to an external monitor or an image processing apparatus for position correction.

位置合わせの後、ローラー、スキージ、エアー吹きつけ、真空ラミネート等を用いて被印刷基板とインキ剥離性ガラス基板を接触させ、均一に印圧を掛けて転写する。このとき被印刷基板とインキ剥離性ガラス基板との間にスペーサーが存在することにより、その高さがスペーサーの粒径によって規定され、よって微小突起物の高さを均一に揃えることが可能となる。   After alignment, the substrate to be printed and the ink-removable glass substrate are brought into contact with each other by using a roller, a squeegee, air blowing, vacuum lamination, etc., and transferred with uniform printing pressure. At this time, the presence of the spacer between the substrate to be printed and the ink-removable glass substrate allows the height to be defined by the particle size of the spacer, thus making it possible to evenly align the height of the microprojections. .

図3(f)に示すように、インキ剥離性ガラス基板から被印刷基板に転写した後、予備乾燥状態の硬化性樹脂インキ膜を硬化する。硬化させる工程においては、硬化性樹脂インキ膜の性質に従って、加熱あるいは光照射等の公知の硬化性樹脂の硬化方法を用いることができる。   As shown in FIG. 3 (f), after transferring from the ink peelable glass substrate to the substrate to be printed, the curable resin ink film in a pre-dried state is cured. In the curing step, a known curable resin curing method such as heating or light irradiation can be used according to the properties of the curable resin ink film.

上記の工程で被印刷基板上に微小突起物が固定された後、インキ剥離性ガラス基板に吸着除去されずに被印刷基板上に転着したスペーサーを、図3(g)に示すように除去する。スペーサーの除去には空気、水等の液体、およびこれらの混合流体吹き付けによる除去を行うことができる。スペーサー除去時の流体吹き付けの圧力は、スペーサーを除去できる十分な圧力を有すれば良く、形成された微小突起物、被印刷基板に損傷等の影響を与えない強さであればよい。圧力は、限定されるものではないが、0.2〜1.0MPa/cm2であることが望ましい。 After the fine protrusions are fixed on the substrate to be printed in the above process, the spacer transferred onto the substrate to be printed without being absorbed and removed by the ink-removable glass substrate is removed as shown in FIG. To do. The spacer can be removed by spraying a liquid such as air, water, or a mixed fluid thereof. The fluid spraying pressure at the time of removing the spacer is sufficient if it has sufficient pressure to remove the spacer, and may be a strength that does not affect the formed microprojections and the substrate to be printed. Although a pressure is not limited, It is desirable that it is 0.2-1.0MPa / cm < 2 >.

以上の工程により、微小突起物が形成される。本発明においては、被印刷基板上に直接形成しないので、製造工程において被印刷基板を損傷させず、またインキ剥離性ガラス基板と被印刷基板との位置合わせにより、所望の位置に微小突起物を形成することが可能である。また、微小突起物の高さをスペーサーの粒径によって規定することができるため、高さを均一に揃えることが可能となる。   Through the above steps, microprojections are formed. In the present invention, since the substrate is not directly formed on the substrate to be printed, the substrate to be printed is not damaged in the manufacturing process. It is possible to form. Moreover, since the height of the microprojections can be defined by the particle size of the spacer, the height can be made uniform.

以下に、本発明の具体的実施例について説明する。   Specific examples of the present invention will be described below.

