JP2008209375A - Sample treatment device, sample container, and flow control mechanism - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sample treatment device, a sample container, and a flow control mechanism capable of treating a sample more suitably. <P>SOLUTION: A plate 46 which holds the sample is housed in a cassette 48. A taper 74 is formed on one end in a longitudinal direction of the cassette 48. When an advancing and retreating bar 54 advances and retreats on the plate 46, liquid supplied to the cassette 48 is forcibly flown. When the liquid is discharged, the advancing and retreating bar 54 advances and retreats within a range E2 from one end to other end of the cassette 48. At that time, the advancing and retreating bar 54 reaching a starting end of the range E2 abuts on the taper 74. Thus, the advancing and retreating bar 54 rotates around a moving shaft 56 by abutting on the taper 74, and is guided upward automatically to improve liquid draining performance. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、プレート上に担持されたサンプルに対して、既定の液体、例えば、試薬等の供給を含む所定の処理を施すサンプル処理装置、当該プレート上に担持されたサンプルを収容するサンプル容器、および、当該サンプル容器に供給された液体の流動状態を制御する流動制御機構に関する。   The present invention provides a sample processing apparatus for performing a predetermined process including supply of a predetermined liquid, for example, a reagent, on a sample carried on a plate, a sample container for containing a sample carried on the plate, The present invention also relates to a flow control mechanism that controls the flow state of the liquid supplied to the sample container.

従来から、プレート上に担持された生体組織などをサンプルに対して処理液の供給などの処理を施すサンプル処理装置、例えば、核酸に対するハイブリダイゼーション等の処理を行うサンプル処理装置が知られている。かかるサンプル処理装置では、通常、サンプルを担持したプレートは、サンプル容器に収容される。そして、このサンプル容器内に、各種液体(処理液や洗浄液など)が供給される。   2. Description of the Related Art Conventionally, a sample processing apparatus that performs a process such as supplying a treatment liquid to a biological tissue or the like carried on a plate, for example, a sample processing apparatus that performs a process such as hybridization on a nucleic acid is known. In such a sample processing apparatus, a plate carrying a sample is usually accommodated in a sample container. Various liquids (such as processing liquid and cleaning liquid) are supplied into the sample container.

かかる処理装置の中には、プレート上に配された進退バーを進退させることで、サンプルに供給された液体を強制的に流動させる流動制御機構を備えるものがある。例えば、下記特許文献1には、プレート上に配された展開部材(進退バー)を変位させることで、プレート上に供給された処理液をプレート全面に広げるべく強制的に流動させる展開手段(流動制御機構)を備えた処理装置が開示されている。かかる展開手段(流動制御機構)を設けることにより、液体を流動させるための振動機構などの大型機構を設ける必要がなく、適切なサンプル処理を簡易に行うことができる。   Some of these processing apparatuses include a flow control mechanism for forcibly flowing the liquid supplied to the sample by moving the advance / retreat bar arranged on the plate back and forth. For example, in Patent Document 1 below, a developing means (flow) that forcibly flows the processing liquid supplied on the plate to spread over the entire surface of the plate by displacing the developing member (advance / retreat bar) arranged on the plate. A processing apparatus provided with a control mechanism is disclosed. By providing such a developing means (flow control mechanism), it is not necessary to provide a large-scale mechanism such as a vibration mechanism for causing the liquid to flow, and appropriate sample processing can be easily performed.

特開2004−333347号公報JP 2004-333347 A

しかしながら、特許文献1などの従来技術では、処理液の展開等といった液体の流動制御時における進退バーの動きについては考慮されているものの、流動制御が終了した際の進退バーの動きについては殆ど考慮されていない。そのため、従来の処理装置では、展開等の流動制御を終了した際、進退バーは、流動制御時と同じ高さで停止する場合が多かった。この場合、流動制御が終了した進退バーに、処理液等が多量に残留していた。進退バーに残留した液体は、その後に供給される他の液体と混合され、当該他の液体の汚染の原因となる。そして、その結果、適切なサンプル処理ができないという問題があった。   However, in the conventional technology such as Patent Document 1, although the movement of the advance / retreat bar during the flow control of the liquid such as the development of the processing liquid is taken into consideration, the movement of the advance / retreat bar when the flow control is finished is almost taken into consideration. It has not been. Therefore, in the conventional processing apparatus, when the flow control such as the expansion is finished, the advance / retreat bar often stops at the same height as that during the flow control. In this case, a large amount of treatment liquid or the like remained on the advance / retreat bar where the flow control was completed. The liquid remaining in the advancing / retreating bar is mixed with other liquid supplied thereafter, causing contamination of the other liquid. As a result, there has been a problem that appropriate sample processing cannot be performed.

そこで、本発明では、より適切なサンプル処理が可能なサンプル処理装置、サンプル容器、流動制御機構を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a sample processing apparatus, a sample container, and a flow control mechanism that can perform more appropriate sample processing.

本発明のサンプル処理装置は、プレート上に担持されたサンプルに対して、既定の液体の供給を含む所定の処理を施すサンプル処理装置であって、前記サンプルを担持したプレートを収容する収容空間を形成するサンプル容器と、前記プレートの上に配された進退バーを所定の範囲内で進退させることで、前記サンプル容器に供給された液体の流動状態を制御する流動制御機構と、を備え、前記サンプル容器は、前記可動範囲の端部に相当する位置に形成された斜面であって、当接した進退バーを上方に案内する斜面を有することを特徴とする。   A sample processing apparatus according to the present invention is a sample processing apparatus that performs a predetermined process including a predetermined liquid supply on a sample carried on a plate, and has an accommodation space for accommodating the plate carrying the sample. A sample container to be formed, and a flow control mechanism for controlling the flow state of the liquid supplied to the sample container by moving the advance / retreat bar disposed on the plate within a predetermined range, and The sample container has a slope that is formed at a position corresponding to an end of the movable range, and that guides the advancing / retreating bar that is in contact upward.

好適な態様では、前記サンプル容器は、上端面に形成され、吸引ノズルが挿入される吸引口と、前記収容空間の底面に形成され、サンプル容器に供給された液体を外部に排出する排出穴と、吸引口と排出穴とを接続する吸引路と、を備える。この場合、前記吸引口は、上側に向かって広がる略錘状であり、前記吸引ノズルは、先端が前記吸引口の下端に線接触する略球状であることが望ましい。さらに、前記サンプル容器は、部分的に形成された段部であって、前記プレートが載置されることで、前記収容空間の底面との間に間隙を確保した状態で当該プレートを支持する支持段部を備えることも望ましい。   In a preferred aspect, the sample container is formed on the upper end surface, and a suction port into which the suction nozzle is inserted, and a discharge hole formed on the bottom surface of the storage space for discharging the liquid supplied to the sample container to the outside. And a suction path connecting the suction port and the discharge hole. In this case, it is preferable that the suction port has a substantially weight shape that extends upward, and the suction nozzle has a substantially spherical shape with a tip line-contacting with a lower end of the suction port. Further, the sample container is a partially formed step portion, and supports the plate in a state in which a gap is secured between the plate container and the bottom surface of the accommodation space. It is also desirable to provide a step.

他の好適な態様では、前記サンプル容器は、前記プレートの載置位置を既定する位置決用壁を備える。   In another preferred aspect, the sample container includes a positioning wall that defines a mounting position of the plate.

他の好適な態様では、前記流動制御機構は、進退方向に直交する方向に長尺な進退バーと、進退方向に移動する移動軸と、進退バーを、前記移動軸を中心として回動可能に当該移動軸に連結する連結手段と、を備える。複数のサンプルを同時処理する場合には、複数のサンプル容器が前記移動軸の軸方向に配設されるとともに、一つの移動軸に前記複数のサンプル容器に対応して複数の進退バーが連結されることが望ましい。   In another preferred aspect, the flow control mechanism is configured to be able to rotate a forward / backward bar that is long in a direction orthogonal to the forward / backward direction, a moving shaft that moves in the forward / backward direction, and a forward / backward bar about the moving axis. Connecting means for connecting to the moving shaft. When simultaneously processing a plurality of samples, a plurality of sample containers are arranged in the axial direction of the moving shaft, and a plurality of advance / retreat bars are connected to one moving shaft corresponding to the plurality of sample containers. It is desirable.

他の好適な態様では、進退バーの両端は、先端に近づくほど断面積が小さくなる形状である。この場合、進退バーの両端は、略錘状、または、略球状であることが望ましい。さらに、前記進退バーは、本体部と前記本体部より大径の大径部とを有し、前記大径部がプレート上面に接触することにより、本体部と当該プレート上面との間に間隙が確保されることも望ましい。   In another preferred embodiment, both ends of the advance / retreat bar have a shape in which the cross-sectional area becomes smaller as approaching the tip. In this case, it is desirable that both ends of the advance / retreat bar have a substantially spindle shape or a substantially spherical shape. Further, the advance / retreat bar has a main body portion and a large diameter portion larger in diameter than the main body portion, and the large diameter portion contacts the upper surface of the plate, whereby a gap is formed between the main body portion and the upper surface of the plate. It is also desirable to ensure.

他の本発明であるサンプル容器は、既定の液体の供給を含む所定の処理が施されるべくプレート上に担持されたサンプルを収容するサンプル容器であって、前記サンプル容器は、前記プレートの上で進退する進退バーの可動範囲の端部に相当する位置に形成された斜面であって、当接した進退バーを上方に案内する斜面を有することを特徴とする。   Another sample container according to the present invention is a sample container that contains a sample carried on a plate to be subjected to a predetermined process including a predetermined liquid supply, and the sample container is placed on the plate. It is characterized by having a slope formed at a position corresponding to the end of the movable range of the advance / retreat bar that advances and retreats in order to guide the advancing / retreating bar abutting upward.

他の本発明である流動制御機構は、サンプルを担持したプレートの上に配された進退バーを進退させることで、当該プレートを収容したサンプル容器に供給された液体の流動状態を制御する流動制御機構であって、前記進退バーの両端は、先端に近づくほど断面積が小さくなる形状であることを特徴とする。   Another flow control mechanism according to the present invention is a flow control for controlling the flow state of the liquid supplied to the sample container containing the plate by moving the advance / retreat bar arranged on the plate carrying the sample. The mechanism is characterized in that both ends of the advancing / retreating bar have a shape in which a cross-sectional area becomes smaller toward the tip.

本発明によれば、サンプル容器端部に形成された斜面により、進退バーが自動的に上方向に案内されるため、進退バーからの液切れが向上し、他の液体と残留液体との汚染等が防止される。その結果、より好適なサンプル処理が可能となる。   According to the present invention, the advancing / retreating bar is automatically guided upward by the inclined surface formed at the end of the sample container, so that the liquid breakage from the advancing / retreating bar is improved, and contamination with other liquid and residual liquid is achieved. Etc. are prevented. As a result, more suitable sample processing is possible.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施形態であるサンプル処理装置10の概略構成図である。また、図2は、処理槽22周辺の横断面図である。このサンプル処理装置10は、核酸(DNA、RNA)をサンプルとして取り扱う装置で、当該核酸に対してハイブリダイゼーションなどの処理を施す。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a sample processing apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view around the treatment tank 22. The sample processing apparatus 10 is an apparatus that handles nucleic acids (DNA, RNA) as samples, and performs processing such as hybridization on the nucleic acids.

はじめに、このサンプル処理装置10の全体構成について簡単に説明する。サンプル処理装置10は、ノズル装置12、処理槽ユニット14、および、ノズル装置12と処理槽ユニット14とを制御する制御部15を備えている。ノズル装置12は、処理槽22に設置されたサンプルに対して各種試薬や洗浄液の供給や、サンプルに供給された液体の回収を行う装置である。ノズル16は、図示しない移動機構によりXYZ方向に移動可能となっており、ポンプ18の駆動に応じて、適宜、液体の吸引および吐出を行う。また、ポンプ18は、複数のバルブ20を介して試薬を貯留している試薬瓶や、廃棄する液体を貯留する排液瓶などと接続されており、バルブ20の開閉状態を切り替えることで、所望の液瓶に接続される。このノズル16やポンプ18、バルブ20等のより詳細な構成は、周知の公知技術を参照することにより理解できるため、ここでの詳説は省略する。なお、図1では、ノズル16を一つだけ図示しているが、より多数のノズル16、例えば、試薬吐出用ノズル、排液吸引用ノズルなど、用途ごとにノズルを設けてもよい。   First, the overall configuration of the sample processing apparatus 10 will be briefly described. The sample processing apparatus 10 includes a nozzle device 12, a processing tank unit 14, and a control unit 15 that controls the nozzle device 12 and the processing tank unit 14. The nozzle device 12 is a device that supplies various reagents and cleaning liquids to a sample installed in the processing tank 22 and collects the liquid supplied to the samples. The nozzle 16 can be moved in the XYZ directions by a moving mechanism (not shown), and appropriately sucks and discharges liquid according to the driving of the pump 18. The pump 18 is connected to a reagent bottle storing a reagent, a drain bottle storing a liquid to be discarded, or the like via a plurality of valves 20. Connected to the liquid bottle. Detailed configurations of the nozzle 16, the pump 18, the valve 20, and the like can be understood by referring to a known publicly known technique, and thus detailed description thereof is omitted here. In FIG. 1, only one nozzle 16 is shown, but a larger number of nozzles 16, such as reagent discharge nozzles and drainage suction nozzles, may be provided for each application.

