JP2008242183A - Arm member, shutter device, and arm member manufacturing method - Google Patents

Arm member, shutter device, and arm member manufacturing method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a shutter device having high durability and to provide an arm member manufacturing method. <P>SOLUTION: The shutter device includes: a shutter base plate 30 having an aperture part 36 and a groove 37; a driving pin 40 that moves along the groove 37; the arm members 12 and 22 that relatively move with the shutter base plate 30 through the driving pin 40; and shutter blades 11 and 21 that are attached to the arm members 12 and 22, so as to open/close the aperture part 36. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、アーム部材、シャッタ装置およびアーム部材の製造方法に関するものである。   The present invention relates to an arm member, a shutter device, and a method for manufacturing the arm member.

従来、シャッタ装置の一つであるフォーカルプレーンシャッタは、シャッタ基板と複数枚の分割羽根とに回転自在に連結されて平行リンクを構成する主アームと従アームとを有している。主アームとシャッタ基板とは、主アームに形成された駆動ピン孔に係合する駆動ピンにより、主アームが回動軸を中心として回動可能に軸支されている。また、各アームと各分割羽根とは、連結ピンにより回転可能に軸支されている。このような平行リンク構成により、各分割羽根がシャッタ基板の露光窓の外部で折り畳まれた開放状態と露光窓を覆う遮蔽状態とを繰り返してシャッタレリーズを行うようになっている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a focal plane shutter, which is one of shutter devices, has a main arm and a secondary arm that are rotatably connected to a shutter substrate and a plurality of divided blades to form a parallel link. The main arm and the shutter substrate are pivotally supported by a drive pin that engages with a drive pin hole formed in the main arm so that the main arm can rotate about a rotation axis. Each arm and each divided blade are pivotally supported by a connecting pin. With such a parallel link configuration, shutter release is performed by repeatedly performing an open state where each divided blade is folded outside the exposure window of the shutter substrate and a shielding state covering the exposure window.

しかしながら、近年開発が進んでいるデジタルカメラにもフォーカルプレーンシャッタが用いられており、ユーザはフィルム消費の問題から開放されて必然的にシャッタレリーズの回数が多くなっているという現状がある。そして、シャッタレリーズの回数が増すほど駆動ピンとアームの駆動ピン孔との摩擦が進行してしまい、シャッタ精度が低下したり摩擦により生じた磨耗粉がCCDなどの撮像素子に堆積してしまうというおそれがあった。   However, the focal plane shutter is also used in digital cameras that have been developed in recent years, and there is a current situation that the user has been released from the problem of film consumption and the number of shutter releases has inevitably increased. As the number of shutter releases increases, the friction between the drive pin and the drive pin hole of the arm progresses, and there is a risk that the shutter accuracy will be reduced or wear powder generated by the friction will accumulate on the image sensor such as a CCD. was there.

そこで、従来では、連結ピン(加締ピンともいう)とアームの材質や硬度を規定してシャッタ装置の耐摩耗性を向上させる提案がなされている。
特開2004−325553号公報
Therefore, conventionally, there has been a proposal for improving the wear resistance of the shutter device by defining the material and hardness of the connecting pin (also referred to as a caulking pin) and the arm.
JP 2004-325553 A

しかしながら、従来のアーム部材を備えるシャッタ装置では耐久性が十分でないという問題があった。   However, the conventional shutter device provided with the arm member has a problem that durability is not sufficient.

そこで、本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、耐久性の高いアーム部材、シャッタ装置およびアーム部材の製造方法の提供を目的とする。   Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a highly durable arm member, a shutter device, and a method for manufacturing the arm member.

請求項1に記載の発明によれば、アーム部材において、基材(121)の表面にめっき処理により形成された第1層(122)と、前記第1層より硬度が高く、前記第1層の表面にめっき処理により形成された第2層(123)とを備えることを特徴とする。   According to the first aspect of the present invention, in the arm member, the first layer (122) formed by plating on the surface of the base material (121), the hardness is higher than the first layer, and the first layer And a second layer (123) formed by plating on the surface.

請求項6に記載の発明によれば、シャッタ装置において、開口部(36)と溝(37)とを有するシャッタ基板(30)と、前記溝に沿って移動する駆動ピン(40)と、前記駆動ピンを介して前記シャッタ基材と相対運動する請求項1〜5のいずれか1項に記載のアーム部材(12,13,22,23)と、前記アーム部材に取り付けられて前記開口部を開閉するシャッタ羽根(11,21)とを備えることを特徴とする。   According to the invention described in claim 6, in the shutter device, the shutter substrate (30) having the opening (36) and the groove (37), the drive pin (40) moving along the groove, and the The arm member (12, 13, 22, 23) according to any one of claims 1 to 5, which moves relative to the shutter base via a drive pin, and the opening attached to the arm member. And shutter blades (11, 21) for opening and closing.

請求項7に記載の発明によれば、アーム部材の製造方法において、基材(121)の表面にめっき処理を行って第1層(122)を形成する工程と、前記第1層の表面にめっき処理を行って前記第1層より硬度の高い第2層(123)を形成する工程とを備えることを特徴とする。   According to invention of Claim 7, in the manufacturing method of an arm member, the process of performing a plating process on the surface of a base material (121) to form the first layer (122), and the surface of the first layer And performing a plating treatment to form a second layer (123) having a higher hardness than the first layer.

