JP2008263051A - Electromagnetic wave shield sheet and filter for pdp using the same - Google Patents

Electromagnetic wave shield sheet and filter for pdp using the same Download PDF

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JP2008263051A JP2007104575A JP2007104575A JP2008263051A JP 2008263051 A JP2008263051 A JP 2008263051A JP 2007104575 A JP2007104575 A JP 2007104575A JP 2007104575 A JP2007104575 A JP 2007104575A JP 2008263051 A JP2008263051 A JP 2008263051A
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Yoshitaka Matsui
良隆 松井
Hagumu Takada
育 高田
Masaaki Kotoura
正晃 琴浦
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shield sheet of which a fine mesh pitch and high picture quality are available at mesh formation process, in manufacturing a filter for PDP, with less damage at the process. <P>SOLUTION: An easy adhesion laminate thermoplastic resin film is characterized in that a laminate film whose main components are melamine cross-linking agent (C) and two kinds of polyester resins having different glass transition temperature, with surface energy being 48-55 mN/m, is provided on the substrate surface where a mesh is provided. The glass transition temperature of polyester resin (A) having high glass transition temperature is 110°C or higher and that of polyester resin (B) having low glass transition temperature is 60°C to less than 110°C. The melamine cross-linking agent (C) is 75-200 parts by weight relative to 100 parts by weight in total of two kinds of polyester resin. After a metal layer is formed on the surface of the same, the metal layer is made into a mesh structure using laser ablation or micro lithography method. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、電磁波を発生する電気製品であるプラズマディスプレイパネル(PDP)、陰極線管(CRT)など画像表示部分等に利用する、透視可能な光透過性電磁波シールド部材およびその製造方法、ならびにそれを用いたフィルターおよびディスプレイに関する。   The present invention relates to a transparent light-transmitting electromagnetic wave shielding member used for an image display portion such as a plasma display panel (PDP) and a cathode ray tube (CRT), which are electrical products that generate electromagnetic waves, a method for manufacturing the same, and a method for producing the same It relates to the filter and display used.

近年、電気製品から発生する電磁波は各種精密機器、計器、デジタル機器類への電波障害や人体への影響から規制が厳しくなってきている。このため、電磁波放出に関して法的に規制されてきており、例えばVCCI(Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine)による規制がある。電磁波が発生するPDP、CRTなど、特に強度な電磁波が画像表示部分から装置外に放出されるPDPでは、画像表示部分に光透過性電磁波シールドシートを反射防止や近赤外線遮蔽など他の機能のあるシートと合わせ前面フィルターとしてPDPに直接貼り付けるか、前面フィルター用のガラス、またはプラスチックなどの透明基板に貼り付け、PDPの前面に設置し電磁波規制を遵守できるように遮蔽している。   In recent years, electromagnetic waves generated from electrical products have become stricter due to radio wave interference on various precision instruments, instruments, and digital devices and the effects on human bodies. For this reason, it has been legally regulated with respect to electromagnetic wave emission, for example, regulation by VCCI (Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine). In a PDP that emits electromagnetic waves, such as PDP and CRT that generate electromagnetic waves, the image display portion has other functions such as anti-reflection and near-infrared shielding in the image display portion. Attached directly to the PDP as a front filter in combination with the sheet, or attached to a transparent substrate such as glass or plastic for the front filter, and placed on the front of the PDP to shield it so that it can comply with electromagnetic wave regulations.

この光透過性電磁波シールドシートの製造方法の一つとして、透明基材上にパターン化された形状を有する金属層を設ける方法がある。この方法として、充分な電磁波シールド性能を発揮しうる厚みの金属層を設けてからパターンを形成する方法(特許文献1参照)と、薄い金属層でパターンを形成してから充分な電磁波シールド性能を発揮しうる厚みまでの金属層を設ける方法がある。後者は取り去る金属の量が前者に比べて少ないため、省資源という長所を持つ。この後者の方法として例えば、スクリーン印刷により導電性材料のパターンを印刷によって形成し、メッキ加工によって所定の厚みの金属層を設ける方法が提案されている(特許文献2参照)。PDPに用いる電磁波シールドシートは、画面を明るく、そして、モアレ縞の欠点を出さないために、パターンの線幅は細く、線の間隔は細かいほうが良い。しかし、PDPに用いる電磁波シールドシートの場合、その性質上一定の光透過性が必要とされるため、パターン線の間隔を細かくすればするほど、パターンの線幅を細くする必要が生じる。   As one method for producing this light-transmitting electromagnetic wave shielding sheet, there is a method of providing a metal layer having a patterned shape on a transparent substrate. As this method, a method of forming a pattern after providing a metal layer having a thickness capable of exhibiting sufficient electromagnetic shielding performance (see Patent Document 1), and a sufficient electromagnetic shielding performance after forming a pattern with a thin metal layer. There is a method of providing a metal layer up to a thickness that can be exhibited. The latter has the advantage of saving resources because less metal is removed than the former. As this latter method, for example, a method is proposed in which a pattern of a conductive material is formed by printing by screen printing, and a metal layer having a predetermined thickness is provided by plating (see Patent Document 2). The electromagnetic wave shielding sheet used for the PDP has a bright screen and does not cause the moire fringe defect. Therefore, it is preferable that the line width of the pattern is narrow and the interval between the lines is fine. However, in the case of an electromagnetic wave shield sheet used for PDP, a certain light transmittance is required due to its properties. Therefore, the finer the interval between the pattern lines, the more the line width of the pattern needs to be reduced.

なおPDPに用いる電磁波シールドシートにおいては、開口率は80%以上あることが好ましく、さらに望ましくは90%以上あることが好ましい。開効率が90%を有する4方格子状メッシュを作製する際に、メッシュの間隔と線幅の関係は、間隔が200μmである場合、線幅が10μm以下、以下同様に150μmの場合8μm以下、100μmの場合5μm以下にする必要がある。   In addition, in the electromagnetic wave shielding sheet used for PDP, the aperture ratio is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. When producing a tetragonal mesh having an open efficiency of 90%, the relationship between the mesh spacing and the line width is 10 μm or less when the spacing is 200 μm, and similarly 8 μm or less when the spacing is 150 μm. In the case of 100 μm, it is necessary to make it 5 μm or less.

しかし、特許文献1に記載の方法ではかかる細かい線幅を残すことは困難である。これはエッチング法を用いた場合、メッシュ交点部とメッシュ交点間のエッチングレートが異なり、エッチングに使用する銅箔の厚みが10μm程度と厚い為、銅箔上に形成したマスクパターンの下部までエッチングが進行する、いわゆるサイドエッチングの影響をコントロールすることが困難な為である。また特許文献2に記載の方法は印刷法を用いている為に、その手法上、20μm以下の微細な線幅を基材上に形成することは困難である。
特許第3366682号公報 特開2002−38095号公報
However, it is difficult for the method described in Patent Document 1 to leave such a fine line width. This is because when the etching method is used, the etching rate between the mesh intersections and the mesh intersections is different, and the thickness of the copper foil used for etching is as thick as about 10 μm, so that etching is performed to the lower part of the mask pattern formed on the copper foil. This is because it is difficult to control the effect of the so-called side etching that proceeds. In addition, since the method described in Patent Document 2 uses a printing method, it is difficult to form a fine line width of 20 μm or less on the substrate.
Japanese Patent No. 3366682 JP 2002-38095 A

本発明の課題は、メッシュ形状の金属層を有する電磁波シールドシートにおいて、該金属層のメッシュの線幅を微細化し、それによりモアレなどの画質劣化が少ない電磁波シールドシートを提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding sheet having a mesh-shaped metal layer, in which the line width of the mesh of the metal layer is made fine, thereby reducing image quality deterioration such as moire.

本発明は、上記した従来技術の状況に鑑み、次のような手段を採用するものである。すなわち、
(1)熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に、
ガラス転移温度が110℃以上のポリエステル樹脂(A)、ガラス転移温度が60℃以上110℃未満のポリエスエル樹脂(B)、及びメラミン系架橋剤(C)を構成成分とする、表面エネルギーが48〜55mN/mの積層膜を有し、
かつ該積層膜は、ポリエステル樹脂(A)とポリエスエル樹脂(B)の合計100重量部に対して、メラミン系架橋剤(C)が75〜200重量部含まれており、
該積層膜の表面にメッシュ形状を有する金属層を有することを特徴とする、電磁波シールドシート、である。
(2)ポリエステル樹脂(A)および/またはポリエステル樹脂(B)が、スルホン酸塩基を含むポリエステル樹脂であることを特徴とする、(1)に記載の電磁波シールドシート。
(3)該積層膜は、ポリエステル樹脂(A)とポリエスエル樹脂(B)の合計100重量部に対して、メラミン系架橋剤(C)が100〜150重量部含まれてなることを特徴とする、(1)または(2)に記載の電磁波シールドシート。
(4)該金属層が真空蒸着法、化学反応蒸着法、またはスパッタリング法のいずれかによって形成され、該金属層の厚みが2〜0.005μmであることを特徴とする、(1)〜(3)のいずれかに記載の電磁波シールドシート。
(5)該メッシュがリソグラフィー法もしくはレーザーアブレーション法で形成されたことを特徴とする、(1)〜(4)のいずれかに記載の電磁波シールドシート。
(6)メッシュラインの間隔が100〜200μm、メッシュ開口率が80%以上ある(1)〜(5)に記載の電磁波シールドシート。
(7)(1)〜(6)に記載の電磁波シールドシートを用いたことを特徴とする、PDP用フィルター。
The present invention adopts the following means in view of the above-described state of the prior art. That is,
(1) On at least one side of the thermoplastic resin film,
Surface energy is 48-, comprising a polyester resin (A) having a glass transition temperature of 110 ° C. or higher, a polyester resin (B) having a glass transition temperature of 60 ° C. or higher and lower than 110 ° C., and a melamine crosslinking agent (C). Having a laminated film of 55 mN / m,
And this laminated film is 75-200 weight part of melamine type crosslinking agents (C) with respect to a total of 100 weight part of polyester resin (A) and polyester resin (B),
An electromagnetic wave shielding sheet comprising a metal layer having a mesh shape on the surface of the laminated film.
(2) The electromagnetic wave shielding sheet according to (1), wherein the polyester resin (A) and / or the polyester resin (B) is a polyester resin containing a sulfonate group.
(3) The laminated film comprises 100 to 150 parts by weight of the melamine-based crosslinking agent (C) with respect to 100 parts by weight of the total of the polyester resin (A) and the polyester resin (B). The electromagnetic wave shielding sheet as described in (1) or (2).
(4) The metal layer is formed by any one of a vacuum deposition method, a chemical reaction deposition method, or a sputtering method, and the thickness of the metal layer is 2 to 0.005 μm, The electromagnetic wave shielding sheet according to any one of 3).
(5) The electromagnetic wave shielding sheet according to any one of (1) to (4), wherein the mesh is formed by a lithography method or a laser ablation method.
(6) The electromagnetic wave shielding sheet according to any one of (1) to (5), wherein the mesh line interval is 100 to 200 μm and the mesh opening ratio is 80% or more.
(7) A filter for PDP using the electromagnetic wave shielding sheet according to any one of (1) to (6).

本発明によると、メッシュ形状の金属層を有する電磁波シールドシートにおいて、該金属層のメッシュの線幅を微細化することができる。特に金属層にレーザーを照射することでパターニングする、いわゆるレーザーアブレーション法を用いた場合にも10μm以下の微細な線幅とすることができる。また、マイクロリソグラフィー法を用いた場合においても、金属層の厚みが従来法より薄いために、より微細な線幅とすることが可能である。また本発明の電磁波シールドシートによると、金属層と積層膜の接着性が優れるため、10μm以下の微細な線幅のメッシュ形状の金属層を形成した場合でも、該金属層のメッシュの剥離を抑制することができる。そして本発明の電磁波シールドシートは、金属層のメッシュの線幅を微細化できるため、モアレなどの画質劣化が少ない高品位の電磁波シールドシートとすることができる。そのため本発明の電磁波シールドシートは、PDP用フィルターとして好ましく用いることができる。   According to the present invention, in the electromagnetic wave shielding sheet having a mesh-shaped metal layer, the line width of the mesh of the metal layer can be reduced. In particular, even when a so-called laser ablation method is used in which patterning is performed by irradiating a metal layer with a laser, a fine line width of 10 μm or less can be obtained. Even when the microlithography method is used, the metal layer is thinner than the conventional method, so that a finer line width can be obtained. Further, according to the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, since the adhesion between the metal layer and the laminated film is excellent, even when a metal layer having a fine line width of 10 μm or less is formed, the peeling of the metal layer mesh is suppressed. can do. And since the electromagnetic wave shielding sheet of this invention can refine | miniaturize the line | wire width of the mesh of a metal layer, it can be set as the high quality electromagnetic shielding sheet with little image quality degradation, such as a moire. Therefore, the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can be preferably used as a PDP filter.

