JP2008216364A - Planographic printing original plate - Google Patents

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豊尚 大屋
Toshie Aoshima
青島  俊栄
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a planographic printing original plate excellent in hydrophilicity and its retention property of a non-image portion and plate wear owing to adhesiveness between an image portion and a support, regardless of the raw material of the support substrate. <P>SOLUTION: The planographic printing original plate has a hydrophilic layer and an image forming layer, in this order on a support, the hydrophilic layer comprising chemically bonded polymers having at least one kind of reactive group in reactive groups capable of forming direct chemical bonds to the support surface and reactive groups capable of forming chemical bonds through a structural component having a crosslinking structure with the support surface, and containing a structural unit (i) and a structural unit (ii) in general formula (1). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、平版印刷版原版に関し、詳しくは、非画像部の親水性、及び、画像部の耐刷性に優れた平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly, to a lithographic printing plate precursor excellent in hydrophilicity in a non-image area and printing durability in an image area.

平版印刷版に用いられる平版印刷版用アルミニウム支持体(以下、単に「平版印刷版用支持体」という。)は、平版印刷版の耐刷性を向上させることなどを目的として、アルミニウム板に粗面化処理その他の表面処理を施すことにより製造されている。粗面化処理の方法としては、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(以下「電解粗面化処理」ともいう。)、化学的粗面化処理(化学的エッチング)、さらに、これらの粗面化処理を組み合わせた方法が知られている。
平版印刷版原版では、表面に形成される画像形成層の組成や支持体と画像形成層との密着性が耐刷性に大きな影響を与え、この観点からも、粗面化の状態を制御することで画像形成層との密着性を向上させる技術が一般に採用されている。
なかでも、機械的粗面化処理により比較的大きな凹凸と、それに引き続き行われる電気化学的粗面化処理によるより小さな凹凸を形成することで、画像形成層の密着性、耐刷性やアルミニウム支持体表面の親水性向上を図る技術が有用である。
機械的粗面化処理としては、回転するナイロンブラシとアルミニウム板との間に研磨剤のスラリーを吹き付ける方法が一般的に知られている。また、電解粗面化処理としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法が知られている。
上記平版印刷版用アルミニウム支持体(以下、単に「平版印刷版用支持体」という。)としては、粗面化処理が容易であることから、純アルミニウム板あるいは、アルミニウム純度が99.5%以上で、微量の異元素(例えば、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなど)を含む合金板が使用されている。このように、従来の技術においては、高純度のアルミニウム材を平版印刷版用支持体の原料として用いるのが一般的であった。
An aluminum support for a lithographic printing plate (hereinafter simply referred to as a “lithographic printing plate support”) used in a lithographic printing plate is roughened on an aluminum plate for the purpose of improving the printing durability of the lithographic printing plate. Manufactured by surface treatment or other surface treatment. Examples of the roughening treatment include mechanical roughening treatment, electrochemical roughening treatment (hereinafter also referred to as “electrolytic roughening treatment”), and chemical roughening treatment (chemical etching). Furthermore, a method combining these roughening treatments is known.
In a lithographic printing plate precursor, the composition of the image forming layer formed on the surface and the adhesion between the support and the image forming layer have a great influence on the printing durability. From this viewpoint, the roughening state is controlled. Thus, a technique for improving the adhesion with the image forming layer is generally employed.
Among them, by forming relatively large unevenness by mechanical surface roughening treatment and smaller unevenness by subsequent electrochemical surface roughening treatment, adhesion of image forming layer, printing durability and aluminum support A technique for improving the hydrophilicity of the body surface is useful.
As a mechanical surface roughening treatment, a method of spraying an abrasive slurry between a rotating nylon brush and an aluminum plate is generally known. Further, as an electrolytic surface roughening treatment, a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution is known.
As the above lithographic printing plate aluminum support (hereinafter simply referred to as “lithographic printing plate support”), since it is easy to roughen the surface, the pure aluminum plate or the aluminum purity is 99.5% or more. An alloy plate containing a trace amount of foreign elements (for example, silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium, etc.) is used. As described above, in the prior art, it is common to use a high-purity aluminum material as a raw material for a lithographic printing plate support.

一方、使用済みアルミニウム飲料缶を原料とするアルミニウム地金(Used Beverage Can、以下UBCということがある)などの、アルミニウム純度が95〜99.4質量%のアルミニウム材が、安価な材料として知られている。UBC材は平版印刷版用支持体として使用できれば、安価に製品を製造できる可能性を有しているとともに、リサイクル性が高いことから環境に対する負荷が低減できる材料である。
UCBアルミニウム板に、特定の疎面化処理をして平版印刷版原版用の支持体を製造する方法が開示されている。(例えば、特許文献1参照)。この製造方法では、ナイロンブラシと研磨材による機械的粗面化処理を実施しているが、混在する不純物の影響によって粗面化の処理性が低下し、平版印刷版用支持体として用いるのに適した表面が得られない場合がある。
さらに電気化学的粗面化を実施した場合、不純物金属の偏在する箇所において、該不純物とアルミニウムとの合金部分が剥離して開口部ができ、微細で均一な粗面化を行うことが困難であった。
On the other hand, aluminum materials having an aluminum purity of 95 to 99.4% by mass, such as aluminum bullion made from used aluminum beverage cans (hereinafter sometimes referred to as UBC), are known as inexpensive materials. ing. If the UBC material can be used as a support for a lithographic printing plate, it has the possibility of producing a product at a low cost and is a material that can reduce the burden on the environment because of its high recyclability.
A method for producing a support for a lithographic printing plate precursor by subjecting a UCB aluminum plate to a specific surface-roughening treatment is disclosed. (For example, refer to Patent Document 1). In this manufacturing method, a mechanical surface roughening process is carried out with a nylon brush and an abrasive, but the processability of the surface roughening decreases due to the influence of mixed impurities, and it is used as a support for a lithographic printing plate. A suitable surface may not be obtained.
Furthermore, when electrochemical surface roughening is performed, at the locations where the impurity metal is unevenly distributed, the alloy portion of the impurities and aluminum is peeled off to form an opening, making it difficult to perform fine and uniform surface roughening. there were.

また、支持体表面の親水性向上に関しては、例えば、基板表面に親水性グラフト鎖を有し、かつ、Si,Ti,Zr,Alから選択される金属アルコキシドの加水分解、重縮合により形成された架橋構造を含有することを特徴とする平版印刷版用支持体が開示されている(例えば、特許文献2参照)。該特許文献においては、JIS 1050の高純度アルミニウムを支持体とした場合に、表面親水化に有効であると記載されている。しかしながら、このような表面処理技術は、従来は均質性の高いアルミニウム基板についてのみ検討されてきており、UBCのような低純度アルミニウムに適用して平版印刷版原版用の支持体を製造する態様およびその効果について従来は全く知られていないことから、低純度アルミニウム中に含まれる不純物の影響について従来の技術から予想することは困難である。   Regarding the hydrophilicity of the support surface, for example, it was formed by hydrolysis and polycondensation of a metal alkoxide having a hydrophilic graft chain on the substrate surface and selected from Si, Ti, Zr, and Al. A support for a lithographic printing plate comprising a crosslinked structure is disclosed (for example, see Patent Document 2). The patent document describes that JIS 1050 high-purity aluminum is effective for surface hydrophilization when used as a support. However, such surface treatment technology has been conventionally studied only for highly homogenous aluminum substrates, and is applied to low-purity aluminum such as UBC to produce a support for a lithographic printing plate precursor and The effect of impurities contained in low-purity aluminum is difficult to predict from the prior art because the effect is not known at all.

近年、近赤外から赤外域に発光波長を有するレーザを光源とし、ディジタルデータから直接製版を行うダイレクト刷版用の平版印刷版原版が広く用いられている。これは、従来汎用の紫外線露光により製版する画像形成層に比較し、白灯下の取り扱い性や保存安定性に優れるため、注目されている。
公知のダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版においては、アルカリ水溶液可溶性樹脂としてノボラック樹脂等が使用されている。なかでも、ノボラック樹脂等のフェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸収して熱を発生する物質と、種々のオニウム塩、キノンジアジド化合物類等のようなポジ型感光性化合物を添加した画像形成層を有するものが、高品質の画像が得られる優れた赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版として開示されている(例えば、特許文献3、参照)。
また、ネガ型平版印刷版原版としては、重合開始剤、重合性化合物及び光を吸収して熱を発生する物質を含み、露光領域が重合硬化するラジカル重合型の画像形成層や、熱溶融性の粒子やマイクロカプセルを含み、露光領域が融着して疎水性領域を形成する特に湿式現像処理を必要としない無処理型の画像形成層などを有するものが挙げられる。
2. Description of the Related Art In recent years, lithographic printing plate precursors for direct printing plates in which plate making is performed directly from digital data using a laser having an emission wavelength from the near infrared to the infrared region as a light source have been widely used. This is attracting attention because it is superior in handleability and storage stability under white light compared to a conventional image forming layer that is made by ultraviolet exposure.
In a known positive lithographic printing plate precursor for infrared laser for direct plate making, a novolak resin or the like is used as an alkaline aqueous solution-soluble resin. Among them, substances that generate heat by absorbing light and positive photosensitive compounds such as various onium salts and quinonediazide compounds were added to an aqueous alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group such as a novolak resin. The one having an image forming layer is disclosed as an excellent positive lithographic printing plate precursor for infrared laser from which a high-quality image can be obtained (for example, see Patent Document 3).
In addition, the negative type lithographic printing plate precursor includes a polymerization initiator, a polymerizable compound and a substance that generates light by absorbing light, a radical polymerization type image forming layer in which an exposed region is polymerized and cured, And a non-processing type image forming layer that does not require a wet development process in which an exposed area is fused to form a hydrophobic area.

このような赤外線レーザ用平版印刷版原版は、赤外線レーザ露光により発生した熱が画像形成用のエネルギーとして使用されるが、例えば、アルミニウム基板を用いた場合、熱エネルギーが支持体に拡散するといった問題、或いは、画像形成層に含まれる光熱変換剤に起因して露光に用いる光が画像形成層の深部まで効率よく到達し難いなどの問題があり、支持体との界面における画像形成性、画像部と支持体との密着性に起因する耐刷性、非画像部の汚れ防止性などにおいて、なお、改良の余地があった。
特開2003−39846号公報 特開2003−127561号公報 特開平7−285275号公報
In such a lithographic printing plate precursor for infrared laser, heat generated by infrared laser exposure is used as energy for image formation. For example, when an aluminum substrate is used, thermal energy diffuses to the support. Alternatively, there is a problem that light used for exposure due to the photothermal conversion agent contained in the image forming layer is difficult to reach the deep part of the image forming layer efficiently, and the image forming property at the interface with the support, the image part There is still room for improvement in terms of printing durability due to adhesion between the substrate and the support, and anti-staining properties on non-image areas.
JP 2003-39846 A JP 2003-127561 A JP-A-7-285275

上記課題を考慮した本発明の目的は、支持体基板の素材に拘わらず、非画像部の親水性とその持続性及び画像部と支持体との密着性に起因する耐刷性のいずれにも優れた平版印刷版原版を提供することにある。   The object of the present invention in consideration of the above problems is to provide both the hydrophilicity of the non-image area and its durability, and the printing durability due to the adhesion between the image area and the support, regardless of the material of the support substrate. It is to provide an excellent lithographic printing plate precursor.

本発明者は鋭意研究した結果、支持体表面に、特定の反応性基及び特定の側鎖構造を有する親水性ポリマーが化学結合してなる親水性層を形成させることにより、上記目的を達成しうることを見出し、本発明を完成した。   As a result of diligent research, the present inventor achieved the above object by forming a hydrophilic layer formed by chemically bonding a hydrophilic polymer having a specific reactive group and a specific side chain structure on the support surface. As a result, the present invention was completed.

即ち、本発明は、以下の構成を有する。
<1> 支持体上に、該支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種の反応性基を有し、下記一般式(1)中の構造単位(i)および構造単位(ii)を含むポリマーが化学結合してなる親水性層と、画像形成層とをこの順で有することを特徴とする平版印刷版原版。
That is, the present invention has the following configuration.
<1> On the support, at least one of a reactive group that can be chemically bonded directly to the surface of the support and a reactive group that can be chemically bonded to the support surface through a component having a crosslinked structure. A hydrophilic layer formed by chemically bonding a polymer containing the structural unit (i) and the structural unit (ii) in the following general formula (1), and an image forming layer in this order A lithographic printing plate precursor characterized by that.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

一般式(1)中、R、R、R、及び、Rはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜30の置換基を表し、mは0、1または2を表し、Lは単結合又は有機連結基を表し、Yは、−CO−NH−CO−、−CO−NH−SO−、および、−SO−NH−SO−から選択される構造を少なくとも有する炭素数1ないし30の置換基を表す。ここで、一般式(1)中の構造単位を含むポリマーとは、構造単位(ii)で表される繰返し単位が複数連結してなる構造の末端に、構造単位(i)で表されるシランカップリング基を有する高分子化合物を意味する。
<2> 支持体上に、該支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種の反応性基を有し、下記一般式(2)中の構造単位(iii)および構造単位(iv)を含むポリマーが化学結合してなる親水性層と、画像形成層とをこの順で有することを特徴とする平版印刷版原版。
In General Formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 30 carbon atoms, m represents 0, 1 or 2, and L 1 Represents a single bond or an organic linking group, and Y 1 has at least a structure selected from —CO—NH—CO—, —CO—NH—SO 2 —, and —SO 2 —NH—SO 2 —. A substituent having 1 to 30 carbon atoms is represented. Here, the polymer containing the structural unit in the general formula (1) is a silane represented by the structural unit (i) at the end of a structure in which a plurality of repeating units represented by the structural unit (ii) are connected. It means a polymer compound having a coupling group.
<2> On the support, at least one of a reactive group that can be chemically bonded directly to the surface of the support and a reactive group that can be chemically bonded to the support surface through a component having a crosslinked structure. A hydrophilic layer formed by chemically bonding a polymer containing the structural unit (iii) and the structural unit (iv) in the following general formula (2), and an image forming layer in this order A lithographic printing plate precursor characterized by that.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

一般式(2)において、R、R、R、R、R、およびR10はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜30の置換基を表し、nは0、1または2を表し、Lは単結合又は有機連結基を表し、Yは、−CO−NH−CO−、−CO−NH−SO−、および、−SO−NH−SO−から選択される構造を少なくとも有する炭素数1ないし30の置換基を表す。
<3> 前記支持体がアルミニウム支持体であることを特徴とする<1>または<2>に記載の平版印刷版原版。
<4> 前記アルミニウム支持体を構成するアルミニウムの純度が99.4〜95質量%であることを特徴とする<3>に記載の平版印刷版原版。
<5> 前記支持体がプラスチックフィルム支持体であることを特徴とする<1>または<2>に記載の平版印刷版原版。
<6> 前記架橋構造を有する構成成分が、Si、Ti、Zr、Alから選択される元素を含むアルコキシド化合物の加水分解、縮重合により形成された架橋構造を有することを特徴とする、<1>乃至<5>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
In General Formula (2), R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 30 carbon atoms, and n is 0, 1 or 2 L 2 represents a single bond or an organic linking group, and Y 2 is selected from —CO—NH—CO—, —CO—NH—SO 2 —, and —SO 2 —NH—SO 2 —. Represents a substituent having 1 to 30 carbon atoms and having at least the following structure.
<3> The lithographic printing plate precursor as described in <1> or <2>, wherein the support is an aluminum support.
<4> The lithographic printing plate precursor as described in <3>, wherein the aluminum constituting the aluminum support has a purity of 99.4 to 95% by mass.
<5> The lithographic printing plate precursor as described in <1> or <2>, wherein the support is a plastic film support.
<6> The constituent component having a crosslinked structure has a crosslinked structure formed by hydrolysis and condensation polymerization of an alkoxide compound containing an element selected from Si, Ti, Zr, and Al. <1 > The lithographic printing plate precursor as described in any one of <5>.

<7> 前記画像形成層が、赤外線レーザで記録可能であることを特徴とする<1>乃至<6>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
<8> 前記画像形成層が、赤外線吸収剤を含有することを特徴とする<7>に記載の平版印刷版原版。
<9> 前記画像形成層が、2層以上の積層構造を有することを特徴とする<1>至<8>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
<10> 前記画像形成層が、ノボラック樹脂を含有するポジ型画像形成層であることを特徴とする<1>乃至<9>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
<11> 前記ポジ型画像形成層が、全アルカリ可溶性樹脂に対してノボラック樹脂を50質量%以上含むアルカリ可溶性樹脂と、スルホニウム化合物またはアンモニウム化合物と、を含有することを特徴とする<10>に記載の平版印刷版原版。
<7> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <6>, wherein the image forming layer is recordable with an infrared laser.
<8> The lithographic printing plate precursor as described in <7>, wherein the image forming layer contains an infrared absorber.
<9> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <8>, wherein the image forming layer has a laminated structure of two or more layers.
<10> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <9>, wherein the image forming layer is a positive image forming layer containing a novolak resin.
<11> The <10>, wherein the positive type image forming layer contains an alkali-soluble resin containing 50% by mass or more of a novolak resin with respect to the total alkali-soluble resin, and a sulfonium compound or an ammonium compound. The lithographic printing plate precursor described.

本発明の作用機構は明確ではないが、親水性層を形成する、側鎖に特定の置換基を有するポリマーが、その分子内にさらにアルミニウム基材表面に直接化学結合するか、或いは、架橋構造を有する構成成分を介して化学結合し得る反応性基を有するため、該ポリマーがそのアルミニウム基材表面に存在する−Al3+或いは−OH等の官能基と強固に結合され、このため、このポリマーにより形成される親水性層と支持体との密着性とその耐久性が良好であるものと推定される。
さらに、側鎖に存在する特定の置換基(−CO−NH−CO−、−CO−NH−SO−、又は、−SO−NH−SO−)に由来して、支持体に結合されたポリマーが優れた親水性を有し、いずれの支持体を用いた場合であっても、優れた親水性をその表面に付与することができるものと考えられ、本発明の好ましい態様においては、末端に反応性基を有する親水性ポリマーを用いることで、このポリマーが、支持体表面に片末端で強固に固定化されながら、他端が比較的自由な状態で存在し、ポリマーの運動性に優れるため、親水性の一層の向上を図ることができるものと推定される。
平版印刷版原版の画像形成層としては、現像の際に露光部が可溶化するポジ型および、露光部が不溶化するネガ型が知られており、本発明においては、ポジ型、ネガ型のいずれの画像形成層を有する場合においても優れた効果を奏するが、本発明における特定親水層はアルカリ水溶液との接触により親水性のさらなる向上が可能であるため、ポジ型画像形成層を有する平版印刷版原版に特に好ましく用いることができる。
Although the mechanism of action of the present invention is not clear, the polymer having a specific substituent in the side chain that forms the hydrophilic layer is chemically bonded directly to the surface of the aluminum substrate in the molecule, or has a crosslinked structure. Since the polymer has a reactive group that can be chemically bonded via a constituent component, the polymer is firmly bonded to a functional group such as -Al 3+ or -OH present on the surface of the aluminum base. It is presumed that the adhesion between the hydrophilic layer formed by the substrate and the support and the durability thereof are good.
Furthermore, it binds to the support derived from a specific substituent (—CO—NH—CO—, —CO—NH—SO 2 —, or —SO 2 —NH—SO 2 —) present in the side chain. In the preferred embodiment of the present invention, it is considered that the obtained polymer has excellent hydrophilicity, and even when any support is used, excellent hydrophilicity can be imparted to the surface. By using a hydrophilic polymer having a reactive group at the end, this polymer is firmly fixed to the support surface at one end, while the other end exists in a relatively free state, and the mobility of the polymer Therefore, it is presumed that the hydrophilicity can be further improved.
As an image forming layer of a lithographic printing plate precursor, a positive type in which an exposed portion is solubilized during development and a negative type in which an exposed portion is insoluble are known. In the present invention, either a positive type or a negative type is known. In the case of having an image forming layer, the lithographic printing plate having a positive image forming layer can be obtained because the specific hydrophilic layer in the present invention can be further improved in hydrophilicity by contact with an aqueous alkali solution. It can be particularly preferably used for the original plate.

本発明によれば、支持体基板の素材に拘わらず、非画像部の親水性とその持続性及び画像部と支持体との密着性に起因する耐刷性のいずれにも優れた平版印刷版原版を提供することができる。   According to the present invention, the lithographic printing plate is excellent in both the hydrophilicity of the non-image area and its durability and the printing durability resulting from the adhesion between the image area and the support, regardless of the material of the support substrate. An original version can be provided.

[平版印刷版原版]
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、該支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、或いは、基材表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種と、以下に詳述する特定の親水性官能基とを有する親水性ポリマーが化学結合してなる親水性層と、画像形成層と、をこの順に有することを特徴とする。
ここで、支持体と親水性層と画像形成層とをこの順に有するとは、支持体上にこれらの層がこの順で積層されていることを意味し、必要に応じて設けられる層、例えば、バックコート層、下塗り層、オーバーコート層などの公知の層の存在を否定するものではない。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a reactive group that can be directly chemically bonded to the surface of the support on the support, or a reactive group that can be chemically bonded to the substrate surface via a component having a crosslinked structure. A hydrophilic layer formed by chemically bonding a hydrophilic polymer having at least one of the above and a specific hydrophilic functional group described in detail below, and an image forming layer in this order. .
Here, having a support, a hydrophilic layer, and an image forming layer in this order means that these layers are laminated in this order on the support, and a layer provided as necessary, for example, The existence of known layers such as a backcoat layer, an undercoat layer and an overcoat layer is not denied.

以下、これらの構成について順次説明する。
<支持体>
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体は寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、耐久性、可撓性などの特性を有するものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリイミド等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙やプラスチックフィルム等が挙げられる。
なかでも、支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が特に好ましい。
また、通常、プラスチックフィルムは表面の親水性に劣るものが多いが、以下に詳述する本発明に係る特定親水層をその表面に形成することで、例えば、疎水性のプラスチックフィルムを支持体に用いた場合でも、平版印刷版原版用支持体に要求される優れた親水性とその持続性とを与えることができるため、本発明の平版印刷版原版によれば、支持体基材の選択の幅が拡がるという利点をも有するものである。
Hereinafter, these configurations will be sequentially described.
<Support>
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a dimensionally stable plate-like material, and is not particularly limited as long as it has necessary strength, durability, flexibility, and the like. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) , Cellulose acetate propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, polyimide, etc.), and paper or plastic films on which the above metals are laminated or deposited Cited .
Among them, as the support, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable.
Usually, plastic films are often inferior in surface hydrophilicity, but by forming a specific hydrophilic layer according to the present invention described below in detail on the surface, for example, a hydrophobic plastic film is used as a support. Even when it is used, it can provide excellent hydrophilicity and sustainability required for a support for a lithographic printing plate precursor. Therefore, according to the lithographic printing plate precursor of the present invention, it is possible to select a support substrate. It also has the advantage that the width is increased.

支持体基材としてプラスチックフィルムを用いる場合には、表面処理を行うことによって、フィルム基材と後述する特定親水層との接着性をより向上させることができる。表面処理の例としては、例えば、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、10−3〜20Torrの低圧ガス下でおこる低温プラズマによる処理でもよく、さらに、大気圧下でのプラズマ処理も好ましく用いられる。プラズマ処理に用いられるプラズマ励起性気体は、上記のような圧力条件下でプラズマ励起される気体であればいずれのものでもよく、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)30頁〜32頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば10〜1000keV下で20〜500kgyの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは30〜500keV下で20〜300kgyの照射エネルギーが用いられる。 When a plastic film is used as the support substrate, the adhesion between the film substrate and the specific hydrophilic layer described later can be further improved by performing a surface treatment. As examples of the surface treatment, for example, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be used. The glow discharge treatment here may be a treatment with low-temperature plasma that occurs under a low pressure gas of 10 −3 to 20 Torr, and plasma treatment under atmospheric pressure is also preferably used. The plasma-excitable gas used for the plasma treatment may be any gas that is plasma-excited under the pressure conditions as described above, for example, argon, helium, neon, krypton, xenon, nitrogen, carbon dioxide, Examples thereof include chlorofluorocarbons such as tetrafluoromethane and mixtures thereof. Details of these are described in detail in pages 30 to 32 of the Japan Society of Invention Disclosure Technical Bulletin (Public Technical Number 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Institute of Invention). Note that, in the plasma treatment at atmospheric pressure which has been attracting attention in recent years, for example, irradiation energy of 20 to 500 kgy is used under 10 to 1000 keV, and more preferably irradiation energy of 20 to 300 kgy is used under 30 to 500 keV.

好適なアルミニウム板は、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は総量で5質量%以下であることが好ましい。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。   A suitable aluminum plate is an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The total content of foreign elements in the alloy is preferably 5% by mass or less. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

<アルミニウム板>
本発明に用いられるアルミニウム板について説明する。
本発明のアルミニウム板に用いるアルミニウム材の組成は既知のいかなるものであってもよく、一般に汎用の高純度アルミニウム基板に加え、例えば、アルミニウム含有量が99.4〜95質量%である如き、比較的低純度のアルミニウム基板も、同様に好ましく用いることができる。
従って、本発明における支持体として、通常、高品質の印刷版には適用し難い、使用済みアルミニウム飲料缶を溶解させたUBC(Used Beverage Can:使用済み飲料缶)地金を圧延して得られるアルミニウム材、あるいは、UBC地金を他のアルミニウム地金とを任意の割合で混合して調整した材料をも好適に用いることができる。
<Aluminum plate>
The aluminum plate used in the present invention will be described.
The composition of the aluminum material used for the aluminum plate of the present invention may be any known one. In general, in addition to a general-purpose high-purity aluminum substrate, for example, the aluminum content is 99.4 to 95% by mass. Similarly, a low-purity aluminum substrate can be preferably used.
Therefore, as a support in the present invention, it is usually difficult to apply to a high-quality printing plate, and is obtained by rolling a UBC (Used Beverage Can) ingot in which a used aluminum beverage can is dissolved. An aluminum material or a material prepared by mixing UBC ingots with other aluminum ingots at an arbitrary ratio can also be suitably used.

一般に、アルミニウム板に含まれてもよい異元素には、例えば、ケイ素、鉄、銅、チタン、ガリウム、バナジウム、亜鉛、クロム、ジルコニウム、バリウム、コバルト等があり、合金中の異元素の含有量は5質量%以下である。
アルミニウム合金に含有される不可避不純物としては、例えば、鉛、ニッケル、スズ、インジウム、ホウ素等が挙げられる。
Generally, the foreign elements that may be contained in the aluminum plate include, for example, silicon, iron, copper, titanium, gallium, vanadium, zinc, chromium, zirconium, barium, cobalt, etc., and the content of the foreign elements in the alloy Is 5% by mass or less.
Examples of inevitable impurities contained in the aluminum alloy include lead, nickel, tin, indium, and boron.

