JP2008179799A - Polyethylene resin composition for large-sized high purity chemical container - Google Patents

Polyethylene resin composition for large-sized high purity chemical container Download PDF

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Ichiro Kakihara
一郎 柿原
Koichi Hasebe
公一 長谷部
Masahide Miyake
正秀 三宅
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition for a large-sized high purity chemical container, which is reduced in the amount of fine particles and eluting components, and excellent in surface roughing resistance during molding. <P>SOLUTION: The polyethylene resin composition essentially contains a polyethylene resin component composed of a low molecular weight component and a high molecular weight component, and has been produced by the multistage polymerization using a Ziegler catalyst. The low molecular weight component is an ethylene homopolymer or a copolymer of ethylene with a 3-20C α-olefin, having 3-50 g/10 min melt flow rate (MFR code D) and 960-974 kg/m<SP>3</SP>density. The high molecular weight component has 0.40-0.46 mass fraction to the composition. The composition has 955-965 kg/m<SP>3</SP>density, and 0.40-1.0 g/10 min MFR (code T); and contains substantially no additive. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、微粒子や溶出成分が少なく、かつ成形加工時の肌荒れ性に優れたポリエチレン樹脂組成物に関するものであり、本発明のポリエチレン樹脂組成物はクリーン性を要求される高純度薬品容器用の樹脂材料として好適である。   The present invention relates to a polyethylene resin composition having a small amount of fine particles and eluted components and having excellent skin roughness during molding, and the polyethylene resin composition of the present invention is used for high-purity chemical containers that require cleanliness. Suitable as a resin material.

近年、電子工業分野の著しい発達に伴って、高純度薬品の需要が高まっている。高純度薬品は、例えば、大規模化、集積化されたLSI等の電子回路の製造に不可欠の薬品として使用されている。具体的には、ウエハー洗浄・エッチング用、配線・絶縁膜エッチング用、治具洗浄用、現像液、レジスト希釈液、レジスト剥離液、乾燥用等の用途として、硫酸、塩酸、硝酸、フッ化水素酸、フッ化アンモニウム、過酸化水素水、2−プロパノール、キシレン、TMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)、メタノール、酢酸、リン酸、アンモニア水、PGMEA(酢酸プロピレングリコールメチルエーテル)、DMSO(ジメチルスルホキシド)、NMP(N−メチルピロリジノン)、ECA(シアノアクリル酸エチル)、乳酸エチル等が用いられている。   In recent years, the demand for high-purity chemicals has increased with the remarkable development of the electronics industry. High-purity chemicals are used, for example, as chemicals indispensable for manufacturing electronic circuits such as large-scale and integrated LSIs. Specifically, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, hydrogen fluoride are used for wafer cleaning / etching, wiring / insulating film etching, jig cleaning, developer, resist diluent, resist stripper, drying, etc. Acid, ammonium fluoride, hydrogen peroxide, 2-propanol, xylene, TMAH (tetramethylammonium hydroxide), methanol, acetic acid, phosphoric acid, aqueous ammonia, PGMEA (propylene glycol methyl ether acetate), DMSO (dimethyl sulfoxide) NMP (N-methylpyrrolidinone), ECA (ethyl cyanoacrylate), ethyl lactate and the like are used.

従来、これらの高純度薬品用容器用材料として、耐薬品性、耐衝撃性、価格等の点から、ポリエチレン樹脂が使用されている。しかしながら、従来のポリエチレン樹脂製の容器では、薬品による該樹脂の溶出物や劣化物等の汚染物質による内容物への汚染問題があり、高純度薬品容器用として限界があった。すなわち、超LSIの微細化に伴い、従来では金属不純物濃度が1PPB以下が要求されていたが、現在では0.1PPB以下が要求されている。また、従来、0.5μm以上の微粒子が問題であったものが、0.2μm以上の微粒子が100個/ml以下と厳しい品質が要求されるようになり、より厳しい品質が要求されている。一方、ポリエチレン樹脂には、一般的な容器に要求される特性、例えば、ESCR(耐環境応力亀裂特性)等の長期特性、落下時の安全性の指標である衝撃強度、等も併せて要求されている。   Conventionally, polyethylene resins have been used as these materials for containers for high-purity chemicals in terms of chemical resistance, impact resistance, price, and the like. However, conventional containers made of polyethylene resin have a problem of contamination of the contents by contaminants such as eluate and deteriorated products of the resin due to chemicals, and have a limit for use in high-purity chemical containers. That is, with the miniaturization of the VLSI, the metal impurity concentration is conventionally required to be 1 PPB or less, but at present, it is required to be 0.1 PPB or less. Conventionally, fine particles having a size of 0.5 μm or more have been problematic, but fine quality of 0.2 μm or more is required to be 100 particles / ml or less, and more stringent quality is required. On the other hand, polyethylene resins are required to have characteristics required for general containers, for example, long-term characteristics such as ESCR (environmental stress crack resistance), impact strength, which is an index of safety when dropped. ing.

一方、ポリエチレン樹脂製の容器を製造する際には、該ポリエチレン樹脂の成形加工性が要求される。成形加工性が悪いポリエチレン樹脂を用いて容器を成形した場合には、容器の表面、特に内側の表面が肌荒れして表面積が増大することにより、溶出成分の増加によるクリーン性の低下が問題になる。この成形加工性を改良するためには、一般に流動性を良くするための分子量分布の拡大や分子量の低下が有効である。しかし、これらの改良手法は、溶出成分の増加によるクリーン性の低下とともに大型の成形品ではドローダウンなどの成形性の低下が問題となっていた。   On the other hand, when manufacturing a container made of polyethylene resin, moldability of the polyethylene resin is required. When a container is molded using a polyethylene resin with poor moldability, the surface of the container, particularly the inner surface, becomes rough and the surface area increases, resulting in a decrease in cleanliness due to an increase in elution components. . In order to improve the moldability, it is generally effective to widen the molecular weight distribution or lower the molecular weight in order to improve fluidity. However, these improved methods have a problem of deterioration of moldability such as drawdown in large-sized molded products as well as a decrease in cleanliness due to an increase in eluted components.

すなわち、樹脂自体のクリーン性を向上させるには樹脂に含まれる低分子量成分を少なくすることが必要である。そこで樹脂の分子量分布を狭くして低分子量成分を減らすと樹脂自体のクリーン性は向上するが分子量分布が狭くなると成形品の表面に肌荒れが生じやすい。そこで肌荒れ性を改善するために高分子量領域に別の分子量分布の狭い樹脂を導入するような多段重合がしばしば行われる。しかし高分子量成分を添加するだけでは全体の分子量が大きくなるために結果的に肌荒れの原因となり、分子量を合わせるために全体の分子量を下げるとクリーン性が悪くなり、大型のブロー成形ではドローダウンして成形できないといった問題があった。   That is, in order to improve the cleanliness of the resin itself, it is necessary to reduce the low molecular weight component contained in the resin. Therefore, if the molecular weight distribution of the resin is narrowed to reduce the low molecular weight component, the cleanliness of the resin itself is improved. However, if the molecular weight distribution is narrowed, the surface of the molded product tends to be rough. Therefore, in order to improve the rough skin, multistage polymerization is often performed in which another resin having a narrow molecular weight distribution is introduced into the high molecular weight region. However, adding only a high molecular weight component will increase the overall molecular weight, resulting in rough skin.If the overall molecular weight is lowered to match the molecular weight, cleanliness will deteriorate, and large blow molding will draw down. There was a problem that it could not be molded.

高純度薬品容器用のポリエチレン樹脂組成物についてはいくつか開示されている。
例えば、分子量分布(=重量平均分子量/数平均分子量)を極めて狭くしてクリーン性を高め耐衝撃性を改善した樹脂組成物が開示されている(例えば、特許文献1参照)。しかしこの樹脂組成物はクリーン性は向上するものの、溶融流れ(MFR)が低い場合は押出し時の肌荒れが激しく、高い場合はドローダウンが顕著になって大型のブロー容器の成形には困難を伴う。
Several polyethylene resin compositions for high-purity chemical containers are disclosed.
For example, a resin composition is disclosed in which the molecular weight distribution (= weight average molecular weight / number average molecular weight) is extremely narrow to improve cleanliness and improve impact resistance (see, for example, Patent Document 1). However, this resin composition has improved cleanliness, but when the melt flow (MFR) is low, the skin becomes rough during extrusion, and when it is high, drawdown becomes remarkable, which makes it difficult to mold a large blow container. .

また二段重合を用いて得られた分子量分布の狭い樹脂組成物が開示されている(例えば、特許文献2参照)。この樹脂組成物はクリーン性が向上し長期安定性は改善されているが、大型ブローに適応する低MFR樹脂組成物の押出し時の肌荒れ性は依然解決されていない。また中和剤や熱安定剤を少量ながら添加しているためどうしてもクリーン性が低下する原因となっていた。
またシングルサイト触媒を用いてクリーン性を向上させた樹脂組成物が開示されている(例えば、特許文献3参照)。しかし肌荒れ性は改善されておらず、大型成形品用途におけるドローダウン性も改善の余地が有った。
ここでいう大型とは、ボトルの内容量が10L以上であるものを指す。
Moreover, the resin composition with narrow molecular weight distribution obtained by using two-stage polymerization is disclosed (for example, refer patent document 2). Although this resin composition has improved cleanliness and improved long-term stability, the rough skin property at the time of extrusion of the low MFR resin composition suitable for large blow has not been solved yet. Since you are added with a small amount of neutralizing agent and a heat stabilizer it was really caused the cleanness drops.
Moreover, the resin composition which improved the cleanliness using the single site catalyst is disclosed (for example, refer patent document 3). However, the rough skin property has not been improved, and there has been room for improvement in the drawdown property in large-sized molded product applications.
The large size here refers to a bottle whose internal capacity is 10L or more.

特開平9−77921号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-79721 特開平11−80257号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-80257 特開平11−246714号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-246714

本発明の目的は、ポリエチレン樹脂由来および添加剤による微粒子や溶出成分が少なく、成形加工性、特に成形加工時の肌荒れ性に優れ、ESCRに優れる高純度薬品容器用ポリエチレン樹脂組成物を提供することである。   An object of the present invention is to provide a polyethylene resin composition for high-purity chemical containers that has few fine particles and elution components derived from polyethylene resin and has few elution components, is excellent in molding processability, particularly rough skin during molding, and has excellent ESCR. It is.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の溶融流れ、分子量分布をもち添加剤を実質含まない樹脂組成物が、大型の高純度薬品容器に好適であることを見出し、本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は以下に記載する通りのポリエチレン樹脂組成物及びこれを用いた大型高純度薬品用容器である。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a resin composition having a specific melt flow and molecular weight distribution and substantially free of additives is suitable for a large high-purity chemical container. The headline and the present invention were made.
That is, the present invention is a polyethylene resin composition as described below and a large-sized high-purity chemical container using the same.

(1)ポリエチレン樹脂組成物に含まれるポリエチレン樹脂成分が、少なくとも低分子量成分と高分子量成分とからなる多段重合法によりチーグラー触媒を用いて製造されたポリエチレン樹脂組成物であって、該低分子量成分が、メルトフローレート(JIS K7210−1999、コードD)が3g/10分以上50g/10分以下、密度(JIS K7112−1999)が960kg/m以上974kg/m以下であるエチレンの単独重合体もしくはエチレンと炭素数3以上20以下のα−オレフィンとの共重合体であって、該高分子量成分の該ポリエチレン樹脂組成物に対する質量分率が0.40以上0.46以下であり、該ポリエチレン樹脂組成物が、密度(JIS K7112−1999)が955kg/m以上965kg/m以下、メルトフローレート(JIS K7210−1999、コードT)が0.40g/10分以上1.0g/10分以下であり、実質的に添加剤を含まないことを特徴とする大型高純度薬品容器用のポリエチレン樹脂組成物。
(2)上記1に記載のポリエチレン樹脂組成物を成形してなる大型高純度薬品用容器。
(1) The polyethylene resin composition contained in the polyethylene resin composition is a polyethylene resin composition produced using a Ziegler catalyst by a multistage polymerization method comprising at least a low molecular weight component and a high molecular weight component, wherein the low molecular weight component but the melt flow rate (JIS K7210-1999, code D) is 3 g / 10 min or more 50 g / 10 minutes or less, the density (JIS K7112-1999) is ethylene or less 960 kg / m 3 or more 974kg / m 3 homo- A polymer or a copolymer of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, wherein a mass fraction of the high molecular weight component to the polyethylene resin composition is 0.40 or more and 0.46 or less, polyethylene resin composition, density (JIS K7112-1999) is 955 kg / m 3 or more 965k / M 3 or less, a melt flow rate (JIS K7210-1999, code T) is not less than 1.0 g / 10 min or less 0.40 g / 10 min, a large height, characterized in that it is substantially free of additives Polyethylene resin composition for pure chemical containers.
(2) A large-sized high-purity chemical container formed by molding the polyethylene resin composition described in 1 above.

本発明により、ポリエチレン樹脂由来および添加剤による微粒子や溶出成分が少なく、成形加工性、特に成形加工時の肌荒れ性に優れ、ESCRに優れる大型高純度薬品容器用ポリエチレン樹脂組成物を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a polyethylene resin composition for a large-sized high-purity chemical container that has few fine particles and elution components derived from a polyethylene resin and additives, is excellent in molding processability, particularly rough skin during molding, and has excellent ESCR. it can.

本発明について、以下具体的に説明する。
本発明において、高純度薬品とは、大規模化、集積化されたLSI等の電子回路の製造に不可欠な薬品として使用されているものであり、ウエハー洗浄・エッチング用、配線・絶縁膜エッチング用、治具洗浄用、現像液、レジスト希釈液、レジスト剥離液、乾燥用に使用されている。本発明における高純度薬品の純度は99.9%以上である。高純度薬品としては、硫酸、塩酸、硝酸、フッ化水素酸、フッ化アンモニウム、過酸化水素水、イソプロピルアルコール、キシレン、TMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)、メタノール、酢酸、リン酸、アンモニア水、PGMEA(酢酸プロピレングリコールメチルエーテル)、DMSO(ジメチルスルホキシド)、NMP(N−メチルピロリジノン)、ECA(シアノアクリル酸エチル)、乳酸エチル、等が挙げられる。
The present invention will be specifically described below.
In the present invention, high-purity chemicals are used as chemicals indispensable for the manufacture of electronic circuits such as large-scale and integrated LSIs. For wafer cleaning / etching, wiring / insulating film etching It is used for cleaning jigs, developing solutions, resist diluents, resist strippers, and drying. The purity of the high purity chemical in the present invention is 99.9% or more. High purity chemicals include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, hydrofluoric acid, ammonium fluoride, hydrogen peroxide, isopropyl alcohol, xylene, TMAH (tetramethylammonium hydroxide), methanol, acetic acid, phosphoric acid, aqueous ammonia, PGMEA (propylene glycol methyl ether acetate), DMSO (dimethyl sulfoxide), NMP (N-methylpyrrolidinone), ECA (ethyl cyanoacrylate), ethyl lactate and the like can be mentioned.

