JP2008279438A - Laminated film production method and production apparatus - Google Patents

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Kazuya Matsuda
和也 松田
Toshiyuki Watanabe
利幸 渡辺
Sadamu Kuze
定 久世
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated film production method producing a smooth film at high productivity low costs, and its production apparatus. <P>SOLUTION: The production method for a laminated film having a resin layer having a radiation curing resin includes a layer forming process for arranging a resin forming material layer containing a radiation-curing resin forming material on at least one main surface on a flexible supporter 2, a smoothing process for pressing a mirror roll 5 to the resin layer to smooth the surface of the resin forming material layer, and a curing process for fitting the resin forming material layer to the mirror roll 5 and casting radiation to the resin forming material layer in the state of face-contacting the two to cure the resin forming material layer. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は積層フイルムの製造方法および製造装置に係り、さらに詳しくは平滑な表面を有する放射線硬化性樹脂を含む樹脂層を有する積層フィルムの製造方法およびその製造装置に関する。   The present invention relates to a method and apparatus for producing a laminated film, and more particularly to a method for producing a laminated film having a resin layer containing a radiation curable resin having a smooth surface and an apparatus for producing the same.

一般的に光学フィルムや磁気記録媒体などに使用するベースフィルムの製造において表面を高度に平滑にしたものを製造しようとすると、製造の過程で接触するロールやガイドでフィルム表面に傷がついたり、エアーをかみこんでうまく巻けないなどといった問題があり、このために、フィラーなどをベースフィルム中に添加し、表面に凹凸をもたせ、上記の問題を解決してベースフィルムを製造している。しかしながら、光学フィルムに用いられる場合にはフィルム表面の凹凸が光を散乱させるなどして光学的な悪影響及ぼしたり、磁気テープなどの磁気記録媒体などに使用する場合はフィルム表面の凹凸が磁気テープなどの磁気記録媒体の表面の平滑性に影響を与え、磁気記録に悪影響を及ぼす場合がある。   In general, when trying to produce a base film with a highly smooth surface in the production of a base film used for optical films or magnetic recording media, the film surface is scratched by rolls or guides that are in contact with the production process. There is a problem that it cannot be wound well by entraining air. For this reason, a filler or the like is added to the base film to make the surface uneven, and the above problem is solved to produce a base film. However, when used in an optical film, the film surface unevenness causes an optical adverse effect such as scattering of light, and when used in a magnetic recording medium such as a magnetic tape, the film surface unevenness is a magnetic tape or the like. This may affect the smoothness of the surface of the magnetic recording medium and may adversely affect the magnetic recording.

磁気記録媒体のひとつである磁気テープには、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピユータテープなどの種々の用途があるが、とくにデータバックアップ用のコンピュータテープの分野では、バックアップ対象となるハードディスクの大容量化に伴い、1巻あたり100GB以上の記憶容量のものが商品化されており、今後ハードディスクのさらなる大容量化に対応するため、バックアップテープの高容量化は不可欠である。また、大容量化のみならず、記憶容量あたりのコストも非常に重要な項目である。磁気テープで使用されるベースフィルムは巻き取りを容易にするためにベースフィルム中に数種類のフィラーを添加し、突起を形成することでベースフィルムの表面性が粗く設定されている。   Magnetic tape, one of the magnetic recording media, has a variety of uses such as audio tape, video tape, and computer tape. Especially in the field of computer tape for data backup, the capacity of the hard disk to be backed up is increased. Along with this, products with a storage capacity of 100 GB or more per volume have been commercialized, and it is indispensable to increase the capacity of the backup tape in order to cope with further increase in the capacity of the hard disk in the future. In addition to the increase in capacity, the cost per storage capacity is also a very important item. The base film used in the magnetic tape is set to have a rough surface property by adding several kinds of fillers in the base film and forming protrusions in order to facilitate winding.

一般的な磁気テープの製造工程はベースフィルムに磁気塗料を塗布し、磁性層を形成する塗布・乾燥工程、磁性層を平滑化するカレンダ工程、テープ状にカッティングするスリット工程からなる。磁性層の塗布・乾燥工程後の磁性層表面はベースフィルム上に存在する突起の影響を受け、表面性が粗くなる。磁性層の表面を平滑にするために、カレンダ工程では鏡面のカレンダロールで磁性層に熱と圧力をかける平滑化処理がおこなわれている。しかしながら、磁性層に与えられる圧力、熱の上限は機械的な制約を受けたり、平滑化処理条件を強くし過ぎるとカレンダロールに磁性層が付着してカレンダロールを汚してしまったりする問題がある。そのため、平滑で突起の少ないベースフィルムを使用して、適度なカレンダ条件でも平滑な磁性層が得られるような設計にすることが好ましい。実際には、この要求に答えられるベースフイルムを得ることは困難であるため、表面の平滑性がさほど良好でなく、ある程度の突起のある通常のベースフィルムの表面を平滑化して使用することが考えられる。   A general magnetic tape manufacturing process includes a coating / drying process in which a magnetic paint is applied to a base film to form a magnetic layer, a calendar process in which the magnetic layer is smoothed, and a slit process in which the tape is cut. The surface of the magnetic layer after the coating / drying process of the magnetic layer is affected by protrusions present on the base film, and the surface properties become rough. In order to smooth the surface of the magnetic layer, in the calendering process, a smoothing process is performed in which heat and pressure are applied to the magnetic layer with a mirror-finished calender roll. However, there is a problem that the upper limit of the pressure and heat applied to the magnetic layer is subject to mechanical restrictions, and if the smoothing process conditions are excessively strong, the magnetic layer adheres to the calender roll and contaminates the calender roll. . Therefore, it is preferable to use a base film that is smooth and has few protrusions, so that a smooth magnetic layer can be obtained even under appropriate calendar conditions. Actually, it is difficult to obtain a base film that can meet this requirement, so the surface smoothness is not so good, and it is considered that the surface of a normal base film with some protrusions should be smoothed and used. It is done.

例えば、表面性の粗い可撓性支持体を平滑化する方法としては特許文献1にあげられるような、可撓性支持体上の少なくとも一方の面上に、平滑塗布層を設けた(積層した)後、巻き取ることなく該平滑化塗布層上に少なくとも1層の磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法が提案されている。
特開2004−334988号公報
For example, as a method for smoothing a flexible support having a rough surface, a smooth coating layer is provided (laminated) on at least one surface of the flexible support, as described in Patent Document 1. Thereafter, a method of manufacturing a magnetic recording medium in which at least one magnetic layer is formed on the smoothing coating layer without winding is proposed.
JP 2004-334988 A

しかしながら、特許文献1に示す可撓性支持体の平滑化方法は平滑化層の厚みが薄い場合においては、結果として積層フィルムの積層面側の平滑化が不充分であるため一定の厚さ以上の平滑化層が必要となる。記録容量あたりの単価を安くするためにはカートリッジあたりの記録面積を大きくする必要があり、そのためにはテープの厚みを薄くしてより長い積層フィルム状物を巻き取って、所定の大きさのカートリッジ内に収める必要がある。そこで、可撓性支持体上に設ける平滑化層はなるべく薄い方が好ましい。また、特許文献1の方法は可撓性支持体上に平滑化層を塗布した後、そのまま硬化させているために、塗膜の硬化までの平滑化層のレベリングによって積層フィルムの表面性が決定されることになる。レベリングに寄与する要因として塗料の表面張力、塗料粘度、塗料の降伏値、塗布から硬化までにかかる時間、塗布方式などがあり、これらにより塗膜の平滑性が大きく左右され、レベリングだけで充分な平滑面を得るのが難しい。(尚、レベリングとは液体(この場合塗膜)の表面がその表面張力その他の上述したファクターの影響に応じて時間とともに自然に平坦化することを意味する。)
また、特許文献1に記載の放射線硬化樹脂形成性材料を含む平滑化層を安価で扱いやすい紫外線で硬化させて平滑化な積層フィルムを得る場合においては酸素濃度が充分低い環境下でないと、酸素による阻害を受け、樹脂の原料であるモノマーやオリゴマーなどの反応性が低下し低分子のまま残留してしまったり、充分に硬化させる為にはベースフィルムにダメージを与えるほどの紫外線照射が必要であったり、生産スピードを上げることができなかったり、紫外線照射部で酸素を除外するためにランニングコストがかかるという問題がある。本発明は放射線硬化性樹脂を含む樹脂層の厚みが薄い場合においても積層フィルムの平滑化が充分に可能であり、かつ、酸素の影響を受けずに樹脂形成性材料層の硬化が可能な、生産性が高く、安価で平滑な積層フィルムの製造方法並びに当該積層フィルムの製造に好適な製造装置を提供することを目的とする。
However, the smoothing method of the flexible support shown in Patent Document 1 is not more than a certain thickness because smoothing of the laminated surface side of the laminated film is insufficient as a result when the thickness of the smoothing layer is thin. Smoothing layer is required. In order to reduce the unit price per recording capacity, it is necessary to increase the recording area per cartridge. To that end, the tape is thinned and a longer laminated film is wound up to create a cartridge of a predetermined size. It is necessary to fit in. Therefore, it is preferable that the smoothing layer provided on the flexible support is as thin as possible. Moreover, since the method of patent document 1 is made to harden | cure as it is after apply | coating the smoothing layer on the flexible support body, the surface property of a laminated film is determined by the leveling of the smoothing layer until hardening of a coating film. Will be. Factors that contribute to leveling include the surface tension of the paint, the viscosity of the paint, the yield value of the paint, the time taken from application to curing, and the application method, etc. It is difficult to obtain a smooth surface. (Leveling means that the surface of the liquid (in this case, the coating film) naturally flattens with time according to the influence of its surface tension and other factors described above.)
Further, in the case of obtaining a smoothed laminated film by curing a smoothing layer containing the radiation-curable resin-forming material described in Patent Document 1 with ultraviolet rays that are inexpensive and easy to handle, oxygen concentration must be in an environment where the oxygen concentration is not sufficiently low. In order to inhibit the reactivity of monomers and oligomers that are the raw material of the resin and remain as low molecules, or to cure sufficiently, UV irradiation is required to damage the base film. There are problems that the production speed cannot be increased, and that the running cost is required to exclude oxygen in the ultraviolet irradiation section. The present invention can sufficiently smooth the laminated film even when the thickness of the resin layer containing the radiation curable resin is thin, and can cure the resin-forming material layer without being affected by oxygen. An object of the present invention is to provide a method for producing a laminated film having high productivity, inexpensive and smooth, and a production apparatus suitable for producing the laminated film.

