JP2008189630A - 4-(substituted methyl)cyclohexanecarbaldehyde - Google Patents

4-(substituted methyl)cyclohexanecarbaldehyde Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new cyclohexanecarbaldehyde useful as a building block of a liquid crystal intermediate or a pharmaceutical intermediate. <P>SOLUTION: The cyclohexanecarbaldehyde is represented by general formula (I) [wherein, X represents a halogen atom (a fluorine, a chlorine or an iodine), an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group]. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は有機合成上、中間体として有用な新規なアルデヒド化合物に関し、さらに詳しくは、液晶中間体や医薬中間体として有用な新規なシクロヘキサンカルボアルデヒド類に関する。   The present invention relates to a novel aldehyde compound useful as an intermediate in organic synthesis, and more particularly to a novel cyclohexanecarbaldehyde useful as a liquid crystal intermediate or a pharmaceutical intermediate.

アルデヒド官能基を有する化合物はアルコールやカルボン酸の原料として用いられるばかりでなく、アルドール反応、還元的アルキル化反応、ヒドラゾン形成反応、オキシラン形成反応、Wittig試薬を用いた炭素伸張反応など極めて広範な有機合成に利用される最も重要な化合物の一つである。
シクロヘキサンカルボアルデヒド類は上記用途の中でもとりわけ液晶中間体、医薬中間体のビルディングブロックとして有用である。例えば、特許文献1及び2には医薬中間体としてシクロヘキサンカルボアルデヒドの利用が記載されており、特許文献3及び4には液晶中間体としての利用が記載されている。
Compounds with aldehyde functional groups are not only used as raw materials for alcohols and carboxylic acids, but also a wide range of organic compounds such as aldol reactions, reductive alkylation reactions, hydrazone formation reactions, oxirane formation reactions, and carbon extension reactions using Wittig reagents. It is one of the most important compounds used for synthesis.
Cyclohexanecarbaldehyde is useful as a building block for liquid crystal intermediates and pharmaceutical intermediates, among other applications. For example, Patent Documents 1 and 2 describe use of cyclohexanecarbaldehyde as a pharmaceutical intermediate, and Patent Documents 3 and 4 describe use as a liquid crystal intermediate.

このように、シクロヘキサンカルボアルデヒド類は有用な合成中間体であるが、特許文献5に4−(ブロモメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒドの記載がある以外には、4位にハロメチル基やスルホニルオキシメチル基を有するシクロヘキサンカルボアルデヒドは知られていなかった。   Thus, cyclohexane carbaldehydes are useful synthetic intermediates, but have a halomethyl group or a sulfonyloxymethyl group at the 4-position except that Patent Document 5 describes 4- (bromomethyl) cyclohexanecarbaldehyde. Cyclohexanecarbaldehyde was not known.

国際公開第WO2005/113511号パンフレットInternational Publication No. WO2005 / 113511 Pamphlet 国際公開第WO2005/118547号パンフレットInternational Publication No. WO2005 / 118547 Pamphlet 国際公開第WO097/20791号パンフレットInternational Publication No. WO097 / 20791 Pamphlet 欧州特許第470590号公報European Patent No. 470590 特開平9−278698号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-278698

本発明の目的は液晶中間体、医薬中間体のビルディングブロックとして有用な新規シクロヘキサンカルボアルデヒドを提供することである。   An object of the present invention is to provide a novel cyclohexanecarbaldehyde useful as a building block for liquid crystal intermediates and pharmaceutical intermediates.

上記目的は以下により達成された。
(1)下記一般式(I)で表されるシクロヘキサンカルボアルデヒド。
The above object was achieved by the following.
(1) Cyclohexanecarbaldehyde represented by the following general formula (I).

Figure 2008189630
式中、Xはハロゲン原子(フッ素、塩素またはヨウ素)、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基を表す。
(2)Xがアルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である(1)記載のシクロヘキサンカルボンアルデヒド。
Figure 2008189630
In the formula, X represents a halogen atom (fluorine, chlorine or iodine), an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group.
(2) The cyclohexanecarbonaldehyde according to (1), wherein X is an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group.

