JP2008218082A - Manufacturing method of back plate for plasma display panel - Google Patents

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JP2008218082A JP2007051306A JP2007051306A JP2008218082A JP 2008218082 A JP2008218082 A JP 2008218082A JP 2007051306 A JP2007051306 A JP 2007051306A JP 2007051306 A JP2007051306 A JP 2007051306A JP 2008218082 A JP2008218082 A JP 2008218082A
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Yoichi Mori
陽一 森
Koji Suzuki
鈴木  孝治
Takuya Hamaguchi
卓也 浜口
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Dai Nippon Printing Co Ltd
DAP Technology KK
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a back plate for a PDP by which a back plate for the PDP having stepped ribs can be obtained by a simple method. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the back plate for the plasma display panel comprises a preparation process of a back plate formation member to prepare the back plate formation member having a substrate, an address electrode layer of a pattern shape formed on the substrate, a dielectric layer formed so as to cover the address electrode layer, and a matrix rib which is formed on the dielectric layer and constituted of vertical ribs and horizontal ribs, and a stepped rib formation process to form a stepped rib in which the horizontal ribs are lower than the vertical ribs in height by carrying out brushing along the direction of the vertical ribs of the back plate formation member using a rib cutting brush having a brush of a metal wire. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、縦リブおよび横リブの高さが異なる段差リブを有するプラズマディスプレイパネル用背面板(以下、「PDP用背面板」と称する場合がある。)を簡便に形成することができるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法に関する。   The present invention provides a plasma display capable of easily forming a back plate for a plasma display panel (hereinafter, also referred to as a “PDP back plate”) having stepped ribs having different vertical and horizontal rib heights. The present invention relates to a method for manufacturing a panel back plate.

プラズマディスプレイパネル(以下、「PDP」と称する場合がある。)に用いられる背面板は、通常図7に示すように、基板1と、基板1上に形成されたパターン状のアドレス電極層2と、アドレス電極層2上に形成された誘電体層3と、誘電体層3上に形成されたリブ4と、リブ4の間に形成された蛍光体層8(8R、8G、8B)と、を有する。また、従来のPDP用背面板は、図8(a)に示すようにストライプ状のリブ4を有するものが主流であったが、近年、輝度向上の観点から、図8(b)に示すように、縦リブ4xおよび横リブ4yを有するマトリクスリブ4を備えたPDP用背面板が提案されている。   A back plate used in a plasma display panel (hereinafter sometimes referred to as “PDP”) is usually composed of a substrate 1 and a patterned address electrode layer 2 formed on the substrate 1, as shown in FIG. A dielectric layer 3 formed on the address electrode layer 2, a rib 4 formed on the dielectric layer 3, and a phosphor layer 8 (8R, 8G, 8B) formed between the ribs 4, Have Further, the conventional PDP back plate has a mainstream having striped ribs 4 as shown in FIG. 8A, but in recent years, as shown in FIG. In addition, a PDP back plate having matrix ribs 4 having vertical ribs 4x and horizontal ribs 4y has been proposed.

マトリクスリブを備えたPDP用背面板は、ストライプ状のリブを備えたPDP用背面板と比較して、単位面積あたりの蛍光体量を増加させることができるため、輝度向上を図ることができるという利点を有するが、その反面、縦横に形成されたリブが障害となり排気を行いにくいという欠点を有する。このような欠点を解決するため、高さの異なるリブ(段差リブ)を備えたPDP用背面板に関する技術が知られている。   The PDP back plate having matrix ribs can increase the amount of phosphor per unit area as compared with the PDP back plate having striped ribs, so that the luminance can be improved. On the other hand, it has the disadvantage that the ribs formed vertically and horizontally are obstructed and difficult to exhaust. In order to solve such drawbacks, a technique related to a PDP back plate having ribs (step ribs) having different heights is known.

例えば特許文献1においては、ドライフィルムレジスト(DFR)のラミネート、製版、サンドブラストを2回行うことにより、段差リブを形成する方法が開示されている。しかしながら、特にこの方法においては、2回目のDFRのラミネートが困難であるという問題があった。すなわち、1回目のサンドブラストによりマトリクスリブを形成した後に、さらに、マトリクスリブの上底面にDFRをラミネートすると、リブの端部がローラー圧で欠けてしまうという問題があった。また、ラミネート圧力が高いと、既に形成されたマトリクスリブの穴部にDFRが入り込み、DFRの膜厚を均一とすることが困難になり、露光・現像を適切に行うことができないという問題があった。さらに、マトリクスリブの穴部に侵入したDFRは完全に除去されない危険性もある。一方、ラミネート圧が低いと、密着不良を起こして、現像時あるいはブラスト時にDFRが剥離してしまうという問題があった。   For example, Patent Document 1 discloses a method of forming a step rib by performing dry film resist (DFR) lamination, plate making, and sandblasting twice. However, particularly in this method, there is a problem that the second DFR lamination is difficult. That is, after forming the matrix rib by the first sand blasting and further laminating DFR on the upper bottom surface of the matrix rib, there is a problem that the end of the rib is chipped by the roller pressure. Further, when the laminating pressure is high, DFR enters into the holes of the already formed matrix ribs, making it difficult to make the DFR film thickness uniform, and there is a problem that exposure and development cannot be performed properly. It was. Furthermore, there is a risk that the DFR that has entered the hole of the matrix rib is not completely removed. On the other hand, when the laminating pressure is low, there is a problem that adhesion failure occurs and the DFR is peeled off during development or blasting.

別の問題としては、2回目の露光のアライメントが困難であるという問題が挙げられる。1層目のDFRの露光位置精度は、アドレス電極に対してのリブの相対位置精度が確保出来れば十分で、アドレス電極のパット部(放電部分に当たる位置に形成される略四角形もしくは略六角形の部分)が縦リブの間に入るレベルの精度が出れば十分である。しかしながら、この程度のアライメント精度で2層目のDFR露光を行ってしまうと、縦リブからDFRがずれてしまい、ブラストの際に縦リブのエッジ部分が研削されてしまう。また、2枚のDFRを使うので、設備、材料の両面でコストが高くなるという問題もあった。そのため、これらの問題を解決することができるPDP用背面板の製造方法が望まれていた。   Another problem is that alignment of the second exposure is difficult. The exposure position accuracy of the DFR of the first layer is sufficient if the relative position accuracy of the rib with respect to the address electrode can be ensured, and the pad portion of the address electrode (substantially rectangular or substantially hexagonal formed at the position corresponding to the discharge portion). It is sufficient if the accuracy of the level that the portion) enters between the vertical ribs is obtained. However, if the DFR exposure of the second layer is performed with this degree of alignment accuracy, the DFR is displaced from the vertical rib, and the edge portion of the vertical rib is ground during blasting. In addition, since two DFRs are used, there is a problem that costs increase in both the equipment and the material. Therefore, a method for manufacturing a back plate for PDP that can solve these problems has been desired.

なお、特許文献2においては、同一高さの隔壁を形成する前工程と、前記隔壁に高低差を設ける後工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法が開示されている。   Patent Document 2 discloses a method for manufacturing a plasma display panel, which includes a pre-process for forming barrier ribs having the same height and a post-process for providing a height difference in the barrier ribs.

