JP2008239935A - Method for producing monodisperse minute particles - Google Patents

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Hiroaki Nakajima
博昭 中嶋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide resin particles having a sharp particle diameter distribution in which a hydrophilic component having various adverse influences on performances does not remain in the resin particles, or on the surface thereof, and the hydrophobicity is high, and which is excellent in electrical property and powder characteristic. <P>SOLUTION: The method for producing monodisperse resin particles (B) comprises: dispersing a dispersed phase (DP) consisting of a vinyl monomer (A) or an organic solvent solution of this monomer (A) in a continuous phase (CP) through a micro-channel (M); and performing a polymerization reaction and the elimination of this organic solvent, to produce resin particles (B), wherein this continuous phase (CP) is carbon dioxide of a supercritical state. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は粒子径が均一である単分散のビニル系樹脂粒子、およびその製造方法である。さらに詳しくは、マイクロチャネルを介して、超臨界状態の二酸化炭素に分散させるビニル系樹脂粒子の製造方法に関するものである。   The present invention relates to monodispersed vinyl resin particles having a uniform particle diameter and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a method for producing vinyl resin particles that are dispersed in carbon dioxide in a supercritical state via a microchannel.

従来より、ビニル系樹脂微粒子の製造方法としては、乳化重合法や懸濁重合法、シード重合法などが知られている。乳化重合法は、界面活性剤ミセル中で重合反応を行うことで微粒子を合成する方法であり、懸濁重合法は、エマルションの分散相を重合させて微粒子を合成する方法であり、シード重合法は種粒子を合成した後に粒子を肥大化する方法である(例えば、特許文献1参照)。
また、ビニル系反応性モノマーを、マイクロチャネルを介して水中に分散させて、液滴を作製した後、重合反応をおこなうことで高単分散のビニル系樹脂粒子を得る方法が知られている(例えば、特許文献2参照)。
しかしながら、上記の2つの方法では、製造時に水中での界面自由エネルギーを低下させたり、水中での分散安定性を付与する目的で、親水性基を有する界面活性物質(界面活性剤、高分子保護コロイド、界面活性微粒子など)を使用する必要がある。
しかし、これらの界面活性物質が樹脂粒子中または粒子表面に残存した場合、親水性基を有する界面活性剤などの水溶性不純物を含有するため、樹脂粒子の粉体特性、電気的特性、熱的特性、化学的安定性などの性能に悪影響を与えるという欠点があった。
特開平5−222204 特開2001−181309
Conventionally, as a method for producing vinyl resin fine particles, an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a seed polymerization method, and the like are known. The emulsion polymerization method is a method of synthesizing fine particles by performing a polymerization reaction in a surfactant micelle, and the suspension polymerization method is a method of synthesizing fine particles by polymerizing the dispersed phase of an emulsion, and a seed polymerization method Is a method of enlarging the particles after synthesizing the seed particles (see, for example, Patent Document 1).
Also known is a method of obtaining highly monodisperse vinyl resin particles by dispersing a vinyl reactive monomer in water through a microchannel to produce droplets and then performing a polymerization reaction ( For example, see Patent Document 2).
However, in the above two methods, a surfactant having a hydrophilic group (surfactant, polymer protection) is used for the purpose of reducing the free energy of the interface in water at the time of production or imparting dispersion stability in water. Colloids, surface active particles, etc.) must be used.
However, when these surface active substances remain in the resin particles or on the particle surface, they contain water-soluble impurities such as surfactants having hydrophilic groups, so that the powder characteristics, electrical characteristics, thermal properties of the resin particles There is a drawback that it adversely affects performance such as characteristics and chemical stability.
JP-A-5-222204 JP2001-181309

本発明の課題は、性能に種々の悪影響を与える親水性成分が樹脂粒子中または表面に残存せず、かつ粒子径分布がシャープな樹脂粒子を得ることである。 An object of the present invention is to obtain resin particles in which hydrophilic components that have various adverse effects on performance do not remain in or on the resin particles and the particle size distribution is sharp.

本発明者らは、これらの問題点を解決するべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち、連続相(CP)として超臨界状態の二酸化炭素を使用することにより、親水性基を有する界面活性剤、高分子保護コロイド、界面活性微粒子などを併用しなくても高単分散の樹脂粒子を得ることができることを見出した。
As a result of intensive studies to solve these problems, the present inventors have reached the present invention.
That is, by using carbon dioxide in a supercritical state as a continuous phase (CP), highly monodispersed resin particles without using a surfactant having a hydrophilic group, a polymer protective colloid, surfactant fine particles, etc. Found that you can get.

本発明の製造方法で得られる樹脂粒子は、親水性基を有する界面活性物質を含有せず、かつ粒子径分布がシャープな樹脂粒子である。このため、疎水性が高く、電気特性、粉体特性に優れた単分散樹脂粒子が得られる。 The resin particles obtained by the production method of the present invention are resin particles that do not contain a surfactant having a hydrophilic group and have a sharp particle size distribution. For this reason, monodisperse resin particles having high hydrophobicity and excellent electrical characteristics and powder characteristics can be obtained.

本発明は、マイクロチャネル(M)を用いて、粒子径が非常に均一である単分散の樹脂粒子を得ることができる製造方法である。
すなわち、ビニル系モノマー(A)を含む分散相(DP)を、マイクロチャネル(M)を介して、超臨界状態の二酸化炭素からなる連続相(CP)中に分散させ、ビニル系モノマー(A)を重合させることにより、単分散の樹脂粒子(B)を製造することができる。
The present invention is a production method capable of obtaining monodisperse resin particles having a very uniform particle diameter using a microchannel (M).
That is, a dispersed phase (DP) containing a vinyl monomer (A) is dispersed in a continuous phase (CP) composed of carbon dioxide in a supercritical state via a microchannel (M), and the vinyl monomer (A) By polymerizing, monodispersed resin particles (B) can be produced.