本発明の樹脂組成物は容器の容量が1L以上の大型容器に好適であり、5L以上の大型容器により好ましく、10L以上の大型容器にさらに好適である。
本発明におけるチーグラー触媒とは、塩化チタン化合物とアルキルアルミニウム化合物とを必須成分とするオレフィン重合用触媒のことである(例えば、理化学辞典第5版(岩波書店)のP.836参照)。本発明においては、チーグラー触媒の製造方法については特に制限はないが、下記の製造方法により製造されるチーグラー触媒であることが好ましい。
The resin composition of the present invention is suitable for a large container having a capacity of 1 L or more, more preferably a large container of 5 L or more, and further suitable for a large container of 10 L or more.
The Ziegler catalyst in the present invention is an olefin polymerization catalyst containing a titanium chloride compound and an alkylaluminum compound as essential components (see, for example, P.836 of the Riken Dictionary 5th edition (Iwanami Shoten)). In the present invention, the Ziegler catalyst production method is not particularly limited, but is preferably a Ziegler catalyst produced by the following production method.

すなわち、本発明におけるチーグラー触媒は、固体触媒成分[A]および有機金属化合物成分[B]からなり、固体触媒成分[A]が、下記一般式(1)で表される不活性炭化水素溶媒に可溶である有機マグネシウム化合物(A−1)と下記一般式(2)で表される塩素化剤(A−2)との反応により調製された担体(A−3)に下記一般式(3)で表されるチタン化合物(A−4)を担持することにより製造されるオレフィン重合用チーグラー触媒であることが好ましい。
(M(Mg)(R(R(OR ・・・・・(1)
(式中、Mは周期律表第1族、第2族、第12族および第13族からなる群に属するマグネシウム以外の金属原子であり、RおよびRはそれぞれ炭素数2以上20以下の炭化水素基であり、Rは炭素数1以上20以下の炭化水素基であり、a、b、c、dおよびeは次の関係を満たす実数である。0≦a、0<b、0≦c、0≦d、0≦e、0<c+d、0≦e/(a+b)≦2、f×a+2b=c+d+e(ただし、fはMの原子価))
SiCl (4−(h+i)) ・・・・・(2)
(式中、Rは炭素数1以上12以下の炭化水素基であり、hとiは次の関係を満たす実数である。0<h、0<i、0<h+i≦4)
Ti(OR(4−j) ・・・・・(3)
(式中、jは0以上4以下の実数であり、Rは炭素数1以上20以下の炭化水素基であり、Xはハロゲン原子である。)
That is, the Ziegler catalyst in the present invention comprises a solid catalyst component [A] and an organometallic compound component [B], and the solid catalyst component [A] is an inert hydrocarbon solvent represented by the following general formula (1). A carrier (A-3) prepared by the reaction of a soluble organomagnesium compound (A-1) and a chlorinating agent (A-2) represented by the following general formula (2) has the following general formula (3 It is preferable that it is a Ziegler catalyst for olefin polymerization produced by carrying | supporting the titanium compound (A-4) represented by this.
(M 1 ) a (Mg) b (R 1 ) c (R 2 ) d (OR 3 ) e (1)
(In the formula, M 1 is a metal atom other than magnesium belonging to the group consisting of Group 1, Group 2, Group 12, and Group 13 of the Periodic Table, and R 1 and R 2 each have 2 to 20 carbon atoms. R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a, b, c, d, and e are real numbers that satisfy the following relationship: 0 ≦ a, 0 <b , 0 ≦ c, 0 ≦ d, 0 ≦ e, 0 <c + d, 0 ≦ e / (a + b) ≦ 2, f × a + 2b = c + d + e (where f is the valence of M 1 ))
H h SiCl i R 4 (4- (h + i)) (2)
(Wherein R 4 is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and h and i are real numbers satisfying the following relationship: 0 <h, 0 <i, 0 <h + i ≦ 4)
Ti (OR 5 ) j X (4-j) (3)
(In the formula, j is a real number of 0 or more and 4 or less, R 5 is a hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms, and X is a halogen atom.)

まず、有機マグネシウム化合物(A−1)について説明する。(A−1)は、不活性炭化水素溶媒に可溶な有機マグネシウムの錯化合物の形として示されているが、ジヒドロカルビルマグネシウム化合物およびこの化合物と他の金属化合物との錯体のすべてを包含するものである。一般式(1)の記号a、b、c、dおよびeは関係式:f×a+2b=c+d+eを満たし、これは金属原子の原子価と置換基との化学量論性を示している。
上記式中、RないしRで表される炭化水素基は、それぞれアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、たとえば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、プロピル、ヘキシル、オクチル、デシル、シクロヘキシル、フェニル基等が挙げられ、好ましくはRおよびRは、それぞれアルキル基である。a>0の場合、金属原子Mとしては、周期律表第1族、第2族、第12族および第13族からなる群に属するマグネシウム以外の金属原子が使用でき、たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ベリリウム、亜鉛、ホウ素、アルミニウム等が挙げられるが、アルミニウム、ホウ素、ベリリウム、亜鉛が特に好ましい。
First, the organomagnesium compound (A-1) will be described. (A-1) is shown as a complex form of organomagnesium soluble in an inert hydrocarbon solvent, but includes all dihydrocarbylmagnesium compounds and complexes of this compound with other metal compounds Is. The symbols a, b, c, d and e in the general formula (1) satisfy the relational expression: f × a + 2b = c + d + e, which indicates the stoichiometry between the valence of the metal atom and the substituent.
In the above formulae, the hydrocarbon groups represented by R 1 to R 2 are each an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, propyl, hexyl, octyl, decyl, cyclohexyl , A phenyl group, etc., preferably R 1 and R 2 are each an alkyl group. When a> 0, as the metal atom M 1 , metal atoms other than magnesium belonging to the group consisting of Group 1, Group 2, Group 12 and Group 13 of the Periodic Table can be used. For example, lithium, sodium Potassium, beryllium, zinc, boron, aluminum and the like, and aluminum, boron, beryllium, and zinc are particularly preferable.

金属原子Mに対するマグネシウムの比b/aには特に制限は無いが、0.1以上30以下であることが好ましく、0.5以上10以下であることがさらに好ましい。また、a=0である或る種の有機マグネシウム化合物を用いる場合、例えば、Rが1−メチルプロピル等の場合には不活性炭化水素溶媒に可溶であり、このような化合物も本発明に好ましい結果を与える。 No particular limitation on the ratio b / a of magnesium to metal atom M 1, but more preferably preferably 0.1 to 30, 0.5 to 10. Further, when a certain organomagnesium compound in which a = 0 is used, for example, when R 1 is 1-methylpropyl or the like, it is soluble in an inert hydrocarbon solvent, and such a compound is also used in the present invention. Gives favorable results.

一般式(1)において、a=0の場合のR、Rは次に示す三つの群(1)、(2)、(3)のいずれか一つであることが推奨される。
(1)R、Rの少なくとも一方が炭素数4以上6以下である二級または三級のアルキル基であること、好ましくはR、Rがともに炭素数4以上6以下であり、少なくとも一方が二級または三級のアルキル基であること。
(2)RとRとが炭素数の互いに相異なるアルキル基であること、好ましくはRが炭素数2または3のアルキル基であり、Rが炭素数4以上のアルキル基であること。
(3)R、Rの少なくとも一方が炭素数6以上の炭化水素基であること、好ましくはR、Rに含まれる炭素数の和が12以上になるアルキル基であること。
In the general formula (1), when a = 0, R 1 and R 2 are recommended to be any one of the following three groups (1), (2), and (3).
(1) At least one of R 1 and R 2 is a secondary or tertiary alkyl group having 4 to 6 carbon atoms, preferably R 1 and R 2 both have 4 to 6 carbon atoms, At least one is a secondary or tertiary alkyl group.
(2) R 1 and R 2 are alkyl groups having different carbon numbers, preferably R 1 is an alkyl group having 2 or 3 carbon atoms, and R 2 is an alkyl group having 4 or more carbon atoms. thing.
(3) At least one of R 1 and R 2 is a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms, preferably an alkyl group in which the sum of carbon atoms contained in R 1 and R 2 is 12 or more.

以下、これらの基を具体的に示す。
(1)において炭素数4以上6以下である二級または三級のアルキル基としては、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル、2−メチルブチル、2−エチルプロピル、2,2−ジメチルプロピル、2−メチルペンチル、2−エチルブチル、2,2−ジメチルブチル、2−メチル−2−エチルプロピル基等が用いられ、1−メチルプロピル基が特に好ましい。次に(2)において炭素数2または3のアルキル基としてはエチル、1−メチルエチル、プロピル基等が挙げられ、エチル基が特に好ましい。また炭素数4以上のアルキル基としては、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル基等が挙げられ、ブチル、ヘキシル基が特に好ましい。さらに、(3)において炭素数6以上の炭化水素基としては、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、フェニル、2−ナフチル基等が挙げられる。
Hereinafter, these groups are specifically shown.
As the secondary or tertiary alkyl group having 4 to 6 carbon atoms in (1), 1-methylpropyl, 2-methylpropyl, 1,1-dimethylethyl, 2-methylbutyl, 2-ethylpropyl, 2 , 2-dimethylpropyl, 2-methylpentyl, 2-ethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 2-methyl-2-ethylpropyl group and the like are used, and 1-methylpropyl group is particularly preferable. Next, in (2), examples of the alkyl group having 2 or 3 carbon atoms include ethyl, 1-methylethyl, propyl and the like, and ethyl is particularly preferable. Examples of the alkyl group having 4 or more carbon atoms include butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl group and the like, and butyl and hexyl groups are particularly preferable. Furthermore, examples of the hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms in (3) include hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, phenyl, 2-naphthyl group and the like.

炭化水素基の中ではアルキル基が好ましく、アルキル基の中でもヘキシル、オクチル基が特に好ましい。一般に、アルキル基に含まれる炭素原子数が増えると不活性炭化水素溶媒に溶けやすくなるが、溶液の粘度が高くなるために必要以上に長鎖のアルキル基を用いることは取り扱い上好ましくない。なお、上記有機マグネシウム化合物は不活性炭化水素溶液として使用されるが、該溶液中に微量のエーテル、エステル、アミン等のルイス塩基性化合物が含有され、あるいは残存していても差し支えなく使用できる。なお、本発明における不活性炭化水素溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素およびシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素等が挙げられる。   Among the hydrocarbon groups, an alkyl group is preferable, and among the alkyl groups, hexyl and octyl groups are particularly preferable. In general, an increase in the number of carbon atoms contained in an alkyl group facilitates dissolution in an inert hydrocarbon solvent. However, the use of an unnecessarily long alkyl group is not preferred in terms of handling because the solution viscosity increases. The organomagnesium compound is used as an inert hydrocarbon solution, but it can be used as long as a trace amount of Lewis basic compounds such as ethers, esters, and amines are contained or remain in the solution. The inert hydrocarbon solvent in the present invention includes aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane and heptane, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane. .

次にアルコキシ基(OR)について説明する。Rで表される炭化水素基としては、炭素原子数1以上12以下のアルキル基またはアリール基が好ましく、3以上10以下のアルキル基またはアリール基が特に好ましい。具体的には、たとえば、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル、ペンチル、ヘキシル、2−メチルペンチル、2−エチルブチル、2−エチルペンチル、2−エチルヘキシル、2−エチル−4−メチルペンチル、2−プロピルヘプチル、2−エチル−5−メチルオクチル、オクチル、ノニル、デシル、フェニル、ナフチル基等が挙げられ、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルペンチルおよび2−エチルヘキシル基が特に好ましい。 Next, the alkoxy group (OR 3 ) will be described. The hydrocarbon group represented by R 3 is preferably an alkyl group or aryl group having 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group or aryl group having 3 to 10 carbon atoms. Specifically, for example, methyl, ethyl, propyl, 1-methylethyl, butyl, 1-methylpropyl, 1,1-dimethylethyl, pentyl, hexyl, 2-methylpentyl, 2-ethylbutyl, 2-ethylpentyl, Examples include 2-ethylhexyl, 2-ethyl-4-methylpentyl, 2-propylheptyl, 2-ethyl-5-methyloctyl, octyl, nonyl, decyl, phenyl, naphthyl groups, and the like. Butyl, 1-methylpropyl, 2 -Methylpentyl and 2-ethylhexyl groups are particularly preferred.

本発明においては、(A−1)の合成方法には特に制限は無いが、一般式RMgXおよびR Mg(Rは前述の意味であり、Xはハロゲン原子である。)からなる群に属する有機マグネシウム化合物と、一般式M およびM (f−1)H(M、Rおよびfは前述の意味)からなる群に属する有機金属化合物とを不活性炭化水素溶媒中、25℃以上150℃以下の温度で反応させ、必要な場合には続いてR(Rは前述の意味である。)で表される炭化水素基を有するアルコールまたは不活性炭化水素溶媒に可溶なRで表される炭化水素基を有するアルコキシマグネシウム化合物、および/またはアルコキシアルミニウム化合物と反応させる方法が好ましい。 In the present invention, the synthesis method of (A-1) is not particularly limited, but from the general formulas R 1 MgX and R 1 2 Mg (R 1 has the above-mentioned meaning and X is a halogen atom). And an organometallic compound belonging to the group consisting of the general formulas M 1 R 2 f and M 1 R 2 (f-1) H (M 1 , R 2 and f are as defined above) In an inert hydrocarbon solvent, the reaction is carried out at a temperature of 25 ° C. or more and 150 ° C. or less, and if necessary, an alcohol having a hydrocarbon group represented by R 3 (R 3 has the above-mentioned meaning) or A method of reacting with an alkoxymagnesium compound having a hydrocarbon group represented by R 3 and / or an alkoxyaluminum compound that is soluble in an inert hydrocarbon solvent is preferred.

