JP2008243650A - Organic electroluminescent device - Google Patents

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JP2008243650A JP2007083682A JP2007083682A JP2008243650A JP 2008243650 A JP2008243650 A JP 2008243650A JP 2007083682 A JP2007083682 A JP 2007083682A JP 2007083682 A JP2007083682 A JP 2007083682A JP 2008243650 A JP2008243650 A JP 2008243650A
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Kozo Shimokami
耕造 下神
Tsukasa Ota
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device wherein heat generated in an organic EL element can be efficiently released by improving a structure on the element substrate side. <P>SOLUTION: In the element substrate 10 of the organic EL device 1, a heat dissipating layer 8 having thermal conductivity higher than that of a barrier rib 5 is formed in both end parts 100e, 100f in the longitudinal direction of a pixel region 100, and the heat dissipating layer 8 projects upward from the upper end face of the barrier rib 5. In addition, a part of an negative electrode layer 12 is superposed on the upper end face of the heat dissipating layer 8. Therefore, heat generated in an organic functional layer 20 can be efficiently released through a sealing substrate 9. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、隔壁で囲まれた領域内に有機機能層を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置(以下、「エレクトロルミネッセンス」を「EL」という)に関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescence device (hereinafter, “electroluminescence” is referred to as “EL”) having an organic functional layer in a region surrounded by a partition wall.

有機EL装置は、図10(a)、(b)に全体の断面および画素領域の断面を示すように、素子基板10上で隔壁5で囲まれた画素領域100内に、画素電極11(陽極層)と、正孔注入輸送層21および発光層22を備えた有機機能層20と、陰極層12とが順に積層された有機EL素子2を備えた構造を有している。有機機能層20は、例えば、有機蛍光材料等を溶剤(分散媒も含む)に溶解、分散させた液状組成物を素子基板10上にインクジェット法により吐出した後、固化させることにより形成され、隔壁5は、液状組成物を吐出する際、所定領域から液状組成物がはみ出ることを阻止するバンクとして機能する。また、素子基板10において有機EL素子2が形成された側の面には封止基板9が対向配置され、封止基板9と素子基板10とは、その全面あるいは外周側に塗布された封止樹脂90により貼り合わされる。   As shown in FIGS. 10A and 10B, the organic EL device includes a pixel electrode 11 (anode) in the pixel region 100 surrounded by the partition wall 5 on the element substrate 10 as shown in the entire cross section and the cross section of the pixel region. Layer), an organic functional layer 20 including a hole injecting and transporting layer 21 and a light emitting layer 22, and a cathode layer 12 are sequentially stacked. The organic functional layer 20 is formed, for example, by discharging a liquid composition in which an organic fluorescent material or the like is dissolved and dispersed in a solvent (including a dispersion medium) onto the element substrate 10 by an ink jet method and then solidifying the liquid composition. No. 5 functions as a bank that prevents the liquid composition from protruding from a predetermined region when the liquid composition is discharged. In addition, a sealing substrate 9 is disposed opposite to the surface of the element substrate 10 on which the organic EL element 2 is formed, and the sealing substrate 9 and the element substrate 10 are sealed on the entire surface or the outer peripheral side. Bonded with resin 90.

このように構成した有機EL装置においては、有機EL素子2を駆動すると発熱するため、有機EL装置の信頼性を向上するには、有機EL素子2で発生した熱を効率よく逃がす必要がある。そこで、熱伝導性の高い封止部材を用いた構造や、封止基板を2層とした構造が提案されている(特許文献1、2参照)。
特開2004−119277号公報 特開2005−317346号公報
In the organic EL device configured as described above, heat is generated when the organic EL element 2 is driven. Therefore, in order to improve the reliability of the organic EL device, it is necessary to efficiently release the heat generated in the organic EL element 2. Therefore, a structure using a sealing member with high thermal conductivity and a structure with two sealing substrates are proposed (see Patent Documents 1 and 2).
JP 2004-119277 A JP 2005-317346 A

しかしながら、有機EL装置においては封止部材の熱伝導性を高めても、有機EL素子2から封止材料に向かう途中での熱伝導が低いため、有機EL素子2で発生した熱を効率よく逃がすことができないという問題点がある。   However, in the organic EL device, even if the thermal conductivity of the sealing member is increased, the heat conduction on the way from the organic EL element 2 to the sealing material is low, so that the heat generated in the organic EL element 2 is efficiently released. There is a problem that can not be.

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、素子基板側の構造を改良して、有機EL素子で発生した熱を効率よく逃がすことのできる有機EL装置を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an organic EL device that can efficiently release heat generated in an organic EL element by improving the structure on the element substrate side.

上記課題を解決するために、本発明では、隔壁で囲まれた画素領域内に第1の電極層、少なくとも発光層を備えた有機機能層、および第2の電極層が順に積層された有機EL素子が形成された素子基板を備えた有機EL装置において、前記画素領域内における前記第2の電極層の下層側には、前記有機機能層上の一部に前記隔壁より熱伝導性の高い放熱層が積層されていることを特徴とする。   In order to solve the above problems, in the present invention, an organic EL in which a first electrode layer, an organic functional layer including at least a light emitting layer, and a second electrode layer are sequentially stacked in a pixel region surrounded by a partition wall. In an organic EL device including an element substrate on which an element is formed, heat dissipation that is higher in thermal conductivity than the partition is partly on the organic functional layer on a lower layer side of the second electrode layer in the pixel region. It is characterized in that the layers are laminated.

本発明において、有機機能層で発生した熱は、まず、第2の電極層を介して放熱される。但し、第2の電極層において有機機能層と接している部分は隔壁の内側にあって、よほど厚さが厚くない限り、隔壁より低い位置にある。従って、第2の電極層において有機機能層と接している部分だけからの放熱だけでは、有機EL素子の温度上昇を十分に抑えることができない。しかるに本発明では、画素領域内における第2の電極層の下層側には、有機機能層上の一部に、隔壁より熱伝導性の高い放熱層が直接、積層されており、放熱層は、有機EL素子のうち、最も発熱する有機機能層に接している状態で、第2の電極層において有機機能層と接している部分より上方に位置する。従って、有機機能層で発生した熱は、放熱層を介して効率よく放熱される。それ故、有機EL素子の温度上昇を低く抑えることができるので、有機EL装置の信頼性を向上することができる。   In the present invention, the heat generated in the organic functional layer is first dissipated through the second electrode layer. However, the portion of the second electrode layer that is in contact with the organic functional layer is on the inner side of the partition wall, and is at a position lower than the partition wall unless the thickness is very large. Therefore, the temperature rise of the organic EL element cannot be sufficiently suppressed only by heat radiation from the portion of the second electrode layer that is in contact with the organic functional layer. However, in the present invention, on the lower layer side of the second electrode layer in the pixel region, a heat dissipation layer having higher thermal conductivity than the partition is directly laminated on a part of the organic functional layer. The organic EL element is positioned above the portion of the second electrode layer that is in contact with the organic functional layer in a state where it is in contact with the most functional organic functional layer. Therefore, the heat generated in the organic functional layer is efficiently radiated through the heat radiating layer. Therefore, since the temperature rise of the organic EL element can be kept low, the reliability of the organic EL device can be improved.

本発明において、前記放熱層は、前記画素領域内における端部に形成されていることが好ましい。画素領域では、その中央領域が有効発光領域として利用されることが多いことから、かかる有効発光領域を避けた領域に放熱層を配置すれば、有機EL素子からの出射光量を低下させずに放熱層を設けることができる。   In the present invention, it is preferable that the heat dissipation layer is formed at an end portion in the pixel region. In the pixel area, the central area is often used as an effective light emitting area. Therefore, if a heat dissipation layer is disposed in an area that avoids the effective light emitting area, heat is emitted without reducing the amount of light emitted from the organic EL element. A layer can be provided.

本発明において、前記放熱層は、タルク、雲母、セリサイト等の粘土鉱物や、酸化チタン、硫酸バリウム、カーボンブラックなどのフィラーが配合された樹脂、あるいはシリコン酸化物やシリコン窒化物などの無機絶縁材料などから構成されている。樹脂にフィラーを配合すれば、樹脂の熱伝導性を高めることができ、かつ、樹脂であれば、放熱層を厚く形成するのに適している。また、無機絶縁材料であれば、樹脂に比較して熱伝導性の高い放熱層を構成することができる。   In the present invention, the heat-dissipating layer is composed of a clay mineral such as talc, mica, and sericite, a resin containing a filler such as titanium oxide, barium sulfate, and carbon black, or an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride. It is composed of materials. If a filler is blended with the resin, the thermal conductivity of the resin can be increased, and if it is a resin, it is suitable for forming a thick heat dissipation layer. Moreover, if it is an inorganic insulating material, it can comprise a thermal radiation layer with high heat conductivity compared with resin.

本発明において、前記第2の電極層は、一部が前記放熱層の上端面に重なっていることが好ましい。このように構成すると、第2の電極層のうち、前記放熱層の上端面に重なっている部分は、有機機能層に直接、重なっている部分より高い位置にあるので、放熱性が高い。それ故、有機EL素子の温度上昇を低く抑えることができるので、有機EL装置の信頼性を向上することができる。   In this invention, it is preferable that a part of said 2nd electrode layer has overlapped with the upper end surface of the said thermal radiation layer. If comprised in this way, since the part which overlaps with the upper end surface of the said heat radiating layer among the 2nd electrode layers exists in a position higher than the part which has overlapped with the organic functional layer directly, heat dissipation is high. Therefore, since the temperature rise of the organic EL element can be kept low, the reliability of the organic EL device can be improved.

