JP2004329136A - Treating vessel and treating apparatus - Google Patents

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JP2004329136A
JP2004329136A JP2003131080A JP2003131080A JP2004329136A JP 2004329136 A JP2004329136 A JP 2004329136A JP 2003131080 A JP2003131080 A JP 2003131080A JP 2003131080 A JP2003131080 A JP 2003131080A JP 2004329136 A JP2004329136 A JP 2004329136A
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JP
Japan
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processing
tank
liquid
processing tank
processing unit
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Pending
Application number
JP2003131080A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takayoshi Furusawa
孝良 古澤
Hiromichi Kondo
裕道 近藤
Yasuharu Imazeki
康晴 今関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Aloka Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a treating vessel capable of rapidly and easily feeding a treating liquid to two or more supporters to which a material to be treated is attached; and to provide a treating apparatus. <P>SOLUTION: The treating apparatus has the treating vessel 2 having two or more treating parts 4 for allowing the treating liquid to be inserted into the interior, and arranged through partitions 2, and treating the material to be treated by installing the supporters to which the material to be treated is attached in each of the treating parts 4, and a tilting structure for tilting or leveling the treating vessel 2. The treating vessel 2 has functions for allowing the treating liquid fed to the interior to communicate with each other in a state of the treating part 4 tilted in a prescribed direction, and for distributing the fed treating liquid to each treating part 4 when the treating vessel is returned to the horizontal state from the tilted state. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理槽および処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば、核酸(RNA、DNA)に対するハイブリダイゼーション等の処理を行なう場合には、プレート(支持体)上に、核酸(被処理物)を付着させ、かかる核酸に処理液を供給して(接触させて)処理することが行なわれる。
【0003】
このような核酸と処理液とを接触させる方法としては、各支持体上に処理液を滴下して、さらに、この上から展開部材を重ね合わせ、それらの間に形成された隙間に処理液を展開させることにより、核酸と処理液とを接触させる。
【0004】
従来の処理槽および処理装置は、カバープレート(展開部材)560を、被処理物を付着させたプレート(支持体)PであるマイクロアレイMに重ね合わせ、このマイクロアレイMとの間に形成される隙間569に、前記被処理物を処理する処理液を展開させるものである(例えば、特許文献1参照)。なお、ここで使用した符号は、特許文献1に記載の符号である。
【0005】
しかしながら、前記のサンプル処理槽および処理装置では、複数のマイクロアレイ(プレート)を処理する場合、分注装置等を用いて各マイクロアレイに個別に処理液を滴下しなければならないため、時間がかかるという問題があった。
【0006】
【特許文献1】
特開2003−57245号公報(図3)
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、被処理物を付着させた複数の支持体に対し、処理液を迅速かつ容易に供給することができる処理槽および処理装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記(1)〜(14)の本発明により達成される。
【0009】
(1) 内部に処理液を入れる処理部が隔壁を介して複数個並べて配置され、前記各処理部に被処理物を付着させた支持体を設置して処理する処理槽であって、
前記処理部を所定方向に傾けた状態では、内部に供給された前記処理液が1つに導通し、その状態から前記処理部を水平な状態にすると、供給された前記処理液が前記各処理部に配分されることを特徴とする処理槽。
【0010】
(2) 内部に処理液を入れる長尺形状の処理部が隔壁を介して複数個並べて配置され、前記各処理部に被処理物を付着させた支持体を設置して処理する処理槽であって、
前記処理部の一端が上昇するように前記処理槽を傾けた状態では、内部に供給された前記処理液が前記各隔壁を越えて1つに導通し、その状態から前記処理部を水平な状態にすると、供給された前記処理液が前記各処理部に配分されることを特徴とする処理槽。
【0011】
(3) 前記隔壁が設けられた内槽と、
前記内槽を収納し得る外槽とを有し、
前記内槽の前記各処理部に対応する部分の底面に開口部がそれぞれ設けられており、
前記支持体は、前記内槽の底面と前記外槽の底面との間に設置され、前記支持体の前記被処理物が付着した部分が前記開口部からそれぞれ露出する上記(1)または(2)に記載の処理槽。
【0012】
(4) 前記処理液を供給および/または排出するための孔が少なくとも1つ設けられている上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の処理槽。
【0013】
(5) 前記各処理部の底面と、前記処理槽を前記傾けた状態のときに最も下方に位置する側面との間にテーパー面が形成されている上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の処理槽。
【0014】
(6) 前記隔壁は、前記テーパー面側と反対に位置する側面から前記テーパー面の途中まで形成されている上記(5)に記載の処理槽。
【0015】
(7) 前記処理部の底面に、前記支持体が前記処理槽に対して移動するのを防止する位置決め手段を有している上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の処理槽。
【0016】
(8) 上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の処理槽と、
前記処理槽を前記傾けた状態と、水平な状態とに変位させる傾斜機構とを備えることを特徴とする処理装置。
【0017】
(9) 前記処理液を排出するときは、前記傾斜機構により前記処理槽を傾けて排出する上記(8)に記載の処理装置。
【0018】
(10) 前記傾斜機構は、基台と、
前記基台に対し前記処理槽の回転中心となるヒンジ結合部と、
前記ヒンジ結合部を用いて前記処理槽を回動させるための回動手段とを有している上記(8)または(9)に記載の処理装置。
【0019】