このうち、不活性炭化水素溶媒に可溶な有機マグネシウム化合物とアルコールとを反応させる場合、反応の順序については特に制限は無く、有機マグネシウム化合物中にアルコールを加えていく方法、アルコール中に有機マグネシウム化合物を加えていく方法、または両者を同時に加えていく方法のいずれの方法も用いることができる。本発明において不活性炭化水素溶媒に可溶な有機マグネシウム化合物とアルコールとの反応比率については特に制限はないが、反応の結果、得られるアルコキシ基含有有機マグネシウム化合物における、全金属原子に対するアルコキシ基のモル組成比e/(a+b)は0≦e/(a+b)≦2であり、0≦e/(a+b)<1であることが好ましい。   Among these, when reacting an organomagnesium compound soluble in an inert hydrocarbon solvent with an alcohol, the order of the reaction is not particularly limited, and a method of adding alcohol to the organomagnesium compound, organomagnesium in the alcohol Either a method of adding a compound or a method of adding both at the same time can be used. In the present invention, the reaction ratio between the organomagnesium compound soluble in the inert hydrocarbon solvent and the alcohol is not particularly limited, but as a result of the reaction, the alkoxy group-containing organomagnesium compound in the resulting alkoxy group-containing organomagnesium compound has an The molar composition ratio e / (a + b) is 0 ≦ e / (a + b) ≦ 2, and preferably 0 ≦ e / (a + b) <1.

次に、塩素化剤(A−2)について説明する。(A−2)は下記一般式(2)で表される、少なくとも一つはSi−H結合を有する塩化珪素化合物である。
SiCl (4−(h+i))・・・・・(2)
(式中、Rは炭素数1以上12以下の炭化水素基であり、hとiは次の関係を満たす実数である。0<h、0<i、0<h+i≦4)
一般式(2)においてRで表される炭化水素基は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基であり、たとえば、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、シクロヘキシル、フェニル基等が挙げられ、中でも炭素数1以上10以下のアルキル基が好ましく、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル基等の炭素数1〜3のアルキル基がさらに好ましい。また、hおよびiはh+i≦4の関係を満たす0より大きな数であり、iが2以上3以下であることが好ましい。
Next, the chlorinating agent (A-2) will be described. (A-2) is represented by the following general formula (2). At least one is a silicon chloride compound having a Si—H bond.
H h SiCl i R 4 (4- (h + i)) (2)
(Wherein R 4 is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and h and i are real numbers satisfying the following relationship: 0 <h, 0 <i, 0 <h + i ≦ 4)
The hydrocarbon group represented by R 4 in the general formula (2) is an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, or an aromatic hydrocarbon group such as methyl, ethyl, propyl, 1-methylethyl. , Butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl, cyclohexyl, phenyl group and the like. Among them, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and 1 to 1 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl and 1-methylethyl groups are preferable. More preferred is an alkyl group of 3. H and i are numbers greater than 0 satisfying the relationship of h + i ≦ 4, and i is preferably 2 or more and 3 or less.

これらの化合物としては、HSiCl、HSiClCH、HSiCl、HSiCl(C)、HSiCl(2−C)、HSiCl(C)、HSiCl(C)、HSiCl(4−Cl−C)、HSiCl(CH=CH)、HSiCl(CH)、HSiCl(1−C10)、HSiCl(CHCH=CH)、HSiCl(CH)、HSiCl(C)、HSiCl(CH、HSiCl(C、HSiCl(CH)(2−C)、HSiCl(CH)(C)、HSiCl(C等が挙げられ、これらの化合物またはこれらの化合物から選ばれた二種類以上の混合物からなる塩化珪素化合物が使用される。中でも、トリクロロシラン、モノメチルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、エチルジクロロシランが好ましく、トリクロロシラン、モノメチルジクロロシランがさらに好ましい。 These compounds include HSiCl 3 , HSiCl 2 CH 3 , HSiCl 2 C 2 H 5 , HSiCl 2 (C 3 H 7 ), HSiCl 2 (2-C 3 H 7 ), HSiCl 2 (C 4 H 9 ), HSiCl 2 (C 6 H 5 ), HSiCl 2 (4-Cl—C 6 H 4 ), HSiCl 2 (CH═CH 2 ), HSiCl 2 (CH 2 C 6 H 5 ), HSiCl 2 (1-C 10 H 7 ), HSiCl 2 (CH 2 CH═CH 2 ), H 2 SiCl (CH 3 ), H 2 SiCl (C 2 H 5 ), HSiCl (CH 3 ) 2 , HSiCl (C 2 H 5 ) 2 , HSiCl ( CH 3 ) (2-C 3 H 7 ), HSiCl (CH 3 ) (C 6 H 5 ), HSiCl (C 6 H 5 ) 2 and the like, and these compounds or these compounds A silicon chloride compound composed of a mixture of two or more selected from the above is used. Among these, trichlorosilane, monomethyldichlorosilane, dimethylchlorosilane, and ethyldichlorosilane are preferable, and trichlorosilane and monomethyldichlorosilane are more preferable.

次に(A−1)と(A−2)との反応について説明する。反応に際しては(A−2)をあらかじめ不活性炭化水素溶媒、1,2−ジクロルエタン、o−ジクロルベンゼン、ジクロルメタン等の塩素化炭化水素、もしくはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系媒体、あるいはこれらの混合媒体を用いて希釈した後に利用することが好ましく、触媒の性能上、不活性炭化水素溶媒がさらに好ましい。(A−1)と(A−2)との反応比率には特に制限はないが、(A−1)に含まれるマグネシウム原子1モルに対する(A−2)に含まれる珪素原子が0.01モル100モル以下であることが好ましく、0.1モル以上10モル以下であることがさらに好ましい。   Next, the reaction between (A-1) and (A-2) will be described. In the reaction, (A-2) is preliminarily treated with an inert hydrocarbon solvent, chlorinated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane, o-dichlorobenzene and dichloromethane, or ether-based media such as diethyl ether and tetrahydrofuran, or these It is preferable to use after diluting with a mixed medium, and an inert hydrocarbon solvent is more preferable in view of the performance of the catalyst. Although there is no restriction | limiting in particular in the reaction ratio of (A-1) and (A-2), The silicon atom contained in (A-2) with respect to 1 mol of magnesium atoms contained in (A-1) is 0.01. It is preferably 100 mol or less, more preferably 0.1 mol or more and 10 mol or less.

(A−1)と(A−2)との反応方法については特に制限は無く、(A−1)と(A−2)とを同時に反応器に導入しつつ反応させる同時添加の方法、(A−2)を事前に反応器に仕込んだ後に(A−1)を反応器に導入させる方法、または(A−1)を事前に反応器に仕込んだ後に(A−2)を反応器に導入させる方法のいずれの方法でも良いが、(A−2)を事前に反応器に仕込んだ後に(A−1)を反応器に導入させる方法が好ましい。上記反応により得られる担体(A−3)は、ろ過あるいはデカンテーション法により分離した後、不活性炭化水素溶媒を用いて充分に洗浄し、未反応物あるいは副生成物等を除去することが好ましい。   The reaction method of (A-1) and (A-2) is not particularly limited, and a method of simultaneous addition in which (A-1) and (A-2) are reacted while being simultaneously introduced into the reactor, A method in which (A-1) is introduced into the reactor after A-2) is charged in the reactor in advance, or (A-2) in the reactor after (A-1) is charged in the reactor in advance. Although any method of the method of introducing may be sufficient, the method of introducing (A-1) into a reactor after charging (A-2) into a reactor in advance is preferable. The carrier (A-3) obtained by the above reaction is preferably separated by filtration or decantation and then thoroughly washed with an inert hydrocarbon solvent to remove unreacted products or by-products. .

(A−1)と(A−2)との反応温度については特に制限は無いが、25℃以上150℃以下であることが好ましく、40℃以上150℃以下であることがより好ましく、50℃以上150℃以下であることがさらに好ましい。(A−1)と(A−2)とを同時に反応器に導入しつつ反応させる同時添加の方法においては、あらかじめ反応器の温度を所定温度に調節し、同時添加を行いながら反応器内の温度を所定温度に調節することにより、反応温度は所定温度に調節することが好ましい。(A−2)を事前に反応器に仕込んだ後に(A−1)を反応器に導入させる方法においては、該塩化珪素化合物を仕込んだ反応器の温度を所定温度に調節し、該有機マグネシウム化合物を反応器に導入しながら反応器内の温度を所定温度に調節することにより、反応温度は所定温度に調節することが好ましい。(A−1)を事前に反応器に仕込んだ後に(A−2)を反応器に導入させる方法においては、(A−1)を仕込んだ反応器の温度を所定温度に調節し、(A−2)を反応器に導入しながら反応器内の温度を所定温度に調節することにより、反応温度は所定温度に調節される。   Although there is no restriction | limiting in particular about the reaction temperature of (A-1) and (A-2), It is preferable that it is 25 to 150 degreeC, It is more preferable that it is 40 to 150 degreeC, 50 degreeC More preferably, it is 150 degrees C or less. In the method of simultaneous addition in which (A-1) and (A-2) are simultaneously introduced into the reactor and reacted, the temperature of the reactor is adjusted to a predetermined temperature in advance, The reaction temperature is preferably adjusted to the predetermined temperature by adjusting the temperature to the predetermined temperature. In the method in which (A-1) is introduced into the reactor after (A-2) is charged in the reactor in advance, the temperature of the reactor charged with the silicon chloride compound is adjusted to a predetermined temperature, and the organomagnesium The reaction temperature is preferably adjusted to a predetermined temperature by adjusting the temperature in the reactor to a predetermined temperature while introducing the compound into the reactor. In the method of introducing (A-2) into the reactor after charging (A-1) into the reactor in advance, the temperature of the reactor charged with (A-1) is adjusted to a predetermined temperature, and (A The reaction temperature is adjusted to a predetermined temperature by adjusting the temperature in the reactor to a predetermined temperature while introducing -2) into the reactor.

(A−1)と(A−2)との反応を固体の存在下に行うこともできる。この固体は無機固体、有機固体のいずれでもよいが、無機固体を用いるほうが好ましい。無機固体として、下記のものが挙げられる。
(i)無機酸化物
(ii)無機炭酸塩、珪酸塩、硫酸塩
(iii)無機水酸化物
(iv)無機ハロゲン化物
(v)(i)〜(iv)からなる複塩、固溶体ないし混合物
The reaction of (A-1) and (A-2) can also be performed in the presence of a solid. This solid may be either an inorganic solid or an organic solid, but it is preferable to use an inorganic solid. The following are mentioned as an inorganic solid.
(I) Inorganic oxides (ii) Inorganic carbonates, silicates, sulfates (iii) Inorganic hydroxides (iv) Inorganic halides (v) Double salts, solid solutions or mixtures comprising (i) to (iv)

無機固体の具体例としては、シリカ、アルミナ、シリカ・アルミナ、水和アルミナ、マグネシア、トリア、チタニア、ジルコニア、リン酸カルシウム・硫酸バリウム、硫酸カルシウム、珪酸マグネシウム、マグネシウム・カルシウム、アルミニウムシリケート[(Mg・Ca)O・Al・5SiO・nHO]、珪酸カリウム・アルミニウム[KO・3Al・6SiO・2HO]、珪酸マグネシウム鉄[(Mg・Fe)2SiO]、珪酸アルミニウム[Al・SiO]、炭酸カルシウム、塩化マグネシウム、よう化マグネシウム等が挙げられるが、特に好ましくは、シリカ、シリカ・アルミナないし塩化マグネシウムが好ましい。無機固体の比表面積は、好ましくは20m/g以上特に好ましくは90m/g以上である。 Specific examples of the inorganic solid include silica, alumina, silica / alumina, hydrated alumina, magnesia, tria, titania, zirconia, calcium phosphate / barium sulfate, calcium sulfate, magnesium silicate, magnesium / calcium, aluminum silicate [(Mg / Ca ) O · Al 2 O 3 · 5SiO 2 · nH 2 O], potassium silicate · aluminum [K 2 O · 3Al 2 O 3 · 6SiO 2 · 2H 2 O], magnesium iron silicate [(Mg · Fe) 2SiO 4 ] , Aluminum silicate [Al 2 O 3 .SiO 2 ], calcium carbonate, magnesium chloride, magnesium iodide, and the like are preferable, and silica, silica / alumina, and magnesium chloride are particularly preferable. The specific surface area of the inorganic solid is preferably 20 m 2 / g or more, particularly preferably 90 m 2 / g or more.

次にチタン化合物(A−4)について説明する。本発明において、(A−4)は下記の一般式(3)で表されるチタン化合物である。
Ti(OR(4−j) ・・・・・(3)
(式中、jは0以上4以下の実数であり、Rは炭素数1以上20以下の炭化水素基であり、Xはハロゲン原子である。)
で表される炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、2−エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、アリル基等の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル、2−メチルシクロヘキシル、シクロペンチル基等の脂環式炭化水素基、フェニル、ナフチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられるが、脂肪族炭化水素基が好ましい。Xで表されるハロゲンとしては、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられるが、塩素が好ましい。上記から選ばれた(A−4)を、2種以上混合して使用することが可能である。
Next, the titanium compound (A-4) will be described. In the present invention, (A-4) is a titanium compound represented by the following general formula (3).
Ti (OR 5 ) j X (4-j) (3)
(Wherein j is a real number of 0 or more and 4 or less, R 6 is a hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms, and X is a halogen atom.)
Examples of the hydrocarbon group represented by R 5 include aliphatic hydrocarbon groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, 2-ethylhexyl, heptyl, octyl, decyl, and allyl groups, cyclohexyl, and 2-methylcyclohexyl. , An alicyclic hydrocarbon group such as cyclopentyl group, and an aromatic hydrocarbon group such as phenyl and naphthyl group. An aliphatic hydrocarbon group is preferable. Examples of the halogen represented by X include chlorine, bromine and iodine, with chlorine being preferred. (A-4) selected from the above can be used as a mixture of two or more.

