JP2008233207A - Device and method for manufacturing liquid crystal display panel - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示パネルの製造装置及び製造方法に関し、特に、フィルム基板を用いた液晶表示パネルにおいて、一対のフィルム基板を貼り合わせる際の位置合わせ技術に関するものである。 The present invention relates to a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a liquid crystal display panel, and more particularly to an alignment technique for bonding a pair of film substrates in a liquid crystal display panel using a film substrate.
近年、液晶ディスプレイや有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイなどの分野では、従来より用いられてきたガラス基板の代わりに、可撓性を有するフィルム基板を用いたフレキシブルな表示パネルが開発されている。 In recent years, in fields such as liquid crystal displays and organic EL (Electro Luminescence) displays, flexible display panels using flexible film substrates have been developed in place of conventionally used glass substrates.
例えば、特許文献1には、それぞれロールに巻かれた2枚の絶縁樹脂シートをシール材によりセル単位毎に貼り合わせた後に、各絶縁樹脂シートにハーフカットの状態のカットラインを設けて、そのカットラインを介して各絶縁樹脂シートをセル単位毎に分割する液晶表示装置(液晶表示パネル)の製造方法が開示されている。そして、この製造方法によれば、2枚のシートを貼着した後に分割してゆくので、連続してシートを流すことができ、また、シートをハーフカットをするので、下層に設けられる配線の断線も防止できる、と記載されている。
ところで、液晶表示パネルは、例えば、複数の画素電極がマトリクス状に形成されたアクティブマトリクス基板と、各画素電極に対応するようにR・G・Bの着色層が形成された対向基板とを備えているので、それらの両基板を貼り合わせる際には、各画素電極と各着色層とが互いに重なり合うように位置合わせを行う必要がある。 By the way, the liquid crystal display panel includes, for example, an active matrix substrate in which a plurality of pixel electrodes are formed in a matrix, and a counter substrate on which R, G, and B colored layers are formed so as to correspond to the pixel electrodes. Therefore, when the two substrates are bonded together, it is necessary to perform alignment so that each pixel electrode and each colored layer overlap each other.
また、フィルム基板を用いて液晶表示パネルを製造する際には、生産効率を向上させる観点から、例えば、ロールツーロール方式により、長尺のフィルム基板を連続して処理することが好ましい。そのため、上記アクティブマトリクス基板としてそれぞれ機能するアクティブ素子層が長さ方向に沿って複数形成された第1のフィルム基板と、上記対向基板としてそれぞれ機能するCF素子層が長さ方向に沿って複数形成された第2のフィルム基板とを、各素子層により構成されるセル単位毎に位置合わせを行った後に、順次貼り合わせると、以下のような不具合の発生が考えられる。 Moreover, when manufacturing a liquid crystal display panel using a film substrate, it is preferable to process a long film substrate continuously, for example by a roll-to-roll system from a viewpoint of improving production efficiency. Therefore, a first film substrate in which a plurality of active element layers each functioning as the active matrix substrate are formed along the length direction, and a plurality of CF element layers each functioning as the counter substrate are formed in the length direction. When the second film substrate thus formed is aligned for each cell unit constituted by each element layer and then sequentially bonded, the following problems may occur.
図13は、従来の位置合わせを行った後に、下側の第1フィルム基板101に上側の第2フィルム基板102を貼り合わせた状態を示す上面図である。なお、図13では、領域A及び領域Bが1つの液晶表示パネルを形成するためのセル単位をそれぞれ示しており、図中下側の矢印が基板の進行方向を示している。
FIG. 13 is a top view showing a state in which the upper
図13の右側の領域A(A1及びA2)のセル単位では、第1フィルム基板101及び第2フィルム基板102を貼り合わせる前に、例えば、第1フィルム基板101のアクティブ素子層A1に対して第2フィルム基板のCF素子層A2が若干斜めに配置されていたので、第2フィルム基板102をその進行方向に対して角度θ傾けるθ補正による位置合わせを行った後に、第1フィルム基板101及び第2フィルム基板102がシール材(不図示)を介して貼り合わせられている。
In the cell unit of the area A (A1 and A2) on the right side of FIG. 13, before the
そして、上記領域Aに続く図13の左側の領域B(B1及びB2)のセル単位では、図13に示すように、第2フィルム基板102がその進行方向に対して角度θ傾いたままの状態であるので、第1フィルム基板101及び第2フィルム基板102を貼り合わせる前に、第2フィルム基板102をその進行方向に対して角度−(マイナス)θ傾ける−θ補正による位置合わせが必要になる場合がある。そして、領域Bにおいて第1フィルム基板101及び第2フィルム基板102を−θ補正による位置合わせを行った後に貼り合わた場合には、領域Aにおけるθ補正、及び領域Bにおける−θ補正に起因して、基板内に歪応力が残留することになるので、貼り合わせた後の工程において、第1フィルム基板101及び/又は第2フィルム基板102からシール材が剥離してしまうという不具合が発生するおそれがある。
Then, in the cell unit of the region B (B1 and B2) on the left side of FIG. 13 following the region A, as shown in FIG. 13, the
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、位置合わせ時にフィルム基板に発生する歪応力を緩和して、一対のフィルム基板を貼り合わせることにある。 This invention is made | formed in view of this point, The place made into the objective is to relieve | moderate the distortion stress which generate | occur | produces in a film substrate at the time of alignment, and to bond a pair of film substrate.
上記目的を達成するために、本発明は、一対のフィルム基板の少なくとも一方にスリットが形成されており、そのスリットを介してフィルム基板を幅方向に屈曲させることにより、一対のフィルム基板の位置合わせを行うようにしたものである。 In order to achieve the above object, the present invention has a slit formed in at least one of a pair of film substrates, and the pair of film substrates is aligned by bending the film substrate in the width direction through the slits. Is to do.
