JP2008226891A - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】試料を処理する複数のプラズマ処理室と、それぞれの処理室内に連結され試料を搬送するための搬送室を有し、両室内もしくは処理室内のみに搬送室に供給する搬送用ガスと同じガスを供給する供給システムを具備するプラズマ処理装置を用いたプラズマ処理方法であって、処理室内へ搬送用ガスを導入した後処理室内に試料を搬入する工程(イ)、その後処理室内の前記搬送用ガス導入を維持した状態で処理室内の搬送用ガスを利用してプラズマ発生させる工程(ウ)、このプラズマを維持した状態で処理室内に連続してプロセスガスを供給して搬送用ガスからプロセスガスへ切り替える工程(エ)、試料にプラズマ処理を行う工程(オ)とを有する。
【選択図】図3(b)
Description
ア.処理室内に試料を搬入するに先立って処理室内に搬送用ガスを導入する工程、
イ.処理室内に搬送用ガスを導入した状態で搬送室から処理室内に試料を搬送する工程、
ウ.処理室内にプラズマ生成用高周波を供給するとともに処理室内に磁場を形成することにより、導入された搬送用ガスをプラズマ化する工程、
エ.このプラズマを維持した状態で処理室内に導入されるガスを搬送用ガスからプロセスガスに切り替える工程、
オ.試料台にバイアス電圧を印加することによりプロセスガスのプラズマによって試料をプラズマ処理する工程、
カ.バイアス電圧の印加を停止してプラズマ処理を終了するとともに、プラズマを維持した状態で処理室内に導入するガスをプロセスガスから搬送用ガスに切り替える工程、
キ.搬送用ガスのプラズマを維持して吸着電極を除電する工程、
ク.搬送用ガスのプラズマを停止させた後搬送用ガスの処理室内への導入を継続した状態で試料を処理室内から搬送室へ搬出する工程。
また、本発明は、処理室内のガスを、搬送用ガスからプロセスガスに、もしくはプロセスガスから搬送用ガスに切り替えるのみで、プラズマをたてなくても圧力差を小さくでき有用である。
Claims (4)
- 試料をプラズマ処理する処理室と、該処理室に連結され試料を搬送するための搬送室を有し、搬送室から処理室へ試料を搬送する際、両室内もしくは処理室内のみに搬送室に供給する搬送用ガスと同じガスを供給する供給システムを具備するプラズマ処理装置を用いたプラズマ処理方法であって、
処理室内へ搬送用ガスを導入した後処理室内に試料を搬入する工程と、
その後処理室内の前記搬送用ガス導入を維持した状態で処理室内の搬送用ガスを利用してプラズマ発生させる工程と、
このプラズマを維持した状態でプラズマ処理室内に連続してプロセスガスを供給して搬送用ガスからプロセスガスへ切り替えて試料にプラズマ処理を行う工程
とを有することを特徴としたプラズマ処理方法。 - 試料をプラズマ処理する処理室と、該処理室に連結され試料を搬送するための搬送室を有し、前記処理室から搬送室へ試料を搬送する際、両室内もしくは処理室内のみに搬送室に供給する搬送用ガスと同じガスを供給する供給システムを具備するプラズマ処理装置を用いたプラズマ処理方法であって、
処理室内でプロセスガスによる試料のプラズマ処理停止前にプラズマを維持した状態でプロセスガスから搬送用ガスに連続して切り替えて処理室内に導入する工程と、
その後搬送用ガスによるプラズマを停止する工程と、
プラズマ停止後に前記搬送用ガスの導入を維持して処理室から搬送室へ処理済みの試料を搬出する工程
とを有することを特徴としたプラズマ処理方法。 - 請求項1および請求項2記載のプラズマ処理方法の両方の機能を有することを特徴とするプラズマ処理方法。
- 請求項1ないし請求項3のいずれか1項記載のプラズマ処理方法において、
前記搬送用ガスは、アルゴンガスまたは窒素ガスまたは両者の混合ガスであることを特徴とするプラズマ処理方法。
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