JP3632702B2 - 1,7,8-trifluoro-2-naphthol and method for producing liquid crystal compound using the same - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示材料として有用なトリフルオロナフタレン化合物の製造方法及び、その製造中間体に関する。   The present invention relates to a method for producing a trifluoronaphthalene compound useful as a liquid crystal display material and a production intermediate thereof.

液晶表示素子としては、ねじれ構造を有するTN方式やSTN方式が主に使用されてきた。これらの方式に大きな役割をもつ正の誘電率異方性を有する多くの液晶化合物及び液晶組成物が開発されてきた。一方、上記のねじれ構造を有する表示方式の欠点の一つである視野角の狭さを改善する事を目的として、(1)液晶分子を垂直配向させる方法(VA方式;Vertical Alignment方式、特許文献1参照)や、(2)基板とほぼ平行する電界を印加して液晶分子を基板と平行な面内で回転させる方式(IPS方式;In-Plane Switching方式、特許文献2参照)などの表示方式が提案されている。これらの方式には、上記のねじれ構造を有する表示方式の必須化合物とされた正の誘電率異方性を有する液晶化合物及び液晶組成物に代わり、誘電率が負の液晶化合物及び液晶組成物が重要な役割を占めることとなり、誘電率異方性が負の液晶化合物及び液晶組成物の提案が行われてきた(特許文献3参照)。   As the liquid crystal display element, a TN method or STN method having a twisted structure has been mainly used. Many liquid crystal compounds and liquid crystal compositions having positive dielectric anisotropy that play a major role in these systems have been developed. On the other hand, for the purpose of improving the narrow viewing angle, which is one of the disadvantages of the display system having the above twisted structure, (1) a method of vertically aligning liquid crystal molecules (VA method; Vertical Alignment method, patent document) 1) and (2) display methods such as applying an electric field substantially parallel to the substrate and rotating liquid crystal molecules in a plane parallel to the substrate (IPS method; In-Plane Switching method, see Patent Document 2) Has been proposed. These systems include a liquid crystal compound and a liquid crystal composition having a negative dielectric constant instead of a liquid crystal compound and a liquid crystal composition having a positive dielectric anisotropy, which are essential compounds of the display system having the above twisted structure. As a result, liquid crystal compounds and liquid crystal compositions having negative dielectric anisotropy have been proposed (see Patent Document 3).

以上の目的のために、1,7,8-トリフルオロナフタレン-2,6-ジイル基を有する液晶化合物の開発が行われ、幾つかの化合物が開示されている(特許文献4および5参照)。   For the above purpose, liquid crystal compounds having a 1,7,8-trifluoronaphthalene-2,6-diyl group have been developed, and several compounds have been disclosed (see Patent Documents 4 and 5). .

しかしながら、当該化合物の開示された製造方法は必ずしも効率的ではなかった。特許文献4において、トリフルオロナフタレン誘導体は、以下に示す化合物   However, the disclosed method for producing the compound has not always been efficient. In Patent Document 4, the trifluoronaphthalene derivative is a compound shown below.

Figure 0003632702
(式中、Rはアルキル基等を表す。)を製造中間体として製造されている。
Figure 0003632702
(Wherein R represents an alkyl group or the like) is produced as a production intermediate.

一方、液晶組成物の組成設計に置いては化合物の析出を避けるために、液晶化合物骨格は同一で側鎖の異なるホモローグと呼ばれる化合物を幾つか使用することが多いことから、少量多品種生産を余儀なくされている。効率的な生産には、一度に生産する数量を増やすことが好ましい。そのためには、共通骨格の化合物を製造し、製造の最終段階で異なる部分を導入することが有利である。この中間体を用いた方法ではRが異なるのみである以下の二種のホモローグ   On the other hand, in order to avoid the precipitation of the compound in the composition design of the liquid crystal composition, the liquid crystal compound skeleton often uses several compounds called homologues having the same side chain and different side chains. Have been forced. For efficient production, it is preferable to increase the quantity produced at one time. For this purpose, it is advantageous to produce a compound with a common skeleton and introduce different parts at the final stage of production. The following two types of homologues differ only in R in the method using this intermediate.

Figure 0003632702
を製造する場合にはトリフルオロナフタレン骨格を始めから製造し直さなくてはならないため、多数の中間体を必要とするため効率が悪かった。さらに、比較的収率の悪いトリフルオロナフタレン骨格の製造を、製造の最終段階で行うことから、コストの高い中間体の損失が大きくさらに効率を悪化させていた。
また、特許文献5においては次のような経路でトリフルオロナフタレン誘導体を製造している。
Figure 0003632702
In order to produce a trifluoronaphthalene skeleton from the beginning, a large number of intermediates are required, which is inefficient. Further, since the production of a trifluoronaphthalene skeleton having a relatively low yield is performed at the final stage of the production, the cost of the intermediate is high and the efficiency is further deteriorated.
In Patent Document 5, a trifluoronaphthalene derivative is produced by the following route.

Figure 0003632702
(Rはアルキル基等を表す。)
この製造方法では、前述のホモローグ製造の際に、中間体を多数用意する必要がある上に、Rは酸素原子を介してナフタレン骨格と結合することはできず、本願発明の目的とする液晶化合物を製造することはできない。
Figure 0003632702
(R x represents an alkyl group or the like.)
In this production method, it is necessary to prepare a large number of intermediates in the above-described homolog production, and in addition, R x cannot be bonded to the naphthalene skeleton via an oxygen atom. The compound cannot be produced.

以上より、トリフルオロナフタレン骨格を先に形成し、後からそれ以外の骨格の導入が可能なトリフルオロナフタレン誘導体の開発及びこの中間体を用いた効率的なトリフルオロナフタレン誘導体の製造方法の開発が望まれていた。   From the above, development of a trifluoronaphthalene derivative in which a trifluoronaphthalene skeleton is formed first and other skeletons can be introduced later and an efficient method for producing a trifluoronaphthalene derivative using this intermediate have been developed. It was desired.

特開平2−176625号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-176625 特開平5−505247号公報JP-A-5-505247 特開平2−4725号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-4725 特開2001−31597号公報JP 2001-31597 A 独国特許出願公開第19522195号German Patent Application Publication No. 19522195

本発明の課題は、トリフルオロナフタレン系液晶材料の効率的な製造中間体である1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトールおよびその誘導体を提供し、これを用いたトリフルオロナフタレン系液晶材料の効率的な製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide 1,7,8-trifluoro-2-naphthol and derivatives thereof, which are efficient intermediates for producing trifluoronaphthalene-based liquid crystal materials, and trifluoronaphthalene-based liquid crystal materials using the same It is to provide an efficient manufacturing method.

本件発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトールおよびその誘導体を中間体として用いる製造方法を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、一般式(I)
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found a production method using 1,7,8-trifluoro-2-naphthol and its derivatives as intermediates, and have completed the present invention. It was.
That is, the present invention relates to the general formula (I)

Figure 0003632702
(式中、Xは水素原子、CF3SO2-または炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す。)で表される化合物を提供する。
また、式(Ia)
Figure 0003632702
(Wherein X represents a hydrogen atom, CF 3 SO 2 — or a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms).
And the formula (Ia)

Figure 0003632702
で表される化合物に、一般式(II)
Figure 0003632702
In the compound represented by general formula (II)

Figure 0003632702
(式中、R1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物を触媒存在下に反応させることによる一般式(III)
Figure 0003632702
Wherein R 1 represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1,4 -Represents a cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1).

