JP2010051928A - Surface reforming method and apparatus, multilayer coating method and apparatus, and coated material - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface reforming method and apparatus, and a multilayer coating method and apparatus which can obtain a rugged shape onto a surface, and to provide a coated material. <P>SOLUTION: The surface reforming apparatus comprises: a coating part 18 which coats a support body 16 with a polymer solution prepared by dissolving a thermoplastic resin into a first solvent; a drying part 20 which dries a coated film dried up to the dry point by supplying a hot air containing vapor of a second solvent having a molar volume smaller than that of the first solvent to the coated film; and a coating part 22 which coats the dried coated film with the coating liquid to form an overcoat layer. The drying part 20 performs drying treatment under conditions satisfying the relation: 1.0≤C×R(273.15+T)/(M×P<SB>T</SB>)≤1.8, wherein T presents film temperature [°C] at the dry point, C presents solvent vapor amount [g/m<SP>3</SP>], P<SB>T</SB>presents saturated water vapor amount [Pa] at the film surface temperature T, R denotes gas constant, and M presents molecular weight of the second solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は表面改質方法及び装置、重層塗布方法及び装置、並びに塗布物に係り、特に平版印刷版、各種光学フィルム、銀塩フィルム、印画紙、ビデオテープのベースフィルム等の磁性記録材料を製造する過程で行われる表面改質方法及び装置、重層塗布方法及び装置、並びに塗布物に関する。   The present invention relates to a surface modification method and apparatus, a multi-layer coating method and apparatus, and a coated material, and in particular, manufactures magnetic recording materials such as lithographic printing plates, various optical films, silver salt films, photographic paper, and video tape base films. The present invention relates to a surface modification method and apparatus, a multilayer coating method and apparatus, and a coated product, which are performed in the process of performing the above.

平版印刷版、各種光学フィルム、銀塩フィルム、印画紙、ビデオテープのベースフィルム等の磁性記録材料は、支持体ウエブやベースフィルム、バライタ紙などの帯状体を一定方向に走行させつつ、感光層形成液や感熱層形成液、感光乳剤、磁性層形成液等の塗布液を塗布して塗膜を形成し、これを乾燥させた後、必要に応じて所定の寸法に裁断することにより製造される。この製造過程における乾燥方法としては、乾燥熱風を用いる方法が一般に用いられ、この他に、溶媒蒸気を含有する熱風を用いた乾燥方法も提案されている。さらに、本願出願人による特許文献1には、低沸点溶媒蒸気(第二の溶媒)の雰囲気下で乾燥させることにより、高沸点溶媒(第一の溶媒)を効果的に乾燥除去する方法が提案されている。この方法によれば、膜中に第二の溶媒蒸気が吸収されることによって、膜中の自由体積が増加し、膜中における残留溶媒(第一溶媒やその他の残留している溶媒)の拡散速度が増加するので、残留溶媒を迅速にかつ比較的低温で除去できる。そして、吸収された第二溶媒蒸気は、分子体積が残留溶媒よりも小さいので、乾燥空気中で乾燥することによって容易に除去可能であり、全体として乾燥時間を短縮することができる。   Magnetic recording materials such as lithographic printing plates, various optical films, silver salt films, photographic papers, and video tape base films are used for photosensitive layers while running strips such as support webs, base films, and baryta paper in a fixed direction. It is manufactured by applying a coating solution such as a forming solution, a heat-sensitive layer forming solution, a photosensitive emulsion, or a magnetic layer forming solution to form a coating film, drying it, and then cutting it into predetermined dimensions as necessary. The As a drying method in this production process, a method using dry hot air is generally used. In addition, a drying method using hot air containing solvent vapor is also proposed. Furthermore, Patent Document 1 by the present applicant proposes a method for effectively drying and removing the high boiling point solvent (first solvent) by drying in an atmosphere of low boiling point solvent vapor (second solvent). Has been. According to this method, the second solvent vapor is absorbed in the film, thereby increasing the free volume in the film and diffusing the residual solvent (first solvent or other remaining solvent) in the film. Because the speed increases, residual solvent can be removed quickly and at relatively low temperatures. And since the absorbed second solvent vapor has a molecular volume smaller than that of the residual solvent, it can be easily removed by drying in dry air, and the drying time can be shortened as a whole.

ところで、平版印刷版や各種光学フィルム等は一般に、表面に凹凸を形成して粗面化する表面処理を施すことが有利な場合がある。たとえば、平版印刷版は、製品サイズにカットした後に集積されるが、塗膜表面の摩擦係数が低いと集積後に束ズレを起こしてスリキズの要因となるため、粗面化しておくと有利になる。また、有機膜を逐次で重層化する場合には、下層の有機膜の濡れ性が悪いと上層の有機膜が塗りつきにくくハジキを発生させる場合があるので、下層の有機膜を粗面化しておくと有利になる。   By the way, in general, a planographic printing plate, various optical films, and the like may be advantageously subjected to a surface treatment for forming irregularities on the surface to roughen the surface. For example, a lithographic printing plate is collected after being cut into a product size, but if the coefficient of friction of the coating film surface is low, it will cause bundle deviation after accumulation and cause scratches, so it is advantageous to roughen the surface. . In addition, when layering organic layers sequentially, if the wettability of the lower organic film is poor, the upper organic film may be difficult to stick and may cause repellency, so roughen the lower organic film. It will be advantageous.

粗面化の表面処理方法としては、EB、UV、IB照射やプラズマ処理などが知られている(特許文献2参照)。しかし、被処理面が有機膜などの感光層の場合、これらの処理方法では被りを発生させる懸念がある。そのため、光、電子線、プラズマを使用しない新たな塗膜表面の改質方法が求められている。   Known surface treatment methods for roughening include EB, UV, IB irradiation, plasma treatment, and the like (see Patent Document 2). However, when the surface to be processed is a photosensitive layer such as an organic film, there is a concern that these processing methods may cause covering. Therefore, there is a need for a new coating surface modification method that does not use light, electron beam, or plasma.

また、別の表面改質方法として、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ブラシグレイン等の機械的な粗面化方法や、電気化学的な粗面化方法がある。機械的な粗面化方法の場合には、均一な表面処理や連続処理が難しいという問題や熟練を要するという問題がある。特に平版印刷版の場合には、十分な性能を得ることが難しい。また、電気化学的な粗面化方法の場合には、処理ムラが発生しやすいとい問題や、複雑な制御が必要になるという問題がある。   Other surface modification methods include mechanical surface roughening methods such as ball grains, wire grains, and brush grains, and electrochemical surface roughening methods. In the case of a mechanical roughening method, there are problems that uniform surface treatment and continuous treatment are difficult, and that skill is required. In particular, in the case of a lithographic printing plate, it is difficult to obtain sufficient performance. In addition, in the case of the electrochemical surface roughening method, there are a problem that processing unevenness is likely to occur and a problem that complicated control is required.

このように平版印刷版や各種光学フィルムを粗面化することは非常に難しく、目的とする表面形状が得られないという問題があった。また、従来は、表層の塗膜を粗面化するため、塗膜の塗布工程や乾燥工程とは別に、表面処理工程を行わなければならず、工程が増えるという問題もあった。
国際公開番号2007/136005号 特許第3041032号
Thus, it is very difficult to roughen a lithographic printing plate and various optical films, and there is a problem that a desired surface shape cannot be obtained. Conventionally, in order to roughen the surface coating film, a surface treatment step must be performed separately from the coating step and the drying step, which increases the number of steps.
International Publication Number 2007/136005 Japanese Patent No. 3041032

本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、所望の表面物性を得ることができる表面改質方法及び装置を提供することを目的とする。さらに、それを利用した重層塗布方法及び装置、並びに塗布物を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a surface modification method and apparatus capable of obtaining desired surface properties. Furthermore, it aims at providing the multilayer coating method and apparatus using the same, and a coating material.

請求項1に記載の発明は前記目的を達成するために、熱可塑性樹脂を第1溶媒に溶解した高分子溶液を塗布することによって、塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜を乾燥点まで乾燥させた後、前記第1溶媒よりも分子体積が小さい第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を前記塗膜に供給し、乾燥させる乾燥工程と、を備え、前記乾燥工程は、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:溶媒蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量として、1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、で示される式を満たすことを特徴とする表面改質方法を提供する。 In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is a coating step of forming a coating film by applying a polymer solution in which a thermoplastic resin is dissolved in a first solvent, and a drying point of the coating film. A drying step in which a solvent vapor-containing hot air of a second solvent having a molecular volume smaller than that of the first solvent is supplied to the coating film, and the coating film is dried. Film temperature [° C.], C: solvent vapor amount [g / m 3 ], P T : saturated water vapor amount [Pa] at film surface temperature T, R: gas constant, M: molecular weight of second solvent. Provided is a surface modification method characterized by satisfying an equation represented by 0 ≦ C × R (273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8.

本発明の発明者は、通常は結露しないように供給する第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を、結露する条件でさらに特定の狭い条件で供給すると、乾燥後の塗膜表面に微細な略半球状の凹部(以下、細孔ともいう)が形成されるという知見を得た。さらに、本発明の発明者は、その乾燥条件として、次式 1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、(以下、式1という)であるという知見を得た。本発明はこのような知見に基づいて成されたもので、上記の乾燥条件で乾燥工程を行うようにしたので、表面に細孔を有する塗膜を形成することができる。これにより、塗膜の物性を制御することができ、たとえば、塗膜表面の静止摩擦係数を1倍超〜1.7倍以下に制御したり、塗膜表面の接触角を1〜20°下げるように制御したりすることができる。 When the inventor of the present invention supplies the solvent vapor-containing hot air of the second solvent, which is normally supplied so as not to condense, under a specific narrow condition under the condition of dew condensation, a fine substantially hemispherical shape is formed on the coating film surface after drying. The following knowledge was obtained that a recess (hereinafter also referred to as a pore) was formed. Further, the inventors of the present invention say that the drying condition is the following formula: 1.0 ≦ C × R (273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8 (hereinafter referred to as Formula 1). Obtained knowledge. The present invention has been made based on such knowledge, and since the drying process is performed under the above-described drying conditions, a coating film having pores on the surface can be formed. Thereby, the physical properties of the coating film can be controlled. For example, the static friction coefficient of the coating film surface is controlled to more than 1 to 1.7 times or the contact angle of the coating film surface is decreased by 1 to 20 °. Can be controlled as well.

また、本発明は、乾燥工程での乾燥条件を変えるだけなので、光、電子線、プラズマを用いた表面処理方法のように、塗膜の性質が変化するおそれがない。   In addition, since the present invention only changes the drying conditions in the drying step, there is no possibility that the properties of the coating film will change unlike the surface treatment method using light, electron beam, or plasma.

なお、本発明において、「乾燥点」とは、塗膜に布が触れても布に塗工液が付着しない状態を意味し、換言すると、塗膜表面の光沢が変化し終わった状態を意味する。   In the present invention, “drying point” means a state in which the coating liquid does not adhere to the cloth even when the cloth touches the coating film, in other words, a state in which the gloss of the coating film surface has finished changing. To do.

請求項2に記載の発明は請求項1の発明において、前記第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風の温度を調節することによって、前記塗膜の表面物性を制御することを特徴とする。   The invention according to claim 2 is characterized in that, in the invention according to claim 1, the surface physical properties of the coating film are controlled by adjusting the temperature of the solvent vapor-containing hot air of the second solvent.

本発明の発明者は、上述した細孔が形成される場合において、蒸気含有熱風の温度を調節することによって細孔の孔径を制御することができるという知見を得た。本発明はこのような知見に基づいて成されたものであり、第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風の温度を調節するようにしたので、細孔の孔径を制御することができ、結果として、塗膜の表面物性を制御することができる。   The inventors of the present invention have found that when the above-described pores are formed, the pore diameter of the pores can be controlled by adjusting the temperature of the steam-containing hot air. The present invention has been made on the basis of such knowledge. Since the temperature of the hot air containing the solvent vapor of the second solvent is adjusted, the pore diameter can be controlled, and as a result, the coating The surface physical properties of the film can be controlled.

請求項3に記載の発明は請求項1の発明において、前記第2溶媒の溶媒蒸気量を調節することによって、前記塗膜の表面物性を制御することを特徴とする。   A third aspect of the invention is characterized in that, in the first aspect of the invention, the surface physical properties of the coating film are controlled by adjusting a solvent vapor amount of the second solvent.

本発明の発明者は、上述した細孔が形成される場合において、第2溶媒の溶媒蒸気量を調節することによって細孔の数を制御することができるという知見を得た。本発明はこのような知見に基づいて成されたものであり、第2溶媒の溶媒蒸気量を調節するようにしたので、細孔の数を制御することができ、結果として、塗膜の表面物性を制御することができる。   The inventors of the present invention have found that when the above-described pores are formed, the number of pores can be controlled by adjusting the solvent vapor amount of the second solvent. The present invention has been made on the basis of such knowledge, and since the amount of the solvent vapor of the second solvent is adjusted, the number of pores can be controlled, and as a result, the surface of the coating film Physical properties can be controlled.

請求項4に記載の発明は請求項2または3の発明において、前記表面物性が静止摩擦係数であることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the second or third aspect of the invention, the surface property is a coefficient of static friction.

請求項5に記載の発明は請求項2または3の発明において、前記表面物性が接触角であることを特徴とする。   The invention according to claim 5 is the invention according to claim 2 or 3, wherein the surface property is a contact angle.

請求項6に記載の発明は請求項1〜5のいずれか1の発明において、前記塗膜は平版印刷版の画像形成層であり、前記乾燥工程によって、前記画像形成層の表面の静止摩擦係数を制御することを特徴とする。   The invention according to claim 6 is the invention according to any one of claims 1 to 5, wherein the coating film is an image forming layer of a lithographic printing plate, and the static friction coefficient of the surface of the image forming layer is obtained by the drying step. It is characterized by controlling.

請求項7に記載の発明は請求項1〜5のいずれか1の発明において、前記塗膜は平版印刷版の画像形成層の上に形成されるオーバーコート層であり、前記乾燥工程によって、前記オーバーコート層の静止摩擦係数を制御することを特徴とする。   Invention of Claim 7 is invention of any one of Claims 1-5, The said coating film is an overcoat layer formed on the image forming layer of a lithographic printing plate, The said drying process WHEREIN: The coefficient of static friction of the overcoat layer is controlled.

請求項8に記載の発明は前記目的を達成するために、熱可塑性樹脂を第1溶媒に溶解した高分子溶液を塗布する塗布装置と、前記塗布装置の後段に設けられ、乾燥点まで乾燥した前記塗膜に前記第1溶媒よりも分子体積が小さい第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を供給して乾燥させる乾燥装置と、を備え、前記乾燥装置は、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:溶媒蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量として、1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、で示される乾燥条件で乾燥処理を行うことを特徴とする表面改質装置を提供する。 In order to achieve the above object, the invention described in claim 8 is provided with a coating device for applying a polymer solution in which a thermoplastic resin is dissolved in a first solvent, and provided at a subsequent stage of the coating device, and dried to a drying point. A drying device that supplies the coating film with hot air containing a solvent vapor containing a second solvent having a molecular volume smaller than that of the first solvent, and the drying device includes: T: film temperature at the drying point [° C.] , C: solvent vapor amount [g / m 3 ], P T : saturated water vapor amount [Pa] at the film surface temperature T, R: gas constant, M: molecular weight of the second solvent, 1.0 ≦ C × R ( There is provided a surface modifying apparatus characterized by performing a drying treatment under a drying condition represented by 273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8.

請求項8の発明は請求項1の方法クレームに対応する装置クレームであり、表面に凹凸を有する塗膜を形成することができ、塗膜の静止摩擦係数を増加させることができる。   The invention of claim 8 is an apparatus claim corresponding to the method claim of claim 1, and can form a coating film having irregularities on the surface, and can increase the static friction coefficient of the coating film.

請求項9に記載の発明は前記目的を達成するために、熱可塑性樹脂を第1溶媒に溶解した高分子溶液を支持体に塗布し、下層を形成する下層塗布工程と、前記下層を乾燥点まで乾燥させた後、前記第1溶媒よりも分子体積が小さい第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を前記下層に供給し、乾燥させる下層乾燥工程と、前記乾燥させた下層の上に塗布液を塗布し、上層を形成する上層塗布工程と、を備え、前記下層乾燥工程は、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:溶媒蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量として、1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、で示される式を満たすことを特徴とする重層塗布方法を提供する。 In order to achieve the above object, the invention according to claim 9 is a lower layer coating step in which a polymer solution in which a thermoplastic resin is dissolved in a first solvent is applied to a support to form a lower layer, and the lower layer is a drying point. After drying to a lower layer, a solvent vapor-containing hot air of a second solvent having a molecular volume smaller than that of the first solvent is supplied to the lower layer and dried, and a coating solution is applied on the dried lower layer An upper layer coating step for forming an upper layer, wherein the lower layer drying step includes: T: film temperature [° C.] at the drying point, C: solvent vapor amount [g / m 3 ], P T : film surface temperature T Saturated water vapor amount [Pa], R: gas constant, M: molecular weight of the second solvent, 1.0 ≦ C × R (273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8 A multilayer coating method characterized by satisfying the above is provided.

本発明によれば、下層乾燥工程の乾燥工程を式(1)の乾燥条件で行うことによって下層の表面に凹凸が形成される。したがって、上層の塗布液に対する下層の濡れ性が向上し、たとえば、濡れ性の良い溶媒(すなわち膜表面との接触角90°未満の溶媒)に対する膜表面の接触角を1〜20°下げることができる。これにより、上層の塗布液のハジキを防止することができ、上層の塗布精度を向上させることができる。   According to this invention, an unevenness | corrugation is formed in the surface of a lower layer by performing the drying process of a lower layer drying process on the drying conditions of Formula (1). Therefore, the wettability of the lower layer with respect to the upper coating solution is improved, and for example, the contact angle of the film surface with respect to a solvent having good wettability (that is, a solvent having a contact angle of less than 90 ° with the film surface) can be lowered by 1 to 20 °. it can. Thereby, the repellency of the upper layer coating liquid can be prevented, and the coating accuracy of the upper layer can be improved.

なお、本発明における「下層」「上層」とは、相対的な位置関係を意味し、支持体側の塗膜を下層、表面側を上層という。したがって、三層以上の重層塗布を行う場合にも、隣接する二層が上記の条件を満たすことによって本発明の効果を得ることができる。   The “lower layer” and “upper layer” in the present invention mean relative positional relationships, and the coating film on the support side is referred to as the lower layer and the surface side is referred to as the upper layer. Therefore, even when three or more layers are applied, the effect of the present invention can be obtained when two adjacent layers satisfy the above conditions.

請求項10に記載の発明は請求項9の発明において、前記下層が平版印刷版の画像形成層であるとともに、前記上層が前記画像形成層の上に塗布されるオーバーコート層であり、前記下層乾燥工程によって、前記上層の塗布液に対する前記下層の接触角を減少させることを特徴とする。   The invention of claim 10 is the invention of claim 9, wherein the lower layer is an image forming layer of a lithographic printing plate, and the upper layer is an overcoat layer applied on the image forming layer, and the lower layer The contact angle of the lower layer with respect to the upper layer coating solution is reduced by a drying step.

請求項11に記載の発明は前記目的を達成するために、熱可塑性樹脂を第1溶媒に溶解した高分子溶液を支持体に塗布し、下層を形成する下層塗布装置と、前記下層塗布装置の後段に設けられ、乾燥点まで乾燥した前記下層に前記第1溶媒よりも分子体積が小さい第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を供給して乾燥させる下層乾燥装置と、前記下層乾燥工程の後段に設けられ、前記乾燥した下層の上に塗布液を塗布し、上層を形成する上層塗布装置と、を備え、前記下層乾燥装置は、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:溶媒蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量として、1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、で示される式を満たすことを特徴とする重層塗布装置を提供する。 In order to achieve the above-mentioned object, the invention according to claim 11 applies a polymer solution in which a thermoplastic resin is dissolved in a first solvent to a support, and forms a lower layer, and a lower layer coating device for the lower layer coating device. A lower layer drying apparatus that is provided in a subsequent stage and supplies the vapor to the lower layer dried to the drying point by supplying hot air containing a solvent vapor of a second solvent having a molecular volume smaller than that of the first solvent, and provided in the subsequent stage of the lower layer drying step. And an upper layer coating apparatus that coats the dried lower layer to form an upper layer, wherein the lower layer drying apparatus includes: T: film temperature at the drying point [° C.], C: amount of solvent vapor [ g / m 3 ], P T : saturated water vapor amount [Pa] at the film surface temperature T, R: gas constant, M: molecular weight of the second solvent, 1.0 ≦ C × R (273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8, which satisfies the formula A multilayer coating apparatus is provided.

請求項11の発明は請求項9の方法クレームに対応する装置クレームであり、下層の表面に凹凸を有する塗膜を形成することができ、上層の塗布液のハジキを防止することができ、上層の塗布精度を向上させることができる。   The invention of claim 11 is an apparatus claim corresponding to the method claim of claim 9, can form a coating film having irregularities on the surface of the lower layer, can prevent repellency of the upper coating liquid, The coating accuracy can be improved.

請求項12に記載の発明は前記目的を達成するために、表面に熱可塑性樹脂を含む塗膜が形成されるとともに、前記表面に略凹状の窪みから成る多数の細孔を有する塗布物であって、前記細孔の周縁部は、該細孔の中心に向かって徐々に凹むことによって滑らかな曲面を成すとともに、前記細孔の直径は、0.2μm以上4.0μm以下であることを特徴とする塗布物を提供する。   In order to achieve the above object, the invention described in claim 12 is a coated product in which a coating film containing a thermoplastic resin is formed on the surface, and the surface has a large number of pores composed of substantially concave depressions. In addition, the peripheral edge portion of the pore forms a smooth curved surface by gradually denting toward the center of the pore, and the diameter of the pore is 0.2 μm or more and 4.0 μm or less. A coated product is provided.

本発明によれば、細孔の周縁がなめらかな曲面であり、細孔の周縁部分が摩耗によって削れることを抑制することができる。すなわち、従来の方法で細孔を形成する場合には、(A)気泡を形成して研削する方法、(B)針などを凸部を押し当てて凹部を形成する方法が考えられるが、(A)の場合は孔の周縁部が滑らかな曲面にならず、(B)の場合は周縁部が盛り上がるので、摩擦によって削れるおそれがある。しかし、本発明によれば、細孔の周縁がなめらかな曲面を成すので、摩耗によって削れることを防止することができる。なお、細孔の直径は、0.2μm以上2.0μm以下が好ましく、0.2μm以上0.5μm以下がより好ましい。   According to the present invention, the peripheral edge of the pore is a smoothly curved surface, and the peripheral edge portion of the pore can be prevented from being scraped by abrasion. That is, when forming pores by a conventional method, (A) a method of forming bubbles by grinding and (B) a method of pressing a convex portion with a needle or the like to form a concave portion can be considered. In the case of A), the peripheral edge of the hole does not become a smooth curved surface, and in the case of (B), the peripheral edge rises, so that there is a risk of scraping due to friction. However, according to the present invention, since the peripheral edge of the pore forms a smooth curved surface, it can be prevented from being scraped by abrasion. The pore diameter is preferably 0.2 μm or more and 2.0 μm or less, and more preferably 0.2 μm or more and 0.5 μm or less.