本発明において、前記放熱層は、前記隔壁の上端面より上方に突出していることが好ましい。このように構成すると、放熱層からの放熱性が向上するので、有機EL素子の温度上昇を低く抑えることができ、有機EL装置の信頼性を向上することができる。   In this invention, it is preferable that the said heat radiating layer protrudes upwards from the upper end surface of the said partition. If comprised in this way, since the heat dissipation from a thermal radiation layer will improve, the temperature rise of an organic EL element can be restrained low, and the reliability of an organic EL apparatus can be improved.

本発明において、前記素子基板において前記有機EL素子が形成されている側の面には封止基板が対向配置され、前記封止基板は、封止樹脂により前記素子基板と貼り合わされている構成を採用することができる。このように構成すると、有機機能層で発生した熱を、放熱層および第2の電極層を介して封止基板に逃がすことができるので、有機EL素子の温度上昇を低く抑えることができ、有機EL装置の信頼性を向上することができる。   In the present invention, a sealing substrate is disposed opposite to a surface of the element substrate on which the organic EL element is formed, and the sealing substrate is bonded to the element substrate with a sealing resin. Can be adopted. With this configuration, the heat generated in the organic functional layer can be released to the sealing substrate through the heat dissipation layer and the second electrode layer, so that the temperature rise of the organic EL element can be suppressed to a low level. The reliability of the EL device can be improved.

この場合、前記封止樹脂は、前記画素領域と重なる領域にも配置されていることが好ましい。画素領域と封止基板との間に封止樹脂が介在する場合には、窒素ガスなどの不活性ガスのみが介在する場合と比較して、有機機能層で発生した熱を、放熱層および第2の電極層を介して封止基板に効率よく逃がすことができる。   In this case, it is preferable that the sealing resin is also disposed in a region overlapping with the pixel region. When the sealing resin is interposed between the pixel region and the sealing substrate, the heat generated in the organic functional layer is reduced as compared with the case where only an inert gas such as nitrogen gas is interposed. It is possible to efficiently escape to the sealing substrate through the two electrode layers.

本発明では、前記封止樹脂において、前記画素領域のうち、少なくとも前記放熱層が形成されている部分に配置された樹脂部分はフィラーを含んでいることが好ましい。このように構成すると、有機機能層で発生した熱を、放熱層、第2の電極層、フィラーを含む樹脂部分を介して封止基板に効率よく逃がすことができる。   In the present invention, in the sealing resin, it is preferable that a resin portion disposed at least in a portion where the heat dissipation layer is formed in the pixel region includes a filler. If comprised in this way, the heat | fever which generate | occur | produced in the organic functional layer can be efficiently escaped to the sealing substrate through the resin part containing a thermal radiation layer, a 2nd electrode layer, and a filler.

本発明に係る有機EL装置を、封止基板側から光を出射するトップエミッション型として構成する場合、前記封止基板が透光性であって、前記封止樹脂において、前記画素領域のうち、少なくとも前記放熱層が形成されていない領域に配置された樹脂部分については透光性の樹脂材料を用いる。   When the organic EL device according to the present invention is configured as a top emission type that emits light from the sealing substrate side, the sealing substrate is translucent, and in the sealing resin, in the pixel region, A translucent resin material is used at least for the resin portion disposed in the region where the heat dissipation layer is not formed.

本発明において、前記素子基板において前記有機EL素子が形成されている側の面が封止基板と貼り合わされている場合、前記素子基板において前記放熱層が形成されている部分は、前記封止基板に接していることが好ましい。このように構成すると、有機機能層で発生した熱を、放熱層および第2の電極層を介して封止基板に熱伝導により効率よく逃がすことができる。   In the present invention, when the surface of the element substrate on which the organic EL element is formed is bonded to a sealing substrate, the portion of the element substrate where the heat dissipation layer is formed is the sealing substrate. It is preferable to touch. If comprised in this way, the heat | fever generate | occur | produced in the organic functional layer can be efficiently escaped by heat conduction to a sealing substrate via a thermal radiation layer and a 2nd electrode layer.

この場合、前記封止基板において、前記放熱層が形成されている部分と重なる部分に凹部が形成され、前記素子基板において前記放熱層が形成されている部分の上端部分は、前記凹部内に位置していることが好ましい。このように構成すると、放熱層が形成されている部分と封止基板との接触面積が広くなるので、有機機能層で発生した熱を、放熱層および第2の電極層を介して封止基板に熱伝導により効率よく逃がすことができる。   In this case, in the sealing substrate, a recess is formed in a portion overlapping the portion where the heat dissipation layer is formed, and an upper end portion of the portion where the heat dissipation layer is formed in the element substrate is located in the recess. It is preferable. If comprised in this way, since the contact area of the part in which the thermal radiation layer is formed, and a sealing substrate becomes large, the heat | fever which generate | occur | produced in the organic functional layer is sealed via a thermal radiation layer and a 2nd electrode layer. In addition, it can escape efficiently by heat conduction.

本発明において、前記有機機能層は、前記画素領域に配置された液状組成物を固化させることにより形成することができる。すなわち、本発明を適用した有機EL装置の製造方法では、少なくとも前記画素電極および前記隔壁を形成した後、前記有機機能層および前記陰極を形成する前に、前記隔壁で囲まれた画素領域に液状組成物を配置した後、固化させる工程を行って前記有機機能層を形成することを特徴とする。   In the present invention, the organic functional layer can be formed by solidifying a liquid composition disposed in the pixel region. That is, in the method of manufacturing an organic EL device to which the present invention is applied, after forming at least the pixel electrode and the partition, and before forming the organic functional layer and the cathode, liquid is applied to the pixel region surrounded by the partition. After the composition is disposed, the organic functional layer is formed by performing a solidifying step.

本発明に係る有機EL装置は、複写機などの画像形成装置のラインヘッドや、表示装置などといった電子機器に用いられる。   The organic EL device according to the present invention is used in an electronic apparatus such as a line head of an image forming apparatus such as a copying machine or a display device.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材に縮尺は実際のものとは異なるように表している。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings used for the following description, the scale of each layer and each member is shown to be different from the actual one in order to make each member large enough to be recognized on the drawing.

[実施の形態1]
(電気的構成)
図1は、本発明が適用される有機EL装置の一例としてのアクティブマトリクス型の有機EL表示装置の電気的構成を示すブロック図である。図1に示す有機EL装置1は、複数の走査線101と、走査線101に対して交差する方向に延びる複数の信号線102と、信号線102に並列に延びる複数の電源線103とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線101および信号線102の各交点付近に、後述する画素領域100が設けられている。信号線102には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオラインおよびアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路104が接続され、走査線101には、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査側駆動回路105が接続されている。画素領域100の各々には、走査線101を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ112と、このスイッチング用の薄膜トランジスタ112を介して信号線102から供給される画素信号を保持する保持容量130と、保持容量130によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ123と、この駆動用薄膜トランジスタ123を介して電源線103に電気的に接続したときに当該電源線103から駆動電流が流れ込む画素電極11(陽極層/第1の電極層)と、この画素電極11と陰極層12(第2の電極層)との間に挟まれた有機機能層20とが設けられている。ここで、画素電極11、有機機能層20および陰極層12は、有機EL素子2を構成している。
[Embodiment 1]
(Electrical configuration)
FIG. 1 is a block diagram showing an electrical configuration of an active matrix type organic EL display device as an example of an organic EL device to which the present invention is applied. The organic EL device 1 shown in FIG. 1 includes a plurality of scanning lines 101, a plurality of signal lines 102 extending in a direction intersecting the scanning lines 101, and a plurality of power supply lines 103 extending in parallel to the signal lines 102. In addition to having a wired configuration, a pixel region 100 described later is provided near each intersection of the scanning line 101 and the signal line 102. A data side driving circuit 104 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch is connected to the signal line 102, and a scanning side driving circuit 105 including a shift register and a level shifter is connected to the scanning line 101. Each pixel region 100 holds a switching thin film transistor 112 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 101, and a pixel signal supplied from the signal line 102 via the switching thin film transistor 112. The storage capacitor 130, the driving thin film transistor 123 to which the pixel signal held by the storage capacitor 130 is supplied to the gate electrode, and the power source line 103 when electrically connected to the power source line 103 through the driving thin film transistor 123. A pixel electrode 11 (anode layer / first electrode layer) through which a drive current flows from the line 103, and an organic functional layer 20 sandwiched between the pixel electrode 11 and the cathode layer 12 (second electrode layer) Is provided. Here, the pixel electrode 11, the organic functional layer 20, and the cathode layer 12 constitute the organic EL element 2.

かかる構成によれば、走査線101が駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ112がオンになると、そのときの信号線102の電位が保持容量130に保持され、該保持容量130に状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ123のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ123のチャネルを介して、電源線103から画素電極11に電流が流れ、さらに有機機能層20を介して陰極層12に電流が流れる。その結果、有機EL素子2は、これを流れる電流量に応じて発光する。   According to such a configuration, when the scanning line 101 is driven and the switching thin film transistor 112 is turned on, the potential of the signal line 102 at that time is held in the holding capacitor 130, and the holding capacitor 130 is driven according to the state. The on / off state of the thin film transistor 123 is determined. Then, current flows from the power supply line 103 to the pixel electrode 11 through the channel of the driving thin film transistor 123, and further current flows to the cathode layer 12 through the organic functional layer 20. As a result, the organic EL element 2 emits light according to the amount of current flowing therethrough.