処理槽ユニット14は、恒温槽である処理槽22を備えている。この処理槽22は、保温空間28を形成する凹部を備えた槽本体部24と、当該槽本体部24に対して開閉自在の蓋部26と、に大別される。槽本体部24および蓋部26の内部には、外部との伝熱を阻害するための断熱材(図1において砂目で図示)が充填されており、当該処理槽22の内部は恒温で保たれるようになっている。また、蓋部26を開放することなく、ノズル16を処理槽22の内部に進入させて液体の吐出吸引を行うために、蓋部26は、ノズル16の通過を許容するノズル用小孔38が形成された固定蓋30と、当該ノズル用小孔38を開閉するシャッタ体32と、で構成される。シャッタ体32には、ノズル用小孔38に対応したシャッタ開口40が形成されており、固定蓋30に対してスライド移動することによりノズル用小孔38を開閉する。このシャッタ体32の駆動は、シャッタ駆動部44を介して制御部15により駆動制御される。   The processing tank unit 14 includes a processing tank 22 that is a constant temperature tank. The treatment tank 22 is broadly divided into a tank main body portion 24 having a concave portion that forms a heat retaining space 28, and a lid portion 26 that can be opened and closed with respect to the tank main body portion 24. The inside of the tank main body 24 and the lid part 26 is filled with a heat insulating material (illustrated by grain in FIG. 1) for inhibiting heat transfer with the outside, and the inside of the processing tank 22 is kept at a constant temperature. It has come to droop. Further, in order to allow the nozzle 16 to enter the inside of the processing tank 22 and perform liquid discharge and suction without opening the lid portion 26, the lid portion 26 has a small nozzle hole 38 that allows passage of the nozzle 16. The formed fixed lid 30 and the shutter body 32 that opens and closes the small nozzle hole 38 are configured. A shutter opening 40 corresponding to the nozzle small hole 38 is formed in the shutter body 32, and the nozzle small hole 38 is opened and closed by sliding with respect to the fixed lid 30. The driving of the shutter body 32 is controlled by the control unit 15 via the shutter driving unit 44.

サンプルである核酸は、この槽本体部24と蓋部26とで構成される保温空間28に設置される。設置の際、サンプルは、予め、スライドガラス等のプレート46上に付着される。サンプルを担持したプレート46は、カセット48と呼ばれる小型のサンプル容器に収容される。このカセット48は、規定の個数(例えば、10個など)ごとに、専用の載置台であるカセット台50に載置され、カセット台50ごと処理槽22の内部に設置される。   Nucleic acid, which is a sample, is placed in a heat insulating space 28 constituted by the tank body 24 and the lid 26. At the time of installation, the sample is attached in advance on a plate 46 such as a slide glass. The plate 46 carrying the sample is accommodated in a small sample container called a cassette 48. The cassettes 48 are placed on a cassette base 50 that is a dedicated mounting base for each specified number (for example, 10), and the cassette base 50 is installed inside the processing tank 22.

処理槽22の内部に設置されたカセット48には、ノズル装置12により各種試薬や洗浄液等の液体が供給される。この供給された液体を強制的に流動させて、当該液体をプレート46の全面に展開したり、カセット48に形成された排出穴76に送り込んだりするために、流動制御機構52が設けられている。流動制御機構52は、プレート46の上に配された進退バー54を所定の範囲内で進退させることで、カセット48に供給された液体の流動状態を制御する。進退バー54は、進退方向に移動可能な移動軸56に連結されており、この移動軸56は、移動軸駆動部58を介して制御部15により駆動制御される。   Liquids such as various reagents and cleaning liquids are supplied from the nozzle device 12 to the cassette 48 installed inside the processing tank 22. A flow control mechanism 52 is provided for forcibly flowing the supplied liquid so that the liquid is spread over the entire surface of the plate 46 or sent into the discharge hole 76 formed in the cassette 48. . The flow control mechanism 52 controls the flow state of the liquid supplied to the cassette 48 by advancing and retracting the advance / retreat bar 54 disposed on the plate 46 within a predetermined range. The advancing / retreating bar 54 is connected to a moving shaft 56 that can move in the advancing / retreating direction. The moving shaft 56 is driven and controlled by the control unit 15 via the moving shaft driving unit 58.

カセット台50の下側には、保湿液を貯留する保湿トレイ60が設けられている。保湿液は、処理槽22に組み込まれた温度調整機構での加熱により蒸気を発し、処理槽22の内部を保湿する。温度調整機構は、蓋部26の内部に配された蓋側ヒータ62と、処理槽22の底部に組み込まれたペルチェユニット64を備える。蓋側ヒータ62は、蓋側ヒータ駆動部66を介して制御部15により駆動制御され、適宜、処理槽22の内部を加熱する。ペルチェユニット64は、ペルチェユニット駆動部68を介して制御部15により駆動制御される。このペルチェユニット64は、温度可変で、熱源および冷却源のいずれにもなり得る温度調整源として機能する。このペルチェユニット64は、処理槽22の内壁面を構成する伝熱材料、例えば、アルミなどからなる伝熱フレーム70に物理的に接続されており、当該伝熱フレーム70を通じて処理槽22の内部を加熱または冷却する。また、この伝熱フレーム70の上には、既述の保湿トレイ60が載置されており、保湿液の加熱が効率的に行えるようになっている。以下、このサンプル処理装置10、特に処理槽ユニット14の各部の構成について詳説する。   A moisturizing tray 60 for storing moisturizing liquid is provided below the cassette table 50. The moisturizing liquid emits steam by heating with a temperature adjustment mechanism incorporated in the processing tank 22 to keep the inside of the processing tank 22 moisturized. The temperature adjustment mechanism includes a lid-side heater 62 disposed inside the lid portion 26 and a Peltier unit 64 incorporated at the bottom of the processing tank 22. The lid-side heater 62 is driven and controlled by the control unit 15 via the lid-side heater driving unit 66, and appropriately heats the inside of the processing tank 22. The Peltier unit 64 is driven and controlled by the control unit 15 via the Peltier unit driving unit 68. The Peltier unit 64 is variable in temperature and functions as a temperature adjustment source that can be either a heat source or a cooling source. The Peltier unit 64 is physically connected to a heat transfer frame 70 made of a heat transfer material, for example, aluminum, which constitutes the inner wall surface of the process tank 22, and the inside of the process tank 22 is passed through the heat transfer frame 70. Heat or cool. Further, the above-described moisturizing tray 60 is placed on the heat transfer frame 70 so that the moisturizing liquid can be efficiently heated. Hereinafter, the configuration of each part of the sample processing apparatus 10, particularly the processing tank unit 14, will be described in detail.

[カセット]
まず、カセット48の構成について説明する。図3は、カセット48の斜視図、図4は他の方向からみたカセット48の斜視図である。また、図5は、図3におけるB−B断面図である。このカセット48は、サンプルを担持したプレート46(図3〜図5では図示せず)を収容するサンプル容器である。このカセット48は、カセット台50に対して着脱自在であり、1回の処理ごとに交換可能なディスポーザブルタイプのサンプル容器である。カセット48は、上面視略長方形の箱状、あるいは、船状であり、耐薬性や耐熱性に優れた樹脂などからなる。このカセット48は、図3等から明らかなとおり、大きな凹部が形成されており、この凹部内がサンプルを収容する収容空間72となる。この収容空間72の長手方向の一端には、上側に向かって傾斜したテーパ74が形成されている。このテーパ74は、プレート46の出し入れを容易にするとともに、後述する進退バー54が当接した際に、当該進退バー54を上方に案内する役割も果たす。
[cassette]
First, the configuration of the cassette 48 will be described. FIG. 3 is a perspective view of the cassette 48, and FIG. 4 is a perspective view of the cassette 48 seen from another direction. 5 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. The cassette 48 is a sample container that accommodates a plate 46 (not shown in FIGS. 3 to 5) carrying a sample. The cassette 48 is a disposable sample container that is detachably attached to the cassette base 50 and can be exchanged for each process. The cassette 48 has a substantially rectangular box shape or a ship shape when viewed from above, and is made of a resin having excellent chemical resistance and heat resistance. As apparent from FIG. 3 and the like, the cassette 48 is formed with a large concave portion, and the inside of the concave portion becomes an accommodating space 72 for accommodating a sample. A taper 74 that is inclined upward is formed at one end in the longitudinal direction of the housing space 72. The taper 74 facilitates taking in and out of the plate 46, and also plays a role of guiding the advance / retreat bar 54 upward when a later-described advance / retreat bar 54 abuts.

収容空間72の底面には、カセット48に供給された液体を外部に排出する排出穴76が形成されている。この排出穴76は、カセット48の底面の内部に形成された吸引路78に接続されている。吸引路78は、途中で90度屈曲し、カセット48の上端面に形成された吸引口80に接続される。この吸引口80は、カセット48の長手方向他端(テーパ74の形成側とは逆方向)の上端面に形成されており、液体の吸引を行う吸引ノズル16が挿入される。吸引口80に挿入された吸引ノズル16は、吸引路78、排出穴76を通じて、カセット48内の液体を吸引する。つまり、本実施形態では、カセット48に供給された液体を、収容空間72の底面から排出し、カセット48の上面から吸引する構成となっている。収容空間72の底面から液体を排出することにより、直接、収容空間72にノズル16を挿入する場合に比べて、サンプルへの悪影響や、液体の残存などを防止できる。また、カセット48の上端面に形成された吸引口80から液体を吸引することにより、従来の吸引ノズル16をそのまま利用することができ、簡易な構成で液体の吸引が可能となる。   A discharge hole 76 for discharging the liquid supplied to the cassette 48 to the outside is formed on the bottom surface of the storage space 72. The discharge hole 76 is connected to a suction path 78 formed inside the bottom surface of the cassette 48. The suction path 78 is bent 90 degrees in the middle, and is connected to a suction port 80 formed on the upper end surface of the cassette 48. The suction port 80 is formed at the upper end surface of the other end in the longitudinal direction of the cassette 48 (the direction opposite to the side on which the taper 74 is formed), and the suction nozzle 16 for sucking liquid is inserted. The suction nozzle 16 inserted into the suction port 80 sucks the liquid in the cassette 48 through the suction path 78 and the discharge hole 76. That is, in the present embodiment, the liquid supplied to the cassette 48 is discharged from the bottom surface of the storage space 72 and sucked from the top surface of the cassette 48. By discharging the liquid from the bottom surface of the storage space 72, it is possible to prevent adverse effects on the sample and the remaining of the liquid compared to the case where the nozzle 16 is directly inserted into the storage space 72. Further, by sucking the liquid from the suction port 80 formed on the upper end surface of the cassette 48, the conventional suction nozzle 16 can be used as it is, and the liquid can be sucked with a simple configuration.

なお、吸引口80に挿入された吸引ノズル16と、吸引路78と、が互いに嵌合され、その結合力が過大となった場合、吸引ノズル16の引き上げとともにカセット48も持ち上げられる恐れがある。本実施形態では、かかる吸引路78と吸引ノズル16との強固な結合を防止しつつも、両者を確実に連結させるために、吸引ノズル16の先端を、吸引路78の径r、換言すれば、錘状である吸引口80の下端における半径rより大きい半径R(R>r)の略半球状としている。かかる形状とすることで、吸引口80に挿入した際、吸引ノズル16の先端は、吸引口80の下端と線接触するものので、吸引路78の内部には進入できない。その結果、吸引路78と吸引ノズル16とは、確実に連結されるものの、嵌合されることはない。そのため、吸引路78を介しての吸引ノズル16での液体吸引が確実に行える一方で、吸引ノズル16を引き上げる際にカセット48が持ち上がることがない。   If the suction nozzle 16 inserted into the suction port 80 and the suction path 78 are fitted to each other and the coupling force becomes excessive, the cassette 48 may be lifted together with the suction nozzle 16 being pulled up. In the present embodiment, the tip of the suction nozzle 16 is connected to the diameter r of the suction path 78, in other words, in order to securely connect the suction path 78 and the suction nozzle 16 while preventing the strong coupling between the suction path 78 and the suction nozzle 16. A substantially hemispherical shape having a radius R (R> r) larger than the radius r at the lower end of the suction port 80 having a weight shape. By adopting such a shape, the tip of the suction nozzle 16 is in line contact with the lower end of the suction port 80 when inserted into the suction port 80 and cannot enter the suction path 78. As a result, the suction path 78 and the suction nozzle 16 are securely connected but are not fitted. Therefore, the liquid can be reliably sucked by the suction nozzle 16 through the suction path 78, while the cassette 48 is not lifted when the suction nozzle 16 is pulled up.

