JP2008198732A - Adhesive film for circuit board, coverlay and circuit board using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive film having an adhesive layer thinned as much as possible, having surface smoothness and capable of preventing an adhesive material from flowing to an opening of a terminal portion of a wiring pattern in a multilayer circuit board, and to provide a coverlay film. <P>SOLUTION: Adhesive layers (102, 103, ...) having different flowability are laminated in at least two or more layers as an adhesive layer 104 of the adhesive film 105 and the coverlay film 100, and a surface (103 side) having less flowability of the adhesive layer 104 is provided on the wiring pattern. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、回路基板に用いられる接着フィルム、カバーレイフィルムに関する。   The present invention relates to an adhesive film and a coverlay film used for a circuit board.

フレキシブル回路基板は、可とう性絶縁ベース材の表面に銅箔が設けられた銅張り積層板に回路配線パターンを形成し、この回路配線パターン上に、回路部品や外部基板等の電子部品あるいは回路との接続の為の端子を形成する部位に開口を有する表面保護層を形成し、金型等により打抜き等を施して外形加工して製造される。また、各回路基板を接着フィルムを用いて積層することで多層回路基板が製造される。   A flexible circuit board has a circuit wiring pattern formed on a copper-clad laminate with a copper foil provided on the surface of a flexible insulating base material. On this circuit wiring pattern, an electronic component such as a circuit component or an external substrate, or a circuit It is manufactured by forming a surface protective layer having an opening at a portion where a terminal for connection to the substrate is formed, punching it out with a mold or the like, and processing the outer shape. Moreover, a multilayer circuit board is manufactured by laminating each circuit board using an adhesive film.

ここで、上記表面保護層は、一方の面に接着剤層を有する可とう性絶縁フィルムでカバーレイフィルムと呼ばれる。これを金型等による打抜き加工にて開口を形成し、このカバーレイフィルムを回路配線パターン上に接着して表面保護層を形成するものである。   Here, the surface protective layer is a flexible insulating film having an adhesive layer on one side and is called a coverlay film. An opening is formed by punching this with a mold or the like, and this coverlay film is bonded onto the circuit wiring pattern to form a surface protective layer.

多層回路基板の製造においては、真空プレス等の方法を用いて多層回路基板に接着フィルム、カバーレイフィルムを貼り付けている。多層回路基板表面にはICチップが実装されるが、チップの大型化やBGA型への変更により、接着フィルム、カバーレイフィルムの接着剤層には、回路埋め込み性やプレス後の表面平滑性が要求される。   In the production of a multilayer circuit board, an adhesive film and a coverlay film are attached to the multilayer circuit board using a method such as vacuum pressing. An IC chip is mounted on the surface of the multilayer circuit board, but due to the increase in size of the chip and the change to the BGA type, the adhesive layer of the adhesive film and coverlay film has a circuit embedding property and a surface smoothness after pressing. Required.

多層回路基板の内層にカバーレイフィルムが使用されるが、プレス後にカバーレイフィルム表面に凹凸があれば多層基板表面にも影響するためカバーレイフィルムにおいても表面平滑性は重要である。   A cover lay film is used as the inner layer of the multilayer circuit board. However, if the cover lay film surface has irregularities after pressing, the surface of the multilayer board is also affected, so surface smoothness is also important in the cover lay film.

回路配線パターンの微細化に伴い、接着剤層が配線間を十分埋め込むことが難しくなっている。また、埋め込まれたとしても少なからず接着剤層の表面に凸凹段差が残り、積層を繰り返した場合、位置精度の悪化、基板の反り、各層のばらつき等の原因となる。この凸凹段差を平坦化するには、研磨等の工程が必要となり、製造方法にも制限が発生する。   With the miniaturization of circuit wiring patterns, it is difficult for the adhesive layer to sufficiently embed between the wirings. In addition, even if embedded, there are not a few uneven steps on the surface of the adhesive layer, and repeated stacking causes deterioration of positional accuracy, warping of the substrate, variations in each layer, and the like. In order to flatten the unevenness, a process such as polishing is required, and the manufacturing method is limited.

このような製造工程で製造される多層回路基板は、その表面平滑性を得るため接着フィルム、カバーレイフィルムの接着剤層には、フロー性の大きい接着剤を用いることが好ましい。   In the multilayer circuit board manufactured by such a manufacturing process, it is preferable to use an adhesive having a high flow property for the adhesive layer of the adhesive film and the coverlay film in order to obtain the surface smoothness.

しかしフロー性の大きい接着剤を用いると、多層回路基板の表面平滑性は改善されるものの、配線パターン端子部等の開口部分に接着フィルム、カバーレイフィルムの接着剤が流れ出し、後処理となるハンダ付けやメッキ等の作業がし難くなったり、不可能となる等の問題があった。   However, using an adhesive with high flowability improves the surface smoothness of the multilayer circuit board, but the adhesive for the adhesive film and coverlay film flows out to the opening of the wiring pattern terminal part, etc. There are problems such as difficult or impossible operations such as attaching and plating.

逆に、フロー性の小さい接着剤を用いると、接着フィルム、カバーレイフィルムの接着剤が配線パターン端子部等の開口部分に流れ出すことはなくなるが、多層回路基板の表面平滑性が得られないばかりか、配線と配線の間に十分に入り込めず、部分的に空隙、ボイドが生じる等して、所定の接着強度が得られない等の問題があった。   On the other hand, if an adhesive with low flowability is used, the adhesive of the adhesive film and coverlay film will not flow out to the opening part of the wiring pattern terminal part etc., but the surface smoothness of the multilayer circuit board cannot be obtained. In addition, there is a problem that a predetermined adhesive strength cannot be obtained because a gap or a void is partially generated due to insufficient penetration between the wirings.

プレス後の表面平滑性に優れ、且つ配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑えるには、例えば、接着フィルム、カバーレイフィルムの接着剤層としてフロー性の異なる接着剤層を2層以上積層する手法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   In order to suppress the flow of the adhesive material to the opening portion of the wiring pattern terminal portion and the like with excellent surface smoothness after pressing as much as possible, for example, adhesive layers having different flow properties as adhesive layers of adhesive films and coverlay films A method of laminating two or more layers has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

又、多層回路基板において、層間接着剤層として流れ出し性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層し、前記接着剤層の流れ出し性の小さい接着剤層を配線パターン上に設ける手法が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。詳しくは、特許文献2に記載の発明では、回路パターンが形成された面を有する層と他の層とを接着剤層により接着することにより積層される多層回路基板において、前記回路パターンが形成された面に流れ出し性の小さな接着剤を熱ラミネートして第1の接着剤層を有するラミネート体を形成し、前記他の層に接する面に流れ出し性の大きな接着剤を熱ラミネートして第2の接着剤層を有するラミネート体を形成し、その後これらのラミネート体を更に熱ラミネートにより貼り合せて層間接着剤層とし、多層回路基板を得るというものである。
特開2003−198107号公報 特開2006−073934号公報(段落0016〜0021、図2)
In addition, in a multilayer circuit board, a method has been proposed in which at least two adhesive layers having different flowability are stacked as an interlayer adhesive layer, and an adhesive layer having a low flowability of the adhesive layer is provided on the wiring pattern. (For example, refer to Patent Document 2). Specifically, in the invention described in Patent Document 2, the circuit pattern is formed in a multilayer circuit board that is laminated by adhering a layer having a surface on which the circuit pattern is formed and another layer with an adhesive layer. A laminar body having a first adhesive layer is formed by heat laminating a low flowable adhesive on the other surface, and a high flowable adhesive is heat laminated on the surface in contact with the other layer. A laminate having an adhesive layer is formed, and then these laminates are further bonded together by thermal lamination to form an interlayer adhesive layer to obtain a multilayer circuit board.
JP 2003-198107 A JP 2006-073934 A (paragraphs 0016 to 0021, FIG. 2)

しかしながら、上記特許文献1に記載の手法では、相対的にフロー性の大きい接着剤層を配線パターン上に設けると、十分な多層回路基板の表面平滑性が得られないという問題があった。   However, the technique described in Patent Document 1 has a problem that sufficient surface smoothness of the multilayer circuit board cannot be obtained when an adhesive layer having a relatively high flow property is provided on the wiring pattern.

又、上記特許文献2に記載の手法では、第2の接着剤層の形成時におけるプレス(熱ラミネート)後の表面平滑性に優れ、且つ第1の接着剤層を形成時に配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑える効果を得ることが出来るが、パターン上に設ける第1の接着剤層をパターン厚み以上にする必要から、極力薄い接着剤層(層間接着剤層)にすることが出来ない問題があった。   In the method described in Patent Document 2, the surface smoothness after pressing (thermal lamination) at the time of forming the second adhesive layer is excellent, and the wiring pattern terminal portion and the like are formed at the time of forming the first adhesive layer. Although it is possible to obtain the effect of suppressing the flow of the adhesive material to the opening portion of the film as much as possible, it is necessary to make the first adhesive layer provided on the pattern larger than the pattern thickness. There was a problem that could not be made.

そこで、本発明の目的は、上記問題点に鑑み、表面平滑性に優れ、且つ配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑えることができ、さらにより薄い接着剤層を有する回路基板用接着フィルム、カバーレイ及びそれを用いた回路基板を提供するものである。   Therefore, in view of the above problems, an object of the present invention is excellent in surface smoothness, and can suppress the flow of an adhesive material to an opening portion such as a wiring pattern terminal portion as much as possible, and has a thinner adhesive layer. An adhesive film for a circuit board, a coverlay, and a circuit board using the same are provided.

かかる目的を達成すべく、表面平滑性に優れ、且つ配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑えることができ、更により薄い接着剤層の要求に対し鋭意検討した結果、多層回路基板において、2層以上の接着層を有し、且つフロー性の小さい面を配線パターンに設ける接着フィルム、カバーレイフィルムを発明するに至った。   In order to achieve this purpose, it is excellent in surface smoothness and can suppress the flow of the adhesive material to the opening part such as the wiring pattern terminal part as much as possible, and as a result of earnestly examining the demand for a thinner adhesive layer, In the multilayer circuit board, the present inventors have invented an adhesive film and a coverlay film that have two or more adhesive layers and have a wiring pattern with a surface having a small flowability.

すなわち本発明は、フロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層した、傾斜配置によって成ることを特徴とする接着フィルムにある。   That is, the present invention lies in an adhesive film comprising an inclined arrangement in which at least two adhesive layers having different flow properties are laminated.

更に本発明は、フィルム基材の片面に、フロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層して成る接着フィルム層を設けてなるものであって、前記接着フィルム層におけるフロー性が前記フィルム基材側から外側(前記接着フィルム層表面側)にかけて小さくなるよう(接着フィルムの厚さ方向に)傾斜配置して成ることを特徴とするカバーレイフィルムにある。   Furthermore, the present invention comprises an adhesive film layer formed by laminating at least two adhesive layers having different flow properties on one surface of a film substrate, and the flow property in the adhesive film layer is the film. The cover lay film is characterized in that the cover lay film is formed so as to be inclined (in the thickness direction of the adhesive film) so as to decrease from the base material side to the outer side (the adhesive film layer surface side).

本発明によれば、接着フィルム、カバーレイフィルムの接着剤層としてフロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層し、前記接着剤層のフロー性の小さい面を配線パターン上に設けることで、プレス後の表面平滑性に優れ、且つ配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑えることが可能な接着フィルム、カバーレイフィルムを提供することができる。   According to the present invention, by laminating at least two adhesive layers having different flow properties as an adhesive layer of an adhesive film and a coverlay film, and providing a surface having a small flow property of the adhesive layer on the wiring pattern. It is possible to provide an adhesive film and a coverlay film that are excellent in surface smoothness after pressing and that can suppress the adhesive material from flowing out to an opening portion such as a wiring pattern terminal portion as much as possible.