(全体構造)
図2は、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置1の全体構成を示す縦断面図である。図2に示すように、本形態の有機EL装置1は、素子基板10上で隔壁で囲まれた画素領域100内に、画素電極11(陽極層/第1の電極層)と、正孔注入輸送層21および発光層22を備えた有機機能層20と、陰極層12(第2の電極層)とが順に積層された有機EL素子2を備えている。ここで、有機機能層20は、後述するように、有機蛍光材料等を溶剤(分散媒も含む)に溶解、分散させた液状組成物を素子基板10上にインクジェット法により吐出した後、固化させることにより形成され、隔壁5は、液状組成物を吐出する際、所定領域から液状組成物がはみ出ることを阻止するバンクとして機能する。また、素子基板10において有機EL素子2が形成された側の面には封止基板9が対向配置され、封止基板9と素子基板10とは、その全面塗布されたエポキシ樹脂などの封止樹脂90により貼り合わされている。
(Overall structure)
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing the overall configuration of the organic EL device 1 according to Embodiment 1 of the present invention. As shown in FIG. 2, the organic EL device 1 according to this embodiment includes a pixel electrode 11 (anode layer / first electrode layer) and hole injection in a pixel region 100 surrounded by a partition wall on an element substrate 10. An organic EL element 2 in which an organic functional layer 20 including a transport layer 21 and a light emitting layer 22 and a cathode layer 12 (second electrode layer) are sequentially stacked is provided. Here, as will be described later, the organic functional layer 20 is solidified after discharging a liquid composition in which an organic fluorescent material or the like is dissolved and dispersed in a solvent (including a dispersion medium) onto the element substrate 10 by an inkjet method. The partition wall 5 functions as a bank that prevents the liquid composition from protruding from a predetermined region when the liquid composition is discharged. A sealing substrate 9 is disposed opposite to the surface of the element substrate 10 on which the organic EL element 2 is formed. The sealing substrate 9 and the element substrate 10 are sealed with an epoxy resin or the like applied on the entire surface thereof. The resin 90 is bonded together.

(各画素領域の構成)
図3(a)、(b)、(c)は各々、本形態の実施の形態1に係る有機EL装置の画素領域1つ分の平面図、図3(a)のA1−A1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図、および図3(a)のB1−B1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図である。有機EL装置の回路部等の構造は周知であるため、その詳細説明は省略する。図3(a)、(b)、(c)に示すように、本形態の有機EL装置1の断面構造は概ね、素子基板10の表面側に、図1を参照して説明した配線や薄膜トランジスタが層間絶縁膜を介して形成された回路部3が形成されている。また、最上層の層間絶縁膜30上には、ITO等からなる透明な画素電極11が所定形状にパターニング形成され、画素電極11は、薄膜トランジスタ123に電気的に接続されている。
(Configuration of each pixel area)
FIGS. 3A, 3B, and 3C are respectively plan views of one pixel region of the organic EL device according to Embodiment 1 of the present embodiment, taken along line A1-A1 ′ in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a state where the pixel region is cut along the line, and a cross-sectional view schematically showing a state where the pixel region is cut along the line B1-B1 ′ of FIG. Since the structure of the circuit portion and the like of the organic EL device is well known, detailed description thereof is omitted. As shown in FIGS. 3A, 3B, and 3C, the cross-sectional structure of the organic EL device 1 of the present embodiment is generally on the surface side of the element substrate 10, and the wiring and thin film transistor described with reference to FIG. Is formed through an interlayer insulating film. A transparent pixel electrode 11 made of ITO or the like is patterned and formed in a predetermined shape on the uppermost interlayer insulating film 30, and the pixel electrode 11 is electrically connected to the thin film transistor 123.

画素電極11が形成されている領域は、画素領域100になっており、本形態では、長方形の平面形状を備えている。画素領域100において、画素電極11の上層には、シリコン酸化膜などからなる絶縁層6が形成されている。絶縁層6には、画素領域100の中央領域100d(有効画素領域/有効発光領域)において長手方向に沿って複数の開口部61が2列に形成されており、開口部61では、画素電極11の表面が露出している。   A region where the pixel electrode 11 is formed is a pixel region 100, and in this embodiment, has a rectangular planar shape. In the pixel region 100, an insulating layer 6 made of a silicon oxide film or the like is formed on the pixel electrode 11. In the insulating layer 6, a plurality of openings 61 are formed in two rows along the longitudinal direction in the central region 100 d (effective pixel region / effective light emitting region) of the pixel region 100. The surface of is exposed.

絶縁層6の上層には、画素領域100の周りを囲むように、例えば高さが0.1〜3.5μmのアクリル樹脂やポリイミド樹脂等からなる隔壁5が形成されており、隔壁5で囲まれた領域内には、第1の絶縁層6の上層側に有機機能層20が積層されている。有機機能層20の上層には、陰極層12が形成されており、画素電極11、有機機能層20および陰極層12によって有機EL素子2が構成されている。   On the insulating layer 6, a partition wall 5 made of, for example, an acrylic resin or a polyimide resin having a height of 0.1 to 3.5 μm is formed so as to surround the pixel region 100. In this region, an organic functional layer 20 is stacked on the upper layer side of the first insulating layer 6. A cathode layer 12 is formed on the organic functional layer 20, and the pixel electrode 11, the organic functional layer 20, and the cathode layer 12 constitute the organic EL element 2.

有機機能層20は、例えば、画素電極11上に積層された正孔注入輸送層21と、正孔注入輸送層21上に積層された発光層22とを備えている。なお、発光層22に隣接してその他の機能を有する他の有機機能層、例えば、インターレイアー層や電子輸送層を形成することもある。正孔注入輸送層21は、正孔を発光層22に注入する機能を有するとともに、正孔を輸送する機能を有する。発光層22では、正孔注入輸送層21から注入された正孔と、陰極層12から注入される電子が発光層で再結合し、発光が行われる。ここで、発光層22は、全ての画素領域100において白色光を出射する構成、あるいは、複数の画素領域100が対応する色毎に赤色(R)に発光する赤色発光層、緑色(G)に発光する緑色発光層、および青色(B)に発光する青色発光層として形成される。   The organic functional layer 20 includes, for example, a hole injection transport layer 21 stacked on the pixel electrode 11 and a light emitting layer 22 stacked on the hole injection transport layer 21. In addition, other organic functional layers having other functions, such as an interlayer layer or an electron transport layer, may be formed adjacent to the light emitting layer 22. The hole injection transport layer 21 has a function of injecting holes into the light emitting layer 22 and a function of transporting holes. In the light emitting layer 22, holes injected from the hole injecting and transporting layer 21 and electrons injected from the cathode layer 12 are recombined in the light emitting layer to emit light. Here, the light emitting layer 22 emits white light in all the pixel regions 100, or a red light emitting layer that emits red (R) for each color corresponding to the plurality of pixel regions 100, and green (G). The green light emitting layer that emits light and the blue light emitting layer that emits blue (B) are formed.

正孔注入輸送層21は、後述するように、正孔注入輸送層形成材料および溶媒(分散媒を含む)液状組成物を隔壁5の内側に吐出してから溶媒を除去して形成されたものである。発光層22も、発光層形成材料および溶媒(分散媒を含む)を含む液状組成物を隔壁5の内側に吐出してから溶媒を除去して形成されたものである。このようにして、正孔注入輸送層21および発光層22を形成する際、隔壁5は、液状組成物が外にはみ出ることを防止する機能を担っている。このため、隔壁5に対しては、CF4ガスを用いてのプラズマ処理を行い、隔壁5の撥水性を高めることもある。 The hole injecting and transporting layer 21 is formed by discharging a hole injecting and transporting layer forming material and a solvent (including a dispersion medium) liquid composition inside the partition wall 5 and then removing the solvent, as will be described later. It is. The light emitting layer 22 is also formed by discharging a liquid composition containing a light emitting layer forming material and a solvent (including a dispersion medium) to the inside of the partition wall 5 and then removing the solvent. Thus, when forming the positive hole injection transport layer 21 and the light emitting layer 22, the partition 5 has the function which prevents that a liquid composition protrudes outside. For this reason, the partition wall 5 may be subjected to plasma treatment using CF 4 gas to increase the water repellency of the partition wall 5.

陰極層12は、素子基板10の略全面、あるいは複数の画素領域100に跨るストライプ状に形成されており、画素電極11と対になって有機機能層20に電流を流す役割を果たす。陰極層12は、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。このとき、発光層に近い側の陰極には仕事関数が低いものを設けることが好ましい。本形態においては、陰極層12が発光層22に直接に接して発光層22に電子を注入する役割を果たしているが、発光層22の材料によっては発光効率を高めることを目的に、発光層22と陰極層12との間にLiFなどの電子注入層を形成する場合もある。   The cathode layer 12 is formed in a stripe shape over almost the entire surface of the element substrate 10 or across the plurality of pixel regions 100, and plays a role of flowing current through the organic functional layer 20 in pairs with the pixel electrode 11. The cathode layer 12 is configured by, for example, laminating a calcium layer and an aluminum layer. At this time, it is preferable to provide a cathode with a low work function on the side closer to the light emitting layer. In this embodiment, the cathode layer 12 is in direct contact with the light emitting layer 22 and plays a role of injecting electrons into the light emitting layer 22. Depending on the material of the light emitting layer 22, the light emitting layer 22 is intended to increase the light emission efficiency. An electron injection layer such as LiF may be formed between the cathode layer 12 and the cathode layer 12.

本形態の有機EL装置1は、例えば、素子基板10の側から光を出射するボトムエミッション型であり、陰極層12はAl(アルミニウム)などの反射材料から構成されている。従って、有機機能層20から素子基板10側に発した光は、回路部3および素子基板10を透過して素子基板10の下側(観測者側)に出射されるとともに、有機機能層20から素子基板10の反対側に発した光は、陰極層12により反射されて回路部3および素子基板10を透過して素子基板10の下側(観測者側)に出射されるようになっている。なお、陰極層12として、ITO、Pt、Ir、Ni、Pd、Alなどにより光透過可能な状態に形成し、かつ、画素電極11の下層側に反射層を形成すれば、陰極層12側から光を出射させるトップエミッション型として構成することができる。   The organic EL device 1 of this embodiment is, for example, a bottom emission type that emits light from the element substrate 10 side, and the cathode layer 12 is made of a reflective material such as Al (aluminum). Therefore, the light emitted from the organic functional layer 20 to the element substrate 10 side is transmitted through the circuit unit 3 and the element substrate 10 and emitted to the lower side (observer side) of the element substrate 10 and from the organic functional layer 20. The light emitted to the opposite side of the element substrate 10 is reflected by the cathode layer 12, passes through the circuit portion 3 and the element substrate 10, and is emitted to the lower side (observer side) of the element substrate 10. . If the cathode layer 12 is formed in a light transmissive state using ITO, Pt, Ir, Ni, Pd, Al or the like, and a reflective layer is formed on the lower layer side of the pixel electrode 11, the cathode layer 12 side It can be configured as a top emission type that emits light.