具体的に本発明に係る液晶表示パネルの製造装置は、長さ方向に沿って複数の表示領域がそれぞれ規定された一対のフィルム基板を該各表示領域が互いに重なり合うように位置合わせを行った後に順次貼り合わせることにより、液晶表示パネルを製造する装置であって、上記一対のフィルム基板の少なくとも一方には、上記各表示領域の間に該フィルム基板の幅方向の屈曲性を付与するためのスリットが形成されており、上記スリットが形成されたフィルム基板を該スリットを介して幅方向に屈曲させることにより上記一対のフィルム基板の位置合わせを行った後に、該一対のフィルム基板を貼り合わせるための貼り合わせ部を備えていることを特徴とする。 Specifically, the liquid crystal display panel manufacturing apparatus according to the present invention aligns a pair of film substrates each having a plurality of display areas defined along the length direction so that the display areas overlap each other. A device for manufacturing a liquid crystal display panel by sequentially laminating, wherein at least one of the pair of film substrates is a slit for providing flexibility in the width direction of the film substrate between the display regions. The film substrate on which the slit is formed is bent in the width direction through the slit, and then the pair of film substrates is aligned, and then the pair of film substrates is bonded together It has a bonding part.
上記の構成によれば、一対のフィルム基板の少なくとも一方が各表示領域の間にフィルム基板の幅方向の屈曲性を付与するためのスリットを有しているので、一対のフィルム基板の位置合わせを行う際に、スリットを有するフィルム基板を貼り合わせ部によって幅方向に屈曲させることにより、フィルム基板のスリットよりも後ろの部分を基板の進行方向に対して角度θ傾けるθ補正による位置合わせを行ったとしても、そのθ補正に起因してフィルム基板に発生する歪応力がスリットで分断される。これにより、そのフィルム基板に発生する歪応力が小さくなるので、位置合わせ時にフィルム基板に発生する歪応力を緩和して、一対のフィルム基板を貼り合わせることが可能になる。 According to said structure, since at least one of a pair of film board | substrate has the slit for providing the flexibility of the width direction of a film board | substrate between each display area, alignment of a pair of film board | substrate is carried out. When performing, the film substrate having the slit was bent in the width direction by the bonding portion, thereby performing alignment by θ correction by tilting the portion behind the slit of the film substrate by the angle θ with respect to the traveling direction of the substrate. However, the strain stress generated in the film substrate due to the θ correction is divided by the slit. Thereby, since the distortion stress which generate | occur | produces in the film substrate becomes small, it becomes possible to relieve | moderate the distortion stress which generate | occur | produces in a film substrate at the time of alignment, and to bond a pair of film substrate.
上記貼り合わせ部は、上記スリットが形成されたフィルム基板に周壁の一部がそれぞれ当接するように構成された一対のアライメントロールを備え、上記一対のアライメントロールの少なくとも一方は、上記スリットが形成されたフィルム基板を該スリットを介して幅方向に屈曲させるように、上記フィルム基板の進行方向に対する角度が任意に設定可能に構成されていてもよい。 The bonding portion includes a pair of alignment rolls configured such that a part of the peripheral wall is in contact with the film substrate on which the slits are formed, and at least one of the pair of alignment rolls is formed with the slits. The angle with respect to the advancing direction of the film substrate may be arbitrarily set so that the film substrate is bent in the width direction via the slit.
上記の構成によれば、スリットが形成されたフィルム基板にそれぞれ当接する一対のアライメントロールの少なくとも一方において、フィルム基板の進行方向に対する角度が任意に設定可能に構成されているので、そのアライメントロールをフィルム基板の進行方向に対して斜めに配置することにより、フィルム基板のスリットよりも後ろの部分を基板の進行方向に対して角度θ傾けるθ補正による位置合わせを行うことが可能になって、本発明の作用効果が具体的に奏される。 According to the above configuration, at least one of the pair of alignment rolls that respectively contact the film substrate on which the slit is formed is configured such that an angle with respect to the traveling direction of the film substrate can be arbitrarily set. By arranging the film substrate obliquely with respect to the traveling direction of the film substrate, it becomes possible to perform alignment by θ correction in which a portion behind the slit of the film substrate is inclined by an angle θ with respect to the traveling direction of the substrate. The effects of the invention are specifically demonstrated.
上記一対のアライメントロールの少なくとも一方は、上記一対のフィルム基板の各表示領域が互いに重なり合うように、周壁の一部に当接するフィルム基板の幅方向及び厚さ方向の少なくとも一方に移動可能に構成されていてもよい。 At least one of the pair of alignment rolls is configured to be movable in at least one of the width direction and the thickness direction of the film substrate in contact with a part of the peripheral wall so that the display areas of the pair of film substrates overlap each other. It may be.
上記の構成によれば、一対のアライメントロールの少なくとも一方をそれに当接するフィルム基板の幅方向及び/又は厚さ方向に移動させることにより、そのフィルム基板の幅方向及び/又は厚さ方向に沿った位置ずれをそれぞれ調整することが可能になる。 According to said structure, by moving at least one of a pair of alignment roll to the width direction and / or thickness direction of the film substrate which contact | abuts to it, along the width direction and / or thickness direction of the film substrate It becomes possible to adjust each positional deviation.
上記貼り合わせ部は、上記スリットが形成されたフィルム基板の各表示領域を表面に吸着するための吸着ステージを備え、上記吸着ステージは、表面に吸着された上記フィルム基板を上記スリットを介して幅方向に屈曲させるように、上記フィルム基板の進行方向に対する角度が任意に設定可能に構成されていてもよい。 The laminating portion includes an adsorption stage for adsorbing each display area of the film substrate on which the slit is formed to the surface, and the adsorption stage has a width through which the film substrate adsorbed on the surface is interposed. The angle with respect to the traveling direction of the film substrate may be arbitrarily set so as to be bent in the direction.
上記の構成によれば、フィルム基板の各表示領域を吸着する吸着ステージのフィルム基板の進行方向に対する角度が任意に設定可能に構成されているので、その吸着ステージをフィルム基板の進行方向に対して斜めに配置することにより、フィルム基板のスリットよりも後ろの部分を基板の進行方向に対して角度θ傾けるθ補正による位置合わせを行うことが可能になって、本発明の作用効果が具体的に奏される。 According to said structure, since the angle with respect to the advancing direction of the film substrate of the adsorption | suction stage which adsorb | sucks each display area of a film substrate can be set arbitrarily, the adsorption | suction stage is set with respect to the advancing direction of a film substrate. By arranging it diagonally, it becomes possible to perform alignment by θ correction that tilts the portion behind the slit of the film substrate by an angle θ with respect to the traveling direction of the substrate. Played.
上記吸着ステージは、上記一対のフィルム基板の各表示領域が互いに重なり合うように、表面に吸着された上記フィルム基板の進行方向及び幅方向の少なくとも一方に移動可能に構成されていてもよい。 The suction stage may be configured to be movable in at least one of the traveling direction and the width direction of the film substrate sucked on the surface so that the display areas of the pair of film substrates overlap each other.
