JP2008216998A - Multilayer optical film - Google Patents

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Aya Takagiwa
綾 高際
Jun Yonezawa
順 米沢
Fumiki Murakami
史樹 村上
Masahiro Watabe
真大 渡部
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film having a small absolute value of thickness-direction retardation (Rth). <P>SOLUTION: The multilayer optical film is obtained by stacking a film A whose thickness-direction retardation (Rth) is positive and a film B whose thickness-direction retardation (Rth) is negative. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、偏光板保護フィルムや位相差フィルム等の光学材料に使用される光学フィルムに関する。   The present invention relates to an optical film used for optical materials such as a polarizing plate protective film and a retardation film.

最近の液晶テレビに代表される薄型ディスプレイ市場の拡大に伴い、より鮮明な画像をより低価格で得たいという要求が高まっている。これを実現するために重要となるのが、各種光学フィルムであり、偏光板保護フィルム及び位相差フィルムはその代表である。   With the recent expansion of the thin display market represented by liquid crystal televisions, there is an increasing demand for clearer images at a lower price. What is important for realizing this is various optical films, and a polarizing plate protective film and a retardation film are representative.

IPS方式の液晶表示装置用の偏光板保護フィルム及び位相差フィルムに関しては、その厚み方向レタデーション(Rth)の絶対値が小さいフィルムが望まれている。しかし、従来のVA方式の液晶表示装置用の偏光板保護フィルムや位相差フィルムとして用いられているトリアセチルセルロースフィルムやノルボルネン系樹脂フィルムの厚み方向レタデーション(Rth)は、大きな正の値を示し、IPS方式の液晶表示装置用の保護フィルム及び位相差フィルムとしては、必要な機能を提供できていない(特許文献1)。
特開2003−75638号公報
Regarding a polarizing plate protective film and a retardation film for an IPS liquid crystal display device, a film having a small absolute value of its thickness direction retardation (Rth) is desired. However, the thickness direction retardation (Rth) of a triacetyl cellulose film or a norbornene-based resin film used as a polarizing plate protective film or retardation film for a conventional VA liquid crystal display device shows a large positive value, Necessary functions cannot be provided as protective films and retardation films for IPS liquid crystal display devices (Patent Document 1).
JP 2003-75638 A

本発明の課題は、厚み方向レタデーション(Rth)の絶対値が小さい光学フィルムを提供することである。   The subject of this invention is providing the optical film with a small absolute value of thickness direction retardation (Rth).

本発明者らは、鋭意検討を行った結果、厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAと、厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBとを積層することにより、厚み方向レタデーション(Rth)の絶対値が小さい光学フィルムを製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the inventors of the present invention laminated a film A having a positive thickness direction retardation (Rth) and a film B having a negative thickness direction retardation (Rth) to obtain a thickness direction retardation (Rth). The inventors have found that an optical film having a small absolute value can be produced, and have completed the present invention.

本発明によれば、厚み方向レタデーション(Rth)の絶対値が小さい光学フィルムが得られるので、液晶テレビに代表される薄型ディスプレイ市場に有用なフィルムを提供することができる。   According to the present invention, an optical film having a small absolute value of thickness direction retardation (Rth) can be obtained, so that a film useful for a thin display market represented by a liquid crystal television can be provided.

以下、本発明について具体的に説明する。
本発明は、厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAと、厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBとを積層した積層光学フィルムである。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
The present invention is a laminated optical film in which a film A having a positive thickness direction retardation (Rth) and a film B having a negative thickness direction retardation (Rth) are laminated.

1.厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAを構成する材料
本発明における厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAを構成する材料としては、セルロースエステル、例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロースが挙げられる。これらのなかでも、トリアセチルセルロースが好ましい。
1. Material constituting film A having positive thickness direction retardation (Rth) As a material constituting film A having positive thickness direction retardation (Rth) in the present invention, cellulose ester such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose is used. , Butylcellulose, acetylpropionylcellulose, and nitrocellulose. Among these, triacetyl cellulose is preferable.

また、厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAを構成する材料の別の例としてノルボルネン系樹脂が挙げられる。
ここで、ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン系単量体を単量体成分として含む樹脂をいい、ノルボルネン系単量体とは、その構造中にノルボルネン骨格を有する単量体をいう。ノルボルネン系樹脂としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体もしくは開環共重合体、またはそれらの水素添加物、ノルボルネン系単量体の付加重合体もしくは付加共重合体またはそれらの水素添加物などを挙げることができる。なかでも、ノルボルネン系単量体の重合体の水素添加物は、製膜性が良く、機械的強度、耐熱性、透明性に優れるので、好適に用いることができる。
Moreover, norbornene-type resin is mentioned as another example of the material which comprises the film A with a positive thickness direction retardation (Rth).
Here, the norbornene-based resin refers to a resin containing a norbornene-based monomer as a monomer component, and the norbornene-based monomer refers to a monomer having a norbornene skeleton in its structure. Examples of norbornene resins include, for example, ring-opening polymers or ring-opening copolymers of norbornene monomers, or hydrogenated products thereof, addition polymers or addition copolymers of norbornene monomers, or hydrogens thereof. An additive etc. can be mentioned. Among these, a hydrogenated product of a norbornene-based monomer polymer can be suitably used because it has good film forming properties and excellent mechanical strength, heat resistance, and transparency.

厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAのさらに別の例として、ポリカーボネート樹脂が挙げられる。
本発明においては、光学フィルムの分野で一般に用いられているポリカーボネート樹脂をそのまま用いることができる。好ましくは芳香族ポリカーボネートであり、更に好ましくは、ポリビスフェノールAカーボネートである。
Another example of the film A having a positive thickness direction retardation (Rth) is polycarbonate resin.
In the present invention, polycarbonate resins generally used in the field of optical films can be used as they are. Aromatic polycarbonate is preferred, and polybisphenol A carbonate is more preferred.

2.厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBを構成する材料
本発明における厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBを構成する材料としては、スチレン系樹脂(B−1)、アクリル系樹脂(B−2)が挙げられる。
2. Material constituting film B having negative thickness direction retardation (Rth) As a material constituting film B having negative thickness direction retardation (Rth) in the present invention, styrene resin (B-1), acrylic resin (B -2).

本発明において、スチレン系樹脂(B−1)とは、少なくともスチレン系単量体を単量体成分として含む重合体をいう。ここで、スチレン系単量体とは、その構造中にスチレン骨格を有する単量体をいう。   In the present invention, the styrene resin (B-1) refers to a polymer containing at least a styrene monomer as a monomer component. Here, the styrene monomer means a monomer having a styrene skeleton in its structure.

スチレン系単量体の具体例としては、スチレンの他に、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、エチルスチレン、p−tert−ブチルスチレンなどの核アルキル置換スチレン、α−メチルスチレン、α−メチル−p−メチルスチレンなどのα−アルキル置換スチレンなどのビニル芳香族化合物単量体などが挙げられ、代表的なものはスチレンである。   Specific examples of the styrene monomer include nuclei such as o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, ethylstyrene, and p-tert-butylstyrene in addition to styrene. Examples thereof include vinyl aromatic compound monomers such as α-alkyl-substituted styrenes such as alkyl-substituted styrene, α-methylstyrene, and α-methyl-p-methylstyrene, and a typical one is styrene.

スチレン系樹脂(B−1)は、スチレン系単量体成分に他の単量体成分を共重合したものでよい。共重合可能な単量体としては、メチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メチルフェニルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート等のアルキルメタクリレート;メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等のアルキルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体;メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸等の不飽和カルボン酸単量体;無水マレイン酸、イタコン酸、エチルマレイン酸、メチルイタコン酸、クロルマレイン酸などの無水物である不飽和ジカルボン酸無水物単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル単量体;1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン等の共役ジエンなどが挙げられ、これらの2種以上を共重合してもよい。
このような他の単量体成分の共重合割合は、スチレン系単量体成分に対して、50質量%以下であることが好ましい。
The styrene resin (B-1) may be one obtained by copolymerizing a styrene monomer component with another monomer component. Examples of the copolymerizable monomer include alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, methylphenyl methacrylate and isopropyl methacrylate; alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate and cyclohexyl acrylate. Saturated carboxylic acid alkyl ester monomer; unsaturated carboxylic acid monomer such as methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid; maleic anhydride, itaconic acid, ethyl maleic acid, methyl itaconic acid Unsaturated dicarboxylic acid anhydride monomers such as chloromaleic acid; Unsaturated nitrile monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; 1,3-butadiene, 2-methyl Conjugated dienes such as -1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene, and the like are copolymerized. May be.
The copolymerization ratio of such other monomer components is preferably 50% by mass or less with respect to the styrene monomer component.

スチレン系樹脂(B−1)としては、特に、スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1−1)、スチレン−メタクリル酸共重合体(B−1−2)、スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−1−3)が、耐熱性、透明性等の光学材料に求められる特性を有しているため好ましい。
また、スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1−1)、スチレン−メタクリル酸共重合体(B−1−2)、スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−1−3)は、メタクリル酸メチルを単量体成分として含む重合体との相溶性が高いことから、アクリル系樹脂(B−2)としてメタクリル酸メチルを単量体成分として含む重合体を用いる場合に特に好ましい。
As the styrene resin (B-1), in particular, a styrene-acrylonitrile copolymer (B-1-1), a styrene-methacrylic acid copolymer (B-1-2), and a styrene-maleic anhydride copolymer. (B-1-3) is preferable because it has characteristics required for optical materials such as heat resistance and transparency.
Also, styrene-acrylonitrile copolymer (B-1-1), styrene-methacrylic acid copolymer (B-1-2), and styrene-maleic anhydride copolymer (B-1-3) are methacrylic acid. Since compatibility with a polymer containing methyl as a monomer component is high, it is particularly preferable when a polymer containing methyl methacrylate as a monomer component is used as the acrylic resin (B-2).

スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1−1)の場合、共重合体中のアクリロニトリルの共重合割合は1〜40質量%であることが好ましい。さらに好ましい範囲は1〜30質量%であり、とりわけ好ましい範囲は1〜25質量%である。共重合体中のアクリロニトリルの共重合割合が1〜40質量%の場合、透明性に優れるため好ましい。   In the case of the styrene-acrylonitrile copolymer (B-1-1), the copolymerization ratio of acrylonitrile in the copolymer is preferably 1 to 40% by mass. A more preferable range is 1 to 30% by mass, and an especially preferable range is 1 to 25% by mass. A copolymerization ratio of acrylonitrile in the copolymer of 1 to 40% by mass is preferable because of excellent transparency.

スチレン−メタクリル酸共重合体(B−1−2)の場合、共重合体中のメタクリル酸の共重合割合が0.1〜50質量%であることが好ましい。より好ましい範囲は0.1〜40質量%であり、さらに好ましい範囲は0.1〜30質量%である。共重合体中のメタクリル酸の共重合割合が0.1質量%以上であると耐熱性に優れ、50質量%以下の範囲であれば透明性に優れるので好ましい。   In the case of a styrene-methacrylic acid copolymer (B-1-2), the copolymerization ratio of methacrylic acid in the copolymer is preferably 0.1 to 50% by mass. A more preferable range is 0.1 to 40% by mass, and a further preferable range is 0.1 to 30% by mass. When the copolymerization ratio of methacrylic acid in the copolymer is 0.1% by mass or more, the heat resistance is excellent, and when it is in the range of 50% by mass or less, the transparency is excellent, which is preferable.

スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−1−3)の場合、共重合体中の無水マレイン酸の共重合割合が0.1〜50質量%であることが好ましい。より好ましい範囲は0.1〜40質量%であり、さらに好ましい範囲は0.1質量%〜30質量%である。共重合体中の無水マレイン酸の共重合割合が0.1質量%以上であると耐熱性に優れ、50質量%以下の範囲であれば透明性に優れるので好ましい。
これらの中でも、耐熱性の観点から、スチレン−メタクリル酸共重合体(B−1−2)、スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−1−3)が特に好ましい。
In the case of the styrene-maleic anhydride copolymer (B-1-3), the copolymerization ratio of maleic anhydride in the copolymer is preferably 0.1 to 50% by mass. A more preferable range is 0.1 to 40% by mass, and a further preferable range is 0.1 to 30% by mass. A copolymerization ratio of maleic anhydride in the copolymer of 0.1% by mass or more is excellent in heat resistance, and a range of 50% by mass or less is preferable because of excellent transparency.
Among these, styrene-methacrylic acid copolymer (B-1-2) and styrene-maleic anhydride copolymer (B-1-3) are particularly preferable from the viewpoint of heat resistance.

スチレン系樹脂(B−1)として、組成、分子量など異なる複数種類のスチレン系樹脂を併用することもできる。
スチレン系樹脂(B−1)は、公知のアニオン、塊状、懸濁、乳化または溶液重合方法により得ることができる。また、スチレン系樹脂(B−1)は、共役ジエンやスチレン系単量体のベンゼン環の不飽和二重結合が水素添加されていてもよい。水素添加率は核磁気共鳴装置(NMR)によって測定できる。
As the styrene resin (B-1), a plurality of types of styrene resins having different compositions and molecular weights can be used in combination.
The styrenic resin (B-1) can be obtained by a known anion, block, suspension, emulsion or solution polymerization method. Moreover, the unsaturated double bond of the benzene ring of a conjugated diene or a styrene monomer may be hydrogenated in the styrene resin (B-1). The hydrogenation rate can be measured by a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR).

本発明においてアクリル系樹脂(B−2)とは、アクリル酸、メタクリル酸又はこれらの誘導体を単量体成分として含む重合体をいう。   In this invention, acrylic resin (B-2) means the polymer which contains acrylic acid, methacrylic acid, or these derivatives as a monomer component.

アクリル系樹脂(B−2)としては、アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体(B−2−1)が好適な例として挙げられる。   A preferred example of the acrylic resin (B-2) is a polymer (B-2-1) containing an alkyl acrylate ester or an alkyl methacrylate ester as a monomer component.

アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体(B−2−1)の具体例としては、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸t−ブチルシクロヘキシル、メタクリル酸メチル等のメタクリル酸アルキルエステル;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸2−エチルヘキシル等のアクリル酸アルキルエステルより選ばれる1種以上の単量体を重合したもの等が挙げられる。   Specific examples of the polymer (B-2-1) containing an alkyl acrylate ester or an alkyl methacrylate ester as a monomer component include alkyl methacrylates such as cyclohexyl methacrylate, t-butyl cyclohexyl methacrylate, and methyl methacrylate. Esters: those obtained by polymerizing one or more monomers selected from alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isopropyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like.

ここで、アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体には、メタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステル以外の単量体が共重合されたものも含まれる。
アクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸酸アルキルエステルと共重合可能なメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステル以外の単量体としては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物類;アクリロニトリル、メタクリルニトリル等のシアン化ビニル類;N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類;無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類;アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和酸類等が挙げられる。これらは一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
メタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステル以外の単量体成分を共重合する場合、その共重合割合は、メタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステルに対して、50質量%未満であることが好ましい。さらに好ましくは40質量%以下であり、とりわけ好ましくは30質量%以下である。50質量%未満であると全光線透過率などの光学特性に優れるため好ましい。
Here, the polymer containing an acrylic acid alkyl ester or a methacrylic acid alkyl ester as a monomer component includes those obtained by copolymerization of monomers other than the methacrylic acid alkyl ester and the acrylic acid alkyl ester.
As monomers other than acrylic acid alkyl esters, methacrylic acid alkyl esters and methacrylic acid alkyl esters and acrylic acid alkyl esters, aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene and α-methylstyrene; acrylonitrile Vinyl cyanides such as methacrylonitrile; maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; unsaturated carboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride; unsaturated acids such as acrylic acid, methacrylic acid and maleic acid Etc. These may be used alone or in combination of two or more.
When monomer components other than methacrylic acid alkyl ester and acrylic acid alkyl ester are copolymerized, the copolymerization ratio is preferably less than 50% by mass with respect to methacrylic acid alkyl ester and acrylic acid alkyl ester. More preferably, it is 40 mass% or less, Most preferably, it is 30 mass% or less. Less than 50% by mass is preferable because optical properties such as total light transmittance are excellent.

アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体の中でも、メタクリル酸メチルの単独重合体または、メタクリル酸メチルと他の単量体との共重合体が、耐熱性、透明性等光学材料に求められる特性を有しているため好ましい。
メタクリル酸メチルと共重合させる単量体としては、特にアクリル酸アルキルエステル類が、耐熱分解性に優れ、これを共重合させて得られるメタクリル系樹脂の成形加工時の流動性が高いため好ましい。メタクリル酸メチルにアクリル酸アルキルエステル類を共重合させる場合のアクリル酸アルキルエステル類の使用量は、耐熱分解性の観点から0.1質量%以上であることが好ましく、耐熱性の観点から15質量%以下であることが好ましい。0.2質量%以上14質量%以下であることがさらに好ましく、1質量%以上12質量%以下であることがとりわけ好ましい。
アクリル酸アルキルエステル類の中でも、アクリル酸メチル及びアクリル酸エチルが、少量メタクリル酸メチルと共重合させるだけでも前述の成形加工時の流動性の改良効果が著しく得られるため好ましい。
Among polymers containing an alkyl acrylate ester or an alkyl methacrylate ester as a monomer component, a homopolymer of methyl methacrylate or a copolymer of methyl methacrylate and another monomer is heat resistant and transparent. It is preferable because it has properties required for optical materials such as optical properties.
As the monomer copolymerized with methyl methacrylate, acrylic acid alkyl esters are particularly preferable because they are excellent in thermal decomposition resistance and have high fluidity during molding of a methacrylic resin obtained by copolymerization thereof. The amount of alkyl acrylates used when copolymerizing alkyl methacrylates with methyl methacrylate is preferably 0.1% by mass or more from the viewpoint of thermal decomposition resistance, and 15 masses from the viewpoint of heat resistance. % Or less is preferable. The content is more preferably 0.2% by mass or more and 14% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or more and 12% by mass or less.
Among the alkyl acrylates, methyl acrylate and ethyl acrylate are preferable because only a small amount of methyl acrylate is copolymerized with a small amount of methyl methacrylate because the effect of improving the fluidity during the molding process described above can be obtained remarkably.

また、本発明においてはアイソタクチックポリメタクリル酸エステルとシンジオタクチックポリメタクリル酸エステルを同時に用いることもできる。   In the present invention, isotactic polymethacrylate and syndiotactic polymethacrylate can be used simultaneously.

アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体(B−2−1)の質量平均分子量は、5万〜20万であることが好ましい。重合体(B−2−1)の質量平均分子量は成形品の強度の観点から5万以上が好ましく、成形加工性、流動性の観点から20万以下が好ましい。さらに好ましい範囲は7万〜15万である。   The polymer (B-2-1) containing an acrylic acid alkyl ester or a methacrylic acid alkyl ester as a monomer component preferably has a mass average molecular weight of 50,000 to 200,000. The mass average molecular weight of the polymer (B-2-1) is preferably 50,000 or more from the viewpoint of the strength of the molded product, and preferably 200,000 or less from the viewpoint of molding processability and fluidity. A more preferable range is 70,000 to 150,000.

アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体(B−2−1)を製造する方法として、例えばキャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、アニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができる。光学用途としては微小な異物の混入はできるだけ避けることが好ましく、この観点からは懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合や溶液重合が好ましい。
溶液重合を行う場合には、単量体の混合物をトルエン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素の溶媒に溶解して調製した溶液を用いることができる。塊状重合により重合させる場合には、通常行われるように加熱により生じる遊離ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させることができる。
As a method for producing a polymer (B-2-1) containing an acrylic acid alkyl ester or a methacrylic acid alkyl ester as a monomer component, for example, cast polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, anionic polymerization A generally used polymerization method such as can be used. For optical applications, it is preferable to avoid contamination of minute foreign substances as much as possible. From this viewpoint, bulk polymerization or solution polymerization without using a suspending agent or an emulsifier is preferable.
When solution polymerization is performed, a solution prepared by dissolving a mixture of monomers in an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene or ethylbenzene can be used. In the case of polymerization by bulk polymerization, the polymerization can be started by irradiation with free radicals generated by heating or ionizing radiation as is usually done.