(各画素領域の詳細構成、および本形態の効果)
本形態の有機EL装置1において、画素領域100の長手方向における両端部100e、100fには、隔壁5より熱伝導性の高い放熱層8が形成されている。放熱層8は、中央領域100dからずれた領域に形成され、画素領域100内における陰極層12の下層側において、有機機能層20上に形成されている。かかる放熱層8は、タルク、雲母、セリサイト等の粘土鉱物や、酸化チタン、硫酸バリウム、カーボンブラックなどのフィラーが配合された樹脂、あるいはシリコン酸化物やシリコン窒化物などの無機絶縁材料などから構成されている。樹脂にフィラーを配合すれば、樹脂の熱伝導性を高めることができ、かつ、樹脂であれば、放熱層8を厚く形成するのに適している。また、無機絶縁材料であれば、樹脂に比較して熱伝導性の高い放熱層8を構成することができる。
(Detailed configuration of each pixel region and the effect of this embodiment)
In the organic EL device 1 of the present embodiment, the heat radiation layer 8 having higher thermal conductivity than the partition wall 5 is formed at both end portions 100e and 100f in the longitudinal direction of the pixel region 100. The heat dissipation layer 8 is formed in a region shifted from the central region 100 d and is formed on the organic functional layer 20 on the lower layer side of the cathode layer 12 in the pixel region 100. The heat dissipation layer 8 is made of a clay mineral such as talc, mica, or sericite, a resin containing a filler such as titanium oxide, barium sulfate, or carbon black, or an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride. It is configured. If a filler is blended in the resin, the thermal conductivity of the resin can be increased, and if it is a resin, it is suitable for forming the heat dissipation layer 8 thick. Moreover, if it is an inorganic insulating material, the thermal radiation layer 8 with high heat conductivity compared with resin can be comprised.

本形態において、放熱層8は、隔壁5の上端面より上方に突出しており、放熱層8の上端面には陰極層12の一部が重なっている。このため、陰極層12において有機機能層20に直接、積層している部分は、隔壁5の上端面より低い位置にあるが、陰極層12において放熱層8の上端面に積層している部分は、隔壁5の上端面より高い位置、すなわち、封止基板9に近い位置にある。本形態において、陰極層12において放熱層8の上端面に積層している部分は、封止基板9に接しておらず、封止基板9との間には、エポキシ樹脂などの封止樹脂90が介在している。   In this embodiment, the heat dissipation layer 8 projects upward from the upper end surface of the partition wall 5, and a part of the cathode layer 12 overlaps the upper end surface of the heat dissipation layer 8. For this reason, the portion of the cathode layer 12 directly laminated on the organic functional layer 20 is at a position lower than the upper end surface of the partition wall 5, but the portion of the cathode layer 12 laminated on the upper end surface of the heat dissipation layer 8 is , A position higher than the upper end surface of the partition wall 5, that is, a position close to the sealing substrate 9. In this embodiment, a portion of the cathode layer 12 laminated on the upper end surface of the heat dissipation layer 8 is not in contact with the sealing substrate 9, and a sealing resin 90 such as an epoxy resin is provided between the cathode substrate 12 and the sealing substrate 9. Is intervening.

このように本形態の有機EL装置1では、画素領域100の長手方向における両端部100e、100fには、隔壁5より熱伝導性の高い放熱層8が形成され、放熱層8は、隔壁5の上端面より上方に突出している。また、放熱層8の上端面には陰極層12の一部が重なっている。このため、有機EL素子2を駆動した際、有機機能層20で発生した熱は、陰極層12を介して封止基板9に逃げるが、本形態では、有機機能層20で発生した熱は、放熱層8および陰極層12を介しても封止基板9に逃げる。しかも、放熱層8は、隔壁5の上端面より上方に突出しているため、陰極層12において放熱層8の上端面に重なる部分も隔壁5の上端面より上方に位置し、封止基板9に近い。従って、本形態によれば、有機機能層20で発生した熱を、封止基板9を介して効率よく逃がすことができる。   As described above, in the organic EL device 1 according to the present embodiment, the heat radiation layer 8 having higher thermal conductivity than the partition wall 5 is formed at both ends 100e and 100f in the longitudinal direction of the pixel region 100. Projects upward from the upper end surface. A part of the cathode layer 12 overlaps the upper end surface of the heat dissipation layer 8. For this reason, when the organic EL element 2 is driven, the heat generated in the organic functional layer 20 escapes to the sealing substrate 9 through the cathode layer 12, but in this embodiment, the heat generated in the organic functional layer 20 is Also escapes to the sealing substrate 9 through the heat dissipation layer 8 and the cathode layer 12. Moreover, since the heat dissipation layer 8 protrudes upward from the upper end surface of the partition wall 5, the portion of the cathode layer 12 that overlaps the upper end surface of the heat dissipation layer 8 is also positioned above the upper end surface of the partition wall 5, close. Therefore, according to this embodiment, the heat generated in the organic functional layer 20 can be efficiently released through the sealing substrate 9.

また、素子基板10と封止基板9との間には封止樹脂90が介在するので、素子基板10からの熱の封止基板9に効率よく逃がすことができる。それ故、有機EL素子2の温度上昇を低く抑えることができるので、有機EL装置1の信頼性を向上することができる。   Further, since the sealing resin 90 is interposed between the element substrate 10 and the sealing substrate 9, heat from the element substrate 10 can be efficiently released to the sealing substrate 9. Therefore, since the temperature rise of the organic EL element 2 can be suppressed low, the reliability of the organic EL device 1 can be improved.

また、放熱層8は、画素領域100内における両端部100e、100fに形成されており、中央領域100d(有効発光領域)を避けた領域に形成されている。このため、有機EL素子2からの出射光量を低下させずに放熱層8を設けることができる。   The heat dissipation layer 8 is formed at both end portions 100e and 100f in the pixel region 100, and is formed in a region that avoids the central region 100d (effective light emitting region). For this reason, the heat radiation layer 8 can be provided without reducing the amount of light emitted from the organic EL element 2.

なお、本形態において、有機EL装置1がボトムエミッション型である場合、封止樹脂90として遮光性の樹脂材料を用いてもよい。ここで、封止樹脂90としてフィラーが配合されたものを用いれば、素子基板10からの熱の封止基板9に効率よく逃がすことができる。これに対して、有機EL装置1がトップエミッション型である場合、封止樹脂90としては透光性の樹脂材料を用いればよい。   In this embodiment, when the organic EL device 1 is a bottom emission type, a light shielding resin material may be used as the sealing resin 90. Here, if a material containing a filler is used as the sealing resin 90, heat from the element substrate 10 can be efficiently released to the sealing substrate 9. On the other hand, when the organic EL device 1 is a top emission type, a translucent resin material may be used as the sealing resin 90.

(液滴吐出ヘッドの構成)
図4(a)、(b)、(c)は各々、を製造する際に使用される液滴吐出ヘッドの内部構造を模式的に示す説明図、撓み振動モードの圧力発生素子の説明図、および縦振動モードの圧力発生素子の説明図である。
(Configuration of droplet discharge head)
4 (a), 4 (b), and 4 (c) are explanatory diagrams schematically showing the internal structure of a droplet discharge head used when manufacturing each, and an explanatory diagram of a pressure generating element in a flexural vibration mode. It is explanatory drawing of the pressure generating element of a longitudinal vibration mode.

本形態の有機EL装置1を製造するにあたっては、液滴吐出法を用いて正孔注入輸送層21および発光層22を形成する。その際には、図4(a)、(b)、(c)を参照して説明する液滴吐出ヘッドが用いられる。図4(a)に示すように、液滴吐出ヘッド322は、液滴として吐出する液状組成物Mを貯留しておくタンク状、カートリッジ状などの液状組成物貯留部337に接続されている。また、液滴吐出ヘッド322は、多数のノズル開口327を列状に並べることによって形成されたノズル列を備えている。このような液滴吐出ヘッド322において、そのノズル列が主走査方向と交差する副走査方向へ延びており、液滴吐出ヘッド322が主走査方向に移動する間に、液状組成物Mを複数のノズル開口327から選択的に吐出することにより、素子基板10上の所定位置に液滴M0を着弾させる。また、液滴吐出ヘッド322は副走査方向へ所定距離だけ平行移動することにより、液滴吐出ヘッド322による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。   In manufacturing the organic EL device 1 of this embodiment, the hole injection transport layer 21 and the light emitting layer 22 are formed using a droplet discharge method. In that case, a droplet discharge head described with reference to FIGS. 4A, 4B, and 4C is used. As shown in FIG. 4A, the droplet discharge head 322 is connected to a liquid composition storage unit 337 such as a tank shape or a cartridge shape for storing the liquid composition M discharged as droplets. The droplet discharge head 322 includes a nozzle row formed by arranging a large number of nozzle openings 327 in a row. In such a droplet discharge head 322, the nozzle row extends in the sub-scanning direction intersecting the main scanning direction, and the liquid composition M is transferred to the liquid composition M while the droplet discharging head 322 moves in the main scanning direction. By selectively discharging from the nozzle opening 327, the droplet M0 is landed at a predetermined position on the element substrate 10. Further, the droplet discharge head 322 can move the main scanning position by the droplet discharge head 322 at a predetermined interval by moving in parallel in the sub-scanning direction by a predetermined distance.