Figure 0003632702
(式中、R1、Y、Aおよびnは一般式(II)におけるR1、Y、Aおよびnと同じ意味を表す。)で表される化合物の製造方法及び一般式(III)で表される化合物を提供する。
さらに、式(Ia)
Figure 0003632702
(Wherein R 1 , Y, A and n have the same meanings as R 1 , Y, A and n in formula (II)) and the formula (III) The compound is provided.
Furthermore, the formula (Ia)

Figure 0003632702
で表される化合物に、一般式(II)
Figure 0003632702
In the compound represented by general formula (II)

Figure 0003632702
(式中、R1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物を触媒存在下に反応させることにより一般式(III)
Figure 0003632702
Wherein R 1 represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1,4 -Represents a cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1) by reacting the compound represented by the general formula (III) in the presence of a catalyst.

Figure 0003632702
(式中、R1、Y、Aおよびnは一般式(II)におけるR1、Y、Aおよびnと同じ意味を表す。)で表される化合物を得た後、これをアルキル化またはアルコキシル化することを特徴とする一般式(IV)
Figure 0003632702
(Wherein, R 1, Y, R 1 A and n in the general formula (II), Y, represent. The same meanings as A and n) after obtaining the compounds represented by alkylated or alkoxylated this General formula (IV) characterized by

Figure 0003632702
(式中、R1、Y、Aおよびnは一般式(II)におけるR1、Y、Aおよびnと同じ意味を表し、R2は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基またはアルコキシル基を表す。)で表される化合物の製造方法を提供する。
さらに、一般式(Ib)
Figure 0003632702
(Wherein, R 1, Y, A and n are in the general formula (II) R 1, Y, the same meanings as A and n, R 2 is or a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Represents an alkoxyl group.) Is provided.
Furthermore, the general formula (Ib)

Figure 0003632702
(式中、Xは炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す。)で表される化合物の6位をリチオ化し、トリメトキシボランを作用させ、得られたボロン酸に、一般式(V)
Figure 0003632702
(Wherein, X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), the 6-position of the compound represented by the formula is reacted with trimethoxyborane. Formula (V)

Figure 0003632702
(式中、Zはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物を触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式(VI)
Figure 0003632702
(In the formula, Z represents an iodine atom, bromine atom, chlorine atom or trifluoromethanesulfonyloxy group, R 1 represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, A represents a trans-1,4-cyclohexylene group or 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1.) General formula (VI) characterized by reacting below

Figure 0003632702
(式中、XおよびR1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物の製造方法を提供する。
さらに、一般式(Ib)
Figure 0003632702
Wherein X and R 1 represent a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1 , 4-cyclohexylene group or 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1).
Furthermore, the general formula (Ib)

Figure 0003632702
(式中、Xは炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す。)で表される化合物の6位をリチオ化し、一般式(VII)
Figure 0003632702
(Wherein X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), the 6-position of the compound represented by formula (VII)

Figure 0003632702
(式中、R1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表されるシクロヘキシルアセトアルデヒド誘導体を反応させた後、脱水し生成する二重結合を水素添加することによる、一般式(VIII)
Figure 0003632702
Wherein R 1 represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1,4 By reacting a cyclohexylacetaldehyde derivative represented by -cyclohexylene group or 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1.) Formula (VIII)

Figure 0003632702
(式中、XおよびR3は炭素数1〜10の飽和アルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物の製造方法を提供する。
Figure 0003632702
(Wherein X and R 3 represent a saturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1,4-cyclohexene. Represents a silylene group or a 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1).

本発明の、1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトール誘導体及びそれを用いた液晶化合物の製造方法を提供することにより、従来困難であったトリフルオロナフタレン骨格を有する液晶化合物が効率的に製造することが可能となった。   By providing a 1,7,8-trifluoro-2-naphthol derivative and a method for producing a liquid crystal compound using the same according to the present invention, a liquid crystal compound having a trifluoronaphthalene skeleton, which has been conventionally difficult, can be efficiently produced. It became possible to manufacture.

一般式(I)で表される化合物は、7,8-ジフルオロ-2-ナフトールをフッ素化することによりX=Hの化合物を得ることができ、さらにこれをトリフルオロメタンスルホン酸無水物と反応させてX=CF3SO2-の化合物を得ることができる。また、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水素化ナトリウム等の塩基存在下、対応するハロゲン化アルキルを作用させることによって、Xが炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す化合物を得ることができる。 The compound represented by the general formula (I) can be obtained by fluorinating 7,8-difluoro-2-naphthol to obtain a compound of X = H, which is further reacted with trifluoromethanesulfonic anhydride. Thus, a compound of X = CF 3 SO 2 — can be obtained. In addition, by reacting a corresponding alkyl halide in the presence of a base such as potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydride or the like, a compound in which X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms can be obtained. it can.

フッ素化はN-フルオロピリジニウムトリフラート、N-フルオロピリジニウムテトラフルオロボラート、N-フルオロ-2,6-ジクロロピリジニウムトリフラート、N-フルオロ-2,6-ジクロロピリジニウムテトラフルオロボラート、N-フルオロ-2,4,6-トリメチルピリジニウムトリフラート、N-フルオロ-2,4,6-トリメチルピリジニウムテトラフルオロボラート、N,N'-ジフルオロ-2,2'-ビピリジニウムビス(テトラフルオロボラート)、N-フルオロ-4,6-ジメチルピリジニウム-2-スルホナト等のフルオロピリジニウム類、1-クロロメチル-4-フルオロ-1,4-ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタンビス(テトラフルオロボラート)等のフルオロアンモニウム類、フッ素ガス、三フッ化臭素、五フッ化ヨウ素などの求電子フッ素化剤を用いることができる。その際、目的とする1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトール(一般式(I)X=H)以外に1,1,7,8-テトラフルオロ-1,2-ジヒドロナフタレン-2-オンが生成することがあるが、その場合、水素等の還元剤を用いて還元することによって容易に1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトールに変換できる。   Fluorination is N-fluoropyridinium triflate, N-fluoropyridinium tetrafluoroborate, N-fluoro-2,6-dichloropyridinium triflate, N-fluoro-2,6-dichloropyridinium tetrafluoroborate, N-fluoro-2 , 4,6-Trimethylpyridinium triflate, N-fluoro-2,4,6-trimethylpyridinium tetrafluoroborate, N, N'-difluoro-2,2'-bipyridinium bis (tetrafluoroborate), N-fluoro Fluoropyridiniums such as -4,6-dimethylpyridinium-2-sulfonato, fluoroammoniums such as 1-chloromethyl-4-fluoro-1,4-diazoniabicyclo [2.2.2] octanebis (tetrafluoroborate) Electrophilic fluorinating agents such as fluorine gas, bromine trifluoride and iodine pentafluoride can be used. At that time, in addition to the desired 1,7,8-trifluoro-2-naphthol (general formula (I) X = H), 1,1,7,8-tetrafluoro-1,2-dihydronaphthalene-2- In some cases, ON may be generated, and in that case, it can be easily converted to 1,7,8-trifluoro-2-naphthol by reduction using a reducing agent such as hydrogen.

ここで、原料となる7,8-ジフルオロ-2-ナフトールは下式に示すように、2,3-ジフルオロフェニル酢酸を酸塩化物にした後、塩化アルミニウム存在下、エチレンと反応させることによって製造できる7,8-ジフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オンに臭素等の酸化剤を作用させることによって製造できる。   Here, the starting 7,8-difluoro-2-naphthol is produced by converting 2,3-difluorophenylacetic acid to acid chloride and then reacting with ethylene in the presence of aluminum chloride as shown in the following formula. It can be produced by allowing an oxidizing agent such as bromine to act on 7,8-difluoro-1,2,3,4-tetrahydronaphthalen-2-one.