重合反応に用いられる開始剤としては、ラジカル重合において用いられる任意の開始剤を使用することができ、例えば、アゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物を用いることができる。
特に、90℃以上の高温下で重合を行わせる場合には、溶液重合が一般的であるので、10時間半減期温度が80℃以上で、かつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤などが好ましい。具体的には、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル等を挙げることができる。
これらの開始剤は、例えば、0.005〜5質量%の範囲で用いることが好ましい。
As the initiator used in the polymerization reaction, any initiator used in radical polymerization can be used. For example, azo compounds such as azobisisobutylnitrile, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butylperoxy An organic peroxide such as -2-ethylhexanoate can be used.
In particular, when polymerization is carried out at a high temperature of 90 ° C. or higher, solution polymerization is common, so that the 10-hour half-life temperature is 80 ° C. or higher and a peroxide that is soluble in the organic solvent used, An azobis initiator is preferred. Specifically, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, cyclohexane peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, 1, Examples thereof include 1-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile) and 2- (carbamoylazo) isobutyronitrile.
These initiators are preferably used, for example, in the range of 0.005 to 5% by mass.

重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤としては、ラジカル重合において一般に用いられる任意のものが使用でき、例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸2−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が特に好ましいものとして挙げられる。
これらの分子量調節剤は、重合体(B−2−1)の重合度が好ましい範囲内に制御されるような濃度範囲で添加する。
As the molecular weight regulator used as necessary for the polymerization reaction, any one generally used in radical polymerization can be used. Particularly preferred.
These molecular weight regulators are added in a concentration range such that the degree of polymerization of the polymer (B-2-1) is controlled within a preferable range.

アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体(B−2−1)の中でも、メタクリル酸メチル単独重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エチル共重合体が好ましく、成形加工時の流動性と耐熱性をバランスよく兼ね備えているという点で、とりわけ、メタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体が好ましい。   Among polymers (B-2-1) containing an alkyl acrylate ester or an alkyl methacrylate ester as a monomer component, methyl methacrylate homopolymer, methyl methacrylate-methyl acrylate copolymer, methyl methacrylate- An ethyl acrylate copolymer is preferable, and a methyl methacrylate-methyl acrylate copolymer is particularly preferable in that it has a good balance between fluidity and heat resistance during molding.

また、アクリル系樹脂(B−2)の別の好適な例としては、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステルと、他の2種類以上の単量体とを共重合させた3元以上の共重合体(B−2−2)が挙げられる。
メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステルと共重合させる他の単量体成分としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、o−エチルスチレン、p−エチルスチレン及びp−t−ブチルスチレン等の芳香族ビニル化合物類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル等のシアン化ビニル類;N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレ イミド、N−フェニルマレイミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、N−プロピルメタクリル アミド等のマレイミド類;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の不飽和カルボン酸無水物類;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸類;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸クロロメチル、(メタ)アクリル酸2−クロロエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5,6−ペンタヒドロキシヘキシル及び(メタ)アクリル酸2,3,4,5−テトラヒドロキシペンチル等の不飽和カルボン酸アルキルエステルが挙げられる。
Further, another preferred example of the acrylic resin (B-2) is a ternary or higher copolymer obtained by copolymerizing a methacrylic acid ester and / or an acrylic acid ester with two or more other monomers. A polymer (B-2-2) is mentioned.
Examples of other monomer components copolymerized with methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester include styrene, α-methyl styrene, o-methyl styrene, p-methyl styrene, o-ethyl styrene, p-ethyl styrene. And aromatic vinyl compounds such as pt-butylstyrene; vinyl cyanides such as acrylonitrile, methacrylonitrile, ethacrylonitrile; N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenyl Maleimides such as maleimide, acrylamide, methacrylamide, N-methylacrylamide, butoxymethylacrylamide, N-propylmethacrylamide; unsaturated carboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride and itaconic anhydride; acrylic acid, methacrylic acid and croton Acid, α Unsaturated carboxylic acids such as substituted acrylic acid, α-substituted methacrylic acid and maleic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate T-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, chloromethyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acrylic acid 2- Such as hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2,3,4,5,6-pentahydroxyhexyl (meth) acrylate and 2,3,4,5-tetrahydroxypentyl (meth) acrylate And unsaturated carboxylic acid alkyl esters.

3元以上の共重合体(B−2−2)の中でも特に好適なものとして、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)が好適に挙げられる。   Among the ternary or higher copolymer (B-2-2), a heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1) is particularly preferable.

本発明において、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)は、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステル単位、芳香族ビニル化合物単位及び下記一般式[1]で表される化合物単位を含む共重合体である。   In the present invention, the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1) includes a methacrylic acid ester and / or an acrylic acid ester unit, an aromatic vinyl compound unit, and a compound unit represented by the following general formula [1]. It is a copolymer.

一般式[1]

Figure 2008216998
General formula [1]
Figure 2008216998

(式中、XはOまたは、N−Rを示す。Oは酸素原子、Nは窒素原子、Rは水素原子またはアルキル基またはアリール基またはシクロアルカン基である。) (Wherein X represents O or N—R, O represents an oxygen atom, N represents a nitrogen atom, and R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a cycloalkane group.)

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)の第一の単量体成分であるメタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステルの具体例としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸n−ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸t−ブチルシクロヘキシル、等のメタクリル酸エステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸2−エチルヘキシル等のアクリル酸エステルが挙げられる。なかでも、メタクリル酸メチルが好ましい。   Specific examples of the methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester that are the first monomer component of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1) include, for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and methacrylic acid. Methacrylic acid ester such as propyl, n-butyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, t-butyl cyclohexyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isopropyl acrylate, acrylic acid 2 -Acrylic acid esters such as ethylhexyl. Of these, methyl methacrylate is preferred.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)の第二の単量体成分である芳香族ビニル化合物の具体例としては、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、エチルスチレン、p−tert−ブチルスチレンなどの核アルキル置換スチレン;α−メチルスチレン、α−メチル−p−メチルスチレンなどのα−アルキル置換スチレン、などが挙げられる。なかでも、スチレンが好ましい。   Specific examples of the aromatic vinyl compound that is the second monomer component of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1) include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, Examples include nuclear alkyl-substituted styrene such as 2,4-dimethylstyrene, ethylstyrene, and p-tert-butylstyrene; α-alkyl-substituted styrene such as α-methylstyrene and α-methyl-p-methylstyrene. Of these, styrene is preferable.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)の第三の単量体成分である一般式[1]で表される単位のうち、XがOであるものとしては、無水マレイン酸、イタコン酸、エチルマレイン酸、メチルイタコン酸、クロルマレイン酸などの無水物である不飽和ジカルボン酸無水物単量体単位が挙げられる。これらのなかでも、無水マレイン酸が最も好ましい。また、XがN−Rであるものとしては、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド単量体が挙げられる。   Among the units represented by the general formula [1], which is the third monomer component of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1), those in which X is O include maleic anhydride, itacon Examples thereof include unsaturated dicarboxylic acid anhydride monomer units which are anhydrides such as acid, ethylmaleic acid, methylitaconic acid and chloromaleic acid. Of these, maleic anhydride is most preferred. Examples of X being N—R include maleimide monomers such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)を構成する単量体単位の共重合割合は、耐熱性、光弾性係数の点から、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステル単位が40質量%以上90質量%以下、芳香族ビニル化合物単位が5質量%以上40質量%以下、上記一般式[1]で表される化合物単位5質量%以上20質量%以下であることが好ましい。
より好ましくは、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステル単位が42質量%以上83質量%以下、芳香族ビニル化合物単位が12質量%以上40質量%以下、上記一般式[1]で表される化合物単位が5質量%以上18質量%以下である。
さらに好ましくは、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステル単位が45質量%以上78質量%以下、芳香族ビニル化合物単位が16質量%以上40質量%以下、上記一般式[1]で表される化合物単位が6質量%以上15質量%以下である。
The copolymerization ratio of the monomer units constituting the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1) is 40% by mass of methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester unit from the viewpoint of heat resistance and photoelastic coefficient. It is preferably 90% by mass or less, 5% by mass or more and 40% by mass or less of the aromatic vinyl compound unit, and 5% by mass or more and 20% by mass or less of the compound unit represented by the general formula [1].
More preferably, the methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester unit is 42% by mass to 83% by mass, the aromatic vinyl compound unit is 12% by mass to 40% by mass, and the compound represented by the above general formula [1] A unit is 5 mass% or more and 18 mass% or less.
More preferably, the methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester unit is 45% by mass to 78% by mass, the aromatic vinyl compound unit is 16% by mass to 40% by mass, and the compound represented by the above general formula [1] A unit is 6 mass% or more and 15 mass% or less.

また、上記一般式[1]で表される化合物単位の共重合割合に対する芳香族ビニル化合物単位の割合が1倍以上3倍以下であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the ratio of the aromatic vinyl compound unit with respect to the copolymerization ratio of the compound unit represented by the general formula [1] is 1 to 3 times.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)には、上記した必須構成単量体成分に加え、必要に応じ共重合可能な他の単量体を共重合して得られた耐熱アクリル樹脂も包含される。ここで用いられる共重合可能な他の単量体として、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸等の不飽和カルボン酸単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル単量体;1,3‐ブタジエン、2‐メチル‐1,3‐ブタジエン(イソプレン)、2,3‐ジメチル‐1,3‐ブタジエン、1,3‐ペンタジエン、1,3‐ヘキサジエン等の共役ジエン等が挙げられ、これらの2種以上を共重合することも可能である。   The heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1) includes a heat-resistant acrylic resin obtained by copolymerizing other monomers that can be copolymerized as necessary in addition to the above-described essential constituent monomer components. Are also included. Other copolymerizable monomers used here include unsaturated carboxylic acid monomers such as methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and cinnamic acid; unsaturated monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile. Saturated nitrile monomers; 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene, etc. Conjugated dienes and the like can be mentioned, and two or more of these can be copolymerized.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)を製造する方法としては、ラジカル開始剤を使用した塊状重合が適した方法であるが、溶液重合、乳化重合を用いることも可能である。
水系懸濁重合は、無水マレイン酸を単量体成分として用いる場合には、その水溶性が高いため、終始安定な懸濁系を保つことが困難であり、推奨されない。
As a method for producing the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1), bulk polymerization using a radical initiator is suitable, but solution polymerization and emulsion polymerization can also be used.
Aqueous suspension polymerization is not recommended when maleic anhydride is used as a monomer component because it is highly water-soluble and it is difficult to maintain a stable suspension system throughout.

一般的なラジカル開始剤の中で、アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)のようなアゾ系開始剤、及び過酸化系開始剤のうち、ベンゾイルパーオキサイドを該耐熱アクリル系樹脂の重合に使用した場合、得られるポリマーが着色することがある。
過酸化系開始剤としてラウロイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエートを使用すると、耐熱アクリル樹脂(B−3)の着色はない。もっとも、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエートを使用したポリマーは、耐水性が低く、熱水に浸漬した場合の重量増加が大きく、表面が白化することがある。
したがって、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)の重合には、ラウロイルパーオキサイドのようなジアシルパーオキサイドを適用することが好ましい。
Among general radical initiators, among azo initiators such as azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), and peroxide initiators, benzoyl When peroxide is used for polymerization of the heat-resistant acrylic resin, the resulting polymer may be colored.
When lauroyl peroxide, decanoyl peroxide, or t-butylperoxy 2-ethylhexanoate is used as the peroxide initiator, the heat-resistant acrylic resin (B-3) is not colored. However, a polymer using t-butylperoxy 2-ethylhexanoate has low water resistance, a large weight increase when immersed in hot water, and the surface may be whitened.
Therefore, it is preferable to apply a diacyl peroxide such as lauroyl peroxide to the polymerization of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1).

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)の好ましい重合方法としては、特公昭63−1964号公報に記載の方法が挙げられる。   As a preferable polymerization method of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1), a method described in JP-B-63-1964 is exemplified.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)のメルトインデックス(ASTM D1238;I条件)は、成形品の強度の観点から10g/10分以下であることが好ましい。より好ましくは6g/10分以下、さらに好ましくは3g/10分以下である。   The melt index (ASTM D1238; condition I) of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1) is preferably 10 g / 10 minutes or less from the viewpoint of the strength of the molded product. More preferably, it is 6 g / 10 minutes or less, More preferably, it is 3 g / 10 minutes or less.

また、3元以上の共重合体(B−2−2)の別の好適な例として、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステル単位、芳香族ビニル化合物単位及び下記一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位を含む共重合体である耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)が挙げられる。この6員環構造の酸無水物単位を含む共重合体(B−2−2−2)は、耐熱性に優れると共に、これから得られる成形体のレタデーション設計が容易であることから、光学材料に適している。   Another preferred example of the ternary or higher copolymer (B-2-2) is a methacrylic acid ester and / or an acrylic acid ester unit, an aromatic vinyl compound unit, and the following general formula [2]. A heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), which is a copolymer containing an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure. The copolymer (B-2-2-2) containing an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure is excellent in heat resistance, and the retardation design of a molded product obtained therefrom is easy. Is suitable.

一般式[2]

Figure 2008216998
General formula [2]
Figure 2008216998

(式中、R、Rは、それぞれ独立に水素原子又は炭素数が1〜6の置換又は非置換のアルキル基を表し、該アルキル基は、例えば水酸基で置換されていてもよい。) (In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the alkyl group may be substituted with, for example, a hydroxyl group.)

なお、本発明においては、重合前のモノマー成分のことを「〜単量体」(ただし、「単量体」を省略して化合物名のみ記載する場合もある。)といい、共重合体を構成する構成単位のことを「〜単量体単位」という。   In the present invention, the monomer component before polymerization is referred to as “˜monomer” (however, “monomer” may be omitted and only the compound name may be described). The constituting unit is referred to as “˜monomer unit”.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の第一の単量体成分であるメタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステルの具体例としては、前述の耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)において例示したものを用いることができ、メタクリル酸エステルとしては、特に、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸(2−エチルヘキシル)、メタクリル酸(t−ブチルシクロヘキシル)、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸(2,2,2−トリフルオロエチル)などを好適に用いることができ、代表的なものはメタクリル酸メチルである。   Specific examples of the methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester that are the first monomer component of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) include the above-mentioned heat-resistant acrylic resin (B-2-2). -1) can be used, and methacrylic acid esters include, in particular, butyl methacrylate, ethyl methacrylate, methyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl methacrylate, methacrylic acid. Acid (2-ethylhexyl), methacrylic acid (t-butylcyclohexyl), benzyl methacrylate, methacrylic acid (2,2,2-trifluoroethyl) and the like can be preferably used, and typical ones are methyl methacrylate. It is.

また、アクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(t−ブチルシクロヘキシル)、アクリル酸ベンジル、アクリル酸(2,2,2−トリフルオロエチル)などを好適に用いることができる。   Examples of the acrylic ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isopropyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, phenyl acrylate, acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (t -Butylcyclohexyl), benzyl acrylate, acrylic acid (2,2,2-trifluoroethyl) and the like can be suitably used.

上記メタクリル酸エステル、アクリル酸エステルは、単独で使用してもよいし、二種以上組み合わせて使用することもできる。   The above methacrylic acid esters and acrylic acid esters may be used alone or in combination of two or more.

メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステルの仕込み量は、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の耐熱性、光学特性等のバランスを考慮した場合、重合の際に用いる全単量体成分の量を100質量部とした場合、5質量部以上85質量部以下であることが好ましく、より好ましくは20質量部以上80質量部以下、更に好ましくは40質量部以上80質量部以下である。   The amount of methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester charged is the total amount of monomers used for polymerization in consideration of the balance of heat resistance, optical properties, etc. of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2). When the amount of the component is 100 parts by mass, it is preferably 5 parts by mass or more and 85 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or more and 80 parts by mass or less, and further preferably 40 parts by mass or more and 80 parts by mass or less. .

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の第二の単量体成分である芳香族ビニル化合物の具体例としては、前述の耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)において例示したものを用いることができ、特に、下記一般式[3]で表す化合物を好適に用いることができる。   Specific examples of the aromatic vinyl compound that is the second monomer component of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) are exemplified in the above-mentioned heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1). In particular, a compound represented by the following general formula [3] can be preferably used.

一般式[3]

Figure 2008216998
General formula [3]
Figure 2008216998

(式中、Rは水素原子又は炭素数が1〜6の置換又は非置換のアルキル基を表し、アルキル基は置換基として例えば、水酸基を有していてもよい。また、nは0〜5の整数を表す。Rは独立して水素原子、炭素数が1〜12の置換又は非置換のアルキル基、炭素数が1〜12の置換又は非置換のアルコキシ基及び炭素数が1〜8の置換又は非置換のアリール基から選ばれる一種の基であり、各Rは同一であっても、異なっていてもよい。また、各Rは互いに結合して環構造を形成してもよい。) (In the formula, R 6 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the alkyl group may have, for example, a hydroxyl group as a substituent. And R 7 independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms. And each R 7 may be the same or different, and each R 7 may be bonded to each other to form a ring structure. May be.)

一般式[3]で表される化合物の具体例としては、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、3,4−ジメチルスチレン、3,5−ジメチルスチレン、p−エチルスチレン、m−エチルスチレン、о−エチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、イソプロペニルベンセン(α−メチルスチレン)等のスチレン系単量体;1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、1,1−ジフェニルエチレン、イソプロペニルトルエン、イソプロペニルエチルベンゼン、イソプロペニルプロピルベンゼン、イソプロペニルブチルベンゼン、イソプロペニルペンチルベンゼン、イソプロペニルヘキシルベンゼン、イソプロペニルオクチルベンゼン等が挙げられ、共重合体に要求される特性に応じて適宜選択することができる。好ましい単量体は、スチレン系単量体であり、より好ましくはスチレン、イソプロペニルベンゼン、更に好ましくはスチレンである。   Specific examples of the compound represented by the general formula [3] include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 3,4 -Styrene monomers such as dimethyl styrene, 3,5-dimethyl styrene, p-ethyl styrene, m-ethyl styrene, о-ethyl styrene, p-tert-butyl styrene, isopropenyl benzene (α-methyl styrene); 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, 1,1-diphenylethylene, isopropenyltoluene, isopropenylethylbenzene, isopropenylpropylbenzene, isopropenylbutylbenzene, isopropenylpentylbenzene, isopropenylhexylbenzene, isopropenyloctylbenzene, etc. Mentioned Therefore, it can be appropriately selected according to the properties required for the copolymer. The preferred monomer is a styrene monomer, more preferably styrene, isopropenylbenzene, and still more preferably styrene.

上記芳香族ビニル化合物は、単独で使用してもよいし、二種以上組み合わせて使用することもできる。   The said aromatic vinyl compound may be used independently and can also be used in combination of 2 or more type.

芳香族ビニル化合物の仕込み量は、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)に求められる光学特性、耐熱性、加工性に応じて適宜最適な量を決定することができるが、生産性等も考慮した場合、重合の際に用いる全単量体成分の量を100質量部とした場合、1質量部以上50質量部以下であることが好ましく、より好ましくは3質量部を超えて40質量部以下、更に好ましくは3質量部以上30質量部以下、特に好ましく3質量部以上25質量部以下、最も好ましくは5質量部以上20質量部以下である。   The amount of the aromatic vinyl compound charged can be appropriately determined according to the optical characteristics, heat resistance, and workability required for the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2). When the amount of all monomer components used in the polymerization is 100 parts by mass, it is preferably 1 part by mass or more and 50 parts by mass or less, more preferably more than 3 parts by mass and 40 parts by mass. It is 3 parts by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, particularly preferably 3 parts by mass or more and 25 parts by mass or less, and most preferably 5 parts by mass or more and 20 parts by mass or less.