本発明によれば、耐久性の高いアーム部材と、そのアーム部材を備えるシャッタ装置の提供が可能である。   According to the present invention, it is possible to provide a highly durable arm member and a shutter device including the arm member.

以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施の形態による一眼レフデジタルカメラの全体構成図である。一眼レフデジタルカメラ1では、カメラボディ2に撮影レンズ3が交換可能に取り付けられる。カメラボディ2は、クイックリターンミラー4、ペンタプリズム5、接眼レンズ6、サブミラー7、焦点検出装置8、撮像素子9およびシャッタ装置100を備えている。シャッタ装置100は、フォーカルプレーンシャッタと呼ばれるものであり、撮像素子9に近接して配置されている。また、撮影レンズ3は、その鏡筒内にレンズ、絞りなどからなる撮影光学系を有する。   FIG. 1 is an overall configuration diagram of a single-lens reflex digital camera according to an embodiment of the present invention. In the single-lens reflex digital camera 1, a photographing lens 3 is attached to the camera body 2 in a replaceable manner. The camera body 2 includes a quick return mirror 4, a pentaprism 5, an eyepiece lens 6, a sub mirror 7, a focus detection device 8, an image sensor 9, and a shutter device 100. The shutter device 100 is called a focal plane shutter, and is disposed in the vicinity of the image sensor 9. The photographing lens 3 has a photographing optical system including a lens, a diaphragm, and the like in its barrel.

撮影レンズ3を透過した被写体からの光束Lは、クイックリターンミラー4により図中上方に反射され、ペンタプリズム5および接眼レンズ6を介して撮影者の目に達する。一方、光束Lの一部はクイックリターンミラー4を透過し、サブミラー7により図中下方に反射されて焦点検出装置8へ導かれる。不図示のレリーズボタンが押されると、シャッタ装置100が動作を開始し、クイックリターンミラー4とサブミラー7が跳ね上げられて撮影光路から退避する。撮影レンズ3を透過した光束Lは撮像素子9へ導かれ、撮像素子9の受光面に被写体像が形成される。   The light beam L from the subject that has passed through the photographing lens 3 is reflected upward in the figure by the quick return mirror 4 and reaches the eyes of the photographer via the pentaprism 5 and the eyepiece 6. On the other hand, a part of the light beam L passes through the quick return mirror 4, is reflected downward in the figure by the sub mirror 7, and is guided to the focus detection device 8. When a release button (not shown) is pressed, the shutter device 100 starts operating, and the quick return mirror 4 and the sub mirror 7 are flipped up and retracted from the photographing optical path. The light beam L that has passed through the photographing lens 3 is guided to the image sensor 9, and a subject image is formed on the light receiving surface of the image sensor 9.

図2は、本発明の実施の形態によるシャッタ装置100の分解斜視図である。図3はシャッタがチャージされた状態の正面図である。図4はレリーズボタンが押されて露光動作が終了した状態の正面図である。   FIG. 2 is an exploded perspective view of the shutter device 100 according to the embodiment of the present invention. FIG. 3 is a front view of the shutter charged. FIG. 4 is a front view showing a state in which the exposure operation is completed by pressing the release button.

シャッタ装置100は、先幕10、後幕20およびシャッタ基板30を備えている。シャッタ基板30と先幕10とは、後述の駆動ピン40と回動軸50と連結ピン(図示省略)によって連結されている(図3および図4参照)。また、シャッタ基板30と後幕20の連結にも駆動ピン40と回動軸50と連結ピンが用いられている(図3および図4参照)。   The shutter device 100 includes a front curtain 10, a rear curtain 20, and a shutter substrate 30. The shutter substrate 30 and the front curtain 10 are connected by a driving pin 40, a rotating shaft 50, and a connecting pin (not shown) described later (see FIGS. 3 and 4). Further, the drive pin 40, the rotation shaft 50, and the connection pin are also used to connect the shutter substrate 30 and the rear curtain 20 (see FIGS. 3 and 4).

シャッタ基板30は、撮影レンズ3側に位置する第1基板31と撮像素子9側に位置する第2基板32とを備えている。また、シャッタ装置100は、第1基板31と第2基板32との間に配置される遮光板33、中間板34およびスペーサ35などを備えている。シャッタ基板30は、撮像素子9と略同形状に形成されて光束Lを透過させる開口部36を略中央部に有している。また、シャッタ基板30は、シャッタ基板30を貫通する2つの円弧溝37を開口部36の側方で上下に配置するように有している。なお、本実施形態の円弧溝37は、シャッタ基板30を貫通するものとしたが、後述のように駆動ピン40が内側に沿って移動可能であれば良く、シャッタ基板30を貫通しない溝状のものであっても良い。   The shutter substrate 30 includes a first substrate 31 located on the photographing lens 3 side and a second substrate 32 located on the imaging element 9 side. In addition, the shutter device 100 includes a light shielding plate 33, an intermediate plate 34, a spacer 35, and the like disposed between the first substrate 31 and the second substrate 32. The shutter substrate 30 is formed in substantially the same shape as the image sensor 9 and has an opening 36 through which the light beam L is transmitted at a substantially central portion. Further, the shutter substrate 30 has two arc grooves 37 penetrating the shutter substrate 30 so as to be arranged vertically on the side of the opening 36. Although the arc groove 37 of the present embodiment penetrates the shutter substrate 30 as long as the drive pin 40 can move along the inside as described later, the arc groove 37 does not penetrate the shutter substrate 30. It may be a thing.