本発明に用いられるビニル系モノマーは、下記(1)〜(10)が挙げられる。また、これらのビニル系モノマーは単独で重合してもよいし、他の共重合性のビニル系モノマーと共重合してもよい。
(1)ビニル系炭化水素:
(1−1)脂肪族ビニル系炭化水素:アルケン類、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、イソブチレン、ペンテン、ヘプテン、ジイソブチレン、オクテン、ドデセン、オクタデセン、前記以外のα−オレフィン等;アルカジエン類、例えばブタジエン、イソプレン、1,4−ペンタジエン、1,6−ヘキサジエン、1,7−オクタジエンなど。
(1−2)脂環式ビニル系炭化水素:モノ−もしくはジ−シクロアルケンおよびアルカジエン類、例えばシクロヘキセン、(ジ)シクロペンタジエン、ビニルシクロヘキセン、エチリデンビシクロヘプテン等;テルペン類、例えばピネン、リモネン、インデンなど。
(1−3)芳香族ビニル系炭化水素:スチレンおよびそのハイドロカルビル(アルキル、シクロアルキル、アラルキルおよび/またはアルケニル)置換体、例えばα−メチルスチレン、ビニルトルエン、2,4−ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、フェニルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ベンジルスチレン、クロチルベンゼン、ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン、トリビニルベンゼン等;およびビニルナフタレンなど。
The vinyl monomers used in the present invention include the following (1) to (10). Further, these vinyl monomers may be polymerized alone or may be copolymerized with other copolymerizable vinyl monomers.
(1) Vinyl hydrocarbons:
(1-1) Aliphatic vinyl hydrocarbons: alkenes such as ethylene, propylene, butene, isobutylene, pentene, heptene, diisobutylene, octene, dodecene, octadecene, α-olefins other than the above, etc .; alkadienes such as butadiene , Isoprene, 1,4-pentadiene, 1,6-hexadiene, 1,7-octadiene and the like.
(1-2) Alicyclic vinyl hydrocarbons: mono- or di-cycloalkenes and alkadienes such as cyclohexene, (di) cyclopentadiene, vinylcyclohexene, ethylidenebicycloheptene and the like; terpenes such as pinene, limonene, Inden etc.
(1-3) Aromatic vinyl hydrocarbons: Styrene and its hydrocarbyl (alkyl, cycloalkyl, aralkyl and / or alkenyl) substitutes such as α-methylstyrene, vinyltoluene, 2,4-dimethylstyrene, ethyl Styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, phenyl styrene, cyclohexyl styrene, benzyl styrene, crotyl benzene, divinyl benzene, divinyl toluene, divinyl xylene, trivinyl benzene, etc .; and vinyl naphthalene.

(2)カルボキシル基含有ビニル系モノマー及びその塩:
炭素数3〜30の不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸ならびにその無水物およびそのモノアルキル(炭素数1〜24)エステル、例えば(メタ)アクリル酸、(無水)マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、フマル酸モノアルキルエステル、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸モノアルキルエステル、イタコン酸グリコールモノエーテル、シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステル、桂皮酸等のカルボキシル基含有ビニル系モノマーなど。
(2) Carboxyl group-containing vinyl monomers and their salts:
C3-C30 unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids and anhydrides thereof and monoalkyl (C1-24) esters thereof such as (meth) acrylic acid, (anhydrous) maleic acid, monoalkyl maleate Carboxyl group-containing vinyl monomers such as esters, fumaric acid, fumaric acid monoalkyl esters, crotonic acid, itaconic acid, itaconic acid monoalkyl esters, itaconic acid glycol monoether, citraconic acid, citraconic acid monoalkyl esters, and cinnamic acid.

(3)スルホン基含有ビニル系モノマー、ビニル系硫酸モノエステル化物及びこれらの塩:
炭素数2〜14のアルケンスルホン酸、例えばビニルスルホン酸、(メタ)アリルスルホン酸、メチルビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸;およびその炭素数2〜24のアルキル誘導体、例えばα−メチルスチレンスルホン酸等;スルホ(ヒドロキシ)アルキル−(メタ)アクリレートもしくは(メタ)アクリルアミド、例えば、スルホプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロキシプロピルスルホン酸、2−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2−ジメチルエタンスルホン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエタンスルホン酸、3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、3−(メタ)アクリルアミド−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸、アルキル(炭素数3〜18)アリルスルホコハク酸、ポリ(n=2〜30)オキシアルキレン(エチレン、プロピレン、ブチレン:単独、ランダム、ブロックでもよい)モノ(メタ)アクリレートの硫酸エステル[ポリ(n=5〜15)オキシプロピレンモノメタクリレート硫酸エステル等]、ポリオキシエチレン多環フェニルエーテル硫酸エステル、および硫酸エステルもしくはスルホン酸基含有モノマーなど;ならびそれらの塩など。
(3) Sulfonic group-containing vinyl monomers, vinyl sulfate monoesters and their salts:
Alkene sulfonic acids having 2 to 14 carbon atoms such as vinyl sulfonic acid, (meth) allyl sulfonic acid, methyl vinyl sulfonic acid, styrene sulfonic acid; and alkyl derivatives having 2 to 24 carbon atoms such as α-methyl styrene sulfonic acid Sulfo (hydroxy) alkyl- (meth) acrylate or (meth) acrylamide, such as sulfopropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloxypropylsulfonic acid, 2- (meth) acryloylamino-2 , 2-dimethylethanesulfonic acid, 2- (meth) acryloyloxyethanesulfonic acid, 3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropanesulfonic acid, 2- (meth) acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 3- (Meth) acrylamide-2- Droxypropanesulfonic acid, alkyl (C3-18) allylsulfosuccinic acid, poly (n = 2-30) oxyalkylene (ethylene, propylene, butylene: single, random or block) sulfuric acid of mono (meth) acrylate Esters [poly (n = 5 to 15) oxypropylene monomethacrylate sulfate ester, etc.], polyoxyethylene polycyclic phenyl ether sulfate ester, sulfate ester or sulfonic acid group-containing monomer, and salts thereof.

(4)燐酸基含有ビニル系モノマー及びその塩:
(メタ)アクリロイルオキシアルキル(C1〜C24)燐酸モノエステル、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリロイルホスフェート、フェニル−2−アクリロイロキシエチルホスフェート、(メタ)アクリロイルオキシアルキル(炭素数1〜24)ホスホン酸類、例えば2−アクリロイルオキシエチルホスホン酸など。
なお、上記(2)〜(4)の塩としては、例えばアルカリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(カルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニウム塩、アミン塩もしくは4級アンモニウム塩が挙げられる。
(4) Phosphoric acid group-containing vinyl monomers and salts thereof:
(Meth) acryloyloxyalkyl (C1 to C24) phosphoric acid monoester, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acryloyl phosphate, phenyl-2-acryloyloxyethyl phosphate, (meth) acryloyloxyalkyl (C1-24) Phosphonic acids such as 2-acryloyloxyethylphosphonic acid.
Examples of the salts (2) to (4) include alkali metal salts (sodium salts, potassium salts, etc.), alkaline earth metal salts (calcium salts, magnesium salts, etc.), ammonium salts, amine salts, or quaternary grades. An ammonium salt is mentioned.

(5)ヒドロキシル基含有ビニル系モノマー:
ヒドロキシスチレン、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、(メタ)アリルアルコール、クロチルアルコール、イソクロチルアルコール、1−ブテン−3−オール、2−ブテン−1−オール、2−ブテン−1,4−ジオール、プロパルギルアルコール、2−ヒドロキシエチルプロペニルエーテル、庶糖アリルエーテルなど。
(5) Hydroxyl group-containing vinyl monomer:
Hydroxystyrene, N-methylol (meth) acrylamide, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, (meth) allyl alcohol, crotyl alcohol, isocrotyl alcohol, 1- Buten-3-ol, 2-buten-1-ol, 2-butene-1,4-diol, propargyl alcohol, 2-hydroxyethylpropenyl ether, sucrose allyl ether, and the like.