また、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の第三の単位である一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位は、不飽和カルボン酸単量体及び、必要に応じて不飽和カルボン酸エステル単量体とを、その他の単量体成分であるメタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物と重合させ、共重合させた後、かかる共重合体を適当な触媒の存在下あるいは非存在下で加熱し、脱アルコールおよび/または脱水による分子内環化反応を行わせることにより生成することができる。この場合、典型的には共重合体を加熱することにより2単位の不飽和カルボン酸単位のカルボキシル基が脱水されて、あるいは隣接する不飽和カルボン酸単位と不飽和カルボン酸エステル単位からアルコールの脱離により1単位の6員環構造を有する酸無水物単位が生成される。   The acid anhydride unit having a 6-membered ring structure represented by the general formula [2], which is the third unit of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), is an unsaturated carboxylic acid monomer. And, if necessary, the unsaturated carboxylic acid ester monomer is polymerized and copolymerized with other monomer components such as methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester and aromatic vinyl compound. The copolymer can be produced by heating in the presence or absence of a suitable catalyst to cause an intramolecular cyclization reaction by dealcoholization and / or dehydration. In this case, typically, the carboxyl group of the unsaturated carboxylic acid unit of 2 units is dehydrated by heating the copolymer, or the alcohol is removed from the adjacent unsaturated carboxylic acid unit and unsaturated carboxylic acid ester unit. Separation produces an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure.

一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位を生成するための不飽和カルボン酸単量体の具体例としては、下記一般式[4]で表される化合物が挙げられる。   Specific examples of the unsaturated carboxylic acid monomer for producing an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure represented by the general formula [2] include compounds represented by the following general formula [4]. It is done.

一般式[4]

Figure 2008216998
General formula [4]
Figure 2008216998

(式中、Rは水素原子又は炭素数が1〜6の置換又は非置換のアルキル基を表し、該アルキル基は、例えば、水酸基を有していてもよい。) (In the formula, R 5 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the alkyl group may have, for example, a hydroxyl group.)

例えば、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸等が挙げられ、不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体としては、例えば、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル等が挙げられ、好適には、メタクリル酸又はアクリル酸を用いることができ、より好ましくはメタクリル酸を用いることができる。
これらの不飽和カルボン酸は、単独で使用してもよいし、二種以上組み合わせて使用することもできる。
For example, methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid and the like, and unsaturated carboxylic acid alkyl ester monomers include, for example, methyl methacrylate, methyl acrylate and the like, Preferably, methacrylic acid or acrylic acid can be used, more preferably methacrylic acid can be used.
These unsaturated carboxylic acids may be used alone or in combination of two or more.

不飽和カルボン酸単量体の仕込み量は、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)に求められる耐熱性、加工性、光学特性や、生産性等を考慮すると、重合の際に用いる全単量体の量を100質量部とした場合、1質量部以上50質量部以下であることが好ましく、より好ましくは5質量部以上40質量部以下、更に好ましくは10質量部以上40質量部以下、とりわけ好ましくは10質量部以上35質量部以下、特に好ましくは15質量部以上35質量部以下、最も好ましくは20質量部以上30質量部以下である。   The amount of the unsaturated carboxylic acid monomer charged is used in the polymerization in consideration of the heat resistance, workability, optical characteristics, productivity, etc. required for the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2). When the amount of all monomers is 100 parts by mass, it is preferably 1 part by mass or more and 50 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or more and 40 parts by mass or less, and further preferably 10 parts by mass or more and 40 parts by mass or less. Hereinafter, it is particularly preferably 10 to 35 parts by mass, particularly preferably 15 to 35 parts by mass, and most preferably 20 to 30 parts by mass.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)には、上記した必須構成単位の単量体成分に加え、本発明の効果を損わない範囲でその他の単量体を共重合して得られた耐熱アクリル樹脂も包含される。ここで用いられるその他の単量体としては、例えば、必須構成単位の単量体以外のビニル系単量体を用いることができる。その他の単量体として用いるビニル系単量体としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル類;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の不飽和カルボン酸無水物類;N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類;アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド類等を挙げることができる。   The heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is obtained by copolymerizing other monomers in the range not impairing the effects of the present invention in addition to the monomer components of the essential constituent units described above. Also included are heat resistant acrylic resins. As other monomers used here, for example, vinyl monomers other than the monomer of the essential constituent unit can be used. Other vinyl monomers used as monomers include vinyl cyanides such as acrylonitrile and methacrylonitrile; unsaturated carboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride and itaconic anhydride; N-methylmaleimide, N -Maleimides such as ethylmaleimide, N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; and amides such as acrylamide and methacrylamide.

その他の単量体を含有する場合、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の光学特性や耐熱性、加工性を考慮すると、その仕込み量は、重合の際に用いる全単量体の量を100質量部とした場合、0.1〜50質量部であることが好ましく、より好ましくは0.1〜40質量部、更に好ましくは0.5〜35質量部、とりわけ好ましくは1〜30質量部、特に好ましくは1〜25質量部である。   In the case of containing other monomers, considering the optical properties, heat resistance, and processability of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), the amount charged is the total amount of monomers used in the polymerization. When the amount is 100 parts by mass, it is preferably 0.1 to 50 parts by mass, more preferably 0.1 to 40 parts by mass, still more preferably 0.5 to 35 parts by mass, and particularly preferably 1 to 1 part by mass. 30 parts by mass, particularly preferably 1 to 25 parts by mass.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)は、特公平02−26641号公報、特開2006−266543号公報、特開2006−274069号公報、特開2006−274071号公報、特開2006−283013公報、特開2005−162835公報に記載の方法を参照して、組成比を決定し、製造、評価することができる。   The heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is disclosed in JP-B-02-26641, JP-A-2006-266543, JP-A-2006-274069, JP-A-2006-274071, JP-A-2006. The composition ratio can be determined, manufactured, and evaluated by referring to the methods described in Japanese Patent Publication No.-283013 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-162835.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の重合方法としては、塊状重合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合、沈殿重合等の従来公知の方法を用いることができ、微小異物の混入を低減することが可能であることから、懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合、溶液重合、沈殿重合が好ましく、分子量の制御の容易さなどの生産性を考慮すると、塊状重合、溶液重合が好ましい。   As a polymerization method of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), conventionally known methods such as bulk polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, and precipitation polymerization can be used. Therefore, bulk polymerization, solution polymerization, and precipitation polymerization without using a suspending agent or an emulsifier are preferable. In consideration of productivity such as ease of control of molecular weight, bulk polymerization and solution polymerization are performed. preferable.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の製造に際しては、溶媒を用いることができる。溶媒は、重合方法に併せて最適なものを適宜選択することができ、具体例としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;メタノール、エタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン類;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類等が挙げられ、これらは単独で使用してもよいし、二種以上を併用することもできる。   In the production of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), a solvent can be used. The solvent can be appropriately selected in accordance with the polymerization method, and specific examples include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and ethylbenzene; alcohols such as methanol, ethanol, and cyclohexanol; acetone, Examples include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and diisobutyl ketone; hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, and cyclohexane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate. These may be used alone. Two or more kinds can be used in combination.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の製造に際し、特に溶液重合や塊状重合を行う時、生成する共重合体の溶媒への溶解性が低い場合には共重合体が析出して安定運転が難しくなることも考えられる。そこで、溶媒の選択に際しては、共重合体の溶媒への溶解度を考慮することが好ましい。具体的には、使用する溶媒の溶解度パラメーターδは9.0〜15.0(cal/cm1/2であることが好ましい。好ましくは9.2〜14.0(cal/cm1/2、更に好ましくは9.3〜13.5(cal/cm1/2、とりわけ好ましくは9.4〜13.0(cal/cm1/2、特に好ましくは9.7〜12.8(cal/cm1/2である。溶解度パラメーターの値や値の求め方は、例えば、「Journal of Paint Technology Vol.42、No.541、February 1970」中のP.76−P.118に投稿されているK.L.Hoy著「New Values of the Solubility Parameters From Vapor Pressure Data」や、J.Brandrup他著「Polymer Handbook Fourth Edition」P−VII/675−P714などを参考にすることができる。なお、1(cal/cm1/2は、凡そ0.49(MPa)1/2である。 When the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is produced, particularly when solution polymerization or bulk polymerization is performed, the copolymer is precipitated if the solubility of the resulting copolymer in the solvent is low. It may be difficult to achieve stable operation. Therefore, when selecting the solvent, it is preferable to consider the solubility of the copolymer in the solvent. Specifically, the solubility parameter δ of the solvent used is preferably 9.0 to 15.0 (cal / cm 3 ) 1/2 . Preferably 9.2 to 14.0 (cal / cm 3 ) 1/2 , more preferably 9.3 to 13.5 (cal / cm 3 ) 1/2 , particularly preferably 9.4 to 13.0 ( cal / cm 3 ) 1/2 , particularly preferably 9.7 to 12.8 (cal / cm 3 ) 1/2 . The value of the solubility parameter and how to obtain the value are described in, for example, P. in “Journal of Paint Technology Vol. 42, No. 541, February 1970”. 76-P. K. posted on 118 L. Hoy “New Values of the Solubility Parameters From Vapor Pressure Data” For example, Brandrup et al., “Polymer Handbook Fourth Edition” P-VII / 675-P714 can be referred to. 1 (cal / cm 3 ) 1/2 is approximately 0.49 (MPa) 1/2 .

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の製造に際して、芳香族炭化水素やケトン類等の水酸基を含有しない溶媒を用いた場合、共重合体製造時に実用的に有用な重合度で運転すると、高分子量成分が析出してくるなどして分子量や分子量分布の制御が難しくなる傾向があるため、重合度が上げられないことがある。特に、不飽和カルボン酸単量体の仕込み比が15質量%以上である時に高分子量成分が析出してくる傾向がある。そこで、生産性を考慮する必要がある場合、下記一般式[5]で表される水酸基を少なくとも一つ以上有する溶媒を用いることが好ましい。   When a heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is produced using a solvent that does not contain a hydroxyl group, such as aromatic hydrocarbons and ketones, it is operated at a practically useful degree of polymerization when producing the copolymer. In this case, the degree of polymerization may not be increased because the molecular weight and molecular weight distribution tend to be difficult to control due to precipitation of high molecular weight components. In particular, the high molecular weight component tends to precipitate when the charging ratio of the unsaturated carboxylic acid monomer is 15% by mass or more. Therefore, when it is necessary to consider productivity, it is preferable to use a solvent having at least one hydroxyl group represented by the following general formula [5].

一般式[5]
−OH
(式中、Rは炭素数が1〜15の置換又は非置換のアルキル基を表す。Rは、例えば、水酸基で置換されていてもよく、また、エーテル結合を含有していてもよい。)
General formula [5]
R 8 -OH
(Wherein, .R 8 R 8 is representing a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms is, for example, may be substituted with a hydroxyl group, or may contain an ether bond .)

また、不飽和カルボン酸単量体は重合性が高い傾向があるため、重合禁止剤が未添加であったり、重合禁止剤の添加量が少ないときには、常温〜高温下で自己重合をすることがある。反応系から回収される溶媒や単量体をリサイクルする際に、精留塔を用いて分離操作を行うことがあるが、精留塔中で不飽和カルボン酸単量体の重合が進むと、リサイクルできなくなる上、重合体の析出、固化により機器を傷める恐れがある。そこで、反応系から単量体や溶媒を回収してリサイクルを行う場合にも、水酸基を少なくとも一つ有する溶媒を用いることが好ましい。   In addition, since unsaturated carboxylic acid monomers tend to be highly polymerizable, self-polymerization can be performed at room temperature to high temperature when a polymerization inhibitor is not added or when the amount of polymerization inhibitor is small. is there. When recycling the solvent and monomer recovered from the reaction system, separation operation may be performed using a rectifying column, but when polymerization of unsaturated carboxylic acid monomer proceeds in the rectifying column, In addition to being unable to recycle, the equipment may be damaged by the precipitation and solidification of the polymer. Therefore, it is preferable to use a solvent having at least one hydroxyl group also when the monomer or solvent is recovered from the reaction system and recycled.

このような水酸基を少なくとも一つ有する溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロヘプタノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール、2−エチルシクロヘキサノール、3−エチルシクロヘキサノール、4−エチルシクロヘキサノール、2,3−ジメチルシクロヘキサノール、2,4−ジメチルシクロヘキサノール、2,5−ジメチルシクロヘキサノール、2、6−ジメチルシクロヘキサノール、3、4−ジメチルシクロヘキサノール、3,5−ジメチルシクロヘキサノール等の水酸基を一つ有するアルコール類;エチレングリコール、グリセリン等の水酸基を複数含有するアルコール類;メチルセロソルブ等のエーテル結合含有アルコール等が挙げられる。   Specific examples of such a solvent having at least one hydroxyl group include methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, heptanol, capryl alcohol, lauryl alcohol, myristyl alcohol, cyclopentanol, cyclohexanol, and cycloheptanol. 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, 2-ethylcyclohexanol, 3-ethylcyclohexanol, 4-ethylcyclohexanol, 2,3-dimethylcyclohexanol, 2,4-dimethyl Cyclohexanol, 2,5-dimethylcyclohexanol, 2,6-dimethylcyclohexanol, 3,4-dimethylcyclohexanol, 3,5-dimethylcyclohexanol Alcohols having one hydroxyl group and the like; ethylene glycol, alcohols containing multiple hydroxyl groups such as glycerin; ether bond-containing alcohols such as methyl cellosolve.

中でも二級アルコール類が好ましく、より好ましくは、環状構造を有するアルコール類であり、中でも不飽和カルボン酸単量体との混合性に優れるシクロヘキサノールは、有機酸である不飽和カルボン酸単量体類による金属腐食防止(重合溶液のリサイクル液回収工程や重合、リサイクルに用いる装置等の配管腐食性防止)の観点からも特に好ましい。   Among them, secondary alcohols are preferable, and alcohols having a cyclic structure are more preferable. Among them, cyclohexanol having excellent miscibility with an unsaturated carboxylic acid monomer is an unsaturated carboxylic acid monomer that is an organic acid. It is particularly preferable also from the viewpoint of preventing metal corrosion due to the nature (preventing the corrosiveness of pipes of equipment used for the polymerization liquid recycling process, polymerization liquid recycling process, etc.).

また、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の製造に際して用いられる溶媒中に含まれる水分量は5質量%以下であることが好ましく、より好ましくは3質量%以下、更に好ましくは0.01〜2質量%、特に好ましくは0.1〜2質量%である。   Further, the amount of water contained in the solvent used in the production of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, still more preferably 0. 0.01 to 2% by mass, particularly preferably 0.1 to 2% by mass.

また、不飽和カルボン酸単量体は、アクリル酸エステル単量体や芳香族ビニル化合物単量体などと比較すると沸点が高い傾向にあり、リサイクル液の分離操作を行う際に精留塔下部に高濃度で残りやすく、精留塔下部で不飽和カルボン酸単量体の自己重合が進んで単量体や溶媒等のリサイクル性が損われる恐れがある。前述のとおり、水酸基を少なくとも一つ含有する溶媒を用いることにより、不飽和カルボン酸単量体の自己重合は低減されるが、より高いリサイクル性等を求める場合には、溶媒の沸点が100℃以上であることが好ましく、より好ましくは100℃以上200℃以下、更に好ましく110℃以上200℃以下、特に好ましくは120℃以上190℃以下、とりわけ好ましくは130℃以上190℃以下である。   In addition, unsaturated carboxylic acid monomers tend to have a higher boiling point than acrylic acid ester monomers and aromatic vinyl compound monomers, and are used at the bottom of the rectifying column when separating the recycle liquid. It tends to remain at a high concentration, and the self-polymerization of the unsaturated carboxylic acid monomer proceeds at the lower part of the rectifying column, which may impair the recyclability of the monomer or solvent. As described above, by using a solvent containing at least one hydroxyl group, self-polymerization of the unsaturated carboxylic acid monomer is reduced. However, when higher recyclability is required, the boiling point of the solvent is 100 ° C. The temperature is preferably 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 110 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, particularly preferably 120 ° C. or higher and 190 ° C. or lower, and particularly preferably 130 ° C. or higher and 190 ° C. or lower.

更には、使用する単量体の中で最も沸点の高い単量体の沸点(X)と使用する溶媒の沸点(Y)の差(X−Y(℃))が、−50℃≦(X−Y)≦40℃であることが好ましく、より好ましくは−40℃≦(X−Y)≦30℃、さらに好ましくは−40℃≦(X−Y)≦20℃、特に好ましくは−30℃≦(X−Y)≦20℃、とりわけ好ましくは−25℃≦(X−Y)≦15℃、最も好ましくは−15℃≦(X−Y)≦10℃である。   Furthermore, the difference (XY (° C.)) between the boiling point (X) of the monomer having the highest boiling point and the boiling point (Y) of the solvent to be used is −50 ° C. ≦ (X −Y) ≦ 40 ° C., more preferably −40 ° C. ≦ (XY) ≦ 30 ° C., further preferably −40 ° C. ≦ (X−Y) ≦ 20 ° C., particularly preferably −30 ° C. ≦ (XY) ≦ 20 ° C., particularly preferably −25 ° C. ≦ (XY) ≦ 15 ° C., and most preferably −15 ° C. ≦ (XY) ≦ 10 ° C.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の製造に際し、溶液重合や塊状重合を行う場合は、製造の安定性を考慮すると、使用する溶媒に対する耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の溶解度は、0.1g/100mL以上であることが好ましく、1g/100mLを超えることがより好ましい。更には2g/100mL以上であることが好ましい。   When solution polymerization or bulk polymerization is performed in the production of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2-) with respect to the solvent to be used is considered in consideration of production stability. The solubility of 2) is preferably 0.1 g / 100 mL or more, more preferably more than 1 g / 100 mL. Further, it is preferably 2 g / 100 mL or more.