先幕10は、4枚の遮光羽根(シャッタ羽根)11と先幕主アーム12と先幕従アーム13とを有している。先幕主アーム12には、シャッタ基板30と先幕主アーム12を回動可能に連結する回動軸50が貫通する軸受孔14が形成されている。また、先幕主アーム12には、先幕主アーム12を支持しながら円弧溝37に沿って移動する駆動ピン40が貫通する駆動ピン孔15が形成されている。さらに、先幕主アーム12には、遮光羽根11を連結ピンにより取り付ける4つの連結孔16が形成されている。同様に、先幕従アーム13には、軸受孔14と4つの連結孔16とが形成されている。連結孔16にそれぞれ連結ピンを嵌合させてから、連結ピンを4枚の遮光羽根11に加締めることにより、先幕主アーム12および先幕従アーム13と遮光羽根11とが連結されている。連結ピンは加締ピンとも呼ばれる。   The front curtain 10 has four light-shielding blades (shutter blades) 11, a front curtain main arm 12, and a front curtain slave arm 13. The front curtain main arm 12 is formed with a bearing hole 14 through which a rotation shaft 50 that rotatably connects the shutter substrate 30 and the front curtain main arm 12 is formed. The front curtain main arm 12 is formed with a drive pin hole 15 through which the drive pin 40 that moves along the circular arc groove 37 while supporting the front curtain main arm 12 is passed. Furthermore, the front curtain main arm 12 is formed with four connection holes 16 for attaching the light shielding blades 11 with connection pins. Similarly, the front curtain slave arm 13 is formed with a bearing hole 14 and four connection holes 16. The front curtain main arm 12 and the front curtain slave arm 13 are connected to the light shielding blade 11 by fitting the coupling pins into the coupling holes 16 and then crimping the connection pins to the four light shielding blades 11. . The connecting pin is also called a caulking pin.

後幕20は、4枚の遮光羽根(シャッタ羽根)21と後幕主アーム22と後幕従アーム23とを有している。先幕10と同様に、後幕主アーム22には、シャッタ基板30と後幕主アーム22とを回動可能に連結する回動軸50が貫通する軸受孔24が形成されている。また、後幕主アーム22には、後幕主アーム22を支持しながら円弧溝37に沿って移動する駆動ピン40が貫通する駆動ピン孔25が形成されている。さらに、後幕主アーム22には、遮光羽根21を連結ピンにより取り付ける4つの連結孔26が形成されている。同様に、後幕従アーム23には、軸受孔24と4つの連結孔26とが形成されている。ここで、先幕主アーム12、先幕従アーム13、後幕主アーム22、後幕従アーム23をまとめてアーム部材とも呼ぶ。   The rear curtain 20 includes four light shielding blades (shutter blades) 21, a rear curtain main arm 22, and a rear curtain slave arm 23. Similar to the front curtain 10, the rear curtain main arm 22 is formed with a bearing hole 24 through which a rotation shaft 50 that rotatably connects the shutter substrate 30 and the rear curtain main arm 22 is formed. The rear curtain main arm 22 is formed with a drive pin hole 25 through which the drive pin 40 that moves along the arc groove 37 while supporting the rear curtain main arm 22 passes. Further, the rear curtain main arm 22 is formed with four connecting holes 26 for attaching the light shielding blades 21 with connecting pins. Similarly, the rear curtain follower arm 23 is formed with a bearing hole 24 and four connection holes 26. Here, the front curtain main arm 12, the front curtain secondary arm 13, the rear curtain primary arm 22, and the rear curtain secondary arm 23 are collectively referred to as arm members.

図3では、第2基板32に形成された開口部36を、先幕10の4枚の遮光羽根11で覆う遮蔽状態にあり、後幕20の遮光羽根21は、開口部36の上方に重なり合って収容されることにより開口部36を開放する開放状態にある。すなわち、先幕10が遮蔽状態、後幕20が開放状態にあって、露光を阻止している。   In FIG. 3, the opening 36 formed in the second substrate 32 is covered with the four light shielding blades 11 of the front curtain 10, and the light shielding blade 21 of the rear curtain 20 overlaps above the opening 36. Are in an open state in which the opening 36 is opened. That is, the front curtain 10 is shielded and the rear curtain 20 is open, thereby preventing exposure.

図4では、先幕10の遮光羽根11は、開口部36の下方に重なり合って開口部36を開放する開放状態にあり、後幕20の4枚の遮光羽根21で第1基板31に形成された開口部36を覆う遮蔽状態にある。すなわち、先幕10が開放状態、後幕20が遮蔽状態にあって、露光を阻止している。   In FIG. 4, the light shielding blade 11 of the front curtain 10 is in an open state where it overlaps below the opening 36 and opens the opening 36, and is formed on the first substrate 31 by the four light shielding blades 21 of the rear curtain 20. It is in the shielding state which covers the opened opening 36. That is, the front curtain 10 is in the open state and the rear curtain 20 is in the blocked state, thereby preventing exposure.