(11) 前記被処理物を付着させた部分および/または前記処理部を洗浄するために、供給された洗浄液を前記傾斜機構の作動により前記処理部内で撹拌して前記被処理物を付着させた部分および/または前記処理部を洗浄する上記(8)ないし(10)のいずれかに記載の処理装置。
【0020】
(12) 前記処理液は、前記被処理物と反応し得る反応液である上記(8)ないし(11)のいずれかに記載の処理装置。
【0021】
(13) 前記被処理物は、核酸である上記(8)ないし(12)のいずれかに記載の処理装置。
【0022】
(14) 前記処理液は、前記核酸と反応し得るプローブを含む液体である上記(13)に記載の処理装置。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の処理槽および処理装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
【0024】
なお、以下では、被処理物の一例として、核酸(DNA、cDNA、RNA等)を代表とし、この核酸(核酸断片)をプレート(支持体)に散点状に付着させたマイクロアレイ(DNAチップ)を処理するマイクロアレイ処理装置に、本発明の処理装置を適用した場合について説明する。
【0025】
また、処理液(反応液)の一例として、被験者から採取された核酸(例えばmRNA、DNA等)、または、この核酸を基に合成されたもの(例えばcDNA等)を標識(例えば、色素、蛍光物質、放射性物質等により標識)した物質を含む液(以下、「プローブ液」と言う。)を代表に説明する。
【0026】
ここでいう処理とは、好ましくは、プレートに散点状に付着させた核酸と、プローブ液中に含まれる核酸またはプローブとをハイブリダイゼーションさせることをいう。
【0027】
<第1実施形態>
図1および図2は、本発明の処理装置の実施形態を示す全体構成図である。なお、以下では、説明の都合上、図1(図2も同様)中の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言う。
【0028】
図1および図2に示す処理装置1は、処理槽2と、処理槽2を傾けた状態とほぼ水平な状態とに変位させる傾斜機構3とを有している。
【0029】
なお、本発明の処理装置1では、処理槽2を、図示しない密閉可能な密閉槽内に収納し、温度および湿度を管理した環境下で処理を行なうことが好ましい。
【0030】
以下、各部の構成について説明する。
傾斜機構3は、基台33と、ヒンジ(ヒンジ結合部)31と、エアシリンダ(回動手段)32とを有している。ヒンジ31は、基台33と、処理槽2の底板(底面)21とを回動可能に結合する機構である。エアシリンダ32は、その長手方向の両端部がそれぞれ基台33と底板21とに回動可能に結合されている。傾斜機構3は、エアシリンダ32を伸縮させることにより、ヒンジ31を回転中心として基台33に対し処理槽2を傾けたり、水平にしたりする。処理装置1は、傾斜機構3により、処理槽2内にプローブ液(処理液)Rを供給するときに処理槽2を傾け、そのプローブ液Rを核酸(被処理物)Sに反応させるときに処理槽2を水平にする。
【0031】
この処理装置1によれば、核酸Sとプローブ液Rとを反応させるとともに、各種液体等により核酸Sを処理することができる。そして、核酸Sの反応結果からは、例えば、遺伝子DNA(核酸)の変異解析、多型解析、塩基配列解析、発現解析(存在の有無)、さらに、これらに基づいて各種疾患の診断等を、好適に行なうことができる。
【0032】
なお、ヒンジ31を回転中心として処理槽2を回動させる回動手段としては、エアシリンダ32に限らず、例えば、モータ駆動、歯車機構等であってもよい。さらに、傾斜機構3は、ヒンジ31を利用するものに限らず、処理槽2を傾斜した姿勢に変位させることができる機構であれば、いかなる構造のものでもよい。
【0033】
図3は、本発明の処理槽の第1実施形態を示す斜視図である。図4は、処理槽2を傾斜機構3により傾け、処理槽2内にプローブ液Rを給排液口221から供給したときの図3のA−A線断面図である。図5は、図4の状態の処理槽2を傾斜機構3により、水平にしたときの図3のA−A線断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図3(図4、5、6も同様)中の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言う。ただし、図3(図4、5、6、7、8も同様)中の核酸Sは、説明上、その大きさを誇張して描いている。
【0034】
図3に示す処理槽2は、底板21と、側壁22と、テーパー面(傾斜面)23と、処理槽2の内部を複数の空間に仕切る隔壁24とを有している。本実施形態の処理槽2は、これらの各部が一体的に成形された構成になっているが、処理槽2は、複数の部材を組み合わせて構成されていてもよい。
側壁22は、底板21の外周部に全周に渡り形成されている。
【0035】
隔壁24は、本実施形態では、2つ設けられており、間隔をおいて互いに平行に配置されている。これらの隔壁24により、処理槽2の内部空間は、3つの空間に仕切られており、これらの各空間は、プローブ液Rを入れる処理部4を構成している。
【0036】
なお、本発明では、処理部4の個数は、特に限定されず、3つ以上の隔壁24を設けることによって4つ以上の処理部4が設けられていてもよい。
【0037】
これらの処理部4は、隔壁24に直交する方向に並んでいる。また、各処理部4の領域の形状は、並んだ方向と直交する方向に長い長尺形状(細長い形状)をなしている。そして、傾斜機構3によって処理槽2を傾けたときには、処理部4の一端(図3中の右側)が他端(図3中の左側)より高い位置に上昇する。
【0038】
底板21は、処理部4の底部を構成している。図4に示すように、各処理部4における底板21の上方の面には、プレートPに対応する形状の凹部(位置決め手段)211が形成されている。この凹部211内にプレートPを設置することにより、プレートPを底板21に位置決めでき、処理槽2を傾けたときでもプレートPの位置がずれるのをより確実に防止することができる。
【0039】
側壁22には、1つの給排液口(孔)221が設けられている。この給排液口221から、プローブ液Rを供給したり、排出したりすることができる。従来は、各処理部ごとに給排液口を設けなければならなかった。しかし、本発明では、後述するように、各処理部4間でプローブ液Rが行き来できるため、処理槽2は、給排液口221が1つ設けてあれば十分にプローブ液Rを供給したり、排出したりすることができる。
【0040】
底板21と、傾斜機構3により処理槽2を傾けたときに最も下方に位置する側壁22aとの間には、テーパー面(傾斜面)23が形成されている。テーパー面23は、底板21から側壁22aに向かって高さが高くなるように、底板21に対し傾斜している。
【0041】
隔壁24は、テーパー面23側と反対に位置する側壁22bからテーパー面23の途中までに渡って形成されている。換言すれば、側壁22aの付近には、隔壁24が形成されていない隙間25が設けられている。この隙間25は、処理部4間でプローブ液Rを流通させるための通路(通液部)として機能する。
【0042】
図4に示すように、処理装置1は、処理槽2内にプローブ液Rを供給する際には、処理槽2を傾けた状態で、図示しない処理液供給手段により給排液口221を介してプローブ液Rを処理槽2内に送り込む。
【0043】
なお、処理液供給機構としては、たとえば、ポンプにより貯留部に貯留されたプローブ液Rを吸い上げ、そのポンプから管を用いて給排液口221へプローブ液Rを供給する機構があげられる。
【0044】
図4に示す状態では、処理槽4の内部に供給されたプローブ液Rは、隔壁24を越えて1つに導通し、各処理部4に行き渡っている。換言すれば、プローブ液Rは、各処理部4のテーパー面23側の端部(図4中の左側)にある隙間(通路)25を通って、プローブ液Rが相互に移動可能な状態であるため、図4の紙面に直交する方向に1つにつながっている。
【0045】
また、このとき、本実施形態では、テーパー面23を設けたことにより、プローブ液Rがより少ない量で各処理部4に行き渡ることができる。
【0046】
なお、処理装置1は、処理槽2が水平な状態でプローブ液Rを処理槽2内に供給した後に、処理槽2を傾けてもよい。
【0047】
図4に示す状態から処理槽2を水平な姿勢に戻すと、図5に示すように、プローブ液Rは、側壁22bの方へ流れつつ、各処理部4へ配分され、マイクロアレイMを覆う。このマイクロアレイMを覆ったプローブ液Rの水深は、それぞれ同じ高さになる。また、各処理部4は隔壁24によって仕切られているため、図5に示す状態では、プローブ液Rが隔壁24を越えて各処理部4間で移動しない。ただし、このときのプローブ液Rの液面高さは、隙間25の最下部251より下にあることが好ましい。そして、その後の各処理部4内にあるプローブ液Rの量は変化しない。
【0048】