本発明者らは、ベースフィルムの製造方法および装置について鋭意検討した結果、積層フイルムの製造方法および装置を下記の構成とすることにより、上記目的を達成することができ、本発明をなすに至った。   As a result of intensive studies on a method and an apparatus for producing a base film, the present inventors can achieve the above object by configuring the production method and apparatus for a laminated film as described below, thereby achieving the present invention. It was.

すなわち、本発明の積層フィルムの製造方法は、
(1)放射線硬化性樹脂を含む樹脂層を有する積層フィルムの製造方法であって、可撓性の支持体上の少なくとも一方の主面上に放射線硬化性樹脂形成性材料を含む樹脂形成性材料層を設ける層形成工程と、該樹脂形成性材料層に鏡面ロールを押圧し該樹脂形成性材料層表面を平滑にする平滑化工程と、該樹脂形成性材料層と前記鏡面ロールとを当接し、両者が面接触した状態で該樹脂形成性材料層に放射線を照射し該樹脂形成性材料層を硬化させて前記樹脂層を形成する硬化工程とを含むことを特徴とする。
That is, the manufacturing method of the laminated film of the present invention is:
(1) A method for producing a laminated film having a resin layer containing a radiation curable resin, the resin forming material comprising a radiation curable resin forming material on at least one main surface on a flexible support. A layer forming step for providing a layer, a smoothing step for smoothing the surface of the resin-forming material layer by pressing a mirror-like roll against the resin-forming material layer, and contacting the resin-forming material layer with the mirror-like roll. And a curing step of forming the resin layer by irradiating the resin-forming material layer with radiation in a state where both are in surface contact to cure the resin-forming material layer.

(2)前記(1)項に記載の積層フィルムの製造方法においては、前記層形成工程において、前記放射線硬化性樹脂形成性材料が溶剤を含んだ状態で供給され、層形成工程と平滑化工程との間に、当該溶剤を除去するための乾燥工程が更に設けられていることが好ましい。   (2) In the method for producing a laminated film as described in (1) above, in the layer formation step, the radiation curable resin-forming material is supplied in a state containing a solvent, and the layer formation step and the smoothing step. It is preferable that the drying process for removing the said solvent is further provided between.

(3)また、前記(1)項に記載の積層フィルムの製造方法においては、前記層形成工程において、前記放射線硬化性樹脂形成性材料が溶剤を含んでいない状態で供給されることが好ましい。   (3) Moreover, in the manufacturing method of the laminated | multilayer film as described in said (1) term, in the said layer formation process, it is preferable that the said radiation curable resin forming material is supplied in the state which does not contain the solvent.

(4)また、前記(1)〜(3)項のいずれか1項に記載の積層フィルムの製造方法においては、前記硬化工程において、放射線が、鏡面ロールと接している樹脂形成性材料層の反対側から可撓性の支持体を通して照射されることが好ましい。   (4) Moreover, in the manufacturing method of the laminated | multilayer film of any one of said (1)-(3) term, in the said hardening process, radiation of the resin-forming material layer which is in contact with the mirror surface roll. Irradiation is preferably made from the opposite side through a flexible support.

(5)また、前記(1)、(3)、(4)項のいずれか1項に記載に記載の積層フィルムの製造方法においては、前記層形成工程は、樹脂層形成性材料を鏡面ロール上に流下または滴下し、前記可撓性の支持体を介して接する前記鏡面ロールと前記バックアップロールとの接点にて、前記樹脂層形成性材料の液溜まりを形成させて前記樹脂層形成性材料を可撓性支持体に転移させて樹脂層を形成することが好ましい。   (5) Moreover, in the manufacturing method of the laminated | multilayer film as described in any one of said (1), (3), (4) term, the said layer formation process is a mirror roll of resin layer forming material. The resin layer-forming material is formed by forming a liquid reservoir of the resin layer-forming material at the contact point between the mirror roll and the backup roll, which flows down or drops down and contacts through the flexible support. It is preferable to transfer the resin to a flexible support to form a resin layer.

(6)また、前記(1)〜(3)項又は(5)項のいずれか1項に記載の積層フィルムの製造方法においては、前記樹脂形成性材料層を硬化させる硬化工程において、鏡面ロールが放射線透過可能な材質からなる鏡面ロールであり、鏡面ロール内に前記放射線を照射する硬化手段を有し、前記放射線が鏡面ロールと接している樹脂形成性材料層側から照射されることが好ましい。   (6) Moreover, in the manufacturing method of the laminated | multilayer film of any one of said (1)-(3) term or (5) term, in the hardening process which hardens the said resin-forming material layer, it is a mirror surface roll. Is a mirror roll made of a material capable of transmitting radiation, and has a curing means for irradiating the radiation in the mirror roll, and the radiation is preferably irradiated from the resin-forming material layer side in contact with the mirror roll. .

(7)また、本発明の放射線硬化性樹脂を含む樹脂層を有する積層フィルムの製造装置は、可撓性の支持体上の少なくとも一方の主面上に放射線硬化性樹脂形成性材料を含む樹脂形成性材料層を設ける層形成手段と、該樹脂形成性材料層に鏡面ロールを面接触させて押圧し該樹脂形成性材料層表面を平滑にする平滑化手段と、該樹脂形成性材料層と前記鏡面ロールとが面接触している状態で該樹脂形成性材料層に放射線を照射し該樹脂形成性材料層を硬化させて前記樹脂層を形成する硬化手段とを含むことを特徴とする。   (7) Moreover, the manufacturing apparatus of the laminated | multilayer film which has a resin layer containing the radiation curable resin of this invention is resin which contains a radiation curable resin forming material on at least one main surface on a flexible support body. A layer forming means for providing a formable material layer; a smoothing means for smoothening the surface of the resin-forming material layer by pressing a mirror roll in surface contact with the resin-forming material layer; and the resin-forming material layer; And a curing means for irradiating the resin-forming material layer with radiation while the mirror roll is in surface contact to cure the resin-forming material layer to form the resin layer.

(8)前記(7)項に記載の積層フィルムの製造装置においては、前記層形成手段に供給される、前記放射線硬化性樹脂形成性材料が溶剤を含んだ状態の放射線硬化性樹脂形成性材料であって、層形成手段と平滑化手段との間に、当該溶剤を除去するための乾燥手段が更に設けられていることが好ましい。   (8) In the laminated film manufacturing apparatus according to (7), the radiation curable resin-forming material is supplied to the layer forming unit and the radiation curable resin-forming material contains a solvent. And it is preferable that the drying means for removing the said solvent is further provided between the layer formation means and the smoothing means.

(9)また、前記(7)〜(8)項のいずれか1項に記載の項に記載の積層フィルムの製造装置においては、前記樹脂形成性材料層と前記鏡面ロールとが面接触している状態で該樹脂形成性材料層に放射線を照射して該樹脂形成性材料層を硬化させる硬化手段が、鏡面ロールと接している樹脂層の反対側から可撓性の支持体を通して照射される位置に設置されている放射線照射手段であることが好ましい。   (9) In the laminated film manufacturing apparatus according to any one of (7) to (8), the resin-forming material layer and the mirror roll are in surface contact. The curing means for curing the resin-forming material layer by irradiating the resin-forming material layer in a state where the resin-forming material layer is irradiated is irradiated through the flexible support from the opposite side of the resin layer in contact with the mirror roll. It is preferable that the radiation irradiation means is installed at the position.

(10)また、前記(7)〜(8)項のいずれか1項に記載の項に記載の積層フィルムの製造装置においては、前記鏡面ロールが放射線透過可能な材質からなる鏡面ロールであり、前記樹脂形成性材料層を硬化させる硬化手段が、前記鏡面ロール内に設けられた放射線照射手段であることが好ましい。   (10) In the laminated film manufacturing apparatus according to any one of (7) to (8), the mirror roll is a mirror roll made of a material capable of transmitting radiation, It is preferable that the curing means for curing the resin-forming material layer is a radiation irradiation means provided in the mirror surface roll.

本発明の積層フィルムの製造方法によれば可撓性の支持体上に形成した樹脂形成性材料層を鏡面ロールにて押圧するので極めて平滑な表面が得られる。その後、前記樹脂形成性材料層と前記鏡面ロールとを当接した状態で該樹脂形成性材料層に放射線を照射するので、硬化した樹脂層を有する平滑な表面が得られる。樹脂形成性材料層を鏡面ロールにて押圧するので、鏡面ロールを用いず、単に平滑化層を塗布してから光照射で硬化させる方法よりも、平滑化層が薄い場合においても充分な平滑化が可能であり、また、前記樹脂形成性材料層と鏡面ロールとを当接し、両者が面接触した状態で該樹脂形成性材料層に放射線を照射するので、酸素除外効果が生じ生産効率の高い可撓性支持体の平滑化が可能となる。また、本発明の積層フィルムの製造装置においては、上記本発明の積層フィルムの製造方法に好適な製造装置を提供できる。本発明の製造方法および製造装置により製造された積層フイルムは光学フィルムや磁気記録媒体などの製造に用いるベースフィルムとして好適に使用することができる。   According to the method for producing a laminated film of the present invention, a resin-forming material layer formed on a flexible support is pressed with a mirror roll, so that an extremely smooth surface can be obtained. Thereafter, the resin-forming material layer is irradiated with radiation in a state where the resin-forming material layer and the mirror roll are in contact with each other, so that a smooth surface having a cured resin layer is obtained. Since the resin-forming material layer is pressed with a mirror roll, smoothing is sufficient even when the smoothing layer is thin, rather than using a mirror roll and simply applying a smoothing layer and then curing with light irradiation. In addition, since the resin-forming material layer and the mirror roll are brought into contact with each other and the resin-forming material layer is irradiated with radiation in a state where both are in surface contact with each other, an oxygen exclusion effect is produced and the production efficiency is high. The flexible support can be smoothed. Moreover, in the manufacturing apparatus of the laminated | multilayer film of this invention, the manufacturing apparatus suitable for the manufacturing method of the said laminated | multilayer film of this invention can be provided. The laminated film produced by the production method and production apparatus of the present invention can be suitably used as a base film used for production of optical films, magnetic recording media and the like.