本発明の電磁波シールドシートに用いる熱可塑性樹脂フィルムは、熱によって溶融もしくは軟化するフィルムの総称であって、特に限定されるものではないが、代表的なものとしては、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルムやポリエチレンフィルムなどのポリオレフィンフィルム、ポリ乳酸フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムやポリスチレンフィルムなどのアクリル系フィルム、ナイロンなどのポリアミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリウレタンフィルム、フッ素系フィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムなどを用いることができる。   The thermoplastic resin film used for the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is a general term for films that are melted or softened by heat, and is not particularly limited. Typical examples include polyester films, polypropylene films, and polyethylene. Polyolefin film such as film, polylactic acid film, polycarbonate film, acrylic film such as polymethyl methacrylate film and polystyrene film, polyamide film such as nylon, polyvinyl chloride film, polyurethane film, fluorine film, polyphenylene sulfide film, etc. be able to.

なお、本発明に用いる熱可塑性樹脂フィルムは透明性に優れることが望ましく、好ましくは全光線透過率が80%以上100%以下、より好ましくは90%以上100%以下である。   The thermoplastic resin film used in the present invention is desirably excellent in transparency, and preferably has a total light transmittance of 80% to 100%, more preferably 90% to 100%.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、ホモポリマーから構成されるフィルムでも共重合ポリマーから構成されるフィルムであってもよい。これらのうち、機械的特性、寸法安定性、透明性などの点で、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリアミドフィルムなどが好ましく、更に、機械的強度、汎用性などの点で、ポリエステルフィルムが特に好ましい。   The thermoplastic resin film of the present invention may be a film composed of a homopolymer or a film composed of a copolymer. Of these, polyester films, polypropylene films, polyamide films and the like are preferable in terms of mechanical properties, dimensional stability, transparency, and polyester films are particularly preferable in terms of mechanical strength and versatility.

以下、本発明の熱可塑性樹脂フィルムについてポリエステルフィルムを代表例として説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, although the polyester film is demonstrated as a typical example about the thermoplastic resin film of this invention, this invention is not limited to this.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムとして好ましく用いられるポリエステルフィルムにおいて、ポリエステルとは、エステル結合を主鎖の主要な結合鎖とする高分子の総称であって、エチレンテレフタレート、プロピレンテレフタレート、エチレン−2,6−ナフタレート、ブチレンテレフタレート、プロピレン−2,6−ナフタレート、エチレン−α,β−ビス(2−クロロフェノキシ)エタン−4,4’−ジカルボキシレートなどから選ばれた少なくとも1種の構成成分を主要構成成分とするものを好ましく用いることができる。これら構成成分は、1種のみ用いても、2種以上併用して用いてもよいが、品質、経済性などを総合的に判断すると、エチレンテレフタレートを主要構成成分とするポリエステル、すなわち、ポリエチレンテレフタレートを用いることが特に好ましい。また、基材に熱や収縮応力などが作用する場合には、耐熱性や剛性に優れたポリエチレン−2,6−ナフタレートが更に好ましい。これらポリエステルには、更に他のジカルボン酸成分やジオール成分が一部、好ましくは20モル%以下共重合されていてもよい。   In the polyester film preferably used as the thermoplastic resin film of the present invention, the polyester is a general term for polymers having an ester bond as a main bond chain, and is ethylene terephthalate, propylene terephthalate, ethylene-2,6. -Mainly at least one component selected from naphthalate, butylene terephthalate, propylene-2,6-naphthalate, ethylene-α, β-bis (2-chlorophenoxy) ethane-4,4'-dicarboxylate, etc. What is used as a constituent can be preferably used. These structural components may be used alone or in combination of two or more. However, if quality, economy, etc. are comprehensively judged, polyester having ethylene terephthalate as a main structural component, that is, polyethylene terephthalate. It is particularly preferable to use In addition, when heat or shrinkage stress acts on the substrate, polyethylene-2,6-naphthalate having excellent heat resistance and rigidity is more preferable. These polyesters may further be partially copolymerized with other dicarboxylic acid components and diol components, preferably 20 mol% or less.

また、このポリエステル中には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機または無機の微粒子、充填剤、帯電防止剤、核剤などが、そのポリエステルの特性を悪化させない程度に添加されていてもよい。   The polyester also contains various additives such as antioxidants, heat stabilizers, weathering stabilizers, UV absorbers, organic lubricants, pigments, dyes, organic or inorganic fine particles, fillers, antistatic agents. An agent, a nucleating agent, etc. may be added to such an extent that the properties of the polyester are not deteriorated.

上述したポリエステルの極限粘度(25℃のo−クロロフェノール中で測定)は、0.4〜1.2dl/gが好ましく、より好ましくは0.5〜0.8dl/gの範囲にあるものが、本発明を実施する上で好適である。   The intrinsic viscosity (measured in o-chlorophenol at 25 ° C.) of the above polyester is preferably 0.4 to 1.2 dl / g, more preferably 0.5 to 0.8 dl / g. It is suitable for carrying out the present invention.

本発明の電磁波シールドシートの熱可塑性樹脂フィルムとして用いられるポリエステルフィルムは、その少なくとも片面に積層膜が形成された状態においては、二軸延伸された二軸配向ポリエステルフィルムであることが好ましい。なお二軸配向ポリエステルフィルムとは、一般に、未延伸状態のポリエステルシートまたはフィルムを長手方向および幅方向に各々2.5〜5倍程度延伸され、その後、熱処理が施されて、結晶配向が完了されたものであり、広角X線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。   The polyester film used as the thermoplastic resin film of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is preferably a biaxially oriented polyester film that is biaxially stretched in a state where a laminated film is formed on at least one surface thereof. The biaxially oriented polyester film is generally an unstretched polyester sheet or film that is stretched about 2.5 to 5 times in the longitudinal direction and the width direction, and then subjected to heat treatment to complete the crystal orientation. Which is a biaxially oriented pattern by wide-angle X-ray diffraction.

本発明の熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、特に限定されるものではなく、本発明の電磁波シールドシートが使用される用途や種類に応じて適宜選択されるが、機械的強度、ハンドリング性などの点から、通常は好ましくは1〜500μm、より好ましくは5〜250μm、最も好ましくは25〜200μmである。   The thickness of the thermoplastic resin film of the present invention is not particularly limited, and is appropriately selected according to the use and type of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, but the mechanical strength, handling properties, etc. Therefore, it is usually preferably 1 to 500 μm, more preferably 5 to 250 μm, and most preferably 25 to 200 μm.

また、本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、共押出による複合フィルムであってもよい。特に2層以上の複合フィルムとしたとき、例えば、スキン層に易滑性の微粒子を添加し、コア層は無粒子とするなど、透明性を保持した状態で、易滑性と平滑性を両立しやすい。一方、得られたフィルムを各種の方法で貼り合わせて用いることもできる。   Further, the thermoplastic resin film of the present invention may be a composite film obtained by coextrusion. In particular, when a composite film of two or more layers is used, for example, easy slippery fine particles are added to the skin layer, and the core layer is made non-particulate. It's easy to do. On the other hand, the obtained film can also be used by bonding by various methods.

また本発明における積層膜とは、基材となる熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に、積層構造的に形成されて存在する膜状のものをいい、該積層膜自体は、単層であっても複数層からなるものであってもよい。本発明の電磁波シールドシートの該積層膜は、上述のように熱可塑性樹脂フィルムの片面に有する場合と、両面に有する場合のどちらにも限定されないが、透明性の理由から好ましくは片面に有する場合である。また本発明の電磁波シールドシートの該積層膜は、上述のように単層であっても、2層であっても、3層以上であっても構わないが、同様に透明性の点から好ましくは単層の場合である。   In addition, the laminated film in the present invention refers to a film-like film that is formed in a laminated structure on at least one surface of a thermoplastic resin film serving as a base material, and the laminated film itself may be a single layer. It may consist of multiple layers. The laminated film of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is not limited to the case where the laminated film is provided on one side of the thermoplastic resin film as described above, or the case where the laminated film is provided on both sides. It is. Further, the laminated film of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention may be a single layer, two layers, or three or more layers as described above, but is also preferable from the viewpoint of transparency. Is the case of a single layer.

本発明の電磁波シールドシートの積層膜は、ガラス転移温度が特定の異なる2種類のポリエステル樹脂とメラミン系架橋剤(C)を構成成分とする組成物からなるものである。そして、ポリエステル樹脂(A)、ポリエステル樹脂(B)、メラミン系架橋剤(C)を構成成分とする該組成物は、積層膜全体を100重量%とした場合に50重量%以上100重量%以下であることが好ましく、より好ましくは70重量%以上100重量%以下、最も好ましくは80重量%以上100重量%以下である。   The laminated film of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention comprises a composition comprising two kinds of polyester resins having different glass transition temperatures and a melamine-based crosslinking agent (C) as constituent components. The composition comprising the polyester resin (A), the polyester resin (B), and the melamine-based cross-linking agent (C) as constituents is 50% by weight or more and 100% by weight or less when the entire laminated film is taken as 100% by weight. More preferably, it is 70 wt% or more and 100 wt% or less, and most preferably 80 wt% or more and 100 wt% or less.

更に本発明の積層膜は、該積層膜の表面エネルギーが48〜55mN/mであることが必要である。積層膜の表面エネルギーが48mN/m未満の場合、金属層、特に蒸着により形成した金属層との接着性が著しく劣り、例えば、蒸着後の初期接着性においても容易に剥離する等の現象が発生し、一方、積層膜の表面エネルギーが55mN/mを越える場合、蒸着後の金属層初期接着性は比較的良好ではあるものの、特に耐湿熱接着性が劣ることがある。本発明においては、該積層膜の表面エネルギーは48〜52mN/mがより好ましく、さらに好ましくは49〜52mN/mである。   Furthermore, the laminated film of the present invention needs to have a surface energy of 48 to 55 mN / m. When the surface energy of the laminated film is less than 48 mN / m, the adhesion to the metal layer, particularly the metal layer formed by vapor deposition, is remarkably inferior. For example, the initial adhesion after vapor deposition easily peels off. On the other hand, when the surface energy of the laminated film exceeds 55 mN / m, although the initial adhesion of the metal layer after deposition is relatively good, the wet heat resistance may be particularly inferior. In the present invention, the surface energy of the laminated film is more preferably 48 to 52 mN / m, still more preferably 49 to 52 mN / m.

一般的に、単純に、上記した表面エネルギー(48〜55mN/m)を有するだけの積層膜は、各種の方法によって得ることができるが、本発明においては、ガラス転移温度が特定の異なる2種類のポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)に、メラミン系架橋剤(C)を特定量添加することによって、初めて金属層、特に蒸着金属層との高い接着性(初期、耐湿熱、耐薬品)が得られることを見出したものである。   Generally, a laminated film having only the surface energy (48 to 55 mN / m) described above can be obtained by various methods. In the present invention, two types having different glass transition temperatures are used. By adding a specific amount of melamine-based crosslinking agent (C) to polyester resin (A) and polyester resin (B), high adhesion to metal layers, particularly vapor-deposited metal layers (initial, moisture and chemical resistance) ) Is obtained.

本発明にかかる積層膜の構成成分であるポリエステル樹脂のガラス転移温度(以後、Tgと略称する)の高い方のポリエステル樹脂をポリエステル樹脂(A)、Tgの低い方のポリエステル樹脂をポリエステル樹脂(B)とし、これらについて説明する。   The polyester resin having the higher glass transition temperature (hereinafter abbreviated as Tg) of the polyester resin, which is a component of the laminated film according to the present invention, is the polyester resin (A), and the polyester resin having the lower Tg is the polyester resin (B). These will be described.

本発明においては、Tgの異なる2種類のポリエステル樹脂を用いるが、2種類のポリエステル樹脂でTgが異なり、かつ、ポリエステル樹脂(A)のTgが110℃以上であり、ポリエステル樹脂(B)のTgが60℃以上、110℃未満であることを満足していれば、ポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)のジカルボン酸成分やジオール成分などの共重合成分は特に限定されず、ポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)とで同じものを用いることも可能である。   In the present invention, two kinds of polyester resins having different Tg are used, but the two kinds of polyester resins have different Tg, and the Tg of the polyester resin (A) is 110 ° C. or more, and the Tg of the polyester resin (B). Copolymerization components such as dicarboxylic acid components and diol components of the polyester resin (A) and the polyester resin (B) are not particularly limited as long as the temperature satisfies 60 ° C or higher and lower than 110 ° C. It is also possible to use the same A) and polyester resin (B).

本発明の積層膜の構成成分であるポリエステル樹脂(A)は、主鎖あるいは側鎖にエステル結合を有するものであり、このようなポリエステル樹脂(A)は、ジカルボン酸とジオールから重縮合して得ることができるものである。   The polyester resin (A), which is a component of the laminated film of the present invention, has an ester bond in the main chain or side chain. Such a polyester resin (A) is polycondensed from dicarboxylic acid and diol. It can be obtained.

ポリエステル樹脂(A)を構成するカルボン酸成分としては、芳香族、脂肪族、脂環族のジカルボン酸や3価以上の多価カルボン酸が使用できる。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、フタル酸、2,5−ジメチルテレフタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,2−ビスフェノキシエタン−p,p’−ジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを用いることができる。   As the carboxylic acid component constituting the polyester resin (A), aromatic, aliphatic, and alicyclic dicarboxylic acids and trivalent or higher polyvalent carboxylic acids can be used. As aromatic dicarboxylic acids, terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, phthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,2 -Bisphenoxyethane-p, p'-dicarboxylic acid, phenylindanedicarboxylic acid, etc. can be used.