特許第3440907号公報Japanese Patent No. 3440907 特開2001−236891号公報JP 2001-236891 A 特開2005−205530号公報JP 2005-205530 A 特開2005−349513号公報JP 2005-349513 A 特開2006−159402号公報JP 2006-159402 A 特開2006−224281号公報JP 2006-224281 A

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、段差リブを有するPDP用背面板を簡便な方法で得ることができるPDP用背面板の製造方法を提供することを主目的とするものである。   This invention is made | formed in view of the said situation, and it aims at providing the manufacturing method of the backplate for PDP which can obtain the backplate for PDP which has a level | step difference rib by a simple method. is there.

上記課題を解決するために、本発明においては、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する背面板形成用部材を準備する背面板形成用部材準備工程と、金属ワイヤのブラシ毛を有するリブ切削用ブラシを用い、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラッシングを行うことにより、上記横リブが上記縦リブよりも低い段差リブを形成する段差リブ形成工程と、を有すことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法を提供する。   In order to solve the above problems, in the present invention, a substrate, a patterned address electrode layer formed on the substrate, a dielectric layer formed so as to cover the address electrode layer, and the dielectric A back plate forming member preparing step for preparing a back plate forming member having a matrix rib formed of vertical ribs and horizontal ribs formed on the layer; and a rib cutting brush having metal wire brush bristles A step rib forming step in which the horizontal rib forms a step rib lower than the vertical rib by brushing in a direction along the vertical rib of the back plate forming member. A method for manufacturing a back plate for a plasma display panel is provided.

本発明によれば、リブ切削用ブラシを用い、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラッシングを行うことにより、横リブのみを選択的に切削することができ、段差リブを容易に形成することができる。また、金属ワイヤは一般的に硬度が高く、マトリクスリブを良好に切削することができる。   According to the present invention, by using a brush for rib cutting and brushing in a direction along the longitudinal rib of the back plate forming member, only the lateral rib can be selectively cut, and the step rib is easily formed. can do. Further, the metal wire generally has high hardness, and the matrix rib can be cut well.

上記発明においては、上記段差リブ形成工程の際に、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向からブラッシングを行うことが好ましい。均一な切削を行うことができるからである。   In the said invention, it is preferable to perform brushing from the both directions of the direction along the vertical rib of the said backplate formation member in the case of the said level | step difference rib formation process. This is because uniform cutting can be performed.

本発明においては、段差リブを有するPDP用背面板を簡便な方法で得ることができるという効果を奏する。   In this invention, there exists an effect that the backplate for PDP which has a level | step difference rib can be obtained by a simple method.

以下、本発明のPDP用背面板の製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the backplate for PDP of this invention is demonstrated in detail.

本発明のPDP用背面板の製造方法は、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する背面板形成用部材を準備する背面板形成用部材準備工程と、金属ワイヤのブラシ毛を有するリブ切削用ブラシを用い、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラッシングを行うことにより、上記横リブが上記縦リブよりも低い段差リブを形成する段差リブ形成工程と、を有することを特徴とするものである。   The method for manufacturing the back plate for PDP of the present invention includes a substrate, a patterned address electrode layer formed on the substrate, a dielectric layer formed so as to cover the address electrode layer, and the dielectric layer. A back plate forming member preparing step for preparing a back plate forming member having a matrix rib composed of vertical ribs and horizontal ribs formed thereon, and a rib cutting brush having metal wire brush bristles are used. A step rib forming step in which the horizontal rib forms a step rib lower than the vertical rib by brushing in a direction along the vertical rib of the back plate forming member. is there.

本発明によれば、リブ切削用ブラシを用い、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラッシングを行うことにより、横リブのみを選択的に切削することができ、段差リブを容易に形成することができる。また、金属ワイヤは一般的に硬度が高く、マトリクスリブを良好に切削することができる。また、従来のように、ドライフィルムレジスト(DFR)のラミネート、製版、サンドブラストを2回行うことにより段差リブを形成する方法を用いると、上述したように、2回目のDFRのラミネートの際には、リブの端部が欠ける問題、マトリクスリブの穴部にDFRが落ち込む問題、DFR剥離不良の問題等が生じ、2回目の露光の際には、アライメントの問題等が生じ、さらには2枚のDFRを使うので、コストが高くなる問題が生じていた。これに対して、本発明においては、マトリクスリブを切削して段差リブとする際に、DFRを使用せず、リブ形成用ブラシを用いるものであるため、上記の問題が一切発生しないという利点を有する。   According to the present invention, by using a brush for rib cutting and brushing in a direction along the longitudinal rib of the back plate forming member, only the lateral rib can be selectively cut, and the step rib is easily formed. can do. Further, the metal wire generally has high hardness, and the matrix rib can be cut well. In addition, as described above, when a method of forming a step rib by performing dry film resist (DFR) lamination, plate making, and sandblasting twice as in the conventional case, as described above, in the second DFR lamination, The problem is that the end of the rib is missing, the problem that the DFR falls into the hole of the matrix rib, the problem of the DFR peeling failure, etc., the alignment problem occurs at the second exposure, Since DFR is used, there has been a problem that costs increase. On the other hand, in the present invention, when the matrix rib is cut into the step rib, the DFR is not used and the rib forming brush is used, so that the above problem does not occur at all. Have.

次に、本発明のPDP用背面板の製造方法について図面を用いて説明する。図1は、本発明のPDP用背面板の製造方法の一例を示す斜視図である。図1に示されるPDP用背面板の製造方法においては、まず図1(a)に示すように、基板1と、基板1上に形成されたパターン状のアドレス電極層2と、アドレス電極層2を覆うように形成された誘電体層3と、誘電体層3上に形成され、縦リブ4xおよび横リブ4yから構成されるマトリクスリブ4と、を有する背面板形成用部材10を準備する。次に図1(b)に示すように、金属ワイヤのブラシ毛5を有するリブ切削用ブラシ6を用い、背面板形成用部材の縦リブ4xに沿う方向でブラッシングを行う。それにより、図1(c)に示すように、横リブ4yが縦リブ4xよりも低い段差リブ4´を形成する。この後に、通常、得られた段差リブを焼成し、さらに段差リブの内周面に蛍光体層を形成することにより、PDP用背面板を得る。   Next, the manufacturing method of the back plate for PDP of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an example of a method for manufacturing a PDP back plate according to the present invention. In the method for manufacturing the PDP back plate shown in FIG. 1, first, as shown in FIG. 1A, a substrate 1, a patterned address electrode layer 2 formed on the substrate 1, and an address electrode layer 2 are formed. A back plate forming member 10 having a dielectric layer 3 formed so as to cover and a matrix rib 4 formed on the dielectric layer 3 and composed of vertical ribs 4x and horizontal ribs 4y is prepared. Next, as shown in FIG. 1B, brushing is performed in a direction along the longitudinal ribs 4x of the back plate forming member, using a rib cutting brush 6 having metal wire brush bristles 5. Thereby, as shown in FIG.1 (c), the level | step difference rib 4 'in which the horizontal rib 4y is lower than the vertical rib 4x is formed. Thereafter, the obtained step rib is usually fired, and a phosphor layer is formed on the inner peripheral surface of the step rib to obtain a PDP back plate.