式中、Xはハロゲン原子(フッ素、塩素またはヨウ素)、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基を表す。Xがアルキルスルホニルオキシ基の場合、アルキル基はXの炭素総数は1〜8が好ましく、1〜6の低級アルキル基がより好ましく、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素またはヨウ素)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基など)、カルボニルオキシ基(ホルミルオキシ基、アセトキシ基、メトキシカルボニルオキシ基など)、カルボニルアミノ基(アセチルアミノ基など)、スルファニル基(メチルスルファニル基、フェニルスルファニル基など)、アシル基(アセチル基、ベンゾイル基など)、スルホニル基(メタンスルホニル基、フェニルスルホニル基など)、シアノ基、ニトロ基で置換されていてもよい。Xがアリールスルホニルオキシ基の場合、Xの炭素総数は6〜10が好ましく、6〜8がより好ましく、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素またはヨウ素)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基など)、カルボニルアミノ基(アセチルアミノ基など)、カルボニルオキシ基(ホルミルオキシ基、アセトキシ基、メトキシカルボニルオキシ基など)、スルファニル基(メチルスルファニル基など)、アシル基(アセチル基など)、スルホニル基(メタンスルホニル基など)、シアノ基、ニトロ基で置換されていてもよい。   In the formula, X represents a halogen atom (fluorine, chlorine or iodine), an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group. When X is an alkylsulfonyloxy group, the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 6 lower alkyl groups, a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine or iodine), an alkoxy group (methoxy) Group, ethoxy group, etc.), carbonyloxy group (formyloxy group, acetoxy group, methoxycarbonyloxy group etc.), carbonylamino group (acetylamino group etc.), sulfanyl group (methylsulfanyl group, phenylsulfanyl group etc.), acyl group (Acetyl group, benzoyl group, etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl group, phenylsulfonyl group, etc.), cyano group, nitro group may be substituted. When X is an arylsulfonyloxy group, the total number of carbon atoms in X is preferably 6-10, more preferably 6-8, a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine or iodine), an alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, etc.), Carbonylamino group (acetylamino group etc.), carbonyloxy group (formyloxy group, acetoxy group, methoxycarbonyloxy group etc.), sulfanyl group (methylsulfanyl group etc.), acyl group (acetyl group etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl) Group), a cyano group, and a nitro group.

本発明の化合物は液晶製造の中間体や医薬合成中間体として有用な新規化合物である。   The compound of the present invention is a novel compound useful as an intermediate for liquid crystal production or a pharmaceutical synthesis intermediate.

次に、一般式(I)で表される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by formula (I) are shown.

Figure 2008189630
Figure 2008189630

Figure 2008189630
Figure 2008189630

本発明の一般式(I)で表される化合物に至る合成経路はいくつか考えられるが、入手容易な1,4−シクロヘキサンジメタノールまたはそのモノビニルエーテルを原料として合成可能である。
本発明の一般式(I)で表される化合物の合成経路の概略を以下のスキームに示す。下記のスキーム中、Xは前記と同じ意味をもち、Rはアリール基又はアルキル基を示す。スキームA、Bにおける最後の酸化工程は、酸化剤としてSwern酸化(ジメチルスルホキシド/塩化オキザリル法)、臭素イオン存在下に次亜塩素酸塩とTEMPO(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシドラジカル)を組み合わせた方法などを用いて行うことができる。

Figure 2008189630
Several synthetic routes to the compound represented by the general formula (I) of the present invention are conceivable, but synthesis is possible using 1,4-cyclohexanedimethanol or its monovinyl ether, which is readily available.
An outline of a synthetic route of the compound represented by the general formula (I) of the present invention is shown in the following scheme. In the following scheme, X has the same meaning as described above, and R represents an aryl group or an alkyl group. The final oxidation step in Schemes A and B consists of Swern oxidation (dimethyl sulfoxide / oxalyl chloride method) as an oxidizing agent, hypochlorite and TEMPO (2,2,6,6-tetramethylpiperidine- in the presence of bromide ions). N-oxide radicals) can be used.
Figure 2008189630

次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明は以下の記載によって制限されるものではない。
実施例1 4−(ベンゼンスルホニルオキシメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒド(CA−11)の合成
(1−1)ベンゼンスルホン酸4−(ビニルオキシメチル)シクロヘキシルメチルエステルの合成
170.3gの4−(ヒドロキシメチル)シクロヘキシルメチル(ビニル)エーテル(和光純薬工業(株)製:320−22695)を1Lのトルエンに溶解し、134mLの塩化ベンゼンスルホニルを加え撹拌した。この混合物にピリジン88mLをゆっくり滴下し、1晩放置した。
この後、水500mLを加え、分液して有機相を濃縮して、粗ベンゼンスルホン酸4−(ビニルオキシメチル)シクロヘキシルメチルエステルを得た。
EXAMPLES Next, although this invention is demonstrated further in detail based on an Example, this invention is not restrict | limited by the following description.
Example 1 Synthesis of 4- (benzenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde (CA-11) (1-1) Synthesis of benzenesulfonic acid 4- (vinyloxymethyl) cyclohexylmethyl ester 170.3 g of 4- (hydroxymethyl) ) Cyclohexylmethyl (vinyl) ether (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: 320-22695) was dissolved in 1 L of toluene, and 134 mL of benzenesulfonyl chloride was added and stirred. 88 mL of pyridine was slowly added dropwise to this mixture and left overnight.
Thereafter, 500 mL of water was added, liquid separation was performed, and the organic phase was concentrated to obtain crude benzenesulfonic acid 4- (vinyloxymethyl) cyclohexylmethyl ester.