Figure 0003632702
また、一般式(I)(Xは炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す)で表される化合物において、Xとしてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、2-メチルブチル基等の飽和アルキル基、アリル基、クロチル基等の不飽和アルキル基があげられる。ここで、合成に用いるハロゲン化アルキルとしてはヨウ化メチル、ヨウ化ブチル、ヨウ化プロピル、ヨウ化ブチル、ヨウ化ペンチル、ヨウ化ヘキシル、ヨウ化ヘプチル、ヨウ化オクチル、ヨウ化ノニル、ヨウ化デシル、ヨウ化2-メチルブチル、臭化メチル、臭化ブチル、臭化プロピル、臭化ブチル、臭化ペンチル、臭化ヘキシル、臭化ヘプチル、臭化オクチル、臭化ノニル、臭化デシル、臭化2-メチルブチル、塩化メチル、塩化ブチル、塩化プロピル、塩化ブチル、塩化ペンチル、塩化ヘキシル、塩化ヘプチル、塩化オクチル、塩化ノニル、塩化デシル、塩化2-メチルブチル、臭化アリル、臭化クロチル、塩化アリル、塩化クロチル等があげられる。
Figure 0003632702
In the compound represented by the general formula (I) (X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), X is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group. And saturated alkyl groups such as hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group and 2-methylbutyl group, and unsaturated alkyl groups such as allyl group and crotyl group. Here, alkyl halides used for synthesis include methyl iodide, butyl iodide, propyl iodide, butyl iodide, pentyl iodide, hexyl iodide, heptyl iodide, octyl iodide, nonyl iodide, decyl iodide. 2-methylbutyl iodide, methyl bromide, butyl bromide, propyl bromide, butyl bromide, pentyl bromide, hexyl bromide, heptyl bromide, octyl bromide, nonyl bromide, decyl bromide, bromide 2 -Methylbutyl, methyl chloride, butyl chloride, propyl chloride, butyl chloride, pentyl chloride, hexyl chloride, heptyl chloride, octyl chloride, nonyl chloride, decyl chloride, 2-methylbutyl chloride, allyl bromide, crotyl bromide, allyl chloride, chloride Crotyl and the like.

一般式(IV)で表される化合物の製造において、一般式(I)(X=CF3SO2-)のトリフラートと、一般式(II)のボロン酸を反応させ、一般式(III)で表される化合物を得るタイプの反応は、鈴木カップリングと呼ばれている。 In the production of the compound represented by the general formula (IV), the triflate of the general formula (I) (X = CF 3 SO 2- ) is reacted with the boronic acid of the general formula (II), and the general formula (III) The type of reaction that yields the compound represented is called Suzuki coupling.

本反応には反応溶媒として水と有機溶媒との混合系(2相系)を用いることができる。その有機溶媒としては。反応溶媒としては、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の飽和炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等のベンゼン類、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類などを単一または混合して用いることができるが、テトラヒドロフラン、トルエンまたはキシレンが好ましい。   In this reaction, a mixed system (two-phase system) of water and an organic solvent can be used as a reaction solvent. As the organic solvent. Reaction solvents include nitriles such as acetonitrile and benzonitrile, halogenated solvents such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, diethyl ether, methyl-t-butyl ether, Ethers such as tetrahydrofuran, esters such as ethyl acetate, methyl acetate and butyl acetate, saturated hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane and octane, benzenes such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, N, N-dimethyl Amides such as formamide and N, N-dimethylacetamide can be used singly or in combination, and tetrahydrofuran, toluene or xylene is preferred.

本反応は有機溶媒または水どちらかの常圧における沸点または共沸温度以上の温度で行うことができる。たとえば、水-THF2相系では80〜200℃が好ましく、90〜130℃が特に好ましい。   This reaction can be carried out at a temperature equal to or higher than the boiling point or azeotropic temperature of organic solvent or water at normal pressure. For example, in a water-THF two-phase system, 80 to 200 ° C is preferable, and 90 to 130 ° C is particularly preferable.

本反応に用いる塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の無機塩基を用いることができるが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましく、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムが特に好ましい。   As the base used in this reaction, inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate can be used. Sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred, and sodium carbonate and potassium carbonate are particularly preferred.

本反応に用いる触媒としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン〕パラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン〕パラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン〕パラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム等のパラジウム錯体、テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン〕ニッケル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン〕ニッケル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン〕ニッケル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕ニッケル等のニッケル錯体を上げることができるが、パラジウム錯体が好ましい。   Catalysts used in this reaction include tetrakis (triphenylphosphine) palladium, dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, dichloro [bis (diphenylphosphino) ethane] palladium, dichloro [bis (diphenylphosphino) propane] palladium, dichloro [ Palladium complexes such as bis (diphenylphosphino) butane] palladium, dichloro [bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium, tetrakis (triphenylphosphine) nickel, dichlorobis (triphenylphosphine) nickel, dichloro [bis (diphenylphosphino) Ethane] nickel, dichloro [bis (diphenylphosphino) propane] nickel, dichloro [bis (diphenylphosphino) butane] nickel, dichloro [bis (diphenylphosphino) ferrocene] ni Although it is possible to increase the nickel complex such as Kell, palladium complexes are preferred.

さらにこの反応においては、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン又はキシレン及び水の2相系溶媒を用い、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム存在下、パラジウム触媒を用いて加熱還流する方法が特に好ましい。   Further, in this reaction, a method in which a two-phase solvent of tetrahydrofuran, benzene, toluene or xylene and water is used and heated under reflux using a palladium catalyst in the presence of sodium carbonate or potassium carbonate is particularly preferable.

一般式(III)のアルキル化による一般式(IV)(R2がアルキル基の場合)で表されるフェニルナフタレン化合物の製造においてアルキル化は以下のように実施することができる。 In the production of the phenylnaphthalene compound represented by the general formula (IV) (when R 2 is an alkyl group) by the alkylation of the general formula (III), the alkylation can be carried out as follows.

一般式(III)のナフタレン環の6位を選択的にリチオ化し、これにヨウ化アルキルを反応させるか、又はハロゲン化アリルを反応させることにより一般式(IV)で表されるフェニルナフタレン化合物を製造する。   A phenylnaphthalene compound represented by the general formula (IV) is obtained by selectively lithiating the 6-position of the naphthalene ring of the general formula (III) and reacting this with an alkyl iodide or reacting with an allyl halide. To manufacture.

この反応において、リチオ化はブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム等のアルキルリチウムまたはリチウムジイソプロポキシド、リチウムヘキサメチルジシラジド等のリチウムアミドを用いることが好ましい。   In this reaction, lithiation is preferably performed using alkyllithium such as butyllithium, s-butyllithium or t-butyllithium or lithium amide such as lithium diisopropoxide or lithium hexamethyldisilazide.

反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等の非水系の極性溶媒、ベンゼン、トルエン又はキシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系の溶媒が好ましい。   The reaction is preferably carried out in an organic solvent, and non-aqueous polar solvents such as tetrahydrofuran, diethyl ether and dimethoxyethane, and hydrocarbon solvents such as benzene, toluene or xylene, hexane and heptane are preferred.

ヨウ化アルキルの具体例としては、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロピル、ヨウ化ブチル等が挙げられる。ハロゲン化アリルとしては塩化アリル、臭化アリル、塩化クロチル、臭化クロチル等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl iodide include methyl iodide, ethyl iodide, propyl iodide, butyl iodide and the like. Examples of the allyl halide include allyl chloride, allyl bromide, crotyl chloride, crotyl bromide and the like.

一般式(III)のアルコキシル化による一般式(IV)(R2がアルコキシル基の場合)で表されるフェニルナフタレン化合物の製造においてアルコキシル化は以下のように実施することができる。 In the production of the phenylnaphthalene compound represented by the general formula (IV) (when R 2 is an alkoxyl group) by the alkoxylation of the general formula (III), the alkoxylation can be carried out as follows.

一般式(III)のナフタレン環の6位を選択的にリチオ化し、トリメチルボランと反応させさらに過酸化水素を作用させることによって6位に水酸基を導入したナフトールを製造することができる。これに、ハロゲン化アルキル又はハロゲン化アリルを反応させることにより一般式(IV)で表されるフェニルナフタレン化合物を製造することができる。   A naphthol having a hydroxyl group introduced at the 6-position can be produced by selectively lithiating the 6-position of the naphthalene ring of the general formula (III), reacting with trimethylborane and allowing hydrogen peroxide to act. A phenylnaphthalene compound represented by the general formula (IV) can be produced by reacting this with an alkyl halide or an allyl halide.