図2は、図1(b)のA−A´断面を示す概略断面図である。なお便宜上、横リブ4yの記載は省略してある。図2に示すように、リブ切削用ブラシ6を背面板形成用部材10の縦リブ4xに沿う方向で移動させると、リブ切削用ブラシ6のブラシ毛5は、移動方向に平行な縦リブ4xにはほとんど接触せず、縦リブ4xの間隙に集まる。その結果、縦リブ4xに直交する横リブ(図示せず)のみを選択的(異方的)に切削することができるのである。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a cross section AA ′ of FIG. For convenience, the description of the lateral rib 4y is omitted. As shown in FIG. 2, when the rib cutting brush 6 is moved in the direction along the vertical rib 4x of the back plate forming member 10, the brush bristles 5 of the rib cutting brush 6 are parallel to the moving direction of the vertical rib 4x. Hardly gathers and gathers in the gap between the vertical ribs 4x. As a result, only the lateral rib (not shown) orthogonal to the longitudinal rib 4x can be selectively (anisotropically) cut.

なお、本発明における縦リブおよび横リブの規定は便宜的なものであり、交差するリブの一方を縦リブとした場合に、他方のリブを横リブとすることができる。また、段差リブを形成する前のマトリクスリブにおける縦リブおよび横リブの高さは、通常同一である。
以下、本発明のPDP用背面板の製造方法について、工程ごとに説明する。
The definition of the vertical rib and the horizontal rib in the present invention is convenient, and when one of the intersecting ribs is a vertical rib, the other rib can be a horizontal rib. Moreover, the height of the vertical rib and the horizontal rib in the matrix rib before forming the step rib is usually the same.
Hereinafter, the manufacturing method of the backplate for PDP of this invention is demonstrated for every process.

1.背面板形成用部材準備工程
まず、本発明における背面板形成用部材準備工程について説明する。本発明における背面板形成用部材準備工程は、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する背面板形成用部材を準備する工程である。
1. Back plate forming member preparation step First, the back plate forming member preparation step in the present invention will be described. The back plate forming member preparation step in the present invention includes a substrate, a patterned address electrode layer formed on the substrate, a dielectric layer formed so as to cover the address electrode layer, and the dielectric layer. This is a step of preparing a back plate forming member that is formed thereon and has matrix ribs formed of vertical ribs and horizontal ribs.

なお、上記マトリクスリブは、後述するように、例えばガラスペースト等により形成することができるが、背面板形成用部材のマトリクスリブは、通常、焼成前の材料を用いて形成されている。その後に行われる段差リブ形成工程において、横リブの切削が容易だからである。通常は、横リブを切削し段差リブを形成した後に、焼成工程を行う。ただし、横リブの切削に支障がでない範囲であれば、上記マトリクスリブは、半焼成の材料を用いて形成されていても良い。   The matrix rib can be formed of, for example, glass paste as will be described later, but the matrix rib of the back plate forming member is usually formed using a material before firing. This is because it is easy to cut the lateral ribs in the step rib forming process performed thereafter. Usually, after cutting a horizontal rib and forming a level | step difference rib, a baking process is performed. However, the matrix rib may be formed using a semi-fired material as long as it does not hinder the cutting of the lateral rib.

本発明における背面板形成用部材準備工程としては、段差リブを形成することが可能なマトリクスリブを有する背面板形成用部材を準備することができる工程であれば特に限定されるものではない。本発明において、通常、背面板形成用部材準備工程は、基板上にパターン状のアドレス電極層を形成するアドレス電極層形成工程と、上記アドレス電極層を覆うように誘電体層を形成する誘電体層形成工程と、上記誘電体層上にリブ層を形成し、上記リブ層を加工することにより、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブを形成するマトリクスリブ形成工程と、を有する。   The back plate forming member preparing step in the present invention is not particularly limited as long as it is a step capable of preparing a back plate forming member having matrix ribs capable of forming step ribs. In the present invention, usually, the back plate forming member preparing step includes an address electrode layer forming step of forming a patterned address electrode layer on the substrate, and a dielectric forming a dielectric layer so as to cover the address electrode layer. A layer forming step, and forming a rib layer on the dielectric layer and processing the rib layer to form a matrix rib formed of vertical ribs and horizontal ribs.

図3は、本発明における背面板形成用部材準備工程の一例を示す斜視図である。より具体的には、マトリクスリブ形成工程の際にブラスト法を用いた場合の斜視図である。図3に示される背面板形成用部材準備工程においては、まず、基板1上にパターン状のアドレス電極層2を形成するアドレス電極層形成工程と(図3(a))、アドレス電極層2を覆うように誘電体層3を形成する誘電体層形成工程と(図3(b))と、を行う。次に、マトリクスリブ形成工程として、誘電体層3上全面にリブ層4´´を形成するリブ層形成処理と(図3(c))、リブ層4´´上全面にドライフィルムレジスト層7を形成し(図3(d))、ドライフィルムレジスト層7を露光現像することにより、縦横のパターン状のドライフィルムレジストパターン7´を形成するドライフィルムレジストパターン形成処理と(図3(e))、ドライフィルムレジストパターン7´をリブ層4´´に転写するようにサンドブラスト加工するサンドブラスト加工処理と(図3(f))、サンドブラスト加工処理後に、ドライフィルムレジストパターン7´を剥離する剥離処理と(図3(g))、を行う。これにより、図3(g)に示されるように、縦リブ4xおよび横リブ4yから構成されるマトリクスリブ4を有する背面板形成用部材10が得られる。
以下、背面板形成用部材準備工程を構成する上記の各工程について詳細に説明する。
FIG. 3 is a perspective view showing an example of a back plate forming member preparation step in the present invention. More specifically, it is a perspective view when the blast method is used in the matrix rib forming step. In the back plate forming member preparation step shown in FIG. 3, first, an address electrode layer forming step of forming a patterned address electrode layer 2 on the substrate 1 (FIG. 3A), the address electrode layer 2 is formed. A dielectric layer forming step of forming the dielectric layer 3 so as to cover (FIG. 3B) is performed. Next, as a matrix rib forming step, a rib layer forming process for forming a rib layer 4 ″ on the entire surface of the dielectric layer 3 (FIG. 3C), and a dry film resist layer 7 on the entire surface of the rib layer 4 ″. (FIG. 3 (d)), and dry film resist pattern formation processing for forming a dry film resist pattern 7 'in a vertical and horizontal pattern by exposing and developing the dry film resist layer 7 (FIG. 3 (e)). ), A sandblasting process for sandblasting to transfer the dry film resist pattern 7 ′ to the rib layer 4 ″ (FIG. 3 (f)), and a peeling process for peeling the dry film resist pattern 7 ′ after the sandblasting process. (FIG. 3G). Thereby, as shown in FIG. 3G, the back plate forming member 10 having the matrix ribs 4 constituted by the vertical ribs 4x and the horizontal ribs 4y is obtained.
Hereafter, each said process which comprises the member preparation process for backplate formation is demonstrated in detail.

(1)アドレス電極層形成工程
まず、本発明におけるアドレス電極層形成工程について説明する。本発明におけるアドレス電極層形成工程は、基板上にパターン状のアドレス電極層を形成する工程である。
(1) Address Electrode Layer Formation Step First, the address electrode layer formation step in the present invention will be described. The address electrode layer forming step in the present invention is a step of forming a patterned address electrode layer on the substrate.