アルミニウム板に含まれる異元素とその含有量としては、好ましくは、Fe:0.3〜1質量%、Si:0.15〜1質量%、Cu:0.1〜1質量%、Mg:0.1〜1.5質量%、Mn:0.1〜1.5質量%、Zn:0.1〜1.5質量%、Cr:0.01〜0.1質量%、Ti:0.01〜0.5質量%であり、さらに好ましくは、Fe含有量が0.30超〜0.70質量%、Si含有量が0.20〜0.50質量%、Cu含有量が0.10〜0.50質量%、Ti含有量が0.02〜0.3質量%、Mg含有量が0.50〜1.5質量%、Mn含有量が0.1〜1.3質量%であり、Cr含有量が0.01〜0.08質量%、Zn含有量が0.1〜1.3質量%であり、さらに、不可避不純物が含まれてもよいが、アルミニウム含有量は、95質量%以上であることが好ましく、アルミニウム含有量が95〜99.4質量%の範囲のものも好適に用いられる。   The foreign elements contained in the aluminum plate and the content thereof are preferably Fe: 0.3-1% by mass, Si: 0.15-1% by mass, Cu: 0.1-1% by mass, Mg: 0 0.1-1.5% by mass, Mn: 0.1-1.5% by mass, Zn: 0.1-1.5% by mass, Cr: 0.01-0.1% by mass, Ti: 0.01 More preferably, the Fe content is more than 0.30 to 0.70 mass%, the Si content is 0.20 to 0.50 mass%, and the Cu content is 0.10 to 0.10 mass%. 0.50 mass%, Ti content is 0.02-0.3 mass%, Mg content is 0.50-1.5 mass%, Mn content is 0.1-1.3 mass%, The Cr content is 0.01 to 0.08% by mass, the Zn content is 0.1 to 1.3% by mass, and inevitable impurities may be included. The amount is preferably at least 95 mass%, aluminum content can also be preferably used in the range of 95 to 99.4 wt%.

特に好ましくは、Fe含有量が0.40超〜0.50質量%、Si含有量が0.25超〜0.30質量%、Cu含有量が0.10〜0.15質量%、Ti含有量が0.02〜0。05質量%、Mg含有量が0.80〜1.5質量%、Mn含有量が0.10〜1.00質量%であり、Cr含有量が0.01〜0.05質量%、Zn含有量が0.1〜0.3質量%、残部がAl含有量95〜99.4質量%と不可避不純物とからなるアルミニウム板が用いられる。   Particularly preferably, the Fe content is more than 0.40 to 0.50% by mass, the Si content is more than 0.25 to 0.30% by mass, the Cu content is 0.10 to 0.15% by mass, and Ti is contained. The amount is 0.02 to 0.05 mass%, the Mg content is 0.80 to 1.5 mass%, the Mn content is 0.10 to 1.00 mass%, and the Cr content is 0.01 to An aluminum plate having 0.05% by mass, Zn content of 0.1 to 0.3% by mass and the balance of Al content of 95 to 99.4% by mass and inevitable impurities is used.

アルミニウム板中の異元素は、電気化学的粗面化処理において生成するピットの均一性に大きく影響し、耐刷性、耐汚れ性および露光安定性を高い水準でバランスよく実現することができる均一なピットが生成を生成させるためには、異元素の種類、添加量等の高度な調整が必要である。本発明によれば、特定の側鎖構造を有する高親水性ポリマーからなる親水性層の機能により、樹脂などの有機高分子を使用した支持体や異元素の含有量が多いアルミニウム材により形成された支持体を使用した場合においても、良好な印刷性能を与える優れた平版印刷版原版を作成することが可能である。   Different elements in the aluminum plate have a significant effect on the uniformity of the pits generated in the electrochemical surface roughening treatment, and can achieve a good balance between printing durability, stain resistance and exposure stability. In order for the pits to generate, it is necessary to make advanced adjustments such as the type of different elements and the amount added. According to the present invention, a hydrophilic layer made of a highly hydrophilic polymer having a specific side chain structure is used to form a support using an organic polymer such as a resin or an aluminum material with a high content of foreign elements. Even when the support is used, it is possible to produce an excellent lithographic printing plate precursor that gives good printing performance.

以下に、本発明の支持体形成に用いられるアルミニウム材に含まれていてもよい異元素の好ましい含有量と、支持体を作成する際の影響について詳細に説明する。   Below, the preferable content of the different element which may be contained in the aluminum material used for the support body formation of this invention, and the influence at the time of producing a support body are demonstrated in detail.

Feは、新地金においても0.1〜0.2質量%前後含有される元素で、アルミニウム中に固溶する量は少なく、ほとんどが金属間化合物として残存する。Feは、アルミニウム板の機械的強度を高める作用があるが、1質量%より多いと圧延途中に割れが発生しやすくなり、また、Fe含有量が0.15質量%未満では、機械的強度が保てなくなり、これにより圧延途中で得率低下等の問題が生じる場合がある。
本発明においては、Fe含有量は、0.3〜1質量%である。好ましくは、0.30超〜0.70質量%、より好ましくは、0.30超〜0.50質量%である。
Fe is an element contained in a new metal in the range of about 0.1 to 0.2% by mass, and the amount dissolved in aluminum is small, and most remains as an intermetallic compound. Fe has an effect of increasing the mechanical strength of the aluminum plate. However, if it is more than 1% by mass, cracking is likely to occur during rolling, and if the Fe content is less than 0.15% by mass, the mechanical strength is low. As a result, problems such as a decrease in yield may occur during rolling.
In the present invention, the Fe content is 0.3 to 1% by mass. Preferably, it is more than 0.30 to 0.70% by mass, and more preferably more than 0.30 to 0.50% by mass.

Siは、新地金においても0.02〜0.1質量%前後含有される元素である。Siはアルミニウム中に固溶した状態で、または、金属間化合物もしくは単独の析出物として在する。また、平版印刷版用支持体の製造過程で加熱されると、固溶していたSiが単体iとして析出することがある。本発明者らの知見によれば、単体Siが過剰の場合、固溶ていたSiが単体Siとして析出しやすく耐苛酷インキ汚れ性が低下する場合がある。
また、Si含有量は、アルミニウム板の電気化学的粗面化に影響を及ぼし、0.03質量%未満では、電気化学的粗面化処理においてピットが溶解し均一な表面構造とならない場合がある。
本発明においては、Si含有量は、0.15〜1質量%である。好ましくは0.20〜0.50質量%、より好ましくは、0.20超〜0.40質量%である。
Si is an element contained in the new metal also in the range of about 0.02 to 0.1% by mass. Si exists as a solid solution in aluminum or as an intermetallic compound or a single precipitate. Further, when heated during the production process of a lithographic printing plate support, Si that has been dissolved may precipitate as a simple substance i. According to the knowledge of the present inventors, when the elemental Si is excessive, the solid solution Si is likely to precipitate as the elemental Si, and the severe ink stain resistance may be lowered.
Further, the Si content affects the electrochemical surface roughening of the aluminum plate, and if it is less than 0.03% by mass, the pits may be dissolved in the electrochemical surface roughening treatment and a uniform surface structure may not be obtained. .
In the present invention, the Si content is 0.15 to 1% by mass. Preferably it is 0.20 to 0.50 mass%, More preferably, it is more than 0.20 to 0.40 mass%.

CuはJIS2000系、4000系材料のスクラップに多く含まれる元素であり、比較的Al中に固溶しやすい。
Cuの含有量は、電気化学的粗面化処理に大きく影響する。特に、硝酸を含有する電解液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理(以下、単に「硝酸交流電解」という。)では、Cuの含有量が0.0001質量%より少ないと電解の温度変動に対してラチチュードが狭くなる場合がある。
Cuの含有量は、0.1〜1質量%である。好ましくは、0.10〜0.50質量%より好ましくは、0.10〜0.30質量%である。
Cu is an element contained in a lot of scraps of JIS 2000 series and 4000 series materials, and is relatively easily dissolved in Al.
The Cu content greatly affects the electrochemical surface roughening treatment. In particular, in an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in an electrolytic solution containing nitric acid (hereinafter simply referred to as “nitric acid alternating current electrolysis”), if the Cu content is less than 0.0001% by mass, electrolysis is performed. The latitude may become narrower with respect to temperature fluctuations.
Content of Cu is 0.1-1 mass%. Preferably, it is 0.10-0.50 mass%, More preferably, it is 0.10-0.30 mass%.

Tiは通常結晶微細化材として0.005〜0.04質量%添加される元素である。JIS5000系、6000系、7000系のスクラップには不純物金属として比較的多めに含まれる。Tiの含有量は、結晶微細化の程度(アルミニウム板の結晶粒の大きさの程度)および電気化学的粗面化に影響する。Tiの含有量が0.0010質量%より少ないと結晶微細化の効果がみられない場合がある。
Tiの含有量は0.01〜0.5質量%である。好ましくは、0.02〜0.3質量%、より好ましくは、0.02〜0.05質量%である。
Ti is an element that is usually added in an amount of 0.005 to 0.04 mass% as a crystal refining material. JIS 5000 series, 6000 series, and 7000 series scraps contain relatively large amounts of impurity metals. The Ti content affects the degree of crystal refinement (the degree of crystal grain size of the aluminum plate) and the electrochemical surface roughening. If the Ti content is less than 0.0010% by mass, the effect of crystal refining may not be observed.
The Ti content is 0.01 to 0.5% by mass. Preferably, it is 0.02-0.3 mass%, More preferably, it is 0.02-0.05 mass%.

Mgの含有量は、電気化学的粗面化処理に影響する。Mgの含有量が0.0001質量%より少ないと硝酸交流電解において未エッチ部が生じやすい。
Mgの含有量は0.1〜1.5質量%である。好ましくは、0.30〜1.5質量%、より好ましくは、0.50〜1.35質量%である。
The Mg content affects the electrochemical surface roughening treatment. If the Mg content is less than 0.0001% by mass, an unetched part is likely to occur in nitric acid AC electrolysis.
The content of Mg is 0.1 to 1.5% by mass. Preferably, it is 0.30-1.5 mass%, More preferably, it is 0.50-1.35 mass%.

Mnの含有量は、電気化学的粗面化処理に影響する。Mnの含有量が0.0001質量%より少ないと塩酸交流電解において未エッチ部が生じやすい。
Mnの含有量は0.1〜1.5質量%である。好ましくは、0.30〜1.40質量%、より好ましくは、0.50〜1.30質量%である。
The Mn content affects the electrochemical surface roughening treatment. If the Mn content is less than 0.0001% by mass, an unetched portion is likely to occur in hydrochloric acid alternating current electrolysis.
The Mn content is 0.1 to 1.5% by mass. Preferably, it is 0.30-1.40 mass%, More preferably, it is 0.50-1.30 mass%.

CrおよびZnは、それぞれ0.00005質量%以上の添加で、耐苛酷インキ汚れを向上させる効果を示し、電解粗面化処理後にアルミニウム溶解量が少ないアルカリエッチング処理を行う場合、そのアルカリエッチング処理後の表面構造に影響を与える。即ち、これらは、極小エッチングでの微細構造に影響する。CrはJISA5000系、6000系、7000系のスクラップに少量含まれる異元素である。
また、これらの含有量が多すぎると、効果が飽和し、かつ、コスト的に不利になるので好ましくない。本発明においては、Cr含有量は0.01〜0.1質量%であり、好ましくは、0.01〜0.08質量%、より好ましくは、Cr含有量が0.01〜0.05質量%である。
Zn含有量は0.1〜1.5質量%である。好ましくは、0.1〜1.3質量%、より好ましくは、0.1〜0.3質量%である。
When Cr and Zn are added in an amount of 0.00005% by mass or more, the effect of improving the resistance to severe ink stains is exhibited. Affects the surface structure. That is, they affect the microstructure in minimal etching. Cr is a foreign element contained in a small amount in JIS A5000-series, 6000-series, and 7000-series scraps.
Moreover, when there is too much these content, since an effect will be saturated and it will become disadvantageous in cost, it is unpreferable. In the present invention, the Cr content is 0.01 to 0.1% by mass, preferably 0.01 to 0.08% by mass, and more preferably the Cr content is 0.01 to 0.05% by mass. %.
Zn content is 0.1-1.5 mass%. Preferably, it is 0.1-1.3 mass%, More preferably, it is 0.1-0.3 mass%.

アルミニウム合金を板材とするには、例えば、下記の方法を採用することができる。まず、所定の合金成分含有量に調整したアルミニウム合金溶湯に、常法に従い、清浄化処理を行い、鋳造する。清浄化処理には、溶湯中の水素等の不要ガスを除去するために、フラックス処理、アルゴンガス、塩素ガス等を用いる脱ガス処理、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォームフィルタ等のいわゆるリジッドメディアフィルタや、アルミナフレーク、アルミナボール等をろ材とするフィルタや、グラスクロスフィルタ等を用いるフィルタリング処理、あるいは、脱ガス処理とフィルタリング処理を組み合わせた処理が行われる。   In order to use an aluminum alloy as a plate material, for example, the following method can be employed. First, a molten aluminum alloy adjusted to a predetermined alloy component content is subjected to a cleaning process and cast according to a conventional method. In the cleaning process, in order to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, flux treatment, degassing process using argon gas, chlorine gas, etc., so-called rigid media filter such as ceramic tube filter, ceramic foam filter, A filtering process using a filter that uses alumina flakes, alumina balls or the like as a filter medium, a glass cloth filter, or a combination of a degassing process and a filtering process is performed.

これらの清浄化処理は、溶湯中の非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥や、溶湯に溶け込んだガスによる欠陥を防ぐために実施されることが好ましい。溶湯のフィルタリングに関しては、特開平6−57432号、特開平3−162530号、特開平5−140659号、特開平4−231425号、特開平4−276031号、特開平5−311261号、特開平6−136466号の各公報等に記載されている。また、溶湯の脱ガスに関しては、特開平5−51659号公報、実開平5−49148号公報等に記載されている。本願出願人も、特開平7−40017号公報において、溶湯の脱ガスに関する技術を提案している。   These cleaning treatments are preferably performed in order to prevent defects caused by foreign matters such as non-metallic inclusions and oxides in the molten metal and defects caused by gas dissolved in the molten metal. Regarding filtering of the molten metal, JP-A-6-57432, JP-A-3-162530, JP-A-5-140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-276031, JP-A-5-311261, JP-A-5-311261 6-136466 and the like. Further, the degassing of the molten metal is described in JP-A-5-51659, Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-49148, and the like. The applicant of the present application has also proposed a technique relating to degassing of molten metal in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-40017.

ついで、上述したように清浄化処理を施された溶湯を用いて鋳造を行う。鋳造方法に関しては、DC鋳造法に代表される固体鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代表される駆動鋳型を用いる方法がある。
DC鋳造においては、冷却速度が0.5〜30℃/秒の範囲で凝固する。1℃未満であると粗大な金属間化合物が多数形成されることがある。DC鋳造を行った場合、板厚300〜800mmの鋳塊を製造することができる。その鋳塊を、常法に従い、必要に応じて面削を行い、通常、表層の1〜30mm、好ましくは1〜10mmを切削する。その前後において、必要に応じて、均熱化処理を行う。均熱化処理を行う場合、金属間化合物が粗大化しないように、450〜620℃で1〜48時間の熱処理を行う。熱処理が1時間より短い場合には、均熱化処理の効果が不十分となることがある。なお、均熱処理を行わない場合には、コストを低減させることができるという利点がある。
Next, casting is performed using the molten metal that has been cleaned as described above. As for the casting method, there are a method using a solid mold typified by a DC casting method and a method using a driving mold typified by a continuous casting method.
In DC casting, solidification occurs at a cooling rate in the range of 0.5 to 30 ° C./second. When the temperature is less than 1 ° C., many coarse intermetallic compounds may be formed. When DC casting is performed, an ingot having a thickness of 300 to 800 mm can be produced. The ingot is chamfered as necessary according to a conventional method, and usually 1 to 30 mm, preferably 1 to 10 mm, of the surface layer is cut. Before and after that, soaking treatment is performed as necessary. When performing the soaking process, heat treatment is performed at 450 to 620 ° C. for 1 to 48 hours so that the intermetallic compound does not become coarse. If the heat treatment is shorter than 1 hour, the effect of soaking may be insufficient. In addition, when soaking is not performed, there is an advantage that the cost can be reduced.

その後、熱間圧延、冷間圧延を行ってアルミニウム板の圧延板とする。熱間圧延の開始温度は350〜500℃が適当である。熱間圧延の前もしくは後、またはその途中において、中間焼鈍処理を行ってもよい。中間焼鈍処理の条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて280〜600℃で2〜20時間、好ましくは350〜500℃で2〜10時間加熱するか、連続焼鈍炉を用いて400〜600℃で6分以下、好ましくは450〜550℃で2分以下加熱するかである。連続焼鈍炉を用いて10〜200℃/秒の昇温速度で加熱して、結晶組織を細かくすることもできる。   Then, hot rolling and cold rolling are performed to obtain a rolled aluminum plate. An appropriate starting temperature for hot rolling is 350 to 500 ° C. An intermediate annealing treatment may be performed before or after hot rolling or in the middle thereof. The conditions for the intermediate annealing treatment are heating at 280 to 600 ° C. for 2 to 20 hours, preferably 350 to 500 ° C. for 2 to 10 hours using a batch annealing furnace, or 400 to 600 ° C. using a continuous annealing furnace. Heating is performed for 6 minutes or less, preferably 450 to 550 ° C. for 2 minutes or less. The crystal structure can be made finer by heating at a heating rate of 10 to 200 ° C./second using a continuous annealing furnace.

以上の工程によって、所定の厚さ、例えば、0.1〜0.5mmに仕上げられたアルミニウム板は、更にローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置によって平面性を改善してもよい。平面性の改善は、アルミニウム板をシート状にカットした後に行ってもよいが、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状態で行うことが好ましい。また、所定の板幅に加工するため、スリッタラインを通してもよい。また、アルミニウム板同士の摩擦による傷の発生を防止するために、アルミニウム板の表面に薄い油膜を設けてもよい。
油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、不揮発性のものが適宜用いられる。
The flatness of the aluminum plate finished to a predetermined thickness, for example, 0.1 to 0.5 mm by the above steps may be further improved by a correction device such as a roller leveler or a tension leveler. The flatness may be improved after the aluminum plate is cut into a sheet shape, but in order to improve productivity, it is preferably performed in a continuous coil state. Further, a slitter line may be used for processing into a predetermined plate width. Moreover, in order to prevent generation | occurrence | production of the damage | wound by friction between aluminum plates, you may provide a thin oil film on the surface of an aluminum plate.
As the oil film, a volatile or non-volatile film is appropriately used as necessary.

本発明に用いられるアルミニウム板は、JISに規定されるH18の調質が行われているのが好ましい。   The aluminum plate used in the present invention is preferably subjected to H18 tempering as defined in JIS.

このようにして製造されるアルミニウム板には、以下に述べる種々の特性が望まれる。
アルミニウム板の強度は、平版印刷版用支持体として必要な腰の強さを得るため、0.2%耐力が120MPa以上であるのが好ましい。また、バーニング処理を行った場合にもある程度の腰の強さを得るためには、270℃で3〜10分間加熱処理した後の0.2%耐力が80MPa以上であるのが好ましく、100MPa以上であるのがより好ましい。なお、この0.2%耐力については、理化学事典第4版(岩波書店)、743ページに記載されており、汎用の引っ張り試験機を用いることにより測定することができる。
特に、アルミニウム板に腰の強さを求める場合は、MgやMnを添加したアルミニウム材料を採用することができるが、腰を強くすると印刷機の版胴へのフィットしやすさがってくるため、用途に応じて、材質および微量成分の添加量が適宜選択される。
また、アルミニウム板は、引張強度が140〜300N/mm、JIS Z2241およびZ2201に規定される伸びが1〜10%であるのがより好ましい。
Various characteristics described below are desired for the aluminum plate thus manufactured.
As for the strength of the aluminum plate, it is preferable that the 0.2% proof stress is 120 MPa or more in order to obtain the stiffness required for a lithographic printing plate support. Moreover, in order to obtain a certain level of waist strength even when performing a burning treatment, the 0.2% yield strength after heat treatment at 270 ° C. for 3 to 10 minutes is preferably 80 MPa or more, and 100 MPa or more. It is more preferable that The 0.2% proof stress is described in RIKEN Encyclopedia 4th edition (Iwanami Shoten), page 743, and can be measured by using a general-purpose tensile tester.
In particular, when you want the stiffness of the aluminum plate, you can use the aluminum material added with Mg and Mn, but if you strengthen the stiffness, it will be easier to fit the plate cylinder of the printing press, Depending on the material, the material and the amount of the trace component added are appropriately selected.
Further, the aluminum plate preferably has a tensile strength of 140 to 300 N / mm 2 and an elongation specified by JIS Z2241 and Z2201 of 1 to 10%.

アルミニウム板の結晶組織は、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理を行った場合、アルミニウム板の表面の結晶組織が面質不良の発生の原因となることがあるので、表面においてあまり粗大でないことが好ましい。アルミニウム板の表面の結晶組織は、幅が200μm以下であるのが好ましく、100μm以下であるのがより好ましく、50μm以下であるのが更に好ましく、また、結晶組織の長さが5000μm以下であるのが好ましく、1000μm以下であるのがより好ましく、500μm以下であるのが更に好ましい。
本発明で支持体として用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
The crystal structure of the aluminum plate may cause poor surface quality when the surface of the aluminum plate is subjected to chemical or electrochemical surface roughening. It is preferably not too coarse. The crystal structure on the surface of the aluminum plate preferably has a width of 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, still more preferably 50 μm or less, and the length of the crystal structure is 5000 μm or less. Is preferably 1000 μm or less, and more preferably 500 μm or less.
The thickness of the aluminum plate used as a support in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

アルミニウム支持体を作製するにあたっては、アルミニウム板に、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理、シリケート処理などの表面処理を行ってもよい。以下、このような表面処理について簡単に説明する。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
In producing the aluminum support, the aluminum plate may be subjected to surface treatment such as roughening treatment, anodizing treatment, silicate treatment, etc., if necessary. Hereinafter, such a surface treatment will be briefly described.
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired.
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

アルミニウム純度が低いアルミニウム板においては、良好で且つ均一な粗面化を達成するという観点から、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法の一部または全部を施すことが困難である場合があるが、その場合であっても、本発明において後述する特定ポリマーからなる中間層を形成することで、表面親水性、及び、画像形成層との密着性が良好な平版印刷版用支持体を得ることが可能である。   For aluminum plates with low aluminum purity, from the viewpoint of achieving good and uniform roughening, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a surface of chemical In some cases, it may be difficult to perform part or all of the method for selectively dissolving the surface hydrophilicity, but even in that case, by forming an intermediate layer composed of a specific polymer described later in the present invention, surface hydrophilicity, Further, it is possible to obtain a lithographic printing plate support having good adhesion to the image forming layer.

この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to anodization treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。形成された陽極酸化皮膜の量が1.0g/mより少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。 The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. If the amount of the formed anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the lithographic printing plate is likely to be damaged, and ink is applied to the damaged part during printing. So-called “scratch dirt” is likely to occur.

(シリケート処理)
支持体がアルミニウム材からなる場合、該アルミニウム基板は、上記のようにして得られたアルミニウム基板表面に、シリケート処理を施すことが、親水性層との密着強度向上の観点から好ましい。
シリケート処理を施す方法としては、特に制限はなく、従来公知の方法を任意に使用することができるが、例えば、アルカリ金属ケイ酸塩を溶解した水溶液に、上記アルミニウム基材を浸漬する方法などが挙げられる。
この場合のアルカリケイ酸塩水溶液の濃度は、1〜30質量%程度が好ましく、2〜15質量%程度がより好ましい。また、該水溶液のpHは、25℃でpH10〜13程度が好ましい。本発明係るシリケート処理は、このような水溶液を15〜80℃、好ましくは15〜50℃に保ち、上記アルミニウム基材を0.5〜120秒間、好ましくは5〜60秒間、該水溶液に浸漬することにより実施される。
(Silicate processing)
When the support is made of an aluminum material, the aluminum substrate is preferably subjected to a silicate treatment on the surface of the aluminum substrate obtained as described above from the viewpoint of improving the adhesion strength with the hydrophilic layer.
The method for applying the silicate treatment is not particularly limited, and any conventionally known method can be arbitrarily used. For example, there is a method of immersing the aluminum base in an aqueous solution in which an alkali metal silicate is dissolved. Can be mentioned.
In this case, the concentration of the aqueous alkali silicate solution is preferably about 1 to 30% by mass, and more preferably about 2 to 15% by mass. The pH of the aqueous solution is preferably about 10 to 13 at 25 ° C. In the silicate treatment according to the present invention, such an aqueous solution is kept at 15 to 80 ° C., preferably 15 to 50 ° C., and the aluminum substrate is immersed in the aqueous solution for 0.5 to 120 seconds, preferably 5 to 60 seconds. Is implemented.

シリケート処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。
また、上記アルカリ金属ケイ酸塩水溶液には、該水溶液のpHを高くするために、水酸化物を添加してもよい。そのような水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどが挙げられる。このような水酸化物の添加量は、該水溶液中0.01〜10質量%程度が好ましく、0.05〜5.0質量%程度がより好ましい。
さらに、アルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を添加してもよい。そのようなアルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。このようなアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩は、単独又は2種以上組み合わせて使用することができる。金属塩の添加量は、該水溶液中0.01〜10質量%程度がこのましく、0.05〜5.0質量%程度がより好ましい。
As the alkali metal silicate used for the silicate treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, or the like is used.
In addition, a hydroxide may be added to the alkali metal silicate aqueous solution in order to increase the pH of the aqueous solution. Examples of such hydroxide include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. The amount of the hydroxide added is preferably about 0.01 to 10% by mass in the aqueous solution, and more preferably about 0.05 to 5.0% by mass.
In addition, alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts may be added. Such alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates, borates, etc. A water-soluble salt is mentioned. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be mentioned. Such alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The addition amount of the metal salt is preferably about 0.01 to 10% by mass in the aqueous solution, and more preferably about 0.05 to 5.0% by mass.

また、シリケート処理の別の方法としては、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。特公昭46−27481号、特開昭52−58602号、特開昭52−30503号に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及びシリケートによる親水化処理を組合せた表面処理なども適用可能である。   As another method of silicate treatment, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Combining a support with electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, JP-A-52-30503, and the above-mentioned anodizing treatment and hydrophilization treatment with silicate. Surface treatment etc. can also be applied.

このようなシリケート処理によって得られた金属ケイ酸塩皮膜はSi元素量として2〜40mg/m、より好ましくは4〜30mg/mで形成される。皮膜量はケイ光X線分析法により測定することができる。 The metal silicate film obtained by such a silicate treatment is formed with a Si element amount of 2 to 40 mg / m 2 , more preferably 4 to 30 mg / m 2 . The amount of film can be measured by fluorescent X-ray analysis.

<親水性層>
本発明の平版印刷版原版においては、支持体上に、該支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種の反応性基、及び、特定の官能基を有する親水性のポリマーが化学結合してなる親水性層(以下、適宜、特定親水性層と称する)を備えることを特徴とする。
以下、このような特定親水性層を構成するポリマーについて説明する。
[(1)支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種の反応性基を有し、一般式(1)中の構造単位(i)および構造単位(ii)を含むポリマー〔特定ポリマー(1)〕]
本発明に係る特定ポリマー(1)は、下記一般式(1)中の構造単位(i)および構造単位(ii)を少なくとも含有することを特徴とする。即ち、特定ポリマー(1)は、構造単位(ii)で表される繰返し単位が複数連結してなる構造の末端に、構造単位(i)で表されるシランカップリング基を有し、分子内に、支持体と直接又は架橋成分を介して結合しうる反応性基を有する。
<Hydrophilic layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, on the support, a reactive group capable of directly chemically bonding to the support surface and a reactivity capable of chemically bonding to the support surface via a component having a crosslinked structure. It comprises a hydrophilic layer (hereinafter referred to as a specific hydrophilic layer as appropriate) formed by chemical bonding of at least one reactive group of groups and a hydrophilic polymer having a specific functional group. And
Hereinafter, the polymer constituting such a specific hydrophilic layer will be described.
[(1) The structural unit (i) in the general formula (1) having at least one reactive group among the reactive groups capable of being chemically bonded to the support surface through a component having a crosslinked structure. And a polymer containing the structural unit (ii) [specific polymer (1)]
The specific polymer (1) according to the present invention is characterized by containing at least the structural unit (i) and the structural unit (ii) in the following general formula (1). That is, the specific polymer (1) has a silane coupling group represented by the structural unit (i) at the end of a structure in which a plurality of repeating units represented by the structural unit (ii) are linked, And a reactive group capable of binding to the support directly or via a crosslinking component.