上記の構成によれば、吸着ステージをそれに吸着されたフィルム基板の幅方向及び/又は厚さ方向に移動させることにより、そのフィルム基板の幅方向及び/又は厚さ方向に沿った位置ずれをそれぞれ調整することが可能になる。 According to the above configuration, by moving the suction stage in the width direction and / or thickness direction of the film substrate sucked by the suction stage, the positional deviation along the width direction and / or thickness direction of the film substrate is respectively changed. It becomes possible to adjust.
また、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法は、長さ方向に沿って複数の表示領域がそれぞれ規定された一対のフィルム基板を該各表示領域が互いに重なり合うように位置合わせを行った後に順次貼り合わせることにより、液晶表示パネルを製造する方法であって、上記一対のフィルム基板の少なくとも一方に対し、上記各表示領域の間に該フィルム基板の幅方向の屈曲性を付与するためのスリットを形成するスリット形成工程と、上記スリット形成工程でスリットが形成されたフィルム基板を該スリットを介して幅方向に屈曲させることにより上記一対のフィルム基板の位置合わせを行った後に、該一対のフィルム基板を貼り合わせる貼り合わせ工程とを備えることを特徴とする。 In addition, the liquid crystal display panel manufacturing method according to the present invention sequentially aligns a pair of film substrates each having a plurality of display areas defined along the length direction so that the display areas overlap each other. A method of manufacturing a liquid crystal display panel by bonding, wherein at least one of the pair of film substrates is provided with a slit for imparting flexibility in the width direction of the film substrate between the display regions. The pair of film substrates after the slit forming step to be formed and the film substrate on which the slits are formed in the slit forming step are aligned in the width direction through the slits. And a bonding step of bonding together.
上記の方法によれば、スリット形成工程において一対のフィルム基板の少なくとも一方に対し各表示領域の間にフィルム基板の幅方向の屈曲性を付与するためのスリットが形成されるので、貼り合わせ工程において一対のフィルム基板の位置合わせを行う際に、フィルム基板をスリットを介して幅方向に屈曲させることにより、フィルム基板のスリットよりも後ろの部分を基板の進行方向に対して角度θ傾けるθ補正による位置合わせを行ったとしても、そのθ補正に起因してフィルム基板に発生する歪応力がスリットで分断される。これにより、そのフィルム基板に発生する歪応力が小さくなるので、位置合わせ時にフィルム基板に発生する歪応力を緩和して、一対のフィルム基板を貼り合わせることが可能になる。 According to the above method, since a slit for imparting flexibility in the width direction of the film substrate is formed between each display region for at least one of the pair of film substrates in the slit forming step, When aligning a pair of film substrates, by bending the film substrate in the width direction through the slit, the portion behind the slit of the film substrate is inclined by an angle θ with respect to the traveling direction of the substrate. Even if the alignment is performed, the strain stress generated in the film substrate due to the θ correction is divided by the slit. Thereby, since the distortion stress which generate | occur | produces in the film substrate becomes small, it becomes possible to relieve | moderate the distortion stress which generate | occur | produces in a film substrate at the time of alignment, and to bond a pair of film substrate.
上記スリット形成工程では、上記スリットを上記フィルム基板の幅方向に沿って複数形成し、該形成された複数のスリットのうち、両端に配置する各スリットを該フィルム基板の側方に開口させてもよい。 In the slit forming step, a plurality of the slits may be formed along the width direction of the film substrate, and among the plurality of formed slits, the slits arranged at both ends may be opened to the side of the film substrate. Good.
上記の方法によれば、スリット形成工程でフィルム基板に形成された複数のスリットのうち、両端に配置する各スリットが基板の側方に開口するので、そのフィルム基板をスリットを介して幅方向に屈曲させることにより、そのフィルム基板のスリットよりも後ろの部分をその進行方向に対して角度θ傾けるθ補正による位置合わせを行った際にフィルム基板に発生する歪応力を逃し易くすることが可能になる。 According to the above method, among the plurality of slits formed on the film substrate in the slit forming step, each slit arranged at both ends opens to the side of the substrate, so that the film substrate is arranged in the width direction via the slit. By bending, it is possible to easily release the strain stress generated on the film substrate when alignment is performed by θ correction that tilts the portion behind the slit of the film substrate with respect to the traveling direction by an angle θ. Become.
上記スリット形成工程では、上記複数のスリットのうち、両端に配置する各スリットを底部が丸みを帯びたV字形に開口させてもよい。 In the slit forming step, among the plurality of slits, each of the slits arranged at both ends may be opened in a V shape with a round bottom.
上記の方法によれば、スリット形成工程でフィルム基板の両側部に形成されるV字形のスリットの底部が丸みを帯びることになるので、θ補正による位置合わせを行った際にフィルム基板に発生する歪応力がスリットの底部に集中し難くなる。 According to the above method, since the bottoms of the V-shaped slits formed on both sides of the film substrate in the slit forming step are rounded, they are generated on the film substrate when alignment is performed by θ correction. Strain stress is difficult to concentrate on the bottom of the slit.
上記スリット形成工程では、上記スリットをレーザー加工又は打ち抜き加工により形成してもよい。 In the slit forming step, the slit may be formed by laser processing or punching.
上記の方法によれば、レーザー加工又は打ち抜き加工という一般的な加工技術により、フィルム基板に幅方向の屈曲性を付与するためのスリットが形成されるので、本発明の作用効果が具体的に奏される。 According to the above method, since the slit for imparting the flexibility in the width direction is formed on the film substrate by a general processing technique such as laser processing or punching processing, the effects of the present invention are specifically demonstrated. Is done.
本発明によれば、一対のフィルム基板の少なくとも一方にスリットが形成されており、そのスリットを介してフィルム基板を幅方向に屈曲させることにより、一対のフィルム基板の位置合わせを行うので、位置合わせ時にフィルム基板に発生する歪応力を緩和して、一対のフィルム基板を貼り合わせることができる。 According to the present invention, the slit is formed in at least one of the pair of film substrates, and the pair of film substrates is aligned by bending the film substrate in the width direction through the slits. A pair of film substrates can be bonded together by alleviating the strain stress that sometimes occurs in the film substrates.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiments.
