JP2008233679A - Microscope instrument - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は顕微鏡装置に関し、特に測定顕微鏡装置に関するものである。 The present invention relates to a microscope apparatus, and more particularly to a measurement microscope apparatus.
顕微鏡装置の一種に測定顕微鏡装置がある。測定顕微鏡装置は、光学顕微鏡観察の下で微細加工物や電子部品などの試料の高さ測定を行う機能を有する。測定顕微鏡装置は、自動焦点検出機能を有するものもある。そのような測定顕微鏡装置の一例を図17に示す。 One type of microscope apparatus is a measurement microscope apparatus. The measurement microscope apparatus has a function of measuring the height of a sample such as a fine workpiece or an electronic component under observation with an optical microscope. Some measurement microscope apparatuses have an automatic focus detection function. An example of such a measuring microscope apparatus is shown in FIG.
図17において、被検体21は図示しない照明系によって照明される。照明された被検体21は対物レンズ11と結像レンズ12によって結像される。結像された像は接眼レンズ13を介して目視観察される。
In FIG. 17, the
対物レンズ11と結像レンズ12の間の光路上にハーフミラー17が配置されており、ハーフミラー17による反射光路上に焦点検出系30’が配置されている。焦点検出系30’において、LED光源31から発せられる測定光は、ビームスプリッター32と集光レンズ33’を通過し、ハーフミラー17で反射されて観察光路にのせられ、対物レンズ11によって被検体21の表面に集光される。被検体21で反射された測定光は、対物レンズ11によって捉えられ、ハーフミラー17で反射されて焦点検出系30’に戻り、集光レンズ33’により集光され、ビームスプリッター32で反射された後、ビームスプリッター34により二本のビームに分割される。分割された二本のビームは、それぞれ、被検体21に共役な点Pの前後に配置された開口35a,35bを介して、光検出器36a,36bによって光量が検出される。信号処理部41は、光検出器36a,36bからの信号を比較し、信号の大小関係から合焦状態と焦点ずれの方向を判断し、焦点ずれがなくなるようにZステージ15を制御する。これにより焦点合わせが行われる。
A
この測定顕微鏡装置では、高さ測定は、被検体21に照射される測定光の位置すなわち観察視野の中心で行われる。このため、被検体21の高さ測定に先立ち、観察像を観察しながらXYステージ22により被検体21を移動させて、所望の測定個所を測定光の照射位置に合わせるアライメント作業が行われる。その位置において、焦点合わせが行われ、その際のZステージ15の移動量から高さ値が取得される。
In this measurement microscope apparatus, the height measurement is performed at the position of the measurement light applied to the
焦点検出系30’の測定光が見えにくい、あるいは不可視光であるために見えないなど、測定個所の判別が困難な状況では、特開2003−131116号公報に開示されているように、測定個所が目視判別しやすいように測定光に指標を重ねて被検体21に照射することも行われている。
In situations where it is difficult to determine the measurement location, such as the measurement light of the focus detection system 30 'being difficult to see or invisible because of invisible light, the measurement location is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-131116. In other words, the
また、CCDなどの撮像素子により画像を取り込んでモニタ画面に表示し、モニタ画面上において測定個所を指示させ、電動化されたXYステージにより被検体を移動して、指示された測定個所に観察視野の中心を合わせて高さ測定を行うことも行われている。
従来の測定顕微鏡装置において、被検体像を観察しながらステージ移動によって測定個所を合わせる方法では、調整時に被検体像が移動することから、作業者は動く像を注視しながらステージ位置合わせを行うことになる。このため、測定点のアライメント作業は作業者に負担を強いる面倒な作業である。 In the conventional measurement microscope device, the method of aligning the measurement location by moving the stage while observing the subject image moves the subject image during adjustment, so the operator must align the stage while gazing at the moving image. become. For this reason, the alignment operation of the measurement points is a troublesome operation that imposes a burden on the operator.
電子部品や機械加工部品における構造の微細化は、一視野内で多くの高さ測定点を要求するようになっている。また測定対象は類似の形状を持つ場合が多い。このため、ステージ移動に伴って像が移動した際に、次の測定対象位置を見失ってしまうこともある。このように構造の微細化は、アライメント作業をより一層困難なものにしている。 Miniaturization of structures in electronic parts and machined parts requires many height measurement points within one field of view. The measurement object often has a similar shape. For this reason, when the image moves as the stage moves, the next measurement target position may be lost. Thus, the miniaturization of the structure makes alignment work even more difficult.
さらに、構造の微細化は高倍観察下の測定を必要とする。これに伴って、被検体の実際の移動量は微小となる。このため、被検体を移動させるXYステージには、微小量を調整できる高精度なステージが必要となる。その結果、装置は高価なものとなってしまう。 Furthermore, miniaturization of the structure requires measurement under high magnification observation. Along with this, the actual movement amount of the subject becomes minute. For this reason, the XY stage for moving the subject requires a highly accurate stage that can adjust a minute amount. As a result, the device becomes expensive.
また、モニタ画面上で測定個所を指示させる方法では、作業者の負担は軽減されるが、画像を取り込んで指示するための付加構成が大きい。また、XYステージを電動化する必要がある。その結果、装置はかなり高価なものとなってしまう。 Further, in the method of instructing the measurement location on the monitor screen, the burden on the operator is reduced, but the additional configuration for capturing and instructing the image is large. In addition, the XY stage needs to be motorized. As a result, the device becomes quite expensive.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、その目的は、測定点のアライメント作業を容易に行える安価な顕微鏡装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an inexpensive microscope apparatus that can easily perform alignment work of measurement points.
本発明による顕微鏡装置は、被検体の近傍に配置される対物レンズを含む観察光学系と、前記被検体と前記対物レンズとを相対的に前記観察光学系の光軸に沿って移動させる移動手段と、前記対物レンズを介して被検体に測定光を照射するとともに前記被検体で反射された測定光に基づいて前記被検体に対する合焦を検出する焦点検出系と、前記焦点検出系による検出結果に基づいて前記移動手段を制御する制御手段と、前記被検体に対する前記測定光の照射位置を移動させる照射位置変更手段とを備えている。前記照射位置変更手段は、前記対物レンズの瞳位置と共役な位置またはその近傍に配置された2つのウェッジプリズムと、前記ウェッジプリズムをそれぞれ光軸周りに回転させる2つの回転機構とを有している。 A microscope apparatus according to the present invention includes an observation optical system including an objective lens disposed in the vicinity of a subject, and a moving unit that relatively moves the subject and the objective lens along the optical axis of the observation optical system. A focus detection system that irradiates the subject with measurement light through the objective lens and detects focus on the subject based on the measurement light reflected by the subject, and a detection result by the focus detection system Control means for controlling the moving means based on the above, and irradiation position changing means for moving the irradiation position of the measurement light on the subject. The irradiation position changing means has two wedge prisms arranged at or near a position conjugate with the pupil position of the objective lens, and two rotation mechanisms for rotating the wedge prisms around the optical axis, respectively. Yes.