また、本発明の塗布物は、表面の細孔以外の部分が平滑であることが好ましい。平滑とは、平坦な支持体に塗布膜を形成し、SEM2万倍で目視で観察して凹凸がなく平滑に見える状態であり、請求項1の乾燥条件ではなく通常の乾燥条件で得られる塗布膜の表面と同じ状態である。   Moreover, it is preferable that the parts other than the fine pores on the surface of the coated product of the present invention are smooth. Smoothness is a state in which a coating film is formed on a flat support and visually observed with an SEM of 20,000 times and looks smooth with no irregularities. The coating obtained under normal drying conditions instead of the drying conditions according to claim 1 It is in the same state as the surface of the film.

請求項13に記載の発明は請求項12の発明において、前記塗布物は平版印刷版であることを特徴とする。平版印刷版は、表面がなだらかに波打っており、完全な平坦面ではないので、本発明の方法でしか細孔を作成することができない。   The invention described in claim 13 is the invention according to claim 12, wherein the coated material is a lithographic printing plate. Since the lithographic printing plate has a gently wavy surface and is not a completely flat surface, pores can be created only by the method of the present invention.

本発明によれば、溶媒蒸気含有熱風を所定の条件で塗膜に吹き付けて乾燥させるようにしたので、塗膜の表面に凹凸を形成することができる。   According to the present invention, the solvent vapor-containing hot air is blown onto the coating film under a predetermined condition so as to be dried, so that irregularities can be formed on the surface of the coating film.

以下、添付図面に従って本発明に係る表面改質方法及び装置、重層塗布方法及び装置、並びに塗布物の好ましい実施の形態について説明する。なお、以下の実施形態は、本発明を平版印刷版の製造装置に適用した例であるが、本発明はこの技術分野に限定されるものではなく、各種技術分野における表面改質や重層塗布に適用可能である。   Hereinafter, preferred embodiments of a surface modification method and apparatus, a multilayer coating method and apparatus, and a coated material according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The following embodiment is an example in which the present invention is applied to an apparatus for producing a lithographic printing plate, but the present invention is not limited to this technical field, and is used for surface modification and multilayer coating in various technical fields. Applicable.

(第1の実施形態)
第1の実施形態は、平版印刷版の表面を改質する(すなわち凹凸を形成する)装置として本発明を適用している。図1は、本実施形態における平版印刷版の製造装置10の基本的な構成を示す図であり、同図の矢印Aは支持体16の搬送方向を示している。
(First embodiment)
In the first embodiment, the present invention is applied as an apparatus for modifying the surface of a lithographic printing plate (that is, forming irregularities). FIG. 1 is a diagram illustrating a basic configuration of a planographic printing plate manufacturing apparatus 10 according to the present embodiment, and an arrow A in FIG. 1 indicates a conveyance direction of the support 16.

図1に示すように、平版印刷版原版の製造装置10は主として、送り出し装置12、表面処理部14、塗布部18、乾燥部20、巻き取り装置26で構成されている。送り出し装置12には、ロール状に巻回された支持体16が装着され、この支持体16が送り出し装置12から送り出される。送り出された支持体16は、ガイドローラ27にガイドされながら、表面処理部14、塗布部18、乾燥部20に順に送られ、各種の処理が施された後、巻き取り装置26によって巻き取られる。なお、図1の構成は、平版印刷版の製造装置の一例であり、これに限定するものではない。たとえば塗布部18の前段に下塗り塗布液を塗布する塗布部を設けてもよい。   As shown in FIG. 1, the planographic printing plate precursor manufacturing apparatus 10 mainly includes a delivery device 12, a surface treatment unit 14, a coating unit 18, a drying unit 20, and a winding device 26. A support 16 wound in a roll shape is attached to the delivery device 12, and this support 16 is delivered from the delivery device 12. The fed support 16 is sent to the surface treatment unit 14, the coating unit 18, and the drying unit 20 in order while being guided by the guide roller 27, subjected to various treatments, and then taken up by the take-up device 26. . The configuration of FIG. 1 is an example of a planographic printing plate manufacturing apparatus, and is not limited to this. For example, an application unit for applying the undercoat coating solution may be provided in the front stage of the application unit 18.

次に、各工程部について説明する。   Next, each process part will be described.

表面処理部14は、塗布前の支持体16に必要な各種の前処理を行う装置である。前処理としては、支持体16と画像形成層との密着性を良好にし、かつ、非画像部に保水性を与えるための脱脂処理や粗面化処理(砂目立て処理等)、支持体16の耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために表面に酸化被膜を形成させる陽極酸化処理、陽極酸化被膜の被膜強度、親水性、画像形成層との密着性を向上させるシリケート処理等がある。なお、この表面処理部14の代わりに、本発明の表面改質装置(すなわち塗布部18、乾燥部20と同じ構成のもの)を設け、凹凸を有する塗膜(たとえば下塗層)を形成してもよい。   The surface treatment unit 14 is an apparatus that performs various pretreatments necessary for the support 16 before coating. As pretreatment, the adhesion between the support 16 and the image forming layer is improved, and degreasing treatment or surface roughening treatment (graining treatment or the like) for imparting water retention to the non-image area is performed. Anodic oxidation treatment that forms an oxide film on the surface to improve wear resistance, chemical resistance, water retention, silicate treatment that improves coating strength, hydrophilicity, and adhesion to the image forming layer is there. Instead of the surface treatment unit 14, the surface modification device of the present invention (that is, having the same configuration as the coating unit 18 and the drying unit 20) is provided to form a coating film having unevenness (for example, an undercoat layer). May be.

塗布部18は、画像形成層塗布液を支持体16の表面に塗布する装置である。塗布方法としては、たとえばスライドビード塗布方法、カーテン塗布方法、バー塗布方法、回転塗布方法、スプレー塗布方法、ディップ塗布方法、エアーナイフ塗布方法、ブレード塗布方法、ロール塗布方法等が使用され、中でもスライドビード塗布方法、カーテン塗布方法、バー塗布方法等が好ましく使用される。なお、図1ではバー塗布として図示している。   The coating unit 18 is a device that coats the surface of the support 16 with the image forming layer coating solution. As the coating method, for example, a slide bead coating method, a curtain coating method, a bar coating method, a spin coating method, a spray coating method, a dip coating method, an air knife coating method, a blade coating method, a roll coating method, etc. are used. A bead coating method, a curtain coating method, a bar coating method, or the like is preferably used. In FIG. 1, it is illustrated as bar coating.

乾燥部20は、支持体16に形成された塗膜(画像形成層塗布液)を乾燥させる装置である。塗膜には第1溶媒として難揮発性の高沸点溶媒が含まれており、この第1溶媒を乾燥部20で効果的に蒸発乾燥させることが、平版印刷版原版の品質上、重要となる。   The drying unit 20 is a device that dries the coating film (image forming layer coating solution) formed on the support 16. The coating film contains a hardly volatile high boiling point solvent as the first solvent, and it is important for the quality of the lithographic printing plate precursor to effectively evaporate and dry the first solvent in the drying unit 20. .

乾燥部20は、熱風乾燥部28、蒸気乾燥部29、冷却部30で構成される。これらの熱風乾燥部28、蒸気乾燥部29、冷却部30はそれぞれボックス形状になっており、支持体16がその内部を通過するように構成される。支持体16は、まず、熱風乾燥部28で熱風が吹き付けられて乾燥点まで乾燥される。そして、蒸気乾燥部29において、第2溶媒を含む蒸気含有熱風が支持体16に吹き付けられた後、冷却部30で冷風が吹き付けられて冷却される。これにより、乾燥された画像形成層塗布膜が支持体16上に形成される。   The drying unit 20 includes a hot air drying unit 28, a steam drying unit 29, and a cooling unit 30. The hot air drying unit 28, the steam drying unit 29, and the cooling unit 30 each have a box shape, and the support 16 is configured to pass through the inside thereof. First, the hot air is blown by the hot air drying unit 28 to dry the support 16 to the drying point. And in the steam drying part 29, after the steam containing hot air containing a 2nd solvent is sprayed on the support body 16, the cool air is sprayed by the cooling part 30, and it cools. As a result, a dried image forming layer coating film is formed on the support 16.

ところで、乾燥部20の熱風乾燥部28は、図2に示すように、支持体16の搬送方向に沿って形成されたボックス40を備える。ボックス40は、両端にスリット状の開口40A、40Bを備え、この開口40A、40Bを介して支持体16がボックス40内に出入りされる。   By the way, the hot air drying part 28 of the drying part 20 is provided with the box 40 formed along the conveyance direction of the support body 16, as shown in FIG. The box 40 includes slit-like openings 40A and 40B at both ends, and the support 16 enters and exits the box 40 through the openings 40A and 40B.

ボックス40内には、支持体16の上方にチャンバ42が設けられ、このチャンバ42に高温の乾燥空気(熱風)が給気される。チャンバ42の下面には、多数のノズル44が設けられており、このノズル44から支持体16の上面(すなわち、画像形成層)に熱風が吹き付けられる。   In the box 40, a chamber 42 is provided above the support 16, and hot dry air (hot air) is supplied to the chamber 42. A large number of nozzles 44 are provided on the lower surface of the chamber 42, and hot air is blown from the nozzles 44 to the upper surface (that is, the image forming layer) of the support 16.

ボックス40の下部には、排気部46が設けられ、この排気部46から排気が行われることによって、ボックス40内に熱風のダウンフローが形成される。   An exhaust part 46 is provided in the lower part of the box 40, and exhausting from the exhaust part 46 forms a downflow of hot air in the box 40.

この熱風乾燥部28では、乾燥点(布で触れて布に塗工液が付着しない状態、表面光沢度が変化しない状態、又は、固形分濃度が60%以上好ましくは70%〜80%の状態)まで乾燥が実施される。乾燥された支持体16は、ガイドローラ27にガイドされて上下が反転した後、蒸気乾燥部29に送られる。   In this hot air drying section 28, the drying point (the state where the coating liquid does not adhere to the cloth when touched with the cloth, the surface glossiness does not change, or the solid content concentration is 60% or more, preferably 70% to 80%. ) Drying is carried out. The dried support 16 is guided by the guide roller 27 and turned upside down, and then sent to the steam drying unit 29.

図3は蒸気乾燥部29に溶媒蒸気を給排気する蒸気給排気機構を示している。また、図4は蒸気乾燥部29の内部構成を示しており、図5は、図4の5−5線に沿う断面図である。   FIG. 3 shows a steam supply / exhaust mechanism for supplying and exhausting solvent vapor to the vapor drying section 29. 4 shows the internal configuration of the steam drying unit 29, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line 5-5 of FIG.

これらの図に示す蒸気乾燥部29は、支持体16に塗布された塗膜中の第1溶媒を蒸発乾燥させる装置である。乾燥させる第1溶媒としては、主に沸点の高い溶媒が好ましく、150℃以上のものがより好ましい。この第1溶媒の例としては、γ-ブチルラクトン(204℃)、アセトアミド(222℃)、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン(225.5℃)、N,N-ジメチルホルムアミド(153℃)、テトラメチル尿酸(175℃-177℃)、ニトロベンゼン(211.3℃)、ホルムアミド(210.5℃)、N-メチルピロリドン(202℃)、N,N-ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)、などが挙げられる。なお、括弧内の数字は沸点である。   The vapor drying unit 29 shown in these drawings is an apparatus for evaporating and drying the first solvent in the coating film applied to the support 16. As a 1st solvent to dry, a solvent with a mainly high boiling point is preferable, and a 150 degreeC or more is more preferable. Examples of the first solvent include γ-butyl lactone (204 ° C), acetamide (222 ° C), 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (225.5 ° C), N, N-dimethylformamide (153 ° C). , Tetramethyluric acid (175 ° C-177 ° C), nitrobenzene (211.3 ° C), formamide (210.5 ° C), N-methylpyrrolidone (202 ° C), N, N-dimethylacetamide (166 ° C), dimethyl sulfoxide (189 ° C) , Etc. The numbers in parentheses are boiling points.

図4に示すように蒸気乾燥部29は、中空状のボックス50を備え、このボックス50の対向する側面にスリット状の開口50A、50Bが形成される。支持体16は、開口50Aからボックス50内に入り、開口50Bを介してボックス50の外部に搬送される。ボックス50の材質としては、例えばSUS(304、306、316等)や鉄(SECC等)が好ましく、その内側にグラスウール、ロックウール、ALK24等の断熱材を設けてもよい。   As shown in FIG. 4, the steam drying unit 29 includes a hollow box 50, and slit-shaped openings 50 </ b> A and 50 </ b> B are formed on opposite sides of the box 50. The support 16 enters the box 50 through the opening 50A and is conveyed to the outside of the box 50 through the opening 50B. As a material of the box 50, for example, SUS (304, 306, 316, etc.) or iron (SECC, etc.) is preferable, and a heat insulating material such as glass wool, rock wool, ALK24 may be provided inside thereof.

ボックス50の内部には、支持体16の下側に蒸気含有熱風の供給部52が設けられる。供給部52は、中空状の箱型に形成されており、その内部には、図3に示す蒸気給排気機構によって第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風が給気される。   Inside the box 50, a steam-containing hot air supply unit 52 is provided below the support 16. The supply unit 52 is formed in a hollow box shape, and the solvent vapor-containing hot air of the second solvent is supplied into the inside thereof by the vapor supply / exhaust mechanism shown in FIG.

蒸気給排気機構は、タンク62、ブロア64、熱交換器66、68、70を備え、タンク62には第2溶媒が貯留される。第2溶媒は、上述した第1溶媒の分子体積以下の分子体積を持つものが用いられる。この第2溶媒は通常、第1溶媒よりも低沸点であり、好ましくは常温(約20℃)で液体のものが使用される。第2溶媒の例としては、水、メタノール、アセトン、メチルエチルケトンなどを使用できる。また、第2溶媒として有機溶媒を使用してもよく、その場合には、使用濃度が爆発範囲に入らない濃度とし、且つ、防爆対策を実施することが望ましい。   The steam supply / exhaust mechanism includes a tank 62, a blower 64, and heat exchangers 66, 68 and 70, and the second solvent is stored in the tank 62. As the second solvent, one having a molecular volume equal to or lower than the molecular volume of the first solvent described above is used. This second solvent usually has a lower boiling point than that of the first solvent, and preferably a liquid at room temperature (about 20 ° C.). As an example of the second solvent, water, methanol, acetone, methyl ethyl ketone, or the like can be used. In addition, an organic solvent may be used as the second solvent. In that case, it is desirable that the use concentration be a concentration that does not fall within the explosion range, and that an explosion-proof measure is taken.

タンク62に貯留された第2溶媒は、熱交換器66によって加熱されて蒸気となり、熱交換器68で温度調節された後、ブロア64から送気されて熱交換器70で加温されたエアと混合され、供給部52に給気される。   The second solvent stored in the tank 62 is heated by the heat exchanger 66 to become steam, the temperature of the second solvent is adjusted by the heat exchanger 68, the air sent from the blower 64 and heated by the heat exchanger 70. And supplied to the supply unit 52.

図4に示すように、供給部52の内部には整流板56が設けられ、この整流板56によって第2溶媒の蒸気含有熱風が均一に送気される。供給部52の上部には、ノズル54が設けられ、このノズル54から支持体16の下面(すなわち、画像形成層)に向けて第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風が吹き付けられる。ノズル54は、第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を支持体16の幅方向に均一に吹き付けられるようになっており、たとえば、幅方向のスリットを有し、このスリットから第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風が吹き出される。また、ノズル54は、支持体16の搬送方向に複数設けられており、支持体16の搬送方向に所定の範囲で第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風が吹き付けられる。また、図5に示すように、供給部52の幅Wは、支持体16の幅よりも大きく形成されており、支持体16の幅方向の全体に第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風が吹き付けられる。なお、供給部52の幅Wは、第2溶媒の溶媒蒸気雰囲気が形成されるゾーンの長さ(具体的には後述する遮風板60A、60Bの間隔)Lよりも大きく設定されることが好ましく、その比W/Lは1以上が好ましく、2以上がより好ましい。これは、W/Lが大きいほど、Lを小さくして装置を小型化できる反面、第1溶媒の残留分布が幅方向に発生しやすくなり、特にW/Lが1以上の場合には残留分布が生じるが、本実施の形態ではこれを防止できる。   As shown in FIG. 4, a rectifying plate 56 is provided inside the supply unit 52, and the steam-containing hot air of the second solvent is uniformly supplied by the rectifying plate 56. A nozzle 54 is provided above the supply unit 52, and hot air containing solvent vapor of the second solvent is blown from the nozzle 54 toward the lower surface of the support 16 (that is, the image forming layer). The nozzle 54 is configured to uniformly blow the solvent vapor-containing hot air of the second solvent in the width direction of the support 16. For example, the nozzle 54 has a slit in the width direction, and contains the solvent vapor of the second solvent from the slit. Hot air is blown out. A plurality of nozzles 54 are provided in the transport direction of the support 16, and the solvent vapor-containing hot air of the second solvent is blown in a predetermined range in the transport direction of the support 16. Further, as shown in FIG. 5, the width W of the supply unit 52 is formed to be larger than the width of the support 16, and the solvent vapor-containing hot air of the second solvent is blown over the entire width of the support 16. . The width W of the supply unit 52 may be set larger than the length L of the zone in which the solvent vapor atmosphere of the second solvent is formed (specifically, an interval between wind shielding plates 60A and 60B described later) L. Preferably, the ratio W / L is preferably 1 or more, and more preferably 2 or more. This is because the larger the W / L, the smaller the device can be made by reducing L, but the residual distribution of the first solvent is likely to occur in the width direction, and in particular when the W / L is 1 or more, the residual distribution. However, this can be prevented in this embodiment.

上記の如く構成された供給部52のノズル54から第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風が吹き出されることによって、ボックス50内に第2溶媒の溶媒蒸気雰囲気が形成される。これにより、支持体16の膜中の第1溶媒の乾燥が行われる。   The solvent vapor-containing hot air of the second solvent is blown out from the nozzle 54 of the supply unit 52 configured as described above, whereby a solvent vapor atmosphere of the second solvent is formed in the box 50. Thereby, the 1st solvent in the film | membrane of the support body 16 is dried.

図4に示すように、支持体16の搬送方向に対して供給部52の上流側と下流側には、排気部58A、58Bが設けられる。この排気部58A、58Bは、供給部52と同様に支持体16の下側に設けられており、支持体16の下面近傍から下方にエアを吸引するようになっている。図5に示すように、排気部58A、58Bは、支持体16よりも広い幅で形成されており、好ましくは供給部52と同じ幅Wで形成される。また、排気部58A、58Bは、図3に示すように蒸留塔72に接続されており、排気部58A、58Bからの排気エアが蒸留塔72に送気される。蒸留塔72に送気された排気エアは、第2溶媒と溶剤とが分離され、分離された第2溶媒がタンク62に戻される一方で、溶剤が回収される。なお、排気部58A、58Bから排気されるエアの風量は、供給部52から吹き出される第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風の風量よりも大きくなるように設定される。これにより、供給部52から吹き出された第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風がボックス50の外部に流出することを防止できる。   As shown in FIG. 4, exhaust units 58 </ b> A and 58 </ b> B are provided on the upstream side and the downstream side of the supply unit 52 with respect to the conveyance direction of the support 16. The exhaust parts 58 </ b> A and 58 </ b> B are provided on the lower side of the support 16 like the supply part 52, and suck air downward from the vicinity of the lower surface of the support 16. As shown in FIG. 5, the exhaust parts 58 </ b> A and 58 </ b> B are formed with a width wider than that of the support 16, and preferably with the same width W as the supply part 52. Further, the exhaust units 58A and 58B are connected to the distillation column 72 as shown in FIG. 3, and the exhaust air from the exhaust units 58A and 58B is sent to the distillation column 72. In the exhaust air sent to the distillation column 72, the second solvent and the solvent are separated, and the separated second solvent is returned to the tank 62, while the solvent is recovered. The air volume exhausted from the exhaust units 58A and 58B is set to be larger than the air volume of the solvent vapor-containing hot air of the second solvent blown out from the supply unit 52. Thereby, the solvent vapor-containing hot air of the second solvent blown out from the supply unit 52 can be prevented from flowing out of the box 50.

図4に示すように、排気部58Aと供給部52との間には遮風板60Aが設けられ、排気部58Bと供給部52との間には遮風板60Bが設けられる。遮風板60A、60Bは、支持体16の下方に垂直に設けられており、支持体16の下面に所定の隙間量Sを持って配置される。供給部52と排気部58A、58Bは、この隙間のみで連通され、供給部52から吹き出された第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風は隙間を通って排気部58A、58Bから排気される。なお、図4には、遮風板60A、60Bをボックス50に一体的に設けた例を記載したが、これに限定するものではなく、遮風板60A、60Bをボックス50と別部材として着脱自在に取り付けてもよい。その場合、遮風板60A、60Bが上下方向にスライド自在となるようにボックス50に取り付けて、その高さ位置(すなわち隙間量S)を調節できるように構成するとよい。   As shown in FIG. 4, a wind shield plate 60 </ b> A is provided between the exhaust unit 58 </ b> A and the supply unit 52, and a wind shield plate 60 </ b> B is provided between the exhaust unit 58 </ b> B and the supply unit 52. The wind shielding plates 60 </ b> A and 60 </ b> B are provided vertically below the support body 16, and are arranged with a predetermined gap amount S on the lower surface of the support body 16. The supply unit 52 and the exhaust units 58A and 58B communicate with each other only through this gap, and the solvent vapor-containing hot air of the second solvent blown out from the supply unit 52 is exhausted from the exhaust units 58A and 58B through the gap. 4 shows an example in which the wind shielding plates 60A and 60B are integrally provided in the box 50. However, the present invention is not limited to this, and the wind shielding plates 60A and 60B are attached to and detached from the box 50 as separate members. You may attach freely. In that case, the wind shielding plates 60A and 60B may be attached to the box 50 so as to be slidable in the vertical direction, and the height position (that is, the gap amount S) may be adjusted.

