JP2008179611A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008179611A5
JP2008179611A5 JP2007316038A JP2007316038A JP2008179611A5 JP 2008179611 A5 JP2008179611 A5 JP 2008179611A5 JP 2007316038 A JP2007316038 A JP 2007316038A JP 2007316038 A JP2007316038 A JP 2007316038A JP 2008179611 A5 JP2008179611 A5 JP 2008179611A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
ring
carbon atoms
general formula
photopolymerization initiator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007316038A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008179611A (en
JP5151433B2 (en
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2007316038A priority Critical patent/JP5151433B2/en
Priority claimed from JP2007316038A external-priority patent/JP5151433B2/en
Publication of JP2008179611A publication Critical patent/JP2008179611A/en
Publication of JP2008179611A5 publication Critical patent/JP2008179611A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5151433B2 publication Critical patent/JP5151433B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

オキシムエステル系化合物、光重合開始剤、光重合性組成物、カラーフィルターおよび液晶表示装置Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device

本発明は、光重合開始剤として有用なオキシムエステル系化合物と、これを含有する光重合開始剤およびその用途に関する。
本発明の光重合開始剤を含む光重合性組成物は、カラーテレビ、液晶表示素子、固体撮像素子、カメラ等に使用される、光学的カラーフィルターの製造に有用である。本発明の光重合開始剤を含む光重合性組成物は、特に、高感度で解像性に優れるため、高精細で高遮光性のブラックマトリックス(Black Matrix。以下「BM」と略称することがある。)を製造することができる。またこのような光重合性組成物を使用することにより、高精細で高品質なカラーフィルターおよび液晶表示装置を実現することができる。
The present invention relates to an oxime ester compound useful as a photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator containing the compound, and uses thereof.
The photopolymerizable composition containing the photopolymerization initiator of the present invention is useful for the production of an optical color filter used for a color television, a liquid crystal display device, a solid-state imaging device, a camera and the like. The photopolymerizable composition containing the photopolymerization initiator of the present invention is particularly sensitive and excellent in resolution, so that it is a black matrix with high definition and high light-shielding properties (hereinafter abbreviated as “BM”). Can be manufactured). Further, by using such a photopolymerizable composition, a high-definition and high-quality color filter and liquid crystal display device can be realized.

なお本発明のオキシムエステル系化合物は、高感度の光重合開始剤であるため、BM用やカラーフィルターの画素形成用途などに限定されることなく、フォトスペーサーやリブ(液晶分割配向突起)等、色材を用いない透明な光重合性組成物にも利用可能であり、その応用技術分野は広範である。   In addition, since the oxime ester compound of the present invention is a highly sensitive photopolymerization initiator, it is not limited to BM or color filter pixel formation applications, photo spacers, ribs (liquid crystal split alignment protrusions), etc. It can also be used for a transparent photopolymerizable composition that does not use a color material, and its application technical field is wide.

従来、顔料を用いたカラーフィルターの製造法としては、染色法、電着法、インクジェット法、顔料分散法などが知られている。   Conventionally, as a method for producing a color filter using a pigment, a dyeing method, an electrodeposition method, an ink jet method, a pigment dispersion method and the like are known.

顔料分散法の場合、通常、分散剤などにより顔料を分散してなる顔料分散液に、バインダー樹脂、光重合開始剤、光重合性モノマー等を添加してなる光重合性組成物をガラス基板上に塗布して乾燥後、フォトマスクを用いて露光し、現像を行うことによって着色パターンを形成し、その後これを加熱することによりパターンを固着して画素を形成する。これらの工程を、各色ごとに繰り返してカラーフィルターを形成する。   In the case of the pigment dispersion method, a photopolymerizable composition obtained by adding a binder resin, a photopolymerization initiator, a photopolymerizable monomer, etc. to a pigment dispersion obtained by dispersing a pigment with a dispersant or the like is usually on a glass substrate. After coating and drying, a photomask is used for exposure, and development is performed to form a colored pattern. Then, the pattern is fixed by heating to form pixels. These steps are repeated for each color to form a color filter.