本発明のひとつの見地によると、顕微鏡装置はさらに、観察視野内における測定位置を指示する指示手段と、前記指示手段によって指示された測定位置に前記測定光の照射位置を一致させる前記ウェッジプリズムの配置角を算出する演算手段と、前記演算手段により算出された配置角に前記ウェッジプリズムの配置角を一致させるように前記回転機構を駆動する駆動手段とを備えており、前記演算手段は、前記指示手段によって指示された測定位置に応じて前記照射位置変更手段による測定光の照射位置の追従性を変える。 According to one aspect of the present invention, the microscope apparatus further includes an instruction unit that indicates a measurement position in an observation field, and a wedge prism that matches an irradiation position of the measurement light with the measurement position instructed by the instruction unit. Calculating means for calculating an arrangement angle; and driving means for driving the rotation mechanism so as to make the arrangement angle of the wedge prism coincide with the arrangement angle calculated by the calculation means. The followability of the irradiation position of the measurement light by the irradiation position changing unit is changed according to the measurement position instructed by the instruction unit.
本発明の別の見地によると、顕微鏡装置はさらに、観察視野内における測定位置を指示する指示手段と、前記指示手段によって指示された測定位置に前記測定光の照射位置を一致させる前記ウェッジプリズムの配置角を算出する演算手段と、前記演算手段により算出された配置角に前記ウェッジプリズムの配置角を一致させるように前記回転機構を駆動する駆動手段と、観察像を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により撮像された前記観察像を表示する表示手段と、前記印を前記指示手段によって指示された測定位置を暫定的に示す印を前記観察像に重ねて前記表示手段に表示させる印表示手段とを備えており、前記演算手段は、前記印表示手段に前記印を前記指示手段によって指示された測定位置に移動させた後で、照射位置変更手段に前記測定光の照射位置を前記印の位置に移動させる。 According to another aspect of the present invention, the microscope apparatus further includes an instruction unit that indicates a measurement position in an observation field, and a wedge prism that matches an irradiation position of the measurement light with the measurement position instructed by the instruction unit. Computing means for calculating an arrangement angle; driving means for driving the rotation mechanism so that the arrangement angle of the wedge prism matches the arrangement angle calculated by the computing means; imaging means for imaging an observation image; Display means for displaying the observation image picked up by the image pickup means, and mark display means for displaying on the display means a mark temporarily indicating the measurement position indicated by the indication means on the observation image. And the calculation means moves the mark to the measurement position instructed by the instruction means and then changes the irradiation position change means to the irradiation position changing means. The irradiation position of the serial measurement light is moved to the position of the mark.
測定点のアライメント作業を容易に行える安価な顕微鏡装置が提供される。 An inexpensive microscope apparatus that can easily perform alignment work of measurement points is provided.
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<第一実施形態>
[構成と作用]
図1は、本発明の第一実施形態による測定顕微鏡装置を示している。図1に示されるように、本実施形態の測定顕微鏡装置は、被検体21を水平移動させるXYステージ22と、被検体21を観察する観察光学系10を有している。観察光学系10は、被検体21の近くに位置する対物レンズ11と、対物レンズ11とともに結像光学系を構成する結像レンズ12と、対物レンズ11と結像レンズ12によって結像される像を目視観察するための接眼レンズ13とを有している。
<First embodiment>
[Configuration and action]
FIG. 1 shows a measuring microscope apparatus according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the measurement microscope apparatus of this embodiment includes an
測定顕微鏡装置はさらに、焦点合わせのために対物レンズ11を観察光学系10の光軸に沿って上下移動させるZステージ15と、対物レンズ11を介して被検体21に測定光を照射するとともに被検体21で反射された測定光に基づいて被検体21に対する合焦を検出する焦点検出系30と、焦点検出系30と対物レンズ11を光学的に結合するハーフミラー17と、焦点検出系30による検出結果に基づいてZステージ15を制御する信号処理部41と、Zステージ15による対物レンズ11の移動量を測定する測定部42とを有している。
The measurement microscope apparatus further irradiates the
ハーフミラー17は、結像レンズ12と対物レンズ11の間に位置し、焦点検出系30から入射する測定光を対物レンズ11に方向付けるとともに、対物レンズ11から入射する被検体21で反射された測定光を焦点検出系30に方向付ける。
The
焦点検出系30は、測定光を発するLED光源31と、LED光源31から発せられる測定光の発散ビームを収束ビームに変える集光レンズ33と、LED光源31から発せられる測定光と被検体21で反射された測定光とを分離するビームスプリッター32と、ビームスプリッター32を経由した被検体21で反射された測定光を分岐させるビームスプリッター34と、ビームスプリッター34によって分岐された光路上にそれぞれ配置された光検出器36a,36bと、ビームスプリッター34と光検出器36a,36bとの間の光路上にそれぞれ配置された開口35a,35bとを有している。
The
ビームスプリッター32は、LED光源31と集光レンズ33の間の光路上に位置し、LED光源31から発せられる測定光を透過する一方、被検体21で反射された測定光を反射する。ビームスプリッター34は、ビームスプリッター32の反射光路上に位置し、被検体21で反射された測定光を部分的に透過し部分的に反射する。開口35aは、対物レンズ11の焦点に共役な点Pの前方に位置し、開口35bは、対物レンズ11の焦点に共役な点Pの後方に位置している。光検出器36aは、開口35aを通過した光を検出し、光検出器36bは、開口35bを通過した光を検出する。
The