収容空間72の底面の隅部近傍には、サンプルを担持したプレート46が載置される支持段部82が部分的に形成されている。この支持段部82は、収容空間72の底面に形成された排出穴76と、プレート46との間に僅かな間隙を確保した状態で当該プレート46を支持するために設けられている。すなわち、プレート46を、収容空間72の底面に直接、載置すると、当該底面に形成された排出穴76がプレート46で覆われてしまい、適切な液排出ができなくなる。そこで、本実施形態では、支持段部82を形成し、プレート46と収容空間72底面との間に間隙を確保し、液体の排出液への流れを可能としている。なお、収容空間72の底面の周囲のうち、支持段部82が形成されていない部分83は、プレート46より上側に位置する液体を、当該プレート46の下側に導く液逃げ路83として機能する。   Near the corner of the bottom surface of the accommodation space 72, a support step portion 82 on which the plate 46 carrying the sample is placed is partially formed. The support step portion 82 is provided to support the plate 46 in a state where a slight gap is secured between the discharge hole 76 formed in the bottom surface of the accommodation space 72 and the plate 46. That is, when the plate 46 is placed directly on the bottom surface of the storage space 72, the discharge hole 76 formed on the bottom surface is covered with the plate 46, and appropriate liquid discharge cannot be performed. Therefore, in the present embodiment, the support step portion 82 is formed, a gap is secured between the plate 46 and the bottom surface of the accommodation space 72, and the liquid can flow to the discharged liquid. A portion 83 where the support step portion 82 is not formed in the periphery of the bottom surface of the accommodation space 72 functions as a liquid escape path 83 that guides the liquid located above the plate 46 to the lower side of the plate 46. .

また、収容空間72の底面の四隅には、プレート46の載置位置を規制するための段差部であるストッパ84が形成されている。このストッパ84は、少なくとも、プレート46の厚みより高い段差である。支持段部82に載置されたプレート46は、その四隅位置が、このストッパ84により規制されることで位置決めされる。また、後述する進退バー54により供給された液体が大きく流動するとき、当該プレート46の下側に流れ込んだ液体の巻き上がりによりプレート46が浮き上がる場合がある。そして、この浮き上がったプレート46が、長手方向一端に形成されたテーパ74等の途中に乗り上がる場合がある。ストッパ84は、この浮き上がったプレート46を既定の位置に落としこみ、プレート46がテーパ74等の上に乗りあがることも防止している。カセット48の外側面には、長手方向の側面から底面にかけて延びる二本のリブ86が平行して設けられている。このリブ86は、カセット48の強度を向上させる補強部材の機能を果たす。   Further, stoppers 84 that are stepped portions for regulating the placement position of the plate 46 are formed at the four corners of the bottom surface of the accommodation space 72. The stopper 84 is a step that is at least higher than the thickness of the plate 46. The plate 46 placed on the support step portion 82 is positioned by restricting the four corner positions by the stopper 84. Further, when the liquid supplied by the advancing / retreating bar 54, which will be described later, greatly flows, the plate 46 may be lifted by the rolling of the liquid flowing into the lower side of the plate 46. In some cases, the floated plate 46 rides in the middle of the taper 74 formed at one end in the longitudinal direction. The stopper 84 drops the floating plate 46 to a predetermined position, and prevents the plate 46 from climbing on the taper 74 or the like. Two ribs 86 extending in parallel from the side surface in the longitudinal direction to the bottom surface are provided on the outer surface of the cassette 48. The rib 86 functions as a reinforcing member that improves the strength of the cassette 48.

[流動制御機構]
次に、流動制御機構52の構成について説明する。図6(a)は流動制御機構52の側面図、図6(b)は流動制御機構52の正面図である。この流動制御機構52は、カセット48の長手方向に進退する進退バー54を備えており、当該進退バー54の進退によりカセット48に供給された液体を強制的に流動させる。進退バー54は、カセット48の短手方向(進退方向に直交する方向)に長尺な略丸棒である。この進退バー54は、本体部54aと、当該本体部54aの両側に位置して本体部54aより大径の大径部54bと、に大別される。この進退バー54をプレート46上に配した際には、大径部54bはプレート46上面に接触するが、大径部54bより小径の本体部54aとプレート46との間に僅かな間隙が形成される。この間隙は、後述するプローブ液を展開する際に当該プローブ液を保持する空間、液体保持空間となる。また、進退バー54の両端には、先端に近づくほど断面積が小さくなる略錘状の錘状部54cが形成されている。両端をかかる形状としているのは、この進退バー54を移動軸56にセットする際に、進退バー54の端部がカセット48の周縁に干渉しても、当該進退バー54をスムーズにカセット48内に落ち込ませるためである。また、この錘状部54cは、進退バー54による液体の保持性と、進退バー54からの液体の液離れ性という相反する二つの性能を向上させるためであるが、これについては後に詳説する。
[Flow control mechanism]
Next, the configuration of the flow control mechanism 52 will be described. 6A is a side view of the flow control mechanism 52, and FIG. 6B is a front view of the flow control mechanism 52. The flow control mechanism 52 includes an advance / retreat bar 54 that advances and retreats in the longitudinal direction of the cassette 48, and the liquid supplied to the cassette 48 is forced to flow by the advance / retreat of the advance / retreat bar 54. The advance / retreat bar 54 is a substantially round bar that is long in the short direction of the cassette 48 (the direction orthogonal to the advance / retreat direction). The advance / retreat bar 54 is roughly divided into a main body portion 54a and a large-diameter portion 54b that is located on both sides of the main body portion 54a and has a larger diameter than the main body portion 54a. When the advance / retreat bar 54 is disposed on the plate 46, the large diameter portion 54b contacts the upper surface of the plate 46, but a slight gap is formed between the main body portion 54a and the plate 46 having a smaller diameter than the large diameter portion 54b. Is done. This gap serves as a space for holding the probe liquid and a liquid holding space when the probe liquid described later is developed. Further, at both ends of the advancing / retreating bar 54, a substantially pyramid-shaped weight portion 54c having a sectional area that decreases as it approaches the tip is formed. The both ends are shaped so that when the advancing / retreating bar 54 is set on the moving shaft 56, even if the end of the advancing / retreating bar 54 interferes with the peripheral edge of the cassette 48, the advancing / retreating bar 54 is smoothly inserted into the cassette 48. This is to make you feel depressed. Further, the weight-like portion 54c is for improving two contradictory performances, ie, the liquid holding property by the advance / retreat bar 54 and the liquid separation property of the liquid from the advance / retreat bar 54, which will be described in detail later.

この進退バー54は、連結軸88および連結金具90を介して移動軸56(図2参照)に連結されている。連結軸88は、進退バー54の上面に螺合接続された軸部材である。この連結軸88は、さらに、水平方向に延びる連結金具90に螺合接続されている。連結金具90は、前面および底面が開口された略箱状の金具である。この連結金具90の側壁には、移動軸56が挿入される略矩形の軸溝90aが形成されている。この軸溝90aは、移動軸56の軸径より僅かに大きい幅を有しており、当該軸溝90aに移動軸56が挿し込まれることにより、進退バー54は、移動軸56を中心として回動可能となる。また、連結金具90の背面壁には、移動軸56に形成された係合軸56aが挿入される係合孔90bが形成されている。係合孔90bは、上下方向に長尺な長孔である。この係合孔90bに、移動軸56の係合軸56aが挿入されることにより、連結金具90、ひいては、当該連結金具90に連結された進退バー54の移動軸56に対する位置、および、移動軸56を中心とした回動範囲が規制される。   The advance / retreat bar 54 is connected to a moving shaft 56 (see FIG. 2) via a connecting shaft 88 and a connecting fitting 90. The connecting shaft 88 is a shaft member screwed to the upper surface of the advance / retreat bar 54. The connection shaft 88 is further screwed to a connection fitting 90 extending in the horizontal direction. The connecting metal fitting 90 is a substantially box-shaped metal fitting whose front and bottom surfaces are opened. A substantially rectangular shaft groove 90 a into which the moving shaft 56 is inserted is formed on the side wall of the connection fitting 90. The shaft groove 90 a has a width slightly larger than the shaft diameter of the moving shaft 56, and when the moving shaft 56 is inserted into the shaft groove 90 a, the advance / retreat bar 54 rotates around the moving shaft 56. It becomes possible to move. In addition, an engagement hole 90 b into which an engagement shaft 56 a formed on the moving shaft 56 is inserted is formed on the back wall of the connection fitting 90. The engagement hole 90b is a long hole that is long in the vertical direction. When the engaging shaft 56a of the moving shaft 56 is inserted into the engaging hole 90b, the position of the connecting metal 90, and consequently the position of the advance / retreat bar 54 connected to the connecting metal 90 relative to the moving shaft 56, and the moving axis The rotation range around 56 is restricted.

移動軸56は、カセット48の配設方向に延びる軸で、カセット48の長尺方向に移動可能な軸である(図2参照)。移動軸56の端部は、カムや歯車からなる伝達機構を介してモータに接続されており、このモータの駆動より進退可能となっている。一本の移動軸56には、複数の進退バー54が連結されており、当該一本の移動軸56を移動させることで、複数の進退バー54を同時に進退させることができる。移動軸56には、この複数の進退バー54の取付位置を示す係合軸56aが所定間隔で突設されている。この係合軸56aは、既述したとおり、連結金具90の係合孔90bに挿入される。なお、当然ながら、この係合軸56aの配設ピッチは、複数のカセット48の配設ピッチに対応している。   The moving shaft 56 is an axis that extends in the arrangement direction of the cassette 48 and is movable in the longitudinal direction of the cassette 48 (see FIG. 2). The end of the moving shaft 56 is connected to a motor via a transmission mechanism including a cam and a gear, and can be advanced and retracted by driving the motor. A plurality of advance / retreat bars 54 are connected to one moving shaft 56, and by moving the one move shaft 56, the plurality of advance / retreat bars 54 can be advanced / retracted simultaneously. Engagement shafts 56a indicating the attachment positions of the plurality of advance / retreat bars 54 are projected from the moving shaft 56 at predetermined intervals. As described above, the engagement shaft 56a is inserted into the engagement hole 90b of the connection fitting 90. Needless to say, the arrangement pitch of the engaging shafts 56a corresponds to the arrangement pitch of the plurality of cassettes 48.

[流動制御動作]
次に、この流動制御機構52によるカセット48の内部における液体の流動制御の動作について説明する。図7は、進退バー54による流動制御の内容を示す図であり、カセット48周辺の横断面図である。また、図8は、進退バー54の動きを示す図であり、カセット周辺の縦断面図である。図7、図8では、支持段部82など、微小な部材の作用を明確にするために、各部の縮尺を実際とは代えて図示している。また、図8では、理解を容易にするために支持段部82の図示を省略している。
[Flow control operation]
Next, the liquid flow control operation in the cassette 48 by the flow control mechanism 52 will be described. FIG. 7 is a diagram showing the contents of flow control by the advance / retreat bar 54, and is a cross-sectional view around the cassette 48. FIG. 8 is a view showing the movement of the advance / retreat bar 54 and is a longitudinal sectional view around the cassette. In FIGS. 7 and 8, the scale of each part is illustrated instead of the actual scale in order to clarify the action of a minute member such as the support step part 82. Moreover, in FIG. 8, illustration of the support step part 82 is abbreviate | omitted for easy understanding.

既述したとおり、収容空間72の底面の周囲には、部分的に、プレート46を支持する支持段部82が形成されている。この支持段部82に、サンプルを担持したプレート46が載置されることにより、プレート46と収容空間72の底面との間には液体が排出穴76に向かって流れる流動空間85が形成される。また、収容空間72の底面の周囲のうち、支持段部82が形成されていない部分には、当該流動空間85に連通された液逃げ路83が形成される。この液逃げ路83および流動空間85を通じてカセット48に供給された液体が、排出穴76へと至る。   As described above, the support step portion 82 that supports the plate 46 is partially formed around the bottom surface of the accommodation space 72. By placing the plate 46 carrying the sample on the support step portion 82, a flow space 85 in which the liquid flows toward the discharge hole 76 is formed between the plate 46 and the bottom surface of the storage space 72. . Further, a liquid escape passage 83 communicating with the flow space 85 is formed in a portion around the bottom surface of the storage space 72 where the support step portion 82 is not formed. The liquid supplied to the cassette 48 through the liquid escape path 83 and the flow space 85 reaches the discharge hole 76.

進退バー54は、図8に図示するように、収容空間72の内部において、カセット48長手方向に進退する。この進退の速度や繰り返し速度などは目的や、供給される液体の種類などに応じて、適宜、調整される。また、進退バー54の可動範囲も、進退の目的などに応じて微妙に異なる。   As shown in FIG. 8, the advance / retreat bar 54 advances / retreats in the longitudinal direction of the cassette 48 inside the accommodation space 72. The advancing / retreating speed and the repetition speed are appropriately adjusted according to the purpose and the type of liquid to be supplied. Also, the movable range of the advance / retreat bar 54 is slightly different depending on the purpose of advancement / retraction.

