JP2008244293A - 半導体装置の設計方法及び製造方法並びにソフトウエア - Google Patents
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Abstract
【課題】 半導体装置の設計方法、これを用いた製造方法、および、コンピューターを3次元シミュレータとして機能させるためのソフトウエアを提供ことである。
【解決手段】半導体基板と、前記半導体基板上に容量、抵抗、インダクタンス成分を持つ配線を有する半導体装置の設計方法であって、前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方法をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、前記容量、配線、インダクタンス成分を算出する半導体装置の設計方法が提供される。
【選択図】図1
【解決手段】半導体基板と、前記半導体基板上に容量、抵抗、インダクタンス成分を持つ配線を有する半導体装置の設計方法であって、前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方法をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、前記容量、配線、インダクタンス成分を算出する半導体装置の設計方法が提供される。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置の設計方法、これを用いた製造方法、および、コンピューターをシミュレータとして機能させるためのソフトウエアに関し、特に、半導体素子の配線の容量、抵抗、インダクタンスを考慮した半導体装置の設計方法、これを用いた製造方法、および、コンピューターをシミュレータとして機能させるためのソフトウエアに関する。
半導体技術の複雑化、多様化が進むにつれて、シミュレーションによる素子特性の解析技術が注目されるようになってきた。なかでも、配線の容量、抵抗、インダクタンス(以下、RLCと称する)抽出ツールについては、様々な提案がなされている。例えば、特許文献1には、プロセスシミュレーションより得られる2次元断面に、デバイスシミュレーションより得られる半導体の諸特性を加えて断面形状を詳細に再現することにより、半導体素子の電気特性を評価する技術が開示されている。
特許文献1は、2次元断面上での素子解析技術に関するものであるが、素子の微細化、形状の複雑化に伴い3次元での素子解析技術についての要求も大きくなってきた。3次元のRLC抽出ツールにおいては、配線の形状入力機能の良否が性能を大きく左右する。 3次元RLC抽出ツールの最も一般的な形状入力方法として、矩形を組み合わせた単純な配線形状を手入力する方法がある。しかしながら、この方法においては、半導体の製造工程に即したリアルな形状を再現することが難しく、「えぐれ」や「くぼみ」といった形状を電気的特性の予測に反映させることができない。また、複雑な形状を入力する場合の作業量が膨大なものとなり、半導体素子の形状の複雑化に対応することが難しい。
別の3次元形状入力方法として、3次元のプロセスデバイスシミュレーションを用いて、レイアウトパターンから3次元の配線形状を算出方法もある。これは、プロセスデバイスシミュレーションと呼ばれ、設計値による描画データに実際のプロセスと加工および成膜等のプロセスモデルのデータを加算することで、完成する形状を予測する方法である。この方法においては、ある程度のリアルさを再現することが可能である。しかしながら、現状での3次元プロセスデバイスシミュレータは、2次元のシミュレータに比べ、加工や成膜のモデルが貧弱なため、複雑な3次元形状を再現することが困難な上、計算時間も膨大となり、計算精度や計算速度の両面において満足できるものではない。
これに対して、特許文献2には、マスクデータから半導体素子の特性シミュレートを行うためのパラメータを抽出し、正確な3次元形状を再現する技術、すなわち、マスクデータを高さ情報に基づき高さ方向に引き伸ばすことにより、正確な3次元形状を自動生成する方法が開示されている。マスクデータから実際の加工を再現するという方法は先述した3次元プロセスシミュレーションの算出方法と同様の過程を経ることとなり、同様の問題点を抱えることとなる。
特開2001−28405