さらに測定顕微鏡装置は、集光レンズ33とハーフミラー17の間の光路上に配置された2つのウェッジプリズム51a,51bと、ウェッジプリズム51a,51bをそれぞれ回転可能に保持している回転機構52a,52bと、ウェッジプリズム51a,51bとハーフミラー17との間の光路上に配置されたリレーレンズ55とを有している。回転機構52a,52bはそれぞれウェッジプリズム51a,51bを光軸周りに電動により回転させる。ウェッジプリズム51a,51bの配置角は初期位置で一致している。ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bは被検体21に対する測定光の照射位置を移動させる照射位置変更機構を構成する。
Further, the measurement microscope apparatus includes two
測定顕微鏡装置はさらに、観察視野内で測定位置を指示するための指示部63と、指示部63によって指示された測定位置に被検体21に対する測定光の照射位置を一致させるウェッジプリズム51a,51bの配置角を算出するための演算部62と、演算部62により算出された配置角にウェッジプリズム51a,51bの配置角を一致させるように回転機構52a,52bを駆動するためのドライバ61とを備えている。指示部63は、トラックボールやジョイスティックなどで構成される。
The measurement microscope apparatus further includes an
図1の測定顕微鏡装置において、被検体21は、図示しない照明系によって照明され、対物レンズ11と結像レンズ12からなる結像光学系によって結像される。結像された被検体21の像は接眼レンズ13を介して目視観察される。
In the measurement microscope apparatus of FIG. 1, a subject 21 is illuminated by an illumination system (not shown) and imaged by an imaging optical system including an
LED光源31から射出された測定光は、ビームスプリッター32と集光レンズ33とウェッジプリズム51a,51bとリレーレンズ55とを通過し、ハーフミラー17で反射され、対物レンズ11によって集光され、被検体21に照射される。被検体21で反射された光は、対物レンズ11に入射し、ハーフミラー17で反射され、リレーレンズ55とウェッジプリズム51a,51bと集光レンズ33とを通過し、ビームスプリッター32で反射された後、ビームスプリッター34によって分岐される。ビームスプリッター34を透過した光は開口35aに達し、開口35aを通過した光が光検出器36aに入射する。ビームスプリッター34で反射された光は開口35bに達し、開口35bを通過した光が光検出器36bに入射する。
The measurement light emitted from the LED
光検出器36a,36bはそれぞれ入射した光の強度を反映した信号を出力する。信号処理部41は、光検出器36a,36bの出力信号を比較し、信号の大小関係から合焦状態を判断し、判断結果に基づいてZステージ15を駆動する。具体的には、信号処理部41は、光検出器36aの出力信号の方が光検出器36bの出力信号よりも小さい場合には、対物レンズ11を被検体21から遠ざけるようにZステージ15を駆動し、逆に光検出器36aの出力信号の方が光検出器36bの出力信号よりも大きい場合には、対物レンズ11を被検体21に近づけるようにZステージ15を駆動し、光検出器36a,36bの出力信号に差がない場合には、Zステージ15を駆動しない。
Each of the
ウェッジプリズム51a,51bのおのおのは、図2に示されるように、微小な頂角φwを持つプリズムであり、入射光線にわずかな偏角φ0を厚みの最大増加方向に与える。このプリズムが光軸周りに独立に回転されると、射出光の軌跡は半頂角φ0の円錐形となる。図3に示されるように、2つのウェッジプリズム51a,51bは、光軸に沿って直列に並べられており、これらが光軸周りに独立に回転されると、φ0が小さい場合、射出光は半頂角2φ0の円錐形内の任意の方向に偏向され得る。
As shown in FIG. 2, each of the
図4は、光軸に沿って見たウェッジプリズム51a,51bからの射出光の偏角ベクトルを示している。図4において、a,bはそれぞれウェッジプリズム51a,51bによる偏角ベクトルを、cは2つのウェッジプリズム51a,51bによる合成の偏角ベクトルを示している。ウェッジプリズム51a,51bによる偏角ベクトルa,bは常にφ0の大きさを持ち、偏角ベクトルa,bの和である合成の偏角ベクトルcは、ウェッジプリズム51a,51bの配置角θa,θbに依存して、最大2φ0の範囲内で任意の値を持つことがわかる。
FIG. 4 shows a declination vector of light emitted from the
また、ウェッジプリズム51a,51bは対物レンズ11の瞳位置と共役な位置またはその近傍に配置されている。このため射出光の偏角ベクトルcは、瞳位置での光線角度すなわち被検体21上での平面位置に相当する。例えば、ウェッジプリズム51aの配置角θa,ウェッジプリズム51bの配置角θbが180度ずれている場合、射出光の偏角ベクトルcの大きさは0となり、焦点検出系30からの測定光は観察視野の中心に照射される。従って、観察視野の中心が高さ測定位置となる。ウェッジプリズム51a,51bの配置角θa,θbを変化させ、偏角ベクトルcが大きさを持つことにより、焦点検出系30からの測定光は被検体21上での照射位置が変わり、高さ測定位置が移動される。
Further, the
なお、本実施形態では、2φ0が観察視野の最外位置となるようにウェッジプリズム51a,51bの頂角φwが設定されている。従って、ウェッジプリズム51a,51bの配置角θa,θbを独立に変化させることにより、焦点検出系30からの測定光の照射位置を観察視野範囲全域にわたり移動させることができる。
In the present embodiment, the apex angle φw of the
本実施形態では、指示部63によって観察視野内における測定位置が指示値(x,y)として与えられ、この指示値は演算部62に送られる。演算部62は、入力された測定位置(x,y)に焦点検出系30の測定光の照射位置を移動させるウェッジプリズム51a,51bの配置角θa,θbを算出する。
In the present embodiment, the measurement position in the observation visual field is given as an instruction value (x, y) by the
指示値(x,y)から配置角θa,θbへの変換方法について図5を参照しながら説明する。図5は、図4と同じく、ウェッジプリズム51a,51bからの射出光の偏角ベクトルを示している。a,bはそれぞれウェッジプリズム51a,51bによる偏角ベクトルを示し、cは2つのウェッジプリズム51a,51bによる合成の偏角ベクトルを示している。最外は|a|+|b|で正規化されている。
A method for converting the instruction value (x, y) into the arrangement angles θa and θb will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows the declination vector of the light emitted from the
本実施形態においても、第一実施形態と同様に、2つのウェッジプリズム51a,51bによって作られる最大の偏角2φ0が観察光学系10の観察視野の最外位置に焦点検出測定点がくるよう、ウェッジプリズム51a,51bのウェッジ角φwが設定されている。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the maximum deviation angle 2φ0 formed by the two
射出光の偏角ベクトルcは終点が指示値(x,y)であり、これを極座標で示すと次のようになる。 The declination vector c of the emitted light has an instruction value (x, y) at the end point, which is expressed as follows in polar coordinates.
L=(x2+y2)1/2
θ=arctan(y/X)
偏角ベクトルa,bの長さは同じであるから、射出光の回転角θと配置角θa,θbとの成す角△θは同じである。また、△θは図5から幾何学的に求められ、配置角θa,θbは次のように表わされる。
L = (x 2 + y 2 ) 1/2
θ = arctan (y / X)
Since the declination vectors a and b have the same length, the angle Δθ formed by the rotation angle θ of the emitted light and the arrangement angles θa and θb is the same. Further, Δθ is obtained geometrically from FIG. 5, and the arrangement angles θa and θb are expressed as follows.