図4(a)、(b)に示すように、液滴吐出ヘッド322は、例えば、ステンレス製のノズルプレート329と、それに対向する弾性板331と、それらを互いに接合する複数の仕切部材332とを有している。ノズルプレート329と弾性板331との間には、仕切部材332によって複数の圧力発生室333および液溜り334が形成され、複数の圧力発生室333と液溜り334とは液状組成物流入口338を介して互いに連通している。弾性板331の適所には液状組成物供給穴336が形成され、この液状組成物供給穴336に液状組成物貯留部337が接続される。従って、液状組成物貯留部337は吐出されることとなる液状組成物Mを液状組成物供給穴336へ供給する。供給された液状組成物Mは液溜り334に充満し、さらに液状組成物流入口338を通って圧力発生室333に充満する。このようにして、液状組成物貯留部337と各圧力発生室333とが連通している。   As shown in FIGS. 4A and 4B, the droplet discharge head 322 includes, for example, a stainless steel nozzle plate 329, an elastic plate 331 facing the nozzle plate 329, and a plurality of partition members 332 that join them together. have. A plurality of pressure generation chambers 333 and liquid reservoirs 334 are formed between the nozzle plate 329 and the elastic plate 331 by the partition member 332, and the plurality of pressure generation chambers 333 and liquid reservoirs 334 are connected via the liquid composition flow inlet 338. Communicate with each other. A liquid composition supply hole 336 is formed at an appropriate position of the elastic plate 331, and the liquid composition reservoir 337 is connected to the liquid composition supply hole 336. Accordingly, the liquid composition reservoir 337 supplies the liquid composition M to be discharged to the liquid composition supply hole 336. The supplied liquid composition M fills the liquid reservoir 334 and further fills the pressure generating chamber 333 through the liquid composition flow inlet 338. In this way, the liquid composition reservoir 337 and each pressure generating chamber 333 communicate with each other.

ノズルプレート329には、圧力発生室333から液状組成物Mを液滴M0として噴射するためのノズル開口327が設けられており、そのノズル開口327が開口しているノズル形成面は平坦面とされている。このようにしてノズル開口327は、圧力発生室333で開口している。弾性板331の圧力発生室333を形成する面の裏面には、この圧力発生室333に対応させて圧力発生素子339が取り付けられている。この圧力発生素子339は、例えば、図4(b)に示すように、圧電素子341、およびこの圧電素子341を挟持する一対の電極342a、342bを備えたたわみ振動モードの圧電素子である。その振動方向を矢印Cで示す。なお、図4(c)に示すように、圧力発生素子339としては、縦振動モードの圧電素子を用いてもよい。この縦振動モードの圧電素子(圧力発生素子339)では、伸長方向に平行に圧電材料と導電材料を交互に積層して構成されており、その先端は弾性板331に固定され、他端は基台320に固定されている。このような圧力発生素子339では、充電状態では導電層の積層方向と直角な方向に収縮し、また充電状態が解かれると、導電層と直角な方向に伸長する。   The nozzle plate 329 is provided with a nozzle opening 327 for ejecting the liquid composition M as a droplet M0 from the pressure generating chamber 333, and the nozzle forming surface where the nozzle opening 327 is open is a flat surface. ing. In this way, the nozzle opening 327 is opened in the pressure generation chamber 333. A pressure generating element 339 is attached to the back surface of the elastic plate 331 forming the pressure generating chamber 333 so as to correspond to the pressure generating chamber 333. For example, as shown in FIG. 4B, the pressure generating element 339 is a piezoelectric element in a flexural vibration mode including a piezoelectric element 341 and a pair of electrodes 342 a and 342 b that sandwich the piezoelectric element 341. The vibration direction is indicated by an arrow C. As shown in FIG. 4C, the pressure generating element 339 may be a longitudinal vibration mode piezoelectric element. This longitudinal vibration mode piezoelectric element (pressure generating element 339) is configured by alternately laminating piezoelectric materials and conductive materials in parallel to the extending direction, with the tip fixed to an elastic plate 331 and the other end based on a base. It is fixed to the base 320. Such a pressure generating element 339 contracts in a direction perpendicular to the stacking direction of the conductive layers in the charged state, and extends in a direction perpendicular to the conductive layer when the charged state is released.

いずれの圧電素子を用いた場合も、電極間に印加される駆動信号によって変形し、圧力発生室333を膨張、収縮させる。なお、ノズル開口327の周辺部には、液滴M0の飛行曲がりやノズル開口327の穴詰まりなどを防止するために、例えばNi−テトラフルオロエチレン共析メッキ層からなる撥液層343が設けられる。   In any case, any piezoelectric element is deformed by a drive signal applied between the electrodes, and the pressure generating chamber 333 is expanded and contracted. In addition, a liquid repellent layer 343 made of, for example, a Ni-tetrafluoroethylene eutectoid plating layer is provided in the periphery of the nozzle opening 327 in order to prevent the flying of the droplet M0 and the clogging of the nozzle opening 327. .

(有機EL装置1の製造方法)
図5を参照して本形態の有機EL装置1の製造方法を説明する。図5(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置において、有機機能層20を形成する前の素子基板10の断面図、および画素領域1つ分の断面図である。
(Manufacturing method of the organic EL device 1)
A method for manufacturing the organic EL device 1 of the present embodiment will be described with reference to FIG. 5A and 5B are cross-sectional views of the element substrate 10 before forming the organic functional layer 20 and a cross-section corresponding to one pixel region in the organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention. FIG.

本形態の有機EL装置1を製造するにあたっては、まず、図5(a)、(b)に示すように、各種半導体プロセスなどを用いて回路部3を形成する。次に、層間絶縁膜30の上にITO膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いて、ITO膜をパターニングし、画素電極11を形成する。次に、画素電極11の上層に絶縁膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いて、絶縁膜をパターニングし、開口部61を備えた絶縁層6を形成する。次に、素子基板10の全面に、アクリル樹脂やポリイミド樹脂などの樹脂層をスピンコート法などで塗布した後、露光、現像し、隔壁5を同時形成する。この状態で、画素領域100は、隔壁5で囲まれた凹部100aになっている。   In manufacturing the organic EL device 1 of this embodiment, first, as shown in FIGS. 5A and 5B, the circuit unit 3 is formed using various semiconductor processes. Next, after an ITO film is formed on the interlayer insulating film 30, the ITO film is patterned by using a photolithography technique to form the pixel electrode 11. Next, after forming an insulating film on the upper layer of the pixel electrode 11, the insulating film is patterned by using a photolithography technique to form the insulating layer 6 including the opening 61. Next, a resin layer such as acrylic resin or polyimide resin is applied to the entire surface of the element substrate 10 by spin coating or the like, and then exposed and developed to form the partition walls 5 at the same time. In this state, the pixel region 100 is a concave portion 100 a surrounded by the partition wall 5.

次に、正孔注入輸送層形成液塗布工程では、図4を参照して説明した液滴吐出ヘッド322から正孔注入輸送層形成材料を含む液状組成物21aを凹部100a内に吐出する。このようにして吐出された液状組成物21aは、凹部100a内に着弾し、凹部100aの内部で両端部100e、100fにも広がる。ここで、液状組成物21aとしては、ポリオレフィン誘導体である3、4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)や、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、1、1−ビス−(4−N、N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサン等の正孔注入輸送層形成材料を極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、1、3−ジメチル−2−イミダゾリジノンおよびその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。   Next, in the hole injecting and transporting layer forming liquid application step, the liquid composition 21a containing the hole injecting and transporting layer forming material is discharged into the recess 100a from the droplet discharge head 322 described with reference to FIG. The liquid composition 21a discharged in this manner lands in the recess 100a and spreads to both end portions 100e and 100f within the recess 100a. Here, as the liquid composition 21a, 3,4-polyethylenediosithiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) which is a polyolefin derivative, polyphenylene vinylene whose polymer precursor is polytetrahydrothiophenylphenylene, 1, 1 A composition in which a hole injecting and transporting layer forming material such as -bis- (4-N, N-ditolylaminophenyl) cyclohexane is dissolved in a polar solvent can be used. Examples of the polar solvent include glycol ethers such as isopropyl alcohol, normal butanol, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and derivatives thereof, carbitol acetate, and butyl carbitol acetate. And the like.

次に、正孔注入輸送層定着工程を行う。それには、吐出後の液状組成物を加熱、乾燥処理し、液状組成物21aに含まれる極性溶媒を蒸発させ、正孔注入輸送層21を定着させる。なお、上記の定着処理は、例えば窒素雰囲気中、室温で圧力を例えば133.3Pa(1Torr)程度にして行う。圧力が低すぎると液状組成物21aが突沸してしまうので好ましくない。また、温度を室温以上にすると、極性溶媒の蒸発速度が高まり、平坦な膜を形成する事ができない。乾燥処理後は、窒素中、好ましくは真空中で200℃で10分程度加熱する熱処理を行うことで、正孔注入輸送層21内に残存する極性溶媒や水を完全に除去することが好ましい。   Next, a hole injection transport layer fixing step is performed. For this purpose, the discharged liquid composition is heated and dried, the polar solvent contained in the liquid composition 21a is evaporated, and the hole injection transport layer 21 is fixed. The fixing process is performed, for example, in a nitrogen atmosphere at room temperature and a pressure of, for example, about 133.3 Pa (1 Torr). If the pressure is too low, the liquid composition 21a is bumped, which is not preferable. On the other hand, if the temperature is higher than room temperature, the evaporation rate of the polar solvent increases and a flat film cannot be formed. After the drying treatment, it is preferable to completely remove the polar solvent and water remaining in the hole injecting and transporting layer 21 by performing a heat treatment in nitrogen, preferably in vacuum, at about 200 ° C. for about 10 minutes.