本発明の理解を容易にするために、本発明の放射線硬化性樹脂を含む樹脂層を有する積層フィルムの製造方法並びに製造装置を図を引用しながら具体的に説明するが、本発明の積層フィルムの製造方法並びに製造装置は、これら図示した実施形態のみに限定されるものではない。   In order to facilitate understanding of the present invention, a production method and a production apparatus of a laminated film having a resin layer containing the radiation curable resin of the present invention will be specifically described with reference to the drawings. The manufacturing method and the manufacturing apparatus are not limited to the illustrated embodiments.

図1は、本発明の一例の実施態様である積層フィルムの製造装置並びに製造工程を示す概念図である。   FIG. 1 is a conceptual diagram showing a laminated film manufacturing apparatus and manufacturing process according to an embodiment of the present invention.

本例の積層フィルムの製造装置は、可撓性支持体2を送り出す送り出しロール1、放射線硬化性樹脂形成性材料(塗料と略称することもある)を含む樹脂形成性材料層を可撓性支持体2に塗布するための塗布手段であるコータ3、樹脂形成性材料層形成用塗料に含まれる溶剤を除去する為の乾燥手段であるドライア4、塗布後の樹脂形成性材料層を押圧して平滑化するための平滑化手段である鏡面ロール5、放射線硬化性樹脂形成性材料を含む樹脂形成性材料層に放射線を照射して硬化させるための硬化手段である放射線照射装置6、鏡面ロール5と協働して樹脂層を押圧するバックアップロール7とから構成される。なお、本発明において、「放射線硬化性樹脂を含む樹脂層」の「放射線硬化性樹脂」に関しては、放射線が照射されて硬化される以前のものを「放射線硬化性樹脂形成性材料」(塗料と略称することもある)と称し、「樹脂層」についても放射線が照射されて硬化される以前のものを「樹脂形成性材料層」と称し、放射線が照射されて硬化された状態以降のものを、それぞれ「放射線硬化性樹脂」、「樹脂層」と称して区別して表現してきたが、以下の記載においては、いずれの場合も、それぞれ「放射線硬化性樹脂」、「樹脂層」と簡略化して表現した。同一の表現であるが、これらの意味は、放射線が照射されて硬化される以前のものがそれぞれ「放射線硬化性樹脂形成性材料」、「樹脂形成性材料層」を意味し、放射線が照射されて硬化された以降の状態のものは、それぞれ「放射線硬化性樹脂」、「樹脂層」を意味しているものである。これらの区別は、明細書の記載から当業者が容易に解釈できるので、特に断らない限り、上記、簡略化表現を用いた。   The laminated film manufacturing apparatus of this example flexibly supports a resin-forming material layer including a feed roll 1 for feeding a flexible support 2 and a radiation-curable resin-forming material (sometimes abbreviated as paint). Pressing the coater 3 as an application means for applying to the body 2, the dryer 4 as a drying means for removing the solvent contained in the paint for forming the resin-forming material layer, and the resin-forming material layer after application Mirror surface roll 5 that is a smoothing means for smoothing, radiation irradiation device 6 that is a curing means for irradiating and curing a resin-forming material layer containing a radiation-curable resin-forming material, and mirror surface roll 5 And a backup roll 7 that presses the resin layer in cooperation. In the present invention, the “radiation curable resin” of the “resin layer containing the radiation curable resin” is the same as the “radiation curable resin forming material” (paint and The “resin layer” is also referred to as a “resin-forming material layer” before being cured by irradiation with radiation, and the “resin layer” after the state after being cured by irradiation with radiation. In the following description, in each case, they are simplified as “radiation curable resin” and “resin layer”, respectively. Expressed. Although these are the same expressions, these meanings mean that the material before being cured by irradiation with radiation means “radiation-curable resin-forming material” and “resin-forming material layer”, respectively. Those in a state after being cured are meant to be “radiation curable resin” and “resin layer”, respectively. Since these distinctions can be easily interpreted by those skilled in the art from the description of the specification, the above simplified expressions are used unless otherwise specified.

次に動作について説明する。   Next, the operation will be described.

可撓性支持体2は送り出しロール1より繰り出され[A位置での可撓性支持体の表面粗さのイメージ断面図(部分図:下側面は図示していない)を図5に示す]、層形成手段であるコータ3にてその主面上(可撓性支持体の表面2a)に放射線硬化樹脂を含む樹脂層10が設けられる(図6参照。図1には樹脂層10の図示を省略)。その後、樹脂層10は乾燥手段であるドライア4で余分な溶剤が除去された後[B位置での可撓性支持体の表面粗さのイメージ断面図(部分図:下側面は図示していない)を図6に示す]、バックアップロール7により、その表面(樹脂層の表面10a)を平滑化手段である鏡面ロール5に押圧して樹脂層10は平滑化される。遮蔽板9により、平滑化前の樹脂層には放射線が照射されないようになっている。平滑化処理がおこなわれた後、該樹脂層と前記鏡面ロールとが面接触した状態で、放射線照射装置6によって可撓性支持体2を介して放射線照射がおこなわれ、可撓性支持体2の表面に平滑な樹脂層10を有する積層フィルムが得られる[C位置での可撓性支持体の表面粗さのイメージ断面図(部分図:下側面は図示していない)を図7に示す]。樹脂層は放射線照射をおこなうまでは流動性があるために鏡面ロール5に押圧した際に、平滑化しやすく、鏡面ロール5に当接し、該樹脂層と前記鏡面ロールとが面接触した状態の時に鏡面ロールと接している樹脂層の反対側から可撓性の支持体を通して放射線照射によって該樹脂層が硬化されるために、酸素除外効果が生じ樹脂層の硬化が容易に進行し、樹脂層は鏡面ロール5から離型が可能となる。平滑化処理された積層フィルムは巻き取られても良いし、巻き取ることなくそのまま光学層や磁性層などの機能層を設ける次工程を送り出されても良い。放射線照射によって発生する熱が積層フィルムに対してダメージを及ぼす場合には必要に応じて鏡面ロール5およびバックアップロール7に冷却機能を持たせてもてもよい。   The flexible support 2 is fed out from the feed roll 1 [an image sectional view of the surface roughness of the flexible support at the position A (partial view: the lower side is not shown in FIG. 5), A coater 3 which is a layer forming means is provided with a resin layer 10 containing a radiation curable resin on its main surface (surface 2a of the flexible support) (see FIG. 6). (Omitted). Thereafter, after the excess solvent is removed by the dryer 4 which is a drying means, the resin layer 10 [image cross-sectional view of the surface roughness of the flexible support at position B (partial view: lower side not shown) ) Is shown in FIG. 6], the surface (the surface 10a of the resin layer) of the backup roll 7 is pressed against the mirror roll 5 which is a smoothing means, and the resin layer 10 is smoothed. The shielding plate 9 prevents the resin layer before being smoothed from being irradiated with radiation. After the smoothing treatment is performed, radiation irradiation is performed via the flexible support 2 by the radiation irradiation device 6 in a state where the resin layer and the mirror roll are in surface contact, and the flexible support 2 A laminated film having a smooth resin layer 10 on the surface is obtained [Image sectional view (partial view: lower side not shown) of the surface roughness of the flexible support at position C is shown in FIG. ]. Since the resin layer is fluid until it is irradiated with radiation, it is easy to smooth when pressed against the mirror roll 5 and is in contact with the mirror roll 5 so that the resin layer and the mirror roll are in surface contact. Since the resin layer is cured by radiation irradiation through the flexible support from the opposite side of the resin layer in contact with the mirror surface roll, an oxygen exclusion effect occurs and the resin layer is easily cured, Release from the mirror surface roll 5 is possible. The smoothed laminated film may be wound, or the next step of providing a functional layer such as an optical layer or a magnetic layer may be sent out without being wound. When heat generated by radiation irradiation damages the laminated film, the mirror roll 5 and the backup roll 7 may have a cooling function as necessary.

次に図2に本発明の別の一例の実施態様である積層フィルムの製造装置並びに製造工程を示す概念図を示した。本例の製造装置では、樹脂層形成用塗料をコータ3にて鏡面ロール5上に流下または滴下し、可撓性の支持体2を介して接する鏡面ロール5とバックアップロール7との接点にて、塗料の液溜まりを形成させて塗料を可撓性支持体2に転移させて樹脂層10(図6参照。図2には樹脂層10の図示を省略)を形成する。尚、本発明において「可撓性の支持体を介して接する鏡面ロールとバックアップロールとの接点」(以下、この表現を(A)と言う)とは、厳密に表現するならば、「その表面の樹脂層形成性材料を介して可撓性の支持体と接する鏡面ロールと、その背面からバックアップロールにて鏡面ロールに押圧される可撓性の支持体との接点」(以下、この表現を(B)と言う)と記載すべきものであるが、本発明においては、前記(B)の表現を、前記(A)と言う表現で略称している。
本例の製造装置では、溶剤で希釈していない樹脂層形成用塗料などを使用する場合に好適であり、また、層形成を行う際に乾燥手段などの特別の手段を設けなくてもよいので製造装置の構成を簡略化して低コスト化することができる。上記以外の点を除いて、図1で説明した方法と同様であり、樹脂層10(樹脂形成性材料層)が設けられた可撓性支持体は、バックアップロール7により、樹脂層10の表面を平滑化手段である鏡面ロール5に押圧して樹脂層10は平滑化される。該樹脂層と前記鏡面ロールとが面接触した状態で、放射線照射装置6によって可撓性支持体2を介して放射線照射が行われ、可撓性支持体2の表面に平滑な樹脂層10を有する積層フィルムが得られる。その他、図1と同じ部分には同じ符号を付して、重複説明を省略した。
Next, the conceptual diagram which shows the manufacturing apparatus and manufacturing process of the laminated | multilayer film which are embodiment of another example of this invention in FIG. 2 was shown. In the manufacturing apparatus of this example, the coating material for forming the resin layer flows down or drops onto the mirror roll 5 with the coater 3, and at the contact point between the mirror roll 5 and the backup roll 7 that are in contact with each other via the flexible support 2. Then, a liquid pool of paint is formed and the paint is transferred to the flexible support 2 to form a resin layer 10 (see FIG. 6, illustration of the resin layer 10 is omitted in FIG. 2). In the present invention, “the contact between the mirror roll and the backup roll that are in contact with each other via a flexible support” (hereinafter, this expression is referred to as (A)) can be expressed strictly as “the surface thereof”. Between the mirror roll in contact with the flexible support through the resin layer-forming material and the flexible support pressed against the mirror roll by the backup roll from the back surface ”(hereinafter this expression is referred to as In the present invention, the expression (B) is abbreviated as the expression (A).
The production apparatus of this example is suitable when using a resin layer forming paint that is not diluted with a solvent, and it is not necessary to provide a special means such as a drying means when forming the layer. The configuration of the manufacturing apparatus can be simplified and the cost can be reduced. Except for the points other than the above, it is the same as the method described in FIG. 1, and the flexible support provided with the resin layer 10 (resin-forming material layer) is transferred to the surface of the resin layer 10 by the backup roll 7. Is pressed against the mirror roll 5 which is a smoothing means, and the resin layer 10 is smoothed. In a state where the resin layer and the mirror roll are in surface contact, radiation irradiation is performed by the radiation irradiation device 6 through the flexible support 2, and the smooth resin layer 10 is formed on the surface of the flexible support 2. The laminated film which has is obtained. In addition, the same parts as those in FIG.