△θ=arccos(L) …(1)
θa=θ−△θ
θb=θ+△θ
演算部62は、算出した配置角θa,θbをドライバ61に出力し、ドライバ61は、入力された配置角θa,θbにウェッジプリズム51a,51bの配置角を一致させるように回転機構52a,52bを駆動する。これにより測定光の照射位置が指示部63によって指示された測定位置(指示位置)に移動される。演算部62による配置角θa,θbを算出する処理は繰り返し行われる。これにより測定光の照射位置は指示部63によって指示される測定位置(指示位置)を追従するように移動される。
Δθ = arccos (L) (1)
θa = θ−Δθ
θb = θ + Δθ
The calculation unit 62 outputs the calculated arrangement angles θa and θb to the
回転機構52a,52bの一具体例を図6に示す。回転機構52a,52bは、ウェッジプリズム51a,51bに固定された円環形状のプーリー71a,71bと、回転可能に支持されたプーリー73a,73bと、プーリー71a,71bとプーリー73a,73bとの間にそれぞれかけられたベルト72a,72bと、プーリー73a,73bにそれぞれ同中心に固定されたプーリー74a,74bと、モータ77a,77bと、モータ77a,77bの回転軸に固定されたプーリー76a,76bと、プーリー74a,74bとプーリー76a,76bとの間にそれぞれかけられたベルト75a,75bとを有している。
A specific example of the
モータ77a,77bはそれぞれプーリー76a,76bを回転させる。プーリー76a,76bの回転はそれぞれベルト75a,75bを介してプーリー74a,74bに伝えられ、プーリー74a,74bとともにプーリー73a,73bが回転される。プーリー73a,73bの回転はそれぞれベルト72a,72bを介してプーリー71a,71bに伝えられる。
The
測定顕微鏡装置では、作業者が測定位置を指示する際は、観察視野内に測定光が照射され、指示位置を追従して移動する測定光の照射位置を作業者が目視しながら指示部63により測定位置を指示する。このため、測定光の照射位置が迅速に指示位置を追従することが好ましい。
In the measurement microscope apparatus, when the operator designates the measurement position, the measurement light is irradiated into the observation field, and the
しかし、指示位置が観察視野の中心に近い程、指示位置の移動量に対するウェッジプリズム51a,51bの回転量が大きくなる。図7に示すように、測定位置を位置cから観察視野の中心を通る軌跡で位置c’へ移動させる指示をした場合、測定位置の移動量は少量であっても、ウェッジプリズム51a,51bは180°回転する。例えば、観察視野の中心付近に測定位置を指示した場合に、作業者の手振れにより頻繁にウェッジプリズム51a,51bが約180°回転することが予想される。これはモータ77a,77bに過大な負荷を与え、過度の発熱により、測定値に影響が生じたり、モータ77a,77bの脱調により制御が不安定になったりする要因となる。これは、図6に示した回転機構52a,52bに限らず、ウェッジプリズム51a,51bを回転させる機構全般(モータを用いた機構に限らず、モータ以外のアクチュエータを用いた機構も含む)について言える。
However, the closer the indicated position is to the center of the observation field, the greater the amount of rotation of the
この対応策として、ウェッジプリズム51a,51bを回転させるモータ77a,77bに大きなトルクを発生できる高価なモータを用いたり、トルクを増やす減速機構を追加したりすることが考えられる。しかしこれは、構造の複雑化・小型化の阻害・コストの上昇などを引き起こす。
As countermeasures, it is conceivable to use an expensive motor capable of generating a large torque for the
本実施形態では、このような不具合を避けるために、指示部63によって指示される測定位置に応じてウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bとからなる照射位置変更機構による測定光の照射位置の追従性を変える。測定光の照射位置の追従性の変更は、繰り返し行われる演算部62による配置角を算出する処理の時間間隔(ウエイトT)を変更することにより行われる。
In the present embodiment, in order to avoid such a problem, the irradiation position of the measurement light by the irradiation position changing mechanism including the
演算部62による処理のフローチャートを図8に示す。まず、指示部63からの指示値(x,y)がサンプリングされる。サンプリングされた指示値(x,y)は極座標に変換され、原点からの距離Lが算出される。
FIG. 8 shows a flowchart of processing by the calculation unit 62. First, the instruction value (x, y) from the
L≠0の場合、(1)式に従って配置角θa,θbが算出される。また、L=0の場合、配置角θa,θbがπずれた組み合わせは無限にあって特定できないため、θaは前回の値に設定され、θbはθa+πに設定される。これにより、演算部62によって指示値(x,y)を満たす配置角θa,θbの組み合わせが算出される。 When L ≠ 0, the arrangement angles θa and θb are calculated according to the equation (1). Further, when L = 0, the combination in which the arrangement angles θa and θb are shifted by π is infinite and cannot be specified, so θa is set to the previous value and θb is set to θa + π. Thereby, the combination of the arrangement angles θa and θb satisfying the instruction value (x, y) is calculated by the calculation unit 62.
算出された配置角θa,θbはドライバ61を経由して回転機構52a,52bに出力される。回転機構52a,52bはウェッジプリズム51a,51bの配置角をそれぞれ配置角θa,θbに合わせる。
The calculated arrangement angles θa and θb are output to the
このフローはウエイトT時間を待ち繰り返し行われる。 This flow is repeated after waiting for the weight T time.