特開2000−207433
本発明は、半導体装置の設計方法、これを用いた製造方法、および、コンピューターを3次元シミュレータとして機能させるためのソフトウエアを提供する。
本発明の一態様によれば、
半導体基板と、前記半導体基板上に配線を有する半導体装置の設計方法であって、
前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、
前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、前記配線の立体的な形状を算出することを特徴とする半導体装置の設計方法が提供される。
半導体基板と、前記半導体基板上に配線を有する半導体装置の設計方法であって、
前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、
前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、前記配線の立体的な形状を算出することを特徴とする半導体装置の設計方法が提供される。
また、本発明の他の一態様によれば、
半導体基板と、前記半導体基板上に容量、抵抗、インダクタンス成分を持つ配線を有する半導体装置の設計方法であって、
前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、
前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、前記容量、配線、インダクタンス成分を算出する半導体装置の設計方法が提供される。
半導体基板と、前記半導体基板上に容量、抵抗、インダクタンス成分を持つ配線を有する半導体装置の設計方法であって、
前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、
前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、前記容量、配線、インダクタンス成分を算出する半導体装置の設計方法が提供される。
また、本発明の他の一態様によれば、
半導体基板と、前記半導体基板上に容量、抵抗、インダクタンス成分を持つ配線を有する半導体装置の製造方法であって、
前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前期半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、
前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、算出される前記容量、配線、インダクタンス成分が最適値となるように、前記配線層のサイズおよびプロセスを調整する半導体装置の製造方法が提供される。
半導体基板と、前記半導体基板上に容量、抵抗、インダクタンス成分を持つ配線を有する半導体装置の製造方法であって、
前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前期半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、
前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、算出される前記容量、配線、インダクタンス成分が最適値となるように、前記配線層のサイズおよびプロセスを調整する半導体装置の製造方法が提供される。
さらに、本発明の他の一態様によれば、
コンピュータに、
半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、前記Y−Z断面の形状を算出するステップと、
前記Y−Z断面の形状より、第1の配線のZ方向の厚みS1と第2の配線のZ方向の厚みS2を抽出するステップと、
前記第1の配線の前記X−Z断面の形状を算出する手ステップと、
前記第1の配線の前記X−Z断面の物性データを読み取るステップと、
前記第2の配線の前記X−Z断面の形状を算出するステップと、
前記第2の配線の前記X−Z断面の物性データを読み取るステップと、
前記厚みS1と前記第1の配線のX−Z断面の形状より、前記第1の配線の3次元形状を算出するステップと、
前記厚みS2と前記第2の配線のX−Z断面の形状より、前記第2の配線の3次元形状を算出するステップと、
