JP2008257105A - Rubbing processing device and manufacturing method of liquid crystal display device by the rubbing processing device - Google Patents
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Description
本発明は液晶表示装置の製造に用いられるラビング処理装置とそのラビング処理装置による液晶表示装置の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a rubbing processing apparatus used for manufacturing a liquid crystal display device and a method for manufacturing a liquid crystal display device using the rubbing processing apparatus.
液晶パネルを用いた液晶表示装置は、低消費電力であること、薄型、軽量化が可能であること等から、AV機器、OA機器を始めとする多くの電気機器製品に使用されている。近年これらの製品に対する要求の高度化に伴い急速に高精細度化や画像表示品位の向上が重要となってきている。このような液晶表示装置の製造方法において、液晶を配向させる配向膜表面に微細な筋を形成する工程であるラビング工程は画像表示品位に重大な影響を及ぼすものである。 A liquid crystal display device using a liquid crystal panel is used in many electrical equipment products such as AV equipment and OA equipment because of its low power consumption, thinness, and light weight. In recent years, with the increasing demand for these products, it has become important to rapidly increase the definition and improve the image display quality. In such a method for manufacturing a liquid crystal display device, a rubbing process, which is a process for forming fine streaks on the surface of an alignment film for aligning liquid crystals, has a significant effect on image display quality.
従来のラビング工程は、ラビングローラを回転させながら配向膜表面に対し特定の方向にラビング処理を行うのであるが、ステージ上に保持した配向膜が表面に形成された基板上には配線、端子、遮光膜等のパターンによる段差が生じている。 In the conventional rubbing process, the rubbing roller is rotated to perform a rubbing process in a specific direction with respect to the alignment film surface. On the substrate on which the alignment film held on the stage is formed, wiring, terminals, A step due to a pattern such as a light shielding film is generated.
上記の様なパターンの段差がある配向膜が表面に形成された基板に対してラビング処理を行った場合、ラビング布の表面にパターンの凹凸が押し付けられ、凸部と接触する部分と凹部と接触する部分でラビング布の毛先の表面状態が異なってしまう。特に大量に連続してラビング処理を行うと、従来のラビング処理装置では、パターンの接触する部分がラビング布の同じ部分に再現され、場所による毛先の表面状態の差が固定化してしまう。この布の表面状態のムラが表示領域内の配向膜にも転写され、表示領域内での配向ムラを引き起こす。その結果、配向ムラによる表示ムラが発生する結果となり、歩留りを悪化させる要因となっていた。 When a rubbing process is performed on a substrate on which an alignment film having a pattern step as described above is formed, the unevenness of the pattern is pressed against the surface of the rubbing cloth, and the portion that contacts the convex portion and the concave portion are contacted The surface state of the hair end of the rubbing cloth will be different at the part to be done. In particular, when a rubbing process is performed continuously in large quantities, in the conventional rubbing apparatus, the part in contact with the pattern is reproduced in the same part of the rubbing cloth, and the difference in the surface state of the hair tip depending on the location is fixed. This unevenness of the surface state of the cloth is also transferred to the alignment film in the display region, causing alignment unevenness in the display region. As a result, display unevenness due to alignment unevenness occurs, which has been a factor that deteriorates the yield.
また、この様なラビング工程を起因とする表示ムラを低減する方法として、特許文献1において、処理する基板を揺動しながらラビング処理する方法、特許文献2においては、ラビング布の表面状態のムラを慣らす毛慣らし手段を設ける方法が開示されている。
In addition, as a method of reducing display unevenness due to such a rubbing process, in
然しながら、特許文献1の様に揺動しながらラビング処理を行った場合、ラビング処理の実質的な方向が一定とならず、処理自体が不安定となる問題がある。また、特許文献2の様な毛慣らし手段を設けた場合にもラビング布の消耗や損傷が発生し易いなど耐久性に問題がある。
However, when the rubbing process is performed while swinging as in
本発明は以上の様な問題を解決するものであり、ラビング処理による表示ムラを防止し、画像表示品位の高い液晶表示装置を実現できるラビング処理装置とその方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a rubbing processing apparatus and method capable of preventing a display unevenness due to rubbing processing and realizing a liquid crystal display device with high image display quality.