次に図3に本発明のさらに別の一例の実施態様である積層フィルムの製造装置並びに製造工程を示す概念図を示した。本例の製造装置では、鏡面ロール5は放射線透過性を有する材質からなり、鏡面ロール5内部に放射線照射装置6並びに遮蔽板9が設置されている。本例のばあいは可撓性支持体2を介さずに樹脂層側から当該樹脂層に放射線照射できるために可撓性支持体2が放射線透過性でない場合においてもこの方法が使用でき好ましい。放射線が紫外線の場合、鏡面ロール5の材質としては紫外線を透過可能な材質である各種の無機系ガラスのほか、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニルなどでできた有機系ガラスを用いることができる。   Next, the conceptual diagram which shows the manufacturing apparatus and manufacturing process of the laminated | multilayer film which are embodiment of another example of this invention in FIG. 3 was shown. In the manufacturing apparatus of this example, the mirror surface roll 5 is made of a material having radiation transparency, and the radiation irradiation device 6 and the shielding plate 9 are installed inside the mirror surface roll 5. In the case of this example, since the resin layer can be irradiated with radiation from the resin layer side without going through the flexible support 2, this method can be used even when the flexible support 2 is not radiolucent. When the radiation is ultraviolet, the mirror roll 5 is made of various inorganic glasses that can transmit ultraviolet rays, and organic glass made of polymethyl methacrylate, polystyrene, polyolefin, polyvinyl chloride, etc. Can do.

以上、図1〜図3で示した実施態様は、何れも可撓性支持体2の片面のみに放射線硬化樹脂を含む樹脂層を形成する態様について説明したが、可撓性支持体2の両面に放射線硬化樹脂を含む樹脂層を形成する場合には、図1〜図3で示した実施態様などで可撓性支持体2の片面のみに放射線硬化樹脂を含む樹脂層を形成した積層フィルムを一旦巻き取った後、次に、反対面に図1〜図3などで示したと同様の装置を用い同様の方法で放射線硬化樹脂を含む樹脂層を形成すればよい。もし、可撓性支持体2の片面のみに放射線硬化樹脂を含む樹脂層を形成した積層フィルムを一旦巻き取ることなく、連続して反対面に放射線硬化樹脂を含む樹脂層を形成したい場合には、図1〜図3などで示したと同様の装置(但し、樹脂層を形成する面が可撓性支持体2の反対面側になるように設置する)を図1〜図3などで示した装置の後に続けて更に1系列、直列位置に設けた装置を用い同様の方法で可撓性支持体2の反対面側に更に放射線硬化樹脂を含む樹脂層を形成することもできる。   As described above, in the embodiments shown in FIGS. 1 to 3, the embodiment in which the resin layer containing the radiation curable resin is formed only on one side of the flexible support 2 has been described. When a resin layer containing a radiation curable resin is formed on a laminated film in which a resin layer containing a radiation curable resin is formed only on one side of the flexible support 2 in the embodiment shown in FIGS. Once wound up, a resin layer containing a radiation curable resin may be formed on the opposite surface using the same apparatus as shown in FIGS. If it is desired to continuously form a resin layer containing a radiation curable resin on the opposite surface without winding up a laminated film in which a resin layer containing a radiation curable resin is formed only on one side of the flexible support 2 1 to 3 and the like are shown in FIGS. 1 to 3 and the like, with the same device as shown in FIGS. 1 to 3 (provided that the surface on which the resin layer is formed is on the opposite side of the flexible support 2). It is also possible to form a resin layer further containing a radiation curable resin on the opposite surface side of the flexible support 2 in the same manner using an apparatus provided in the series position in one series following the apparatus.

本発明で使用する可撓性支持体としては従来公知のものを使用することができる。一般的には各種合成樹脂からなる可撓性のフィルムが挙げられる。具体的には例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアラミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどが挙げられる。中でも機械的強度、寸法安定性、耐熱性、価格などの点からポリエチレンテレフタレートフィルム好ましく、特に2軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。   A conventionally well-known thing can be used as a flexible support body used by this invention. In general, a flexible film made of various synthetic resins can be used. Specific examples include a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a polyamide film, a polyaramid film, a polyimide film, a polycarbonate film, a polyphenylene sulfide film, a polysulfone film, and a polypropylene film. Among them, a polyethylene terephthalate film is preferable from the viewpoint of mechanical strength, dimensional stability, heat resistance, price, and the like, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable.

使用する可撓性支持体の厚さとしては特に制限はないが、用途に合わせて、通常3〜150μmのものが用いられる。   Although there is no restriction | limiting in particular as the thickness of the flexible support body to be used, The thing of 3-150 micrometers is normally used according to a use.

本発明に使用される放射線とは電子線、紫外線、可視光等の樹脂硬化能を有するものであり、なかでもエネルギーの高い紫外線、電子線を使用するのが好ましい。特に紫外線照射機は放射線硬化性樹脂を硬化させるエネルギー源としては安価であり、扱いやすい。一般的には紫外線光源としては高圧水銀やメタルハライドランプが用いられる。硬化に必要なエネルギー量はランプの種類、開始剤種類や可撓性支持体の紫外線領域の透過率によっても異なるが、一般的には10〜1000mJ/cm2で使用される。一般的に、紫外線照射および電子線照射は酸素濃度300ppm以下の環境下で使用する必要がある。 The radiation used in the present invention has a resin curing ability such as electron beam, ultraviolet ray and visible light, and it is preferable to use ultraviolet ray and electron beam having high energy. In particular, an ultraviolet irradiator is inexpensive and easy to handle as an energy source for curing a radiation curable resin. In general, high-pressure mercury or metal halide lamps are used as ultraviolet light sources. The amount of energy required for curing varies depending on the type of lamp, the type of initiator, and the transmittance of the flexible support in the ultraviolet region, but is generally used at 10 to 1000 mJ / cm 2 . Generally, ultraviolet irradiation and electron beam irradiation need to be used in an environment having an oxygen concentration of 300 ppm or less.

樹脂層への紫外線照射を可撓性支持体を介して行う場合には、可撓性支持体の紫外線透過性を考慮する必要がある。前述したように、紫外線照射を行う場合には、酸素による硬化阻害を考慮する必要があるが、本発明では鏡面ロールが樹脂層と面接触で密着している状態で紫外線照射が行われるので、酸素による硬化阻害は発生しない。   When the resin layer is irradiated with ultraviolet rays through a flexible support, it is necessary to consider the ultraviolet transparency of the flexible support. As described above, when performing ultraviolet irradiation, it is necessary to consider the inhibition of curing by oxygen, but in the present invention, since the mirror roll is in close contact with the resin layer in surface contact, ultraviolet irradiation is performed. Curing inhibition by oxygen does not occur.

電子線照射は装置が高価でランニングコストも高いが、可撓性の支持体が紫外線を透過しない場合でも硬化可能であるので有効である。一般的な電子線照射の条件としては加速電圧 50kV 〜500kVであり、照射線量としては50〜300kGyで使用される。可撓性の支持体が厚い場合においては加速電圧を大きくする必要がある。また、照射線量があまりに大きすぎる場合においては可撓性の支持体にダメージを与える場合があるので、上記の範囲で可撓性の支持体の種類に応じて適宜選択することが好ましい。   Although the electron beam irradiation is expensive and the running cost is high, it is effective because it can be cured even when the flexible support does not transmit ultraviolet rays. As general electron beam irradiation conditions, an acceleration voltage is 50 kV to 500 kV, and an irradiation dose is 50 to 300 kGy. When the flexible support is thick, it is necessary to increase the acceleration voltage. In addition, when the irradiation dose is too large, the flexible support may be damaged. Therefore, it is preferable to select appropriately in accordance with the type of the flexible support within the above range.

樹脂層の厚さとしては、可撓性支持体の表面粗さ(突起の高さ)と最終的な樹脂層の表面粗さの要求レベルにより異なるが、0.02μm〜5μmが好ましい。0.05μm〜2μmがより好ましい。この範囲であれば、過剰に材料コストがかかることなく実用に耐えることのできる積層フィルムができる。   The thickness of the resin layer varies depending on the required level of the surface roughness (projection height) of the flexible support and the final surface roughness of the resin layer, but is preferably 0.02 μm to 5 μm. 0.05 μm to 2 μm is more preferable. If it is this range, the laminated | multilayer film which can endure practical use without excessively costing material can be obtained.

樹脂層表面の粗さは、用途に応じて異なるが、平均線中心線粗さRa値表示で0.5nm〜5nmが好ましい。   The roughness of the resin layer surface varies depending on the application, but is preferably 0.5 nm to 5 nm in terms of average line centerline roughness Ra value.

尚、平均線中心線粗さの評価方法は後述した。   In addition, the evaluation method of average line centerline roughness was mentioned later.

樹脂層は樹脂層中に含まれる放射線硬化性樹脂の割合(硬化前の溶剤を含んでいない状態で)は10重量%以上が好ましく、30重量%以上がさらに好ましく、70重量%以上がいっそう好ましく、すべて放射線硬化性樹脂であることが最も好ましい。   In the resin layer, the ratio of the radiation curable resin contained in the resin layer (in the state not containing the solvent before curing) is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, and even more preferably 70% by weight or more. Most preferably, all are radiation curable resins.