《発明の実施形態1》
図1〜図11は、本発明に係る液晶表示パネルの製造装置及び製造方法の実施形態1を示している。具体的に、図1は、本実施形態の液晶表示パネルの製造装置である基板貼り合わせ装置30を示し、図2は、基板貼り合わせ装置30を構成する貼り合わせ部20aを示している。
1 to 11
基板貼り合わせ装置30は、図1に示すように、ロール状に巻かれたTFT(Thin Film Transistor)フィルム基板1を巻き出すための第1巻き出しロール10aと、ロール状に巻かれたCF(Color Filter)フィルム基板2を巻き出すための第2巻き出しロール10bと、第1巻き出しロール10a及び第2巻き出しロール10bからそれぞれ巻き出されたTFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2に対して順次位置合わせを行った後にそれらの両基板1及び2を貼り合わせるための貼り合わせ部20とを備えている。
As shown in FIG. 1, the
貼り合わせ部20に対応する貼り合わせ部20aは、図2に示すように、図中下側を左側から右側に向けて搬送されるTFTフィルム基板1に周壁の一部がそれぞれ当接して回転する第1送りロール11a、第1アライメントロール12a及び第2アライメントロール12bと、図中上側を左側から右側に向けて搬送されるCFフィルム基板2に周壁の一部がそれぞれ当接して回転する第2送りロール11b、第3アライメントロール16a、押さえロール13及び第4アライメントロール16bと、第1アライメントロール12a及び第2アライメントロール12bの間でTFTフィルム基板1を下側から保持するためのステージ14と、ステージ14上に保持されたTFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の各アライメントマークを検出するための位置検出器15とを備えている。なお、図2では、図中横方向及び縦方向をそれぞれX方向及びZ方向とし、X方向及びZ方向に対してそれぞれ直交する方向をY方向としている。
As shown in FIG. 2, the
第1巻き出しロール10a、第2巻き出しロール10b、第1送りロール11a及び第2送りロール11bは、各回転軸が互いに平行になるように配置されている。
The
第1アライメントロール12aは、後述するように、TFTフィルム基板1の進行方向に対する角度(θZ及びθY)が任意に設定可能に構成されていると共に、Y方向(基板幅方向)及びZ方向(基板厚さ方向)に平行移動可能に構成されている。
As will be described later, the
第2アライメントロール12b、第3アライメントロール16a及び第4アライメントロール16bについては、第1送りロール11a及び第2送りロール11bに対して回転軸が平行になるように固定された構成を例示するが、第1アライメントロール12aのような非固定式の構成であってもよい。
The
押さえロール13は、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の位置合わせが完了した後に、ステージ14上のCFフィルム基板2にTFTフィルム基板1を介して当接するように構成されている。
The
ステージ14は、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の位置合わせが完了した後に、ステージ14上のTFTフィルム基板1を真空チャックや静電チャックなどにより吸着するように構成されていてもよい。
The
位置検出器15は、TFTフィルム基板1の左側端及び右側端にそれぞれ形成されたアライメントマーク(M1L及びM1R、図4参照)、並びにCFフィルム基板2の左側端及び右側端にそれぞれ形成されたアライメントマーク(M2L及びM2R、図4参照)をCCDカメラやレーザー発振/検出器などに検出することにより、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の間の位置ずれ及びそのずれ量を検知するように構成されている。
The
ここで、図3〜図5を用いて、TFTフィルム基板1に対するθY補正による位置合わせについて説明する。
Here, using FIG. 3 to FIG. 5, alignment by θ Y correction with respect to the
まず、TFTフィルム基板1に予め形成したアライメントマーク(M1L及びM1R、図4参照)、及びCFフィルム基板2に予め形成したアライメントマーク(M2L及びM2R、図4参照)が互いに重なり合っている場合には、図3に示すように、第1アライメントロール12a及び第2アライメントロール12bを互いに平行に配置させた状態(L1=L2)で、TFTフィルム基板1をX方向に沿って真っ直ぐ進行させる。なお、図3〜図5では、図中横方向及び縦方向をそれぞれX方向及びY方向としている。
First, when the alignment marks (M1L and M1R, see FIG. 4) previously formed on the
そして、例えば、図4に示すように、CFフィルム基板2の左側端のアライメントマークM2Lに対して、TFTフィルム基板1の左側端のアライメントマークM1Lが後方側にずれていることが位置検出器15によって検知された場合には、図5に示すように、第1アライメントロール12aを点Pを基点にθY方向に所定量移動させることにより、具体的に第1アライメントロール12aの右側をやや後方に移動させることにより、ロール間の距離をL3<L4として、TFTフィルム基板1をX方向に沿ってやや斜めに進行させる。これにより、TFTフィルム基板1の送り速度が基板幅方向の左右で異なることになるので、アライメントマークM1LがアライメントマークM2Lに重なり合って、θY補正による位置合わせを行うことができる。
Then, for example, as shown in FIG. 4, the
ここで、上記θY補正は、第1アライメントロール12aの基板進行方向に対する角度をXY平面上で変えるものである。なお、上記θY補正の代わりに、第1アライメントロール12aの基板進行方向に対する角度をYZ平面上で変えるθz補正により位置合わせを行ってもよい。
Here, the theta Y correction is to vary the angle with respect to the substrate traveling direction of the
次に、上記構成の基板貼り合わせ装置30で連続処理されるTFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2について説明する。
Next, the
TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2には、図1に示すように、長さ方向に沿って複数の表示領域Dが連続して規定され、各表示領域Dの間にフィルム基板の幅方向の屈曲性を付与するためのスリット形成領域Sが規定されている。
As shown in FIG. 1, a plurality of display areas D are continuously defined along the length direction on the
TFTフィルム基板1の各表示領域Dには、例えば、互いに平行に延びる複数のゲート線と、各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びる複数のソース線と、ゲート線及びソース線の各交差部分にスイッチング素子としてそれぞれ設けられた複数の薄膜トランジスタ(以下、TFTと称する)と、各TFTに対応してそれぞれ設けられた複数の画素電極とを備えたアクティブ素子層3が形成されている。なお、TFTフィルム基板1上には、セル厚を確保するためのフォトスペーサが形成されている。
Each display region D of the
CFフィルム基板2の各表示領域Dには、例えば、TFTフィルム基板1上の各画素電極に対応するようにR・G・Bの着色層が設けられたカラーフィルターと、カラーフィルターを覆うように設けられた共通電極とを備えたCF素子層5が形成されている。
In each display region D of the
ここで、図6〜図11を用いて、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2を構成するフィルム基板Fについて説明する。
Here, the film substrate F constituting the
フィルム基板Fには、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の各スリット形成領域Sを構成するスリットS1〜S11が形成されている。
In the film substrate F, slits S <b> 1 to S <b> 11 that form the slit forming regions S of the
スリットS1は、図6(a)〜(d)及び図9(a)〜(d)に示すように、フィルム基板Fの幅方向に沿って長方形状に切り欠かれた切り欠き部である。なお、図6(d)及び図9(d)では、スリットS1がフィルム基板Fの幅方向に沿って斜めに形成されている。ここで、スリットS1は、例えば、幅500mmのフィルム基板Fに対して、縦10mm×横5mmで45個程度形成されている。 The slit S <b> 1 is a notch cut out in a rectangular shape along the width direction of the film substrate F as shown in FIGS. 6 (a) to (d) and FIGS. 9 (a) to (d). 6D and 9D, the slit S1 is formed obliquely along the width direction of the film substrate F. Here, for example, about 45 slits S1 are formed with a length of 10 mm and a width of 5 mm with respect to a film substrate F having a width of 500 mm.