次に、発光層22を形成するが、その前に正孔注入輸送層21に対する表面改質工程を行うことがある。発光層形成工程では、正孔注入輸送層21の再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる液状組成物の溶媒として、正孔注入輸送層21に対して不溶な非極性溶媒を用いる。しかしながら、正孔注入輸送層21は、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む液状組成物を正孔注入輸送層21上に吐出しても、正孔注入輸送層21と発光層22とを密着させることができなくなるか、あるいは発光層22を均一に塗布できないおそれがある。そこで、発光層形成工程の前に、発光層22を形成する際に用いる液状組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒からなる表面改質材、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、トルエン、キシレン、あるいはそれらの混合物等をインクジェット法(液滴吐出法)、スピンコート法またはディップ法により正孔注入輸送層21上に塗布した後に乾燥させる。このような表面改質工程を行うことで、正孔注入輸送層21の表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む液状組成物を正孔注入輸送層21に均一に塗布することができる。なお、上記の表面改質材に、正孔輸送性材料を溶解した組成物をインクジェット法により正孔注入輸送層21上に塗布して乾燥させても良い。   Next, the light emitting layer 22 is formed, but before that, a surface modification step for the hole injecting and transporting layer 21 may be performed. In the light emitting layer forming step, a non-polar solvent that is insoluble in the hole injecting and transporting layer 21 is used as a solvent for the liquid composition used in forming the light emitting layer in order to prevent re-dissolution of the hole injecting and transporting layer 21. Use. However, since the hole injecting and transporting layer 21 has low affinity for the nonpolar solvent, even when a liquid composition containing the nonpolar solvent is discharged onto the hole injecting and transporting layer 21, the hole injecting and transporting layer 21 emits light. There is a possibility that the layer 22 cannot be adhered, or the light emitting layer 22 cannot be applied uniformly. Therefore, before the light emitting layer forming step, a surface modifier made of the same solvent as the non-polar solvent of the liquid composition used for forming the light emitting layer 22 or a similar solvent, such as cyclohexylbenzene, dihydro Benzofuran, trimethylbenzene, tetramethylbenzene, toluene, xylene, or a mixture thereof is applied onto the hole injecting and transporting layer 21 by the ink jet method (droplet discharge method), spin coating method or dipping method, and then dried. By performing such a surface modification step, the surface of the hole injecting and transporting layer 21 is easily adapted to the nonpolar solvent, and in the subsequent step, the liquid composition containing the light emitting layer forming material is added to the hole injecting and transporting layer. 21 can be uniformly applied. Note that a composition in which a hole transporting material is dissolved in the surface modifying material may be applied onto the hole injecting and transporting layer 21 by an ink jet method and dried.

以降、図示を省略するが、発光層形成工程では、正孔注入輸送層形成液塗布工程と同様、図3を参照して説明した液滴吐出ヘッド322から発光層層形成材料を含む液状組成物を凹部100a内に吐出する。このようにして吐出された液状組成物は、凹部100a内に着弾し、凹部100a内において、正孔注入輸送層21の上層で広がる。このような液状組成物としては、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、9、10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等をドープした発光層形成材料を非極性溶媒に配合したものを用いる。発光層形成材料としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、例えば特開平11−40358号公報に示される有機EL素子用組成物、すなわち共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも1種の蛍光色素とを含んでなる有機EL素子用組成物も、発光層形成材料として使用可能である。また、非極性溶媒としては、正孔注入輸送層21に対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を発光層形成用の液状組成物に用いることにより、正孔注入輸送層21を再溶解させることなく発光層形成用の液状組成物を塗布できる。   Thereafter, although not shown in the drawings, in the light emitting layer forming step, a liquid composition containing the light emitting layer layer forming material from the droplet discharge head 322 described with reference to FIG. Is discharged into the recess 100a. The liquid composition thus ejected lands in the recess 100a and spreads in the upper layer of the hole injecting and transporting layer 21 in the recess 100a. Examples of such a liquid composition include polyfluorene derivatives, polyphenylene derivatives, polyvinyl carbazole, polythiophene derivatives, or polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes such as rubrene, perylene, 9, 10 -The thing which mix | blended the light emitting layer forming material doped with diphenylanthracene, tetraphenyl butadiene, Nile red, coumarin 6, quinacridone etc. in the nonpolar solvent is used. As a light-emitting layer forming material, a π-conjugated polymer material in which double-bonded π electrons are non-polarized on a polymer chain is also a conductive polymer, so that it has excellent light-emitting performance and is therefore preferably used. . In particular, a compound having a fluorene skeleton in the molecule, that is, a polyfluorene compound is more preferably used. In addition to such materials, for example, a composition for an organic EL device disclosed in JP-A-11-40358, that is, a precursor of a conjugated polymer organic compound, and at least one kind for changing light emission characteristics A composition for an organic EL device comprising the above fluorescent dye can also be used as a light emitting layer forming material. Moreover, as a nonpolar solvent, what is insoluble with respect to the positive hole injection transport layer 21 is preferable, for example, cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran, trimethylbenzene, tetramethylbenzene etc. can be used. By using such a nonpolar solvent for the liquid composition for forming the light emitting layer, the liquid composition for forming the light emitting layer can be applied without re-dissolving the hole injection transport layer 21.

次に、発光層定着工程を行う。それには、吐出後の液状組成物を加熱、乾燥処理し、液状組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、発光層22を定着させる。なお、上記の定着処理は、例えば、窒素雰囲気中、室温で圧力を133.3Pa(1Torr)程度として5〜10分行う。圧力が低すぎると液状組成物が突沸してしまうので好ましくない。また、温度を室温以上にすると、非極性溶媒の蒸発速度が高まり、発光層形成材料が隔壁5の壁面に多く付着してしまうので好ましくない。なお、その他の乾燥の手段としては、遠赤外線照射法、高温窒素ガス吹付法等を例示できる。   Next, a light emitting layer fixing step is performed. For this purpose, the discharged liquid composition is heated and dried, the nonpolar solvent contained in the liquid composition is evaporated, and the light emitting layer 22 is fixed. The fixing process is performed, for example, in a nitrogen atmosphere at room temperature at a pressure of about 133.3 Pa (1 Torr) for 5 to 10 minutes. If the pressure is too low, the liquid composition will be bumped, which is not preferable. On the other hand, when the temperature is set to room temperature or higher, the evaporation rate of the nonpolar solvent increases, and a large amount of the light emitting layer forming material adheres to the wall surface of the partition wall 5, which is not preferable. Examples of other drying means include a far-infrared irradiation method and a high-temperature nitrogen gas spraying method.

このようにして、有機機能層20(正孔注入輸送層21および発光層22)を形成した後は、図2および図3を参照して説明したように、フォトリソグラフィ技術を用いて発光層22の上に放熱層8をパターニング形成する。また、放熱層8の基材が感光性樹脂である場合、かかる樹脂材料を塗布、露光、現像し、放熱層8を形成してもよい。その後、十分に乾燥させて有機機能層20から水分を脱離させた後、有機機能層20および放熱層の上層に陰極層12を形成する。しかる後には、封止樹脂90を用いて封止基板9によって陰極層12の表面を覆う。   After forming the organic functional layer 20 (the hole injecting and transporting layer 21 and the light emitting layer 22) in this way, the light emitting layer 22 is formed by using a photolithography technique as described with reference to FIGS. A heat dissipation layer 8 is formed by patterning on the substrate. Moreover, when the base material of the heat radiating layer 8 is a photosensitive resin, the heat radiating layer 8 may be formed by applying, exposing, and developing such a resin material. Then, after sufficiently drying and desorbing moisture from the organic functional layer 20, the cathode layer 12 is formed on the organic functional layer 20 and the heat dissipation layer. Thereafter, the surface of the cathode layer 12 is covered with the sealing substrate 9 using the sealing resin 90.

[実施の形態2]
図6は、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の断面図であり、図6(a)は、図3(a)のA1−A1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図に相当し、図6(b)は、図3(a)のB1−B1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図に相当する。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにして、それらの説明を省略する。
[Embodiment 2]
FIG. 6 is a cross-sectional view of an organic EL device according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 6A shows a state in which the pixel region is cut along the line A1-A1 ′ of FIG. 6B corresponds to a schematic cross-sectional view, and FIG. 6B corresponds to a cross-sectional view schematically illustrating a state in which the pixel region is cut along the line B1-B1 ′ in FIG. Since the basic configuration of the present embodiment is the same as that of the first embodiment, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図6(a)、(b)に示すように、本形態の有機EL装置1でも、実施の形態1と同様、画素領域100の長手方向における両端部100e、100fには、隔壁5より熱伝導性の高い放熱層8が形成され、放熱層8は、隔壁5の上端面より上方に突出している。また、放熱層8の上端面には陰極層12の一部が重なっている。このため、有機機能層20で発生した熱を、封止基板9を介して効率よく逃がすことができる。   As shown in FIGS. 6A and 6B, in the organic EL device 1 of the present embodiment as well, in the longitudinal direction of the pixel region 100, both ends 100 e and 100 f in the longitudinal direction of the pixel region 100 conduct heat from the partition wall 5. The heat dissipation layer 8 having high properties is formed, and the heat dissipation layer 8 projects upward from the upper end surface of the partition wall 5. A part of the cathode layer 12 overlaps the upper end surface of the heat dissipation layer 8. For this reason, the heat generated in the organic functional layer 20 can be efficiently released through the sealing substrate 9.