回動軸50はシャッタ基板30に植設されており、先幕主アーム12、後幕主アーム22、先幕従アーム13および後幕従アーム23をそれぞれ回動可能に支持して平行リンク機構を構成する。駆動ピン40は、図示しない駆動機構に接続されており、レリーズボタンからの信号に応じて円弧溝37に沿って移動するようになっている。駆動ピン40が円弧溝37に沿って移動すると回動軸50を回転中心として円弧運動することとなり、その動きに従って先幕主アーム12と先幕従アーム13又は後幕主アーム22と後幕従アーム23がシャッタ基板30に対して相対運動されて先幕10又は後幕20の走行(露光動作)が行われる。   The rotation shaft 50 is implanted in the shutter substrate 30 and supports the front curtain main arm 12, the rear curtain main arm 22, the front curtain secondary arm 13 and the rear curtain secondary arm 23 so as to be rotatable, and a parallel link mechanism. Configure. The drive pin 40 is connected to a drive mechanism (not shown), and moves along the arc groove 37 in response to a signal from the release button. When the drive pin 40 moves along the arc groove 37, it moves in an arc around the rotation shaft 50, and according to the movement, the front curtain main arm 12 and the front curtain sub arm 13 or the rear curtain main arm 22 and the rear curtain subordinate. The arm 23 is moved relative to the shutter substrate 30 so that the front curtain 10 or the rear curtain 20 travels (exposure operation).

図3のシャッタチャージ状態から図4の露光動作終了状態までのシャッタ動作は次の順番で行われる。先ず、レリーズボタンが押されると、遮光羽根11が先幕従アーム13と先幕主アーム12の回動により、開口部36の上から下へ走行して開口部36を開いていく。開口部36が開かれると、撮影レンズ3からの光束Lが撮像素子9に導かれ、露光が開始される。露光開始後一定時間経過すると、開口部36の上方に重なり合っていた遮光羽根21が後幕従アーム23と後幕主アーム22の回動により、走行を開始しつつ展開して開口部36を覆っていく。   The shutter operation from the shutter charge state of FIG. 3 to the exposure operation end state of FIG. 4 is performed in the following order. First, when the release button is pressed, the light-shielding blade 11 travels from the top to the bottom of the opening 36 by the rotation of the leading curtain slave arm 13 and the leading curtain main arm 12 to open the opening 36. When the opening 36 is opened, the light beam L from the photographing lens 3 is guided to the image sensor 9 and exposure is started. When a certain period of time has elapsed after the start of exposure, the light-shielding blade 21 that overlapped above the opening 36 is unfolded while starting to travel and covers the opening 36 due to the rotation of the rear curtain follower arm 23 and the rear curtain main arm 22. To go.

遮光羽根21は、駆動ピン40がブレーキ部材38に衝突して先幕主アーム12、後幕主アーム22の回動が急停止することにより、走行の終了直前で急激に運動エネルギーを失って停止する。遮光羽根21が開口部36を完全に遮蔽した時点で露光動作が終了する。   The light-shielding blade 21 suddenly loses kinetic energy immediately before the end of traveling because the driving pin 40 collides with the brake member 38 and the rotation of the front curtain main arm 12 and the rear curtain main arm 22 stops suddenly. To do. The exposure operation ends when the light shielding blade 21 completely blocks the opening 36.

図5は、本発明の実施の形態によるシャッタ装置100の先幕主アーム12を模式的に示す部分断面図である。先幕主アーム12は、チタンを用いた基材121と、基材121の表面に電気ニッケルめっきによって形成された第1層122と、第1層122の表面に無電解ニッケルめっきによって形成された第2層123とを有する。図示されるように、駆動ピン孔15の内周面にも第1層122および第2層123が形成されている。   FIG. 5 is a partial cross-sectional view schematically showing the front curtain main arm 12 of the shutter device 100 according to the embodiment of the present invention. The front curtain main arm 12 is formed of a base material 121 using titanium, a first layer 122 formed on the surface of the base material 121 by electro nickel plating, and an electroless nickel plating on the surface of the first layer 122. A second layer 123. As shown in the figure, a first layer 122 and a second layer 123 are also formed on the inner peripheral surface of the drive pin hole 15.

基材121は、金属素材を主として150μm程度の厚みで成形されるものである。金属素材としては、例えば、チタン、チタン合金、アルミ、アルミ合金が挙げられ、少なくとも一つを主とする材質とすればよい。基材121の硬度は、先幕主アーム12の耐久性の観点からは高い方が好ましいが、本実施形態においてはビッカース硬度でHv150程度であればよい。   The base material 121 is formed mainly of a metal material with a thickness of about 150 μm. Examples of the metal material include titanium, a titanium alloy, aluminum, and an aluminum alloy, and at least one of them may be a main material. The hardness of the base material 121 is preferably higher from the viewpoint of the durability of the leading curtain main arm 12, but in the present embodiment, the Vickers hardness may be about Hv150.