また、重合溶液のリサイクル液回収工程や重合、リサイクルに用いる装置の配管腐食性などを考慮した場合、使用する溶媒の水に対する溶解性は0.7g/100mL以上100g/100mL以下であることが好ましい。より好ましくは1.0g/100mL以上80g/100mL、更に好ましくは1.0g/100mL以上50g/100mL以下、とりわけ好ましくは1.0g/100mL以上25g/100mL以下、特に好ましくは1.0g/100mL以上15g/100mL以下、最も好ましくは1.0g/100mL以上10g/100mL以下である。   In consideration of the recycling solution recovery process of the polymerization solution and the pipe corrosivity of the apparatus used for polymerization and recycling, the solubility of the solvent used in water is preferably 0.7 g / 100 mL or more and 100 g / 100 mL or less. . More preferably 1.0 g / 100 mL to 80 g / 100 mL, still more preferably 1.0 g / 100 mL to 50 g / 100 mL, particularly preferably 1.0 g / 100 mL to 25 g / 100 mL, particularly preferably 1.0 g / 100 mL or more 15 g / 100 mL or less, most preferably 1.0 g / 100 mL or more and 10 g / 100 mL or less.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の製造時に使用する溶媒の添加量は、多すぎると重合溶液中の単量体濃度が下がり、生産性が低下してしまうし、少なすぎると重合溶液の粘度が上がるため重合溶液の温度を上げる等の処置が必要となり、生産コストが上がる傾向がある。したがって、溶媒添加量自体は重合可能な範囲で適宜決定することができるが、生産性、生産コストを勘案すると、全単量体成分と溶媒の合計を100質量%とした場合に、溶媒の量が5質量%以上60質量%以下であることが好ましい。より好ましくは5質量%以上50質量%以下、更に好ましくは10質量%以上45質量%以下、特に好ましくは15質量%以上40質量%以下である。   When the amount of the solvent used in the production of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is too large, the monomer concentration in the polymerization solution decreases, and the productivity decreases. Since the viscosity of the polymerization solution increases, it is necessary to take measures such as increasing the temperature of the polymerization solution, which tends to increase production costs. Accordingly, the solvent addition amount itself can be appropriately determined within a polymerizable range, but considering the productivity and production cost, the amount of the solvent when the total of all the monomer components and the solvent is 100% by mass. Is preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less. More preferably, they are 5 to 50 mass%, More preferably, they are 10 to 45 mass%, Most preferably, they are 15 to 40 mass%.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の製造における重合温度は、重合が進行する温度であればよいが、生産性の観点から50℃以上200℃以下であることが好ましく、より好ましくは90℃以上200℃以下である。より好ましくは100℃以上200℃以下、更に好ましくは100℃以上180℃以下、とりわけ好ましくは110℃以上170℃以下、特に好ましくは120℃以上160℃である。また、重合時間は、必要な重合度を得ることができる時間であればよく、特に規定はされないが、生産性などの観点から0.5時間以上6時間以下であることが好ましく、より好ましくは1時間以上5時間以下、更に好ましくは1時間以上3時間以下である。   The polymerization temperature in the production of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) may be any temperature at which polymerization proceeds, but is preferably 50 ° C. or higher and 200 ° C. or lower from the viewpoint of productivity. Is 90 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. More preferably, they are 100 degreeC or more and 200 degrees C or less, More preferably, they are 100 degreeC or more and 180 degrees C or less, Especially preferably, they are 110 degreeC or more and 170 degrees C or less, Especially preferably, they are 120 degreeC or more and 160 degrees C. The polymerization time is not particularly limited as long as the required degree of polymerization can be obtained, but is preferably 0.5 hours or more and 6 hours or less, more preferably from the viewpoint of productivity. It is 1 hour or more and 5 hours or less, More preferably, it is 1 hour or more and 3 hours or less.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の製造時において、重合液中の溶存酸素濃度は10ppm以下であることが好ましい。溶存酸素濃度は、例えば、溶存酸素計 DOメーターB−505(飯島電子工業株式会社製)を用いて測定をすることができる。溶存酸素濃度を低下させる方法としては、重合溶液中に不活性ガスをバブリングする方法、重合開始前に重合溶液を含む容器内を不活性ガスで0.2MPa程度まで加圧した後に放圧する操作を繰り返す方法、重合溶液を含む容器中に不活性ガスを通ずる方法等の方法を適宜選択することができる。   In the production of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), the dissolved oxygen concentration in the polymerization solution is preferably 10 ppm or less. The dissolved oxygen concentration can be measured using, for example, a dissolved oxygen meter DO meter B-505 (manufactured by Iijima Electronics Co., Ltd.). As a method for lowering the dissolved oxygen concentration, a method of bubbling an inert gas in the polymerization solution, an operation of releasing the pressure after pressurizing the inside of the container containing the polymerization solution to about 0.2 MPa with an inert gas before the start of polymerization is performed. Methods such as a method of repeating and a method of passing an inert gas into a container containing a polymerization solution can be appropriately selected.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の分子量分布範囲は、加工流動性、機械強度の観点から、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.5〜3.0の範囲にあることが好ましい。より好ましくは、1.6〜2.7であり、さらに好ましくは1.6〜2.4の範囲である。
本発明において、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、PMMA換算によって求めた値のことをいう。
The molecular weight distribution range of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is the ratio of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) (Mw / Mn) from the viewpoint of processing fluidity and mechanical strength. It is preferable that it exists in the range of 1.5-3.0. More preferably, it is 1.6-2.7, More preferably, it is the range of 1.6-2.4.
In the present invention, the ratio (Mw / Mn) between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) refers to a value determined by PMMA conversion using gel permeation chromatography (GPC).

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)のGPCにより測定した重量平均分子量(Mw)は、流動性、耐熱性、延伸安定性等のバランスから、好ましくは5万〜30万、より好ましくは5〜25万、さらに好ましくは7〜22万、特に好ましくは8〜20万である。   The weight average molecular weight (Mw) measured by GPC of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is preferably 50,000 to 300,000, more preferably from the balance of fluidity, heat resistance, stretching stability, and the like. Is 5 to 250,000, more preferably 7 to 220,000, and particularly preferably 80 to 200,000.

前述のとおり、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位は、不飽和カルボン酸単量体及び、必要に応じて不飽和カルボン酸エステル単量体と、その他の単量体成分と重合させ、共重合体とした後、かかる共重合体を触媒の存在或いは非存在下で加熱することにより、不飽和カルボン酸単量体単位からの脱水反応、若しくは不飽和カルボン酸単量体単位及び不飽和カルボン酸エステル単位(具体的には、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステル単位等)からの脱アルコール反応による分子内環化反応により得ることができる。
このような分子内環化反応を起こす方法は、特に制限されないが、例えば、ベント口を有する押出機を用いる方法や、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下若しくは減圧下で脱揮タンクを用いる方法等が挙げられる。
As described above, the acid anhydride unit having a 6-membered ring structure represented by the general formula [2] of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) includes an unsaturated carboxylic acid monomer and, if necessary, Accordingly, an unsaturated carboxylic acid ester monomer and other monomer components are polymerized to form a copolymer, and then the copolymer is heated in the presence or absence of a catalyst to produce an unsaturated carboxylic acid. By dehydration reaction from an acid monomer unit or dealcoholization reaction from an unsaturated carboxylic acid monomer unit and an unsaturated carboxylic acid ester unit (specifically, a methacrylic acid ester and / or an acrylic acid ester unit, etc.) It can be obtained by an intramolecular cyclization reaction.
The method for causing such an intramolecular cyclization reaction is not particularly limited. For example, a method using an extruder having a vent port or a devolatilization tank under an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon or under reduced pressure is used. Methods and the like.

分子内環化反応を起こすために用いる装置としては、例えば、フラッシュタンク、二軸押出機、単軸押出機、二軸・単軸複合型連続混練押出機、三軸以上の多軸押出機、ニーダー等が挙げられ、これらは一種又は二種以上を併用してもよい。   Examples of the apparatus used for causing the intramolecular cyclization reaction include a flash tank, a twin screw extruder, a single screw extruder, a twin / single screw composite continuous kneading extruder, a multi-screw extruder having three or more axes, A kneader etc. are mentioned, These may use together 1 type, or 2 or more types.

分子内環化反応を加熱脱揮により起こす場合、その温度は、所望する共重合体組成、未反応単量体の量や溶媒量の多少に応じて適宜設定することができ、分子内環化反応が起こる温度であれば特に制限されないが、好ましくは180〜300℃、より好ましくは200〜300℃、更に好ましくは200〜280℃、特に好ましくは220〜280℃である。   When the intramolecular cyclization reaction is caused by heat devolatilization, the temperature can be appropriately set according to the desired copolymer composition, the amount of unreacted monomer and the amount of solvent, and intramolecular cyclization. Although it will not be restrict | limited especially if it is temperature at which reaction occurs, Preferably it is 180-300 degreeC, More preferably, it is 200-300 degreeC, More preferably, it is 200-280 degreeC, Most preferably, it is 220-280 degreeC.

また、加熱脱揮及び/又は環化反応を行う場合の加熱時間は、所望する共重合体組成に応じて適宜設定することが可能であり、通常1〜240分、好ましくは1〜150分、より好ましくは1〜120分、特に好ましくは2〜90分、特に好ましくは3〜60分であり、とりわけ好ましくは5〜60分である。   Moreover, the heating time in the case of performing the heat devolatilization and / or cyclization reaction can be appropriately set according to the desired copolymer composition, and is usually 1 to 240 minutes, preferably 1 to 150 minutes, More preferably 1 to 120 minutes, particularly preferably 2 to 90 minutes, particularly preferably 3 to 60 minutes, and particularly preferably 5 to 60 minutes.

押出機を用いる場合、加熱時間を確保するために、スクリュー直径(D)とスクリュー長さ(L)の比はL/D=20以上であることが好ましく、より好ましくは30以上、特に好ましくは40以上とすることが好ましい。また、実用的にはL/Dが120以下であることが好ましい。   When using an extruder, in order to ensure the heating time, the ratio of screw diameter (D) to screw length (L) is preferably L / D = 20 or more, more preferably 30 or more, particularly preferably. It is preferable to set it to 40 or more. Moreover, it is preferable that L / D is 120 or less practically.

また、加熱脱揮及び/又は環化反応を減圧下で行う場合、脱揮効率などを考慮すると、200Torr以下であることが好ましく、より好ましくは150Torr以下、更に好ましくは100Torr以下、とりわけ好ましくは50Torr以下である。また、実用的には1Torr以上であることが好ましい。   Further, when the heat devolatilization and / or cyclization reaction is carried out under reduced pressure, it is preferably 200 Torr or less, more preferably 150 Torr or less, still more preferably 100 Torr or less, particularly preferably 50 Torr, in view of devolatilization efficiency and the like. It is as follows. Moreover, it is preferable that it is 1 Torr or more practically.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)において、一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位を形成する際には、環化反応を促進するために、触媒として、酸、アルカリ、塩から選ばれる少なくとも一種を添加することができる。環化触媒の添加量は、本願の目的を損わない範囲であれば特に規定はされないが、得られる共重合体の透明性、機械強度などの観点から、より少ない方が好ましい。具体的には、1質量部以下であることが好ましく、より好ましくは0.5質量部以下、更に好ましくは0.1質量部以下であることが適当である。
好適に使用される触媒の一例を挙げると、酸触媒としては塩酸、硫酸、リン酸、亜リン酸、p−トルエンスルホン酸、フェニルホスホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、金属水酸化物、アミン類、イミン類、アルカリ金属誘導体、アルカリ土類金属誘導体等が挙げられる。また、塩系触媒としては、炭酸金属塩、硫酸金属塩、酢酸金属塩、ステアリン酸金属塩等が挙げられる。
In the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), when forming an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure represented by the general formula [2], in order to promote the cyclization reaction, As the catalyst, at least one selected from acids, alkalis and salts can be added. The amount of the cyclization catalyst added is not particularly specified as long as it does not impair the purpose of the present application, but is preferably smaller from the viewpoint of the transparency and mechanical strength of the resulting copolymer. Specifically, it is preferably 1 part by mass or less, more preferably 0.5 part by mass or less, and still more preferably 0.1 part by mass or less.
If an example of the catalyst used suitably is given, hydrochloric acid, a sulfuric acid, phosphoric acid, phosphorous acid, p-toluenesulfonic acid, phenylphosphonic acid etc. will be mentioned as an acid catalyst. Examples of the basic catalyst include metal hydroxides, amines, imines, alkali metal derivatives, alkaline earth metal derivatives, and the like. Examples of the salt catalyst include metal carbonates, metal sulfates, metal acetates, and metal stearates.

環化反応の反応促進効果、共重合体の透明性、着色性の観点から、塩基性触媒、塩系触媒を好適に用いることができる。上記環化触媒は単独で使用してもよいし、二種以上組み合わせて使用することもできる。   From the viewpoint of the reaction promotion effect of the cyclization reaction, the transparency of the copolymer, and the colorability, a basic catalyst and a salt-based catalyst can be preferably used. The said cyclization catalyst may be used independently and can also be used in combination of 2 or more type.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の各構造単位の共重合割合は、本願の効果を達成できる範囲であれば特に制限はされないが、高い耐熱性と本願の用途に求められる光学特性とをバランス良く高度に付与する必要がある場合には、全単量体単位の総量を100質量%とした場合、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステル単量体単位が5質量%以上85質量%以下であることが好ましく、より好ましくは20質量%以上80質量%以下、より好ましくは40質量%以上80質量%以下、更に好ましくは50質量%以上80質量%以下であり、一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位が10質量%以上35質量%以下であることが好ましく、より好ましくは15質量%以上33質量%以下、より好ましくは17質量%以上30質量%以下、更に好ましくは17質量%以上28質量%以下、特に好ましくは17質量%以上25質量%未満であり、芳香族ビニル化合物単位が2質量%以上50質量%以下であることが好ましく、より好ましくは4質量%以上45質量%以下、更に好ましくは4質量%以上30質量%以下、とりわけ好ましくは5質量%以上25質量%以下、特に好ましくは5質量%以上20質量%以下である。   The copolymerization ratio of each structural unit of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is not particularly limited as long as the effect of the present application can be achieved, but high heat resistance and optics required for the application of the present application. In the case where it is necessary to impart a high degree of balance with characteristics, when the total amount of all monomer units is 100% by mass, methacrylic acid ester and / or acrylate monomer units are 5% by mass or more and 85%. It is preferably no greater than 20% by mass, more preferably no less than 20% by mass and no greater than 80% by mass, even more preferably no less than 40% by mass and no greater than 80% by mass, and even more preferably no less than 50% by mass and no greater than 80% by mass. 2] The acid anhydride unit having a 6-membered ring structure is preferably 10% by mass or more and 35% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 33% by mass or less, and more preferably 1%. % By mass to 30% by mass, more preferably 17% by mass to 28% by mass, particularly preferably 17% by mass to less than 25% by mass, and the aromatic vinyl compound unit being 2% by mass to 50% by mass. More preferably, it is 4 mass% or more and 45 mass% or less, More preferably, it is 4 mass% or more and 30 mass% or less, Especially preferably, it is 5 mass% or more and 25 mass% or less, Most preferably, it is 5 mass% or more and 20 mass% or less. It is as follows.

更に、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)が不飽和カルボン酸単量体単位を含有する場合、その共重合割合は、全単量体単位の総量を100質量%とした場合、10質量%以下であることが好ましく、より好ましくは1質量%以上10質量%以下であり、更に好ましくは1質量%以上8質量%以下、とりわけ好ましくは2質量%以上7質量%以下である。   Furthermore, when the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) contains an unsaturated carboxylic acid monomer unit, the copolymerization ratio is, when the total amount of all monomer units is 100% by mass, It is preferably 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less, still more preferably 1% by mass or more and 8% by mass or less, and particularly preferably 2% by mass or more and 7% by mass or less.

また、耐熱性、流動性、加工性、機械特性、光学特性のバランスを考慮すると、不飽和カルボン酸単量体単位の共重合割合に対する一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位の共重合割合の比(質量%)が、2≦一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位の共重合割合)/不飽和カルボン酸単量体単位の共重合割合≦30であることが好ましい。   Further, in consideration of the balance of heat resistance, fluidity, processability, mechanical properties, and optical properties, it has a 6-membered ring structure represented by the general formula [2] with respect to the copolymerization ratio of unsaturated carboxylic acid monomer units. Ratio of copolymerization ratio of acid anhydride units (% by mass) is 2 ≦ copolymerization ratio of acid anhydride units having a 6-membered ring structure represented by the general formula [2]) / unsaturated carboxylic acid monomer It is preferable that the copolymerization ratio of units ≦ 30.

また、特に光弾性係数、リターデーション等の光学特性と耐熱性、加工流動性を高度にバランスさせる必要があるときには、不飽和カルボン酸単量体単位の共重合割合に対する芳香族ビニル化合物単位の共重合割合の比は、1≦芳香族ビニル化合物単位の共重合割合/不飽和カルボン酸単量体単位の共重合割合≦10であることが好ましい。   In particular, when it is necessary to highly balance the optical properties such as the photoelastic coefficient and retardation, heat resistance, and process fluidity, the copolymerization of the aromatic vinyl compound unit with respect to the copolymerization ratio of the unsaturated carboxylic acid monomer unit. The ratio of the polymerization ratio is preferably 1 ≦ copolymerization ratio of aromatic vinyl compound unit / copolymerization ratio of unsaturated carboxylic acid monomer unit ≦ 10.

また、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の各単量体単位の共重合割合は、一般的にはNMR法、赤外分光光度計、中和滴定などの方法で求めることが可能である。   In addition, the copolymerization ratio of each monomer unit of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) is generally determined by a method such as NMR method, infrared spectrophotometer, neutralization titration. Is possible.

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の重合においては、重合度を調整する目的で、重合開始剤を用いてもよい。本発明において、用いることができる重合開始剤の一例を挙げると、ラジカル重合を行う場合は、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサンなどの有機過酸化物や、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス−4−メトキシ−2,4−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリルなどのアゾ系の一般的なラジカル重合開始剤を挙げることができる。これらは単独で使用してもよいり2種類以上を併用してもよい。これらのラジカル開始剤と適当な還元剤とを組み合わせてレドックス系開始剤としてもよい。これらの開始剤は、重合を行う温度と開始剤の半減期を考慮して適宜選択することができる。   In the polymerization of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), a polymerization initiator may be used for the purpose of adjusting the degree of polymerization. In the present invention, examples of polymerization initiators that can be used include di-t-butyl peroxide, lauroyl peroxide, stearyl peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl peroxyneo when radical polymerization is performed. Decanate, t-butyl peroxypivalate, dilauroyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3 Organic peroxides such as 5-trimethylcyclohexane and 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, azobisisobutyronitrile, azobisisovaleronitrile, 1,1-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile) ) 2,2′-azobis-4-methoxy-2,4-azobi Azo-based general radical polymerization initiators such as sisobutyronitrile, 2,2′-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 2,2′-azobis-2-methylbutyronitrile can be listed. . These may be used alone or in combination of two or more. A combination of these radical initiators and an appropriate reducing agent may be used as a redox initiator. These initiators can be appropriately selected in consideration of the polymerization temperature and the half life of the initiator.

特に、90℃以上の高温下で重合を行う場合には、溶液重合が一般的であるので、10時間半減期温度が80℃以上で、かつ用いる有機溶媒に可溶である、過酸化物、アゾビス開始剤などが好ましい。具体的には、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル等を挙げることができる。   In particular, when polymerization is performed at a high temperature of 90 ° C. or higher, solution polymerization is common, so that the peroxide has a 10-hour half-life temperature of 80 ° C. or higher and is soluble in the organic solvent used. An azobis initiator is preferred. Specifically, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, cyclohexane peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, , 1-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), 2- (carbamoylazo) isobutyronitrile and the like.

これらの開始剤は、例えば、全単量体混合物100質量部に対して、0〜1質量部の範囲で用いることが好ましい。
また、溶液重合法を行う場合には、重合溶液の粘度等を考慮して重合溶液中の固体分量が10〜60質量%となるように適宜重合開始剤の種類、添加量を決定すればよい。
These initiators are preferably used, for example, in the range of 0 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total monomer mixture.
In addition, when performing the solution polymerization method, the type and amount of the polymerization initiator may be appropriately determined so that the solid content in the polymerization solution is 10 to 60% by mass in consideration of the viscosity of the polymerization solution and the like. .

耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の製造においては、本発明の目的を損わない範囲で、分子量の制御を行うことができる。例えば、アルキルメルカプタン類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、トリエチルアミン等の連鎖移動剤;ジチオカルバメート類、トリフェニルメチルアゾベンゼン、テトラフェニルエタン誘導体等のイニファータ等を用いる方法がある。これらの添加剤の添加量を調整することにより、分子量を調整することが可能である。これらの添加剤を用いる場合、取扱性や安定性の点から、アルキルメルカプタン類が好適に用いられ、具体例としては、n−ブチルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、t−ドデシルメルカプタン、n−テトラデシルメルカプタン、n−オクタデシルメルカプタン、2−エチルヘキシルチオグリコレート、エチレングリコールジチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス(チオグリコート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレート)等が挙げられる。   In the production of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2), the molecular weight can be controlled within a range that does not impair the object of the present invention. For example, there are methods using chain transfer agents such as alkyl mercaptans, dimethylacetamide, dimethylformamide, and triethylamine; iniferters such as dithiocarbamates, triphenylmethylazobenzene, and tetraphenylethane derivatives. The molecular weight can be adjusted by adjusting the addition amount of these additives. When these additives are used, alkyl mercaptans are preferably used from the viewpoint of handleability and stability. Specific examples include n-butyl mercaptan, n-octyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, and t-dodecyl mercaptan. N-tetradecyl mercaptan, n-octadecyl mercaptan, 2-ethylhexyl thioglycolate, ethylene glycol dithioglycolate, trimethylolpropane tris (thioglycolate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate) and the like.

これらの分子量調整剤は、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)の分子量が所望の値となるように適宜添加することができるが、一般的には全単量体混合物100質量部に対して0.001質量部〜3質量部の範囲で用いられる。
また、その他の分子量制御方法としては、重合方法を変える方法、重合開始剤の量を調整する方法、重合温度を変更する方法などが挙げられる。
これらの分子量制御方法は、一種の方法だけ用いてもよいし、二種以上の方法を併用してもよい。
These molecular weight modifiers can be appropriately added so that the molecular weight of the heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) becomes a desired value, but generally 100 parts by mass of the total monomer mixture. Is used in the range of 0.001 parts by mass to 3 parts by mass.
Examples of other molecular weight control methods include a method of changing the polymerization method, a method of adjusting the amount of the polymerization initiator, and a method of changing the polymerization temperature.
These molecular weight control methods may be used alone, or two or more methods may be used in combination.