(6)含窒素ビニル系モノマー:
(6−1)アミノ基含有ビニル系モノマー:
アミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、N−アミノエチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アリルアミン、モルホリノエチル(メタ)アクリレート、4ービニルピリジン、2ービニルピリジン、クロチルアミン、N,N−ジメチルアミノスチレン、メチルα−アセトアミノアクリレート、ビニルイミダゾール、N−ビニルピロール、N−ビニルチオピロリドン、N−アリールフェニレンジアミン、アミノカルバゾール、アミノチアゾール、アミノインドール、アミノピロール、アミノイミダゾール、アミノメルカプトチアゾール、これらの塩など。
(6−2)アミド基含有ビニル系モノマー:(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N’−メチレン−ビス(メタ)アクリルアミド、桂皮酸アミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジベンジルアクリルアミド、メタクリルホルムアミド、N−メチルN−ビニルアセトアミド、N−ビニルピロリドンなど。
(6−3)ニトリル基含有ビニル系モノマー:(メタ)アクリロニトリル、シアノスチレン、シアノアクリレートなど。
(6−4)4級アンモニウムカチオン基含有ビニル系モノマー:ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジアリルアミン等の3級アミン基含有ビニル系モノマーの4級化物(メチルクロライド、ジメチル硫酸、ベンジルクロライド、ジメチルカーボネート等の4級化剤を用いて4級化したもの)など。
(6−5)ニトロ基含有ビニル系モノマー:ニトロスチレンなど。
(6) Nitrogen-containing vinyl monomer:
(6-1) Amino group-containing vinyl monomer:
Aminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl methacrylate, N-aminoethyl (meth) acrylamide, (meth) allylamine, morpholinoethyl (meth) acrylate, 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, crotylamine, N, N-dimethylaminostyrene, methyl α-acetaminoacrylate, vinylimidazole, N-vinylpyrrole, N-vinylthiopyrrolidone, N-arylphenylenediamine, aminocarbazole, aminothiazole, amino Indole, aminopyrrole, aminoimidazole, aminomercaptothiazole, and salts thereof.
(6-2) Amide group-containing vinyl monomers: (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-butyl acrylamide, diacetone acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N, N′-methylene-bis (Meth) acrylamide, cinnamic amide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dibenzylacrylamide, methacrylformamide, N-methyl N-vinylacetamide, N-vinylpyrrolidone and the like.
(6-3) Nitrile group-containing vinyl monomers: (meth) acrylonitrile, cyanostyrene, cyanoacrylate and the like.
(6-4) Quaternary ammonium cationic group-containing vinyl monomers: tertiary such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, diethylaminoethyl (meth) acrylamide, diallylamine and the like Quaternized products of amine group-containing vinyl monomers (quaternized with a quaternizing agent such as methyl chloride, dimethyl sulfate, benzyl chloride, dimethyl carbonate).
(6-5) Nitro group-containing vinyl monomers: nitrostyrene and the like.

(7)エポキシ基含有ビニル系モノマー:グルシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、p−ビニルフェニルフェニルオキサイドなど。 (7) Epoxy group-containing vinyl monomers: glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, p-vinylphenylphenyl oxide and the like.

(8)ハロゲン元素含有ビニル系モノマー:塩化ビニル、臭化ビニル、塩化ビニリデン、アリルクロライド、クロルスチレン、ブロムスチレン、ジクロルスチレン、クロロメチルスチレン、テトラフルオロスチレン、クロロプレンなど。 (8) Halogen element-containing vinyl monomers: vinyl chloride, vinyl bromide, vinylidene chloride, allyl chloride, chlorostyrene, bromostyrene, dichlorostyrene, chloromethylstyrene, tetrafluorostyrene, chloroprene and the like.

(9)ビニルエステル、ビニル(チオ)エーテル、ビニルケトン、ビニルスルホン類:
(9−1)ビニルエステル、例えば酢酸ビニル、ビニルブチレート、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ジアリルフタレート、ジアリルアジペート、イソプロペニルアセテート、ビニルメタクリレート、メチル4−ビニルベンゾエート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ビニルメトキシアセテート、ビニルベンゾエート、エチルα−エトキシアクリレート、炭素数1〜50のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート[メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレート等]、ジアルキルフマレート(2個のアルキル基は、炭素数2〜8の、直鎖、分枝鎖もしくは脂環式の基である)、ジアルキルマレエート(2個のアルキル基は、炭素数2〜8の、直鎖、分枝鎖もしくは脂環式の基である)、ポリ(メタ)アリロキシアルカン類[ジアリロキシエタン、トリアリロキシエタン、テトラアリロキシエタン、テトラアリロキシプロパン、テトラアリロキシブタン、テトラメタアリロキシエタン等]等、ポリアルキレングリコール鎖を有するビニル系モノマー[ポリエチレングリコール(分子量300)モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(分子量500)モノアクリレート、メチルアルコールエチレンオキサイド10モル付加物(メタ)アクリレート、ラウリルアルコールエチレンオキサイド30モル付加物(メタ)アクリレート等]、ポリ(メタ)アクリレート類[多価アルコール類のポリ(メタ)アクリレート:エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等]など。
(9) Vinyl esters, vinyl (thio) ethers, vinyl ketones, vinyl sulfones:
(9-1) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl propionate, vinyl butyrate, diallyl phthalate, diallyl adipate, isopropenyl acetate, vinyl methacrylate, methyl 4-vinylbenzoate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, phenyl ( (Meth) acrylate, vinyl methoxyacetate, vinyl benzoate, ethyl α-ethoxy acrylate, alkyl (meth) acrylate having 1 to 50 carbon atoms [methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate , Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadec (Meth) acrylate, eicosyl (meth) acrylate, etc.], dialkyl fumarate (two alkyl groups are straight, branched or alicyclic groups having 2 to 8 carbon atoms), dialkyl maleate (Two alkyl groups are linear, branched or alicyclic groups having 2 to 8 carbon atoms), poly (meth) allyloxyalkanes [diallyloxyethane, triaryloxyethane, Tetraallyloxyethane, tetraallyloxypropane, tetraallyloxybutane, tetrametaallyloxyethane, etc.] vinyl monomers having a polyalkylene glycol chain [polyethylene glycol (molecular weight 300) mono (meth) acrylate, polypropylene glycol (molecular weight 500) Monoacrylate, methyl alcohol ethylene oxide 10 mol adduct (meta ) Acrylate, lauryl alcohol ethylene oxide 30 mole adduct (meth) acrylate, etc.], poly (meth) acrylates [poly (meth) acrylate of polyhydric alcohols: ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) Acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, etc.].