第1層122は、基材121の表面全体に3μm(膜厚ばらつき±1μm以下)程度の厚みで形成されるものである。第1層122の硬度は基材121の硬度より高く、Hv150〜450程度であり、先幕主アーム12の靭性を向上させている。第1層122の材質に特に制限は無いが、基材121との密着性、駆動ピン40との摺動性、黒色化処理の利便性などの観点からニッケルが好ましい。また、第1層122の形成方法も特に限定されないが、後述する第2層123を形成するための熱処理の際に硬度を変化させないために、電気めっきにより形成するのが好ましい。   The first layer 122 is formed on the entire surface of the substrate 121 with a thickness of about 3 μm (film thickness variation ± 1 μm or less). The hardness of the first layer 122 is higher than the hardness of the base material 121 and is about Hv 150 to 450, improving the toughness of the leading curtain main arm 12. Although there is no restriction | limiting in particular in the material of the 1st layer 122, Nickel is preferable from viewpoints, such as adhesiveness with the base material 121, slidability with the drive pin 40, and the convenience of a blackening process. The method for forming the first layer 122 is not particularly limited, but is preferably formed by electroplating so that the hardness does not change during the heat treatment for forming the second layer 123 described later.

第2層123は、第1層122の表面全体に12μm(膜厚ばらつき±2μm以下)程度の厚みで形成されるものである。第2層の材質に特に制限は無いが、その上下の層(本実施形態においては第1層122)との密着性、駆動ピン40との摺動性、黒色化処理の利便性などの観点からニッケルが好ましい。第2層123の硬度は第1層122の硬度より高く、Hv450〜800程度であれば先幕主アーム12の強度を十分に向上させることができる。また、第2層123の硬度は、磨耗性向上の理由から、Hv600〜750Hv程度が好ましい。第2層123の形成方法も特に限定されないが、材質としてニッケルを用いる場合には、硬度を向上させるために、無電解ニッケルめっきにより成膜した後に熱処理(後に詳述)を行って形成するのが好ましい。   The second layer 123 is formed on the entire surface of the first layer 122 with a thickness of about 12 μm (thickness variation ± 2 μm or less). There are no particular restrictions on the material of the second layer, but from the standpoint of adhesion to the upper and lower layers (first layer 122 in this embodiment), slidability with the drive pin 40, convenience of the blackening process, and the like. To nickel are preferred. The hardness of the second layer 123 is higher than the hardness of the first layer 122, and if the Hv is about 450 to 800, the strength of the leading curtain main arm 12 can be sufficiently improved. Further, the hardness of the second layer 123 is preferably about Hv 600 to 750 Hv for the reason of improving wearability. The method for forming the second layer 123 is not particularly limited, but when nickel is used as the material, it is formed by performing heat treatment (detailed later) after forming the film by electroless nickel plating in order to improve the hardness. Is preferred.

ここで、第1層122と第2層123の硬度について述べると、第2層123の硬度は第1層122の硬度の1.0〜5.33倍である。また、磨耗性向上の理由から、1.5〜2.0倍が好ましく、1.8〜2.0倍がより好ましい。   Here, the hardness of the first layer 122 and the second layer 123 will be described. The hardness of the second layer 123 is 1.0 to 5.33 times the hardness of the first layer 122. Moreover, 1.5 to 2.0 times are preferable and 1.8 to 2.0 times are more preferable for the reason of abrasion resistance improvement.

第1層122および第2層123は、駆動ピン40との摩擦や衝撃に耐えるという観点から少なくとも駆動ピン孔15の周辺部に形成されていれば良いが、先幕主アーム12の全域に渡って破断を防止するためには、基材121の表面全域に渡って形成するのが好ましい。また、基材121の表面には、第1層122および第2層123以外の中間層などを形成することとしても良い。さらに、先幕主アーム12の構成について説明したが、後幕主アーム22についても同様である。なお、軸受孔14や連結孔16の周囲に生じる摩擦や衝撃力によりアーム部材が破損することを防止するために、先幕従アーム13と後幕従アーム23も同様の構成とすることとしてもよい。   The first layer 122 and the second layer 123 may be formed at least in the periphery of the drive pin hole 15 from the viewpoint of withstanding friction and impact with the drive pin 40, but over the entire area of the front curtain main arm 12. In order to prevent breakage, it is preferable to form over the entire surface of the substrate 121. In addition, an intermediate layer other than the first layer 122 and the second layer 123 may be formed on the surface of the substrate 121. Further, the configuration of the leading curtain main arm 12 has been described, but the same applies to the trailing curtain main arm 22. The front curtain follower arm 13 and the rear curtain follower arm 23 may have the same configuration in order to prevent the arm member from being damaged by friction or impact force generated around the bearing hole 14 or the connection hole 16. Good.

また、本実施形態におけるアーム部材によれば、基材121の表面に第1層122と硬度のより高い第2層123とを形成するので、第1層122で先幕主アーム12の靭性を向上させるとともに第2層123で先幕主アーム12の強度を向上させることが可能である。したがって、先幕主アーム12の破断や駆動ピン孔15の孔広がりを防止することができ、シャッタ装置100の耐久性を十分なものとすることが可能である。   Further, according to the arm member in the present embodiment, the first layer 122 and the second layer 123 having higher hardness are formed on the surface of the base material 121, so that the toughness of the leading curtain main arm 12 is increased by the first layer 122. In addition, the strength of the leading curtain main arm 12 can be improved by the second layer 123. Therefore, the front curtain main arm 12 can be prevented from being broken and the drive pin hole 15 can be prevented from spreading, and the durability of the shutter device 100 can be made sufficient.