これらの芳香族ジカルボン酸は、積層膜の強度や耐熱性の点で、好ましくはポリエステル樹脂(A)の全ジカルボン酸成分中の30モル%以上100モル%以下、より好ましくは35モル%以上、最も好ましくは40モル%以上である。   These aromatic dicarboxylic acids are preferably 30 mol% or more and 100 mol% or less, more preferably 35 mol% or more in the total dicarboxylic acid component of the polyester resin (A) in terms of the strength and heat resistance of the laminated film. Most preferably, it is 40 mol% or more.

脂肪族及び脂環族のジカルボン酸としては、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、ダイマー酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸など及びそれらのエステル形成性誘導体を用いることができる。   Aliphatic and alicyclic dicarboxylic acids include succinic acid, adipic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, dimer acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexane Dicarboxylic acids and the like and ester-forming derivatives thereof can be used.

また、ポリエステル樹脂(A)やポリエステル樹脂(B)を水系樹脂塗液として塗布することで積層膜を形成する場合、ポリエステル樹脂(A)やポリエステル樹脂(B)の接着性を向上させるため、あるいは特にポリエステル樹脂(A)やポリエステル樹脂(B)の水溶性化を容易にするため、ポリエステル樹脂(A)やポリエステル樹脂(B)にスルホン酸塩基を含む化合物や、カルボン酸塩基を含む化合物を共重合することが好ましい。   Moreover, when forming a laminated film by apply | coating a polyester resin (A) or a polyester resin (B) as a water-system resin coating liquid, in order to improve the adhesiveness of a polyester resin (A) or a polyester resin (B), or In particular, in order to facilitate the water-solubilization of the polyester resin (A) or the polyester resin (B), the polyester resin (A) or the polyester resin (B) is combined with a compound containing a sulfonate group or a compound containing a carboxylate group. Polymerization is preferred.

なお、本発明においては、ポリエステル樹脂(A)、ポリエステル樹脂(B)ともに高Tg化することが必須であり、この場合、共重合組成的に親水性に乏しいカルボン酸成分やジオール成分を用いているため、該ポリエステル樹脂を水系樹脂とした塗液として用いる場合、特にスルホン酸塩基を含む化合物を共重合することが好ましい。   In the present invention, it is essential to increase the Tg of both the polyester resin (A) and the polyester resin (B). In this case, a carboxylic acid component or a diol component having poor hydrophilicity in terms of copolymer composition is used. Therefore, when the polyester resin is used as a coating solution containing a water-based resin, it is particularly preferable to copolymerize a compound containing a sulfonate group.

ポリエステル樹脂(A)やポリエステル樹脂(B)の共重合成分として好ましく用いられる、スルホン酸塩基を含む化合物としては、例えばスルホテレフタル酸、5−スルホイソフタル酸、4−スルホイソフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7−ジカルボン酸、スルホ−p−キシリレングリコール、2−スルホ−1,4−ビス(ヒドロキシエトキシ)ベンゼン等あるいはこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩を用いることができるが、これに限定されるものではない。   Examples of the compound containing a sulfonate group that are preferably used as a copolymer component of the polyester resin (A) or the polyester resin (B) include sulfoterephthalic acid, 5-sulfoisophthalic acid, 4-sulfoisophthalic acid, and 4-sulfonaphthalene. -2,7-dicarboxylic acid, sulfo-p-xylylene glycol, 2-sulfo-1,4-bis (hydroxyethoxy) benzene or the like, or an alkali metal salt, alkaline earth metal salt or ammonium salt thereof may be used. Yes, but not limited to this.

ポリエステル樹脂(A)やポリエステル樹脂(B)の共重合成分として好ましく用いられる、カルボン酸塩基を含む化合物としては、例えばトリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、4−メチルシクロヘキセン−1,2,3−トリカルボン酸、トリメシン酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−ペンタンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフルフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフルフリル)−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、エチレングリコールビストリメリテート、2,2’,3,3’−ジフェニルテトラカルボン酸、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸、エチレンテトラカルボン酸等あるいはこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩を用いることができるが、これに限定されるものではない。   Examples of the compound containing a carboxylate group that are preferably used as a copolymerization component of the polyester resin (A) or the polyester resin (B) include trimellitic acid, trimellitic anhydride, pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, 4- Methylcyclohexene-1,2,3-tricarboxylic acid, trimesic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4 ′ -Benzophenone tetracarboxylic acid, 5- (2,5-dioxotetrahydrofurfuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, 5- (2,5-dioxotetrahydrofurfuryl) -3 -Cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid 1,2,5,6-naphthalene tetracarboxylic acid, ethylene glycol bis trimellitate, 2,2 ', 3,3'-diphenyl tetracarboxylic acid, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic acid, ethylene tetra Carboxylic acid or the like or an alkali metal salt, alkaline earth metal salt or ammonium salt thereof can be used, but is not limited thereto.

ポリエステル樹脂(A)のジオール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、2,4−ジメチル−2−エチルヘキサン−1,3−ジオール、ネオペンチルグリコール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−イソブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタンジオール、4,4’−チオジフェノール、ビスフェノールA、4,4’−メチレンジフェノール、4,4’−(2−ノルボルニリデン)ジフェノール、4,4’−ジヒドロキシビフェノール、o−,m−,及びp−ジヒドロキシベンゼン、4,4’−イソプロピリデンフェノール、4,4’−イソプロピリデンビンジオール、シクロペンタン−1,2−ジオール、シクロヘキサン−1,2−ジオール、シクロヘキサン−1,4−ジオール、ビスフェノールAなどを用いることができる。   Examples of the diol component of the polyester resin (A) include ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5- Pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 2,4-dimethyl-2-ethylhexane-1 , 3-diol, neopentyl glycol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-isobutyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediol, 1,2 Cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 2,2,4,4-tetramethyl-1,3-cyclobutanediol, 4,4′-thiodiphenol, bisphenol A, 4,4′-methylenediphenol, 4,4 ′-(2-norbornylidene) diphenol, 4,4′-dihydroxybiphenol, o-, m-, and p-dihydroxybenzene, 4,4′-isopropylidenephenol 4,4′-isopropylidenevindiol, cyclopentane-1,2-diol, cyclohexane-1,2-diol, cyclohexane-1,4-diol, bisphenol A, and the like can be used.

ポリエステル樹脂(A)として好ましく用いられるポリエステルは、カルボン酸成分として、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸を、ポリエステル樹脂(A)の全カルボン酸成分中で70モル%以上100モル%以下共重合して用いることが好ましい。更に好ましくはポリエステル樹脂の水溶性化の点でカルボン酸成分として、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸をポリエステル樹脂(A)の全カルボン酸成分中で85モル%以上95モル%以下、スルホン酸塩基を含む化合物及び/又はカルボン酸塩基を含む化合物を全カルボン酸成分中5モル%以上15モル%以下共重合して用いる場合である。そして、スルホン酸塩基を含む化合物及び/又はカルボン酸塩基を含む化合物としては、5−スルホイソフタル酸塩であることが特に好ましい。さらにジオール成分としては、エチレングリコールやネオペンチルグリコールなどの脂肪族ジオールを、ポリエステル樹脂(A)の全ジオール成分中70モル%以上100モル%以下共重合して用いる事が好ましい。特に高Tg化のためには、カルボン酸成分中の芳香族ジカルボン酸として、2,6−ナフタレンジカルボン酸を用いることが好ましい。   The polyester preferably used as the polyester resin (A) is an aromatic dicarboxylic acid such as terephthalic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as the carboxylic acid component, and 70 mol% in the total carboxylic acid component of the polyester resin (A). It is preferable to use it after copolymerization of 100 mol% or less. More preferably, an aromatic dicarboxylic acid such as terephthalic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid is 85 mol% or more in the total carboxylic acid component of the polyester resin (A) as a carboxylic acid component in terms of water-solubilization of the polyester resin. This is a case where a compound containing 95 mol% or less and a sulfonate group and / or a compound containing a carboxylic acid group is used by copolymerizing 5 mol% or more and 15 mol% or less of all carboxylic acid components. The compound containing a sulfonate group and / or the compound containing a carboxylate group is particularly preferably 5-sulfoisophthalate. Furthermore, as the diol component, it is preferable to use an aliphatic diol such as ethylene glycol or neopentyl glycol by copolymerizing 70 mol% or more and 100 mol% or less in the total diol component of the polyester resin (A). In particular, in order to increase the Tg, it is preferable to use 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as the aromatic dicarboxylic acid in the carboxylic acid component.

本発明の積層膜に用いられるポリエステル樹脂(A)は、以下の製造法によって製造することができる。例えば、ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、ジオール成分としてエチレングリコール、ネオペンチルグリコールからなるポリエステル樹脂について説明すると、テレフタル酸、イソフタル酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸とエチレングリコール、ネオペンチルグリコールとを直接エステル化反応させるか、テレフタル酸、イソフタル酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸及びエチレングリコール、ネオペンチルグリコールとをエステル交換反応させる第一段階と、この第一段階の反応生成物を重縮合反応させる第二段階とによって製造する方法等により製造することができる。   The polyester resin (A) used for the laminated film of the present invention can be produced by the following production method. For example, a polyester resin composed of terephthalic acid, isophthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid as a dicarboxylic acid component, and ethylene glycol and neopentyl glycol as a diol component will be described. Terephthalic acid, isophthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid and ethylene First stage reaction of direct esterification reaction of glycol or neopentyl glycol or transesterification reaction of terephthalic acid, isophthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid and ethylene glycol or neopentyl glycol, and this first stage reaction It can be produced by a method of producing the product by a second stage in which the product is subjected to a polycondensation reaction.

この際、反応触媒として、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、コバルト、亜鉛、アンチモン、ゲルマニウム、チタン化合物等が用いられる。   At this time, for example, alkali metal, alkaline earth metal, manganese, cobalt, zinc, antimony, germanium, titanium compound, or the like is used as a reaction catalyst.

また、カルボン酸を末端及び/又は側鎖に多く有するポリエステル樹脂(A)を得る方法としては、特開昭54−46294号公報、特開昭60−209073号公報、特開昭62−240318号公報、特開昭53−26828号公報、特開昭53−26829号公報、特開昭53−98336号公報、特開昭56−116718号公報、特開昭61−124684号公報、特開昭62−240318号公報などに記載の3価以上の多価カルボン酸を共重合した樹脂により製造することができるが、むろんこれら以外の方法であってもよい。   Further, as a method for obtaining a polyester resin (A) having a large amount of carboxylic acid at the terminal and / or side chain, JP-A-54-46294, JP-A-60-209073, JP-A-62-240318 JP, 53-26828, JP 53-26829, JP 53-98336, JP 56-116718, JP 61-124684, JP Although it can be produced from a resin obtained by copolymerization of a trivalent or higher polyvalent carboxylic acid as described in JP-A-62-240318, etc., other methods may be used.

また、本発明の積層膜のポリエステル樹脂(A)の固有粘度は特に限定されないが、接着性の点で0.3dl/g以上であることが好ましく、より好ましくは0.35dl/g以上、最も好ましくは0.4dl/g以上であることである。   Further, the intrinsic viscosity of the polyester resin (A) of the laminated film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.3 dl / g or more, more preferably 0.35 dl / g or more, most preferably in terms of adhesiveness. Preferably it is 0.4 dl / g or more.

ここで、本発明においては、ポリエステル樹脂(A)のTgを110℃以上とすることが必須要件であり、これにより、常態下で優れた金属層との接着性が得られると同時に、高温高湿下での接着性に加え、有機溶媒や酸/アルカリ溶液など各種薬品に対する耐薬品接着性にも優れるものとすることが可能となる。更に、本発明者らの知見によれば、該ポリエステル樹脂(A)のTgは115℃以上とすることが好ましく、より好ましく120℃以上である。ポリエステル樹脂(A)のTgに特に上限はないが、樹脂の共重合性やその後の水性塗料化や安定性の点で、実用上はTg160℃程度が限界である。   Here, in the present invention, it is an essential requirement that the Tg of the polyester resin (A) is 110 ° C. or higher. This makes it possible to obtain excellent adhesion with a metal layer under normal conditions, and at the same time, high temperature and high temperature. In addition to adhesiveness under moisture, it is possible to have excellent chemical resistance to various chemicals such as organic solvents and acid / alkali solutions. Furthermore, according to the knowledge of the present inventors, the Tg of the polyester resin (A) is preferably 115 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher. There is no particular upper limit to the Tg of the polyester resin (A). However, in terms of copolymerization of the resin, subsequent formation of a water-based paint and stability, the practical limit is about Tg 160 ° C.

また、ポリエステル樹脂(B)は、上記したポリエステル樹脂(A)とTgが異なり、かつ、Tgが60℃以上、110℃未満であれば、上述のポリエステル樹脂(A)と同様のカルボン酸成分やジオール成分などの共重合成分を用いることができ、上記したTgを満足するように共重合組成や共重合比率を選択すればよい。更に、本発明者らの知見によれば、該ポリエステル樹脂(B)のTgは65℃以上、100℃以下とすることが好ましく、より好ましくは70℃以上、90℃以下である。   Further, the polyester resin (B) has a Tg different from that of the polyester resin (A) described above, and if the Tg is 60 ° C. or higher and lower than 110 ° C., A copolymer component such as a diol component can be used, and a copolymer composition and a copolymer ratio may be selected so as to satisfy the above Tg. Furthermore, according to the knowledge of the present inventors, the Tg of the polyester resin (B) is preferably 65 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, more preferably 70 ° C. or higher and 90 ° C. or lower.