スリットS2は、図6(e)及び図11(a)に示すように、フィルム基板Fの幅方向に沿って円状に切り欠かれた切り欠き部である。ここで、スリットS2は、例えば、幅500mmのフィルム基板Fに対して、直径5mmで70個程度形成されている。 The slit S2 is a cutout portion that is cut out in a circular shape along the width direction of the film substrate F, as shown in FIGS. 6 (e) and 11 (a). Here, for example, about 70 slits S2 having a diameter of 5 mm are formed on a film substrate F having a width of 500 mm.
スリットS3は、図7(a)〜(d)及び図10(a)〜(d)に示すように、フィルム基板Fの幅方向に沿って線状に切り込まれた切り込み部である。なお、図7(d)及び図10(d)では、スリットS3がフィルム基板Fの幅方向に沿って斜めに形成されている。ここで、スリットS3は、例えば、幅500mmのフィルム基板Fに対して、長さ10mmで45個程度形成されている。 The slit S3 is a cut portion that is cut linearly along the width direction of the film substrate F, as shown in FIGS. 7 (a) to 7 (d) and FIGS. 10 (a) to 10 (d). 7D and 10D, the slit S3 is formed obliquely along the width direction of the film substrate F. Here, for example, about 45 slits S3 with a length of 10 mm are formed on a film substrate F having a width of 500 mm.
スリットS4は、図8(a)及び(b)並びに図11(d)及び(e)に示すように、フィルム基板Fの長さ方向に沿って長方形状に切り欠かれた切り欠き部である。ここで、スリットS4は、例えば、幅500mmのフィルム基板Fに対して、縦8mm×横10mmで50個程度形成されている。 The slit S4 is a cutout portion cut out in a rectangular shape along the length direction of the film substrate F as shown in FIGS. 8A and 8B and FIGS. 11D and 11E. . Here, for example, about 50 slits S4 are formed in a length of 8 mm × width of 10 mm for a film substrate F having a width of 500 mm.
スリットS5は、図8(c)及び(d)に示すように、フィルム基板Fの長さ方向に沿って線状に切り込まれた切り込み部である。ここで、スリットS5は、例えば、幅500mmのフィルム基板Fに対して、長さ15mmで50個程度形成されている。 The slit S5 is a cut portion that is cut linearly along the length direction of the film substrate F, as shown in FIGS. Here, for example, about 50 slits S5 having a length of 15 mm are formed on a film substrate F having a width of 500 mm.
スリットS6は、図9(a)〜(d)に示すように、フィルム基板Fの幅方向に沿って長方形状に切り欠かれ、側方に開口した切り欠き部である。なお、図9(d)では、スリットS6がフィルム基板Fの幅方向に沿って斜めに形成されている。ここで、スリットS6は、スリットS1と同程度のサイズである。 As shown in FIGS. 9A to 9D, the slit S <b> 6 is a cutout portion that is cut out in a rectangular shape along the width direction of the film substrate F and opened sideways. In FIG. 9D, the slit S6 is formed obliquely along the width direction of the film substrate F. Here, the slit S6 is about the same size as the slit S1.
スリットS7は、図10(a)〜(d)に示すように、フィルム基板Fの幅方向に沿って線状に切り込まれ、側方に達した(微視的に開口した)切り込み部である。なお、図10(d)では、スリットS7がフィルム基板Fの幅方向に沿って斜めに形成されている。ここで、スリットS7は、スリットS3と同程度のサイズである。 As shown in FIGS. 10A to 10D, the slit S7 is a cut portion that is cut linearly along the width direction of the film substrate F and reaches the side (opens microscopically). is there. In FIG. 10D, the slit S7 is formed obliquely along the width direction of the film substrate F. Here, the slit S7 is about the same size as the slit S3.
スリットS8は、図11(a)に示すように、フィルム基板Fの側方に半円形状に切り欠かれ、開口した切り欠き部である。ここで、スリットS8は、スリットS2の1/2程度のサイズである。 As shown in FIG. 11A, the slit S <b> 8 is a cutout portion that is cut out in a semicircular shape on the side of the film substrate F and opened. Here, the slit S8 is about half the size of the slit S2.
スリットS9は、図11(b)に示すように、フィルム基板Fの側方にV字状に切り欠かれ、開口した切り欠き部である。ここで、スリットS9は、例えば、幅500mmのフィルム基板Fに対して、斜辺10mm及びV字角30°程度に形成されている。 As shown in FIG. 11B, the slit S <b> 9 is a cutout portion that is cut out in a V shape on the side of the film substrate F and opened. Here, for example, the slit S9 is formed with a hypotenuse of 10 mm and a V-shaped angle of about 30 ° with respect to the film substrate F having a width of 500 mm.
スリットS10では、図11(c)に示すように、図11(b)のスリットS9の底部が丸みを帯びた形状になっている。ここで、スリットS10の底部は、例えば、直径3mmの円弧状に形成されている。 In the slit S10, as shown in FIG. 11 (c), the bottom of the slit S9 in FIG. 11 (b) has a rounded shape. Here, the bottom of the slit S10 is formed in an arc shape having a diameter of 3 mm, for example.