さらに、本発明では、フロー性がフィルム基材側から外側(フィルム表面)にかけて小さくなるようフィルムの厚さ方向に傾斜配置して成る接着剤層とすることにより、フロー性の小さい接着剤層がパターン厚み以下であっても、プレス後の表面平滑性に優れ、且つ配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑え、より薄い接着剤層(2層以上積層された接着剤層)を有する回路基板用接着フィルム、カバーレイフィルム及びそれを用いた回路基板を提供することが可能となる。   Furthermore, in the present invention, an adhesive layer having a low flow property is obtained by forming an adhesive layer that is inclined in the thickness direction of the film so that the flow property decreases from the film substrate side to the outside (film surface). Even if the thickness is less than the pattern thickness, it is excellent in surface smoothness after pressing, and the adhesive material is prevented from flowing out to the opening part such as the wiring pattern terminal part as much as possible. It is possible to provide an adhesive film for a circuit board having a layer), a coverlay film, and a circuit board using the same.

本発明の回路基板用接着フィルムは、フロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層した、傾斜配置によって成ることを特徴とするものである。   The adhesive film for a circuit board according to the present invention is characterized by having an inclined arrangement in which at least two adhesive layers having different flow properties are laminated.

また、本発明の回路基板用カバーレイフィルムは、フィルム基材の片面に、上記フロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層して成る本発明の回路基板用接着フィルム層を設けてなるものであって、前記接着フィルム層におけるフロー性が前記フィルム基材側から外側にかけて小さくなるよう傾斜配置して成ることを特徴とするものである。   Further, the circuit board coverlay film of the present invention is provided with the circuit board adhesive film layer of the present invention formed by laminating at least two adhesive layers having different flow properties on one side of a film base material. It is a thing characterized by being inclinedly arranged so that the flow property in the said adhesive film layer may become small from the said film base material side to an outer side.

更に、本発明の多層回路基板は、上記フロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層して成り、フロー性が小さい方が回路パターン側にくるように配置されていることを特徴とするものである。   Furthermore, the multilayer circuit board of the present invention is formed by laminating at least two adhesive layers having different flow properties, and is arranged so that the smaller flow property is on the circuit pattern side. Is.

さらにまた、本発明のフレキシブル回路基板は、上記回路基板用カバーレイフィルムを用いてなることを特徴とするものである。   Furthermore, the flexible circuit board of the present invention is characterized by using the above-described circuit board cover lay film.

ここで、本発明の回路基板用接着フィルム、回路基板用カバーレイフィルム、多層回路基板及びフレキシブル回路基板に用いられてなるフロー性の異なる接着剤層は、それぞれフロー性の異なる複数の接着剤層を積層する、傾斜配置によって得ることができる。   Here, the adhesive layers having different flow properties used in the adhesive film for circuit boards, the cover lay film for circuit boards, the multilayer circuit board, and the flexible circuit board of the present invention include a plurality of adhesive layers having different flow properties. Can be obtained by an inclined arrangement.

以下、本発明の各実施形態につき、図面を用いて説明する。図1は、本発明の回路基板用接着フィルムを模式的に表した断面概略図である。図2は、本発明の回路基板用カバーレイフィルムと、該回路基板用カバーレイフィルムを適用する相手側の回路パターンが形成されている多層回路基板の構成とを模式的に表した断面概略図である。   Hereinafter, each embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing an adhesive film for a circuit board according to the present invention. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically illustrating a circuit board cover lay film of the present invention and a configuration of a multilayer circuit board on which a counterpart circuit pattern to which the circuit board cover lay film is applied is formed. It is.

図1及び図2に示すように、フロー性の異なる複数の層からなる接着剤層104の構成において、フロー性の大きい接着剤層102の厚さは、25μm以下、好ましくは15〜25μmである。フロー性の大きい接着剤層102の厚さが25μmを超える場合には流れ出し性の制御が困難である。一方、フロー性の大きい接着剤層102の厚さの下限値に関しては、特に制限されるものではないが、回路パターンに依存せず、回路基板の表面平滑性を得ることが目的であることから、15μm以上とするのが望ましい。   As shown in FIGS. 1 and 2, in the configuration of the adhesive layer 104 composed of a plurality of layers having different flow properties, the thickness of the adhesive layer 102 having a large flow property is 25 μm or less, preferably 15 to 25 μm. . When the thickness of the adhesive layer 102 having a large flowability exceeds 25 μm, it is difficult to control the flowability. On the other hand, the lower limit of the thickness of the adhesive layer 102 having a large flow property is not particularly limited, but it is not dependent on the circuit pattern and is intended to obtain the surface smoothness of the circuit board. 15 μm or more is desirable.

又、フロー性の小さい接着剤層103は、フロー性の大きい接着剤層102と合わせてパターン埋め込み性を考慮し、導体(図2では、導通(ないし回路)パターン201)の厚み以上であればよく、導通(ないし回路)パターン201厚みにより適宜採用すればよい。例えば、銅箔(厚さ35μm;1オンス)で形成された導通(ないし回路)パターン201に関しては、フロー性の小さい接着剤層103とフロー性の大きい接着剤層102を合わせた接着剤層104の全体の厚さが35μm以上、該銅箔に銅メッキが厚さ15μm形成されれば、50μm以上というようにである。これにより、フロー性の小さい接着剤層103がパターン201厚み以下であっても、プレス後の表面平滑性に優れ、且つ配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑え、より薄い接着剤層(2層以上積層された接着剤層104)を有する回路基板用接着フィルム105、カバーレイフィルム100及びそれを用いた多層回路基板ないしフレキシブル回路基板300を提供することができる。接着剤層104の厚さは、上記したように導通(ないし回路)パターン201の厚さ以上であればよいが、好ましくは導通(ないし回路)パターン201の厚さ+2〜20μmの範囲とするのが望ましい。導通(ないし回路)パターン201の厚さ+2μm未満の場合には回路周辺のエアー残りの懸念がある。一方、導通(ないし回路)パターン201の厚さ+20μmを超える場合には、本発明の作用効果(目的)の一つである、より薄い接着剤層104を有する回路基板用接着フィルム、カバーレイ及びそれを用いた回路基板の提供が困難となるおそれがある。   In addition, the adhesive layer 103 having a low flow property is combined with the adhesive layer 102 having a high flow property in consideration of the pattern embedding property, and if it is equal to or larger than the thickness of the conductor (the conductive (or circuit) pattern 201 in FIG. 2). What is necessary is just to employ | adopt suitably by the conductive (or circuit) pattern 201 thickness. For example, with respect to a conductive (or circuit) pattern 201 formed of copper foil (thickness 35 μm; 1 ounce), an adhesive layer 104 in which an adhesive layer 103 having a low flow property and an adhesive layer 102 having a high flow property are combined. If the total thickness of the film is 35 μm or more, and if the copper plating is formed on the copper foil with a thickness of 15 μm, the thickness is 50 μm or more. Thereby, even if the adhesive layer 103 having a small flow property is less than the thickness of the pattern 201, the surface smoothness after pressing is excellent, and the flow of the adhesive material to the opening portion such as the wiring pattern terminal portion is suppressed as much as possible. A circuit board adhesive film 105 having a thin adhesive layer (adhesive layer 104 in which two or more layers are laminated), a coverlay film 100, and a multilayer circuit board or flexible circuit board 300 using the same can be provided. The thickness of the adhesive layer 104 may be equal to or greater than the thickness of the conductive (or circuit) pattern 201 as described above, but preferably the thickness of the conductive (or circuit) pattern 201 is in the range of 2 to 20 μm. Is desirable. If the thickness of the conductive (or circuit) pattern 201 is less than +2 μm, there is a concern that air remains around the circuit. On the other hand, when the thickness of the conductive (or circuit) pattern 201 exceeds +20 μm, which is one of the operational effects (objects) of the present invention, the adhesive film for the circuit board having the thinner adhesive layer 104, the coverlay, It may be difficult to provide a circuit board using the circuit board.

本発明のフロー性の異なる(複数の層からなる)接着剤層104は、図1、2に示すように、それぞれフロー性の異なる2つの接着剤層102、103、さらにはそれ以上の複数の接着剤層を積層する、傾斜配置によって得ることができる。以下に、二層目以降となる接着剤層103(3層目以降は図示せず)のフロー性を、一層目となる接着剤層102のそれに対して小さくする具体的な方法を次に述べる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the adhesive layer 104 having different flow properties (consisting of a plurality of layers) according to the present invention includes two adhesive layers 102 and 103 having different flow properties, respectively, and a plurality of adhesive layers. It can be obtained by an inclined arrangement in which an adhesive layer is laminated. A specific method for reducing the flow property of the adhesive layer 103 (not shown in the third and subsequent layers) after the second layer relative to that of the adhesive layer 102 as the first layer will be described below. .

回路基板用接着フィルム105は、まず離型処理された紙やポリエチレンテレフタレート(以下、PETともいう)フィルムベースのセパレーター等を用い、その片面に熱硬化型の接着剤を塗布し、乾燥することで一層目の接着剤層102を設ける。   The circuit board adhesive film 105 is formed by first applying a thermosetting adhesive on one surface of a release-treated paper, a polyethylene terephthalate (hereinafter, also referred to as PET) film-based separator, and drying. A first adhesive layer 102 is provided.

次に、二層目となる接着剤層103として別のセパレーターに、やはり熱硬化型の接着剤を同様に塗布し、乾燥する。この二層目となる接着剤層103は、例えば一層目の接着剤層102の乾燥条件より高温または長時間で乾燥する方法、または一層目の接着剤層102と同じ条件で乾燥させた後、更に追加で加熱処理を施す方法、接着剤組成中の樹脂、無機充填材、硬化剤の比率を変える方法のうちどれか一つ以上を用いることで、一層目より小さめのフロー性の接着剤層103とする。一層目の接着剤層102上に、二層目となる接着剤層103をラミネータ等を用いて積層する傾斜配置によって、フロー性の異なる複数の層からなる接着剤層104を有する回路基板用接着フィルム105を得ることができる(図1では、離型処理された紙やフィルムベースのセパレーター等は図示していない。)。   Next, a thermosetting adhesive is similarly applied to another separator as the second adhesive layer 103 and dried. The adhesive layer 103 as the second layer is, for example, dried at a temperature higher or longer than the drying conditions of the first adhesive layer 102, or after drying under the same conditions as the first adhesive layer 102, Furthermore, by using at least one of the method of performing additional heat treatment, the method of changing the ratio of the resin, the inorganic filler, and the curing agent in the adhesive composition, the adhesive layer has a smaller flowability than the first layer. 103. Adhesion for circuit boards having an adhesive layer 104 composed of a plurality of layers having different flow properties by an inclined arrangement in which an adhesive layer 103 as a second layer is laminated on the first adhesive layer 102 using a laminator or the like. A film 105 can be obtained (FIG. 1 does not show a release-treated paper, a film-based separator, or the like).

以下に示すような、好適な接着フィルム流出量(単位g/10分)を得るのに、例えば、実施例に示すような乾燥条件を変えて、接着剤層102、103のフロー性を調整する場合の乾燥条件としては、接着剤の種類などにより異なることから一義的に規定するのは困難であるが、次のような条件が望ましいものといえる。   In order to obtain a suitable adhesive film outflow amount (unit: g / 10 min) as shown below, for example, the flow conditions of the adhesive layers 102 and 103 are adjusted by changing the drying conditions as shown in the examples. As the drying conditions in this case, it is difficult to define uniquely because it varies depending on the type of adhesive and the like, but the following conditions are preferable.