なお本発明において、特定のTg範囲とするためのTgの制御方法は、例えば、各共重合成分の共重合比率をコントロールすることであり、これらは、カルボン酸成分の共重合成分の比率をコントロールする方法でも、ジオール成分の共重合成分の比率をコントロールする方法でも、特に限定されるものではない。   In the present invention, the Tg control method for obtaining a specific Tg range is, for example, controlling the copolymerization ratio of each copolymer component, which controls the ratio of the copolymer component of the carboxylic acid component. The method for controlling the ratio of the copolymer component of the diol component is not particularly limited.

なお、メッシュ形状の金属層に対する優れた接着性付与という点では、例えば、ポリエステル樹脂(B)のジオール成分として、1,4−ブタンジオールやネオペンチルグリコールなどが共重合されていることが好ましいが、本発明においては、積層膜全体のTgを60℃以上110℃未満に制御しておく必要があるため、該成分を共重合する場合も、ポリエステル樹脂(B)のTgが60℃以上110℃未満の範囲から外れないように調節することが必要である。   In terms of imparting excellent adhesion to the mesh-shaped metal layer, for example, 1,4-butanediol or neopentyl glycol is preferably copolymerized as the diol component of the polyester resin (B). In the present invention, since it is necessary to control the Tg of the entire laminated film to be 60 ° C. or higher and lower than 110 ° C., the Tg of the polyester resin (B) is 60 ° C. or higher and 110 ° C. even when the component is copolymerized. It is necessary to adjust so as not to fall outside the range below.

本発明において、ポリエステル樹脂(B)として好ましく用いられるポリエステルは、カルボン酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸、アジピン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフルフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、ジオール成分としてエチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコールから選ばれる共重合体などである。   In the present invention, the polyester preferably used as the polyester resin (B) is terephthalic acid, isophthalic acid, sebacic acid, adipic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, 5- (2,5-dioxotetrahydro) as the carboxylic acid component. Furfuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, a copolymer selected from ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol as the diol component.

特に、好ましいポリエステル樹脂(B)としては、カルボン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸を、ポリエステル樹脂(B)の全カルボン酸成分中で70モル%以上100モル%以下共重合して用いる場合である。更に好ましくはポリエステル樹脂(B)の水溶性化の点でテレフタル酸、イソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸を、ポリエステル樹脂(B)の全カルボン酸成分中で85モル%以上95モル%以下であり、かつスルホン酸塩基を含む化合物及び/又はカルボン酸塩基を含む化合物を全カルボン酸成分中5モル%以上15モル%以下共重合して用いる場合である。さらに、スルホン酸塩基を含む化合物及び/又はカルボン酸塩基を含む化合物としては、5−スルホイソフタル酸塩であることが特に好ましい。またジオール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコールなどの脂肪族ジオールを、ポリエステル樹脂(B)の全ジオール成分中70モル%以上100モル%以下共重合して用いる事が好ましい。   In particular, as a preferable polyester resin (B), an aromatic dicarboxylic acid such as terephthalic acid or isophthalic acid is used as the carboxylic acid component, and 70 mol% or more and 100 mol% or less of the total carboxylic acid component of the polyester resin (B). This is the case of polymerization. More preferably, the aromatic dicarboxylic acid such as terephthalic acid and isophthalic acid is 85 mol% or more and 95 mol% or less in the total carboxylic acid component of the polyester resin (B) in terms of water-solubilization of the polyester resin (B). In addition, a compound containing a sulfonate group and / or a compound containing a carboxylic acid group is used by copolymerizing 5 mol% or more and 15 mol% or less of the total carboxylic acid component. Furthermore, the compound containing a sulfonate group and / or the compound containing a carboxylate group is particularly preferably 5-sulfoisophthalate. As the diol component, it is preferable to use an aliphatic diol such as ethylene glycol, diethylene glycol, or neopentyl glycol by copolymerizing 70 mol% or more and 100 mol% or less in the total diol component of the polyester resin (B).

本発明の積層膜は、上述したポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)にメラミン系架橋剤(C)を添加することにより、金属層との接着性が向上する。   In the laminated film of the present invention, the adhesion to the metal layer is improved by adding the melamine-based crosslinking agent (C) to the polyester resin (A) and the polyester resin (B) described above.

本発明において用いられるメラミン系架橋剤(C)は、特に限定されないが、メラミン、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロール化メラミン誘導体、メチロール化メラミンに低級アルコールを反応させて部分的あるいは完全にエーテル化した化合物、及びこれらの混合物などを用いることができる。特にメチロール基置換数としては、2〜4置換(全て置換されれば構造上6置換が最高)が好ましい。又、メラミン系架橋剤(C)としては単量体、2量体以上の多量体からなる縮合物、あるいはこれらの混合物などを用いることができる。なお、エーテル化に使用する低級アルコールとしては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、イソブタノールなどを用いることができる。本発明のメラミン系架橋剤(C)は、官能基としてイミノ基、メチロール基、あるいはメトキシメチル基やブトキシメチル基等のアルコキシメチル基を1分子中に有するもので、イミノ基型メチル化メラミン樹脂、メチロール基型メラミン樹脂、メチロール基型メチル化メラミン樹脂、完全アルキル型メチル化メラミン樹脂などである。その中でもメチロール化メラミン樹脂が最も好ましい。更に、メラミン系架橋剤(C)の熱硬化を促進するため、例えばp−トルエンスルホン酸などの酸性触媒を用いてもよい。   The melamine-based crosslinking agent (C) used in the present invention is not particularly limited, but is partially or completely obtained by reacting melamine, a methylolated melamine derivative obtained by condensing melamine and formaldehyde, or a methylolated melamine with a lower alcohol. Etherified compounds and mixtures thereof can be used. In particular, the number of methylol group substitutions is preferably 2 to 4 substitutions (6 substitutions are the highest in terms of structure if all substitutions are made). Moreover, as a melamine type crosslinking agent (C), a monomer, the condensate which consists of a multimer more than a dimer, these mixtures, etc. can be used. In addition, as a lower alcohol used for etherification, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutanol, etc. can be used. The melamine-based cross-linking agent (C) of the present invention has an imino group, a methylol group, or an alkoxymethyl group such as a methoxymethyl group or a butoxymethyl group as a functional group in one molecule, and an imino group type methylated melamine resin. And methylol group-type melamine resin, methylol group-type methylated melamine resin, and fully alkyl-type methylated melamine resin. Of these, methylolated melamine resins are most preferred. Furthermore, in order to accelerate | stimulate the thermosetting of a melamine type crosslinking agent (C), you may use acidic catalysts, such as p-toluenesulfonic acid, for example.

また、本発明においては、メラミン系架橋剤(C)以外の架橋剤として、例えば、ポリエステル樹脂に存在する官能基、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基などと架橋反応し得るもので、アクリルアミド系、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、オキサゾリン系化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などをメラミン系架橋剤(C)とともに架橋剤として併用することができる。中でも、オキサゾリン系架橋剤はポリエステル末端のカルボキシル基との反応性の点で、好適に用いることができる。   Moreover, in this invention, as crosslinking agents other than a melamine type crosslinking agent (C), for example, it can carry out a crosslinking reaction with the functional group which exists in a polyester resin, for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc., acrylamide type, epoxy A compound, an isocyanate compound, an oxazoline compound, various silane coupling agents, various titanate coupling agents, and the like can be used together as a crosslinking agent together with the melamine crosslinking agent (C). Especially, an oxazoline type crosslinking agent can be used suitably at the reactive point with the carboxyl group of the polyester terminal.

本発明の電磁波シールドシートの積層膜において、ポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)の混合比率は特に限定されず、ポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)の両方を有していればよいが、本発明の効果をより顕著に発現させるには、以下の比率で混合するとよい。ポリエステル樹脂(A)の重量とポリエステル樹脂(B)の重量が、固形分重量比で「ポリエステル樹脂(A)/ポリエステル樹脂(B)」=「90/10」〜「20/80」であることが接着性の点で好ましく、より好ましくは「80/20」〜「30/70」、最も好ましくは「50/50」〜「30/70」である。   In the laminated film of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, the mixing ratio of the polyester resin (A) and the polyester resin (B) is not particularly limited as long as both the polyester resin (A) and the polyester resin (B) are included. Although it is good, in order to express the effect of this invention more remarkably, it is good to mix by the following ratios. The weight of the polyester resin (A) and the weight of the polyester resin (B) are “polyester resin (A) / polyester resin (B)” = “90/10” to “20/80” in terms of solid content weight ratio. Is preferable in terms of adhesiveness, more preferably “80/20” to “30/70”, and most preferably “50/50” to “30/70”.

更に本発明の電磁波シールドシートの積層膜において、メラミン系架橋剤(C)は、ポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)の合計100重量部に対し、75〜200重量部含むことで、金属層との接着性が飛躍的に向上する。さらに好ましくは、ポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)の合計100重量部に対し、メラミン系架橋剤(C)を75〜150重量部含む場合であり、特に好ましくは100〜150重量部含むことで、金属層との接着性、耐湿熱接着性、耐薬品接着性に極めて優れた効果があることを見出した。   Furthermore, in the laminated film of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, the melamine-based crosslinking agent (C) contains 75 to 200 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the polyester resin (A) and the polyester resin (B). The adhesion with the layer is greatly improved. More preferably, it is a case where 75 to 150 parts by weight of the melamine-based crosslinking agent (C) is included with respect to a total of 100 parts by weight of the polyester resin (A) and the polyester resin (B), and particularly preferably 100 to 150 parts by weight is included. Thus, it has been found that there are extremely excellent effects in adhesion to the metal layer, wet heat resistance, and chemical resistance.

積層膜において、ポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)の合計100重量部に対し、メラミン系架橋剤(C)が75重量部未満の場合、例えば印刷インキなどとの接着性には優れるものの、本発明の効果である金属層との接着性が不十分であり、一方ポリエステル樹脂(A)とポリエステル樹脂(B)の合計100重量部に対し、メラミン系架橋剤(C)が200重量部を越えると、メラミン系架橋剤同士の硬化塗膜の特性が発現し、例えば、離型性が発現し、金属層との接着性が得られない。   In the laminated film, when the melamine-based crosslinking agent (C) is less than 75 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the polyester resin (A) and the polyester resin (B), for example, it has excellent adhesion to printing inks and the like. The adhesiveness to the metal layer, which is the effect of the present invention, is insufficient. On the other hand, the melamine-based crosslinking agent (C) is 200 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the polyester resin (A) and the polyester resin (B). If it exceeds 1, the characteristics of the cured coating film between the melamine-based crosslinking agents will be exhibited, for example, the releasability will be manifested, and the adhesion to the metal layer will not be obtained.

また本発明の積層膜中に無機粒子や有機粒子などを添加することは、易滑性や耐ブロッキング性が向上するので好ましい。この場合、添加する無機粒子としては、シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム等を用いることができ、有機粒子としては架橋アクリルタイプのものなどが好適に用いられる。用いられる無機粒子や有機粒子は、数平均粒径0.01〜5μmが好ましく、より好ましくは0.05〜1μm、最も好ましくは0.08〜0.3μmであり、積層膜中の樹脂に対する混合比は特に限定されないが、固形分重量比で0.05〜8重量部が好ましく、より好ましくは0.1〜3重量部である。   Moreover, it is preferable to add inorganic particles, organic particles, or the like to the laminated film of the present invention because the slipperiness and blocking resistance are improved. In this case, silica, colloidal silica, alumina, alumina sol, kaolin, talc, mica, calcium carbonate, or the like can be used as the inorganic particles to be added, and a crosslinked acrylic type or the like is suitably used as the organic particles. The inorganic particles and organic particles used preferably have a number average particle size of 0.01 to 5 μm, more preferably 0.05 to 1 μm, most preferably 0.08 to 0.3 μm, and are mixed with the resin in the laminated film. The ratio is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 8 parts by weight, more preferably 0.1 to 3 parts by weight in terms of solid content.

また、透明熱可塑性樹脂フィルムの片面もしくは両面に、本発明の積層膜を形成するにあたり、ポリエステル樹脂(A)やポリエステル樹脂(B)、メラミン系架橋剤(C)などから構成される水系樹脂などの樹脂の塗布方法は、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法などを用いることができる。   Moreover, in forming the laminated film of the present invention on one or both sides of the transparent thermoplastic resin film, a water-based resin composed of a polyester resin (A), a polyester resin (B), a melamine-based crosslinking agent (C), etc. As the resin coating method, for example, a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, or the like can be used.

本発明の積層膜の厚みは、特に限定されないが、通常は0.005〜0.2μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.01〜0.1μm、最も好ましくは0.01μm〜0.08μmである。積層膜の厚みが薄すぎると接着性不良となる場合があるために好ましくない。   Although the thickness of the laminated film of the present invention is not particularly limited, it is usually preferably in the range of 0.005 to 0.2 μm, more preferably 0.01 to 0.1 μm, most preferably 0.01 μm to 0.08 μm. is there. If the thickness of the laminated film is too thin, adhesion failure may occur.