前記第1の配線の3次元形状と前記第2の配線の3次元形状を足し合わせ、任意の領域の3次元形状を算出するステップと、
前記厚みS1と前記第1の配線の前記X−Z断面の物性データより、第1の配線の3次元形状に対する物性データを算出するステップと、
前記厚みS2と前記第2の配線の前記X−Z断面の物性データより、第2の配線の3次元形状に対する物性データを算出するステップと、
前記第1の配線の3次元形状に対する物性データと前記第2の配線の3次元形状に対する物性データとを足し合わせ、任意の領域の3次元形状に対する物性データを算出するステップと、
前記任意の領域の3次元形状に対する物性データより、任意の領域の容量、抵抗、インダクタンス成分を算出するステップと、
を実行させるソフトウエアが提供される。
コンピュータに、
半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、前記Y−Z断面の形状を算出するステップと、
前記Y−Z断面の形状より、第1の配線のZ方向の厚みS1と第2の配線のZ方向の厚みS2を抽出するステップと、
前記第1の配線の前記X−Z断面の形状を算出する手ステップと、
前記第1の配線の前記X−Z断面の物性データを読み取るステップと、
前記第2の配線の前記X−Z断面の形状を算出するステップと、
前記第2の配線の前記X−Z断面の物性データを読み取るステップと、
前記厚みS1と前記第1の配線のX−Z断面の形状より、前記第1の配線の3次元形状を算出するステップと、
前記厚みS2と前記第2の配線のX−Z断面の形状より、前記第2の配線の3次元形状を算出するステップと、
前記第1の配線の3次元形状と前記第2の配線の3次元形状を足し合わせ、任意の領域の3次元形状を算出するステップと、
前記厚みS1と前記第1の配線の前記X−Z断面の物性データより、第1の配線の3次元形状に対する物性データを算出するステップと、
前記厚みS2と前記第2の配線の前記X−Z断面の物性データより、第2の配線の3次元形状に対する物性データを算出するステップと、
前記第1の配線の3次元形状に対する物性データと前記第2の配線の3次元形状に対する物性データとを足し合わせ、任意の領域の3次元形状に対する物性データを算出するステップと、
前記任意の領域の3次元形状に対する物性データより、任意の領域の容量、抵抗、インダクタンス成分を算出するステップと、
を実行させるソフトウエアが提供される。
本発明によれば、半導体素子の3次元形状をリアルに再現することが可能となる。また、製造工程にシミュレーション結果を随時フィードバックすることにより、コストの削減が可能となる。さらに、計算機の計算能力を上げることなく、複雑な3次元形状を有する半導体素子のRLC抽出の計算が可能となる。
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態にかかる配線形状の再現方法ついて説明する。
図1は、本発明の第1の実施の形態にかかる配線形状の再現方法を表した、概念図である。
図中には、NAND型フラッシュメモリの3次元形状を再現するためのデバイスシミュレーションのモデルを表す。 図に表すように、シリコン基板表面に水平な方向にX軸、Y軸をとり、これと垂直な方向にZ軸をとる。このとき、X−Z方向の断面形状を求め、この断面形状がY軸方向に連続して存在する範囲(yt≦y≦yt+1)を指定して3次元化する。すなわち、断面形状1aと断面形状1bは同じ形状を有することになる。このように、同じ断面形状を有する範囲で、2次元断面の3次元化を行う。図中に表すRLC抽出計算領域内で、同じ断面形状を有する1つまたは複数の範囲を指定して3次元化を行い、得られた配線形状を足し合わせることにより配線形状を再現し、RLC抽出計算を行う。
図1は、本発明の第1の実施の形態にかかる配線形状の再現方法を表した、概念図である。
図中には、NAND型フラッシュメモリの3次元形状を再現するためのデバイスシミュレーションのモデルを表す。 図に表すように、シリコン基板表面に水平な方向にX軸、Y軸をとり、これと垂直な方向にZ軸をとる。このとき、X−Z方向の断面形状を求め、この断面形状がY軸方向に連続して存在する範囲(yt≦y≦yt+1)を指定して3次元化する。すなわち、断面形状1aと断面形状1bは同じ形状を有することになる。このように、同じ断面形状を有する範囲で、2次元断面の3次元化を行う。図中に表すRLC抽出計算領域内で、同じ断面形状を有する1つまたは複数の範囲を指定して3次元化を行い、得られた配線形状を足し合わせることにより配線形状を再現し、RLC抽出計算を行う。