このように支持体16の搬送方向に対して供給部52の両側に排気部58A、58Bを設け、さらに供給部52と排気部58A、58Bとの間に遮風板60A、60Bを設けることによって、供給部52から吹き出された第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風は、遮風板60A、60Bと支持体16との隙間を通って排気部58A、58Bに流れるので、支持体16の下面では、第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風が略均等に接するようになる。これにより、支持体16の膜中の第1溶媒を幅方向に均等に乾燥させることができ、従来では均一な乾燥が困難であった「W/L≧1」の範囲であっても、第1溶媒の残留分布の発生を防止することができる。   Thus, by providing exhaust parts 58A and 58B on both sides of the supply part 52 with respect to the conveying direction of the support 16, and further providing wind shielding plates 60A and 60B between the supply part 52 and the exhaust parts 58A and 58B. Since the solvent vapor-containing hot air of the second solvent blown out from the supply unit 52 flows to the exhaust units 58A and 58B through the gap between the wind shielding plates 60A and 60B and the support body 16, the lower surface of the support body 16 The solvent vapor-containing hot air of the second solvent comes into contact almost evenly. As a result, the first solvent in the film of the support 16 can be uniformly dried in the width direction, and even in the range of “W / L ≧ 1” where uniform drying has been difficult conventionally, The occurrence of residual distribution of one solvent can be prevented.

ところで、蒸気乾燥部29では、以下の乾燥条件で乾燥処理が行われる。すなわち、蒸気乾燥部29では、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:水蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量(本実施の形態では水なので18)とした際に、
1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8・・・(式1)
の乾燥条件で乾燥処理が行われる。この乾燥条件において、「C×R(273.15+T)/(M×P)」は、飽和蒸気圧に対する蒸気圧の比(以下、相対蒸気圧比と称する)を意味する。本実施の形態では、第2溶媒が水なので、(式1)は、相対湿度が100%以上180%以下であることを意味している。
By the way, in the steam drying part 29, a drying process is performed on the following drying conditions. That is, in the steam drying section 29, T: film temperature [° C.] at the drying point, C: water vapor amount [g / m 3 ], P T : saturated water vapor amount [Pa] at the film surface temperature T, R: gas constant, M: When the molecular weight of the second solvent is 18 (because it is water in the present embodiment),
1.0 ≦ C × R (273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8 (Formula 1)
The drying process is performed under the following drying conditions. In this drying condition, “C × R (273.15 + T) / (M × P T )” means a ratio of vapor pressure to saturated vapor pressure (hereinafter referred to as relative vapor pressure ratio). In the present embodiment, since the second solvent is water, (Expression 1) means that the relative humidity is 100% or more and 180% or less.

このような乾燥条件で乾燥処理を行った場合、第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風が塗膜の表面に吹き付けられることによって、第2溶媒が塗膜の表面に微小液滴の状態で結露する。この結露によって発生した凝縮熱によって、微小液滴の発生箇所の塗膜が部分的に加熱されて軟化し、さらに、この軟化状態の塗膜を第2溶媒の液滴が押し退ける。そして、溶媒蒸気含有熱風ゾーンを通過した際に、第2溶媒の微小な液滴が、塗膜の持つ熱によって瞬時に蒸発する。このような過程を経ることにより、図6に示すように、乾燥後の塗膜80の表面には半球状の無数の細孔82が形成される。細孔82は、孔径0.2μm以上4.0μm以下の略半球状に形成されており、ランダムに配置される。また図6では省略したが細孔82の周縁部分は、徐々に凹んでおり、なだらかな曲面になっている。(なお図8、図9も同様。)   When the drying process is performed under such a drying condition, the solvent vapor-containing hot air of the second solvent is blown onto the surface of the coating film, whereby the second solvent is condensed on the surface of the coating film in the form of fine droplets. Due to the condensation heat generated by this dew condensation, the coating film where the micro droplets are generated is partially heated and softened, and further, the second solvent droplet pushes away the softened coating film. When passing through the solvent vapor-containing hot air zone, minute droplets of the second solvent are instantly evaporated by the heat of the coating film. Through such a process, innumerable hemispherical pores 82 are formed on the surface of the dried coating film 80 as shown in FIG. The pores 82 are formed in a substantially hemispherical shape having a pore diameter of 0.2 μm or more and 4.0 μm or less, and are randomly arranged. Although omitted in FIG. 6, the peripheral portion of the pore 82 is gradually recessed to form a gentle curved surface. (The same applies to FIGS. 8 and 9.)

一方、相対蒸気圧比の値が1未満の乾燥条件で乾燥させた場合は、結露が発生しないので、塗膜には細孔が形成されない。逆に、相対蒸気圧比の値が1.8超の場合には、第2溶媒が塗膜の表面に結露し、水の膜を形成するため、塗膜には細孔が形成されない。   On the other hand, when the film is dried under a drying condition having a relative vapor pressure ratio of less than 1, no condensation occurs, so that no pores are formed in the coating film. On the contrary, when the value of the relative vapor pressure ratio exceeds 1.8, the second solvent is condensed on the surface of the coating film to form a water film, so that no pores are formed in the coating film.

以上説明したように本実施の形態では、式(1)の乾燥条件で乾燥処理を行うようにしたので、塗膜の表面に細孔82すなわち凹凸を形成することができる。したがって、製造後の平版印刷版の表面に凹凸が形成され、表面の摩擦係数が増加されるので、平版印刷版を集積した際に束ズレが発生することを防止できる。   As described above, in the present embodiment, since the drying process is performed under the drying condition of the formula (1), the pores 82, that is, the irregularities can be formed on the surface of the coating film. Therefore, irregularities are formed on the surface of the lithographic printing plate after production, and the coefficient of friction of the surface is increased, so that it is possible to prevent bundle deviation when the lithographic printing plates are accumulated.

また、本実施の形態は、蒸気乾燥部29の条件を式(1)に設定するだけなので、新たな表面処理を別途行う必要がない。すなわち、本実施の形態によれば、乾燥処理と同時に塗膜の表面処理を行うことができる。   Moreover, since this Embodiment only sets the conditions of the steam drying part 29 to Formula (1), it is not necessary to perform a new surface treatment separately. That is, according to the present embodiment, the surface treatment of the coating film can be performed simultaneously with the drying treatment.

さらに、本実施の形態は、塗膜の表面に凹凸を形成しても、その塗膜の性質は変化しない。すなわち、表面処理方法として光、電子線、プラズマを用いた場合のように塗膜の物性が変化するおそれがない。よって本実施の形態によれば、塗膜の物性を変化させることなく、凹凸を形成することができる。   Furthermore, even if this embodiment forms irregularities on the surface of the coating film, the properties of the coating film do not change. That is, there is no possibility that the physical properties of the coating film change as in the case of using light, electron beam, or plasma as the surface treatment method. Therefore, according to this Embodiment, an unevenness | corrugation can be formed, without changing the physical property of a coating film.

また、上述した実施形態では、乾燥条件を変えることによって、表面の性質(すなわち凹凸形状)を調節することができる。たとえば、相対蒸気圧比を小さくして1.0に近づけるほど、半球状の細孔82の径が小さくなり、且つ、細孔82の数が減少する。逆に、相対蒸気圧比を大きくして1.8に近づけるほど、半球状の細孔82の径が大きくなり、且つ、細孔82の数も増加する。したがって、本実施の形態によれば、乾燥条件を変えることによって塗膜表面の凹凸形状を変えることができるので、表面粗さや濡れ性を簡単に調節することができる。
(第2の実施形態)
第2の実施形態は、重層塗布する際に下層の表面を改質する(すなわち下層の表面に凹凸を形成する)装置として本発明を適用している。図7は、第2の実施形態における平版印刷版の製造装置の基本的な構成を示す図であり、同図の矢印Aは支持体16の搬送方向を示している。図7に示す第2の実施形態は、図1に示した第1の実施形態と比較して、塗布部22、乾燥部24が設けられている点で異なっている。すなわち、乾燥部20と巻き取り装置26との間に、塗布部22、乾燥部24が設けられている。
In the above-described embodiment, the surface property (that is, the uneven shape) can be adjusted by changing the drying conditions. For example, as the relative vapor pressure ratio is reduced to approach 1.0, the diameter of the hemispherical pores 82 is reduced, and the number of pores 82 is reduced. Conversely, as the relative vapor pressure ratio is increased to approach 1.8, the diameter of the hemispherical pores 82 increases and the number of pores 82 also increases. Therefore, according to the present embodiment, since the uneven shape of the coating film surface can be changed by changing the drying conditions, the surface roughness and wettability can be easily adjusted.
(Second Embodiment)
In the second embodiment, the present invention is applied as an apparatus that modifies the surface of the lower layer (that is, forms irregularities on the surface of the lower layer) when applying multiple layers. FIG. 7 is a diagram showing a basic configuration of a planographic printing plate manufacturing apparatus according to the second embodiment, and an arrow A in FIG. 7 indicates the conveyance direction of the support 16. The second embodiment shown in FIG. 7 is different from the first embodiment shown in FIG. 1 in that an application unit 22 and a drying unit 24 are provided. That is, the application unit 22 and the drying unit 24 are provided between the drying unit 20 and the winding device 26.

塗布部22は、画像形成層への酸素遮断及び親油性物質による画像形成層表面の汚染防止のため、画像形成層上に水溶性オーバーコート層を形成する装置である。水溶性オーバーコート層は、印刷時容易に除去できるものであり、水溶性の有機高分子化合物から選ばれた樹脂を含有している。水溶性オーバーコート層の塗布方法としては、上述した塗布部18と同様のものが使用できる。   The application unit 22 is a device that forms a water-soluble overcoat layer on the image forming layer in order to block oxygen from the image forming layer and prevent contamination of the surface of the image forming layer with a lipophilic substance. The water-soluble overcoat layer can be easily removed at the time of printing, and contains a resin selected from water-soluble organic polymer compounds. As a method for applying the water-soluble overcoat layer, the same method as that for the application part 18 described above can be used.

乾燥部24は、塗布部22で塗布されたオーバーコート層を乾燥させる装置であり、乾燥方法は熱風を用いた乾燥方法など任意の方法を採ることができる。オーバーコート層が塗布された支持体16は、乾燥部24で乾燥された後、最終的に巻き取り装置26によって巻き取られる。   The drying unit 24 is a device that dries the overcoat layer applied by the application unit 22, and the drying method may be any method such as a drying method using hot air. The support 16 to which the overcoat layer is applied is dried by the drying unit 24 and is finally wound by the winding device 26.

上記の如く構成された第2の実施形態によれば、塗布部18によって画像形成層塗布液が下層として塗布され、乾燥部20によってその下層の乾燥処理が行われる。その際、上述した第1の実施形態と同様に、式(1)の乾燥条件で乾燥処理が行われる。したがって、図8に示すように、乾燥後の塗膜(下層)80には、略半球状の細孔82が形成されている。この状態は、濡れ性の良い溶媒(すなわち膜表面との接触角90°未満の溶媒)に対する膜表面の接触角が1〜20°低下した状態である。   According to the second embodiment configured as described above, the image forming layer coating solution is applied as a lower layer by the applying unit 18, and the lower layer is dried by the drying unit 20. At that time, similarly to the first embodiment described above, the drying process is performed under the drying condition of the formula (1). Therefore, as shown in FIG. 8, substantially hemispherical pores 82 are formed in the dried coating film (lower layer) 80. This state is a state in which the contact angle of the film surface with respect to the solvent having good wettability (that is, the solvent having a contact angle of less than 90 ° with the film surface) is reduced by 1 to 20 °.

下層(画像形成層の塗膜80)が形成された支持体16は、塗布部22において、下層の上にオーバーコート層の塗布液が上層として塗布される。その際、下層(塗膜80)の表面には細孔82が形成され、濡れ性が向上しているので、オーバーコート層の塗布液のハジキが発生することを防止することができる。これにより、上層の塗布精度を向上させることができる。塗布された上層の塗膜84は、乾燥部24によって乾燥される。   In the support 16 on which the lower layer (the coating film 80 of the image forming layer) is formed, the coating liquid of the overcoat layer is applied as an upper layer on the lower layer in the coating unit 22. At that time, since pores 82 are formed on the surface of the lower layer (coating film 80) and wettability is improved, it is possible to prevent repelling of the coating liquid for the overcoat layer. Thereby, the coating accuracy of the upper layer can be improved. The applied upper layer coating 84 is dried by the drying unit 24.

このように第2の実施形態では、下層の乾燥処理を式(1)の乾燥条件で行うようにしたので、下層の濡れ性を向上させることができ、上層の塗布液のハジキを防止することができる。   As described above, in the second embodiment, since the lower layer is dried under the drying condition of the formula (1), the wettability of the lower layer can be improved and the repellency of the upper layer coating liquid can be prevented. Can do.

(第3の実施形態)
第3の実施形態は、図7に示した第2の実施形態と同様に構成される。すなわち、第3の実施形態の製造装置は主として送り出し装置12、表面処理部14、塗布部18、乾燥部20、塗布部22、乾燥部24、巻き取り装置26で構成される。
(Third embodiment)
The third embodiment is configured in the same manner as the second embodiment shown in FIG. That is, the manufacturing apparatus of the third embodiment mainly includes a delivery device 12, a surface treatment unit 14, a coating unit 18, a drying unit 20, a coating unit 22, a drying unit 24, and a winding device 26.

ただし、第3の実施形態の乾燥部24では、式(1)での乾燥条件で乾燥処理が行われる。なお、第3の実施形態の乾燥部20では任意の乾燥条件で乾燥処理が行われる。すなわち、相対蒸気圧比が1以下の結露しない条件で乾燥処理を行ってもよいし、相対蒸気圧比が1〜1.8の細孔形成条件で乾燥処理を行ってもよい。   However, in the drying unit 24 of the third embodiment, the drying process is performed under the drying conditions in the formula (1). In addition, in the drying part 20 of 3rd Embodiment, a drying process is performed on arbitrary drying conditions. That is, the drying process may be performed under a condition where the relative vapor pressure ratio is 1 or less and no condensation occurs, or the drying process may be performed under a pore forming condition where the relative vapor pressure ratio is 1 to 1.8.

上述した第3の実施形態では、乾燥部24において式(1)の乾燥条件で乾燥処理を行うので、図9に示すように、乾燥後の塗膜(オーバーコート層)84には、上述した第1の実施形態の塗膜80(図6参照)と同様に、略半球状の細孔82が形成される。したがって、製造後の平版印刷版の表面に凹凸が形成され、表面の摩擦係数が増加されるので、平版印刷版を集積した際に束ズレが発生することを防止できる。   In the third embodiment described above, the drying unit 24 performs the drying process under the drying condition of the formula (1). Therefore, as shown in FIG. 9, the coating film (overcoat layer) 84 after the drying is described above. Similar to the coating film 80 of the first embodiment (see FIG. 6), substantially hemispherical pores 82 are formed. Therefore, irregularities are formed on the surface of the lithographic printing plate after production, and the coefficient of friction of the surface is increased, so that it is possible to prevent bundle deviation when the lithographic printing plates are accumulated.

次に、本実施形態に使用される各種材料について説明する。   Next, various materials used in this embodiment will be described.

〔支持体〕
本発明において、支持体の材質は特に限定するものではなく、金属、樹脂、紙、布等であってもよい。また、支持体の形状は、帯状に限定されることはなく、帯状以外であってもよい。
[Support]
In the present invention, the material of the support is not particularly limited, and may be metal, resin, paper, cloth or the like. Moreover, the shape of a support body is not limited to strip | belt shape, Other than strip | belt shape may be sufficient.

本実施形態の平版印刷版原版に用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。 純アルミニウム板のほか、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板や、アルミニウムまたはアルミニウム合金がラミネートされまたは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を用いることもできる。更に、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートを用いることもできる。   The aluminum plate used for the lithographic printing plate precursor according to the present embodiment is a metal mainly composed of dimensionally stable aluminum, and is made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or a plastic film or paper on which aluminum or an aluminum alloy is laminated or vapor-deposited can also be used. Furthermore, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film can also be used.

本実施形態に用いられるアルミニウム板の組成は、特に限定されないが、純アルミニウム板を用いるのが好適である。完全に純粋なアルミニウムは精練技術上、製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものを用いてもよい。例えば、アルミニウムハンドブック第4版(軽金属協会(1990))に記載の公知の素材のもの、具体的には、例えば、JIS A1050、JIS A1100、JIS A3003、JIS A3004、JIS A3005、国際登録合金3103A等のアルミニウム合金板を適宜利用することができる。また、アルミニウム含有量が、99.4〜95質量%であり、Fe、Si、Cu、Mg、Mn、Zn、CrおよびTiからなる群から選ばれる3種以上を含むアルミニウム合金、スクラップアルミ材または二次地金を使用したアルミニウム板を使用することもできる。   The composition of the aluminum plate used in the present embodiment is not particularly limited, but it is preferable to use a pure aluminum plate. Since completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of scouring techniques, it may be used that contains slightly different elements. For example, known materials described in Aluminum Handbook 4th Edition (Light Metal Association (1990)), specifically, for example, JIS A1050, JIS A1100, JIS A3003, JIS A3004, JIS A3005, international registered alloy 3103A, etc. These aluminum alloy plates can be used as appropriate. In addition, the aluminum content is 99.4 to 95% by mass, and includes an aluminum alloy, scrap aluminum material, or three or more selected from the group consisting of Fe, Si, Cu, Mg, Mn, Zn, Cr and Ti An aluminum plate using a secondary metal can also be used.

また、アルミニウム合金板のアルミニウム含有率は、特に限定されないが、アルミニウム含有率が95〜99.4質量%であってもよく、さらにこのアルミニウム板が、Fe、Si、Cu、Mg、Mn、Zn、CrおよびTiからなる群から選ばれる3種以上の異元素を以下の範囲で含有することが好ましい。そのようにすると、アルミニウムの結晶粒が微細になるためである。Fe:0.20〜1.0質量%、Si:0.10〜1.0質量%、Cu:0.03〜1.0質量%、Mg:0.1〜1.5質量%、Mn:0.1〜1.5質量%、Zn:0.03〜0.5質量%、Cr:0.005〜0.1質量%、Ti:0.01〜0.5質量%。また、アルミニウム板は、Bi、Ni等の元素や不可避不純物を含有してもよい。   Further, the aluminum content of the aluminum alloy plate is not particularly limited, but the aluminum content may be 95 to 99.4% by mass, and this aluminum plate is made of Fe, Si, Cu, Mg, Mn, Zn It is preferable to contain three or more different elements selected from the group consisting of Cr, Ti in the following ranges. This is because aluminum crystal grains become finer. Fe: 0.20 to 1.0 mass%, Si: 0.10 to 1.0 mass%, Cu: 0.03 to 1.0 mass%, Mg: 0.1 to 1.5 mass%, Mn: 0.1-1.5 mass%, Zn: 0.03-0.5 mass%, Cr: 0.005-0.1 mass%, Ti: 0.01-0.5 mass%. The aluminum plate may contain elements such as Bi and Ni and inevitable impurities.

アルミニウム板の製造方法は、連続鋳造方式およびDC鋳造方式のいずれでもよく、DC鋳造方式の中間焼鈍や、均熱処理を省略したアルミニウム板も用いることができる。最終圧延においては、積層圧延や転写等により凹凸を付けたアルミニウム板を用いることもできる。本実施形態に用いられるアルミニウム板は、連続した帯状のシート材または板材である、アルミニウム支持体であってもよく、製品として出荷される平版印刷版原版に対応する大きさ等に裁断された枚葉状シートであってもよい。   The production method of the aluminum plate may be either a continuous casting method or a DC casting method, and an aluminum plate that omits DC casting method intermediate annealing or soaking treatment may also be used. In the final rolling, it is possible to use an aluminum plate provided with irregularities by lamination rolling or transfer. The aluminum plate used in the present embodiment may be an aluminum support that is a continuous strip-shaped sheet material or plate material, and is a sheet that has been cut to a size corresponding to a planographic printing plate precursor that is shipped as a product. A leaf-like sheet may be used.

本実施形態に用いられるアルミニウム板の厚みは、通常、0.05mm〜1mm程度であり、0.1mm〜0.5mmであるのが好ましい。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさおよびユーザの希望により適宜変更することができる。   The thickness of the aluminum plate used in the present embodiment is usually about 0.05 mm to 1 mm, and preferably 0.1 mm to 0.5 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's desire.

本実施形態における平版印刷版用支持体の製造方法においては、上記アルミニウム板に、少なくとも、粗面化処理、陽極酸化処理、及び特定の封孔処理を含む表面処理を施して平版印刷版用支持体を得るが、この表面処理には、更に各種の処理が含まれていてもよい。なお、本実施形態の各種工程においては、その工程に用いられる処理液の中に使用するアルミニウム板の合金成分が溶出するので、処理液はアルミニウム板の合金成分を含有していてもよく、特に、処理前にそれらの合金成分を添加して処理液を定常状態にして用いるのが好ましい。   In the method for producing a lithographic printing plate support in the present embodiment, the aluminum plate is subjected to at least a surface treatment including a roughening treatment, an anodizing treatment, and a specific sealing treatment to support the lithographic printing plate. A body is obtained, but this surface treatment may further include various treatments. In the various steps of this embodiment, since the alloy component of the aluminum plate used in the treatment liquid used in the step is eluted, the treatment solution may contain the alloy component of the aluminum plate. It is preferable to add the alloy components before the treatment and use the treatment liquid in a steady state.

上記表面処理として、電解粗面化処理の前に、アルカリエッチング処理またはデスマット処理を施すのが好ましく、また、アルカリエッチング処理とデスマット処理とをこの順に施すのも好ましい。また、電解粗面化処理の後に、アルカリエッチング処理またはデスマット処理を施すのが好ましく、また、アルカリエッチング処理とデスマット処理とをこの順に施すのも好ましい。また、電解粗面化処理後のアルカリエッチング処理は、省略することもできる。また、これらの処理の前に機械的粗面化処理を施すのも好ましい。また、電解粗面化処理を2回以上行ってもよい。その後、陽極酸化処理、封孔処理、親水化処理等を施すのも好ましい。   As the surface treatment, an alkali etching treatment or a desmut treatment is preferably performed before the electrolytic surface roughening treatment, and an alkali etching treatment and a desmut treatment are also preferably performed in this order. Moreover, it is preferable to perform an alkali etching process or a desmut process after an electrolytic roughening process, and it is also preferable to perform an alkali etching process and a desmut process in this order. Further, the alkali etching treatment after the electrolytic surface roughening treatment can be omitted. Moreover, it is also preferable to perform a mechanical surface roughening process before these processes. Moreover, you may perform an electrolytic surface roughening process twice or more. Thereafter, it is also preferable to perform anodizing treatment, sealing treatment, hydrophilization treatment, and the like.

〔第2溶媒〕
本実施形態に使用される第2溶媒としては、第1溶媒よりも分子体積の小さい分子体積をもつ溶媒が好ましく、そのような溶媒は一般的に低沸点溶媒で、沸点が30℃以上130℃以下のものが好ましい。このような低沸点溶媒としては、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。括弧内に沸点を記載する。
[Second solvent]
As the second solvent used in the present embodiment, a solvent having a molecular volume smaller than that of the first solvent is preferable, and such a solvent is generally a low boiling point solvent having a boiling point of 30 ° C. or higher and 130 ° C. The following are preferred. Examples of such a low boiling point solvent include the following, but the present invention is not limited thereto. The boiling point is described in parentheses.