ここで、アルミニウム基材表面と直接化学結合し得る反応性基としては、アルミニウム基材表面に存在する−Al3+或いは−OH等の官能基と化学結合可能な官能基、例えば、ヒドロキシシリル基、アルコキシシリル基、アリールオキシシリル基、ハロシリル基(クロロシリル基など)、アミノシリル基のような官能基が挙げられ、有機材料からなる支持体を用いた場合には、例えば、ヒドロキシシリル基、アルコキシシリル基、アリールオキシシリル基、ハロシリル基(クロロシリル基など)、アミノシリル基、などが挙げられる。 Here, as the reactive group capable of directly chemically bonding to the aluminum substrate surface, a functional group capable of being chemically bonded to a functional group such as -Al 3+ or -OH present on the aluminum substrate surface, such as a hydroxysilyl group, Examples include alkoxysilyl groups, aryloxysilyl groups, halosilyl groups (such as chlorosilyl groups), and aminosilyl groups. When a support made of an organic material is used, for example, hydroxysilyl groups, alkoxysilyl groups Aryloxysilyl group, halosilyl group (chlorosilyl group and the like), aminosilyl group, and the like.

また、アルミニウム基材表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基としては、例えば、ヒドロキシシリル基、アルコキシシリル基、アリールオキシシリル基、ハロシリル基(クロロシリル基など)、アミノシリル基、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、ビニル基のような官能基が挙げられ、プラスチックフィルムの如き有機材料基板に対しても、アルミニウム基板に対してと同様の官能基が好ましく挙げられる。また、後者において、アルミニウム基材表面と架橋構造を有する構成成分とは、後述するゾルゲル架橋成分やビニル重合性基、エポキシ重合性基、オキセタン重合性基などを含む化合物の如き成分を指す。
このような反応性基は、親水性ポリマーの鎖状構造の末端、側鎖のいずれにあってもよいが、高保水性の観点からは末端に位置するほうが好ましく、膜強度の点からは側鎖にあるほうが好ましく、これらから適宜選択または組み合わせればよい。
Examples of the reactive group that can be chemically bonded to the surface of the aluminum substrate through a component having a crosslinked structure include, for example, a hydroxysilyl group, an alkoxysilyl group, an aryloxysilyl group, a halosilyl group (chlorosilyl group, etc.) Functional groups such as a group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, and a vinyl group, and the same functional group as that for an aluminum substrate is preferably used for an organic material substrate such as a plastic film. . In the latter case, the component having a crosslinked structure with the surface of the aluminum substrate refers to a component such as a sol-gel crosslinking component, a compound containing a vinyl polymerizable group, an epoxy polymerizable group, an oxetane polymerizable group, etc., which will be described later.
Such a reactive group may be located at either the end or the side chain of the chain structure of the hydrophilic polymer, but is preferably located at the end from the viewpoint of high water retention, and from the viewpoint of membrane strength, the side chain is preferred. It is preferable to select or combine them appropriately.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

一般式(1)において、構造単位(ii)で表される繰返し単位で構成されるポリマー主鎖構造において、構造単位(ii)は一種類でも二種類以上でもよく、さらに、この構造単位(ii)以外の共重合成分を含んで構成されてもよい。   In the polymer main chain structure composed of repeating units represented by the structural unit (ii) in the general formula (1), the structural unit (ii) may be one type or two or more types, and the structural unit (ii) ) Other than the copolymer component may be included.

上記一般式(1)中、R、R、R、及び、Rはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜30の置換基を表す。
好ましくは、構造内に炭素原子を1〜20含む置換基であり、さらに好ましくは、炭素数1〜15の置換基であり、特に好ましくは炭素数1〜8の置換基である。
、R、R、Rが炭素数1〜30の置換基を表す場合の置換基としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、アリール基、ヘテロ環基などが挙げられる。
アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基などが挙げられる。ヘテロ環基としては、フラニル基、チオフェニル基、ピリジニル基などが挙げられる。
In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 30 carbon atoms.
Preferably, it is a substituent containing 1 to 20 carbon atoms in the structure, more preferably a substituent having 1 to 15 carbon atoms, and particularly preferably a substituent having 1 to 8 carbon atoms.
Examples of the substituent when R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 represent a substituent having 1 to 30 carbon atoms include a linear, branched, or cyclic alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group.
Examples of alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, isopentyl, A neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclopentyl group and the like can be mentioned. Examples of the aryl group include a phenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group. Examples of the heterocyclic group include a furanyl group, a thiophenyl group, and a pyridinyl group.

これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ν−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイト基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−Ν−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SOH)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基ホスフォノ基(−PO)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO(alkyl))、ジアリールホスフォノ基(−PO(aryl))、アルキルアリールホスフォノ基(−PO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−POH(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−POH(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO(alkyl))、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO(aryl))、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPOH(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPOH(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、モルホリノ基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 These groups may further have a substituent. As the substituent, a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms (-F, -Br, -Cl, -I), hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, mercapto groups, alkylthio groups, arylthio groups, alkyldithio groups, aryldithio groups, amino groups, N-alkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, ア ル キ ル -alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkyl Carbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-aryl Acylamino group, ureido group, N ′ Alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N -Arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureate group, N', N'-dialkyl- N-arylureido group, N′-aryl-Ν-alkylureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl- N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group Aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino Group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group , N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), al Coxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N -Alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N- alkyl -N- arylsulfamoyl group phosphono group (-PO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonato group), a dialkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2), Jiariruhosu phono group (-PO 3 (aryl) 2) , alkyl aryl phosphono group (-P 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphono group (-PO 3 H ( aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonateoxy group), dialkylphosphonooxy Group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphonooxy group (—OPO (alkyl) (aryl)), monoalkylphosphonooxy group ( -OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkylphosphonatooxy group) ), Monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonatooxy group), morpholino group, cyano group, nitro group, aryl group, alkenyl group, An alkynyl group is mentioned.

、R、R、Rとして、効果及び入手容易性の観点から特に好ましい例としては、水素原子、メチル基又はエチル基を挙げることができる。 Examples of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include a hydrogen atom, a methyl group, and an ethyl group as particularly preferable examples from the viewpoints of effects and availability.

一般式(1)におけるLおよび後述する一般式(2)におけるLは、単結合又は有機連結基を表す。ここで、有機連結基とは非金属原子からなる多価の連結基を示し、具体的には、1個から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り立つものである。より具体的な有機連結基としては下記の構造単位またはこれらが組合わされて構成されるものを挙げることができる。 L 1 in the general formula (1) and L 2 in the general formula (2) described later represent a single bond or an organic linking group. Here, the organic linking group refers to a polyvalent linking group composed of a nonmetallic atom, and specifically includes 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, and 0 to 50 carbon atoms. It consists of up to 1 oxygen atom, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms. More specific examples of the organic linking group include the following structural units or combinations thereof.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

として、特に好ましい構造としては、−(CH−S−が挙げられる。ここで、nは、好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜5、特に好ましくは2〜4の整数である。
として、特に好ましい構造としては、単結合や以下に示すものが挙げられる。
A particularly preferred structure for L 1 includes — (CH 2 ) n —S—. Here, n is preferably an integer of 1 to 8, more preferably 1 to 5, and particularly preferably 2 to 4.
As L 2 , particularly preferable structures include a single bond and those shown below.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

は−CO−NH−CO−、−CO−NH−SO−、および、−SO−NH−SO−から選択される構造を少なくとも有する炭素数1ないし30の置換基を表す。Yで表わされる構造は、鎖状でも、分岐状でも、環状であってもよい。また、YとRが結合して環状構造を形成していてもよい。 Y 1 represents a C 1-30 substituent having at least a structure selected from —CO—NH—CO—, —CO—NH—SO 2 —, and —SO 2 —NH—SO 2 —. The structure represented by Y 1 may be chain-like, branched or cyclic. Y 1 and R 3 may be bonded to form a cyclic structure.

の好ましい例としては、以下のものを挙げることができる。
なお、以下の例において、*はポリマー主鎖を構成する炭素原子との結合部位を示す。
*−C(=O)−NH−SO−CH
*−C(=O)−NH−SO−C
*−C(=O)−NH−SO−C
*−C(=O)−NH−SO−CH(CH
*−C(=O)−NH−SO−C
*−C(=O)−NH−SO−C11
*−C(=O)−NH−SO−C12
*−C(=O)−NH−SO−C
*−C(=O)−NH−C(=O)−CH
*−C(=O)−NH−C(=O)−C
*−C(=O)−NH−C(=O)−C
*−C(=O)−NH−C(=O)−CH(CH
*−C(=O)−NH−C(=O)−C
*−C(=O)−NH−C(=O)−C11
*−C(=O)−NH−C(=O)−C12
*−C(=O)−NH−C(=O)−C
*−SO−NH−SO−CH
*−SO−NH−SO−C
*−SO−NH−SO−C
*−SO−NH−SO−CH(CH
*−SO−NH−SO−C
*−SO−NH−SO−C11
*−SO−NH−SO−C12
*−SO−NH−SO−C
*−SO−NH−C(=O)−CH
*−SO−NH−C(=O)−C
*−SO−NH−C(=O)−C
*−SO−NH−C(=O)−CH(CH
*−SO−NH−C(=O)−C
*−SO−NH−C(=O)−C11
*−SO−NH−C(=O)−C12
*−SO−NH−C(=O)−C
Preferable examples of Y 1 include the following.
In the following examples, * indicates a bonding site with a carbon atom constituting the polymer main chain.
* —C (═O) —NH—SO 2 —CH 3
* -C (= O) -NH- SO 2 -C 2 H 5
* —C (═O) —NH—SO 2 —C 3 H 7
* —C (═O) —NH—SO 2 —CH (CH 3 ) 2
* —C (═O) —NH—SO 2 —C 4 H 9
* —C (═O) —NH—SO 2 —C 5 H 11
* —C (═O) —NH—SO 2 —C 6 H 12
* —C (═O) —NH—SO 2 —C 6 H 5
* —C (═O) —NH—C (═O) —CH 3
* -C (= O) -NH- C (= O) -C 2 H 5
* -C (= O) -NH- C (= O) -C 3 H 7
* -C (= O) -NH- C (= O) -CH (CH 3) 2
* -C (= O) -NH- C (= O) -C 4 H 9
* -C (= O) -NH- C (= O) -C 5 H 11
* -C (= O) -NH- C (= O) -C 6 H 12
* -C (= O) -NH- C (= O) -C 6 H 5
* -SO 2 -NH-SO 2 -CH 3
* -SO 2 -NH-SO 2 -C 2 H 5
* -SO 2 -NH-SO 2 -C 3 H 7
* -SO 2 -NH-SO 2 -CH (CH 3) 2
* -SO 2 -NH-SO 2 -C 4 H 9
* -SO 2 -NH-SO 2 -C 5 H 11
* -SO 2 -NH-SO 2 -C 6 H 12
* -SO 2 -NH-SO 2 -C 6 H 5
* —SO 2 —NH—C (═O) —CH 3
* -SO 2 -NH-C (= O) -C 2 H 5
* —SO 2 —NH—C (═O) —C 3 H 7
* —SO 2 —NH—C (═O) —CH (CH 3 ) 2
* —SO 2 —NH—C (═O) —C 4 H 9
* —SO 2 —NH—C (═O) —C 5 H 11
* —SO 2 —NH—C (═O) —C 6 H 12
* —SO 2 —NH—C (═O) —C 6 H 5

Figure 2008216364
Figure 2008216364

Figure 2008216364
Figure 2008216364

Figure 2008216364
Figure 2008216364

はさらに置換基を有していてもよく、導入可能な好ましい置換基の例としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アミノ基(置換アミノ基を含む)、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、スルホ基(−SOH)などが挙げられる。複数の置換基が導入された場合、これらは同じでも互いに異なっていてもよく、また、複数の置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。 Y 1 may further have a substituent, and examples of preferable substituents that can be introduced include linear, branched or cyclic alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, heterocyclic groups, and halogen atoms. (-F, -Br, -Cl, -I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, amino group (including substituted amino group), formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryl Examples include a loxycarbonyl group and a sulfo group (—SO 3 H). When a plurality of substituents are introduced, these may be the same or different from each other, and the plurality of substituents may be bonded to each other to form a ring.

本発明において一般式(1)で表される化合物は、(ii)で表される構造単位が単一でも複数の成分からなる共重合体であってもよい。さらに、(ii)で表される構造単位以外の共重合成分を含んでいてもよい。   In the present invention, the compound represented by the general formula (1) may be a copolymer having a single structural unit or a plurality of components represented by (ii). Furthermore, a copolymer component other than the structural unit represented by (ii) may be included.

特定ポリマー(1)の分子量としては、1,000〜100,000が好ましく、1,000〜50,000がさらに好ましく、1,000〜30,000が最も好ましい。   The molecular weight of the specific polymer (1) is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 1,000 to 50,000, and most preferably 1,000 to 30,000.

本発明に好適に用いられポリマー(1)の具体例を、その構造単位とGPC法により測定した重量平均分子量(Mw)により示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

Figure 2008216364
Although the specific example of the polymer (1) used suitably for this invention is shown by the weight average molecular weight (Mw) measured by the structural unit and GPC method, this invention is not limited to these.
Figure 2008216364

Figure 2008216364
Figure 2008216364

Figure 2008216364
Figure 2008216364

Figure 2008216364
Figure 2008216364

[支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種の反応性基を有し、一般式(2)中の構造単位(iii)および構造単位(iv)を含むポリマー〔特定ポリマー(2)〕]
また、本発明において親水性層を構成するポリマーの他の好ましい態様として、支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種の反応性基を有し、下記一般式(2)中の構造単位(iii)および構造単位(iv)を含むポリマーが挙げられる。
[Having at least one reactive group of a reactive group that can be chemically bonded directly to the support surface and a reactive group that can be chemically bonded to the support surface via a component having a cross-linked structure; Polymer containing the structural unit (iii) and the structural unit (iv) in the general formula (2) [specific polymer (2)]
In another preferred embodiment of the polymer constituting the hydrophilic layer in the present invention, the polymer is chemically bonded via a reactive group capable of directly chemically bonding to the support surface and a component having a crosslinked structure with the support surface. The polymer which has at least 1 sort (s) of reactive group of possible reactive groups, and contains structural unit (iii) and structural unit (iv) in following General formula (2) is mentioned.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

特定ポリマー(2)について説明する。
特定ポリマー(2)は、シランカップリング基を有する構造単位(iii)と、Yで表される特定の官能基を有する構造単位(iv)という少なくとも2種の繰返し単位を共に有する高分子化合物である。また、構造単位(iii)、および、構造単位(iv)は、それぞれ単一でも複数の種類を組み合わせてもよく、さらに、構造単位(iii)及び構造単位(iv)以外の繰返し単位(共重合成分)を含んでいてもよい。
一般式(2)における、構造単位(iii)と構造単位(iv)とのモル組成比は、99.5:0.5〜0.5:99.5であることが好ましく、99:1〜50:50がさらに好ましく、98:2〜70:30が特に好ましい。
The specific polymer (2) will be described.
The specific polymer (2) is a polymer compound having both a repeating unit of a structural unit (iii) having a silane coupling group and a structural unit (iv) having a specific functional group represented by Y 2 It is. In addition, the structural unit (iii) and the structural unit (iv) may be single or a plurality of types may be combined, respectively. Further, a repeating unit other than the structural unit (iii) and the structural unit (iv) Component).
In the general formula (2), the molar composition ratio of the structural unit (iii) to the structural unit (iv) is preferably 99.5: 0.5 to 0.5: 99.5, and 99: 1 to 50:50 is more preferable, and 98: 2 to 70:30 is particularly preferable.

、R、R、R、R、およびR10はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜30の置換基を表す。好ましくは、構造内に炭素原子を1〜20含む置換基であり、さらに好ましくは、炭素数1〜15の置換基であり、特に好ましくは炭素数1〜8の置換基である。
、R、R、R、R、およびR10としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、アリール基、ヘテロ環基などが挙げられる。
、R、R、R、R、およびR10の具体的な例としては、前述の一般式(1)の説明において、R、R、RおよびRの例として挙げたものが、同様に挙げられる。
R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 30 carbon atoms. Preferably, it is a substituent containing 1 to 20 carbon atoms in the structure, more preferably a substituent having 1 to 15 carbon atoms, and particularly preferably a substituent having 1 to 8 carbon atoms.
Examples of R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 include linear, branched or cyclic alkyl groups, aryl groups, and heterocyclic groups.
Specific examples of R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 include examples of R 1 , R 2 , R 3, and R 4 in the description of the general formula (1). As mentioned above, the same may be mentioned.

は単結合又は有機連結基を表す。Lの具体的な例としては、前述のLの例と同様のものが挙げられる。 L 2 represents a single bond or an organic linking group. Specific examples of L 2 are the same as those of L 1 described above.

は−CO−NH−CO−、−CO−NH−SO−、および、−SO−NH−SO−から選択される構造を少なくとも有する炭素数1ないし30の置換基を表す。炭素数1ないし30の置換基を表す。Yの具体的な例としては、前記一般式(1)におけるYと同様の例が挙げられ、好ましい例もまた同様である。 Y 2 represents a substituent having 1 to 30 carbon atoms having at least a structure selected from —CO—NH—CO—, —CO—NH—SO 2 —, and —SO 2 —NH—SO 2 —. A substituent having 1 to 30 carbon atoms is represented. Specific examples of Y 2 include the same examples as Y 1 in the general formula (1), and preferred examples are also the same.

一般式(2)の化合物の分子量としては、1,000〜100,000が好ましく、1,000〜50,000がさらに好ましく、1,000〜30,000が特にも好ましい。
以下に、本発明に好適に用い得る特定ポリマー(2)の具体例を、その構造単位とGPC法により測定した重量平均分子量(Mw)により示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The molecular weight of the compound of the general formula (2) is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 1,000 to 50,000, and particularly preferably 1,000 to 30,000.
Specific examples of the specific polymer (2) that can be suitably used in the present invention are shown below by the structural unit and the weight average molecular weight (Mw) measured by the GPC method, but the present invention is not limited to these. .

Figure 2008216364
Figure 2008216364

前記特定ポリマー(1)または特定ポリマー(2)は、既知のいかなる方法によっても合成可能であるが、その合成にはラジカル重合法が好ましく用いられる。一般的なラジカル重合法は、例えば、新高分子実験学3、高分子の合成と反応1(高分子学会編、共立出版)、新実験化学講座19、高分子化学(I)(日本化学会編、丸善)、物質工学講座、高分子合成化学(東京電気大学出版局)等に記載されており、これらを適用することができる。   The specific polymer (1) or the specific polymer (2) can be synthesized by any known method, and a radical polymerization method is preferably used for the synthesis. General radical polymerization methods include, for example, New Polymer Experiments 3, Polymer Synthesis and Reaction 1 (Polymer Society, Kyoritsu Publishing), New Experimental Chemistry Course 19, Polymer Chemistry (I) (The Chemical Society of Japan) , Maruzen), Materials Engineering Course, Synthetic Polymer Chemistry (Tokyo Denki University Press), etc., and these can be applied.

また、先に述べたように、特定ポリマー(1)及び特定ポリマー(2)は、前記一般式(1)における構造単位(i)、構造単位(ii)、或いは、前記一般式(2)における構造単位(iii)、および構造単位(iv)以外の構造単位を有する共重合体であってもよい。
ここで、併用しうる構造単位としては、構造単位(i)、構造単位(ii)、構造単位(iii)、および構造単位(iv)で表されるものの他に、既知の種々のモノマーに由来する構造を挙げることができる。
好ましい例としては、アクリル酸エステル類、メタクリルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等に由来する公知のモノマーものなどが挙げられる。このような共重合を行うことで、製膜性、膜強度、親水性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等の諸物性を改善或いは制御することができる。
Further, as described above, the specific polymer (1) and the specific polymer (2) are the structural unit (i), the structural unit (ii) in the general formula (1), or the general formula (2). The copolymer may have a structural unit other than the structural unit (iii) and the structural unit (iv).
Here, the structural unit that can be used in combination is derived from various known monomers in addition to those represented by the structural unit (i), the structural unit (ii), the structural unit (iii), and the structural unit (iv). The structure to do can be mentioned.
Preferred examples include known monomers derived from acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic imide, etc. Things. By carrying out such copolymerization, various physical properties such as film forming property, film strength, hydrophilicity, hydrophobicity, solubility, reactivity and stability can be improved or controlled.

アクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又はi−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチルアクリレート等が挙げられる。   Specific examples of acrylic esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chloro Benzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl Acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl acrylate.

メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチルメタクリレート等が挙げられる。   Specific examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, (n- or i-) propyl methacrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chloro Benzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphene Chill methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl methacrylate.

アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, and N-tolylacrylamide. N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-phenylacrylamide , N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide and the like.

メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N -Phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide, N , N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。
共重合成分としては、下記式(v)で表される構造単位〔以下、構造単位(v)と称する〕が特に好ましいものとして挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate, and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene. Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene, and the like.
As the copolymerization component, a structural unit represented by the following formula (v) [hereinafter referred to as a structural unit (v)] is particularly preferable.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

構造単位(v)におけるR、Rは、それぞれ独立に水素原子または炭素数1〜30の置換基を表し、Lは単結合又は有機連結基を表し、Yは炭素数1〜30の置換基を表す。
、Rとしては、構造単位(iii)におけるR、Rと同様のものが例示され、なかでも、効果及び入手容易性の観点から特に好ましい例としては、水素原子、メチル基又はエチル基を挙げることができる。また、Lは一般式(1)におけるLと同様のものが例示され、好ましい例も同様である。
R 3 and R 4 in the structural unit (v) each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 30 carbon atoms, L 5 represents a single bond or an organic linking group, and Y 3 represents 1 to 30 carbon atoms. Represents a substituent.
The R 3, R 4, the same as R 3, R 4 in the structural unit (iii) are exemplified, and among them, particularly preferred examples from the viewpoints of effects and easiness of availability, a hydrogen atom, a methyl group or An ethyl group can be mentioned. Further, L 5 is exemplified by the same as L 1 in the general formula (1), and preferred examples are also the same.

の例としては、特定中間層の表面親水性を維持するという観点から、−CONH、−CON(R11)(R12)、−CO13、−OH、−COM、または−SOMが好ましく挙げられる。また、Yがこれらの置換基のいずれかを表す場合、Lでは単結合であることが好ましい。
ここで、R11、R12、およびR13はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜30の置換基を表す。好ましくは、炭素数1〜20であり、さらに好ましくは、炭素数1〜15であり、特に好ましくは炭素数1〜8である。R11、R12、およびR13としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、アリール基、ヘテロ環基などが挙げられる。R11とR12は、互いに結合して環を形成していてもよい。好ましい例としては、前述のR、R、R、およびRの好ましい例を挙げることができる。
構造単位(v)における最も好ましい例としては、Lが単結合であり、且つ、Yが−CONHで表される構造が挙げられる。
Examples of Y 3, from the viewpoint of maintaining the surface hydrophilicity of a particular intermediate layer, -CONH 2, -CON (R 11 ) (R 12), - CO 2 R 13, -OH, -CO 2 M, or -SO 3 M are preferably mentioned. When Y 3 represents any of these substituents, L 5 is preferably a single bond.
Here, R <11> , R < 12 >, and R < 13 > represent a hydrogen atom or a C1-C30 substituent each independently. Preferably, it is C1-C20, More preferably, it is C1-C15, Most preferably, it is C1-C8. Examples of R 11 , R 12 , and R 13 include linear, branched, or cyclic alkyl groups, aryl groups, and heterocyclic groups. R 11 and R 12 may be bonded to each other to form a ring. Preferable examples include the preferred examples of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 described above.
A most preferred example of the structural unit (v) includes a structure in which L 5 is a single bond and Y 3 is represented by —CONH 2 .

(架橋成分)
本発明に係る表面としては、上記ポリマー中の架橋性基が、直接支持体(例えばアルミニウム)表面上の−SiONa、−Al3+、或いは−OH基などの官能基と化学結合したものでもよく、あるいは、上記ポリマーを含有する塗布液を調製し、基材表面に塗布、乾燥することで、該架橋性基の加水分解、縮重合により、架橋構造(ゾルゲル架橋構造)を形成したものであってもよい。
ゾルゲル架橋構造を形成するにあたっては、特定親水性ポリマーと、下記一般式(3)で表される架橋成分とを混合して基材表面に塗布・乾燥することが好ましい。下記一般式(3)で表される架橋成分としては、その構造中に重合性の官能基を有し、架橋剤としての機能を果たす化合物であり、前記特定親水性ポリマーと縮重合することで、架橋構造を有する強固な皮膜を形成する。
(Crosslinking component)
As the surface according to the present invention, a crosslinkable group in the polymer is chemically bonded to a functional group such as —SiO Na + , —Al 3+ , or —OH group directly on the surface of a support (for example, aluminum). Alternatively, a crosslinked solution (sol-gel crosslinked structure) is formed by preparing a coating solution containing the above-mentioned polymer, applying it to the surface of the base material, and drying, thereby hydrolyzing and condensing the crosslinking group. It may be.
In forming the sol-gel cross-linked structure, it is preferable to mix a specific hydrophilic polymer and a cross-linking component represented by the following general formula (3), and apply and dry to the substrate surface. The crosslinking component represented by the following general formula (3) is a compound having a polymerizable functional group in its structure and functioning as a crosslinking agent, and by condensation polymerization with the specific hydrophilic polymer. A strong film having a crosslinked structure is formed.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

一般式(3)中、R14は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、R15はアルキル基又はアリール基を表し、XはSi、Al、Ti又はZrを表し、nは0〜2の整数を表す。
14及びR15がアルキル基を表す場合の炭素数は好ましくは1から4である。アルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト基などが挙げられる。
なお、この化合物は分子量1000以下であることが好ましい。
In the general formula (3), R 14 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R 15 represents an alkyl group or an aryl group, X represents Si, Al, Ti or Zr, and n is 0 to 2. Represents an integer.
The number of carbon atoms when R 14 and R 15 represent an alkyl group is preferably 1 to 4. The alkyl group or aryl group may have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include a halogen atom, an amino group, and a mercapto group.
This compound preferably has a molecular weight of 1000 or less.

以下に、一般式(3)で表される架橋成分の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
XがSiの場合、即ち、加水分解性化合物中にケイ素を含むものとしては、例えば、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、γ−クロロプリピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等を挙げることができる。
これらのうち特に好ましいものとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトルイメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等を挙げることができる。
Specific examples of the crosslinking component represented by the general formula (3) are given below, but the present invention is not limited thereto.
In the case where X is Si, that is, those containing silicon in the hydrolyzable compound include, for example, trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, methyltrimethoxy Silane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltri Methoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, diph Alkenyl dimethoxysilane, mention may be made of diphenyl diethoxy silane.
Among these, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltolumethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxy are particularly preferable. Examples include silane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and the like.

また、XがAlである場合、即ち、加水分解性化合物中にアルミニウムを含むものとしては、例えば、トリメトキシアルミネート、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミネート、テトラエトキシアルミネート等を挙げることができる。   In addition, when X is Al, that is, examples of the hydrolyzable compound containing aluminum include, for example, trimethoxy aluminate, triethoxy aluminate, tripropoxy aluminate, tetraethoxy aluminate and the like. it can.