図2は、配線を単純な矩形として、形状を手入力する方法(矩形入力方法)により得られた3次元形状を表す、模式図である。
この入力方法を用いると、配線2は全て角柱で表される。しかしながら、実際の配線形状は、角部に「丸まり」が生じたり、製造工程において発生する「えぐれ」や「くぼみ」を有する。矩形入力方法では、これらの形状をリアルに再現することができない。 これに対して、図1に表す断面形状1aは、プロセスデバイスシミュレーションにより算出するため、プロセスシミュレーションによるリソグラフィー、不純物注入、酸化、拡散当のモデルと、デバイスシミュレーションによる成膜、エッチングのモデルが加味される。これにより、断面形状1aは、実際の断面形状に近い断面形状を再現することができる。
この入力方法を用いると、配線2は全て角柱で表される。しかしながら、実際の配線形状は、角部に「丸まり」が生じたり、製造工程において発生する「えぐれ」や「くぼみ」を有する。矩形入力方法では、これらの形状をリアルに再現することができない。 これに対して、図1に表す断面形状1aは、プロセスデバイスシミュレーションにより算出するため、プロセスシミュレーションによるリソグラフィー、不純物注入、酸化、拡散当のモデルと、デバイスシミュレーションによる成膜、エッチングのモデルが加味される。これにより、断面形状1aは、実際の断面形状に近い断面形状を再現することができる。
図3は、実際の配線の断面写真(a)と、矩形入力方法で得られる配線(b)と、プロセスデバイスシミュレーションを用いて得られる配線(c)とを比較した、模式断面図である。
図3(a)より、実際の配線断面にはSTI上に生じる「えぐれ」やONOの角部で生じる「丸まり」がはっきり表れている。
図3(b)の矩形入力方法より得られる2次元断面から得られる配線は、全て四角い形状で表されるため、「えぐれ」「丸まり」は再現されていない。これに対して、図3(c)に表すプロセスデバイスシミュレーションを用いて得られる2次元断面から得られる配線は、これらの形状がリアルに再現されている。
図1に表すように、図3(b)の2次元断面を用いて3次元化される配線形状は、従来の矩形入力法などで得られる配線形状に比べて、実際の形状に近いものになる。
図3(a)より、実際の配線断面にはSTI上に生じる「えぐれ」やONOの角部で生じる「丸まり」がはっきり表れている。
図3(b)の矩形入力方法より得られる2次元断面から得られる配線は、全て四角い形状で表されるため、「えぐれ」「丸まり」は再現されていない。これに対して、図3(c)に表すプロセスデバイスシミュレーションを用いて得られる2次元断面から得られる配線は、これらの形状がリアルに再現されている。
図1に表すように、図3(b)の2次元断面を用いて3次元化される配線形状は、従来の矩形入力法などで得られる配線形状に比べて、実際の形状に近いものになる。
次に、2次元断面から3次元化を行う過程について、詳しく説明する。
図4は本発明の第2の実施の形態にかかる配線形状の再現方法を表した、概念図である。
図中には、NANDフラッシュメモリのメモリセル部の斜視図が表されている。図1と同様に、シリコン基板表面に水平な方向にX軸とY軸をとり、高さ方向にZ軸がとってある。2次元断面としてX−Z方向断面を用い、Y軸方向に範囲指定して3次元化を行う場合を説明する。
図4に表すRLC抽出計算領域中には、断面1と断面2が存在する。断面1がS1(y1≦y≦y2)の範囲で連続的に存在し、断面2がS2(y2≦y≦y3)の範囲で連続的に存在し、RLC抽出計算領域中にはこれがコントロールゲート(CG)3つ分繰り返されている。従って、3次元化を行う場合には、断面1を範囲S1(y1≦y≦y2)で3次元化して得られる3次元形状と、断面2を範囲S2(y2≦y≦y3)で3次元化して得られる3次元形状とを足し合わせる。同様にして、RLC抽出計算領域(ymin≦y≦ymax)において3次元化すればよい。
図4は本発明の第2の実施の形態にかかる配線形状の再現方法を表した、概念図である。