(A−4)の使用量には特に制限は無いが、担体(A−3)に含まれるマグネシウム原子に対するモル比で0.01以上20以下が好ましく、0.05以上10以下が特に好ましい。
(A−4)の反応温度については、特に制限はないが、25℃以上150℃以下の範囲で行うことが好ましい。
本発明においては、(A−3)に対する(A−4)の担持方法については特に制限が無く、(A−3)に対して過剰な(A−4)を反応させる方法や第三成分を使用することにより(A−4)を効率的に担持する方法を用いても良いが、(A−4)と有機金属化合物(A−5)との反応により担持する方法が好ましい。
Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of (A-4), 0.01-20 is preferable by molar ratio with respect to the magnesium atom contained in a support | carrier (A-3), and 0.05-10 is especially preferable.
Although there is no restriction | limiting in particular about the reaction temperature of (A-4), It is preferable to carry out in 25 to 150 degreeC.
In the present invention, there is no particular limitation on the method of supporting (A-4) with respect to (A-3), and there is a method of reacting excess (A-4) with (A-3) or a third component. A method of efficiently supporting (A-4) by use may be used, but a method of supporting by (A-4) and an organometallic compound (A-5) is preferred.

次に、有機金属化合物(A−5)について説明する。(A−5)としては、下記一般式(4)及び一般式(5)で表されるものが好ましい。
(M(Mg)(R(R ・・・・・(4)
(式中、M、R、R、a、b、c,d,eは前述のとおりであり、Yはアルコキシ、シロキシ、アリロキシ、アミノ、アミド、−N=C−R,R、−SR(ただし、R、RおよびRは炭素数1以上20以下の炭化水素基を表す。eが2以上の場合には、Yはそれぞれ異なっていてもよい。)、β−ケト酸残基のいずれかであり、a、b、c、dおよびeは次の関係を満たす実数である。0≦a、0<b、0≦c、0≦d、0≦e、0<c+d、0≦e/(a+b)≦2、f×a+2b=c+d+e(ただし、fはMの原子価))
(m−k) ・・・・・(5)
(式中Mは周期律表第1族、第2族、第12族、第13族からなる群に属する金属原子、Rは炭素数1〜20の炭化水素基であり、QはOR10、OSiR111213、NR1415、SR16およびハロゲンからなる群に属する基を表し、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16は水素原子または炭化水素基であり、kは0より大きな実数であり、mはMの原子価である)
Next, the organometallic compound (A-5) will be described. As (A-5), what is represented by the following general formula (4) and general formula (5) is preferable.
(M 1 ) a (Mg) b (R 1 ) c (R 2 ) d Y e (4)
(Wherein M 1 , R 1 , R 2 , a, b, c, d, e are as described above, Y is alkoxy, siloxy, allyloxy, amino, amide, —N═C—R 6 , R 7 , —SR 8 (wherein R 6 , R 7 and R 8 represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When e is 2 or more, Y may be different from each other), any one of β-keto acid residues, and a, b, c, d, and e are real numbers satisfying the following relationship: 0 ≦ a, 0 <b, 0 ≦ c, 0 ≦ d, 0 ≦ e , 0 <c + d, 0 ≦ e / (a + b) ≦ 2, f × a + 2b = c + d + e (where f is the valence of M 1 ))
M 2 R 9 k Q (m−k) (5)
(Wherein M 2 is a metal atom belonging to the group consisting of Group 1, Group 2, Group 12, Group 13 of the Periodic Table, R 9 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and Q is OR 10 , OSiR 11 R 12 R 13 , NR 14 R 15 , SR 16 and a group belonging to the group consisting of halogen, R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 are hydrogen atoms Or a hydrocarbon group, k is a real number greater than 0, and m is the valence of M 2 )

以下では、上記一般式(4)及び一般式(5)で表される有機金属化合物をそれぞれ(A−5a)、(A−5b)という。
まず、(A−5a)について説明する。
(A−5a)の使用量は、(A−4)に含まれるチタン原子に対する(A−5a)に含まれるマグネシウム原子のモル比で0.1以上10以下であることが好ましく、0.5以上5以下であることがさらに好ましい。(A−4)と(A−5a)との反応の温度については特に制限はないが、−80℃以上150℃以下であることが好ましく、−40℃以上100℃以下の範囲であることがさらに好ましい。
Hereinafter, the organometallic compounds represented by the general formula (4) and the general formula (5) are referred to as (A-5a) and (A-5b), respectively.
First, (A-5a) will be described.
The amount of (A-5a) used is preferably 0.1 or more and 10 or less in terms of the molar ratio of magnesium atoms contained in (A-5a) to titanium atoms contained in (A-4). More preferably, it is 5 or less. Although there is no restriction | limiting in particular about the temperature of reaction with (A-4) and (A-5a), It is preferable that it is -80 degreeC or more and 150 degrees C or less, and it is the range of -40 degreeC or more and 100 degrees C or less. Further preferred.

(A−5a)の使用時の濃度については特に制限は無いが、(A−5a)に含まれるマグネシウム原子基準で0.1モル/l以上2モル/l以下であることが好ましく、0.5モル/l以上1.5モル/l以下であることがさらに好ましい。なお、(A−5a)の希釈には不活性炭化水素溶媒を用いることが好ましい。
(A−3)に対する(A−4)と(A−5a)の添加順序には特に制限は無く、(A−4)に続いて(A−5a)を加える、(A−5a)に続いて(A−4)を加える、(A−4)と(A−5a)とを同時に添加する、のいずれの方法も可能であるが、(A−4)と(A−5a)とを同時に添加する方法が好ましい。(A−4)と(A−5a)との反応は不活性炭化水素溶媒中で行われるが、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒を用いることが好ましい。かくして得られた触媒は、不活性炭化水素溶媒を用いたスラリー溶液として使用される。
Although there is no restriction | limiting in particular about the density | concentration at the time of use of (A-5a), It is preferable that it is 0.1 mol / l or more and 2 mol / l or less on the basis of the magnesium atom contained in (A-5a). More preferably, it is 5 mol / l or more and 1.5 mol / l or less. In addition, it is preferable to use an inert hydrocarbon solvent for the dilution of (A-5a).
There is no restriction | limiting in particular in the addition order of (A-4) and (A-5a) with respect to (A-3), (A-5a) is added following (A-4), (A-5a) is followed. (A-4) and (A-4) and (A-5a) can be added at the same time, but (A-4) and (A-5a) can be added simultaneously. The method of adding is preferable. The reaction between (A-4) and (A-5a) is carried out in an inert hydrocarbon solvent, but it is preferable to use an aliphatic hydrocarbon solvent such as hexane or heptane. The catalyst thus obtained is used as a slurry solution using an inert hydrocarbon solvent.

次に、(A−5b)について説明する。
上記一般式(5)において、Mは周期律表第1族、第2族、第12族、第13族からなる群に属する金属原子であり、たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ベリリウム、マグネシウム、ホウ素、アルミニウム、亜鉛、等が挙げられるが、マグネシウム、ホウ素、アルミニウムが好ましい。Rで表される炭化水素基はアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、たとえば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、シクロヘキシル、フェニル基等が挙げられ、アルキル基であることが好ましい。QはOR10、OSiR111213、NR1415、SR16およびハロゲンからなる群に属する基を表し、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16は水素原子または炭化水素基であり、Qがハロゲンであることが好ましい。(A−5b)の化合物名としては、メチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムクロリド、メチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムアイオダイド、エチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムアイオダイド、ブチルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムアイオダイド、ジブチルマグネシウム、ジヘキシルマグネシウム、トリエチルホウ素、トリメチルアルミニウム、ジメチルアルミニウムブロミド、ジメチルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムメトキシド、メチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミニウムセスキクロリド、トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジエチルアルミニウムエトキシド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、トリプロピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリ(2−メチルプロピル)アルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウム等が挙げられ、中でも有機アルミニウム化合物が好ましい。また、これらの化合物を混合して使用することも可能である。kは0より大きな実数であり、0.5より大きな実数であることが好ましい。
Next, (A-5b) will be described.
In the above general formula (5), M 2 is a metal atom belonging to the group consisting of Group 1, Group 2, Group 12, Group 13 of the Periodic Table, for example, lithium, sodium, potassium, beryllium, magnesium , Boron, aluminum, zinc and the like, magnesium, boron and aluminum are preferable. The hydrocarbon group represented by R 9 is an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a cyclohexyl group and a phenyl group. It is preferably a group. Q represents a group belonging to the group consisting of OR 10 , OSiR 11 R 12 R 13 , NR 14 R 15 , SR 16 and halogen, and R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 Is a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and Q is preferably a halogen atom. As the compound name of (A-5b), methyllithium, butyllithium, methylmagnesium chloride, methylmagnesium bromide, methylmagnesium iodide, ethylmagnesium chloride, ethylmagnesium bromide, ethylmagnesium iodide, butylmagnesium chloride, butylmagnesium bromide , Butylmagnesium iodide, Dibutylmagnesium, Dihexylmagnesium, Triethylboron, Trimethylaluminum, Dimethylaluminum bromide, Dimethylaluminum chloride, Dimethylaluminum methoxide, Methylaluminum dichloride, Methylaluminum sesquichloride, Triethylaluminum, Diethylaluminum chloride, Diethylaluminum bromide , Diethyla Minium ethoxide, ethylaluminum dichloride, ethylaluminum sesquichloride, tripropylaluminum, tributylaluminum, tri (2-methylpropyl) aluminum, trihexylaluminum, trioctylaluminum, tridecylaluminum, etc. preferable. Moreover, it is also possible to mix and use these compounds. k is a real number larger than 0, and is preferably a real number larger than 0.5.

(A−5b)の使用量は、(A−4)に含まれるチタン原子に対する(A−5b)に含まれるM原子のモル比で0.1以上10以下であることが好ましく、0.5以上5以下であることがさらに好ましい。(A−4)と(A−5b)との反応の温度については特に制限はないが、20℃以上150℃以下であることが好ましく、40℃以上100℃以下であることがさらに好ましい。
(A−5b)の使用時の濃度については特に制限は無いが、(A−5b)に含まれるM原子基準で0.1モル/l以上2モル/l以下であることが好ましく、0.5モル/l以上1.5モル/l以下であることがさらに好ましい。なお、(A−5b)の希釈には不活性炭化水素溶媒を用いることが好ましい。
The amount of (A-5b) used is preferably 0.1 or more and 10 or less in terms of a molar ratio of M 3 atoms contained in (A-5b) to titanium atoms contained in (A-4). More preferably, it is 5 or more and 5 or less. Although there is no restriction | limiting in particular about the temperature of reaction of (A-4) and (A-5b), It is preferable that it is 20 to 150 degreeC, and it is more preferable that it is 40 to 100 degreeC.
No particular limitation is imposed on the concentration at the time of use (A-5b), preferably not more than (A-5b) INCLUDED M 2 atomic basis in 0.1 mol / l or more 2 mol / l, 0 More preferably, it is 5 mol / l or more and 1.5 mol / l or less. In addition, it is preferable to use an inert hydrocarbon solvent for the dilution of (A-5b).

(A−3)に対する(A−4)と(A−5b)の添加方法には特に制限は無く、まず(A−4)を添加し、これに続いて(A−5b)を添加する方法、まず(A−5b)を添加し、これに続いて(A−4)を添加する方法、(A−4)と(A−5b)とを同時に添加する方法、のいずれの方法も可能であるが、まず(A−5b)を添加し、これに続いて(A−4)を添加する方法が好ましい。(A−4)と(A−5b)との反応は不活性炭化水素溶媒中で行われるが、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒を用いることが好ましい。かくして得られた触媒は、不活性炭化水素溶媒を用いたスラリー溶液として使用される。   There is no restriction | limiting in particular in the addition method of (A-4) and (A-5b) with respect to (A-3), First, (A-4) is added, and this is followed by the method of adding (A-5b) First, (A-5b) is added, and then either (A-4) is added, or (A-4) and (A-5b) are added simultaneously. However, it is preferable to add (A-5b) first and then add (A-4). The reaction between (A-4) and (A-5b) is carried out in an inert hydrocarbon solvent, but it is preferable to use an aliphatic hydrocarbon solvent such as hexane or heptane. The catalyst thus obtained is used as a slurry solution using an inert hydrocarbon solvent.

(A−5b)が使用される場合には、(A−3)に対して(A−4)と(A−5b)とを添加する前に、(A−3)をあらかじめアルコールと反応させ、さらに(A−5b)と反応させておくことが好ましい。
アルコールとしては、炭素数が1以上10以下のものが好ましく、具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、1−メチル−2−プロパノール、1−ペンタノール、1−ヘキサノール、1−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、デカノール、等が挙げられる。アルコールとしては、炭素数が2以上6以下のものがさらに好ましく、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、1−メチル−2−プロパノール、1−ペンタノール、1−ヘキサノールがさらに好ましい。アルコールの使用量については特に制限はないが、(A−3)に含まれるマグネシウム原子に対するモル比で0.01以上1以下であることが好ましく、0.05以上0.5以下であることがさらに好ましい。アルコールの使用時の濃度については特に制限はないが、不活性炭化水素溶媒を用いて0.1M以上2M以下に希釈して使用することが好ましい。(A−3)とアルコールとの反応の温度については特に制限はないが、25℃以上150℃以下であることが好ましく、40℃以上80℃以下であることがさらに好ましい。
When (A-5b) is used, (A-3) is reacted with alcohol in advance before adding (A-4) and (A-5b) to (A-3). Further, it is preferable to react with (A-5b).
As the alcohol, those having 1 to 10 carbon atoms are preferable, and specifically, methanol, ethanol, propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 1-methyl. -2-propanol, 1-pentanol, 1-hexanol, 1-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, decanol, and the like. As the alcohol, those having 2 to 6 carbon atoms are more preferable, and ethanol, propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 1-methyl-2-propanol, 1 More preferred are pentanol and 1-hexanol. Although there is no restriction | limiting in particular about the usage-amount of alcohol, It is preferable that it is 0.01-1 in molar ratio with respect to the magnesium atom contained in (A-3), and it is 0.05-0.5. Further preferred. Although there is no restriction | limiting in particular about the density | concentration at the time of use of alcohol, It is preferable to use it diluting 0.1M or more and 2M or less using an inert hydrocarbon solvent. Although there is no restriction | limiting in particular about the temperature of reaction with (A-3) and alcohol, It is preferable that it is 25 to 150 degreeC, and it is more preferable that it is 40 to 80 degreeC.