このような、カラーフィルターの画像形成に用いられる光重合性組成物には、十分な解像性、基板との密着性、低現像残渣などの特性が求められている。更に、近年では、色濃度が高い画素や光学濃度の高い樹脂ブラックマトリックスが要求されており、光重合性組成物中の顔料やカーボンブラックなどの色材の含有量は高くなる傾向にある。色材の含有量が増加すると、上述した解像性、基板との密着性、現像性などが悪化する問題があり、生産性の低下のみならずカラーフィルターに要求される精度、信頼性が得られなくなる。   Such a photopolymerizable composition used for image formation of a color filter is required to have characteristics such as sufficient resolution, adhesion to a substrate, and low development residue. Furthermore, in recent years, a pixel having a high color density and a resin black matrix having a high optical density are required, and the content of a color material such as a pigment or carbon black in the photopolymerizable composition tends to be high. When the content of the color material is increased, there is a problem that the above-described resolution, adhesion to the substrate, developability and the like are deteriorated, so that not only the productivity is lowered but also the accuracy and reliability required for the color filter are obtained. It becomes impossible.

このような問題を解決する手段の一つとして、光重合性組成物の硬化用照射光に対する感度を向上させるため、様々な光重合開始剤が提案されており、例えば光重合開始剤として特定のオキシムエステル化合物を使用する技術が提案されている(特許文献1〜5参照)。しかし、更なる色濃度や遮光性の向上、および製造効率の向上への要求に応じるためには、より一層高感度の光重合開始剤が必要とされている。
特開2000−80068号公報 特開2006−53569号公報 WO02/100903号公報 WO2006/018405号公報 特開2006−36750号公報
As one means for solving such problems, various photopolymerization initiators have been proposed in order to improve the sensitivity of the photopolymerizable composition to the irradiation light for curing. Techniques using oxime ester compounds have been proposed (see Patent Documents 1 to 5). However, in order to meet the demands for further improvement in color density and light-shielding properties and improvement in production efficiency, a photopolymerization initiator with higher sensitivity is required.
JP 2000-80068 A JP 2006-53569 A WO02 / 100903 Publication WO 2006/018405 JP 2006-36750 A

本発明は上述の問題点を解決し、薄膜で高遮光性のパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成することができ、しかも、十分な感度と解像性を有する光重合性組成物を実現できる、特定の光重合開始剤を提供するものである。この光重合開始剤を含む光重合性組成物を用いることにより、カラーフィルターの樹脂BMを高精度にかつ低コストに製造することが可能となる。さらに、本発明の光重合性組成物により製造されたカラーフィルターを使用した液晶表示装置は、コントラスト等の表示能力に優れたものである。   The present invention solves the above-mentioned problems, and can easily form a light-shielding pattern with a thin film by a photolithography method, and can realize a photopolymerizable composition having sufficient sensitivity and resolution. A specific photopolymerization initiator is provided. By using the photopolymerizable composition containing this photopolymerization initiator, it becomes possible to manufacture the resin BM for the color filter with high accuracy and at low cost. Furthermore, the liquid crystal display device using the color filter manufactured by the photopolymerizable composition of the present invention is excellent in display capability such as contrast.

また、近年、カラーフィルターに要求される「高濃度」、すなわち高い色濃度や遮光性を達成するためは、使用する着色組成物中の色材濃度を上げる必要があったが、反面、着色組成物中の色材濃度を上げると着色組成物の光透過性が下がるため、画像形成性能を維持、向上するためには、更に高感度の光重合性材料が求められている。本発明はこの課題を解決するものである。   In recent years, in order to achieve the “high density” required for color filters, that is, high color density and light-shielding properties, it has been necessary to increase the color material density in the color composition to be used. When the colorant concentration in the product is increased, the light transmittance of the colored composition is lowered. Therefore, in order to maintain and improve the image forming performance, a photopolymerizable material with higher sensitivity is required. The present invention solves this problem.

さらに、液晶表示装置の製造に用いられる、フォトスペーサー、リブ用感光性組成物、さらには光重合性材料を用いた光重合性組成物一般においても同様に、高精度、低コストな製造技術の要求が高まり、さらなる高感度な光重合性画像形成材料が求められている。本発明はこの課題をも解決するものである。   In addition, photo spacers used in the manufacture of liquid crystal display devices, photosensitive compositions for ribs, and photo-polymerizable compositions using photo-polymerizable materials in general also have high-precision and low-cost manufacturing techniques. There is a growing demand, and there is a need for photopolymerizable imaging materials with higher sensitivity. The present invention also solves this problem.

本発明者等は上記課題を解決すべく鋭意研究を進めた結果、光重合開始剤として、より光重合効率を向上させる特定構造のオキシムエステル系化合物を用いること、さらには、有機結合剤としてカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂を組み合わせることで、かかる目的を達成できることを見出した。   As a result of diligent research to solve the above-mentioned problems, the present inventors have used, as a photopolymerization initiator, an oxime ester compound having a specific structure that further improves the photopolymerization efficiency, and further, carboxylated as an organic binder. It has been found that such an object can be achieved by combining an epoxy acrylate resin having a group.