従来では、分注装置等を用いていたため、分注するプローブ液Rの量を定量し、各マイクロアレイMに個別にプローブ液Rを滴下(分注)する必要があった。しかし、処理装置1では、処理槽2を水平にするだけで容易かつ迅速に以下の作動が可能である。まず、傾斜機構3により、処理槽2が傾いている状態で隙間25付近に保持されていた(供給されていた)プローブ液Rは、処理槽2が水平な状態に変位すると各処理部4に配分される。さらに、各処理部4に配分されたプローブ液Rの水深は、同じ深さになっている。ついで、これらそれぞれのプローブ液Rは、隔壁24により各処理部4間を移動しない(移動できない)ので、プローブ液Rの量がそれぞれ一定に保持され、不変である。
【0049】
また、処理装置1において、傾いている処理槽2の中にプローブ液Rが入っている状態で、傾斜機構3により処理槽2を水平にしたとき、プローブ液Rの深さがそれぞれ同じになるので、プローブ液Rは、各処理部4の幅に応じた量が各処理部4に入ってくる。たとえば、各処理部2の幅が等しければ、各処理槽2内に同量のプローブ液Rが入ってくる。
【0050】
図6は、図5の状態の処理槽2を傾斜機構3により図4よりも傾きを大きくしたときの図3のA−A線断面図である。このとき、隙間25付近に集められたプローブ液Rは、給排液口221の全部または一部を覆うため、自然に給排液口221から排出される。このように、プローブ液Rを排出するときは、プローブ液Rを傾斜機構3と、給排液口221とで排出する。換言すると、例えばポンプと管とを用いて処理槽2内のプローブ液Rを処理槽2外へ排出するような機構を設けなくても済むので、装置の小型化、構造の簡素化が図れる。
【0051】
なお、前述したように処理槽2を密閉した環境下におく構成としては、特に限定されないが、例えば、処理槽2に蓋を設け、処理槽2自体に処理槽密閉機能を持たせてもよいし、処理槽2だけでなく、傾斜機構3も含めて密閉槽に収納されているような構成でもよい。
【0052】
核酸Sがプローブ液Rによって反応した部分および処理部4を洗浄するときには、図示しない洗浄液供給手段によって洗浄液を処理槽2に供給する。次いで、傾斜機構3の作動によって処理槽2を繰り返し図1および図2のように変位させる。これにより、処理部4内で洗浄液を撹拌して、この核酸Sがプローブ液Rによって反応した部分および処理槽4を洗浄する。また、洗浄後の洗浄液の排出は、図6と同様に行う。このように、処理部4の洗浄においても、処理装置1は、傾斜機構3の作動を利用して行うことができ、傾斜機構3を多目的に利用するので、構造の合理化が図れる。また、洗浄液の排出においても、処理装置1は、給排液口221により排出できる。換言すると、フラッシング処理機能を有するフラッシング処理機構等を設けなくても済むので、装置の小型化、構造の簡素化が図れる。
【0053】
また、本実施形態では、例えば図3に示すようにテーパー面は、処理槽2(処理部4)の内側のみならず、処理槽2の外側にも形成されているが、処理槽2(処理部4)の内側のみに形成されているようになっていてもよい。
【0054】
<第2実施形態>
図7は、本発明の処理槽の第2実施形態を示す分解斜視図である。なお、以下では、説明の都合上、図7(図8も同様)中の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言う。
【0055】
以下、これらの図を参照して本発明の第2実施形態について説明するが、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
【0056】
本実施形態は、処理槽の構成が異なること以外は前記第1実施形態と同様である。
【0057】
本実施形態の処理槽2Aは、内槽5と、この内槽5を収納し得る外槽6との2つの槽を組み合わせて構成されている点で、前記第1実施形態の処理槽2と異なる。
【0058】
内槽5は、前記第1実施形態の処理槽2とほぼ同様の形状であり、底板(底面)51と、側壁52と、テーパー面53と、内槽2の内部を複数の空間に仕切る隔壁54とを有している。本実施形態の内槽2は、これらの各部が一体的に成形された構成になっているが、内槽2は、複数の部材を組み合わせて構成されていてもよい。
【0059】
底板51は、内槽5の底部を構成しており、開口部511を備えている。開口部511は、後述する処理部4に対応してそれぞれ設けられている。
側壁52は、底板51の外周部に全周に渡り形成されている。
【0060】
底板51と、傾斜機構3により処理槽2Aを傾けたときに最も下方に位置する側壁52aとの間には、テーパー面(傾斜面)53が形成されている。テーパー面53は、底板51から側壁52aに向かって高さが高くなるように、底板51に対し傾斜している。
【0061】
隔壁54は、本実施形態では、2つ設けられており、間隔をおいて互いに平行に配置されている。これらの隔壁54により、内槽5の内部空間は、3つの空間に仕切られており、これらの各空間は、プローブ液Rを入れる処理部4を構成している。また、隔壁54は、テーパー面53側と反対に位置する側壁52bからテーパー面53の途中までに渡って形成されている。換言すれば、側壁52aの付近には、隔壁54が形成されていない隙間55が設けられている。
【0062】
外槽6は、底板(底面)61と、側壁62とを有している。本実施形態の外槽6は、これらの各部が一体的に成形された構成になっているが、外槽6は、複数の部材を組み合わせて構成されていてもよい。
【0063】
底板61は、外槽6の底部を構成している。
側壁62は、底板61の外周部に全周に渡り形成されている。
【0064】
図8は、図7の処理槽2Aの使用状態を示すB−B線断面図である。このとき、プレートPは、内槽5の底板51と外槽6の底板61との間にそれぞれ設置されている。さらに、核酸Sが付着した部分は、開口部511からそれぞれ露出してプローブ液Rに覆われている。本実施形態において、マイクロアレイMを処理するには、開口部511からそれぞれ露出した核酸Sが付着した部分のみプローブ液Rで覆えば十分であり、プレートP全体をプローブ液Rで覆う必要はない。したがって、本実施形態では、開口部511のみプローブ液Rで覆えばよく、プローブ液Rの使用を最小限に抑えることができる。
【0065】
なお、本実施形態では、プレートPが底板51と底板61とで挟持されているので、処理槽2Aを傾けたときであっても、プレートPの位置がずれるのをより確実に防止することができる。すなわち、底板51と底板61とは、プレートPの位置決め手段として機能する。
【0066】
以上、本発明の処理槽および処理装置を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、処理槽および処理装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
【0067】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、被処理物を付着させた複数の支持体に処理液を付与する場合、各支持体に個別に付与する必要はなく、迅速かつ容易に処理液を各支持体に接触させることができる。
【0068】
また、処理槽の構成を、隔壁が設けられた内槽と、その内槽を収納し得る外槽とを有し、内槽の各処理部に対応する部分の底面に開口部がそれぞれ設けられており、複数の支持体は、内槽の底面と外槽の底面との間に設置され、複数の支持体の被処理物が付着した部分が開口部からそれぞれ露出するような構成とした場合には、使用する処理液の量を最小限に抑えることができる。
【0069】
また、処理部の底面と、処理槽を傾けた状態のときに最も下方に位置する側面との間にテーパー面が形成されている処理槽とした場合には、処理槽を傾けたとき処理液がより少ない量で処理部にそれぞれ行き渡ることができる。
【0070】
このようなことから、本発明によれば、例えばガン遺伝子、変異遺伝子等の探索を、より簡便かつ効率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の処理装置の実施形態を示す全体構成図である。
【図2】本発明の処理装置の実施形態を示す全体構成図である。
【図3】本発明の処理槽の第1実施形態を示す斜視図である。
【図4】処理槽2を傾斜機構3により傾け、処理槽2内にプローブ液Rを給排液口221から供給したときの図3のA−A線断面図である。
【図5】図4の状態の処理槽2を傾斜機構3により、水平にしたときの図3のA−A線断面図である。
【図6】図5の状態の処理槽2を傾斜機構3により図4よりも傾きを大きくしたときの図3のA−A線断面図である。
【図7】本発明の処理槽の第2実施形態を示す分解斜視図である。
【図8】図7の処理槽の使用状態を示すB−B線断面図である。
【符号の説明】
1 処理装置
2 処理槽
2A 処理槽
21 底板
211 凹部
22 側壁
22a 側壁
22b 側壁
221 給排液口
23 テーパー面
24 隔壁
25 隙間
251 最下部
3 傾斜機構
31 ヒンジ
32 エアシリンダ
33 基台
4 処理部