メタノール(64.5℃−64.65℃)、エタノール(78.32℃)、n−プロパノール(97.15℃)、イソプロパノール(82.3℃)、n−ブタノール(117.7℃)、イソブタノール(107.9℃)等のアルコール類、エチルエーテル(34.6℃)、イソプロピルエーテル (68.27℃)等のエーテル類、アセトン(56.2℃)、メチルエチルケトン(79.59℃)、メチル−n−プロピルケトン(103.3℃)、メチルイソブチルケトン(115.9℃)、ジエチルケトン(102.2℃)等のケトン類、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸−n−プロピル(101.6℃)、酢酸−n−ブチル(1265℃)等のエステル類、n−ヘキサン(68742℃)、シクロヘキサン(80.738℃)等の炭化水素類、水等。   Methanol (64.5 ° C-64.65 ° C), ethanol (78.32 ° C), n-propanol (97.15 ° C), isopropanol (82.3 ° C), n-butanol (117.7 ° C), iso Alcohols such as butanol (107.9 ° C), ethers such as ethyl ether (34.6 ° C), isopropyl ether (68.27 ° C), acetone (56.2 ° C), methyl ethyl ketone (79.59 ° C), Ketones such as methyl-n-propyl ketone (103.3 ° C.), methyl isobutyl ketone (115.9 ° C.), diethyl ketone (102.2 ° C.), methyl acetate (57.8 ° C.), ethyl acetate (77. 1 ° C), esters such as acetic acid-n-propyl (101.6 ° C), acetic acid-n-butyl (1265 ° C), n-hexane (68742 ° C), cyclohexane ( Hydrocarbons such as 0.738 ° C.), water and the like.

〔第1溶媒〕
本実施形態に使用される第1溶媒は、沸点が150℃以上の高沸点溶媒が好ましい。このような高沸点溶媒として、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。括弧内に沸点を記載する。
[First solvent]
The first solvent used in the present embodiment is preferably a high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher. Examples of such a high boiling point solvent include the following, but the present invention is not limited thereto. The boiling point is described in parentheses.

γ−ブチルラクトン(204℃)、アセトアミド(222℃)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(225.5℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、テトラメチル尿酸(175℃一177℃)、ニトロベンゼン(211.3℃)、ホルムアミド(210.5℃)、N−メチルピロリドン(202℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)等。   γ-butyllactone (204 ° C.), acetamide (222 ° C.), 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (225.5 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), tetramethyluric acid (175 ° C.) 177 ° C.), nitrobenzene (211.3 ° C.), formamide (210.5 ° C.), N-methylpyrrolidone (202 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like.

[画像形成層]
本発明においては、上述のようにして形成された処理層上に画像形成層を設けることで平版印刷版原版を得ることができる。
[Image forming layer]
In the present invention, a lithographic printing plate precursor can be obtained by providing an image forming layer on the treatment layer formed as described above.

本発明において、ここに設けられる画像形成層は既知の任意のものであってよいが、ヒートモード又はフォトンモードで記録可能であるものが好ましく、効果の観点からは、赤外線レーザなどのヒートモード露光による画像形成が可能な画像形成層であることが好ましい。   In the present invention, the image forming layer provided here may be any known one, but is preferably one that can be recorded in a heat mode or a photon mode, and from the viewpoint of the effect, a heat mode exposure such as an infrared laser. It is preferable that the image forming layer be capable of forming an image.

また、画像形成層は単層構造であっても、複数の層からなる積層構造を有したものであってもよい。   Further, the image forming layer may have a single layer structure or a laminated structure composed of a plurality of layers.

以下に、画像形成層の種類の異なる各種の平版印刷版原版について説明する。   Hereinafter, various lithographic printing plate precursors having different types of image forming layers will be described.

<赤外線レーザ記録型平版印刷版原版>
本発明に好適な、赤外線レーザにより画像形成可能な平版印刷版原版について説明する。これらは、赤外線レーザ露光によりアルカリ水溶液に対する可溶性が変化する材料を用いるネガ型或いはポジ型の画像形成層、インク受容性領域を形成し得る疎水化前駆体を含有し、赤外線レーザの露光部に疎水化領域が形成される画像形成層など、公知の画像記録方式が任意に選択される。
<Infrared laser recording type lithographic printing plate precursor>
A lithographic printing plate precursor capable of forming an image with an infrared laser suitable for the present invention will be described. These contain a negative or positive image forming layer using a material whose solubility in an alkaline aqueous solution is changed by infrared laser exposure, and a hydrophobizing precursor capable of forming an ink receiving region. A known image recording method such as an image forming layer in which a digitized region is formed is arbitrarily selected.

まず、ポジ型或いはネガ型の画像形成層について述べる。このような画像形成層は、赤外線レーザによる像様露光の後、アルカリ水溶液で現像処理され、アルカリ現像性が活性光線の照射により低下し、照射(露光)部が画像部領域となるネガ型と、逆に現像性が向上し、照射(露光)部が非画像部領域となるポジ型の2つに分けられる。   First, a positive or negative image forming layer will be described. Such an image forming layer is developed with an alkaline aqueous solution after imagewise exposure with an infrared laser, the alkali developability is reduced by irradiation with actinic rays, and the negative (exposed) portion becomes an image portion region. On the contrary, the developability is improved, and the irradiation (exposure) portion is divided into two types, that is, a non-image portion region.

ポジ型の画像形成層としては、相互作用解除系(感熱ポジ)画像形成層、公知の酸触媒分解系、o−キノンジアジド化合物含有系等が挙げられる。これらは光照射や加熱により発生する酸や熱エネルギーそのものにより、層を形成していた高分子化合物の結合が解除されるなどの働きにより水やアルカリ水に可溶となり、現像により除去されて非画像部形成するものである。   Examples of the positive type image forming layer include an interaction release system (thermal positive) image forming layer, a known acid catalyst decomposition system, and an o-quinonediazide compound-containing system. These are soluble in water or alkaline water by the action of the polymer compound that formed the layer being released by the acid or heat energy generated by light irradiation or heating, and are removed by development and non-development. An image part is formed.

また、ネガ型の画像形成層としては、公知の酸触媒架橋系(カチオン重合も含む)画像形成層、重合硬化系画像形成層が挙げられる。これらは、光照射や加熱により発生する酸が触媒となり、画像形成層を構成する化合物が架橋反応を起こし硬化して画像部を形成するもの、或いは、光照射や加熱により生成するラジカルにより重合性化合物の重合反応が進行し、硬化して画像部を形成するものである。   Examples of the negative type image forming layer include known acid-catalyzed cross-linking (including cationic polymerization) image forming layers and polymerization-curing image forming layers. In these compounds, an acid generated by light irradiation or heating serves as a catalyst, and a compound that forms an image forming layer undergoes a crosslinking reaction to be cured to form an image portion, or is polymerizable by radicals generated by light irradiation or heating. The polymerization reaction of the compound proceeds and cures to form an image portion.

本発明における前記特定中間層は、上記のいずれの画像形成層を形成した場合でも優れた効果を示すが、ポジ型画像形成層に好適に用いられる。   The specific intermediate layer in the invention exhibits an excellent effect when any of the image forming layers described above is formed, but is preferably used for a positive type image forming layer.

以下、それぞれの画像形成層について詳細に説明する。
1.ポジ型画像形成層
本発明の好ましい態様として、アルカリ可溶性樹脂と、スルホニウム化合物又はアンモニウム化合物と、を含有し、かつ、前記アルカリ可溶性樹脂中の50質量%以上がノボラック樹脂であり、赤外線レーザにより記録可能な画像形成層を設けたポジ型画像形成層を有する平版印刷原版が挙げられる。また、このポジ型画像形成層には、感度を高めるために、後述する(A)赤外線吸収剤を含有することがより好ましい態様である。ポジ型画像形成層は単層であっても、複数の画像形成層からなる積層構造を有していてもよい。
Hereinafter, each image forming layer will be described in detail.
1. Positive type image forming layer As a preferred embodiment of the present invention, an alkali-soluble resin and a sulfonium compound or an ammonium compound are contained, and 50% by mass or more of the alkali-soluble resin is a novolak resin, and recording is performed by an infrared laser. A lithographic printing original plate having a positive image forming layer provided with a possible image forming layer may be mentioned. In addition, it is a more preferable aspect that the positive type image forming layer contains an infrared absorber (A) described later in order to increase sensitivity. The positive image forming layer may be a single layer or may have a laminated structure composed of a plurality of image forming layers.

(ノボラック型フェノール樹脂)
まず、ノボラック型フェノール樹脂について説明する。ノボラック樹脂は、少なくとも1種のフェノール類を酸性触媒下、アルデヒド類又はケトン類の少なくとも1種と重縮合させた樹脂のことを指す。
(Novolac type phenolic resin)
First, the novolac type phenol resin will be described. The novolak resin refers to a resin obtained by polycondensation of at least one phenol with at least one of aldehydes or ketones under an acidic catalyst.

ここで、フェノール類としては、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノール、プロピルフェノール、n−ブチルフェノール、tert−ブチルフェノール、1−ナフトール、2−ナフトール、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリオール、フロログルシノール、4,4’−ビフェニルジオール、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン等が挙げられ、アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等が、ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。   Here, examples of the phenols include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, o-ethylphenol, m-ethylphenol, and p-ethylphenol. , Propylphenol, n-butylphenol, tert-butylphenol, 1-naphthol, 2-naphthol, pyrocatechol, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, 1,2,4-benzenetriol, phloroglucinol, 4,4′-biphenyldiol, 2,2-bis (4′-hydroxyphenyl) propane and the like. Examples of aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde, furfural and the like, and examples of ketones include Acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

好ましくは、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、レゾルシノールから選択されるフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドから選択されるアルデヒド類又はケトン類との重縮合体が好ましく、特に、m−クレゾール:p−クレゾール:2,5−キシレノール:3,5−キシレノール:レゾルシノールの混合割合がモル比で40〜100:0〜50:0〜20:0〜20:0〜20の混合フェノール類、又は、フェノール:m−クレゾール:p−クレゾールの混合割合がモル比で0〜100:0〜70:0〜60の(混合)フェノール類と、ホルムアルデヒドとの重縮合体が好ましい。   Preferably, phenols selected from phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, resorcinol, and aldehydes selected from formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde Or a polycondensate with ketones is preferable, and the mixing ratio of m-cresol: p-cresol: 2,5-xylenol: 3,5-xylenol: resorcinol in a molar ratio of 40 to 100: 0 to 50: 0. -20: 0 to 20: 0 to 20 mixed phenols, or (mixed) phenols whose mixing ratio of phenol: m-cresol: p-cresol is 0-100: 0 to 70: 0-60 in molar ratio And a polycondensate of formaldehyde are preferred.

これらのノボラック樹脂としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量(以下、単に「重量平均分子量」という)が、好ましくは500〜20,000、更に好ましくは1,000〜15,000、特に好ましくは3,000〜12,000のものが用いられる。重量平均分子量がこの範囲内にあると、充分な皮膜形成性及び、露光部のアルカリ現像性に優れるため好ましい。   As these novolak resins, a polystyrene-reduced weight average molecular weight (hereinafter simply referred to as “weight average molecular weight”) measured by gel permeation chromatography is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15, 000, particularly preferably 3,000 to 12,000. It is preferable for the weight average molecular weight to fall within this range because it is excellent in sufficient film-forming properties and alkali developability in the exposed area.

画像形成層のバインダー樹脂として前記ノボラック樹脂を用いる場合、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、バインダー樹脂のすべてが前記ノボラック樹脂であってもよく、また、それ以外の樹脂を併用することもできる。他の樹脂を併用する場合においても、ノボラック樹脂が主バインダーであることが好ましく、画像形成層を構成するバインダー樹脂(アルカリ可溶性樹脂)中に占めるノボラック樹脂の割合は50質量%以上であることが好ましく、65〜99.9質量%の範囲であることが更に好ましい。   When using the said novolak resin as binder resin of an image forming layer, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. Further, all of the binder resins may be the above-mentioned novolak resins, and other resins may be used in combination. Even when other resins are used in combination, the novolak resin is preferably the main binder, and the proportion of the novolak resin in the binder resin (alkali-soluble resin) constituting the image forming layer is 50% by mass or more. Preferably, the range is 65 to 99.9% by mass.

併用可能なバインダー樹脂としては、一般に用いられる水不溶且つアルカリ可溶性の、高分子中の主鎖及び側鎖の少なくとも一方に酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。ノボラック樹脂以外のフェノール樹脂、例えば、レゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、フェノール性水酸基を有するアクリル樹脂等も好ましく用いられる。併用可能な樹脂としては、具体的には、例えば、特開平11−44956号公報や、特開2003−167343号公報などに記載のポリマーを挙げることができる。   As the binder resin that can be used in combination, a commonly used water-insoluble and alkali-soluble alkali-soluble resin having an acidic group in at least one of the main chain and the side chain in the polymer can be used. Phenol resins other than novolak resins, for example, resole resins, polyvinyl phenol resins, acrylic resins having phenolic hydroxyl groups, and the like are also preferably used. Specific examples of the resin that can be used in combination include polymers described in JP-A Nos. 11-44956 and 2003-167343.

(光熱変換剤)
本発明における画像形成層は、光熱変換剤を含有することが好ましい。ここで用いられる光熱変換剤としては、光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザへの適合性の観点から、波長760nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
(Photothermal conversion agent)
The image forming layer in the invention preferably contains a photothermal conversion agent. The photothermal conversion agent used here can be used without any limitation on the absorption wavelength range as long as it absorbs light energy irradiation and generates heat, but is compatible with readily available high-power lasers. From the above viewpoint, an infrared-absorbing dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm is preferable.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, oxonol dyes And dyes such as diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A 59-73996, JP-A 60-52940, JP-A 60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A 58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. .

また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。更に、特開2005−99685号公報の26−38頁に記載された化合物が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に特開2005−99685号公報の一般式(a)で示されるシアニン色素が、本発明の感光性組成物で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Further, the compound described on pages 26-38 of JP-A-2005-99685 is preferred because of its excellent photothermal conversion efficiency. In particular, the cyanine dye represented by formula (a) in JP-A-2005-99685 is preferred. When used in the photosensitive composition of the invention, it is most preferable because it gives high interaction with the alkali-soluble resin and is excellent in stability and economy.

(分解性溶解抑止剤)
本発明におけるポジ型画像形成層には、更に分解性溶解抑止剤を添加することができる。特に、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質(分解性溶解抑止剤)を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。分解性溶解抑止剤としては、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩等のオニウム塩及び、o−キノンジアジド化合物が好ましく、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ジアゾニウム塩がより好ましい。
(Degradable dissolution inhibitor)
A decomposable dissolution inhibitor can be further added to the positive image forming layer in the invention. In particular, use in combination with substances (degradable dissolution inhibitors) that are thermally decomposable, such as onium salts, o-quinonediazide compounds, sulfonic acid alkyl esters, and that substantially reduce the solubility of alkali-soluble resins when not decomposed. However, this is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibition of the image area in the developer. As the decomposable dissolution inhibitor, onium salts such as sulfonium salts, ammonium salts, diazonium salts, iodonium salts, and o-quinonediazide compounds are preferable, and sulfonium salts, ammonium salts, and diazonium salts are more preferable.

本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えば、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号、特開2006−293162号公報、特開2004−117546号公報の明細書に記載のアンモニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同5,041,358号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号、特開2006−293162号公報、特開2006−258979号公報に記載のスルホニウム塩を挙げることができる。   Suitable onium salts for use in the present invention include, for example, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, JP-A-3-140140, JP-A-2006-293162, Ammonium salts described in the specification of JP-A-2004-117546, V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 5,041,358, No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904 Examples thereof include sulfonium salts described in JP-A Nos. 626, 3,604,580, 3,604,581, JP-A 2006-293162, and JP-A 2006-258879.

また、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報、特開平5−158230号公報に記載の一般式(I)、特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)、特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)などで示されるジアゾニウム塩を挙げることができる。   S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230, JP-A-5-158230, general formula (I), JP-A-11-143064, general formula ( 1), and diazonium salts represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064.

これ以外の好ましいオニウム塩として、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。   Other preferable onium salts include D.I. C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salts, J.M. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

これらのオニウム塩は、1種類のみを用いても、複数の化合物を用いてもよい。また、画像形成層が積層構造を有する場合には、単一層のみに添加しても複数の層に添加してもよく、また、複数の種類からなる化合物を、層を分けて添加してもよい。   These onium salts may be used alone or in a plurality of compounds. In addition, when the image forming layer has a laminated structure, it may be added to only a single layer or a plurality of layers, or a compound of a plurality of types may be added separately in layers. Good.

好適なキノンジアジド類としては、o−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-sensitive systems” by John Coley (John Wiley & Sons. Inc.) can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

更に、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂或いはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば、特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号などの各公報、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。   Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17482, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, and 3,544 No. 323, No. 3,573,917, No. 3,674,495, No. 3,785,825, British Patent No. 1,227,602, No. 1,251,345, No. No. 1,267,005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890 and the like. .

分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び/又は、o−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは、本発明にかかる画像形成層の全固形分に対し、好ましくは0.1〜10質量%、更に好ましくは0.1〜5質量%、特に好ましくは0.2〜2質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。   The amount of the onium salt and / or the o-quinonediazide compound that is a degradable dissolution inhibitor is preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer according to the present invention. More preferably, it is 0.1-5 mass%, Most preferably, it is the range of 0.2-2 mass%. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは0〜5質量%、更に好ましくは0〜2質量%、特に好ましくは0.1〜1.5質量%である。本発明に用いられる添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。   The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 2% by mass, and particularly preferably 0.1 to 1.5% by mass. The additive and binder used in the present invention are preferably contained in the same layer.

また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平10−268512号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平11−190903号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開2000−105454号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。   Further, a dissolution inhibitor having no decomposability may be used in combination, and preferred dissolution inhibitors include sulfonate esters, phosphate esters, and aromatic carboxylic acids described in detail in JP-A-10-268512. Esters, aromatic disulfones, carboxylic anhydrides, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines, aromatic ethers, etc., as well as lactone skeletons described in detail in JP-A-11-190903, N, N- Examples thereof include an acid color-forming dye having a diarylamide skeleton and a diarylmethylimino skeleton, which also serves as a colorant, and nonionic surfactants described in detail in JP-A No. 2000-105454.

(その他の添加剤)
本発明に係る画像形成層中には、更に、画像のディスクリミネーション(疎水性/親水性の識別性)の強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開2000−187318公報に記載されているような、分子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することができる。このような化合物の添加量としては、本発明に係る画像形成層全固形分に対し、0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%である。
(Other additives)
In the image forming layer according to the present invention, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-187318 discloses further enhancement of image discrimination (hydrophobic / hydrophilic discrimination) and surface scratch resistance. As described, a polymer having a polymerization component of a (meth) acrylate monomer having 2 or 3 perfluoroalkyl groups having 3 to 20 carbon atoms in the molecule can be used in combination. The addition amount of such a compound is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total solid content of the image forming layer according to the present invention.

本発明に係る画像形成層中には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許6,117,913号明細書に用いられているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステル等を挙げることができる。このような化合物の添加量としては、画像形成層全固形分に対し、0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%である。   In the image forming layer according to the present invention, a compound that lowers the static friction coefficient of the surface can be added for the purpose of imparting resistance to scratches. Specific examples include esters of long-chain alkyl carboxylic acids as used in US Pat. No. 6,117,913. The addition amount of such a compound is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total solid content of the image forming layer.

また、本発明に係る画像形成層中には、必要に応じて低分子量の酸性基を有する化合物を含んでいてもよい。酸性基としては、スルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基を挙げることができる。中でもスルホン酸基を有する化合物が好ましい。具体的には、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類や脂肪族スルホン酸類を挙げることができる。   Further, the image forming layer according to the present invention may contain a compound having a low molecular weight acidic group, if necessary. Examples of acidic groups include sulfonic acid groups, carboxylic acid groups, and phosphoric acid groups. Of these, compounds having a sulfonic acid group are preferred. Specific examples include aromatic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid, and aliphatic sulfonic acids.

その他、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号公報、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。   In addition, for the purpose of further improving sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination. Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 “-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3”, 4 ”-tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane and the like. There are sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphoric acid esters, carboxylic acids, and the like, which are described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 60-88942 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-96755. , P-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate Phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1, Examples include 2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like.

上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類を画像形成層に添加する場合、画像形成層中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。   When the above cyclic acid anhydride, phenols and organic acids are added to the image forming layer, the proportion in the image forming layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass. Especially preferably, it is 0.1-10 mass%.

また、本発明に係る画像形成層の塗布液を調製する場合には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平11−288093号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。   Further, when preparing a coating solution for an image forming layer according to the present invention, it is described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 62-251740 and 3-208514 in order to broaden the stability of processing with respect to development conditions. Nonionic surfactants, amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149, siloxane compounds as described in EP950517, A fluorine-containing monomer copolymer as described in JP-A-11-288093 can be added.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).

シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224,DBE−621,DBE−712,DBP−732,DBP−534、独Tego社製、Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。   The siloxane compound is preferably a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide. Specific examples include DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732, DBP-534, manufactured by Chisso Corporation. And polyalkylene oxide-modified silicones such as Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany.

上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成層中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。   The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image forming layer is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

本発明の平版印刷版原版の画像形成層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。   In the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.

焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。   Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、画像形成層全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で添加することができる。更に本発明に係る画像形成層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred. These dyes can be added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the image forming layer. Furthermore, a plasticizer is added to the image forming layer coating solution according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.

また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には、特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物、及び、特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物などを目的に応じて適宜添加することができる。   In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group, and JP-A No. 11-160860 described in JP-A-8-276558. A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in the publication can be appropriately added depending on the purpose.

以上のようにして得られた本発明の画像記録材料における画像形成層は、皮膜形成性及び皮膜強度に優れ、且つ、赤外線の露光により、露光部が高いアルカリ可溶性を示す。   The image forming layer in the image recording material of the present invention obtained as described above is excellent in film formability and film strength, and the exposed area exhibits high alkali solubility upon infrared exposure.

2.ネガ型画像形成層
2−1.重合硬化層
ネガ型画像形成層の1つとして、重合硬化層が挙げられる。この重合硬化層には、(A)赤外線吸収剤と(B)ラジカル発生剤(ラジカル重合開始剤)と発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する(C)ラジカル重合性化合物とを含有し、好ましくは(D)バインダーポリマーを含有する。赤外線吸収剤が吸収した赤外線を熱に変換し、この際発生した熱により、オニウム塩等のラジカル重合開始剤が分解し、ラジカルを発生する。ラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有し、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれ、発生したラジカルにより連鎖的に重合反応が生起して硬化する。
2. Negative type image forming layer 2-1. Polymerized and cured layer As one of the negative type image forming layers, a polymerized and cured layer is exemplified. This polymerization hardened layer contains (A) an infrared absorber, (B) a radical generator (radical polymerization initiator), and a radical polymerizable compound that is cured by causing a polymerization reaction with the generated radical (C), Preferably (D) a binder polymer is contained. The infrared rays absorbed by the infrared absorbent are converted into heat, and the heat generated at this time decomposes a radical polymerization initiator such as an onium salt to generate radicals. The radically polymerizable compound is selected from compounds having at least one ethylenically unsaturated double bond and having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more, and polymerizes in a chain manner by the generated radicals. A reaction takes place and cures.