ここで、この進退バー54の進退は、次の三つの目的で行われる。一つ目は、プレート46上面に供給された試薬を、プレート46のほぼ全面、換言すれば、当該プレート46で担持されているサンプル全面に展開させる目的である。ハイブリダイゼーション処理では、サンプルである核酸に、プローブ液と呼ばれる試薬を供給する。このプローブ液は、高価であることから、大量供給はされず、比較的、少量のみがプレート46上に滴下される。しかし、少量のプローブ液は、滴下されただけの状態では、当該滴下位置に留まり、サンプルの全面に広がりにくい。そして、その結果、一部のサンプルにプローブ液が行き渡らず、正常な反応が得られないという問題があった。   Here, the advance / retreat of the advance / retreat bar 54 is performed for the following three purposes. The first purpose is to spread the reagent supplied to the upper surface of the plate 46 over almost the entire surface of the plate 46, in other words, the entire surface of the sample carried by the plate 46. In the hybridization process, a reagent called a probe solution is supplied to a nucleic acid that is a sample. Since this probe solution is expensive, it is not supplied in a large amount and only a relatively small amount is dropped on the plate 46. However, a small amount of the probe solution remains at the dropping position when it is just dropped, and hardly spreads over the entire surface of the sample. As a result, there is a problem that the probe solution does not reach a part of the sample and a normal reaction cannot be obtained.

進退バー54は、このプローブ液のように通常状態ではサンプル全面に広がりにくい液体を、強制的に流動させてサンプル全面に展開するために用いられる。すなわち、図7(a)に図示するように、進退バー54は、本体部54aと本体部54aより大径の大径部54bを備えているため、当該進退バー54をプレート46上に配した際には、本体部54aとプレート46上面との間に常に僅かな間隙である液体保持空間55が形成される。この進退バー54が、展開を要する試薬の滴下位置まで移動すると、表面張力により当該試薬が液体保持空間55に保持される。そして、この液体を保持した状態で、進退バー54がプレート46上で移動を続けると、保持された試薬も移動することになる。これにより、少量滴下された試薬がプレート46のほぼ全面に展開され、全サンプルに試薬が行き渡る。その結果、適切なサンプルの反応を促すことができる。   The advance / retreat bar 54 is used to forcibly flow a liquid that is difficult to spread over the entire surface of the sample in a normal state, such as the probe liquid, and to spread the liquid over the entire surface of the sample. That is, as shown in FIG. 7A, the advance / retreat bar 54 includes a main body portion 54a and a large-diameter portion 54b having a larger diameter than the main body portion 54a. At this time, a liquid holding space 55 that is always a slight gap is formed between the main body 54 a and the upper surface of the plate 46. When the advance / retreat bar 54 moves to the dropping position of the reagent that needs to be developed, the reagent is held in the liquid holding space 55 by the surface tension. Then, when the advance / retreat bar 54 continues to move on the plate 46 with this liquid held, the held reagent also moves. As a result, a small amount of the dropped reagent is spread on almost the entire surface of the plate 46, and the reagent is distributed to all the samples. As a result, an appropriate sample reaction can be promoted.

なお、この液展開目的で進退バー54を進退させる場合、当該進退バー54は、プレート46からはみ出ない範囲、すなわち、図8におけるE1の範囲で進退させる。これは、進退バー54が、範囲E1を超えた位置まで移動した際に、液体保持空間55に保持されていた試薬が落下することを防止するためである。   When the advancing / retreating bar 54 is advanced / retreated for the purpose of liquid development, the advancing / retreating bar 54 is advanced / retreated in a range that does not protrude from the plate 46, that is, a range E1 in FIG. This is to prevent the reagent held in the liquid holding space 55 from dropping when the advance / retreat bar 54 moves to a position beyond the range E1.

また、進退バー54の進退は、カセット48内に供給された試薬の混和を促す目的でも行われる。すなわち、サンプル処理の過程では、複数種類の試薬が同時に供給される場合もある。かかる同時に投与された試薬は、十分に混和されてこそ、その効果が発揮される。また、試薬による所定の反応が完了した後には、カセット48内に洗浄液を供給し、サンプルを洗浄する。このとき、サンプルに残留している試薬と洗浄液とが十分に混和されなければ、十分な洗浄効果は得られない。しかし、ノズル装置12で、試薬や洗浄液を供給しただけでは、試薬同士または試薬と洗浄液とを十分に混和させることは困難であった。そこで、本実施形態では、図7(b)に図示するように、進退バー54を進退させてカセット48内に供給された液体(試薬または洗浄液)に大きな流動を生じさせることで、当該試薬同士または試薬と洗浄液との混和を促している。これにより、試薬や洗浄液の効果をより効果的に発揮させることができ、適切なサンプル処理が可能となる。この場合は、液体保持空間55に保持された液体の落下という問題はないため、進退バー54は、カセット48の一端から他端までの範囲(図8における範囲E2)、より詳しくは、カセット48の一端に形成されたテーパ74部の途中から、吸引口80側端部に形成されたストッパ84近傍まで進退する。   The advance / retreat of the advance / retreat bar 54 is also performed for the purpose of promoting mixing of the reagent supplied in the cassette 48. That is, in the course of sample processing, a plurality of types of reagents may be supplied simultaneously. Such a simultaneously administered reagent can exert its effect only when it is sufficiently mixed. In addition, after a predetermined reaction by the reagent is completed, a cleaning solution is supplied into the cassette 48 to wash the sample. At this time, if the reagent remaining in the sample and the cleaning liquid are not sufficiently mixed, a sufficient cleaning effect cannot be obtained. However, it is difficult to sufficiently mix the reagents or the reagent and the cleaning liquid only by supplying the reagent or the cleaning liquid with the nozzle device 12. Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 7B, the advancing / retreating bar 54 is advanced and retracted to cause a large flow in the liquid (reagent or cleaning liquid) supplied into the cassette 48, thereby allowing the reagents to flow together. Or the mixing of the reagent and the cleaning liquid is promoted. Thereby, the effect of a reagent and a washing | cleaning liquid can be exhibited more effectively, and an appropriate sample process is attained. In this case, since there is no problem of dropping of the liquid held in the liquid holding space 55, the advance / retreat bar 54 is in a range from one end to the other end of the cassette 48 (range E2 in FIG. 8), more specifically, the cassette 48. From the middle of the taper 74 formed at one end of the nozzle, it advances and retreats to the vicinity of the stopper 84 formed at the end on the suction port 80 side.

また、進退バー54の進退は、不要となった液体を排出穴76に積極的に導く排液の促進のためにも行われる。すなわち、本実施形態では、収容空間72の底面に形成された排出穴76を介して不要液体を外部に排出している。このとき、殆どの不要液体は、吸引ノズル16からの負圧、および、重力の影響を受けて、液逃げ路83を通じて、プレート46の下側に形成された流動空間85に流れこみ、さらには、排出穴76、吸引路78、吸引口80を通じて吸引ノズル16により吸引される。しかし、一部の不要液体は、表面張力により、プレート46上面に残留する。このプレート46上に残留した状態では、吸引ノズル16による吸引が行えない。本実施形態では、図7(c)に図示するように、進退バー54を進退させることで、このプレート46上に残留した不要液体を積極的に流動させて、収容空間72の隅に形成される液逃げ路83などを通じて、流動空間85に送り込んでいる。これにより、より確実に、不要液体を排出することができ、この後に供給される他の液体の汚染等を防止できる。なお、この場合の進退バー54の可動範囲は、液体の混和を目的とした進退と同様に、カセット48の一端から他端までの範囲(図8における範囲E2)、すなわち、カセット48の一端に形成されたテーパ74部の途中から、吸引口80側端部に形成されたストッパ84近傍までの範囲である。   Further, the advance / retreat of the advance / retreat bar 54 is also performed for promoting drainage that actively guides the liquid that is no longer needed to the drain hole 76. That is, in the present embodiment, the unnecessary liquid is discharged to the outside through the discharge hole 76 formed in the bottom surface of the accommodation space 72. At this time, most of the unnecessary liquid flows under the influence of the negative pressure from the suction nozzle 16 and gravity, and flows into the flow space 85 formed on the lower side of the plate 46 through the liquid escape path 83. The suction nozzle 16 sucks through the discharge hole 76, the suction path 78, and the suction port 80. However, some unnecessary liquid remains on the upper surface of the plate 46 due to surface tension. In the state of remaining on the plate 46, suction by the suction nozzle 16 cannot be performed. In the present embodiment, as shown in FIG. 7C, the advancing / retreating bar 54 is advanced and retracted to actively flow the unnecessary liquid remaining on the plate 46 and formed at the corner of the accommodation space 72. It is sent to the fluid space 85 through a liquid escape passage 83 or the like. Thereby, an unnecessary liquid can be discharged | emitted more reliably and the contamination of the other liquid supplied after this can be prevented. In this case, the movable range of the advancing / retreating bar 54 is the same as the advancing / retreating for the purpose of mixing the liquid in the range from one end of the cassette 48 to the other end (range E2 in FIG. 8), that is, at one end of the cassette 48. This is a range from the middle of the formed taper 74 to the vicinity of the stopper 84 formed at the suction port 80 side end.

この排液時における進退バー54の動きについて図8を用いてより詳細に説明する。図なお、以下の説明では、進退バー54の可動範囲E2のうち、吸引口80側端部を終端、反対側端部(テーパ74が形成されている側の端部)を始端と呼ぶ。図8(a)に図示するように、カセット48内に不要液体Lが大量に存在している際には、吸引ノズル16からの負圧、および、重力により、不要液体Lは、液逃げ路83を通じて、流動空間85に流れこみ、さらに、排出穴76へと導かれる。そして、この吸引ノズル16の負圧および重力による作用で、大部分の不要液体Lは外部へと排出される。つまり、大部分の不要液体Lは、進退バー54を進退させなくても、排出させることができる。   The movement of the advance / retreat bar 54 during the drainage will be described in more detail with reference to FIG. In the following description, in the movable range E2 of the advance / retreat bar 54, the end on the suction port 80 side is referred to as the end, and the opposite end (the end on the side where the taper 74 is formed) is referred to as the start. As shown in FIG. 8A, when a large amount of unnecessary liquid L is present in the cassette 48, the unnecessary liquid L is caused to escape from the liquid by the negative pressure from the suction nozzle 16 and gravity. It flows into the flow space 85 through 83 and is further guided to the discharge hole 76. And most unnecessary liquid L is discharged | emitted outside by the effect | action by the negative pressure of this suction nozzle 16, and gravity. That is, most of the unnecessary liquid L can be discharged without moving the advance / retreat bar 54 back and forth.

しかし、図8(b)に図示するように、この吸引ノズル16の負圧および重力による排液の過程で、一部の不要液体Lは、プレート46上に残留することがある。このプレート46上に残留した不要液体Lは、吸引ノズル16の負圧や重力では、排出穴76には流れ込まず、そのままプレート46上に残留してしまう。そこで、本実施形態では、カセット48内の不要液体Lの液面レベルが、プレート46上面より低くなるタイミングで、進退バー54を、プレート46の長手方向に進退させている。すなわち、当該進退バー54に連結された移動軸56をプレート46長手方向に進退させている。   However, as shown in FIG. 8B, some unnecessary liquid L may remain on the plate 46 in the process of draining due to the negative pressure of the suction nozzle 16 and gravity. The unnecessary liquid L remaining on the plate 46 does not flow into the discharge hole 76 due to the negative pressure of the suction nozzle 16 or gravity, and remains on the plate 46 as it is. Therefore, in this embodiment, the advance / retreat bar 54 is advanced and retracted in the longitudinal direction of the plate 46 at a timing when the level of the unnecessary liquid L in the cassette 48 becomes lower than the upper surface of the plate 46. That is, the moving shaft 56 connected to the advance / retreat bar 54 is advanced and retracted in the longitudinal direction of the plate 46.

進退バー54は、まず、始端から終端に向かって移動する。この移動により、進退バー54が、不要液体Lの残留位置まで移動すると、当該残留した不要液体Lが進退バー54により押圧される。この押圧により、残留した不要液体Lの一部は、プレート46上面から、プレート46の外側に押し出され、流動空間85へと流れ込む(図7(c)参照)。   The advance / retreat bar 54 first moves from the start end toward the end. When the advance / retreat bar 54 moves to the remaining position of the unnecessary liquid L by this movement, the remaining unnecessary liquid L is pressed by the advance / retreat bar 54. By this pressing, a part of the remaining unnecessary liquid L is pushed out of the plate 46 from the upper surface of the plate 46 and flows into the flow space 85 (see FIG. 7C).