微小突起物を構成する硬化性樹脂インキを次の要領で調製した。下記の組成の混合物を均一に撹拌混合し、固形分15%の、光硬化性樹脂インキを得た。
〔光硬化性樹脂インキ〕
・スチレン含有アクリル系樹脂(大阪有機化学(株)製、PLA118) 17重量部
・スチレン 36重量部
・メタクリル酸(MAA) 15重量部
・2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA) 12重量部
・メタクリロイルオキシエチルイソシアネート付加2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト(MOI−HEMA) 37重量部
・モノマー
3官能モノマー(大阪有機化学(株)製、PET3A) 4重量部
6官能モノマー(大阪有機化学(株)製、UA−DPH) 4重量部
・光重合開始剤(アセトフェノン系、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、(IRG
369) 2重量部
・溶剤
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 73重量部
次にインクジェット法にて配置する、高さを規定するスペーサーを次の要領で分散媒中に分散した。下記の組成の混合物をソニケーターを用いて撹拌し、スペーサー分散体を得た。
〔スペーサー分散体〕
・液晶表示装置用ビーズスペーサー(早川ゴム(株)製、ハヤビーズL−11S 5.2μm) 1重量部
・分散媒
純水 10重量部
イソプロピルアルコール 10重量部
エチレングリコール 80重量部
ガラス基板として、無アルカリガラスを250mm角に切り出したものを用い、ドデシルトリメトキシシランの0.5%イソプロピルアルコール溶液をスピンコートした後、120℃のホットプレート上で180秒間加熱を行い、インキ剥離性ガラス基板を得た。
A curable resin ink constituting the microprojections was prepared as follows. A mixture having the following composition was uniformly stirred and mixed to obtain a photocurable resin ink having a solid content of 15%.
[Photocurable resin ink]
・ Styrene-containing acrylic resin (Osaka Organic Chemical Co., Ltd., PLA118) 17 parts by weight ・ Styrene 36 parts by weight ・ Methacrylic acid (MAA) 15 parts by weight ・ 2-Hydroxyethyl methacrylate (HEMA) 12 parts by weight ・ Methacryloyloxyethyl Isocyanate-added 2-hydroxyethyl methacrylate (MOI-HEMA) 37 parts by weight / monomer Trifunctional monomer (Osaka Organic Chemical Co., Ltd., PET3A) 4 parts by weight Hexafunctional monomer (Osaka Organic Chemical Co., Ltd., UA- DPH) 4 parts by weight / photopolymerization initiator (acetophenone series, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc. (IRG
369) 2 parts by weight / solvent 73 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate Next, a spacer for regulating the height, which is arranged by an ink jet method, was dispersed in a dispersion medium in the following manner. A mixture having the following composition was stirred using a sonicator to obtain a spacer dispersion.
[Spacer dispersion]
・ Bead spacer for liquid crystal display device (Hayakawa Rubber Co., Ltd., Haya beads L-11S 5.2 μm) 1 part by weight ・ Dispersion medium Pure water 10 parts by weight Isopropyl alcohol 10 parts by weight Ethylene glycol 80 parts by weight Non-alkali as a glass substrate A glass cut into 250 mm square was used, spin-coated with a 0.5% isopropyl alcohol solution of dodecyltrimethoxysilane, and then heated on a hot plate at 120 ° C. for 180 seconds to obtain an ink peelable glass substrate. .

また、パターンの除去版として、250mm角(パターン有効域は200mm角)、版深10μmのナイロン樹脂版を用いた。パターンは凹部直径10μmの、被印刷基板におけるブラックマトリクスの交点に対応するように規則的に配置された円形パターンと、4つの角に位置するパターン有効域の外部にアライメントマークを設けた。   Further, as a pattern removal plate, a nylon resin plate having a 250 mm square (200 mm square pattern effective area) and a plate depth of 10 μm was used. The pattern has a concave diameter of 10 μm, a circular pattern regularly arranged so as to correspond to the intersection of the black matrix on the substrate to be printed, and an alignment mark provided outside the pattern effective area located at the four corners.

また、被印刷基板として、基材厚100μmのポリエチレンナフタレート表面にブラックマトリクスおよび画素パターンを配置し、平坦化層を設けた後に透明導電層を積層した、液晶表示装置用カラーフィルターを用いた。   Further, as a substrate to be printed, a color filter for a liquid crystal display device in which a black matrix and a pixel pattern were arranged on a polyethylene naphthalate surface having a base material thickness of 100 μm, a flattening layer was provided, and then a transparent conductive layer was laminated was used.

上記部材を用いて次のような方法で微小突起物を形成した。   Microprojections were formed by the following method using the above members.

まず、インキ剥離性ガラス基板上に予備乾燥膜厚が5.5μmとなるように、バーコーターを用いて光硬化性樹脂インキを塗工した。その後、120℃のドライオーブンにて240秒予備乾燥を行い、予備乾燥インキ膜を得た。   First, the photocurable resin ink was applied on the ink peelable glass substrate by using a bar coater so that the pre-dried film thickness was 5.5 μm. Thereafter, preliminary drying was performed for 240 seconds in a dry oven at 120 ° C. to obtain a preliminary dried ink film.