スリットS11は、図11(d)に示すように、フィルム基板Fの長さ方向に沿って長方形状に切り欠かれ、側方に開口した切り欠き部である。ここで、スリットS11は、スリットS4と同程度のサイズである。 As shown in FIG. 11 (d), the slit S <b> 11 is a cut-out portion that is cut out in a rectangular shape along the length direction of the film substrate F and opened to the side. Here, the slit S11 is about the same size as the slit S4.
なお、上記説明した各スリットS1〜S11は、単なる例示であり、その大きさ、基板幅方向に沿った個数、基板長さ方向に沿った列数、配置及びそれらの組み合わせについて、限定されるものではない。 The slits S1 to S11 described above are merely examples, and the size, the number along the substrate width direction, the number of columns along the substrate length direction, the arrangement, and the combination thereof are limited. is not.
次に、上記構成の基板貼り合わせ装置30を用いて、液晶表示パネルを製造する方法について説明する。なお、本実施形態の製造方法は、スリット形成工程、素子層形成工程、貼り合わせ工程、分断工程及び液晶注入工程を備えている。
Next, a method for manufacturing a liquid crystal display panel using the
<スリット形成工程>
例えば、幅500mm、長さ50m及び厚さ100μmの一対のプラスチックフィルムの所定位置に、ロール・ツー・ロール方式のレーザー加工や打ち抜き加工などにより、例えば、図6〜図11に示すように、スリットを形成する。
<Slit formation process>
For example, as shown in FIGS. 6 to 11, slits are formed at predetermined positions of a pair of plastic films having a width of 500 mm, a length of 50 m, and a thickness of 100 μm by, for example, roll-to-roll laser processing or punching. Form.
<素子層形成工程>
上記スリット形成工程でスリットが形成された一方のプラスチックフィルム上に、ロール・ツー・ロール方式などにより、TFTや画素電極などをパターニングして、長さ方向に沿って複数のアクティブ素子層3を形成した後に、その表面に配向膜を形成して、長さ方向に沿って複数の表示領域Dが規定されたTFTフィルム基板1を作製する。
<Element layer forming step>
A plurality of active element layers 3 are formed along the length direction by patterning TFTs, pixel electrodes, and the like by a roll-to-roll method or the like on one plastic film in which slits are formed in the slit forming step. After that, an alignment film is formed on the surface, and the
また、上記スリット形成工程でスリットが形成された他方のプラスチックフィルム上に、ロール・ツー・ロール方式などにより、カラーフィルターや共通電極などをパターニングして、長さ方向に沿って複数のCF素子層5を形成した後に、その表面に配向膜を形成して、長さ方向に沿って複数の表示領域Dが規定されたCFフィルム基板2を作製する。
Further, a plurality of CF element layers are formed along the length direction by patterning a color filter, a common electrode, and the like by a roll-to-roll method on the other plastic film in which the slit is formed in the slit forming step. 5 is formed, an alignment film is formed on the surface thereof, and the
さらに、例えば、TFTフィルム基板1の各表示領域Dの周囲に、ロール・ツー・ロール方式などにより、エポキシ樹脂を描画又は印刷して液晶注入口を有するシール材4を形成する。なお、シール材4は、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の間隔(セル厚)を保持するための球状のスペーサを含有し、エポキシ樹脂などにより構成されている。
Further, for example, an epoxy resin is drawn or printed around each display region D of the
ここで、上記TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の作製方法では、予め、各フィルム本体にスリットを形成させておく方法を例示したが、各フィルム本体にアクティブ素子層3及びCF素子層5をそれぞれ形成させた後に、そのフィルム本体にスリットを形成させてもよい。
Here, in the manufacturing method of the
<貼り合わせ工程>
まず、素子層形成工程で形成されたTFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2をロール状にして基板貼り合わせ装置30の第1巻き出しロール10a及び第2巻き出しロール10bにそれぞれ取り付ける。
<Lamination process>
First, the
続いて、TFTフィルム基板1を第1巻き出しロール10aから巻き出して、図2に示すように、第1送りロール11a、第1アライメントロール12a及び第2アライメントロール12bに沿って、例えば、各表示領域D単位でステップ搬送させる。また、CFフィルム基板2を第2巻き出しロール10bから巻き出して、図2に示すように、第2送りロール11b、第3アライメントロール16a及び第4アライメントロール16bに沿って、例えば、各表示領域D単位でステップ搬送させる。
Subsequently, the
そして、ステージ14上において、位置検出器15によってTFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の各アライメントマーク(M1L、M1R、M2L及びM2R、図4参照)を検出する。
Then, on the
ここで、位置検出器15による各アライメントマークの検出によって位置ずれが検知されなかった場合には、CFフィルム基板2の表面に押さえロール13を当接させることにより、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2を貼り合わせる。
Here, in the case where no position shift is detected by the detection of each alignment mark by the
また、位置検出器15による各アライメントマークの検出によって位置ずれが検知された場合には、上述したように、第1アライメントロール12aを用いてθY補正による位置合わせを行った後に、CFフィルム基板2の表面に押さえロール13を当接させることにより、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2を貼り合わせる。
In addition, when a positional deviation is detected by detecting each alignment mark by the
引き続いて、ロール・ツー・ロール方式などにより、貼り合わせられたTFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2を加熱することにより、シール材4を硬化させる。
Subsequently, the bonded
<分断工程>
上記貼り合わせ工程で貼り合わせられ、シール材4を硬化させたTFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2を各スリット形成領域Sなどで切断して、セル単位毎に分断する。
<Division process>
The
<液晶注入工程>
上記分断工程でセル単位毎に分断されたTFTフィルム基板(1a)及びCFフィルム基板(2a)の間に、ディップ注入法により液晶材料(6)を注入した後に、UV硬化樹脂などにより液晶注入口を封止する。
<Liquid crystal injection process>
After injecting the liquid crystal material (6) by the dip injection method between the TFT film substrate (1a) and the CF film substrate (2a) which are divided for each cell unit in the above dividing step, the liquid crystal injection port is made by UV curable resin or the like. Is sealed.