即ち、一層目の大きなフロー性の接着剤層を形成する場合には、セパレーターないしフィルム基材上に熱硬化型の接着剤を塗布した後、熱風乾燥機などを用いて、70〜130℃、好ましくは90〜110℃で、2〜7分間、好ましくは3〜6分間乾燥を行えばよい。70℃未満の場合には接着剤を十分乾燥することができず、130℃を超える場合には所望のフロー性の下限を下回るおそれがある。2分未満の場合も接着剤を十分乾燥することができず、7分を超える場合には所望のフロー性の下限を下回るおそれがある。   That is, in the case of forming a first large flowable adhesive layer, after applying a thermosetting adhesive on the separator or film substrate, using a hot air dryer or the like, The drying is preferably performed at 90 to 110 ° C. for 2 to 7 minutes, preferably 3 to 6 minutes. When the temperature is lower than 70 ° C., the adhesive cannot be sufficiently dried. When the temperature exceeds 130 ° C., there is a possibility that the lower limit of the desired flowability is not reached. If it is less than 2 minutes, the adhesive cannot be sufficiently dried, and if it exceeds 7 minutes, there is a possibility that it falls below the lower limit of the desired flowability.

二層目の小さなフロー性の接着剤層を形成する場合には、セパレーターないしフィルム基材上に熱硬化型の接着剤を塗布した後、熱風乾燥機などを用いて、70〜130℃、好ましくは90〜110℃で、2〜7分間、好ましくは3〜6分間乾燥を行う。70℃未満の場合には接着剤を十分乾燥することができず、130℃超える場合には所望のフロー性の下限を下回るおそれがある。2分未満の場合も接着剤を十分乾燥することができず、7分を超える場合には所望のフロー性の下限を下回るおそれがある。上記乾燥条件が一層目の大きなフロー性の接着剤層を形成する際の乾燥条件と同じか、あるいは低温または短時間である場合には、さらに追加で70〜130℃、好ましくは90〜110℃で、2〜15分間、好ましくは3〜12分間加熱処理を行うことで、二層目の小さなフロー性の接着剤層を形成する際の全体の乾燥条件が、一層目の大きなフロー性の接着剤層を形成する際の乾燥条件よりも高温または長持間となるように調整すればよい。70℃未満の場合には接着剤を十分乾燥することができず、130℃を超える場合には所望のフロー性の下限を下回るおそれがある。2分未満の場合には接着剤を十分乾燥することができず、15分を超える場合には所望のフロー性の下限を下回るおそれがある。但し、本発明では、これらの乾燥条件に何ら制限されるものではなく、熱硬化型の接着剤の種類などによっては、かかる範囲を外れても以下の好適な接着フィルム流出量を満足することができる場合もある。そのため、事前に予備実験などを行って下記の好適な接着フィルム流出量を満足する条件を求めるのが望ましいと言える。また、乾燥条件以外の他の手法により接着剤層102、103のフロー性を調整する場合においても、事前に予備実験などを行って下記の好適な接着フィルム流出量を満足する条件を求めるのが望ましいと言える。   In the case of forming a second small flowable adhesive layer, after applying a thermosetting adhesive on the separator or film substrate, using a hot air dryer or the like, preferably at 70 to 130 ° C., preferably Is dried at 90 to 110 ° C. for 2 to 7 minutes, preferably 3 to 6 minutes. When the temperature is lower than 70 ° C, the adhesive cannot be sufficiently dried. When the temperature is higher than 130 ° C, the lower limit of the desired flow property may be lost. If it is less than 2 minutes, the adhesive cannot be sufficiently dried, and if it exceeds 7 minutes, there is a possibility that it falls below the lower limit of the desired flowability. When the drying conditions are the same as the drying conditions for forming the first large-flowing adhesive layer, or when the drying conditions are low or short, 70 to 130 ° C., preferably 90 to 110 ° C. is additionally provided. By performing the heat treatment for 2 to 15 minutes, preferably 3 to 12 minutes, the overall drying condition when forming the second small flowable adhesive layer is the first large flowable adhesion. What is necessary is just to adjust so that it may become high temperature or long-lasting than the drying conditions at the time of forming an agent layer. When the temperature is lower than 70 ° C., the adhesive cannot be sufficiently dried. When the temperature exceeds 130 ° C., there is a possibility that the lower limit of the desired flowability is not reached. If it is less than 2 minutes, the adhesive cannot be sufficiently dried, and if it exceeds 15 minutes, the desired flowability may be lower than the lower limit. However, in the present invention, these drying conditions are not limited at all, and depending on the type of the thermosetting adhesive, the following preferable adhesive film outflow amount can be satisfied even if it is outside this range. Sometimes you can. Therefore, it can be said that it is desirable to conduct a preliminary experiment or the like in advance to obtain conditions satisfying the following preferable adhesive film outflow. Further, even when the flowability of the adhesive layers 102 and 103 is adjusted by a method other than the drying condition, it is necessary to perform a preliminary experiment or the like in advance to obtain a condition that satisfies the following preferable adhesive film outflow amount. This is desirable.

得られた回路基板用接着フィルム105を、温度170℃、圧力9.8MPa、時間1分間加熱圧着して、メチルエチルケトン(以下、MEKともいう)脱脂した直径φ1.0mm、長さ1.0mm、材質ステンレスのダイからの接着フィルム流出量(単位g/10分)をフロー性の指標として算出すると、一層目の接着剤層102のフロー性は70〜120g/10分、好ましくは80〜110g/10分の範囲であり、二層目の接着剤層103のフロー性は10〜50g/10分、好ましくは20〜40g/10分の範囲であることが好ましく、二層目の接着剤層103は一層目の接着剤層102に比べフロー性が小さい範囲で適宜選択することができる。本発明のフロー性の異なる接着剤層が三層以上の場合は、三層目以上の接着剤層のフロー性は、二層目の接着剤層のフロー性より小さければ良い。ここで、一層目の接着剤層102のフロー性が70g/10分未満の場合には回路基板の表面平滑性が得られず、120g/10分を超える場合には開口部分に接着剤が流れ出す量が多くなる。一方、二層目の接着剤層103のフロー性が10g/10分未満の場合には、接着剤として充分な接着性が得られず、50g/10分を超える場合には開口部分に接着剤が流れ出す量が多くなる。   The obtained adhesive film 105 for circuit boards was thermocompression bonded at a temperature of 170 ° C., a pressure of 9.8 MPa, and a time of 1 minute, and degreased with methyl ethyl ketone (hereinafter also referred to as MEK). Diameter 1.0 mm, Length 1.0 mm, Material The flow rate of the adhesive layer 102 of the first layer is 70 to 120 g / 10 minutes, preferably 80 to 110 g / 10, when the flow rate of the adhesive film from the stainless steel die (unit: g / 10 minutes) is calculated as an index of flow properties. The flowability of the second adhesive layer 103 is preferably in the range of 10 to 50 g / 10 minutes, preferably 20 to 40 g / 10 minutes. It can be appropriately selected within a range where the flowability is smaller than that of the first adhesive layer 102. When there are three or more adhesive layers having different flow properties according to the present invention, the flow properties of the third or more adhesive layers may be smaller than the flow property of the second adhesive layer. Here, when the flow property of the first adhesive layer 102 is less than 70 g / 10 minutes, the surface smoothness of the circuit board cannot be obtained, and when it exceeds 120 g / 10 minutes, the adhesive flows out to the opening. The amount increases. On the other hand, when the flowability of the second adhesive layer 103 is less than 10 g / 10 minutes, sufficient adhesiveness as an adhesive cannot be obtained, and when it exceeds 50 g / 10 minutes, the adhesive is applied to the opening portion. The amount of flowing out increases.

一層目の接着剤層102を作製する際、セパレーターの替わりに、図2に示すように、カバーレイフィルム基材となるフィルム(カバーレイ構成ベースフィルム)101を使用することで、フロー性が前記フィルム基材101側から外側(前記接着フィルム層表面側=接着剤層103側)にかけて小さくなる接着剤層102、103を有する回路基板用カバーレイフィルム100を得ることができる。   When producing the adhesive layer 102 of the first layer, instead of the separator, as shown in FIG. 2, by using a film (coverlay-structured base film) 101 serving as a coverlay film substrate, the flow property is A circuit board cover lay film 100 having adhesive layers 102 and 103 that become smaller from the film base 101 side to the outside (the adhesive film layer surface side = the adhesive layer 103 side) can be obtained.

上記接着剤層102ないし103に用いられる熱硬化型の接着剤としては、特に限定はされないが、例えば、(i)可とう性を有するゴムをベースとし、(ii)熱硬化性樹脂、(iii)硬化剤、(iv)無機充填剤、(v)さらに必要に応じて用いられる他の添加剤、を配合した接着剤が挙げられる。   The thermosetting adhesive used for the adhesive layers 102 to 103 is not particularly limited. For example, (i) based on a rubber having flexibility, (ii) a thermosetting resin, (iii) And an adhesive containing (iv) a curing agent, (iv) an inorganic filler, and (v) other additives used as necessary.

なお、実施例で用いてなる接着剤組成物の溶液とは、上記接着剤の各配合成分を(vi)適当な溶媒に溶解(ないし分散)させた溶液をいうものとする。   In addition, the solution of the adhesive composition used in the examples refers to a solution obtained by dissolving (or dispersing) each compounding component of the adhesive in (vi) an appropriate solvent.

(i)可とう性を有するゴム(ベース成分)について
上記熱硬化型の接着剤に用いられるベース成分の可とう性を有するゴムとしては、一般的にアクリルゴム、ニトリルゴム(以下、アクリロニトリルブタジエンゴム、またはNBRともいう)、スチレンイソプレンスチレンブロック共重合体(以下、SISともいう)等があり、好ましくはカルボン酸を官能基として含有するアクリルゴムが挙げられる。
(I) Rubber having flexibility (base component) As the rubber having the flexibility of the base component used in the thermosetting adhesive, generally used are acrylic rubber, nitrile rubber (hereinafter referred to as acrylonitrile butadiene rubber). Or styrene isoprene styrene block copolymer (hereinafter also referred to as SIS), preferably acrylic rubber containing carboxylic acid as a functional group.

上記カルボン酸を官能基として含有するアクリルゴムとは、アクリル酸アルキルエステル(メタアクリル酸エステルも含む、以下同様)を主成分とし、カルボン酸を官能基として含有するビニル単量体と必要に応じてアクリロニトリル、スチレン等を含む共重合体である。   The acrylic rubber containing the carboxylic acid as a functional group is a vinyl monomer containing an acrylic acid alkyl ester (including a methacrylic acid ester, the same shall apply hereinafter) as a main component and a carboxylic acid as a functional group, and if necessary. A copolymer containing acrylonitrile, styrene and the like.

上記アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、アクリル酸エチル(メタクリル酸エチルも含む、以下同様)、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ラウリル、等の単量体および、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2ヒドロキシルプロピル、アリルアルコール等の水酸基を有する単量体、グリシジルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート等のエピクロルヒドリン変成物のエポキシ基を有する単量体等が挙げられる。これらの中から、1種類または2種類以上を選択して使用できる。   Examples of the alkyl acrylate ester include ethyl acrylate (including ethyl methacrylate, the same applies hereinafter), propyl acrylate, butyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, undecyl acrylate, Monomers such as lauryl acrylate, monomers having hydroxyl groups such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and allyl alcohol, and epoxy groups of epichlorohydrin modification products such as glycidyl acrylate and dimethylaminoethyl acrylate And the like. From these, one type or two or more types can be selected and used.