この発明に係るラビング処理装置は、配向膜が表面に形成された基板を保持するステージと、上記配向膜表面をラビング処理するラビングローラとを備え、そのラビングローラを前記基板の長手方向に対し所望の角度に固定し回転させながら基板及びステージをラビングローラに対して所定方向に向って相対移動し、ステージに保持された基板表面に形成された配向膜表面にラビング処理を行い、複数の前記基板を連続してラビング処理する場合において処理する基板毎に前記ステージ上の異なる位置に位置決めする位置決め機構を備えたものである。 A rubbing apparatus according to the present invention includes a stage for holding a substrate having an alignment film formed on a surface thereof, and a rubbing roller for rubbing the alignment film surface, and the rubbing roller is desired in the longitudinal direction of the substrate. The substrate and the stage are relatively moved in a predetermined direction with respect to the rubbing roller while rotating at a fixed angle, and a rubbing process is performed on the surface of the alignment film formed on the surface of the substrate held on the stage. Is provided with a positioning mechanism for positioning at different positions on the stage for each substrate to be processed.
本発明によれば、液晶表示装置における配向膜が表面に形成された基板にラビング処理を行った場合における表示ムラを防止することが可能であり、歩留まりの向上、かつ大量に連続ラビング処理をすることを可能とし、飛躍的に生産性向上が行えるという有利な効果が得られる。 According to the present invention, it is possible to prevent display unevenness when a rubbing process is performed on a substrate having an alignment film formed on the surface thereof in a liquid crystal display device, thereby improving yield and performing a large amount of continuous rubbing process. It is possible to obtain the advantageous effect that productivity can be dramatically improved.
実施の形態1.
以下、本発明の実施の形態1であるラビング処理装置について図面を参照しつつ説明する。図1は本実施の形態1のラビング処理装置の構成を示す装置上側より見た外観図、図2は図1におけるA−A断面線による断面図である。なお、図は、模式的なものであり、示された構成要素の正確な大きさなどを反映するものではない。また、図面中、既出の構成部分と共通する部分については同一符号を用いて詳細な説明を省略するものとする。以下、その他の図においても同様とする。
Hereinafter, a rubbing apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an external view seen from the upper side of the apparatus showing the configuration of the rubbing treatment apparatus according to the first embodiment, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG. Note that the drawings are schematic and do not reflect the exact size of the components shown. In the drawings, the same reference numerals are used for portions common to the above-described components, and detailed description thereof is omitted. Hereinafter, the same applies to other drawings.