5 内槽
51 底板
511 開口部
52 側壁
52a 側壁
52b 側壁
53 テーパー面
54 隔壁
55 隙間
6 外槽
61 底板
62 側壁
M マイクロプレート
P プレート
R プローブ液
S 核酸
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a processing tank and a processing apparatus.
[0002]
[Prior art]
For example, when performing a process such as hybridization for nucleic acids (RNA, DNA), a nucleic acid (object to be treated) is attached to a plate (support), and a treatment solution is supplied to the nucleic acid (contact). Processing) is performed.
[0003]
As a method of bringing the nucleic acid into contact with the treatment liquid, the treatment liquid is dropped on each support, and further, a developing member is overlapped thereon, and the treatment liquid is filled in a gap formed therebetween. By developing, the nucleic acid is brought into contact with the treatment liquid.
[0004]
In the conventional processing tank and processing apparatus, a cover plate (development member) 560 is superimposed on a microarray M which is a plate (support) P to which an object to be processed is attached, and a gap formed between the microarray M and the microarray M. In 569, a processing liquid for processing the object to be processed is developed (for example, see Patent Document 1). Note that the code used here is the code described in Patent Document 1.
[0005]
However, in the above-described sample processing tank and processing apparatus, when processing a plurality of microarrays (plates), it is time-consuming because the processing liquid must be individually dropped on each microarray using a dispenser or the like. was there.
[0006]
[Patent Document 1]
JP-A-2003-57245 (FIG. 3)
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a processing tank and a processing apparatus capable of quickly and easily supplying a processing liquid to a plurality of supports to which an object to be processed is attached.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
Such an object is achieved by the following (1) to (14) of the present invention.
[0009]
(1) A processing tank in which a plurality of processing units for putting a processing liquid therein are arranged side by side through a partition, and a support having an object to be processed attached thereto is installed in each processing unit to perform processing.
In a state where the processing section is tilted in a predetermined direction, the processing liquid supplied therein conducts to one, and when the processing section is brought into a horizontal state from that state, the supplied processing liquid is supplied to each of the processing sections. A treatment tank, wherein the treatment tank is distributed to parts.
[0010]
(2) A processing tank in which a plurality of long processing sections into which a processing solution is to be put are arranged side by side through a partition, and a support on which an object to be processed is attached is installed in each of the processing sections. hand,
In a state where the processing tank is tilted so that one end of the processing unit is raised, the processing liquid supplied to the inside of the processing unit passes through each of the partition walls and conducts to one, and then the processing unit is in a horizontal state. Wherein the supplied processing liquid is distributed to each of the processing units.
[0011]
(3) an inner tank provided with the partition,
Having an outer tank capable of storing the inner tank,
Openings are respectively provided on the bottom surface of a portion corresponding to each processing unit of the inner tank,
The support is provided between the bottom surface of the inner tank and the bottom surface of the outer tank, and the portions of the support to which the object to be processed adhere are exposed from the openings, respectively. ).
[0012]
(4) The processing tank according to any one of (1) to (3), wherein at least one hole for supplying and / or discharging the processing liquid is provided.