上記カルボン酸を官能基として含有するビニル単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中から、1種類または2種類以上を選択して使用できる。   Examples of the vinyl monomer containing the carboxylic acid as a functional group include, but are not limited to, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, and maleic anhydride. From these, one type or two or more types can be selected and used.

アクリルゴムの重合方法としては、特に限定はされないが、一般的な懸濁重合法等を用いることができ、例えば、ポリビニルアルコール(以下、PVAともいう)等の分散剤、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、ラウリルパーオキサイド(LPO)等の重合開始剤を水媒体中に分散させた液体に、上記アクリルモノマーの2種類以上の混合物を滴下し、重合させる。重合物は、精製水で水洗して、不純物の除去を行い、水洗後加熱乾燥し、残留モノマー、水分の除去を行う。重合物の数平均分子量としては50000〜500000程度が好ましく、より好ましくは40000〜400000の範囲である。なお、上記懸濁重合法以外にも、例えば、乳化重合、溶液重合、塊状重合などの従来公知の重合方法を用いることができる。   A method for polymerizing the acrylic rubber is not particularly limited, and a general suspension polymerization method can be used. For example, a dispersant such as polyvinyl alcohol (hereinafter also referred to as PVA), azobisisobutyronitrile, and the like. A mixture of two or more of the above acrylic monomers is dropped into a liquid in which a polymerization initiator such as (AIBN) or lauryl peroxide (LPO) is dispersed in an aqueous medium and polymerized. The polymer is washed with purified water to remove impurities, washed with water and dried by heating to remove residual monomers and moisture. The number average molecular weight of the polymer is preferably about 50,000 to 500,000, more preferably 40000 to 400,000. In addition to the suspension polymerization method, for example, conventionally known polymerization methods such as emulsion polymerization, solution polymerization, and bulk polymerization can be used.

また、上記熱硬化型の接着剤のベース成分である可とう性を有するゴム(アクリルゴム以外)に関しても、その重合方法としては、特に限定はされるものではなく、一般的な懸濁重合法等を用いることができる。また、得られた重合物(可とう性を有するゴム)の数平均分子量としては50000〜500000程度が好ましく、より好ましくは40000〜400000の範囲である。なお、上記懸濁重合法以外にも、例えば、乳化重合、塊状重合などの従来公知の重合方法を用いることができる。   The polymerization method for the flexible rubber (other than acrylic rubber) which is the base component of the thermosetting adhesive is not particularly limited, and a general suspension polymerization method is used. Etc. can be used. Further, the number average molecular weight of the obtained polymer (flexible rubber) is preferably about 50,000 to 500,000, more preferably 40000 to 400,000. In addition to the suspension polymerization method, conventionally known polymerization methods such as emulsion polymerization and bulk polymerization can be used.

上記熱硬化型の接着剤のベース成分である可とう性を有するゴムの配合量は、熱硬化型の接着剤から、後述する(ii)熱硬化性樹脂、(iii)硬化剤、(iv)無機充填剤(更には、必要に応じて配合される他の添加剤(v))で規定する配合量の合計量を差し引いた残分である。即ち、可とう性を有するゴムの配合量としては、上記接着剤の各配合成分の合計量100重量部に対して30〜80重量部、好ましくは40〜60重量部の範囲である。可とう性を有するゴムの配合量が30重量部未満の場合には充分な接着性が得られず、80重量部を超える場合には耐熱性が低下する。   The compounding amount of the flexible rubber which is the base component of the thermosetting adhesive is determined from (ii) thermosetting resin, (iii) curing agent, and (iv) described later from the thermosetting adhesive. It is a residue obtained by subtracting the total amount of blending specified by the inorganic filler (further, other additive (v) blended as necessary). That is, the blending amount of the rubber having flexibility is in the range of 30 to 80 parts by weight, preferably 40 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the blending components of the adhesive. When the amount of the rubber having flexibility is less than 30 parts by weight, sufficient adhesion cannot be obtained, and when it exceeds 80 parts by weight, the heat resistance is lowered.

(ii)熱硬化性樹脂について
上記熱硬化型の接着剤に用いられる熱硬化性樹脂としては、好ましくはエポキシ樹脂、フェノール樹脂が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、エポキシ樹脂とフェノール樹脂を併用しても良い。
(Ii) Thermosetting resin The thermosetting resin used in the thermosetting adhesive is preferably an epoxy resin or a phenol resin. These may be used alone or in combination with an epoxy resin and a phenol resin.

ここで、上記エポキシ樹脂とは、分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、二官能フェノール類のジグリシジルエーテル化物、二官能アルコール類のジグリシジルエーテル化物、およびそれらの水素添加物等が使用できる。これらの化合物は、単独もしくは2種類以上併用して使用することができる。上記エポキシ樹脂の配合量は、カルボン酸を官能基として含有するアクリルゴム等の可とう性を有するゴム(熱硬化型の接着剤のベース成分)100重量部に対し、10〜100重量部、好ましくは30〜80重量部が好ましい。10重量部より少ないと、十分な耐熱性が得られず、100重量部より多いと、はく離接着強さが低下し好ましくない。   Here, the epoxy resin is a compound having two or more epoxy groups in the molecule, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac. Type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, bisphenol F novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, hydantoin type epoxy resin, isocyanurate type epoxy resin, bifunctional Diglycidyl etherified products of phenols, diglycidyl etherified products of difunctional alcohols, hydrogenated products thereof and the like can be used. These compounds can be used alone or in combination of two or more. The amount of the epoxy resin is 10 to 100 parts by weight, preferably 100 parts by weight of rubber (base component of a thermosetting adhesive) having flexibility such as acrylic rubber containing carboxylic acid as a functional group. Is preferably 30 to 80 parts by weight. When the amount is less than 10 parts by weight, sufficient heat resistance cannot be obtained, and when the amount is more than 100 parts by weight, the peel adhesion strength decreases, which is not preferable.

上記フェノール樹脂とは、レゾール型のものであれば良く、フェノール樹脂の分子量、軟化点、水酸基当量等は特に制限されるものではない。レゾール型のフェノール樹脂は、フェノールに対してホルムアルデヒドを過剰に加えアルカリ触媒で反応させたものである。該レゾール型のフェノール樹脂は、加熱するか、または酸を加えると常温でも反応が進行し自己縮合する。また、本発明においてフェノール樹脂の自己縮合だけでなく、カルボン酸を官能基として含有するアクリルゴム等の可とう性を有するゴム(熱硬化型の接着剤のベース成分)に対しても反応性を持つことから、リフローはんだ耐熱性や体積抵抗が向上する。上記フェノール樹脂の配合量は、アクリルゴム等の可とう性を有するゴム(熱硬化型の接着剤のベース)100重量部に対し、5〜50重量部、好ましくは10〜30重量部が好ましい。5重量部より少ないと、架橋密度が低下し、十分なリフローはんだ耐熱性が得られず、50重量部より多いと、Bステージ状態での貯蔵安定性が損なわれ、はく離接着強さが低下するなどの問題を生じる。   The phenol resin may be of a resol type, and the molecular weight, softening point, hydroxyl equivalent, etc. of the phenol resin are not particularly limited. The resol-type phenol resin is obtained by adding excess formaldehyde to phenol and reacting with an alkali catalyst. When the resol-type phenol resin is heated or an acid is added, the reaction proceeds at room temperature and self-condenses. Further, in the present invention, not only the self-condensation of phenol resin, but also reactivity with a rubber having flexibility (such as a base component of a thermosetting adhesive) such as an acrylic rubber containing a carboxylic acid as a functional group. Since it has, reflow solder heat resistance and volume resistance are improved. The blending amount of the phenol resin is 5 to 50 parts by weight, preferably 10 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of a flexible rubber (base of thermosetting adhesive) such as acrylic rubber. When the amount is less than 5 parts by weight, the crosslink density is lowered and sufficient reflow soldering heat resistance cannot be obtained. When the amount is more than 50 parts by weight, the storage stability in the B-stage state is impaired, and the peel adhesion strength is lowered. Cause problems.

上記熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂とフェノール樹脂を併用する場合、これらの配合比率としては特に制限されるものではいないが、エポキシ樹脂:フェノール樹脂(質量比)=30〜300:100、好ましくは50〜250:100の範囲である。フェノール樹脂100重量部に対し、エポキシ樹脂が30重量部未満の場合には充分な耐熱性が得られない。300重量部を超える場合には剥離強さが低下し好ましくない。   When the epoxy resin and the phenol resin are used in combination as the thermosetting resin, the mixing ratio is not particularly limited, but epoxy resin: phenol resin (mass ratio) = 30 to 300: 100, preferably It is in the range of 50 to 250: 100. If the epoxy resin is less than 30 parts by weight relative to 100 parts by weight of the phenol resin, sufficient heat resistance cannot be obtained. When the amount exceeds 300 parts by weight, the peel strength decreases, which is not preferable.

(iii)硬化剤について
上記熱硬化型の接着剤に用いられる硬化剤とは、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂の硬化剤または硬化触媒である。例えば、芳香族ポリアミン、三フッ化ホウ素トリエチルアミン錯体等の三フッ化ホウ素のアミン錯体、2−アルキル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−アルキルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸等の有機酸、ジシアンジアミド、トリフェニルホスフィン、ジアザビシクロウンデセン、ヒドラジン等公知のものが使用できる。なお、これら硬化剤、硬化触媒は単独で用いても良いし、必要に応じて2種類以上を併用しても良い。硬化剤、硬化触媒は、Bステージでの貯蔵安定性を向上させるため、常温域では殆ど反応が進行しないものが好ましい。
(Iii) Curing Agent The curing agent used for the thermosetting adhesive is a curing agent or curing catalyst for a thermosetting resin such as an epoxy resin. For example, aromatic polyamines, boron trifluoride amine complexes such as boron trifluoride triethylamine complex, imidazole derivatives such as 2-alkyl-4-methylimidazole and 2-phenyl-4-alkylimidazole, phthalic anhydride, Known acids such as organic acids such as merit acid, dicyandiamide, triphenylphosphine, diazabicycloundecene and hydrazine can be used. In addition, these hardening | curing agents and hardening catalysts may be used independently, and may use 2 or more types together as needed. In order to improve the storage stability at the B stage, it is preferable that the curing agent and the curing catalyst hardly react at room temperature.

これら硬化剤または硬化触媒の配合量(添加量)は、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂100重量部に対して0.01〜10重量部、好ましくは0.05〜5重量部が好ましい。0.01重量部より少ないと、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂の十分な硬化が得られず、はんだ耐熱性等が低下し、10重量部より多いと、はく離接着強さが低下し、貯蔵安定性が低下する等の問題を生じる。   The compounding amount (addition amount) of these curing agents or curing catalysts is 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.05 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of a thermosetting resin such as an epoxy resin. If the amount is less than 0.01 parts by weight, sufficient curing of the thermosetting resin such as an epoxy resin cannot be obtained, and the heat resistance of the solder is lowered. If the amount is more than 10 parts by weight, the peel adhesion strength is lowered and stored. This causes problems such as reduced stability.

(iv)無機充填剤について
上記熱硬化型の接着剤に用いられる無機充填剤としては、本質的に電気絶縁性のものであれば使用することができ、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、酸化アルミニウム、酸化カルシウム等の金属酸化物、その他、シリカ、マイカ、タルク、クレー等が挙げられる。これらは、単独あるいは必要に応じて2種以上併用して用いることができる。
(Iv) About Inorganic Filler The inorganic filler used in the thermosetting adhesive can be used as long as it is essentially electrically insulating, such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide. And metal oxides such as aluminum oxide and calcium oxide, silica, mica, talc, clay and the like. These can be used alone or in combination of two or more as required.