(1−2)ベンゼンスルホン酸4−(ヒドロキシメチル)シクロヘキシルメチルエステル
前項で合成した化合物全量をテトラヒドロフラン1L、水100mL、p−トルエンスルホン酸一水和物20gを加えて2晩放置した。
テトラヒドロフランを減圧留去したのち、酢酸エチルを加えて分液抽出を行った。有機相は濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ベンゼンスルホン酸4−(ヒドロキシメチル)シクロヘキシルメチルエステル202gを得た。収率70.3%
(1-2) Benzenesulfonic acid 4- (hydroxymethyl) cyclohexylmethyl ester 1 L of tetrahydrofuran, 100 mL of water, and 20 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate were added to the total amount of the compound synthesized in the previous section, and the mixture was allowed to stand overnight.
Tetrahydrofuran was distilled off under reduced pressure, and then ethyl acetate was added for liquid separation extraction. The organic phase was concentrated and then purified by silica gel column chromatography to obtain 202 g of benzenesulfonic acid 4- (hydroxymethyl) cyclohexylmethyl ester. Yield 70.3%

(1−3)4−(ベンゼンスルホニルオキシメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒドの合成
ベンゼンスルホン酸4−(ヒドロキシメチル)シクロヘキシルメチルエステル199gを塩化メチレン800mLに溶解し、TEMPO(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシドラジカル)2gと3%臭化ナトリウム水溶液200mLを加えて室温で撹拌した。これに2%の炭酸水素ナトリウムを含む次亜塩素酸ナトリウム(有効塩素5%)を25〜30℃に保って滴下した。原料の消失を確認後、有機相を分液し、水洗、チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄したのち、50%程度濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行った。目的物は粘稠な油状物(室温)として得られた。収量151.5g、収率76.7%
4−(ベンゼンスルホニルオキシメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒド(シス、トランス混合物)のnmrスペクトルデータ(CDCl):9.65(0.25H,s)、9.60(0.75H,d,J=1.5Hz)、7.94−7.87(2H,m)、7.70−7.63(1H,m)、7.60−7.52(2H,m)、3.88(1.5H,d,J=6.3Hz)、3.81(0.5H,d,J=6.8Hz)、2.43(0.25H,m)、2.16(0.75H,m)、2.07−1.50(5H,m)、1.32−1.17(2H,m)、1.10−0.95(2H,m)
(1-3) Synthesis of 4- (benzenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde 199 g of benzenesulfonic acid 4- (hydroxymethyl) cyclohexylmethyl ester was dissolved in 800 mL of methylene chloride, and TEMPO (2,2,6,6-tetra 2 g of methylpiperidine-N-oxide radical) and 200 mL of 3% aqueous sodium bromide solution were added and stirred at room temperature. To this, sodium hypochlorite (effective chlorine 5%) containing 2% sodium hydrogen carbonate was added dropwise at 25-30 ° C. After confirming the disappearance of the raw materials, the organic phase was separated, washed with water and washed with an aqueous sodium thiosulfate solution, concentrated to about 50%, and purified by silica gel column chromatography. The target product was obtained as a viscous oil (room temperature). Yield 151.5 g, Yield 76.7%
Nmr spectral data (CDCl 3 ) of 4- (benzenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde (cis, trans mixture): 9.65 (0.25H, s), 9.60 (0.75H, d, J = 1) .5 Hz), 7.94-7.87 (2H, m), 7.70-7.63 (1H, m), 7.60-7.52 (2H, m), 3.88 (1.5H) , D, J = 6.3 Hz), 3.81 (0.5 H, d, J = 6.8 Hz), 2.43 (0.25 H, m), 2.16 (0.75 H, m), 2 .07-1.50 (5H, m), 1.32-1.17 (2H, m), 1.10-0.95 (2H, m)