本発明に用いられる基板の材料としては、所定の耐熱性を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般的なPDP用背面板に用いられる基板の材料と同様のものを使用することができる。具体的には、ガラス等を挙げることができ、中でも、誘電体やリブ材の焼成時等に生じるひずみが小さいガラスが好ましい。   The material of the substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it has a predetermined heat resistance, and the same material as the substrate used for a general PDP back plate should be used. Can do. Specifically, glass etc. can be mentioned, Among these, the glass with a small distortion produced at the time of baking of a dielectric material or a rib material is preferable.

本発明に用いられるアドレス電極層の材料としては、導電性を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般的なPDP用背面板に用いられるアドレス電極層の材料と同様のものを使用することができる。具体的には、Ag等の金属を挙げることができる。また、本発明に用いられるアドレス電極層は、金属薄膜を積層したものであっても良く、具体的には、Cr/Cu/Cr等の3層の金属薄膜を有するもの等を挙げることができる。   The material of the address electrode layer used in the present invention is not particularly limited as long as it has conductivity, and the same material as the material of the address electrode layer used for a general PDP back plate is used. can do. Specific examples include metals such as Ag. In addition, the address electrode layer used in the present invention may be a laminate of metal thin films, and specifically includes those having a three-layer metal thin film such as Cr / Cu / Cr. .

基板上にパターン状のアドレス電極層を形成する方法としては、例えばフォトペースト法および薄膜法等を挙げることができ、中でもフォトペースト法が好ましい。上記フォトペースト法としては、具体的には、感光性樹脂を含有するAgペーストをスクリーン印刷法で基板全面に塗布し、乾燥させ、次に所定のパターンで露光、現像を行い、最後に焼成する方法等を挙げることができる。一方、上記薄膜法としては、具体的には、スパッタリング法で基板全面にCr/Cu/Crの3層の金属薄膜を形成し、その金属薄膜の最表層にレジストを塗布し乾燥させ、次に所定のパターンで露光、現像を行い、露出した金属薄膜をエッチングし、最後にレジストを剥離する方法等を挙げることができる。   Examples of the method for forming the patterned address electrode layer on the substrate include a photo paste method and a thin film method. Among these, the photo paste method is preferable. Specifically, as the photo paste method, Ag paste containing a photosensitive resin is applied to the entire surface of the substrate by a screen printing method, dried, then exposed and developed in a predetermined pattern, and finally fired. The method etc. can be mentioned. On the other hand, as the thin film method, specifically, a Cr / Cu / Cr three-layer metal thin film is formed on the entire surface of the substrate by a sputtering method, a resist is applied to the outermost layer of the metal thin film, and then dried. Examples include a method of performing exposure and development with a predetermined pattern, etching the exposed metal thin film, and finally removing the resist.

(2)誘電体層形成工程
次に、本発明における誘電体層形成工程について説明する。本発明における誘電体層形成工程は、上記アドレス電極層を覆うように誘電体層を形成する工程である。
(2) Dielectric Layer Formation Step Next, the dielectric layer formation step in the present invention will be described. The dielectric layer forming step in the present invention is a step of forming a dielectric layer so as to cover the address electrode layer.

本発明に用いられる誘電体層の材料としては、所望の誘電率を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般的なPDP用背面板に用いられる誘電体層の材料と同様のものを使用することができる。   The material of the dielectric layer used in the present invention is not particularly limited as long as it has a desired dielectric constant, and is the same as the material of the dielectric layer used for a general PDP back plate. Can be used.

誘電体層を形成する方法としては、例えばスクリーン印刷法等を挙げることができる。本発明においては、上記誘電体層を形成した後に、通常、乾燥を行うが、必要に応じて、誘電体層の焼成を行っても良い。   Examples of the method for forming the dielectric layer include a screen printing method. In the present invention, after the dielectric layer is formed, drying is usually performed, but the dielectric layer may be fired as necessary.

(3)マトリクスリブ形成工程
次に、本発明におけるマトリクスリブ形成工程について説明する。本発明におけるマトリクスリブ形成工程は、上記誘電体層上にリブ層を形成し、上記リブ層を加工することにより、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブを形成する工程である。
(3) Matrix Rib Formation Step Next, the matrix rib formation step in the present invention will be described. The matrix rib forming step in the present invention is a step of forming a matrix rib composed of vertical ribs and horizontal ribs by forming a rib layer on the dielectric layer and processing the rib layer.

マトリクスリブを形成する方法としては、所望のマトリクスリブを得ることができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えばブラスト法、フォトペースト法およびエッチング法等を挙げることができ、中でもブラスト法が好ましい。   The method for forming the matrix rib is not particularly limited as long as a desired matrix rib can be obtained, and examples thereof include a blast method, a photo paste method, and an etching method. The method is preferred.

マトリクスリブを形成する方法がブラスト法である場合、マトリクスリブ形成工程は、通常、以下の処理を有する。すなわち、マトリクスリブ形成工程は、リブペーストの塗布および乾燥を行うことにより、上記誘電体層上にリブ層を形成するリブ層形成処理と、上記リブ層上にドライフィルムレジスト層を形成し、上記ドライフィルムレジスト層を露光現像することにより、パターン状のドライフィルムレジストパターンを形成するドライフィルムレジスト層処理と、上記ドライフィルムレジストパターンを上記リブ層に転写するようにサンドブラスト加工するサンドブラスト加工処理と、サンドブラスト加工処理後に、上記ドライフィルムレジストパターンを剥離する剥離処理と、を有する。上記の各処理については、上記図3で説明した内容と同様であり、一般的なPDP用背面板において行われる処理と同様であるので、ここでの説明は省略する。   When the method for forming the matrix rib is a blast method, the matrix rib forming step usually includes the following processes. That is, in the matrix rib forming step, a rib layer is formed on the dielectric layer by applying and drying a rib paste, and a dry film resist layer is formed on the rib layer. By exposing and developing the dry film resist layer, a dry film resist layer process for forming a patterned dry film resist pattern; a sand blasting process for sand blasting to transfer the dry film resist pattern to the rib layer; And a peeling process for peeling the dry film resist pattern after the sandblasting process. Each of the above-described processes is the same as the contents described in FIG. 3 and is the same as the process performed on a general PDP back plate, and thus description thereof is omitted here.

マトリクスリブを形成する方法がブラスト法である場合、リブ層形成用材料として、例えばガラスペースト等が用いられる。上記ガラスペーストは、通常、BiO、ZnO、B等の平均粒径3μm程度のガラスフリット、さらにはTiO、Al等の無機成分、またペーストにするための樹脂成分および溶剤を含有する。 When the method of forming the matrix rib is the blast method, for example, glass paste or the like is used as the rib layer forming material. The glass paste is usually a glass frit having an average particle size of about 3 μm, such as BiO 2 , ZnO, B 2 O 3 , an inorganic component such as TiO 2 , Al 2 O 3 , a resin component for making a paste, Contains solvent.