アルコールと反応させた後の(A−3)と(A−5b)との反応について説明する。(A−5b)の使用量については特に制限はないが、使用したアルコールに対するモル比で0.1以上10以下であることが好ましく、0.5倍以上5倍以下であることがさらに好ましい。(A−5b)の使用時の濃度については特に制限は無いが、(A−5b)に含まれるM原子基準で0.1モル/l以上2モル/l以下であることが好ましく、0.5モル/l以上1.5モル/l以下であることがさらに好ましい。なお、(A−5b)の希釈には不活性炭化水素溶媒を用いることが好ましい。アルコールと反応させた後の(A−3)と(A−5b)との反応の温度については特に制限はないが、25℃以上150℃以下であることが好ましく、40℃以上80℃以下であることがさらに好ましい。 The reaction between (A-3) and (A-5b) after reacting with alcohol will be described. Although there is no restriction | limiting in particular about the usage-amount of (A-5b), It is preferable that it is 0.1 or more and 10 or less by molar ratio with respect to the used alcohol, and it is still more preferable that it is 0.5 to 5 times. No particular limitation is imposed on the concentration at the time of use (A-5b), preferably not more than (A-5b) INCLUDED M 2 atomic basis in 0.1 mol / l or more 2 mol / l, 0 More preferably, it is 5 mol / l or more and 1.5 mol / l or less. In addition, it is preferable to use an inert hydrocarbon solvent for the dilution of (A-5b). Although there is no restriction | limiting in particular about the temperature of reaction with (A-3) and (A-5b) after making it react with alcohol, It is preferable that it is 25 to 150 degreeC, and it is 40 to 80 degreeC. More preferably it is.

次に、本発明における有機金属化合物成分[B]について説明する。本発明の固体触媒成分[A]は、有機金属化合物成分[B]と組み合わせることにより、高活性な重合用触媒となる。有機金属化合物成分[B]としては、周期律表第1族、第2族、第12族および第13族からなる群に属する金属を含有する化合物であることが好ましく、特に有機アルミニウム化合物および/又は有機マグネシウム化合物が好ましい。
有機アルミニウム化合物としては、下記一般式(6)で表される化合物を単独または混合して使用することが好ましい。
AlR17 (3−n) ・・・・・(6)
(式中、R17は炭素数1以上20以下の炭化水素基、Zは水素、ハロゲン、アルコキシ、アリロキシ、シロキシ基からなる群に属する基であり、nは2以上3以下の数である。)上記の一般式6において、R17で表される炭素数1以上20以下の炭化水素基は、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、脂環式炭化水素を包含するものであり、たとえばトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリ(2−メチルプロピル)アルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリ(3−メチルブチル)アルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ビス(2−メチルプロピル)アルミニウムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド等のハロゲン化アルミニウム化合物、ジエチルアルミニウムエトキシド、ビス(2−メチルプロピル)アルミニウムブトキシド等のアルコキシアルミニウム化合物、ジメチルヒドロシロキシアルミニウムジメチル、エチルメチルヒドロシロキシアルミニウムジエチル、エチルジメチルシロキシアルミニウムジエチル等のシロキシアルミニウム化合物およびこれらの混合物が好ましく、トリアルキルアルミニウム化合物が特に好ましい。
Next, the organometallic compound component [B] in the present invention will be described. The solid catalyst component [A] of the present invention becomes a highly active polymerization catalyst when combined with the organometallic compound component [B]. The organometallic compound component [B] is preferably a compound containing a metal belonging to the group consisting of Group 1, Group 2, Group 12 and Group 13 of the Periodic Table, particularly organoaluminum compounds and / or Or an organomagnesium compound is preferable.
As the organoaluminum compound, a compound represented by the following general formula (6) is preferably used alone or in combination.
AlR 17 n Z (3-n) (6)
Wherein R 17 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, Z is a group belonging to the group consisting of hydrogen, halogen, alkoxy, allyloxy and siloxy groups, and n is a number of 2 to 3. In the above general formula 6, the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 17 includes aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and alicyclic hydrocarbons. Trialkylaluminum such as aluminum, triethylaluminum, tripropylaluminum, tributylaluminum, tri (2-methylpropyl) aluminum, tripentylaluminum, tri (3-methylbutyl) aluminum, trihexylaluminum, trioctylaluminum, tridecylaluminum, Diethylaluminum chloride, ethylaluminum Aluminum halide compounds such as mudichloride, bis (2-methylpropyl) aluminum chloride, ethylaluminum sesquichloride, diethylaluminum bromide, alkoxyaluminum compounds such as diethylaluminum ethoxide, bis (2-methylpropyl) aluminum butoxide, dimethylhydrosiloxy Siloxyaluminum compounds such as aluminum dimethyl, ethylmethylhydrosiloxyaluminum diethyl, ethyldimethylsiloxyaluminum diethyl and mixtures thereof are preferred, and trialkylaluminum compounds are particularly preferred.

有機マグネシウム化合物としては、下記一般式(1)で表される不活性炭化水素溶媒に可溶である有機マグネシウム化合物が好ましい。
(M(Mg)(R(R(OR ・・・・・(1)
(式中、Mは周期律表第1族、第2族、第12族および第13族からなる群に属するマグネシウム以外の金属原子であり、R、およびRはそれぞれ炭素数2以上20以下の炭化水素基であり、Rは炭素数1以上20以下の炭化水素基であり、a、b、c、dおよびeは次の関係を満たす実数である。0≦a、0<b、0≦c、0≦d、0≦e、0<c+d、0≦e/(a+b)≦2、f×a+2b=c+d+e(ただし、fはMの原子価))
The organomagnesium compound is preferably an organomagnesium compound that is soluble in an inert hydrocarbon solvent represented by the following general formula (1).
(M 1 ) a (Mg) b (R 1 ) c (R 2 ) d (OR 3 ) e (1)
(In the formula, M 1 is a metal atom other than magnesium belonging to the group consisting of Group 1, Group 2, Group 12, and Group 13 of the Periodic Table, and R 1 and R 2 each have 2 or more carbon atoms. A hydrocarbon group having 20 or less, R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a, b, c, d and e are real numbers satisfying the following relationship: 0 ≦ a, 0 < b, 0 ≦ c, 0 ≦ d, 0 ≦ e, 0 <c + d, 0 ≦ e / (a + b) ≦ 2, f × a + 2b = c + d + e (where f is the valence of M 1 ))

この有機マグネシウム化合物は、不活性炭化水素溶媒に可溶な有機マグネシウムの錯化合物の形として示されているが、ジアルキルマグネシウム化合物およびこの化合物と他の金属化合物との錯体の全てを包含するものである。この有機マグネシウム化合物は、不活性炭化水素溶媒に対する溶解性が高い化合物が好ましいため、b/aは0.5以上10以下であることが好ましく、またMがアルミニウムである化合物がさらに好ましい。 This organomagnesium compound is shown as a complex form of organomagnesium soluble in an inert hydrocarbon solvent, but encompasses all dialkylmagnesium compounds and complexes of this compound with other metal compounds. is there. Since this organomagnesium compound is preferably a compound having high solubility in an inert hydrocarbon solvent, b / a is preferably 0.5 or more and 10 or less, and more preferably a compound in which M 1 is aluminum.

固体触媒成分[A]および有機金属化合物成分[B]を重合条件下である重合系内に添加する方法については特に制限は無く、両者を別々に重合系内に添加しても良いし、あらかじめ両者を反応させた後に重合系内に添加しても良い。また組み合わせる両者の比率には特に制限は無いが、固体触媒成分[A]1gに対し有機金属化合物[B]は1ミリモル以上3000ミリモル以下であることが好ましい。   The method for adding the solid catalyst component [A] and the organometallic compound component [B] to the polymerization system under the polymerization conditions is not particularly limited, and both may be added separately to the polymerization system. You may add in a polymerization system, after making both react. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the ratio of both to combine, but it is preferable that organometallic compound [B] is 1 to 3000 millimoles with respect to 1 g of solid catalyst component [A].

本発明において、チーグラー系の触媒によるポリエチレン樹脂組成物が所期のクリーン性、肌荒れ性、ドローダウン性等の押出し性、耐衝撃性を達成するためには、特定の重合方法による特定の数値範囲の物性を持つポリエチレンの組成物であることが必要である。
本発明においては、高純度薬品容器用ポリエチレン樹脂組成物に含まれるポリエチレン樹脂が、少なくとも低分子量成分と高分子量成分とからなる、多段重合法により製造されたポリエチレン樹脂組成物である。
In the present invention, a polyethylene resin composition based on a Ziegler-based catalyst achieves desired cleanliness, rough skin, extruding properties such as draw-down properties, impact resistance, and a specific numerical range by a specific polymerization method. It is necessary to have a polyethylene composition having the following physical properties.
In the present invention, the polyethylene resin contained in the polyethylene resin composition for high-purity chemical containers is a polyethylene resin composition produced by a multistage polymerization method comprising at least a low molecular weight component and a high molecular weight component.

本発明における多段重合法とは、例えば特公昭35−15246号公報、特公昭46−11349号公報、特公昭48−42716号公報、特開昭51−47079号公報、特開昭52−19788号公報、特許2505752号公報等で報告されている公知技術であり、複数の重合器が通常は直列に連結された多段重合装置によりエチレンを単独重合またはエチレンとオレフィンとを共重合する方法である。本発明においては、少なくとも1つの重合器において低分子量成分であるMwが5000以上10万以下のエチレン系重合体を生成させ、少なくとも1つの重合器において高分子量成分であるMvが100万以上400万以下である超高分子量エチレン系重合体を生成させることが必要である。なお、これら低分子量成分および高分子量成分を生成させる重合器以外の重合器において、Mwが5000以上かつMvが400万以下の分子量のエチレン系重合体を生成させることができる。本発明においては、低分子量成分を生成させる重合器には特に制限は無く、第一段重合器であっても良いし、中間の重合器であっても良いし、最終段の重合器であってもよいし、二段以上の複数重合器であっても差し支えないが、第一段または中間の重合器であることが好ましい。高分子量成分を生成させる重合器には特に制限は無く、第一段重合器であっても良いし、中間の重合器であっても良いし、最終段の重合器であってもよいし、二段以上の複数重合器であっても差し支えないが、中間のまたは最終段重合器であることが好ましい。   Examples of the multistage polymerization method in the present invention include, for example, Japanese Patent Publication No. 35-15246, Japanese Patent Publication No. 46-11349, Japanese Patent Publication No. 48-42716, Japanese Patent Publication No. 51-47079, Japanese Patent Publication No. 52-19788. This is a known technique reported in Japanese Patent Publication No. 2505752 and the like, and is a method in which ethylene is homopolymerized or ethylene and olefin are copolymerized by a multistage polymerization apparatus in which a plurality of polymerization vessels are usually connected in series. In the present invention, an ethylene polymer having a low molecular weight component of Mw of 5000 or more and 100,000 or less is produced in at least one polymerization vessel, and a high molecular weight component of Mv is 1 million or more and 4 million in at least one polymerization vessel. It is necessary to produce an ultra high molecular weight ethylene polymer that is: In addition, in a polymerization vessel other than the polymerization vessel for producing these low molecular weight components and high molecular weight components, an ethylene polymer having a molecular weight of Mw of 5000 or more and Mv of 4 million or less can be produced. In the present invention, the polymerization vessel for producing the low molecular weight component is not particularly limited, and may be a first-stage polymerization vessel, an intermediate polymerization vessel, or a final-stage polymerization vessel. It may be a multi-polymerizer of two or more stages, but is preferably a first-stage or intermediate polymerizer. There is no particular limitation on the polymerization vessel for generating the high molecular weight component, which may be a first-stage polymerization vessel, an intermediate polymerization vessel, or a final-stage polymerization vessel, A multi-polymerizer having two or more stages may be used, but an intermediate or final-stage polymerizer is preferable.

本発明における高純度薬品容器用ポリエチレン樹脂組成物に含まれるポリエチレン樹脂の低分子量成分は、エチレンの単独重合体もしくはエチレンと炭素数3以上20以下のα−オレフィンとの共重合体であることが好ましく、エチレンの単独重合体もしくはエチレンと炭素数4以上8以下のα−オレフィンとの共重合体であることがさらに好ましく、エチレンの単独重合体であることがさらに好ましい。   The low molecular weight component of the polyethylene resin contained in the polyethylene resin composition for high-purity chemical containers in the present invention is an ethylene homopolymer or a copolymer of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms. An ethylene homopolymer or a copolymer of ethylene and an α-olefin having 4 to 8 carbon atoms is more preferable, and an ethylene homopolymer is more preferable.

次にポリエチレン樹脂組成物の低分子量成分の分子量について説明する。本発明においては、該低分子量ポリエチレン樹脂の分子量は、JIS K7210−1999、コードDに従って測定されるメルトフローレート(MFR)で3g/10分以上50g/10分以下であり、5g/10分以上50g/10分以下であることが好ましく、10g/10分以上50g/10分以下であることがさらに好ましく、20g/10分以上45g/10分以下であることがより好ましく、30g/10分以上45分以下であることがとりわけ好ましい。メルトフローレートが3g/10分以上では分子量分布が広くなるために肌荒れが起き難いなど成形性が良好であり、50g/10分以下にすることによりパーティクルの発生をほとんど抑えることができクリーン度の低下が起こらないほか大型成形品を成形する際のドローダウンによる成形不良もおこりにくい。   Next, the molecular weight of the low molecular weight component of the polyethylene resin composition will be described. In the present invention, the molecular weight of the low molecular weight polyethylene resin is 3 g / 10 min or more and 50 g / 10 min or less in terms of melt flow rate (MFR) measured according to JIS K7210-1999, code D, and 5 g / 10 min or more. It is preferably 50 g / 10 min or less, more preferably 10 g / 10 min or more and 50 g / 10 min or less, more preferably 20 g / 10 min or more and 45 g / 10 min or less, more preferably 30 g / 10 min or more. It is particularly preferred that it is 45 minutes or less. When the melt flow rate is 3 g / 10 min or more, the molecular weight distribution becomes wide and the moldability is good, such as rough skin is less likely to occur. By setting the melt flow rate to 50 g / 10 min or less, the generation of particles can be almost suppressed and the cleanness can be reduced. In addition to no reduction, molding defects due to drawdown when molding large molded products are less likely to occur.