この反応において、リチオ化はブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム等のアルキルリチウムまたはリチウムジイソプロポキシド、リチウムヘキサメチルジシラジド等のリチウムアミドを用いることが好ましい。   In this reaction, lithiation is preferably performed using alkyllithium such as butyllithium, s-butyllithium or t-butyllithium or lithium amide such as lithium diisopropoxide or lithium hexamethyldisilazide.

反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等の非水系の極性溶媒、ベンゼン、トルエン又はキシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系の溶媒が好ましい。   The reaction is preferably carried out in an organic solvent, and non-aqueous polar solvents such as tetrahydrofuran, diethyl ether and dimethoxyethane, and hydrocarbon solvents such as benzene, toluene or xylene, hexane and heptane are preferred.

ハロゲン化アルキルの具体例としては、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロピル、ヨウ化ブチル等、ハロゲン化アリルの具体例としては、塩化アリル、臭化アリル、塩化クロチル、臭化クロチル等を挙げることができる。   Specific examples of alkyl halides include methyl iodide, ethyl iodide, propyl iodide, butyl iodide and the like. Specific examples of allyl halides include allyl chloride, allyl bromide, crotyl chloride, crotyl bromide and the like. Can be mentioned.

一般式(II)で表されるボロン酸は液晶製造中間体としてよく用いられているものであり、たとえば、一般式(Va)   The boronic acid represented by the general formula (II) is often used as an intermediate for producing liquid crystals. For example, the general formula (Va)

Figure 0003632702
(式中、R1、Y、Aおよびnは一般式(II)におけるR1、Y、Aおよびnと同じ意味を表す。)で表されるフェニルブロミドにマグネシウムを反応させグリニャール反応剤として後、トリメトキシボランと反応させることによって容易に製造できる。
Figure 0003632702
(Wherein R 1 , Y, A and n have the same meanings as R 1 , Y, A and n in formula (II)), magnesium is reacted with the phenyl bromide represented by formula (II) as a Grignard reactant. It can be easily produced by reacting with trimethoxyborane.

一般式(VI)で表される化合物の製造において、一般式(I)(Xは炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す。)の化合物6位を選択的にリチオ化した後、トリメトキシボランと反応させることによって容易に製造できるボロン酸に、一般式(V)で表される化合物を反応させる鈴木カップリングによって合成できる。   In the production of the compound represented by the general formula (VI), the 6-position of the compound of the general formula (I) (X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) was selectively lithiated. Thereafter, it can be synthesized by Suzuki coupling in which a boronic acid that can be easily produced by reacting with trimethoxyborane is reacted with a compound represented by the general formula (V).

鈴木カップリングについては上記の一般式(IV)で表される化合物の製造における反応条件をそのまま用いることができる。   Regarding the Suzuki coupling, the reaction conditions in the production of the compound represented by the general formula (IV) can be used as they are.

一般式(I)(Xは炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す。)の化合物の6位の選択的リチオ化はブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム等のアルキルリチウムまたはリチウムジイソプロポキシド、リチウムヘキサメチルジシラジド等のリチウムアミドを用いることが好ましい。   Selective lithiation at the 6-position of a compound of the general formula (I) (X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) can be performed using butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium, It is preferable to use lithium amides such as alkyl lithium or lithium diisopropoxide and lithium hexamethyldisilazide.

リチオ化反応は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等の非水系の極性溶媒、ベンゼン、トルエン又はキシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系の溶媒を、単独または混合して行うことが好ましい。   The lithiation reaction is preferably carried out by using a non-aqueous polar solvent such as tetrahydrofuran, diethyl ether or dimethoxyethane, or a hydrocarbon solvent such as benzene, toluene or xylene, hexane or heptane, alone or in combination.

リチオ化反応温度は0℃以下、溶媒の凝固点までの範囲で行うことができるが、-20℃から-90℃の間が好ましく、-40℃から-78℃が特に好ましい。   The lithiation reaction temperature may be 0 ° C. or lower and the freezing point of the solvent, but is preferably between −20 ° C. and −90 ° C., particularly preferably −40 ° C. to −78 ° C.

また、一般式(V)で表される化合物は液晶製造中間体としてよく用いられているものであり、その入手は容易である。   In addition, the compound represented by the general formula (V) is often used as a liquid crystal production intermediate and is easily available.

一般式(VIII)で表される化合物の製造において、一般式(I)(Xは炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す。)の化合物6位を選択的にリチオ化した後、一般式(VII)で表されるシクロヘキシルアセトアルデヒドを反応させることによって、一般式(IX)   In the production of the compound represented by the general formula (VIII), the compound 6-position of the general formula (I) (X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) was selectively lithiated. Thereafter, by reacting with cyclohexylacetaldehyde represented by the general formula (VII), the general formula (IX)

Figure 0003632702
(式中、Xは炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、R1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表されるアルコールを得、これを脱水することによって、一般式(X)
Figure 0003632702
(Wherein X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 1 represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2- or -CH 2 O-, A represents a trans-1,4-cyclohexylene group or 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1. By dehydrating the general formula (X)

Figure 0003632702
(式中、X、R1、Y、Aおよびnは化合物(IX)に記載のX、R1、Y、Aおよびnと同じ意味を表す。)であらわされる化合物を得、さらにオレフィン部位を水素添加する製造方法をあげることができる。
Figure 0003632702
(Wherein, X, R 1, Y, X according to A and n are the compounds (IX), R 1, Y, the same meanings as A and n.) To give the compounds represented by the further olefin site A production method for hydrogenation can be mentioned.

一般式(I)の化合物の6位の選択的リチオ化の条件は、一般式(VI)で表される化合物の製造方法のものと同様である。   The conditions for selective lithiation at the 6-position of the compound of the general formula (I) are the same as those of the method for producing the compound represented by the general formula (VI).

リチオ化後の一般式(VII)で表されるシクロヘキシルアセトアルデヒドとの反応は、リチオ化後そのままアルデヒドを同様な溶媒に溶解させ、加えればよい。その際の反応温度は室温から溶媒の凝固点までの範囲で行うことができるが、0℃から-60℃が好ましい。   The reaction with cyclohexylacetaldehyde represented by the general formula (VII) after lithiation may be carried out by dissolving the aldehyde in the same solvent after lithiation. The reaction temperature in this case can be carried out in the range from room temperature to the freezing point of the solvent, but is preferably 0 ° C to -60 ° C.

脱水反応は一般的によく知られている条件で問題はないが、たとえば、トルエン中、硫酸やp-トルエンスルホン酸などの酸触媒存在下、加熱還流する方法や、ピリジンなどの塩基存在化、塩化メシルや塩化トシルなどと反応させる方法が挙げられる。   The dehydration reaction is not a problem under generally well-known conditions. For example, in toluene, a method of heating to reflux in the presence of an acid catalyst such as sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid, presence of a base such as pyridine, The method of making it react with mesyl chloride, tosyl chloride, etc. is mentioned.

また、オレフィンの水素添加も、よく区知られているものであり、水素雰囲気下、または加圧下、パラジウム-炭素、ラネーニッケル等の触媒を用いることで簡単に行うことができる。   Also, hydrogenation of olefins is well known, and can be easily performed by using a catalyst such as palladium-carbon or Raney nickel under a hydrogen atmosphere or under pressure.

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is further explained in full detail, this invention is not limited to these Examples.