[0013]
(5) Any of the above (1) to (4), wherein a tapered surface is formed between a bottom surface of each of the processing units and a lowermost side surface when the processing tank is in the inclined state. The processing tank described in 1.
[0014]
(6) The processing tank according to (5), wherein the partition wall is formed from a side surface located opposite to the tapered surface side to a middle of the tapered surface.
[0015]
(7) The processing tank according to any one of (1) to (6), further including a positioning unit on a bottom surface of the processing unit for preventing the support from moving with respect to the processing tank.
[0016]
(8) The treatment tank according to any one of (1) to (7),
A processing apparatus, comprising: a tilt mechanism that displaces the processing tank between the tilted state and the horizontal state.
[0017]
(9) The processing apparatus according to (8), wherein, when discharging the processing liquid, the processing tank is tilted and discharged by the tilt mechanism.
[0018]
(10) The tilt mechanism includes a base,
A hinge connection portion serving as a rotation center of the processing tank with respect to the base;
The processing apparatus according to the above (8) or (9), further comprising: a rotation unit configured to rotate the processing tank by using the hinge joint.
[0019]
(11) In order to clean the portion to which the object is attached and / or the processing unit, the supplied cleaning liquid is stirred in the processing unit by the operation of the tilting mechanism to attach the object. The processing apparatus according to any one of the above (8) to (10), which cleans a part and / or the processing unit.
[0020]
(12) The processing apparatus according to any one of (8) to (11), wherein the processing liquid is a reaction liquid capable of reacting with the object to be processed.
[0021]
(13) The processing apparatus according to any one of (8) to (12), wherein the object is a nucleic acid.
[0022]
(14) The processing apparatus according to (13), wherein the processing liquid is a liquid containing a probe capable of reacting with the nucleic acid.
[0023]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a processing tank and a processing apparatus of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
[0024]
In the following, a nucleic acid (DNA, cDNA, RNA, etc.) is represented as an example of the object to be treated, and a microarray (DNA chip) in which the nucleic acid (nucleic acid fragment) is attached to a plate (support) in a scattered manner. A case in which the processing apparatus of the present invention is applied to a microarray processing apparatus for processing the above will be described.
[0025]
Further, as an example of the treatment liquid (reaction liquid), a nucleic acid (for example, mRNA, DNA, etc.) collected from a subject, or a nucleic acid (for example, cDNA, etc.) synthesized based on this nucleic acid is labeled (for example, a dye, A liquid containing a substance (labeled with a substance, a radioactive substance, or the like) (hereinafter, referred to as a “probe liquid”) will be described as a representative.
[0026]
The treatment referred to herein preferably refers to hybridization of the nucleic acid adhered to the plate in a scattered manner with the nucleic acid or probe contained in the probe solution.
[0027]
<First embodiment>
1 and 2 are overall configuration diagrams showing an embodiment of the processing apparatus of the present invention. In the following, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 1 (also in FIG. 2) is referred to as “upper” or “upper”, and the lower side is referred to as “lower” or “lower”.
[0028]
The processing apparatus 1 shown in FIGS. 1 and 2 has a processing tank 2 and an inclination mechanism 3 for displacing the processing tank 2 between an inclined state and a substantially horizontal state.
[0029]
In the processing apparatus 1 of the present invention, it is preferable that the processing tank 2 is housed in a hermetically sealed airtight tank (not shown) and the processing is performed in an environment in which temperature and humidity are controlled.
[0030]
Hereinafter, the configuration of each unit will be described.
The tilt mechanism 3 has a base 33, a hinge (hinge joint) 31, and an air cylinder (rotating means) 32. The hinge 31 is a mechanism for rotatably connecting the base 33 and the bottom plate (bottom surface) 21 of the processing tank 2. The air cylinder 32 is rotatably coupled to the base 33 and the bottom plate 21 at both longitudinal ends thereof. The tilting mechanism 3 tilts or horizontalizes the processing tank 2 with respect to the base 33 around the hinge 31 by extending and contracting the air cylinder 32. The processing apparatus 1 tilts the processing tank 2 when supplying the probe liquid (processing liquid) R into the processing tank 2 by the tilting mechanism 3 and causes the probe liquid R to react with the nucleic acid (object to be processed) S. The processing tank 2 is made horizontal.
[0031]
According to the processing apparatus 1, the nucleic acid S can be reacted with the probe liquid R and the nucleic acid S can be treated with various liquids. From the reaction results of the nucleic acid S, for example, mutation analysis of gene DNA (nucleic acid), polymorphism analysis, base sequence analysis, expression analysis (presence / absence), and diagnosis of various diseases based on these are performed. It can be suitably performed.
[0032]
The rotating means for rotating the processing tank 2 about the hinge 31 as a center of rotation is not limited to the air cylinder 32 but may be, for example, a motor drive, a gear mechanism, or the like. Further, the tilting mechanism 3 is not limited to the mechanism using the hinge 31, and may have any structure as long as the mechanism can displace the processing tank 2 to an inclined posture.
[0033]
FIG. 3 is a perspective view showing a first embodiment of the processing tank of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 3 when the processing tank 2 is tilted by the tilting mechanism 3 and the probe liquid R is supplied into the processing tank 2 from the supply / discharge port 221. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 3 when the processing tank 2 in the state of FIG. In the following, for convenience of description, the upper side in FIG. 3 (the same applies to FIGS. 4, 5 and 6) is referred to as “upper” or “upper”, and the lower side is referred to as “lower” or “lower”. However, the size of the nucleic acid S in FIG. 3 (also in FIGS. 4, 5, 6, 7, and 8) is exaggerated for the sake of explanation.
[0034]
The processing bath 2 shown in FIG. 3 includes a bottom plate 21, side walls 22, a tapered surface (inclined surface) 23, and a partition 24 that partitions the inside of the processing bath 2 into a plurality of spaces. Although the processing tank 2 of the present embodiment has a configuration in which these components are integrally formed, the processing tank 2 may be configured by combining a plurality of members.
The side wall 22 is formed around the entire periphery of the bottom plate 21.
[0035]
In this embodiment, two partition walls 24 are provided, and are arranged in parallel with each other at intervals. The inner space of the processing tank 2 is partitioned into three spaces by these partition walls 24, and each of these spaces constitutes a processing unit 4 into which the probe liquid R is charged.
[0036]
In the present invention, the number of the processing units 4 is not particularly limited, and four or more processing units 4 may be provided by providing three or more partition walls 24.