本発明においては、組成、分子量など異なる複数種類のアクリル系樹脂(B−2)を併用することができる。   In the present invention, a plurality of types of acrylic resins (B-2) having different compositions and molecular weights can be used in combination.

本発明においては、厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBを構成する材料として、前述したスチレン系樹脂(B−1)、アクリル系樹脂(B−2)それぞれを単独で用いてもよいが、フィルムBを構成する材料として、スチレン系樹脂(B−1)とアクリル系樹脂(B−2)の両方を含む樹脂組成物を用いると、フィルムBの光学設計、例えば、面内レタデーションの制御など、が容易になるので好ましい。   In the present invention, the above-described styrene resin (B-1) and acrylic resin (B-2) may be used alone as the material constituting the film B having a negative thickness direction retardation (Rth). When a resin composition containing both a styrene resin (B-1) and an acrylic resin (B-2) is used as a material constituting the film B, optical design of the film B, for example, control of in-plane retardation Etc. are preferable because they become easier.

この場合、スチレン系樹脂(B−1)とアクリル系樹脂(B−2)は相溶することが好ましい。相溶は、スチレン系樹脂(B−1)、アクリル系樹脂(B−2)の組成(共重合組成を含む)、配合比率、混練温度、混練圧力、冷却温度、冷却速度などを適宜選択することにより実現できる。相溶(missible)については、『高性能ポリマーアロイ』(高分子学会編集、平成3年丸善株式会社発行)に詳しい記載がある。スチレン系樹脂(B−1)とアクリル系樹脂(B−2)が相溶すると、スチレン系樹脂(B−1)とアクリル系樹脂(B−2)とを含む樹脂組成物からなるフイルムBの全光線透過率を高めることが可能となると共に、使用中に相分離を起こして透明性が低下することなどのない安定性の高いフイルムBを製造することができる。   In this case, it is preferable that the styrene resin (B-1) and the acrylic resin (B-2) are compatible. For the compatibility, the composition (including the copolymer composition) of the styrene resin (B-1) and the acrylic resin (B-2), the blending ratio, the kneading temperature, the kneading pressure, the cooling temperature, the cooling rate, and the like are appropriately selected. Can be realized. The miscible is described in detail in “High Performance Polymer Alloy” (edited by the Society of Polymer Science, published by Maruzen Co., Ltd. in 1991). When the styrene resin (B-1) and the acrylic resin (B-2) are compatible, the film B made of a resin composition containing the styrene resin (B-1) and the acrylic resin (B-2) It is possible to increase the total light transmittance, and to produce a highly stable film B that does not cause phase separation during use and does not deteriorate transparency.

具体的には、アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体(B−2−1)はスチレン系樹脂(B−1)との相溶性が高いので、アクリル系樹脂(B−2)として、アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体(B−2−1)を用いることが特に好ましい。   Specifically, since the polymer (B-2-1) containing an acrylic acid alkyl ester or a methacrylic acid alkyl ester as a monomer component is highly compatible with the styrene resin (B-1), the acrylic resin As (B-2), it is particularly preferable to use a polymer (B-2-1) containing an acrylic acid alkyl ester or a methacrylic acid alkyl ester as a monomer component.

樹脂組成物中のスチレン系樹脂(B−1)の含有量は、樹脂組成物全体に対して0.1〜99.9質量%であることが好ましく、0.2〜90質量%であることがさらに好ましく、20〜80質量%であることがとりわけ好ましい。アクリル系樹脂(B−2)の含有量は、樹脂組成物全体に対して0.1〜99.9質量%であることが好ましく、10〜99.8質量%であることがさらに好ましく、20〜80質量%であることがとりわけ好ましい。
また、スチレン系樹脂(B−1)とアクリル系樹脂(B−2)の含有量の合計は、樹脂組成物に対して70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましく、90質量%以上であることがとりわけ好ましい。
さらに、スチレン系樹脂(B−1)とアクリル系樹脂(B−2)の質量比((B−1)/(B−2))は、スチレン系樹脂(B−1)、アクリル系樹脂(B−2)の種類にも依存するが、0.1/99.9〜99.9/0.1であることが好ましく、20/80〜80/20であることがさらに好ましく、40/60〜60/40であることがとりわけ好ましい。
The content of the styrenic resin (B-1) in the resin composition is preferably 0.1 to 99.9% by mass, and preferably 0.2 to 90% by mass with respect to the entire resin composition. Is more preferable, and it is especially preferable that it is 20-80 mass%. The content of the acrylic resin (B-2) is preferably 0.1 to 99.9% by mass, more preferably 10 to 99.8% by mass with respect to the entire resin composition, and 20 It is especially preferable that it is -80 mass%.
Moreover, it is preferable that the sum total of content of a styrene resin (B-1) and an acrylic resin (B-2) is 70 mass% or more with respect to a resin composition, and it is 80 mass% or more. More preferably, it is particularly preferably 90% by mass or more.
Furthermore, the mass ratio ((B-1) / (B-2)) of the styrene resin (B-1) and the acrylic resin (B-2) is the styrene resin (B-1), the acrylic resin ( Although depending on the type of B-2), it is preferably 0.1 / 99.9 to 99.9 / 0.1, more preferably 20/80 to 80/20, and 40/60. Particularly preferred is ˜60 / 40.

本発明においては、フィルムA、フィルムBを構成する材料に、本発明の目的を損なわない範囲で、前述した以外の他の重合体を混合することができる。混合することができる重合体としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂、およびフェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂などが挙げられる。
フィルムBに(B−1)、(B−2)以外の他の重合体を混合する場合、その割合は、(B−1)、(B−2)の合計100質量部に対して、20質量部以下であることが好ましい。
In the present invention, the polymer constituting the film A and the film B can be mixed with another polymer other than those described above as long as the object of the present invention is not impaired. Polymers that can be mixed include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyamides, polyphenylene sulfide resins, polyether ether ketone resins, polyesters, polysulfones, polyphenylene oxides, polyimides, polyether imides, polyacetals and other thermoplastic resins, and Examples thereof include thermosetting resins such as phenol resin, melamine resin, silicone resin, and epoxy resin.
When the polymer other than (B-1) and (B-2) is mixed with the film B, the ratio is 20 with respect to the total 100 parts by mass of (B-1) and (B-2). It is preferable that it is below mass parts.

また、本発明においては、フィルムA、フィルムBを構成する材料に、本発明の目的を損なわない範囲で紫外線吸収剤を配合することができる。
混合することができる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、フェノール系化合物、オキサゾール系化合物、マロン酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、ラクトン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンズオキサジノン系化合物、ヒンダードアミン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。
Moreover, in this invention, a ultraviolet absorber can be mix | blended with the material which comprises the film A and the film B in the range which does not impair the objective of this invention.
Examples of ultraviolet absorbers that can be mixed include benzotriazole compounds, benzotriazine compounds, benzoate compounds, benzophenone compounds, oxybenzophenone compounds, phenol compounds, oxazole compounds, malonic ester compounds, cyanoacrylates. Compounds, lactone compounds, salicylic acid ester compounds, benzoxazinone compounds, hindered amine compounds, triazine compounds, and the like.

これらの中でも、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、フェノール系化合物、オキサゾール系化合物、マロン酸エステル系化合物、ラクトン系化合物は、これを添加した樹脂組成物の光弾性係数の絶対値を小さくする効果があり好ましい。最も好ましくはベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物である。これらは単独で用いても、2種以上併用して用いても構わない。   Among these, benzotriazole compounds, benzotriazine compounds, benzoate compounds, benzophenone compounds, phenol compounds, oxazole compounds, malonic ester compounds, and lactone compounds are the light of the resin composition to which they are added. This is preferable because it has the effect of reducing the absolute value of the elastic modulus. Most preferred are benzotriazole compounds and benzotriazine compounds. These may be used alone or in combination of two or more.

紫外線吸収剤が、20℃における蒸気圧(P)が1.0×10−4Pa以下である場合に成形加工性に優れ好ましい。さらに好ましい範囲は蒸気圧(P)が1.0×10−6Pa以下であり、とりわけ好ましい範囲は蒸気圧(P)が1.0×10−8Pa以下である。ここで、成型加工性に優れるとは、例えばフィルム成形時に、紫外線吸収剤のロールへの付着が少ないことなどを示す。紫外線吸収剤がロールへ付着すると、例えば成形体表面へ付着し外観、光学特性を悪化させるため、光学用材料として好ましくないものとなる。 The ultraviolet absorber is excellent in molding processability when the vapor pressure (P) at 20 ° C. is 1.0 × 10 −4 Pa or less. A more preferable range is a vapor pressure (P) of 1.0 × 10 −6 Pa or less, and a particularly preferable range is a vapor pressure (P) of 1.0 × 10 −8 Pa or less. Here, being excellent in moldability means that, for example, the adhesion of the ultraviolet absorber to the roll is small during film formation. When the ultraviolet absorber adheres to the roll, for example, it adheres to the surface of the molded body and deteriorates the appearance and optical characteristics, and therefore it is not preferable as an optical material.

紫外線吸収剤が、融点(Tm)が80℃以上である場合に成形加工性に優れ好ましい。さらに好ましい範囲は融点(Tm)が130℃以上であり、とりわけ好ましい範囲は融点(Tm)が160℃以上である。
紫外線吸収剤が、23℃から260℃まで20℃/minの速度で昇温した場合の重量減少率が50%以下である場合に成形加工性に優れ好ましい。さらに好ましい範囲は重量減少率が15%以下であり、とりわけ好ましい範囲は重量減少率が2%以下である。
The ultraviolet absorber is preferably excellent in moldability when the melting point (Tm) is 80 ° C. or higher. A more preferable range is a melting point (Tm) of 130 ° C. or higher, and a particularly preferable range is a melting point (Tm) of 160 ° C. or higher.
The ultraviolet absorber is excellent in molding processability when the weight reduction rate when the temperature is increased from 23 ° C. to 260 ° C. at a rate of 20 ° C./min is 50% or less. A more preferable range is a weight reduction rate of 15% or less, and a particularly preferable range is a weight reduction rate of 2% or less.

本発明におけるフィルムA、フィルムBは、380nmにおける分光透過率が5%以下で、かつ、400nmにおける分光透過率が65%以上であることが好ましい。紫外領域である380nmの分光透過率が低いほど偏光子や液晶素子の劣化を防ぎ、可視領域である400nm分光透過率が高いほど色再現性に優れるため、光学フィルムとして好ましく用いることができる。フィルムの分光透過率をこの範囲内に設計するには、紫外線吸収剤の量が、0.1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。0.1質量%より多いと、380nmにおける分光透過率が小さくなり、10質量%より少ないと光弾性係数の増加が小さく、成型加工性、機械強度も向上するため好ましい。紫外線吸収剤の量のより好ましい範囲は、0.3質量%以上8質量%以下、さらに好ましい範囲は0.5質量%以上5質量%以下である。   Film A and film B in the present invention preferably have a spectral transmittance at 380 nm of 5% or less and a spectral transmittance at 400 nm of 65% or more. The lower the spectral transmittance at 380 nm in the ultraviolet region, the lower the deterioration of the polarizer and the liquid crystal element, and the higher the 400 nm spectral transmittance in the visible region, the better the color reproducibility, so that it can be preferably used as an optical film. In order to design the spectral transmittance of the film within this range, the amount of the ultraviolet absorber is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less. When the content is more than 0.1% by mass, the spectral transmittance at 380 nm is small, and when it is less than 10% by mass, the increase in the photoelastic coefficient is small, and the molding processability and mechanical strength are also improved. A more preferable range of the amount of the ultraviolet absorber is 0.3% by mass or more and 8% by mass or less, and a further preferable range is 0.5% by mass or more and 5% by mass or less.

紫外線吸収剤の量は、核磁気共鳴装置(NMR)によりプロトンNMRを測定し、ピークシグナルの積分値の比から求める方法や、または良溶媒を用い樹脂から抽出後、ガスクロマトグラフ(GC)で測定する方法等により定量できる。   The amount of the ultraviolet absorber is measured by proton NMR measured by a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR) and obtained from a ratio of integral values of peak signals or extracted from a resin using a good solvent and then measured by a gas chromatograph (GC). It can be quantified by the method to do.

また本発明においては、フィルムA、フィルムBを構成する材料に、本発明の目的を損なわない範囲で各種目的に応じて任意の添加剤を配合することができる。配合することができる添加剤としては、樹脂やゴム状重合体の配合に一般的に用いられるものであれば特に制限はない。
このような添加剤としては、例えば、二酸化珪素等の無機充填剤;酸化鉄等の顔料;ステアリン酸,ベヘニン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、エチレンビスステアロアミド等の滑剤、離型剤;パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、芳香族系プロセスオイル、パラフィン、有機ポリシロキサン,ミネラルオイル等の軟化剤・可塑剤;ヒンダードフェノール系酸化防止剤、アクリレート基を有するフェノール系酸化防止剤、りん系熱安定剤等の酸化防止剤;ヒンダードアミン系光安定剤;難燃剤;帯電防止剤;有機繊維、ガラス繊維、炭素繊維、金属ウィスカ等の補強剤;着色剤などが挙げられる。
Moreover, in this invention, arbitrary additives can be mix | blended with the material which comprises the film A and the film B according to various objectives in the range which does not impair the objective of this invention. The additive that can be blended is not particularly limited as long as it is generally used for blending resins and rubber-like polymers.
Examples of such additives include inorganic fillers such as silicon dioxide; pigments such as iron oxide; lubricants such as stearic acid, behenic acid, zinc stearate, calcium stearate, magnesium stearate, and ethylene bisstearamide; Mold release agents: Softeners and plasticizers such as paraffinic process oil, naphthenic process oil, aromatic process oil, paraffin, organic polysiloxane, mineral oil; hindered phenolic antioxidants, phenolic compounds with acrylate groups Antioxidants such as antioxidants and phosphorus heat stabilizers; hindered amine light stabilizers; flame retardants; antistatic agents; reinforcing agents such as organic fibers, glass fibers, carbon fibers, metal whiskers; and colorants .

フィルムA、B中に酸化防止剤を配合する場合、フィルムを構成する樹脂組成物に対して0.01質量%以上、2質量%以下の範囲で配合することが好ましく、0.05質量%以上、2質量%以下の範囲で配合することが更に好ましく、0.1質量%以上、2.0質量%以下であることがとりわけ好ましい。
酸化防止剤の配合量が0.01質量%未満である場合には、得られるフィルムの高温加工時における熱安定性が乏しくなり、異物の発生を十分に抑制できない場合がある。一方、配合量が2質量%を超える場合には、揮発分が多く出てしまいフィルムの加工性を低下させる場合がある。
When the antioxidant is blended in the films A and B, it is preferably blended in the range of 0.01% by mass or more and 2% by mass or less with respect to the resin composition constituting the film, and 0.05% by mass or more. More preferably, it is blended in the range of 2% by mass or less, particularly preferably 0.1% by mass or more and 2.0% by mass or less.
When the blending amount of the antioxidant is less than 0.01% by mass, the thermal stability of the resulting film during high-temperature processing becomes poor, and the generation of foreign matters may not be sufficiently suppressed. On the other hand, when the blending amount exceeds 2% by mass, a large amount of volatile matter is produced, and the processability of the film may be lowered.

3.フィルムA、Bの製造
本発明におけるフィルムA、Bを構成する材料となる樹脂組成物の製造方法は、特に制限されるものではなく、公知の方法が利用できる。例えば単軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー、各種ニーダー等の溶融混練機を用いて、樹脂成分、必要に応じて耐加水分解抑制剤や上記その他の成分を添加して溶融混練して製造することができる。
3. Production of Films A and B The production method of the resin composition as the material constituting the films A and B in the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. For example, using a melt kneader such as a single screw extruder, twin screw extruder, Banbury mixer, Brabender, various kneaders, etc., adding a resin component, if necessary, adding a hydrolysis resistance inhibitor and the above other components to melt It can be produced by kneading.

本発明におけるフィルムA、Bは、射出成形、シート成形、ブロー成形、インジェクションブロー成形、インフレーション成形、押し出し成形、発泡成形等、公知の方法で成形することが可能であり、圧空成形、真空成形等の二次加工成形法も用いることができる。
また、例えば、Tダイ、円形ダイ等が装着された押出機等を用いて、未延伸フィルムを押し出し成形することができる。押し出し成形により成形品を得る場合は、混合、配合すべき成分は事前に混合、配合されていても良く、また押し出し成形時に混合、配合することもできる。
Films A and B in the present invention can be formed by a known method such as injection molding, sheet molding, blow molding, injection blow molding, inflation molding, extrusion molding, foam molding, etc., such as pressure forming, vacuum forming, etc. The secondary processing molding method can also be used.
In addition, for example, an unstretched film can be extruded using an extruder or the like equipped with a T die, a circular die, or the like. When a molded product is obtained by extrusion molding, the components to be mixed and blended may be mixed and blended in advance, or may be mixed and blended at the time of extrusion molding.

また、フィルムA、Bの成形は、上記溶融法だけでなく、良溶媒、例えば、クロロホルム等の溶媒を用いキャスト成形によることも可能である。   Films A and B can be formed not only by the above melting method but also by cast molding using a good solvent, for example, a solvent such as chloroform.

さらに必要に応じて、未延伸フィルムを機械的流れ方向(MD)に縦一軸延伸、機械的流れ方向に直行する方向(TD)に横一軸延伸することができる。例えば、工業的には、ロール延伸またはテンター延伸による一軸延伸法、ロール延伸とテンター延伸の組み合わせによる逐次2軸延伸法、テンター延伸による同時2軸延伸法、チューブラー延伸による2軸延伸法等によって延伸フィルムを製造することができる。最終的な延伸倍率は得られたフィルムの熱収縮率より判断することができる。延伸倍率は少なくともどちらか一方向に0.1%以上300%以下であることが好ましく、1%以上200%以下であることがさらに好ましく、2%以上100%以下であることがとりわけ好ましい。この範囲に設計することにより、複屈折、強度の観点で好ましい延伸フィルムが得られる。延伸倍率は、得られた延伸フィルムをガラス転移温度よりも20℃以上高い温度で収縮させ以下の関係式から延伸倍率を決定できる。また、ガラス転移温度はDSC法や粘弾性法により求めることができる。
延伸倍率(%)=[(収縮前の長さ/収縮後の長さ)−1]×100
Further, if necessary, the unstretched film can be stretched uniaxially in the machine flow direction (MD) and uniaxially stretched in the direction (TD) perpendicular to the mechanical flow direction. For example, industrially, a uniaxial stretching method by roll stretching or tenter stretching, a sequential biaxial stretching method by a combination of roll stretching and tenter stretching, a simultaneous biaxial stretching method by tenter stretching, a biaxial stretching method by tubular stretching, etc. A stretched film can be produced. The final draw ratio can be determined from the heat shrinkage rate of the obtained film. The stretching ratio is preferably 0.1% or more and 300% or less in at least one direction, more preferably 1% or more and 200% or less, and particularly preferably 2% or more and 100% or less. By designing in this range, a stretched film preferable from the viewpoint of birefringence and strength can be obtained. The draw ratio can be determined from the following relational expression by shrinking the obtained stretched film at a temperature 20 ° C. or higher than the glass transition temperature. The glass transition temperature can be determined by a DSC method or a viscoelastic method.
Stretch ratio (%) = [(length before shrinkage / length after shrinkage) −1] × 100

本発明において、フィルムA、Bの厚みは、1μm以上であることが好ましく、より好ましくは5μm以上である。   In the present invention, the thickness of the films A and B is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more.