この範囲が好ましいのは、放射線硬化性樹脂の量が10重量%未満では、平滑化が十分行われないからである。放射線硬化性樹脂が多ければ多いほど、平滑化効果が大きくなる。樹脂層には、平滑化を阻害しない範囲内で放射線硬化性樹脂以外の樹脂やフィラー等を含むことができる。フィラーを併用することにより、樹脂層の機械的強度を大きくすることができ、ひいてはベースフィルムの機械的強度を大きくすることが可能となる。   This range is preferable because the amount of radiation curable resin is less than 10% by weight and smoothing is not sufficiently performed. The more radiation curable resin, the greater the smoothing effect. The resin layer may contain a resin other than the radiation curable resin, a filler, or the like within a range that does not hinder smoothing. By using the filler in combination, the mechanical strength of the resin layer can be increased, and as a result, the mechanical strength of the base film can be increased.

放射線硬化性樹脂とは放射線照射によって反応し、重合あるいは架橋して高分子量化する樹脂をいう。他の樹脂としては従来公知の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、その他の反応性樹脂を選択することができる。   The radiation curable resin refers to a resin that reacts by irradiation and polymerizes or crosslinks to increase the molecular weight. As other resins, conventionally known thermosetting resins, thermoplastic resins, and other reactive resins can be selected.

放射線硬化性樹脂は従来公知のものを用いることができるが、中でも、低粘度の単官能モノマーと硬化性が良好な、2官能以上のモノマーを組み合わせて使用するのが好ましい。上記モノマー以外に、従来公知なモノマーおよびオリゴマー、プレポリマーを本発明の効果が達成できる範囲で用いても構わない。また、必要に応じ光開始剤、増感剤、促進剤、レべリング剤、離型剤、色材、フィラー等を用いても構わない。例えば、アクリル系モノマーおよびオリゴマーは種類が多く、選択肢が広いのでよく用いられる。具体的には、アクリル酸エステル、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル、ビニルエステル類などが挙げられ、これらの樹脂が単独または組み合わせて用いられる。   As the radiation curable resin, conventionally known ones can be used. Among them, it is preferable to use a combination of a low-viscosity monofunctional monomer and a bifunctional or higher monomer having good curability. In addition to the above monomers, conventionally known monomers, oligomers, and prepolymers may be used within a range in which the effects of the present invention can be achieved. Moreover, you may use a photoinitiator, a sensitizer, a promoter, a leveling agent, a mold release agent, a coloring material, a filler, etc. as needed. For example, acrylic monomers and oligomers are often used because there are many types and wide choices. Specific examples include acrylic acid esters, acrylamides, methacrylic acid esters, methacrylic acid amides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, and the like, and these resins are used alone or in combination.

単官能モノマーとしては、N−ビニルフォルムアミド、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム及びそれらの誘導体等、アクリル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、メタクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。   Monofunctional monomers include N-vinylformamide, N-vinylcarbazole, N-vinylacetamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam and their derivatives, acrylic acid, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl Acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, isobutyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, cyclohexyl acrylate, methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxy acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate , Ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, and the like.

2官能以上のモノマーとしては、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジメタクリロキシプロパン、ヒドロキシピオペリン酸エステルネオペンチンルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンEO付加物トリアクリレート、トリメチロールプロパンPO付加物トリアクリレート、グリセリンEO付加物トリアクリレート、グリセリンEO変性トリアクリレート、グリセリンPO付加物トリアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、ジペンタエリストールヘキサアクリレート、ジペンタエリストールポリアクリレート、ジペンタエリストールヒドロキシペンタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートオリゴマー等を挙げることができる。尚、上記において“EO”とはエチレンオキサイド、“PO”とはプロピレンオキサイドを示す。   Examples of the bifunctional or higher functional monomer include ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1, 6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 2-hydroxy-1,3-dimethacryloxypropane, hydroxypioperic acid ester neopentine glycol glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, Trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane EO adduct triac Rate, trimethylolpropane PO adduct triacrylate, glycerin EO adduct triacrylate, glycerin EO modified triacrylate, glycerin PO adduct triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerystol hexaacrylate, dipentaerystol polyacrylate , Dipentaerystol hydroxypentaacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, urethane acrylate oligomer, epoxy acrylate oligomer, polyester acrylate oligomer, and the like. In the above, “EO” represents ethylene oxide, and “PO” represents propylene oxide.

光重合開始剤の必要性は放射線照射の種類による。特に紫外線、可視光をエネルギー源として硬化反応に使用する場合においては光重合開始剤を必要とする。光重合開始剤としては光照射により分解してラジカルを発生し、重合反応を開始させるものであれば特に限定されず、一般的なものを用いることができる。   The necessity of the photopolymerization initiator depends on the type of irradiation. In particular, when using ultraviolet rays or visible light as an energy source for the curing reaction, a photopolymerization initiator is required. The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it can be decomposed by light irradiation to generate radicals and start a polymerization reaction, and a general one can be used.

光重合開始剤のうち光ラジカル重合剤としては、たとえば、ベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−4−スルホン酸等のチオキサントン類、ミヒラーケトン類、アセトフェノン、2−(4−トルエンスルホニルオキシ)−2−フェニルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、α,α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、2,2’−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、p−メトキシアセトフェノン、2−メチル[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、1,4−ナフトキノン等のキノン類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン、トリス(トリハロメチル)−s−トリアジン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ−t−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。   Among the photopolymerization initiators, examples of the radical photopolymerization agent include α-diketones such as benzyl and diacetyl, acyloins such as benzoin, acyloin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether, and benzophenone. Benzophenones such as 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, thioxanthones such as thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, thioxanthone-4-sulfonic acid, Michler's ketones , Acetophenone, 2- (4-toluenesulfonyloxy) -2-phenylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, α, α′-dimethoxyacetoxybenzophenone, 2,2′-dimethoxy-2- Phenylacetophenone, p-methoxyacetophenone, 2-methyl [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1 Acetophenones such as -one, quinones such as anthraquinone and 1,4-naphthoquinone, phenacyl chloride, trihalomethylphenylsulfone, halogen compounds such as tris (trihalomethyl) -s-triazine, acylphosphine oxides, di-t -Peroxides such as butyl peroxide.

なお、放射線硬化性樹脂は、溶剤を含んだ状態で可撓性の支持体上に塗膜を形成してもよく、その場合には、前述したように、樹脂層形成工程と平滑化工程との間に、当該溶剤を除去するための乾燥工程が更に設けられている。特に樹脂層の膜厚を薄くする場合に溶剤を含んだ状態で放射線硬化性樹脂を供給すると容易に薄い層を形成しやすくできる。この場合の溶剤の割合は、用いる樹脂の種類、モノマーかオリゴマーかなどにより異なるが、放射線硬化性樹脂形成性材料(溶剤を含んでいない状態での重量基準)に対して1〜3000重量%の範囲が好ましい。   The radiation curable resin may form a coating film on a flexible support in a state containing a solvent, and in that case, as described above, a resin layer forming step and a smoothing step, In the meantime, a drying step for removing the solvent is further provided. In particular, when the film thickness of the resin layer is reduced, if a radiation curable resin is supplied in a state containing a solvent, a thin layer can be easily formed. The ratio of the solvent in this case varies depending on the type of resin used, whether it is a monomer or an oligomer, but is 1 to 3000% by weight with respect to the radiation curable resin-forming material (weight basis in the state not containing the solvent). A range is preferred.

一方、溶剤で希釈していない比較的高粘度の樹脂層形成用塗料などを使用する場合には、乾燥手段などの特別の手段を設けなくてもよいので製造装置の構成を簡略化して低コスト化することができる。   On the other hand, in the case of using a relatively high viscosity resin layer forming paint that is not diluted with a solvent, it is not necessary to provide a special means such as a drying means. Can be

紫外線照射を行う場合において、例えば、図1や図2で示した態様のように、可撓性支持体を通して紫外線を照射する場合には、透過する波長に応じた光重合開始剤を選ぶことが好ましく、例えば可撓性支持体の材質をポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートとした場合には、“イルガキュア369”、“イルガキュア819”、“イルガキュア907”(チバガイギー社製)などそれぞれの可撓性支持体の吸収波長と重ならないような波長領域で吸収をもつ光重合開始剤を選択することが好ましい。   In the case of performing ultraviolet irradiation, for example, in the case of irradiating ultraviolet light through a flexible support as in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, it is possible to select a photopolymerization initiator according to the wavelength to be transmitted. Preferably, for example, when the material of the flexible support is polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, each flexible support such as “Irgacure 369”, “Irgacure 819”, “Irgacure 907” (manufactured by Ciba Geigy) It is preferable to select a photopolymerization initiator having absorption in a wavelength region that does not overlap with the absorption wavelength.

また、フィラーとしては従来公知の無機フィラー、有機フィラーを含むことができる。フィラーの具体例としては、例えば、カーボンブラック、グラファイト、TiO2、BaSO4、ZnS、MgCO3、CaCO3、ZnO、CaO、WS2、MoS2、MgO、SnO2、Al23、Fe, α−Fe23、α−FeOOH、SiC、CeO2、BN、SiN、MoC、BC、WC、チタンカーバイド、コランダム、人造ダイアモンド、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、トリボリ、ケイソウ土、ドロマイト、シリカ、アルミノケイ酸塩、ゼオライト、酸性白土、活性白土等の無機フィラーや、ポリエチレン樹脂粒子、フッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子等の有機フィラーを挙げることができる。 Moreover, as a filler, a conventionally well-known inorganic filler and an organic filler can be included. Specific examples of the filler include, for example, carbon black, graphite, TiO 2 , BaSO 4 , ZnS, MgCO 3 , CaCO 3 , ZnO, CaO, WS 2 , MoS 2 , MgO, SnO 2 , Al 2 O 3 , Fe, α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, SiC, CeO 2 , BN, SiN, MoC, BC, WC, titanium carbide, corundum, artificial diamond, garnet, garnet, quartzite, triboli, diatomite, dolomite, silica And inorganic fillers such as aluminosilicate, zeolite, acid clay, activated clay, and organic fillers such as polyethylene resin particles, fluorine resin particles, guanamine resin particles, acrylic resin particles, silicone resin particles, melamine resin particles, etc. .