XがTiである場合、即ち、チタンを含むものとしては、例えば、トリメトキシチタネート、テトラメトキシチタネート、トリエトキシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプロポキシチタネート、クロロトリメトキシチタネート、クロロトリエトキシチタネート、エチルトリメトキシチタネート、メチルトリエトキシチタネート、エチルトリエトキシチタネート、ジエチルジエトキシチタネート、フェニルトリメトキシチタネート、フェニルトリエトキシチタネート等を挙げることができる。   When X is Ti, i.e., those containing titanium, for example, trimethoxy titanate, tetramethoxy titanate, triethoxy titanate, tetraethoxy titanate, tetrapropoxy titanate, chlorotrimethoxy titanate, chlorotriethoxy titanate, ethyl triethoxy titanate. Examples thereof include methoxy titanate, methyl triethoxy titanate, ethyl triethoxy titanate, diethyl diethoxy titanate, phenyl trimethoxy titanate, and phenyl triethoxy titanate.

XがZrである場合、即ち、ジルコニウムを含むものとしては、例えば、前記チタンを含むものとして例示した化合物に対応するジルコネートを挙げることができる。   When X is Zr, that is, the one containing zirconium can include, for example, a zirconate corresponding to the compound exemplified as containing titanium.

[親水性層の形成方法]
<塗布液の調製>
本発明における親水性層形成用塗布液組成物を調製するにあたっては、前記した如き、特定の官能基を有する親水性ポリマー、具体的には、特定ポリマー(1)、特定ポリマー(2)を用いることを要するが、このような特定親水性ポリマーの含有量は、固形分換算で、10質量%以上、50質量%未満とすることが好ましい。特定ポリマーの含有量が上記範囲において、十分な膜強度を有し、且つ、皮膜特性が良好でクラック発生の懸念がない塗膜を形成することができ、好ましい。
[Method of forming hydrophilic layer]
<Preparation of coating solution>
In preparing the coating solution composition for forming a hydrophilic layer in the present invention, as described above, a hydrophilic polymer having a specific functional group, specifically, a specific polymer (1) or a specific polymer (2) is used. However, the content of the specific hydrophilic polymer is preferably 10% by mass or more and less than 50% by mass in terms of solid content. When the content of the specific polymer is in the above range, a coating film having a sufficient film strength, good film characteristics and no fear of cracking can be formed, which is preferable.

また、好ましい態様である塗布液組成物の調製に、前記一般式(3)で表される如き架橋成分を添加する場合の添加量としては、親水性層形成用塗布液組成物に含まれる特定ポリマー中のシランカップリング基に対して、架橋成分が5mol%以上となるように添加されることが好ましく、10mol%以上となる量であることがさらに好ましい。架橋成分添加量の上限は本発明のポリマーと十分架橋できる範囲内であれば特にないが、大過剰に添加した場合、架橋に関与しない架橋成分により、作製した表面がべたつくなどの問題を生じる可能性があり、その観点からは、 mol%以下であることが好ましい。   In addition, when the crosslinking component as represented by the general formula (3) is added to the preparation of the coating liquid composition which is a preferred embodiment, the amount added is a specific content included in the coating liquid composition for forming a hydrophilic layer. It is preferable that the crosslinking component is added so as to be 5 mol% or more with respect to the silane coupling group in the polymer, and it is more preferable that the amount is 10 mol% or more. The upper limit of the amount of crosslinking component added is not particularly limited as long as it is within the range that can sufficiently crosslink with the polymer of the present invention, but when added excessively, the produced surface may become sticky due to the crosslinking component not involved in crosslinking. From this point of view, it is preferably at most mol%.

シランカップリング基を主鎖末端に有する特定ポリマー(1)或いは、側鎖に有する特定ポリマー(2)、好ましくは、さらに架橋成分を溶媒に溶解し、よく攪拌することで、これらの成分が加水分解し、重縮合することにより製造される有機無機複合体ゾル液が本発明に係る塗布液組成物となり、これによって、表面の親疎水性などの物性が制御され,高い膜強度を有する表面層が形成される。有機無機複合体ゾル液の調製において、加水分解及び重縮合反応を促進するために、触媒として、酸性触媒または塩基性触媒、或いは、金属キレート化合物を併用することが好ましく、実用上好ましい反応効率を得ようとする場合、このような触媒は必須である。本発明においては、特に、金属キレート化合物を触媒として用いることが好ましい。   The specific polymer (1) having a silane coupling group at the end of the main chain or the specific polymer (2) having a side chain, preferably further dissolving the cross-linking component in a solvent and stirring well so that these components are hydrolyzed. The organic-inorganic composite sol liquid produced by decomposing and polycondensation becomes the coating liquid composition according to the present invention, whereby the surface layer having high film strength is controlled by controlling physical properties such as hydrophilicity / hydrophobicity of the surface. It is formed. In the preparation of the organic-inorganic composite sol solution, it is preferable to use an acidic catalyst, a basic catalyst, or a metal chelate compound in combination as a catalyst in order to promote hydrolysis and polycondensation reaction. Such catalysts are essential when trying to obtain. In the present invention, it is particularly preferable to use a metal chelate compound as a catalyst.

酸性触媒または塩基性触媒としては、酸または塩基性化合物をそのまま用いるか、あるいは水またはアルコールなどの溶媒に溶解させた状態のものを用いる。溶媒に溶解させる際の濃度については特に限定はなく、用いる酸、或いは塩基性化合物の特性、触媒の所望の含有量などに応じて適宜選択すればよいが、濃度が高い場合は加水分解、重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高い塩基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場合があるため、塩基性触媒を用いる場合、その濃度は水溶液での濃度換算で1N以下であることが望ましい。   As the acidic catalyst or the basic catalyst, an acid or a basic compound is used as it is, or a catalyst in which it is dissolved in a solvent such as water or alcohol is used. The concentration at the time of dissolving in the solvent is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the characteristics of the acid or basic compound used, the desired content of the catalyst, etc. Condensation rate tends to increase. However, when a basic catalyst with a high concentration is used, a precipitate may be generated in the sol solution. Therefore, when a basic catalyst is used, the concentration is preferably 1 N or less in terms of concentration in an aqueous solution.

酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場合には乾燥後に塗膜中にほとんど残留しないような元素から構成される触媒がよい。
具体的には、酸性触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表される構造式のRを他元素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸などが挙げられ、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。
The type of the acidic catalyst or the basic catalyst is not particularly limited. However, when it is necessary to use a catalyst having a high concentration, a catalyst composed of an element that hardly remains in the coating film after drying is preferable.
Specifically, the acid catalyst is represented by hydrogen halide such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, carboxylic acid such as formic acid or acetic acid, and its RCOOH. Examples thereof include substituted carboxylic acids in which R in the structural formula is substituted with other elements or substituents, sulfonic acids such as benzene sulfonic acid, etc., and basic catalysts include ammonia bases such as aqueous ammonia and amines such as ethylamine and aniline Etc.

また、本発明に用いられる金属キレート化合物の具体例としては、例えば、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;トリス(アセチルアセトン)アルミニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソブロボキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、トリス(アセチルアセトン)アルミニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。   Specific examples of the metal chelate compound used in the present invention include, for example, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethyl acetoacetate) zirconium, and n-butoxy tris (ethyl acetoacetate) zirconium. Zirconium chelate compounds such as tetrakis (n-propylacetoacetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethyl acetoacetate) titanium Titanium chelate compounds such as acetyl acetate) titanium and diisopropoxy bis (acetylacetone) titanium; Tris (acetylacetone) aluminum , Diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropoxyacetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum And aluminum chelate compounds such as aluminum and monoacetylacetonate-bis (ethylacetoacetate) aluminum. Among these metal chelate compounds, preferred are tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisobroxoxybis (acetylacetonato) titanium, tris (acetylacetone) aluminum, diisopropoxyethylacetoacetate aluminum, tris (ethylacetate). Acetate) aluminum. These metal chelate compounds may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

本発明に係る金属キレート化合物の添加量は、塗布液の全固形分に対して、通常0.01〜15質量%程度であり、0.1〜15質量%が好ましく、0.1〜10質量%がさらに好ましい。   The addition amount of the metal chelate compound according to the present invention is usually about 0.01 to 15% by mass, preferably 0.1 to 15% by mass, and preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the total solid content of the coating solution. % Is more preferable.

塗布液の調製は、シランカップリング基を末端に有する本発明のポリマー、好ましくはさらに架橋成分を、水、メタノール、あるいはエタノールなどの溶媒に溶解後、所望により上記触媒を加え、攪拌することで実施できる。反応温度は室温〜80℃であり、反応時間、即ち攪拌を継続する時間は1〜72時間の範囲であることが好ましく、この攪拌により両成分の加水分解・重縮合を進行させて、有機無機複合体ゾル液を得ることができる。   The coating solution is prepared by dissolving the polymer of the present invention having a silane coupling group at the end, preferably a crosslinking component, in a solvent such as water, methanol, or ethanol, and then adding the catalyst as desired and stirring. Can be implemented. The reaction temperature is from room temperature to 80 ° C., and the reaction time, that is, the time for which stirring is continued is preferably in the range of 1 to 72 hours. By this stirring, hydrolysis and polycondensation of both components are advanced, and organic inorganic A composite sol solution can be obtained.

特定ポリマー及び、好ましくは架橋成分を含有する塗布液組成物を調製する際に用いる溶媒としては、これらを均一に、溶解、分散し得るものであれば特に制限はないが、例えば、メタノール、エタノール、水等の水系溶媒が好ましい。   The solvent used in preparing the coating liquid composition containing the specific polymer and preferably a crosslinking component is not particularly limited as long as it can uniformly dissolve and disperse these, but for example, methanol, ethanol An aqueous solvent such as water is preferred.

以上述べたように、本発明に係る親水性層を形成するための有機無機複合体ゾル液(塗布液組成物)の調製はゾルゲル法を利用している。ゾルゲル法については、作花済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社(刊)(1988年)、平島硯「最新ゾル−ゲル法による機能性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(1992年)等の成書等に詳細に記述され、それらに記載の方法を本発明に係る塗布液組成物の調製に適用することができる。   As described above, the preparation of the organic-inorganic composite sol liquid (coating liquid composition) for forming the hydrophilic layer according to the present invention utilizes the sol-gel method. Regarding the sol-gel method, Sakuo Sakuo “Science of Sol-Gel Method”, Agne Jofusha (published) (1988), Satoshi Hirashima “Functional Thin Film Formation Technology by the Latest Sol-Gel Method” General Technology Center (Published) (1992) and the like, and the methods described therein can be applied to the preparation of the coating liquid composition according to the present invention.

親水性層形成用塗布液組成物中には、上記以外にも、親疎水性の程度の制御、物理的強度の向上、層を構成する組成物相互の分散性の向上、塗布性の向上印刷適性の向上などの種々の目的の化合物を添加することができる。例えば、可塑剤、顔料、色素、界面活性剤、微粒子等が挙げられる。   In addition to the above, in the coating liquid composition for forming a hydrophilic layer, control of the degree of hydrophilicity / hydrophobicity, improvement of physical strength, improvement of dispersibility between the components constituting the layer, improvement of coating property, printability Various objective compounds such as improvement of the above can be added. For example, a plasticizer, a pigment, a coloring matter, a surfactant, fine particles, and the like can be given.

微粒子としては、特に限定されないが、好ましくはシリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム等が挙げられる。これらは、親水性を助長したり、皮膜の強化などに用いることができる。より好ましくは、シリカ、アルミナ、酸化チタン又はこれらの混合物である。   The fine particles are not particularly limited but preferably include silica, alumina, titanium oxide, magnesium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate and the like. These can be used for promoting hydrophilicity or strengthening the film. More preferably, it is silica, alumina, titanium oxide or a mixture thereof.

シリカは、表面に多くの水酸基を持ち、内部はシロキサン結合(−Si−O−Si−)を構成している。本発明において、好ましく用いることができるシリカとしては、コロイダルシリカとも称される、水もしくは、極性溶媒中に分散した粒子径1〜100nmのシリカ超微粒子である。具体的には、加賀美敏郎、林瑛監修「高純度シリカの応用技術」第3巻、(株)シーエムシー(1991年)に記載されている。   Silica has many hydroxyl groups on the surface, and the inside constitutes a siloxane bond (—Si—O—Si—). In the present invention, silica that can be preferably used is ultrafine silica particles having a particle diameter of 1 to 100 nm dispersed in water or a polar solvent, also referred to as colloidal silica. Specifically, it is described in Toshiro Kaga and Hayashi Hayashi, “Applied Technology of High-Purity Silica”, Volume 3, CMC Co., Ltd. (1991).

又好ましく用いることができるアルミナとしては、5〜200nmのコロイドの大きさをもつアルミナ水和物(ベーマイト系)で、水中の陰イオン(例えば、フッ素イオン、塩素イオン等のハロゲン原子イオン、酢酸イオン等のカルボン酸アニオン等)を安定剤として分散されたものである。又好ましく用いることができる酸化チタンとしては、平均一次粒径が50〜500nmのアナターゼ型あるいはルチル型の酸化チタンを、必要に応じ、分散剤を用い、水もしくは、極性溶媒中に分散したものである。   Alumina that can be preferably used is an alumina hydrate (boehmite) having a colloidal size of 5 to 200 nm, an anion in water (for example, a halogen atom ion such as a fluorine ion or a chlorine ion, an acetate ion). Or the like, as a stabilizer. Titanium oxide that can be preferably used is an anatase type or rutile type titanium oxide having an average primary particle size of 50 to 500 nm dispersed in water or a polar solvent using a dispersant as required. is there.

本発明において、好ましく用いることができる親水性の粒子の平均一次粒径は、1〜5000nmであり、より好ましくは、10〜1000nmである。本発明の親水性層中において、これらの親水性の粒子は、1種単独で用いても、2種以上を併用して用いても良い。その使用量は親水性層の総固形分重量に対して、5重量%〜80重量%、好ましくは10重量%〜70重量%、より好ましくは20重量%〜60重量%である。   In the present invention, the average primary particle size of hydrophilic particles that can be preferably used is 1 to 5000 nm, and more preferably 10 to 1000 nm. In the hydrophilic layer of the present invention, these hydrophilic particles may be used alone or in combination of two or more. The amount used is 5 wt% to 80 wt%, preferably 10 wt% to 70 wt%, more preferably 20 wt% to 60 wt%, based on the total solid weight of the hydrophilic layer.

上記のようにして調製した親水性層形成用塗布液組成物を支持体表面に塗布、乾燥することで親水性層を形成することができる。親水性層の膜厚は目的により選択できるが、一般的には乾燥後の塗布量で、0.01〜3.0g/mの範囲であり、好ましくは0.01〜1.0g/mの範囲であり、さらに好ましくは0.03〜1.0g/mの範囲である。塗布量が上記範囲において、十分な膜強度が得られ、表面親水性、基板との密着性、高感度化などの本発明の効果が発現される。 The hydrophilic layer can be formed by applying and drying the hydrophilic layer-forming coating solution composition prepared as described above on the surface of the support. The thickness of the hydrophilic layer can be selected depending on the purpose, but is generally in the range of 0.01 to 3.0 g / m 2 , preferably 0.01 to 1.0 g / m 2 in terms of the coating amount after drying. 2 , more preferably 0.03 to 1.0 g / m 2 . When the coating amount is in the above range, sufficient film strength can be obtained, and the effects of the present invention such as surface hydrophilicity, adhesion to the substrate, and high sensitivity are exhibited.

[画像形成層]
本発明においては、このような支持体表面上に形成された親水性層上に画像形成層を設けることで平版印刷版原版を得ることができる。本発明において、ここに設けられる画像形成層は既知の任意のものであってよいが、効果の観点からは、赤外線レーザなどのヒートモード露光による画像形成が可能な画像形成層であることが好ましい。
画像形成層は単層構造であっても、複数の層からなる積層構造を有したものであってもよい。
以下に、各種の平版印刷版原版について説明する。
[Image forming layer]
In the present invention, a lithographic printing plate precursor can be obtained by providing an image forming layer on a hydrophilic layer formed on the surface of such a support. In the present invention, the image forming layer provided here may be any known one, but from the viewpoint of effect, it is preferably an image forming layer capable of image formation by heat mode exposure such as an infrared laser. .
The image forming layer may have a single layer structure or a laminated structure composed of a plurality of layers.
Hereinafter, various planographic printing plate precursors will be described.

(赤外線レーザ記録型平版印刷版原版)
本発明が好ましく用いられる、赤外線レーザによる赤外線露光により画像形成可能な平版印刷版原版について説明する。これらは、赤外線レーザ露光によりアルカリ水溶液に対する可溶性が変化する材料を用いるネガ型或いはポジ型の画像形成層、インク受容性領域を形成し得る疎水化前駆体を含有し、赤外線レーザ露光部において疎水化領域が形成される画像形成層など、公知の画像記録方式が任意に選択される。
(Infrared laser recording type lithographic printing plate precursor)
A planographic printing plate precursor capable of forming an image by infrared exposure using an infrared laser, in which the present invention is preferably used, will be described. These contain negative or positive image-forming layers that use materials that change their solubility in alkaline aqueous solution by infrared laser exposure, and hydrophobizing precursors that can form ink-receptive regions. A known image recording method such as an image forming layer in which the region is formed is arbitrarily selected.

まず、ポジ型或いはネガ型の画像形成層について述べる。このような画像形成層は、赤外線レーザによる像様露光の後、アルカリ水溶液で現像処理され、アルカリ現像性が活性光線の照射により低下し、照射(露光)部が画像部領域となるネガ型と、逆に現像性が向上し、照射(露光)部が非画像部領域となるポジ型の2つに分けられる。   First, a positive or negative image forming layer will be described. Such an image forming layer is developed with an alkaline aqueous solution after imagewise exposure with an infrared laser, the alkali developability is reduced by irradiation with actinic rays, and the negative (exposed) portion becomes an image portion region. On the contrary, the developability is improved, and the irradiation (exposure) portion is divided into two types, that is, a non-image portion region.

ポジ型の画像形成層としては、相互作用解除系(感熱ポジ)画像形成層、公知の酸触媒分解系、o−キノンジアジド化合物含有系等が挙げられる。これらは光照射や加熱により発生する酸や熱エネルギーそのものにより、層を形成していた高分子化合物の結合が解除されるなどの働きにより水やアルカリ水に可溶となり、現像により除去されて非画像部を形成するものである。   Examples of the positive type image forming layer include an interaction release system (thermal positive) image forming layer, a known acid catalyst decomposition system, and an o-quinonediazide compound-containing system. These are soluble in water or alkaline water by the action of the polymer compound that formed the layer being released by the acid or heat energy generated by light irradiation or heating, and are removed by development and non-development. An image portion is formed.

また、ネガ型の画像形成層としては、公知の酸触媒架橋系(カチオン重合も含む)画像形成層、重合硬化系画像形成層が挙げられる。これらは、光照射や加熱により発生する酸が触媒となり、画像形成層を構成する化合物が架橋反応を起こし硬化して画像部を形成するもの、或いは、光照射や加熱により生成するラジカルにより重合性化合物の重合反応が進行し、硬化して画像部を形成するものである。
本発明における前記特定親水性層は、上記のいずれの画像形成層を形成した場合でも優れた効果を示すが、アルカリ水溶液と接触することで親水性が向上することから、ポジ型画像形成層に好適に用いられる。
以下、それぞれの画像形成層について詳細に説明する。
Examples of the negative type image forming layer include known acid-catalyzed cross-linking (including cationic polymerization) image forming layers and polymerization-curing image forming layers. In these compounds, an acid generated by light irradiation or heating serves as a catalyst, and a compound that forms an image forming layer undergoes a crosslinking reaction to be cured to form an image portion, or is polymerizable by radicals generated by light irradiation or heating. The polymerization reaction of the compound proceeds and cures to form an image portion.
The specific hydrophilic layer in the present invention shows an excellent effect even when any of the above image forming layers is formed. However, since the hydrophilicity is improved by contact with an alkaline aqueous solution, Preferably used.
Hereinafter, each image forming layer will be described in detail.

1.ポジ型画像形成層
本発明の好ましい態様として、ノボラック型フェノール樹脂(以下、適宜、ノボラック樹脂と称する)を50質量%以上と光熱変換剤とを含有し、赤外線レーザにより記録可能な画像形成層を設けたポジ型画像形成層を有する平版印刷原版が挙げられる。画像形成層は炭層であっても、複数の画像形成層からなる積層構造を有していてもよい。
1. Positive type image forming layer As a preferred embodiment of the present invention, an image forming layer containing 50% by mass or more of a novolak-type phenolic resin (hereinafter referred to as a novolak resin as appropriate) and a photothermal conversion agent and capable of being recorded by an infrared laser. A lithographic printing original plate having a provided positive image forming layer can be mentioned. The image forming layer may be a charcoal layer or may have a laminated structure composed of a plurality of image forming layers.

〔ノボラック型フェノール樹脂〕
まず、ノボラック型フェノール樹脂について説明する。ノボラック樹脂は、少なくとも1種のフェノール類を酸性触媒下、アルデヒド類又はケトン類の少なくとも1種と重縮合させた樹脂のことを指す。
ここで、フェノール類としては、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノール、プロピルフェノール、n−ブチルフェノール、tert−ブチルフェノール、1−ナフトール、2−ナフトール、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリオール、フロログルシノール、4,4’−ビフェニルジオール、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン等が挙げられ、アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等が、ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
[Novolac type phenolic resin]
First, the novolac type phenol resin will be described. The novolak resin refers to a resin obtained by polycondensation of at least one phenol with at least one of aldehydes or ketones under an acidic catalyst.
Here, examples of the phenols include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, o-ethylphenol, m-ethylphenol, and p-ethylphenol. , Propylphenol, n-butylphenol, tert-butylphenol, 1-naphthol, 2-naphthol, pyrocatechol, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, 1,2,4-benzenetriol, phloroglucinol, 4,4′-biphenyldiol, 2,2-bis (4′-hydroxyphenyl) propane and the like. Examples of the aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde, furfural, and the like. Examples of the ketones include acetaldehyde. Ton, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

好ましくは、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、レゾルシノールから選択されるフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドから選択されるアルデヒド類又はケトン類との重縮合体が好ましく、特に、m−クレゾール:p−クレゾール:2,5−キシレノール:3,5−キシレノール:レゾルシノールの混合割合がモル比で40〜100:0〜50:0〜20:0〜20:0〜20の混合フェノール類、又は、フェノール:m−クレゾール:p−クレゾールの混合割合がモル比で0〜100:0〜70:0〜60の(混合)フェノール類と、ホルムアルデヒドとの重縮合体が好ましい。   Preferably, phenols selected from phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, resorcinol, and aldehydes selected from formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde Or a polycondensate with ketones is preferable, and the mixing ratio of m-cresol: p-cresol: 2,5-xylenol: 3,5-xylenol: resorcinol in a molar ratio of 40 to 100: 0 to 50: 0. -20: 0 to 20: 0 to 20 mixed phenols, or (mixed) phenols whose mixing ratio of phenol: m-cresol: p-cresol is 0-100: 0 to 70: 0-60 in molar ratio And a polycondensate of formaldehyde are preferred.

これらのノボラック樹脂としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量(以下、単に「重量平均分子量」という)が、好ましくは500〜20,000、更に好ましくは1,000〜15,000、特に好ましくは3,000〜12,000のものが用いられる。重量平均分子量がこの範囲内にあると、充分な皮膜形成性及び、露光部のアルカリ現像性に優れるため好ましい。   As these novolak resins, a polystyrene-reduced weight average molecular weight (hereinafter simply referred to as “weight average molecular weight”) measured by gel permeation chromatography is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15, 000, particularly preferably 3,000 to 12,000. It is preferable for the weight average molecular weight to fall within this range because it is excellent in sufficient film-forming properties and alkali developability in the exposed area.

画像形成層のバインダー樹脂として前記ノボラック樹脂を用いる場合、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、バインダー樹脂のすべてが前記ノボラック樹脂であってもよく、また、それ以外の樹脂を併用することもできる。他の樹脂を併用する場合においても、ノボラック樹脂が主バインダーであることが好ましく、画像形成層を構成するバインダー樹脂成分中に占めるノボラック樹脂の割合は50質量%以上であることが好ましく、65〜99.9質量%の範囲であることがさらに好ましい。   When using the said novolak resin as binder resin of an image forming layer, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. Further, all of the binder resins may be the above-mentioned novolak resins, and other resins may be used in combination. Even when other resins are used in combination, the novolak resin is preferably the main binder, and the ratio of the novolak resin in the binder resin component constituting the image forming layer is preferably 50% by mass or more, More preferably, it is in the range of 99.9% by mass.

併用可能なバインダー樹脂としては、一般に用いられる水不溶且つアルカリ可溶性の、高分子中の主鎖及び側鎖の少なくとも一方に酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。ノボラック樹脂以外のフェノール樹脂、例えば、レゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、フェノール性水酸基を有するアクリル樹脂等も好ましく用いられる。併用可能な樹脂としては、具体的には、例えば、特開平11−44956号公報や、特開2003−167343号公報などに記載のポリマーを挙げることができる。   As the binder resin that can be used in combination, a commonly used water-insoluble and alkali-soluble alkali-soluble resin having an acidic group in at least one of the main chain and the side chain in the polymer can be used. Phenol resins other than novolak resins, for example, resole resins, polyvinyl phenol resins, acrylic resins having phenolic hydroxyl groups, and the like are also preferably used. Specific examples of the resin that can be used in combination include polymers described in JP-A Nos. 11-44956 and 2003-167343.

〔光熱変換剤〕
本発明における画像形成層は、光熱変換剤を含有することが好ましい。ここで用いられる光熱変換剤としては、光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザへの適合性の観点から、波長760nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
[Photothermal conversion agent]
The image forming layer in the invention preferably contains a photothermal conversion agent. The photothermal conversion agent used here can be used without any limitation on the absorption wavelength range as long as it absorbs light energy irradiation and generates heat, but is compatible with readily available high-power lasers. From the above viewpoint, an infrared-absorbing dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm is preferable.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, oxonol dyes And dyes such as diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A 59-73996, JP-A 60-52940, JP-A 60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A 58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. .

また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、特開2005−99685号公報の26−38頁に記載された化合物が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に特開2005−99685号公報の一般式(a)で示されるシアニン色素が、本発明の感光性組成物で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Further, the compound described on pages 26-38 of JP-A-2005-99685 is preferable because of its excellent photothermal conversion efficiency, and in particular, the cyanine dye represented by the general formula (a) of JP-A-2005-99685 is the present invention. When used in the photosensitive composition of the invention, it is most preferable because it gives high interaction with the alkali-soluble resin and is excellent in stability and economy.

〔分解性溶解抑止剤〕
本発明の画像記録における画像形成層を調製するにあたっては、更に分解性溶解抑止剤を添加することができる。特にオニウム塩、o−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質(分解性溶解抑止剤)を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。分解性溶解抑止剤としては、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩等のオニウム塩及び、o−キノンジアジド化合物が好ましく、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ジアゾニウム塩がより好ましい。
(Degradable dissolution inhibitor)
In preparing the image forming layer in the image recording of the present invention, a degradable dissolution inhibitor can be further added. In particular, it is possible to use a substance (degradable dissolution inhibitor) that is thermally decomposable, such as an onium salt, an o-quinonediazide compound, and a sulfonic acid alkyl ester, and that substantially reduces the solubility of the alkali-soluble resin when not decomposed. It is preferable from the viewpoint of improving dissolution inhibition of the image area in the developer. As the degradable dissolution inhibitor, onium salts such as sulfonium salts, ammonium salts, diazonium salts, iodonium salts, and o-quinonediazide compounds are preferable, and sulfonium salts, ammonium salts, and diazonium salts are more preferable.