4.積層光学フィルムの製造
本発明の、厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAと、厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBとの積層は、工業的に通常用いられる方法を採用することができる。例えば、フィルムA、Bそれぞれを接着剤を用いて貼り合わせる、いわゆるドライラミネーション法や、一方フィルムに、溶融状態の他方のフィルムを構成する樹脂組成物をT−ダイを用いて積層する、いわゆるT−ダイ法等が挙げられる。
4). Manufacture of a laminated optical film The lamination of the film A having a positive thickness direction retardation (Rth) and the film B having a negative thickness direction retardation (Rth) of the present invention may employ a method generally used industrially. it can. For example, a so-called dry lamination method in which each of films A and B is bonded using an adhesive, or a so-called T-die, in which a resin composition constituting the other film in a molten state is laminated on one film using a T-die. -The die method etc. are mentioned.

フィルムAとフィルムBとを接着剤を用いて貼り合わせる場合は、光学的に透明で異方性がないアクリル系粘着剤を用いることが好ましい。また偏光フィルムとの貼り合わせ、LCDへの貼り合わせにも同様のアクリル系粘着剤を用いることが好ましい。粘着剤の厚みは通常15μm〜30μmである。   When the film A and the film B are bonded together using an adhesive, it is preferable to use an acrylic pressure-sensitive adhesive that is optically transparent and has no anisotropy. In addition, it is preferable to use the same acrylic pressure-sensitive adhesive for bonding to a polarizing film and bonding to an LCD. The thickness of the pressure-sensitive adhesive is usually 15 μm to 30 μm.

また、フィルムAとフィルムBを積層する際には、フィルムAの面内レタデーションとフィルムBの面内レタデーションを加成させたければ、両者の遅相軸が平行となるように積層することが好ましく、フィルムAの面内レタデーションとフィルムBの面内レタデーションを相殺させたければ、両者の遅相軸が垂直となるように積層することが好ましい。   Moreover, when laminating film A and film B, if it is desired to add in-plane retardation of film A and in-plane retardation of film B, it is preferable to laminate so that both slow axes are parallel to each other. If it is desired to cancel the in-plane retardation of the film A and the in-plane retardation of the film B, it is preferable to laminate them so that their slow axes are perpendicular.

すなわち、フィルムAとフィルムBを遅相軸が垂直となるように積層すると、積層フィルムのReはフィルムAとフィルムBのReの差となり、積層フィルムのReの絶対値が小さくなる。一方、フィルムAとフィルムBを両者の遅相軸が平行となるように積層すると、積層フィルムのReはフィルムAとフィルムBのReの和に近づく。このように、積層フィルムのReの値は、フィルムAとフィルムBのReの値と積層の仕方により制御することができる。   That is, when film A and film B are laminated so that the slow axis is perpendicular, Re of the laminated film is the difference between Re of film A and film B, and the absolute value of Re of the laminated film becomes small. On the other hand, when film A and film B are laminated so that their slow axes are parallel, Re of the laminated film approaches the sum of Re of film A and film B. Thus, the Re value of the laminated film can be controlled by the Re value of the films A and B and the way of lamination.

本発明において、フィルムAとフィルムBとを、両者の遅相軸が平行となるように積層するとは、フィルムAとフィルムBのフィルム面内の遅相軸の交差角が0°±10°となるように積層することをいい、0°±5°であることがより好ましい。遅相軸の交差角が0°±10°を超えてしまうと、光漏れ、コントラストの低下を起こす傾向があるためである。
また、両者の遅相軸が垂直となるように積層するとは、フィルムAとフィルムBのフィルム面内の遅相軸の交差角が90°±10°となるように積層することをいう。
In the present invention, film A and film B are laminated so that their slow axes are parallel to each other. The crossing angle of the slow axes in the film plane of film A and film B is 0 ° ± 10 °. It is more preferable that the angle is 0 ° ± 5 °. This is because if the crossing angle of the slow axes exceeds 0 ° ± 10 °, light leakage and a decrease in contrast tend to occur.
Further, “lamination so that the slow axes of both are perpendicular to each other” means that the laminating angles of the slow axes in the film plane of film A and film B are 90 ° ± 10 °.

本発明の積層光学フィルムには、例えば反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の表面機能化処理をすることもできる。   The laminated optical film of the present invention can be subjected to surface functionalization treatment such as antireflection treatment, transparent conductive treatment, electromagnetic wave shielding treatment, and gas barrier treatment.

5.フィルムの厚み方向レタデーション(Rth) 本発明において、平面方向のリタデーション(Re)と厚み方向のリタデーション(Rth)、Nz係数を次のように定義する。
Re=(nx−ny)×d、
Rth=[(nx+ny)/2−nz]×d
ここで、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはそれと垂直方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率である。また、dはフィルムの厚さ(nm)である。
5. Thickness direction retardation (Rth) of the film In the present invention, retardation in the plane direction (Re), retardation in the thickness direction (Rth), and Nz coefficient are defined as follows.
Re = (nx−ny) × d,
Rth = [(nx + ny) / 2−nz] × d
Here, nx is the refractive index in the slow axis direction in the film plane, ny is the refractive index in the direction perpendicular thereto, and nz is the refractive index in the thickness direction of the film. D is the thickness (nm) of the film.

本発明におけるフィルムAの好ましいRthの値は、500nm〜1nmであり、さらに好ましくは、450nm〜5nmであり、とりわけ好ましくは350nm〜10nmである。Rthの値は、MD、TD方向の延伸倍率、フィルムの厚さにより調整することができる。   The preferable Rth value of the film A in the present invention is 500 nm to 1 nm, more preferably 450 nm to 5 nm, and particularly preferably 350 nm to 10 nm. The value of Rth can be adjusted by the draw ratio in the MD and TD directions and the thickness of the film.

本発明におけるフィルムBの好ましいRthの値は、−500nm〜−1nmであり、さらに好ましくは、−450nm〜−5nmであり、とりわけ好ましくは−350nm〜−10nmである。Rthの値は、MD、TD方向の延伸倍率、フィルム厚さ、樹脂(B−1)、樹脂(B−2)の質量比により調整することができる。   The preferable Rth value of the film B in the present invention is −500 nm to −1 nm, more preferably −450 nm to −5 nm, and particularly preferably −350 nm to −10 nm. The value of Rth can be adjusted by the draw ratio in the MD and TD directions, the film thickness, the mass ratio of the resin (B-1) and the resin (B-2).

本発明におけるフィルムAとフィルムBとを積層した積層光学フィルムの好ましいRthの値は、−500nm以上20nm以下であり、さらに好ましくは、−100nm〜20nmであり、とりわけ好ましくは、−20nm〜20nmである。
本発明者らの研究によれば、フィルムAとフィルムBの積層フィルムのRthは、両者の遅相軸の交差角の値によらず、フィルムAとフィルムBのRthの和となることが分かった。したがって、積層光学フィルムのRthの値は、フィルムAとフィルムBのRthを調整することにより制御することができる。
具体的には、フィルムAとフィルムBのRthの正負を逆にすると、両者のRthが相殺し合う結果、積層フィルムのRthの絶対値が小さくなる。
The preferred Rth value of the laminated optical film obtained by laminating the film A and the film B in the present invention is −500 nm or more and 20 nm or less, more preferably −100 nm to 20 nm, and particularly preferably −20 nm to 20 nm. is there.
According to the study by the present inventors, it is found that Rth of the laminated film of film A and film B is the sum of Rth of film A and film B regardless of the value of the crossing angle of the slow axes of both. It was. Therefore, the value of Rth of the laminated optical film can be controlled by adjusting the Rth of film A and film B.
Specifically, if the positive and negative values of Rth of film A and film B are reversed, the Rth of both cancel each other, resulting in a smaller absolute value of Rth of the laminated film.

本発明において、固有複屈折とは、配向に依存した複屈折の大きさを表す値で、下式により定義される。
固有複屈折=npr−nvt
ここで、nprは、一軸性の秩序をもって配向した高分子の配向方向と平行な方向の屈折率、nvtはその配向方向と垂直な方向の屈折率である。
In the present invention, intrinsic birefringence is a value representing the magnitude of birefringence depending on orientation, and is defined by the following equation.
Intrinsic birefringence = npr−nvt
Here, npr is a refractive index in a direction parallel to the alignment direction of the polymer aligned with uniaxial order, and nvt is a refractive index in a direction perpendicular to the alignment direction.

すなわち、本発明において、固有複屈折が負である樹脂とは、樹脂を構成する高分子が一軸性の秩序をもって配向して形成された層に光が入射したとき、前記配向方向の光の屈折率が前記配向方向に直交する方向の光の屈折率より小さくなる樹脂をいう。   That is, in the present invention, a resin having a negative intrinsic birefringence means that when light is incident on a layer formed by orienting polymers constituting the resin in a uniaxial order, the light is refracted in the orientation direction. A resin whose rate is smaller than the refractive index of light in a direction perpendicular to the orientation direction.

次に実施例によって本発明を具体的に説明する。
本発明および実施例で用いた評価法を説明する。
(1)評価方法
Next, the present invention will be described specifically by way of examples.
The evaluation methods used in the present invention and examples will be described.
(1) Evaluation method

(I)分子量の測定
i)スチレン系樹脂(B−1)
GPC(測定装置:東ソー(株)製GPC−8020、検出器:示差屈折検出器(RI)、カラム:昭和電工製Shodex K−805、801連結)を用い、溶媒はクロロホルム、測定温度40℃で、市販標準ポリスチレン換算で質量平均分子量を求める。
ii)アクリル系樹脂(B−2)
東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(HLC−8120+8020)カラムに、東ソー株式会社製TSKスーパーHH−M(2本)とスーパーH2500(1本)を直列に並べ、検出器として示差屈折検出器を用いる。測定試料となるアクリル系樹脂0.02gを20ccのTHF溶媒に溶解し、注入量10ml、展開流量0.3ml/minで、溶出時間と、強度を測定した。ジーエルサイエンス社製の重量平均分子量が既知の単分散のメタクリル系樹脂を標準試料とした検量線を用いて、測定試料のアクリル系樹脂の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)を求め、分子量分布をMw/Mnとして算出する。
(II)共重合割合の測定
i)スチレン−アクリロニトリル共重合体中のアクリロニトリルの共重合割合の測定
試料となるスチレン−アクリロニトリル共重合体を熱プレス機を用いてフィルムに成形し、日本分光社製FT−410を用いて、フィルムの1603cm−1、2245cm−1におけるアクリロニトリル基に由来する吸光度を測定する。アクリロニトリル含量が既知のスチレン−アクリロニトリル共重合体を用いてあらかじめ求めておいたスチレン−アクリロニトリル共重合体内のアクリロニトリル含量と1603cm−1、2245cm−1の吸光度比の関係を用いて、スチレン−アクリロニトリル共重合体中のアクリロニトリル含量を定量する。
ii)スチレン−無水マレイン酸共重合体中の無水マレイン酸の共重合割合の測定
試料となるスチレン−無水マレイン酸共重合体を重クロロホルムに溶解し、日本電子製1H−NMR(JNM ECA−500)を用い、周波数500MHz、室温にてNMR測定を行なった。測定結果より、スチレン単位中のベンゼン環のプロトンピーク(7ppm付近)と無水マレイン酸単位中のアルキル基のプロトンピーク(1〜3ppm付近)の面積比から、試料中のスチレン単位と無水マレイン酸単位のモル比を求める。得られたモル比とそれぞれのモノマー単位の質量比(スチレン単位:無水マレイン酸単位=104:98)から、スチレン−無水マレイン酸共重合体内の無水マレイン酸の共重合割合を求める。
iii)スチレン−メタクリル酸共重合体中のメタクリル酸の共重合割合の測定
試料となるスチレン−メタクリル酸共重合体を重クロロホルムに溶解し、日本電子製1H−NMR(JNM ECA−500)を用い、周波数500MHz、室温にてNMR測定を行なう。測定結果より、スチレン単位中のベンゼン環のプロトンピーク(7ppm付近)とメタクリル酸単位中のアルキル基のプロトンピーク(1〜3ppm付近)の面積比から、試料中のスチレン単位とメタクリル酸単位のモル比を求める。得られたモル比とそれぞれのモノマー単位の質量比(スチレン単位:メタクリル酸単位=104:86)から、スチレン−メタクリル酸共重合体内のメタクリル酸の共重合割合を求める。
(I) Measurement of molecular weight i) Styrene resin (B-1)
GPC (measuring device: GPC-8020 manufactured by Tosoh Corp., detector: differential refraction detector (RI), column: Shodex K-805, 801 linked by Showa Denko) was used, the solvent was chloroform, and the measurement temperature was 40 ° C. The mass average molecular weight is determined in terms of commercially available standard polystyrene.
ii) Acrylic resin (B-2)
Tosoh Corporation Gel Permeation Chromatography (HLC-8120 + 8020) column, Tosoh Corporation TSK Super HH-M (2) and Super H2500 (1) are arranged in series, and a differential refraction detector is used as a detector. Use. 0.02 g of acrylic resin as a measurement sample was dissolved in 20 cc of a THF solvent, and the elution time and strength were measured at an injection amount of 10 ml and a development flow rate of 0.3 ml / min. Using a calibration curve with a monodisperse methacrylic resin of known weight average molecular weight manufactured by GL Sciences as a standard sample, obtain the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the acrylic resin of the measurement sample. The molecular weight distribution is calculated as Mw / Mn.
(II) Measurement of copolymerization ratio i) Measurement of copolymerization ratio of acrylonitrile in styrene-acrylonitrile copolymer A sample styrene-acrylonitrile copolymer was formed into a film using a hot press machine and manufactured by JASCO Corporation. Using FT-410, the absorbance derived from acrylonitrile groups at 1603 cm −1 and 2245 cm −1 of the film is measured. By using the relationship between the acrylonitrile content in the styrene-acrylonitrile copolymer previously determined using a styrene-acrylonitrile copolymer having a known acrylonitrile content and the absorbance ratio of 1603 cm −1 , 2245 cm −1 , the styrene-acrylonitrile copolymer The acrylonitrile content in the coalesced is quantified.
ii) Measurement of copolymerization ratio of maleic anhydride in styrene-maleic anhydride copolymer A styrene-maleic anhydride copolymer as a sample was dissolved in deuterated chloroform, and 1H-NMR (JNM ECA-500 manufactured by JEOL Ltd.) was dissolved. NMR measurement was performed at a frequency of 500 MHz and at room temperature. From the measurement results, the area ratio between the proton peak of the benzene ring in the styrene unit (near 7 ppm) and the proton peak of the alkyl group in the maleic anhydride unit (near 1 to 3 ppm), the styrene unit and maleic anhydride unit in the sample The molar ratio of is determined. From the obtained molar ratio and the mass ratio of each monomer unit (styrene unit: maleic anhydride unit = 104: 98), the copolymerization ratio of maleic anhydride in the styrene-maleic anhydride copolymer is determined.
iii) Measurement of copolymerization ratio of methacrylic acid in styrene-methacrylic acid copolymer Dissolve styrene-methacrylic acid copolymer as a sample in deuterated chloroform, and use 1H-NMR (JNM ECA-500) manufactured by JEOL. NMR measurement is performed at a frequency of 500 MHz and at room temperature. From the measurement results, the molar ratio of the styrene unit and the methacrylic acid unit in the sample was determined from the area ratio of the proton peak of the benzene ring in the styrene unit (around 7 ppm) and the proton peak of the alkyl group in the methacrylic acid unit (around 1 to 3 ppm). Find the ratio. The copolymerization ratio of methacrylic acid in the styrene-methacrylic acid copolymer is determined from the obtained molar ratio and the mass ratio of each monomer unit (styrene unit: methacrylic acid unit = 104: 86).

iv)メタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体中のそれぞれの共重合割合の測定
試料となるメタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体を重クロロホルムに溶解し、日本電子製1H−NMR(JNM ECA−500)を用い、周波数500MHz、室温にてNMR測定を行なう。測定結果より、スチレン単位中のベンゼン環のプロトンピーク(7ppm付近)と無水マレイン酸単位中のアルキル基のプロトンピーク(1〜3ppm付近)とメタクリル酸メチル単位中のメチル基のプロトンピーク(0.5〜1ppm付近)の面積比から、試料中のスチレン単位と無水マレイン酸単位とメタクリル酸メチル単位のモル比を求める。得られたモル比とそれぞれのモノマー単位の質量比(スチレン単位:無水マレイン酸単位:メタクリル酸メチル=104:86:100)から、メタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体中のそれぞれの共重合割合を求める。
iv) Measurement of respective copolymerization ratios in methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymer Methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymer as a sample was dissolved in deuterated chloroform, and 1H- manufactured by JEOL Ltd. NMR measurement is performed using NMR (JNM ECA-500) at a frequency of 500 MHz and at room temperature. From the measurement results, the proton peak of the benzene ring in the styrene unit (around 7 ppm), the proton peak of the alkyl group in the maleic anhydride unit (around 1-3 ppm), and the proton peak of the methyl group in the methyl methacrylate unit (0. The molar ratio of styrene units, maleic anhydride units and methyl methacrylate units in the sample is determined from the area ratio of about 5 to 1 ppm. From the obtained molar ratio and the mass ratio of each monomer unit (styrene unit: maleic anhydride unit: methyl methacrylate = 104: 86: 100), each of the methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymers Obtain the copolymerization ratio.

v)メタクリル酸メチル−6員環構造を有する酸無水物単位−スチレン共重合体中のそれぞれの共重合割合の測定 試料となるメタクリル酸メチル−6員環構造を有する酸無水物単位−スチレン共重合体50mgを重ジメチルスルホキシド(d−DMSO)0.75mLに溶解し、日本電子製1H−NMR(JNM ECA−500)を用い、周波数500MHz、40℃にてNMR測定を行なった。
測定結果より、スチレン単位内のベンゼン環のプロトンピーク(7ppm付近)の積分値、メタクリル酸単位内のカルボン酸のプロトンピーク(12〜13ppm付近)の積分値を求め、これらの値から、スチレン単位に対するメタクリル酸単位のモル比を求める。
次に、2.7〜4ppm付近の複数のピークの積分値の合計から、3.3ppm付近に観測されるDMSO中の水によるピークの積分値を減じることにより、メタクリル酸メチル単位のCOOMe部位のメチル基のプロトンピークの積分値を求め、この値とスチレン単位内のベンゼン環のプロトンピーク(7ppm付近)の積分値とから、スチレン単位に対するメタクリル酸メチル単位のモル比を求める。
スチレン単位に対する6員環構造を有する酸無水物単位のモル比は、次のようにして求める。すなわち、0〜2.2ppm付近の複数のピークは、スチレン単位内の主鎖骨格中に含まれるメチレン基、メタクリル酸単位内の主鎖骨格中に含まれるメチレン基、メタクリル酸単位内の主鎖骨格に直接結合しているメチル基、メタクリル酸メチル単位内の主鎖骨格中に含まれるメチレン基、メタクリル酸メチル単位内の主鎖骨格に直接結合しているメチル基、6員環構造を有する酸無水物単位内の主鎖骨格中に含まれるメチレン基及び、6員環構造を有する酸無水物単位内の6員環中に含まれるメチレン基、及び、6員環構造を有する酸無水物単位内の6員環に直接結合するメチル基に由来するものと認められる。そこで、0〜2.2ppm付近の複数のピークの積分値の合計とスチレン単位内のベンゼン環のプロトンピーク(7ppm付近)の積分値との比率、先に求めたスチレン単位に対するメタクリル酸単位のモル比、及び、先に求めたスチレン単位に対するメタクリル酸メチル単位のモル比を利用して、スチレン単位に対する6員環構造を有する酸無水物単位のモル比を算出する。
このようにして求めたスチレン単位に対する各単位のモル比から、試料中のメタクリル酸メチル単位、一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位、スチレン単位、メタクリル酸単位のモル比を求め、この値と各々のモノマー単位の質量比(メタクリル酸メチル単位:6員環構造を有する酸無水物単位:スチレン単位:メタクリル酸単位=100:154(例えば、耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)1の場合):104:86)から、メタクリル酸メチル−6員環構造を有する酸無水物単位−スチレン共重合体中のそれぞれの共重合割合を求める。
v) Methyl methacrylate—an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure—measurement of respective copolymerization ratios in the styrene copolymer Methyl methacrylate—an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure—styrene copolymer 50 mg of the polymer was dissolved in 0.75 mL of deuterated dimethyl sulfoxide (d-DMSO), and NMR measurement was performed at a frequency of 500 MHz and 40 ° C. using 1H-NMR (JNM ECA-500) manufactured by JEOL.
From the measurement results, the integral value of the proton peak (near 7 ppm) of the benzene ring in the styrene unit and the integral value of the proton peak (near 12-13 ppm) of the carboxylic acid in the methacrylic acid unit were determined, and from these values, the styrene unit The molar ratio of methacrylic acid units to is determined.
Next, by subtracting the integrated value of the peak due to water in DMSO observed near 3.3 ppm from the total integrated value of the plurality of peaks near 2.7 to 4 ppm, the COOMe site of the methyl methacrylate unit is reduced. The integral value of the proton peak of the methyl group is obtained, and the molar ratio of the methyl methacrylate unit to the styrene unit is obtained from this value and the integral value of the proton peak (around 7 ppm) in the styrene unit.
The molar ratio of the acid anhydride unit having a 6-membered ring structure to the styrene unit is determined as follows. That is, a plurality of peaks in the vicinity of 0 to 2.2 ppm are represented by a methylene group contained in the main chain skeleton in the styrene unit, a methylene group contained in the main chain skeleton in the methacrylic acid unit, and a main clavicle in the methacrylic acid unit. It has a methyl group that is directly bonded, a methylene group contained in the main chain skeleton in the methyl methacrylate unit, a methyl group that is directly bonded to the main chain skeleton in the methyl methacrylate unit, and a six-membered ring structure Methylene group contained in main chain skeleton in acid anhydride unit, methylene group contained in 6-membered ring in acid anhydride unit having 6-membered ring structure, and acid anhydride having 6-membered ring structure It is recognized that it is derived from a methyl group directly bonded to the 6-membered ring in the unit. Therefore, the ratio of the sum of the integral values of a plurality of peaks near 0 to 2.2 ppm and the integral value of the proton peak (near 7 ppm) of the benzene ring in the styrene unit, the mole of the methacrylic acid unit relative to the styrene unit previously determined. The molar ratio of the acid anhydride unit having a 6-membered ring structure to the styrene unit is calculated using the ratio and the previously obtained molar ratio of the methyl methacrylate unit to the styrene unit.
From the molar ratio of each unit to the styrene unit thus determined, methyl methacrylate unit in the sample, acid anhydride unit having a 6-membered ring structure represented by the general formula [2], styrene unit, methacrylic acid unit The molar ratio of each of the monomer units (methyl methacrylate unit: acid anhydride unit having a 6-membered ring structure: styrene unit: methacrylic acid unit = 100: 154 (for example, heat-resistant acrylic resin) In the case of (B-2-2-2) 1): 104: 86), the respective copolymerization ratios in the acid anhydride unit-styrene copolymer having a methyl methacrylate-6-membered ring structure are determined.