演算部62によるウエイトT処理のフローチャートを図9に示す。上記と同様にまず、指示部63からの指示値(x,y)がサンプリングされる。サンプリングされた指示値(x,y)は極座標に変換され、原点からの距離Lが算出される。図10に示されるように、観察視野はあらかじめ複数の領域に分けられている。具体的には、観察視野の中心からの距離A,Bに基づいて、3つの領域に分けられている。距離Lがあらかじめ定められた距離A,Bと比較され、比較結果に応じてウエイトT=T3,T2,T1(ウエイト時間:T1>T2>T3)が決定される。指示位置が観察視野の中心に近い程、指示位置の移動量に対してウェッジプリズムの回転量が大きくなるので、ウエイトTは、図10に示されるように、視野最外→直径B→直径Aの順に大きく設定される。つまり、0≦L<AであればウエイトT=T1、A≦L<BであればウエイトT=T2、B≦LであればウエイトT=T3とする。その結果、指示位置が観察視野の中心に近づく程、ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bによる指示位置に対する測定光の照射位置の追従性が低下する。
FIG. 9 is a flowchart of the weight T process performed by the calculation unit 62. Similarly to the above, first, the instruction value (x, y) from the
つまり、本実施形態では、観察視野があらかじめ複数の領域に分けられており、指示部63によって指示された測定位置が複数の領域のいずれに位置するかに応じて測定光の照射位置の追従性が変えられる。
That is, in this embodiment, the observation visual field is divided into a plurality of regions in advance, and the followability of the irradiation position of the measurement light according to which of the plurality of regions the measurement position designated by the
なお、本実施形態では、あらかじめ分けられた複数の領域に応じて、ウエイトTを設定するようにしたが、複数の領域を設定せず、ウエイトT=a(定数)/L(ただしL≠0)とし、観察視野の中心からの距離Lに応じて、連続的にウエイトTを算出するようにしてもよい。 In this embodiment, the weight T is set according to a plurality of areas divided in advance. However, the weight T = a (constant) / L (where L ≠ 0) without setting a plurality of areas. ) And the weight T may be calculated continuously according to the distance L from the center of the observation field.
[変形例]
ここでは、ウエイトTを、指示位置の観察視野の中心からの距離Lに基づいて決定しているが、以下のように変形されてもよい。
[Modification]
Here, the weight T is determined based on the distance L from the center of the observation visual field at the indicated position, but may be modified as follows.
・観察視野の中心に近い位置では、2つのウェッジプリズム51a,51bの配置角の差は180°に近い。このため、ウエイトTを、観察視野の中心からの距離Lではなく、2つのウェッジプリズム51a,51bの配置角の差に基づいて決定する。例えば、2つのウェッジプリズム51a,51bの配置角の差が、0°〜100°,101°〜150°,151°〜180°のいずれの範囲に入るかで判断する。ウエイトTは、上記の判断条件の順で、ウエイトT=T3,T2,T1(ウエイト時間:T1>T2>T3)が決定される。つまり、配置角の差が0°〜100°の範囲内にあればウエイトT=T3、配置角の差が101°〜150°の範囲内にあればウエイトT=T2、配置角の差が151°〜180°の範囲内にあればウエイトT=T1とする。
In the position close to the center of the observation field, the difference in the arrangement angle between the two
・図11に示すように、観察視野を、観察視野の中心に重心が位置する矩形A,Bに基づいて3つの領域に分ける。指示値(x,y)のxy座標がどの領域内に位置するかで判断する。ウエイトTの判断基準は、視野最外→矩形B→矩形Aの順で、ウエイトT=T3,T2,T1(ウエイト時間:T1>T2>T3)が決定される。つまり、指示位置が矩形Aの内側の領域に位置すればウエイトT=T1、指示位置が矩形Aの外側で矩形Bの内側の領域に位置すればウエイトT=T2、指示位置が矩形Bの外側で視野最外の内側の領域に位置すればウエイトT=T3とする。 As shown in FIG. 11, the observation visual field is divided into three regions based on rectangles A and B in which the center of gravity is located at the center of the observation visual field. It is determined in which region the xy coordinates of the instruction value (x, y) are located. The criteria for determining the weight T are weight T = T3, T2, T1 (weight time: T1> T2> T3) in the order of the outermost visual field → rectangle B → rectangle A. That is, if the designated position is located in the area inside the rectangle A, the weight T = T1, if the designated position is located outside the rectangle A and located in the area inside the rectangle B, the weight T = T2, and the designated position is outside the rectangle B. If it is located in the innermost region outside the field of view, the weight T = T3.
・図12に示すように、観察視野を、xy座標の符号の相違に基づいて4つの領域A,A’,B,B’に分ける。xy座標は、領域A,A’では同符号であり、領域B,B’では異符号である。現在の測定位置と指示値(x,y)とのxy座標の符号を比較し、xy座標の符号が共に反転したかどうかで判断する。ウエイトTの判断基準は、「現在の測定位置と指示値(x,y)との符号が反転した場合」→「現在の測定位置と指示値(x,y)の符号が反転しない場合」の順で、ウエイトT=T1,T2(ウエイト時間:T1>T2)が決定される。つまり、現在の測定位置のxy座標の各符号に対して指示値(x,y)のxy座標の各符号が共に反転すればウエイトT=T1、現在の測定位置のxy座標の各符号に対して指示値(x,y)のxy座標の各符号が共に反転しなければウエイトT=T2とする。なお、4つの領域を矩形で説明したが、矩形以外でも構わない。 As shown in FIG. 12, the observation visual field is divided into four regions A, A ′, B, and B ′ based on the difference in the sign of the xy coordinates. The xy coordinates have the same sign in the areas A and A ', and have different signs in the areas B and B'. The signs of the xy coordinates of the current measurement position and the indicated value (x, y) are compared, and it is determined whether or not the signs of the xy coordinates are reversed. The criterion for determining the weight T is “when the sign of the current measurement position and the indicated value (x, y) is inverted” → “when the sign of the current measured position and the indicated value (x, y) is not inverted”. In order, the weights T = T1, T2 (wait time: T1> T2) are determined. That is, if the signs of the xy coordinates of the indicated value (x, y) are reversed with respect to the signs of the xy coordinates of the current measurement position, the weight T = T1, and the signs of the xy coordinates of the current measurement position. If the signs of the xy coordinates of the instruction value (x, y) are not reversed, the weight T = T2. Although the four areas have been described as rectangles, they may be other than rectangles.