実施例2 4−(フルオロメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒド(CA−3)の合成
10gの4−(ベンゼンスルホニルオキシメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒド(シス、トランス混合物)を20mLのN−メチルピロリドンに溶解し、50mLのフッ化テトラブチルアンモニウム(1モル/Lテトラヒドロフラン溶液)を加えたのち、減圧下でテトラヒドロフランを留去した。濃縮物を120℃で3時間反応したのち、水と酢酸エチルを加えて抽出を行い、有機相を濃縮し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで慎重に精製を行った。溶出液はヘキサン/酢酸エチル=19/1を用い、シス体がより早く溶出した。収量:シス体0.2g、トランス体0.5g いずれも油状物(室温)。
シス体のnmr(CDCl):9.706(1H,s)、4.211(2H,dd,J=6.32Hz,47.5Hz)、2.458(1H,m)、2.155(2H,m)、1.781(1H,m)、1.70−1.65(4H,m)、1.60(2H,m)、1.128(2H,m)
トランス体のnmr(CDCl):9.633(1H,d,J=1.32Hz)、4.260(2H,dd,J=5.88Hz,47.5Hz)、2.206(1H,m)、2.062(2H,m)、1.914(2H,m)、1.675(1H,m)、1.303(2H,m)、1.114(2H,m)
Example 2 Synthesis of 4- (fluoromethyl) cyclohexanecarbaldehyde (CA-3) 10 g of 4- (benzenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde (cis, trans mixture) was dissolved in 20 mL of N-methylpyrrolidone and 50 mL After adding tetrabutylammonium fluoride (1 mol / L tetrahydrofuran solution), tetrahydrofuran was distilled off under reduced pressure. The concentrate was reacted at 120 ° C. for 3 hours, extracted by adding water and ethyl acetate, the organic phase was concentrated, and the residue was carefully purified by silica gel chromatography. The eluate was hexane / ethyl acetate = 19/1, and the cis isomer eluted earlier. Yield: 0.2 g of cis isomer and 0.5 g of trans isomer Both oily (room temperature).
Cis isomer nmr (CDCl 3 ): 9.706 (1H, s), 4.21 (2H, dd, J = 6.32 Hz, 47.5 Hz), 2.458 (1H, m), 2.155 ( 2H, m), 1.781 (1H, m), 1.70-1.65 (4H, m), 1.60 (2H, m), 1.128 (2H, m)
Transformer nmr (CDCl 3 ): 9.633 (1H, d, J = 1.32 Hz), 4.260 (2H, dd, J = 5.88 Hz, 47.5 Hz), 2.206 (1H, m ), 2.062 (2H, m), 1.914 (2H, m), 1.675 (1H, m), 1.303 (2H, m), 1.114 (2H, m)

実施例3 4−(ヨードメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒド(CA−2)の合成
20gの4−(ベンゼンスルホニルオキシメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒド(シス、トランス混合物)を100mLのアセトンに溶解し、30gのヨウ化ナトリウムを加えて3時間加熱還流を行った。冷却後、水と酢酸エチルを加えて分液したのち、有機相を濃縮し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで慎重に精製を行った。溶出液はヘキサン/酢酸エチル=19/1を用い、シス体がより早く溶出した。収量:シス体0.5g、トランス体2.2g いずれも油状物(室温)。
シス体のnmr(CDCl):9.697(1H,s)、3.069(2H,d,J=6.69Hz)、2.402(1H,m)、2.144(2H,m)、1.980(1H,m)、1.802(2H,m)、1.591(2H,m)、1.086(2H,m)
トランス体のnmr(CDCl):9.62(1H,d,J=1.3)、3.14(2H,d,J=6.2Hz)、2.22(1H,m)、2.00(4H,m)、1.6−1.2(3H,m)、1.07(2H,m)
Example 3 Synthesis of 4- (iodomethyl) cyclohexanecarbaldehyde (CA-2) 20 g of 4- (benzenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde (cis, trans mixture) was dissolved in 100 mL of acetone and 30 g of sodium iodide. And heated under reflux for 3 hours. After cooling, water and ethyl acetate were added for liquid separation, the organic phase was concentrated, and the residue was carefully purified by silica gel chromatography. The eluate was hexane / ethyl acetate = 19/1, and the cis isomer eluted earlier. Yield: 0.5 g of cis isomer, 2.2 g of trans isomer Both oily (room temperature).
Cis isomer nmr (CDCl 3 ): 9.697 (1H, s), 3.069 (2H, d, J = 6.69 Hz), 2.402 (1H, m), 2.144 (2H, m) 1.980 (1H, m), 1.802 (2H, m), 1.591 (2H, m), 1.086 (2H, m)
Transformer nmr (CDCl 3 ): 9.62 (1H, d, J = 1.3), 3.14 (2H, d, J = 6.2 Hz), 2.22 (1H, m), 2. 00 (4H, m), 1.6-1.2 (3H, m), 1.07 (2H, m)