(III)光学特性の測定
i)固有複屈折値正負の判断 ガラス転移温度以上、ガラス転移温度+50℃以下の範囲内で伸張応力をかけながら延伸を行い、急冷固化し、23℃におけるnpr−nvtを測定する。npr−nvtが負の場合、固有複屈折が負、npr−nvtが正の場合、固有複屈折が正と判断する。
ii)面内レタデーション(Re)の測定
シックネスゲージを用いてフィルムの厚さd(nm)を測定する。この値を大塚電子(株)社製複屈折測定装置RETS−100に入力し、測定面が測定光と垂直になるように試料を配置し、23℃で回転検光子法により面内レタデーション(Re)を測定・算出する。
iii)厚み方向レタデーション(Rth)及びNz係数の測定
Metricon社製レーザー屈折計Model2010を用いて、23℃で光学フィルムの平均屈折率nを測定する。そして、平均屈折率nとフィルム厚さd(nm)を大塚電子(株)社製複屈折測定装置RETS−100に入力し、23℃で厚み方向レタデーション(Rth)、Nz係数を測定・算出する。
(IV)ガラス転移温度(Tg)測定
示差走査熱量計 DSC−7型(パーキン・エルマー社製)を用い、窒素雰囲気下、昇温速度20℃/分で測定した。
(III) Measurement of optical properties i) Judgment of positive or negative intrinsic birefringence value Stretching while applying an extensional stress within the range of the glass transition temperature to the glass transition temperature + 50 ° C or lower, rapidly solidifying, and npr-nvt at 23 ° C. Measure. When npr-nvt is negative, it is determined that the intrinsic birefringence is negative, and when npr-nvt is positive, the intrinsic birefringence is positive.
ii) Measurement of in-plane retardation (Re) The thickness d (nm) of the film is measured using a thickness gauge. This value is input to a birefringence measuring apparatus RETS-100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., a sample is placed so that the measurement surface is perpendicular to the measurement light, and in-plane retardation (Re ) Is measured and calculated.
iii) Measurement of thickness direction retardation (Rth) and Nz coefficient The average refractive index n of the optical film is measured at 23 ° C. using a laser refractometer Model 2010 manufactured by Metricon. And average refractive index n and film thickness d (nm) are inputted into Otsuka Electronics Co., Ltd. birefringence measuring apparatus RETS-100, and thickness direction retardation (Rth) and Nz coefficient are measured and calculated at 23 ° C. .
(IV) Glass transition temperature (Tg) measurement A differential scanning calorimeter DSC-7 type (manufactured by Perkin Elmer) was used and measured at a heating rate of 20 ° C./min in a nitrogen atmosphere.

(2)原料の準備
(I)厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAの準備
i)市販のトリアセチルセルロース(TAC)フィルムA1
トリアセチルセルロースフィルム(富士写真フィルム株式会社製)(100μm)を用いた。固有複屈折値は正であった。
ii)ノルボルネン系樹脂フィルムA2
シクロオレフィン系樹脂フィルムを以下のようにして得た。環状ポリオレフィンとしてエチレンとノルボルネンとの付加重合を行った。これによりエチレン−ノルボルネンランダム共重合体(エチレンの共重合割合:65mol%、MFR:31g/10分、数平均分子量:68000)を製造した。ここで得た樹脂100質量部をシクロヘキサン80質量部、トルエン80質量部、キシレン80質量部の混合溶剤に溶解し、流延法により厚さ100μmのフィルムを作製した。固有複屈折値は正であった。
iii)ノルボルネン系樹脂フィルムA3
ii)と同様にして得たノルボルネン系樹脂を用い、後述の(II)のフィルムBの製造と同様にして、表1の条件で1軸延伸フィルムを作製した。固有複屈折値は正であった。
vi)ポリカーボネート樹脂フィルムA4
ポリビスフェノールAカーボネートフィルムを用いた。固有複屈折値は正であった。
v)ポリカーボネート系樹脂フィルムA5
ポリビスフェノールAカーボネートフィルムを用意した。固有複屈折値は正であった。
(2) Preparation of raw materials (I) Preparation of film A having positive thickness direction retardation (Rth) i) Commercially available triacetyl cellulose (TAC) film A1
A triacetyl cellulose film (Fuji Photo Film Co., Ltd.) (100 μm) was used. The intrinsic birefringence value was positive.
ii) Norbornene resin film A2
A cycloolefin-based resin film was obtained as follows. Addition polymerization of ethylene and norbornene was performed as a cyclic polyolefin. This produced an ethylene-norbornene random copolymer (copolymerization ratio of ethylene: 65 mol%, MFR: 31 g / 10 min, number average molecular weight: 68000). 100 parts by mass of the resin obtained here was dissolved in a mixed solvent of 80 parts by mass of cyclohexane, 80 parts by mass of toluene, and 80 parts by mass of xylene, and a film having a thickness of 100 μm was produced by a casting method. The intrinsic birefringence value was positive.
iii) Norbornene resin film A3
Using the norbornene-based resin obtained in the same manner as in ii), a uniaxially stretched film was produced under the conditions shown in Table 1 in the same manner as in the production of film B in (II) described later. The intrinsic birefringence value was positive.
vi) Polycarbonate resin film A4
A polybisphenol A carbonate film was used. The intrinsic birefringence value was positive.
v) Polycarbonate resin film A5
A polybisphenol A carbonate film was prepared. The intrinsic birefringence value was positive.

(II)厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBの準備
(フィルムBを構成する材料の準備)
i)スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1−1)
攪拌機付き完全混合型反応機に、スチレン72質量%、アクリロニトリル13質量%、エチルベンゼン15質量%からなる単量体混合物を連続的にフイードし、150℃、滞留時間2時間で重合反応を行った。
得られた重合溶液を押出機に連続的に供給し、押出機で未反応単量体、溶媒を回収し、スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1−1)のペレットを得た。
得られたスチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1−1)は無色透明で、組成分析の結果、スチレンの共重合割合80質量%、アクリロニトリルの共重合割合20質量%であり、ASTM−D1238に準拠した220℃、10kg荷重のメルトフローレート値は13g/10分であった。また、その23℃における光弾性係数(未延伸)は、5.0×10−12Pa−1であり、固有複屈折は負であった。
(II) Preparation of film B having negative thickness direction retardation (Rth) (preparation of material constituting film B)
i) Styrene-acrylonitrile copolymer (B-1-1)
A monomer mixture composed of 72% by mass of styrene, 13% by mass of acrylonitrile, and 15% by mass of ethylbenzene was continuously fed into a complete mixing reactor equipped with a stirrer, and a polymerization reaction was performed at 150 ° C. and a residence time of 2 hours.
The obtained polymerization solution was continuously supplied to an extruder, and unreacted monomer and solvent were recovered by the extruder to obtain styrene-acrylonitrile copolymer (B-1-1) pellets.
The obtained styrene-acrylonitrile copolymer (B-1-1) was colorless and transparent, and as a result of compositional analysis, the copolymerization ratio of styrene was 80% by mass, the copolymerization ratio of acrylonitrile was 20% by mass, and conformed to ASTM-D1238. The melt flow rate value at 220 ° C. and 10 kg load was 13 g / 10 min. Further, the photoelastic coefficient (unstretched) at 23 ° C. was 5.0 × 10 −12 Pa −1 and the intrinsic birefringence was negative.

ii)スチレン−メタクリル酸共重合体(B−1−2)
装置の全てがステンレス鋼で製作されているものを用いて、連続溶液重合を行った。スチレン75.2質量%、メタクリル酸4.8質量%、エチルベンゼン20質量%を調合液とし、重合開始剤として1,1−tert−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを用いた。この調合液を1L/hr.の速度で連続して、内容積2Lの攪拌機付きの完全混合重合器へ供給し、136℃で重合を行った。
固形分49%を含有する重合液を連続して取り出し、まず230℃に予熱後、230℃に保温し、20torrに減圧された脱揮器に供給し、平均滞留0.3時間経過後、脱揮器の低部のギヤポンプより連続して排出した。
得られたスチレン−メタクリル酸共重合体(B−1−2)は無色透明で、組成分析の結果、スチレンの共重合割合92質量%、メタクリル酸の共重合割合8質量%であった。ASTM−D1238に準拠して測定した230℃、3.8kg荷重のメルトフローレート値は5.2g/10分であった。また、その23℃における光弾性係数(未延伸)は、4.8×10−12Pa−1であり、固有複屈折は負であった。
ii) Styrene-methacrylic acid copolymer (B-1-2)
Continuous solution polymerization was carried out using all the equipment made of stainless steel. 75.2% by mass of styrene, 4.8% by mass of methacrylic acid, and 20% by mass of ethylbenzene were used as a preparation liquid, and 1,1-tert-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane was used as a polymerization initiator. This prepared solution was added at 1 L / hr. The mixture was continuously fed at a rate of 1 liter to a completely mixed polymerization reactor equipped with a stirrer with an internal volume of 2 L, and polymerization was carried out at 136 ° C.
A polymerization liquid containing 49% of solid content is continuously taken out, first preheated to 230 ° C., kept at 230 ° C., and supplied to a devolatilizer depressurized to 20 torr. It discharged continuously from the gear pump at the lower part of the volatilizer.
The obtained styrene-methacrylic acid copolymer (B-1-2) was colorless and transparent, and as a result of compositional analysis, the copolymerization ratio of styrene was 92% by mass and the copolymerization ratio of methacrylic acid was 8% by mass. The melt flow rate value measured at 230 ° C. under a load of 3.8 kg measured in accordance with ASTM-D1238 was 5.2 g / 10 minutes. The photoelastic coefficient (unstretched) at 23 ° C. was 4.8 × 10 −12 Pa −1 and the intrinsic birefringence was negative.

iii)スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−1−3)
装置の全てがステンレス鋼で製作されているものを用いて、連続溶液重合を行った。スチレン91.7質量部、無水マレイン酸8.3質量部の比率で合計100質量部を準備した。(ただし、両者は混合しない。)メチルアルコール5質量部、重合開始剤として1,1−tert−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.03質量部をスチレンに混合し、第1調合液とした。0.95kg/hr.の速度で連続して内容積4Lのジャケット付き完全混合重合機に供給した。
一方、70℃に加熱した無水マレイン酸を、第二調合液として0.10kg/hr.の速度で同一重合機へ供給し、111℃で重合を行った。重合転化率が54%となったところで、重合液を重合機から連続して取り出し、まず230℃に予熱後、230℃に保温し、20torrに減圧された脱揮器に供給し、平均滞留0.3時間経過後、脱揮器の低部のギヤポンプより連続して排出し、スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−1−3)を得た。
得られたスチレン−無水マレイン酸共重合体(B−1−3)は無色透明で、組成分析の結果、スチレンの共重合割合85質量%、無水マレイン酸単位15質量%であった。ASTM−D1238に準拠して測定した230℃、2.16kg荷重のメルトフローレート値は2.0g/10分であった。また、その23℃における光弾性係数(未延伸)は、4.1×10−12Pa−1であり、固有複屈折は負であった。
iii) Styrene-maleic anhydride copolymer (B-1-3)
Continuous solution polymerization was carried out using all the equipment made of stainless steel. A total of 100 parts by mass was prepared at a ratio of 91.7 parts by mass of styrene and 8.3 parts by mass of maleic anhydride. (However, the two are not mixed.) 5 parts by mass of methyl alcohol and 0.03 parts by mass of 1,1-tert-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane as a polymerization initiator are mixed with styrene. It was set as the preparation liquid. 0.95 kg / hr. Was continuously fed to a jacketed complete mixing polymerization machine having an internal volume of 4 L.
On the other hand, maleic anhydride heated to 70 ° C. was used as the second preparation liquid at 0.10 kg / hr. Was fed to the same polymerization machine at a speed of When the polymerization conversion rate became 54%, the polymerization solution was continuously removed from the polymerization machine, first preheated to 230 ° C., kept at 230 ° C., and supplied to a devolatilizer reduced to 20 torr, with an average retention of 0 After 3 hours, it was continuously discharged from the lower gear pump of the devolatilizer to obtain a styrene-maleic anhydride copolymer (B-1-3).
The obtained styrene-maleic anhydride copolymer (B-1-3) was colorless and transparent. As a result of compositional analysis, the copolymerization ratio of styrene was 85% by mass and the maleic anhydride unit was 15% by mass. The melt flow rate value measured at 230 ° C. under a load of 2.16 kg measured according to ASTM-D1238 was 2.0 g / 10 min. The photoelastic coefficient (unstretched) at 23 ° C. was 4.1 × 10 −12 Pa −1 and the intrinsic birefringence was negative.

iv)アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを単量体成分として含む重合体(B−2−1)
メタクリル酸メチル89.2重量部、アクリル酸メチル5.8重量部、及びキシレン5重量部からなる単量体混合物に、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,3,3−トリメチルシクロヘキサン0.0294重量部、及びn−オクチルメルカプタン0.115重量部を添加し、均一に混合した。この溶液を内容積10リットルの密閉耐圧反応器に連続的に供給し、攪拌下に平均温度130℃、平均滞留時間2時間で重合した後、反応器に接続された貯層に連続的に送り出し、一定条件下で揮発分を除去し、さらに押出機に連続的に溶融状態で移送し、アクリル系樹脂(B−2)(メタクリル酸メチル/アクリル酸メチル共重合体)ペレットを得た。得られた共重合体のアクリル酸メチルの共重合割合は6.0%、重量平均分子量は145,000、ASTM−D1238に準拠して測定した230℃3.8kg荷重のメルトフロー値は1.0g/分であった。固有複屈折値は負であった。
iv) Polymer (B-2-1) containing alkyl acrylate or alkyl methacrylate as monomer component
1,1-di-t-butylperoxy-3,3,3-trimethyl was added to a monomer mixture consisting of 89.2 parts by weight of methyl methacrylate, 5.8 parts by weight of methyl acrylate, and 5 parts by weight of xylene. 0.0294 parts by weight of cyclohexane and 0.115 parts by weight of n-octyl mercaptan were added and mixed uniformly. This solution is continuously supplied to a closed pressure-resistant reactor having an internal volume of 10 liters, polymerized with stirring at an average temperature of 130 ° C. and an average residence time of 2 hours, and then continuously sent to a reservoir connected to the reactor. The volatile matter was removed under certain conditions, and the mixture was continuously transferred to an extruder in a molten state to obtain acrylic resin (B-2) (methyl methacrylate / methyl acrylate copolymer) pellets. The copolymer obtained had a copolymerization ratio of methyl acrylate of 6.0%, a weight average molecular weight of 145,000, and a melt flow value measured at 230 ° C. and a load of 3.8 kg measured in accordance with ASTM-D1238 was 1. It was 0 g / min. The intrinsic birefringence value was negative.

v)耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−1)
特公昭63−1964号公報に記載の方法で、スチレン、メタクリル酸メチル、無水マレイン酸を用いて、メタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体を得た。
得られたメタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体の組成は、メタクリル酸メチル74質量%、無水マレイン酸10質量%、スチレン16質量%であり、共重合体メルトフローレート値(ASTM−D1238;230℃、3.8kg荷重)は1.6g/10分であった。固有複屈折値は負であった。
v) Heat-resistant acrylic resin (B-2-2-1)
A methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymer was obtained using styrene, methyl methacrylate, and maleic anhydride by the method described in Japanese Patent Publication No. 63-1964.
The composition of the obtained methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymer was 74% by mass of methyl methacrylate, 10% by mass of maleic anhydride, and 16% by mass of styrene, and the copolymer melt flow rate value (ASTM- D1238; 230 ° C., 3.8 kg load) was 1.6 g / 10 min. The intrinsic birefringence value was negative.