上記無機充填剤の配合量は、カルボン酸を官能基として含有するアクリルゴム(ベース成分の可とう性を有するゴム)+エポキシ樹脂(熱硬化性樹脂)+フェノール樹脂(熱硬化性樹脂)の有効成分の合計100重量部に対し、10〜100重量部、好ましくは20〜80重量部が好ましい。10重量部より少ないと、十分な耐燃性が得られず、また、100重量部より多いと、はく離接着強さが低下する等の問題を生じる。   The amount of the above inorganic filler is effective as acrylic rubber containing a carboxylic acid as a functional group (base component flexible rubber) + epoxy resin (thermosetting resin) + phenol resin (thermosetting resin). The amount is 10 to 100 parts by weight, preferably 20 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total components. When the amount is less than 10 parts by weight, sufficient flame resistance cannot be obtained. When the amount is more than 100 parts by weight, problems such as a decrease in peel adhesion strength occur.

上記無機充填剤は、ボールミル等を用いて、粒径を10μm以下に調整する(ここでいう粒径は、最大粒径をいうものとする。)。上記無機充填剤の粒径が10μmより大きいと、接着フィルム、カバーレイフィルムとした時、フィルム表面に凹凸が発生し、はく離接着強さ、はんだ耐熱性の低下および外観性を損ねる。   The inorganic filler is adjusted to a particle size of 10 μm or less using a ball mill or the like (the particle size here refers to the maximum particle size). When the particle size of the inorganic filler is larger than 10 μm, when it is used as an adhesive film or a coverlay film, irregularities are generated on the film surface, and the peel adhesion strength, the solder heat resistance is lowered, and the appearance is impaired.

(v)必要に応じて用いてもよい他の添加剤について
上記熱硬化型の接着剤では、更には、必要に応じて用いてもよい他の添加剤を本発明の作用効果を損なわない範囲内において配合したものであってもよい。具体的には、例えば、各種シランカップリング剤などを適宜、適量配合して用いることができる。
(V) Other Additives that may be Used as Needed In the above-described thermosetting adhesive, further, other additives that may be used as needed are within a range that does not impair the effects of the present invention. You may mix | blend inside. Specifically, for example, various silane coupling agents and the like can be appropriately mixed and used.

(vi)適当な溶媒について
また、上記接着剤の各配合成分を溶解(ないし分散)させるのに用いられる(vi)適当な溶媒としては、特に制限されるものではないが、メチルエチルケトン、トルエン、DMF(N,N’−ジメチルホルムアミド)、酢酸エチル、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコールなどが好適に利用することができる。なお、上記溶媒は、接着剤の各配合成分だけでも好適に塗布可能な溶液形態である場合には、特に用いなくてもよく、この場合には、接着剤=接着剤組成物の溶液として取り扱うことができる。
(Vi) About a suitable solvent Moreover, although it does not restrict | limit especially as a suitable solvent used in order to melt | dissolve (or disperse | distribute) each compounding component of the said adhesive agent, methyl ethyl ketone, toluene, DMF (N, N′-dimethylformamide), ethyl acetate, methanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol and the like can be suitably used. In addition, the solvent may not be particularly used when it is in a solution form that can be suitably applied with only each component of the adhesive. In this case, the solvent is handled as a solution of adhesive = adhesive composition. be able to.

該溶媒の配合量としては、上記接着剤の各配合成分の合計量100重量部に対して100〜1000重量部、好ましくは200〜600重量部の範囲である。溶媒の配合量が100重量部の場合には接着剤溶液の粘度が高すぎて塗工できず、1000重量部を超える場合には所望の厚みの接着剤層が得られない。   As a compounding quantity of this solvent, it is 100-1000 weight part with respect to 100 weight part of total amounts of each compounding component of the said adhesive agent, Preferably it is the range of 200-600 weight part. When the amount of the solvent is 100 parts by weight, the viscosity of the adhesive solution is too high to be applied, and when it exceeds 1000 parts by weight, an adhesive layer having a desired thickness cannot be obtained.

上記離型処理された紙ベースのセパレーターとしては、特に限定されるものではないが、例えば、上質紙、クラフト紙、ロール紙、グラシン紙等の紙の両面に、クレー、ポリエチレン、ポリプロピレン等の目止剤の塗布層を設け、さらにその各塗布層の上にシリコーン系、フッ素系、アルキド系の離型剤が塗布されたもの、および、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−α−オレフィン共重合体、プロピレン−α−オレフィン共重合体等の各種オレフィンフィルム単独、およびポリエチレンテレフタレート等のフィルム上に上記離型剤を塗布したものが挙げられるが、接着剤層との離型力、シリコーンが電気特性に悪影響を与える等の理由から、上質紙の両面にポリプロピレン目止処理しその上にアルキド系離型剤を用いたものが好ましい。   The release-based paper-based separator is not particularly limited. For example, the paper-based separator such as high-quality paper, kraft paper, roll paper, glassine paper, and the like such as clay, polyethylene, polypropylene, etc. A coating layer of a stopper is provided, and a silicone-based, fluorine-based, or alkyd-based release agent is coated on each coated layer, and polyethylene, polypropylene, ethylene-α-olefin copolymer, propylene -Various olefin films such as -α-olefin copolymer alone, and those obtained by applying the above release agent on a film such as polyethylene terephthalate, but the release force with the adhesive layer, silicone adversely affects the electrical properties For example, it is preferable to use polypropylene sealant on both sides of high-quality paper and use an alkyd release agent on it. Yes.

上記離型処理された紙ベースのセパレーターの厚さは、特に制限されるものではないが、50〜150μm、好ましくは80〜120μmの範囲である。離型処理された紙ベースのセパレーターの厚さが50μm未満の場合には、セパレーターとしての強度が不充分であり、150μmを超える場合には、ロールで巻き取る際にカールが大きくなるおそれがある。   The thickness of the release-based paper-based separator is not particularly limited, but is in the range of 50 to 150 μm, preferably 80 to 120 μm. When the thickness of the paper-based separator subjected to the release treatment is less than 50 μm, the strength as the separator is insufficient, and when it exceeds 150 μm, the curl may be increased when winding with a roll. .

上記離型処理されたPETフィルムベースのセパレーターとしては、特に限定されるものではないが、ポリエステルフィルム上にアルキド系離型剤を用いたもの挙げられる。ポリエステルフィルムに用いられる好ましいポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、エチレンテレフタレートとエチレンイソフタレートとの共重合体、ポリブチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンナフタレートおよびその共重合体、ポリヘキサメチレンナフタレートおよびその共重合体を挙げることができる。これらのポリエステルフィルムは、発塵が少なく、加熱時のガスの発生が少ないという利点を有している。   The PET film-based separator subjected to the release treatment is not particularly limited, and examples thereof include those using an alkyd release agent on a polyester film. Preferred polyesters used in the polyester film include polyethylene terephthalate, a copolymer of ethylene terephthalate and ethylene isophthalate, polybutylene terephthalate and its copolymer, polybutylene naphthalate and its copolymer, polyhexamethylene naphthalate and Mention may be made of the copolymers. These polyester films have the advantages that they generate less dust and generate less gas during heating.

上記離型処理されたPETフィルムベースのセパレーターの厚さは、特に制限されるものではないが、25〜100μm、好ましくは38〜75μmの範囲である。離型処理されたPETフィルムベースのセパレーターの厚さが25μm未満の場合には、セパレーターを剥がす際に剥がしにくく、作業性が低下し、100μmを超える場合には、ロールで巻き取る際にカールが大きくなるおそれがある。   The thickness of the release-treated PET film-based separator is not particularly limited, but is in the range of 25 to 100 μm, preferably 38 to 75 μm. When the release-treated PET film-based separator has a thickness of less than 25 μm, it is difficult to remove when the separator is peeled off, and the workability is reduced. When the separator exceeds 100 μm, curling occurs when winding with a roll. May grow.

上記カバーレイフィルム基材となる可とう性絶縁フィルム(カバーレイ構成ベースフィルム)101としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリイミドフィルム、PETフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as the flexible insulating film (coverlay structure base film) 101 used as the said coverlay film base material, For example, a polyimide film, PET film, a polyethylene naphthalate film etc. are mentioned.

上記カバーレイフィルム基材となる可とう性絶縁フィルム(カバーレイ構成ベースフィルム)101の厚さは、特に制限されるものではないが、4〜50μm、好ましくは12〜25μmの範囲である。可とう性絶縁フィルム(カバーレイ構成ベースフィルム)101の厚さが4μm未満の場合には、塗工時の歩留まりが著しく低下し、50μmを超える場合には、回路基板の厚みがますため好ましくない。   The thickness of the flexible insulating film (coverlay-constituting base film) 101 serving as the coverlay film substrate is not particularly limited, but is 4 to 50 μm, preferably 12 to 25 μm. If the thickness of the flexible insulating film (coverlay-constituting base film) 101 is less than 4 μm, the yield during coating is significantly reduced, and if it exceeds 50 μm, the thickness of the circuit board is unfavorable. .

また、本発明では、フロー性の異なる複数の層(102、103、・・)からなる接着剤層104を形成するのに、フロー性の異なる複数の接着剤を用いることができる。例えば、一層目の接着剤層102にフロー性の大きい接着剤を使用し、二層目となる接着剤層103にフロー性の小さい接着剤を使用し、一層目と二層目の接着剤層102、103を積層する傾斜配置によって、フロー性の異なる接着剤層104を有する接着フィルム105を得ることができる。なお、ここで複数の接着剤としては、接着材料のゴム/樹脂比が異なるもの、或いはゴム/樹脂比は同一であっても、添加剤や充填材の添加によりフロー性が異なるもの等が挙げられる。   Moreover, in this invention, in order to form the adhesive bond layer 104 which consists of several layers (102,103, ...) from which flow property differs, the some adhesive agent from which flow property differs can be used. For example, an adhesive having a high flow property is used for the first adhesive layer 102, and an adhesive having a low flow property is used for the second adhesive layer 103, and the first and second adhesive layers are used. The adhesive film 105 having the adhesive layer 104 having different flow properties can be obtained by the inclined arrangement in which the layers 102 and 103 are laminated. Here, as the plurality of adhesives, those having different rubber / resin ratios of adhesive materials, or those having the same rubber / resin ratio but having different flow properties due to addition of additives and fillers, etc. It is done.

このようにして得られた接着フィルム105のフロー性の小さい面(接着剤層103側)、あるいはカバーレイフィルム100の接着剤面(接着剤層103側)を絶縁基板(下層基板203)上の(回路基板200構成ベースフィルム202の)金属層部分に形成された所要の配線パターン(導通ないし回路パターン)201上に貼り付けることによって、表面平滑性に優れ、且つ配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑え、さらにより薄い接着剤層104を有する多層回路基板300が得られる。   The surface of the adhesive film 105 thus obtained with a low flowability (adhesive layer 103 side) or the adhesive surface of the coverlay film 100 (adhesive layer 103 side) is placed on the insulating substrate (lower substrate 203). By pasting on a required wiring pattern (conducting or circuit pattern) 201 formed on a metal layer portion (of the circuit board 200 configuration base film 202), it has excellent surface smoothness and an opening portion such as a wiring pattern terminal portion. Thus, the multilayer circuit board 300 having the thinner adhesive layer 104 can be obtained.