(9−2)ビニル(チオ)エーテル、例えばビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、ビニルブチルエーテル、ビニル2−エチルヘキシルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニル2−メトキシエチルエーテル、メトキシブタジエン、ビニル2−ブトキシエチルエーテル、3,4−ジヒドロ1,2−ピラン、2−ブトキシ−2’−ビニロキシジエチルエーテル、ビニル2−エチルメルカプトエチルエーテル、アセトキシスチレン、フェノキシスチレン、(9−3)ビニルケトン、例えばビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルフェニルケトン;ビニルスルホン、例えばジビニルサルファイド、p−ビニルジフェニルサルファイド、ビニルエチルサルファイド、ビニルエチルスルフォン、ジビニルスルフォン、ジビニルスルフォキサイドなど。 (9-2) Vinyl (thio) ether, such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, vinyl propyl ether, vinyl butyl ether, vinyl 2-ethylhexyl ether, vinyl phenyl ether, vinyl 2-methoxyethyl ether, methoxy butadiene, vinyl 2- Butoxyethyl ether, 3,4-dihydro1,2-pyran, 2-butoxy-2′-vinyloxydiethyl ether, vinyl 2-ethylmercaptoethyl ether, acetoxystyrene, phenoxystyrene, (9-3) vinyl ketones such as vinyl Methyl ketone, vinyl ethyl ketone, vinyl phenyl ketone; vinyl sulfone, such as divinyl sulfide, p-vinyl diphenyl sulfide, vinyl ethyl sulfide, vinyl ethyl sulfone, divinyl Rufon, such as divinyl Gandolfo key side.

(10)その他のビニル系モノマー:
イソシアナトエチル(メタ)アクリレート、m−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネートなど。
(10) Other vinyl monomers:
Isocyanatoethyl (meth) acrylate, m-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate and the like.

ビニル系モノマーの共重合体としては、上記(1)〜(10)の任意のモノマー同士を、2元またはそれ以上の組み合わせで、任意の割合で共重合したポリマーが挙げられる。
例えば、スチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、(メタ)アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、スチレン−(メタ)アクリル酸、ジビニルベンゼン共重合体、スチレン−スチレンスルホン酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。
Examples of the copolymer of vinyl monomers include polymers obtained by copolymerizing any of the above-mentioned (1) to (10) with a binary or combination thereof in an arbitrary ratio.
For example, styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer, styrene-butadiene copolymer, (meth) acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, Styrene- (meth) acrylic acid copolymer, styrene- (meth) acrylic acid, divinylbenzene copolymer, styrene-styrenesulfonic acid- (meth) acrylic acid ester copolymer, and the like.

本発明の単分散樹脂粒子(B)の体積平均粒径は、粒子径分布シャープ化の観点から好ましくは0.01〜50μm、さらに好ましくは0.01〜30μmである。
なお、体積平均粒径は、コールター原理の粒度分布測定装置で測定できる。
The volume average particle size of the monodispersed resin particles (B) of the present invention is preferably 0.01 to 50 μm, more preferably 0.01 to 30 μm from the viewpoint of sharpening the particle size distribution.
The volume average particle diameter can be measured with a particle size distribution measuring apparatus based on the Coulter principle.

本発明の単分散樹脂粒子(B)の粒子径分布は、粒子径の変動係数が、好ましくは0.1〜10%、さらに好ましくは0.1〜5%、特に好ましくは0.1〜3%である。
ここで変動係数とは、以下の計算式より算出される値である。
変動係数=(標準偏差/体積平均粒径)×100
In the particle size distribution of the monodispersed resin particles (B) of the present invention, the variation coefficient of the particle size is preferably 0.1 to 10%, more preferably 0.1 to 5%, particularly preferably 0.1 to 3. %.
Here, the variation coefficient is a value calculated from the following calculation formula.
Coefficient of variation = (standard deviation / volume average particle size) × 100

ビニル系モノマー(A)を溶解する有機溶剤(U)としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラリンなどの芳香族炭化水素系溶剤;n−ヘキサン、n−ヘプタン、ミネラルスピリット、シクロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶剤;塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、メチレンジクロライド、四塩化炭素、トリクロロエチレン、パークロロエチレンなどのハロゲン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、メトキシブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエステル系またはエステルエーテル系溶剤;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ−n−ブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤;メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール、2−エチルヘキシルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶剤;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶剤;ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶剤、N−メチルピロリドンなどの複素環式化合物系溶剤、ならびにこれらの2種以上の混合溶剤が挙げられる。   Examples of the organic solvent (U) for dissolving the vinyl monomer (A) include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene, and tetralin; aliphatics such as n-hexane, n-heptane, mineral spirit, and cyclohexane; Alicyclic hydrocarbon solvents: halogen solvents such as methyl chloride, methyl bromide, methyl iodide, methylene dichloride, carbon tetrachloride, trichloroethylene, perchloroethylene; ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate , Ester solvents such as methoxybutyl acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, etc .; diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomer Ether solvents such as ether; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, di-n-butyl ketone and cyclohexanone; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, 2 -Alcohol solvents such as ethylhexyl alcohol and benzyl alcohol; amide solvents such as formamide, dimethylformamide and dimethylacetamide; sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide; heterocyclic compounds solvents such as N-methylpyrrolidone; The mixed solvent of seed | species or more is mentioned.

ビニル系モノマー(A)またはその溶剤溶液を、超臨界状態の二酸化炭素(X)中に安定に分散させるには、疎水性の分散安定剤(C)を用いることが好ましい。
このような分散安定剤(C)としては、二酸化炭素に親和性を有するジメチルシロキサン基、含フッ素基の少なくとも1種の官能基を有する、重量平均分子量が1,000〜1,000,000の高分子化合物が挙げられる。
すなわち、フッ素原子を含有する官能基および/またはジメチルシロキサン基を分子内に有する、重量平均分子量が1,000〜1,000,000の高分子化合物が好ましい。
さらに、分子内の側鎖に、フッ素原子を含有する官能基および/またはジメチルシロキサン基が結合した、重量平均分子量が1,000〜1,000,000の櫛型高分子化合物が、疎水性の分散安定剤としてより好ましい。
具体的には、ジメチルシロキサン基を有するモノマー、フッ素を含有するモノマーの少なくとも1種と、ビニル系のモノマーあるいはオリゴマーの共重合体が好ましい。共重合の形態はランダム、ブロック、グラフトのいずれでもよいが、ブロックあるいはグラフトが好ましい。
この分散安定剤(C)は、連続相(CP)および分散相(DP)のどちらに添加してもよい。
In order to stably disperse the vinyl monomer (A) or the solvent solution thereof in the supercritical carbon dioxide (X), it is preferable to use a hydrophobic dispersion stabilizer (C).
As such a dispersion stabilizer (C), it has a dimethylsiloxane group having an affinity for carbon dioxide and at least one functional group of a fluorine-containing group, and has a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. A high molecular compound is mentioned.
That is, a polymer compound having a functional group containing a fluorine atom and / or a dimethylsiloxane group in the molecule and having a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000 is preferable.
Furthermore, a comb polymer having a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000 in which a functional group containing a fluorine atom and / or a dimethylsiloxane group is bonded to a side chain in the molecule is hydrophobic. More preferable as a dispersion stabilizer.
Specifically, a copolymer of at least one monomer having a dimethylsiloxane group or a fluorine-containing monomer and a vinyl monomer or oligomer is preferable. The form of copolymerization may be random, block or graft, but block or graft is preferred.
The dispersion stabilizer (C) may be added to either the continuous phase (CP) or the dispersed phase (DP).