本発明におけるポリエチレン樹脂の低分子量成分の密度について説明する。本発明においては、該ポリエチレン樹脂組成物の低分子量成分の密度は、JIS K7112−1999に従って測定されたものであり本発明における該低分子量成分の密度については960kg/m以上974kg/m以下であることが好ましく、963kg/m以上970kg/m以下であることがさらに好ましい。密度はポリエチレン樹脂に導入されるコモノマー量に規定され、コモノマー量が多くなるほど密度が低下するが、密度を960kg/m以上にしてコモノマー量を制限することにより飛躍的にクリーン度が上昇する。 The density of the low molecular weight component of the polyethylene resin in the present invention will be described. In the present invention, the density of the low molecular weight component of the polyethylene resin composition, 974kg / m 3 or less 960 kg / m 3 or more for the density of the low molecular weight component in has been determined the present invention in accordance with JIS K7112-1999 it is preferably, and more preferably not more than 963kg / m 3 or more 970 kg / m 3. The density is defined by the amount of comonomer introduced into the polyethylene resin, and the density decreases as the amount of comonomer increases. However, by limiting the comonomer amount by setting the density to 960 kg / m 3 or more, the cleanliness increases dramatically.

本発明における高純度薬品容器用ポリエチレン樹脂組成物に含まれるポリエチレン樹脂の高分子量成分は、エチレンの単独重合体もしくはエチレンと炭素数3以上20以下のα−オレフィンとの共重合体であることが好ましく、エチレンの単独重合体もしくはエチレンと炭素数3以上8以下のα−オレフィンとの共重合体であることがさらに好ましく、エチレンと炭素数3以上8以下のα−オレフィンとの共重合体であることがさらに好ましい。本発明においては、該高分子量成分の該ポリエチレン樹脂組成物に対する質量分率が0.40以上0.46以下であり、0.40以上0.43以下であることが好ましい。組成物のMFRを固定した場合、質量分率が小さくなると、相対的に高分子量成分の分子量が非常に大きくなりゲルの発生の元となる。他方質量分率が大きくなると高分子量成分と低分子量成分の分子量差が小さくなり肌荒れ等の成形性が悪くなる。質量分率が0.40以上ではゲルが発生せず、0.46以下では、分子量分布が広くなるために成形性が良好である。   The high molecular weight component of the polyethylene resin contained in the polyethylene resin composition for high-purity chemical containers in the present invention is an ethylene homopolymer or a copolymer of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms. More preferably, it is a homopolymer of ethylene or a copolymer of ethylene and an α-olefin having 3 to 8 carbon atoms, and is a copolymer of ethylene and an α-olefin having 3 to 8 carbon atoms. More preferably it is. In the present invention, the mass fraction of the high molecular weight component to the polyethylene resin composition is 0.40 or more and 0.46 or less, preferably 0.40 or more and 0.43 or less. When the MFR of the composition is fixed, if the mass fraction becomes small, the molecular weight of the high molecular weight component becomes relatively large, which causes the generation of gel. On the other hand, when the mass fraction is large, the difference in molecular weight between the high molecular weight component and the low molecular weight component is small, and moldability such as rough skin is deteriorated. When the mass fraction is 0.40 or more, no gel is generated. When the mass fraction is 0.46 or less, the molecular weight distribution is wide, and the moldability is good.

次に、本発明におけるポリエチレン樹脂組成物の密度について説明する。本発明においては樹脂組成物の密度が955kg/m以上965kg/m以下である。該ポリエチレン樹脂組成物の密度が955kg/m以上であれば溶出する低密度成分が充分に少なく、密度が965kg/m以下であれば該ポリエチレン樹脂組成物の長期特性が充分に高い。 Next, the density of the polyethylene resin composition in the present invention will be described. Density of 955 kg / m 3 or more 965 kg / m 3 or less of the resin composition in the present invention. If the density of the polyethylene resin composition is 955 kg / m 3 or more, the low-density component to be eluted is sufficiently small, and if the density is 965 kg / m 3 or less, the long-term characteristics of the polyethylene resin composition are sufficiently high.

次に、本発明におけるポリエチレン樹脂組成物の分子量について説明する。本発明においては、該ポリエチレン樹脂組成物の分子量は、JIS K7210−1999、コードTに従って測定されるメルトフローレート(MFR)で0.4g/10分以上1.0g/10分以下である。該ポリエチレン樹脂組成物のMFRが0.4g/10分以上であれば成形加工性が良好であり、MFRが1.0g/10分以下であれば該樹脂組成物を用いて製造された高純度薬品容器の力学特性、たとえばESCRや衝撃強度が充分に高い。該ポリエチレン樹脂組成物のMFRは0.45g/10分以上0.9g/10分以下であることが好ましく、0.5g/10分以上0.9g/10分以下であることがさらに好ましく、0.55g/10分以上0.85g/10分以下であることがとりわけ好ましい。   Next, the molecular weight of the polyethylene resin composition in the present invention will be described. In the present invention, the molecular weight of the polyethylene resin composition is 0.4 g / 10 min or more and 1.0 g / 10 min or less as a melt flow rate (MFR) measured according to JIS K7210-1999, code T. If the MFR of the polyethylene resin composition is 0.4 g / 10 min or more, the moldability is good, and if the MFR is 1.0 g / 10 min or less, the high purity produced using the resin composition The mechanical properties of the chemical container, such as ESCR and impact strength, are sufficiently high. The MFR of the polyethylene resin composition is preferably 0.45 g / 10 min to 0.9 g / 10 min, more preferably 0.5 g / 10 min to 0.9 g / 10 min, It is especially preferable that it is 0.55 g / 10 min or more and 0.85 g / 10 min or less.

次に、本発明ではゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)により測定した分子量1000以下の量が0.5w%以下が好ましく、0.4w%以下がさらに好ましく、0.3w%以下がより好ましい。該量はポリエチレンに含まれる低分子量成分やワックスの量を示しており、該低分子量成分やワックスは高純度薬品中に溶出して微粒子の原因となりクリーン度を悪化させる。   Next, in the present invention, the molecular weight of 1000 or less as measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 0.5 w% or less, more preferably 0.4 w% or less, and even more preferably 0.3 w% or less. The amount indicates the amount of low molecular weight components and wax contained in polyethylene, and the low molecular weight components and wax are eluted in high-purity chemicals to cause fine particles and deteriorate cleanliness.

本発明では添加剤を実質的に含まない。実質的に含まないとは意図的に添加剤を添加しないことを意味する。一般にポリエチレン樹脂には熱劣化を防ぐための熱安定剤、中和や滑り性改良として滑剤を添加されている。本発明においては、高純度薬品に溶出する可能性のある添加剤には高純度薬品に溶出する可能性のある添加剤全てが含まれ、具体的にはヒンダードフェノール系や硫黄系等、リン酸エステル系等の熱安定剤や酸化防止剤、ベンゾトリアゾール系やヒンダ−ドアミン系、トリアジン系、ベンゾフェノン系等の耐候安定剤や紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、ブロッキング防止剤などがあげられ、これら添加剤を添加しないのが特徴である。他方、高純度薬品に溶出しない顔料、遮光剤などは所期の効果を阻害しない範囲で使用することができる。   In this invention, an additive is not included substantially. “Substantially free” means that no additive is intentionally added. Generally, a polyethylene resin is added with a heat stabilizer for preventing thermal deterioration and a lubricant for neutralization and slipperiness improvement. In the present invention, additives that can be eluted in high-purity chemicals include all additives that can be eluted in high-purity chemicals. Specifically, hindered phenols, sulfurs, etc. Examples include heat stabilizers such as acid esters and antioxidants, weathering stabilizers such as benzotriazoles, hindered amines, triazines, and benzophenones, UV absorbers, antistatic agents, lubricants, and antiblocking agents. The feature is that these additives are not added. On the other hand, pigments, light-shielding agents, etc. that do not elute into high-purity chemicals can be used as long as the desired effects are not impaired.

以上のようにこれら低分子量成分のMFR、密度と樹脂組成物の質量分率が所定の範囲内にあり、かつ添加剤を実質含まないときのみ所期のクリーン性、肌荒れ性、押出し性を達成することができる。
本発明の樹脂組成物を成形するには一般的な成形方法、ブロー成形、射出成形、射出ブロー成形、シート成形ついで真空成形、押出し成形、回転成形等が考えられるがブロー成形が好ましい。
As described above, the expected cleanliness, rough skin, and extrudability are achieved only when the MFR, density, and resin composition mass fraction of these low molecular weight components are within the specified ranges and do not substantially contain additives. can do.
In order to mold the resin composition of the present invention, general molding methods, blow molding, injection molding, injection blow molding, sheet molding, vacuum molding, extrusion molding, rotational molding and the like can be considered, but blow molding is preferable.

本発明を実施例に基づいて説明する。
まず、実施例において用いた測定方法について述べる。
1)メルトフローレート(MFR):JIS K7210−1999、ポリエチレン樹脂の低分子量成分は条件コードD、ポリエチレン樹脂組成物は条件コードTに準拠して測定した。
2)密度:JIS K7112−1999(D法)に準拠して測定した。190℃で標準メルトインデクサ−から押出したストランドを冷却後、窒素雰囲気下120℃オイルバス中で1時間浸漬し23℃恒温室で1時間冷却後密度勾配管にて測定を行った。
3)質量分率:単位時間あたりに重合器に添加するエチレンの質量を制御することにより調節した。
The present invention will be described based on examples.
First, the measurement method used in the examples will be described.
1) Melt flow rate (MFR): JIS K7210-1999, the low molecular weight component of polyethylene resin was measured according to Condition Code D, and the polyethylene resin composition was measured according to Condition Code T.
2) Density: Measured in accordance with JIS K7112-1999 (Method D). The strand extruded from the standard melt indexer at 190 ° C. was cooled, immersed in a 120 ° C. oil bath for 1 hour in a nitrogen atmosphere, cooled in a constant temperature room at 23 ° C. for 1 hour, and then measured with a density gradient tube.
3) Mass fraction: It was adjusted by controlling the mass of ethylene added to the polymerization vessel per unit time.

4)ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC):ウォーターズ社製GPCV2000型を用い、溶媒として140℃の1,2,4−トリクロロベンゼンを使用し、流速1.0ml/分、試料濃度20mg/15ml、注入量413μl、試料溶解温度140℃、試料溶解時間2時間の条件で行った。カラムは昭和電工社製Shodex UT−807を1本、東ソー社製TSK−GEL GMHHR−H(S) HTを2本直列につないで使用した。 4) Gel permeation chromatography (GPC): Waters GPCV2000 type, using 1,2,4-trichlorobenzene at 140 ° C. as a solvent, flow rate 1.0 ml / min, sample concentration 20 mg / 15 ml, injection The amount was 413 μl, the sample dissolution temperature was 140 ° C., and the sample dissolution time was 2 hours. As the column, one Shodex UT-807 manufactured by Showa Denko KK and two TSK-GEL GMHHR-H (S) HT manufactured by Tosoh Corporation were connected in series.

5)肌荒れ性:プラコー社製SB55ブロー成形機を用いダイス径62φ/61φ、温度設定をシリンダー1,2,3、アダプター、ダイス1,2の順に180,200,220,220,220,180℃とし、ダイヘッドヒーターは切りとした。クリアランス0.5mm、スクリュー回転数75rpmでパリソンを押出しパリソン表面の肌荒れを観察した。パリソン表面が滑らかなものを○、細かな凹凸のあるものを△、大きな縞模様が発生したものを×とした。 5) Roughness of the skin: using a Plako SB55 blow molding machine, the die diameter is 62φ / 61φ, the temperature is set to cylinders 1, 2, 3, adapters, dice 1, 2 in order of 180, 200, 220, 220, 220, 180 ° C. The die head heater was turned off. The parison was extruded with a clearance of 0.5 mm and a screw rotation speed of 75 rpm, and the rough surface of the parison surface was observed. A sample having a smooth parison surface was marked with ◯, a sample with fine irregularities was marked with △, and a sample with large stripes was marked with ×.

6)成形性:プラコー社製SB55ブロー成形機を用いダイス径47φ/46φ、温度設定をシリンダー1,2,3、アダプター、ダイス1,2、ダイヘッドの順に180,200,200,200,200,200,200℃とした。2L丸瓶を成形しボトル賦形性、ボトルのピンチオフ融着性、肉回り性等の成形性を確認した。肉回り性としては、肉周りが良くボトル底部コーナーの肉厚が充分にあるものを○、肉周りが悪くボトル底部コーナーの肉厚が薄くなったものを△とした。 6) Formability: Using a SB55 blow molding machine manufactured by Plako, the die diameter is 47φ / 46φ, the temperature is set to cylinders 1, 2, 3, adapters, dies 1, 2, and die head in the order of 180, 200, 200, 200, 200, 200, 200 ° C. A 2L round bottle was molded to confirm moldability such as bottle shapeability, bottle pinch-off fusing property, and fleshiness. As for the fleshiness, ◯ indicates that the meat circumference is good and the bottle bottom corner has a sufficient thickness, and △ indicates that the meat circumference is poor and the bottle bottom corner thickness is thin.

7)クリーン度の測定
(i)ボトル成形
50mm径スクリュー付きブロー成形機を用い、シリンダー温度180℃、金型温度20℃にて容量が200mlの丸形容器を成形した。
(ii)浸出微粒子数測定
成形した容器に超純水(トレピュアLV−10T(東レ(株)製)(登録商標)を用いて精製)100mlを入れ、15秒間振とう洗浄して排水した。この振とう洗浄を5回繰り返した。この容器にあらためて100mlの超純水を充填し、そのまま常温で4週間保存した。4週間後、この充填水から5mlを採取し、その中に浸出した0.2μm以上の微粒子の数をパーティクルカウンター(KL−22(リオン株式会社製))により測定した。水中に含まれる微粒子数は次式(7)で求められるが、これをクリーン度とする。
7) Measurement of cleanness (i) Bottle molding Using a blow molding machine with a 50 mm diameter screw, a round container having a capacity of 200 ml was molded at a cylinder temperature of 180 ° C and a mold temperature of 20 ° C.
(Ii) Measurement of the number of leached fine particles 100 ml of ultrapure water (Trepure LV-10T (manufactured by Toray Industries, Inc.) (registered trademark)) was put into a molded container, and washed with shaking for 15 seconds to be drained. This shaking washing was repeated 5 times. The container was again filled with 100 ml of ultrapure water and stored as it was at room temperature for 4 weeks. After 4 weeks, 5 ml was collected from this filling water, and the number of fine particles of 0.2 μm or more leached into it was measured with a particle counter (KL-22 (manufactured by Lion Co., Ltd.)). The number of fine particles contained in water can be obtained by the following equation (7), which is defined as the cleanness.