[0037]
These processing units 4 are arranged in a direction orthogonal to the partition wall 24. In addition, the shape of the region of each processing unit 4 has a long shape (elongated shape) that is long in a direction orthogonal to the arranged direction. When the processing tank 2 is tilted by the tilting mechanism 3, one end (the right side in FIG. 3) of the processing unit 4 rises to a position higher than the other end (the left side in FIG. 3).
[0038]
The bottom plate 21 forms the bottom of the processing unit 4. As shown in FIG. 4, a recess (positioning means) 211 having a shape corresponding to the plate P is formed on a surface above the bottom plate 21 in each processing unit 4. By disposing the plate P in the concave portion 211, the plate P can be positioned on the bottom plate 21, and the position of the plate P can be more reliably prevented from shifting even when the processing tank 2 is inclined.
[0039]
The side wall 22 is provided with one liquid supply / drain port (hole) 221. The probe liquid R can be supplied or discharged from the supply / drain port 221. Conventionally, a supply / drainage port must be provided for each processing unit. However, in the present invention, as will be described later, since the probe liquid R can flow between the processing units 4, the processing tank 2 can supply the probe liquid R sufficiently if only one supply / drain port 221 is provided. And can be discharged.
[0040]
A tapered surface (inclined surface) 23 is formed between the bottom plate 21 and the side wall 22a located at the lowest position when the processing tank 2 is inclined by the inclination mechanism 3. The tapered surface 23 is inclined with respect to the bottom plate 21 so that the height increases from the bottom plate 21 toward the side wall 22a.
[0041]
The partition wall 24 is formed from the side wall 22 b opposite to the side of the tapered surface 23 to a part of the tapered surface 23. In other words, a gap 25 where the partition wall 24 is not formed is provided near the side wall 22a. The gap 25 functions as a passage (liquid passage section) for allowing the probe liquid R to flow between the processing sections 4.
[0042]
As shown in FIG. 4, when the processing apparatus 1 supplies the probe liquid R into the processing tank 2, the processing liquid is supplied through the supply / drain port 221 by a processing liquid supply unit (not shown) while the processing tank 2 is inclined. To send the probe solution R into the processing tank 2.
[0043]
In addition, as the processing liquid supply mechanism, for example, a mechanism that sucks up the probe liquid R stored in the storage unit by a pump and supplies the probe liquid R to the supply / drainage port 221 from the pump using a pipe can be cited.
[0044]
In the state shown in FIG. 4, the probe liquid R supplied to the inside of the processing tank 4 is conducted to one through the partition wall 24 and spreads to each processing unit 4. In other words, the probe liquid R passes through the gap (passage) 25 at the end (the left side in FIG. 4) of each processing unit 4 on the tapered surface 23 side, and the probe liquid R can move relative to each other. For this reason, they are connected to one another in a direction orthogonal to the paper surface of FIG.
[0045]
At this time, in the present embodiment, the provision of the tapered surface 23 allows the probe liquid R to be distributed to each processing unit 4 in a smaller amount.
[0046]
The processing apparatus 1 may tilt the processing tank 2 after supplying the probe liquid R into the processing tank 2 in a state where the processing tank 2 is horizontal.
[0047]
When the processing tank 2 is returned to the horizontal posture from the state shown in FIG. 4, the probe liquid R is distributed to each processing unit 4 while flowing toward the side wall 22b, and covers the microarray M, as shown in FIG. The depths of the probe liquids R covering the microarray M are the same. Further, since the processing units 4 are partitioned by the partition walls 24, the probe liquid R does not move between the processing units 4 beyond the partition walls 24 in the state shown in FIG. However, the liquid level of the probe liquid R at this time is preferably lower than the lowermost part 251 of the gap 25. Then, the amount of the probe liquid R in each processing section 4 thereafter does not change.
[0048]
Conventionally, since a dispensing device or the like was used, it was necessary to quantify the amount of the probe solution R to be dispensed, and drop (dispense) the probe solution R on each microarray M individually. However, in the processing apparatus 1, the following operation can be easily and quickly performed only by leveling the processing tank 2. First, the probe liquid R held (supplied) near the gap 25 while the processing tank 2 is tilted by the tilting mechanism 3 is transferred to each processing unit 4 when the processing tank 2 is displaced to a horizontal state. Distributed. Further, the water depth of the probe liquid R distributed to each processing unit 4 is the same. Next, since the respective probe liquids R do not move (cannot move) between the processing units 4 due to the partition walls 24, the amounts of the probe liquids R are kept constant and unchanged.
[0049]
Further, in the processing apparatus 1, when the processing tank 2 is leveled by the tilting mechanism 3 in a state where the probe liquid R is contained in the inclined processing tank 2, the depth of the probe liquid R becomes the same. Therefore, the amount of the probe liquid R corresponding to the width of each processing unit 4 enters each processing unit 4. For example, if the widths of the processing units 2 are equal, the same amount of the probe liquid R enters each processing tank 2.
[0050]
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 3 when the inclination of the treatment tank 2 in the state of FIG. At this time, the probe liquid R collected in the vicinity of the gap 25 covers all or a part of the liquid supply / drain port 221 and is naturally discharged from the liquid supply / drain port 221. As described above, when the probe liquid R is discharged, the probe liquid R is discharged through the tilting mechanism 3 and the supply / drain port 221. In other words, since there is no need to provide a mechanism for discharging the probe liquid R in the processing tank 2 to the outside of the processing tank 2 using, for example, a pump and a pipe, the apparatus can be downsized and the structure can be simplified.
[0051]
The configuration for keeping the processing tank 2 in a closed environment as described above is not particularly limited. For example, a lid may be provided on the processing tank 2 and the processing tank 2 itself may have a processing tank sealing function. In addition, not only the treatment tank 2 but also the tilting mechanism 3 may be housed in a closed tank.
[0052]
When cleaning the portion where the nucleic acid S has reacted with the probe liquid R and the processing section 4, the cleaning liquid is supplied to the processing tank 2 by a cleaning liquid supply unit (not shown). Next, the processing tank 2 is repeatedly displaced as shown in FIGS. 1 and 2 by the operation of the tilting mechanism 3. Thus, the washing liquid is stirred in the processing section 4 to wash the portion where the nucleic acid S has reacted with the probe liquid R and the processing tank 4. Further, the cleaning liquid after the cleaning is discharged in the same manner as in FIG. As described above, even in the cleaning of the processing unit 4, the processing apparatus 1 can perform the operation by using the operation of the tilt mechanism 3, and the tilt mechanism 3 is used for multiple purposes, so that the structure can be rationalized. Also, in the discharge of the cleaning liquid, the processing apparatus 1 can discharge the cleaning liquid through the supply / drainage port 221. In other words, since it is not necessary to provide a flushing mechanism having a flushing function, the size of the apparatus can be reduced and the structure can be simplified.