実施例4 4−(クロロメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒド(CA−1)の合成
(4−1)4−(クロロメチル)シクロヘキサンメタノールの合成
500gの1,4−シクロヘキサンジメタノール(和光純薬工業(株)製:033−15405)と500gの濃塩酸を混合し、100℃で10時間反応を行った。冷却後、1Lの水を加え、炭酸水素ナトリウムで中和を行ったのち、酢酸エチルを加えて抽出を行った。有機相を水洗後、濃縮したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、4−(クロロメチル)シクロヘキサンメタノール220gを油状物(室温)として得た。収率39.0%
Example 4 Synthesis of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde (CA-1) (4-1) Synthesis of 4- (chloromethyl) cyclohexanemethanol 500 g of 1,4-cyclohexanedimethanol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ): 03-315405) and 500 g of concentrated hydrochloric acid were mixed and reacted at 100 ° C. for 10 hours. After cooling, 1 L of water was added, neutralized with sodium bicarbonate, and then extracted with ethyl acetate. The organic phase was washed with water and concentrated, and then purified by silica gel column chromatography to obtain 220 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanemethanol as an oil (room temperature). Yield 39.0%

(4−2)4−(クロロメチル)シクロヘキサンカルボアルデヒドの合成
162.7gの4−(クロロメチル)シクロヘキサンメタノールを800mLの塩化メチレンに溶解し、TEMPO(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシドラジカル)2gと3%臭化ナトリウム水溶液200mLを加えて室温で撹拌した。これに2%の炭酸水素ナトリウムを含む次亜塩素酸ナトリウム(有効塩素5%)を25〜30℃に保って滴下した。原料の消失を確認後、有機相を分液し、水洗、チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄したのち、50%程度濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行った。目的物は油状物として得られた。収量140.1g、収率87.2%
得られた化合物をさらにシリカゲルクロマトグラフィーで慎重に精製を行った。溶出液はヘキサン/酢酸エチル=19/1を用い、シス体がより早く溶出した。
トランス体のnmr(CDCl):9.632(1H,d,J=1.32Hz)、3.423(2H,d,J=6.18)、2.203(1H,m)、2.029(4H,m)、1.642(1H,m)、1.319(2H,m)、1.124(2H,m)
シス体のnmr(CDCl):9.700(1H,s)、3.360(2H,d,J=4.92)、2.452(1H,m)、2.157(2H,m)、2.041(1H,m)、1.764(2H,m)、1.615(2H,m)、1.130(2H,m)
(4-2) Synthesis of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde 162.7 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanemethanol was dissolved in 800 mL of methylene chloride, and TEMPO (2,2,6,6-tetramethylpiperidine was dissolved. -N-oxide radical) 2 g and 3% aqueous sodium bromide solution 200 mL were added and stirred at room temperature. To this, sodium hypochlorite (effective chlorine 5%) containing 2% sodium hydrogen carbonate was added dropwise at 25-30 ° C. After confirming the disappearance of the raw materials, the organic phase was separated, washed with water and washed with an aqueous sodium thiosulfate solution, concentrated to about 50%, and purified by silica gel column chromatography. The target product was obtained as an oil. Yield 140.1 g, Yield 87.2%
The obtained compound was further carefully purified by silica gel chromatography. The eluate was hexane / ethyl acetate = 19/1, and the cis isomer eluted earlier.
Nmr (CDCl 3 ) of the trans isomer: 9.632 (1H, d, J = 1.32 Hz), 3.423 (2H, d, J = 1.18), 2.203 (1H, m), 2. 029 (4H, m), 1.642 (1H, m), 1.319 (2H, m), 1.124 (2H, m)
Cis isomer nmr (CDCl 3 ): 9.700 (1H, s), 3.360 (2H, d, J = 4.92), 2.452 (1H, m), 2.157 (2H, m) 2.041 (1H, m), 1.764 (2H, m), 1.615 (2H, m), 1.130 (2H, m)

Claims (1)

下記一般式(I)で表されるシクロヘキサンカルボアルデヒド。
Figure 2008189630
式中、Xはハロゲン原子(フッ素、塩素またはヨウ素)、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基を表す。
Cyclohexanecarbaldehyde represented by the following general formula (I).
Figure 2008189630
In the formula, X represents a halogen atom (fluorine, chlorine or iodine), an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group.
JP2007028531A 2007-02-07 2007-02-07 4-(substituted methyl)cyclohexanecarbaldehyde Withdrawn JP2008189630A (en)

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