2−2.酸架橋層
また、画像形成層の他の態様としては、酸架橋層が挙げられる。酸架橋層には、(E)光又は熱により酸を発生する化合物(以下、酸発生剤と称する)と、(F)発生した酸により架橋する化合物(以下、架橋剤と称する)とを含有し、更に、これらを含有する層を形成するための、酸の存在下で架橋剤と反応しうる(G)アルカリ可溶性ポリマーを含む。この酸架橋層においては、光照射又は加熱により、酸発生剤が分解して発生した酸が、架橋剤の働きを促進し、架橋剤同士或いは架橋剤とバインダーポリマーとの間で強固な架橋構造が形成され、これにより、アルカリ可溶性が低下して、現像剤に不溶となる。このとき、赤外線レーザのエネルギーを効率よく使用するため、画像形成層中には(A)赤外線吸収剤が配合される。
2-2. Acid cross-linked layer Another embodiment of the image forming layer is an acid cross-linked layer. The acid cross-linking layer contains (E) a compound that generates an acid by light or heat (hereinafter referred to as an acid generator) and (F) a compound that cross-links by the generated acid (hereinafter referred to as a cross-linking agent). And (G) an alkali-soluble polymer capable of reacting with a crosslinking agent in the presence of an acid to form a layer containing them. In this acid cross-linking layer, the acid generated by decomposition of the acid generator by light irradiation or heating promotes the action of the cross-linking agent, and a strong cross-linking structure between the cross-linking agents or between the cross-linking agent and the binder polymer. As a result, the alkali solubility is lowered and the developer becomes insoluble. At this time, in order to efficiently use the energy of the infrared laser, (A) an infrared absorber is blended in the image forming layer.

((A)赤外線吸収剤〕)
赤外線レーザで画像形成可能な画像形成層には、赤外線吸収剤を含有する。赤外線吸収剤としては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザの適合性の観点からは波長800nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
((A) Infrared absorber])
The image forming layer capable of forming an image with an infrared laser contains an infrared absorber. As an infrared absorber, any material that absorbs light energy radiation used for recording and generates heat can be used without any limitation in the absorption wavelength range. From the viewpoint, an infrared-absorbing dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 800 nm to 1200 nm is preferable.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. . Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特願平2001−6326、特願平2001−237840記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。   Other preferred examples of the infrared absorbing dye of the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application Nos. 2001-6326 and 2001-237840 as exemplified below.

Figure 2010051928
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これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(A)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and one particularly preferred example is a cyanine dye represented by the following general formula (A).

Figure 2010051928
Figure 2010051928

一般式(A)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−NPh、X−L又は以下に示す基を表す。ここで、Xは酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、Lは、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xaは後述するZaと同様に定義され、Raは、水素原子、アル
キル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
In the general formula (A), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom including a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. Xa - the Za described later - it has the same definition as, Ra is a hydrogen atom, Al
It represents a substituent selected from a kill group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, and a halogen atom.

Figure 2010051928
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及びRは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。画像形成層塗布液の保存安定性から、R及びRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、RとRとは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the image forming layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring. Alternatively, it is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar、Arは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y、Yは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R、Rは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R、R、R及びRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。ただし、一般式(A)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZaは必要ない。好ましいZaは、画像形成層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (A) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the image forming layer coating solution. Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(A)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by formula (A) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.

また、特に好ましい他の例として更に、前記した特願平2001−6326、特願平2001−237840明細書に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。   Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application Nos. 2001-6326 and 2001-237840 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は、分散物の画像形成層塗布液中での安定性及び画像形成層の均一性の観点から、0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, from the viewpoint of the stability of the dispersion in the image forming layer coating solution and the uniformity of the image forming layer. More preferably, the thickness is preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

画像形成層中における、赤外線吸収剤の含有量としては、画像形成層の全固形分質量に対し、0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、0.5〜10質量%が最も好ましい。この範囲において、高感度な記録が可能であり、非画像部における汚れの発生もなく、高画質の画像形成が可能である。   The content of the infrared absorber in the image forming layer is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 10% by mass relative to the total solid mass of the image forming layer. 10 mass% is most preferable. Within this range, high-sensitivity recording is possible, and high-quality image formation is possible without the occurrence of contamination in non-image areas.

((B)ラジカルを発生する化合物)
ラジカル発生剤は、光、熱、或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進させる化合物を指す。本発明に適用可能なラジカル発生剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを選択して使用することができ、例えば、オニウム塩、トリハロメチル基を有するs−トリアジン化合物、オキサゾール化合物などの有機ハロゲン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アリールアジド化合物、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、チオキサントン類等のカルボニル化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素塩化合物、ジズルホン化合物等が挙げられる。
((B) Compound generating radical)
The radical generator refers to a compound that initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group by generating radicals by energy of light, heat, or both. As a radical generator applicable to the present invention, a known thermal polymerization initiator or a compound having a bond with a small bond dissociation energy can be selected and used. For example, an onium salt, an s having a trihalomethyl group can be used. -Organic halogen compounds such as triazine compounds and oxazole compounds, peroxides, azo polymerization initiators, arylazide compounds, benzophenones, acetophenones, carbonyl compounds such as thioxanthones, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron Examples thereof include salt compounds and dizulphone compounds.

本発明において、特に好適に用いられるラジカル発生剤としては、オニウム塩が挙げられ、なかでも、下記一般式(B−1)〜(B−3)で表されるオニウム塩が好ましく用いられる。   In the present invention, particularly preferable radical generators include onium salts, and among them, onium salts represented by the following general formulas (B-1) to (B-3) are preferably used.

Figure 2010051928
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式(B−1)中、Ar11とAr12は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11−は、無機アニオン又は有機アニオンを表す。 In formula (B-1), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a carbon atom having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. Z 11- represents an inorganic anion or an organic anion.

式(B−2)中、Ar21は、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21−はZ11−と同義の対イオンを表す。 In the formula (B-2), Ar 21 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. Z 21- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

式(B−3)中、R31、R32及びR33は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z31−はZ11−と同義の対イオンを表す。 In formula (B-3), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

前記一般式(B−1)〜(B−3)中のZ11−、Z21−、Z31−は無機アニオン若しくは、有機アニオンを表すが、無機アニオンとしては、ハロゲンイオン(F、Cl、Br、I)、過塩素酸イオン(ClO )、過ホウ素酸イオン(BrO )、テトラフルオロボレートイオン(BF )、SbF 、PF 等が挙げられ、有機アニオンとしては、有機ボレートアニオン、スルホン酸イオン、ホスホン酸イオン、カルボン酸イオン、R40−SO、R40−SO 、R40−SO、R40−SO−Y−R40イオン(ここで、R40は炭素原子数1〜20のアルキル基、又は、炭素原子数6〜20のアリール基を表し、Yは単結合、−CO−、−SO−、を表す。)等が挙げられる。 In the general formulas (B-1) to (B-3), Z 11− , Z 21− , and Z 31− represent an inorganic anion or an organic anion. As the inorganic anion, a halogen ion (F , Cl -, Br -, I -) , perchlorate ion (ClO 4 -), perborate ion (BrO 4 -), tetrafluoroborate ion (BF 4 -), SbF 6 -, PF 6 - , and the like As organic anions, organic borate anions, sulfonate ions, phosphonate ions, carboxylate ions, R 40 —SO 3 H , R 40 —SO 2 , R 40 —SO 2 S , R 40 —SO 2 are used. N - -Y-R 40 ion (wherein, R 40 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, Y is a single bond, -CO -, - SO -, and represented) and the like a..

本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133696号公報の段落番号[0030]〜[0033]に記載されたものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of onium salts that can be suitably used include those described in paragraph numbers [0030] to [0033] of JP-A No. 2001-133696.

本発明において用いられるオニウム塩は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、更に360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The onium salt used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.

これらのオニウム塩は、1種のみを用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   These onium salts may be used alone or in combination of two or more.

これらのオニウム塩は、画像形成層塗布液の全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で添加することができる。添加量が上記範囲において、高感度な記録が達成され、また、印刷時における非画像部の汚れ発生が抑制される。   These onium salts may be added in a proportion of 0.1 to 50% by mass, preferably 0.5 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass, based on the total solid content of the image forming layer coating solution. it can. When the addition amount is in the above range, highly sensitive recording is achieved, and the occurrence of smudges in the non-image area during printing is suppressed.

これらのオニウム塩は必ずしも画像形成層に添加されなくてもよく、画像形成層に隣接して設けられる別の層へ添加してもよい。   These onium salts are not necessarily added to the image forming layer, and may be added to another layer provided adjacent to the image forming layer.

((C)ラジカル重合性化合物)
本態様における画像形成層に使用されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、即ち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類があげられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との付加反応物、更に、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。
((C) radical polymerizable compound)
The radically polymerizable compound used in the image forming layer in this embodiment is a radically polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two. It is selected from the compounds having the above. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, unsaturated carboxylic acid esters having nucleophilic substituents such as hydroxyl groups, amino groups, mercapto groups, amides and monofunctional or polyfunctional isocyanates, addition reaction products of epoxies, monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, halogen A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物であるアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイン酸エステルの具体例は、特開2001−133696号公報の段落番号[0037]〜[0042]に記載されており、これらを本発明にも適用することができる。   Specific examples of acrylic acid ester, methacrylic acid ester, itaconic acid ester, crotonic acid ester, isocrotonic acid ester, maleic acid ester, which are radical polymerizable compounds that are esters of aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids, It describes in paragraph number [0037]-[0042] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-133696, and these are applicable also to this invention.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926、特公昭51−47334、特開昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240、特開昭59−5241、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.

その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものをあげる事ができる。   Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(VI)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (VI) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Etc.

一般式(VI)
CH=C(R41)COOCHCH(R42)OH
(ただし、R41及びR42は、H又はCHを示す。)
また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
Formula (VI)
CH 2 = C (R 41) COOCH 2 CH (R 42) OH
(Wherein, R 41 and R 42 represent H or CH 3.)
Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

更に、特開昭63−277653,特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。   Furthermore, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 may be used.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等もあげることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌 vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be exemplified. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらのラジカル重合性化合物について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上がこのましい。また、画像部即ち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものが良く、更に、異なる官能数・異なる重合性基を有する化合物(例えば、アクリル酸エステル系化合物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物等)を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。また、画像形成層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させうることがある。また、支持体、オーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。画像形成層中のラジカル重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生じたり、画像形成層の粘着性による製造工程上の問題(例えば、画像形成層成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液からの析出が生じる等の問題を生じうる。   For these radically polymerizable compounds, the details of how to use them, such as what structure to use, whether they are used alone or in combination, and how much they are added, can be selected according to the performance design of the final recording material. Can be set. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of sensitivity, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and compounds having different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylate ester compounds, methacrylate esters). It is also effective to adjust both photosensitivity and strength by using a combination of a compound, a styrene compound, and the like. A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in sensitivity and film strength, but may not be preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. Further, the selection and use method of the radical polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the image forming layer. The compatibility may be improved by using a low-purity compound or using a combination of two or more compounds. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the support, overcoat layer and the like. As for the compounding ratio of the radically polymerizable compound in the image forming layer, a larger amount is advantageous in terms of sensitivity. However, when the amount is too large, undesirable phase separation may occur or the manufacturing process due to the adhesiveness of the image forming layer may occur. Problems (for example, transfer of image forming layer components, manufacturing defects due to adhesion) and precipitation from the developer may occur.

これらの観点から、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して5〜80質量%、好ましくは20〜75質量%である。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、ラジカル重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   From these viewpoints, the preferred blending ratio of the radical polymerizable compound is often 5 to 80% by mass, preferably 20 to 75% by mass, based on the total components of the composition. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the usage of the radical polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface tackiness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

((D)バインダーポリマー)
このような画像形成層においては、画像形成層の膜性向上の観点から更にバインダーポリマーを使用することが好ましく、バインダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、どれを使用しても構わない。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水或いは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、画像形成層を形成するための皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。
((D) Binder polymer)
In such an image forming layer, it is preferable to further use a binder polymer from the viewpoint of improving the film properties of the image forming layer, and it is preferable to use a linear organic polymer as the binder. Any such “linear organic polymer” may be used. Preferably, a linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water is selected to enable water development or weak alkaline water development. The linear organic polymer is selected and used not only as a film-forming agent for forming an image forming layer, but also according to the use as water, weak alkaline water or an organic solvent developer.

例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号に記載されているもの、即ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。   For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development becomes possible. Examples of such linear organic polymers include radical polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, and JP-B-54-25957. , JP 54-92723, JP 59-53836, JP 59-71048, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer. Examples thereof include a polymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, and a partially esterified maleic acid copolymer. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group are useful.

特にこれらの中で、ベンジル基又はアリル基と、カルボキシル基を側鎖に有する(メタ)アクリル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。   Among these, a (meth) acrylic resin having a benzyl group or an allyl group and a carboxyl group in the side chain is particularly preferable because of excellent balance of film strength, sensitivity, and developability.

また、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特開平11−352691号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。   In addition, Japanese Patent Publication No. 7-2004, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287944, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287947, Japanese Patent Laid-Open No. Urethane-based binder polymers containing acid groups described in No. 271741, JP-A-11-352691 and the like are very excellent in strength, and are advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure.

更にこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。   In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.

本発明で使用されるポリマーの重量平均分子量については好ましくは5000以上であり、更に好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは1000以上であり、更に好ましくは2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。   The weight average molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 5000 or more, more preferably in the range of 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 1000 or more, more preferably 2000 to 2000. The range is 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably 1.1 to 10.

これらのポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。   These polymers may be random polymers, block polymers, graft polymers or the like, but are preferably random polymers.

本発明で使用されるバインダーポリマーは単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマーは、画像形成層塗布液の全固形分に対し20〜95質量%、好ましくは30〜90質量%の割合で画像形成層中に添加される。添加量が20質量%未満の場合は、画像形成した際、画像部の強度が不足する。また添加量が95質量%を越える場合は、画像形成されない。またラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と線状有機ポリマーは、質量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。   The binder polymer used in the present invention may be used alone or in combination. These polymers are added to the image forming layer in a proportion of 20 to 95% by mass, preferably 30 to 90% by mass, based on the total solid content of the image forming layer coating solution. When the addition amount is less than 20% by mass, the strength of the image portion is insufficient when an image is formed. If the amount added exceeds 95% by mass, no image is formed. Moreover, it is preferable that the compound which has an ethylenically unsaturated double bond which can be radically polymerized, and a linear organic polymer shall be 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.

次に、酸架橋層の構成成分について説明する。ここで用いられる赤外線吸収剤は、前記重合硬化型画像形成層におけるのと同様のものを用いることができる。   Next, the components of the acid cross-linking layer will be described. The infrared absorber used here can be the same as that used in the polymerization curable image forming layer.

好ましい含有量は、画像形成層の全固形分質量に対し、0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、更に0.5〜10質量%が最も好ましい。   The content is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and most preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the total solid mass of the image forming layer.

前記含有量の範囲において、高感度な記録が達成でき、更に、得られる平版印刷用の非画像部における汚れの発生が抑制される。   In the range of the content, highly sensitive recording can be achieved, and the occurrence of stains in the obtained non-image portion for lithographic printing can be suppressed.

((E)酸発生剤)
本実施の形態において、熱により分解して酸を発生する酸発生剤は、200〜500nmの波長領域の光を照射する又は100℃以上に加熱することにより、酸を発生する化合物をいう。
((E) acid generator)
In the present embodiment, an acid generator that generates an acid by being decomposed by heat refers to a compound that generates an acid when irradiated with light in a wavelength region of 200 to 500 nm or heated to 100 ° C. or higher.

前記酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、熱分解して酸を発生しうる、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。   Examples of the acid generator include a photoinitiator for photocationic polymerization, a photoinitiator for radical photopolymerization, a photodecolorant for dyes, a photochromic agent, or a known acid generator used for a microresist And the like, and known compounds and mixtures thereof that can generate an acid upon thermal decomposition.

上述の酸発生剤のうち、下記一般式(E−1)〜(E−5)で表される化合物が好ましい。   Of the acid generators described above, compounds represented by the following general formulas (E-1) to (E-5) are preferred.

Figure 2010051928
Figure 2010051928

前記一般式(E−1)〜(E−5)中、R、R、R及びRは、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。Rは、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数10以下の炭化水素基又は炭素数10以下のアルコキシ基を表す。Ar、Arは、同一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表す。Rは、置換基を有していてもよい炭素数20以下の2価の炭化水素基を表す。nは、0〜4の整数を表す。 In the general formulas (E-1) to (E-5), R 1 , R 2 , R 4, and R 5 may be the same or different and may have a substituent and have 20 or less carbon atoms. Represents a hydrocarbon group. R 3 represents a halogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms or an alkoxy group having 10 or less carbon atoms. Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. R 6 represents a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. n represents an integer of 0 to 4.

前記式中、R、R、R及びRは、炭素数1〜14の炭化水素基が好ましい。 In the above formula, R 1 , R 2 , R 4 and R 5 are preferably hydrocarbon groups having 1 to 14 carbon atoms.

前記一般式(E−1)〜(E−5)で表される酸発生剤の好ましい態様は、特開2001−142230号公報の段落番号[0197]〜[0222]に一般式(I)〜(V)の化合物として詳細に記載されている。これらの化合物は、例えば、特開平2−100054号、特開平2−100055号に記載の方法により合成することができる。   The preferable aspect of the acid generator represented by the general formulas (E-1) to (E-5) is described in paragraphs [0197] to [0222] of JP-A No. 2001-142230. It is described in detail as a compound of (V). These compounds can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2-100054 and JP-A-2-100055.

また、(E)酸発生剤として、ハロゲン化物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げることができ、中でも、下記一般式(E−6)〜(E−8)で表されるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造式を有するものを好適に挙げることができる。   Examples of the acid generator (E) include onium salts having a halide, sulfonic acid, or the like as a counter ion. Among them, iodonium represented by the following general formulas (E-6) to (E-8): Preferred examples include salts having any structural formula of salts, sulfonium salts and diazonium salts.

Figure 2010051928
Figure 2010051928

前記一般式(E−6)〜(E−8)中、Xは、ハロゲン化物イオン、ClO 、PF 、SbF 、BF 又はRSO を表し、ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。Ar、Arは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表す。R、R、R10は、置換基を有していてもよい炭素数18以下の炭化水素基を表す。 In the general formulas (E-6) to (E-8), X represents a halide ion, ClO 4 , PF 6 , SbF 6 , BF 4 or R 7 SO 3 , , R 7 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Ar 3 and Ar 4 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. R 8 , R 9 and R 10 represent a hydrocarbon group having 18 or less carbon atoms which may have a substituent.

このようなオニウム塩は、特開平10−39509号公報段落番号[0010]〜[0035]に一般式(I)〜(III)の化合物として記載されている。   Such onium salts are described as compounds of general formulas (I) to (III) in paragraph numbers [0010] to [0035] of JP-A-10-39509.

酸発生剤の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜25質量%がより好ましく、0.5〜20質量%が最も好ましい。   The addition amount of the acid generator is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 25% by mass, and most preferably 0.5 to 20% by mass with respect to the total solid mass of the image forming layer. .

前記添加量が、0.01質量%未満であると、画像が得られないことがあり、50質量%を超えると、平版印刷用原版とした時の印刷時において非画像部に汚れが発生することがある。   When the addition amount is less than 0.01% by mass, an image may not be obtained. When the addition amount exceeds 50% by mass, the non-image area is smeared during printing when used as a lithographic printing original plate. Sometimes.

上述の酸発生剤は単独で使用してもよいし、2種以上を組合わせて使用してもよい。   The above acid generators may be used alone or in combination of two or more.

((F)架橋剤)
次に、架橋剤について説明する。架橋剤としては、以下のものが挙げられる。
((F) Crosslinking agent)
Next, the crosslinking agent will be described. The following are mentioned as a crosslinking agent.

(i)ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物
(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物
(iii)エポキシ化合物
以下、前記(i)〜(iii)の化合物について詳述する。
(I) Aromatic compound substituted with hydroxymethyl group or alkoxymethyl group (ii) Compound having N-hydroxymethyl group, N-alkoxymethyl group or N-acyloxymethyl group (iii) Epoxy compound ) To (iii) will be described in detail.

前記(i)ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合物又は複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で縮重合させた樹脂状の化合物も含まれる。   Examples of the aromatic compound substituted with the hydroxymethyl group or alkoxymethyl group (i) include an aromatic compound or a heterocyclic compound polysubstituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group or an alkoxymethyl group. . However, resinous compounds obtained by condensation polymerization of phenols and aldehydes known as resol resins under basic conditions are also included.

ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物のうち、中でも、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を有する化合物が好ましい。   Of the aromatic compounds or heterocyclic compounds poly-substituted with a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group, among them, a compound having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group at a position adjacent to the hydroxy group is preferable.

また、アルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物では、中でも、アルコキシメチル基が炭素数18以下の化合物が好ましく、下記一般式(F−1)〜(F−4)で表される化合物がより好ましい。   Moreover, in the aromatic compound or heterocyclic compound poly-substituted with an alkoxymethyl group, a compound having an alkoxymethyl group having 18 or less carbon atoms is preferable, and is represented by the following general formulas (F-1) to (F-4). More preferred is a compound.

Figure 2010051928
Figure 2010051928

Figure 2010051928
Figure 2010051928

前記一般式(F−1)〜(F−4)中、L〜Lは、それぞれ独立に、メトキシメチル、エトキシメチル等の、炭素数18以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。 In the general formulas (F-1) to (F-4), L 1 to L 8 are each independently a hydroxymethyl group substituted with an alkoxy group having 18 or less carbon atoms such as methoxymethyl or ethoxymethyl, or Represents an alkoxymethyl group.

これらの架橋剤は、架橋効率が高く、耐刷性を向上できる点で好ましい。   These crosslinking agents are preferable in that they have high crosslinking efficiency and can improve printing durability.

(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物としては、欧州特許公開(以下、「EP−A」と示す。)第0,133,216号、西独特許第3,634,671号、同第3,711,264号に記載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−A第0,212,482号明細書に記載のアルコキシ置換化合物等が挙げられる。   (Ii) As a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group, European Patent Publication (hereinafter referred to as “EP-A”) No. 0,133,216, West Germany Monomer and oligomer-melamine-formaldehyde condensates and urea-formaldehyde condensates described in Japanese Patent Nos. 3,634,671 and 3,711,264, EP-A 0,212,482 And alkoxy-substituted compounds described in the book.