図中には、NANDフラッシュメモリのメモリセル部の斜視図が表されている。図1と同様に、シリコン基板表面に水平な方向にX軸とY軸をとり、高さ方向にZ軸がとってある。2次元断面としてX−Z方向断面を用い、Y軸方向に範囲指定して3次元化を行う場合を説明する。
図4に表すRLC抽出計算領域中には、断面1と断面2が存在する。断面1がS1(y1≦y≦y2)の範囲で連続的に存在し、断面2がS2(y2≦y≦y3)の範囲で連続的に存在し、RLC抽出計算領域中にはこれがコントロールゲート(CG)3つ分繰り返されている。従って、3次元化を行う場合には、断面1を範囲S1(y1≦y≦y2)で3次元化して得られる3次元形状と、断面2を範囲S2(y2≦y≦y3)で3次元化して得られる3次元形状とを足し合わせる。同様にして、RLC抽出計算領域(ymin≦y≦ymax)において3次元化すればよい。
本実施の形態において、2次元断面としてX−Z方向断面を採用したが、Y−Z方向断面を2次元断面とし、X軸方向に範囲指定して3次元化を行うことも、もちろん可能である。3次元化を行う前に、X−Z方向断面とY−Z方向断面の双方をプロセスデバイスシミュレーションにより入手し、断面形状が複雑な方を2次元断面とする方がよい。本図で表すNANDフラッシュメモリのように、その違いがはっきりしている素子においては、より効果的である。また、NANDフラッシュメモリのフローティングゲート(FG)間の寄生容量を算出する場合は、着目セルとそれを取り囲むメモリセルについての計算ができればよいので、3×3個のメモリセルが存在する範囲を範囲指定してすることにより、必要な部分のみの計算を行うことができる。これは、計算時間の短縮や計算機への余計な負担も軽減でき、設計時間の短縮にも繋がる。
Y軸方向の3次元形状についても、3次元化の範囲の与え方を工夫することで、よりリアルな形状に近づけることができる。
図5は、本発明の第3の実施の形態にかかる配線形状の再現方法を表した、概念図である。
図中には、図4で表したコントロールゲート(CG)1がY方向に拡大して表されている。すなわち、範囲S1(y1≦y≦y2)の部分のみが表されている。実際の半導体素子には、X方向に見られた「えぐれ」「くぼみ」「丸まり」などがY方向にも存在する。これらの形状は、3次元化する際のY方向の範囲を細かく指定することにより再現することができる。
図5は、本発明の第3の実施の形態にかかる配線形状の再現方法を表した、概念図である。
図中には、図4で表したコントロールゲート(CG)1がY方向に拡大して表されている。すなわち、範囲S1(y1≦y≦y2)の部分のみが表されている。実際の半導体素子には、X方向に見られた「えぐれ」「くぼみ」「丸まり」などがY方向にも存在する。これらの形状は、3次元化する際のY方向の範囲を細かく指定することにより再現することができる。
図中に表すコントロールゲート(CG)は、その角部で「丸まり」が見られる。この「丸まり」が発生する範囲Sm(y1≦y≦ym)と範囲Sn(yn≦y≦y2)を指定し、この領域では細かく区切りながら3次元化を行う。この領域以外の範囲(ym≦y≦yn)では断面形状は連続的になるため、範囲Smと範囲Snのように細かく区切りながら3次元化する必要はない。このようにして得られる3次元形状を足し合わせることで、よりリアルな3次元形状を再現することが可能となる。
細かく3次元化する領域としない領域は、プロセスデバイスシミュレーションで得られるY方向の断面から指定することができる。もしくは、設計値より経験的に判断して指定することもできる。もちろん、コントロールゲート(CG)、フローティングゲート(FG)、STIなど、部位毎にそれぞれ範囲を変えることも可能である。
細かく3次元化する領域としない領域は、プロセスデバイスシミュレーションで得られるY方向の断面から指定することができる。もしくは、設計値より経験的に判断して指定することもできる。もちろん、コントロールゲート(CG)、フローティングゲート(FG)、STIなど、部位毎にそれぞれ範囲を変えることも可能である。
図6は、本発明の第4の実施の形態にかかる配線形状の再現方法を表した、概念図である。