ここで、効率的な排液のためには、進退バー54に接触した不要液体Lを、積極的にプレート46とカセット48の側壁との間の隙間に落下させる必要がある。換言すれば、進退バー54には、適度な液離れ性が求められる。一方で、進退バー54は、液展開目的でも用いられるため、適度な液保持性能も要求される。この相反する二つの性能を確保するために、本実施形態では、進退バー54の両端を略錘状としている。   Here, for efficient drainage, it is necessary to positively drop the unnecessary liquid L in contact with the advance / retreat bar 54 into the gap between the plate 46 and the side wall of the cassette 48. In other words, the advancing / retreating bar 54 is required to have an appropriate liquid separation property. On the other hand, since the advance / retreat bar 54 is also used for the purpose of liquid deployment, an appropriate liquid holding performance is required. In order to secure these two contradictory performances, in the present embodiment, both ends of the advance / retreat bar 54 are substantially weight-shaped.

進退バー54の両端に錘状部54cを設けることで、当該進退バー54の端部とプレート46上面との間隙は、外側(側壁側)に向かうにつれ徐々に大きくなる(図7(c)参照)。この場合、進退バー54の端部とプレート46上面との間隙が小さい範囲では、表面張力により当該間隙に液体が保持される。一方、進退バー54の先端に近づき、進退バー54の端部とプレート46上面との間隙が大きくなると、液体の保持性能は低下し、保持されていた液体は落下することになる。つまり、進退バー54の両端を略錘状とすることで、当該進退バー54の大径部54bの近傍では高い液体保持性能を有する一方で、先端に近づくにつれ徐々に液体保持性能が低下していき、高い液離れ性も得られることになる。   By providing weight portions 54c at both ends of the advance / retreat bar 54, the gap between the end of the advance / retreat bar 54 and the upper surface of the plate 46 gradually increases toward the outside (side wall side) (see FIG. 7C). ). In this case, in the range where the gap between the end of the advance / retreat bar 54 and the upper surface of the plate 46 is small, the liquid is held in the gap by the surface tension. On the other hand, when approaching the tip of the advance / retreat bar 54 and the gap between the end of the advance / retreat bar 54 and the upper surface of the plate 46 is increased, the liquid holding performance is lowered, and the held liquid falls. That is, by making both ends of the advance / retreat bar 54 have a substantially weight shape, the liquid retention performance gradually decreases as it approaches the tip while it has high liquid retention performance in the vicinity of the large-diameter portion 54b of the advance / retreat bar 54. As a result, high liquid separability can be obtained.

また、両端が略錘状であるため、進退バー54の先端面はほぼ点状となり、当該進退バー54の先端面とカセット48側壁との対向面積は、極めて小さい。この場合、進退バー54の先端面とカセット48側壁との間に毛細管現象が生じることがなく、高い液離れ性を得ることができる。すなわち、当該進退バー54の両端が、カセット48側壁との対向面積が大きい形状、例えば、円柱形状などであった場合には、毛細管現象により、当該先端面とカセット48側壁との隙間に液体が吸い上げられ、液体が落下しにくくなるという問題が生じる。一方、本実施形態のように、進退バー54の先端面とカセット48側壁との対向面積が小さい場合には、かかる毛細管現象は発生しないため、進退バー54の先端近傍まで移動した液体は、容易に流動空間85に落下することができる。つまり、本実施形態では、進退バー54の両端を円錐形状としているため、液保持性と液離れ性という相反する性能を得ることができる。その結果、液展開および排液のいずれをも良好に行うことができる。なお、本実施形態では、進退バー54の両端を円錐状としているが、先端に近づくにつれて断面積が小さくなる形状であれば、他の形状、例えば、半球状や、錐台形状であってもよい。   Moreover, since both ends are substantially weight-shaped, the front end surface of the advance / retreat bar 54 is substantially point-like, and the facing area between the front end surface of the advance / retreat bar 54 and the side wall of the cassette 48 is extremely small. In this case, capillary action does not occur between the front end surface of the advance / retreat bar 54 and the side wall of the cassette 48, and high liquid separation can be obtained. That is, when both ends of the advancing / retreating bar 54 have a shape with a large area facing the side wall of the cassette 48, for example, a columnar shape, liquid is generated in the gap between the front end surface and the side wall of the cassette 48 due to capillary action. There is a problem that the liquid is sucked up and the liquid is difficult to fall. On the other hand, when the facing area between the front end surface of the advance / retreat bar 54 and the side wall of the cassette 48 is small as in this embodiment, such a capillary phenomenon does not occur, so that the liquid that has moved to the vicinity of the front end of the advance / retreat bar 54 is easy. Can fall into the flow space 85. That is, in this embodiment, since the both ends of the advancing / retreating bar 54 have a conical shape, it is possible to obtain contradictory performances such as liquid retention and liquid separation. As a result, both liquid development and drainage can be performed satisfactorily. In this embodiment, both ends of the advance / retreat bar 54 have a conical shape, but other shapes such as a hemispherical shape or a frustum shape may be used as long as the cross-sectional area decreases toward the tip. Good.

再び、図8に戻り、進退バー54の動きを説明する。既述したとおり、進退バー54による押圧により一部の不要液体Lは、プレート46の外側に押し出されるが、他の一部の不要液体Lは、液展開時(図7(a)参照)と同様の原理で、進退バー54の本体部54aとプレート46上面との間隙である液体保持空間55に保持される。そして、この保持された不要液体Lは、進退バー54とともに移動する。この液体保持空間55で不要液体Lを保持した状態のまま、進退バー54は、終端まで移動する。終端位置まで運ばれた不要液体Lの一部は、図8(c)に図示するように、プレート46とカセット48の側壁との間にできる僅かな隙間に落下し、流動空間85へと流れ込む。   Returning to FIG. 8 again, the movement of the advance / retreat bar 54 will be described. As described above, a part of the unnecessary liquid L is pushed out of the plate 46 by the pressing by the advance / retreat bar 54, but the other part of the unnecessary liquid L is in a liquid deployment state (see FIG. 7A). Based on the same principle, the liquid is held in the liquid holding space 55 which is a gap between the main body 54 a of the advance / retreat bar 54 and the upper surface of the plate 46. Then, the held unnecessary liquid L moves together with the advance / retreat bar 54. While the unnecessary liquid L is held in the liquid holding space 55, the advance / retreat bar 54 moves to the end. A part of the unnecessary liquid L carried to the end position falls into a slight gap formed between the plate 46 and the side wall of the cassette 48 and flows into the flow space 85 as shown in FIG. .

終端まで移動した進退バー54は、移動方向を逆転し、今度は、始端に向かって移動する。この終端から始端までの移動の途中でも、既述した進退バー54による押圧により残留した不要液体Lの一部は、プレート46上面から、プレート46の外側に押し出され、流動空間85へと流れ込む。また、他の不要液体は、進退バー54の本体部54aとプレート46上面との間に形成される液体保持空間55で保持され、進退バー54とともに始端まで移動する。ここで、図8から明らかなとおり、可動範囲E2の始端は、プレート46の端部より外側にあり、収容空間72の一端に形成されたテーパ74部の途中に位置している。したがって、この始端まで移動した進退バー54は、プレート46から離れることになる。その結果、液体保持空間55に保持されていた不要液体Lは、プレート46とカセット48側壁(テーパ74部)との間に形成される隙間に落下し、流動空間85へと流れ込む。   The advance / retreat bar 54 that has moved to the end reverses the direction of movement, and this time moves toward the start end. Even during the movement from the terminal end to the starting end, a part of the unnecessary liquid L remaining by the pressing by the advance / retreat bar 54 described above is pushed out from the upper surface of the plate 46 to the outside of the plate 46 and flows into the flow space 85. The other unnecessary liquid is held in the liquid holding space 55 formed between the main body 54 a of the advance / retreat bar 54 and the upper surface of the plate 46, and moves to the start end together with the advance / retreat bar 54. Here, as is apparent from FIG. 8, the start end of the movable range E <b> 2 is located outside the end portion of the plate 46, and is located in the middle of the taper 74 portion formed at one end of the accommodation space 72. Therefore, the advancing / retreating bar 54 that has moved to the starting end moves away from the plate 46. As a result, the unnecessary liquid L held in the liquid holding space 55 falls into a gap formed between the plate 46 and the side wall (taper 74 portion) of the cassette 48 and flows into the flow space 85.

ところで、進退バー54は、移動軸56を中心に回動可能に当該移動軸56に連結されている。また、可動範囲E2の始端は、収容空間72の一端に形成されたテーパ74部の途中に位置している。換言すれば、進退バー54は、当該テーパ74部に当接する位置まで移動することになる。テーパ74部に当接した進退バー54は、図8(d)に図示するように、当該テーパ74部に押され、移動軸56を中心に回動し、上方へと移動する。つまり、収容空間72の一端にテーパ74部(斜面)を形成するとともに、進退バー54を当該テーパ74部に当接する位置まで移動させることにより、進退バー54は自動的に上方へ案内され、移動することになる。この上方への移動により、進退バー54に付着していた不要液体Lが、より落下しやすくなる。その結果、より確実な排液が可能となる。   By the way, the advance / retreat bar 54 is connected to the movement shaft 56 so as to be rotatable about the movement shaft 56. The starting end of the movable range E <b> 2 is located in the middle of the taper 74 formed at one end of the accommodation space 72. In other words, the advance / retreat bar 54 moves to a position where it abuts against the taper 74 portion. As shown in FIG. 8D, the advance / retreat bar 54 in contact with the taper 74 is pushed by the taper 74, rotates about the moving shaft 56, and moves upward. That is, the taper 74 part (slope) is formed at one end of the accommodation space 72 and the advance / retreat bar 54 is automatically guided upward by moving the advance / retreat bar 54 to a position where it abuts against the taper 74 part. Will do. This upward movement makes it easier for the unnecessary liquid L attached to the advance / retreat bar 54 to fall. As a result, more reliable drainage is possible.

始端まで移動した進退バー54は、再び、移動方向を逆転させて、終端へと移動する。そして、何度か、この始端から終端、そして、終端から始端までの進退動作を繰り返すことで排液が完了される。   The advance / retreat bar 54 that has moved to the start end again moves in the reverse direction and moves to the end. Then, the drainage is completed by repeating the advancing and retreating operation from the start end to the end and from the end to the start end several times.

以上の説明で明らかなとおり、本実施形態の進退バー54は、両端を、先端に近づくにつれて断面積が小さくなる形状としているため、液離れ性と液保持性という相反する効果を発揮することができ、液展開および排液のいずれをも好適に実現することができる。また、収容空間72の一端にテーパ74(斜面)を形成するとともに、進退バー54を当該テーパ74に当接する位置まで移動させることにより、排液時の排液性をより向上させることができ、後に供給される他の液体の汚染等の問題を防止できる。   As is clear from the above description, the advancing / retreating bar 54 of the present embodiment has a shape in which the cross-sectional area becomes smaller as it approaches the tip, so that it can exhibit the contradictory effects of liquid separation and liquid retention. Both liquid development and drainage can be suitably realized. Further, by forming a taper 74 (slope) at one end of the storage space 72 and moving the advance / retreat bar 54 to a position where it abuts against the taper 74, the drainage performance during drainage can be further improved. Problems such as contamination of other liquids to be supplied later can be prevented.

[カセット台]
次に、カセット台50について説明する。図9は、カセット台50の上面図である。このカセット台50は、複数(本実施形態では10個)のカセット48が設置されるサンプルトレイであり、処理槽22に対して着脱自在となっている。具体的には、このカセット台50は、処理槽22の内部に立脚する載置柱92(図2参照)に載置されるが、必要に応じて、当該載置柱92から取り外すことができる。したがって、ユーザは、当該カセット台50へのカセット48の設置やカセット台50からのカセット48の取り外しなどといった複雑な作業は、処理槽22の外側の広い空間で行うことができ、ユーザの作業性を向上できる。
[Cassette stand]
Next, the cassette stand 50 will be described. FIG. 9 is a top view of the cassette table 50. The cassette base 50 is a sample tray on which a plurality of (in this embodiment, ten) cassettes 48 are installed, and is detachable from the processing tank 22. Specifically, the cassette base 50 is mounted on a mounting column 92 (see FIG. 2) that stands on the inside of the processing tank 22, but can be removed from the mounting column 92 as necessary. . Accordingly, the user can perform complicated operations such as installation of the cassette 48 on the cassette table 50 and removal of the cassette 48 from the cassette table 50 in a wide space outside the processing tank 22. Can be improved.