vi)耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)
1)耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)1(フイルムB8用)
メタクリル酸メチル53質量部、スチレン5質量部、メタクリル酸12質量部、シクロヘキサノール(含有水分量:2%、溶解度パラメーターδ=11.4)30質量部、1,1−ジ(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン50ppm、n−オクチルメルカプタン1400ppmからなる混合液を調製し、10分間窒素ガスをバブリングした。この混合液を内容量3Lのジャケット付完全混合反応機に1.5L/hrの速度で連続供給して重合を行った。重合温度135℃で2時間反応させたところ、重合体は完全に溶解しており、重合液中に含まれる重合体固形分量が40質量%となった。この重合溶液を直ちに連続的に加熱器に通して脱揮タンクに供給した。この脱揮タンク内で、重合溶液を255℃、25Torrで40分間滞留させることにより、未反応単量体類及び溶媒の除去とともに6員環構造を有する酸無水物単位の生成を実施した。未反応単量体類及び溶媒は回収ラインを通じて回収した。
得られた重合体の組成は、メタクリル酸メチル単位70質量%、スチレン単位10質量%、メタクリル酸単位3質量%、6員環構造を有する酸無水物単位17質量%であり、メルトフローレート(ASTM−D1238;230℃、3.8kg荷重)は0.9g/10分、Mw/Mn=1.9であり、Tgは130℃であった。また、その23℃における光弾性係数は、−2.8×10−12/Paであり、固有複屈折は負であった。2)耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)2(フイルムB9用)
メタクリル酸メチル51.8質量部、スチレン3.5質量部、メタクリル酸14.7質量部、シクロヘキサノール30質量部、1,1−ジ(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン50ppm、n−オクチルメルカプタン1500ppmからなる混合液を調製し、10分間窒素ガスをバブリングした。この混合液を内容量3Lのジャケット付完全混合反応機に1.5L/hrの速度で連続供給して重合を行った。重合温度135℃で2時間反応させたところ、重合体は完全に溶解しており、重合液中に含まれる重合体固形分量が40質量%となった。この重合溶液を直ちに連続的に加熱器に通して脱揮タンクに供給した。重この脱揮タンク内で、重合溶液を255℃、25Torrで30分間滞留させることにより、未反応単量体類及び、溶媒の除去とともに6員環構造を有する酸無水物単位の生成を実施した。未反応単量体類及び溶媒は回収ラインを通じて回収した。
得られた重合体の組成は、メタクリル酸メチル単位68.9質量%、スチレン単位6.8質量%、メタクリル酸単位3.2質量%、6員環構造を有する酸無水物単位21.1質量%であり、メルトフローレート(ASTM−D1238;230℃、3.8kg荷重)は0.9g/10分、Mw/Mn=1.9であり、Tgは132℃であった。また、その23℃における光弾性係数は、−2.6×10−12/Paであり、固有複屈折は負であった。
3)耐熱アクリル系樹脂(B−2−2−2)3(フイルムB10用、フィルムB11用)
メタクリル酸メチル35質量部、スチレン21質量部、メタクリル酸14質量部、シクロヘキサノール30質量部、1,1−ジ(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン50ppm、n−オクチルメルカプタン1200ppmからなる混合液を調製し、10分間窒素ガスをバブリングした。この混合液を内容量3Lのジャケット付完全混合反応機に1.5L/hrの速度で連続供給して重合を行った。重合温度135℃で2時間反応させたところ、重合体は完全に溶解しており、重合液中に含まれる重合体固形分量が42質量%となった。この重合溶液を直ちに加熱器に通して、バレル温度255℃に設定し、25Torrに減圧したベント付き二軸押出機に連続的に供給し、未反応単量体類及び溶媒の除去とともに6員環構造を有する酸無水物単位の生成を実施した。未反応単量体類及び溶媒は回収ラインを通じて回収した。得られた重合体を、さらに、50Torrに減圧したベント付き二軸押出機(L/D=67)に通して、未反応単量体類及び溶媒の除去と6員環構造を有する酸無水物単位の生成を完結させた。
得られた重合体の組成は、メタクリル酸メチル単位43質量%、スチレン単位33質量%、メタクリル酸単位7質量%、6員環構造を有する酸無水物単位17質量%であり、メルトフローレート(ASTM−D1238;230℃、3.8kg荷重)は0.6g/10分、Mw/Mn=1.9であり、Tgは136℃であった。また、その23℃における光弾性係数は、−0.1×10−12/Paであり、固有複屈折は負であった
vi) Heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2)
1) Heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) 1 (for film B8)
53 parts by weight of methyl methacrylate, 5 parts by weight of styrene, 12 parts by weight of methacrylic acid, 30 parts by weight of cyclohexanol (water content: 2%, solubility parameter δ = 11.4), 1,1-di (tert-butyl par Oxy) A liquid mixture consisting of 50 ppm of cyclohexane and 1400 ppm of n-octyl mercaptan was prepared, and nitrogen gas was bubbled for 10 minutes. This mixture was continuously fed to a jacketed complete mixing reactor having an internal volume of 3 L at a rate of 1.5 L / hr for polymerization. When the reaction was conducted at a polymerization temperature of 135 ° C. for 2 hours, the polymer was completely dissolved, and the solid content of the polymer contained in the polymerization solution was 40% by mass. This polymerization solution was immediately and continuously passed through a heater and supplied to the devolatilization tank. In this devolatilization tank, the polymerization solution was allowed to stay at 255 ° C. and 25 Torr for 40 minutes, thereby generating an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure along with removal of unreacted monomers and solvent. Unreacted monomers and solvent were recovered through a recovery line.
The composition of the obtained polymer was 70% by mass of methyl methacrylate units, 10% by mass of styrene units, 3% by mass of methacrylic acid units, and 17% by mass of acid anhydride units having a 6-membered ring structure. ASTM-D1238; 230 ° C., 3.8 kg load) was 0.9 g / 10 min, Mw / Mn = 1.9, and Tg was 130 ° C. The photoelastic coefficient at 23 ° C. was −2.8 × 10 −12 / Pa, and the intrinsic birefringence was negative. 2) Heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) 2 (for film B9)
51.8 parts by weight of methyl methacrylate, 3.5 parts by weight of styrene, 14.7 parts by weight of methacrylic acid, 30 parts by weight of cyclohexanol, 50 ppm of 1,1-di (tert-butylperoxy) cyclohexane, 1500 ppm of n-octyl mercaptan A mixed solution was prepared and nitrogen gas was bubbled for 10 minutes. This mixture was continuously fed to a jacketed complete mixing reactor having an internal volume of 3 L at a rate of 1.5 L / hr for polymerization. When the reaction was conducted at a polymerization temperature of 135 ° C. for 2 hours, the polymer was completely dissolved, and the solid content of the polymer contained in the polymerization solution was 40% by mass. This polymerization solution was immediately and continuously passed through a heater and supplied to the devolatilization tank. In this devolatilization tank, the polymerization solution was allowed to stay at 255 ° C. and 25 Torr for 30 minutes, thereby generating unreacted monomers and an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure along with removal of the solvent. . Unreacted monomers and solvent were recovered through a recovery line.
The composition of the obtained polymer was 68.9% by mass of methyl methacrylate units, 6.8% by mass of styrene units, 3.2% by mass of methacrylic acid units, and 21.1% by mass of acid anhydride units having a 6-membered ring structure. The melt flow rate (ASTM-D1238; 230 ° C., 3.8 kg load) was 0.9 g / 10 min, Mw / Mn = 1.9, and Tg was 132 ° C. The photoelastic coefficient at 23 ° C. was −2.6 × 10 −12 / Pa, and the intrinsic birefringence was negative.
3) Heat-resistant acrylic resin (B-2-2-2) 3 (for film B10 and film B11)
A mixed liquid consisting of 35 parts by weight of methyl methacrylate, 21 parts by weight of styrene, 14 parts by weight of methacrylic acid, 30 parts by weight of cyclohexanol, 50 ppm of 1,1-di (tert-butylperoxy) cyclohexane, and 1200 ppm of n-octyl mercaptan is prepared. Then, nitrogen gas was bubbled for 10 minutes. This mixture was continuously fed to a jacketed complete mixing reactor having an internal volume of 3 L at a rate of 1.5 L / hr for polymerization. When the reaction was conducted at a polymerization temperature of 135 ° C. for 2 hours, the polymer was completely dissolved, and the amount of polymer solids contained in the polymerization solution was 42% by mass. This polymerization solution is immediately passed through a heater, set to a barrel temperature of 255 ° C., and continuously supplied to a twin-screw extruder with a vent reduced to 25 Torr, along with removal of unreacted monomers and solvent and a six-membered ring. Generation of an acid anhydride unit having a structure was carried out. Unreacted monomers and solvent were recovered through a recovery line. The obtained polymer was further passed through a vented twin screw extruder (L / D = 67) reduced to 50 Torr to remove unreacted monomers and solvent and an acid anhydride having a 6-membered ring structure. Completed unit generation.
The composition of the obtained polymer was 43% by mass of methyl methacrylate units, 33% by mass of styrene units, 7% by mass of methacrylic acid units, and 17% by mass of acid anhydride units having a 6-membered ring structure. ASTM-D1238; 230 ° C., 3.8 kg load) was 0.6 g / 10 min, Mw / Mn = 1.9, and Tg was 136 ° C. Further, its photoelastic coefficient at 23 ° C. was −0.1 × 10 −12 / Pa, and the intrinsic birefringence was negative.

(フィルムBの製造)
表1に記載の樹脂又は樹脂組成物を用い、テクノベル製Tダイ装着押し出し機(KZW15TW−25MG−NH型/幅150mmTダイ装着/リップ厚0.5mm)を用いて、スクリュー回転数、押し出し機のシリンダー内樹脂温度、Tダイの温度を表1に示す条件に調整し押し出し成形をすることにより未延伸フィルムを得た。フィルムの流れ(押し出し方向)をMD方向、MD方向に垂直な方向をTD方向とした。
そして、一部の未延伸フィルムについては幅が50mmになるように切り出し、表1に示す条件で1軸延伸(チャック間:50mm、チャック移動速度:500mm/分)を引っ張り試験機を用いて行い、1軸延伸フィルムを得た。
さらに、一部の1軸延伸フィルムについては幅が50mmになるように切り出し、表1に示す条件で1軸延伸(チャック間:50mm、チャック移動速度:500mm/分)を引っ張り試験機を用いて行い、未延伸、1軸延伸又は2軸延伸のフィルムB1〜B8を得た。
フィルムA1〜5、B1〜B10の組成、押し出し成形条件、フィルムの厚み、面内レタデーション(Re)、厚み方向レタデーション(Rth)を表1に示す。
(Manufacture of film B)
Using the resin or resin composition shown in Table 1, using a Technobel T-die mounting extruder (KZW15TW-25MG-NH type / width 150 mm T-die mounting / lip thickness 0.5 mm), screw rotation speed, An unstretched film was obtained by adjusting the resin temperature in the cylinder and the temperature of the T die to the conditions shown in Table 1 and performing extrusion molding. The flow (extrusion direction) of the film was defined as the MD direction, and the direction perpendicular to the MD direction was defined as the TD direction.
A part of the unstretched film was cut out to have a width of 50 mm, and uniaxial stretching (between chucks: 50 mm, chuck moving speed: 500 mm / min) was performed using a tensile tester under the conditions shown in Table 1. A uniaxially stretched film was obtained.
Further, some uniaxially stretched films were cut out so that the width was 50 mm, and uniaxially stretched (between chucks: 50 mm, chuck moving speed: 500 mm / min) under the conditions shown in Table 1 using a tensile tester. And unstretched, uniaxially stretched or biaxially stretched films B1 to B8 were obtained.
Table 1 shows the compositions, extrusion molding conditions, film thickness, in-plane retardation (Re), and thickness direction retardation (Rth) of films A1 to B5 and B1 to B10.

Figure 2008216998
Figure 2008216998

[実施例1〜13、比較例1〜2]
表2に示す組み合わせでフィルムA、Bを用い、これらを遅相軸が平行となるように、厚み約20μmのアクリル系粘着剤で貼り合わせることにより積層し、本発明に該当する実施例1〜13の積層光学フィルムを製造した。また、同様にして、比較例1、2の積層光学フィルムを製造した。
表2により、積層フィルムの厚み方向レタデーション(Rth)は、概ね、第1層、第2層のRthの和となり、その結果、本発明に該当する、厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAと、厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBとを積層した実施例1〜13のフィルムは、これらを構成する第1層、第2層の単層フィルムや比較例1、2の積層フィルムと比べて、その厚み方向レタデーション(Rth)の絶対値が小さいことが確認できた。
[Examples 1-13, Comparative Examples 1-2]
Films A and B were used in the combinations shown in Table 2, and these were laminated by pasting them together with an acrylic adhesive having a thickness of about 20 μm so that the slow axes were parallel. Thirteen laminated optical films were produced. Similarly, laminated optical films of Comparative Examples 1 and 2 were produced.
According to Table 2, the thickness direction retardation (Rth) of the laminated film is approximately the sum of the Rth of the first layer and the second layer, and as a result, the thickness A retardation (Rth) corresponding to the present invention is positive. And the film of Examples 1-13 which laminated | stacked the film B with a negative thickness direction retardation (Rth) are the 1st layer which comprises these, the single layer film of a 2nd layer, and the laminated film of Comparative Examples 1 and 2 It was confirmed that the absolute value of the thickness direction retardation (Rth) was smaller than that of.

Figure 2008216998
Figure 2008216998

[実施例14〜17]
表3に示す組み合わせでフィルムA、Bを用い、これらを遅相軸が垂直となるように、厚み約20μmのアクリル系粘着剤で貼り合わせることにより積層し、本発明に該当する実施例14〜17の積層光学フィルムを製造した。
表3により、厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAと、厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBとを積層した実施例12〜15のフィルムは、これらを構成する第1層、第2層の単層フィルムと比べて、その厚み方向レタデーション(Rth)の絶対値が小さいことが確認できた。
[Examples 14 to 17]
Films A and B were used in the combinations shown in Table 3, and these were laminated by pasting them together with an acrylic adhesive having a thickness of about 20 μm so that the slow axis would be vertical. Seventeen laminated optical films were produced.
According to Table 3, the films of Examples 12 to 15 in which the film A having a positive thickness direction retardation (Rth) and the film B having a negative thickness direction retardation (Rth) are laminated are the first layer, the first It was confirmed that the absolute value of the thickness direction retardation (Rth) was smaller than that of the two-layer monolayer film.

Figure 2008216998
Figure 2008216998

本発明の積層光学フィルムは、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、タッチパネル、太陽電池に用いられる透明基盤等や、その他、光通信システム、光交換システム、光計測システム等の分野における、導波路、レンズ、光ファイバー、光ファイバーの被覆材料、LEDのレンズ、レンズカバーなど様々な光学素子を製造するたに使用できる。
特に、本発明の積層光学フィルムは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる偏光板保護フィルムや、1/4波長板、1/2波長板等の位相差板、視野角制御フィルム等の液晶光学補償フィルムを製造するために好適に用いることができる。
とりわけ、本発明の積層光学フィルムは、厚み方向レタデーション(Rth)の絶対値が小さいことが望まれるIPSモードの液晶表示装置用の偏光板保護フィルムや位相差フィルムを製造するために好適に用いることができる。
The laminated optical film of the present invention includes a display front plate, a display substrate, a touch panel, a transparent substrate used for solar cells, etc., and other fields such as an optical communication system, an optical switching system, an optical measurement system, a waveguide, a lens, It can be used to manufacture various optical elements such as optical fibers, optical fiber coating materials, LED lenses, and lens covers.
In particular, the laminated optical film of the present invention is a polarizing plate protective film used for liquid crystal displays, plasma displays, organic EL displays, field emission displays, rear projection televisions, quarter wavelength plates, half wavelength plates. In order to produce a liquid crystal optical compensation film such as a phase difference plate, a viewing angle control film, and the like.
In particular, the laminated optical film of the present invention is preferably used for producing a polarizing plate protective film or retardation film for an IPS mode liquid crystal display device in which the absolute value of the thickness direction retardation (Rth) is desired to be small. Can do.

Claims (15)

厚み方向レタデーション(Rth)が正のフィルムAと、厚み方向レタデーション(Rth)が負のフィルムBとを積層した積層光学フィルム。   A laminated optical film in which a film A having a positive thickness direction retardation (Rth) and a film B having a negative thickness direction retardation (Rth) are laminated. その厚み方向レタデーション(Rth)が−500nm以上20nm以下である請求項1に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to claim 1, wherein the thickness direction retardation (Rth) is from -500 nm to 20 nm. その厚み方向レタデーション(Rth)が−20nm以上20nm以下である請求項1に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to claim 1, wherein the thickness direction retardation (Rth) is -20 nm or more and 20 nm or less. 前記フィルムAと前記フィルムBとを、遅相軸が平行となるように積層した請求項1 〜3のいずれか1項に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the film A and the film B are laminated so that slow axes are parallel to each other. 前記フィルムBが、スチレン系樹脂(B−1)とアクリル系樹脂(B−2)とを含む樹脂組成物からなる請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to any one of claims 1 to 4, wherein the film B comprises a resin composition containing a styrene resin (B-1) and an acrylic resin (B-2). 前記スチレン系樹脂(B−1)が、スチレン−アクリロニトリル共重合体である請求項5に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to claim 5, wherein the styrene resin (B-1) is a styrene-acrylonitrile copolymer. 前記スチレン−アクリロニトリル共重合体のアクリロニトリルの共重合割合が、1〜40質量%である請求項6に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to claim 6, wherein a copolymerization ratio of acrylonitrile in the styrene-acrylonitrile copolymer is 1 to 40% by mass. 前記スチレン系樹脂(B−1)が、スチレン−メタクリル酸共重合体である請求項5に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to claim 5, wherein the styrene resin (B-1) is a styrene-methacrylic acid copolymer. 前記スチレン−メタクリル酸共重合体中のメタクリル酸の共重合割合が、0.1〜50質量%である請求項8に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to claim 8, wherein a copolymerization ratio of methacrylic acid in the styrene-methacrylic acid copolymer is 0.1 to 50% by mass. 前記スチレン系樹脂(B−1)が、スチレン−無水マレイン酸共重合体である請求項5に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to claim 5, wherein the styrene resin (B-1) is a styrene-maleic anhydride copolymer. 前記スチレン−無水マレイン酸共重合体中の無水マレイン酸の共重合割合が、0.1〜50質量%である請求項10に記載の積層光学フィルム。   The laminated optical film according to claim 10, wherein a copolymerization ratio of maleic anhydride in the styrene-maleic anhydride copolymer is 0.1 to 50% by mass. 前記フィルムBが、メタクリル酸エステル及び/又はアクリル酸エステル単位40質量%以上90質量%以下と、芳香族ビニル化合物単位5質量%以上40質量%以下と、下記一般式[1]で表される化合物単位5質量%以上20質量%以下とを含み、下記一般式[1]で表される化合物単位の共重合割合に対する芳香族ビニル単量体単位の共重合割合の比(ビニル芳香族単量体単位の共重合割合/一般式[1]で表される化合物単位の共重合割合)が1倍以上3倍以下である耐熱アクリル系樹脂を含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層光学フィルム。
一般式[1]
Figure 2008216998
(ただし、一般式[1]において、Xは、OまたはN−Rを表す。ここで、Oは酸素原子、Nは窒素原子、Rは水素原子またはアルキル基またはアリール基またはシクロアルカン基である。)
The film B is represented by the following general formula [1]: 40 to 90% by mass of methacrylic acid ester and / or acrylate unit, 5 to 40% by mass of aromatic vinyl compound unit. The ratio of the copolymerization ratio of the aromatic vinyl monomer unit to the copolymerization ratio of the compound unit represented by the following general formula [1] (vinyl aromatic monomer) 5. The heat-resistant acrylic resin containing 1 to 3 times the copolymerization ratio of the body unit / copolymerization ratio of the compound unit represented by the general formula [1]. Laminated optical film.
General formula [1]
Figure 2008216998
(In the general formula [1], X represents O or N—R, where O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, R is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a cycloalkane group. .)
前記フィルムBが、メタクリ酸エステル及び/又はアクリル酸エステル単量体単位30質量%以上80質量%以下と、下記一般式[2]で表される6員環構造を有する酸無水物単位10質量%以上35質量%以下と、芳香族ビニル化合物単位1質量%以上50質量%以下とを含む共重合体である耐熱アクリル系樹脂を含む請求項1〜4のいずれかに1項に記載の積層光学フィルム。
一般式[2]
Figure 2008216998
(ただし、一般式[2]において、R、Rは、それぞれ独立に水素原子又は炭素数が1〜6の置換又は非置換のアルキル基を表し、該アルキル基は、例えば水酸基で置換されていてもよい。)
The film B has a methacrylic acid ester and / or an acrylate monomer unit of 30% by mass to 80% by mass, and an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure represented by the following general formula [2]: 10% by mass The laminate according to any one of claims 1 to 4, comprising a heat-resistant acrylic resin which is a copolymer containing from 1% to 35% by weight and from 1% to 50% by weight of an aromatic vinyl compound unit. Optical film.
General formula [2]
Figure 2008216998
(However, in the general formula [2], R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the alkyl group is substituted with, for example, a hydroxyl group. May be.)
請求項1〜13のいずれか1項に記載の積層光学フィルムからなる偏光板保護フィルム。   A polarizing plate protective film comprising the laminated optical film according to claim 1. 請求項1〜13のいずれか1項に記載の積層光学フィルムからなる位相差フィルム。   A retardation film comprising the laminated optical film according to claim 1.
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