更に、かかる特定のオキシムエステル系化合物は、それ自体新規な化合物であり、かつ優れた光重合開始剤として、色材の存在の有無にかかわらず有効であることを見出した。   Furthermore, it has been found that such a specific oxime ester compound is a novel compound per se and is effective as an excellent photopolymerization initiator regardless of the presence or absence of a coloring material.

本発明はこのような知見に基いて達成されたものであり以下を要旨とするものである。   The present invention has been achieved on the basis of such findings and has the following gist.

[1] 下記一般式(I)で表されるオキシムエステル系化合物から成る光重合開始剤。

Figure 2008179611
〔式中、R1は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のヘテロアリール基または炭素数4〜25のヘテロアリールアルキル基を示し、これらはいずれも置換基を有していてもよい。あるいは、R1はXまたはYと結合し、環を形成してもよい。
2は、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数3〜25のアルケノイル基、炭素数4〜8のシクロアルカノイル基、炭素数7〜20のアリーロイル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基、炭素数7〜20のアリールオキシカルボニル基、炭素数2〜20のヘテロアリール基、炭素数3〜20のヘテロアリーロイル基または炭素数2〜20のアルキルアミノカルボニル基を示し、これらはいずれも置換基を有していてもよい。
Xは、置換基を有していてもよい、2個以上の環が縮合してなる、2価の芳香族炭化水素基および/または芳香族複素基を示す。
Yは、フェニル基または芳香族複素環単環由来の1価の基に、1以上の環が縮合してなる縮合環基を表し、該縮合環基は置換基を有していてもよい。〕 [1] A photopolymerization initiator composed of an oxime ester compound represented by the following general formula (I).
Figure 2008179611
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, or a heteroarylalkyl group having 4 to 25 carbon atoms. These may all have a substituent. Alternatively, R 1 may be bonded to X or Y to form a ring.
R 2 is an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkanoyl group having 4 to 8 carbon atoms, an aryloyl group having 7 to 20 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms. , An aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an alkylaminocarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, It may have a substituent.
X represents a divalent aromatic hydrocarbon group and / or an aromatic hetero group formed by condensation of two or more rings which may have a substituent.
Y represents a condensed ring group formed by condensing one or more rings to a monovalent group derived from a phenyl group or an aromatic heterocyclic monocycle, and the condensed ring group may have a substituent. ]

[2] 前記一般式(I)において、Yが、フェニル基に1以上の環が縮合してなる縮合環基であり、該縮合環基は置換基を有していてもよい、[1]に記載の光重合開始剤。 [2] In the general formula (I), Y is a condensed ring group formed by condensing one or more rings to a phenyl group, and the condensed ring group may have a substituent. [1] The photoinitiator described in 1.

[3] 前記一般式(I)において、Yが、フェニル基の2,3−位、3,4−位および4,5−位から選ばれた少なくとも1箇所に、5または6員環が1〜3個縮合してなる2〜4縮合環由来の基であり、該基は置換基を有していてもよい、[2]に記載の光重合開始剤。 [3] In the general formula (I), Y is a 5- or 6-membered ring at least at one position selected from the 2,3-position, 3,4-position and 4,5-position of the phenyl group. The photopolymerization initiator according to [2], which is a group derived from 2 to 4 condensed rings formed by condensation of 3 units, and the group may have a substituent.

[4] 前記一般式(I)において、Yにおけるフェニル基に縮合する環が炭化水素環である、[2]または[3]に記載の光重合開始剤。 [4] The photopolymerization initiator according to [2] or [3], wherein in the general formula (I), the ring condensed with the phenyl group in Y is a hydrocarbon ring.

[5] 前記一般式(I)において、Yにおけるフェニル基に縮合する環が芳香族炭化水素環および/または芳香族複素環である、[2]または[3]に記載の光重合開始剤。 [5] The photopolymerization initiator according to [2] or [3], wherein in the general formula (I), the ring condensed with the phenyl group in Y is an aromatic hydrocarbon ring and / or an aromatic heterocyclic ring.