本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えば、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号、特開2006−293162号公報、特開2004−117546号公報の明細書に記載のアンモニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同5,041,358号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号、特開2006−293162号公報、特開2006−258979号公報に記載のスルホニウム塩を挙げることができる。
また、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報、特開平5−158230号公報に記載の一般式(I)、特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)、特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)などで示されるジアゾニウム塩を挙げることができる。
Suitable onium salts for use in the present invention include, for example, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, JP-A-3-140140, JP-A-2006-293162, Ammonium salts described in the specification of JP-A-2004-117546, V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 5,041,358, No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904 Examples thereof include sulfonium salts described in JP-A Nos. 626, 3,604,580, 3,604,581, JP-A 2006-293162, and JP-A 2006-258879.
S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230, JP-A-5-158230, general formula (I), JP-A-11-143064, general formula ( 1), and diazonium salts represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064.

これ以外の好ましいオニウム塩として、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。   Other preferable onium salts include D.I. C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salts, J.M. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

これらのオニウム塩は、1種類のみを用いても、複数の化合物を用いてもよい。また、画像形成層が積層構造を有する場合には、単一層のみに添加しても複数の層に添加してもよく、また、複数の種類からなる化合物を、層を分けて添加してもよい。   These onium salts may be used alone or in a plurality of compounds. In addition, when the image forming layer has a laminated structure, it may be added to only a single layer or a plurality of layers, or a compound of a plurality of types may be added separately in layers. Good.

好適なキノンジアジド類としては、o−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-sensitive systems” by John Coley (John Wiley & Sons. Inc.) can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば、特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号などの各公報、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。   Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17482, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, and 3,544 No. 323, No. 3,573,917, No. 3,674,495, No. 3,785,825, British Patent No. 1,227,602, No. 1,251,345, No. No. 1,267,005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890 and the like. .

分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び/又は、o−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは、本発明にかかる画像形成層の全固形分に対し、好ましくは0.1〜10質量%、更に好ましくは0.1〜5質量%、特に好ましくは0.2〜2質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。   The amount of the onium salt and / or the o-quinonediazide compound that is a degradable dissolution inhibitor is preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer according to the present invention. More preferably, it is 0.1-5 mass%, Most preferably, it is the range of 0.2-2 mass%. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは0〜5質量%、更に好ましくは0〜2質量%、特に好ましくは0.1〜1.5質量%である。本発明に用いられる添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。   The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 2% by mass, and particularly preferably 0.1 to 1.5% by mass. The additive and binder used in the present invention are preferably contained in the same layer.

また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平10−268512号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平11−190903号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開2000−105454号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。   Further, a dissolution inhibitor having no decomposability may be used in combination, and preferred dissolution inhibitors include sulfonate esters, phosphate esters, and aromatic carboxylic acids described in detail in JP-A-10-268512. Esters, aromatic disulfones, carboxylic anhydrides, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines, aromatic ethers, etc., as well as lactone skeletons described in detail in JP-A-11-190903, N, N- Examples thereof include an acid color-forming dye having a diarylamide skeleton and a diarylmethylimino skeleton, which also serves as a colorant, and nonionic surfactants described in detail in JP-A No. 2000-105454.

〔その他の添加剤〕
さらに、画像のディスクリミネーション(疎水性/親水性の識別性)の強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開2000−187318公報に記載されているような、分子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することができる。このような化合物の添加量としては、本発明に係る画像形成層全固形分に対し、0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%である。
本発明に係る画像形成層中には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許6,117,913号明細書に用いられているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステル等を挙げることができる。このような化合物の添加量としては、画像形成層全固形分に対し、0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%である。
また、本発明に係る画像形成層中には、必要に応じて低分子量の酸性基を有する化合物を含んでいてもよい。酸性基としては、スルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基を挙げることができる。中でもスルホン酸基を有する化合物が好ましい。具体的には、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類や脂肪族スルホン酸類を挙げることができる。
[Other additives]
Further, in order to enhance image discrimination (hydrophobic / hydrophilic discrimination) and to enhance the resistance to scratches on the surface, carbon described in JP-A-2000-187318 is used. A polymer containing a (meth) acrylate monomer having 2 or 3 perfluoroalkyl groups of 3 to 20 as a polymerization component can be used in combination. The addition amount of such a compound is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total solid content of the image forming layer according to the present invention.
In the image forming layer according to the present invention, a compound that lowers the static friction coefficient of the surface can be added for the purpose of imparting resistance to scratches. Specific examples include esters of long-chain alkyl carboxylic acids as used in US Pat. No. 6,117,913. The addition amount of such a compound is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total solid content of the image forming layer.
Further, the image forming layer according to the present invention may contain a compound having a low molecular weight acidic group, if necessary. Examples of acidic groups include sulfonic acid groups, carboxylic acid groups, and phosphoric acid groups. Of these, compounds having a sulfonic acid group are preferred. Specific examples include aromatic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid, and aliphatic sulfonic acids.

その他、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号公報、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類を画像形成層に添加する場合、画像形成層中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。   In addition, for the purpose of further improving sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination. Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 “-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3”, 4 ”-tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane and the like. There are sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphoric acid esters, carboxylic acids, and the like, which are described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 60-88942 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-96755. , P-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate Phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1, Examples include 2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid, etc. When the above cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids are added to the image forming layer, they occupy the image forming layer. The ratio is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0.1 to 10% by mass.

また、本発明に係る画像形成層の塗布液を調製する場合には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平11−288093号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。   Further, when preparing a coating solution for an image forming layer according to the present invention, it is described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 62-251740 and 3-208514 in order to broaden the stability of processing with respect to development conditions. Nonionic surfactants, amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149, siloxane compounds as described in EP950517, A fluorine-containing monomer copolymer as described in JP-A-11-288093 can be added.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224,DBE−621,DBE−712,DBP−732,DBP−534、独Tego社製、Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成層中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
The siloxane compound is preferably a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide. Specific examples include DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732, DBP-534, manufactured by Chisso Corporation. And polyalkylene oxide-modified silicones such as Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany.
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image forming layer is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

本発明の画像記録材料の画像形成層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
A print-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added to the image forming layer of the image recording material of the present invention.
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、画像形成層全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で添加することができる。更に本発明に係る画像形成層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred. These dyes can be added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the image forming layer. Furthermore, a plasticizer is added to the image forming layer coating solution according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.

また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、さらには、特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物、及び、特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物などを目的に応じて適宜添加することができる。
以上のようにして得られた本発明の画像記録材料における画像形成層は、皮膜形成性及び皮膜強度に優れ、且つ、赤外線の露光により、露光部が高いアルカリ可溶性を示す。
In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group, and JP-A No. 11-160860 described in JP-A-8-276558. A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in the publication can be appropriately added depending on the purpose.
The image forming layer in the image recording material of the present invention obtained as described above is excellent in film formability and film strength, and the exposed area exhibits high alkali solubility upon infrared exposure.

2.ネガ型画像形成層
2−1.重合硬化層
ネガ型画像形成層の1つとして、重合硬化層が挙げられる。この重合硬化層には、(A)赤外線吸収剤と(B)ラジカル発生剤(ラジカル重合開始剤)と発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する(C)ラジカル重合性化合物とを含有し、好ましくは(D)バインダーポリマーを含有する。赤外線吸収剤が吸収した赤外線を熱に変換し、この際発生した熱により、オニウム塩等のラジカル重合開始剤が分解し、ラジカルを発生する。ラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有し、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれ、発生したラジカルにより連鎖的に重合反応が生起して硬化する。
2. Negative type image forming layer 2-1. Polymerized and cured layer As one of the negative type image forming layers, a polymerized and cured layer is exemplified. This polymerization hardened layer contains (A) an infrared absorber, (B) a radical generator (radical polymerization initiator), and a radical polymerizable compound that is cured by causing a polymerization reaction with the generated radical (C), Preferably (D) a binder polymer is contained. The infrared rays absorbed by the infrared absorbent are converted into heat, and the heat generated at this time decomposes a radical polymerization initiator such as an onium salt to generate radicals. The radically polymerizable compound is selected from compounds having at least one ethylenically unsaturated double bond and having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more, and polymerizes in a chain manner by the generated radicals. A reaction takes place and cures.

2−2.酸架橋層
また、画像形成層の他の態様としては、酸架橋層が挙げられる。酸架橋層には、(E)光又は熱により酸を発生する化合物(以下、酸発生剤と称する)と、(F)発生した酸により架橋する化合物(以下、架橋剤と称する)とを含有し、さらに、これらを含有する層を形成するための、酸の存在下で架橋剤と反応しうる(G)アルカリ可溶性ポリマーを含む。この酸架橋層においては、光照射又は加熱により、酸発生剤が分解して発生した酸が、架橋剤の働きを促進し、架橋剤同士あるいは架橋剤とバインダーポリマーとの間で強固な架橋構造が形成され、これにより、アルカリ可溶性が低下して、現像剤に不溶となる。このとき、赤外線レーザのエネルギーを効率よく使用するため、画像形成層中には(A)赤外線吸収剤が配合される。
2-2. Acid cross-linked layer Another embodiment of the image forming layer is an acid cross-linked layer. The acid cross-linking layer contains (E) a compound that generates an acid by light or heat (hereinafter referred to as an acid generator) and (F) a compound that cross-links by the generated acid (hereinafter referred to as a cross-linking agent). And (G) an alkali-soluble polymer that can react with a crosslinking agent in the presence of an acid to form a layer containing them. In this acid cross-linking layer, the acid generated by decomposition of the acid generator by light irradiation or heating promotes the action of the cross-linking agent, and a strong cross-linking structure between the cross-linking agents or between the cross-linking agent and the binder polymer As a result, the alkali solubility is lowered and the developer becomes insoluble. At this time, in order to efficiently use the energy of the infrared laser, (A) an infrared absorber is blended in the image forming layer.

〔(A)赤外線吸収剤〕
赤外線レーザで画像形成可能な画像形成層には、赤外線吸収剤を含有する。赤外線吸収剤としては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザーへの適合性の観点からは波長800nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
[(A) Infrared absorber]
The image forming layer capable of forming an image with an infrared laser contains an infrared absorber. As an infrared absorber, any material that absorbs light energy used for recording and generates heat can be used without any limitation on the absorption wavelength range, but it is compatible with readily available high-power lasers. From the viewpoint, an infrared-absorbing dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 800 nm to 1200 nm is preferable.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特願平2001−6326、特願平2001−237840記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, U.S. Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. . Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Other preferred examples of the infrared absorbing dye of the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application Nos. 2001-6326 and 2001-237840 as exemplified below.

Figure 2008216364
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これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(A)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferable, and one particularly preferable example is a cyanine dye represented by the following general formula (A).

Figure 2008216364
Figure 2008216364

一般式(A)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−NPh、X−L又は以下に示す基を表す。ここで、Xは酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、Lは、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xaは後述するZ1−と同様に定義され、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In the general formula (A), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom including a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. Xa - is defined as for Z 1-to be described later, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 2008216364
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及びRは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。画像形成層塗布液の保存安定性から、R及びRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、RとRとは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the image forming layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring. Alternatively, it is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar、Arは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y、Yは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R、Rは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R、R、R及びRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。ただし、一般式(A)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZaは必要ない。好ましいZaは、画像形成層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (A) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the image forming layer coating solution. Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(A)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特願平2001−6326、特願平2001−237840明細書に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (A) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application Nos. 2001-6326 and 2001-237840 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は、分散物の画像形成層塗布液中での安定性及び画像形成層の均一性の観点から、0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, from the viewpoint of the stability of the dispersion in the image forming layer coating solution and the uniformity of the image forming layer. It is more preferable that it is in the range of 0.1 μm to 1 μm.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

画像形成層中における、赤外線吸収剤の含有量としては、画像形成層の全固形分質量に対し、0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、0.5〜10質量%が最も好ましい。この範囲において、高感度な記録が可能であり、非画像部における汚れの発生もなく、高画質の画像形成が可能である。   The content of the infrared absorber in the image forming layer is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 10% by mass relative to the total solid mass of the image forming layer. 10 mass% is most preferable. Within this range, high-sensitivity recording is possible, and high-quality image formation is possible without the occurrence of contamination in non-image areas.

〔(B)ラジカルを発生する化合物〕
ラジカル発生剤は、光、熱、或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進させる化合物を指す。本発明に適用可能なラジカル発生剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを選択して使用することができ、例えば、オニウム塩、トリハロメチル基を有するs−トリアジン化合物、オキサゾール化合物などの有機ハロゲン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アリールアジド化合物、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、チオキサントン類等のカルボニル化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素塩化合物、ジズルホン化合物等が挙げられる。
[(B) Compound generating radical]
The radical generator refers to a compound that initiates and accelerates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group by generating radicals by energy of light, heat, or both. As a radical generator applicable to the present invention, a known thermal polymerization initiator or a compound having a bond with a small bond dissociation energy can be selected and used. For example, an onium salt, an s having a trihalomethyl group can be used. -Organic halogen compounds such as triazine compounds and oxazole compounds, peroxides, azo polymerization initiators, arylazide compounds, benzophenones, acetophenones, carbonyl compounds such as thioxanthones, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron Examples thereof include salt compounds and dizulphone compounds.

本発明において、特に好適に用いられるラジカル発生剤としては、オニウム塩が挙げられ、なかでも、下記一般式(B−1)〜(B−3)で表されるオニウム塩が好ましく用いられる。   In the present invention, particularly preferable radical generators include onium salts, and among them, onium salts represented by the following general formulas (B-1) to (B-3) are preferably used.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

式(B−1)中、Ar11とAr12は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11−は、無機アニオン又は有機アニオンを表す。 In formula (B-1), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a group having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. Z 11- represents an inorganic anion or an organic anion.

式(B−2)中、Ar21は、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21−はZ11−と同義の対イオンを表す。 In the formula (B-2), Ar 21 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. Z 21- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

式(B−3)中、R31、R32及びR33は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z31−はZ11−と同義の対イオンを表す。
前記一般式(B−1)〜(B−3)中のZ11−、Z21−、Z31−は無機アニオン若しくは、有機アニオンを表すが、無機アニオンとしては、ハロゲンイオン(F、Cl、Br、I)、過塩素酸イオン(ClO )、過ホウ素酸イオン(BrO )、テトラフルオロボレートイオン(BF )、SbF 、PF 等が挙げられ、有機アニオンとしては、有機ボレートアニオン、スルホン酸イオン、ホスホン酸イオン、カルボン酸イオン、R40−SO、R40−SO 、R40−SO、R40−SO−Y−R40イオン(ここで、R40は炭素原子数1〜20のアルキル基、又は、炭素原子数6〜20のアリール基を表し、Yは単結合、−CO−、−SO−、を表す。)等が挙げられる。
In formula (B-3), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .
In the general formulas (B-1) to (B-3), Z 11− , Z 21− , and Z 31− represent an inorganic anion or an organic anion. As the inorganic anion, a halogen ion (F , Cl -, Br -, I -) , perchlorate ion (ClO 4 -), perborate ion (BrO 4 -), tetrafluoroborate ion (BF 4 -), SbF 6 -, PF 6 - , and the like As organic anions, organic borate anions, sulfonate ions, phosphonate ions, carboxylate ions, R 40 —SO 3 H , R 40 —SO 2 , R 40 —SO 2 S , R 40 —SO 2 are used. N - -Y-R 40 ion (wherein, R 40 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, Y is a single bond, -CO -, - SO -, and represented) and the like a..

本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133696号公報の段落番号[0030]〜[0033]に記載されたものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of onium salts that can be suitably used include those described in paragraph numbers [0030] to [0033] of JP-A No. 2001-133696.

本発明において用いられるオニウム塩は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、さらに360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The onium salt used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.

これらのオニウム塩は、1種のみを用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
これらのオニウム塩は、画像形成層塗布液の全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で添加することができる。添加量が上記範囲において、高感度な記録が達成され、また、印刷時における非画像部の汚れ発生が抑制される。
これらのオニウム塩は必ずしも画像形成層に添加されなくてもよく、画像形成層に隣接して設けられる別の層へ添加してもよい。
These onium salts may be used alone or in combination of two or more.
These onium salts may be added in a proportion of 0.1 to 50% by mass, preferably 0.5 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass, based on the total solid content of the image forming layer coating solution. it can. When the addition amount is in the above range, highly sensitive recording is achieved, and the occurrence of smudges in the non-image area during printing is suppressed.
These onium salts are not necessarily added to the image forming layer, and may be added to another layer provided adjacent to the image forming layer.

〔(C)ラジカル重合性化合物〕
本態様における画像形成層に使用されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類があげられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。
[(C) Radical polymerizable compound]
The radically polymerizable compound used in the image forming layer in this embodiment is a radically polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two. It is selected from the compounds having the above. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group, amide and monofunctional or polyfunctional isocyanate, addition reaction product of epoxy, monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, halogen A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物であるアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイン酸エステルの具体例は、特開2001−133696号公報の段落番号[0037]〜[0042]に記載されており、これらを本発明にも適用することができる。   Specific examples of acrylic acid ester, methacrylic acid ester, itaconic acid ester, crotonic acid ester, isocrotonic acid ester, maleic acid ester, which are radical polymerizable compounds that are esters of aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids, It describes in paragraph number [0037]-[0042] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-133696, and these are applicable also to this invention.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926、特公昭51−47334、特開昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240、特開昭59−5241、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものをあげる事ができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(VI)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (VI) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Etc.

一般式(VI)
CH=C(R41)COOCHCH(R42)OH
(ただし、R41およびR42は、HまたはCHを示す。)
Formula (VI)
CH 2 = C (R 41) COOCH 2 CH (R 42) OH
(However, R 41 and R 42 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

さらに、特開昭63−277653,特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。   Furthermore, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 may be used.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等もあげることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌 vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be exemplified. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらのラジカル重合性化合物について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上がこのましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものが良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性基を有する化合物(例えば、アクリル酸エステル系化合物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物等)を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。また、画像形成層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させうることがある。また、支持体、オーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。画像形成層中のラジカル重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生じたり、画像形成層の粘着性による製造工程上の問題(例えば、画像形成層成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液からの析出が生じる等の問題を生じうる。
これらの観点から、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して5〜80質量%、好ましくは20〜75質量%である。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、ラジカル重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
For these radically polymerizable compounds, the details of how to use them, such as what structure to use, whether they are used alone or in combination, and how much they are added, can be selected according to the performance design of the final recording material. Can be set. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of sensitivity, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and compounds having different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylate ester compounds, methacrylate esters) A method of adjusting both photosensitivity and strength by using a combination of a compound, a styrene compound and the like is also effective. A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in sensitivity and film strength, but may not be preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. Further, the selection and use method of the radical polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the image forming layer. The compatibility may be improved by using a low-purity compound or using a combination of two or more compounds. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the support, overcoat layer and the like. As for the compounding ratio of the radically polymerizable compound in the image forming layer, a larger amount is advantageous in terms of sensitivity. However, when the amount is too large, undesirable phase separation may occur or the manufacturing process due to the adhesiveness of the image forming layer may occur. Problems (for example, transfer of image forming layer components, manufacturing defects due to adhesion) and precipitation from the developer may occur.
From these viewpoints, the preferred blending ratio of the radical polymerizable compound is often 5 to 80% by mass, preferably 20 to 75% by mass, based on the total components of the composition. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the usage of the radical polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

〔(D)バインダーポリマー〕
このような画像形成層においては、画像形成層の膜性向上の観点からさらにバインダーポリマーを使用することが好ましく、バインダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、どれを使用しても構わない。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とするために、水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、画像形成層を形成するための皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。
例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
特にこれらの中で、ベンジル基またはアリル基と、カルボキシル基を側鎖に有する(メタ)アクリル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。
[(D) Binder polymer]
In such an image forming layer, it is preferable to further use a binder polymer from the viewpoint of improving the film properties of the image forming layer, and it is preferable to use a linear organic polymer as the binder. Any such “linear organic polymer” may be used. Preferably, a linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water is selected to enable water development or weak alkaline water development. The linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent for forming an image forming layer, but also according to the use as water, weak alkaline water or an organic solvent developer.
For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development becomes possible. Examples of such linear organic polymers include radical polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, and JP-B-54-25957. , JP 54-92723, JP 59-53836, JP 59-71048, ie, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer. Examples thereof include a polymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, and a partially esterified maleic acid copolymer. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group are useful.
Among these, a (meth) acrylic resin having a benzyl group or an allyl group and a carboxyl group in the side chain is particularly preferable because of its excellent balance of film strength, sensitivity, and developability.

また、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特開平11−352691号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
In addition, Japanese Patent Publication No. 7-2004, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287944, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287947, Japanese Patent Laid-Open No. Urethane-based binder polymers containing acid groups described in No. 271741, JP-A-11-352691 and the like are very excellent in strength, and are advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure.
In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.

本発明で使用されるポリマーの重量平均分子量については好ましくは5000以上であり、さらに好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは1000以上であり、さらに好ましくは2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好ましくは1.1〜10の範囲である。
これらのポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。
The weight average molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 5000 or more, more preferably in the range of 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 1000 or more, and more preferably 2000 to 2000 The range is 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably 1.1 to 10.
These polymers may be random polymers, block polymers, graft polymers or the like, but are preferably random polymers.

本発明で使用されるバインダーポリマーは単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマーは、画像形成層塗布液の全固形分に対し20〜95質量%、好ましくは30〜90質量%の割合で画像形成層中に添加される。添加量が20質量%未満の場合は、画像形成した際、画像部の強度が不足する。また添加量が95質量%を越える場合は、画像形成されない。またラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と線状有機ポリマーは、質量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。   The binder polymer used in the present invention may be used alone or in combination. These polymers are added to the image forming layer in a proportion of 20 to 95% by mass, preferably 30 to 90% by mass, based on the total solid content of the image forming layer coating solution. When the addition amount is less than 20% by mass, the strength of the image portion is insufficient when an image is formed. If the amount added exceeds 95% by mass, no image is formed. Moreover, it is preferable that the compound which has an ethylenically unsaturated double bond which can be radically polymerized, and a linear organic polymer shall be 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.

次に、酸架橋層の構成成分について説明する。ここで用いられる赤外線吸収剤は、前記重合硬化型画像形成層におけるのと同様のものを用いることができる。
好ましい含有量は、画像形成層の全固形分質量に対し、0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、さらに0.5〜10質量%が最も好ましい。
前記含有量の範囲において、高感度な記録が達成でき、さらに、得られる平版印刷用の非画像部における汚れの発生が抑制される。
Next, the components of the acid cross-linking layer will be described. The infrared absorber used here can be the same as that used in the polymerization curable image forming layer.
The content is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and most preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the total solid mass of the image forming layer.
In the range of the content, highly sensitive recording can be achieved, and furthermore, the occurrence of stains in the obtained non-image portion for lithographic printing is suppressed.

〔(E)酸発生剤〕
本実施の形態において、熱により分解して酸を発生する酸発生剤は、200〜500nmの波長領域の光を照射する又は100℃以上に加熱することにより、酸を発生する化合物をいう。
前記酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、熱分解して酸を発生しうる、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。
上述の酸発生剤のうち、下記一般式(E−1)〜(E−5)で表される化合物が好ましい。
[(E) Acid generator]
In the present embodiment, an acid generator that generates an acid by being decomposed by heat refers to a compound that generates an acid when irradiated with light in a wavelength region of 200 to 500 nm or heated to 100 ° C. or higher.
Examples of the acid generator include a photoinitiator for photocationic polymerization, a photoinitiator for radical photopolymerization, a photodecolorant for dyes, a photochromic agent, or a known acid generator used for a microresist And the like, and known compounds and mixtures thereof that can generate an acid upon thermal decomposition.
Of the acid generators described above, compounds represented by the following general formulas (E-1) to (E-5) are preferred.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

前記一般式(E−1)〜(E−5)中、R、R、R及びRは、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。Rは、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数10以下の炭化水素基又は炭素数10以下のアルコキシ基を表す。Ar、Arは、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表す。Rは、置換基を有していてもよい炭素数20以下の2価の炭化水素基を表す。nは、0〜4の整数を表す。
前記式中、R、R、R及びRは、炭素数1〜14の炭化水素基が好ましい。
In the general formulas (E-1) to (E-5), R 1 , R 2 , R 4, and R 5 may be the same or different and may have a substituent and have 20 or less carbon atoms. Represents a hydrocarbon group. R 3 represents a halogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms or an alkoxy group having 10 or less carbon atoms. Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. R 6 represents a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. n represents an integer of 0 to 4.
In the above formula, R 1 , R 2 , R 4 and R 5 are preferably hydrocarbon groups having 1 to 14 carbon atoms.

前記一般式(E−1)〜(E−5)で表される酸発生剤の好ましい態様は、特開2001−142230号公報の段落番号[0197]〜[0222]に一般式(I)〜(V)の化合物として詳細に記載されている。これらの化合物は、例えば、特開平2−100054号、特開平2−100055号に記載の方法により合成することができる。   The preferable aspect of the acid generator represented by the general formulas (E-1) to (E-5) is described in paragraphs [0197] to [0222] of JP-A No. 2001-142230. It is described in detail as a compound of (V). These compounds can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2-100054 and JP-A-2-100055.

また、(E)酸発生剤として、ハロゲン化物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げることができ、中でも、下記一般式(E−6)〜(E−8)で表されるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造式を有するものを好適に挙げることができる。   Examples of the acid generator (E) include onium salts having a halide, sulfonic acid, or the like as a counter ion. Among them, iodonium represented by the following general formulas (E-6) to (E-8): Preferred examples include salts having any structural formula of salts, sulfonium salts and diazonium salts.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

前記一般式(E−6)〜(E−8)中、Xは、ハロゲン化物イオン、ClO 、PF 、SbF 、BF 又はRSO を表し、ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。Ar、Arは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表す。R、R、R10は、置換基を有していてもよい炭素数18以下の炭化水素基を表す。
このようなオニウム塩は、特開平10−39509号公報段落番号[0010]〜[0035]に一般式(I)〜(III)の化合物として記載されている。
In the general formulas (E-6) to (E-8), X represents a halide ion, ClO 4 , PF 6 , SbF 6 , BF 4 or R 7 SO 3 , , R 7 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Ar 3 and Ar 4 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. R 8 , R 9 and R 10 represent a hydrocarbon group having 18 or less carbon atoms which may have a substituent.
Such onium salts are described as compounds of general formulas (I) to (III) in paragraph numbers [0010] to [0035] of JP-A-10-39509.

酸発生剤の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜25質量%がより好ましく、0.5〜20質量%が最も好ましい。
前記添加量が、0.01質量%未満であると、画像が得られないことがあり、50質量%を超えると、平版印刷用原版とした時の印刷時において非画像部に汚れが発生することがある。
上述の酸発生剤は単独で使用してもよいし、2種以上を組合わせて使用してもよい。
The addition amount of the acid generator is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 25% by mass, and most preferably 0.5 to 20% by mass with respect to the total solid mass of the image forming layer. .
When the addition amount is less than 0.01% by mass, an image may not be obtained. When the addition amount exceeds 50% by mass, the non-image area is smeared during printing when used as a lithographic printing original plate. Sometimes.
The above acid generators may be used alone or in combination of two or more.