本発明の電磁波シールドシートを製造するに際して、熱可塑性樹脂フィルムに積層膜を設ける好ましい方法としては、熱可塑性樹脂フィルムに、ポリエステル樹脂(A)やポリエステル樹脂(B)、メラミン系架橋剤(C)などを特定量含んだ塗液を塗布し、本発明の熱可塑性樹脂フィルムと共に延伸する方法が最も好適である。   In producing the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, as a preferred method of providing a laminated film on a thermoplastic resin film, a polyester resin (A), a polyester resin (B), or a melamine-based crosslinking agent (C) is applied to the thermoplastic resin film. The most suitable method is to apply a coating solution containing a specific amount of the above and then stretch it together with the thermoplastic resin film of the present invention.

例えば、本発明の熱可塑性樹脂フィルムとしてポリエステルフィルムを用いる場合は、溶融押し出しされた結晶配向前のポリエステルフィルムを長手方向に2.5〜5倍程度延伸し、一軸延伸されたポリエステルフィルムに連続的にポリエステル樹脂(A)やポリエステル樹脂(B)メラミン系架橋剤(C)などを特定量含んだ塗液を塗布する。塗布されたポリエステルフィルムは段階的に加熱されたゾーンを通過しつつ乾燥され、幅方向に2.5〜5倍程度延伸される。更に、連続的に150〜250℃の加熱ゾーンに導かれて結晶配向を完了させる方法(インラインコート法)によって、ポリエステルフィルム上に本発明の積層膜を形成することができる。この積層膜を形成するために用いる塗布液は、環境汚染や防爆性の点で水系のものが好ましい。また、未延伸ポリエステルフィルム上に連続的に塗液を塗布し、縦横方向に同時に延伸する同時二軸延伸法なども採用することができ、この場合は、ロールとの接触が少ないためフィルムにキズがつきにくいなどの点で優位な方法である。   For example, when a polyester film is used as the thermoplastic resin film of the present invention, the melt-extruded polyester film before crystal orientation is stretched about 2.5 to 5 times in the longitudinal direction, and continuously to the uniaxially stretched polyester film. A coating solution containing a specific amount of a polyester resin (A), a polyester resin (B), a melamine-based cross-linking agent (C), or the like is applied. The applied polyester film is dried while passing through a zone heated stepwise, and is stretched about 2.5 to 5 times in the width direction. Furthermore, the laminated film of the present invention can be formed on the polyester film by a method (in-line coating method) that is continuously guided to a heating zone of 150 to 250 ° C. to complete the crystal orientation. The coating solution used for forming this laminated film is preferably an aqueous solution from the viewpoint of environmental pollution and explosion resistance. In addition, a simultaneous biaxial stretching method in which a coating solution is continuously applied onto an unstretched polyester film and stretched in the vertical and horizontal directions can be employed.In this case, the film is scratched because there is little contact with the roll. This method is advantageous in that it is difficult to stick.

本発明の積層膜の表面に設けられる該金属層を形成する金属の種類は特に限定されないものの、抵抗率が低いものの方がメッシュ形状の線幅を狭くできるために好ましく、具体的には金、銀、銅、アルミ、ニッケル、クロムなどをあげることができる。これらの中で、抵抗率の低さ、生産コストを考慮すると、銅を主成分とすることがもっとも好ましい。   Although the kind of metal forming the metal layer provided on the surface of the laminated film of the present invention is not particularly limited, a low resistivity is preferable because the mesh-shaped line width can be narrowed, specifically gold, Silver, copper, aluminum, nickel, chromium, etc. can be mentioned. Among these, considering the low resistivity and production cost, it is most preferable that copper is the main component.

積層膜の表面上に金属層を設ける方法としては特に限定されないが、好ましくは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学反応蒸着法等を用いることができる。本発明においては、純度の高い金属膜を形成することが可能な、真空蒸着法、スパッタリング法がより好ましく用いられる。   The method for providing the metal layer on the surface of the laminated film is not particularly limited, but preferably a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plate method, a chemical reaction vapor deposition method, or the like can be used. In the present invention, a vacuum deposition method and a sputtering method, which can form a metal film with high purity, are more preferably used.

金属層形成の生産速度では、真空蒸着がスパッタリングに優るものの、金属層の緻密性、熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に形成された積層膜への密着性では、スパッタリングが真空蒸着に優る。真空蒸着の方法としては、抵抗加熱、誘導加熱よりも、電子線照射による加熱で銅を蒸発させることが好ましい。また熱可塑性樹脂フィルムや積層膜は、極力該フィルム内や該積層膜内のガスを除去した後に、金属層を設けることで、より低抵抗率の金属層にすることができる場合がある。   At the production rate of forming the metal layer, vacuum deposition is superior to sputtering, but sputtering is superior to vacuum deposition in terms of the denseness of the metal layer and the adhesion to the laminated film formed on at least one surface of the thermoplastic resin film. As a method of vacuum deposition, it is preferable to evaporate copper by heating by electron beam irradiation rather than resistance heating and induction heating. In some cases, the thermoplastic resin film or the laminated film can be made a metal layer having a lower resistivity by providing a metal layer after removing the gas in the film or the laminated film as much as possible.

積層膜表面に形成した金属層をメッシュ形状に加工する方法としては、マイクロリソグラフィー法、レーザーアブレーション等の方法を用いることができるが、本発明においては、加工精度が高く細線加工のできるレーザーアブレーション法もしくはフォトリソグラフィー法を用いることが好ましい。   As a method of processing the metal layer formed on the surface of the laminated film into a mesh shape, a method such as a microlithography method or laser ablation can be used. In the present invention, a laser ablation method capable of processing a thin line with high processing accuracy. Alternatively, it is preferable to use a photolithography method.

レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約3倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。また、レーザーの光路にマスクを設置することで、任意の形状を加工することが可能である。   Laser ablation means that when a solid surface that absorbs laser light is irradiated with laser light with a high energy density, the bonds between the irradiated parts are broken and evaporated, causing the solid surface of the irradiated part to break. It is a phenomenon that is cut away. By utilizing this phenomenon, the solid surface can be processed. Since laser light is highly straight and condensing, it is possible to selectively process a fine area about three times the wavelength of the laser light used for ablation, and high processing accuracy is obtained by the laser ablation method. I can do it. Moreover, it is possible to process arbitrary shapes by installing a mask in the laser optical path.

熱可塑性樹脂フィルムや積層膜を加工しないという観点から、波長が248nmから533nmの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも固体レーザーを使用する場合、Nd:YAG(ネオジウム:イットリウム・アルミニウム・ガーネット)などの2倍高調波(波長533nm)、さらに望ましくはNd:YAGなどの3倍高調波(波長355nm)を用いることがより好ましい。   From the viewpoint of not processing the thermoplastic resin film or the laminated film, it is preferable to use an ultraviolet laser having a wavelength of 248 to 533 nm. In particular, when using a solid-state laser, use a second harmonic (wavelength 533 nm) such as Nd: YAG (neodymium: yttrium, aluminum, garnet), more preferably a third harmonic (wavelength 355 nm) such as Nd: YAG. Is more preferable.

また気体レーザーを用いる場合、波長が248〜308nmのXeClやKrFガスを用いたエキシマレーザーを用いることが好ましい。   When a gas laser is used, an excimer laser using XeCl or KrF gas having a wavelength of 248 to 308 nm is preferably used.

かかるレーザーの発振方式としては、あらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが,加工精度の点からパルスレーザーを用い,さらに望ましくはパルス幅が1μs以下のパルスレーザーを用いることが好ましい。   As a laser oscillation method, any type of laser can be used. From the viewpoint of processing accuracy, a pulse laser is preferably used, and a pulse laser having a pulse width of 1 μs or less is more preferable.

またアブレーションの加工精度の点から、金属層の厚みは0.005μm以上0.5μm以下であることが好ましい。金属層の厚みが0.5μmを超える場合、金属層をメッシュ形状に加工する際の精度が低下する場合があるために好ましくない。また金属層の厚みが0.005μm未満の場合、金属層が損傷しやすくなるために好ましくない。   From the viewpoint of ablation processing accuracy, the thickness of the metal layer is preferably 0.005 μm or more and 0.5 μm or less. When the thickness of the metal layer exceeds 0.5 μm, it is not preferable because accuracy in processing the metal layer into a mesh shape may be lowered. Moreover, when the thickness of a metal layer is less than 0.005 micrometer, since a metal layer becomes easy to damage, it is unpreferable.

金属層をメッシュ形状に加工するためのメッシュ形成法として、リソグラフィー法を用いる場合、熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面の積層膜へメッシュ構造のレジストパターンを該方法で形成した後、エッチングする方法が用いられる。   When using a lithography method as a mesh forming method for processing a metal layer into a mesh shape, a method of etching after forming a resist pattern having a mesh structure on a laminated film on at least one side of a thermoplastic resin film is used. It is done.

リソグラフィー法としては、フォトリソグラフィー法、X線リソグラフィー法、電子線リソリソグラフィー法、イオンビームリソグラフィー法、レーザーリソグラフィー法などがあり、これらの他にスクリーン印刷法、凹版印刷法、凸版印刷法なども含まれる。これらの中でも、構造転写精度、簡便性、量産性の点からフォトリソグラフ法が最も好ましい。エッチング法はあらゆる公知の方法を用いることが出来る。エッチングの際には得られるパターンの精度の点から、金属層の厚みは0.005μm以上2μm以下であることが望ましい。金属層の厚みが2μmを超える場合、金属層をメッシュ形状に加工する際の精度が低下する場合があるために好ましくない。また金属層の厚みが0.005μm未満の場合、金属層が損傷しやすくなるために好ましくない。   Lithography methods include photolithography method, X-ray lithography method, electron beam lithography method, ion beam lithography method, laser lithography method, etc. In addition to these, screen printing method, intaglio printing method, relief printing method, etc. are also included It is. Among these, the photolithographic method is most preferable from the viewpoint of structure transfer accuracy, simplicity, and mass productivity. Any known method can be used as the etching method. In the etching, the thickness of the metal layer is preferably 0.005 μm or more and 2 μm or less from the viewpoint of the accuracy of the pattern obtained. When the thickness of the metal layer exceeds 2 μm, it is not preferable because accuracy in processing the metal layer into a mesh shape may be lowered. Moreover, when the thickness of a metal layer is less than 0.005 micrometer, since a metal layer becomes easy to damage, it is unpreferable.

また、これらの方法によって作製した電磁波シールドフィルムのシールド性が不十分な場合、メッシュパターンにめっき処理を施すことでシールド性を高めることができる。めっき方法は電解、無電解などあらゆる公知の方法を用いることが出来る。   Moreover, when the shielding property of the electromagnetic wave shielding film produced by these methods is insufficient, the shielding property can be enhanced by plating the mesh pattern. Any known method such as electrolysis and electroless plating can be used as the plating method.

メッシュ開口率は、ディスプレイの視認性の点から80%以上あることが望ましく、さらに好ましくは90%以上である。メッシュ開口率が80%を下回ると、ディスプレイの輝度が不足する場合がある。また、メッシュ開口率が98%以上になると線幅が細くなりすぎる為、メッシュの耐久性に不足が生じ、加工後の貼合処理などにおいてメッシュが損傷するため、メッシュ開口率は98%未満であることが好ましい。   The mesh aperture ratio is desirably 80% or more from the viewpoint of display visibility, and more preferably 90% or more. If the mesh aperture ratio is less than 80%, the brightness of the display may be insufficient. In addition, when the mesh opening ratio is 98% or more, the line width becomes too thin, resulting in insufficient mesh durability, and the mesh is damaged in the pasting process after processing. Therefore, the mesh opening ratio is less than 98%. Preferably there is.

メッシュラインの間隔は、モアレの発生を抑制する点から200μm以下であることが望ましい。しかし、極端にメッシュ間隔が狭くなると開口率を維持する為に線幅も細くなり、金属膜の加工性が悪化する。この点からメッシュラインの間隔は100μm以上であることが望ましい。   The interval between the mesh lines is desirably 200 μm or less from the viewpoint of suppressing the occurrence of moire. However, when the mesh interval is extremely narrow, the line width is narrowed to maintain the aperture ratio, and the workability of the metal film is deteriorated. From this point, the mesh line interval is preferably 100 μm or more.

本発明の電磁波シールドシートを用いたPDP用フィルターは、更に上述した以外の層を適宜必要に応じて積層した構成とすることが出来る。例えば光学フィルター層、表面保護層、平坦化樹脂層、粘着材層等を本発明の電磁波シールドシートに積層した構成である。これらは従来の電磁波シールドシートにおいて公知のもので良い。   The filter for PDP using the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can be configured such that layers other than those described above are appropriately laminated as necessary. For example, it is the structure which laminated | stacked the optical filter layer, the surface protective layer, the planarization resin layer, the adhesive material layer, etc. on the electromagnetic wave shield sheet of this invention. These may be known ones in conventional electromagnetic wave shielding sheets.