[効果]
本実施形態では、ウェッジプリズム51a,51bを回転させる際に、指示位置の移動量に対してウェッジプリズム51a,51bの回転量が大きくなる指示領域(特に観察視野の中心付近=2つのウェッジプリズム51a,51bの配置角の差が大きい場合)では、ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bによる指示位置に対する測定光の照射位置の追従性を低下させている。これによりウェッジプリズム51a,51bの急激な回転が抑制され、ウェッジプリズムを回転させるアクチュエータの負荷が減る。これにより、ウェッジプリズムの回転制御の安定性が高まり、またアクチュエータの発熱が抑えられる。このため、大きな負荷トルクを発生できる高価なアクチュエータを必要とせず、脱調などのない安定した回転制御を行える。
[effect]
In the present embodiment, when the
<第二実施形態>
[構成と作用]
構成は第一実施形態と同じであるため、その詳しい説明は省略する。第一実施形態とは指示部63からの指示値(x,y)のサンプリング方法が異なり、視野内を分割する。
<Second embodiment>
[Configuration and action]
Since the configuration is the same as that of the first embodiment, detailed description thereof is omitted. The sampling method of the instruction value (x, y) from the
本実施形態では、図13に示すように、指示部63により指示可能な位置(指示可能位置)αは、観察視野内の複数の領域に制限されている。これらの領域は、観察視野を格子状に分割する格子線の交点に位置している。この格子線の間隔は、測定光のビーム径以下とするのが望ましい。ここでは、指示部63により指示可能な位置を格子線の交点としたが、指示部63からの指示値(x,y)がサンプリングされた後、演算部62によって、ある任意のしきい値幅で数値を丸めた指示値(X,y)に変換されて、指示値(X,y)が実質的に格子線の交点として扱えればよい。
In the present embodiment, as shown in FIG. 13, the position (pointable position) α that can be pointed by the pointing
このように、指示位置を格子線の交点とすることにより、格子線の間隔以下の微小な指示位置の変化に対して測定光は追従されない。 As described above, the measurement light does not follow a minute change in the designated position that is equal to or smaller than the interval between the grid lines by setting the designated position as the intersection of the grid lines.
また、第一実施形態と同様に、指示位置が観察視野の中心に近づく程、ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bによる指示位置に対する測定光の照射位置の追従性を低下させるように、格子線の各交点に対してウエイトTを設定する。
Similarly to the first embodiment, the closer the indicated position is to the center of the observation field, the lower the followability of the irradiation position of the measurement light with respect to the indicated position by the
[変形例]
格子線の配置は以下のように変形されてもよい。
[Modification]
The arrangement of the grid lines may be modified as follows.
・格子線の交点が観察視野の中心に配置されていない。これにより、指示値は観察視野の中心の極近辺を通ることがない。このため、ウェッジプリズム51a,51bの配置角θa,θbの急激な変化が回避され、回転機構52a,52bの負荷が減る。
・ The intersection of the grid lines is not located at the center of the observation field. Thereby, the indicated value does not pass near the center of the observation visual field. For this reason, a sudden change in the arrangement angles θa and θb of the
・格子線の交点が観察視野の中心に配置されている。これにより、指示値は観察視野の中心の極近辺では観察視野の中心に固定される。つまり、測定位置に観察視野の中心の近傍が指示されると、指示値は観察視野の中心に自動的に固定される。従って、微小な指示位置の変化に対して測定光は追従されない。このため、ウェッジプリズム51a,51bの配置角θa,θbの急激な変化が回避され、回転機構52a,5bの負荷が減る。
-The intersection of the grid lines is located at the center of the observation field. Thereby, the indicated value is fixed at the center of the observation field in the very vicinity of the center of the observation field. That is, when the vicinity of the center of the observation field is indicated at the measurement position, the indicated value is automatically fixed at the center of the observation field. Accordingly, the measurement light does not follow the minute change in the indicated position. For this reason, a sudden change in the arrangement angles θa and θb of the
[効果]
本実施形態では、ウェッジプリズム51a,51bを回転させる際に、ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bによる指示位置に対する測定光の照射位置の追従性を不連続にしている。このため、微小な指示位置の変化に対して測定光が追従されない。これにより、ウェッジプリズムの急激な回転が抑制され、ウェッジプリズムを回転させるアクチュエータの負荷が減る。これにより、ウェッジプリズムの制御の安定性が高まり、またアクチュエータの発熱が抑えられる。このため、大きな負荷トルクを発生できる高価なアクチュエータを必要とせず、脱調などのない安定した回転制御を行える。
[effect]
In this embodiment, when the
<第三実施形態>
[構成と作用]
構成は第一実施形態と同じであるため、その詳しい説明は省略する。第一実施形態とは指示部63からの指示値(x,y)の演算部62による配置角算出処理のフローチャート中のサンプリング処理が異なる。
<Third embodiment>
[Configuration and action]
Since the configuration is the same as that of the first embodiment, detailed description thereof is omitted. The sampling process in the flowchart of the arrangement angle calculation process by the calculation part 62 of the instruction value (x, y) from the
図14は、第三実施形態による(x,y)サンプリングの処理を示すフローチャートである。指示部63で指示された指示値(x,y)を取得し、前回と同じ指示値(x,y)が得られたかどうかを判断する。同じ値が得られた場合は、カウンタ値を加算し、得られない場合は、カウンタ値を0にクリアする。次にカウンタ値が任意に設定された回数となった場合には、カウンタ値を0にクリアするとともに、図8のLを算出する処理に指示値(x,y)として出力され、上記の条件を満たさない場合は、任意に設定されたウエイトT’を待ち、このフローは繰り返される。
FIG. 14 is a flowchart showing the (x, y) sampling process according to the third embodiment. The instruction value (x, y) instructed by the
ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bによる指示位置に対する測定光の照射位置の追従性を変える動作は、第一実施形態における演算部62によるウエイトT処理と同じ処理をウエイトT’処理の個所で行うことにより実施してもよい。あるいは、指示位置が観察視野の中心に近づく程、カウンタ値の数量(指示値(X,y)が連続何回)を多くすることにより、ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bによる指示位置に対する測定光の照射位置の追従性を低下させてもよい。
The operation of changing the followability of the irradiation position of the measurement light with respect to the indication position by the
[効果]
本実施形態は第二実施形態と同様の効果が得られる。
[effect]
In the present embodiment, the same effect as the second embodiment can be obtained.
<第四実施形態>
[構成と作用]
図15は、本発明の第四実施形態による測定顕微鏡装置を示している。図15において、図1に示された部材と同一の参照符号で指示された部材は同様の部材であり、その詳しい説明は省略する。
<Fourth embodiment>
[Configuration and action]
FIG. 15 shows a measuring microscope apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. In FIG. 15, members indicated by the same reference numerals as those shown in FIG. 1 are similar members, and detailed description thereof is omitted.