図1に示す様に、本実施の形態1のラビング処理装置は、液晶を配向させる配向膜が表面に形成された基板1(基板内のパネル配置を点線で図示)を保持するステージ2と、前記基板1を所定の位置に位置決めするアライメントピン3及びアライメント溝4と、位置決め後の基板1をステージ2上に吸着保持する保持機構である吸着孔5と、回転軸X−Xを軸として回転しながら、これらステージ2上に保持された基板1表面を擦りラビング処理を行うラビングローラ6とより構成されている。ラビングローラ6は所望の方向のラビング処理ができる様に、基板1及びステージ2の進行方向(図中斜線網掛け矢印方向)に対する角度θを変更する様に回転軸X−Xの方向を図中網掛け矢印に示す様に回転可能であるとともに所望の角度で固定可能な構成となっている。
As shown in FIG. 1, the rubbing apparatus of the first embodiment includes a
また、図2に示す様に、アライメントピン3には、アライメントピン3を開閉動作するボールネジ7及びモータ8と、モータ8に接続されモータ8の動作を制御し処理基板毎に位置決め位置を決定するシーケンサなどの制御部9よりなる駆動機構とが取り付けられ、全体して位置決め機構10を構成している。この制御部9が位置決め機構10全体の動作を決定している。また、位置決め動作前と完了後においてアライメントピン3及び駆動機構全体を図中矢印に示す様にステージ2内に出し入れする上下動作を行う駆動機構も備えている(図示せず)。
Further, as shown in FIG. 2, the
続いて、本実施の形態1のラビング処理装置の動作について図3を用い説明する。先ず一枚目の配向膜が表面に形成された基板1aの処理を行う場合においては、所定の位置にアライメントピン3により位置決めされる。ここでは、例えば図3(a)の様に基板1a及びステージ2の進行方向に向かって左側とした。位置決め後には、吸着孔により基板1aはステージ2上の所定の位置で保持され、その後、アライメントピン3はラビング処理時の妨げとならない様に下降しステージ2内に収納される。この状態で回転するラビングローラ6の下部を図中矢印の方法に基板1aが通過し、基板1a表面に形成された配向膜表面に所望の方向のラビング処理が行われる。ラビング処理方向はラビングローラ6の回転軸X−Xと垂直な方向となる。
Next, the operation of the rubbing processing apparatus according to the first embodiment will be described with reference to FIG. First, when processing the
その後、連続して次の基板1bが処理される場合については、図3(a)とは異なる所定の位置にアライメントピン3により位置決めされる。ここでは、基板1b及びステージ2の進行方向に対し垂直な方向において異なる位置、例えば図3(b)に示す様に基板1b及びステージ2の進行方向に向かって右側の所定の位置とした。これら、図3(a)、図3(b)で説明した位置決めされる所定の位置については、上記構成の説明時に説明した制御部9により位置決め機構10の動作を制御され決定される。その後の動作については、図3(a)で説明したものと同様であるので説明を省略する。以後、連続して基板が処理される場合においても、前の基板の位置決め位置と異なる所定の位置に順次位置決めしてラビング処理を続ける。
Thereafter, when the
また、それぞれの基板1が位置決めされる所定の位置については、上記説明では基板及びステージの進行方向に向かって左側と右側の極端に異なる位置で説明したが、具体的には、図3(a)、図3(b)の間の適当な位置に複数の定位置を決め、その位置に基板毎に順次異なる位置に位置決めする。定位置を選択する順番としては定位置毎に決まった順番に選択しても良いし、ランダムな順番に選択して処理を進めても良い。更に、特に位置決めを行う定位置を決めずに所定の二つの定位置間においてランダムに任意の位置を選択し処理を進めても良い。これらの動作についても制御部9が位置決め機構10の動作を制御し行われる。具体的には、制御部9は、シーケンサやパソコンなどを組み合わせて、位置決め位置に対応したモータ8の回転量のデータ、基板処理の回数を計測した回数データ或いは乱数発生による乱数データを適宜利用して実現可能である。更に、図3より明らかな様にアライメント溝4が基板1及びステージ2の進行方向と垂直な方向に扁平して設けられており、アライメントピン3が基板1の進行方向と垂直な方向に開閉動作することから、基板1及びステージ2の進行方向と垂直な方向で異なる位置に容易に位置決めすることが可能である。
Further, in the above description, the predetermined positions at which the
続いて、本実施の形態1の作用について図4および図5を用いて説明する。図4は従来のラビング処理装置によって発生するパネル内のパターンの転写による配向ムラを比較例として説明する図である。図5は本実施の形態1における配向ムラの発生を緩和する作用を説明する図である。
Then, the effect | action of this
先ず、図4の様に基板101上に配置されたパネル(外形を点線で図示、図5においても同様)内のパターンとして端子電極111を例にとって説明するが、端子電極111のパターンによりラビング布には、端子電極111に当たる部分(凸部となる)がより強く接触する為、パターンの形状と同様の部分において毛先の表面状態の異なる領域(パターン痕と呼ぶ)が発生する。このラビング布表面のパターン痕の位置はラビングローラと基板との位置関係により各基板によりずれるが基板及びステージの進行方向に垂直な方向については変動しないため多数基板を処理していくうちにラビング布表面にパターン痕が固定化される。その結果、図4の様に基板及びステージの進行方向に平行な方向に端子電極111のパターンが転写される配向ムラ(パターン転写領域112)が発生し、表示ムラとして視認される。
First, the