このカセット台50は、略平板状のベース部94と当該ベース部94の両端を略90度に屈曲させて形成される側壁部96とに大別される。側壁部96には、カセット48が係止される係止孔96aが所定ピッチで複数形成されている。この係止孔96aは、ベース部94から係止孔96aまでの高さがカセット台50の高さより大きくなる位置に形成されている。したがって、当該係止孔96aに係止されたカセット台50の底面とベース部94との間には、一定の間隙が形成さるようになっている。これは、後述する蒸気孔94aが、カセット台50で塞がれることを防止するためである。   The cassette base 50 is roughly divided into a substantially flat base portion 94 and side wall portions 96 formed by bending both ends of the base portion 94 at approximately 90 degrees. A plurality of locking holes 96a for locking the cassette 48 are formed in the side wall portion 96 at a predetermined pitch. The locking hole 96 a is formed at a position where the height from the base portion 94 to the locking hole 96 a is larger than the height of the cassette base 50. Therefore, a certain gap is formed between the bottom surface of the cassette base 50 locked in the locking hole 96a and the base portion 94. This is to prevent a later-described steam hole 94a from being blocked by the cassette base 50.

ベース部94には、複数の蒸気孔94aが形成されている。この蒸気孔94aは、当該カセット台50の下側に配される保湿トレイ60から生じる蒸気を通過させるための孔である。すなわち、蒸気による加湿は、カセット48に収容されたサンプルの乾燥を防止する目的で行われる。したがって、好適なサンプル処理を行うためには、発生した蒸気をサンプルの周囲まで十分に行き渡らせることが必要となる。そのため、保湿トレイ60から生じる蒸気を迂回させることなく、カセット48周辺、換言すればサンプル周辺まで行き渡らせるために、本実施形態では、カセット台50のベース部94に蒸気孔94aを形成している。これにより、保湿トレイ60で生じた蒸気がサンプル周辺まで到達しやすく、効率的に加湿することができる。また、本実施形態では、より効率的に加湿するために、各蒸気孔94aが互いに隣接するカセット48同士の間に位置するべく、当該複数の蒸気孔94aのピッチを、カセット48の配設ピッチと等しくしている。また、記述したとおり、カセット48はベース部94から浮いた状態で設置される。その結果、蒸気孔94aを通過した蒸気の進行が、カセット48の底面で阻害されることがなく、より効率的な加湿が可能となる。   A plurality of steam holes 94 a are formed in the base portion 94. The steam hole 94a is a hole through which steam generated from the moisture keeping tray 60 disposed on the lower side of the cassette table 50 passes. That is, humidification with steam is performed for the purpose of preventing drying of the sample stored in the cassette 48. Therefore, in order to perform suitable sample processing, it is necessary to sufficiently distribute the generated vapor to the periphery of the sample. Therefore, in the present embodiment, the vapor hole 94a is formed in the base portion 94 of the cassette base 50 in order to distribute the vapor generated from the moisture retention tray 60 to the periphery of the cassette 48, in other words, the sample periphery, without diverting the vapor. . Thereby, the steam generated in the moisture retention tray 60 can easily reach the periphery of the sample and can be humidified efficiently. Further, in the present embodiment, in order to humidify more efficiently, the pitch of the plurality of steam holes 94a is set to the arrangement pitch of the cassettes 48 so that the steam holes 94a are positioned between the cassettes 48 adjacent to each other. Are equal. Further, as described, the cassette 48 is installed in a state of floating from the base portion 94. As a result, the progress of the steam that has passed through the steam hole 94a is not hindered by the bottom surface of the cassette 48, and more efficient humidification is possible.

ベース部94の四隅には、載置柱92の上端面から突出する位置決ピン92a(図2参照)が挿入される位置決孔94bが形成されている。この位置決孔94bに、位置決ピン92aが挿入されるように当該カセット台50を載置柱92に載置すれば、処理槽22内におけるカセット台50の位置決めがなされる。また、位置決ピン92aと位置決孔94bとが互いに係止することで、載置柱92からのカセット台50の脱落も防止されるようになっている。   Positioning holes 94b into which positioning pins 92a (see FIG. 2) projecting from the upper end surface of the mounting column 92 are inserted are formed at the four corners of the base portion 94. If the cassette base 50 is mounted on the mounting column 92 so that the positioning pins 92a are inserted into the positioning holes 94b, the cassette base 50 is positioned in the processing tank 22. Further, the positioning pin 92a and the positioning hole 94b are locked to each other, so that the cassette base 50 is prevented from dropping from the mounting column 92.

[保湿機構]
次に保湿機構について図1、図2を参照して説明する。保湿機構は、保湿液を貯留する保湿トレイ60を備えている。この保湿トレイ60は、伝熱性材料、例えば、アルミなどからなる深皿状部材で、処理槽22の底部に載置、換言すれば、カセット台50の下側に載置される。この保湿トレイ60は、伝熱性部材として機能する伝熱フレーム70を介してペルチェユニット64に接続されている。ペルチェユニット64は、温度調整手段を構成するユニットで、加熱および冷却が可能となっている。このペルチェユニット64で加熱が行われると、当該ペルチェユニット64で生じた熱が伝熱部材である伝熱フレーム70を通じて保湿トレイ60に伝達される。そして、この伝熱により、保湿トレイ60内の保湿液が加熱され蒸気が生じ、処理槽22の内部が加湿される仕組みとなっている。そして、この加湿により、サンプルの乾燥や変質が防止され、好適な状態でサンプル処理を行うことができる。
[Moisturizing mechanism]
Next, the moisturizing mechanism will be described with reference to FIGS. The moisturizing mechanism includes a moisturizing tray 60 that stores moisturizing liquid. The moisturizing tray 60 is a deep plate-like member made of a heat transfer material, such as aluminum, and is placed on the bottom of the processing tank 22, in other words, placed on the lower side of the cassette table 50. The moisturizing tray 60 is connected to the Peltier unit 64 via a heat transfer frame 70 that functions as a heat transfer member. The Peltier unit 64 is a unit that constitutes temperature adjusting means, and can be heated and cooled. When the Peltier unit 64 is heated, the heat generated in the Peltier unit 64 is transmitted to the moisture retention tray 60 through the heat transfer frame 70 that is a heat transfer member. And by this heat transfer, the moisturizing liquid in the moisturizing tray 60 is heated to generate steam, and the inside of the processing tank 22 is humidified. The humidification prevents the sample from being dried or altered, and the sample can be processed in a suitable state.

ところで、従来のサンプル処理装置でも、処理槽22の内部の加湿は行われていた。しかし、従来のサンプル処理装置の多くは、処理槽22の外部において保湿液を加熱した上で、当該保湿液を管体等で処理槽22の内部に搬送することで加湿する構成であった(例えば、特開2003−57250号公報など)。この場合、保湿液の搬送途中の温度変化による蒸気の消失や、管体を通じての搬送であるため大量の保湿液を送り込みにくいなどといった問題があった。また、保湿液搬送用の管体を処理槽22に組み込まなければならず、処理槽22の構成を複雑にしていた。さらに、処理槽22外部で保湿液を加熱する場合、処理槽22の内部を加熱するための熱源と、保湿液加熱用の熱源と、を別個に用意する必要があり、構成の複雑化、高コスト化を招いていた。   By the way, even in the conventional sample processing apparatus, the inside of the processing tank 22 has been humidified. However, most of the conventional sample processing apparatuses have a configuration in which the moisturizing liquid is heated outside the processing tank 22 and then humidified by transporting the moisturizing liquid into the processing tank 22 by a tubular body or the like ( For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-57250 etc.). In this case, there are problems such as disappearance of steam due to a temperature change during the transportation of the moisturizing liquid and difficulty in feeding a large amount of the moisturizing liquid because of the transportation through the tube. In addition, the tube for transporting the moisturizing liquid has to be incorporated into the processing tank 22, which complicates the configuration of the processing tank 22. Furthermore, when the moisturizing liquid is heated outside the processing tank 22, it is necessary to separately prepare a heat source for heating the inside of the processing tank 22 and a heat source for heating the moisturizing liquid. The cost was invited.

一方、本実施形態では、処理槽22の内部で、保湿液を加熱し、蒸気を発生させる構成となっている。そのため、蒸気が発生してからサンプルに到達するまでの間に温度変化は殆ど生じず、蒸気が消失することがない。また、保湿トレイ60の全面から蒸気が発生するため、大面積で大量の蒸気を生成することが可能である。   On the other hand, in the present embodiment, the moisturizing liquid is heated inside the processing tank 22 to generate steam. Therefore, the temperature hardly changes between the generation of the vapor and the arrival of the sample, and the vapor is not lost. Further, since steam is generated from the entire surface of the moisture retaining tray 60, a large amount of steam can be generated in a large area.

さらに、処理槽22の温度を調整する温度調整機構の熱源を蒸気生成用の熱源として利用しているため、蒸気生成のために専用の熱源を設ける必要がなく、処理槽ユニット14の構成を簡易化でき、また、コストを低減できる。   Furthermore, since the heat source of the temperature adjustment mechanism that adjusts the temperature of the processing tank 22 is used as a heat source for generating steam, there is no need to provide a dedicated heat source for generating steam, and the configuration of the processing tank unit 14 is simplified. And cost can be reduced.

[温度調整機構]
次に、温度調整機構について図1、図2を参照して説明する。温度調整機構は、処理槽22の蓋部26の内部に設けられた蓋側ヒータ62と、処理槽22の槽本体部24の底部に設けられたペルチェユニット64、および、ペルチェユニット64と処理槽22内部とを接続する伝熱部材と、で構成される。このうち、蓋側ヒータ62については、後述する[処理槽]において詳説するため、ここでの詳説は省略する。
[Temperature adjustment mechanism]
Next, the temperature adjustment mechanism will be described with reference to FIGS. The temperature adjustment mechanism includes a lid heater 62 provided inside the lid portion 26 of the processing tank 22, a Peltier unit 64 provided at the bottom of the tank body 24 of the processing tank 22, and the Peltier unit 64 and the processing tank. 22 and a heat transfer member that connects the inside. Among these, the lid-side heater 62 will be described in detail in [Processing tank] to be described later, and thus detailed description thereof will be omitted.

ペルチェユニット64は、ペルチェ素子64a(二種類の金属をつないで電流を流すと、一方の金属が冷却され他方の金属が熱くなる素子で、電流の正逆切り替え通電により冷・熱面が反転する)や、ファン(図示せず)、ヒートシンク64b、伝熱部64cなどで構成されるユニットで、熱源および冷却源として機能する。ペルチェユニット64は、処理槽22の内側面を構成する伝熱フレーム70に接続されており、この伝熱フレーム70を介して、処理槽22の内部との間で熱交換を行うことで、処理槽22の内部を加熱または冷却する。ここで、図1および図2から明らかなとおり、伝熱フレーム70は、処理槽22内部に配設された複数のサンプルすべてを取り囲むように配置されている。かかる伝熱フレーム70を介して、処理槽22内部とペルチェユニット64との熱交換が行われることで、サンプルの周囲を均等に、かつ、効率的に加熱または冷却することができる。   The Peltier unit 64 is a Peltier element 64a (an element in which one metal is cooled and the other metal is heated when a current is passed by connecting two kinds of metals, and the cold / hot surface is reversed by switching the current between forward and reverse. ), A fan (not shown), a heat sink 64b, a heat transfer section 64c, and the like, and functions as a heat source and a cooling source. The Peltier unit 64 is connected to a heat transfer frame 70 that constitutes the inner surface of the processing tank 22, and performs heat exchange with the inside of the processing tank 22 via the heat transfer frame 70, thereby processing the Peltier unit 64. The inside of the tank 22 is heated or cooled. Here, as is clear from FIGS. 1 and 2, the heat transfer frame 70 is disposed so as to surround all of the plurality of samples disposed in the processing tank 22. The heat exchange between the inside of the processing tank 22 and the Peltier unit 64 is performed via the heat transfer frame 70, so that the periphery of the sample can be heated or cooled evenly and efficiently.

[処理槽]
最後に処理槽22について説明する。図1、図2に図示するとおり、処理槽22は、サンプルを保温状態で保持する槽であり、槽本体部24と蓋部26とに大別される。槽本体部24は、サンプルが配される保温空間28を形成する凹部を備えている。この槽本体部24の内側面は、伝熱材料例えばアルミなどからなり、ペルチェユニット64で生じた熱を保湿トレイ60や処理槽22の内部に伝達する伝熱フレーム70を構成する。この伝熱フレーム70は、既述したとおり、ペルチェユニット64に物理的に接続されている。また、槽本体部24の外側面と内側面との間には、断熱部材(図1、図2において砂目で図示)が充填されており、当該処理槽22の保温性を確保している。
[Treatment tank]
Finally, the processing tank 22 will be described. As illustrated in FIGS. 1 and 2, the processing tank 22 is a tank that holds a sample in a heat-retaining state, and is roughly divided into a tank body 24 and a lid 26. The tank body 24 includes a recess that forms a heat retaining space 28 in which the sample is arranged. The inner side surface of the tank body 24 is made of a heat transfer material such as aluminum, and constitutes a heat transfer frame 70 that transfers heat generated in the Peltier unit 64 to the inside of the moisture retaining tray 60 and the processing tank 22. As described above, the heat transfer frame 70 is physically connected to the Peltier unit 64. Moreover, between the outer side surface and inner side surface of the tank main-body part 24, the heat insulation member (illustrated with the grain in FIG. 1, FIG. 2) is filled, and the heat retention of the said processing tank 22 is ensured. .