次に、除去版をインキ剥離性ガラス基板に貼り合わせ、ゴムローラーで押し当てた後に剥離することで不要部を取り除き、微小突起物のパターンを形成した。   Next, the removal plate was bonded to an ink-peelable glass substrate, pressed with a rubber roller, and then peeled off to remove unnecessary portions and form a pattern of microprojections.

次に、インキ剥離性ガラス基板上の硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンの除去開口部にインクジェット法にてスペーサー分散体を吐出し、スペーサーをカラーフィルターの画素パターンの直上部に配置し、120℃のホットプレート上で60秒間乾燥を行った。尚、吐出した液滴一滴あたりの体積は25plであり、液滴中に含まれるスペーサーは1〜4個であった。   Next, a spacer dispersion is ejected to the removal opening of the microprojection pattern made of a curable resin ink film on the ink-peelable glass substrate by an inkjet method, and the spacer is disposed immediately above the pixel pattern of the color filter. And drying on a hot plate at 120 ° C. for 60 seconds. In addition, the volume per discharged droplet was 25 pl, and 1 to 4 spacers were included in the droplet.

次に、インキ剥離性ガラス基板とスペーサーを設けたカラーフィルターとを100μmの間隔を保持して重ね合わせ、2つのアライメント用カメラで対角上のアライメントマークを確認した後、インキ剥離性ガラス基板とカラーフィルターを貼り合わせ、次いでゴムローラーで押し当てた後に剥離することでカラーフィルターのブラックマトリクス上に微小突起物パターンの転写を行った。   Next, the ink releasable glass substrate and the color filter provided with the spacer are overlapped while maintaining an interval of 100 μm, and after confirming the diagonal alignment mark with two alignment cameras, the ink releasable glass substrate and The color filter was bonded, then pressed with a rubber roller, and then peeled off to transfer the microprojection pattern onto the black matrix of the color filter.

次に、カラーフィルターのブラックマトリクス上に転写した硬化性樹脂からなる微小突起物パターンに紫外線を照射して硬化を行った後、ビーズスペーサーを0.6MPa/cm2の空気吹き付けによって除去することでカラーフィルターのブラックマトリクス上にスペーサー樹脂柱を得た。 Next, the microprojection pattern made of a curable resin transferred onto the black matrix of the color filter is cured by irradiating with ultraviolet rays, and then the bead spacer is removed by air blowing at 0.6 MPa / cm 2. A spacer resin column was obtained on the black matrix of the color filter.

本発明は基板上に微小突起物を精密に且つ高さを均一に揃えて、安価に形成することができ、種々の用途に利用できるが、とりわけ液晶表示装置用スペーサー、マイクロ流路チップの流路形成用樹脂柱の形成に利用することができる。   The present invention can form microprojections precisely and uniformly on a substrate at a low cost, and can be used for various applications. In particular, the present invention can be applied to spacers for liquid crystal display devices and microchannel chips. It can be used for forming a resin column for forming a path.

本発明による微小突起物を用いた、液晶表示装置用カラーフィルターのスペーサー樹脂柱の一例の説明図である。It is explanatory drawing of an example of the spacer resin pillar of the color filter for liquid crystal display devices using the microprojection by this invention. 本発明に係るインキ剥離性ガラス基板上に硬化性樹脂インキ膜の微小突起物パターンを形成する工程の一例の説明図である。It is explanatory drawing of an example of the process of forming the microprojection pattern of a curable resin ink film on the ink peelable glass substrate which concerns on this invention. 本発明の微小突起物の製造方法の一例の説明図である。It is explanatory drawing of an example of the manufacturing method of the microprojection of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