(実施例1)1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトール(一般式(I):X=水素原子)の製造   Example 1 Production of 1,7,8-trifluoro-2-naphthol (general formula (I): X = hydrogen atom)

Figure 0003632702
7,8-ジフルオロ-2-ナフトール(26 g)のアセトニトリル(240 ml)溶液に、N,N'-ジフルオロ-2,2'-ビピリジニウムビス(テトラフルオロボラート)(53 g)を加え、3.5時間加熱還流した。反応液を水にあけ、有機層を分取し、水層を酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で2回洗浄し、濃縮し、残渣として1,1,7,8-テトラフルオロ-1,2-ジヒドロナフタレン-2-オンの粗生成物を得た。オートクレーブに先の残渣、5%パラジウム-炭素(50%含水、5 g)、シリカゲル(5 g)および酢酸エチル(200 ml)を加え、水素圧下(4 kg/cm2)、室温で4時間攪拌した。反応液をセライトでろ別し、ろ液を濃縮した。残渣をヘキサン/トルエン混合溶媒から再結晶し、1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトール(25 g)を淡黄色結晶として得た。
融点 91℃
1H NMR (CDCl3)δ 5.0-6.5 (broad, 1 H), 7.14-7.24 (m, 2 H), 7.45-7.55 (m, 2 H)
MS m/z:198 (M+, 100)
Figure 0003632702
To a solution of 7,8-difluoro-2-naphthol (26 g) in acetonitrile (240 ml) was added N, N'-difluoro-2,2'-bipyridinium bis (tetrafluoroborate) (53 g). Heated to reflux for hours. The reaction solution was poured into water, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted three times with ethyl acetate. The organic layers were combined, washed twice with saturated brine, and concentrated to obtain a crude product of 1,1,7,8-tetrafluoro-1,2-dihydronaphthalen-2-one as a residue. Add the previous residue, 5% palladium-carbon (50% water content, 5 g), silica gel (5 g) and ethyl acetate (200 ml) to the autoclave, and stir at room temperature for 4 hours under hydrogen pressure (4 kg / cm 2 ). did. The reaction solution was filtered through celite, and the filtrate was concentrated. The residue was recrystallized from a hexane / toluene mixed solvent to obtain 1,7,8-trifluoro-2-naphthol (25 g) as pale yellow crystals.
Melting point 91 ° C
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 5.0-6.5 (broad, 1 H), 7.14-7.24 (m, 2 H), 7.45-7.55 (m, 2 H)
MS m / z: 198 (M + , 100)

(実施例2)1,7,8-トリフルオロナフタレン-2-イルトリフルオロメタンスルホナト(一般式(I):X=CFSO−)の製造 Example 2 Production of 1,7,8-trifluoronaphthalen-2-yltrifluoromethanesulfonate (general formula (I): X = CF 3 SO 2 —)

Figure 0003632702
1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトール(10 g)、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(10.3 ml)のジクロロメタン(60 ml)溶液に、氷冷下でピリジン(10 ml)をゆっくりと滴下し、さらに30分間攪拌した。反応液に水とジクロロメタンをゆっくりと加え、有機層を分取し、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせ、水、10%塩酸、飽和炭化水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順に洗浄し、濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル=19/1)で精製し、1,7,8-トリフルオロナフタレン-2-イルトリフルオロメタンスルホナト(15 g)を淡黄色結晶として得た。
MS m/z:330 (M+), 169 (100)
Figure 0003632702
Pyridine (10 ml) was slowly added dropwise to a solution of 1,7,8-trifluoro-2-naphthol (10 g) and trifluoromethanesulfonic anhydride (10.3 ml) in dichloromethane (60 ml) under ice-cooling. The mixture was further stirred for 30 minutes. Water and dichloromethane were slowly added to the reaction solution, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with dichloromethane. The organic layers were combined, washed successively with water, 10% hydrochloric acid, saturated aqueous sodium hydrocarbon solution, water and saturated brine, and concentrated. The residue was purified by column chromatography (silica gel, hexane / ethyl acetate = 19/1) to obtain 1,7,8-trifluoronaphthalen-2-yltrifluoromethanesulfonate (15 g) as pale yellow crystals.
MS m / z: 330 (M + ), 169 (100)

(実施例3)2-エトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン(一般式(I):X=エチル基)の製造   Example 3 Production of 2-ethoxy-1,7,8-trifluoronaphthalene (general formula (I): X = ethyl group)

Figure 0003632702
1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトール(15 g)、炭酸カリウム(16 g)、ヨウ化エチエル(26 g)のアセトン(80 ml)溶液を室温で10時間攪拌した。これにトルエン(200 ml)を加え、有機層を分取し、水層をトルエンで抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、濃縮した。残渣を減圧蒸留して、2-エトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン(16 g)を得た。
融点 96.5−98.5℃
1H NMR (CDCl3)δ 1.48 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 4.27 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 7.15-7.35 (m, 2 H), 7.45-7.60 (m, 2 H)
MS m/z:226 (M+), 198 (100)
Figure 0003632702
A solution of 1,7,8-trifluoro-2-naphthol (15 g), potassium carbonate (16 g) and ethyl iodide (26 g) in acetone (80 ml) was stirred at room temperature for 10 hours. Toluene (200 ml) was added thereto, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with toluene. The organic layers were combined, washed with saturated brine, and concentrated. The residue was distilled under reduced pressure to give 2-ethoxy-1,7,8-trifluoronaphthalene (16 g).
Melting point 96.5-98.5 ℃
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 1.48 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 4.27 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 7.15-7.35 (m, 2 H), 7.45-7.60 (m, 2 H)
MS m / z: 226 (M + ), 198 (100)

(実施例4)2-(4-プロピルフェニル)-1,7,8-トリフルオロナフタレン(一般式(III):R=n−プロピル基、A=フェニル基、Y=単結合、n=1)の製造 (Example 4) 2- (4-propylphenyl) -1,7,8- trifluoro-naphthalene (formula (III): R 1 = n- propyl, A = phenyl, Y = single bond, n = 1) Production

Figure 0003632702
オートクレーブに1,7,8-トリフルオロナフタレン-2-イルトリフルオロメタンスルホナト(15 g)、4-プロピルフェニルホウ酸(11.2 g)、炭酸カリウム(18.8 g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(1 g)、トルエン(50 ml)、テトラヒドロフラン(50 ml)、水(20 ml)を加え、窒素加圧下(2 kg/cm2)、90℃で4時間反応させた。反応液を水にあけ、有機層を分取し、水層をトルエンで抽出した。有機層を合わせ、10%塩酸、飽和食塩水で洗浄し、濃縮した。残渣を絡むクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)で精製し、2-(4-プロピルフェニル)-1,7,8-トリフルオロナフタレン(13 g)を得た。
MS m/z:300 (M+), 271 (100)
Figure 0003632702
Autoclave with 1,7,8-trifluoronaphthalen-2-yltrifluoromethanesulfonate (15 g), 4-propylphenylboric acid (11.2 g), potassium carbonate (18.8 g), tetrakis (triphenylphosphine) palladium ( 0) (1 g), toluene (50 ml), tetrahydrofuran (50 ml) and water (20 ml) were added, and the mixture was reacted at 90 ° C. for 4 hours under nitrogen pressure (2 kg / cm 2 ). The reaction solution was poured into water, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with toluene. The organic layers were combined, washed with 10% hydrochloric acid and saturated brine, and concentrated. Purification by chromatography (silica gel, hexane) involving the residue gave 2- (4-propylphenyl) -1,7,8-trifluoronaphthalene (13 g).
MS m / z: 300 (M + ), 271 (100)

(実施例5)3-メチル-7-(4-プロピルフェニル)-1,2,8-トリフルオロナフタレン(一般式(IV):R=n−プロピル基、A=フェニル基、Y=単結合、n=1、R=メチル基)の製造 Example 5 3-Methyl-7- (4-propylphenyl) -1,2,8-trifluoronaphthalene (General formula (IV): R 1 = n-propyl group, A = phenyl group, Y = simple Bond, n = 1, R 1 = methyl group)

