JP2008198632A - 洗浄装置および洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被洗浄基板を水平に暫時固定する回転テーブルと、超音波が印加された液体を噴射する超音波ノズルと、前記超音波ノズルによって噴射された液体が照射される分散板と、前記被洗浄基板との間に所定の距離を開けて、前記分散板を、前記被洗浄基板に対して平行に固定する支持体と、前記分散板と前記被洗浄基板の間に供給される洗浄液が流れ、前記被洗浄基板と前記分散板と間に形成された空間に開口する導管と、前記液体が前記分散板に照射された位置が、前記被洗浄基板の回転中心と外周部の間を往復運動するように、前記超音波ノズルを移動させる移動装置とを備えた洗浄装置である。
【選択図】 図1
Description
半導体装置は、ホトレジスト加工やドライエッチング等の多くの工程を経て製造される。しかし、これらの工程を経る度に、被加工対象の半導体基板の表面は汚染される。従って、これらの汚染を除去するため、半導体装置の製造工程には多くの洗浄工程が存在する。
しかし、最小配線幅が100nm以下の世代に属する半導体装置の製造工程では、上記スピン洗浄が適用できない場合が多い。
(1)装置構成
本実施の形態は、被洗浄基板に供給される超音波エネルギーの面密度を容易に調整可能な洗浄装置(又は分散板)及び洗浄方法に係るものである。
図4は、本実施の形態における洗浄装置の使用方法およびその動作状態を説明する図である。図4の上半分は、同洗浄装置の動作状態における平面図である。図4の下半分は、同じく動作状態における洗浄装置のA-A’線(図2)に沿った概略断面図である。
本実施の形態における洗浄装置の洗浄能力を、従来のスピン洗浄装置と比較した。
本実施の形態における洗浄装置の構成は、分散板3の構成が相違する点を除き、実施の形態1の洗浄装置と一致する。また、その動作も、基本的には実施例1の洗浄装置と一致する。従って、分散板3の構成についてのみ説明し、その他の装置構成及びその動作の説明は省略する。
本実施の形態における洗浄装置の構成も、分散板3の構成が相違する点を除き、実施の形態1及び2の洗浄装置と一致する。また、その動作も、基本的には実施例1の洗浄装置と一致する。従って、分散板3の構成についてのみ説明し、その他の装置構成及びその動作の説明は省略する。
被洗浄基板を水平に暫時固定する回転テーブルと、
超音波が印加された液体を噴射する超音波ノズルと、
前記超音波ノズルによって噴射された液体が照射され、前記超音波を分散する分散板と、
前記被洗浄基板との間に所定の距離を開けて、前記分散板を、前記被洗浄基板に対して平行に固定する支持体と、
前記分散板に開口を設け、前記開口を通して洗浄液を、前記被洗浄基板と前記分散板の間に供給するために接続された導管と、
前記分散板上の任意の位置に前記液体の照射位置を移動できるように、前記超音波ノズルを移動する移動装置とを備えた洗浄装置。
前記分散板が、材質、厚さ又は層構造が異なる他の分散板と交換可能であることを特徴とする付記1に記載の洗浄装置。
前記所定の距離を自在に変更可能な間隔調整装置を有することを特徴とする付記1又は2に記載の洗浄装置。
前記超音波ノズルと前記分散板の距離を自在に変更可能な高さ調整装置を有することを特徴とする請求項1乃至3に記載の洗浄装置。
前記分散板が、
第1の層と、
第1の層の上に積層され、第1の層とは超音波の吸収の度合いが異なる第2の層とからなることを特徴とする付記1乃至4に記載の洗浄装置。
前記分散板が、前記液体によって伝達される前記超音波を分散または吸収する程度が異なる複数の領域を有し、
前記液体が前記分散板に照射される位置を、前記複数の領域間で自在に切り替える超音波照射位置切替装置とを有することを特徴とする付記1乃至5に記載の洗浄装置。
前記導管の接続位置が、前記被洗浄基板の回転中心からずれた位置に接続されていることを特徴とする付記1乃至6に記載の洗浄装置。
超音波が印加された液体を噴射する超音波ノズルと、
前記超音波ノズルによって噴射された液体が照射される分散板と、
前記被洗浄基板との間に所定の距離を開けて、前記分散板を、前記被洗浄基板に対して平行に固定する支持体と、
前記分散板と前記被洗浄基板の間に供給される洗浄液が流れ、前記被洗浄基板と前記分散板の間に形成された空間に開口する導管と、
前記液体が前記分散板に照射された位置が、前記被洗浄基板の回転中心と外周部の間を往復運動するように、前記超音波ノズルを移動させる移動装置とを備えた洗浄装置で使用される分散板であって、
前記支持体に着脱可能な分散板。
被洗浄基板を水平に暫時固定する回転テーブルと、