可撓性支持体上に樹脂層を設ける方法としては、特に制限はなく従来公知の層形成手段を用いることができる。例えばグラビアコート、ダイコート等、従来公知の塗布手段により樹脂層を設けることができる。また、塗布以外の層形成方法として、可撓性支持体上もしくは鏡面ロール上に樹脂層形成用塗料を流下または滴下し、流下または滴下した樹脂層形成用塗料を前記可撓性の支持体を介して接する鏡面ロールとバックアップロールとの接点において幅方向に広げ、樹脂層形成用塗料の供給量、可撓性支持体の搬送速度、鏡面ロールとバックアップロール間の押圧条件等を調節して、可撓性の支持体を介して接する鏡面ロールとバックアップロールとの接点において安定して液溜まりを形成するようにして、可撓性支持体上に樹脂層を設けることもできる。また、同様に樹脂層形成用塗料を鏡面ロール上に流下または滴下し、流下または滴下した樹脂層形成用塗料を可撓性の支持体を介して接する鏡面ロールとバックアップロールとの接点において幅方向に広げ、液溜まりを形成させ、樹脂層形成用塗料を可撓性支持体上に転移させながら可撓性支持体上に樹脂層を設けることもできる。   There is no restriction | limiting in particular as a method of providing a resin layer on a flexible support body, A conventionally well-known layer formation means can be used. For example, the resin layer can be provided by a conventionally known coating means such as gravure coating or die coating. Further, as a layer forming method other than coating, a resin layer forming coating material is allowed to flow down or dripped onto a flexible support or a mirror roll, and the resin layer forming coating material that has flowed down or dropped is applied to the flexible support. Spreading in the width direction at the contact point between the mirror roll and the backup roll that are in contact with each other, adjusting the supply amount of the resin layer forming paint, the conveyance speed of the flexible support, the pressing condition between the mirror roll and the backup roll, etc. It is also possible to provide a resin layer on the flexible support so that a liquid pool is stably formed at the contact point between the mirror roll and the backup roll that are in contact with each other via the flexible support. Similarly, the resin layer forming coating material flows down or drops onto the mirror roll, and the width direction is applied at the contact point between the mirror roll and the backup roll that contacts the flowing or dropped resin layer forming coating material through a flexible support. The resin layer can be provided on the flexible support while spreading the resin layer, forming a liquid reservoir, and transferring the resin layer-forming coating material onto the flexible support.

鏡面ロールとしては金属ロールまたはガラスロール、石英ロール、樹脂ロール等を用いることができる。ロールの表面粗さとしては目標とするベースフィルムの表面粗さよりも平滑である必要がある。鏡面ロールの表面粗さは、目標とするベースフィルムの表面粗さにより異なるが、中心線平均粗さRaの値で、0.5〜5nmの範囲であることが好ましい。本発明で使用する鏡面ロールは通常比較的大型で、表面が円筒形状であるため、正確な表面粗さを求めるのが困難である。本発明においては、以下の方法で鏡面ロールの表面粗さを求めた。すなわち、適宜な紫外線硬化性樹脂(本発明の積層フィルムの樹脂層に用いる紫外線硬化性樹脂など)を一定量鏡面ロール表面に流下し、その上に透明なフイルムを乗せ、フイルムを鏡面ロールに押し当てたまま、フイルム上方から紫外線を照射して樹脂を硬化させた後、フイルムを鏡面ロールから剥ぎ取り鏡面ロールと当接していた樹脂面の表面粗さを、原子間力顕微鏡(AFM): Digital Instruments社製の“Nano scopeIIIa”で、
測定モード:タッピングモード
測定条件:観察視野約10μm×10μm、観察レート0.5Hzで512走査
プローブ:NCH−10V、カンチレバー長さ:125μm、振動数:300〜350kHz、
の条件で中心線平均表面粗さRaを測定し、鏡面ロールの表面性とするとよい。
As the mirror roll, a metal roll, a glass roll, a quartz roll, a resin roll, or the like can be used. The surface roughness of the roll needs to be smoother than the target surface roughness of the base film. The surface roughness of the mirror roll varies depending on the target surface roughness of the base film, but is preferably in the range of 0.5 to 5 nm in terms of the centerline average roughness Ra. Since the mirror roll used in the present invention is usually relatively large and has a cylindrical surface, it is difficult to obtain an accurate surface roughness. In the present invention, the surface roughness of the mirror surface roll was determined by the following method. That is, an appropriate ultraviolet curable resin (such as the ultraviolet curable resin used for the resin layer of the laminated film of the present invention) is allowed to flow down to the surface of the mirror roll, a transparent film is placed on the surface, and the film is pushed onto the mirror roll. After curing the resin by irradiating ultraviolet rays from above the film, the film was peeled off from the mirror roll and the surface roughness of the resin surface in contact with the mirror roll was measured using an atomic force microscope (AFM): Digital "Nano scope IIIa" manufactured by Instruments,
Measurement mode: Tapping mode Measurement conditions: Observation field of view about 10 μm × 10 μm, 512 scanning probe at an observation rate of 0.5 Hz: NCH-10V, cantilever length: 125 μm, frequency: 300-350 kHz,
The centerline average surface roughness Ra is measured under the conditions described above to obtain the surface property of the mirror roll.

バックアップロールの押圧条件は樹脂層の圧力、熱による塑性変形のしやすさによって決まり、温度としては、5〜100℃、圧力は0.001〜200kN/mの範囲で、用いられる樹脂の種類や押圧方法の種類に応じて適宜選択すればよい。これらの範囲をはずれると、使用上の制約を受けたり、樹脂層の平滑化が十分でなかったりする場合がでてくることがあるので、上記の範囲の条件が好ましい。   The pressing condition of the backup roll is determined by the pressure of the resin layer and the ease of plastic deformation by heat. The temperature is 5 to 100 ° C. and the pressure is in the range of 0.001 to 200 kN / m. What is necessary is just to select suitably according to the kind of press method. If these ranges are deviated, the usage conditions may be restricted, or the resin layer may not be sufficiently smoothed. Therefore, the conditions in the above ranges are preferred.

また、離型剤を鏡面ロールにコーティングしてもよい。離型剤としては公知のものが使用できる。例えば、飽和脂肪酸エステル、不飽和脂肪酸エステル、ポリオレフィン系ワックス(ポリエチレンワツクス、1−アルケン重合体など。酸変性などの官能基含有化合物で変性されているものも使用できる)、シリコーン化合物、フッ素化合物(ポリフルオロアルキルエーテルに代表されるフッ素オイルなど)、パラフィンワックス、蜜蝋などを挙げることができる。   Moreover, you may coat a mold release agent on a mirror surface roll. A well-known thing can be used as a mold release agent. For example, saturated fatty acid ester, unsaturated fatty acid ester, polyolefin wax (polyethylene wax, 1-alkene polymer, etc., which may be modified with a functional group-containing compound such as acid modification), silicone compound, fluorine compound (E.g., fluorine oil represented by polyfluoroalkyl ether), paraffin wax, beeswax and the like.

前記樹脂層の鏡面ロールへの接触時間は、用いる放射線硬化性樹脂の種類、照射する放射線の種類、放射線の照射強度、樹脂層の厚さ、可撓性の支持体を通して放射線を照射するか否か、その場合の可撓性の支持体の種類や厚さなどによって変わるので一概に規定できない。当然、放射線照射により放射線硬化性樹脂の硬化が行われるに必要な時間以上接触していることが好ましい。特に限定するものではないが、0.1〜6秒 程度である。   The contact time of the resin layer to the mirror roll is the type of radiation curable resin to be used, the type of radiation to be irradiated, the irradiation intensity of the radiation, the thickness of the resin layer, and whether to irradiate radiation through a flexible support. However, since it changes depending on the type and thickness of the flexible support in that case, it cannot be defined unconditionally. Of course, it is preferable that the contact is made for a time required for the radiation curable resin to be cured by irradiation. Although not particularly limited, it is about 0.1 to 6 seconds.

バックアップロールとしては、材質としてはゴムロール、金属ロール、樹脂ロール、カーボンロール(炭素繊維強化プラスチックロール)等が使用できる。バックアップロールの表面はある程度平滑である必要があり、その理由としては表面性が粗いとバックアップロールの表面粗さが押圧ムラとなってしまい、結果として樹脂の厚みムラを生じてしまうためである。また、バックアップロールは必ずしも必要でなく、樹脂層が充分柔らかい時には鏡面ロールの巻き付け圧のみで充分に平滑化するので、バックアップロールがなくても良い。   As the backup roll, a rubber roll, a metal roll, a resin roll, a carbon roll (carbon fiber reinforced plastic roll) or the like can be used as a material. The surface of the backup roll needs to be smooth to some extent. If the surface property is rough, the surface roughness of the backup roll becomes uneven pressing, resulting in uneven thickness of the resin. Further, the backup roll is not always necessary, and when the resin layer is sufficiently soft, it is sufficiently smoothed only by the wrapping pressure of the mirror surface roll.

[実施例]
以下に実施例によって本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[Example]
EXAMPLES The present invention will be described in detail below by examples, but the present invention is not limited to these.

実施例1
図1に示した装置を用いて表1に記載した条件で可撓性支持体上に樹脂層を設け、平滑化工程、硬化工程をおこない積層フィルムを作製した。鏡面ロール5の直径は170mmφ、中心線平均粗さRaは1.0nm、バックアップロール7,7の直径はそれぞれ80mmφとした。コータ3は商品名“マイクログラビア”(康井精機製)を用い、平滑化工程後の厚さが1μmになるように塗布をおこなった。前記の厚さは、ミツトヨ製マイクロメーターを用いて5点を測定し、その平均値を厚みとした。樹脂層形成用塗料はアクリル系紫外線硬化性塗料(商品名“セイカビームEXF−01B”(粘度 130mPa・s 大日精化製))を有機溶剤MEK(メチルエチルケトン)にて樹脂層を形成する塗料の固形分濃度を60wt%に希釈してコーティングをおこなった。ドライア4での乾燥温度は100℃で乾燥時間は30秒であった。バックアップロール7による加圧は、常温にて20kN/mにて行った。放射線照射装置6はUV照射機(照射量 100mJ/cm2の条件 アイグラフィックス製UVメータにて測定)をつかっておこなった。鏡面ロール5への積層フィルムの接触時間は6秒とした。
Example 1
Using the apparatus shown in FIG. 1, a resin layer was provided on the flexible support under the conditions described in Table 1, and a smoothing step and a curing step were performed to produce a laminated film. The mirror roll 5 had a diameter of 170 mmφ, the center line average roughness Ra was 1.0 nm, and the backup rolls 7 and 7 each had a diameter of 80 mmφ. The coater 3 used a trade name “Microgravure” (manufactured by Yasui Seiki Co., Ltd.), and was applied so that the thickness after the smoothing step was 1 μm. The thickness was measured at 5 points using a Mitutoyo micrometer, and the average value was taken as the thickness. The resin layer forming paint is an acrylic ultraviolet curable paint (trade name “SEICA BEAM EXF-01B” (viscosity 130 mPa · s, manufactured by Dainichi Seika)) with organic solvent MEK (methyl ethyl ketone) to form a resin layer. The coating was performed by diluting the concentration to 60 wt%. The drying temperature in the dryer 4 was 100 ° C., and the drying time was 30 seconds. Pressurization by the backup roll 7 was performed at room temperature at 20 kN / m. The radiation irradiation apparatus 6 was performed using a UV irradiation machine (measured with a UV meter manufactured by Eye Graphics, under the condition of an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 ). The contact time of the laminated film to the mirror roll 5 was 6 seconds.