本発明の樹脂中に、他の添加物(顔料、充填剤、帯電防止剤、着色剤、離型剤、荷電制御剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ブロッキング防止剤、耐熱安定剤、難燃剤など)を含有させても差し支えない。
この方法としては、ビニル系モノマーまたはその溶剤溶液に添加物を混合して分散相(DP)とした後、連続相(CP)中に分散させるのが好ましい。
In the resin of the present invention, other additives (pigments, fillers, antistatic agents, colorants, mold release agents, charge control agents, ultraviolet absorbers, antioxidants, antiblocking agents, heat stabilizers, flame retardants Etc.) may be contained.
As this method, it is preferable that an additive is mixed with a vinyl monomer or a solvent solution thereof to form a dispersed phase (DP) and then dispersed in a continuous phase (CP).

マイクロチャネル(M)としては、貫通孔(流路)を形成した隔壁で分散相と連続相を分離し、貫通孔(流路)を介して分散相を連続相中に押し出す構造を有するものであれば、特に限定されず、公知のもの(例えば特開2000−15070号公報や特開2006−110505号公報に記載のマイクロチャネルが挙げられる。)を使用することができる。マイクロチャネルを介して押し出された分散相は液滴となり、連続相中に分散する。 The microchannel (M) has a structure in which a dispersed phase and a continuous phase are separated by a partition having a through hole (flow channel), and the dispersed phase is pushed into the continuous phase through the through hole (flow channel). If it exists, it will not specifically limit, A well-known thing (For example, the microchannel as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-15070 or Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-110505 is mentioned.) Can be used. The dispersed phase extruded through the microchannel becomes droplets and is dispersed in the continuous phase.

マイクロチャネルの表面は、連続相と親和性がある方が好ましいことが知られている。本発明で連続相に用いる超臨界状態の二酸化炭素は疎水性であるため、マイクロチャネルは疎水化処理されていてもよい。疎水化の方法は特に限定されないが、マイクロチャネルの材質がガラスやシリコンであれば、例えばシランカップリング剤による処理などが挙げられる。具体的には、オクチルトリエトキシシラン、オクタデシルトリクロロシラン、ヘキサメチルジシラザンなどのシランカップリング剤を使用して、公知の方法で疎水化処理すればよい。
It is known that the surface of the microchannel is preferably compatible with the continuous phase. Since the supercritical carbon dioxide used for the continuous phase in the present invention is hydrophobic, the microchannel may be hydrophobized. The method of hydrophobizing is not particularly limited, but if the material of the microchannel is glass or silicon, for example, treatment with a silane coupling agent may be mentioned. Specifically, it may be hydrophobized by a known method using a silane coupling agent such as octyltriethoxysilane, octadecyltrichlorosilane, hexamethyldisilazane and the like.

本発明において、連続相(CP)の溶媒として用いるのは超臨界状態の二酸化炭素(X)である。超臨界状態の二酸化炭素とは、臨界点(温度=31℃、圧力=7.4MPa)以上の温度・圧力条件下に存在する二酸化炭素を表す。   In the present invention, carbon dioxide (X) in a supercritical state is used as a solvent for the continuous phase (CP). Carbon dioxide in a supercritical state represents carbon dioxide existing under temperature and pressure conditions above the critical point (temperature = 31 ° C., pressure = 7.4 MPa).

連続相(CP)の圧力は、分散相(DP)を超臨界状態の二酸化炭素(X)に良好に分散させるために、好ましくは7.4MPa以上であり、設備コスト、運転コストの観点から好ましくは40MPa以下である。さらに好ましくは7.5〜35MPa、より好ましくは8〜30MPa、特に好ましくは8.5〜25MPa、最も好ましくは9〜20MPaである。
(CP)の温度及び圧力は、ビニル系モノマー(A)が超臨界状態の二酸化炭素(X)中に溶解せず、かつビニル系モノマー(A)を含む液滴が合一しない範囲内で設定することが好ましい。通常、低温かつ低圧であるほど、ビニル系モノマー(A)が超臨界状態の二酸化炭素(X)中に溶解しない傾向となり、高温・高圧ほどビニル系モノマー(A)を含む液滴が合一し易い傾向となる。
The pressure of the continuous phase (CP) is preferably 7.4 MPa or higher in order to satisfactorily disperse the dispersed phase (DP) in the supercritical carbon dioxide (X), which is preferable from the viewpoint of equipment cost and operation cost. Is 40 MPa or less. More preferably, it is 7.5-35 MPa, More preferably, it is 8-30 MPa, Most preferably, it is 8.5-25 MPa, Most preferably, it is 9-20 MPa.
The temperature and pressure of (CP) are set so that the vinyl monomer (A) does not dissolve in the supercritical carbon dioxide (X) and the droplets containing the vinyl monomer (A) do not coalesce. It is preferable to do. Usually, the lower the temperature and the lower the pressure, the more the vinyl monomer (A) tends to not dissolve in the supercritical carbon dioxide (X), and the higher the temperature and the higher the pressure, the droplets containing the vinyl monomer (A) are united. It tends to be easy.

連続相としての物性値(粘度、拡散係数、誘電率、溶解度、界面張力など)を調整するために連続相(CP)中に他の気体を適宜含んでよく、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン、空気などの不活性気体が挙げられる。   In order to adjust the physical property values (viscosity, diffusion coefficient, dielectric constant, solubility, interfacial tension, etc.) as the continuous phase, other gases may be appropriately contained in the continuous phase (CP). For example, nitrogen, helium, argon, An inert gas such as air can be mentioned.

分散相(DP)の粘度は、粒子径均一性の観点から1〜5000mPa・s(B型粘度計による測定値、測定温度25℃)が好ましく、さらに好ましくは10〜1000mPa・sである。
分散相(DP)の粘度が高い場合は、前述の有機溶剤(U)と混合したり、高温にして粘度を上記好ましい範囲まで低下させることが好ましい。
The viscosity of the dispersed phase (DP) is preferably 1 to 5000 mPa · s (measured by a B-type viscometer, measurement temperature 25 ° C.), more preferably 10 to 1000 mPa · s, from the viewpoint of particle size uniformity.
When the viscosity of the dispersed phase (DP) is high, it is preferable to mix with the organic solvent (U) described above, or to reduce the viscosity to the above preferred range by increasing the temperature.