〔(F)架橋剤〕
次に、架橋剤について説明する。架橋剤としては、以下のものが挙げられる。
(i)ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物
(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物
(iii)エポキシ化合物
[(F) Crosslinking agent]
Next, the crosslinking agent will be described. The following are mentioned as a crosslinking agent.
(I) an aromatic compound substituted with a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group (ii) a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group (iii) an epoxy compound

以下、前記(i)〜(iii)の化合物について詳述する。
前記(i)ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合物又は複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で縮重合させた樹脂状の化合物も含まれる。
ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物のうち、中でも、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を有する化合物が好ましい。
また、アルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物では、中でも、アルコキシメチル基が炭素数18以下の化合物が好ましく、下記一般式(F−1)〜(F−4)で表される化合物がより好ましい。
Hereinafter, the compounds (i) to (iii) will be described in detail.
Examples of the aromatic compound substituted with the hydroxymethyl group or alkoxymethyl group (i) include an aromatic compound or a heterocyclic compound polysubstituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group or an alkoxymethyl group. . However, resinous compounds obtained by condensation polymerization of phenols and aldehydes known as resol resins under basic conditions are also included.
Of the aromatic compounds or heterocyclic compounds poly-substituted with a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group, among them, a compound having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group at a position adjacent to the hydroxy group is preferable.
Moreover, in the aromatic compound or heterocyclic compound poly-substituted with an alkoxymethyl group, a compound having an alkoxymethyl group having 18 or less carbon atoms is preferable, and is represented by the following general formulas (F-1) to (F-4). More preferred is a compound.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

Figure 2008216364
Figure 2008216364

前記一般式(F−1)〜(F−4)中、L〜Lは、それぞれ独立に、メトキシメチル、エトキシメチル等の、炭素数18以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。
これらの架橋剤は、架橋効率が高く、耐刷性を向上できる点で好ましい。
In the general formulas (F-1) to (F-4), L 1 to L 8 are each independently a hydroxymethyl group substituted with an alkoxy group having 18 or less carbon atoms such as methoxymethyl or ethoxymethyl, or Represents an alkoxymethyl group.
These crosslinking agents are preferable in that they have high crosslinking efficiency and can improve printing durability.

(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物としては、欧州特許公開(以下、「EP−A」と示す。)第0,133,216号、西独特許第3,634,671号、同第3,711,264号に記載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−A第0,212,482号明細書に記載のアルコキシ置換化合物等が挙げられる。
なかでも、例えば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が好ましく、N−アルコキシメチル誘導体が最も好ましい。
(Ii) As a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group, European Patent Publication (hereinafter referred to as “EP-A”) No. 0,133,216, West Germany Monomer and oligomer-melamine-formaldehyde condensate and urea-formaldehyde condensate described in Patent Nos. 3,634,671 and 3,711,264, EP-A 0,212,482 And alkoxy-substituted compounds described in the book.
Among these, for example, melamine-formaldehyde derivatives having at least two free N-hydroxymethyl groups, N-alkoxymethyl groups or N-acyloxymethyl groups are preferable, and N-alkoxymethyl derivatives are most preferable.

(iii) エポキシ化合物としては、1以上のエポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。
その他、米国特許第4,026,705号、英国特許第1,539,192号の各明細書に記載され、使用されているエポキシ樹脂を挙げることができる。
(Iii) Examples of the epoxy compound include monomers, dimers, oligomers, and polymer epoxy compounds having one or more epoxy groups, such as a reaction product of bisphenol A and epichlorohydrin, a low molecular weight phenol-formaldehyde resin, and the like. Examples include reaction products with epichlorohydrin.
In addition, there can be mentioned epoxy resins described and used in US Pat. No. 4,026,705 and British Patent 1,539,192.

架橋剤として、前記(i)〜(iii)の化合物を用いる場合の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し5〜80質量%が好ましく、10〜75質量%がより好ましく、20〜70質量%が最も好ましい。
前記添加量が、5質量%未満であると、得られる画像記録材料の画像形成層の耐久性が低下することがあり、80質量%を超えると、保存時の安定性が低下することがある。
The amount of addition when the compounds (i) to (iii) are used as the crosslinking agent is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 10 to 75% by mass, based on the total solid content of the image forming layer. 20-70 mass% is the most preferable.
When the addition amount is less than 5% by mass, the durability of the image forming layer of the resulting image recording material may be reduced, and when it exceeds 80% by mass, stability during storage may be reduced. .

本発明においては、架橋剤として、(iv)下記一般式(F−5)で表されるフェノール誘導体も好適に使用することができる。   In the present invention, (iv) a phenol derivative represented by the following general formula (F-5) can also be suitably used as the crosslinking agent.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

前記一般式(F−5)中、Arは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を表し、R、RおよびRは水素原子または炭素数12個以下の炭化水素基を表す。mは2〜4の整数を表し、nは1〜3の整数を表す。
原料の入手性の点で、前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環が好ましい。また、その置換基としては、ハロゲン原子、炭素数12以下の炭化水素基、炭素数12以下のアルコキシ基、炭素数12以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基等が好ましい。
上記のうち、高感度化が可能である点で、Arとしては、置換基を有していないベンゼン環、ナフタレン環、或いは、ハロゲン原子、炭素数6以下の炭化水素基、炭素数6以下のアルコキシ基、炭素数6以下のアルキルチオ基、炭素数12以下のアルキルカルバモイル基、又はニトロ基等を置換基として有するベンゼン環、又はナフタレン環がより好ましい。
In the general formula (F-5), Ar 1 represents an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, and R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms or carbon atoms having 12 or less carbon atoms. Represents a hydrogen group. m represents an integer of 2 to 4, and n represents an integer of 1 to 3.
From the viewpoint of availability of raw materials, the aromatic hydrocarbon ring is preferably a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring. As the substituent, a halogen atom, a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an alkylthio group having 12 or less carbon atoms, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, or the like is preferable.
Among the above, Ar 1 is a benzene ring, naphthalene ring, halogen atom, hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms, or 6 or less carbon atoms, which has no substituent, in that sensitivity can be increased. And a benzene ring or a naphthalene ring having, as a substituent, an alkoxy group of 6 or less, an alkylthio group having 6 or less carbon atoms, an alkylcarbamoyl group having 12 or less carbon atoms, or a nitro group.

上記R、Rで表される炭化水素基としては、合成が容易であるという理由から、メチル基が好ましい。Rで表される炭化水素基としては、感度が高いという理由から、メチル基、ベンジル基等の炭素数7以下の炭化水素基であることが好ましい。さらに、合成の容易さから、mは、2又は3であることが好ましく、nは1又は2であることが好ましい。 As the hydrocarbon group represented by R 1 or R 2 , a methyl group is preferable because synthesis is easy. The hydrocarbon group represented by R 3 is preferably a hydrocarbon group having 7 or less carbon atoms such as a methyl group and a benzyl group because of its high sensitivity. Furthermore, m is preferably 2 or 3 and n is preferably 1 or 2 for ease of synthesis.

〔(G)アルカリ水可溶性高分子化合物〕
本発明に適用可能な架橋層に使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物としては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー等が挙げられる。前記ノボラック樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂が挙げられる。
[(G) Alkali water soluble polymer compound]
Examples of the alkaline water-soluble polymer compound that can be used in the crosslinked layer applicable to the present invention include novolak resins and polymers having a hydroxyaryl group in the side chain. Examples of the novolak resin include resins obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions.

中でも、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、p−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、o−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,o−又はm−/p−,m−/o−,o−/p−混合のいずれでもよい)の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂や、フェノールとパラホルムアルデヒドとを原料とし、触媒を使用せず密閉状態で高圧下、反応させて得られるオルソ結合率の高い高分子量ノボラック樹脂等が好ましい。
前記ノボラック樹脂は、重量平均分子量が800〜300,000で、数平均分子量が400〜60,000のものの中から、目的に応じて好適なものを選択して用いればよい。
Among them, for example, novolak resin obtained from phenol and formaldehyde, novolak resin obtained from m-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from p-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from o-cresol and formaldehyde, octylphenol and formaldehyde Novolak resin obtained, novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol / cresol (m-, p-, o- or m- / p-, m- / o-, o- / p- A high molecular weight polymer having a high ortho bond ratio obtained by reacting under no pressure using a catalyst and using a novolac resin obtained from formaldehyde and phenol and paraformaldehyde, in a sealed state under high pressure without using a catalyst. Rack resin and the like are preferable.
The novolak resin may be selected from those having a weight average molecular weight of 800 to 300,000 and a number average molecular weight of 400 to 60,000 depending on the purpose.

また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシアリール基としては、OH基が1以上結合したアリール基が挙げられる。
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。
本実施の形態に使用可能な、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーとしては、例えば、下記一般式(G−1)〜(G−4)で表される構成単位のうちのいずれか1種を含むポリマーを挙げることができる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。
A polymer having a hydroxyaryl group in the side chain is also preferred, and examples of the hydroxyaryl group in the polymer include an aryl group having one or more OH groups bonded thereto.
Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, and a phenanthrenyl group, and among them, a phenyl group or a naphthyl group is preferable from the viewpoint of availability and physical properties.
Examples of the polymer having a hydroxyaryl group in the side chain that can be used in the present embodiment include any one of the structural units represented by the following general formulas (G-1) to (G-4). The polymer containing can be mentioned. However, the present invention is not limited to these.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

一般式(G−1)〜(G−4)中、R11は、水素原子又はメチル基を表す。R12及びR13は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数10以下の炭化水素基、炭素数10以下のアルコキシ基又は炭素数10以下のアリールオキシ基を表す。また、R12とR13が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘキサン環を形成していてもよい。R14は、単結合又は炭素数20以下の2価の炭化水素基を表す。R15は、単結合又は炭素数20以下の2価の炭化水素基を表す。R16は、単結合又は炭素数10以下の2価の炭化水素基を表す。Xは、単結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合又はアミド結合を表す。pは、1〜4の整数を表す。q及びrは、それぞれ独立に0〜3の整数を表す。 In General Formulas (G-1) to (G-4), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 12 and R 13 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms, an alkoxy group having 10 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 10 or less carbon atoms. R 12 and R 13 may be bonded and condensed to form a benzene ring or a cyclohexane ring. R 14 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 15 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 16 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms. X 1 represents a single bond, an ether bond, a thioether bond, an ester bond or an amide bond. p represents an integer of 1 to 4. q and r each independently represents an integer of 0 to 3.

これらのアルカリ可溶性高分子としては、特開2001−142230号公報の段落番号[0130]〜[0163]に詳細に記載されている。
本実施の形態に使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物は、1種類のみで使用してもよいし、2種類以上を組合せて使用してもよい。
These alkali-soluble polymers are described in detail in paragraph numbers [0130] to [0163] of JP-A No. 2001-142230.
The alkaline water-soluble polymer compound that can be used in this embodiment may be used alone or in combination of two or more.

アルカリ水可溶性高分子化合物の添加量としては、画像形成層の全固形分に対し5〜95質量%が好ましく、10〜95質量%がより好ましく、20〜90質量%が最も好ましい。
アルカリ水可溶性樹脂の添加量が、5質量%未満であると、画像形成層の耐久性が劣化することがあり、95質量%を超えると、画像形成されないことがある。
The addition amount of the alkaline water-soluble polymer compound is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 10 to 95% by mass, and most preferably 20 to 90% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer.
When the addition amount of the alkali water-soluble resin is less than 5% by mass, the durability of the image forming layer may be deteriorated, and when it exceeds 95% by mass, image formation may not be performed.

また、本発明に係る画像形成層に適用できる公知の記録材料としては、特開平8−276558号公報に記載のフェノール誘導体を含有するネガ型画像記録材料、特開平7−306528号公報に記載のジアゾニウム化合物を含有するネガ型記録材料、特開平10−203037号公報に記載されている環内に不飽和結合を有する複素環基を有するポリマーを用いた、酸触媒による架橋反応を利用したネガ型画像形成材料などが挙げられ、これらに記載の画像形成層を本発明におけるネガ型画像形成層としての酸架橋層に適用することができる。   Further, as a known recording material applicable to the image forming layer according to the present invention, a negative type image recording material containing a phenol derivative described in JP-A-8-276558, or described in JP-A-7-306528 is disclosed. Negative recording material containing a diazonium compound, negative type using an acid-catalyzed crosslinking reaction using a polymer having a heterocyclic group having an unsaturated bond in the ring described in JP-A-10-203037 Examples thereof include image forming materials, and the image forming layer described in these materials can be applied to the acid crosslinking layer as the negative image forming layer in the present invention.

[その他の成分]
このようなネガ型の画像形成層には、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。
また、本発明においては、画像形成層が重合硬化層である場合、塗布液の調製中あるいは保存中においてラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像形成層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.1質量%〜約10質量%が好ましい。
[Other ingredients]
In addition to these, various compounds other than these may be further added to such a negative type image forming layer. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. In addition, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can also be suitably used.
Further, in the present invention, when the image forming layer is a polymerization hardened layer, in order to prevent unnecessary thermal polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated double bond capable of radical polymerization during preparation or storage of a coating solution. It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the entire composition. If necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition due to oxygen and unevenly distributed on the surface of the image forming layer in the drying process after coating. Good. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1% by mass to about 10% by mass of the total composition.

また、本発明における画像形成層塗布液中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号や特開平3−208514号に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号、特開平4−13149号に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
Further, in the image forming layer coating solution of the present invention, nonionic surface activity as described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 is used in order to broaden the processing stability against development conditions. An amphoteric surfactant as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like.

両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成層塗布液中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
Specific examples of amphoteric surfactants include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N, N- Examples include betaine type (for example, trade name Amorgen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.).
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image forming layer coating solution is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

さらに、本発明における画像形成層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。   Furthermore, a plasticizer is added to the image forming layer coating liquid in the present invention as needed to impart flexibility of the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate and the like are used.

3.疎水化前駆体含有画像形成層
本発明の平版印刷版用支持体に適用し得るさらなる画像形成層として、加熱または輻射線の照射により疎水性領域を形成しうる化合物(以下、適宜、疎水化前駆体と称する)を含有する感熱画像形成層が挙げられる。このような画像形成層は、(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、または、(b)熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルなどのように、加熱により、互いに融着したり、例えば、マイクロカプセルであれば、その内包物が熱により化学反応を起こしたりして、画像部領域即ち疎水性領域(親インク領域)を形成する化合物を含有し、これらは好ましくは、親水性のバインダー中に分散されているので、画像形成(露光)後は、印刷機シリンダー上に平版印刷版原版を取付け、湿し水および/またはインキを供給することで、特段の現像処理を行なうことなく、機上現像できることが特徴である。
3. Hydrophobized precursor-containing image forming layer As a further image forming layer that can be applied to the lithographic printing plate support of the present invention, a compound capable of forming a hydrophobic region by heating or irradiation with radiation (hereinafter, appropriately hydrophobized precursor) Heat-sensitive image-forming layer containing the body). Such an image-forming layer is fused to each other by heating, such as (a) a fine particle polymer having a heat-reactive functional group, or (b) a microcapsule containing a compound having a heat-reactive functional group. For example, if it is a microcapsule, it contains a compound that forms an image area region, that is, a hydrophobic region (parent ink region) by causing a chemical reaction of the inclusion by heat, and these are preferably Since it is dispersed in a hydrophilic binder, after image formation (exposure), a lithographic printing plate precursor is mounted on a printing machine cylinder, and a dampening solution and / or ink is supplied to perform special development processing. It is characterized in that it can be developed on the machine without performing it.

このような画像形成層は、(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、または、(b)熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを含有する。
上記(a)および(b)に共通の熱反応性官能基としては、例えば、重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基)、付加反応を行うイソシアネート基またはそのブロック体、その反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基)、同じく付加反応を行うエポキシ基、その反応相手であるアミノ基、カルボキシル基またはヒドロキシル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル基またはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とアミノ基またはヒドロキシル基が挙げられる。本発明に用いられる熱反応性官能基は、これらに限定されず、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよい。
Such an image forming layer contains (a) a fine particle polymer having a thermoreactive functional group, or (b) a microcapsule encapsulating a compound having a thermoreactive functional group.
Examples of the heat-reactive functional group common to the above (a) and (b) include, for example, an ethylenically unsaturated group (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group) that undergoes a polymerization reaction, and an addition reaction. Isocyanate group or block thereof, functional group having an active hydrogen atom that is the reaction partner (for example, amino group, hydroxyl group, carboxyl group), epoxy group that also performs addition reaction, amino group that is the reaction partner, carboxyl group Or a hydroxyl group, the carboxyl group and hydroxyl group or amino group which perform a condensation reaction, the acid anhydride and amino group or hydroxyl group which perform a ring-opening addition reaction are mentioned. The thermoreactive functional group used in the present invention is not limited to these, and may be any functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed.

[(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー]
(a)微粒子ポリマーに好適な熱反応性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリルロイル基、ビニル基、アリル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イソシアネート基、酸無水物基およびそれらを保護した基が挙げられる。熱反応性官能基のポリマー微粒子への導入は、ポリマーの重合時に行ってもよいし、重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。
[(A) Fine particle polymer having a thermally reactive functional group]
(A) Thermally reactive functional groups suitable for the fine particle polymer include, for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, epoxy group, amino group, hydroxyl group, carboxyl group, isocyanate group, and acid anhydride group. And groups protecting them. The introduction of the thermally reactive functional group into the polymer fine particles may be performed at the time of polymerizing the polymer, or may be performed by utilizing a polymer reaction after the polymerization.

熱反応性官能基をポリマーの重合時に導入する場合は、熱反応性官能基を有するモノマーを用いて乳化重合または懸濁重合を行うのが好ましい。
熱反応性官能基を有するモノマーの具体例としては、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、2−イソシアネートエチルメタクリレート、そのアルコールなどによるブロックイソシアネート、2−イソシアネートエチルアクリレート、そのアルコールなどによるブロックイソシアネート、2−アミノエチルメタクリレート、2−アミノエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、二官能アクリレート、二官能メタクリレートが挙げられる。本発明に用いられる熱反応性官能基を有するモノマーは、これらに限定されない。
これらのモノマーと共重合可能な、熱反応性官能基を有しないモノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニルが挙げられる。本発明に用いられる熱反応性官能基を有しないモノマーは、これらに限定されない。
When the thermoreactive functional group is introduced during the polymerization of the polymer, it is preferable to perform emulsion polymerization or suspension polymerization using a monomer having a thermoreactive functional group.
Specific examples of the monomer having a heat-reactive functional group include allyl methacrylate, allyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 2-isocyanate ethyl methacrylate, and its blocked alcohol, 2-isocyanate ethyl acrylate. Block isocyanates with alcohol, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, difunctional acrylate, difunctional methacrylate Can be mentioned. The monomer having a heat-reactive functional group used in the present invention is not limited to these.
Examples of the monomer having no thermally reactive functional group that can be copolymerized with these monomers include styrene, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, acrylonitrile, and vinyl acetate. The monomer having no heat-reactive functional group used in the present invention is not limited to these.

熱反応性官能基をポリマーの重合後に導入する場合に用いられる高分子反応としては、例えば、国際公開第96/34316号パンフレットに記載されている高分子反応が挙げられる。   Examples of the polymer reaction used when the thermally reactive functional group is introduced after polymerization of the polymer include the polymer reaction described in International Publication No. 96/34316.

上記(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマーの中でも、画像形成性の観点からは、微粒子ポリマー同志が熱により容易に融着、合体するものが好ましく、また、機上現像性の観点から、その表面が親水性で、水に分散するものが、特に好ましい。また、微粒子ポリマーのみを塗布し、凝固温度よりも低い温度で乾燥して作製したときの皮膜の接触角(空中水滴)が、凝固温度よりも高い温度で乾燥して作製したときの皮膜の接触角(空中水滴)よりも低くなることが好ましい。
微粒子ポリマー表面の親水性をこのような好ましい状態にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性ポリマーあるいはオリゴマー、または親水性低分子化合物を微粒子ポリマー表面に吸着させてやればよいが、微粒子の表面親水化方法はこれらに限定されるものではなく、公知の種々の表面親水化方法を適用することができる。
Among the above-mentioned (a) fine-particle polymers having a heat-reactive functional group, those in which the fine-particle polymers are easily fused and coalesced by heat are preferable from the viewpoint of image formability, and from the viewpoint of on-press developability. Particularly preferred are those having a hydrophilic surface and being dispersed in water. In addition, the film contact angle (water droplets in the film) when it is prepared by applying only the fine particle polymer and drying at a temperature lower than the solidification temperature is the contact of the film when it is prepared by drying at a temperature higher than the solidification temperature. It is preferable to be lower than the corner (water droplet in the air).
In order to bring the hydrophilicity of the surface of the fine particle polymer into such a preferable state, a hydrophilic polymer or oligomer such as polyvinyl alcohol or polyethylene glycol, or a hydrophilic low molecular weight compound may be adsorbed on the surface of the fine particle polymer. The surface hydrophilization method is not limited to these, and various known surface hydrophilization methods can be applied.

(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマーの熱融着温度は、70℃以上であることが好ましいが、経時安定性を考えると80℃以上がさらに好ましい。ただし、あまり熱融着温度が高いと感度の観点からは好ましくないので、80〜250℃の範囲が好ましく、100〜150℃の範囲であることがさらに好ましい。
(a)微粒子ポリマーの平均粒径は、0.01〜20μmであるのが好ましいが、その中でも0.05〜2.0μmであるのがより好ましく、0.1〜1.0μmであるのが好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
(a)微粒子ポリマーの添加量は、画像形成層固形分の50〜98質量%が好ましく、60〜95質量%がさらに好ましい。
(A) The thermal fusing temperature of the fine particle polymer having a heat-reactive functional group is preferably 70 ° C. or higher, but more preferably 80 ° C. or higher in view of stability over time. However, if the heat fusion temperature is too high, it is not preferable from the viewpoint of sensitivity, so the range of 80 to 250 ° C is preferable, and the range of 100 to 150 ° C is more preferable.
(A) The average particle diameter of the fine particle polymer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and more preferably 0.1 to 1.0 μm. preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
(A) The addition amount of the fine particle polymer is preferably 50 to 98% by mass, more preferably 60 to 95% by mass, based on the solid content of the image forming layer.

[(b)熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセル]
(b)マイクロカプセルに好適な熱反応性官能基としては、先に(a)、(b)に共通のものとして挙げた官能基の他、例えば、重合性不飽和基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、酸無水物基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、イソシアネートブロック体などが挙げられる。
[(B) Microcapsules encapsulating a compound having a thermally reactive functional group]
(B) Thermally reactive functional groups suitable for microcapsules include, for example, polymerizable unsaturated groups, hydroxyl groups, carboxyl groups in addition to the functional groups previously mentioned as common to (a) and (b). , Carboxylate groups, acid anhydride groups, amino groups, epoxy groups, isocyanate groups, isocyanate block bodies, and the like.

重合性不飽和基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物であるのが好ましい。そのような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定されずに用いることができる。これらは、化学的形態としては、モノマー、プレポリマー、即ち、二量体、三量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物、およびそれらの共重合体である。   The compound having a polymerizable unsaturated group is preferably a compound having at least one, preferably two or more ethylenically unsaturated bonds such as acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group and allyl group. Such a compound group is widely known in the said industrial field | area, and in this invention, these can be used without being specifically limited. In chemical form, these are monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof.

具体的には、例えば、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸)、そのエステル、不飽和カルボン酸アミドが挙げられる。中でも、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエステルおよび不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミンとのアミドが好ましい。
また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは不飽和カルボン酸アミドと単官能もしくは多官能のイソシアネートまたはエポキシドとの付加反応物、および、単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に用いられる。
また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多官能のアルコール、アミンまたはチオールとの付加反応物、および、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多官能アルコール、アミンまたはチオールとの置換反応物も好適である。
また、別の好適な例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸またはクロロメチルスチレンに置き換えた化合物が挙げられる。
Specific examples include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid), esters thereof, and unsaturated carboxylic acid amides. Of these, esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohols and amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amines are preferred.
In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group, mercapto group and the like with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxide, and a monofunctional Alternatively, a dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.
In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and a halogen group or a tosyloxy group Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols.
Another preferred example is a compound in which the unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid or chloromethylstyrene.

これらの具体的な化合物としては、本願出願人が先に提案した特開2001−27742号公報の段落番号〔0014〕乃至〔0035〕に、また、これらの化合物を内包するマイクロカプセルの詳細な製造方法については、同〔0036〕乃至〔0039〕に記載され、これらの記載は本発明にも適用し得る。   Specific examples of these compounds include the paragraphs [0014] to [0035] of JP-A No. 2001-27742 previously proposed by the applicant of the present invention, and detailed production of microcapsules containing these compounds. The method is described in [0036] to [0039], and these descriptions can also be applied to the present invention.

(b)マイクロカプセルに好適に用いられるマイクロカプセル壁は、三次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、またはこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に熱反応性官能基を有する化合物を導入してもよい。
(b)マイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜20μmであるのが好ましく、0.05〜2.0μmであるのがより好ましく、0.10〜1.0μmであるのが特に好ましい。上記範囲内であると、良好な解像度と経時安定性が得られる。
(B) The microcapsule wall preferably used for the microcapsule has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, or a mixture thereof, and polyurea and polyurethane are particularly preferable. Further, a compound having a thermally reactive functional group may be introduced into the microcapsule wall.
(B) The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.10 to 1.0 μm. Within the above range, good resolution and stability over time can be obtained.

(b)熱反応性官能基を有するマイクロカプセルを用いた画像形成機構では、マイクロカプセル材料、そこに内包物された化合物、さらには、マイクロカプセルが分散された画像形成層中に存在する他の任意成分などが、反応し、画像部領域即ち疎水性領域(親インク領域)を形成するものであればよく、例えば、前記したようなマイクロカプセル同士が熱により融着するタイプ、マイクロカプセル内包物のうち、塗布時にカプセル表面あるいはマイクロカプセル外に滲み出した化合物、あるいは、マイクロカプセル壁に外部から浸入した化合物が、熱により化学反応を起こすタイプ、あるいは、それらのマイクロカプセル材料や内包された化合物が添加された親水性樹脂、あるいは、添加された低分子化合物と反応するタイプ、2種類以上のマイクロカプセル壁材あるいはその内包物に、それぞれ異なる官能基で互いに熱反応するような官能基をもたせるものを用いることによって、マイクロカプセル同士を反応させるタイプなどが挙げられる。
従って、熱によってマイクロカプセル同志が、溶融合体することは画像形成上好ましいことであるが、必須ではない。
(B) In an image forming mechanism using a microcapsule having a heat-reactive functional group, a microcapsule material, a compound encapsulated in the microcapsule material, and another image forming layer in which the microcapsule is dispersed Any component that reacts to form an image area, that is, a hydrophobic area (parent ink area) may be used. For example, a type in which microcapsules are fused together by heat, a microcapsule inclusion Of these, the compound that exudes to the capsule surface or outside the microcapsule at the time of application, or the compound that enters the microcapsule wall from the outside causes a chemical reaction by heat, or the microcapsule material or the encapsulated compound A type that reacts with a hydrophilic resin to which is added, or a low molecular weight compound that has been added, two or more types The microcapsule wall material or its inclusion, by using those to have a functional group such as thermally react with each other in different functional groups each, such as the type of reacting microcapsules each other and the like.
Therefore, although it is preferable for image formation that the microcapsules are fused together by heat, it is not essential.

(b)マイクロカプセルの画像形成層への添加量は、固形分換算で、10〜60質量%であるのが好ましく、15〜40質量%であるのがより好ましい。上記範囲であると、良好な機上現像性と同時に、良好な感度および耐刷性が得られる。   (B) The addition amount of the microcapsules to the image forming layer is preferably 10 to 60% by mass, and more preferably 15 to 40% by mass in terms of solid content. Within the above range, good on-press developability as well as good sensitivity and printing durability can be obtained.

(b)マイクロカプセルを画像形成層に添加する場合、内包物が溶解し、かつ、壁材が膨潤する溶剤をマイクロカプセル分散媒中に添加することができる。このような溶剤によって、内包された熱反応性官能基を有する化合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進される。
このような溶剤は、マイクロカプセル分散媒、マイクロカプセル壁の材質、壁厚および内包物に依存するが、多くの市販されている溶剤から容易に選択することができる。例えば、架橋ポリウレア、ポリウレタン壁からなる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコール類、エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン類、多価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類等が好ましい。
(B) When microcapsules are added to the image forming layer, a solvent that dissolves the inclusions and swells the wall material can be added to the microcapsule dispersion medium. By such a solvent, diffusion of the encapsulated compound having a heat-reactive functional group to the outside of the microcapsule is promoted.
Such a solvent depends on the microcapsule dispersion medium, the material of the microcapsule wall, the wall thickness, and the inclusion, but can be easily selected from many commercially available solvents. For example, in the case of water-dispersible microcapsules composed of crosslinked polyurea and polyurethane walls, alcohols, ethers, acetals, esters, ketones, polyhydric alcohols, amides, amines, fatty acids and the like are preferable.