図15から示すように、本実施形態の測定顕微鏡装置は、第一実施形態の測定顕微鏡装置の構成に対して、接眼レンズ13に代えて観察像を撮像するためのCCDカメラなどの撮像部81を有し、さらに、撮像部81で撮像された観察像を表示するためのモニタ82と、指示部63によって指示された測定位置(指示位置)を暫定的に示す矢印などの印を観察像に重ねてモニタ82に表示させる印表示部83と、ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bとからなる照射位置変更機構による測定光の照射位置の移動を開始させる発動部84とを有している。発動部84は、マウスやスイッチなどで構成され、演算部62に接続されている。演算部62は、測定光の照射位置を移動させる前に、まず印表示部83に印を指示位置に移動させ、その後、発動部84からの指示に応じて、測定光の照射位置を印の位置に移動させる。これにより、作業者は観察像に重ねてモニタ82に表示された印を暫定的な測定位置として扱える。
As shown in FIG. 15, the measurement microscope apparatus of the present embodiment is different from the configuration of the measurement microscope apparatus of the first embodiment in that an
まず、作業者は、モニタ82に表示された観察像を観察しながら指示部63を操作して、指示位置を暫定的に示す印を観察視野内の所望の位置に移動させる。次に、作業者が発動部84を発動させる(例えば、マウスをダブルクリックする)と、演算部62は、図8に示した配置角算出処理を実施し、ドライバ61は、演算部62で算出された配置角に従って回転機構52a,2bを駆動し、ウェッジプリズム51a,51bをその配置角に合わせる。これにより、測定光の照射位置が、前述の観察視野内の所望の位置に移動される。
First, the operator operates the
[効果]
本実施形態では、作業者が測定位置を指示する際に、測定光の照射位置が指示位置に実際に移動される前に、観察像上における測定位置の位置関係をモニタ上で確認することにより、ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bによる指示位置に対する測定光の照射位置の追従性を低下させている(ここでは1回だけの追従でよい)。このため、ウェッジプリズムの急激な回転が抑制され、ウェッジプリズムを回転させるアクチュエータの負荷が減る。これにより、ウェッジプリズムの回転制御の安定性が高まり、またアクチュエータの発熱が抑えられる。このため、大きな負荷トルクを発生できる高価なアクチュエータを必要とせず、脱調などのない安定した回転制御を行える。
[effect]
In this embodiment, when the operator indicates the measurement position, the positional relationship of the measurement positions on the observation image is confirmed on the monitor before the irradiation position of the measurement light is actually moved to the specified position. Further, the followability of the irradiation position of the measurement light with respect to the indication position by the
<第五実施形態>
[構成と作用]
構成は第一実施形態と同じであるため、その詳しい説明は省略する。第一実施形態とは演算部62で行われる図8に示した配置角算出処理が異なる。
<Fifth embodiment>
[Configuration and action]
Since the configuration is the same as that of the first embodiment, detailed description thereof is omitted. The arrangement angle calculation process shown in FIG. 8 performed by the calculation unit 62 is different from the first embodiment.
第五実施形態の演算部62による処理のフローチャートを図16に示す。 The flowchart of the process by the calculating part 62 of 5th embodiment is shown in FIG.
まず、指示部63からの指示値(x,y)がサンプリングされる。サンプリングされた指示値(x,y)は極座標に変換され、原点からの距離Lが算出される。
First, the instruction value (x, y) from the
L≠0の場合、第一実施形態で説明した(1)式に従って配置角θa,θbが算出され、次の判断に移る。 When L ≠ 0, the arrangement angles θa and θb are calculated according to the equation (1) described in the first embodiment, and the process proceeds to the next determination.
π一(θ一θ(前回))=θ’とする。
It is assumed that π 1 (
θ’≧0の場合、(1)式に従って計算された配置角θa,θbが算出され、回転機構52aの正回転(例えば時計回り方向を正回転とする)の信号とともにドライバ61へ出力される。
When θ ′ ≧ 0, the arrangement angles θa and θb calculated according to the equation (1) are calculated and output to the
θ’<0の場合、θa=(π−θ’)−Δθ、θa=(π−θ’)+Δθとそれぞれ設定され、回転機構52aの逆回転の信号とともにドライバ61へ出力される。この処理により、それぞれの回転機構52a,52bが最短に回転する。
When θ ′ <0, θa = (π−θ ′) − Δθ and θa = (π−θ ′) + Δθ are set and output to the
また、L=0の場合は、第一実施形態と同じく、θaは前回の値に設定され、θbはθa+πに設定される。これにより、演算部62によって指示値(x,y)を満たす配置角θa,θbの組み合わせが設定され、回転機構52aの正回転の信号とともにドライバ61へ出力される。
When L = 0, as in the first embodiment, θa is set to the previous value and θb is set to θa + π. As a result, the combination of the arrangement angles θa and θb satisfying the instruction value (x, y) is set by the calculation unit 62 and is output to the
回転機構52aの回転方向の信号と、配置角θa,θbはドライバ61を経由して回転機構52a,52bにウエイトT時間を待ち出力される。回転機構52a,52bはウェッジプリズム51a,51bの配置角をそれぞれ配置角θa,θbに合わせる。このフローは繰り返し行われる。
The rotation direction signal of the
その後は、第一実施形態と同様の処理が行われる。 Thereafter, the same processing as in the first embodiment is performed.
演算部62によるウエイトT処理のフローチャートを図9、観察視野内の指示位置のイメージ図を図10に示す。上記と同様にまず、指示部63からの指示値(x,y)がサンプリングされる。サンプリングされた指示値(x,y)は極座標に変換され、原点からの距離Lが算出される。このLの大きさの比較判断により、ウエイト=T1,T2,T3(ウエイト時間:T1>T2>T3)が決定される。観察視野の中心に近い程、指示位置の移動量に対してウェッジプリズムの回転量が大きくなるので、ウエイトTは、図10に示されるように、視野最外→直径B→直径Aの順に大きく設定される。その結果として、指示位置が観察視野の中心に近づく程、ウェッジプリズム51a,51bと回転機構52a,52bによる測定光の照射位置の追従性が指示位置に対する低下する。
FIG. 9 is a flowchart of the weight T process performed by the calculation unit 62, and FIG. 10 is an image diagram of the designated position in the observation field. Similarly to the above, first, the instruction value (x, y) from the
[効果]
本実施形態では、ウェッジプリズム51a,51bを回転させる際に、2つのウェッジプリズム51a,51bを必要最低限の角度で回転させている。これにより、ウェッジプリズムの回転制御の安定性が高まり、またアクチュエータの発熱が抑えられる。このため、大きな負荷トルクを発生できる高価なアクチュエータを必要とせず、安定した回転制御を行える。
[effect]
In the present embodiment, when the
本実施形態はもちろん第四実施形態に適用されてもよい。 Of course, this embodiment may be applied to the fourth embodiment.
これまで、図面を参照しながら本発明の実施形態を述べたが、本発明は、これらの実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において様々な変形や変更が施されてもよい。 The embodiments of the present invention have been described above with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the present invention. Also good.
例えば、各実施形態で説明に使用した、ウエイトTの設定数は、これに限定されるものではなく、少なくてもよいし、多くても構わない。 For example, the number of weights T used in the description in each embodiment is not limited to this, and may be small or large.