[6] 前記一般式(I)において、Yが、芳香族複素環由来の1価の基に、1以上の環が縮合してなる縮合環基であり、該基は置換基を有していてもよい、[1]に記載の光重合開始剤。 [6] In the general formula (I), Y is a condensed ring group formed by condensing one or more rings to a monovalent group derived from an aromatic heterocyclic ring, and the group has a substituent. The photopolymerization initiator according to [1].

[7] 前記一般式(I)において、Yが、置換基を有していてもよい2〜4縮合環基である、[1]ないし[6]のいずれかに記載の光重合開始剤。 [7] The photopolymerization initiator according to any one of [1] to [6], wherein in the general formula (I), Y is a 2-4 condensed ring group which may have a substituent.

[8] 前記一般式(I)で表される化合物が、下記構造式(i)で表される化合物である、[1]ないし[7]のいずれかに記載の光重合開始剤。

Figure 2008179611
〔式中、R、RおよびYは、前記一般式(I)におけると同義である。環Xは、ベンゼン環Xに縮合した環を表し、単環でも、2以上の環からなる縮合環でもよい。また環Xは、ベンゼン環Xのどの位置に縮合していてもよい。ベンゼン環Xおよびこれに縮合する環Xは、さらに置換基を有していてもよい。〕 [8] The photopolymerization initiator according to any one of [1] to [7], wherein the compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following structural formula (i).
Figure 2008179611
[Wherein, R 1 , R 2 and Y have the same meaning as in the general formula (I). Ring X 2 represents a ring condensed with benzene ring X 1 , and may be a single ring or a condensed ring composed of two or more rings. Ring X 2 may be condensed at any position of benzene ring X 1 . The benzene ring X 1 and the ring X 2 condensed thereto may further have a substituent. ]

[9] 前記一般式(i)において、環Xが複素環である、[8]に記載の光重合開始剤。 [9] The In the general formula (i), the ring X 2 is a heterocyclic, photopolymerization initiators described in [8].

[10] 前記一般式(i)における、ベンゼン環Xおよび環Xからなる縮合環基が、2または3縮合環由来の2価の基である、[8]または[9]に記載の光重合開始剤。 [10] Formula in (i), fused ring group consisting of a benzene ring X 1 and ring X 2 is a divalent group derived from 2 or 3 fused rings, as defined in [8] or [9] Photopolymerization initiator.

[11] (A)有機結合剤、(B)光重合開始剤、および(C)光重合性単量体を含有する光重合性組成物において、(B)光重合開始剤が、[1]ないし[10]のいずれかに記載の光重合開始剤を含有する、光重合性組成物。 [11] In the photopolymerizable composition containing (A) an organic binder, (B) a photopolymerization initiator, and (C) a photopolymerizable monomer, (B) the photopolymerization initiator is [1]. Thru | or the photopolymerizable composition containing the photoinitiator in any one of [10].

[12] 前記一般式(I)で表されるオキシムエステル系化合物の含有量が、(A)有機結合剤と(C)光重合性単量体の総量100重量部に対して5重量部以上である、[11]に記載の光重合性組成物。 [12] The content of the oxime ester compound represented by the general formula (I) is 5 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the total amount of (A) the organic binder and (C) the photopolymerizable monomer. The photopolymerizable composition according to [11].

[13] (A)有機結合剤が、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂である[11]または[12]に記載の光重合性組成物。 [13] The photopolymerizable composition according to [11] or [12], wherein (A) the organic binder is an epoxy acrylate resin having a carboxyl group.

[14] カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂が、ノボラック型エポキシ樹脂であるか、或いは下記一般式(X)で表されるエポキシ樹脂(a)と、α,β−不飽和モノカルボン酸および/またはエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b)との反応生成物に、多塩基酸無水物(c)を反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂である、[13]に記載の光重合性組成物。

Figure 2008179611
〔式中、pおよびqは各々独立に0〜4の整数を表し、R11およびR12は各々独立してアルキル基またはハロゲン基を表す。R13およびR14は各々独立してアルキレン基を表す。mおよびnは各々独立して0以上の整数を表す。〕 [14] The epoxy acrylate resin having a carboxyl group is a novolak epoxy resin, or an epoxy resin (a) represented by the following general formula (X), an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or [13] An epoxy acrylate resin obtained by reacting a reaction product with an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester (b) having a carboxyl group in the ester moiety and a polybasic acid anhydride (c). The photopolymerizable composition described in 1.
Figure 2008179611
[Wherein, p and q each independently represent an integer of 0 to 4, and R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group or a halogen group. R 13 and R 14 each independently represents an alkylene group. m and n each independently represents an integer of 0 or more. ]

[15] 更に(D)色材を含有する、[11]ないし[14]のいずれかに記載の光重合性組成物。 [15] The photopolymerizable composition according to any one of [11] to [14], further comprising (D) a color material.