なかでも、例えば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が好ましく、N−アルコキシメチル誘導体が最も好ましい。   Among these, for example, melamine-formaldehyde derivatives having at least two free N-hydroxymethyl groups, N-alkoxymethyl groups or N-acyloxymethyl groups are preferable, and N-alkoxymethyl derivatives are most preferable.

(iii) エポキシ化合物としては、1以上のエポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。   (Iii) Examples of the epoxy compound include monomers, dimers, oligomers, and polymeric epoxy compounds having one or more epoxy groups. For example, a reaction product of bisphenol A and epichlorohydrin, a low molecular weight phenol-formaldehyde resin, and Examples include reaction products with epichlorohydrin.

その他、米国特許第4,026,705号、英国特許第1,539,192号の各明細書に記載され、使用されているエポキシ樹脂を挙げることができる。   In addition, there can be mentioned epoxy resins described and used in US Pat. No. 4,026,705 and British Patent 1,539,192.

架橋剤として、前記(i)〜(iii)の化合物を用いる場合の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し5〜80質量%が好ましく、10〜75質量%がより好ましく、20〜70質量%が最も好ましい。   The amount of addition when the compounds (i) to (iii) are used as the crosslinking agent is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 10 to 75% by mass, based on the total solid content of the image forming layer. 20-70 mass% is the most preferable.

前記添加量が、5質量%未満であると、得られる画像記録材料の画像形成層の耐久性が低下することがあり、80質量%を超えると、保存時の安定性が低下することがある。   When the addition amount is less than 5% by mass, the durability of the image forming layer of the resulting image recording material may be reduced, and when it exceeds 80% by mass, stability during storage may be reduced. .

本発明においては、架橋剤として、(iv)下記一般式(F−5)で表されるフェノール誘導体も好適に使用することができる。   In the present invention, (iv) a phenol derivative represented by the following general formula (F-5) can also be suitably used as the crosslinking agent.

Figure 2010051928
Figure 2010051928

前記一般式(F−5)中、Arは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を表し、R、R及びRは水素原子又は炭素数12個以下の炭化水素基を表す。mは2〜4の整数を表し、nは1〜3の整数を表す。 In the general formula (F-5), Ar 1 represents an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, and R 1 , R 2 and R 3 are a hydrogen atom or a carbon atom having 12 or less carbon atoms. Represents a hydrogen group. m represents an integer of 2 to 4, and n represents an integer of 1 to 3.

原料の入手性の点で、前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環が好ましい。また、その置換基としては、ハロゲン原子、炭素数12以下の炭化水素基、炭素数12以下のアルコキシ基、炭素数12以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基等が好ましい。   From the viewpoint of availability of raw materials, the aromatic hydrocarbon ring is preferably a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring. As the substituent, a halogen atom, a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an alkylthio group having 12 or less carbon atoms, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, or the like is preferable.

上記のうち、高感度化が可能である点で、Arとしては、置換基を有していないベンゼン環、ナフタレン環、或いは、ハロゲン原子、炭素数6以下の炭化水素基、炭素数6以下のアルコキシ基、炭素数6以下のアルキルチオ基、炭素数12以下のアルキルカルバモイル基、又はニトロ基等を置換基として有するベンゼン環、又はナフタレン環がより好ましい。 Among the above, Ar 1 is a benzene ring, naphthalene ring, halogen atom, hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms, or 6 or less carbon atoms, which has no substituent, in that sensitivity can be increased. And a benzene ring or a naphthalene ring having, as a substituent, an alkoxy group of 6 or less, an alkylthio group having 6 or less carbon atoms, an alkylcarbamoyl group having 12 or less carbon atoms, or a nitro group.

上記R、Rで表される炭化水素基としては、合成が容易であるという理由から、メチル基が好ましい。Rで表される炭化水素基としては、感度が高いという理由から、メチル基、ベンジル基等の炭素数7以下の炭化水素基であることが好ましい。更に、合成の容易さから、mは、2又は3であることが好ましく、nは1又は2であることが好ましい。 As the hydrocarbon group represented by R 1 or R 2 , a methyl group is preferable because synthesis is easy. The hydrocarbon group represented by R 3 is preferably a hydrocarbon group having 7 or less carbon atoms such as a methyl group and a benzyl group because of its high sensitivity. Furthermore, m is preferably 2 or 3 and n is preferably 1 or 2 for ease of synthesis.

((G)アルカリ水可溶性高分子化合物)
本発明に適用可能な架橋層に使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物としては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー等が挙げられる。前記ノボラック樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂が挙げられる。
中でも、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、p−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、o−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,o−又はm−/p−,m−/o−,o−/p−混合のいずれでもよい)の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂や、フェノールとパラホルムアルデヒドとを原料とし、触媒を使用せず密閉状態で高圧下、反応させて得られるオルソ結合率の高い高分子量ノボラック樹脂等が好ましい。
((G) Alkali water soluble polymer compound)
Examples of the alkaline water-soluble polymer compound that can be used in the crosslinked layer applicable to the present invention include novolak resins and polymers having a hydroxyaryl group in the side chain. Examples of the novolak resin include resins obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions.
Among them, for example, novolak resin obtained from phenol and formaldehyde, novolak resin obtained from m-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from p-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from o-cresol and formaldehyde, octylphenol and formaldehyde Novolak resin obtained, novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol / cresol (m-, p-, o- or m- / p-, m- / o-, o- / p- A high molecular weight polymer having a high ortho bond rate obtained by reacting under no pressure using a catalyst and using a novolac resin obtained from formaldehyde and phenol and paraformaldehyde in a sealed state under high pressure without using a catalyst. Rack resin and the like are preferable.

前記ノボラック樹脂は、重量平均分子量が800〜300,000で、数平均分子量が400〜60,000のものの中から、目的に応じて好適なものを選択して用いればよい。   The novolak resin may be selected from those having a weight average molecular weight of 800 to 300,000 and a number average molecular weight of 400 to 60,000 depending on the purpose.

また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシアリール基としては、OH基が1以上結合したアリール基が挙げられる。   A polymer having a hydroxyaryl group in the side chain is also preferred, and examples of the hydroxyaryl group in the polymer include an aryl group having one or more OH groups bonded thereto.

前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。   Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, and a phenanthrenyl group, and among them, a phenyl group or a naphthyl group is preferable from the viewpoint of availability and physical properties.

本実施の形態に使用可能な、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーとしては、例えば、下記一般式(G−1)〜(G−4)で表される構成単位のうちのいずれか1種を含むポリマーを挙げることができる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。   Examples of the polymer having a hydroxyaryl group in the side chain that can be used in the present embodiment include any one of the structural units represented by the following general formulas (G-1) to (G-4). The polymer containing can be mentioned. However, the present invention is not limited to these.

Figure 2010051928
Figure 2010051928

一般式(G−1)〜(G−4)中、R11は、水素原子又はメチル基を表す。R12及びR13は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数10以下の炭化水素基、炭素数10以下のアルコキシ基又は炭素数10以下のアリールオキシ基を表す。また、R12とR13が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘキサン環を形成していてもよい。R14は、単結合又は炭素数20以下の2価の炭化水素基を表す。R15は、単結合又は炭素数20以下の2価の炭化水素基を表す。R16は、単結合又は炭素数10以下の2価の炭化水素基を表す。Xは、単結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合又はアミド結合を表す。pは、1〜4の整数を表す。q及びrは、それぞれ独立に0〜3の整数を表す。 In General Formulas (G-1) to (G-4), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 12 and R 13 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms, an alkoxy group having 10 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 10 or less carbon atoms. R 12 and R 13 may be bonded and condensed to form a benzene ring or a cyclohexane ring. R 14 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 15 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 16 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms. X 1 represents a single bond, an ether bond, a thioether bond, an ester bond or an amide bond. p represents an integer of 1 to 4. q and r each independently represents an integer of 0 to 3.

これらのアルカリ可溶性高分子としては、特開2001−142230号公報の段落番号[0130]〜[0163]に詳細に記載されている。   These alkali-soluble polymers are described in detail in paragraph numbers [0130] to [0163] of JP-A No. 2001-142230.

本実施の形態に使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物は、1種類のみで使用してもよいし、2種類以上を組合せて使用してもよい。   The alkaline water-soluble polymer compound that can be used in this embodiment may be used alone or in combination of two or more.

アルカリ水可溶性高分子化合物の添加量としては、画像形成層の全固形分に対し5〜95質量%が好ましく、10〜95質量%がより好ましく、20〜90質量%が最も好ましい。   The addition amount of the alkaline water-soluble polymer compound is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 10 to 95% by mass, and most preferably 20 to 90% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer.

アルカリ水可溶性樹脂の添加量が、5質量%未満であると、画像形成層の耐久性が劣化することがあり、95質量%を超えると、画像形成されないことがある。   When the addition amount of the alkali water-soluble resin is less than 5% by mass, the durability of the image forming layer may be deteriorated, and when it exceeds 95% by mass, image formation may not be performed.

また、本発明に係る画像形成層に適用できる公知の記録材料としては、特開平8−276558号公報に記載のフェノール誘導体を含有するネガ型画像記録材料、特開平7−306528号公報に記載のジアゾニウム化合物を含有するネガ型記録材料、特開平10−203037号公報に記載されている環内に不飽和結合を有する複素環基を有するポリマーを用いた、酸触媒による架橋反応を利用したネガ型画像形成材料などが挙げられ、これらに記載の画像形成層を本発明におけるネガ型画像形成層としての酸架橋層に適用することができる。   Further, as a known recording material applicable to the image forming layer according to the present invention, a negative type image recording material containing a phenol derivative described in JP-A-8-276558, or described in JP-A-7-306528 is disclosed. Negative recording material containing a diazonium compound, negative type using an acid-catalyzed crosslinking reaction using a polymer having a heterocyclic group having an unsaturated bond in the ring described in JP-A-10-203037 Examples thereof include image forming materials, and the image forming layer described in these materials can be applied to the acid crosslinking layer as the negative image forming layer in the present invention.

(その他の成分)
このようなネガ型の画像形成層には、更に必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。
(Other ingredients)
In addition to these, various compounds other than these may be added to such a negative type image forming layer. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. In addition, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can also be suitably used.

また、本発明においては、画像形成層が重合硬化層である場合、塗布液の調製中或いは保存中においてラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像形成層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.1質量%〜約10質量%が好ましい。   Further, in the present invention, when the image forming layer is a polymerization hardened layer, in order to prevent unnecessary thermal polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated double bond capable of radical polymerization during preparation or storage of a coating solution. It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the entire composition. If necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition due to oxygen and unevenly distributed on the surface of the image forming layer in the drying process after coating. Good. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1% by mass to about 10% by mass of the total composition.

また、本発明における画像形成層塗布液中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号や特開平3−208514号に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号、特開平4−13149号に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。   Further, in the image forming layer coating solution of the present invention, nonionic surface activity as described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 is used in order to broaden the processing stability against development conditions. An amphoteric surfactant as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like.

両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of amphoteric surfactants include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N, N- Examples include betaine type (for example, trade name Amorgen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.).

上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成層塗布液中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。   The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image forming layer coating solution is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

更に、本発明における画像形成層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。   Furthermore, a plasticizer is added to the image forming layer coating solution in the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate and the like are used.

3.疎水化前駆体含有画像形成層
本発明の平版印刷版用支持体に適用し得るさらなる画像形成層として、加熱又は輻射線の照射により疎水性領域を形成しうる化合物(以下、適宜、疎水化前駆体と称する)を含有する感熱画像形成層が挙げられる。このような画像形成層は、(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、又は、(b)熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルなどのように、加熱により、互いに融着したり、例えば、マイクロカプセルであれば、その内包物が熱により化学反応を起こしたりして、画像部領域即ち疎水性領域(親インク領域)を形成する化合物を含有し、これらは好ましくは、親水性のバインダー中に分散されているので、画像形成(露光)後は、印刷機シリンダー上に平版印刷版原版を取付け、湿し水及び/又はインキを供給することで、特段の現像処理を行なうことなく、機上現像できることが特徴である。
3. Hydrophobized precursor-containing image forming layer As a further image forming layer that can be applied to the lithographic printing plate support of the present invention, a compound capable of forming a hydrophobic region by heating or irradiation with radiation (hereinafter, appropriately hydrophobized precursor) Heat-sensitive image-forming layer containing the body). Such an image-forming layer is fused to each other by heating, such as (a) a fine particle polymer having a heat-reactive functional group, or (b) a microcapsule containing a compound having a heat-reactive functional group. For example, if it is a microcapsule, it contains a compound that forms an image area region, that is, a hydrophobic region (parent ink region) by causing a chemical reaction of the inclusion by heat, and these are preferably Since it is dispersed in a hydrophilic binder, after image formation (exposure), a lithographic printing plate precursor is mounted on a printing machine cylinder, and a dampening solution and / or ink is supplied to perform special development processing. It is characterized in that it can be developed on the machine without performing it.

このような画像形成層は、(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、又は、(b)熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを含有する。   Such an image forming layer contains (a) a fine particle polymer having a thermoreactive functional group, or (b) a microcapsule encapsulating a compound having a thermoreactive functional group.

上記(a)及び(b)に共通の熱反応性官能基としては、例えば、重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基)、付加反応を行うイソシアネート基又はそのブロック体、その反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基)、同じく付加反応を行うエポキシ基、その反応相手であるアミノ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とアミノ基又はヒドロキシル基が挙げられる。本発明に用いられる熱反応性官能基は、これらに限定されず、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよい。   Examples of the heat-reactive functional group common to the above (a) and (b) include, for example, an ethylenically unsaturated group (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group) that undergoes a polymerization reaction, and an addition reaction. Isocyanate group or block thereof, functional group having an active hydrogen atom that is a reaction partner (for example, amino group, hydroxyl group, carboxyl group), epoxy group that similarly performs an addition reaction, amino group that is a reaction partner, carboxyl group Or a hydroxyl group, the carboxyl group and hydroxyl group or amino group which perform a condensation reaction, the acid anhydride and amino group or hydroxyl group which perform a ring-opening addition reaction are mentioned. The thermoreactive functional group used in the present invention is not limited to these, and may be any functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed.

((a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー)
(a)微粒子ポリマーに好適な熱反応性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリルロイル基、ビニル基、アリル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イソシアネート基、酸無水物基及びそれらを保護した基が挙げられる。熱反応性官能基のポリマー微粒子への導入は、ポリマーの重合時に行ってもよいし、重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。
((A) Fine particle polymer having a thermally reactive functional group)
(A) Thermally reactive functional groups suitable for the fine particle polymer include, for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, epoxy group, amino group, hydroxyl group, carboxyl group, isocyanate group, and acid anhydride group. And groups protecting them. The introduction of the thermally reactive functional group into the polymer fine particles may be performed at the time of polymerizing the polymer, or may be performed by utilizing a polymer reaction after the polymerization.

熱反応性官能基をポリマーの重合時に導入する場合は、熱反応性官能基を有するモノマーを用いて乳化重合又は懸濁重合を行うのが好ましい。   When a thermoreactive functional group is introduced during the polymerization of the polymer, it is preferable to perform emulsion polymerization or suspension polymerization using a monomer having a thermoreactive functional group.

熱反応性官能基を有するモノマーの具体例としては、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、2−イソシアネートエチルメタクリレート、そのアルコールなどによるブロックイソシアネート、2−イソシアネートエチルアクリレート、そのアルコールなどによるブロックイソシアネート、2−アミノエチルメタクリレート、2−アミノエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、二官能アクリレート、二官能メタクリレートが挙げられる。本発明に用いられる熱反応性官能基を有するモノマーは、これらに限定されない。   Specific examples of the monomer having a heat-reactive functional group include allyl methacrylate, allyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 2-isocyanate ethyl methacrylate, and its blocked alcohol, 2-isocyanate ethyl acrylate. Block isocyanates with alcohol, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, difunctional acrylate, difunctional methacrylate Can be mentioned. The monomer having a heat-reactive functional group used in the present invention is not limited to these.

これらのモノマーと共重合可能な、熱反応性官能基を有しないモノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニルが挙げられる。本発明に用いられる熱反応性官能基を有しないモノマーは、これらに限定されない。   Examples of the monomer having no thermally reactive functional group that can be copolymerized with these monomers include styrene, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, acrylonitrile, and vinyl acetate. The monomer having no heat-reactive functional group used in the present invention is not limited to these.

熱反応性官能基をポリマーの重合後に導入する場合に用いられる高分子反応としては、例えば、国際公開第96/34316号パンフレットに記載されている高分子反応が挙げられる。   Examples of the polymer reaction used when the thermally reactive functional group is introduced after polymerization of the polymer include the polymer reaction described in International Publication No. 96/34316.

上記(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマーの中でも、画像形成性の観点からは、微粒子ポリマー同志が熱により容易に融着、合体するものが好ましく、また、機上現像性の観点から、その表面が親水性で、水に分散するものが、特に好ましい。また、微粒子ポリマーのみを塗布し、凝固温度よりも低い温度で乾燥して作製したときの皮膜の接触角(空中水滴)が、凝固温度よりも高い温度で乾燥して作製したときの皮膜の接触角(空中水滴)よりも低くなることが好ましい。   Among the above-mentioned (a) fine-particle polymers having a heat-reactive functional group, those in which the fine-particle polymers are easily fused and coalesced by heat are preferable from the viewpoint of image formability, and from the viewpoint of on-press developability. Particularly preferred are those having a hydrophilic surface and being dispersed in water. In addition, the film contact angle (water droplets in the film) when it is prepared by applying only the fine particle polymer and drying at a temperature lower than the solidification temperature is the contact of the film when it is prepared by drying at a temperature higher than the solidification temperature. It is preferable to be lower than the corner (water droplet in the air).

微粒子ポリマー表面の親水性をこのような好ましい状態にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性ポリマー或いはオリゴマー、又は親水性低分子化合物を微粒子ポリマー表面に吸着させてやればよいが、微粒子の表面親水化方法はこれらに限定されるものではなく、公知の種々の表面親水化方法を適用することができる。   In order to make the hydrophilicity of the surface of the fine particle polymer in such a preferable state, a hydrophilic polymer or oligomer such as polyvinyl alcohol or polyethylene glycol, or a hydrophilic low molecular weight compound may be adsorbed on the surface of the fine particle polymer. The surface hydrophilization method is not limited to these, and various known surface hydrophilization methods can be applied.

(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマーの熱融着温度は、70℃以上であることが好ましいが、経時安定性を考えると80℃以上が更に好ましい。ただし、あまり熱融着温度が高いと感度の観点からは好ましくないので、80〜250℃の範囲が好ましく、100〜150℃の範囲であることが更に好ましい。   (A) The thermal fusing temperature of the fine particle polymer having a heat-reactive functional group is preferably 70 ° C. or higher, but more preferably 80 ° C. or higher in view of the temporal stability. However, if the heat fusion temperature is too high, it is not preferable from the viewpoint of sensitivity, so the range of 80 to 250 ° C is preferable, and the range of 100 to 150 ° C is more preferable.

(a)微粒子ポリマーの平均粒径は、0.01〜20μmであるのが好ましいが、その中でも0.05〜2.0μmであるのがより好ましく、0.1〜1.0μmであるのが好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   (A) The average particle diameter of the fine particle polymer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and more preferably 0.1 to 1.0 μm. preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

(a)微粒子ポリマーの添加量は、画像形成層固形分の50〜98質量%が好ましく、60〜95質量%が更に好ましい。   (A) The addition amount of the fine particle polymer is preferably 50 to 98% by mass, more preferably 60 to 95% by mass, based on the solid content of the image forming layer.

((b)熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセル)
(b)マイクロカプセルに好適な熱反応性官能基としては、先に(a)、(b)に共通のものとして挙げた官能基の他、例えば、重合性不飽和基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、酸無水物基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、イソシアネートブロック体などが挙げられる。
((B) Microcapsule enclosing a compound having a thermally reactive functional group)
(B) Thermally reactive functional groups suitable for microcapsules include, for example, polymerizable unsaturated groups, hydroxyl groups, carboxyl groups in addition to the functional groups previously mentioned as common to (a) and (b). , Carboxylate groups, acid anhydride groups, amino groups, epoxy groups, isocyanate groups, isocyanate block bodies, and the like.

重合性不飽和基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物であるのが好ましい。そのような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定されずに用いることができる。これらは、化学的形態としては、モノマー、プレポリマー、即ち、二量体、三量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物、及びそれらの共重合体である。   The compound having a polymerizable unsaturated group is preferably a compound having at least one, preferably two or more ethylenically unsaturated bonds such as acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group and allyl group. Such a compound group is widely known in the said industrial field | area, and in this invention, these can be used without being specifically limited. These are monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof in chemical form.

具体的には、例えば、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸)、そのエステル、不飽和カルボン酸アミドが挙げられる。中でも、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエステル及び不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミンとのアミドが好ましい。   Specific examples include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid), esters thereof, and unsaturated carboxylic acid amides. Of these, esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohols and amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amines are preferred.

また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又は不飽和カルボン酸アミドと単官能若しくは多官能のイソシアネート又はエポキシドとの付加反応物、及び、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に用いられる。   Further, an addition reaction product of unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group and the like with monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxide, and monofunctional Alternatively, a dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.

また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミドと、単官能若しくは多官能のアルコール、アミン又はチオールとの付加反応物、及び、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミドと、単官能若しくは多官能アルコール、アミン又はチオールとの置換反応物も好適である。   In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and a halogen group or a tosyloxy group Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols.

また、別の好適な例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸又はクロロメチルスチレンに置き換えた化合物が挙げられる。   Another preferred example is a compound in which the unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid or chloromethylstyrene.

これらの具体的な化合物としては、本願出願人が先に提案した特開2001−27742号公報の段落番号〔0014〕乃至〔0035〕に、また、これらの化合物を内包するマイクロカプセルの詳細な製造方法については、同〔0036〕乃至〔0039〕に記載され、これらの記載は本発明にも適用し得る。   Specific examples of these compounds include the paragraphs [0014] to [0035] of JP-A No. 2001-27742 previously proposed by the applicant of the present invention, and detailed production of microcapsules containing these compounds. The method is described in [0036] to [0039], and these descriptions can also be applied to the present invention.

(b)マイクロカプセルに好適に用いられるマイクロカプセル壁は、三次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、又はこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に熱反応性官能基を有する化合物を導入してもよい。   (B) The microcapsule wall preferably used for the microcapsule has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, or a mixture thereof, and polyurea and polyurethane are particularly preferable. Further, a compound having a thermally reactive functional group may be introduced into the microcapsule wall.