Figure 0003632702
2-(4-プロピルフェニル)-1,7,8-トリフルオロナフタレン(6.5 g)のテトラヒドロフラン(25 ml)溶液に-65℃で1.58 Mブチルリチウム/ヘキサン溶液(16.4 ml)を滴下し、1時間攪拌した。これに、ヨウ化メチル(3.7 g)のテトラヒドロフラン(10 ml)溶液を30分かけて滴下し、その後室温まで昇温した。反応液に水を加え、攪拌後、少量の塩酸を加え中和し、有機層を分取した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ、水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)で精製し、エタノールから再結晶(2回)して、3-メチル-7-(4-プロピルフェニル)-1,2,8-トリフルオロナフタレン(4.8 g)を無色針状晶として得た。
融点 99℃
1H NMR (CDCl3)δ 0.99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 1.70 (sextet, J = 7.3 Hz, 2 H), 2.49 (s, 3 H), 2.66 (t, J = 7.3 Hz, 2 H), 7.2-7.6 (m, 7 H)
MS m/z:314 (M+), 285 (100)
ヨウ化メチルに代えヨウ化エチルを用いる以外は同様にして6-メチル-2-(4-プロピルフェニル)-1,7,8-トリフルオロナフタレンを得た。
Figure 0003632702
To a solution of 2- (4-propylphenyl) -1,7,8-trifluoronaphthalene (6.5 g) in tetrahydrofuran (25 ml) was added 1.58 M butyllithium / hexane solution (16.4 ml) dropwise at -65 ° C. Stir for hours. To this, a solution of methyl iodide (3.7 g) in tetrahydrofuran (10 ml) was added dropwise over 30 minutes, and then the temperature was raised to room temperature. Water was added to the reaction solution, and after stirring, a small amount of hydrochloric acid was added to neutralize, and the organic layer was separated. The aqueous layer was extracted with ethyl acetate, and the organic layers were combined, washed with water, aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine, and concentrated. The residue was purified by column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallized from ethanol (twice) to give 3-methyl-7- (4-propylphenyl) -1,2,8-trifluoronaphthalene (4.8 g ) Were obtained as colorless needles.
Melting point 99 ℃
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 1.70 (sextet, J = 7.3 Hz, 2 H), 2.49 (s, 3 H), 2.66 (t, J = 7.3 Hz , 2 H), 7.2-7.6 (m, 7 H)
MS m / z: 314 (M + ), 285 (100)
6-Methyl-2- (4-propylphenyl) -1,7,8-trifluoronaphthalene was obtained in the same manner except that ethyl iodide was used instead of methyl iodide.

この方法では、側鎖(この場合はメチル基)の異なる化合物を製造する場合に、最終工程に使用する原料を変更するのみで他の化合物を得ることができるため効率的である。   This method is efficient because when a compound having a different side chain (in this case, a methyl group) is produced, another compound can be obtained only by changing the raw material used in the final step.

(比較例1)3-メチル-7-(4-プロピルフェニル)-1,2,8-トリフルオロナフタレンの製造   Comparative Example 1 Production of 3-methyl-7- (4-propylphenyl) -1,2,8-trifluoronaphthalene

Figure 0003632702
7,8-ジフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オンを出発原料として、特許文献4に記載の方法で3-メチル-7-(4-プロピルフェニル)-1,2,8-トリフルオロナフタレンの製造を行った。この方法では、2-クロロ-6-メチル-7,8-ジフルオロナフタレンの収率が悪く、工程も長いため効率的な製造はできなかった。又、側鎖(この場合メチル基)が異なった化合物を製造する場合はあらかじめ側鎖の異なった中間体を製造する必要があり効率が悪かった。
Figure 0003632702
Using 7,8-difluoro-1,2,3,4-tetrahydronaphthalen-2-one as a starting material, 3-methyl-7- (4-propylphenyl) -1,2, by the method described in Patent Document 4 8-Trifluoronaphthalene was produced. In this method, the yield of 2-chloro-6-methyl-7,8-difluoronaphthalene was poor and the production process was long, so that efficient production was not possible. Further, when producing compounds having different side chains (in this case, methyl groups), it is necessary to produce intermediates having different side chains in advance, resulting in poor efficiency.

(実施例6)3-エトキシ-7-(4-プロピルフェニル)-1,2,8-トリフルオロナフタレン(一般式(IV):R=n−プロピル基、A=フェニル基、Y=単結合、n=1、R=エトキシ基)の製造 Example 6 3-Ethoxy-7- (4-propylphenyl) -1,2,8-trifluoronaphthalene (general formula (IV): R 1 = n-propyl group, A = phenyl group, Y = simple Bond, n = 1, R 1 = ethoxy group)

Figure 0003632702
2-(4-プロピルフェニル)-1,7,8-トリフルオロナフタレン(6.5 g)のテトラヒドロフラン(25 ml)溶液に-65℃で1.58 Mブチルリチウム/ヘキサン溶液(16.4 ml)を滴下し、1時間攪拌した。これに、トリメトキシボラン(2.7 g)のテトラヒドロフラン(10 ml)溶液を30分かけて滴下し、その後0℃まで昇温した。反応液に酢酸(1.85 ml)および30%過酸化水素(3 ml)を加え、しばらく攪拌した。反応液に水を加え、有機層を分取し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、水、飽和食塩水で洗浄後、濃縮し、6-(4-プロピルフェニル)-3,4,5-トリフルオロ-2-ナフトール(8.5 g)を得た。
MS m/z:316 (M+), 287 (100)
水素化ナトリウム(60%油性、1.3 g)のN,N-ジメチルホルムアミド(5 ml)懸濁液に、氷冷下、6-(4-プロピルフェニル)-3,4,5-トリフルオロ-2-ナフトール(8.5 g)のN,N-ジメチルホルムアミド(30 ml)溶液を滴下した。これに、ヨウ化エチル(6.3 g)のN,N-ジメチルホルムアミド(20 ml)溶液を30分かけて滴下し、さらに30分攪拌した。反応液を水にあけ、チオ硫酸ナトリウムを加えてしばらく攪拌した。有機層を分取し、水層を酢酸エチルで抽出後、有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン)で精製し、エタノールから再結晶(3回)して、3-エトキシ-7-(4-プロピルフェニル)-1,2,8-トリフルオロナフタレン(3.8 g)を無色針状晶として得た。
融点 122℃
1H NMR (CDCl3)δ 0.99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 1.55 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 1.72 (broad sextet, J = 7.6 Hz, 2 H), 2.65 (t, J = 7.6 Hz, 2 H), 4.23 (q, J = 7.1 Hz, 2 H), 7.0-7.6 (m, 7 H)
MS m/z:344 (M+), 287 (100)
Figure 0003632702
To a solution of 2- (4-propylphenyl) -1,7,8-trifluoronaphthalene (6.5 g) in tetrahydrofuran (25 ml) was added 1.58 M butyllithium / hexane solution (16.4 ml) dropwise at -65 ° C. Stir for hours. A solution of trimethoxyborane (2.7 g) in tetrahydrofuran (10 ml) was added dropwise thereto over 30 minutes, and then the temperature was raised to 0 ° C. Acetic acid (1.85 ml) and 30% hydrogen peroxide (3 ml) were added to the reaction mixture and stirred for a while. Water was added to the reaction solution, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate. The organic layers were combined, washed with water and saturated brine, and concentrated to give 6- (4-propylphenyl) -3,4,5-trifluoro-2-naphthol (8.5 g).
MS m / z: 316 (M +), 287 (100)
To a suspension of sodium hydride (60% oily, 1.3 g) in N, N-dimethylformamide (5 ml) under ice-cooling, 6- (4-propylphenyl) -3,4,5-trifluoro-2 -A solution of naphthol (8.5 g) in N, N-dimethylformamide (30 ml) was added dropwise. To this, a solution of ethyl iodide (6.3 g) in N, N-dimethylformamide (20 ml) was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 30 minutes. The reaction mixture was poured into water, sodium thiosulfate was added, and the mixture was stirred for a while. The organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate. The organic layers were combined, washed with saturated brine, and concentrated. The residue was purified by column chromatography (silica gel, toluene) and recrystallized from ethanol (three times) to give 3-ethoxy-7- (4-propylphenyl) -1,2,8-trifluoronaphthalene (3.8 g ) Were obtained as colorless needles.
Melting point 122 ° C
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 1.55 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 1.72 (broad sextet, J = 7.6 Hz, 2 H), 2.65 ( t, J = 7.6 Hz, 2 H), 4.23 (q, J = 7.1 Hz, 2 H), 7.0-7.6 (m, 7 H)
MS m / z: 344 (M + ), 287 (100)