蓋部26は、ヒンジ100を介して槽本体部24に取り付けられており、当該槽本体部24に対して開閉自在となっている。また、蓋部26の底面(槽本体部24に対向する面)には、弾性材料からなるシール部材102が取り付けられており、当該蓋部26を閉鎖した際に、保温空間28を密閉できるようになっている。   The lid 26 is attached to the tank body 24 via the hinge 100 and can be opened and closed with respect to the tank body 24. Further, a sealing member 102 made of an elastic material is attached to the bottom surface of the lid portion 26 (the surface facing the tank body portion 24), so that the heat insulation space 28 can be sealed when the lid portion 26 is closed. It has become.

ここで、サンプル処理中は、温度や湿度の急変によるサンプルおよび試薬の変質や劣化を防止するために、蓋部26を閉じて保温空間28を密閉状態に保つ必要があるが、その一方で、サンプル処理のためには、ノズル装置12のノズル16を保温空間28の内部に挿入する必要がある。そこで、本実施形態では、蓋部26を閉じたままでもノズル16の保温空間28内への挿入を可能とするために、蓋部26にノズル16の通過を許容するノズル用小孔38を形成するとともに、当該ノズル用小孔38を開閉するシャッタ体32を設けている。これについて図10を参照して説明する。図10は、図2におけるA部の拡大図で、図10(a)はノズル用小孔38を開けた際の、図10(b)はノズル用小孔38を閉じた際の様子を示している。本実施形態の蓋部26は、固定蓋30と、当該固定蓋30に対してスライド移動可能なシャッタ体32と、に大別される。固定蓋30は、さらに、蓋部26の上面に配される外ケース104と、蓋部26の底部に配される内ケース106と、に大別される。シャッタ体32は、この外ケース104と内ケース106との間に配置される。   Here, during sample processing, in order to prevent deterioration and deterioration of the sample and reagent due to sudden changes in temperature and humidity, it is necessary to close the lid portion 26 and keep the heat insulation space 28 in a sealed state, For sample processing, it is necessary to insert the nozzle 16 of the nozzle device 12 into the heat retaining space 28. Therefore, in the present embodiment, in order to allow the nozzle 16 to be inserted into the heat retaining space 28 even when the lid portion 26 is closed, a small nozzle hole 38 that allows passage of the nozzle 16 is formed in the lid portion 26. In addition, a shutter body 32 for opening and closing the nozzle small hole 38 is provided. This will be described with reference to FIG. FIG. 10 is an enlarged view of a portion A in FIG. 2, FIG. 10A shows a state when the nozzle hole 38 is opened, and FIG. 10B shows a state when the nozzle hole 38 is closed. ing. The lid portion 26 of the present embodiment is roughly classified into a fixed lid 30 and a shutter body 32 that can slide with respect to the fixed lid 30. The fixed lid 30 is further roughly divided into an outer case 104 disposed on the upper surface of the lid portion 26 and an inner case 106 disposed on the bottom portion of the lid portion 26. The shutter body 32 is disposed between the outer case 104 and the inner case 106.

外ケース104は、蓋部26の外側面を構成する部材で、樹脂または金属からなる外層104a、断熱材からなる断熱層104b、樹脂からなる樹脂層104cの三層構造となっている。この外ケース104と内ケース106との境界部分には樹脂体112が配されており、両者は熱的に遮断される(図2参照)。外ケース104には、ノズル16の通過を許容する複数のノズル用小孔38aが形成されている。このノズル用小孔38aは、処理槽22内部に配されるカセット48の長軸方向に長尺な長孔で、当該処理槽22内におけるカセット48の配設ピッチと等ピッチで形成されている。したがって、各ノズル用小孔38の長軸は、対応するカセット48の真上に位置するようになっている。   The outer case 104 is a member constituting the outer surface of the lid portion 26, and has a three-layer structure of an outer layer 104a made of resin or metal, a heat insulating layer 104b made of heat insulating material, and a resin layer 104c made of resin. A resin body 112 is disposed at a boundary portion between the outer case 104 and the inner case 106, and both are thermally blocked (see FIG. 2). The outer case 104 is formed with a plurality of small nozzle holes 38 a that allow the nozzle 16 to pass therethrough. The nozzle small holes 38a are long holes extending in the long axis direction of the cassette 48 disposed in the processing tank 22, and are formed at a pitch equal to the arrangement pitch of the cassettes 48 in the processing tank 22. . Accordingly, the long axis of each nozzle small hole 38 is positioned directly above the corresponding cassette 48.

内ケース106は、蓋部26の底部を構成する部材で、アルミ等の伝熱材料からなる。この内ケース106にも、ノズル16の通過を許容する複数のノズル用小孔38bが形成されており、その形状や配設ピッチ等は、外ケース104のノズル用小孔38aと同じである。ここで、内ケース106は、保温空間28内に露出する部材である。この保温空間28内に露出する内ケース106を伝熱性の高い伝熱材料で構成することにより、保温空間28内の温度を均等にすることができる。さらに、この内ケース106の上面には、蓋側ヒータ62が配置されている(図1、図2参照)。蓋側ヒータ62は、既述のペルチェユニット64とともに温度調整機構を構成する加熱手段である。この蓋側ヒータ62は、複数のノズル用小孔38全てを取り囲むべく略ロ字形状となっている。この蓋側ヒータ62で生じた熱は、伝熱材料からなる内ケース106の全面に伝達され、保温空間28を均等かつ効率的に加熱する。   The inner case 106 is a member constituting the bottom portion of the lid portion 26 and is made of a heat transfer material such as aluminum. The inner case 106 is also formed with a plurality of small nozzle holes 38 b that allow the nozzle 16 to pass through, and the shape, arrangement pitch, and the like are the same as the small nozzle holes 38 a of the outer case 104. Here, the inner case 106 is a member exposed in the heat retaining space 28. By configuring the inner case 106 exposed in the heat insulation space 28 with a heat transfer material having a high heat transfer property, the temperature in the heat insulation space 28 can be made uniform. Further, a lid-side heater 62 is disposed on the upper surface of the inner case 106 (see FIGS. 1 and 2). The lid-side heater 62 is a heating means that constitutes a temperature adjustment mechanism together with the Peltier unit 64 described above. The lid-side heater 62 has a substantially square shape so as to surround all of the plurality of nozzle small holes 38. The heat generated by the lid heater 62 is transmitted to the entire surface of the inner case 106 made of a heat transfer material, and heats the heat retaining space 28 evenly and efficiently.

シャッタ体32は、外ケース104と内ケース106との間に配置される部材である。このシャッタ体32は、固定蓋30に対してスライド移動するシャッタ本体108、および、当該シャッタ本体108をスライド駆動させるシャッタ駆動機構110に大別される。   The shutter body 32 is a member disposed between the outer case 104 and the inner case 106. The shutter body 32 is roughly divided into a shutter main body 108 that slides with respect to the fixed lid 30 and a shutter drive mechanism 110 that slides the shutter main body 108.

シャッタ本体108は、ノズル用小孔38に対応して複数のシャッタ開口40が形成された部材であって、固定蓋30である内ケース106および外ケース104に対してスライド移動することでノズル用小孔38を開閉する部材である。このシャッタ本体108に形成されたシャッタ開口40の形状や配設ピッチ等は、内ケース106および外ケース104に形成されたノズル用小孔38とほぼ同じである。処理槽22の内部にノズル16が挿入する必要がない場合には、図10(b)に図示するように、当該シャッタ開口40がノズル用小孔38から外れた位置になるべくシャッタ本体108を移動させる。これにより、ノズル用小孔38が閉鎖され、外部への熱や蒸気の流出が防止される。また、処理槽22の内部にノズル16を挿入する場合には、図10(a)に図示するように当該シャッタ開口40がノズル用小孔38と同位置に重なるべくシャッタ本体108を移動させる。これにより、ノズル用小孔38が開放され、当該ノズル用小孔38を介してノズル16を処理槽22の内部に進入させることができる。このとき、蓋部26自体は、閉鎖状態であり、処理槽22の内部(保温空間28)と処理槽22の外部との接触面積はノズル用小孔38の面積に限定される。その結果、保温空間28の温度や湿度の急変が最低限に抑えられ、サンプルや試薬等の変質や劣化を防止できる。   The shutter main body 108 is a member in which a plurality of shutter openings 40 are formed corresponding to the nozzle small holes 38, and is slid with respect to the inner case 106 and the outer case 104, which are the fixed lid 30, for the nozzle. It is a member that opens and closes the small hole 38. The shape and arrangement pitch of the shutter openings 40 formed in the shutter main body 108 are substantially the same as those of the nozzle small holes 38 formed in the inner case 106 and the outer case 104. When the nozzle 16 does not need to be inserted into the processing tank 22, the shutter main body 108 is moved so that the shutter opening 40 is located away from the nozzle hole 38 as shown in FIG. Let Thereby, the small hole 38 for nozzles is closed and the outflow of the heat and vapor | steam outside is prevented. Further, when the nozzle 16 is inserted into the processing tank 22, the shutter main body 108 is moved so that the shutter opening 40 overlaps with the nozzle small hole 38 as shown in FIG. As a result, the small nozzle hole 38 is opened, and the nozzle 16 can enter the inside of the processing tank 22 through the small nozzle hole 38. At this time, the lid 26 itself is in a closed state, and the contact area between the inside of the processing tank 22 (the heat retaining space 28) and the outside of the processing tank 22 is limited to the area of the nozzle small hole 38. As a result, sudden changes in the temperature and humidity of the heat retaining space 28 can be minimized, and alteration and deterioration of samples and reagents can be prevented.

ここで、ノズル用小孔38を閉鎖した状態(図10(b)の状態)、すなわち、ノズル用小孔38をシャッタ本体108で覆った状態の場合、当該ノズル用小孔38を介してシャッタ本体108の上面が処理槽22の外部に、シャッタ本体108の底面が処理槽22の内部に、それぞれ、露出することになる。換言すれば、ノズル用小孔38を閉鎖した場合、当該ノズル用小孔38の形成位置においては、処理槽22内部と処理槽22外部との間には、シャッタ本体108しか介在しないことになる。このとき、シャッタ本体108が、十分な断熱構成を有していない場合、当該シャッタ本体108を通じて、処理槽22の内外での熱交換が行われてしまい、処理槽22内部の温度を一定に保つことができない。そこで、本実施形態では、このシャッタ本体108を断熱構成としている。具体的には、シャッタ本体108は、内ケース106側から順に、伝熱材料からなる伝熱層108a、断熱材からなる肉厚の断熱層108b、および、樹脂からなる樹脂層108cの三層構造となっている。このように、シャッタ本体108に肉厚の断熱層108bを設けることで、シャッタ本体108の断熱性を確保することができ、ノズル用小孔38を閉鎖した際にも、処理槽22の保温性を十分確保することができる。また、本実施形態では、シャッタ本体108の底面を、伝熱材料からなる伝熱層108aとしている。この場合、記述の蓋側ヒータ62で生じた熱が、この伝熱層108bにも伝達され、処理槽22の内部をより均等に加熱することができる。   Here, when the small nozzle hole 38 is closed (the state shown in FIG. 10B), that is, when the small nozzle hole 38 is covered with the shutter main body 108, the shutter is opened via the small nozzle hole 38. The upper surface of the main body 108 is exposed outside the processing tank 22, and the bottom surface of the shutter main body 108 is exposed inside the processing tank 22. In other words, when the nozzle small hole 38 is closed, only the shutter main body 108 is interposed between the inside of the processing tank 22 and the outside of the processing tank 22 at the position where the nozzle small hole 38 is formed. . At this time, if the shutter main body 108 does not have a sufficient heat insulation structure, heat exchange is performed inside and outside the processing tank 22 through the shutter main body 108, and the temperature inside the processing tank 22 is kept constant. I can't. Therefore, in the present embodiment, the shutter main body 108 has a heat insulating configuration. Specifically, the shutter main body 108 has, in order from the inner case 106 side, a three-layer structure of a heat transfer layer 108a made of a heat transfer material, a thick heat insulating layer 108b made of a heat insulating material, and a resin layer 108c made of a resin. It has become. Thus, by providing the thick heat insulating layer 108b on the shutter main body 108, the heat insulating property of the shutter main body 108 can be ensured, and the heat retaining property of the processing tank 22 can be maintained even when the nozzle hole 38 is closed. Can be secured sufficiently. In the present embodiment, the bottom surface of the shutter main body 108 is a heat transfer layer 108a made of a heat transfer material. In this case, the heat generated in the described lid-side heater 62 is also transmitted to the heat transfer layer 108b, so that the inside of the processing tank 22 can be heated more evenly.