一方、本実施の形態1の処理においては、多数の基板1を処理した後においても、図5に示す様に端子電極11のパターンが転写される配向ムラ(パターン転写領域12)がパネル内全面に均一化される。これは、基板1及びステージ2の進行方向と垂直な方向に基板毎に位置決めする位置を変えることにより、ラビングローラ6と基板1の関係も変わることから、基板1及びステージ2の進行方向に垂直な方向についてもラビング布表面のパターン痕が固定化されない為である。この様にして、パネル内の配向ムラ(パターン転写領域12)は全体に均一化される為に表示ムラも視認されなくすることができる。
On the other hand, in the process of the first embodiment, even after a large number of
以上説明の様に、本実施の形態1のラビング装置においては、複数の基板を連続してラビング処理する場合において、処理する基板毎にステージ1上の異なる位置に位置決めする位置決め機構10を備えていることから液晶表示装置における配向膜が表面に形成された基板にラビング処理を行った場合における配向膜表面の配向ムラを防止することが可能という有利な効果が得られる。
As described above, the rubbing apparatus according to the first embodiment includes the
また、本実施の形態1の装置、方法においては、基板毎に、ラビングローラ6と基板1の位置関係は変動するものの、ステージ2上において、基板1は定位置に吸着保持される。この為、それぞれの基板1の処理としては、ラビング処理中にラビング処理方向と基板の方向の関係(ラビング処理角度)が変動することはなく、安定してラビング処理が可能である。
Further, in the apparatus and method of the first embodiment, the positional relationship between the rubbing
また、本実施の形態1では、基板1を配置する位置に特に例外を設けなかった。しかし、図6は一般的な液晶表示装置の製造に用いられる配向膜が表面に形成された基板上のパターン配置図を図6に示すが、この様に実際の処理される基板1上には端子電極11のパターンはピッチpの等間隔で、パネル13もピッチPの等間隔で配置されるのが一般的である。この状況からすると、これらのピッチと同一或いはピッチの整数倍の移動については、ほぼ同一のパターン痕がラビング布に形成されてしまうことよりパターン痕の領域を全体に均一化する効果が無くなってしまう。以上の様に基板毎に異なる位置は端子電極11やパネル13等の基板1上に等間隔に配置されたパターンのピッチの整数倍を除く位置より選択することが効率良く配向ムラを低減する点からは好ましい。
In the first embodiment, no particular exception is made at the position where the
実施の形態2.
実施の形態1においては、基板毎に異なる位置はステージ2或いはラビングローラ6を移動する方向と垂直な方向に異なる位置を選択しアライメントピン3により位置決めを行う方法を用いた。本実施の形態2においては、基板毎に異なる位置を基板角度を変えた位置とする方法について説明する。図7に本実施の形態2のラビング処理装置の構成を示す上面より見た外観図を示す。この図7に示す様にアライメントピン3を動作し基板に回転動作を行い、基板毎に異なる位置ステージ2或いはラビングローラ6を移動する方向に対して基板角度を変えた位置に位置決めする。例えば処理する基板の一枚目を図中基板1aの位置、続いて処理される基板を図中1b(基板位置及びアラメントピン3の位置を点線にて図示、)の位置とする。この方法によっても、実施の形態1と同様にパネル内の配向ムラ(パターン転写領域)を全体に均一化することができ表示ムラを視認されなくすることができる。
In the first embodiment, a method is used in which different positions for each substrate are selected in the direction perpendicular to the direction in which the
また、この方法についても、実施の形態1と同様に角度の異なる適当な位置に複数の定位置を決め、その位置に基板毎に順次異なる位置に位置決めする。定位置を選択する順番としては定位置毎に決まった順番に選択しても良いし、ランダムな順番に選択して処理を進めても良い。更に、特に位置決めを行う定位置を決めずに所定の二つの基板角度間においてランダムに任意の角度にあたる位置を選択し処理を進めても良い。 Also in this method, as in the first embodiment, a plurality of fixed positions are determined at appropriate positions having different angles, and the positions are sequentially positioned at different positions for each substrate. The order of selecting the fixed positions may be selected in an order determined for each fixed position, or may be selected in a random order and the process may be advanced. Further, the processing may be performed by selecting a position corresponding to an arbitrary angle randomly between two predetermined substrate angles without determining a fixed position for positioning.