Figure 2008179799
Figure 2008179799

このクリーン度が500個/ml以下の時、判定を○、500個/mlより多く750個/ml以下の時、判定を△とした。
8)添加剤抽出分析:押出されたポリエチレン組成物ペレットを冷凍粉砕した。これにより得られたポリエチレン粉砕物10gからソックスレー抽出機を用いて添加剤を抽出した。抽出溶媒はクロロホルムを720ml用いた。抽出は8時間リフラックスさせることにより行った。クロロホルム抽出物を20mlの濃縮し、HPLC(LC−10A、島津製作所製)を定性および定量を行った。なお、添加剤の定性および定量は標品を用いて行った。カラムはμ−Porasilを用い、展開溶媒はヘキサンを用い、検出はUV(210nm)で行った。
When the degree of cleanness was 500 pieces / ml or less, the judgment was “good”, and when the degree of cleanliness was more than 500 pieces / ml and 750 pieces / ml or less, the judgment was made Δ.
8) Additive extraction analysis: The extruded polyethylene composition pellets were frozen and ground. Additives were extracted from 10 g of the polyethylene pulverized product thus obtained using a Soxhlet extractor. As the extraction solvent, 720 ml of chloroform was used. Extraction was performed by refluxing for 8 hours. The chloroform extract was concentrated to 20 ml and subjected to qualitative and quantitative HPLC (LC-10A, manufactured by Shimadzu Corporation). In addition, the qualitative and quantitative determination of the additive was performed using a sample. The column was μ-Porasil, the developing solvent was hexane, and detection was performed with UV (210 nm).

[実施例1]
(1)チタン触媒の合成
充分に窒素置換された15リットルの反応器に、トリクロルシランを2モル/リットルのヘプタン溶液として4リットル仕込み、攪拌しながら65℃に保ち、組成式AlMg(C(C6.4(OC5.6で示される有機マグネシウム成分のヘプタン溶液9リットル(マグネシウム換算で6.5モル)を1時間かけて加え、更に65℃にて1時間攪拌下反応させた。反応終了後、上澄み液を除去し、ヘキサン7リットルで4回洗浄を行い、固体物質スラリーを得た。この固体を分離・乾燥して分析した結果、固体1グラム当たり、マグネシウム7.42ミリモルを含有していた。
このうち固体500gを含有するスラリーをヘキサンで13リットルに液量調節し、ブタノール1モル/リットルのヘキサン溶液0.93リットルとともに、攪拌下50℃で1時間反応させた。反応終了後上澄みを除去し、7リットルのヘキサンで1回洗浄した。このスラリーを50℃に保ち、ジエチルアルミニウムクロリド1モル/リットルのヘキサン溶液0.84リットルを攪拌下加えて1時間反応させた。反応終了後上澄みを除去し、7リットルのヘキサンで2回洗浄した。このスラリーを50℃に保ち、ジエチルアルミニウムクロリド1モル/リットルのヘキサン溶液60ミリリットルおよび四塩化チタン1モル/リットルのヘキサン溶液60ミリリットルを加えて、2時間反応した。反応終了後上澄みを除去し、固体触媒を単離し、遊離のハロゲンが検出されなくなるまでヘキサンで洗浄した。この固体触媒は0.6重量%のチタンを有していた。
[Example 1]
(1) Synthesis of titanium catalyst 4 liters of trichlorosilane as a 2 mol / liter heptane solution was charged into a 15 liter reactor sufficiently purged with nitrogen, kept at 65 ° C. with stirring, and the composition formula AlMg 6 (C 2 H 5 ) 3 (C 4 H 9 ) 6.4 (OC 4 H 9 ) 9 liters of a heptane solution of an organic magnesium component represented by 5.6 (6.5 mol in terms of magnesium) was added over 1 hour, and The reaction was carried out at 65 ° C. for 1 hour with stirring. After completion of the reaction, the supernatant was removed and washed 4 times with 7 liters of hexane to obtain a solid material slurry. This solid was separated, dried and analyzed. As a result, it contained 7.42 mmol of magnesium per gram of the solid.
The amount of the slurry containing 500 g of solid was adjusted to 13 liters with hexane, and reacted with 0.93 liter of hexane solution of 1 mol / liter of butanol at 50 ° C. for 1 hour with stirring. After completion of the reaction, the supernatant was removed and washed once with 7 liters of hexane. This slurry was kept at 50 ° C., and 0.84 liter of hexane solution of 1 mol / liter of diethylaluminum chloride was added with stirring and reacted for 1 hour. After completion of the reaction, the supernatant was removed and washed twice with 7 liters of hexane. The slurry was kept at 50 ° C., 60 ml of diethylaluminum chloride 1 mol / liter hexane solution and 60 ml of hexane solution 1 mol / liter titanium tetrachloride were added and reacted for 2 hours. After completion of the reaction, the supernatant was removed and the solid catalyst was isolated and washed with hexane until no free halogen was detected. The solid catalyst had 0.6 wt% titanium.

(2−1)ポリエチレン樹脂組成物の重合
最初に1段目の重合で低分子量成分を製造するために、反応容積300リットルのステンレス製重合器1を用い、重合温度83℃、重合圧力1MPaの条件で、触媒は上記の固体触媒をTi原子換算で4.2ミリモル/hr、トリエチルアルミニウムをAl原子換算で20ミリモル/hr、またヘキサンは40リットル/hrの速度で導入した。分子量調節剤としては水素を用い、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が54モル%になるように供給し重合を行った。重合器1で生成した低分子量成分のメルトフローレート(コードD)は、40g/10分、密度は966kg/mであった。
重合器1内のポリマースラリー溶液を圧力0.1MPa、温度75℃のフラッシュドラムに導き、未反応のエチレン、水素を分離した後反応容積250リットルのステンレス製重合器2にスラリーポンプで昇圧して導入した。重合器2では、温度80℃、圧力0.2MPaの条件下で、トリエチルアルミニウムを7.5ミリモル/hr、ヘキサンは40リットル/hrの速度で導入した。これに、エチレン、水素、1−ブテンを、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が2.6モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が1.5モル%になるように導入して、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.42となるように高分子量成分を重合し、メルトフローレート(コードT)が0.45g/10分、密度が957kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(2-1) Polymerization of polyethylene resin composition First, in order to produce a low molecular weight component in the first stage polymerization, a stainless polymerizer 1 having a reaction volume of 300 liters was used, with a polymerization temperature of 83 ° C and a polymerization pressure of 1 MPa. Under the conditions, the above catalyst was introduced at a rate of 4.2 mmol / hr in terms of Ti atom, triethylaluminum at 20 mmol / hr in terms of Al atom, and hexane at a rate of 40 liter / hr. Hydrogen was used as a molecular weight regulator, and polymerization was carried out by supplying the hydrogen so that the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) with respect to the sum of ethylene and hydrogen was 54 mol%. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight component produced in the polymerization vessel 1 was 40 g / 10 min, and the density was 966 kg / m 3 .
The polymer slurry solution in the polymerization vessel 1 is led to a flash drum having a pressure of 0.1 MPa and a temperature of 75 ° C. After separating unreacted ethylene and hydrogen, the pressure is increased by a slurry pump to a stainless polymerizer 2 having a reaction volume of 250 liters. Introduced. In the polymerization vessel 2, triethylaluminum was introduced at a rate of 7.5 mmol / hr and hexane was introduced at a rate of 40 l / hr under the conditions of a temperature of 80 ° C. and a pressure of 0.2 MPa. To this, ethylene, hydrogen, 1-butene, the gas phase molar concentration of hydrogen relative to the sum of ethylene and hydrogen (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) is 2.6 mol%, and the sum of ethylene and 1-butene The gas phase molar concentration of 1-butene (1-butene / (ethylene + 1-butene)) was introduced so as to be 1.5 mol%, and the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the polymerizer 2 Ratio of mass of high molecular weight component generated in polymerizer 2 to sum of mass of generated high molecular weight component (mass of high molecular weight component generated in polymerizer 2 / (mass of low molecular weight component generated in polymerizer 1+ The high molecular weight component is polymerized so that the mass of the high molecular weight component produced in the polymerization vessel 2 is 0.42, and the melt flow rate (code T) is 0.45 g / 10 min and the density is 957 kg / m 3 of polyethylene. A resin composition was produced.

(3−1)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造したポリエチレン樹脂組成物をシリンダー径44mmの二軸押出機(日本製鋼所社製TEX44HCT−49PW−7V)を使用し、シリンダー温度200℃、押出量35kg/時間の条件で混練しながら押出し、ポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.3%であり、クリーン度も問題なかった。
押出されたポリエチレン樹脂組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面が平滑であった。成形性は肉回り性がやや劣り底部コーナーの肉厚が薄くなっていた。
(3-1) Production of polyethylene resin composition The polyethylene resin composition produced as described above was used with a twin-screw extruder having a cylinder diameter of 44 mm (TEX44HCT-49PW-7V manufactured by Nippon Steel Co., Ltd.). Extrusion was carried out while kneading at an extrusion rate of 35 kg / hour to obtain a polyethylene resin composition.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.3%, and the cleanness was satisfactory.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded polyethylene resin composition, no additive was detected.
As for rough skin, the parison surface was smooth. Formability was slightly inferior, and the bottom corner was thin.

[実施例2]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−2)ポリエチレン樹脂組成物の重合
実施例1と同様にして重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量成分のメルトフローレート(コードD)は、40g/10分、密度は966kg/mであった。
重合器2において、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が3.3モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が1.3モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.45となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合を行った。得られたポリエチレン樹脂組成物のメルトフローレート(コードT)は0.45g/10分、密度は957kg/mであった。
(3−2)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造したポリエチレン樹脂組成物を使用して、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.4%でクリーン度も問題なかった。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面に細かな凹凸が見られた。成形性は肉回り性がやや劣り底部コーナーの肉厚が薄くなっていた。
[Example 2]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-2) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerization was carried out in the polymerization vessel 1 in the same manner as in Example 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight component produced in the polymerization vessel 1 was 40 g / 10 min, and the density was 966 kg / m 3 .
In the polymerization vessel 2, the gas phase molar concentration of hydrogen relative to the sum of ethylene and hydrogen (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) is 3.3 mol%, and the gas phase mole of 1-butene relative to the sum of ethylene and 1-butene. Polymerizer 2 with a concentration (1-butene / (ethylene + 1-butene)) of 1.3 mol%, the sum of the mass of the low molecular weight component produced in polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in polymerizer 2 The ratio of the mass of the high molecular weight component produced in (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2)) is 0. Polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 except that the high molecular weight component was polymerized so as to be .45, and the resulting polyethylene resin composition had a melt flow rate (code T) of 0.45 g / 10 min. Was 957 kg / m 3 .
(3-2) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the polyethylene resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.4%, and there was no problem with cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for rough skin, fine irregularities were observed on the parison surface. Formability was slightly inferior, and the bottom corner was thin.

[実施例3]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−3)ポリエチレン樹脂組成物の重合
実施例1と同様にして重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量成分のメルトフローレート(コードD)は、40g/10分、密度は966kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が3.3モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が1.4モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.42となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)が0.59g/10分、密度が958kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−3)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.3%でクリーン度も問題なかった。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面が平滑で成形性も問題がなかった。
[Example 3]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-3) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerization was carried out in the polymerization vessel 1 in the same manner as in Example 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight component produced in the polymerization vessel 1 was 40 g / 10 min, and the density was 966 kg / m 3 .
The gas phase molar concentration of hydrogen (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 3.3 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene with respect to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 1.4 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2. The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2)) was 0.42. Except for polymerizing the high molecular weight component, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) of 0.59 g / 10 min and a density of 958 kg / min. m 3 polyethylene resin composition The thing was manufactured.
(3-3) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1, using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.3%, and there was no problem with cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for the rough skin, the parison surface was smooth and the moldability was satisfactory.

[実施例4]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−4)ポリエチレン樹脂組成物の重合
エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が49モル%であること以外は実施例1と同様に重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量部分のメルトフローレート(コードD)は、20g/10分、密度は964kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が3.0モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が1.4モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.42となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)が0.46g/10分、密度が957kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−4)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.3%でクリーン度も問題なかった。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面に細かな凹凸が見られた。成形性は肉回り性がやや劣り底部コーナーの肉厚が薄くなっていた。
[Example 4]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-4) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerizer as in Example 1 except that the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 49 mol% Polymerization was carried out in 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight portion produced in the polymerization vessel 1 was 20 g / 10 minutes, and the density was 964 kg / m 3 .
Further, the gas phase molar concentration of hydrogen relative to the sum of ethylene and hydrogen (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) is 3.0 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene relative to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 1.4 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2. The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2)) was 0.42. Except for polymerizing the high molecular weight component, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) of 0.46 g / 10 min and a density of 957 kg / min. m 3 polyethylene resin composition The thing was manufactured.
(3-4) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.3%, and there was no problem with cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for rough skin, fine irregularities were observed on the parison surface. Formability was slightly inferior, and the bottom corner was thin.

[実施例5]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−5)ポリエチレン樹脂組成物の重合
実施例1と同様にして重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量成分のメルトフローレート(コードD)は、40g/10分、密度は966kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が4.5モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が1.4モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.42となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)が0.67g/10分、密度が957kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−5)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.3%でクリーン度も問題なかった。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面が平滑で問題なく、成形性も問題なかった。
[Example 5]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-5) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerization was carried out in the polymerization vessel 1 in the same manner as in Example 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight component produced in the polymerization vessel 1 was 40 g / 10 min, and the density was 966 kg / m 3 .
Further, the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 4.5 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene with respect to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 1.4 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2. The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2)) was 0.42. Except for polymerizing the high molecular weight component, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) of 0.67 g / 10 min and a density of 957 kg / min. m 3 polyethylene resin composition The thing was manufactured.
(3-5) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.3%, and there was no problem with cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for rough skin, the parison surface was smooth and had no problem, and there was no problem with moldability.