即ち、本発明の多層回路基板300は、上記接着剤層104として、フロー性の大きい接着剤層102、フロー性の小さい接着剤層103のように、フロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層して成り、フロー性が小さい方(接着剤層103)がパターン(201)側にくるように配置されていることを特徴とするものである。また、本発明のフレキシブル回路基板300は、本発明の回路基板用カバーレイフィルム100を用いてなることを特徴とするものである。即ち、本発明のフレキシブル回路基板300でも、上記接着剤層104として、フロー性の大きい接着剤層102、フロー性の小さい接着剤層103のように、フロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層して成り、フロー性が小さい方(接着剤層103)がパターン(201)側にくるように配置されていることを特徴とするものである。言い換えれば、即ち、本発明のフレキシブル回路基板300でも、フロー性の大きい接着剤層102、フロー性の小さい接着剤層103のように、フロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層して成る接着フィルム層104を設けてなるものであって、前記接着フィルム層104におけるフロー性が前記フィルム基材100側から外側(パターン201側=接着剤層103側)にかけて小さくなるよう傾斜配置して成ることを特徴とするものといえる。よって、上記回路基板200は、多層回路基板ないしフレキシブル回路基板に用いられる構成要素といえる。   That is, in the multilayer circuit board 300 of the present invention, as the adhesive layer 104, at least two adhesive layers having different flow properties such as an adhesive layer 102 having a high flow property and an adhesive layer 103 having a low flow property are used. It is characterized by being laminated and arranged such that the one with the lower flowability (adhesive layer 103) is on the pattern (201) side. The flexible circuit board 300 of the present invention is characterized by using the circuit board coverlay film 100 of the present invention. That is, even in the flexible circuit board 300 of the present invention, the adhesive layer 104 includes at least two adhesive layers having different flow properties, such as the adhesive layer 102 having a high flow property and the adhesive layer 103 having a low flow property. It is characterized by being laminated and arranged such that the one with the lower flowability (adhesive layer 103) is on the pattern (201) side. In other words, in the flexible circuit board 300 of the present invention, at least two adhesive layers having different flow properties are laminated, such as the adhesive layer 102 having a high flow property and the adhesive layer 103 having a low flow property. The adhesive film layer 104 is provided, and is disposed so as to be inclined so that the flowability in the adhesive film layer 104 decreases from the film substrate 100 side to the outside (pattern 201 side = adhesive layer 103 side). It can be said that it is characterized by. Therefore, it can be said that the circuit board 200 is a component used for a multilayer circuit board or a flexible circuit board.

ここで、接着フィルム105のフロー性の小さい面(接着剤層103側)、あるいはカバーレイフィルム100の接着剤面(接着剤層103側)を絶縁基板(下層基板203)上の(回路基板200構成ベースフィルム202の)金属層部分に形成された所要の配線パターン(導通ないし回路パターン)201上に貼り付ける際の条件としては、特に制限されるものではなく、従来公知の方法を適用することができる。例えば、熱ラミネートなどの熱プレス(加熱加圧)する方法、加熱ロールにより、ロールラミネートする方法などが適用できる。   Here, the surface of the adhesive film 105 with low flowability (adhesive layer 103 side) or the adhesive surface of the coverlay film 100 (adhesive layer 103 side) is placed on the insulating substrate (lower substrate 203) (circuit board 200). The conditions for adhering to the required wiring pattern (conduction or circuit pattern) 201 formed on the metal layer portion of the constituent base film 202 are not particularly limited, and a conventionally known method is applied. Can do. For example, a method of hot pressing (heating and pressing) such as heat laminating, a method of roll laminating with a heating roll, and the like can be applied.

上記熱ラミネートなどの熱プレス(加熱加圧)する方法を用いる場合の条件としては、接着剤層102、103やカバーレイフィルム基材となる可とう性絶縁フィルム101、離型処理された紙やPETフィルムベースのセパレーター等の耐熱性や溶融温度(ないしガラス転移温度など)に応じて適宜決定すればよい。具体的には、70〜130℃、好ましくは80〜120℃で、0.5〜5MPa、好ましくは1〜3MPaで、5〜120秒間、好ましくは10〜60秒間の範囲で加熱圧着(熱ラミネート)を行うのが望ましい。ここで、70℃未満の場合には接着層が接着せず、130℃を超える場合にはPETセパレーターが変形するおそれがある。0.5MPa未満の場合には接着層が接着せず、5MPaを超える場合には開口部分に接着剤が流れ出す量が多くなるおそれがある。5秒未満の場合には接着層が接着せず、120秒を超える場合には開口部分に接着剤が流れ出す量が多くなるおそれがある。なお、加熱ロールにより、ロールラミネートする方法を用いる場合の条件も、上記熱ラミネートなどの熱プレス(加熱加圧)する方法を用いる場合の条件とほぼ同様の条件で行うことができる。   The conditions for using the method of hot pressing (heating and pressurizing) such as the above heat laminating include adhesive layers 102 and 103, flexible insulating film 101 serving as a coverlay film substrate, release-treated paper, What is necessary is just to determine suitably according to heat resistance, such as a PET film base separator, and melting temperature (or glass transition temperature etc.). Specifically, it is 70 to 130 ° C., preferably 80 to 120 ° C., 0.5 to 5 MPa, preferably 1 to 3 MPa, and thermocompression bonding (thermal lamination) in the range of 5 to 120 seconds, preferably 10 to 60 seconds. ) Is desirable. Here, when it is less than 70 ° C., the adhesive layer does not adhere, and when it exceeds 130 ° C., the PET separator may be deformed. If it is less than 0.5 MPa, the adhesive layer does not adhere, and if it exceeds 5 MPa, the amount of the adhesive flowing out to the opening may increase. If it is less than 5 seconds, the adhesive layer does not adhere, and if it exceeds 120 seconds, the amount of the adhesive flowing out to the opening portion may increase. In addition, the conditions in the case of using the method of roll laminating with a heating roll can be performed under substantially the same conditions as in the case of using the method of hot pressing (heating and pressurizing) such as the above-mentioned thermal lamination.

配線パターン(導通ないし回路パターン)201上には相対的にフロー性の小さい接着剤層103が貼り付けられるが、この接着剤層103は、配線と配線の間を十分に埋め込み、部分的な隙間が生じない程度のフロー性が得られるよう設計する必要がある。   An adhesive layer 103 having a relatively low flow property is pasted on the wiring pattern (conducting or circuit pattern) 201. This adhesive layer 103 is sufficiently embedded between the wiring and has a partial gap. It is necessary to design so as to obtain a flow property to such an extent that does not occur.

上記接着剤層103単独の場合、配線パターン端子部等の開口部分に接着剤が流れ出すことはないが、多層回路基板300やフレキシブル回路基板(図示せず)の表面平滑性は得られない。本発明では上記接着剤層103の上に、相対的にフロー性の大きい接着剤層102を積層する傾斜配置によって、極力薄い接着剤層(相間接着剤層)104でありながら、接着剤の流れ出し抑制と多層回路基板の表面平滑性を両立することができる。   In the case of the adhesive layer 103 alone, the adhesive does not flow out to the opening portion such as the wiring pattern terminal portion, but the surface smoothness of the multilayer circuit board 300 or the flexible circuit board (not shown) cannot be obtained. In the present invention, the adhesive layer 103 is laminated on the above-mentioned adhesive layer 103 so that the adhesive layer 102 is relatively thin, so that the adhesive can flow out while being the thinnest adhesive layer (interphase adhesive layer) 104. It is possible to achieve both suppression and surface smoothness of the multilayer circuit board.

すなわち、本発明の接着フィルム105ないしカバーレイフィルム100では、相対的にフロー性の小さい接着剤層103の上に、相対的にフロー性の大きい接着剤層102を積層する傾斜配置することによって、配線パターン(導通ないし回路パターン)201上にプレス(熱ラミネート)などにより貼り付ける際に、まず最初に相対的にフロー性の小さい接着剤層103が当接し、該接着剤層の持つ低フロー性により、部分的に空隙、ボイドが生じることなく配線パターン201の配線と配線の間に十分に入り込むことができ、所定の接着強度を得ることができる。さらに当該接着剤層103に傾斜配置された相対的にフロー性の大きい接着剤層102では、接着剤層103が配線パターン201の微細かつ複雑なパターン形状に追従、変化したのに続き、同じ形状を連続的にトレース(追従)する形(連続して押し込まれて先の接着剤層103の押し込み後の形状をなぞる形)で、既に接着剤層102が入り込んだ後の配線パターン201の配線と配線の間に連続して入り込ませることができる。そのため、相対的にフロー性の大きい接着剤層102であっても、配線パターン201の配線と配線の間に部分的に空隙、ボイドが生じることなく十分に入り込ませることができるものである。こうしてプレス(熱ラミネートなど)して貼り付けた後の接着剤層104では、接着剤の流れ出し抑制と多層回路基板の表面平滑性を両立することができるものである。   That is, in the adhesive film 105 or the coverlay film 100 of the present invention, by placing the adhesive layer 102 having a relatively high flow property on the adhesive layer 103 having a relatively low flow property, the inclined arrangement is performed. When affixing on the wiring pattern (conduction or circuit pattern) 201 by press (thermal lamination) or the like, first, the adhesive layer 103 having a relatively low flow property comes into contact first, and the low flow property of the adhesive layer By this, it is possible to sufficiently enter between the wirings of the wiring pattern 201 without causing voids and voids partially, and a predetermined adhesive strength can be obtained. Furthermore, in the adhesive layer 102 having a relatively high flow property that is inclinedly disposed on the adhesive layer 103, the adhesive layer 103 follows and changes the fine and complicated pattern shape of the wiring pattern 201, and the same shape. And the wiring of the wiring pattern 201 after the adhesive layer 102 has already entered, in a form that continuously traces (follows) the shape of the adhesive layer 102. It can be continuously inserted between the wirings. For this reason, even the adhesive layer 102 having a relatively high flow property can be sufficiently penetrated without causing a gap or a void between the wirings of the wiring pattern 201. In the adhesive layer 104 after being pressed and attached in this manner (such as heat lamination), it is possible to achieve both the suppression of the flow of the adhesive and the surface smoothness of the multilayer circuit board.

本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例に示す形態のみに制限されるわけではない。   The effects of the present invention will be described using the following examples and comparative examples. However, the technical scope of the present invention is not limited to only the forms shown in the following examples.

実施例1
(1)接着剤組成物の溶液の調整
カルボン酸を官能基として含有するアクリルゴムWS02 3D R(ナガセケムテックス製;数平均分子量110000)60重量部に対し、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のESCN−195−10(住友化学株式会社製)を20重量部、レゾール型フェノール樹脂のヒタノールH2181(日立化成工業株式会社製)20重量部、硬化剤としてジシアンジアミド0.6重量部、無機充填剤として水酸化アルミニウムのハイジライトH42M(昭和電工株式会社製)20重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散し、不揮発分20wt%溶液とした。この溶液を、ボールミルを用いて無機充填剤を粒径5μm以下に調整し、十分に分散して接着剤組成物の溶液とした。
Example 1
(1) Preparation of solution of adhesive composition ESCN-195 of cresol novolac type epoxy resin with respect to 60 parts by weight of acrylic rubber WS02 3D R (manufactured by Nagase ChemteX; number average molecular weight 110000) containing carboxylic acid as a functional group -10 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 20 parts by weight of a resol type phenolic resin, butanol H2181 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), 0.6 part by weight of dicyandiamide as a curing agent, aluminum hydroxide as an inorganic filler 20 parts by weight of Hijilite H42M (manufactured by Showa Denko KK) was dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone to obtain a 20 wt% nonvolatile solution. This solution was adjusted to a particle size of 5 μm or less using a ball mill, and sufficiently dispersed to prepare an adhesive composition solution.