図中には、図4と同様のNANDフラッシュメモリのメモリセル部が表されている。図中に表すRLC抽出計算領域に存在する配線形状を3次元化する手順として、まず、X−Z断面1をY方向に3次元化し、次いで、Y−Z断面2をX方向に3次元化する。そして、それぞれの3次元形状を比較して最終の3次元形状を決定する。このように、双方向に3次元化することによりお互いの情報を補完することにより、より複雑な形状を再現することが可能となる。Y−Z断面2をX方向に3次元化する場合も、先に説明した第1および第2の実施の形態を任意に採用することができる。
図中には、図4と同様のNANDフラッシュメモリのメモリセル部が表されている。図中に表すRLC抽出計算領域に存在する配線形状を3次元化する手順として、まず、X−Z断面1をY方向に3次元化し、次いで、Y−Z断面2をX方向に3次元化する。そして、それぞれの3次元形状を比較して最終の3次元形状を決定する。このように、双方向に3次元化することによりお互いの情報を補完することにより、より複雑な形状を再現することが可能となる。Y−Z断面2をX方向に3次元化する場合も、先に説明した第1および第2の実施の形態を任意に採用することができる。
上記第1から4の実施の形態にかかる配線形状の再現方法により再現された配線の電気的特性の計算方法について、以下に説明する。
図7は、本発明の実施の形態にかかるRLC抽出計算方法を表した、フローチャートである。
このフローチャートは、図4に表したフラッシュメモリのRLC抽出計算を例に説明したものである。
まず、RLC抽出計算領域のY−Z方向の断面形状を算出する(ステップ1)。このとき、プロセスデバイスシミュレーションを用いて断面形状を得る方法以外にも、設計値より断面形状を類推する方法を用いても構わない。
次に、ステップ1で求めた断面形状より、コントロールゲート(CG)が存在する領域S1(y1≦y≦y2)と、コントロールゲートが存在しない領域S2(y2≦y≦y3)とを抽出する(ステップ2)。
次に、ステップ2で求めた領域S1のX−Z断面1と、領域S2のX−Z断面2とを算出する(ステップ3)。この計算は、プロセスデバイスシミュレーションによって行う。 次に、ステップ3で求めたそれぞれの断面形状について、座標データと物性データを読み取る(ステップ4、ステップ5)。
次に、ステップ3で求めた断面形状1および2を、領域S1(y1≦y≦y2)と領域S2(y2≦y≦y3)の範囲を指定して3次元化し、3次元化された形状に対する座標データおよび物性データを足し合わせる。同様の手順で、RLC抽出計算領域中の配線について足し合わせて、この領域の3次元形状を算出する(ステップ6)。
最後に、ステップ6で求めたRLC抽出計算領域の3次元形状に対する容量、抵抗、インダクタンスを成分を算出する(ステップ7)。
コンピュータに上記ステップを実行させることにより、より実測値に近いRLC抽出計算結果を得ることが可能となる。
図7は、本発明の実施の形態にかかるRLC抽出計算方法を表した、フローチャートである。
このフローチャートは、図4に表したフラッシュメモリのRLC抽出計算を例に説明したものである。
まず、RLC抽出計算領域のY−Z方向の断面形状を算出する(ステップ1)。このとき、プロセスデバイスシミュレーションを用いて断面形状を得る方法以外にも、設計値より断面形状を類推する方法を用いても構わない。
次に、ステップ1で求めた断面形状より、コントロールゲート(CG)が存在する領域S1(y1≦y≦y2)と、コントロールゲートが存在しない領域S2(y2≦y≦y3)とを抽出する(ステップ2)。
次に、ステップ2で求めた領域S1のX−Z断面1と、領域S2のX−Z断面2とを算出する(ステップ3)。この計算は、プロセスデバイスシミュレーションによって行う。 次に、ステップ3で求めたそれぞれの断面形状について、座標データと物性データを読み取る(ステップ4、ステップ5)。
次に、ステップ3で求めた断面形状1および2を、領域S1(y1≦y≦y2)と領域S2(y2≦y≦y3)の範囲を指定して3次元化し、3次元化された形状に対する座標データおよび物性データを足し合わせる。同様の手順で、RLC抽出計算領域中の配線について足し合わせて、この領域の3次元形状を算出する(ステップ6)。
最後に、ステップ6で求めたRLC抽出計算領域の3次元形状に対する容量、抵抗、インダクタンスを成分を算出する(ステップ7)。
コンピュータに上記ステップを実行させることにより、より実測値に近いRLC抽出計算結果を得ることが可能となる。