マイクロカプセル分散液には溶解しないが、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることができる。添加量は、素材の組み合わせにより決まるものであるが、適性値より少ない場合は、画像形成が不十分となり、多い場合は分散液の安定性が劣化する。通常、塗布液の5〜95質量%であるのが好ましく、10〜90質量%であるのがより好ましく、15〜85質量%であるのが特に好ましい。   A solvent that does not dissolve in the microcapsule dispersion but dissolves when the solvent is mixed can also be used. The amount of addition is determined by the combination of materials. When the amount is less than the appropriate value, image formation is insufficient, and when the amount is large, the stability of the dispersion deteriorates. Usually, it is preferably 5 to 95% by mass of the coating solution, more preferably 10 to 90% by mass, and particularly preferably 15 to 85% by mass.

[その他の成分]
本態様における感熱画像形成層には、前記画像形成性を有する(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、または、(b)熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルのほか、目的に応じて種々の添加剤を併用することができる。
(反応開始剤、反応促進剤)
前記感熱画像形成層においては、必要に応じてこれらの反応を開始しまたは促進する化合物を添加してもよい。反応を開始しまたは促進する化合物としては、例えば、熱によりラジカルまたはカチオンを発生するような化合物が挙げられる。具体的には、例えば、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩またはジフェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシルホスフィン、イミドスルホナートが挙げられる。
これらの化合物は、画像形成層固形分の1〜20質量%の範囲で添加するのが好ましく、3〜10質量%の範囲であるのがより好ましい。上記範囲内であると、機上現像性を損なわず、良好な反応開始効果または反応促進効果が得られる。
[Other ingredients]
In the heat-sensitive image forming layer in this embodiment, in addition to (a) a fine particle polymer having a heat-reactive functional group having the image-forming property, or (b) a microcapsule encapsulating a compound having a heat-reactive functional group, Various additives can be used in combination depending on the purpose.
(Reaction initiator, reaction accelerator)
In the thermal image forming layer, a compound that initiates or accelerates these reactions may be added as necessary. Examples of the compound that initiates or accelerates the reaction include compounds that generate radicals or cations by heat. Specific examples include lophine dimers, trihalomethyl compounds, peroxides, azo compounds, onium salts including diazonium salts or diphenyliodonium salts, acyl phosphines, and imide sulfonates.
These compounds are preferably added in the range of 1 to 20% by mass of the solid content of the image forming layer, and more preferably in the range of 3 to 10% by mass. If it is within the above range, good onset reaction reaction effect or reaction promoting effect can be obtained without impairing on-press developability.

(親水性樹脂)
本発明におけるこのような感熱画像形成層には親水性樹脂を添加しても良い。親水性樹脂を添加することにより機上現像性が良好となるばかりか、感熱画像形成層自体の皮膜強度も向上する。
親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有するものが好ましい。
(Hydrophilic resin)
A hydrophilic resin may be added to such a heat-sensitive image forming layer in the present invention. Addition of the hydrophilic resin not only improves the on-press developability, but also improves the film strength of the thermal image forming layer itself.
As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl and the like are preferable.

親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも60質量%、好ましくは少なくとも80質量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー等を挙げることができる。
親水性樹脂の感熱画像形成層への添加量は、画像形成層固形分の5〜40質量%が好ましく、10〜30質量%がさらに好ましい。この範囲内で、良好な機上現像性と皮膜強度が得られる。
Specific examples of hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and Salts thereof, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl Homopolymers and copolymers of methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Homopolymers of limers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide having a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight And copolymers, methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, and the like.
The addition amount of the hydrophilic resin to the heat-sensitive image forming layer is preferably 5 to 40% by mass, more preferably 10 to 30% by mass based on the solid content of the image forming layer. Within this range, good on-press developability and film strength can be obtained.

このような熱応答性の画像形成層(感熱画像形成層)を、赤外線レーザ光の走査露光等により画像形成するため、(A)赤外線吸収剤を画像形成層に含有させる。好ましい添加量は、画像形成層塗布液全固形分中、1〜30質量%が好ましく、5〜25質量%がより好ましい。含有量が上記範囲にあると、感度、画像形成性ともに優れた画像形成層となる。   In order to form an image of such a heat-responsive image forming layer (heat-sensitive image forming layer) by scanning exposure of infrared laser light or the like, (A) an infrared absorber is contained in the image forming layer. A preferable addition amount is preferably 1 to 30% by mass and more preferably 5 to 25% by mass in the total solid content of the image forming layer coating solution. When the content is in the above range, an image forming layer excellent in both sensitivity and image formability is obtained.

疎水化前駆体を含む画像形成層は、必要な上記各成分を溶剤に溶解、もしくは分散し、塗布液を調製し、前記支持体の親水性表面上に塗布される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。   The image forming layer containing a hydrophobizing precursor is prepared by dissolving or dispersing each of the necessary components in a solvent to prepare a coating solution, which is coated on the hydrophilic surface of the support. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

(その他の平版印刷版原版)
本発明は、赤外線レーザ露光以外の平版印刷版原版にも好ましく用いることができる。以下に、赤外線レーザ露光以外の平版印刷版原版および画像形成層の例について詳細に説明する。
(Other lithographic printing plate precursors)
The present invention can be preferably used for lithographic printing plate precursors other than infrared laser exposure. Hereinafter, examples of the planographic printing plate precursor and the image forming layer other than the infrared laser exposure will be described in detail.

1.ポジ型画像形成層
ポジ型画像形成層の好ましい例としては、以下に示す従来公知のポジ型画像形成層[(a)〜(b)]を挙げることができる。
1. Positive type image forming layer Preferable examples of the positive type image forming layer include conventionally known positive type image forming layers [(a) to (b)] shown below.

(a)ナフトキノンジアジドとノボラック樹脂とを含有してなる従来から用いられているコンベンショナルポジ型画像形成層。
(b)酸分解性基で保護されたアルカリ可溶性化合物と酸発生剤との組み合わせを含有してなる化学増幅型ポジ型画像形成層。
(A) Conventionally used conventional positive image forming layer comprising naphthoquinonediazide and novolak resin.
(B) A chemically amplified positive image-forming layer comprising a combination of an alkali-soluble compound protected with an acid-decomposable group and an acid generator.

上記(a)及び(b)は、いずれも当分野においてはよく知られたものであるが、以下に示すポジ型画像形成層((c)〜(f))と組み合わせて用いることがさらに好適である。   The above (a) and (b) are both well known in the art, but are more preferably used in combination with the positive type image forming layers ((c) to (f)) shown below. It is.

(c)特開平10−282672号に記載の現像処理不要な平版印刷版を作製することが出来る、スルホン酸エステルポリマーと赤外線吸収剤とを含有してなるレーザー感応性ポジ型画像形成層。
(d)EP652483号、特開平6−502260号に記載の現像処理不要な平版印刷版を作製することが出来る、カルボン酸エステルポリマーと、酸発生剤若しくは赤外線吸収剤とを含有してなるレーザー感応性ポジ型画像形成層。
(e)特開平11−095421号に記載のアルカリ可溶性化合物、及び熱分解性でありかつ分解しない状態ではアルカリ可溶性化合物の溶解性を実質的に低下させる物質を含有してなるレーザー感応性ポジ型画像形成層。
(f)アルカリ現像溶出型ポジ平版印刷版を作製することができる、赤外線吸収剤、ノボラック樹脂、及び溶解抑止剤を含有してなるアルカリ現像溶出ポジ型画像形成層。
(C) A laser-sensitive positive image-forming layer containing a sulfonate polymer and an infrared absorber, which can produce a lithographic printing plate that does not require development processing as described in JP-A-10-282672.
(D) Laser sensitivity comprising a carboxylic acid ester polymer and an acid generator or an infrared absorber capable of producing a lithographic printing plate which does not require development processing as described in EP652483 and JP-A-6-502260. Positive image forming layer.
(E) a laser-sensitive positive type comprising an alkali-soluble compound described in JP-A-11-095421 and a substance that is thermally decomposable and substantially reduces the solubility of the alkali-soluble compound in a state where it is not decomposed. Image forming layer.
(F) An alkali development elution positive image forming layer comprising an infrared absorber, a novolak resin, and a dissolution inhibitor, which can produce an alkali development elution type positive lithographic printing plate.

本発明の平版印刷版用支持体上には、前記画像記録塗布液などの所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かして塗布することにより画像形成層を形成し、平版印刷版原版を製造することができる。平版印刷版原版には、画像形成層に加え、目的に応じて、保護層、樹脂中間層、下塗り層、バックコート層なども同様にして形成することができる。   On the lithographic printing plate support of the present invention, an image forming layer is formed by dissolving a coating liquid component of the desired layer such as the image recording coating liquid in a solvent and coating it, and a lithographic printing plate precursor is produced. can do. In the lithographic printing plate precursor, in addition to the image forming layer, a protective layer, a resin intermediate layer, an undercoat layer, a backcoat layer, and the like can be formed in the same manner depending on the purpose.

ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を、また、水溶性の画像形成層を用いる場合には、水、或いはアルコール類等の水性溶媒を挙げることができるがこれに限定されるものではなく、画像形成層の物性にあわせて適宜選択すればよい。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に0.5〜5.0g/mが好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, etc. When the formation layer is used, water or an aqueous solvent such as alcohols can be used, but the present invention is not limited to this, and it may be appropriately selected according to the physical properties of the image formation layer. These solvents are used alone or in combination.
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.
The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferable for the photosensitive printing plate. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the photosensitive film deteriorate.
Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

以上のようにして、本発明の平版印刷版用支持体を用いて得られた平版印刷版原版は、親水性が高く、また、その持続性に優れた表面を備えているため、画像形成後には、非画像部の印刷汚れ性が改善され、厳しい印刷条件においても、高画質の印刷物が多数枚得られる。   As described above, the lithographic printing plate precursor obtained using the lithographic printing plate support of the present invention has high hydrophilicity and has a surface having excellent durability, so that after image formation. The printing stain resistance of the non-image area is improved, and a large number of high-quality printed materials can be obtained even under severe printing conditions.

以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらによって限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, the scope of the present invention is not limited by these.

〔実施例1〜9、比較例1〕
―アルミニウム基板の作製―
表1記載の組成の使用済み飲料缶(UBC)地金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作成した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った。引き続き冷間圧延を行って、厚さ0.3mm、幅1060mmに仕上げ、アルミニウム板AL−1、AL−2を得た。組成がJIS A 1050のアルミニウム材料に上記と同様の処理をしてアルミニウム板AL−3を得た。それぞれの組成を表1に示す。なお、表中の数値の単位は質量%である。
[Examples 1 to 9, Comparative Example 1]
-Fabrication of aluminum substrate-
A molten beverage was prepared using a used beverage can (UBC) metal bar having the composition shown in Table 1, and after performing the molten metal treatment and filtration, an ingot having a thickness of 500 mm and a width of 1200 mm was prepared by a DC casting method. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, it was kept soaked at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Furthermore, heat treatment was performed at 500 ° C. using a continuous annealing machine. Subsequently, cold rolling was performed to finish the sheet to a thickness of 0.3 mm and a width of 1060 mm to obtain aluminum plates AL-1 and AL-2. An aluminum plate AL-3 was obtained by treating the aluminum material having the composition of JIS A 1050 in the same manner as described above. The respective compositions are shown in Table 1. In addition, the unit of the numerical value in a table | surface is the mass%.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

<表面疎面化処理>
得られた各アルミニウム板を以下に示す表面疎面化処理に供して、平版印刷版用支持体P−1〜P−5を得た。
表面処理は、以下の(a)〜(e)の処理を連続的に(表2に記載のとおり)行うことにより実施した。
<Surface roughening treatment>
Each obtained aluminum plate was subjected to the surface roughening treatment shown below to obtain lithographic printing plate supports P-1 to P-5.
The surface treatment was performed by performing the following treatments (a) to (e) continuously (as described in Table 2).

Figure 2008216364
Figure 2008216364

(a)ブラシと研磨剤を用いる機械的粗面化処理
比重1.13のパミストン(平均粒径30μm)を水に懸濁させた懸濁液を研磨スラリー液として用い、回転ブラシを1本とし、粗面化後のRaが0.58μmとなるようにブラシ回転数250rpmで機械的粗面化を行った。
(A) Mechanical surface roughening treatment using a brush and an abrasive A suspension of pumiston (average particle size 30 μm) having a specific gravity of 1.13 suspended in water is used as a polishing slurry, and one rotating brush is used. Then, mechanical surface roughening was performed at a brush rotational speed of 250 rpm so that Ra after roughening was 0.58 μm.

ローラ状ブラシとしては、毛長50mm、毛の直径0.295mmの6・10ナイロンの毛を、直径300mmのステンレス鋼製ローラの表面に孔を開けて密になるように植設したものを用いた。
ブラシ下部の2本の支持ローラは、直径200mmのステンレス鋼製ローラをの中心間の距離300mmで用いた。
As the roller-shaped brush, use is made of 6/10 nylon bristles with a bristles length of 50 mm and bristles diameter of 0.295 mm, which are planted so as to be dense by making holes on the surface of a 300 mm diameter stainless steel roller. It was.
As the two supporting rollers under the brush, a stainless steel roller having a diameter of 200 mm was used at a distance of 300 mm between the centers.

ローラ状ブラシは、ブラシを回転させる駆動モータの負荷がブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kwプラスになる圧力で押し付け、粗面化面における回転方向がアルミニウムウェブWの搬送方向と同方向になるように回転させた。   The roller-like brush is pressed with a pressure of 7 kW plus against the load before the brush motor is pressed against the aluminum plate, and the rotation direction on the roughened surface is the conveyance direction of the aluminum web W. It was rotated to be in the same direction.

研磨材スラリーの温度と比重とから研磨材の濃度を連続的に求め、濃度が一定になるように、水およびパミストンをスラリー回収槽に補充しつつ、機械的粗面化を行った。また、機械的粗面化において粉砕され、細粒化したパミストンは、粒子径調整部における分級器で除去し、前記研磨材スラリー中のパミストンの粒度分布がほぼ一定になるようにした。なお、分級器としては、サイクロンを用いた。   The concentration of the abrasive was continuously determined from the temperature and specific gravity of the abrasive slurry, and mechanical surface roughening was performed while replenishing the slurry collection tank with water and pumiston so that the concentration was constant. Further, the pumicestone pulverized and refined in the mechanical surface roughening was removed by a classifier in the particle diameter adjusting unit so that the particle size distribution of the pamiston in the abrasive slurry was substantially constant. A cyclone was used as the classifier.

(b)アルカリ水溶液中でのエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度370g/L、アルミニウムイオン濃度100g/L、温度60℃の水溶液をスプレー管から吹き付けて、エッチング処理を行った。アルミニウム板の後に電気化学的粗面化処理を施す面のエッチング量は、3g/mであった。その後、ニップローラで液切りし、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、更に、扇状に噴射水が広がるスプレーチップを80mm間隔で有する構造を有するスプレー管を用いて5秒間水洗処理した後、ニップローラで液切りした。
(B) Etching treatment in alkaline aqueous solution An aluminum plate was sprayed with an aqueous solution having a caustic soda concentration of 370 g / L, an aluminum ion concentration of 100 g / L, and a temperature of 60 ° C. to perform an etching treatment. The etching amount of the surface subjected to the electrochemical roughening after the aluminum plate was 3 g / m 2 . Thereafter, the liquid is drained with a nip roller, washed with water using a free-falling curtain-like liquid film, and further sprayed with a spray tube having a structure having spray tips spread in a fan shape at intervals of 80 mm. After washing with water for 2 seconds, the liquid was drained with a nip roller.

(c)電気化学的粗面化処理
特開2005−35034号公報の35ページ(b)から36ページ(h)に記載の方法により、電気化学的粗面化処理を実施した。UBCアルミニウム材に対して電気化学的粗面化処理を行った支持体P−1では、部分的な未エッチング部が発生して、均一な表面構造が得られなかった。
(C) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out by the method described in JP-A-2005-35034, pages 35 (b) to 36 (h). In the support P-1 in which the electrochemical roughening treatment was performed on the UBC aluminum material, a partial unetched portion was generated, and a uniform surface structure could not be obtained.

(d)陽極酸化処理
特開2005−35034号公報の図4に示される陽極酸化処理装置を用いて陽極酸化処理を行った。電解液としては、170g/L硫酸水溶液に硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を5g/Lとした電解液(温度33℃)を用いた。陽極酸化処理は、アルミニウム板がアノード反応する間(約16秒)の平均電流密度が15A/dmとなるように行い、最終的な酸化皮膜量は2.4g/mであった。なお、アルミニウム板がアノード反応にあずかる時間は16秒であった。
その後、ニップローラで液切りし、水洗し、更にニップローラで液切りした。
(D) Anodizing treatment Anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus shown in FIG. 4 of JP-A-2005-35034. As the electrolytic solution, an electrolytic solution (temperature 33 ° C.) in which aluminum sulfate was dissolved in a 170 g / L sulfuric acid aqueous solution to make the aluminum ion concentration 5 g / L was used. The anodizing treatment was performed so that the average current density during the anodic reaction of the aluminum plate (about 16 seconds) was 15 A / dm 2 , and the final oxide film amount was 2.4 g / m 2 . The time for the aluminum plate to participate in the anodic reaction was 16 seconds.
Thereafter, the liquid was drained with a nip roller, washed with water, and further drained with a nip roller.

(e)シリケート処理
アルミニウム板をケイ酸ソーダ2.5質量%水溶液(液温20℃)に10秒間浸せきさせた。蛍光X線分析装置で測定したアルミニウム板表面のSi量は、3.5mg/mであった。その後、ニップローラで液切りし、水洗し、更にニップローラで液切りした。更に、90℃の風を10秒間吹き付けて乾燥させた。
(E) Silicate treatment The aluminum plate was immersed in a 2.5% by mass aqueous solution of sodium silicate (liquid temperature 20 ° C.) for 10 seconds. The amount of Si on the surface of the aluminum plate measured with a fluorescent X-ray analyzer was 3.5 mg / m 2 . Thereafter, the liquid was drained with a nip roller, washed with water, and further drained with a nip roller. Furthermore, 90 degreeC wind was blown for 10 seconds and it was made to dry.

―親水性層の形成―
1.特定ポリマー(1−28)の合成
1L三口フラスコにアクリルアミド17.3g、メルカプトプロピルトリメトキシシラン1.5g、N−(4−メチルフェニルスルホニル)メタクリル酸イミド 15g、及び1−メトキシ−2−プロパノール 200mlを取り、80℃窒素気流下で、あらかじめ1−メトキシ−2−プロパノール 6mlに溶解したジメチルー2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート) 216mg0.5gを加えた。4時間攪拌しながら同温度に保った後、室温まで冷却した。エタノール100mlを加え、析出した固体をろ取し、水洗して親水性ポリマーを得たGPC(ポリエチレンオキシド標準)により重量平均分子量12,000のポリマーであり、13C−NMR(DMSO−d)により末端にトリメトキシシリル基(50.0ppm)が導入された、前記例示化合物(1−28)の構造を有するポリマーであることが確認された。本発明の他のポリマーについても、同様にして合成した。
-Formation of hydrophilic layer-
1. Synthesis of Specific Polymer (1-28) In a 1 L three-necked flask, 17.3 g of acrylamide, 1.5 g of mercaptopropyltrimethoxysilane, 15 g of N- (4-methylphenylsulfonyl) methacrylimide, and 200 ml of 1-methoxy-2-propanol And 216 mg of 216 mg of dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) previously dissolved in 6 ml of 1-methoxy-2-propanol was added under a nitrogen stream at 80 ° C. The mixture was kept at the same temperature with stirring for 4 hours, and then cooled to room temperature. 100 ml of ethanol was added, and the precipitated solid was collected by filtration and washed with water to obtain a hydrophilic polymer. The polymer had a weight average molecular weight of 12,000 by GPC (polyethylene oxide standard). 13 C-NMR (DMSO-d 6 ) Thus, it was confirmed that the polymer had the structure of the exemplified compound (1-28) in which a trimethoxysilyl group (50.0 ppm) was introduced at the terminal. Other polymers of the present invention were synthesized in the same manner.

2.支持体表面へのゾルゲル液組成物による親水性層の形成
2−1 塗布液組成物の調整
以下の組成によりポリマー溶液1、触媒液1をそれぞれ調整し、テトラメトキシシランと混合してゾルゲル液組成物1を作成した。ゾルゲル液組成物1は、20℃にて2時間撹拌した。なお、ポリマー溶液1の溶媒は、ポリマーの水への溶解性が低い場合には、メタノールを添加して調整した。
<ポリマー溶液1>
特定ポリマー[例示化合物(1−28)] 0.5g
トリエチルアミン 30mg
水 12.6g
<触媒液1>
エタノール 54.9g
アセチルアセトン 2.46g
テトラエトキシチタン 2.81g
水 0.44g
<ゾルゲル液組成物1>
ポリマー溶液1 13.1g
触媒液1 2.9g
テトラメトキシシラン 1.49g
2. Formation of hydrophilic layer with sol-gel liquid composition on support surface 2-1 Adjustment of coating liquid composition Polymer solution 1 and catalyst liquid 1 were adjusted according to the following compositions, mixed with tetramethoxysilane, and sol-gel liquid composition Object 1 was created. The sol-gel liquid composition 1 was stirred at 20 ° C. for 2 hours. The solvent of the polymer solution 1 was adjusted by adding methanol when the solubility of the polymer in water was low.
<Polymer solution 1>
Specific polymer [Exemplary compound (1-28)] 0.5 g
Triethylamine 30mg
12.6g of water
<Catalyst solution 1>
Ethanol 54.9g
Acetylacetone 2.46g
Tetraethoxytitanium 2.81g
0.44 g of water
<Sol-gel solution composition 1>
Polymer solution 1 13.1 g
Catalyst solution 1 2.9 g
Tetramethoxysilane 1.49g

上記ゾルゲル液組成物1ならびに、下記により調整した希釈液1を用いて、塗布液組成物1を作成した。
<希釈液1>
水 74.1g
日産化学工業(株)製 スノーテックスC(20%水分散物) 26g
スルホコハク酸ジオクチルナトリウム(5%水溶液) 5.5g
<塗布液組成物1>
ゾルゲル液組成物1 17.54g
希釈液1 10.1g
A coating liquid composition 1 was prepared using the sol-gel liquid composition 1 and the dilution liquid 1 prepared as follows.
<Diluent 1>
74.1g of water
26 g of Snowtex C (20% aqueous dispersion) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
Dioctyl sodium sulfosuccinate (5% aqueous solution) 5.5 g
<Coating liquid composition 1>
Sol-gel composition 1 17.54g
Diluent 1 10.1 g

その後、アルミニウム基材[組成及び処理方法は表2に記載のとおりである]上に、上記塗布液組成物を乾燥後の塗布量が0.2g/mとなるように塗布し、120℃で10分間加熱乾燥させて親水性層を形成し、平版印刷版用支持体とした。本発明の他のポリマーについても、同様にして塗布液組成物を作成した[表4に記載の種類]。 Thereafter, the coating composition was applied onto an aluminum substrate [the composition and treatment method are as shown in Table 2] so that the coating amount after drying was 0.2 g / m 2, and 120 ° C. And dried for 10 minutes to form a hydrophilic layer, which was used as a lithographic printing plate support. A coating solution composition was prepared in the same manner for other polymers of the present invention [types shown in Table 4].

3.接触角の評価
得られた支持体上の表面接触角(空中水滴)を協和界面科学(株)製、CA−Zを用いて測定し、上記塗布液組成物を塗布しないアルミニウム基板と比較した。結果を表3に示す(単位:度)。表3から、以下のことがわかる。
基板表面の表面物性は、本発明のポリマーにより制御され、好ましい親水化がなされ、低い接触角を示すことが確認できる。低純度のアルミニウムから得られたアルミニウム支持体P−1〜P−4においても親水化の効果が高いことがわかる。また、P−1とP−2とを比較すると、電解疎面化処理を行わない基板で本発明の効果が高いこと、さらに、P−2とP−3とを比較すると、シリケート処理を施した基板で親水性向上効果が特に高いことがわかる。
3. Evaluation of contact angle The surface contact angle (airborne water droplet) on the obtained support was measured using CA-Z manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., and compared with an aluminum substrate not coated with the coating solution composition. The results are shown in Table 3 (unit: degree). Table 3 shows the following.
It can be confirmed that the surface physical properties of the substrate surface are controlled by the polymer of the present invention, and are preferably hydrophilized and exhibit a low contact angle. It can be seen that also in the aluminum supports P-1 to P-4 obtained from low-purity aluminum, the effect of hydrophilization is high. Further, when P-1 and P-2 are compared, the effect of the present invention is high with a substrate that is not subjected to electrolytic surface-roughening treatment. Further, when P-2 and P-3 are compared, silicate treatment is performed. It can be seen that the effect of improving hydrophilicity is particularly high with the prepared substrate.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

−サーマルポジ型平版印刷版原版−
(画像形成層の形成)
前記のようにして得られた平版印刷版用支持体に下記の方法で画像形成層を形成し、本発明ならびに比較例1のポジ型平版印刷版原版を得た(表4に記載)。すなわち、以下の画像形成層用塗布液1をバーコーターで塗布し、TABAI社製PERFECT OVEN PH200にて130℃50秒間乾燥し、乾燥後の塗布量が1.3g/mの画像形成層(下層)を設けた。その後、以下の画像形成層用塗布液2をバーコーターで塗布し、TABAI社製PERFECT OVEN PH200にて130℃60秒間乾燥し、乾燥後の塗布量が0.26/mの画像形成層を設け、実施例1の赤外線感光性平版印刷版原版を得た。
なお、表4において、「ポリマー」の欄に「なし」の記載がある比較用試料は、前記ゾルゲル塗布液組成物を塗布することによる親水性層の形成を行うことなく、表2に記載の如く表面処理されたアルミニウム基板上に画像形成層を塗布したことを示している。
-Thermal positive lithographic printing plate precursor-
(Formation of image forming layer)
An image forming layer was formed on the lithographic printing plate support obtained as described above by the following method to obtain positive lithographic printing plate precursors of the present invention and Comparative Example 1 (described in Table 4). That is, the following image forming layer coating solution 1 was applied with a bar coater, dried at 130 ° C. for 50 seconds using a TARFAI PERFECT OVEN PH200, and an image forming layer having a coating amount after drying of 1.3 g / m 2 ( Lower layer) was provided. Then, the following coating solution 2 for image forming layer was applied with a bar coater, dried at 130 ° C. for 60 seconds with a TARFAI PERFECT OVEN PH200, and an image forming layer having a coating amount after drying of 0.26 / m 2 was formed. And an infrared-sensitive lithographic printing plate precursor of Example 1 was obtained.
In Table 4, the comparative sample having “None” in the “Polymer” column does not form a hydrophilic layer by applying the sol-gel coating liquid composition, and is described in Table 2. It shows that the image forming layer was applied on the surface-treated aluminum substrate.