また、本実施の形態1及び実施の形態2においては、定位置で回転するラビングローラ6に対し基板1及びステージ2の方を移動しラビング処理を行う方法を用いたが、基板1及びステージ2がラビングローラ6に対して相対移動すれば同様のラビング処理の作用が得られることから、基板1及びステージ2を固定し、ラビングローラ6を基板1及びステージ2に対して一定の角度を保ったまま回転させながら走査してラビング処理を行っても良く、実施の形態1及び実施の形態2と同様の効果を得ることが可能である。更に、この場合には本実施の形態1及び実施の形態2において説明した基板1及びステージ2の進行方向は基板1及びステージ2のラビングローラ6に対して相対移動する方向と読み替えると同様の効果説明が成り立つ。
In the first and second embodiments, the method of moving the
実施の形態3.
続いて、図8を用いて、本実施の形態3における液晶表示装置の構成について説明する。なお、ここでは、一例としてTFT(Thin Film Transistor)方式の液晶表示装置について説明する。この液晶表示装置200は、図に示される様に、スイッチング素子基板210、カラーフィルタ基板220、及びスイッチング素子基板210とカラーフィルタ基板220との間に充填された液晶230から構成されている。
Next, the configuration of the liquid crystal display device according to
上述のスイッチング素子基板210は、ガラス基板211の一方の面に液晶230を配向させる配向膜212、配向膜212の下部に設けられ液晶230を駆動する電圧を印加する画素電極213、画素電極213に電圧を供給するTFTなどのスイッチング素子214、スイッチング素子214を覆う絶縁膜215、スイッチング素子214に供給される信号を外部から受け入れる端子216、端子216から入力された信号を対向電極へ伝達する為のトランスファ電極217等を有している。また、ガラス基板211の他方の面には偏光板231を有している。
The switching
一方、上述のカラーフィルタ基板220は、ガラス基板221の一方の面に液晶230を配向させる配向膜222、配向膜222の下部に配置され、スイッチング素子基板210上の画素電極213との間に電界を生じ液晶230を駆動する共通電極223、共通電極223下部に設けられるカラーフィルタ224及び遮光層225等を有している。また、ガラス基板221の他方の面には偏光板232を有している。
On the other hand, the above-described
また、スイッチング素子基板210とカラーフィルタ基板220はシール233を介して貼り合わされている。更にトランスファ電極217と共通電極223は、トランスファ材234により電気的に接続されており、端子216から入力された信号が共通電極223に伝達される。この他に、液晶表示装置200は駆動信号を発生する制御基板235、制御基板235を端子216に電気的に接続するFPC(Flexible Printed Circuit)236、光源となるバックライトユニット(図示せず)等を備えている。
Further, the switching
この液晶表示装置200は次の様に動作する。例えば、制御基板235から電気信号が入力されると、画素電極213及び共通電極223に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶230の分子の方向が変わる。そして、バックライトユニットの発する光がスイッチング素子基板210、液晶230及びカラーフィルタ基板220を介して外部へ透過或いは遮断されることにより、液晶表示装置200に映像等が表示される。
The liquid
なお、この液晶表示装置200は、一例であり他の構成でもよい。液晶表示装置200の動作モードは、TN(Twisted Nematic)モードや、STN(Supper Twisted Nematic)モード、強誘電性液晶モード等でもよく、駆動方法は、単純マトリックスやアクティブマトリックス等でもよく、カラーフィルタ基板220に設けた共通電極223をスイッチング素子基板210側に設置して、画素電極213との間に横方向に液晶230に対して電界をかける横電界方式を用いた液晶表示装置でもよい。
The liquid
次に、本実施の形態3における液晶表示装置の製造方法について説明する。スイッチング素子基板210及びカラーフィルタ基板220の製造方法については一般的な方法を用いる為、簡単に説明する。スイッチング素子基板210は、ガラス基板211の一方の面に、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、エッチング等のパターン形成工程を繰り返し用いてスイッチング素子214や画素電極213、端子216、トランスファ電極217を形成することにより製造される。また、カラーフィルタ基板220は、同様に、ガラス基板221の一方の面に、カラーフィルタ224や共通電極223を形成することにより製造される。
Next, a manufacturing method of the liquid crystal display device according to the third embodiment will be described. Since a general method is used for manufacturing the