超音波が印加された液体を噴射する超音波ノズルと、
前記超音波ノズルによって噴射された液体が照射される分散板と、
前記被洗浄基板との間に所定の距離を開けて、前記分散板を、前記被洗浄基板に対して平行に固定する支持体と、
前記分散板と前記被洗浄基板の間に供給される洗浄液が流れ、前記被洗浄基板と前記分散板の間に形成された空間に開口する導管と、
前記液体が前記分散板に照射された位置が、前記被洗浄基板の回転中心と外周部の間を往復運動するように、前記超音波ノズルを移動させる移動装置とを備えた洗浄装置で使用される前記分散板であって、
第1の層と、
第1の層の上に積層され、第1の層とは超音波の吸収の度合いが異なる第2の層とからなり、前記支持体に着脱可能な分散板。
被洗浄基板を水平に暫時固定する回転テーブルと、
超音波が印加された液体を噴射する超音波ノズルと、
前記超音波ノズルによって噴射された液体が照射される分散板と、
前記被洗浄基板との間に所定の距離を開けて、前記分散板を、前記被洗浄基板に対して平行に固定する支持体と、
前記分散板と前記被洗浄基板の間に供給される洗浄液が流れ、前記被洗浄基板と前記分散板の間に形成された空間に開口する導管と、
前記液体が前記分散板に照射された位置が、前記被洗浄基板の回転中心と外周部の間を往復運動するように、前記超音波ノズルを移動させる移動装置とを備えた洗浄装置で使用される前記分散板であって、
前記液体によって伝達される前記超音波を分散または吸収する程度が異なる複数の領域を有することを特徴とする分散板。
被洗浄基板を回転テーブルに水平に暫時固定する第1の工程と、
前記被洗浄基板との間に所定の距離を開けて、分散板を、前記被洗浄基板に対して平行に固定する第2の工程と、
被洗浄基板を回転テーブルと共に回転させる第3の工程と、
前記分散板と前記被洗浄基板の間に洗浄液を供給する第4の工程と、
前記分散板に超音波の印加された液体を照射し、前記被洗浄基板の回転中心と外周部の間で前記液体の照射位置を往復運動させる第5の工程からなることを特徴とする洗浄方法。
2 超音波ノズル
3 分散板
4 支柱
5 第1の回転軸
6 支持体
7 オリフィス
8 超音波振動子
9 ケーブル
10 導管
11 噴射口
12 ウエハチャック
13 第2の回転軸
15 支柱に設けられた貫通孔
16 洗浄液
20 被洗浄基板の回転中心
21 超音波媒質液
22 超音波の波面
23 合成石英ガラス板
24 フッ素樹脂からなるフィルム
25 合成樹脂フィルム
27 液体の層
32 超音波媒質液が往復運動する道筋
50 被洗浄基板
Claims (6)
- 被洗浄基板を水平に暫時固定する回転テーブルと、
超音波が印加された液体を噴射する超音波ノズルと、
前記超音波ノズルによって噴射された液体が照射され、前記超音波を分散する分散板と、
前記被洗浄基板との間に所定の距離を開けて、前記分散板を、前記被洗浄基板に対して平行に固定する支持体と、
前記分散板に開口を設け、前記開口を通して洗浄液を、前記被洗浄基板と前記分散板の間に供給するために接続された導管と、
前記分散板上の任意の位置に前記液体の照射位置を移動できるように、前記超音波ノズルを移動する移動装置とを備えた洗浄装置。 - 前記分散板が、材質、厚さ又は層構造が異なる他の分散板と交換可能であることを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記所定の距離を自在に変更可能な間隔調整装置を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の洗浄装置。
- 前記超音波ノズルと前記分散板の距離を自在に変更可能な高さ調整装置を有することを特徴とする請求項1乃至3に記載の洗浄装置。
- 前記分散板が、前記液体によって伝達される前記超音波を分散または吸収する程度が異なる複数の領域を有し、
前記液体が前記分散板に照射される位置を、前記複数の領域間で自在に切り替える超音波照射位置切替装置とを有することを特徴とする請求項1乃至4に記載の洗浄装置。 - 被洗浄基板を回転テーブルに水平に暫時固定する第1の工程と、
前記被洗浄基板との間に所定の距離を開けて、分散板を、前記被洗浄基板に対して平行に固定する第2の工程と、
被洗浄基板を回転テーブルと共に回転させる第3の工程と、
前記分散板と前記被洗浄基板の間に洗浄液を供給する第4の工程と、
前記分散板に超音波の印加された液体を照射し、前記被洗浄基板の回転中心と外周部の間で前記液体の照射位置を往復運動させる第5の工程からなることを特徴とする洗浄方法。
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