(2)接着フィルムの作製
1層目の接着剤層102として、厚さ98μmの離型処理された紙ベースのセパレーター(アルキド系離型剤/PET(厚さ16μm)/上質紙/PET(厚さ16μm))に、乾燥後の接着剤層102の厚みが20μmになるように上記(1)で得られた接着剤組成物の溶液を塗布し、熱風乾燥機中で100℃×5分乾燥し、フロー性の大きい接着剤層102とした。続いて2層目の接着剤層103として、厚さ50μmの離型処理されたPETフィルムベースのセパレーター(アルキド系離型剤/PET(厚さ50μm))に、上記(1)で得られた同じ接着剤組成物の溶液を乾燥後の接着剤層103の厚みが20μmになるように塗布し、熱風乾燥機中で100℃×5分乾燥し、さらに追加で100℃×10分加熱処理を施し、フロー性の小さい接着剤層103とした。得られた二つの接着剤層102、103を熱ラミネート(100℃、2MPa、ラミネート時間30秒間)により積層し、傾斜配置することで接着剤層104を有する接着フィルム105とした。得られた接着フィルム105につき、以下の特性評価を行った。
(2) Production of Adhesive Film As the first adhesive layer 102, a 98 μm-thickness release-based paper-based separator (alkyd release agent / PET (thickness 16 μm) / quality paper / PET (thickness) 16 μm)), the solution of the adhesive composition obtained in (1) above was applied so that the thickness of the adhesive layer 102 after drying was 20 μm, and dried in a hot air dryer at 100 ° C. for 5 minutes. Thus, the adhesive layer 102 having high flowability was obtained. Subsequently, as a second adhesive layer 103, a 50 μm thick PET film-based separator (alkyd release agent / PET (thickness 50 μm)) obtained by the above (1) was obtained. The same adhesive composition solution was applied so that the thickness of the adhesive layer 103 after drying was 20 μm, dried in a hot air dryer at 100 ° C. for 5 minutes, and further heated at 100 ° C. for 10 minutes. To give an adhesive layer 103 with low flowability. The obtained two adhesive layers 102 and 103 were laminated by thermal lamination (100 ° C., 2 MPa, laminating time 30 seconds), and inclined to form an adhesive film 105 having an adhesive layer 104. The obtained adhesive film 105 was evaluated for the following characteristics.

(特性評価)
(3)プレス加工性
厚さ25μmのポリイミドフィルムと厚さ35μmの銅箔Aで形成される銅張り積層板のポリイミド面に、上記のフロー性の異なる接着剤層104を有する接着フィルム105を貼り合わせた。この際、接着フィルム105の離型処理された紙ベースのセパレーターを剥がした後、該接着フィルム105のフロー性の大きい面(接着剤層102側)を積層板のポリイミド面に貼り合わせた(貼り合わせ条件;熱ラミネート、100℃、2MPa、30秒とした。)。続いて接着フィルム105の離型処理されたPETフィルムベースのセパレーターを剥がした後、該接着フィルム105のフロー性の小さい面(接着剤層103側)を、所要の配線パターンを有する銅張り積層板(厚さ35μmの銅箔の配線パターンと、厚さ25μmのポリイミド製の基材フィルムで形成される銅張り積層板)の銅箔面(配線パターン面)に貼り合わせた(貼り合わせ条件;熱ラミネート、100℃、2MPa、30秒とした。)。次にプレス温度170℃、圧力2.0MPa、時間5分間加熱圧着して、最外層の銅箔Aの表面平滑性、端部からの流れ出し性を評価した。得られた結果を下記表1に示す。
(Characteristic evaluation)
(3) Press workability Adhesive film 105 having adhesive layers 104 having different flow properties is pasted on the polyimide surface of a copper-clad laminate formed of a polyimide film having a thickness of 25 μm and copper foil A having a thickness of 35 μm. Combined. At this time, the paper-based separator on which the adhesive film 105 was subjected to the mold release treatment was peeled off, and then the surface of the adhesive film 105 having a high flowability (adhesive layer 102 side) was bonded to the polyimide surface of the laminate (adhesion). Matching conditions: thermal lamination, 100 ° C., 2 MPa, 30 seconds). Subsequently, the PET film base separator from which the adhesive film 105 has been subjected to the release treatment is peeled off, and then the surface of the adhesive film 105 having a low flowability (adhesive layer 103 side) is provided with a copper-clad laminate having a required wiring pattern. Bonded to the copper foil surface (wiring pattern surface) of (a copper-clad laminate formed of a 35 μm thick copper foil wiring pattern and a 25 μm thick polyimide base film) (bonding conditions; heat Lamination, 100 ° C., 2 MPa, 30 seconds). Next, thermocompression bonding was performed at a press temperature of 170 ° C., a pressure of 2.0 MPa, and a time of 5 minutes, and the surface smoothness of the outermost layer copper foil A and the flowability from the end were evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.

(4)フロー性
作製した接着フィルム105の離型処理された紙ベースのセパレーター及び離型処理されたPETフィルムベースのセパレーターを剥がした後、該接着フィルム105を温度170℃、圧力9.8MPa、時間1分間加熱圧着して、直径1.0mm、長さ1.0mmのステンレス製のダイからの接着フィルム流出量(単位g/10分)をフロー性の指標として算出した。得られた結果を下記表1に示す。
(4) Flowability After peeling off the release-treated paper-based separator and the release-treated PET film-based separator of the produced adhesive film 105, the adhesive film 105 was subjected to a temperature of 170 ° C., a pressure of 9.8 MPa, The adhesive film flow amount (unit: g / 10 minutes) from a stainless steel die having a diameter of 1.0 mm and a length of 1.0 mm was calculated as a flowability index by thermocompression bonding for 1 minute. The obtained results are shown in Table 1 below.

実施例2
実施例1において、2層目の接着剤層103を作製する際、水酸化アルミニウムのハイジライトH42M(昭和電工株式会社製)を50重量部とした接着剤組成物の溶液を使用し、2層目の接着剤層103の追加加熱処理を行わなかった以外は、実施例1と同様に行った。得られた接着フィルム105の特性評価(表面平滑性、端部からの流れ出し性およびフロー性)結果を下記表1に示す。
Example 2
In Example 1, when the second adhesive layer 103 was prepared, an adhesive composition solution containing 50 parts by weight of aluminum hydroxide Heidilite H42M (manufactured by Showa Denko KK) was used. The same procedure as in Example 1 was performed except that the additional heat treatment of the eye adhesive layer 103 was not performed. Table 1 below shows the results of characteristic evaluation (surface smoothness, flowability from the end portion, and flowability) of the obtained adhesive film 105.

実施例3
実施例1において、1層目の接着剤層102を作製する際、離型処理された紙ベースのセパレーターの代わりに、カバーレイフィルム基材となる可とう性絶縁フィルム(カバーレイ構成ベースフィルム)101として、25μm厚みのポリイミドフィルムを用い、カバーレイフィルム100とした以外は、実施例1と同様に行った。得られたカバーレイフィルム100につき、以下の特性評価を行った。
Example 3
In Example 1, when producing the first adhesive layer 102, a flexible insulating film (coverlay-constituting base film) serving as a coverlay film substrate instead of the paper-based separator subjected to the release treatment The same procedure as in Example 1 was performed except that a polyimide film having a thickness of 25 μm was used as 101 and the coverlay film 100 was used. The obtained cover lay film 100 was evaluated for the following characteristics.

(特性評価)
(3)プレス加工性
カバーレイフィルム100の離型処理されたPETフィルムベースのセパレーターを剥がした後、該カバーレイフィルム100のフロー性の小さい面(接着剤層103側)を、所要の配線パターンを有する銅張り積層板(厚さ35μmの銅箔の配線パターンと、厚さ25μmのポリイミド製の基材フィルムで形成される銅張り積層板)の銅箔面(配線パターン面)に貼り合わせた(貼り合わせ条件;熱ラミネート、100℃、2MPa、30秒とした。)。次にプレス温度170℃、圧力2.0MPa、時間5分間加熱圧着して、最外層のカバーレイフィルム基材101の表面平滑性、端部からの流れ出し性を評価した。得られた結果を下記表1に示す。
(Characteristic evaluation)
(3) Press workability After peeling off the release-treated PET film-based separator of the coverlay film 100, the surface of the coverlay film 100 having a low flowability (adhesive layer 103 side) is placed on the required wiring pattern. Bonded to the copper foil surface (wiring pattern surface) of a copper-clad laminate (a copper-clad laminate formed of a 35 μm thick copper foil wiring pattern and a 25 μm thick polyimide base film) (Lamination conditions: thermal lamination, 100 ° C., 2 MPa, 30 seconds). Next, thermocompression bonding was performed at a press temperature of 170 ° C., a pressure of 2.0 MPa, and a time of 5 minutes, and the surface smoothness of the coverlay film substrate 101 of the outermost layer and the flowability from the end were evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.

(4)フロー性
作製したカバーレイフィルム100の離型処理されたPETフィルムベースのセパレーターを剥がした後、該カバーレイフィルム100を、温度170℃、圧力9.8MPa、時間1分間加熱圧着して、直径1.0mm、長さ1.0mmのステンレス製のダイからのカバーレイフィルム流出量(単位g/10分)をフロー性の指標として算出した。得られた結果を下記表1に示す。ここで、片面がカバーレイフィルム基材であるカバーレイフィルムの場合には、カバーレイフィルム基材のポリイミドフィルムから接着剤層を剥がし取って測定した。
(4) Flowability After removing the release-treated PET film-based separator of the produced coverlay film 100, the coverlay film 100 was thermocompression bonded at a temperature of 170 ° C., a pressure of 9.8 MPa for 1 minute. The amount of the coverlay film outflow (unit: g / 10 minutes) from a stainless steel die having a diameter of 1.0 mm and a length of 1.0 mm was calculated as an index of flowability. The obtained results are shown in Table 1 below. Here, in the case of the coverlay film whose one side is a coverlay film base material, the adhesive layer was peeled off from the polyimide film of the coverlay film base material and measured.

比較例1
実施例1において、1層目の接着剤層102として乾燥後の接着剤層の厚みが40μmになるように接着剤組成物の溶液を塗布し、熱風乾燥機中で100℃×5分乾燥し、単層の(接着剤層102からなる)接着フィルム105とした以外は、実施例1と同様に行った。得られた接着フィルム105につき、以下の特性評価を行った。
Comparative Example 1
In Example 1, the adhesive composition solution was applied so that the thickness of the adhesive layer after drying was 40 μm as the first adhesive layer 102 and dried in a hot air dryer at 100 ° C. for 5 minutes. The same procedure as in Example 1 was conducted except that the adhesive film 105 (consisting of the adhesive layer 102) was used. The obtained adhesive film 105 was evaluated for the following characteristics.