続いて、本実施の形態3において特徴的な組み立て工程について図9に示すフローチャートにしたがって説明する。まず、基板洗浄工程において、画素電極213が形成されているスイッチング素子基板210を洗浄する(S1)。次に、配向膜形成工程において、スイッチング素子基板210の一方の面に、配向膜212を形成する(S2)。この工程は、例えば、印刷法により有機膜からなる配向膜212を塗布し、ホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させる。
Subsequently, a characteristic assembly process in the third embodiment will be described with reference to a flowchart shown in FIG. First, in the substrate cleaning process, the switching
その後、ラビング工程において、実施の形態1で説明したラビング処理装置を用いることにより配向膜212が表面に形成された基板にラビング処理を行い、配向膜212を配向させる(S3)。また、S1からS3と同様に、共通電極223が形成されているカラーフィルタ基板220についても、洗浄、配向膜222の形成、及び実施の形態1で説明したラビング処理装置を用いたラビング処理を行う。この実施の形態1で説明したラビング処理装置を用いたことによって、大量に連続ラビング処理を行った場合においてもラビングローラにパターン痕が固定化されず全体に均一化される。
After that, in the rubbing process, the substrate on which the
続いて、シール塗布工程において、ノズルによるディスペンス方式、または、スクリーン印刷方式等によってスイッチング素子基板210あるいはカラーフィルタ基板220の一方の面にシール材233の塗布処理を行う(S4)。シール材233には、例えばエポキシ系接着剤等の熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂を用いた。
Subsequently, in the seal coating process, the sealing
次に、トランスファ材塗布工程において、スイッチング素子基板210或いはカラーフィルタ基板220の一方の面にトランスファ材234の塗布処理を行う(S5)。そして、スペーサ散布工程において、スイッチング素子基板210或いはカラーフィルタ基板220の一方の面にスペーサを散布する(S6)。この工程は、例えば、湿式法や乾式法によりスペーサを分散させることにより行われる。
Next, in the transfer material application process, the
その後、貼り合わせ工程において、スイッチング素子基板210とカラーフィルタ基板220を貼り合わせる(S7)。続いて、シール硬化工程において、スイッチング素子基板210とカラーフィルタ基板220を貼り合わせた状態で、シール233を完全に硬化させる(S8)。この工程は、例えば、シール233の材質に合わせて熱を加えることや、紫外線を照射することにより行われる。次に、セル分断工程において、貼り合わせた基板を個別セルに分解する(S9)。そして、液晶注入工程において、液晶注入口から液晶を注入する(S10)。この工程は、例えば、液晶230を液晶注入口から真空注入により充填することにより行われる。更に、封止工程において、液晶注入口を封止する(S11)。この工程は、例えば、光硬化型樹脂で封じ、光を照射することにより行われる。
Thereafter, in the bonding step, the switching
以上のS7〜S13の貼り合わせから液晶封止までの工程については、通常の注入口からの液晶注入方法を一例として説明した。しかし、別の液晶注入方法として、シール233を注入口の無いパターン形状とし、液晶230をスイッチング素子基板210或いはカラーフィルタ基板220の上に液滴状態で滴下して形成し、この滴下した液晶230を挟む様にスイッチング素子基板210とカラーフィルタ基板220を貼り合わせた後にシール233を硬化させる方法、所謂、滴下注入方式を用いても構わない。
About the process from bonding of the above S7-S13 to liquid crystal sealing, the liquid crystal injection method from the normal injection port was demonstrated as an example. However, as another liquid crystal injection method, the
最後に、偏光板貼付工程において、セルに偏光板231、232を貼り付け(S12)、制御基板実装工程において、制御基板235を実装する(S13)ことによって、液晶表示装置200が完成する。
Finally, the