さらに、本実施形態では、このシャッタ本体108の上面、すなわち、樹脂層の上面に、結露により当該シャッタ本体108の上面等に付着した水を貯留する結露用凹部108dを形成している。すなわち、本実施形態では、シャッタ本体108の内部に多量の断熱材を充填し、十分な断熱性を確保している。しかし、その場合であっても、処理槽22内部と外部との温度差に起因する結露によりシャッタ本体108の上面等に水が付着する場合がある。シャッタ本体108の上面等に水が付着した状態のまま、当該シャッタ本体108を、閉鎖状態から開放状態になるべく移動させると、外ケース104のノズル用小孔38aの周縁により、当該水が一箇所に集められる。そして、最終的には、当該水が、シャッタ本体108のシャッタ開口40から処理槽22内部に落下する場合がある。かかる結露により生じた水の処理槽22内部への落下を防止するために、本実施形態では、シャッタ本体108の上面のうちシャッタ開口40の近傍に、結露で生じた水を貯留する結露用凹部108dを設けている。かかる結露用凹部108dを設けることにより、外ケース104のノズル用小孔38aの周縁で集められた水は、シャッタ開口40から落下する前に、当該結露用凹部108dに落下し貯留される。その結果、処理槽22内部への水の落下が防止され、サンプルや試薬の汚染等の問題が防止される。   Further, in the present embodiment, a condensation recess 108d for storing water adhering to the upper surface of the shutter main body 108 due to condensation is formed on the upper surface of the shutter main body 108, that is, the upper surface of the resin layer. That is, in the present embodiment, a large amount of heat insulating material is filled in the shutter main body 108 to ensure sufficient heat insulating properties. However, even in such a case, water may adhere to the upper surface of the shutter main body 108 or the like due to condensation caused by a temperature difference between the inside and outside of the treatment tank 22. When the shutter main body 108 is moved from the closed state to the open state with the water adhering to the upper surface of the shutter main body 108 or the like, the water is moved to one place by the peripheral edge of the nozzle small hole 38a of the outer case 104. To be collected. Finally, the water may fall into the treatment tank 22 from the shutter opening 40 of the shutter main body 108. In the present embodiment, in order to prevent the water generated by the condensation from falling into the treatment tank 22, in the upper surface of the shutter main body 108, a condensation recess for storing water generated by the condensation in the vicinity of the shutter opening 40. 108d is provided. By providing the condensate recess 108d, the water collected at the peripheral edge of the nozzle hole 38a of the outer case 104 is dropped and stored in the condensate recess 108d before dropping from the shutter opening 40. As a result, water is prevented from falling into the processing tank 22, and problems such as sample and reagent contamination are prevented.

このシャッタ本体108は、蓋部26の端部に設置されたシャッタ駆動機構110(図2参照)により内ケース106および外ケース104に対して進退自在となっている。シャッタ駆動機構110は、駆動源であるモータと、当該モータに接続されたギヤやカム等の伝達機構からなり、このモータの回転方向を正逆反転させることで、シャッタの移動方向を反転させることができる。   The shutter body 108 can be moved forward and backward with respect to the inner case 106 and the outer case 104 by a shutter driving mechanism 110 (see FIG. 2) installed at the end of the lid portion 26. The shutter drive mechanism 110 includes a motor as a drive source and a transmission mechanism such as a gear or a cam connected to the motor, and reverses the moving direction of the shutter by reversing the rotation direction of the motor. Can do.

[まとめ]
以上の説明から明らかなとおり、本実施形態によれば、サンプルを担持したプレート46を収容するカセット48を特殊形状としているため、当該カセット48内に供給された液体の排液性能を簡易な構成で向上させることができる。また、プレート46上で進退する進退バー54の構成、特に、両端の形状を特殊形状とすることで、液保持性と液離れ性という相反する性能を両立させることができ、より好適なサンプル処理が可能となる。
[Summary]
As is clear from the above description, according to the present embodiment, the cassette 48 that accommodates the plate 46 that carries the sample has a special shape, so that the drainage performance of the liquid supplied into the cassette 48 can be simplified. Can be improved. In addition, the configuration of the advance / retreat bar 54 that advances and retreats on the plate 46, in particular, by making the shape of both ends into a special shape, it is possible to achieve both contradictory performances of liquid retention and liquid separation, and more suitable sample processing. Is possible.

本発明の実施形態であるサンプル処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the sample processing apparatus which is embodiment of this invention. 処理槽ユニット周辺の断面図である。It is sectional drawing of a processing tank unit periphery. カセットの斜視図である。It is a perspective view of a cassette. 他の方向からみたカセットの斜視図である。It is a perspective view of the cassette seen from the other direction. 図3におけるB−B断面図である。It is BB sectional drawing in FIG. 流動制御機構の側面図および正面図である。It is the side view and front view of a flow control mechanism. 流動制御の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of flow control. 進退バーの動きを示す図である。It is a figure which shows the motion of an advance / retreat bar. カセット台の上面図および断面図である。It is the upper side figure and sectional drawing of a cassette stand. 図2におけるA部拡大図である。It is the A section enlarged view in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10 サンプル処理装置、12 ノズル装置、14 処理槽ユニット、15 制御部、16 ノズル、22 処理槽、24 槽本体部、26 蓋部、28 保温空間、30 固定蓋、32 シャッタ体、38 ノズル用小孔、40 シャッタ開口、46 プレート、48 カセット、50 カセット台、52 流動制御機構、54 進退バー、56 移動軸、60 保湿トレイ、62 蓋側ヒータ、64 ペルチェユニット、70 伝熱フレーム、74 テーパ、76 排出穴、80 吸引口、82 支持段部、84 ストッパ、92 載置柱、94a 蒸気孔、104 外ケース、106 内ケース、108 シャッタ本体、108d 結露用凹部。   10 sample processing apparatus, 12 nozzle apparatus, 14 processing tank unit, 15 control section, 16 nozzle, 22 processing tank, 24 tank main body section, 26 lid section, 28 heat insulation space, 30 fixed lid, 32 shutter body, 38 small for nozzle Hole, 40 shutter opening, 46 plate, 48 cassette, 50 cassette base, 52 flow control mechanism, 54 advance / retreat bar, 56 moving shaft, 60 moisture retention tray, 62 lid side heater, 64 Peltier unit, 70 heat transfer frame, 74 taper, 76 discharge hole, 80 suction port, 82 support step, 84 stopper, 92 mounting column, 94a steam hole, 104 outer case, 106 inner case, 108 shutter body, 108d condensate for condensation.

Claims (12)

プレート上に担持されたサンプルに対して、既定の液体の供給を含む所定の処理を施すサンプル処理装置であって、
前記サンプルを担持したプレートを収容する収容空間を形成するサンプル容器と、
前記プレートの上に配された進退バーを所定の範囲内で進退させることで、前記サンプル容器に供給された液体の流動状態を制御する流動制御機構と、
を備え、
前記サンプル容器は、前記可動範囲の端部に相当する位置に形成された斜面であって、当接した進退バーを上方に案内する斜面を有することを特徴とするサンプル処理装置。
A sample processing apparatus for performing a predetermined process including a predetermined liquid supply on a sample carried on a plate,
A sample container forming an accommodation space for accommodating the plate carrying the sample;
A flow control mechanism for controlling the flow state of the liquid supplied to the sample container by moving the advance / retreat bar disposed on the plate within a predetermined range; and
With
The sample processing apparatus according to claim 1, wherein the sample container has an inclined surface formed at a position corresponding to an end of the movable range and guides the advancing / retracting bar that is in contact upward.
請求項1に記載のサンプル処理装置であって、
前記サンプル容器は、
上端面に形成され、吸引ノズルが挿入される吸引口と、
前記収容空間の底面に形成され、サンプル容器に供給された液体を外部に排出する排出穴と、
吸引口と排出穴とを接続する吸引路と、
を備えることを特徴とするサンプル処理装置。
The sample processing apparatus according to claim 1,
The sample container is
A suction port formed on the upper end surface and into which the suction nozzle is inserted;
A discharge hole formed on the bottom surface of the storage space and for discharging the liquid supplied to the sample container to the outside;
A suction path connecting the suction port and the discharge hole;
A sample processing apparatus comprising:
請求項2に記載のサンプル処理装置であって、
前記吸引口は、上側に向かって広がる略錘状であり、
前記吸引ノズルは、先端が前記吸引口の下端に線接触する略球状であることを特徴とするサンプル処理装置。
The sample processing apparatus according to claim 2,
The suction port has a substantially spindle shape that spreads upward,
The sample processing apparatus according to claim 1, wherein the suction nozzle has a substantially spherical shape whose tip is in line contact with the lower end of the suction port.
請求項2または3に記載のサンプル処理装置であって、
前記サンプル容器は、部分的に形成された段部であって、前記プレートが載置されることで、前記収容空間の底面との間に間隙を確保した状態で当該プレートを支持する支持段部を備えることを特徴とするサンプル処理装置。
The sample processing apparatus according to claim 2 or 3,
The sample container is a partially formed step, and a support step that supports the plate in a state where a gap is secured between the plate and the bottom surface of the accommodation space. A sample processing apparatus comprising:
請求項2から4のいずれか1項に記載のサンプル処理装置であって、
前記サンプル容器は、前記プレートの載置位置を既定する位置決用壁を備えることを特徴とするサンプル処理装置。
The sample processing apparatus according to any one of claims 2 to 4,
The sample processing apparatus according to claim 1, wherein the sample container includes a positioning wall that defines a mounting position of the plate.
請求項1から5のいずれか1項に記載のサンプル処理装置であって、
前記流動制御機構は、
進退方向に直交する方向に長尺な進退バーと、
進退方向に移動する移動軸と、
進退バーを、前記移動軸を中心として回動可能に当該移動軸に連結する連結手段と、
を備えることを特徴とするサンプル処理装置。
The sample processing apparatus according to any one of claims 1 to 5,
The flow control mechanism is
An advancing / retracting bar that is long in a direction perpendicular to the advancing / retreating direction;
A moving axis that moves in the forward and backward directions,
A connecting means for connecting the advance / retreat bar to the movement shaft so as to be rotatable about the movement axis;
A sample processing apparatus comprising:
請求項6に記載のサンプル処理装置であって、
複数のサンプルを同時処理する場合には、
複数のサンプル容器が前記移動軸の軸方向に配設されるとともに、一つの移動軸に前記複数のサンプル容器に対応して複数の進退バーが連結されることを特徴とするサンプル処理装置。
The sample processing apparatus according to claim 6,
When processing multiple samples at the same time,
A sample processing apparatus, wherein a plurality of sample containers are arranged in an axial direction of the moving shaft, and a plurality of advance / retreat bars are connected to one moving shaft corresponding to the plurality of sample containers.
請求項1から7のいずれか1項に記載のサンプル処理装置であって、
進退バーの両端は、先端に近づくほど断面積が小さくなる形状であることを特徴とするサンプル処理装置。
The sample processing apparatus according to any one of claims 1 to 7,
A sample processing apparatus characterized in that both ends of the advancing / retreating bar have a shape in which a cross-sectional area becomes smaller as approaching the tip.
請求項8に記載のサンプル処理装置であって、
進退バーの両端は、略錘状、または、略球状であることを特徴とするサンプル処理装置。
The sample processing apparatus according to claim 8, wherein
A sample processing apparatus characterized in that both ends of the advancing / retreating bar have a substantially pyramid shape or a substantially spherical shape.
請求項1から9のいずれか1項に記載のサンプル処理装置であって、
前記進退バーは、本体部と前記本体部より大径の大径部とを有し、
前記大径部がプレート上面に接触することにより、本体部と当該プレート上面との間に間隙が確保されることを特徴とするサンプル処理装置。
The sample processing apparatus according to any one of claims 1 to 9,
The advance / retreat bar has a main body part and a large diameter part larger in diameter than the main body part,
A sample processing apparatus characterized in that a gap is secured between the main body and the upper surface of the plate when the large diameter portion contacts the upper surface of the plate.
既定の液体の供給を含む所定の処理が施されるべくプレート上に担持されたサンプルを収容するサンプル容器であって、
前記サンプル容器は、前記プレートの上で進退する進退バーの可動範囲の端部に相当する位置に形成された斜面であって、当接した進退バーを上方に案内する斜面を有することを特徴とするサンプル容器。
A sample container containing a sample carried on a plate to be subjected to a predetermined process including a predetermined liquid supply,
The sample container has a slope that is formed at a position corresponding to an end of a movable range of an advance / retreat bar that advances and retreats on the plate, and that guides the abutting advance / retreat bar upward. Sample container to do.
サンプルを担持したプレートの上に配された進退バーを進退させることで、当該プレートを収容したサンプル容器に供給された液体の流動状態を制御する流動制御機構であって、
前記進退バーの両端は、先端に近づくほど断面積が小さくなる形状であることを特徴とする流動制御機構。
A flow control mechanism for controlling the flow state of the liquid supplied to the sample container containing the plate by moving the advance / retreat bar arranged on the plate carrying the sample,
The flow control mechanism according to claim 1, wherein both ends of the advance / retreat bar have a shape in which a cross-sectional area becomes smaller toward the tip.
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