これまで、本発明の実施の形態について図面を用いて説明してきたが、本発明はこれらの実施の形態の限りではない。例えばNAND型フラッシュメモリのみならず他の半導体デバイス、さらには液晶デバイスへの適用も可能である。また、本発明によれば半導体素子の3次元形状をリアルに再現することが可能となるので、RLC抽出のみならず、3次元的なデバイスシミュレーションにも応用できる。また、製造工程にシミュレーション結果を随時フィードバックすることにより、コストの削減が可能となる。
1、1a、1b、2 断面図
3 配線
3 配線
Claims (6)
- 半導体基板と、前記半導体基板上に配線を有する半導体装置の設計方法であって、
前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、
前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、前記配線の立体的な形状を算出することを特徴とする半導体装置の設計方法。 - 半導体基板と、前記半導体基板上に容量、抵抗、インダクタンス成分を持つ配線を有する半導体装置の設計方法であって、
前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、
前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、前記容量、配線、インダクタンス成分を算出することを特徴とする半導体装置の設計方法。 - 前記Y−Z方向の断面形状を求め、これより3次元化する際の前記Y方向の範囲を決定することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置の設計方法。
- 前記Y−Z方向の断面形状より、前記X−Z方向の断面形状中に存在する任意の配線が連続して存在する端部をそれ以外の部分よりも細かく3次元化することを特徴とする請求項3記載の半導体装置の設計方法。
- 半導体基板と、前記半導体基板上に容量、抵抗、インダクタンス成分を持つ配線を有する半導体装置の製造方法であって、
前記半導体基板に水平な1方向をX方向、前期半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、
前記X−Z方向の断面形状を求め、前記Y方向の範囲を指定して3次元化することにより得られる形状をモデルとし、算出される前記容量、配線、インダクタンス成分が最適値となるように、前記配線層のサイズおよびプロセスを調整することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - コンピュータに、
半導体基板に水平な1方向をX方向、前記半導体基板と水平で前記X方向に対して垂直な方向をY方向、前記半導体基板に垂直な方向をZ方向としたとき、前記Y−Z断面の形状を算出するステップと、
前記Y−Z断面の形状より、第1の配線のZ方向の厚みS1と第2の配線のZ方向の厚みS2を抽出するステップと、
前記第1の配線の前記X−Z断面の形状を算出するステップと、
前記第1の配線の前記X−Z断面の物性データを読み取るステップと、
前記第2の配線の前記X−Z断面の形状を算出するステップと、
前記第2の配線の前記X−Z断面の物性データを読み取るステップと、
前記厚みS1と前記第1の配線のX−Z断面の形状より、前記第1の配線の3次元形状を算出するステップと、
前記厚みS2と前記第2の配線のX−Z断面の形状より、前記第2の配線の3次元形状を算出するステップと、
前記第1の配線の3次元形状と前記第2の配線の3次元形状を足し合わせ、任意の領域の3次元形状を算出するステップと、
前記厚みS1と前記第1の配線の前記X−Z断面の物性データより、第1の配線の3次元形状に対する物性データを算出するステップと、
前記厚みS2と前記第2の配線の前記X−Z断面の物性データより、第2の配線の3次元形状に対する物性データを算出するステップと、
前記第1の配線の3次元形状に対する物性データと前記第2の配線の3次元形状に対する物性データとを足し合わせ、任意の領域の3次元形状に対する物性データを算出するステップと、
前記任意の領域の3次元形状に対する物性データより、任意の領域の容量、抵抗、インダクタンス成分を算出するステップと、
を実行させることを特徴とするソフトウエア。
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