101・・・ガラス又はプラスチック基板
102・・・ブラックマトリクス
103・・・透明電極層
104・・・液晶表示装置用スペーサー樹脂柱
105・・・画素
106・・・オーバーコート層
201・・・インキ剥離性ガラス基板
202・・・硬化性樹脂インキ膜
203・・・除去版
204・・・硬化性樹脂インキ膜の微小突起物パターン
301・・・ビーズスペーサー
302・・・インクジェットノズル
303・・・被印刷基板(カラーフィルター)
304・・・透明電極
305・・・ローラー
306・・・インキ剥離性ガラス基板
307・・・硬化性樹脂インキ膜の微小突起物パターン
a・・・硬化性樹脂インキ膜をインキ剥離性ガラス基板上に形成する工程
b・・・除去版により微小突起物パターンを形成する工程
c・・・インキ剥離性ガラス基板上の硬化性樹脂インキ膜の微小突起物パターン
d・・・スペーサーをインキ剥離性ガラス基板上に配置する工程
e・・・硬化性樹脂インキ膜の微小突起物パターンを被印刷基板上に転写する工程
f・・・硬化性樹脂インキ膜の微小突起物パターンを硬化させる工程
g・・・スペーサーを除去する工程
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Glass or plastic substrate 102 ... Black matrix 103 ... Transparent electrode layer 104 ... Spacer resin pillar 105 for liquid crystal display devices ... Pixel 106 ... Overcoat layer 201 ... Ink peeling Glass substrate 202 ... curable resin ink film 203 ... removal plate 204 ... microprojection pattern 301 of curable resin ink film ... bead spacer 302 ... inkjet nozzle 303 ... to be printed Substrate (color filter)
304 ... Transparent electrode 305 ... Roller 306 ... Ink peelable glass substrate 307 ... Fine projection pattern a of curable resin ink film a ... Curable resin ink film on ink peelable glass substrate Step b ... Forming a microprojection pattern with a removal plate c ... Microprojection pattern d of a curable resin ink film on an ink-peeling glass substrate ... Step e to place on the substrate e ... Step to transfer the microprojection pattern of the curable resin ink film onto the substrate to be printed f ... Step to cure the microprojection pattern of the curable resin ink film g・ Process to remove spacer

Claims (5)

被印刷基板上の所定の位置に微小突起物を形成する製造方法であって、
(1)インキ剥離性ガラス基板上に硬化性樹脂インキを塗布し、予備乾燥して膜とする工程、
(2)硬化性樹脂インキ膜の一部を除去することにより、インキ剥離性ガラス基板上に硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンを形成する工程
(3)硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンの除去開口部にスペーサーを配置する工程、
(4)硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンの位置と、被印刷基板上の所定の位置とを一致させる工程、
(5)硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンと被印刷基板表面を接触させ、転写する工程、
(6)被印刷基板上に転写された硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンを硬化させる工程、
(7)被印刷基板上に残留するスペーサーを除去する工程、
からなることを特徴とする微小突起物の製造方法。
A manufacturing method for forming a microprojection at a predetermined position on a substrate to be printed,
(1) A process of applying a curable resin ink on an ink-peelable glass substrate and pre-drying it into a film,
(2) A step of forming a microprojection pattern made of a curable resin ink film on an ink peelable glass substrate by removing a part of the curable resin ink film. (3) A minute made of a curable resin ink film. A step of arranging a spacer in the removal opening of the projection pattern;
(4) a step of matching the position of the microprojection pattern made of the curable resin ink film with a predetermined position on the substrate to be printed;
(5) a step of bringing the microprojection pattern made of a curable resin ink film into contact with the surface of the substrate to be printed, and transferring it;
(6) a step of curing a microprojection pattern made of a curable resin ink film transferred onto a substrate to be printed;
(7) removing spacers remaining on the substrate to be printed;
A method for producing a microprojection comprising the steps of:
スペーサーが、ガラス又は樹脂からなる球状のスペーサーであることを特徴とする、請求項1に記載の微小突起物の製造方法。   The method for producing a microprojection according to claim 1, wherein the spacer is a spherical spacer made of glass or resin. インクジェット法によりスペーサーを配置することを特徴とする請求項1または2に記載の微小突起物の製造方法。   The method for producing a microprojection according to claim 1, wherein the spacer is arranged by an ink jet method. 請求項1に記載した工程(4)において、インキ剥離性ガラス基板上に設けられたマークパターンと、被印刷基板上に設けられたマークパターンとを一致させることにより、硬化性樹脂インキ膜からなる微小突起物パターンの位置と、被印刷基板上の所定の位置とを一致させることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の微小突起物の製造方法。   In the step (4) according to claim 1, the mark pattern provided on the ink-peeling glass substrate and the mark pattern provided on the substrate to be printed are matched to form a curable resin ink film. 4. The method of manufacturing a microprojection according to claim 1, wherein the position of the microprojection pattern is matched with a predetermined position on the substrate to be printed. 被印刷基板が、液晶表示装置用カラーフィルターであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の液晶表示装置用スペーサー樹脂柱の製造方法。   5. The method for producing a spacer resin column for a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the substrate to be printed is a color filter for a liquid crystal display device.
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