以上のようにして、TFTフィルム基板1a及びCFフィルム基板2aの間に液晶層6が設けられた液晶表示パネル8(図1参照)を製造することができる。
As described above, the liquid crystal display panel 8 (see FIG. 1) in which the
以上説明したように、本実施形態の液晶表示パネルの製造装置及び製造方法によれば、スリット形成工程において、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の各表示領域Dの間にフィルム基板の幅方向の屈曲性を付与するためのスリット(S1〜S11)を形成して、スリット形成領域Sが規定されるので、貼り合わせ工程においてTFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の位置合わせを行う際に、貼り合わせ部20aを構成する第1アライメントロール12aによってTFTフィルム基板1を幅方向に屈曲させることにより、TFTフィルム基板1のスリット形成領域Sよりも後ろの部分を基板の進行方向に対して角度θ傾けるθY補正による位置合わせを行ったとしても、そのθY補正に起因してTFTフィルム基板1に発生する歪応力をスリット形成領域Sで分断することができる。これにより、そのTFTフィルム基板1に発生する歪応力が小さくなるので、位置合わせ時にTFTフィルム基板1に発生する歪応力を緩和して、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2を貼り合わせることができる。
As described above, according to the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the liquid crystal display panel of the present embodiment, in the slit forming process, the width direction of the film substrate between the display regions D of the
本実施形態の液晶表示パネルの製造装置及び製造方法によれば、貼り合わせ部20aにおいて、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の各表示領域Dが互いに重なり合うように第1アライメントロール12aがTFTフィルム基板1の幅方向及び厚さ方向の少なくとも一方に移動可能に構成されているので、TFTフィルム基板1の幅方向及び厚さ方向の少なくとも一方に沿った位置ずれをそれぞれ調整することができる。
According to the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the liquid crystal display panel of the present embodiment, the
本実施形態の液晶表示パネルの製造装置及び製造方法によれば、スリット形成工程でフィルム基板Fに形成された複数のスリット(S1〜S11)のうち、両端に配置する各スリット(S6〜S11)が基板の側方に開口しているので、そのフィルム基板Fをスリットを介して幅方向に屈曲させることにより、そのフィルム基板Fのスリットよりも後ろの部分をその進行方向に対して角度θ傾けるθ補正による位置合わせを行った際にフィルム基板F、すなわち、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2に発生する歪応力を逃し易くすることができる。
According to the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the liquid crystal display panel of the present embodiment, among the plurality of slits (S1 to S11) formed on the film substrate F in the slit forming step, the slits (S6 to S11) disposed at both ends. Since the film substrate F is bent in the width direction through the slit, the portion behind the slit of the film substrate F is inclined at an angle θ with respect to the traveling direction. It is possible to easily release the strain stress generated in the film substrate F, that is, the
本実施形態の液晶表示パネルの製造装置及び製造方法によれば、スリット形成工程でフィルム基板Fの両側部に形成されるV字形のスリットS10の底部が丸みを帯びているので、θ補正による位置合わせを行った際にフィルム基板F、すなわち、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2に発生する歪応力をスリットS10の底部に集中し難くすることができる。
According to the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the liquid crystal display panel of the present embodiment, the bottoms of the V-shaped slits S10 formed on both sides of the film substrate F in the slit forming step are rounded. It is possible to make it difficult to concentrate strain stress generated in the film substrate F, that is, the
本実施形態では、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2を貼り合わせた後に、両基板間に液晶材料をディップ注入法により注入する方法を例示したが、液晶滴下貼り合わせ法により液晶材料を両基板間に注入してもよい。
In the present embodiment, after the
本実施形態では、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の双方にスリットを形成したが、θ補正による位置合わせを行う側のフィルム基板(例えば、TFTフィルム基板1)だけにスリットを形成してもよい。
In this embodiment, the slits are formed in both the
《発明の実施形態2》
図12は、本実施形態の基板貼り合わせ装置を構成する貼り合わせ部20bの側面図である。なお、以下の実施形態では、図1〜図11と同じ部分に対し同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
<<
FIG. 12 is a side view of the
貼り合わせ部20bは、図12に示すように、図中下側を左側から右側に向けて搬送されるTFTフィルム基板1に周壁の一部がそれぞれ当接して回転する第3送りロール17a及び第4送りロール19aと、図中上側を左側から右側に向けて搬送されるCFフィルム基板2に周壁の一部がそれぞれ当接して回転する第5送りロール17b及び第6送りロール19bと、第3送りロール17a及び第4送りロール19aの間でTFTフィルム基板1を下側から保持するための吸着ステージ18と、吸着ステージ18上に保持されたTFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の各アライメントマークを検出するための位置検出器15とを備えている。
As shown in FIG. 12, the
第3送りロール17a、第4送りロール19a、第5送りロール17b及び第6送りロール19bの各回転軸は、第1巻き出しロール10a及び第2巻き出しロール10bの各回転軸と平行になるように配置されている。
The rotation axes of the
吸着ステージ18は、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の位置合わせを行う際に、下側のTFTフィルム基板1を真空チャックや静電チャックなどにより吸着した状態で、TFTフィルム基板1の進行方向に対する角度(θZ及びθY)が任意に設定可能に構成されていると共に、Y方向(基板幅方向)及びZ方向(基板厚さ方向)に平行移動可能に構成されている。
When the
上記構成の貼り合わせ部20bを備えた基板貼り合わせ装置30による液晶表示パネルの製造方法は、上記実施形態1の貼り合わせ工程におけるフィルム基板のθ補正による位置合わせを第1アライメントロール12aを用いて行う代わりに、吸着ステージ18を適宜作動させて行えばよいので、詳細な説明を省略する。
The manufacturing method of the liquid crystal display panel by the board |
本実施形態の液晶表示パネルの製造装置及び製造方法によれば、TFTフィルム基板1の各表示領域Dを吸着する吸着ステージ18の基板の進行方向に対する角度が任意に設定可能に構成されているので、吸着ステージ18を基板の進行方向に対して斜めに配置することにより、TFTフィルム基板1のスリット形成領域Sよりも後ろの部分を基板の進行方向に対して角度θ傾けるθ補正による位置合わせを行うことができる。そして、θ補正に起因してTFTフィルム基板1に発生する歪応力がスリット形成領域Sにより小さくなるので、位置合わせ時にTFTフィルム基板1に発生する歪応力を緩和して、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2を貼り合わせることができる。
According to the manufacturing apparatus and manufacturing method of the liquid crystal display panel of the present embodiment, the angle of the
本実施形態の液晶表示パネルの製造装置及び製造方法によれば、貼り合わせ部20bにおいて、TFTフィルム基板1及びCFフィルム基板2の各表示領域Dが互いに重なり合うように吸着ステージ18がTFTフィルム基板1の幅方向及び厚さ方向の少なくとも一方に移動可能に構成されているので、TFTフィルム基板1の幅方向及び厚さ方向の少なくとも一方に沿った位置ずれをそれぞれ調整することができる。
According to the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the liquid crystal display panel of the present embodiment, the
以上説明したように、本発明は、位置合わせ時にフィルム基板に発生する歪応力を緩和して一対のフィルム基板を貼り合わせることができるので、液晶表示パネルやEL表示パネルなど、一対のフィルム基板を貼り合わせることにより製造される表示パネル全般について有用である。 As described above, the present invention can relieve the strain stress generated in the film substrate during alignment and bond the pair of film substrates together, so that a pair of film substrates such as a liquid crystal display panel and an EL display panel can be attached. It is useful for all display panels manufactured by bonding.