(b)マイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜20μmであるのが好ましく、0.05〜2.0μmであるのがより好ましく、0.10〜1.0μmであるのが特に好ましい。上記範囲内であると、良好な解像度と経時安定性が得られる。   (B) The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.10 to 1.0 μm. Within the above range, good resolution and stability over time can be obtained.

(b)熱反応性官能基を有するマイクロカプセルを用いた画像形成機構では、マイクロカプセル材料、そこに内包物された化合物、更には、マイクロカプセルが分散された画像形成層中に存在する他の任意成分などが、反応し、画像部領域即ち疎水性領域(親インク領域)を形成するものであればよく、例えば、前記したようなマイクロカプセル同士が熱により融着するタイプ、マイクロカプセル内包物のうち、塗布時にカプセル表面或いはマイクロカプセル外に滲み出した化合物、或いは、マイクロカプセル壁に外部から浸入した化合物が、熱により化学反応を起こすタイプ、或いは、それらのマイクロカプセル材料や内包された化合物が添加された親水性樹脂、或いは、添加された低分子化合物と反応するタイプ、2種類以上のマイクロカプセル壁材或いはその内包物に、それぞれ異なる官能基で互いに熱反応するような官能基をもたせるものを用いることによって、マイクロカプセル同士を反応させるタイプなどが挙げられる。   (B) In an image forming mechanism using a microcapsule having a heat-reactive functional group, a microcapsule material, a compound encapsulated in the microcapsule material, and other image forming layers in which the microcapsule is dispersed Any component that reacts to form an image area, that is, a hydrophobic area (parent ink area) may be used. For example, a type in which microcapsules are fused together by heat, a microcapsule inclusion Of these, compounds that ooze out from the capsule surface or outside the microcapsule during application, or a compound that enters the microcapsule wall from the outside causes a chemical reaction by heat, or those microcapsule materials or encapsulated compounds A type that reacts with a hydrophilic resin to which is added, or a low molecular compound to which it is added. The capsule wall material or its inclusions, by using those to have a functional group such as thermally react with each other in different functional groups each, such as the type of reacting microcapsules each other and the like.

従って、熱によってマイクロカプセル同志が、溶融合体することは画像形成上好ましいことであるが、必須ではない。   Therefore, although it is preferable for image formation that the microcapsules are fused together by heat, it is not essential.

(b)マイクロカプセルの画像形成層への添加量は、固形分換算で、10〜60質量%であるのが好ましく、15〜40質量%であるのがより好ましい。上記範囲であると、良好な機上現像性と同時に、良好な感度及び耐刷性が得られる。   (B) The addition amount of the microcapsules to the image forming layer is preferably 10 to 60% by mass, and more preferably 15 to 40% by mass in terms of solid content. Within the above range, good on-press developability as well as good sensitivity and printing durability can be obtained.

(b)マイクロカプセルを画像形成層に添加する場合、内包物が溶解し、かつ、壁材が膨潤する溶剤をマイクロカプセル分散媒中に添加することができる。このような溶剤によって、内包された熱反応性官能基を有する化合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進される。   (B) When microcapsules are added to the image forming layer, a solvent that dissolves the inclusions and swells the wall material can be added to the microcapsule dispersion medium. By such a solvent, diffusion of the encapsulated compound having a heat-reactive functional group to the outside of the microcapsule is promoted.

このような溶剤は、マイクロカプセル分散媒、マイクロカプセル壁の材質、壁厚及び内包物に依存するが、多くの市販されている溶剤から容易に選択することができる。例えば、架橋ポリウレア、ポリウレタン壁からなる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコール類、エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン類、多価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類等が好ましい。   Such a solvent depends on the microcapsule dispersion medium, the material of the microcapsule wall, the wall thickness, and the inclusions, but can be easily selected from many commercially available solvents. For example, in the case of water-dispersible microcapsules composed of crosslinked polyurea and polyurethane walls, alcohols, ethers, acetals, esters, ketones, polyhydric alcohols, amides, amines, fatty acids and the like are preferable.

マイクロカプセル分散液には溶解しないが、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることができる。添加量は、素材の組み合わせにより決まるものであるが、適性値より少ない場合は、画像形成が不十分となり、多い場合は分散液の安定性が劣化する。通常、塗布液の5〜95質量%であるのが好ましく、10〜90質量%であるのがより好ましく、15〜85質量%であるのが特に好ましい。   A solvent that does not dissolve in the microcapsule dispersion but dissolves when the solvent is mixed can also be used. The amount of addition is determined by the combination of materials. When the amount is less than the appropriate value, image formation is insufficient, and when the amount is large, the stability of the dispersion deteriorates. Usually, it is preferably 5 to 95% by mass of the coating solution, more preferably 10 to 90% by mass, and particularly preferably 15 to 85% by mass.

(その他の成分)
本態様における感熱画像形成層には、前記画像形成性を有する(a)熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、又は、(b)熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルのほか、目的に応じて種々の添加剤を併用することができる。
(Other ingredients)
In the heat-sensitive image forming layer in this embodiment, in addition to (a) a fine particle polymer having a heat-reactive functional group having the image-forming property, or (b) a microcapsule encapsulating a compound having a heat-reactive functional group, Various additives can be used in combination depending on the purpose.

(反応開始剤、反応促進剤)
前記感熱画像形成層においては、必要に応じてこれらの反応を開始し又は促進する化合物を添加してもよい。反応を開始し又は促進する化合物としては、例えば、熱によりラジカル又はカチオンを発生するような化合物が挙げられる。具体的には、例えば、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩又はジフェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシルホスフィン、イミドスルホナートが挙げられる。
(Reaction initiator, reaction accelerator)
In the heat-sensitive image forming layer, a compound that initiates or accelerates these reactions may be added as necessary. Examples of the compound that initiates or accelerates the reaction include compounds that generate radicals or cations by heat. Specific examples include lophine dimers, trihalomethyl compounds, peroxides, azo compounds, diazonium salts, diphenyliodonium salts, onium salts, acyl phosphines, and imide sulfonates.

これらの化合物は、画像形成層固形分の1〜20質量%の範囲で添加するのが好ましく、3〜10質量%の範囲であるのがより好ましい。上記範囲内であると、機上現像性を損なわず、良好な反応開始効果又は反応促進効果が得られる。   These compounds are preferably added in the range of 1 to 20% by mass of the solid content of the image forming layer, and more preferably in the range of 3 to 10% by mass. When it is within the above range, good onset reaction reaction effect or reaction promoting effect can be obtained without impairing on-press developability.

(親水性樹脂)
本発明におけるこのような感熱画像形成層には親水性樹脂を添加しても良い。親水性樹脂を添加することにより機上現像性が良好となるばかりか、感熱画像形成層自体の皮膜強度も向上する。
(Hydrophilic resin)
A hydrophilic resin may be added to such a heat-sensitive image forming layer in the present invention. Addition of the hydrophilic resin not only improves the on-press developability, but also improves the film strength of the thermal image forming layer itself.

親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有するものが好ましい。   As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl and the like are preferable.

親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、並びに加水分解度が少なくとも60質量%、好ましくは少なくとも80質量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー等を挙げることができる。   Specific examples of hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and Salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl Methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene Glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight Methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, and the like.

親水性樹脂の感熱画像形成層への添加量は、画像形成層固形分の5〜40質量%が好ましく、10〜30質量%が更に好ましい。この範囲内で、良好な機上現像性と皮膜強度が得られる。   The addition amount of the hydrophilic resin to the heat-sensitive image forming layer is preferably 5 to 40% by mass, more preferably 10 to 30% by mass, based on the solid content of the image forming layer. Within this range, good on-press developability and film strength can be obtained.

このような熱応答性の画像形成層(感熱画像形成層)を、赤外線レーザ光の走査露光等により画像形成するため、(A)赤外線吸収剤を画像形成層に含有させる。好ましい添加量は、画像形成層塗布液全固形分中、1〜30質量%が好ましく、5〜25質量%がより好ましい。含有量が上記範囲にあると、感度、画像形成性ともに優れた画像形成層となる。   In order to form an image of such a heat-responsive image forming layer (heat-sensitive image forming layer) by scanning exposure of infrared laser light or the like, (A) an infrared absorber is contained in the image forming layer. A preferable addition amount is preferably 1 to 30% by mass and more preferably 5 to 25% by mass in the total solid content of the image forming layer coating solution. When the content is in the above range, an image forming layer excellent in both sensitivity and image formability is obtained.

疎水化前駆体を含む画像形成層は、必要な上記各成分を溶剤に溶解、若しくは分散し、塗布液を調製し、前記支持体の親水性表面上に塗布される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。   The image forming layer containing the hydrophobizing precursor is coated on the hydrophilic surface of the support by dissolving or dispersing the necessary components in a solvent to prepare a coating solution. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

(その他の平版印刷版原版)
本発明は、赤外線レーザ露光以外の平版印刷版原版にも好ましく用いることができる。以下に、赤外線レーザ露光以外の平版印刷版原版及び画像形成層の例について詳細に説明する。
(Other lithographic printing plate precursors)
The present invention can be preferably used for lithographic printing plate precursors other than infrared laser exposure. Hereinafter, examples of the planographic printing plate precursor and the image forming layer other than the infrared laser exposure will be described in detail.

ポジ型画像形成層の好ましい例としては、以下に示す従来公知のポジ型画像形成層[(a)〜(b)]を挙げることができる。   Preferable examples of the positive type image forming layer include conventionally known positive type image forming layers [(a) to (b)] shown below.

(a)ナフトキノンジアジドとノボラック樹脂とを含有してなる従来から用いられているコンベンショナルポジ型画像形成層。   (A) Conventionally used conventional positive image forming layer comprising naphthoquinonediazide and novolak resin.

(b)酸分解性基で保護されたアルカリ可溶性化合物と酸発生剤との組み合わせを含有してなる化学増幅型ポジ型画像形成層。   (B) A chemically amplified positive image-forming layer comprising a combination of an alkali-soluble compound protected with an acid-decomposable group and an acid generator.

上記(a)及び(b)は、いずれも当分野においてはよく知られたものであるが、以下に示すポジ型画像形成層((c)〜(f))と組み合わせて用いることが更に好適である。   The above (a) and (b) are well known in the art, but are more preferably used in combination with the following positive type image forming layers ((c) to (f)). It is.

(c)特開平10−282672号に記載の現像処理不要な平版印刷版を作製することができる、スルホン酸エステルポリマーと赤外線吸収剤とを含有してなるレーザー感応性ポジ型画像形成層。   (C) A laser-sensitive positive image-forming layer comprising a sulfonate polymer and an infrared absorber, which can produce a lithographic printing plate that does not require development processing as described in JP-A-10-282672.

(d)EP652483号、特開平6−502260号に記載の現像処理不要な平版印刷版を作製することができる、カルボン酸エステルポリマーと、酸発生剤若しくは赤外線吸収剤とを含有してなるレーザ感応性ポジ型画像形成層。   (D) Laser sensitivity comprising a carboxylic acid ester polymer and an acid generator or an infrared absorber capable of producing a lithographic printing plate which does not require development processing as described in EP 652483 and JP-A-6-502260. Positive image forming layer.

(e)特開平11−095421号に記載のアルカリ可溶性化合物、及び熱分解性でありかつ分解しない状態ではアルカリ可溶性化合物の溶解性を実質的に低下させる物質を含有してなるレーザ感応性ポジ型画像形成層。   (E) a laser-sensitive positive type comprising an alkali-soluble compound described in JP-A-11-095421 and a substance that is thermally decomposable and substantially reduces the solubility of the alkali-soluble compound in a state where it does not decompose. Image forming layer.

(f)アルカリ現像溶出型ポジ平版印刷版を作製することができる、赤外線吸収剤、ノボラック樹脂、及び溶解抑止剤を含有してなるアルカリ現像溶出ポジ型画像形成層。   (F) An alkali development elution positive image forming layer comprising an infrared absorber, a novolak resin, and a dissolution inhibitor, which can produce an alkali development elution type positive lithographic printing plate.

本発明の平版印刷版用支持体上には、前記画像記録塗布液などの所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かして塗布することにより画像形成層を形成し、平版印刷版原版を製造することができる。平版印刷版原版には、画像形成層に加え、目的に応じて、保護層、樹脂中間層、下塗り層、バックコート層なども同様にして形成することができる。   On the lithographic printing plate support of the present invention, an image forming layer is formed by dissolving a coating liquid component of the desired layer such as the image recording coating liquid in a solvent and coating it, and a lithographic printing plate precursor is produced. can do. In the lithographic printing plate precursor, in addition to the image forming layer, a protective layer, a resin intermediate layer, an undercoat layer, a backcoat layer, and the like can be formed in the same manner depending on the purpose.

ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を、また、水溶性の画像形成層を用いる場合には、水、或いはアルコール類等の水性溶媒を挙げることができるがこれに限定されるものではなく、画像形成層の物性にあわせて適宜選択すればよい。これらの溶媒は単独或いは混合して使用される。   Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, etc., and water-soluble images When the formation layer is used, water or an aqueous solvent such as alcohols can be used, but the present invention is not limited to this, and it may be appropriately selected according to the physical properties of the image formation layer. These solvents are used alone or in combination.

溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。   The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。   The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferable for the photosensitive printing plate. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the photosensitive film deteriorate.

塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。   Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

本発明の平版印刷版原版は、支持体と画像形成層との密着性に優れると共に、現像により速やかに親水性の支持体表面が露出することで、非画像部の印刷汚れ性が改善され、厳しい印刷条件においても、高画質の印刷物が多数枚得られる。   The lithographic printing plate precursor of the present invention is excellent in adhesion between the support and the image forming layer, and the hydrophilic support surface is exposed promptly by development, so that the printing smearing property of the non-image area is improved, A large number of high-quality prints can be obtained even under severe printing conditions.

本発明の平版印刷版原版は、その画像形成層に応じた公知の製版方法を適用し、平版印刷版を得ることができる。   The lithographic printing plate precursor according to the invention can be obtained by applying a known plate making method according to the image forming layer.

その後、得られた平版印刷版は、印刷機にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
[オーバーコート層の形成]
オーバーコート層塗布・乾燥部において、感光層の上に、酸素遮断性のオーバーコート層塗料を塗布コーターで塗布する。塗布コーターおよび乾燥装置としては、下塗り層、感光層を形成したものと同様のものを使用することができるが、乾燥装置は熱風乾燥方式が好ましい。
Thereafter, the obtained lithographic printing plate is put on a printing machine and used for printing a large number of sheets.
[Formation of overcoat layer]
In the overcoat layer coating / drying section, an oxygen-blocking overcoat layer coating material is coated on the photosensitive layer with a coating coater. As the coating coater and the drying device, those similar to those having an undercoat layer and a photosensitive layer can be used, but the drying device is preferably a hot air drying method.

本発明では、感光層の上に塗布コーターでオーバーコート層塗料を塗布してオーバーコート層を形成した後、オーバーコート層の結晶化度が0.2〜0.5になるように、熱風乾燥装置における乾燥風の温度、風速、露点、乾燥時間の乾燥条件のうち、少なくとも1つの乾燥条件を調整する。オーバーコート層の水溶性高分子の結晶化度を制御することで感光性平版印刷版の品質を左右する感度や耐刷の安定性、残膜故障、セッター搬送性等を改良することができる。この場合、結晶化度が0.2未満では、セッター搬送性や微小膜抜け故障、微小残膜故障を良化することができず、0.5を超えると感度や耐刷の安定性や残膜・残色などの現像不良故障を良化することができないからである。   In the present invention, an overcoat layer paint is applied on the photosensitive layer with a coating coater to form an overcoat layer, and then dried with hot air so that the crystallinity of the overcoat layer is 0.2 to 0.5. At least one drying condition is adjusted among the drying air temperature, wind speed, dew point, and drying time in the apparatus. By controlling the crystallinity of the water-soluble polymer in the overcoat layer, it is possible to improve the sensitivity that affects the quality of the photosensitive lithographic printing plate, the stability of the printing durability, the remaining film failure, the setter transportability, and the like. In this case, if the degree of crystallinity is less than 0.2, setter transportability, minute film dropout failure, and minute residual film failure cannot be improved, and if it exceeds 0.5, sensitivity, stability of printing durability and residual This is because development failure failures such as film and residual color cannot be improved.

オーバーコート層に含まれる水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに必要な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するその共重合体があげられる。ポリビニルアルコールとしては、71〜100モル%加水分解され、重合度が300〜2400の範囲のものがあげられる。具体的には株式会社クラレ製PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等があげられる。上記の共重合体としては、88〜100モル%加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニルアセタールおよびそれらの共重合体があげられる。その他有用な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴムがあげられ、これらは単独または、併用して用いても良い。これらの水溶性高分子は、オーバーコート層の全固形分に対して、30〜99質量%の割合、好ましくは50〜99質量%の割合で含有する。   The water-soluble polymer contained in the overcoat layer contains polyvinyl alcohol and its partial esters, ethers, and acetals, or a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units that make them necessary water-soluble. Examples thereof include copolymers thereof. Examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA- 203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, L-8, etc. are mentioned. Examples of the copolymer include 88-100 mol% hydrolyzed polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, and copolymers thereof. Other useful polymers include polyvinyl pyrrolidone, gelatin and gum arabic, and these may be used alone or in combination. These water-soluble polymers are contained in a proportion of 30 to 99% by mass, preferably 50 to 99% by mass, based on the total solid content of the overcoat layer.

オーバーコート層にはさらに塗布性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーなどを添加しても良い。その被覆量は乾煉後の質量で約0.1g/m2 〜約15g/m2 の範囲が適当である。より好ましくは1.0g/m2 〜約5.0g/m2 である。オーバーコート層の乾燥塗布質量としては、通常0.5〜10g/m2 であり、好ましくは1.0〜5.0g/m2 である。 The overcoat layer may further contain a known additive such as a surfactant for improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer may be added. The coating amount is suitably in the range of about 0.1 g / m 2 to about 15 g / m 2 in terms of the mass after drying. More preferably, it is 1.0 g / m 2 to about 5.0 g / m 2 . The dry coating mass of the overcoat layer is usually 0.5 to 10 g / m 2 , preferably 1.0 to 5.0 g / m 2 .

〔バックコート層〕
上述したようにして得られる平版印刷版原版には、重ねても画像形成層が傷付かないように、裏面(画像形成層が設けられない側の面)に、有機高分子化合物からなる被覆層(以下「バックコート層」ともいう。)を必要に応じて設けてもよい。バックコート層の主成分としては、ガラス転移点が20℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂および塩化ビニリデン共重合樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を用いるのが好ましい。
飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸ユニットとジオールユニットとからなる。ジカルボン酸ユニットとしては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタル酸等の芳香族ジカルボン酸;アジピン酸、アゼライン酸、コハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン酸、マロン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等の飽和脂肪族ジカルボン酸が挙げられる。
バックコート層は、更に、着色のための染料や顔料、支持体との密着性を向上させるためのシランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸、カチオン性ポリマー、滑り剤として通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサンからなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等を適宜含有することができる。
[Back coat layer]
The lithographic printing plate precursor obtained as described above has a coating layer made of an organic polymer compound on the back surface (the surface on which the image forming layer is not provided) so that the image forming layer is not damaged even if it is stacked. (Hereinafter also referred to as “back coat layer”) may be provided as necessary. As a main component of the back coat layer, at least one resin selected from the group consisting of a saturated copolymerized polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin, and a vinylidene chloride copolymer resin having a glass transition point of 20 ° C. or higher is used. Is preferred.
The saturated copolyester resin is composed of a dicarboxylic acid unit and a diol unit. Examples of the dicarboxylic acid unit include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, tetrabromophthalic acid, and tetrachlorophthalic acid; adipic acid, azelaic acid, succinic acid, oxalic acid, suberic acid, and sebacic acid , Saturated aliphatic dicarboxylic acids such as malonic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid.
The backcoat layer further comprises a dye or pigment for coloring, a silane coupling agent for improving the adhesion to the support, a diazo resin comprising a diazonium salt, an organic phosphonic acid, an organic phosphoric acid, a cationic polymer, Wax, higher fatty acids, higher fatty acid amides, silicone compounds composed of dimethylsiloxane, modified dimethylsiloxane, polyethylene powder and the like that are usually used as slipping agents can be appropriately contained.

バックコート層の厚さは、基本的には合紙がなくても、画像形成層を傷付けにくい程度であればよく、0.01μm〜8μmであるのが好ましい。厚さが0.01μm未満であると、平版印刷版原版を重ねて取り扱った場合の画像形成層の擦れ傷を防ぐことが困難である。また、厚さが8μmを超えると、印刷中、平版印刷版周辺で用いられる薬品によってバックコート層が膨潤して厚みが変動し、印圧が変化して印刷特性を劣化させることがある。   The thickness of the backcoat layer may basically be a level that does not damage the image forming layer even if no interleaf is present, and is preferably 0.01 μm to 8 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, it is difficult to prevent the image forming layer from being scratched when the planographic printing plate precursors are handled in layers. On the other hand, when the thickness exceeds 8 μm, the backcoat layer swells due to chemicals used around the lithographic printing plate during printing, the thickness varies, and the printing pressure may change to deteriorate the printing characteristics.

バックコート層を平版印刷版原版の裏面に設ける方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解させ溶液にして塗布し、または、乳化分散液して塗布し、乾燥する方法;あらかじめフィルム状に成形したものを接着剤や熱での平版印刷版原版に貼り合わせる方法;溶融押出機で溶融被膜を形成し、平版印刷版原版に貼り合わせる方法が挙げられる。好適な厚さを確保するうえで最も好ましいのは、バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解させ溶液にして塗布し、乾燥する方法である。
平版印刷版原版の製造においては、裏面のバックコート層と表面の画像形成層のどちらを先に支持体上に設けてもよく、また、両者を同時に設けてもよい。
Various methods can be used for providing the backcoat layer on the back surface of the lithographic printing plate precursor. For example, a method in which the above components for the back coat layer are dissolved in a suitable solvent and applied as a solution, or an emulsion dispersion is applied and dried; A method of bonding to a printing plate precursor; a method of forming a molten film with a melt extruder and bonding to a lithographic printing plate precursor. The most preferable method for securing a suitable thickness is a method in which the components for the backcoat layer are dissolved in an appropriate solvent, applied as a solution, and dried.
In the production of a lithographic printing plate precursor, either the back coat layer on the back surface or the image forming layer on the front surface may be provided on the support first, or both may be provided simultaneously.