ここで、素子基板10と封止基板9との間には封止樹脂90が介在する。本形態の封止樹脂90のうち、放熱層8と重なる部分については、タルク、雲母、セリサイト等の粘土鉱物や、酸化チタン、硫酸バリウム、カーボンブラックなどのフィラーの配合によって熱伝導性が高い樹脂材料91が用いられている。これに対して、放熱層8が形成されていない領域には透光性の樹脂材料92が用いられている。このため、素子基板10からの熱の封止基板9に効率よく逃がすことができるとともに、有機EL装置1がトップエミッション型である場合でも、透光性の樹脂材料92からなる封止樹脂90を介して封止基板9の側から光を出射することができる。   Here, the sealing resin 90 is interposed between the element substrate 10 and the sealing substrate 9. Of the sealing resin 90 of this embodiment, the portion overlapping with the heat dissipation layer 8 has high thermal conductivity by blending clay minerals such as talc, mica and sericite, and fillers such as titanium oxide, barium sulfate and carbon black. A resin material 91 is used. On the other hand, a translucent resin material 92 is used in a region where the heat dissipation layer 8 is not formed. Therefore, the heat from the element substrate 10 can be efficiently released to the sealing substrate 9 and the sealing resin 90 made of the translucent resin material 92 is used even when the organic EL device 1 is a top emission type. Thus, light can be emitted from the sealing substrate 9 side.

なお、放熱層8と重なる部分については、フィラーの配合によって熱伝導性が高い樹脂材料91を用いる一方、放熱層8が形成されていない領域には封止樹脂90を配置しない構成を採用してもよい。このように構成した場合も、素子基板10からの熱の封止基板9に効率よく逃がすことができるとともに、有機EL装置1がトップエミッション型である場合でも、透光性の樹脂材料92からなる封止樹脂90を介して封止基板9の側から光を出射することができる。   In addition, about the part which overlaps with the thermal radiation layer 8, while using the resin material 91 with high thermal conductivity by mixing | blending a filler, the structure which does not arrange | position sealing resin 90 in the area | region in which the thermal radiation layer 8 is not formed is employ | adopted. Also good. Even when configured in this way, heat can be efficiently released from the element substrate 10 to the sealing substrate 9 and even when the organic EL device 1 is a top emission type, it is made of a translucent resin material 92. Light can be emitted from the side of the sealing substrate 9 through the sealing resin 90.

[実施の形態3]
図7は、本発明の実施の形態3に係る有機EL装置の断面図であり、図7(a)、(b)、(c)は各々、本発明の実施の形態3に係る有機EL装置1の全体構成を示す縦断面図、この有機EL装置1を図3(a)のA1−A1′線に相当する位置で切断した様子を模式的に示す断面図、およびこの有機EL装置1を図3(a)のB1−B1′線に相当する位置で切断した様子を模式的に示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにして、それらの説明を省略する。
[Embodiment 3]
FIG. 7 is a cross-sectional view of an organic EL device according to Embodiment 3 of the present invention, and FIGS. 7A, 7B, and 7C each show an organic EL device according to Embodiment 3 of the present invention. FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing the overall configuration of FIG. 1, a sectional view schematically showing the organic EL device 1 cut at a position corresponding to the line A1-A1 ′ in FIG. 3A, and the organic EL device 1 It is sectional drawing which shows typically a mode that it cut | disconnected in the position corresponded to the B1-B1 'line | wire of Fig.3 (a). Since the basic configuration of the present embodiment is the same as that of the first embodiment, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図7(a)、(b)、(c)に示すように、本形態の有機EL装置1でも、実施の形態1と同様、画素領域100の長手方向における両端部100e、100fには、隔壁5より熱伝導性の高い放熱層8が形成され、放熱層8は、隔壁5の上端面より上方に突出している。また、放熱層8の上端面には陰極層12の一部が重なっている。このため、有機機能層20で発生した熱を、封止基板9を介して効率よく逃がすことができる。   As shown in FIGS. 7A, 7 </ b> B, and 7 </ b> C, in the organic EL device 1 of the present embodiment, as in the first embodiment, both end portions 100 e and 100 f in the longitudinal direction of the pixel region 100 have partition walls. 5 is formed, and the heat dissipation layer 8 protrudes upward from the upper end surface of the partition wall 5. A part of the cathode layer 12 overlaps the upper end surface of the heat dissipation layer 8. For this reason, the heat generated in the organic functional layer 20 can be efficiently released through the sealing substrate 9.

ここで、素子基板10と封止基板9とは封止樹脂90によって貼り合わされているが、封止樹脂90は、封止基板9の外周に沿ってのみ配置され、画素領域100には一切、配置されていない。このように構成した場合、ボトムエミッション型およびトップエミッション型のいずれの有機EL装置1にも対応することができる。   Here, although the element substrate 10 and the sealing substrate 9 are bonded to each other by the sealing resin 90, the sealing resin 90 is disposed only along the outer periphery of the sealing substrate 9, and the pixel region 100 has no Not placed. When comprised in this way, it can respond to any organic EL device 1 of a bottom emission type and a top emission type.

[実施の形態4]
図8は、本発明の実施の形態4に係る有機EL装置の断面図であり、図8(a)は、図3(a)のA1−A1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図に相当し、図8(b)は、図3(a)のB1−B1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図に相当する。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにして、それらの説明を省略する。
[Embodiment 4]
FIG. 8 is a cross-sectional view of an organic EL device according to Embodiment 4 of the present invention. FIG. 8A shows a state in which the pixel region is cut along the line A1-A1 ′ of FIG. 8B corresponds to a cross-sectional view schematically showing a state in which the pixel region is cut along the line B1-B1 ′ of FIG. 3A. Since the basic configuration of the present embodiment is the same as that of the first embodiment, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図8(a)、(b)に示すように、本形態の有機EL装置1でも、実施の形態1と同様、画素領域100の長手方向における両端部100e、100fには、隔壁5より熱伝導性の高い放熱層8が形成され、放熱層8は、隔壁5の上端面より上方に突出している。また、放熱層8の上端面には陰極層12の一部が重なっている。このため、有機機能層20で発生した熱を、封止基板9を介して効率よく逃がすことができる。   As shown in FIGS. 8A and 8B, also in the organic EL device 1 of this embodiment, heat conduction from the partition wall 5 to both end portions 100 e and 100 f in the longitudinal direction of the pixel region 100, as in the first embodiment. The heat dissipation layer 8 having high properties is formed, and the heat dissipation layer 8 projects upward from the upper end surface of the partition wall 5. A part of the cathode layer 12 overlaps the upper end surface of the heat dissipation layer 8. For this reason, the heat generated in the organic functional layer 20 can be efficiently released through the sealing substrate 9.

ここで、素子基板10において放熱層8が形成されている部分は封止基板9に面接触している。このため、素子基板10からの熱の封止基板9に効率よく逃がすことができる。なお、画素領域100において、放熱層8が形成されていない領域には封止樹脂90が存在する構成、および存在しない構成のいずれを採用してもよい。画素領域100において、放熱層8が形成されていない領域に封止樹脂90を形成しない構成、あるいは画素領域100に形成された封止樹脂90が透光性の樹脂材料からなる場合には、ボトムエミッション型およびトップエミッション型のいずれの有機EL装置1にも対応することができる。   Here, the portion of the element substrate 10 where the heat dissipation layer 8 is formed is in surface contact with the sealing substrate 9. For this reason, the heat from the element substrate 10 can be efficiently released to the sealing substrate 9. In the pixel region 100, either a configuration in which the sealing resin 90 is present in a region where the heat dissipation layer 8 is not formed or a configuration in which the sealing resin 90 is not present may be employed. In the pixel region 100, when the sealing resin 90 is not formed in a region where the heat dissipation layer 8 is not formed, or when the sealing resin 90 formed in the pixel region 100 is made of a translucent resin material, Both the emission type and top emission type organic EL devices 1 can be used.

[実施の形態5]
図9は、本発明の実施の形態5に係る有機EL装置の断面図であり、図9(a)は、図3(a)のA1−A1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図に相当し、図9(b)は、図3(a)のB1−B1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図に相当する。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにして、それらの説明を省略する。
[Embodiment 5]
FIG. 9 is a cross-sectional view of an organic EL device according to Embodiment 5 of the present invention. FIG. 9A shows a state in which the pixel region is cut along the line A1-A1 ′ of FIG. 9B corresponds to a schematic cross-sectional view, and FIG. 9B corresponds to a cross-sectional view schematically showing a state in which the pixel region is cut along the line B1-B1 ′ of FIG. Since the basic configuration of the present embodiment is the same as that of the first embodiment, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図9(a)、(b)に示すように、本形態の有機EL装置1でも、実施の形態1と同様、画素領域100の長手方向における両端部100e、100fには、隔壁5より熱伝導性の高い放熱層8が形成され、放熱層8は、隔壁5の上端面より上方に突出している。また、放熱層8の上端面には陰極層12の一部が重なっている。このため、有機機能層20で発生した熱を、封止基板9を介して効率よく逃がすことができる。   As shown in FIGS. 9A and 9B, in the organic EL device 1 of the present embodiment as well, in the same way as in the first embodiment, heat conduction from the partition wall 5 to both ends 100e and 100f in the longitudinal direction of the pixel region 100. The heat dissipation layer 8 having high properties is formed, and the heat dissipation layer 8 projects upward from the upper end surface of the partition wall 5. A part of the cathode layer 12 overlaps the upper end surface of the heat dissipation layer 8. For this reason, the heat generated in the organic functional layer 20 can be efficiently released through the sealing substrate 9.