(ポジ型画像形成層用塗布液1)
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/
アクリロニトリル/メタクリル酸メチル共重合体 1.9g
(36/34/30質量%:重量平均分子量50000、酸価2.65)
・m/pクレゾールノボラック 0.3g
(m/p=6/4、重量平均分子量4500、未反応クレソ゛ール0.8質量%含有)
・シアニン染料A(下記構造) 0.13g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.13g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.19g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.032g
・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−2−
ナフタレンスルホン酸イオンに変えたもの 0.078g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF780、大日本インキ化学
工業(株)製メチルエチルケトン30%) 0.2g
・メチルエチルケトン 16.0g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g
・γ−ブチロラクトン 8.0g
(Positive type image forming layer coating solution 1)
N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide /
Acrylonitrile / methyl methacrylate copolymer 1.9 g
(36/34/30% by mass: weight average molecular weight 50000, acid value 2.65)
・ 0.3 g of m / p cresol novolak
(M / p = 6/4, weight average molecular weight 4500, unreacted cresol containing 0.8% by mass)
・ Cyanine dye A (the following structure) 0.13g
・ 4,4′-bishydroxyphenylsulfone 0.13 g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.19g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate 0.032 g
・ The counter ion of ethyl violet is 6-hydroxy-2-
0.078 g changed to naphthalene sulfonate ion
-Fluorosurfactant (Megafac F780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. 30% methyl ethyl ketone) 0.2g
・ Methyl ethyl ketone 16.0g
1-methoxy-2-propanol 8.0g
・ Γ-Butyrolactone 8.0g

Figure 2008216364
Figure 2008216364

(ポジ型画像形成層用塗布液2)
・フェノール/m/p クレゾールノボラック 0.27g
(フェノール/m/p=5/3/2 質量平均分子量5000、
未反応クレゾール0.8質量%含有)
・アクリル系樹脂B(下記構造) 0.042g
・シアニン染料A(前記構造) 0.019g
・長鎖アルキル基含有ポリマーA 0.042g
・スルホニウム塩化合物C(下記構造) 0.065g
・アンモニウム化合物D(下記構造) 0.004g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF780、大日本インキ化学
工業(株)製メチルエチルケトン30%) 0.02g
・フッ素系界面界面活性剤E(下記構造)
(メチルエチルケトン60%) 0.032g
・メチルエチルケトン 13.0g
・1−メトキシ−2−プロパノール 7.0g
(Positive type image forming layer coating solution 2)
・ Phenol / m / p Cresol novolak 0.27g
(Phenol / m / p = 5/3/2 Weight average molecular weight 5000,
Contains 0.8% by mass of unreacted cresol)
・ Acrylic resin B (the following structure) 0.042g
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.019 g
・ Long chain alkyl group-containing polymer A 0.042 g
・ Sulphonium salt compound C (the following structure) 0.065g
-Ammonium compound D (the following structure) 0.004 g
-Fluorosurfactant (Megafac F780, Dainippon Ink & Chemicals, Inc. 30% methyl ethyl ketone) 0.02g
・ Fluorosurfactant E (the following structure)
(Methyl ethyl ketone 60%) 0.032 g
・ Methyl ethyl ketone 13.0g
・ 1-methoxy-2-propanol 7.0g

Figure 2008216364
Figure 2008216364

Figure 2008216364
Figure 2008216364

[合成例1:(a)長鎖アルキル基含有ポリマーAの合成]
コンデンサー、攪拌機を取り付けた1000ml三口フラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール59gを入れ、80℃に加熱した。窒素気流下、n−メタクリル酸ステアリル42.0g、メタクリル酸16.0g、重合開始剤V−601(和光純薬製)0.714g、及び1−メトキシ−2−プロパノール59gからなる溶液を2時間半かけて滴下した。更に、80℃で2時間反応させた。反応混液を室温に冷却して、1000mlの水に反応液を注ぎ込んだ。デカンテーション後、メタノールで洗浄し、得られた液状生成物を減圧乾燥することで、下記に示す(a)長鎖アルキル基含有ポリマーA73.5gを得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、質量平均分子量を測定した結果、66,000であった。
[Synthesis Example 1: (a) Synthesis of long-chain alkyl group-containing polymer A]
A 1000 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 59 g of 1-methoxy-2-propanol and heated to 80 ° C. Under a nitrogen stream, a solution consisting of 42.0 g of n-stearyl methacrylate, 16.0 g of methacrylic acid, 0.714 g of a polymerization initiator V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), and 59 g of 1-methoxy-2-propanol was used for 2 hours. It was dripped over half. Furthermore, it was made to react at 80 degreeC for 2 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into 1000 ml of water. After decantation, the product was washed with methanol, and the obtained liquid product was dried under reduced pressure to obtain 73.5 g of (a) a long-chain alkyl group-containing polymer A shown below. The mass average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance was 66,000.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

−平版印刷版原版の評価−
得られた平版印刷版原版をCreo社製TrendSetter3244VFSにて、ドラム回転速度150rpmで露光エネルギーを変えてパワー露光した。その後、。その後、富士フイルム(株)製自動現像機LP−940Hに、富士フイルム(株)製現像液DT−2(1:8で希釈したもの)及び富士フイルム(株)製フィニッシャーFG−1(1:1で希釈したもの)を仕込み、現像液温度32℃、現像時間12秒で現像処理した。この時の現像液の電導度は43mS/cmであった。現像後の平版印刷版を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロン226を用いて印刷した。
画像形成層の膜減り、汚れ防止性、放置汚れ防止性を下記の方法で評価した。
-Evaluation of lithographic printing plate precursors-
The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to power exposure using a TrendSetter 3244VFS manufactured by Creo at a drum rotation speed of 150 rpm and changing the exposure energy. afterwards,. Then, Fujifilm Corporation's automatic processor LP-940H was loaded with Fujifilm Corporation developer DT-2 (diluted 1: 8) and Fujifilm Corporation Finisher FG-1 (1: 1) and developed with a developer temperature of 32 ° C. and a development time of 12 seconds. The electric conductivity of the developer at this time was 43 mS / cm. The developed lithographic printing plate was printed using a printing machine Lithlon 226 manufactured by Komori Corporation.
The film formation of the image forming layer was reduced, the anti-stain property and the anti-stain property were evaluated by the following methods.

(1)画像部の耐刷性評価
前記印刷評価において、どれだけの枚数が十分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて評価した。この数字が大きいほど、耐刷性に優れている。
(1) Evaluation of printing durability of image portion In the printing evaluation, it was visually evaluated how many sheets could be printed while maintaining a sufficient ink density. The larger this number, the better the printing durability.

(2)汚れ防止性
三菱ダイヤ型F2印刷機(三菱重工業社製)で、DIC−GEOS(s)紅のインキを用いて印刷し、1万枚印刷した後におけるブランケットの汚れを目視で評価した。
汚れ防止性をブランケットの汚れの程度が少ない方から◎、○、△、×の4段階で評価した。
◎:全く汚れず
○:目視では汚れが確認できず(ルーペで確認できる程度)
△:部分的に汚れる
×:完全に汚れる
(2) Anti-stain property The blanket was visually evaluated after printing with DIC-GEOS (s) red ink on a Mitsubishi diamond F2 printer (Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.) and printing 10,000 sheets. .
The anti-smudge property was evaluated in four grades: ◎, ○, Δ, and × from the side where the degree of dirt on the blanket was small.
◎: No dirt at all ○: No dirt can be visually confirmed (to the extent that it can be confirmed with a magnifying glass)
Δ: Partially dirty ×: Completely dirty

(3)放置汚れ防止性
上記汚れ防止性の評価において、1万枚印刷した後、版を1時間放置し、その後、再度印刷を開始して、非画像部のブランケットの汚れを目視で評価した。
なお、放置汚れ防止性の評価基準は、上記汚れ防止性の評価基準と同様のものを用いた。
(4)画像部の現像による膜減りの評価
未露光の平版印刷版原版をその後、富士フイルム(株)製自動現像機LP−940Hに、富士フイルム(株)製現像液DT−2(1:8で希釈したもの)及び富士フイルム(株)製フィニッシャーFG−1(1:1で希釈したもの)を仕込み、現像液温度32℃、現像時間12秒で現像処理した。この時の現像液の電導度は43mS/cmであった。
現像前後の感光層の光学濃度を測定し、現像前の濃度を100%としたときの相対濃度を現像膜減りとして表した。
(3) Anti-stain anti-stain property In the above anti-stain property evaluation, after printing 10,000 sheets, the plate was allowed to stand for 1 hour, then printing was started again, and the non-image area blanket was visually evaluated. .
In addition, the evaluation criteria for the anti-stain property were the same as the evaluation criteria for the anti-stain property.
(4) Evaluation of film reduction due to development of image area The unexposed lithographic printing plate precursor was then applied to an automatic developing machine LP-940H manufactured by Fuji Film Co., Ltd. and developed solution DT-2 (1: 8) and Fujifilm Co., Ltd. finisher FG-1 (diluted 1: 1) were charged and developed at a developer temperature of 32 ° C. and a development time of 12 seconds. The electric conductivity of the developer at this time was 43 mS / cm.
The optical density of the photosensitive layer before and after development was measured, and the relative density when the density before development was 100% was expressed as a reduction in the developed film.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

表4の結果から、以下のことがわかる。実施例1〜9の平版印刷版原版は、現像膜減りが抑制され、耐刷性、汚れ防止性、放置汚れ防止性がいずれも良好であり、比較的純度の低いアルミニウム基板を用いた実施例1〜8においても、高純度アルミニウム基板を用いた実施例9と同等の効果を発現することがわかる。なかでも、シリケート処理を行い、電解疎面化を行っていない実施例2、実施例4〜8は、特に優れた性能を示し、従来の平版印刷版支持体を用いた場合に比べて製造工程を簡略化しても、優れた予想外の効果を奏することがわかる。
これに対し、本発明に係る親水性層を設けなかった比較例1の平版印刷版原版は、基板との密着性に起因する耐刷性、及び、汚れ防止性のいずれにおいても、本発明に比べて性能が劣っていた。
From the results in Table 4, the following can be understood. The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 9 are examples in which the decrease in the developed film is suppressed, the printing durability, the antifouling property, and the neglected antifouling property are all good, and an aluminum substrate having a relatively low purity is used. It can be seen that the same effects as those in Example 9 using a high-purity aluminum substrate are also exhibited in 1 to 8. Among them, Example 2 and Examples 4 to 8 which were subjected to silicate treatment and were not subjected to electrolytic surface-roughening exhibited particularly excellent performance, and the production process compared to the case where a conventional lithographic printing plate support was used. It can be seen that excellent and unexpected effects can be obtained even if the above is simplified.
On the other hand, the planographic printing plate precursor of Comparative Example 1 in which the hydrophilic layer according to the present invention was not provided is in accordance with the present invention both in terms of printing durability due to adhesion to the substrate and stain resistance. The performance was inferior.

〔実施例10〕
実施例1記載の平版印刷版原版のアルミニウム支持体を、粗面化処理を施さないポリエチレンテレフタレートフィルム(膜厚0.3mm)とした以外は、前記実施例1と同様に親水層及び画像形成層を設けて実施例10の平版印刷版原版を得た。この平版印刷版原版を実施例1と同様に評価した。
その結果、耐刷性10万枚、現像膜減り100%、汚れ防止性◎、放置汚れ性○であり、プラスチックフィルム支持体を用いた場合でも、アルミニウム支持体を用いた場合と同様の、良好な印刷性能を示すことがわかった。
Example 10
The hydrophilic layer and the image forming layer were the same as in Example 1 except that the aluminum support of the lithographic printing plate precursor described in Example 1 was a polyethylene terephthalate film (film thickness 0.3 mm) that was not subjected to roughening treatment. To obtain a planographic printing plate precursor of Example 10. This lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1.
As a result, the printing durability was 100,000 sheets, the developed film was reduced by 100%, the anti-stain property ◎, and the unstained soil property ○, even when using a plastic film support, the same as when using an aluminum support. It was found that the printing performance was excellent.

〔比較例2〕
親水性層形成用塗布液組成物の調整において、ポリマー溶液1の調整において使用した特定ポリマー[例示化合物(1−28)]を、下記比較用ポリマーに代えた他は、実施例1と同様にして比較例2の平版印刷版原版を得て、実施例1と同様に評価した。
その結果、汚れ防止性、放置汚れ防止性はいずれも実用上問題のない良好なレベルであったが、現像膜減りが98%であり、耐刷性の結果は10万枚であった。このことから、本発明の特定ポリマーを用いて形成した親水性層を設けることで、表面親水性のみならず、従来品に比較して基板との密着性及びそれに起因する耐刷性が改良されていることがわかる。
[Comparative Example 2]
In the adjustment of the coating liquid composition for forming the hydrophilic layer, the same procedure as in Example 1 was conducted except that the specific polymer [Exemplary Compound (1-28)] used in the preparation of the polymer solution 1 was replaced with the following comparative polymer. Thus, a lithographic printing plate precursor of Comparative Example 2 was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1.
As a result, both the anti-stain property and the anti-stain property were at a satisfactory level with no practical problem, but the reduction of the developed film was 98%, and the printing durability was 100,000 sheets. From this, by providing a hydrophilic layer formed using the specific polymer of the present invention, not only the surface hydrophilicity but also the adhesion to the substrate and the printing durability resulting therefrom are improved as compared to conventional products. You can see that

Figure 2008216364
Figure 2008216364

〔実施例11〜15〕
−サーマルネガ型平版印刷版原版−
(画像形成層の形成)
下記組成のネガ型画像形成層塗布液を調製し、実施例1〜実施例5で用いた親水性層を形成したアルミニウム支持体に、この画像形成層塗布液を乾燥後の塗布量(画像形成層塗布量)が1.3g/m2になるよう塗布し、乾燥させてサーマルネガタイプの画像形成層を形成し、サーマルネガ型平版印刷版原版11〜15を得た。
<ネガ型画像形成層塗布液>
・赤外線吸収剤:シアニン染料A(前記構造) 0.07g
・酸発生剤[SH−1](下記構造) 0.3g
・架橋剤[KZ−1](下記構造) 0.5g
・アルカリ可溶性高分子 1.5g
(マルカリンカーM S−4P、丸善石油化学(株)製)
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.035g
(保上ヶ谷化学(株)製)
・フッ素系界面活性剤 0.01g
(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製)
・無水フタル酸 0.05g
・メチルエチルケトン 12g
・メチルアルコール 10g
・1−メトキシ−2−プロパノール 4g
・3−メトキシ−1−プロパノール 4g
[Examples 11 to 15]
-Thermal negative lithographic printing plate precursor-
(Formation of image forming layer)
A negative type image forming layer coating solution having the following composition was prepared, and this image forming layer coating solution was coated on the aluminum support on which the hydrophilic layer used in Examples 1 to 5 was formed. The coating was applied so that the layer coating amount was 1.3 g / m 2 and dried to form a thermal negative type image forming layer, and thermal negative lithographic printing plate precursors 11 to 15 were obtained.
<Negative image forming layer coating solution>
Infrared absorber: Cyanine dye A (the above structure) 0.07 g
・ Acid generator [SH-1] (the following structure) 0.3 g
・ Crosslinking agent [KZ-1] (the following structure) 0.5g
・ Alkali-soluble polymer 1.5g
(Marcalinker MS-4P, manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.)
・ Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonate 0.035g
(Hokamigaya Chemical Co., Ltd.)
・ Fluorine-based surfactant 0.01g
(Megafuck F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Phthalic anhydride 0.05g
・ Methyl ethyl ketone 12g
・ Methyl alcohol 10g
・ 4g of 1-methoxy-2-propanol
・ 4 g of 3-methoxy-1-propanol

Figure 2008216364
Figure 2008216364

〔露光及び現像処理〕
得られたネガ型平版印刷版原版11〜15を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した。露光後、ウィスコンシン社製オーブンにて288°F、75秒間、加熱処理した後、富士写真フイルム(株)製自動現像機LP940Hを用いて現像処理を行い、実施例11〜15のネガ型平版印刷版11〜15を得た。現像液は、同社製DP−4の1:8水希釈水を用い、現像浴の温度は30℃とし、フィニッシャーは、同社製FP−2Wの1:1水希釈液を用いた。
[Exposure and development processing]
The obtained negative planographic printing plate precursors 11 to 15 were subjected to conditions of output 9 W, outer drum rotation speed 210 rpm, plate surface energy 100 mJ / cm 2 , resolution 2400 dpi, using a Trend setter 3244VFS manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser. And exposed. After the exposure, the film was heated at 288 ° F. for 75 seconds in an oven manufactured by Wisconsin, and then developed using an automatic developing machine LP940H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The negative lithographic printing of Examples 11 to 15 Versions 11-15 were obtained. The developer used was 1: 4 water diluted water of DP-4 made by the company, the temperature of the developing bath was 30 ° C., and the 1: 1 water diluted solution of FP-2W made by the company was used as the finisher.

〔印刷及び評価〕
上記で得られたネガ型平版印刷版11〜15について、前記条件で印刷を継続し、実施例1と同様に、どれだけの枚数が十分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて評価し、耐刷性の指標とした。また、実施例1と同様に、汚れ防止性、放置汚れ防止性を評価した。
その結果、耐刷性は、8万枚〜12万枚の範囲であり、汚れ防止性、放置汚れ防止性はいずれも◎−○ランクであり、画像形成層をサーマルネガ型に代えた場合においても、サーマルポジ型画像形成層におけるのと同様に、画像形成層の現像膜減りが抑制され、耐刷性、汚れ防止性、放置汚れ防止性は、いずれも良好であることが確認された。
[Printing and evaluation]
Regarding the negative lithographic printing plates 11 to 15 obtained above, printing is continued under the above conditions, and as in Example 1, how many sheets can be printed while maintaining a sufficient ink density is visually evaluated. And used as an index of printing durability. Further, in the same manner as in Example 1, the antifouling property and the left antifouling property were evaluated.
As a result, the printing durability is in the range of 80,000 to 120,000 sheets, both the anti-stain property and the anti-stain property are ◎-○ rank, and even when the image forming layer is replaced with a thermal negative type. As in the case of the thermal positive type image forming layer, it was confirmed that the development film loss of the image forming layer was suppressed, and that the printing durability, anti-stain property, and anti-stain property were all good.

〔実施例16〜20〕
−サーマルネガ(マイクロカプセル)型平版印刷版原版−
<マイクロカプセル(1)の合成>
油相成分として、キシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)5g、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのオリゴマー(日本ポリウレタン工業(株)製、ミリオネートMR−200)3.8g、下記構造のビニルオキシ化合物4g、下記構造の赤外線吸収色素[IR−2]1.5g、及びパイオニンA−41−C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル18gに溶解した。
水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を5%テトラエチレンペンタアミン水溶液25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液(1)の固形分濃度を、20質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。また、マイクロカプセルの平均粒径は0.34μmであった。
[Examples 16 to 20]
-Thermal negative (microcapsule) lithographic printing plate precursor-
<Synthesis of Microcapsule (1)>
As an oil phase component, 5 g of xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N), oligomer of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Millionate MR-200) 3.8 g, 4 g of a vinyloxy compound having the following structure, 1.5 g of an infrared absorbing dye [IR-2] having the following structure, and 0.1 g of Pionine A-41-C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) are dissolved in 18 g of ethyl acetate. did.
As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of 5% tetraethylenepentamine aqueous solution, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid (1) thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration became 20% by mass. The average particle size of the microcapsules was 0.34 μm.

Figure 2008216364
Figure 2008216364

(画像形成層の形成)
下記組成のマイクロカプセル型画像形成層塗布液を調製し、実施例1〜実施例5で用いた親水性層を形成したアルミニウム支持体に、乾燥後の塗布量(画像形成層塗布量)が1.0g/mになるよう塗布し、乾燥させてマイクロカプセル型の画像形成層を形成し、マイクロカプセル型平版印刷版原版16〜20を得た。
<マイクロカプセル型画像形成層塗布液>
・上記合成で得られたマイクロカプセル液(1) 25g
・下記構造の酸前駆体 0.5g
・水 75g
(Formation of image forming layer)
A microcapsule-type image-forming layer coating solution having the following composition was prepared, and the coating amount after drying (image-forming layer coating amount) was 1 on the aluminum support on which the hydrophilic layer used in Examples 1 to 5 was formed. The resultant was applied to 0.0 g / m 2 and dried to form a microcapsule type image forming layer, whereby microcapsule type lithographic printing plate precursors 16 to 20 were obtained.
<Microcapsule type image forming layer coating solution>
-25 g of microcapsule solution (1) obtained by the above synthesis
・ 0.5 g of acid precursor with the following structure
・ 75 g of water

Figure 2008216364
Figure 2008216364

〔露光・現像処理〕
得られたマイクロカプセル型平版印刷版原版16〜20を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、版面エネルギー300mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した後、現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、湿し水を供給した後、インキを供給し、印刷を行った。湿し水としては、富士写真フイルム(株)製、IF−102の4%溶液を使用し、インキとしては、大日本インキ化学工業(株)製、バリウス墨を使用した。
[Exposure and development processing]
The obtained microcapsule type lithographic printing plate precursors 16 to 20 are exposed with a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under conditions of a plate surface energy of 300 mJ / cm 2 and a resolution of 2400 dpi, followed by development processing. Without being attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, dampening water was supplied, and ink was supplied for printing. A 4% solution of IF-102 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used as the fountain solution, and Varius ink manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. was used as the ink.

〔印刷及び評価〕
上記で得られたマイクロカプセル型平版印刷版16〜20について、前記条件で良好な印刷物が得られることを確認した後も印刷を継続し、実施例1と同様に、どれだけの枚数が十分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて評価し、耐刷性の指標とした。また、実施例1と同様に、汚れ防止性、放置汚れ防止性を評価した。
その結果、耐刷性は5万枚〜8万枚の範囲であり、汚れ防止性、放置汚れ防止性は◎−○ランクであり、画像形成層をサーマルネガ(マイクロカプセル)型に代えた場合においても、サーマルポジ型画像形成層におけるのと同様に、現像膜減りが抑制され、耐刷性、汚れ防止性、放置汚れ防止性がいずれも良好であった。
[Printing and evaluation]
For the microcapsule type lithographic printing plates 16 to 20 obtained above, printing was continued after confirming that a good printed matter was obtained under the above conditions, and as in Example 1, how many sheets were sufficient. Whether printing can be performed while maintaining the ink density was evaluated visually and used as an index of printing durability. Further, in the same manner as in Example 1, the antifouling property and the left antifouling property were evaluated.
As a result, the printing durability is in the range of 50,000 to 80,000 sheets, the anti-stain property and anti-stain property are ◎-○ rank, and the image forming layer is replaced with a thermal negative (microcapsule) type. In the same manner as in the thermal positive type image forming layer, the decrease in the developed film was suppressed, and the printing durability, anti-staining property, and anti-stain property were all good.

以上のように本発明の平版印刷版原版は、耐汚れ性、耐刷性、および感度のいずれにも優れ、公知の支持体はもとより、従来の技術では平版印刷版原版を作成するのが困難であった低純度アルミニウム支持体やプラスチック製支持体においても、良好な印刷性能を発現する優れたものである。   As described above, the lithographic printing plate precursor according to the present invention is excellent in all of stain resistance, printing durability, and sensitivity, and it is difficult to produce a lithographic printing plate precursor by a conventional technique as well as a known support. The low-purity aluminum support and the plastic support, which are the above, are excellent in expressing good printing performance.

Claims (11)

支持体上に、該支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種の反応性基を有し、下記一般式(1)中の構造単位(i)および構造単位(ii)を含むポリマーが化学結合してなる親水性層と、画像形成層とをこの順で有することを特徴とする平版印刷版原版。
Figure 2008216364
一般式(1)中、R、R、R、及び、Rはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜30の置換基を表し、mは0、1または2を表し、Lは単結合又は有機連結基を表し、Yは、−CO−NH−CO−、−CO−NH−SO−、および、−SO−NH−SO−から選択される構造を少なくとも有する炭素数1ないし30の置換基を表す。ここで、一般式(1)中の構造単位を含むポリマーとは、構造単位(ii)で表される繰返し単位が複数連結してなる構造の末端に、構造単位(i)で表されるシランカップリング基を有する高分子化合物を意味する。
Reactivity of at least one of a reactive group capable of being directly chemically bonded to the support surface and a reactive group capable of being chemically bonded to the support surface via a component having a crosslinked structure on the support. And a hydrophilic layer formed by chemically bonding a polymer containing a structural unit (i) and a structural unit (ii) in the following general formula (1) and an image forming layer in this order A lithographic printing plate precursor.
Figure 2008216364
In General Formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 30 carbon atoms, m represents 0, 1 or 2, and L 1 Represents a single bond or an organic linking group, and Y 1 has at least a structure selected from —CO—NH—CO—, —CO—NH—SO 2 —, and —SO 2 —NH—SO 2 —. A substituent having 1 to 30 carbon atoms is represented. Here, the polymer containing the structural unit in the general formula (1) is a silane represented by the structural unit (i) at the end of a structure in which a plurality of repeating units represented by the structural unit (ii) are connected. It means a polymer compound having a coupling group.
支持体上に、該支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種の反応性基を有し、下記一般式(2)中の構造単位(iii)および構造単位(iv)を含むポリマーが化学結合してなる親水性層と、画像形成層とをこの順で有することを特徴とする平版印刷版原版。
Figure 2008216364
一般式(2)において、R、R、R、R、R、およびR10はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜30の置換基を表し、nは0、1または2を表し、Lは単結合又は有機連結基を表し、Yは、−CO−NH−CO−、−CO−NH−SO−、および、−SO−NH−SO−から選択される構造を少なくとも有する炭素数1ないし30の置換基を表す。
Reactivity of at least one of a reactive group capable of being directly chemically bonded to the support surface and a reactive group capable of being chemically bonded to the support surface via a component having a crosslinked structure on the support. And a hydrophilic layer formed by chemically bonding a polymer containing a structural unit (iii) and a structural unit (iv) in the following general formula (2) and an image forming layer in this order A lithographic printing plate precursor.
Figure 2008216364
In General Formula (2), R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 30 carbon atoms, and n is 0, 1 or 2 L 2 represents a single bond or an organic linking group, and Y 2 is selected from —CO—NH—CO—, —CO—NH—SO 2 —, and —SO 2 —NH—SO 2 —. Represents a substituent having 1 to 30 carbon atoms and having at least the following structure.
前記支持体がアルミニウム支持体であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein the support is an aluminum support. 前記アルミニウム支持体を構成するアルミニウムの純度が99.4〜95質量%であることを特徴とする請求項3に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 3, wherein the aluminum constituting the aluminum support has a purity of 99.4 to 95% by mass. 前記支持体がプラスチックフィルム支持体であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein the support is a plastic film support. 前記架橋構造を有する構成成分が、Si、Ti、Zr、Alから選択される元素を含むアルコキシド化合物の加水分解、縮重合により形成された架橋構造を有することを特徴とする、請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The constituent component having the crosslinked structure has a crosslinked structure formed by hydrolysis and condensation polymerization of an alkoxide compound containing an element selected from Si, Ti, Zr, and Al. Item 6. The lithographic printing plate precursor according to any one of items 5. 前記画像形成層が、赤外線レーザで記録可能であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 6, wherein the image forming layer is recordable with an infrared laser. 前記画像形成層が、赤外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項7に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 7, wherein the image forming layer contains an infrared absorber. 前記画像形成層が、2層以上の積層構造を有することを特徴とする請求項1至請求項8のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 8, wherein the image forming layer has a laminate structure of two or more layers. 前記画像形成層が、ノボラック樹脂を含有するポジ型画像形成層であることを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 9, wherein the image forming layer is a positive image forming layer containing a novolac resin. 前記ポジ型画像形成層が、全アルカリ可溶性樹脂に対してノボラック樹脂を50質量%以上含むアルカリ可溶性樹脂と、スルホニウム化合物またはアンモニウム化合物と、を含有することを特徴とする請求項10に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate according to claim 10, wherein the positive-type image forming layer contains an alkali-soluble resin containing 50% by mass or more of a novolak resin with respect to the total alkali-soluble resin, and a sulfonium compound or an ammonium compound. A printing plate master.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016191884A (en) * 2015-03-31 2016-11-10 住友化学株式会社 Resist composition and production method of resist pattern

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