(4)背面板形成用部材
次に、本発明に用いられる背面板形成用部材について説明する。本発明に用いられる背面板形成用部材は、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する。
(4) Back plate forming member Next, the back plate forming member used in the present invention will be described. The back plate forming member used in the present invention includes a substrate, a patterned address electrode layer formed on the substrate, a dielectric layer formed so as to cover the address electrode layer, and the dielectric layer And a matrix rib formed on the top and composed of vertical ribs and horizontal ribs.

縦(横)リブの頂部幅としては、PDP用背面板の用途等により異なるものであるが、例えば30μm〜120μmの範囲内、中でも50μm〜80μmの範囲内であることが好ましい。隣接する縦(横)リブの間隔としては、PDP用背面板の用途等により異なるものであるが、例えば120μm〜500μmの範囲内、中でも160μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。   The top width of the vertical (horizontal) rib varies depending on the use of the back plate for PDP and the like, but is preferably in the range of 30 μm to 120 μm, particularly preferably in the range of 50 μm to 80 μm. The interval between adjacent vertical (horizontal) ribs varies depending on the use of the PDP back plate and the like, but is preferably in the range of 120 μm to 500 μm, and more preferably in the range of 160 μm to 300 μm.

上述したように、段差リブを形成する前のマトリクスリブにおける縦リブおよび横リブの高さは、通常同一である。縦(横)リブの高さとしては、一般的なPDP用背面板のリブの高さと同様であるが、例えば100μm〜300μmの範囲内、中でも120μm〜160μmの範囲内であることが好ましい。   As described above, the height of the vertical rib and the horizontal rib in the matrix rib before forming the step rib is usually the same. The height of the vertical (horizontal) rib is the same as the height of the rib of a general PDP back plate, but is preferably in the range of, for example, 100 μm to 300 μm, and more preferably in the range of 120 μm to 160 μm.

2.段差リブ形成工程
次に、本発明における段差リブ形成工程について説明する。本発明における段差リブ形成工程は、金属ワイヤのブラシ毛を有するリブ切削用ブラシを用い、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラッシングを行うことにより、上記横リブが上記縦リブよりも低い段差リブを形成する工程である。
2. Step Rib Forming Step Next, the step rib forming step in the present invention will be described. The step rib forming step in the present invention uses a rib cutting brush having metal wire brush bristles and performs brushing in a direction along the vertical rib of the back plate forming member so that the horizontal rib is more than the vertical rib. Is a step of forming a low step rib.

まず、本発明に用いられるリブ切削用ブラシについて説明する。本発明に用いられるリブ切削用ブラシは、少なくともマトリクスリブを切削する金属ワイヤのブラシ毛を有する。
上記金属ワイヤの材料としては、特に限定されるものではないが、例えば鉄、真鍮、洋白銀、ステンレス等を挙げることができ、中でもステンレスが好ましい。
First, the rib cutting brush used in the present invention will be described. The rib cutting brush used in the present invention has at least metal wire brush hairs for cutting matrix ribs.
Although it does not specifically limit as a material of the said metal wire, For example, iron, brass, white silver, stainless steel etc. can be mentioned, Especially stainless steel is preferable.

上記ブラシ毛の長さとしては、横リブを切削する程度等により異なるものであるが、例えば3mm〜50mmの範囲内、中でも5mm〜20mmの範囲内であることが好ましい。ブラシ毛が短すぎると、直毛状態でリブを切削することとなり、横リブと同時に縦リブも切削してしまう可能性があり、ブラシ毛が長すぎると、均一な切削が困難になる可能性があるからである。   The length of the brush bristles varies depending on the degree of cutting the lateral ribs, but is preferably in the range of 3 mm to 50 mm, and more preferably in the range of 5 mm to 20 mm. If the bristle is too short, the ribs will be cut in the straight state, and the longitudinal ribs may be cut at the same time as the horizontal ribs. If the brush bristle is too long, uniform cutting may be difficult. Because there is.

上記ブラシ毛の太さとしては、横リブを切断することができれば特に限定されるものではないが、例えば20μm〜150μmの範囲内、中でも30μm〜80μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the brush hair is not particularly limited as long as the lateral rib can be cut, but it is preferably in the range of 20 μm to 150 μm, and more preferably in the range of 30 μm to 80 μm.

上記ブラシ毛の硬さとしては、マトリクスリブを切削することができるものであれば特に限定されるものではない。   The hardness of the brush hair is not particularly limited as long as the matrix rib can be cut.

上記ブラシ毛は、平滑な表面を有するものであっても良く、粗化された表面を有するものであっても良い。上記ブラシ毛が粗化された表面を有する場合は、効率良く切削行うことができる利点を有する反面、ブラシ毛の材料によっては、ブラシ毛の一部がリブ表面に残留してしまうという可能性がある点に留意すべきである。   The brush bristles may have a smooth surface or a roughened surface. When the brush hair has a roughened surface, it has an advantage that it can be cut efficiently, but depending on the material of the brush hair, there is a possibility that part of the brush hair remains on the rib surface. There are certain points to note.

本発明に用いられるリブ切削用ブラシの形状は、上述したブラシ毛を有するものであれば特に限定されるものではない。本発明に用いられるリブ切削用ブラシを例示すると、図4に示すように、筆状のブラシ(図4(a))、細長い、たわし状のブラシ(図4(b))、大面積で切削可能な、たわし状のブラシ(図4(c))、円筒状のブラシ(図4(d))等を挙げることができる。   The shape of the rib cutting brush used in the present invention is not particularly limited as long as it has the above-described brush hair. Examples of the rib cutting brush used in the present invention include, as shown in FIG. 4, a brush-like brush (FIG. 4 (a)), an elongated, brush-like brush (FIG. 4 (b)), and cutting with a large area. Possible brushes (Fig. 4 (c)), cylindrical brushes (Fig. 4 (d)), and the like.

次に、上述したリブ切削用ブラシを用いて、段差リブを形成する方法について説明する。本発明においては、リブ切削用ブラシを用い、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラッシングを行う。本発明におけるブラッシングの方法としては、所望の段差リブを形成することができる方法であれば特に限定されるものではない。   Next, a method for forming step ribs using the above-described rib cutting brush will be described. In the present invention, a brush for rib cutting is used, and brushing is performed in a direction along the longitudinal rib of the back plate forming member. The brushing method in the present invention is not particularly limited as long as it can form a desired step rib.

本発明においては、リブ切削用ブラシのブラシ毛の先端が、露出している誘電体層に接触するようにブラッシングを行っても良く、接触しないようにブラッシングを行っても良い。通常、誘電体層には焼結処理がなされているので、リブ接触用ブラシにより切削されることは無いが、ブラシ毛の材質やブラッシング条件によっては、リブ接触用ブラシにより切削される可能性がある。そのため、本発明においては、リブ切削用ブラシのブラシ毛の先端が、露出している誘電体層に接触しないようにブラッシングを行うことが好ましい。   In the present invention, brushing may be performed so that the tip of the bristle of the rib cutting brush contacts the exposed dielectric layer, or brushing may be performed so as not to contact. Usually, since the dielectric layer is sintered, it is not cut by the rib contact brush, but depending on the brush bristle material and brushing conditions, it may be cut by the rib contact brush. is there. Therefore, in the present invention, it is preferable to perform brushing so that the tip of the bristle of the rib cutting brush does not contact the exposed dielectric layer.