(特性評価)
(3)プレス加工性
厚さ25μmのポリイミドフィルムと厚さ35μmの銅箔Aで形成される銅張り積層板のポリイミド面に、上記単層の接着剤層102からなる接着フィルム105を貼り合わせた。この際、接着フィルム105の離型処理された紙ベースのセパレーターが形成されていない接着剤層102面をまず最初に積層板のポリイミド面に貼り合わせた(貼り合わせ条件;熱ラミネート、100℃、2MPa、30秒とした。)。続いて接着フィルム105の離型処理された紙ベースのセパレーターを剥がした後、該接着フィルム105の接着剤層102を、所要の配線パターンを有する銅張り積層板(厚さ35μmの銅箔の配線パターンと、厚さ25μmのポリイミド製の基材フィルムで形成される銅張り積層板)の銅箔面(配線パターン面)に貼り合わせた(貼り合わせ条件;熱ラミネート、100℃、2MPa、30秒とした。)。次にプレス温度170℃、圧力2.0MPa、時間5分間加熱圧着して、最外層の銅箔Aの表面平滑性、端部からの流れ出し性を評価した。得られた結果を下記表1に示す。
(Characteristic evaluation)
(3) Press workability An adhesive film 105 composed of the single-layer adhesive layer 102 was bonded to a polyimide surface of a copper-clad laminate formed of a polyimide film having a thickness of 25 μm and a copper foil A having a thickness of 35 μm. . At this time, the surface of the adhesive layer 102 on which the release separator of the adhesive film 105 was not formed was first bonded to the polyimide surface of the laminate (bonding conditions; thermal lamination, 100 ° C., 2 MPa, 30 seconds). Subsequently, the paper-based separator from which the adhesive film 105 was subjected to the release treatment was peeled off, and then the adhesive layer 102 of the adhesive film 105 was placed on a copper-clad laminate having a required wiring pattern (a copper foil wiring having a thickness of 35 μm). Bonded to the copper foil surface (wiring pattern surface) of the pattern and a 25 μm thick polyimide base film made of polyimide (bonding conditions; thermal lamination, 100 ° C., 2 MPa, 30 seconds) ). Next, thermocompression bonding was performed at a press temperature of 170 ° C., a pressure of 2.0 MPa, and a time of 5 minutes, and the surface smoothness of the outermost layer copper foil A and the flowability from the end portion were evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.

(4)フロー性
作製した接着フィルム105の離型処理された紙ベースのセパレーターを剥がした後、該接着フィルム105を温度170℃、圧力9.8MPa、時間1分間加熱圧着して、直径1.0mm、長さ1.0mmのステンレス製のダイからの接着フィルム流出量(単位g/10分)をフロー性の指標として算出した。得られた結果を下記表1に示す。
(4) Flowability After the release-processed paper-based separator of the produced adhesive film 105 was peeled off, the adhesive film 105 was subjected to thermocompression bonding at a temperature of 170 ° C., a pressure of 9.8 MPa for 1 hour, and a diameter of 1. The amount of adhesive film outflow (unit: g / 10 minutes) from a stainless die having a length of 0 mm and a length of 1.0 mm was calculated as an index of flowability. The obtained results are shown in Table 1 below.

比較例2
実施例1において、1層目の接着剤層102を作製する際、水酸化アルミニウムのハイジライトH42M(昭和電工製)を50重量部とした接着剤組成物の溶液を使用した以外は、実施例1と同様に行った。得られた接着フィルム105の特性評価(表面平滑性、端部からの流れ出し性およびフロー性)結果を下記表1に示す。
Comparative Example 2
In Example 1, when the first adhesive layer 102 was produced, an example was used except that an adhesive composition solution containing 50 parts by weight of aluminum hydroxide Heidilite H42M (manufactured by Showa Denko) was used. 1 was performed. Table 1 below shows the results of characteristic evaluation (surface smoothness, flowability from the edge and flowability) of the obtained adhesive film 105.

Figure 2008198732
Figure 2008198732

表中の各接着剤層の形成に用いられた接着剤組成物の溶液の配合部数(重量部)は、溶剤を除いた有効成分の重量部比を表わす。   The number of parts (parts by weight) of the solution of the adhesive composition used for forming each adhesive layer in the table represents the ratio by weight of the active ingredient excluding the solvent.

また、表中の回路基板構成Aは、銅張り積層板/接着フィルム/所要の配線パターンを有する銅張り積層板とする。   The circuit board configuration A in the table is a copper-clad laminate having a copper-clad laminate / adhesive film / required wiring pattern.

表中の回路基板構成Bは、カバーレイフィルム/所要の配線パターンを有する銅張り積層板とする。   The circuit board configuration B in the table is a copper-clad laminate having a coverlay film / required wiring pattern.

表中の表面平滑性の判定は、図3のようなレーザー変位計を用いて、以下のように2段階で評価して行った。いずれもサンプル数5個につき行った。   The determination of the surface smoothness in the table was performed using a laser displacement meter as shown in FIG. All were performed for 5 samples.

○ すべてのサンプルについて凹凸の高さが8μm未満である
× サンプル1つでも凹凸の高さが8μm以上が見られる。
○ The height of the unevenness is less than 8 μm for all samples. × Even with one sample, the height of the unevenness is 8 μm or more.

表中の(端部からの)流れ出し性の判定は、ノギスを用いて、以下のように2段階で評価して行った。いずれもサンプル数5個につき行った。   Judgment of the flowability (from the end) in the table was performed using a caliper and evaluated in two stages as follows. All were performed for 5 samples.

○ 流れ出し部分の最長部が100μm以下である
× 流れ出し部分の最長部が100μmを超える。
○ The longest part of the flow-out part is 100 μm or less. X The longest part of the flow-out part exceeds 100 μm.

以上の説明から明らかなように、接着フィルム、カバーレイフィルムの接着剤層としてフロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層し、前記接着剤層のフロー性の小さい面を配線パターン上に設けることで、上記特性評価でのプレス(加熱圧着)後の表面平滑性に優れ、且つ配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑えることが可能な接着フィルム、カバーレイフィルムを提供することができる。   As is clear from the above description, at least two adhesive layers having different flow properties are laminated as an adhesive layer of an adhesive film and a coverlay film, and the surface with a small flow property of the adhesive layer is placed on the wiring pattern. By providing, an adhesive film and a cover lay film that have excellent surface smoothness after pressing (thermocompression bonding) in the above characteristic evaluation and can suppress the flow of the adhesive material to the opening portion of the wiring pattern terminal portion as much as possible. Can be provided.

本発明の回路基板用接着フィルムを模式的に表した断面概略図である。It is the cross-sectional schematic which represented typically the adhesive film for circuit boards of this invention. 本発明の回路基板用カバーレイフィルムと、該回路基板用カバーレイフィルムを適用する相手側の回路パターンが形成されている多層回路基板の構成とを模式的に表した断面概略図である。It is the cross-sectional schematic which represented typically the structure of the multilayer circuit board in which the circuit pattern of the other party which applies this circuit board coverlay film of this invention and the circuit board coverlay film of this invention is formed. 実施例で得られた接着フィルムにつき、レーザー変位計を用いて表面平滑性(表面の凹凸)を測定する様子を模式的に表した解説図である。It is explanatory drawing which represented typically a mode that surface smoothness (surface unevenness | corrugation) was measured about the adhesive film obtained in the Example using the laser displacement meter.

符号の説明Explanation of symbols

100 カバーレイフィルム、
101 カバーレイフィルム基材となる可とう性絶縁フィルム(カバーレイ構成ベースフィルム)、
102 フロー性の大きい接着剤層、
103 フロー性の小さい接着剤層、
104 ロー性の異なる複数の層からなる接着剤層、
105 回路基板用接着フィルム、
200 回路基板、
201 導通(ないし回路)パターン、
202 回路基板構成ベースフィルム、
203 下層基板(絶縁基板)、
300 多層回路基板ないしフレキシブル回路基板。
100 coverlay film,
101. A flexible insulating film (coverlay composition base film) to be a coverlay film base material,
102 Adhesive layer with high flowability,
103 Adhesive layer with low flowability,
104 Adhesive layer composed of a plurality of layers having different rheological properties,
105 adhesive film for circuit boards,
200 circuit board,
201 conduction (or circuit) pattern,
202 circuit board configuration base film,
203 Lower layer substrate (insulating substrate),
300 Multi-layer circuit board or flexible circuit board.

Claims (5)

フロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層した、傾斜配置によって成ることを特徴とする回路基板用接着フィルム。   An adhesive film for a circuit board, comprising an inclined arrangement in which at least two adhesive layers having different flow properties are laminated. 温度170℃、圧力9.8MPa、時間1分間加熱圧着して、直径1.0mm、長さ1.0mmのステンレス製のダイからの接着フィルム流出量(単位g/10分)をフロー性の指標として算出すると、
一層目の接着剤層のフロー性は70〜120g/10分の範囲であり、
二層目の接着剤層のフロー性は10〜50g/10分の範囲であり、
接着剤層が三層以上の場合は、n層目の接着剤層のフロー性はn−1層目のフロー性より小さい(ここで、nは3〜接着剤層の積層数までの整数である。)ことを特徴とする回路基板用接着フィルム。
A flow rate of adhesive film outflow (unit: g / 10 min) from a stainless steel die having a diameter of 1.0 mm and a length of 1.0 mm by thermocompression bonding at a temperature of 170 ° C. and a pressure of 9.8 MPa for 1 minute. Is calculated as
The flowability of the first adhesive layer is in the range of 70 to 120 g / 10 min.
The flowability of the second adhesive layer is in the range of 10-50 g / 10 minutes,
When there are three or more adhesive layers, the flow property of the nth adhesive layer is smaller than the flow property of the (n-1) th layer (where n is an integer from 3 to the number of laminated adhesive layers). An adhesive film for circuit boards.
フィルム基材の片面に、請求項1又は2記載のフロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層して成る接着フィルム層を設けてなるものであって、
前記接着フィルム層におけるフロー性が前記フィルム基材側から外側にかけて小さくなるよう傾斜配置して成ることを特徴とする回路基板用カバーレイフィルム。
An adhesive film layer formed by laminating at least two adhesive layers having different flow properties according to claim 1 or 2 on one side of a film substrate,
A cover lay film for a circuit board, wherein the adhesive film layer is arranged so as to be inclined so that the flowability of the adhesive film layer decreases from the film base to the outside.
請求項1又は2記載のフロー性の異なる接着剤層を少なくとも2層以上積層して成り、フロー性が小さい方がパターン側にくるように配置されている多層回路基板。   A multilayer circuit board comprising a plurality of adhesive layers having different flow properties according to claim 1 or 2 laminated and arranged such that the smaller flow property is on the pattern side. 請求項3の回路基板用カバーレイフィルムを用いてなるフレキシブル回路基板。   A flexible circuit board using the circuit board coverlay film according to claim 3.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114615835A (en) * 2022-04-26 2022-06-10 生益电子股份有限公司 Stepped circuit board, manufacturing method thereof and double-layer adhesive tape

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63295287A (en) * 1987-05-27 1988-12-01 Canon Inc Correction sheet and correction method
JPS641577A (en) * 1987-03-02 1989-01-05 Canon Inc Correction sheet and method thereof
JPH07216313A (en) * 1994-01-28 1995-08-15 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive sheet, its production, copper foil with insulating adhesive layer, and its production
JPH1168267A (en) * 1997-08-20 1999-03-09 Sony Corp Production of resin sheet and multilayer printed wiring board
JP2006073934A (en) * 2004-09-06 2006-03-16 Nippon Mektron Ltd Multilayer circuit board and its manufacturing method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003198107A (en) * 2001-12-26 2003-07-11 Fujikura Ltd Cover-lay film, method for manufacturing the same, and flexible board
JP3755657B2 (en) * 2002-05-16 2006-03-15 三菱電機株式会社 Wiring board and manufacturing method thereof

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS641577A (en) * 1987-03-02 1989-01-05 Canon Inc Correction sheet and method thereof
JPS63295287A (en) * 1987-05-27 1988-12-01 Canon Inc Correction sheet and correction method
JPH07216313A (en) * 1994-01-28 1995-08-15 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive sheet, its production, copper foil with insulating adhesive layer, and its production
JPH1168267A (en) * 1997-08-20 1999-03-09 Sony Corp Production of resin sheet and multilayer printed wiring board
JP2006073934A (en) * 2004-09-06 2006-03-16 Nippon Mektron Ltd Multilayer circuit board and its manufacturing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10057990B2 (en) 2015-11-11 2018-08-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Flexibile printed circuit and electronic device

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