分散相(DP)の温度は、減圧時に配管内で二酸化炭素が固体に相転移し、流路を閉塞させないようにするために、30℃以上が好ましく、また、樹脂粒子(B)の熱劣化を防止するために、200℃以下が好ましい。さらに30〜150℃が好ましく、より好ましくは34〜130℃、特に好ましくは35〜100℃、最も好ましくは40℃〜80℃である。
分散相(DP)の温度と連続相(CP)の温度の差は特に限定されないが、小さい方が好ましい。
The temperature of the dispersed phase (DP) is preferably 30 ° C. or higher in order to prevent carbon dioxide from undergoing a phase transition in the pipe during decompression and block the flow path, and thermal degradation of the resin particles (B). In order to prevent this, 200 ° C. or lower is preferable. Furthermore, 30-150 degreeC is preferable, More preferably, it is 34-130 degreeC, Especially preferably, it is 35-100 degreeC, Most preferably, it is 40-80 degreeC.
The difference between the temperature of the dispersed phase (DP) and the temperature of the continuous phase (CP) is not particularly limited, but a smaller one is preferable.

超臨界状態の二酸化炭素(X)に分散した、ビニル系モノマー(A)またはその溶剤溶液において、このビニル系モノマー(A)を重合反応させる方法は特に限定されない。
例えば、ビニル系モノマー(A)またはその溶剤溶液を、(X)中に分散する直前に、重合開始剤を混合し、分散すると同時に重合反応させて樹脂粒子(B)を得る方法が好ましい。
重合反応により、樹脂粒子(B)が超臨界状態の二酸化炭素(X)に分散した分散体(Y)が得られる。
反応は減圧前に完結させてもよく、またある程度反応させ、減圧して(B)を取り出した後、恒温槽などで熟成させ完結させてもよい。また、必要に応じて遷移金属触媒などの公知の触媒を使用することができる。重合温度は好ましくは30〜120℃、さらに好ましくは40〜100℃である。
A method for polymerizing the vinyl monomer (A) in the vinyl monomer (A) or a solvent solution thereof dispersed in carbon dioxide (X) in a supercritical state is not particularly limited.
For example, it is preferable to obtain a resin particle (B) by mixing and dispersing a polymerization initiator immediately before dispersing the vinyl monomer (A) or a solvent solution thereof in (X) and simultaneously dispersing the polymerization initiator.
By the polymerization reaction, a dispersion (Y) in which the resin particles (B) are dispersed in carbon dioxide (X) in a supercritical state is obtained.
The reaction may be completed before depressurization, or may be allowed to react to some extent, and after depressurizing to take out (B), it may be completed by aging in a thermostatic bath or the like. Moreover, well-known catalysts, such as a transition metal catalyst, can be used as needed. The polymerization temperature is preferably 30 to 120 ° C, more preferably 40 to 100 ° C.

樹脂粒子(B)が超臨界状態の二酸化炭素(X)に分散した分散体(Y)から樹脂粒子(B)を得る際には、超臨界状態の二酸化炭素を減圧して除去する。このとき、独立に圧力制御された容器を多段に設けることにより段階的に減圧してもよく、また一気に常温常圧まで減圧してもよい。   When obtaining the resin particles (B) from the dispersion (Y) in which the resin particles (B) are dispersed in the supercritical carbon dioxide (X), the supercritical carbon dioxide is removed under reduced pressure. At this time, it is possible to reduce the pressure stepwise by providing multiple pressure-controlled containers in multiple stages, or to reduce the pressure to normal temperature and normal pressure at once.

樹脂粒子(B)が有機溶剤を含有している場合は、この有機溶剤を除去することが望ましい。その方法としては、温風やスチームなどを樹脂粒子(B)に接触させる方法、有機溶剤を樹脂粒子(B)から二酸化炭素の相に抽出する方法などが挙げられる。
樹脂粒子(B)間の合着が起こりにくいという点から、抽出する方法が好ましく、さらに有機溶剤を含む二酸化炭素を有機溶剤不含の二酸化炭素に置換して有機溶剤を抽出する操作を繰り返し行うことが好ましい。
When the resin particles (B) contain an organic solvent, it is desirable to remove the organic solvent. Examples of the method include a method in which hot air or steam is brought into contact with the resin particles (B), and a method in which an organic solvent is extracted from the resin particles (B) into a carbon dioxide phase.
An extraction method is preferable from the viewpoint that coalescence between the resin particles (B) hardly occurs. Further, an operation of extracting the organic solvent by replacing carbon dioxide containing the organic solvent with carbon dioxide containing no organic solvent is repeatedly performed. It is preferable.

樹脂粒子(B)の回収法は特に限定されず、例えばフィルターで捕集する方法、サイクロンにより捕集する方法などが挙げられる。 The method for collecting the resin particles (B) is not particularly limited, and examples thereof include a method of collecting with a filter and a method of collecting with a cyclone.

以下実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。以下の記載において「部」は重量部、「%」は重量%を示す。   Hereinafter, the present invention will be further described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In the following description, “parts” represents parts by weight and “%” represents% by weight.

以下の実施例では、マイクロチャネルとしては、(株)イーピーテック製の型式WMS1を用いた。その概念図は図1の通りである。 In the following examples, model WMS1 manufactured by EPTEC Co., Ltd. was used as the microchannel. The conceptual diagram is as shown in FIG.

製造例1 <分散安定剤溶液の製造>
攪拌機を備えた反応容器内にテトラヒドロフラン(THF)700部を仕込み、反応容器内の空気を窒素置換した後、加熱して還流温度とした。次に、メタクリル酸メチル150部、メタクリル変性シリコーン(官能基当量:12,000g/mol、数平均分子量12,000、信越化学工業製:X22−2426)150部、アゾビスイソブチロニトリル1.5部の混合物を反応容器内に2時間で適下後、還流温度で6時間熟成し、分散安定剤溶液(C−1)を得た。この重量平均分子量は43,000であった。
Production Example 1 <Production of dispersion stabilizer solution>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, 700 parts of tetrahydrofuran (THF) was charged, and the air in the reaction vessel was purged with nitrogen, followed by heating to reflux temperature. Next, 150 parts of methyl methacrylate, 150 parts of methacryl-modified silicone (functional group equivalent: 12,000 g / mol, number average molecular weight 12,000, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: X22-2426), azobisisobutyronitrile After 5 parts of the mixture was properly placed in the reaction vessel in 2 hours, it was aged at reflux temperature for 6 hours to obtain a dispersion stabilizer solution (C-1). The weight average molecular weight was 43,000.