例えば光学フィルター層の機能としては、近赤外吸収、紫外線吸収、反射防止、防眩防止、ネオン光吸収、色調調整などである。また表面保護層の機能としては、ハードコート層、汚染防止層などである。平滑化樹脂層は、メッシュ構造による凹凸を平坦化するためにメッシュ側に形成する層であり、メッシュ側で被着体と積層する場合に気泡の巻き込を防止する層である。この層に上記光学フィルター層の機能を付与しても良い。粘着材層は電磁波シールドシートをPDP全面に設置する際に必要な接着性を有するものであり、電磁波シールドシート側に予め設けておくものである。また、このような接着層を介して前記光学フィルターを積層したり、ディスプレイ前面基板と直接接着したものとしても良い。   For example, the functions of the optical filter layer include near infrared absorption, ultraviolet absorption, antireflection, antiglare prevention, neon light absorption, and color tone adjustment. The functions of the surface protective layer include a hard coat layer and a contamination prevention layer. The smoothing resin layer is a layer formed on the mesh side in order to flatten the unevenness due to the mesh structure, and is a layer that prevents entrainment of bubbles when laminated with the adherend on the mesh side. You may give the function of the said optical filter layer to this layer. The pressure-sensitive adhesive layer has adhesiveness required when the electromagnetic wave shielding sheet is installed on the entire surface of the PDP, and is provided in advance on the electromagnetic wave shielding sheet side. Further, the optical filter may be laminated through such an adhesive layer, or directly bonded to the display front substrate.

<特性の評価方法>
(1)金属層の厚み
ミクロトームにて実施例や比較例にて作成したサンプルの断面を切り出し、その断面を電界放射型走査電子顕微鏡((株)日本電子製JSM−6700F、加速電圧10kV、観察倍率20000倍)にて観察し、金属パターン層の厚みを計測した。
<Evaluation method of characteristics>
(1) Thickness of metal layer A cross-section of a sample prepared in Examples and Comparative Examples was cut out with a microtome, and the cross-section was observed with a field emission scanning electron microscope (JSM-6700F manufactured by JEOL Ltd., acceleration voltage 10 kV, observation) The thickness of the metal pattern layer was measured.

各実施例・比較例について、20cm×20cmサイズのサンプル1枚から、任意の5箇所について計測し、その平均値を金属パターン層の厚みとした。
(2)金属層のメッシュ形状の線幅
(株)キーエンス製 デジタルマイクロスコープ(VHX−200)を用いて、倍率450倍で表面観察を実施して、その測長機能を用いてメッシュ形状の細線の幅を測長した。20cm×20cmサイズのサンプル1枚から、任意の25箇所(各箇所につき、細線4本)、計100本の細線について計測し、その平均値をそのサンプルにおけるメッシュ形状の線幅とした。各実施例、比較例についてサンプルを3枚測定し、3枚のサンプルの平均値を各実施例・比較例におけるメッシュ形状の線幅とした。
About each Example and the comparative example, it measured about five arbitrary places from one sample of 20 cm x 20 cm size, and made the average value the thickness of the metal pattern layer.
(2) Mesh-shaped line width of the metal layer Using a digital microscope (VHX-200) manufactured by Keyence Corporation, surface observation was performed at a magnification of 450 times, and the mesh-shaped fine line was measured using its length measurement function. The width of was measured. A total of 100 fine lines were measured from one arbitrary sample of 20 cm × 20 cm size (4 fine lines for each position), and the average value was taken as the line width of the mesh shape in the sample. Three samples were measured for each example and comparative example, and the average value of the three samples was taken as the line width of the mesh shape in each example and comparative example.

(3)金属層のメッシュ形状の間隔
(株)キーエンス製 デジタルデジタルマイクロスコープ(VHX−200)を用いて、倍率450倍で表面観察を実施した。先ずある網目構造の開口部Aと、この開口部Aと少なくとも1辺を共有し隣接する開口部に着目する。
(3) Spacing of mesh shape of metal layer Surface observation was performed at a magnification of 450 times using a digital digital microscope (VHX-200) manufactured by Keyence Corporation. First, attention is paid to an opening A having a certain mesh structure and an opening that shares at least one side with the opening A and is adjacent thereto.

次いで、開口部Aの重心とこれら隣接する開口部の重心との距離を、測定器の測長機能を用いて測定する。これら測定した距離の中で、最短距離を開口部Aの網目の間隔とする。   Next, the distance between the center of gravity of the opening A and the center of gravity of these adjacent openings is measured using the length measuring function of the measuring instrument. Among these measured distances, the shortest distance is set as the mesh interval of the opening A.

そして、20cm×20cmサイズのサンプル1枚から、任意の100箇所の開口部について、上記と同様にしてメッシュ形状の間隔を測定し、その平均値をそのサンプルにおけるメッシュ形状の間隔とした。各実施例・比較例についてサンプルを3枚測定し、3枚のサンプルの平均値を各実施例・比較例におけるメッシュ形状の間隔とした。
(4)金属層のメッシュ形状の開口率
(株)キーエンス製 デジタルマイクロスコープ(VHX−200)を用いて、倍率200倍で表面観察を実施し、その輝度抽出機能(ヒストグラム抽出、輝度レンジ設定0−170)を用いて、開口部(非導電金属網目部)と導電金属網目部とに2値化した。
Then, from one sample of 20 cm × 20 cm size, the mesh shape interval was measured in the same manner as described above for any 100 openings, and the average value was taken as the mesh shape interval in the sample. Three samples were measured for each of the examples and comparative examples, and the average value of the three samples was taken as the mesh shape interval in each of the examples and comparative examples.
(4) Opening ratio of mesh shape of metal layer Using a digital microscope (VHX-200) manufactured by Keyence Corporation, surface observation is performed at a magnification of 200 times, and its luminance extraction function (histogram extraction, luminance range setting 0) -170) was binarized into an opening (non-conductive metal network) and a conductive metal network.

視野内の開口部面積を、視野内全体面積で除算することにより、視野内の開口率を算出した。   The aperture ratio in the field of view was calculated by dividing the area of the opening in the field of view by the total area in the field of view.

20cm×20cmサイズのサンプル1枚について、任意の20箇所について視野内の開口率を算出し、その平均値をそのサンプルにおける開口率とした。各実施例・比較例についてサンプルを3枚測定し、3枚のサンプルの平均値を各実施例・比較例における開口率とした。
(5)モアレ評価
作製した電磁波シールド部材をプラズマテレビ(松下電気産業(株)製 VIERA(登録商標) PX50)に密着させながら90°回転させ、モアレの発生し易さを評価した。
For one sample of 20 cm × 20 cm size, the aperture ratio in the visual field was calculated for any 20 locations, and the average value was taken as the aperture ratio in the sample. Three samples were measured for each example and comparative example, and the average value of the three samples was taken as the aperture ratio in each example and comparative example.
(5) Moire evaluation The produced electromagnetic wave shielding member was rotated by 90 ° while being in close contact with a plasma television (VIERA (registered trademark) PX50 manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.), and the ease of occurrence of moire was evaluated.

モアレが視認されない角度範囲が60°以上のものを○(良好:モアレが発生しにくい)、60°未満40°以上のものを△(普通:ややモアレが発生しやすい)、40°未満のものを×(不良:モアレが発生し易い)とした。また、その他の理由で計測不能な場合は−とした。   An angle range in which moiré is not visually recognized is 60 ° or more (good: less likely to cause moire), less than 60 ° to 40 ° or more △ (normal: slightly more likely to cause moire), less than 40 ° X (defect: moiré is likely to occur). Moreover, it was set as-when measurement was impossible for other reasons.

なお、各実施例・比較例についてそれぞれ3枚のサンプルを測定し、評価結果が異なる場合、最も悪い評価結果を採用した。
(6)メッシュ密着性
作製したメッシュ形状の金属層を有するフィルムの金属層側に、セロハンテープ(ニチバン社製 CT405AP−18)を18×50mm貼合し、テープ端部を、金属層メッシュを有するフィルムに対して90°で剥離した。
Note that three samples were measured for each of the examples and comparative examples, and when the evaluation results were different, the worst evaluation results were adopted.
(6) Mesh adhesion The cellophane tape (CT405AP-18 manufactured by Nichiban Co., Ltd.) is bonded to the metal layer side of the film having the mesh-shaped metal layer thus produced, and the tape end portion has a metal layer mesh. It peeled at 90 degrees with respect to the film.

評価はセロハンテープを貼合した面積を10として、残存面積を0から10の整数で表す。まったくはがれがなければ密着性評価「10」、完全にはがれた場合には密着性評価「0」とした。また、金属層をメッシュ形状に加工する際に剥離したものについては「×」とした。
(7)ガラス転移温度(Tg)
メッシュ形状の金属層を有する電磁波シールドシートの作製に用いた熱可塑性樹脂フィルムを、セイコー電子工業(株)製ロボットDSC(示差走査熱量計)RDC220にセイコー電子工業(株)製SSC5200ディスクステーションを接続して測定した。
In the evaluation, the area where the cellophane tape is bonded is 10, and the remaining area is represented by an integer of 0 to 10. The adhesion evaluation was “10” if there was no peeling at all, and the adhesion evaluation was “0” if it was completely peeled off. Moreover, it was set as "x" about what peeled when processing a metal layer into a mesh shape.
(7) Glass transition temperature (Tg)
Connect the SSC5200 disk station manufactured by Seiko Electronics Industry Co., Ltd. to the robot DSC (differential scanning calorimeter) RDC220 manufactured by Seiko Electronics Industry Co., Ltd. And measured.

DSCの測定条件は次のとおりである。即ち、フィルム試料10mgをアルミニウムパンに調整後、DSC装置にセットし(リファレンス:試料を入れていない同タイプのアルミニウムパン)、300℃の温度で5分間加熱した後、液体窒素中を用いて急冷処理をする。この試料を20℃/分で昇温し、その発熱量に関するDSC曲線において(該Tg付近では吸熱挙動を示す)Tg付近に2本の各ベースラインの延長線を引き、延長線間の1/2直線とDSC曲線の交点からTgを算出する。
(8)表面エネルギー
下記の方法により、本発明にかかる熱可塑性フィルム上に積層膜を形成した状態での表面エネルギーを求めた。つまり、熱可塑性樹脂フィルムに積層膜を形成した後、積層膜を形成した側の表面エネルギーを求めた。
DSC measurement conditions are as follows. That is, 10 mg of a film sample was adjusted to an aluminum pan, set in a DSC apparatus (reference: aluminum pan of the same type without a sample), heated at 300 ° C. for 5 minutes, and then rapidly cooled in liquid nitrogen Process. This sample was heated at 20 ° C./min, and an extension line of each two baselines was drawn in the vicinity of Tg (showing endothermic behavior in the vicinity of the Tg) in the DSC curve regarding the calorific value. Tg is calculated from the intersection of the two straight lines and the DSC curve.
(8) Surface energy The surface energy in the state which formed the laminated film on the thermoplastic film concerning this invention by the following method was calculated | required. That is, after forming the laminated film on the thermoplastic resin film, the surface energy on the side on which the laminated film was formed was determined.

表面エネルギーおよびその各成分(分散力、極性力、水素結合力)が既知の4種類の測定液(本発明ではJ.Panzer,J.ColloidInterface Sci.,44,142(1973)に記載の水、ホルムアミド、エチレングリコール、ヨウ化メチレンの数値を用いた)を用い、23℃の温度、相対湿度65%の条件下で接触角計CA−D型(協和界面科学(株)製)にて、各液体の積層膜上での接触角を測定した。測定には、5個の平均値を用いた。この値を、拡張Fowkes式とYoungの式より導入される下記式を用いて各成分を計算した。
(γ d ・γ d1/2 +(γ p ・γ p1/2 +(γ h ・γ h1/2 =γ(1+cosθ)/2
(但し、γ=γ d +γ p +γ h 、γ=γ d +γ p +γ h、ここで、γ、γ d 、γ p 、γ h はそれぞれ、積層膜の表面エネルギー、分散力成分、極性力成分、水素結合力成分を表し、γ、γ d 、γ p 、γ h は、それぞれ用いた測定液の表面エネルギー、分散力成分、極性力成分および水素結合力成分を表す。θは積層膜上での測定液の接触角を表す。)
各々の液体について得られたθと測定液の表面エネルギーおよびその各成分の値を、上記式に代入し、連立方程式を解いて積層膜の表面エネルギーを求めた。
Four kinds of measurement liquids whose surface energy and each component thereof (dispersion force, polar force, hydrogen bonding force) are known (in the present invention, water described in J. Panzer, J. Colloid Interface Sci., 44, 142 (1973), (Formamide, ethylene glycol, and methylene iodide were used) at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65% on a contact angle meter CA-D type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) The contact angle of the liquid on the laminated film was measured. The average value of 5 pieces was used for the measurement. Each component was calculated from this value using the following formula introduced from the extended Fowkes formula and Young's formula.
(Γ S d · γ L d ) 1/2 + (γ S p · γ L p) 1/2 + (γ S h · γ L h) 1/2 = γ L (1 + cosθ) / 2
(However, γ S = γ S d + γ S p + γ S h, γ L = γ L d + γ L p + γ L h, where, γ S, γ S d, γ S p, γ S h , respectively, laminated Represents the surface energy, dispersion force component, polar force component, and hydrogen bond force component of the film. Γ L , γ L d , γ L p , and γ L h are the surface energy, dispersion force component, and polarity of the measurement solution used, respectively. Represents the force component and the hydrogen bonding force component, and θ represents the contact angle of the measurement liquid on the laminated film.)
The θ obtained for each liquid, the surface energy of the measurement liquid, and the value of each component thereof were substituted into the above equations, and the simultaneous equations were solved to obtain the surface energy of the laminated film.