[0053]
In this embodiment, for example, as shown in FIG. 3, the tapered surface is formed not only inside the processing tank 2 (the processing unit 4) but also outside the processing tank 2. It may be formed only inside the portion 4).
[0054]
<Second embodiment>
FIG. 7 is an exploded perspective view showing a second embodiment of the processing tank of the present invention. In the following, for convenience of description, the upper side in FIG. 7 (also in FIG. 8) is referred to as “up” or “upper”, and the lower side is referred to as “lower” or “lower”.
[0055]
Hereinafter, the second embodiment of the present invention will be described with reference to these drawings, but the description will focus on the differences from the above-described first embodiment, and a description of similar items will be omitted.
[0056]
This embodiment is the same as the first embodiment except that the configuration of the processing tank is different.
[0057]
The processing tank 2A of the first embodiment is different from the processing tank 2 of the first embodiment in that the processing tank 2A of the first embodiment is configured by combining two tanks, an inner tank 5 and an outer tank 6 capable of storing the inner tank 5. different.
[0058]
The inner tank 5 has substantially the same shape as the processing tank 2 of the first embodiment, and has a bottom plate (bottom surface) 51, a side wall 52, a tapered surface 53, and a partition for partitioning the inside of the inner tank 2 into a plurality of spaces. 54. Although the inner tank 2 of the present embodiment has a configuration in which these components are integrally formed, the inner tank 2 may be configured by combining a plurality of members.
[0059]
The bottom plate 51 constitutes the bottom of the inner tank 5 and has an opening 511. The openings 511 are provided respectively corresponding to the processing units 4 described below.
The side wall 52 is formed on the entire outer periphery of the bottom plate 51.
[0060]
A tapered surface (inclined surface) 53 is formed between the bottom plate 51 and the side wall 52a located at the lowest position when the processing tank 2A is inclined by the inclination mechanism 3. The tapered surface 53 is inclined with respect to the bottom plate 51 so that the height increases from the bottom plate 51 toward the side wall 52a.
[0061]
In the present embodiment, two partition walls 54 are provided, and are arranged in parallel with each other at intervals. The inner space of the inner tank 5 is partitioned into three spaces by these partition walls 54, and each of these spaces constitutes the processing unit 4 in which the probe liquid R is charged. Further, the partition wall 54 is formed from the side wall 52 b located on the opposite side to the side of the tapered surface 53 to the middle of the tapered surface 53. In other words, a gap 55 where the partition wall 54 is not formed is provided near the side wall 52a.
[0062]
The outer tub 6 has a bottom plate (bottom surface) 61 and side walls 62. The outer tub 6 of the present embodiment has a configuration in which these components are integrally formed. However, the outer tub 6 may be configured by combining a plurality of members.
[0063]
The bottom plate 61 forms the bottom of the outer tub 6.
The side wall 62 is formed all around the outer peripheral portion of the bottom plate 61.
[0064]
FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line BB showing the use state of the processing tank 2A in FIG. At this time, the plate P is installed between the bottom plate 51 of the inner tank 5 and the bottom plate 61 of the outer tank 6. Further, the portions to which the nucleic acids S are attached are exposed from the openings 511 and covered with the probe solution R. In the present embodiment, in order to process the microarray M, it is sufficient to cover only the portions where the nucleic acids S exposed from the openings 511 are attached with the probe solution R, and it is not necessary to cover the entire plate P with the probe solution R. Therefore, in this embodiment, only the opening 511 needs to be covered with the probe liquid R, and the use of the probe liquid R can be minimized.
[0065]
In the present embodiment, since the plate P is sandwiched between the bottom plate 51 and the bottom plate 61, it is possible to more reliably prevent the position of the plate P from shifting even when the processing tank 2A is tilted. it can. That is, the bottom plate 51 and the bottom plate 61 function as positioning means for the plate P.
[0066]
As described above, the processing tank and the processing apparatus of the present invention have been described with respect to the illustrated embodiment. However, the present invention is not limited to this, and each unit constituting the processing tank and the processing apparatus exhibits the same function. It can be replaced with any configuration obtained. Further, an arbitrary component may be added.
[0067]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, when applying a processing liquid to a plurality of supports to which an object to be processed is attached, it is not necessary to apply the processing liquid to each support individually, and the processing liquid can be quickly and easily applied. Each support can be contacted.
[0068]
In addition, the configuration of the processing tank has an inner tank provided with a partition wall, and an outer tank capable of storing the inner tank, and an opening is provided on the bottom surface of a portion corresponding to each processing unit of the inner tank. In the case where the plurality of supports are provided between the bottom surface of the inner tank and the bottom surface of the outer tank, and the portions of the plurality of supports to which the objects to be processed adhere are respectively exposed from the openings. Thus, the amount of the processing solution used can be minimized.
[0069]
Further, when the processing tank has a tapered surface formed between the bottom surface of the processing unit and the lowermost side surface when the processing tank is tilted, the processing liquid is tilted when the processing tank is tilted. Can be distributed to the processing units in a smaller amount.
[0070]
For this reason, according to the present invention, for example, a search for a cancer gene, a mutant gene, and the like can be performed more easily and efficiently.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall configuration diagram showing an embodiment of a processing apparatus of the present invention.
FIG. 2 is an overall configuration diagram showing an embodiment of a processing apparatus of the present invention.
FIG. 3 is a perspective view showing a first embodiment of the processing tank of the present invention.
4 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 3 when the processing tank 2 is tilted by the tilting mechanism 3 and the probe liquid R is supplied into the processing tank 2 from the supply / drain port 221.
FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 3 when the processing tank 2 in the state of FIG.
6 is a sectional view taken along line AA of FIG. 3 when the inclination of the processing tank 2 in the state of FIG. 5 is made larger than that of FIG.
FIG. 7 is an exploded perspective view showing a second embodiment of the processing tank of the present invention.