このようにして得られた平版印刷版原版を、必要に応じて、適当な大きさに裁断して、露光し現像して製版することにより、平版印刷版が得られる。可視光露光型製版層(感光性製版層)を設けた平版印刷版原版の場合には、印刷画像が形成された透明フィルムを重ねて通常の可視光を照射することにより露光し、その後、現像を行うことにより製版することができる。レーザ露光型製版層を設けた平版印刷版原版の場合には、各種レーザ光を照射して印刷画像を直接書き込むことにより露光し、その後、現像することにより製版することができる。   The lithographic printing plate precursor thus obtained is cut into an appropriate size, if necessary, exposed and developed to produce a lithographic printing plate. In the case of a lithographic printing plate precursor provided with a visible light exposure type plate making layer (photosensitive plate making layer), it is exposed by irradiating normal visible light with a transparent film on which a printed image is formed, and then developed. It is possible to make a plate by performing. In the case of a lithographic printing plate precursor provided with a laser exposure type plate making layer, exposure can be performed by directly writing a printed image by irradiating various types of laser light, and then developing can be carried out.

以上、本発明の一例として平版印刷版原版の製造方法について説明したが、本発明の適用は平版印刷版に限定されるものではない。例えば、印刷版以外の感光材料の塗布への適用として、特開2002-347358に代表されるDDCPフィルムの製造への適用や、特開2003-248321に代表される液晶用カラーフィルタ材料製造への適用が考えられる。さらに、特開2003-170522に代表される熱可塑性樹脂基材上に水溶性高分子材料塗付してガスバリア性持つフィルムを形成する場合に溶剤を塗付し乾燥することで前処理として適用する場合や、原紙に熱可塑性樹脂組成物を被覆したラミネート紙上に水系塗布でインク受容層を塗付する場合に溶剤を塗付し乾燥することで前処理として適用する場合、などが考えられる。   As mentioned above, although the manufacturing method of the lithographic printing plate precursor has been described as an example of the present invention, the application of the present invention is not limited to the lithographic printing plate. For example, as an application to photosensitive materials other than printing plates, it can be applied to the production of DDCP films represented by JP-A-2002-347358, or to the production of color filter materials for liquid crystals represented by JP-A-2003-248321. Applicable. Furthermore, when forming a film having a gas barrier property by applying a water-soluble polymer material onto a thermoplastic resin substrate represented by JP-A-2003-170522, it is applied as a pretreatment by applying a solvent and drying. In some cases, when a base paper is coated with a thermoplastic resin composition, an ink receiving layer is applied by water-based coating, and a solvent is applied and dried to apply as a pretreatment.

塗布工程は、PMMA(メタクリル樹脂)/DMSO(ジメチルスルホキシド)/MEK(メチルエチルケトン)を固形分量5wt%、塗布量20ccで行った。その際、DMSOとMEKは1:2の重量比率で混合した。塗布方法はバー塗布とし、ラインスピードは、60m/minとした。支持体としては、幅1300mm、厚み0.24tのAlを使用した。さらに、乾燥条件は、乾燥熱風(85℃、100℃、10g/m、20000m/h ゾーン長30m)とした。また、溶媒蒸気含有熱風の条件は、120℃、溶媒蒸気量は下記参照、ゾーン長1mとし、第2溶媒は水、IPAを使用した。 The coating process was performed using PMMA (methacrylic resin) / DMSO (dimethyl sulfoxide) / MEK (methyl ethyl ketone) at a solid content of 5 wt% and a coating amount of 20 cc. At that time, DMSO and MEK were mixed at a weight ratio of 1: 2. The coating method was bar coating, and the line speed was 60 m / min. As the support, Al having a width of 1300 mm and a thickness of 0.24 t was used. Furthermore, the drying conditions were dry hot air (85 ° C., 100 ° C., 10 g / m 3 , 20000 m 3 / h zone length 30 m). Moreover, the conditions of the solvent vapor-containing hot air were 120 ° C., the solvent vapor amount was as follows, the zone length was 1 m, and the second solvent was water and IPA.

(試験1)
図1の塗布装置によりアルミウェブ上に塗布した後、乾燥空気を使った熱風乾燥ゾーンに通し30秒間乾燥を行った。これにより塗布膜は乾燥点に到達し、その直後に連続して溶媒蒸気雰囲気の乾燥ボックスに搬送して1秒間乾燥させた。作成したサンプルを切り出し、静止摩擦係数およびエタノールに対する接触角を測定した。なお、IPA蒸気使用時は乾燥ボックスを窒素パージできるケーシングで囲い、テストを実施した。また、静止摩擦係数は斜型測定器に使い、荷重500gにて測定し、接触角は接触角計を使い、溶媒としてエタノールを用いて測定した。
(Test 1)
After coating on the aluminum web by the coating apparatus of FIG. 1, it was dried for 30 seconds through a hot air drying zone using dry air. As a result, the coating film reached the drying point, and immediately after that, it was conveyed to a drying box in a solvent vapor atmosphere and dried for 1 second. The prepared sample was cut out, and the coefficient of static friction and the contact angle with respect to ethanol were measured. In addition, when using IPA vapor | steam, the drying box was enclosed with the casing which can be purged with nitrogen, and the test was implemented. The coefficient of static friction was measured using a slant type measuring instrument with a load of 500 g, and the contact angle was measured using a contact angle meter and ethanol as a solvent.

第2溶媒として水を用いた場合の結果を表1に示す。このとき、乾燥点における膜の状態:残留DMSO量110mg/m、膜表面は平滑(多孔なし)である。また、第2溶媒としてIPAを用いた場合の結果を表2に示す。このとき、乾燥点における膜の状態:残留DMSO量120mg/m、膜表面は平滑(多孔なし)である。 The results when water is used as the second solvent are shown in Table 1. At this time, the state of the membrane at the drying point: residual DMSO amount 110 mg / m 2 , and the membrane surface is smooth (no porosity). Table 2 shows the results when IPA was used as the second solvent. At this time, the membrane state at the drying point: residual DMSO amount 120 mg / m 2 , and the membrane surface is smooth (no porosity).

なお、残留DMSO量は以下のように測定した。すなわち、塗布膜サンプルを、直径10mmの大きさで3枚切り抜き、バイヤル瓶に入れて密閉した。このバイヤル瓶をガスクロマトグラフィ(GC390B、ジーエルサイエンス社)と接続したヘッドスペーサー(Tekmar 7000HT、ジーエルサイエンス社)に投入した。ヘッドスペーサーでのバイヤル瓶の加熱条件は180℃、5分間で行った。ガスクロマトグラフィの運転条件は、パックドカラム(Silicone DC-550、ジーエルサイエンス社)使用、オーブン温度180℃、FID温度180℃で行った。バイヤル瓶内で揮発した残留溶媒蒸気がヘッドスペーサーから自動でガスクロマトグラフィに投入され、得られたピーク面積とDMSOの検量線から塗布膜中に残留していた溶媒の濃度を算出した。   The amount of residual DMSO was measured as follows. That is, three coating film samples having a diameter of 10 mm were cut out and sealed in a vial bottle. This vial was placed in a head spacer (Tekmar 7000HT, GL Science) connected to a gas chromatography (GC390B, GL Science). The vial bottle was heated with the head spacer at 180 ° C. for 5 minutes. The operating conditions of the gas chromatography were performed using a packed column (Silicone DC-550, GL Sciences) at an oven temperature of 180 ° C. and an FID temperature of 180 ° C. Residual solvent vapor volatilized in the vial was automatically introduced into the gas chromatography from the head spacer, and the concentration of the solvent remaining in the coating film was calculated from the obtained peak area and DMSO calibration curve.

また、表1、表2において、ボックス内の溶媒蒸気量は、溶媒が水の場合は、温湿度計(ハイグロフレックス、ロトロニック社製)で測定し、溶媒が有機溶剤(IPA)の場合は、溶媒蒸気含有熱風を各条件の温度において、シリンジを使って10μl採取し、ガスクロマトグラフィ(GC390B、ジーエルサイエンス社、)で測定した。得られたピーク面積とIPAの検量線から溶媒蒸気含有熱風のIPA蒸気量を算出した。   In Tables 1 and 2, the amount of solvent vapor in the box is measured with a thermo-hygrometer (Higroflex, manufactured by Lotronic) when the solvent is water, and when the solvent is an organic solvent (IPA). Then, 10 μl of solvent vapor-containing hot air was collected using a syringe at the temperature of each condition and measured by gas chromatography (GC390B, GL Sciences Inc.). The IPA vapor amount of the solvent vapor-containing hot air was calculated from the obtained peak area and IPA calibration curve.

Figure 2010051928
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Figure 2010051928
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表1、2から分かるように、水の場合もIPAの場合も、式(1)を満たす場合のみ、膜の表面改質が起こり、静止摩擦係数の増加とエタノールに対する接触角が低下した。   As can be seen from Tables 1 and 2, in both cases of water and IPA, the surface modification of the film occurred only when the formula (1) was satisfied, and the static friction coefficient increased and the contact angle with respect to ethanol decreased.

(試験2)
上記関係式の範囲内で溶媒蒸気の温度を変化させて同様のテストを実施し、得られたサンプル面状のSEM観察、静止摩擦係数測定、接触角測定、細孔の数測定を実施した。第2溶媒として水を用いた場合の結果を表3に示す。なお、静止摩擦係数の測定はJISに従い、静摩擦係数測定器(トライボギア、新東科学社)を使用した。その際、荷重は200g、滑り角度は30°で測定した。また、接触角は、接触角計(Drop Master 700、協和界面科学社)を使用し、静的接触角を測定した。その際、膜に滴下する液滴としては、エタノールを使用した。さらに、細孔の個数は、共焦点レーザー顕微鏡で膜表面を細孔径に応じて10000〜50000倍で撮影し、その画像中に存在する細孔の数をカウントし、個/10μm換算した。なお、細孔の定義として、共焦点レーザー顕微鏡で取った膜の断面画像(図10)を見たときに、細孔の側面の点における接線と鉛直方向との直線のなす角度が60°になるところの間を幅Lと定義し、幅Lと深さDのアスペクト比D/Lが1/4以上2以下になるものを細孔とみなした。
(Test 2)
The same test was carried out by changing the temperature of the solvent vapor within the range of the above relational expression, and the obtained sample surface SEM observation, static friction coefficient measurement, contact angle measurement, and number of pores were measured. The results when water is used as the second solvent are shown in Table 3. The static friction coefficient was measured according to JIS using a static friction coefficient measuring instrument (Tribogear, Shinto Kagaku Co.). At that time, the load was 200 g, and the sliding angle was 30 °. The contact angle was measured using a contact angle meter (Drop Master 700, Kyowa Interface Science Co., Ltd.). At that time, ethanol was used as a droplet dropped on the film. Further, the number of pores was obtained by photographing the film surface with a confocal laser microscope at a magnification of 10,000 to 50,000 times according to the pore diameter, counting the number of pores present in the image, and converting them to 10/10 μm 2 . As the definition of the pore, when the cross-sectional image of the film taken with the confocal laser microscope (FIG. 10) is viewed, the angle formed by the straight line between the tangent at the side of the pore and the vertical direction is 60 °. A space between the two is defined as a width L, and a case where the aspect ratio D / L between the width L and the depth D is 1/4 or more and 2 or less is regarded as a pore.

Figure 2010051928
Figure 2010051928

表3から分かるように、溶媒蒸気温度によって細孔径の大きさが制御でき、溶媒蒸気量によって細孔の数を制御できる。   As can be seen from Table 3, the pore size can be controlled by the solvent vapor temperature, and the number of pores can be controlled by the solvent vapor amount.

(試験3)
試験2で得られた塗膜上にさらに塗布液を塗布乾燥し、はじきの個数をカウントした。試験条件は以下のとおりである。
・使用サンプル:試験2の実施例3で得られた塗布膜
・使用した塗布液:PVA/エタノール、固形分量4wt%、塗布ウェット量15cc
・塗布方式:バー塗布
・ラインスピード:60m/min
・乾燥条件:乾燥熱風140℃、10g/m、20000m/h ゾーン長30m
(Test 3)
The coating solution was further applied and dried on the coating film obtained in Test 2, and the number of repels was counted. The test conditions are as follows.
-Sample used: Coating film obtained in Example 3 of Test 2-Coating solution used: PVA / ethanol, solid content 4 wt%, coating wet amount 15 cc
・ Coating method: Bar coating ・ Line speed: 60 m / min
Drying conditions: Dry hot air 140 ° C., 10 g / m 3 , 20000 m 3 / h Zone length 30 m

Figure 2010051928
Figure 2010051928

表4から分かるように、溶媒蒸気によって下層を乾燥させることにより、上層の塗布液のハジキを大幅に抑えることができた。   As can be seen from Table 4, the repellency of the upper layer coating solution could be greatly suppressed by drying the lower layer with solvent vapor.

本実施形態の平版印刷版原版の製造ラインの基本構成を示す図The figure which shows the basic composition of the manufacturing line of the lithographic printing plate precursor of this embodiment 乾燥装置の構成を示す図Diagram showing the configuration of the drying device 蒸気乾燥部への蒸気給排気機構を示す図Diagram showing the steam supply / exhaust mechanism to the steam drying section 第1の実施形態の蒸気乾燥部の内部構成を示す図The figure which shows the internal structure of the steam-drying part of 1st Embodiment. 図4の5−5線に沿う断面図Sectional view along line 5-5 in FIG. 乾燥後の平版印刷版の断面図Cross section of planographic printing plate after drying 第2の実施形態の平版印刷版原版の製造ラインの構成を示す図The figure which shows the structure of the manufacturing line of the lithographic printing plate precursor of 2nd Embodiment 第2の実施形態で得られた平版印刷版の断面図Sectional drawing of the lithographic printing plate obtained in the second embodiment 第3の実施形態で得られた平版印刷版の断面図Sectional drawing of the lithographic printing plate obtained in the third embodiment 細孔の定義を示す図Diagram showing the definition of pores

符号の説明Explanation of symbols

10…平版印刷版原版の製造装置、16…支持体、18…塗布部、20…乾燥部、28…熱風乾燥部、29…蒸気乾燥部、30…冷却部、50…ボックス、52…供給部、54…ノズル、58A、58B…排気部、60A、60B…遮風板、62…タンク、64…ブロア、66、68、70…熱交換器、72…蒸留塔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Planographic printing plate precursor manufacturing apparatus, 16 ... Support, 18 ... Coating section, 20 ... Drying section, 28 ... Hot air drying section, 29 ... Steam drying section, 30 ... Cooling section, 50 ... Box, 52 ... Supply section 54 ... Nozzle, 58A, 58B ... Exhaust section, 60A, 60B ... Wind shielding plate, 62 ... Tank, 64 ... Blower, 66, 68, 70 ... Heat exchanger, 72 ... Distillation tower

Claims (13)

熱可塑性樹脂を第1溶媒に溶解した高分子溶液を塗布することによって、塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜を乾燥点まで乾燥させた後、前記第1溶媒よりも分子体積が小さい第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を前記塗膜に供給し、乾燥させる乾燥工程と、を備え、
前記乾燥工程は、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:溶媒蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量として、
1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、
で示される式を満たすことを特徴とする表面改質方法。
An application step of forming a coating film by applying a polymer solution in which a thermoplastic resin is dissolved in a first solvent;
A drying step of drying the coating film to a drying point, supplying a solvent vapor-containing hot air of a second solvent having a molecular volume smaller than that of the first solvent to the coating film, and drying the coating film;
In the drying step, T: film temperature at the drying point [° C.], C: solvent vapor amount [g / m 3 ], P T : saturated water vapor amount [Pa] at the film surface temperature T, R: gas constant, M: As the molecular weight of the second solvent,
1.0 ≦ C × R (273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8,
The surface modification method characterized by satisfy | filling the formula shown by these.
前記第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風の温度を調節することによって、前記塗膜の表面物性を制御することを特徴とする請求項1に記載の表面改質方法。   2. The surface modification method according to claim 1, wherein the surface physical properties of the coating film are controlled by adjusting the temperature of the hot air containing the solvent vapor of the second solvent. 前記第2溶媒の溶媒蒸気量を調節することによって、前記塗膜の表面物性を制御することを特徴とする請求項1に記載の表面改質方法。   2. The surface modification method according to claim 1, wherein the surface physical properties of the coating film are controlled by adjusting a solvent vapor amount of the second solvent. 前記塗膜の表面物性は、前記塗膜表面の静止摩擦係数であることを特徴とする請求項2または3に記載の表面改質方法。   4. The surface modification method according to claim 2, wherein the surface physical property of the coating film is a static friction coefficient of the coating film surface. 前記塗膜の表面物性は、前記塗膜表面の接触角であることを特徴とする請求項2または3に記載の表面改質方法。   The surface modification method according to claim 2, wherein the surface physical property of the coating film is a contact angle of the coating film surface. 前記塗膜は平版印刷版の画像形成層であり、
前記乾燥工程によって、前記画像形成層の表面の静止摩擦係数を制御することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1に記載の表面改質方法。
The coating film is an image forming layer of a lithographic printing plate,
The surface modification method according to claim 1, wherein a static friction coefficient of the surface of the image forming layer is controlled by the drying step.
前記塗膜は平版印刷版の画像形成層の上に形成されるオーバーコート層であり、
前記乾燥工程によって、前記オーバーコート層の静止摩擦係数を制御することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1に記載の表面改質方法。
The coating film is an overcoat layer formed on the image forming layer of the lithographic printing plate,
The surface modification method according to claim 1, wherein a static friction coefficient of the overcoat layer is controlled by the drying step.
熱可塑性樹脂を第1溶媒に溶解した高分子溶液を塗布する塗布装置と、
前記塗布装置の後段に設けられ、乾燥点まで乾燥した前記塗膜に前記第1溶媒よりも分子体積が小さい第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を供給して乾燥させる乾燥装置と、を備え、
前記乾燥装置は、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:溶媒蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量として、
1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、
で示される乾燥条件で乾燥処理を行うことを特徴とする表面改質装置。
A coating apparatus for coating a polymer solution obtained by dissolving a thermoplastic resin in a first solvent;
A drying apparatus that is provided at a subsequent stage of the coating apparatus and that supplies the coating film that has been dried to a drying point by supplying a solvent vapor-containing hot air of a second solvent having a molecular volume smaller than that of the first solvent to dry the coating film;
The drying apparatus includes: T: film temperature at the drying point [° C.], C: solvent vapor amount [g / m 3 ], P T : saturated water vapor amount at the film surface temperature T [Pa], R: gas constant, M: As the molecular weight of the second solvent,
1.0 ≦ C × R (273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8,
A surface modification apparatus characterized by performing a drying treatment under the drying conditions indicated by
熱可塑性樹脂を第1溶媒に溶解した高分子溶液を支持体に塗布し、下層を形成する下層塗布工程と、
前記下層を乾燥点まで乾燥させた後、前記第1溶媒よりも分子体積が小さい第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を前記下層に供給し、乾燥させる下層乾燥工程と、
前記乾燥させた下層の上に塗布液を塗布し、上層を形成する上層塗布工程と、を備え、
前記下層乾燥工程は、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:溶媒蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量として、
1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、
で示される式を満たすことを特徴とする重層塗布方法。
A lower layer coating step of applying a polymer solution in which a thermoplastic resin is dissolved in a first solvent to a support and forming a lower layer;
After drying the lower layer to a drying point, a lower layer drying step of supplying a solvent vapor-containing hot air of a second solvent having a molecular volume smaller than that of the first solvent to the lower layer and drying the lower layer;
An upper layer coating step of applying an application liquid on the dried lower layer and forming an upper layer;
In the lower layer drying step, T: film temperature at the drying point [° C.], C: solvent vapor amount [g / m 3 ], P T : saturated water vapor amount at the film surface temperature T [Pa], R: gas constant, M : As the molecular weight of the second solvent,
1.0 ≦ C × R (273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8,
The multilayer coating method characterized by satisfy | filling the formula shown by these.
前記下層が平版印刷版の画像形成層であるとともに、前記上層が前記画像形成層の上に塗布されるオーバーコート層であり、
前記下層乾燥工程によって、前記上層の塗布液に対する前記下層の接触角を制御することを特徴とする請求項9に記載の重層塗布方法。
The lower layer is an image forming layer of a lithographic printing plate, and the upper layer is an overcoat layer applied on the image forming layer,
The multi-layer coating method according to claim 9, wherein a contact angle of the lower layer with respect to the upper layer coating liquid is controlled by the lower layer drying step.
熱可塑性樹脂を第1溶媒に溶解した高分子溶液を支持体に塗布し、下層を形成する下層塗布装置と、前記下層塗布装置の後段に設けられ、乾燥点まで乾燥した前記下層に前記第1溶媒よりも分子体積が小さい第2溶媒の溶媒蒸気含有熱風を供給して乾燥させる下層乾燥装置と、
前記下層乾燥工程の後段に設けられ、前記乾燥した下層の上に塗布液を塗布し、上層を形成する上層塗布装置と、を備え、
前記下層乾燥装置は、T:乾燥点における膜温度[℃]、C:溶媒蒸気量[g/m]、P:膜面温度Tにおける飽和水蒸気量[Pa]、R:気体定数、M:第2溶媒の分子量として、
1.0≦C×R(273.15+T)/(M×P)≦1.8、
で示される式を満たすことを特徴とする重層塗布装置。
A polymer solution in which a thermoplastic resin is dissolved in a first solvent is applied to a support, and a lower layer coating device for forming a lower layer, and a first layer on the lower layer provided after the lower layer coating device and dried to a drying point. A lower layer drying apparatus for supplying and drying solvent vapor-containing hot air of a second solvent having a molecular volume smaller than that of the solvent;
An upper layer coating device that is provided in a subsequent stage of the lower layer drying step, coats a coating solution on the dried lower layer, and forms an upper layer;
In the lower layer drying apparatus, T: film temperature [° C.] at the drying point, C: solvent vapor amount [g / m 3 ], P T : saturated water vapor amount [Pa] at the film surface temperature T, R: gas constant, M : As the molecular weight of the second solvent,
1.0 ≦ C × R (273.15 + T) / (M × P T ) ≦ 1.8,
A multi-layer coating apparatus characterized by satisfying the formula shown in FIG.
表面に熱可塑性樹脂を含む塗膜が形成されるとともに、前記表面に略凹状の窪みから成る多数の細孔を有する塗布物であって、
前記細孔の周縁部は、該細孔の中心に向かって徐々に凹むことによって滑らかな曲面を成すとともに、
前記細孔の直径は、0.2μm以上4.0μm以下であることを特徴とする塗布物。
A coating having a thermoplastic resin formed on the surface, and a coating having a large number of pores consisting of substantially concave depressions on the surface,
The peripheral edge of the pore forms a smooth curved surface by gradually denting toward the center of the pore,
The diameter of the said pore is 0.2 micrometer or more and 4.0 micrometers or less, The coating material characterized by the above-mentioned.
前記塗布物は平版印刷版であることを特徴とする請求項12に記載の塗布物。   The coated material according to claim 12, wherein the coated material is a lithographic printing plate.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016060043A (en) * 2014-09-12 2016-04-25 富士フイルム株式会社 Functional laminated film, transfusion bag and method for producing functional laminated film
US9529260B1 (en) 2015-11-09 2016-12-27 Echem Solutions Corp. Photosensitive insulated resin composition and method of producing insulated film thereof

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