[実施例6]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−6)ポリエチレン樹脂組成物の重合
実施例1と同様にして重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量成分のメルトフローレート(コードD)は、40g/10分、密度は966kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が3.0モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が1.4モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.42となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)が0.78g/10分、密度が957kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−6)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.3%でクリーン度も問題なかった。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面が平滑で問題なく、成形性も問題なかった。
[Example 6]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-6) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerization was carried out in the polymerization vessel 1 in the same manner as in Example 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight component produced in the polymerization vessel 1 was 40 g / 10 min, and the density was 966 kg / m 3 .
Further, the gas phase molar concentration of hydrogen relative to the sum of ethylene and hydrogen (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) is 3.0 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene relative to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 1.4 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2. The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2)) was 0.42. Except for polymerizing the high molecular weight component, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) of 0.78 g / 10 min and a density of 957 kg / min. m 3 polyethylene resin composition The thing was manufactured.
(3-6) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.3%, and there was no problem with cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for rough skin, the parison surface was smooth and had no problem, and there was no problem with moldability.

[比較例1]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−7)ポリエチレン樹脂組成物の重合
実施例1と同様にして重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量部分のメルトフローレート(コードT)は、40g/10分、密度は966kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が2.5モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が2.2モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.45となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)MFRが0.35g/10分、密度が957kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−7)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.4%でクリーン度も問題なかった。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面に大きな縞模様が発生した。成形性は肉回り性がやや劣り底部コーナーの肉厚が薄くなっていた。
[Comparative Example 1]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-7) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerization was carried out in the polymerization vessel 1 in the same manner as in Example 1. The melt flow rate (code T) of the low molecular weight portion produced in the polymerization vessel 1 was 40 g / 10 minutes, and the density was 966 kg / m 3 .
In addition, the gas phase molar concentration of hydrogen relative to the sum of ethylene and hydrogen (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) is 2.5 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene relative to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 2.2 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2. The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2)) is 0.45. Except for polymerizing the high molecular weight component, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) MFR of 0.35 g / 10 min and a density of 957 kg. / M 3 polyethylene tree A fat composition was produced.
(3-7) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.4%, and there was no problem with cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for rough skin, a large striped pattern was generated on the parison surface. Formability was slightly inferior, and the bottom corner was thin.

[比較例2]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−8)ポリエチレン樹脂組成物の重合
エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が49モル%であること以外は実施例1と同様に重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量部分のメルトフローレート(コードD)は、20g/10分、密度は964kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が2.9モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が0.2モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.45となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)が0.35g/10分、密度が956kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−8)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.3%でクリーン度も問題なかった。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面に大きな縞模様が発生した。成形性は肉回り性がやや劣り底部コーナーの肉厚が薄くなっていた。
[Comparative Example 2]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-8) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerizer as in Example 1 except that the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 49 mol% Polymerization was carried out in 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight portion produced in the polymerization vessel 1 was 20 g / 10 minutes, and the density was 964 kg / m 3 .
Further, the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 2.9 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene with respect to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 0.2 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2 The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2)) is 0.45. Except that the high molecular weight component was polymerized, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) of 0.35 g / 10 min and a density of 956 kg / min. m 3 polyethylene resin composition The thing was manufactured.
(3-8) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.3%, and there was no problem with cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for rough skin, a large striped pattern was generated on the parison surface. Formability was slightly inferior, and the bottom corner was thin.

[比較例3]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−9)ポリエチレン樹脂組成物の重合
エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が40モル%であること以外は実施例1と同様に重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量部分のメルトフローレート(コードD)は、5g/10分、密度は963kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が13.8モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が0.8モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.50となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)が1.50g/10分、密度が957kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−9)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.2%でクリーン度も問題なかった。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性もパリソン表面が平滑であったが、ドローダウンが激しく大型の成形品を得ることができなかった。
[Comparative Example 3]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-9) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerizer as in Example 1 except that the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 40 mol% Polymerization was carried out in 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight portion produced in the polymerization vessel 1 was 5 g / 10 minutes, and the density was 963 kg / m 3 .
In addition, the gas phase molar concentration of hydrogen relative to the sum of ethylene and hydrogen (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) is 13.8 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene relative to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 0.8 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2. The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerization vessel 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerization vessel 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerization vessel 2)) is 0.50. Except that the high molecular weight component was polymerized, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) of 1.50 g / 10 min and a density of 957 kg / min. m 3 polyethylene resin set A composition was produced.
(3-9) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.2%, and the cleanness was satisfactory.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
The surface roughness of the parison surface was smooth, but the drawdown was severe and a large molded product could not be obtained.

[比較例4]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−10)ポリエチレン樹脂組成物の重合
エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が64モル%であること以外は実施例1と同様に重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量部分のメルトフローレート(コードD)は、180g/10分、密度は974kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が4.5モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が3.2モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.47となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)が1.05g/10分、密度が956kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−10)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は1.2%でクリーン度はパーティクルが多過ぎて計測不能であった。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性もパリソン表面が平滑であり、成形性も問題なかった。
[Comparative Example 4]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-10) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerizer as in Example 1 except that the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 64 mol%. Polymerization was carried out in 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight portion produced in the polymerization vessel 1 was 180 g / 10 minutes, and the density was 974 kg / m 3 .
Further, the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 4.5 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene with respect to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 3.2 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2. The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerization vessel 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerization vessel 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerization vessel 2)) was 0.47. Except for polymerizing the high molecular weight component, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) of 1.05 g / 10 min and a density of 956 kg / min. m 3 polyethylene resin composition The thing was manufactured.
(3-10) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 1.2%, and the cleanness was too high to measure due to too many particles.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
The rough surface of the parison surface was smooth and the moldability was satisfactory.

[比較例5]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−11)ポリエチレン樹脂組成物の重合
エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が52モル%であること以外は実施例1と同様に重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量部分のメルトフローレート(コードD)は、30g/10分、密度は965kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が3.5モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が2.8モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.50となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)が0.45g/10分、密度が951kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−11)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.6%でクリーン度はパーティクルが多数計測された。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面に大きな縞模様が発生した。成形性は底部コーナーがやや薄くなった。
[Comparative Example 5]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-11) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerizer as in Example 1 except that the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 52 mol%. Polymerization was carried out in 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight portion produced in the polymerization vessel 1 was 30 g / 10 minutes, and the density was 965 kg / m 3 .
In addition, the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 3.5 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene with respect to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 2.8 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2 The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerization vessel 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerization vessel 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerization vessel 2)) is 0.50. Except for polymerizing the high molecular weight component, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) of 0.45 g / 10 min and a density of 951 kg / min. m 3 polyethylene resin composition The thing was manufactured.
(3-11) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1000 or less by GPC measurement was 0.6%, and many particles were measured for cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for rough skin, a large striped pattern was generated on the parison surface. Formability is slightly thinner at the bottom corner.

[比較例6]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−12)ポリエチレン樹脂組成物の重合
エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が40モル%であること以外は実施例1と同様に重合器1において重合を行った。重合器1で生成した低分子量部分のメルトフローレート(コードD)は、5g/10分、密度は963kg/mであった。
また、エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が4.6モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が3.2モル%、重合器1で生成した低分子量成分の質量と重合器2で生成した高分子量成分の質量との和に対する重合器2で生成した高分子量成分の質量の比(重合器2で生成した高分子量成分の質量/(重合器1で生成した低分子量成分の質量+重合器2で生成した高分子量成分の質量)が0.50となるように高分子量成分を重合した以外は、実施例1と同様に重合器2において重合を行った。この重合により、メルトフローレート(コードT)が0.62g/10分、密度が950kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−12)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.3%でクリーン度はパーティクルが多数計測された。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面に大きな縞模様が発生した。成形性は問題なかった。
[Comparative Example 6]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-12) Polymerization of polyethylene resin composition Polymerizer as in Example 1 except that the gas phase molar concentration (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 40 mol% Polymerization was carried out in 1. The melt flow rate (code D) of the low molecular weight portion produced in the polymerization vessel 1 was 5 g / 10 minutes, and the density was 963 kg / m 3 .
The gas phase molar concentration of hydrogen (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) with respect to the sum of ethylene and hydrogen is 4.6 mol%, and the gas phase molar concentration of 1-butene with respect to the sum of ethylene and 1-butene (1 -Butene / (ethylene + 1-butene)) was 3.2 mol%, produced in the polymerizer 2 with respect to the sum of the mass of the low molecular weight component produced in the polymerizer 1 and the mass of the high molecular weight component produced in the polymerizer 2. The mass ratio of the high molecular weight component (the mass of the high molecular weight component produced in the polymerization vessel 2 / (the mass of the low molecular weight component produced in the polymerization vessel 1 + the mass of the high molecular weight component produced in the polymerization vessel 2)) is 0.50. Except for polymerizing the high molecular weight component, polymerization was performed in the polymerization vessel 2 in the same manner as in Example 1. This polymerization resulted in a melt flow rate (code T) of 0.62 g / 10 min and a density of 950 kg / min. m 3 polyethylene resin composition The thing was manufactured.
(3-12) Production of polyethylene resin composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1,000 or less by GPC measurement was 0.3%, and a large number of particles were measured for cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for rough skin, a large striped pattern was generated on the parison surface. There was no problem with moldability.

[比較例7]
実施例1で調製した触媒を用いてポリエチレンを製造した。
(2−13)ポリエチレン樹脂組成物の重合
エチレンと水素との和に対する水素の気相モル濃度(水素/(エチレン+水素))が26モル%、エチレンと1−ブテンとの和に対する1−ブテンの気相モル濃度(1−ブテン/(エチレン+1−ブテン))が2.0モル%で重合器1のみにおいて重合を行った。表中ではSingleと記載し、重合器1で得られたポリエチレン樹脂をポリエチレン樹脂組成物の欄に記載した。
この重合により、メルトフローレート(コードT)が0.69g/10分、密度が950kg/mのポリエチレン樹脂組成物を製造した。
(3−13)ポリエチレン樹脂組成物の製造
上記の如く製造した樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にポリエチレン樹脂組成物を得た。
GPC測定による分子量1000以下の割合は0.3%でクリーン度はパーティクルが多数計測された。
押出された組成物について前記添加剤抽出分析を行ったところ添加剤は検出されなかった。
肌荒れ性はパリソン表面に大きな縞模様が発生したと同時に、ドローダウンも激しく大型の成形品の成形は困難であった。
[Comparative Example 7]
Polyethylene was produced using the catalyst prepared in Example 1.
(2-13) Polymerization of polyethylene resin composition The gas phase molar concentration of hydrogen with respect to the sum of ethylene and hydrogen (hydrogen / (ethylene + hydrogen)) is 26 mol%, and 1-butene with respect to the sum of ethylene and 1-butene. The polymerization was carried out only in the polymerization vessel 1 at a gas phase molar concentration (1-butene / (ethylene + 1-butene)) of 2.0 mol%. In the table, “Single” is indicated, and the polyethylene resin obtained in the polymerization vessel 1 is indicated in the column of the polyethylene resin composition.
By this polymerization, a polyethylene resin composition having a melt flow rate (code T) of 0.69 g / 10 min and a density of 950 kg / m 3 was produced.
(3-13) Production of Polyethylene Resin Composition A polyethylene resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 using the resin composition produced as described above.
The ratio of the molecular weight of 1,000 or less by GPC measurement was 0.3%, and a large number of particles were measured for cleanliness.
When the additive extraction analysis was performed on the extruded composition, no additive was detected.
As for rough skin, a large striped pattern was generated on the parison surface, and at the same time, the drawdown was severe and it was difficult to mold a large molded product.

Figure 2008179799
Figure 2008179799

Figure 2008179799
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本発明の組成物は大型の高純度薬品容器等クリーン性が要求される用途に供される容器に好適である。   The composition of the present invention is suitable for containers that are used for applications requiring cleanliness, such as large-sized high-purity chemical containers.

Claims (2)

ポリエチレン樹脂組成物に含まれるポリエチレン樹脂成分が、少なくとも低分子量成分と高分子量成分とからなる多段重合法によりチーグラー触媒を用いて製造されたポリエチレン樹脂組成物であって、該低分子量成分が、メルトフローレート(JIS K7210−1999、コードD)が3g/10分以上50g/10分以下、密度(JIS K7112−1999)が960kg/m以上974kg/m以下であるエチレンの単独重合体もしくはエチレンと炭素数3以上20以下のα−オレフィンとの共重合体であって、該高分子量成分の該ポリエチレン樹脂組成物に対する質量分率が0.40以上0.46以下であり、該ポリエチレン樹脂組成物が、密度(JIS K7112−1999)が955kg/m以上965kg/m以下、メルトフローレート(JIS K7210−1999、コードT)が0.40g/10分以上1.0g/10分以下であり、実質的に添加剤を含まないことを特徴とする大型高純度薬品容器用のポリエチレン樹脂組成物。 The polyethylene resin component contained in the polyethylene resin composition is a polyethylene resin composition manufactured using a Ziegler catalyst by a multistage polymerization method comprising at least a low molecular weight component and a high molecular weight component, wherein the low molecular weight component is a melt flow rate (JIS K7210-1999, code D) is 3 g / 10 min or more 50 g / 10 minutes or less, the density (JIS K7112-1999) is ethylene or less 960 kg / m 3 or more 974kg / m 3 homopolymer or ethylene And an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, wherein the mass fraction of the high molecular weight component to the polyethylene resin composition is 0.40 or more and 0.46 or less, and the polyethylene resin composition things, density (JIS K7112-1999) is 955 kg / m 3 or more 965 kg / m Hereinafter, a melt flow rate (JIS K7210-1999, code T) is not more than 0.40 g / 10 min or more 1.0 g / 10 min, large high purity chemicals container, wherein substantially free of additives Polyethylene resin composition. 請求項1に記載のポリエチレン樹脂組成物を成形してなる大型高純度薬品用容器。   A large-sized high-purity chemical container formed by molding the polyethylene resin composition according to claim 1.
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