背面板形成用部材に対するリブ切削用ブラシのブラッシング速度としては、所望の段差リブを形成することができれば特に限定されるものではないが、例えば100mm/s〜2000mm/sの範囲内、中でも300mm/s〜1000mm/sの範囲内であることが好ましい。   The brushing speed of the rib cutting brush with respect to the back plate forming member is not particularly limited as long as a desired step rib can be formed. For example, the brushing speed is within the range of 100 mm / s to 2000 mm / s, particularly 300 mm / s. It is preferable to be within the range of s to 1000 mm / s.

本発明においては、横リブの高さが、例えば縦リブの高さの99%〜50%の範囲内、中でも95%〜70%の範囲内となるように、ブラッシングを行うことが好ましい。さらにブラッシングの回数としては、特に限定されるものではないが、例えば10回〜500回の範囲内、中でも50回〜100回の範囲内であることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to perform the brushing so that the height of the horizontal rib is, for example, in the range of 99% to 50% of the height of the vertical rib, particularly in the range of 95% to 70%. Further, the number of brushing is not particularly limited, but for example, it is preferably in the range of 10 to 500 times, and more preferably in the range of 50 to 100 times.

本発明においては、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向にブラッシングを行う。本発明においては、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の一方向にブラッシングを行う方法であっても良く、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向にブラッシングを行う方法であっても良いが、中でも本発明においては、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向にブラッシングを行う方法であることが好ましい。均一な切削を行うことができるからである。背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向にブラッシングを行う方法としては、例えば、図5(a)に示すように、背面板形成用部材10の縦リブ4xに沿う方向で、一つのリブ切削用ブラシ6を左右に往復させてブラッシングを行う方法、および、図5(b)に示すように、背面板形成用部材10の縦リブ4xに沿う方向で、二つのリブ切削用ブラシ6をそれぞれ逆方向に移動させ、順次ブラッシングを行う方法等を挙げることができる。   In the present invention, brushing is performed in a direction along the longitudinal ribs of the back plate forming member. In the present invention, brushing may be performed in one direction along the longitudinal rib of the back plate forming member, or brushing may be performed in both directions along the longitudinal rib of the back plate forming member. However, in the present invention, the brushing method is preferably performed in both directions along the longitudinal ribs of the back plate forming member. This is because uniform cutting can be performed. As a method of brushing in both directions along the longitudinal ribs of the back plate forming member, for example, as shown in FIG. 5A, one brushing is performed in the direction along the longitudinal ribs 4x of the back plate forming member 10. The method of brushing by reciprocating the rib cutting brush 6 left and right, and two rib cutting brushes 6 in the direction along the vertical rib 4x of the back plate forming member 10 as shown in FIG. A method of sequentially brushing each of them by moving them in opposite directions can be given.

本発明においては、通常、リブ切削用ブラシおよび背面板形成用部材の少なくとも一方を、縦リブに沿う方向と平行する方向に水平移動させ、ブラッシングを行う。移動させながらブラッシングを行う方法としては、具体例には、図6(a)に示すように、筆状のリブ切削用ブラシ6および背面板形成用部材10の少なくとも一方を、縦リブ4xに沿う方向と平行する方向に水平移動させ、ブラッシングを行う方法、および、図6(b)に示すように、円筒状のリブ切削用ブラシ6を回転させ、さらに円筒状のリブ切削用ブラシ6および背面板形成用部材10の少なくとも一方を、縦リブ4xに沿う方向と平行する方向に水平移動させ、ブラッシングを行う方法等を挙げることができる。   In the present invention, brushing is usually performed by horizontally moving at least one of the rib cutting brush and the back plate forming member in a direction parallel to the direction along the longitudinal rib. As a method of brushing while moving, in a specific example, as shown in FIG. 6A, at least one of the brush-like rib cutting brush 6 and the back plate forming member 10 is arranged along the vertical rib 4x. And a method of brushing by horizontally moving in a direction parallel to the direction, and as shown in FIG. 6B, the cylindrical rib cutting brush 6 is rotated, and the cylindrical rib cutting brush 6 and the back are further rotated. A method of performing brushing by horizontally moving at least one of the face plate forming members 10 in a direction parallel to the direction along the vertical ribs 4x can be exemplified.

本発明においては、リブ形成用ブラシと横リブとの物理的な接触により、横リブの切削を行う。そのため、段差リブ形成後に、段差リブ表面にリブ形成用ブラシの一部が残留する可能性がある。そのため、本発明においては、段差リブ形成工程後に、段差リブ表面の異物を除去する洗浄工程を行うことが好ましい。   In the present invention, the horizontal rib is cut by physical contact between the rib forming brush and the horizontal rib. Therefore, a part of the rib forming brush may remain on the surface of the step rib after the step rib is formed. Therefore, in this invention, it is preferable to perform the washing | cleaning process which removes the foreign material of the level | step difference rib surface after a level | step difference rib formation process.

3.その他の工程
本発明においては、通常、上記段差リブ形成工程後に、上記段差リブを焼成する焼成工程を行う。焼成温度、焼成時間および焼成方法等の条件については、一般的なPDP用背面板における条件と同様であるので、ここでの説明は省略する。さらに、本発明においては、通常、上記焼成工程後に、上記段差リブの内周面に蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程を行う。上記蛍光体層を形成する方法としては、例えばスクリーン印刷法およびディスペンス法等を挙げることができる。また、本発明においては、上述した各工程の後に、表面を洗浄する洗浄工程を行っても良い。
3. Other Steps In the present invention, usually, after the step rib forming step, a firing step for firing the step rib is performed. The conditions such as the firing temperature, firing time, firing method, and the like are the same as those for a general PDP back plate, and thus the description thereof is omitted here. Furthermore, in the present invention, a phosphor layer forming step for forming a phosphor layer on the inner peripheral surface of the step rib is usually performed after the firing step. Examples of the method for forming the phosphor layer include a screen printing method and a dispensing method. Moreover, in this invention, you may perform the washing | cleaning process of wash | cleaning the surface after each process mentioned above.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。なお、実施例中、「部」は重量部、「%」は重量%を示す。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In the examples, “parts” represents parts by weight, and “%” represents% by weight.

[製造例]
縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブを有する背面板形成用部材を、下記の方法により作製した。
(1)フリット混合物の作製
下記の要領でフリット混合物の作製を行った。
・ガラスフリットMB−10A(松波硝子工業製,d50=2.6μm) …80部
・骨材(α−アルミナRA−30(岩谷化学工業製、d50=1.0μm)) …10部
・顔料(ダイピロキサイドブラック#9510(大日精化工業製)) …10部
これらを弗素樹脂製の容器に入れ、ペイントコンディショナーRC−5000(レッドデビル社製)により15分間混合し、フリット混合物を作製した。
[Production example]
A back plate forming member having matrix ribs composed of vertical ribs and horizontal ribs was produced by the following method.
(1) Preparation of frit mixture The frit mixture was prepared in the following manner.
Glass frit MB-10A (manufactured by Matsunami Glass Industry, d 50 = 2.6 μm) ... 80 parts Aggregate (α-alumina RA-30 (manufactured by Iwatani Chemical Industry, d 50 = 1.0 μm)) ... 10 parts Pigment (Dipyroxide Black # 9510 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo)) ... 10 parts These are put in a fluororesin container and mixed for 15 minutes with a paint conditioner RC-5000 (manufactured by Red Devil) to prepare a frit mixture. did.