(実施例7)7-エトキシ-3-[4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)フェニル]-1,2,8-トリフルオロナフタレン(一般式(VI):R=n−プロピル基、A=シクロヘキシル基、Y=単結合、n=1、X=エチル基)の製造 (Example 7) 7-ethoxy-3- [4- (trans-4-propylcyclohexyl) phenyl] -1,2,8-trifluoronaphthalene (general formula (VI): R 1 = n-propyl group, A = Cyclohexyl group, Y = single bond, n = 1, X = ethyl group)

Figure 0003632702
2-エトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン(16 g)のテトラヒドロフラン(80 ml)溶液を-60℃に冷却し、1.58 Mブチルリチウム/ヘキサン溶液(47 ml)を滴下し、1時間攪拌した。これに、トリメトキシボラン(8.8 g)を30分かけて滴下し、その後室温まで昇温した。反応液を10%塩酸にあけ、有機層を分取し、水層をトルエンで抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。オートクレーブに残渣(12 g)、4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)ブロモベンゼン(11.4 g)、炭酸カリウム(16.8 g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(1 g)、トルエン(80 ml)、テトラヒドロフラン(80 ml)、水(40 ml)を加え、窒素加圧下(2 kg/cm2)、90℃で5時間反応させた。反応液を水にあけ、有機層を分取し、水層をトルエンで抽出した。有機層を合わせ、10%塩酸、飽和食塩水で洗浄し、濃縮した。残渣を絡むクロマトグラフィー(アルミナ、トルエン/ヘキサン=1/3)で精製し、さらに再結晶(トルエン/ヘキサン=1/3)し、7-エトキシ-3-[4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)フェニル]-1,2,8-トリフルオロナフタレン(6 g)を得た。
相転移温度 Cr 134 N 248 I
1H NMR (CDCl3)δ 0.92 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 1.00-1.15 (m, 2 H), 1.45 (m, 5 H), 1.45-1.60 (m, 5 H), 1.92 (t, J = 16.4 Hz, 4 H), 2.54 (t, J = 12.5 Hz, 1 H), 4.28 (q, J = 6.8 Hz, 2H), 7.20-7.35 (m, 3 H) , 7.50-7.60 (m, 4 H)
MS m/z:426 (M+, 100)
Figure 0003632702
A solution of 2-ethoxy-1,7,8-trifluoronaphthalene (16 g) in tetrahydrofuran (80 ml) is cooled to -60 ° C, 1.58 M butyllithium / hexane solution (47 ml) is added dropwise, and the mixture is stirred for 1 hour. did. To this, trimethoxyborane (8.8 g) was added dropwise over 30 minutes, and then the temperature was raised to room temperature. The reaction solution was poured into 10% hydrochloric acid, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with toluene. The organic layers were combined, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue (12 g), 4- (trans-4-propylcyclohexyl) bromobenzene (11.4 g), potassium carbonate (16.8 g), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (1 g), toluene (80 ml), tetrahydrofuran (80 ml) and water (40 ml) were added and reacted at 90 ° C. for 5 hours under nitrogen pressure (2 kg / cm 2 ). The reaction solution was poured into water, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with toluene. The organic layers were combined, washed with 10% hydrochloric acid and saturated brine, and concentrated. Purification by chromatography involving the residue (alumina, toluene / hexane = 1/3), recrystallization (toluene / hexane = 1/3), 7-ethoxy-3- [4- (trans-4-propylcyclohexyl) ) Phenyl] -1,2,8-trifluoronaphthalene (6 g) was obtained.
Phase transition temperature Cr 134 N 248 I
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.92 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 1.00-1.15 (m, 2 H), 1.45 (m, 5 H), 1.45-1.60 (m, 5 H), 1.92 (t, J = 16.4 Hz, 4 H), 2.54 (t, J = 12.5 Hz, 1 H), 4.28 (q, J = 6.8 Hz, 2H), 7.20-7.35 (m, 3 H), 7.50-7.60 (m, 4 H)
MS m / z: 426 (M + , 100)

(実施例8)7-エトキシ-3-[2-[トランス-4-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]-1,2,8-トリフルオロナフタレン(一般式(VIII):R=n−ブチル基、A=シクロヘキシル基、Y=単結合、n=1、R=エチル基)の製造 Example 8 7-Ethoxy-3- [2- [trans-4- (trans-4-butylcyclohexyl) cyclohexyl] ethyl] -1,2,8-trifluoronaphthalene (general formula (VIII): R 3 = N-butyl group, A = cyclohexyl group, Y = single bond, n = 1, R 1 = ethyl group)

Figure 0003632702
2-エトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン(9.4 g)のテトラヒドロフラン(50 ml)溶液を-60℃に冷却し、1.58 Mブチルリチウム/ヘキサン溶液(47 ml)を滴下し、2時間攪拌した。これにトランス-4-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシルアセトアルデヒド(13.2 g)のテトラヒドロフラン(50 ml)溶液を-50℃で滴下し、2時間攪拌後、0℃まで昇温した。反応液に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、濃縮した。残渣を酢酸エチルから再結晶し、7-エトキシ-3-[2-[トランス-4-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシル]-1-ヒドロキシエチル]-1,2,8-トリフルオロナフタレン(17 g)を得た。
Figure 0003632702
A solution of 2-ethoxy-1,7,8-trifluoronaphthalene (9.4 g) in tetrahydrofuran (50 ml) is cooled to -60 ° C, 1.58 M butyllithium / hexane solution (47 ml) is added dropwise, and the mixture is stirred for 2 hours. did. A solution of trans-4- (trans-4-butylcyclohexyl) cyclohexylacetaldehyde (13.2 g) in tetrahydrofuran (50 ml) was added dropwise thereto at −50 ° C., and the mixture was stirred for 2 hours and then heated to 0 ° C. 10% Hydrochloric acid was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate, washed with saturated brine, and concentrated. The residue was recrystallized from ethyl acetate to give 7-ethoxy-3- [2- [trans-4- (trans-4-butylcyclohexyl) cyclohexyl] -1-hydroxyethyl] -1,2,8-trifluoronaphthalene ( 17 g) was obtained.

オートクレーブに7-エトキシ-3-[2-[トランス-4-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシル]-1-ヒドロキシエチル]-1,2,8-トリフルオロナフタレン(16.2 g)、p-トルエンスルホン酸(0.6 g)のトルエン(100 ml)溶液を1時間加熱還流した。反応液を水および飽和食塩水で洗浄後、濃縮して、(E)-7-エトキシ-3-[2-[トランス-4-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシル]エテニル]-1,2,8-トリフルオロナフタレン粗生成物(16.6 g)を得た。   7-ethoxy-3- [2- [trans-4- (trans-4-butylcyclohexyl) cyclohexyl] -1-hydroxyethyl] -1,2,8-trifluoronaphthalene (16.2 g), p-toluene in the autoclave A solution of sulfonic acid (0.6 g) in toluene (100 ml) was heated to reflux for 1 hour. The reaction mixture was washed with water and saturated brine, concentrated, and (E) -7-ethoxy-3- [2- [trans-4- (trans-4-butylcyclohexyl) cyclohexyl] ethenyl] -1,2 , 8-trifluoronaphthalene crude product (16.6 g) was obtained.