可撓性支持体としてはポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製 商品名“ルミラー” 厚み6μm)を使用した。   As the flexible support, a polyethylene terephthalate film (trade name “Lumirror” thickness 6 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) was used.

実施例2
樹脂層の厚さを0.5μmに変え、固形分(樹脂層)濃度を30wt%とした点を除いては、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。
Example 2
A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the resin layer was changed to 0.5 μm and the solid content (resin layer) concentration was 30 wt%.

実施例3
樹脂層の厚さを0.1μmに変え、固形分(樹脂層)濃度を10wt%とした点を除いては、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。
Example 3
A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the resin layer was changed to 0.1 μm and the solid content (resin layer) concentration was 10 wt%.

実施例4
樹脂層の厚さを0.05μmに変え、固形分(樹脂層)濃度を5wt%とした点を除いては、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。
Example 4
A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the resin layer was changed to 0.05 μm and the solid content (resin layer) concentration was 5 wt%.

実施例5
樹脂層形成用塗料を、無機フィラーを含む紫外線硬化性塗料“デソライトKZ7501”(JSR株式会社製)を有機溶剤MEKで希釈し(樹脂層を形成する塗料の固形分濃度は無機フィラーを含めない樹脂形成性成分濃度で60wt%)乾燥後の樹脂層の厚みが1μmとなるように、調整をおこなった点を除いては実施例1と同じである。
Example 5
The resin layer forming paint is diluted with UV-curable paint "Desolite KZ7501" (manufactured by JSR Corporation) containing inorganic filler with organic solvent MEK (the solid content concentration of the paint that forms the resin layer does not include inorganic filler) This is the same as Example 1 except that the thickness of the resin layer after drying is adjusted to 1 μm.

実施例6
図2に示した装置を用いて樹脂層形成用塗料を溶剤で希釈することなく、直接、鏡面ロールに流下させて樹脂層を形成した。流下量は、平滑化工程後の厚さが1μmになるように制御した。バックアップロール7による加圧条件を20kN/mとし、使用する樹脂層を形成する塗料は、紫外線硬化性塗料(商品名“セイカビームEX−01B”(大日精化製))を上述の様に有機溶剤で希釈せずに用いた。前記の条件以外は実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。
Example 6
Using the apparatus shown in FIG. 2, the resin layer-forming coating material was directly flowed down to a mirror surface roll without being diluted with a solvent to form a resin layer. The amount of flow down was controlled so that the thickness after the smoothing step was 1 μm. The pressure condition by the backup roll 7 is 20 kN / m, and the coating material for forming the resin layer to be used is an ultraviolet curable coating (trade name “SEICA BEAM EX-01B” (manufactured by Dainichi Seika)) as described above. Used without dilution. A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except for the above conditions.

実施例7
平滑化工程後の厚さが0.1μmになるように流下量を制御し、バックアップロール7による加圧条件を200kN/mとした以外は実施例6と同様にして積層フィルムを作製した。
Example 7
A laminated film was produced in the same manner as in Example 6 except that the flow amount was controlled so that the thickness after the smoothing step was 0.1 μm, and the pressure condition by the backup roll 7 was 200 kN / m.

実施例8
平滑化工程後の厚さが0.05μmになるように流下量を制御し、バックアップロール7による加圧条件を400kN/mとした以外は実施例6と同様にして積層フィルムを作製した。
Example 8
A laminated film was produced in the same manner as in Example 6 except that the flow amount was controlled so that the thickness after the smoothing step was 0.05 μm, and the pressure condition by the backup roll 7 was 400 kN / m.

比較例1
図4に示した従来法用の装置を用い、鏡面ロールによる平滑化工程を行なわずに図4のコータ3からドライア4までの間で、樹脂層形成用塗料が自然にレベリングされて平滑化される方法を採用した。
Comparative Example 1
Using the apparatus for the conventional method shown in FIG. 4, the coating material for forming the resin layer is naturally leveled and smoothed between the coater 3 and the dryer 4 in FIG. 4 without performing the smoothing process by the mirror roll. The method is adopted.

ドライア4での乾燥温度、乾燥時間、放射線照射装置6のUV照射機による照射量など上記以外の条件は、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。   A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except for the drying temperature in the dryer 4, the drying time, and the conditions other than the above, such as the irradiation amount by the UV irradiation machine of the radiation irradiation device 6.

比較例2
図4に示した従来法用の装置を用い、鏡面ロールによる平滑化工程を行わず図4のコータ3からドライア4までの間で、樹脂層形成用塗料が自然にレベリングされて平滑化される方法を採用し、UV照射部分を窒素ガス雰囲気にして硬化工程を行った以外は、比較例1と同様にして積層フィルムを作製した。
Comparative Example 2
Using the apparatus for the conventional method shown in FIG. 4, the coating for forming the resin layer is naturally leveled and smoothed between the coater 3 and the dryer 4 in FIG. 4 without performing the smoothing process by the mirror roll. A laminated film was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the method was adopted and the curing step was performed with the UV irradiated portion in a nitrogen gas atmosphere.

比較例3
樹脂層の厚さを0.5μmに変え、固形分(樹脂層)濃度を30wt%とした点を除いては、比較例2と同様にして積層フィルムを作製した。
Comparative Example 3
A laminated film was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the thickness of the resin layer was changed to 0.5 μm and the solid content (resin layer) concentration was 30 wt%.

比較例4
樹脂層の厚さを0.1μmに変え、固形分(樹脂層)濃度を10wt%とした点を除いては、比較例2と同様にして積層フィルムを作製した。
Comparative Example 4
A laminated film was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the thickness of the resin layer was changed to 0.1 μm and the solid content (resin layer) concentration was 10 wt%.

比較例5
樹脂層の厚さを0.05μmに変え、固形分(樹脂層)濃度を5wt%とした点を除いては、比較例2と同様にして積層フィルムを作製した。
Comparative Example 5
A laminated film was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the thickness of the resin layer was changed to 0.05 μm and the solid content (resin layer) concentration was 5 wt%.

<表面粗さの評価>
試料の積層フイルムの表面粗さはDigital Instruments社製の“Nano scopeIIIa”を用いて以下の条件で測定をおこなった。
測定モード:タッピングモード
測定条件:観察視野約10μm×10μm、観察レート0.5Hzで512走査
プローブ:NCH−10V、カンチレバー長さ:125μm、振動数:300〜350kHz、
平滑性の評価には中心線平均表面粗さRa値を用いた。
評価結果を表1に示した。
<Evaluation of surface roughness>
The surface roughness of the laminated film of the sample was measured under the following conditions using “Nano scope IIIa” manufactured by Digital Instruments.
Measurement mode: Tapping mode Measurement conditions: Observation field of view about 10 μm × 10 μm, 512 scanning probe at an observation rate of 0.5 Hz: NCH-10V, cantilever length: 125 μm, frequency: 300-350 kHz,
The centerline average surface roughness Ra value was used for evaluation of smoothness.
The evaluation results are shown in Table 1.

<ヤング率測定>
試料の積層フイルムの長手方向から長さ12cm、幅1cmの測定用試料を切り出し、測定長10cmにて引張試験機にて1%伸び時の応力を測定し、ヤング率を求めた。
<Young's modulus measurement>
A sample for measurement having a length of 12 cm and a width of 1 cm was cut out from the longitudinal direction of the laminated film of the sample, the stress at 1% elongation was measured with a tensile tester at a measurement length of 10 cm, and the Young's modulus was obtained.

Figure 2008279438
Figure 2008279438

表1から明らかなように、実施例1、2、3、4、5、6でおこなわれた鏡面ロール押圧による平滑化処理により、同様の平滑化処理がおこなわれていない比較例2、3、4、5と比べ、平滑な樹脂層を得ることができた。また、比較例1は未硬化なままであったが、実施例1,2,3,4、5、6では平滑化処理の鏡面ロール圧着効果による酸素排除によって、窒素ガス雰囲気下での紫外線照射によらずとも充分硬化させることができた。図8に表1の実験結果を元にした平滑化処理の効果を表すために、樹脂層厚みと表面粗さの関係を示すグラフを、実施例(黒ドットの折れ線グラフ)と比較例(白ドットの折れ線グラフ)で示した。図8中、a、b、cが実施例1、5、6、dが実施例2、eが実施例3、fが実施例4、Hが比較例2、Iが比較例3、Jが比較例4、Kが比較例5に相当し、Lが樹脂層を設けていない原料フィルムの表面粗さに相当する。グラフ中のfとKとを比較すると、同一の樹脂層厚みでありながら、本願の構成を満たした製造方法で製造すると、表面粗さが大きく改善されていることがわかる。   As is apparent from Table 1, the same smoothing process was not performed by the smoothing process by the mirror roll pressing performed in Examples 1, 2, 3, 4, 5, and 6. Compared with 4, 5, a smooth resin layer could be obtained. Further, although Comparative Example 1 remained uncured, Examples 1, 2, 3, 4, 5, and 6 were irradiated with ultraviolet rays in a nitrogen gas atmosphere due to the exclusion of oxygen due to the mirror roll pressing effect of the smoothing treatment. However, it could be cured sufficiently. In order to express the effect of the smoothing treatment based on the experimental results in Table 1 in FIG. 8, graphs showing the relationship between the resin layer thickness and the surface roughness are shown in Example (black dot line graph) and Comparative Example (white). (Dot line graph). 8, a, b, and c are Examples 1, 5, 6, and d are Example 2, e is Example 3, f is Example 4, H is Comparative Example 2, I is Comparative Example 3, and J is Comparative Examples 4 and K correspond to Comparative Example 5, and L corresponds to the surface roughness of the raw material film not provided with the resin layer. Comparing f and K in the graph, it can be seen that the surface roughness is greatly improved when manufactured by the manufacturing method satisfying the configuration of the present application while having the same resin layer thickness.