(2)マトリクスリブ形成用組成物の作製
上記フリット混合物に下記の添加物を加えて、マトリクスリブ形成用組成物を作製した。
・上記フリット混合物 …80部
・エトセルSTD−100FP(ダウ・ケミカル社製) …1.44部
・ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(純正化学製) …9部
・スクリーンオイル759(奥野製薬工業製) …9部
これらを均一に混合した後、三本ロールミル(井上製作所製、C−4・3/4×10)にて混練しマトリクスリブ形成用組成物を作製した。
(2) Preparation of Matrix Rib Forming Composition A matrix rib forming composition was prepared by adding the following additives to the frit mixture.
・ Frit mixture: 80 parts ・ Etocel STD-100FP (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) ... 1.44 parts ・ Diethylene glycol monobutyl ether acetate (manufactured by Junsei Kagaku) ... 9 parts After mixing these uniformly, it knead | mixed with the triple roll mill (the product made by Inoue Seisakusho, C-4 * 3 / 4x10), and produced the composition for matrix rib formation.

(3)背面板形成用部材の作製
300×450mmのガラス基板上に下地層としてELD−1155(奥野製薬工業製)をスクリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚10μmの下地層を形成した後、この下地層の上にアドレス電極としてD−590−HV−MOD(イー・エス・エル日本製)をスクリーン印刷にて電極パターン状に印刷、焼成し、膜厚2μm、線幅60μm、ピッチ320μmの電極を形成した。次に、このアドレス電極上に誘電体層としてPLS−3232(日本電気硝子製)をスクリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚10μmの誘電体層を形成した。次いで、上記マトリクスリブ形成用組成物の作製をスクリーンオイル759(奥野製薬工業製)で希釈しシェアーレート15[1/sec]、22℃で500ポイズに粘度調整し、ブレードコーターによりコーティング、乾燥を行い、膜厚190μmのベタ膜を作製した。ベタ膜が形成された基板を80℃に加熱しベタ膜上にドライフィルムレジスト(東京応化工業製、OSBRフィルムBF−605)をラミネートした後、超高圧水銀灯を光源とする平行光プリンターを使用し、縦リブ線幅74μm、縦リブピッチ320μm、横リブ線幅224μm、横リブピッチ960μmのマトリクス状のパターンマスクを介して露光を行った。露光条件は、365μmで測定した時に強度200μW/cm、照射量80mJ/cmであった。
(3) Production of back plate forming member ELD-1155 (manufactured by Okuno Seiyaku Kogyo Co., Ltd.) is printed as a base layer on a 300 × 450 mm glass substrate by screen printing, dried and fired to form a base layer having a thickness of 10 μm. After the formation, D-590-HV-MOD (manufactured by LS-L Japan Co., Ltd.) as an address electrode is printed on the base layer in an electrode pattern by screen printing and baked. The film thickness is 2 μm and the line width is 60 μm. Electrodes with a pitch of 320 μm were formed. Next, PLS-3232 (manufactured by Nippon Electric Glass) was printed on the address electrodes as a dielectric layer by screen printing, dried and fired to form a dielectric layer having a thickness of 10 μm. Next, the matrix rib forming composition was prepared by diluting with screen oil 759 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.), adjusting the viscosity to 500 poise at a shear rate of 15 [1 / sec] and 22 ° C., and coating and drying with a blade coater. A solid film having a thickness of 190 μm was produced. After heating the substrate on which the solid film is formed to 80 ° C. and laminating a dry film resist (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., OSBR film BF-605) on the solid film, a parallel light printer using an ultrahigh pressure mercury lamp as a light source is used. Then, exposure was performed through a matrix pattern mask having a vertical rib line width of 74 μm, a vertical rib pitch of 320 μm, a horizontal rib line width of 224 μm, and a horizontal rib pitch of 960 μm. The exposure conditions were an intensity of 200 μW / cm 2 and an irradiation amount of 80 mJ / cm 2 when measured at 365 μm.

次に、無水炭酸ナトリウム0.2%水溶液を用い、液温35℃でスプレー現像を行いサンドブラスト用マスクを作製し、乾燥した後、溶融アルミナA−#800(不二見研磨材工業製)を研削材としてサンドブラスト加工により不要部分を除去した。次いで、水酸化ナトリウム0.7%水溶液を用い、液温30℃にてサンドブラスト用マスクを剥離した。この塗膜を、ピーク温度575℃、保持時間20分、全焼成時間2時間で焼成を行い、深さ160μm、縦リブピッチ320μm、縦リブ上部幅80μm、横リブ上部幅230μm横リブピッチ960μmのマトリクスリブを有する背面板形成用部材を得た。得られたマトリクスリブのSEM写真を図9に示す。   Next, using a 0.2% aqueous solution of anhydrous sodium carbonate, spray development is performed at a liquid temperature of 35 ° C. to prepare a mask for sandblasting, drying, and then grinding molten alumina A- # 800 (manufactured by Fujimi Abrasives Industries). Unnecessary parts were removed by sandblasting as a material. Next, the sandblast mask was peeled off at a liquid temperature of 30 ° C. using a 0.7% aqueous solution of sodium hydroxide. This coating film was fired at a peak temperature of 575 ° C., a holding time of 20 minutes, and a total firing time of 2 hours. A matrix rib having a depth of 160 μm, a longitudinal rib pitch of 320 μm, a longitudinal rib upper width of 80 μm, a lateral rib upper width of 230 μm, and a lateral rib pitch of 960 μm. A member for forming a back plate having the above was obtained. An SEM photograph of the obtained matrix rib is shown in FIG.

[実施例1]
製造例で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う方向にブラッシングを行なった。ブラシは平均径80μm、毛足の長さ7mmの真鍮製ワイヤブラシを用いた。縦リブに沿う向きに、ブラシで一方向に100回、1000mm/秒の速さでブラッシングを行った。顕微鏡でリブを観察したところ、リブ材の横リブ部分が削られて縦リブと横リブの高さに差が出来ているのが観察された。また、縦リブの肩の部分が削られて丸くなっているのが観察された。さらに、リブの上面部に、ブラシのワイヤが削れた粉が付着しているのが観察された。
[Example 1]
The matrix ribs of the back plate forming member obtained in the production example were brushed in the direction along the vertical ribs. The brush used was a brass wire brush with an average diameter of 80 μm and a bristle length of 7 mm. Brushing was performed 100 times in one direction with a brush at a speed of 1000 mm / sec along the longitudinal rib. When the ribs were observed with a microscope, it was observed that the horizontal rib portion of the rib material was shaved and a difference in height between the vertical ribs and the horizontal ribs was made. It was also observed that the shoulders of the vertical ribs were cut and rounded. Furthermore, it was observed that the powder from which the brush wire was scraped adhered to the upper surface of the rib.