実施例1
マイクロチャネル(M)は分散槽T2内の分散相導入部位に設置した。図2の実験装置において、まずバルブV1、V2を閉じ、ボンベB2、ポンプP3より粒子回収槽T3に二酸化炭素(純度99.99%)を導入し、10MPa、40℃に調整した。また溶液タンクT1には、1%の過酸化ベンゾイルを混合したジビニルベンゼン150.0部、製造例1で得た分散安定剤溶液(C−1)40.0部を仕込み、攪拌混合して分散相溶液(DP−1)を得た。
Example 1
The microchannel (M) was installed at the dispersed phase introduction site in the dispersion tank T2. In the experimental apparatus of FIG. 2, first, the valves V1 and V2 were closed, carbon dioxide (purity 99.99%) was introduced into the particle recovery tank T3 from the cylinder B2 and the pump P3, and the pressure was adjusted to 10 MPa and 40 ° C. The solution tank T1 is charged with 150.0 parts of divinylbenzene mixed with 1% benzoyl peroxide and 40.0 parts of the dispersion stabilizer solution (C-1) obtained in Production Example 1, and dispersed by stirring and mixing. A phase solution (DP-1) was obtained.

ボンベB1、ポンプP2より二酸化炭素を分散槽T2に導入し、15MPa、40℃に調整した。その後、タンクT1、ポンプP1より、分散相溶液(DP−1)をマイクロチャネルを介して15MPaで分散槽T2内に導入した。 Carbon dioxide was introduced into the dispersion tank T2 from the cylinder B1 and the pump P2, and adjusted to 15 MPa and 40 ° C. Thereafter, the dispersed phase solution (DP-1) was introduced into the dispersion tank T2 at 15 MPa through the microchannel from the tank T1 and the pump P1.

分散相溶液(DP−1)を導入後、バルブV1を開き、あらかじめ10MPa、40℃に調整された二酸化炭素を粒子回収槽T3に仕込み、そこに分散体を導入し、圧力が一定になったところでV1を閉めた。この操作により樹脂粒子から溶剤のTHFを抽出して除去した。 After introducing the dispersed phase solution (DP-1), the valve V1 was opened, carbon dioxide previously adjusted to 10 MPa and 40 ° C. was charged into the particle recovery tank T3, the dispersion was introduced therein, and the pressure became constant. By the way, V1 was closed. By this operation, the solvent THF was extracted and removed from the resin particles.

次に、圧力ボンベB2、ポンプP3より粒子回収槽T3に超臨界状態の二酸化炭素を導入しつつ、圧力調整バルブV2により圧力を10MPaに保持することにより、抽出された溶剤を含む二酸化炭素を溶剤トラップ槽T4に排出すると共に、樹脂粒子をフィルターF1に捕捉した。
圧力ボンベB2、ポンプP3より粒子回収槽T3に二酸化炭素を導入することは、上記の分散槽T2に導入した二酸化炭素重量の8倍量を粒子回収槽T3に導入した時点で二酸化炭素の導入を停止した。この停止の時点で、溶剤を含む二酸化炭素を、溶剤を含まない二酸化炭素で置換すると共に樹脂粒子をフィルターF1に捕捉する操作は完了した。
さらに、圧力調整バルブV2を少しずつ開き、粒子回収槽内を大気圧まで減圧して二酸化炭素を除去し、フィルターF1に補足されている本発明のビニル系樹脂粒子(B−1)を得た。
Next, while introducing supercritical carbon dioxide into the particle recovery tank T3 from the pressure cylinder B2 and the pump P3, the pressure is maintained at 10 MPa by the pressure regulating valve V2, thereby removing the carbon dioxide containing the extracted solvent. While discharging | emitting to trap tank T4, the resin particle was capture | acquired by the filter F1.
The introduction of carbon dioxide into the particle recovery tank T3 from the pressure cylinder B2 and the pump P3 means that carbon dioxide is introduced when 8 times the amount of carbon dioxide introduced into the dispersion tank T2 is introduced into the particle recovery tank T3. Stopped. At the time of this stop, the operation of replacing carbon dioxide containing the solvent with carbon dioxide containing no solvent and capturing the resin particles in the filter F1 was completed.
Further, the pressure regulating valve V2 was opened little by little, and the inside of the particle recovery tank was reduced to atmospheric pressure to remove carbon dioxide, and the vinyl resin particles (B-1) of the present invention supplemented by the filter F1 were obtained. .

実施例2
分散相溶液としてジビニルベンゼンをトルエンで50%に希釈した分散相溶液(DP−2)を用い、ビニル系樹脂粒子(B−2)を得た。
Example 2
A vinyl resin particle (B-2) was obtained using a dispersed phase solution (DP-2) obtained by diluting divinylbenzene to 50% with toluene as the dispersed phase solution.

比較例1
分散相として過酸化ベンゾイルを溶解したジビニルベンゼンを、連続相にはドデシル硫酸ナトリウム1%を溶解した水を用い、比較のための樹脂粒子(B−3)を得た。
Comparative Example 1
Resin particles (B-3) for comparison were obtained using divinylbenzene in which benzoyl peroxide was dissolved as the dispersed phase and water in which 1% sodium dodecyl sulfate was dissolved in the continuous phase.

<物性測定>
実施例1、2で得た樹脂粒子(B−1)、(B−2)および比較例1で得た樹脂粒子(B−3)を水に分散して、体積平均粒径および体積基準の粒子径分布の変動係数を粒度分布計(コールター社製;マルチサイザーIII)で測定した。測定結果を表1に示した。
<Measurement of physical properties>
The resin particles (B-1) and (B-2) obtained in Examples 1 and 2 and the resin particles (B-3) obtained in Comparative Example 1 were dispersed in water, and the volume average particle diameter and volume basis were determined. The variation coefficient of the particle size distribution was measured with a particle size distribution meter (manufactured by Coulter Inc .; Multisizer III). The measurement results are shown in Table 1.

Figure 2008239935
Figure 2008239935

表1で明らかなように、本発明の製造方法から得られる樹脂粒子は、親水性基を有する界面活性物質を用いずに、従来技術による比較例と同等の粒子経分布の変動係数が非常に小さい単分散微粒子である。   As is apparent from Table 1, the resin particles obtained from the production method of the present invention have a very large variation coefficient of particle size distribution equivalent to that of the comparative example according to the prior art without using a surfactant having a hydrophilic group. Small monodisperse fine particles.

本発明の製造方法から得られる樹脂粒子は、塗料用添加剤、化粧品用添加剤、紙塗工用添加剤、スラッシュ成形用樹脂、粉体塗料、電子部品製造用スペーサー、触媒用担体、電子写真トナー、静電記録トナー、静電印刷トナー、電子測定機器の標準粒子、電子ペーパー用粒子、医療診断用担体、クロマトグラフ充填剤、電気粘性流体用粒子、その他成形材料用樹脂粒子として極めて有用である。   Resin particles obtained from the production method of the present invention are paint additives, cosmetic additives, paper coating additives, slush molding resins, powder paints, electronic component manufacturing spacers, catalyst carriers, electrophotographics. Very useful as toners, electrostatic recording toners, electrostatic printing toners, standard particles for electronic measuring instruments, particles for electronic paper, medical diagnostic carriers, chromatographic fillers, particles for electrorheological fluids, and other resin particles for molding materials is there.