ここで、素子基板10において放熱層8が形成されている部分は封止基板9に接触している。しかも、封止基板9において、素子基板10の放熱層8が形成されている部分と重なる部分に凹部9aが形成され、放熱層8が形成されている部分の上端部が凹部9a内に位置している。このため、素子基板10側と封止基板9側との接触面積が広いので、有機機能層20で発生した熱を、封止基板9を介して効率よく逃がすことができる。なお、本形態でも、画素領域100において、放熱層8が形成されていない領域には封止樹脂90が存在する構成および存在しない構成のいずれを採用してもよい。画素領域100において、放熱層8が形成されていない領域に封止樹脂90を形成しない構成、あるいは画素領域100に形成された封止樹脂90が透光性の樹脂材料からなる場合には、ボトムエミッション型およびトップエミッション型のいずれの有機EL装置1にも対応することができる。   Here, the portion of the element substrate 10 where the heat dissipation layer 8 is formed is in contact with the sealing substrate 9. In addition, in the sealing substrate 9, a recess 9a is formed in a portion overlapping the portion where the heat dissipation layer 8 of the element substrate 10 is formed, and the upper end portion of the portion where the heat dissipation layer 8 is formed is located in the recess 9a. ing. For this reason, since the contact area between the element substrate 10 side and the sealing substrate 9 side is wide, the heat generated in the organic functional layer 20 can be efficiently released through the sealing substrate 9. In this embodiment, either a configuration in which the sealing resin 90 is present or a configuration in which the sealing resin 90 is not present may be employed in a region where the heat dissipation layer 8 is not formed in the pixel region 100. In the pixel region 100, when the sealing resin 90 is not formed in a region where the heat dissipation layer 8 is not formed, or when the sealing resin 90 formed in the pixel region 100 is made of a translucent resin material, Both the emission type and top emission type organic EL devices 1 can be used.

[その他の実施の形態]
上記実施の形態においては、放熱層8が隔壁5の上端面より上方に突出している構成を採用したが、放熱層8が隔壁5の上端面より低い位置にあっても、陰極層12において隔壁5の上端面に重なる部分は、有機機能層20と直接重なる部分より上方に押し上げられる。それ故、有機機能層20から封止基板9への放熱性を向上することができる。
[Other embodiments]
In the above embodiment, the configuration in which the heat dissipation layer 8 protrudes upward from the upper end surface of the partition wall 5 is adopted. However, even when the heat dissipation layer 8 is positioned lower than the upper end surface of the partition wall 5, The portion overlapping the upper end surface of 5 is pushed upward from the portion directly overlapping the organic functional layer 20. Therefore, the heat dissipation from the organic functional layer 20 to the sealing substrate 9 can be improved.

上記形態では、図1に示すように画素領域100がマトリクス状に配置されている有機EL装置1を例に説明したが、複写機などの画像形成装置のラインヘッドに用いる有機EL装置1のように、画素領域100がライン状に配列されているタイプに本発明を適用してもよい。   In the above embodiment, the organic EL device 1 in which the pixel regions 100 are arranged in a matrix as shown in FIG. 1 has been described as an example. However, as in the organic EL device 1 used for a line head of an image forming apparatus such as a copying machine. In addition, the present invention may be applied to a type in which the pixel regions 100 are arranged in a line.

本発明が適用される有機EL装置の一例としてのアクティブマトリクス型の有機EL表示装置の電気的構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an electrical configuration of an active matrix organic EL display device as an example of an organic EL device to which the present invention is applied. 本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の全体構成を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the whole structure of the organic EL apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. (a)、(b)、(c)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の画素領域1つ分の平面図、図3(a)のA1−A1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図、および図3(a)のB1−B1′線に沿って画素領域を切断した様子を模式的に示す断面図である。(A), (b), (c) is a plan view for one pixel region of the organic EL device according to the first embodiment of the present invention, along the line A1-A1 'in FIG. 3 (a). It is sectional drawing which shows a mode that the pixel area | region was cut | disconnected typically, and sectional drawing which shows a mode that the pixel area | region was cut | disconnected along B1-B1 'line of Fig.3 (a). (a)、(b)、(c)は各々、本発明を適用した有機EL装置を製造する際に使用される液滴吐出ヘッドの内部構造を模式的に示す説明図、撓み振動モードの圧力発生素子の説明図、および縦振動モードの圧力発生素子の説明図である。(A), (b), (c) is an explanatory view schematically showing the internal structure of a droplet discharge head used in manufacturing an organic EL device to which the present invention is applied, and pressure in a flexural vibration mode. It is explanatory drawing of a generating element, and explanatory drawing of the pressure generating element of a longitudinal vibration mode. (a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置において、有機機能層を形成する前の素子基板の断面図、および画素領域1つ分の断面図である。(A), (b) is each the sectional drawing of the element substrate before forming an organic functional layer, and sectional drawing for one pixel area in the organic EL device concerning Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の断面図である。It is sectional drawing of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3に係る有機EL装置の断面図である。It is sectional drawing of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4に係る有機EL装置の断面図である。It is sectional drawing of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態5に係る有機EL装置の断面図である。It is sectional drawing of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 5 of this invention. 従来の有機EL装置の断面図である。It is sectional drawing of the conventional organic electroluminescent apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1・・有機EL装置、2・・有機EL素子、5・・隔壁、6・・絶縁層、8・・放熱層、9・・封止基板、9a・・封止基板の凹部、10・・素子基板、11・・画素電極(第1の電極)、12・・陰極層(第2の電極)、20・・有機機能層、21・・正孔注入輸送層(有機機能層)、22・・発光層(有機機能層)90・・封止樹脂、100・・画素領域、100d・・画素領域の中央領域、100e、100f・・画素領域の端部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL device 2 ... Organic EL element 5 ... Bulkhead 6 ... Insulating layer 8 ... Heat radiation layer 9 ... Sealing substrate 9a ... Concave part of sealing substrate 10 ... Element substrate 11... Pixel electrode (first electrode) 12.. Cathode layer (second electrode) 20.. Organic functional layer 21.. Hole injection transport layer (organic functional layer) 22.・ Light emitting layer (organic functional layer) 90 ..Sealing resin, 100 ..Pixel region, 100 d ..Center region of pixel region, 100 e, 100 f.

Claims (13)

隔壁で囲まれた画素領域内に第1の電極層、少なくとも発光層を備えた有機機能層、および第2の電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子が形成された素子基板を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記画素領域内における前記第2の電極層の下層側には、前記有機機能層上の一部に前記隔壁より熱伝導性の高い放熱層が積層されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
Organic having an element substrate in which an organic electroluminescent element in which a first electrode layer, an organic functional layer including at least a light emitting layer, and a second electrode layer are sequentially stacked in a pixel region surrounded by a partition wall is formed In electroluminescence equipment,
An organic electroluminescence device characterized in that a heat radiation layer having higher thermal conductivity than the partition is laminated on a part of the organic functional layer on a lower layer side of the second electrode layer in the pixel region. .
前記放熱層は、前記画素領域内における端部に形成されていることを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the heat dissipation layer is formed at an end portion in the pixel region. 前記放熱層は、フィラーが配合された樹脂からなることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the heat dissipation layer is made of a resin mixed with a filler. 前記放熱層は、無機絶縁材料からなることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the heat dissipation layer is made of an inorganic insulating material. 前記第2の電極層は、一部が前記放熱層の上端面に積層されていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   5. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein a part of the second electrode layer is laminated on an upper end surface of the heat dissipation layer. 前記放熱層は、前記隔壁の上端面より上方に突出していることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the heat dissipation layer protrudes upward from an upper end surface of the partition wall. 前記素子基板において前記有機エレクトロミネッセンス素子が形成されている側の面には封止基板が対向配置され、
前記封止基板は、封止樹脂により前記素子基板と貼り合わされていることを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
In the element substrate, a sealing substrate is disposed opposite to the surface on which the organic electroluminescence element is formed,
The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the sealing substrate is bonded to the element substrate with a sealing resin.
前記封止樹脂は、前記画素領域と重なる領域に配置されていることを特徴とする請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to claim 7, wherein the sealing resin is disposed in a region overlapping with the pixel region. 前記封止樹脂において、前記画素領域のうち、少なくとも前記放熱層が形成されている部分に配置された樹脂部分はフィラーを含んでいることを特徴とする請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   9. The organic electroluminescence device according to claim 8, wherein in the sealing resin, at least a resin portion disposed in a portion of the pixel region where the heat dissipation layer is formed includes a filler. 前記封止基板は透光性であって、
前記封止樹脂において、前記画素領域のうち、少なくとも前記放熱層が形成されていない領域に配置された樹脂部分は透光性であることを特徴とする請求項8または9に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The sealing substrate is translucent,
10. The organic electroluminescence according to claim 8, wherein in the sealing resin, at least a resin portion disposed in a region where the heat dissipation layer is not formed in the pixel region is translucent. apparatus.
前記素子基板において前記有機エレクトロミネッセンス素子が形成されている側の面は、封止基板と貼り合わされ、
前記素子基板において前記放熱層が形成されている部分は、前記封止基板に接していることを特徴とする請求項6に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The surface of the element substrate on which the organic electroluminescence element is formed is bonded to a sealing substrate,
The organic electroluminescence device according to claim 6, wherein a portion of the element substrate where the heat dissipation layer is formed is in contact with the sealing substrate.
前記封止基板において、前記放熱層が形成されている部分と重なる部分に凹部が形成され、
前記素子基板において前記放熱層が形成されている部分の上端部分は、前記凹部内に位置していることを特徴とする請求項11に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
In the sealing substrate, a recess is formed in a portion overlapping the portion where the heat dissipation layer is formed,
The organic electroluminescence device according to claim 11, wherein an upper end portion of a portion where the heat dissipation layer is formed in the element substrate is located in the concave portion.
前記有機機能層は、前記画素領域に配置された液状組成物を固化させてなることを特徴とする請求項1乃至12の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescent device according to any one of claims 1 to 12, wherein the organic functional layer is formed by solidifying a liquid composition disposed in the pixel region.
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