以上説明した様に、実施の形態3における液晶表示装置においては、処理する基板毎に前記ステージ上の異なる位置に位置決めする位置決め機構を備えたラビング処理装置を用い製造されたことにより、複数の基板を連続してラビング処理した場合においても、配向膜が表面に形成された基板にラビング処理を行った場合における表示ムラを発生させることがなく、液晶表示装置の製造における歩留まりの向上及び大量基板の連続ラビング処理を両立することができ飛躍的に生産性向上が行えるという有利な効果が得られる。 As described above, in the liquid crystal display device according to the third embodiment, a plurality of substrates are manufactured by using a rubbing processing device including a positioning mechanism that positions each substrate to be processed at a different position on the stage. Even when the substrate is rubbed continuously, it does not cause display unevenness when the substrate having the alignment film formed on the surface is rubbed, thereby improving the yield in the manufacture of the liquid crystal display device and the mass substrate. An advantageous effect that continuous rubbing treatment can be achieved and productivity can be dramatically improved is obtained.
また、本実施の形態3においては、実施の形態1のラビング処理装置をラビング工程に用いた液晶表示装置の製造方法について説明した。然しながら実施の形態1のラビング処理装置に代えて他の実施の形態2及び実施の形態1で説明した変形例のラビング処理装置を用いた場合においても本実施の形態3と同様の効果を得ることができる。 In the third embodiment, the method for manufacturing a liquid crystal display device using the rubbing apparatus of the first embodiment for the rubbing process has been described. However, the same effects as those of the third embodiment can be obtained even when the rubbing processing device according to the second and second embodiments is used instead of the rubbing processing device of the first embodiment. Can do.
1,1a,1b 基板、2 ステージ、6 ラビングローラ、10 位置決め機構、200 液晶表示装置、212,222 配向膜。 1, 1a, 1b Substrate, 2 stage, 6 rubbing roller, 10 positioning mechanism, 200 liquid crystal display device, 212, 222 alignment film.
Claims (10)
複数の前記基板を連続してラビング処理する場合において、処理する基板毎に前記ステージ上の異なる位置に位置決めする位置決め機構を備えたことを特徴とするラビング処理装置。 A stage for holding a substrate having an alignment film formed on the surface; and a rubbing roller for rubbing the alignment film surface. The rubbing roller is fixed and rotated at a desired angle with respect to the longitudinal direction of the substrate. A rubbing apparatus that moves the substrate and the stage relative to the rubbing roller in a predetermined direction and performs a rubbing process on the alignment film surface formed on the surface of the substrate held on the stage,
A rubbing processing apparatus comprising: a positioning mechanism that positions each substrate to be processed at a different position on the stage when a plurality of the substrates are sequentially rubbed.
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