本発明の単分散樹脂粒子を製造するのに使用するマイクロチャネル(M)の形状の一例と、分散相、連続相、液滴の状態を、斜め上方から見た斜視図および正面から見た正面図である。マイクロチャネル(M)の貫通孔を通じて、下方の分散相(DP)が上方の連続相(CP)に向かって押し出され(D1)、液滴が生成する(D2)。An example of the shape of the microchannel (M) used for producing the monodisperse resin particles of the present invention, and a perspective view of the dispersed phase, continuous phase, and droplets as seen from obliquely above and a front view seen from the front FIG. Through the through hole of the microchannel (M), the lower dispersed phase (DP) is pushed out toward the upper continuous phase (CP) (D1), and droplets are generated (D2). 本発明における単分散樹脂粒子の作成に用いる実験装置のフローチャートである。It is a flowchart of the experimental apparatus used for preparation of the monodispersed resin particle in this invention.

符号の説明Explanation of symbols

CP:連続相
DP:分散相
D1:生成中の液滴
D2:生成した液滴
M:マイクロチャネル
T1:溶液タンク
T2:分散槽(最高使用圧力20MPa、最高使用温度200℃)
T3:粒子回収槽(最高使用圧力20MPa、最高使用温度100℃)
T4:溶剤トラップ
F1:セラミックフィルター(メッシュ:0.5μm)
B1、B2:二酸化炭素ボンベ
P1:溶液ポンプ
P2、P3:二酸化炭素ポンプ
V1:バルブ
V2:圧力調整バルブ
CP: Continuous phase DP: Dispersed phase D1: Droplets being generated D2: Droplets generated M: Microchannel T1: Solution tank T2: Dispersion tank (maximum operating pressure 20 MPa, maximum operating temperature 200 ° C.)
T3: Particle recovery tank (maximum operating pressure 20 MPa, maximum operating temperature 100 ° C.)
T4: Solvent trap F1: Ceramic filter (mesh: 0.5 μm)
B1, B2: Carbon dioxide cylinder P1: Solution pump P2, P3: Carbon dioxide pump V1: Valve V2: Pressure adjustment valve

Claims (5)

ビニル系モノマー(A)もしくは該モノマー(A)の有機溶剤溶液からなる分散相(DP)を、マイクロチャネル(M)を介して連続相(CP)中に分散させ、重合反応および該有機溶剤の除去をおこなって樹脂粒子(B)を製造する方法において、該連続相(CP)が超臨界状態の二酸化炭素であることを特徴とする単分散樹脂粒子(B)の製造方法。 A dispersed phase (DP) composed of the vinyl monomer (A) or an organic solvent solution of the monomer (A) is dispersed in the continuous phase (CP) through the microchannel (M), and the polymerization reaction and the organic solvent are mixed. A method for producing monodisperse resin particles (B), wherein the continuous phase (CP) is carbon dioxide in a supercritical state in the method for producing resin particles (B) by removing. 該樹脂粒子(B)の粒子径分布の変動係数が0.1〜10%である請求項1記載の樹脂粒子の製造方法。 The method for producing resin particles according to claim 1, wherein the coefficient of variation of the particle size distribution of the resin particles (B) is 0.1 to 10%. 疎水性分散安定剤(C)の存在下に、該分散相(DP)を該連続相(CP)中に分散させる請求項1または2に記載の樹脂粒子の製造方法。 The method for producing resin particles according to claim 1 or 2, wherein the dispersed phase (DP) is dispersed in the continuous phase (CP) in the presence of the hydrophobic dispersion stabilizer (C). 該疎水性分散安定剤(C)が、フッ素原子を含有する官能基および/またはジメチルシロキサン基を分子内に有する、重量平均分子量が1,000〜1,000,000の高分子化合物である請求項3記載の製造方法。 The hydrophobic dispersion stabilizer (C) is a polymer compound having a functional group containing a fluorine atom and / or a dimethylsiloxane group in the molecule and having a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. Item 4. The production method according to Item 3. 該疎水性分散安定剤(C)が、その分子内の側鎖に、フッ素原子を含有する官能基および/またはジメチルシロキサン基が結合した櫛型高分子化合物である請求項3または4記載の製造方法。 The production according to claim 3 or 4, wherein the hydrophobic dispersion stabilizer (C) is a comb polymer compound in which a functional group containing a fluorine atom and / or a dimethylsiloxane group is bonded to a side chain in the molecule. Method.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008202040A (en) * 2007-01-26 2008-09-04 Sanyo Chem Ind Ltd Method for manufacturing monodisperse microparticles
JP2009057480A (en) * 2007-08-31 2009-03-19 Sekisui Plastics Co Ltd Method for producing styrenic resin particle
JP2011184531A (en) * 2010-03-08 2011-09-22 Ricoh Co Ltd Polymer particle and manufacturing method of the same
JP2013151588A (en) * 2012-01-24 2013-08-08 Sanyo Chem Ind Ltd Method for producing resin particle
US8846810B2 (en) 2010-03-08 2014-09-30 Ricoh Company, Ltd. Polymer particle and method for producing the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04202501A (en) * 1990-11-30 1992-07-23 Showa Denko Kk Production of polymer bead
JP2001181309A (en) * 1999-12-27 2001-07-03 Natl Food Res Inst Method for manufacturing fine mono disperse solid particle
JP2002518558A (en) * 1998-06-24 2002-06-25 インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー Addition polymerization
JP2006321830A (en) * 2005-05-17 2006-11-30 Sanyo Chem Ind Ltd Resin particle and method for producing the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04202501A (en) * 1990-11-30 1992-07-23 Showa Denko Kk Production of polymer bead
JP2002518558A (en) * 1998-06-24 2002-06-25 インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー Addition polymerization
JP2001181309A (en) * 1999-12-27 2001-07-03 Natl Food Res Inst Method for manufacturing fine mono disperse solid particle
JP2006321830A (en) * 2005-05-17 2006-11-30 Sanyo Chem Ind Ltd Resin particle and method for producing the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008202040A (en) * 2007-01-26 2008-09-04 Sanyo Chem Ind Ltd Method for manufacturing monodisperse microparticles
JP2009057480A (en) * 2007-08-31 2009-03-19 Sekisui Plastics Co Ltd Method for producing styrenic resin particle
JP2011184531A (en) * 2010-03-08 2011-09-22 Ricoh Co Ltd Polymer particle and manufacturing method of the same
US8846810B2 (en) 2010-03-08 2014-09-30 Ricoh Company, Ltd. Polymer particle and method for producing the same
JP2013151588A (en) * 2012-01-24 2013-08-08 Sanyo Chem Ind Ltd Method for producing resin particle

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