FIG. 8 is a sectional view taken along the line BB showing a use state of the processing tank of FIG. 7;
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Processing apparatus 2 Processing tank 2A Processing tank 21 Bottom plate 211 Depression 22 Side wall 22a Side wall 22b Side wall 221 Supply / drainage port 23 Tapered surface 24 Partition wall 25 Gap 251 Lowermost part 3 Inclination mechanism 31 Hinge 32 Air cylinder 33 Base 4 Processing part 5 Bath 51 Bottom plate 511 Opening 52 Side wall 52 a Side wall 52 b Side wall 53 Tapered surface 54 Partition wall 55 Gap 6 Outer bath 61 Bottom plate 62 Side wall M Microplate P Plate R Probe solution S Nucleic acid

Claims (14)

内部に処理液を入れる処理部が隔壁を介して複数個並べて配置され、前記各処理部に被処理物を付着させた支持体を設置して処理する処理槽であって、
前記処理部を所定方向に傾けた状態では、内部に供給された前記処理液が1つに導通し、その状態から前記処理部を水平な状態にすると、供給された前記処理液が前記各処理部に配分されることを特徴とする処理槽。
A plurality of processing units into which a processing liquid is to be placed are arranged side by side via a partition, and a processing tank for processing by installing a support having an object to be processed attached to each processing unit,
In a state where the processing section is tilted in a predetermined direction, the processing liquid supplied therein conducts to one, and when the processing section is brought into a horizontal state from that state, the supplied processing liquid is supplied to each of the processing sections. A treatment tank, wherein the treatment tank is distributed to parts.
内部に処理液を入れる長尺形状の処理部が隔壁を介して複数個並べて配置され、前記各処理部に被処理物を付着させた支持体を設置して処理する処理槽であって、
前記処理部の一端が上昇するように前記処理槽を傾けた状態では、内部に供給された前記処理液が前記各隔壁を越えて1つに導通し、その状態から前記処理部を水平な状態にすると、供給された前記処理液が前記各処理部に配分されることを特徴とする処理槽。
A plurality of long processing units into which a processing liquid is to be placed are arranged side by side via a partition, and a processing tank that performs processing by installing a support having an object to be processed attached to each processing unit,
In a state where the processing tank is tilted so that one end of the processing unit is raised, the processing liquid supplied to the inside of the processing unit passes through each of the partition walls and conducts to one, and then the processing unit is in a horizontal state. Wherein the supplied processing liquid is distributed to each of the processing units.
前記隔壁が設けられた内槽と、
前記内槽を収納し得る外槽とを有し、
前記内槽の前記各処理部に対応する部分の底面に開口部がそれぞれ設けられており、
前記支持体は、前記内槽の底面と前記外槽の底面との間に設置され、前記支持体の前記被処理物が付着した部分が前記開口部からそれぞれ露出する請求項1または2に記載の処理槽。
An inner tank provided with the partition wall,
Having an outer tank capable of storing the inner tank,
Openings are respectively provided on the bottom surface of a portion corresponding to each processing unit of the inner tank,
The said support is installed between the bottom surface of the said inner tank, and the bottom surface of the said outer tank, The part to which the said to-be-processed object of the said support adhered is each exposed from the said opening part. Processing tank.
前記処理液を供給および/または排出するための孔が少なくとも1つ設けられている請求項1ないし3のいずれかに記載の処理槽。4. The processing tank according to claim 1, wherein at least one hole for supplying and / or discharging the processing liquid is provided. 前記各処理部の底面と、前記処理槽を前記傾けた状態のときに最も下方に位置する側面との間にテーパー面が形成されている請求項1ないし4のいずれかに記載の処理槽。The processing tank according to claim 1, wherein a tapered surface is formed between a bottom surface of each of the processing units and a lowermost side surface when the processing tank is in the inclined state. 前記隔壁は、前記テーパー面側と反対に位置する側面から前記テーパー面の途中まで形成されている請求項5に記載の処理槽。The processing tank according to claim 5, wherein the partition wall is formed from a side surface opposite to the tapered surface side to a middle of the tapered surface. 前記処理部の底面に、前記支持体が前記処理槽に対して移動するのを防止する位置決め手段を有している請求項1ないし6のいずれかに記載の処理槽。The processing tank according to any one of claims 1 to 6, further comprising a positioning means on a bottom surface of the processing unit for preventing the support from moving with respect to the processing tank. 請求項1ないし7のいずれかに記載の処理槽と、
前記処理槽を前記傾けた状態と、水平な状態とに変位させる傾斜機構とを備えることを特徴とする処理装置。
A treatment tank according to any one of claims 1 to 7,
A processing apparatus, comprising: a tilt mechanism that displaces the processing tank between the tilted state and the horizontal state.
前記処理液を排出するときは、前記傾斜機構により前記処理槽を傾けて排出する請求項8に記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 8, wherein when discharging the processing liquid, the processing tank is tilted and discharged by the tilt mechanism. 前記傾斜機構は、基台と、
前記基台に対し前記処理槽の回転中心となるヒンジ結合部と、
前記ヒンジ結合部を用いて前記処理槽を回動させるための回動手段とを有している請求項8または9に記載の処理装置。
The tilt mechanism includes a base,
A hinge connection portion serving as a rotation center of the processing tank with respect to the base;
The processing apparatus according to claim 8, further comprising a rotation unit configured to rotate the processing tank by using the hinge connection part.
前記被処理物を付着させた部分および/または前記処理部を洗浄するために、供給された洗浄液を前記傾斜機構の作動により前記処理部内で撹拌して前記被処理物を付着させた部分および/または前記処理部を洗浄する請求項8ないし10のいずれかに記載の処理装置。In order to clean the portion to which the object is attached and / or the processing unit, the supplied cleaning liquid is stirred in the processing unit by the operation of the tilting mechanism, and / or the part to which the object is attached. 11. The processing apparatus according to claim 8, wherein the processing unit is cleaned. 前記処理液は、前記被処理物と反応し得る反応液である請求項8ないし11のいずれかに記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 8, wherein the processing liquid is a reaction liquid capable of reacting with the object. 前記被処理物は、核酸である請求項8ないし12のいずれかに記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 8, wherein the object is a nucleic acid. 前記処理液は、前記核酸と反応し得るプローブを含む液体である請求項13に記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 13, wherein the processing liquid is a liquid containing a probe capable of reacting with the nucleic acid.
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