(E)-7-エトキシ-3-[2-[トランス-4-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシル]エテニル]-1,2,8-トリフルオロナフタレン粗生成物(16.6 g)、5%パラジウム-炭素(50%含水)(3.1 g)、テトラヒドロフラン(100 ml)を入れ、室温、水素4気圧下で4時間反応させた。反応液をセライトでろ過し、ろ液を濃縮し、7-エトキシ-3-[2-[トランス-4-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]-1,2,8-トリフルオロナフタレン粗生成物(15.4 g)を得た。さらにヘキサンから再結晶し、7-エトキシ-3-[2-[トランス-4-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]-1,2,8-トリフルオロナフタレン(9 g)を得た。
相転移温度 Cr 94 N 209 I
1H NMR (CDCl3)δ 0.82-0.89 (m, 5 H), 0.94-1.01 (m, 8 H), 1.12-1.27 (m, 8 H), 1.46 (t, J = 7.0 Hz, 3 H), 1.52-1.57 (m, 2 H), 1.67-1.75 (m, 6 H), 1.83-1.85 (m, 2 H), 2.74-2.78 (m, 2 H), 4.24 (q, J = 7.0 Hz, 2 H), 7.20 (dd, J = 9.0 and 6.6 Hz, 1 H), 7.29-7.30 (broad d, J = 8 Hz, 1 H), 7.24-7.44 (broad dt, J = 9.0 and 1.0 Hz, 1 H)
MS m/z:474 (M+, 100)
(E) -7-Ethoxy-3- [2- [trans-4- (trans-4-butylcyclohexyl) cyclohexyl] ethenyl] -1,2,8-trifluoronaphthalene crude product (16.6 g), 5% Palladium-carbon (containing 50% water) (3.1 g) and tetrahydrofuran (100 ml) were added and reacted at room temperature under 4 atmospheres of hydrogen for 4 hours. The reaction solution was filtered through celite, the filtrate was concentrated, and 7-ethoxy-3- [2- [trans-4- (trans-4-butylcyclohexyl) cyclohexyl] ethyl] -1,2,8-trifluoronaphthalene. Crude product (15.4 g) was obtained. Further, recrystallization from hexane gave 7-ethoxy-3- [2- [trans-4- (trans-4-butylcyclohexyl) cyclohexyl] ethyl] -1,2,8-trifluoronaphthalene (9 g). .
Phase transition temperature Cr 94 N 209 I
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.82-0.89 (m, 5 H), 0.94-1.01 (m, 8 H), 1.12-1.27 (m, 8 H), 1.46 (t, J = 7.0 Hz, 3 H) , 1.52-1.57 (m, 2 H), 1.67-1.75 (m, 6 H), 1.83-1.85 (m, 2 H), 2.74-2.78 (m, 2 H), 4.24 (q, J = 7.0 Hz, 2 H), 7.20 (dd, J = 9.0 and 6.6 Hz, 1 H), 7.29-7.30 (broad d, J = 8 Hz, 1 H), 7.24-7.44 (broad dt, J = 9.0 and 1.0 Hz, 1 H)
MS m / z: 474 (M + , 100)

Claims (8)

一般式(I)
Figure 0003632702
(式中、Xは水素原子、CF3SO2-または炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す。)で表される化合物。
Formula (I)
Figure 0003632702
(Wherein X represents a hydrogen atom, CF 3 SO 2 — or a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms).
Xが水素原子を表す請求項1記載の化合物。 2. The compound according to claim 1, wherein X represents a hydrogen atom. XがCF3SO2-を表す請求項1記載の化合物。 The compound according to claim 1, wherein X represents CF 3 SO 2- . Xが炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す請求項1記載の化合物。 2. The compound according to claim 1, wherein X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. 式(Ia)
Figure 0003632702
で表される化合物に、一般式(II)
Figure 0003632702
(式中、R1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物を触媒存在下に反応させることによる一般式(III)
Figure 0003632702
(式中、R1、Y、Aおよびnは一般式(II)におけるR1、Y、Aおよびnと同じ意味を表す。)で表される化合物の製造方法。
Formula (Ia)
Figure 0003632702
In the compound represented by general formula (II)
Figure 0003632702
Wherein R 1 represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1,4 -Represents a cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1).
Figure 0003632702
(Wherein, R 1, Y, R 1 A and n in the general formula (II), Y, represents the same meaning as A and n.) The production method of the compound represented by.
式(Ia)
Figure 0003632702
で表される化合物に、一般式(II)
Figure 0003632702
(式中、R1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物を触媒存在下に反応させることにより一般式(III)
Figure 0003632702
(式中、R1、Y、Aおよびnは一般式(II)におけるR1、Y、Aおよびnと同じ意味を表す。)で表される化合物を得た後、これをアルキル化またはアルコキシル化することを特徴とする一般式(IV)
Figure 0003632702
(式中、R1、Y、Aおよびnは一般式(II)におけるR1、Y、Aおよびnと同じ意味を表し、R2は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基またはアルコキシル基を表す。)で表される化合物の製造方法。
Formula (Ia)
Figure 0003632702
In the compound represented by general formula (II)
Figure 0003632702
Wherein R 1 represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1,4 -Represents a cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1) by reacting the compound represented by the general formula (III) in the presence of a catalyst.
Figure 0003632702
(Wherein, R 1, Y, R 1 A and n in the general formula (II), Y, represent. The same meanings as A and n) after obtaining the compounds represented by alkylated or alkoxylated this General formula (IV) characterized by
Figure 0003632702
(Wherein, R 1, Y, A and n are in the general formula (II) R 1, Y, the same meanings as A and n, R 2 is or a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Represents an alkoxyl group.).
一般式(Ib)
Figure 0003632702
(式中、Xは炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す。)で表される化合物の6位をリチオ化し、トリメトキシボランを作用させ、得られたボロン酸に、一般式(V)
Figure 0003632702
(式中、Zはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物を触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式(VI)
Figure 0003632702
(式中、XおよびR1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物の製造方法。
Formula (Ib)
Figure 0003632702
(Wherein, X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), the 6-position of the compound represented by the formula is reacted with trimethoxyborane. Formula (V)
Figure 0003632702
(Wherein, Z is represents a iodine atom, a bromine atom, a chlorine atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group, R 1 represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, -CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, A represents a trans-1,4-cyclohexylene group or 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1.) General formula (VI) characterized by reacting below
Figure 0003632702
Wherein X and R 1 represent a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1 Represents a 1,4-cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1.).
一般式(Ib)
Figure 0003632702
(式中、Xは炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表す。)で表される化合物の6位をリチオ化し、一般式(VII)
Figure 0003632702
(式中、R1は炭素数1〜10の飽和または不飽和のアルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表されるシクロヘキシルアセトアルデヒド誘導体を反応させた後、脱水し生成する二重結合を水素添加することによる、一般式(VIII)
Figure 0003632702
(式中、XおよびR3は炭素数1〜10の飽和アルキル基を表し、Yは単結合、-CH2CH2-または-CH2O-を表し、Aはトランス-1,4-シクロヘキシレン基又は1,4-フェニレン基を表し、nは0または1を表す。)で表される化合物の製造方法。

Formula (Ib)
Figure 0003632702
(Wherein X represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), the 6-position of the compound represented by formula (VII)
Figure 0003632702
Wherein R 1 represents a saturated or unsaturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1,4 By reacting a cyclohexylacetaldehyde derivative represented by -cyclohexylene group or 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1.) Formula (VIII)
Figure 0003632702
(Wherein X and R 3 represent a saturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y represents a single bond, —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—, and A represents trans-1,4-cyclohexene. Represents a silene group or a 1,4-phenylene group, and n represents 0 or 1.)

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