なお、本発明は上述の実施例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で変更を加え得ることは勿論である。   In addition, this invention is not limited only to the above-mentioned Example, Of course, it can add in the range which does not deviate from the summary of this invention.

本発明は放射線硬化性樹脂を含む樹脂層の厚みが薄い場合においても積層フィルムの平滑化が充分に可能であり、かつ、酸素の影響を受けずに樹脂層の硬化が可能な、生産性が高く、安価で平滑な積層フィルムの製造方法並びに当該積層フィルムの製造に好適な製造装置を提供できるので、磁気記録媒体や光学フィルムなどの製造に有効に利用できる。   The present invention is capable of smoothing the laminated film even when the thickness of the resin layer containing the radiation curable resin is thin, and is capable of curing the resin layer without being affected by oxygen. Since it is possible to provide a method for producing a high, inexpensive and smooth laminated film and a production apparatus suitable for producing the laminated film, it can be effectively used for producing a magnetic recording medium, an optical film and the like.

本発明の一例の実施態様である積層フィルムの製造装置並びに製造工程を示す概念図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The conceptual diagram which shows the manufacturing apparatus of a laminated film which is an embodiment of an example of this invention, and a manufacturing process. 本発明の別の一例の実施態様である積層フィルムの製造装置並びに製造工程を示す概念図。The conceptual diagram which shows the manufacturing apparatus and manufacturing process of the laminated | multilayer film which are embodiment of another example of this invention. 本発明のさらに別の一例の実施態様である積層フィルムの製造装置並びに製造工程を示す概念図。The conceptual diagram which shows the manufacturing apparatus and manufacturing process of the laminated | multilayer film which are embodiment of another example of this invention. 平滑化工程を有しない従来例の一例の実施態様である積層フィルムの製造装置並びに製造工程を示す概念図。The conceptual diagram which shows the manufacturing apparatus and manufacturing process of a laminated | multilayer film which are embodiments of an example of the prior art which does not have a smoothing process. 図1中のA位置の可撓性支持体表面の粗さを示すイメージ断面図(部分図)。FIG. 2 is an image cross-sectional view (partial view) showing roughness of the surface of a flexible support at position A in FIG. 1. 図1中のB位置の可撓性支持体表面の粗さを示すイメージ断面図(部分図)。FIG. 2 is an image cross-sectional view (partial view) showing roughness of the surface of a flexible support at position B in FIG. 1. 図1中のC位置の可撓性支持体表面の粗さを示すイメージ断面図(部分図)。FIG. 2 is an image cross-sectional view (partial view) showing roughness of a surface of a flexible support at a position C in FIG. 1. 表1の実験結果を元にした平滑化処理の効果を表すための樹脂層厚みと表面粗さの関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the resin layer thickness for expressing the effect of the smoothing process based on the experimental result of Table 1, and surface roughness.

符号の説明Explanation of symbols

1 送り出しロール
2 可撓性支持体
2a 可撓性支持体の表面
3 コータ
4 ドライア
5 鏡面ロール
6 放射線照射装置
7 バックアップロール
9 遮蔽板
10 樹脂層
10a 樹脂層の表面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Feeding roll 2 Flexible support body 2a Surface of flexible support body 3 Coater 4 Dryer 5 Mirror surface roll 6 Radiation irradiation apparatus 7 Backup roll 9 Shielding plate 10 Resin layer 10a Surface of resin layer

Claims (10)

放射線硬化性樹脂を含む樹脂層を有する積層フィルムの製造方法であって、可撓性の支持体上の少なくとも一方の主面上に放射線硬化性樹脂形成性材料を含む樹脂形成性材料層を設ける層形成工程と、該樹脂形成性材料層に鏡面ロールを押圧し該樹脂形成性材料層表面を平滑にする平滑化工程と、該樹脂形成性材料層と前記鏡面ロールとを当接し、両者が面接触した状態で該樹脂形成性材料層に放射線を照射し該樹脂形成性材料層を硬化させて前記樹脂層を形成する硬化工程とを含むことを特徴とする積層フィルムの製造方法。   A method for producing a laminated film having a resin layer containing a radiation-curable resin, wherein a resin-forming material layer containing a radiation-curable resin-forming material is provided on at least one main surface on a flexible support. A layer forming step, a smoothing step of smoothing the surface of the resin-forming material layer by pressing the mirror-like roll against the resin-forming material layer, and abutting the resin-forming material layer and the mirror-like roll, And a curing step of irradiating the resin-forming material layer in a surface contact state to cure the resin-forming material layer to form the resin layer. 前記層形成工程において、前記放射線硬化性樹脂形成性材料が溶剤を含んだ状態で供給され、層形成工程と平滑化工程との間に、当該溶剤を除去するための乾燥工程が更に設けられている請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。   In the layer forming step, the radiation curable resin-forming material is supplied in a state containing a solvent, and a drying step for removing the solvent is further provided between the layer forming step and the smoothing step. The method for producing a laminated film according to claim 1. 前記層形成工程において、前記放射線硬化性樹脂形成性材料が溶剤を含んでいない状態で供給される請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。   The method for producing a laminated film according to claim 1, wherein in the layer forming step, the radiation curable resin-forming material is supplied in a state not containing a solvent. 前記硬化工程において、放射線が、鏡面ロールと接している樹脂層の反対側から可撓性の支持体を通して照射される請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the laminated | multilayer film of any one of Claims 1-3 in which the radiation is irradiated through the flexible support body in the said hardening process from the opposite side of the resin layer which is in contact with the mirror surface roll. 前記層形成工程は、樹脂層形成性材料を鏡面ロール上に流下または滴下し、前記可撓性の支持体を介して接する前記鏡面ロールと前記バックアップロールとの接点にて、前記樹脂層形成性材料の液溜まりを形成させて前記樹脂層形成性材料を可撓性支持体に転移させて樹脂層を形成することを特徴とする請求項1、3、4の何れか1項に記載の積層フィルムの製造方法。   In the layer forming step, the resin layer forming material is dropped or dropped onto a mirror roll, and the resin layer formability is formed at a contact point between the mirror roll and the backup roll which are in contact with each other via the flexible support. 5. The laminate according to claim 1, wherein a resin layer is formed by forming a liquid pool of the material and transferring the resin layer-forming material to a flexible support. A method for producing a film. 前記樹脂形成性材料層を硬化させる硬化工程において、鏡面ロールが放射線透過可能な材質からなる鏡面ロールであり、鏡面ロール内に前記放射線を照射する硬化手段を有し、前記放射線が鏡面ロールと接している樹脂層形成性材料側から照射される請求項1〜3又は5のいずれか1項に記載の積層フィルムの製造方法。   In the curing step of curing the resin-forming material layer, the mirror roll is a mirror roll made of a material capable of transmitting radiation, and has a curing means for irradiating the radiation in the mirror roll, and the radiation is in contact with the mirror roll. The manufacturing method of the laminated | multilayer film of any one of Claims 1-3 or 5 irradiated from the resin layer forming material side which is. 放射線硬化性樹脂を含む樹脂層を有する積層フィルムの製造装置であって、可撓性の支持体上の少なくとも一方の主面上に放射線硬化性樹脂形成性材料を含む樹脂形成性材料層を設ける層形成手段と、該樹脂形成性材料層に鏡面ロールを面接触させて押圧し該樹脂形成性材料層表面を平滑にする平滑化手段と、該樹脂形成性材料層と前記鏡面ロールとが面接触している状態で該樹脂形成性材料層に放射線を照射し該樹脂形成性材料層を硬化させて前記樹脂層を形成する硬化手段とを含むことを特徴とする積層フィルムの製造装置。   An apparatus for producing a laminated film having a resin layer containing a radiation curable resin, wherein a resin-forming material layer containing a radiation curable resin-forming material is provided on at least one main surface on a flexible support. Layer forming means, smoothing means for bringing the mirror-forming roll into surface contact with the resin-forming material layer and pressing the surface to smooth the surface of the resin-forming material layer, and the resin-forming material layer and the mirror roll are surfaces. A laminated film manufacturing apparatus, comprising: a curing unit configured to irradiate the resin-forming material layer in a contact state and cure the resin-forming material layer to form the resin layer. 前記層形成手段に供給される、前記放射線硬化性樹脂形成性材料が溶剤を含んだ状態の放射線硬化性樹脂形成性材料であって、層形成手段と平滑化手段との間に、当該溶剤を除去するための乾燥手段が更に設けられている請求項7に記載の積層フィルムの製造装置。   The radiation curable resin forming material supplied to the layer forming means is a radiation curable resin forming material containing a solvent, and the solvent is interposed between the layer forming means and the smoothing means. The apparatus for producing a laminated film according to claim 7, further comprising drying means for removing the laminated film. 前記樹脂形成性材料層と前記鏡面ロールとが面接触している状態で該樹脂形成性材料層に放射線を照射して該樹脂形成性材料層を硬化させる硬化手段が、鏡面ロールと接している樹脂形成性材料層の反対側から可撓性の支持体を通して照射される位置に設置されている放射線照射手段である請求項7〜8のいずれか1項に記載の放射線硬化性樹脂を含む樹脂層を有する積層フィルムの製造装置。   Curing means for curing the resin-forming material layer by irradiating the resin-forming material layer with radiation while the resin-forming material layer and the mirror roll are in surface contact with the mirror roll. The resin containing a radiation curable resin according to any one of claims 7 to 8, which is a radiation irradiation means installed at a position irradiated from the opposite side of the resin-forming material layer through a flexible support. An apparatus for producing a laminated film having a layer. 前記鏡面ロールが放射線透過可能な材質からなる鏡面ロールであり、前記樹脂形成性材料層を硬化させる硬化手段が、前記鏡面ロール内に設けられた放射線照射手段である請求項7〜8のいずれか1項に記載の積層フィルムの製造装置。   The said mirror surface roll is a mirror surface roll which consists of a material which can permeate | transmit a radiation, The hardening means to harden the said resin-forming material layer is a radiation irradiation means provided in the said mirror surface roll, Either of Claims 7-8 The manufacturing apparatus of the laminated film of 1 item | term.
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