[実施例2]
製造例で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う方向にブラッシングを行なった。ブラシはマッハ製の平均径80μmのキサゲ刷毛を用い、毛足の長さを7mmになるように調節して用いた。縦リブに沿う向きに、ブラシで一方向に100回、1000mm/秒の速さでブラッシングを行った。顕微鏡でリブを観察したところ、リブ材の横リブ部分が削られて縦リブと横リブの高さに差が出来ているのが観察された。また、縦リブの肩の部分が削られて丸くなっているのが観察された。リブの上面部に、ブラシのワイヤが削れた粉は見られなかった。
[Example 2]
The matrix ribs of the back plate forming member obtained in the production example were brushed in the direction along the vertical ribs. The brush used was a scraper brush with an average diameter of 80 μm made by Mach, and the hair length was adjusted to 7 mm. Brushing was performed 100 times in one direction with a brush at a speed of 1000 mm / sec along the longitudinal rib. When the ribs were observed with a microscope, it was observed that the horizontal rib portion of the rib material was scraped and a difference in height between the vertical ribs and the horizontal ribs was made. It was also observed that the shoulders of the vertical ribs were cut and rounded. On the upper surface of the rib, no powder with the brush wire shaved was found.

[実施例3]
製造例で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う方向にブラッシングを行なった。ブラシはマッハ製の平均径80μmのキサゲ刷毛を用い、毛足の長さを20mmになるように調節して用いた。縦リブに沿う向きに、ブラシで一方向に100回、1000mm/秒の速さでブラッシングを行った。顕微鏡でリブを観察したところ、リブ材の横リブ部分が削られて縦リブと横リブの高さに差が出来ているのが観察された。縦リブの肩の部分は削れていなかった。また、リブの上面部に、ブラシのワイヤが削れた粉は見られなかった。
[Example 3]
The matrix ribs of the back plate forming member obtained in the production example were brushed in the direction along the vertical ribs. The brush used was a scraper brush with an average diameter of 80 μm manufactured by Mach, and the length of the hair foot was adjusted to 20 mm. Brushing was performed 100 times in one direction with a brush at a speed of 1000 mm / sec along the longitudinal rib. When the ribs were observed with a microscope, it was observed that the horizontal rib portion of the rib material was shaved and a difference in height between the vertical ribs and the horizontal ribs was made. The shoulder of the vertical rib was not cut. Moreover, the powder | flour from which the wire of the brush was shaved was not seen by the upper surface part of the rib.

[実施例4]
製造例で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う方向にブラッシングを行なった。ブラシはマッハ製の平均径80μmのキサゲ刷毛を用い、毛足の長さを20mmになるように調節して用いた。縦リブに沿う向きに、ブラシで一方向に50回、1000mm/秒の速さでブラッシングを行った。さらに縦リブに沿う向きで、逆の方向から、ブラシで一方向に50回、同じ速さでブラッシングを行った。顕微鏡でリブを観察したところ、リブ材の横リブ部分が削られて縦リブと横リブの高さに差が出来ているのが観察された。縦リブの肩の部分は削れていなかった。また、リブの上面部に、ブラシのワイヤが削れた粉は見られなかった。
[Example 4]
The matrix ribs of the back plate forming member obtained in the production example were brushed in the direction along the vertical ribs. The brush used was a scraper brush with an average diameter of 80 μm manufactured by Mach, and the length of the hair foot was adjusted to 20 mm. Brushing was performed 50 times in one direction with a brush at a speed of 1000 mm / sec along the longitudinal rib. Further, brushing was performed at the same speed 50 times in one direction with a brush from the opposite direction along the longitudinal rib. When the ribs were observed with a microscope, it was observed that the horizontal rib portion of the rib material was shaved and a difference in height between the vertical ribs and the horizontal ribs was made. The shoulder of the vertical rib was not cut. Moreover, the powder | flour from which the wire of the brush was shaved was not seen by the upper surface part of the rib.

[比較例1]
製造例で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う方向にブラッシングを行なった。ブラシには平均径150μmのナイロン歯ブラシを用いた。縦リブに沿う向きに、ブラシで一方向に100回、1000mm/秒の速さでブラッシングを行った。顕微鏡でリブを観察したが、リブ材は全く削れていなかった。
[Comparative Example 1]
The matrix ribs of the back plate forming member obtained in the production example were brushed in the direction along the vertical ribs. A nylon toothbrush having an average diameter of 150 μm was used as the brush. Brushing was performed 100 times in one direction with a brush at a speed of 1000 mm / sec along the longitudinal rib. The rib was observed with a microscope, but the rib material was not scraped at all.

本発明のPDP用背面板の製造方法の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the manufacturing method of the backplate for PDP of this invention. 図1(b)のA−A´断面を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the AA 'cross section of FIG.1 (b). 本発明における背面板形成用部材準備工程の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the member preparation process for backplate formation in this invention. 本発明に用いられるリブ切削用ブラシを例示する説明図である。It is explanatory drawing which illustrates the brush for rib cutting used for this invention. 本発明における段差リブの形成方法について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the formation method of the level | step difference rib in this invention. 本発明における段差リブの形成方法について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the formation method of the level | step difference rib in this invention. 従来のPDP用背面板を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the back plate for conventional PDP. 従来のPDP用背面板を例示する斜視図である。It is a perspective view which illustrates the back plate for conventional PDP. 製造例で得られたマトリクスリブのSEM写真である。It is a SEM photograph of the matrix rib obtained by the manufacture example.

符号の説明Explanation of symbols

1 … 基板
2 … アドレス電極層
3 … 誘電体層
4 … リブ(マトリクスリブ)
4x … 縦リブ
4y … 横リブ
4´ … 段差リブ
4´´ … リブ層
5 … ブラシ毛
6 … リブ切削用ブラシ
7 … ドライフィルムレジスト層
7´ … ドライフィルムレジストパターン
8 … 蛍光体層
10 … 背面板形成用部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate 2 ... Address electrode layer 3 ... Dielectric layer 4 ... Rib (matrix rib)
4x ... vertical rib 4y ... horizontal rib 4 '... step rib 4 "... rib layer 5 ... brush bristles 6 ... rib cutting brush 7 ... dry film resist layer 7' ... dry film resist pattern 8 ... phosphor layer 10 ... spine Face plate forming member

Claims (2)

基板と、前記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、前記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、前記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する背面板形成用部材を準備する背面板形成用部材準備工程と、
金属ワイヤのブラシ毛を有するリブ切削用ブラシを用い、前記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラッシングを行うことにより、前記横リブが前記縦リブよりも低い段差リブを形成する段差リブ形成工程と、
を有すことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
A substrate, a patterned address electrode layer formed on the substrate, a dielectric layer formed so as to cover the address electrode layer, and a vertical rib and a horizontal rib formed on the dielectric layer A back plate forming member preparing step of preparing a back plate forming member having a matrix rib;
A step rib in which the horizontal rib forms a step rib lower than the vertical rib by brushing in a direction along the vertical rib of the back plate forming member using a rib cutting brush having metal wire brush bristles Forming process;
A method for producing a back plate for a plasma display panel, comprising:
前記段差リブ形成工程の際に、前記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向からブラッシングを行うことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。   2. The method of manufacturing a back plate for a plasma display panel according to claim 1, wherein, in the step rib forming step, brushing is performed from both directions along the longitudinal ribs of the back plate forming member.
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