(実施例1)
外部粒子を含有しないPETペレット(極限粘度0.63dl/g)を十分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃の温度で溶融し、T字型口金からシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化させた。
Example 1
PET pellets (extreme viscosity 0.63 dl / g) that do not contain external particles are sufficiently dried in vacuum, then supplied to an extruder, melted at a temperature of 285 ° C., extruded from a T-shaped die into a sheet, and electrostatically applied. It was wound around a mirror-casting drum having a surface temperature of 25 ° C. using a casting method and cooled and solidified.

このようにして得られた未延伸フィルムを、88℃の温度に加熱して長手方向に3.3倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。   The unstretched film thus obtained was heated to a temperature of 88 ° C. and stretched 3.3 times in the longitudinal direction to obtain a uniaxially stretched film.

この一軸延伸フィルムに空気中でコロナ放電処理を施し、その処理面に下記の積層膜形成塗液を塗布した。   The uniaxially stretched film was subjected to corona discharge treatment in the air, and the following laminated film forming coating solution was applied to the treated surface.

積層膜形成塗液が塗布された一軸延伸フィルムを、クリップで把持しながら予熱ゾーンに導き、95℃の温度で乾燥後、引き続き連続的に110℃の温度の加熱ゾーンで幅方向に3.4倍延伸し、更に、235℃の温度の加熱ゾーンで熱処理を施し、結晶配向の完了した、積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルム(ポリエチレンテレフタラートフィルム)を得た。   The uniaxially stretched film coated with the laminated film forming coating liquid is guided to a preheating zone while being held by a clip, dried at a temperature of 95 ° C., and continuously 3.4 in the width direction in a heating zone at a temperature of 110 ° C. The film was stretched twice and further subjected to a heat treatment in a heating zone at a temperature of 235 ° C. to obtain a laminated PET film (polyethylene terephthalate film) composed of a laminated film and a thermoplastic resin film, in which crystal orientation was completed.

積層膜を除いたPETフィルムのみの厚みは100μmであり、積層膜の厚み0.08μmであった。
「積層膜形成塗液」
・塗液A1:
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂(ガラス転移温度:110℃)の水分散体。
<共重合成分>
ナフタレンジカルボン酸 75モル%
テレフタル酸 15モル%
5−Naスルホイソフタル酸 10モル%
エチレングリコール 95モル%
ジエチレングリコール 5モル%。
The thickness of only the PET film excluding the laminated film was 100 μm, and the thickness of the laminated film was 0.08 μm.
"Laminated film forming coating solution"
-Coating liquid A1:
An aqueous dispersion of a polyester resin (glass transition temperature: 110 ° C.) having the following copolymer composition.
<Copolymerization component>
Naphthalenedicarboxylic acid 75 mol%
Terephthalic acid 15 mol%
5-Na sulfoisophthalic acid 10 mol%
Ethylene glycol 95 mol%
Diethylene glycol 5 mol%.

・塗液B1:
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂(ガラス転移温度:82℃)の水分散体。
<共重合成分>
テレフタル酸 88モル%
5−Naスルホイソフタル酸 12モル%
エチレングリコール 99モル%
ジエチレングリコール 1モル%。
-Coating liquid B1:
An aqueous dispersion of a polyester resin (glass transition temperature: 82 ° C.) having the following copolymer composition.
<Copolymerization component>
Terephthalic acid 88 mol%
5-Na sulfoisophthalic acid 12 mol%
99 mol% ethylene glycol
Diethylene glycol 1 mol%.

・塗液C1:
メチロール化メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)“ニカラック”MW−12LF)を、イソプロピルアルコールと水との混合溶媒(10/90(重量比))に希釈した塗液。
・ Coating liquid C1:
A coating solution obtained by diluting a methylolated melamine-based crosslinking agent (Sanwa Chemical Co., Ltd. “Nikalac” MW-12LF) in a mixed solvent of isopropyl alcohol and water (10/90 (weight ratio)).

上記した塗液A1と塗液B1を固形分重量比で、塗液A1/塗液B1=30/70で混合し、このA1とA2合計の固形分重量で100重量部に対して、塗液C1を固形分重量で75重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。   The above-described coating liquid A1 and coating liquid B1 are mixed at a solid content weight ratio of coating liquid A1 / coating liquid B1 = 30/70, and the total liquid weight of A1 and A2 is 100 parts by weight. A mixed liquid for forming a laminated film was prepared by mixing 75 parts by weight of C1 in terms of solid content.

なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液A1/塗液B1/塗液C1=30/70/75であった。
この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、スパッタ装置によって0.1μmの銅からなる金属層を設けた。
At this time, the solid content weight ratio of each coating liquid was coating liquid A1 / coating liquid B1 / coating liquid C1 = 30/70/75.
A metal layer made of 0.1 μm copper was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of this laminated film and a thermoplastic resin film by a sputtering apparatus.

銅ターゲットの純度は99.99%であって、アルゴンプラズマによってスパッタした。スパッタ電力は7kW、フィルム搬送速度は1m/分とした。   The purity of the copper target was 99.99% and was sputtered with argon plasma. The sputtering power was 7 kW, and the film conveyance speed was 1 m / min.

続いて、格子状マスクを通して波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射してレーザーアブレーションすることで、銅スパッタ膜である金属層をメッシュ形状に加工した。メッシュ形状は正方格子とし、線幅8μm、格子間隔150μm、開口率は90%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は10であった。
(実施例2)
実施例1と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により0.3μm厚の銅からなる金属層を設けた。
Then, the metal layer which is a copper sputtered film was processed into the mesh shape by irradiating with a XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm through a lattice mask and performing laser ablation. An electromagnetic wave shielding sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 8 μm, a lattice interval of 150 μm, and an aperture ratio of 90% was obtained. The moire evaluation was ○, and the adhesion was 10.
(Example 2)
A metal layer made of copper having a thickness of 0.3 μm was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of the laminated film and the thermoplastic resin film subjected to the same processing treatment as in Example 1 by an electron beam type vapor deposition machine. .

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated, and a metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅10μm、格子間隔150μm、開口率は87%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は10であった。
(実施例3)
実施例1と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により0.3μmの銅からなる金属層を設けた。
An electromagnetic wave shield sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 10 μm, a lattice interval of 150 μm, and an aperture ratio of 87% was obtained. The moire evaluation was ○, and the adhesion was 10.
(Example 3)
A metal layer made of 0.3 μm copper was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of the laminated film and the thermoplastic resin film subjected to the same processing treatment as in Example 1 by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長355nmのYAGレーザーの第3高調波を照射することで、レーザーアブレーションによりこの銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, the metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation by irradiating the third harmonic of a YAG laser having a wavelength of 355 nm.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅8μm、格子間隔100μm、開口率は85%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は良好、密着性は10であった。
(実施例4)
実施例1と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により2μmの銅からなる金属層を設けた。
An electromagnetic wave shielding sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 8 μm, a lattice interval of 100 μm, and an aperture ratio of 85% was obtained. The moire evaluation was good and the adhesion was 10.
Example 4
A metal layer made of 2 μm copper was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of the laminated film and the thermoplastic resin film subjected to the same processing treatment as in Example 1 by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

得られた銅からなる金属層の表面にフォトリソ工程(レジストフィルム貼り付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジスト剥離)により、線幅10μm、格子間隔200μm、開口率90%の電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は良好、密着性は10であった。
(実施例5)
実施例1と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により0.05μmの銅からなる金属層を設けた。
An electromagnetic wave shielding sheet having a line width of 10 μm, a lattice interval of 200 μm, and an aperture ratio of 90% was obtained by a photolithography process (resist film attachment-exposure-development-chemical etching-resist peeling) on the surface of the obtained metal layer made of copper. . The moire evaluation was good and the adhesion was 10.
(Example 5)
A metal layer made of copper of 0.05 μm was provided on the laminated film forming surface side of a laminated PET film made of a laminated film and a thermoplastic resin film subjected to the same processing treatment as in Example 1 by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated, and a metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅6μm、格子間隔150μmであった。   The mesh shape was a square lattice with a line width of 6 μm and a lattice spacing of 150 μm.

得られたメッシュに電解めっき加工を施すことで、Cu膜厚を2μmとした。線幅9μm、格子間隔150μm、開口率は87%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は9であった。
(比較例1)
実施例1で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液D1:
下記のアクリルモノマーを共重合した水性エマルション。
<共重合成分>
メチルメタクリレート 65重量%
エチルアクリレート 32重量%
アクリル酸 2重量%
N−メチロールアクリルアミド 1重量%
上記した塗液D1の100重量部に対して、塗液C1を100重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。
By subjecting the obtained mesh to electrolytic plating, the Cu film thickness was set to 2 μm. An electromagnetic wave shielding sheet having a line width of 9 μm, a lattice spacing of 150 μm, and an aperture ratio of 87% was obtained. The moire evaluation was ○, and the adhesion was 9.
(Comparative Example 1)
A laminated PET film composed of a laminated film and a thermoplastic resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following laminated film forming coating liquid was used instead of the laminated film forming coating liquid used in Example 1. It was.
"Laminated film forming coating solution"
-Coating liquid D1:
An aqueous emulsion copolymerized with the following acrylic monomers.
<Copolymerization component>
65% by weight methyl methacrylate
Ethyl acrylate 32% by weight
Acrylic acid 2% by weight
N-methylolacrylamide 1% by weight
A solution obtained by mixing 100 parts by weight of the coating liquid C1 with respect to 100 parts by weight of the coating liquid D1 was used as a laminated film forming coating liquid.

なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液D1/塗液C1=100/100であった。   In addition, the solid content weight ratio of each coating liquid was coating liquid D1 / coating liquid C1 = 100/100 at this time.

この積層膜形成面側に、スパッタ装置によって、0.3μmの銅からなる金属層を設けた。   A metal layer made of 0.3 μm copper was provided on the laminated film forming surface side by a sputtering apparatus.

銅ターゲットの純度は99.99%であって、アルゴンプラズマによってスパッタした。スパッタ電力は7kW、フィルム搬送速度は1m/分とした。   The purity of the copper target was 99.99% and was sputtered with argon plasma. The sputtering power was 7 kW, and the film conveyance speed was 1 m / min.

続いて、波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションを行ったところ、メッシュの剥離が起こり、パターンを形成することが不可能であった。
(比較例2)
実施例1で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例1と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液A1と塗液C1は実施例1と同じものを用いた。
上記した塗液A1の100重量部に対して、塗液C1を100重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液A1/塗液C1=100/100であった。
Subsequently, when an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated and laser ablation was performed, peeling of the mesh occurred and it was impossible to form a pattern.
(Comparative Example 2)
A laminated PET film comprising a laminated film and a thermoplastic resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following laminated film forming coating liquid was used instead of the laminated film forming coating liquid used in Example 1. .
"Laminated film forming coating solution"
The same coating liquid A1 and coating liquid C1 as in Example 1 were used.
A solution obtained by mixing 100 parts by weight of the coating liquid C1 with respect to 100 parts by weight of the coating liquid A1 was used as a laminated film forming coating liquid. In addition, the solid content weight ratio of each coating liquid at this time was coating liquid A1 / coating liquid C1 = 100/100.

この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により0.3μm厚の銅からなる金属層を設けた。   A metal layer made of copper having a thickness of 0.3 μm was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of this laminated film and a thermoplastic resin film by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated, and a metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅10μm、格子間隔150μm、開口率は87%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は3であった。
(比較例3)
実施例1で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例1と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液B1と塗液C1は実施例1と同じものを用いた。
上記した塗液B1の100重量部に対して、塗液C1を100重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液B1/塗液C1=100/100であった。
An electromagnetic wave shield sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 10 μm, a lattice interval of 150 μm, and an aperture ratio of 87% was obtained. The moire evaluation was ○, and the adhesion was 3.
(Comparative Example 3)
A laminated PET film comprising a laminated film and a thermoplastic resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following laminated film forming coating liquid was used instead of the laminated film forming coating liquid used in Example 1. .
"Laminated film forming coating solution"
The same coating liquid B1 and coating liquid C1 as in Example 1 were used.
A solution obtained by mixing 100 parts by weight of the coating liquid C1 with respect to 100 parts by weight of the coating liquid B1 was used as a laminated film forming coating liquid. At this time, the solid content weight ratio of each coating liquid was coating liquid B1 / coating liquid C1 = 100/100.