本実施形態におけるシャッタ装置100の先幕主アーム12の製造方法は、基材121を構成する材質からなる平板状シートに、軸受孔14、駆動ピン孔15、連結孔16などを穿設するとともに先幕主アーム12の形状になるように平板状シートを打ち抜いて基材121を準備する。その後、基材121に電気ニッケルめっき処理を施して第1層122を形成する。第1層122が基材121の表面全体に形成されると、第1層122の表面全体に無電解ニッケルめっき処理を施す。無電解ニッケルめっき処理が終わると、第2層123の硬度を高くするための熱処理を行った。なお、これらの成膜処理は、基材121の各孔の内周部にも行った。また、先幕主アーム12の製造方法について説明したが、その他のアーム部材の製造方法についても同様である。   The manufacturing method of the front curtain main arm 12 of the shutter device 100 according to the present embodiment is that the flat plate sheet made of the material constituting the base material 121 is provided with the bearing hole 14, the drive pin hole 15, the connecting hole 16, and the like. A base plate 121 is prepared by punching a flat sheet so as to have the shape of the leading curtain main arm 12. Thereafter, the base layer 121 is subjected to electro nickel plating to form the first layer 122. When the first layer 122 is formed on the entire surface of the substrate 121, the entire surface of the first layer 122 is subjected to electroless nickel plating. When the electroless nickel plating process was completed, a heat treatment was performed to increase the hardness of the second layer 123. In addition, these film-forming processes were also performed to the inner peripheral part of each hole of the base material 121. Further, although the manufacturing method of the leading curtain main arm 12 has been described, the same applies to the manufacturing methods of other arm members.

ここで、一連のシャッタ動作では、駆動ピン40が円弧溝37に沿って動くことにより先幕主アーム12又は後幕主アーム22を回動させるので、露光動作の度に駆動ピン40と駆動ピン孔15,25との間で摺動による摩擦が生じる。また、駆動ピン40をブレーキ部材38に衝突させてアーム部材の停止を行うので、シャッタ動作の度にアーム部材は停止の際の衝撃力を受けることとなる。この摩擦および衝撃力は、駆動ピン40と駆動ピン孔15,25との間でシャッタをレリーズする度に繰り返し発生する。ここで、従来は、デジタルカメラでは、ユーザがフィルム消費の心配をせずに済むので、銀塩フィルム用のカメラよりも必然的にシャッタレリーズ回数が多くなる傾向にある。そのため、近年のシャッタ装置では摩擦や衝撃力の負荷が増えているという問題があった。   Here, in the series of shutter operations, the driving pin 40 moves along the arc groove 37 to rotate the front curtain main arm 12 or the rear curtain main arm 22, so that the driving pin 40 and the driving pin are each time an exposure operation is performed. Friction due to sliding occurs between the holes 15 and 25. Further, since the arm member is stopped by causing the drive pin 40 to collide with the brake member 38, the arm member receives an impact force at the time of stopping each time the shutter operation is performed. This friction and impact force is repeatedly generated every time the shutter is released between the drive pin 40 and the drive pin holes 15 and 25. Here, conventionally, in a digital camera, since the user does not have to worry about film consumption, the number of shutter releases is inevitably increased as compared with a camera for a silver halide film. Therefore, there has been a problem that the load of friction and impact force has increased in recent shutter devices.

本実施形態に係るシャッタ装置100においては、上述した衝撃力によりアーム部材の駆動ピン孔15,25が変形(例えば、孔拡がり)したりアーム部材に微小なクラックが生じるなどの損傷を防止し、また、衝撃や摺動により駆動ピン孔15,25が磨耗するのを防止して磨耗粉の発生を抑制することが可能である。   In the shutter device 100 according to the present embodiment, damage such as deformation (for example, hole expansion) of the drive pin holes 15 and 25 of the arm member or generation of minute cracks in the arm member due to the impact force described above is prevented. Further, it is possible to prevent the drive pin holes 15 and 25 from being worn by impact or sliding, and to suppress the generation of wear powder.

そして、アーム部材の破損などを防止することにより、シャッタ装置100の耐久性が向上し、一眼レフデジタルカメラ1のシャッタ性能の低下が防止できる。また、磨耗粉の発生も防止することができるので、磨耗粉による撮像素子9の受光面の汚染を防止して、良好な画質で撮影が可能である。   By preventing the arm member from being damaged, the durability of the shutter device 100 is improved, and the shutter performance of the single-lens reflex digital camera 1 can be prevented from being lowered. Moreover, since generation | occurrence | production of abrasion powder can also be prevented, it can prevent the contamination of the light-receiving surface of the image pick-up element 9 by abrasion powder, and can image | photograph with favorable image quality.