D 表示領域
F フィルム基板
S スリット形成領域
S1〜S11 スリット
1 TFTフィルム基板
2 CFフィルム基板
12a,12b アライメントロール
18 吸着ステージ
20,20a,20b 貼り合わせ部
30 基板貼り合わせ装置(液晶表示パネルの製造装置)
D Display area F Film substrate S Slit formation areas S1 to
Claims (9)
上記一対のフィルム基板の少なくとも一方には、上記各表示領域の間に該フィルム基板の幅方向の屈曲性を付与するためのスリットが形成されており、
上記スリットが形成されたフィルム基板を該スリットを介して幅方向に屈曲させることにより上記一対のフィルム基板の位置合わせを行った後に、該一対のフィルム基板を貼り合わせるための貼り合わせ部を備えていることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。 An apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel by aligning a pair of film substrates each having a plurality of display areas along the length direction so that the respective display areas overlap each other and then sequentially bonding them together. And
At least one of the pair of film substrates is provided with a slit for imparting flexibility in the width direction of the film substrate between the display regions.
A bonding portion for bonding the pair of film substrates is provided after aligning the pair of film substrates by bending the film substrate formed with the slits in the width direction through the slits. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel.
上記貼り合わせ部は、上記スリットが形成されたフィルム基板に周壁の一部がそれぞれ当接するように構成された一対のアライメントロールを備え、
上記一対のアライメントロールの少なくとも一方は、上記スリットが形成されたフィルム基板を該スリットを介して幅方向に屈曲させるように、上記フィルム基板の進行方向に対する角度が任意に設定可能に構成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。 The apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 1,
The bonding portion includes a pair of alignment rolls configured such that a part of the peripheral wall abuts on the film substrate on which the slit is formed,
At least one of the pair of alignment rolls is configured such that the angle with respect to the traveling direction of the film substrate can be arbitrarily set so that the film substrate on which the slit is formed is bent in the width direction via the slit. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel.
上記一対のアライメントロールの少なくとも一方は、上記一対のフィルム基板の各表示領域が互いに重なり合うように、周壁の一部に当接するフィルム基板の幅方向及び厚さ方向の少なくとも一方に移動可能に構成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。 The apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 2,
At least one of the pair of alignment rolls is configured to be movable in at least one of the width direction and the thickness direction of the film substrate in contact with a part of the peripheral wall so that the display areas of the pair of film substrates overlap each other. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel.
上記貼り合わせ部は、上記スリットが形成されたフィルム基板の各表示領域を表面に吸着するための吸着ステージを備え、
上記吸着ステージは、表面に吸着された上記フィルム基板を上記スリットを介して幅方向に屈曲させるように、上記フィルム基板の進行方向に対する角度が任意に設定可能に構成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。 The apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 1,
The bonding unit includes a suction stage for sucking each display area of the film substrate on which the slit is formed on the surface,
The suction stage is configured such that an angle with respect to the traveling direction of the film substrate can be arbitrarily set so that the film substrate sucked on the surface is bent in the width direction through the slit. Liquid crystal display panel manufacturing equipment.
上記吸着ステージは、上記一対のフィルム基板の各表示領域が互いに重なり合うように、表面に吸着された上記フィルム基板の進行方向及び幅方向の少なくとも一方に移動可能に構成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。 In the manufacturing apparatus of the liquid crystal display panel described in Claim 4,
The suction stage is configured to be movable in at least one of the traveling direction and the width direction of the film substrate sucked on the surface so that the display areas of the pair of film substrates overlap each other. Liquid crystal display panel manufacturing equipment.
上記一対のフィルム基板の少なくとも一方に対し、上記各表示領域の間に該フィルム基板の幅方向の屈曲性を付与するためのスリットを形成するスリット形成工程と、
上記スリット形成工程でスリットが形成されたフィルム基板を該スリットを介して幅方向に屈曲させることにより上記一対のフィルム基板の位置合わせを行った後に、該一対のフィルム基板を貼り合わせる貼り合わせ工程とを備えることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 A method of manufacturing a liquid crystal display panel by sequentially aligning a pair of film substrates each having a plurality of display areas defined along the length direction so that the display areas overlap each other. And
A slit forming step of forming a slit for imparting flexibility in the width direction of the film substrate between the display regions for at least one of the pair of film substrates,
A bonding step of bonding the pair of film substrates after aligning the pair of film substrates by bending the film substrate formed with slits in the slit forming step in the width direction through the slits; A method for producing a liquid crystal display panel, comprising:
上記スリット形成工程では、上記スリットを上記フィルム基板の幅方向に沿って複数形成し、該形成された複数のスリットのうち、両端に配置する各スリットを該フィルム基板の側方に開口させることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel described in Claim 6,
In the slit forming step, a plurality of the slits are formed along the width direction of the film substrate, and among the formed slits, the slits arranged at both ends are opened to the side of the film substrate. A method for producing a liquid crystal display panel.
上記スリット形成工程では、上記複数のスリットのうち、両端に配置する各スリットを底部が丸みを帯びたV字形に開口させることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel described in Claim 7,
In the slit forming step, a method of manufacturing a liquid crystal display panel, wherein the slits arranged at both ends of the plurality of slits are opened in a V shape having a round bottom.
上記スリット形成工程では、上記スリットをレーザー加工又は打ち抜き加工により形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display panel described in Claim 6,
In the slit forming step, the slit is formed by laser processing or punching processing.
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