10…観察光学系、11…対物レンズ、12…結像レンズ、13…接眼レンズ、15…Zステージ、17…ハーフミラー、21…被検体、22…XYステージ、30…焦点検出系、30’…焦点検出系、31…LED光源、32…ビームスプリッター、33…集光レンズ、33’…集光レンズ、34…ビームスプリッター、35a,35b…開口、36a,36b…光検出器、41…信号処理部、42…測定部、51a,51b…ウェッジプリズム、52a,52b…回転機構、55…リレーレンズ、61…ドライバ、62…演算部、63…指示部、71a,71b…プーリー、72a,72b…ベルト、73a,73b…プーリー、74a,74b…プーリー、75a,75a…ベルト、76a,76b…プーリー、77a,77b…モータ、81…撮像部、82…モニタ、83…印表示部、84…発動部。
DESCRIPTION OF
Claims (13)
前記被検体と前記対物レンズとを相対的に前記観察光学系の光軸に沿って移動させる移動手段と、
前記対物レンズを介して被検体に測定光を照射するとともに前記被検体で反射された測定光に基づいて前記被検体に対する合焦を検出する焦点検出系と、
前記焦点検出系による検出結果に基づいて前記移動手段を制御する制御手段と、
前記被検体に対する前記測定光の照射位置を移動させる照射位置変更手段とを備え、
前記照射位置変更手段は、
前記対物レンズの瞳位置と共役な位置またはその近傍に配置された2つのウェッジプリズムと、
前記ウェッジプリズムをそれぞれ光軸周りに回転させる2つの回転機構とを含み、
さらに、
観察視野内における測定位置を指示する指示手段と、
前記指示手段によって指示された測定位置に前記測定光の照射位置を一致させる前記ウェッジプリズムの配置角を算出する演算手段と、
前記演算手段により算出された配置角に前記ウェッジプリズムの配置角を一致させるように前記回転機構を駆動する駆動手段とを備え、
前記演算手段は、前記指示手段によって指示された測定位置に応じて前記照射位置変更手段による測定光の照射位置の追従性を変える、顕微鏡装置。 An observation optical system including an objective lens disposed in the vicinity of the subject;
Moving means for relatively moving the subject and the objective lens along the optical axis of the observation optical system;
A focus detection system that irradiates the subject with measurement light via the objective lens and detects focus on the subject based on the measurement light reflected by the subject; and
Control means for controlling the moving means based on a detection result by the focus detection system;
Irradiation position changing means for moving the irradiation position of the measurement light with respect to the subject,
The irradiation position changing means includes
Two wedge prisms arranged at or near a position conjugate with the pupil position of the objective lens;
Two rotation mechanisms each rotating the wedge prism around an optical axis,
further,
Indicating means for indicating the measurement position in the observation field;
A calculation unit that calculates an arrangement angle of the wedge prism that matches an irradiation position of the measurement light with a measurement position instructed by the instruction unit;
Driving means for driving the rotation mechanism so as to match the arrangement angle of the wedge prism with the arrangement angle calculated by the arithmetic means;
The said calculating means changes the followability of the irradiation position of the measurement light by the said irradiation position change means according to the measurement position instruct | indicated by the said instruction | indication means.
前記被検体と前記対物レンズとを相対的に前記観察光学系の光軸に沿って移動させる移動手段と、
前記対物レンズを介して被検体に測定光を照射するとともに前記被検体で反射された測定光に基づいて前記被検体に対する合焦を検出する焦点検出系と、
前記焦点検出系による検出結果に基づいて前記移動手段を制御する制御手段と、
前記被検体に対する前記測定光の照射位置を移動させる照射位置変更手段とを備え、
前記照射位置変更手段は、
前記対物レンズの瞳位置と共役な位置またはその近傍に配置された2つのウェッジプリズムと、
前記ウェッジプリズムをそれぞれ光軸周りに回転させる2つの回転機構と
さらに、
観察視野内における測定位置を指示する指示手段と、
前記指示手段によって指示された測定位置に前記測定光の照射位置を一致させる前記ウェッジプリズムの配置角を算出する演算手段と、
前記演算手段により算出された配置角に前記ウェッジプリズムの配置角を一致させるように前記回転機構を駆動する駆動手段と、
観察像を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段により撮像された前記観察像を表示する表示手段と、
前記印を前記指示手段によって指示された測定位置を暫定的に示す印を前記観察像に重ねて前記表示手段に表示させる印表示手段とを備え、
前記演算手段は、前記印表示手段に前記印を前記指示手段によって指示された測定位置に移動させた後で、照射位置変更手段に前記測定光の照射位置を前記印の位置に移動させる、顕微鏡装置。 An observation optical system including an objective lens disposed in the vicinity of the subject;
Moving means for relatively moving the subject and the objective lens along the optical axis of the observation optical system;
A focus detection system that irradiates the subject with measurement light via the objective lens and detects focus on the subject based on the measurement light reflected by the subject; and
Control means for controlling the moving means based on a detection result by the focus detection system;
Irradiation position changing means for moving the irradiation position of the measurement light with respect to the subject,
The irradiation position changing means includes
Two wedge prisms arranged at or near a position conjugate with the pupil position of the objective lens;
Two rotation mechanisms for rotating the wedge prism around the optical axis, and
Indicating means for indicating the measurement position in the observation field;
A calculation unit that calculates an arrangement angle of the wedge prism that matches an irradiation position of the measurement light with a measurement position instructed by the instruction unit;
Driving means for driving the rotation mechanism so as to match the arrangement angle of the wedge prism with the arrangement angle calculated by the calculation means;
An imaging means for imaging an observation image;
Display means for displaying the observation image picked up by the image pickup means;
A mark display means for displaying on the display means a mark tentatively indicating the measurement position indicated by the indication means on the observation image;
The computing means moves the mark on the mark display means to the measurement position instructed by the instruction means, and then moves the irradiation position changing means to move the irradiation position of the measurement light to the position of the mark. apparatus.
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JP (1) | JP2008233679A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2015022851A1 (en) * | 2013-08-15 | 2015-02-19 | 富士通株式会社 | Measurement device using optical interferometry and measurement method using optical interferometry |
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2007
- 2007-03-22 JP JP2007075379A patent/JP2008233679A/en not_active Withdrawn
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WO2015022851A1 (en) * | 2013-08-15 | 2015-02-19 | 富士通株式会社 | Measurement device using optical interferometry and measurement method using optical interferometry |
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