また、従来ではアーム部材の損傷などを防止するために、アーム部材を厚くして駆動ピン40から受ける圧力を分散させる方法も考えられていたが、本実施形態によればアーム部材を厚く形成する必要も無く、アーム部材の重量が増加してシャッタ速度が遅くなってしまうおそれもない。   Conventionally, in order to prevent damage to the arm member and the like, a method of dispersing the pressure received from the drive pin 40 by increasing the thickness of the arm member has been considered. However, according to the present embodiment, the arm member is formed thick. There is no need, and there is no possibility that the shutter speed becomes slow due to an increase in the weight of the arm member.

また、先幕従アーム13と後幕従アーム23も同様の構成とすることにより、回動軸50や連結ピンから軸受孔14,24や連結孔16,26に与えられる摩擦や衝撃力に対する耐久性も向上させて、アーム部材の破損を防止してシャッタ装置100の耐久性もより向上させることができる。   Further, the front curtain follower arm 13 and the rear curtain follower arm 23 have the same configuration, so that they can withstand the friction and impact force applied to the bearing holes 14, 24 and the connection holes 16, 26 from the rotation shaft 50 and the connection pins. As a result, the durability of the shutter device 100 can be further improved by preventing the arm member from being damaged.

[実施例]
次に、本実施の形態によるシャッタ装置100の耐久試験とその結果について説明する。
[Example]
Next, the durability test and the result of the shutter device 100 according to the present embodiment will be described.

まず、厚さ150μmのチタン基材121に、直径1.6mmの駆動ピン孔15、軸受孔14および連結孔16を形成する。その後、厚さ3μm(膜厚ばらつき±1μm)の電気ニッケルめっきによる第1層122と厚さ12μm(膜厚ばらつき±2μm)の無電解ニッケルめっきによる第2層123とを成膜した後に300℃で1時間の熱処理を施して先幕主アーム12を形成した。基材121の硬度は150Hv、第1層122の硬度は400Hv、第2層123の硬度は750Hvであった。同様にして先幕従アーム13、後幕主アーム22および後幕従アーム23も形成した。   First, a drive pin hole 15, a bearing hole 14, and a connection hole 16 having a diameter of 1.6 mm are formed in a titanium base material 121 having a thickness of 150 μm. Then, after forming a first layer 122 by electro nickel plating with a thickness of 3 μm (film thickness variation ± 1 μm) and a second layer 123 by electroless nickel plating with a thickness of 12 μm (film thickness variation ± 2 μm), 300 ° C. The first curtain main arm 12 was formed by heat treatment for 1 hour. The substrate 121 had a hardness of 150 Hv, the first layer 122 had a hardness of 400 Hv, and the second layer 123 had a hardness of 750 Hv. Similarly, a front curtain slave arm 13, a rear curtain master arm 22 and a rear curtain slave arm 23 were formed.

シャッタ基板30と遮光羽根12〜14を、先幕主アーム12、先幕従アーム13、回動軸50、駆動ピン40および連結ピンを用いて取り付ける。同様に、シャッタ基板30と遮光羽根21を、後幕主アーム22、後幕従アーム23、回動軸50、駆動ピン40および連結ピンを用いて取り付けてシャッタ装置100とする。   The shutter substrate 30 and the light shielding blades 12 to 14 are attached using the front curtain main arm 12, the front curtain slave arm 13, the rotation shaft 50, the drive pin 40, and the connecting pin. Similarly, the shutter substrate 30 and the light shielding blade 21 are attached using the rear curtain main arm 22, the rear curtain follower arm 23, the rotation shaft 50, the drive pin 40, and the connecting pin to form the shutter device 100.

一方、本実施形態によるシャッタ装置100と同じ連結構造をもつが、第1層を形成せずに無電解ニッケルめっきにより厚さ15μmのニッケル層を成膜した後に300℃で1時間の熱処理を施して形成したチタン製のアーム部材を用いたシャッタ装置をこの耐久試験の比較例とした。ニッケル層の硬度は750Hvであった。なお、第1層の有無以外の条件は実施例と同じであり、アーム部材の外形寸法も同じである。   On the other hand, although it has the same connection structure as the shutter device 100 according to the present embodiment, a nickel layer having a thickness of 15 μm is formed by electroless nickel plating without forming the first layer, and then heat treatment is performed at 300 ° C. for 1 hour. A shutter device using a titanium arm member formed as described above was used as a comparative example of this durability test. The nickel layer had a hardness of 750 Hv. The conditions other than the presence or absence of the first layer are the same as in the example, and the outer dimensions of the arm member are also the same.

耐久試験では、幕速(シャッタ羽根の走行速度に対応)2.9msecで20万回の繰り返しシャッタレリーズを実施した。耐久試験後、比較例のシャッタ装置ではアームの駆動ピン孔の孔広がりや破損が多発したが、本実施形態のシャッタ装置100では、駆動ピン孔15,25の孔広がりや損傷は認められなかった。   In the durability test, shutter release was repeated 200,000 times at a curtain speed (corresponding to the travel speed of the shutter blades) of 2.9 msec. After the durability test, in the shutter device of the comparative example, the hole spreading and damage of the drive pin hole of the arm frequently occurred, but in the shutter device 100 of the present embodiment, the hole spreading and damage of the drive pin holes 15 and 25 were not recognized. .