この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により0.3μm厚の銅からなる金属層を設けた。   A metal layer made of copper having a thickness of 0.3 μm was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of this laminated film and a thermoplastic resin film by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated, and a metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅10μm、格子間隔150μm、開口率は87%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は2であった。
(比較例4)
実施例1で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例1と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液A1、および塗液B1は実施例1と同じものを用いた。
上記した塗液A1と塗液B1を固形分重量比で、塗液A1/塗液B1=30/70で混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液A1/塗液B1=30/70であった(メラミン系架橋剤は未添加)。
An electromagnetic wave shield sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 10 μm, a lattice interval of 150 μm, and an aperture ratio of 87% was obtained. The moire evaluation was ○, and the adhesion was 2.
(Comparative Example 4)
A laminated PET film comprising a laminated film and a thermoplastic resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following laminated film forming coating liquid was used instead of the laminated film forming coating liquid used in Example 1. .
"Laminated film forming coating solution"
The same coating liquid A1 and coating liquid B1 as in Example 1 were used.
The above-described coating liquid A1 and coating liquid B1 were mixed at a solid content weight ratio of coating liquid A1 / coating liquid B1 = 30/70 to obtain a laminated film forming coating liquid. In addition, the solid content weight ratio of each coating liquid at this time was coating liquid A1 / coating liquid B1 = 30/70 (the melamine type crosslinking agent was not added).

この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により0.3μm厚の銅からなる金属層を設けた。   A metal layer made of copper having a thickness of 0.3 μm was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of this laminated film and a thermoplastic resin film by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated, and a metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅10μm、格子間隔150μm、開口率は87%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は2であった。
(比較例5)
実施例1で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例1と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液A1、塗液B1、および塗液C1は実施例1と同じものを用いた。
上記した塗液A1と塗液B1を固形分重量比で、塗液A1/塗液B1=30/70で混合し、この100重量部に対して、塗液C1を50重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液A1/塗液B1/塗液C1=30/70/50であった。
An electromagnetic wave shield sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 10 μm, a lattice interval of 150 μm, and an aperture ratio of 87% was obtained. The moire evaluation was ○, and the adhesion was 2.
(Comparative Example 5)
A laminated PET film comprising a laminated film and a thermoplastic resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following laminated film forming coating liquid was used instead of the laminated film forming coating liquid used in Example 1. .
"Laminated film forming coating solution"
The same coating liquid A1, coating liquid B1, and coating liquid C1 as in Example 1 were used.
The above-described coating liquid A1 and coating liquid B1 are mixed at a solid content weight ratio of coating liquid A1 / coating liquid B1 = 30/70, and 50 parts by weight of the coating liquid C1 is mixed with 100 parts by weight. A laminated film forming coating solution was obtained. At this time, the weight ratio of the solid content of each coating liquid was coating liquid A1 / coating liquid B1 / coating liquid C1 = 30/70/50.

この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により0.3μm厚の銅からなる金属層を設けた。   A metal layer made of copper having a thickness of 0.3 μm was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of this laminated film and a thermoplastic resin film by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated, and a metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅10μm、格子間隔150μm、開口率は87%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は4であった。   An electromagnetic wave shield sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 10 μm, a lattice interval of 150 μm, and an aperture ratio of 87% was obtained. The moire evaluation was ○, and the adhesion was 4.

(比較例6)
実施例1で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例1と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液A1、塗液B1、および塗液C1は実施例1と同じものを用いた。
上記した塗液A1と塗液B1を固形分重量比で、塗液A1/塗液B1=30/70で混合し、この100重量部に対して、塗液C1を250重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液A1/塗液B1/塗液C1=30/70/250であった。
(Comparative Example 6)
A laminated PET film comprising a laminated film and a thermoplastic resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following laminated film forming coating liquid was used instead of the laminated film forming coating liquid used in Example 1. .
"Laminated film forming coating solution"
The same coating liquid A1, coating liquid B1, and coating liquid C1 as in Example 1 were used.
The above-described coating liquid A1 and coating liquid B1 are mixed at a solid content weight ratio of coating liquid A1 / coating liquid B1 = 30/70, and a mixture of 250 parts by weight of the coating liquid C1 with respect to 100 parts by weight. A laminated film forming coating solution was obtained. At this time, the solid content weight ratio of each coating liquid was coating liquid A1 / coating liquid B1 / coating liquid C1 = 30/70/250.

この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により0.3μm厚の銅からなる金属層を設けた。   A metal layer made of copper having a thickness of 0.3 μm was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of this laminated film and a thermoplastic resin film by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated, and a metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅10μm、格子間隔150μm、開口率は87%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は3であった。
(比較例7)
実施例1で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例1と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液A1、塗液B1、および塗液C1は実施例1と同じものを用いた。
・塗液F1:
ポリスチレンスルホン酸アンモニウム塩の水溶液(重量平均分子量:1万)。
An electromagnetic wave shield sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 10 μm, a lattice interval of 150 μm, and an aperture ratio of 87% was obtained. The moire evaluation was ○, and the adhesion was 3.
(Comparative Example 7)
A laminated PET film comprising a laminated film and a thermoplastic resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following laminated film forming coating liquid was used instead of the laminated film forming coating liquid used in Example 1. .
"Laminated film forming coating solution"
The same coating liquid A1, coating liquid B1, and coating liquid C1 as in Example 1 were used.
・ Coating fluid F1:
An aqueous solution of polystyrene sulfonate ammonium salt (weight average molecular weight: 10,000).

上記した塗液A1と塗液B1を固形分重量比で、塗液A1/塗液B1=30/70で混合し、この100重量部に対して、塗液C1を100重量部、塗液F1を10重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液A1/塗液B1/塗液C1/塗液F1=30/70/100/10であった。   The above-mentioned coating liquid A1 and coating liquid B1 are mixed at a solid content weight ratio of coating liquid A1 / coating liquid B1 = 30/70, and 100 parts by weight of the coating liquid C1 and the coating liquid F1 with respect to 100 parts by weight. 10 parts by weight of the mixture was used as a laminated film forming coating solution. At this time, the solid content weight ratio of each coating liquid was coating liquid A1 / coating liquid B1 / coating liquid C1 / coating liquid F1 = 30/70/100/10.

この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により0.3μm厚の銅からなる金属層を設けた。   A metal layer made of copper having a thickness of 0.3 μm was provided on the laminated film forming surface side of the laminated PET film made of this laminated film and a thermoplastic resin film by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated, and a metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅10μm、格子間隔150μm、開口率は87%とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は0であった。
(比較例8)
比較例1と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜面側に、電子ビーム型蒸着機により0.3μmの銅からなる金属層を設けた。
An electromagnetic wave shield sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 10 μm, a lattice interval of 150 μm, and an aperture ratio of 87% was obtained. The moire evaluation was ○, and the adhesion was 0.
(Comparative Example 8)
A metal layer made of 0.3 μm copper was provided on the laminated film surface side of a laminated PET film made of a laminated film and a thermoplastic resin film subjected to the same processing treatment as Comparative Example 1 by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、波長355nmのYAGレーザーの第3高調波を照射することで、レーザーアブレーションによりこの銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, the metal layer made of copper was processed into a mesh shape by laser ablation by irradiating the third harmonic of a YAG laser having a wavelength of 355 nm.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅10μm、格子間隔150μm、開口率は87%とした電磁波シールドシートを得た。   An electromagnetic wave shield sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 10 μm, a lattice interval of 150 μm, and an aperture ratio of 87% was obtained.

モアレ評価は良好であったものの密着性は0であった。   Although the moire evaluation was good, the adhesion was 0.

(比較例9)
比較例1と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜面に電子ビーム型蒸着機により0.3μmの銅からなる金属層を設けた。
(Comparative Example 9)
A metal layer made of 0.3 μm copper was provided on the laminated film surface of the laminated PET film made of the laminated film and the thermoplastic resin film subjected to the same processing as in Comparative Example 1 by an electron beam type vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

得られた銅表面にフォトリソ工程(レジストフィルム貼り付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジスト剥離)でパターンの作製を行った。   A pattern was prepared on the obtained copper surface by a photolithography process (resist film attachment-exposure-development-chemical etching-resist peeling).

しかし、レジスト剥離工程でメッシュの剥離が生じたため、電磁波シールドシートは得られなかった。   However, since the peeling of the mesh occurred in the resist peeling process, an electromagnetic wave shield sheet could not be obtained.

(比較例10)
実施例1と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜面に電子ビーム型蒸着機により0.3μmの銅からなる金属層を設けた。
(Comparative Example 10)
A metal layer made of 0.3 μm copper was provided on the laminated film surface of the laminated PET film made of the laminated film and the thermoplastic resin film subjected to the same processing treatment as in Example 1 by an electron beam vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、格子状マスクを通して波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射してレーザーアブレーションすることで銅スパッタ膜をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, an XrF excimer laser with a wavelength of 248 nm was irradiated through a lattice mask to perform laser ablation, thereby processing the copper sputtered film into a mesh shape.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅13μm、格子間隔250μm、開口率は90%とした電磁波シールドシートを得た。   An electromagnetic wave shielding sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 13 μm, a lattice interval of 250 μm, and an aperture ratio of 90% was obtained.

しかしこのサンプルのモアレ発生頻度は△であった。   However, the moiré frequency of this sample was Δ.

(比較例11)
実施例1と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層PETフィルムの積層膜面に電子ビーム型蒸着機により0.3μmの銅からなる金属層を設けた。
(Comparative Example 11)
A metal layer made of 0.3 μm copper was provided on the laminated film surface of the laminated PET film made of the laminated film and the thermoplastic resin film subjected to the same processing treatment as in Example 1 by an electron beam vapor deposition machine.

銅蒸着材の純度は99.99%であった。   The purity of the copper vapor deposition material was 99.99%.

続いて、格子状マスクを通して波長248nmのXrFエキシマレーザーを照射してレーザーアブレーションすることで銅蒸着膜をメッシュ形状に加工した。   Subsequently, the copper vapor deposition film was processed into a mesh shape by laser ablation by irradiating an XrF excimer laser having a wavelength of 248 nm through a lattice mask.

メッシュ形状は正方格子とし、線幅25μm、格子間隔250μm、開口率は81%とした電磁波シールドシートを得た。   An electromagnetic wave shielding sheet having a mesh shape of a square lattice, a line width of 25 μm, a lattice interval of 250 μm, and an aperture ratio of 81% was obtained.

しかしこのサンプルのモアレ発生頻度は×であった。   However, the moiré frequency of this sample was x.

Figure 2008263051
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Figure 2008263051
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Figure 2008263051
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本発明は、プラズマディスプレイ用電磁波シールドシートのみならず、あらゆる電磁波シールドシートとして用いることができるが、その応用範囲がこれらに限られるものではない。   The present invention can be used not only as an electromagnetic wave shielding sheet for plasma display but also as any electromagnetic wave shielding sheet, but its application range is not limited to these.

Claims (7)

熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に、
ガラス転移温度が110℃以上のポリエステル樹脂(A)、ガラス転移温度が60℃以上110℃未満のポリエスエル樹脂(B)、及びメラミン系架橋剤(C)を構成成分とする、表面エネルギーが48〜55mN/mの積層膜を有し、
該積層膜は、ポリエステル樹脂(A)とポリエスエル樹脂(B)の合計100重量部に対して、メラミン系架橋剤(C)が75〜200重量部含まれており、
該積層膜の表面にメッシュ形状の金属層を有することを特徴とする、電磁波シールドシート。
On at least one side of the thermoplastic resin film,
Surface energy is 48-, comprising a polyester resin (A) having a glass transition temperature of 110 ° C. or higher, a polyester resin (B) having a glass transition temperature of 60 ° C. or higher and lower than 110 ° C., and a melamine crosslinking agent (C). Having a laminated film of 55 mN / m,
The laminated film contains 75 to 200 parts by weight of the melamine crosslinking agent (C) with respect to 100 parts by weight of the total of the polyester resin (A) and the polyester resin (B).
An electromagnetic wave shielding sheet having a mesh-shaped metal layer on the surface of the laminated film.
ポリエステル樹脂(A)および/またはポリエステル樹脂(B)が、スルホン酸塩基を含むポリエステル樹脂であることを特徴とする、請求項1に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein the polyester resin (A) and / or the polyester resin (B) is a polyester resin containing a sulfonate group. 前記積層膜は、ポリエステル樹脂(A)とポリエスエル樹脂(B)の合計100重量部に対して、メラミン系架橋剤(C)が100〜150重量部含まれてなることを特徴とする、請求項1または2に記載の電磁波シールドシート。   The laminated film includes 100 to 150 parts by weight of the melamine-based crosslinking agent (C) with respect to 100 parts by weight of the total of the polyester resin (A) and the polyester resin (B). The electromagnetic wave shielding sheet according to 1 or 2. 前記金属層が、真空蒸着法、化学反応蒸着法、またはスパッタリング法のいずれかによって形成され、該金属層の厚みが2〜0.005μmであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の電磁波シールドシート。   The metal layer is formed by any one of a vacuum vapor deposition method, a chemical reaction vapor deposition method, and a sputtering method, and the thickness of the metal layer is 2 to 0.005 µm. An electromagnetic shielding sheet according to crab. 前記メッシュが、リソグラフィー法もしくはレーザーアブレーション法で形成されたことを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein the mesh is formed by a lithography method or a laser ablation method. メッシュラインの間隔が100〜200μm、メッシュ開口率が80%以上ある請求項1〜5に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein the mesh line spacing is 100 to 200 μm and the mesh opening ratio is 80% or more. 請求項1〜6に記載の電磁波シールドシートを用いたことを特徴とする、PDP用フィルター。 A filter for PDP using the electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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