なお、本実施形態においては第1層122と第2層123をニッケルにより形成したが、第2層123の方が硬度が高ければよく、材質や形成方法は変更可能である。また、基材121の材質としてのチタン合金やアルミ合金における金属元素の構成比率も変更可能である。   In the present embodiment, the first layer 122 and the second layer 123 are formed of nickel. However, the second layer 123 only needs to have higher hardness, and the material and the forming method can be changed. Moreover, the composition ratio of the metal element in the titanium alloy or the aluminum alloy as the material of the substrate 121 can be changed.

また、アーム部材、シャッタ基板30および遮光羽根11,21の取り付け方法にも特に制限は無く、駆動ピン40、回動軸50および連結ピンの形状や寸法は適宜調整することとしてもよい。   Further, there is no particular limitation on the mounting method of the arm member, the shutter substrate 30, and the light shielding blades 11 and 21, and the shapes and dimensions of the drive pin 40, the rotation shaft 50, and the connecting pin may be adjusted as appropriate.

また、本実施形態のシャッタ装置100およびアーム部材を用いたフォーカルプレーンシャッタは、一眼レフデジタルカメラに限らず、フィルムタイプの一眼レフカメラにも適用できる。   Further, the focal plane shutter using the shutter device 100 and the arm member of the present embodiment can be applied not only to a single-lens reflex digital camera but also to a film type single-lens reflex camera.

本実施形態の一眼レフデジタルカメラの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the single-lens reflex digital camera of this embodiment. 本実施形態のシャッタ装置の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the shutter apparatus of this embodiment. 本実施形態のシャッタ装置がチャージされた状態の正面図である。It is a front view in the state where the shutter device of this embodiment was charged. 本実施形態のシャッタ装置が露光動作を終了した状態の正面図である。It is a front view of the state which the shutter apparatus of this embodiment complete | finished exposure operation | movement. 本実施形態のアーム部材の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the arm member of this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

一眼レフデジタルカメラ 1
シャッタ装置 100
先幕 10
遮光羽根 11,21
先幕主アーム 12
基材 121
第1層 122
第2層 123
先幕従アーム 13
軸受孔 14,24
駆動ピン孔 15,25
連結孔 16,26
後幕 20
後幕主アーム 22
後幕従アーム 23
シャッタ基板 30
開口部 36
円弧溝 37
駆動ピン 40
回動軸 50
SLR digital camera 1
Shutter device 100
First curtain 10
Shading blades 11, 21
Front curtain main arm 12
Base material 121
First layer 122
Second layer 123
Front curtain follower arm 13
Bearing holes 14, 24
Drive pin hole 15, 25
Connecting hole 16, 26
Trailer 20
Rear curtain main arm 22
Rear curtain follower arm 23
Shutter substrate 30
Opening 36
Arc groove 37
Drive pin 40
Rotating shaft 50

Claims (7)

基材の表面にめっき処理により形成された第1層と、
前記第1層より硬度が高く、前記第1層の表面にめっき処理により形成された第2層とを備えることを特徴とするアーム部材。
A first layer formed by plating on the surface of the substrate;
An arm member comprising: a second layer having a hardness higher than that of the first layer and formed on the surface of the first layer by plating.
前記第1層は電気ニッケルめっき処理により形成されることを特徴とする請求項1に記載のアーム部材。   The arm member according to claim 1, wherein the first layer is formed by electrolytic nickel plating. 前記第2層は、無電解ニッケルめっき処理を行ってから熱処理を行って形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載のアーム部材。   The arm member according to claim 1, wherein the second layer is formed by performing an electroless nickel plating process and then performing a heat treatment. 前記第1層のビッカース硬度は150以上450以下であり、
前記第2層のビッカース硬度は450以上800以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のアーム部材。
The first layer has a Vickers hardness of 150 or more and 450 or less,
The arm member according to claim 1, wherein the second layer has a Vickers hardness of 450 or more and 800 or less.
前記基材は、チタン、チタン合金、アルミ、アルミ合金の少なくとも一つを材質とすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のアーム部材。   The arm member according to any one of claims 1 to 4, wherein the base material is made of at least one of titanium, titanium alloy, aluminum, and aluminum alloy. 開口部と溝とを有するシャッタ基板と、
前記溝に沿って移動する駆動ピンと、
前記駆動ピンを介して前記シャッタ基材と相対運動する請求項1〜5のいずれか1項に記載のアーム部材と、
前記アーム部材に取り付けられて前記開口部を開閉するシャッタ羽根とを備えることを特徴とするシャッタ装置。
A shutter substrate having an opening and a groove;
A drive pin that moves along the groove;
The arm member according to any one of claims 1 to 5, which moves relative to the shutter base material via the drive pin,
A shutter device comprising: a shutter blade attached to the arm member to open and close the opening.
基材の表面にめっき処理を行って第1層を形成する工程と、
前記第1層の表面にめっき処理を行って前記第1層より硬度の高い第2層を形成する工程とを備えることを特徴とするアーム部材の製造方法。
Forming a first layer by plating the surface of the substrate;
And a step of plating the surface of the first layer to form a second layer having a higher hardness than the first layer.
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