[16] 更に(E)溶剤を含有する、[11]ないし[15]のいずれかに記載の光重合性組成物。 [16] The photopolymerizable composition according to any one of [11] to [15], further comprising (E) a solvent.

[17] [11]ないし[16]のいずれかに記載の光重合性組成物により形成された画像を有する、カラーフィルター。 [17] A color filter having an image formed by the photopolymerizable composition according to any one of [11] to [16].

[18] [17]に記載のカラーフィルターを用いて形成された、液晶表示装置。 [18] A liquid crystal display device formed using the color filter according to [17].

[19] 下記一般式(II)の構造を有するオキシムエステル系化合物。

Figure 2008179611
〔式中、R1は、炭素数1〜3のアルキル基、または下記式(IIa)で表される基を表す。
Figure 2008179611
(式中、R101およびR102は各々独立に、水素原子、フェニル基またはN−アセチル−N−アセトキシアミノ基を表す。)
2は、炭素数2〜4のアルカノイル基を示し、Xは、窒素原子が炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい2価のカルバゾリル基を表す。Yaは、モルホリノ基で置換されていてもよいナフチル基を示す。〕 [19] An oxime ester compound having a structure represented by the following general formula (II).
Figure 2008179611
[Wherein, R 1 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a group represented by the following formula (IIa).
Figure 2008179611
(Wherein R 101 and R 102 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or an N-acetyl-N-acetoxyamino group.)
R 2 represents an alkanoyl group having 2 to 4 carbon atoms, and X represents a divalent carbazolyl group in which a nitrogen atom may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Y a represents a naphthyl group which may be substituted with a morpholino group. ]

本発明のオキシムエステル系化合物は、新規かつ高感度な光重合開始剤として利用することができる。このオキシムエステル系化合物を有機結合剤および色材と組合わせることによりカラーフィルター用途に有用な光重合性組成物を構成することができる。特に、このオキシムエステル系化合物を光重合開始剤として黒色顔料と組合わせて用いた光重合性組成物は、薄膜において高遮光性でありながら感度、解像性に優れるため、低コストで高品質の樹脂BMを形成することができる。   The oxime ester compound of the present invention can be used as a novel and highly sensitive photopolymerization initiator. A photopolymerizable composition useful for color filter applications can be formed by combining this oxime ester compound with an organic binder and a colorant. In particular, a photopolymerizable composition using this oxime ester compound in combination with a black pigment as a photopolymerization initiator has high sensitivity at low cost and high quality because it is highly light-shielding in a thin film. The resin BM can be formed.

本発明の光重合性組成物を用いて樹脂BMを形成したカラーフィルターは、精度、平坦性、耐久性において優れるため、液晶素子の表示品位を向上させることができる。また、製造工程およびカラーフィルター自体にも有害な物質を含まないため、人体に対する危険性を低減し環境安全性が向上する。   Since the color filter in which the resin BM is formed using the photopolymerizable composition of the present invention is excellent in accuracy, flatness, and durability, the display quality of the liquid crystal element can be improved. In addition, since the manufacturing process and the color filter itself do not contain harmful substances, the danger to the human body is reduced and the environmental safety is improved.

本発明の光重合開始剤および光重合性組成物は、BM用に限定されることなく、フォトスペーサーやリブ(液晶分割配向突起)等、色材を用いない透明な光重合性組成物にも利用可能であり、その応用技術分野は極めて広範である。   The photopolymerization initiator and the photopolymerizable composition of the present invention are not limited to those for BM, and are also transparent photopolymerizable compositions that do not use a color material such as a photo spacer and a rib (liquid crystal split alignment protrusion). It can be used, and its application technology field is very wide.

以下、本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更して実施することができる。   Embodiments of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.

なお、本発明において、「(メタ)アクリル」とは「アクリルおよび/またはメタクリル」を意味し、「(メタ)アクリロイル」についても同様である。また、「(ポリ)ヒドロキシ」とは「ヒドロキシおよび/またはポリヒドロキシ」を意味する。   In the present invention, “(meth) acryl” means “acryl and / or methacryl”, and the same applies to “(meth) acryloyl”. “(Poly) hydroxy” means “hydroxy and / or polyhydroxy”.

また本発明において、「アミン価」とは、特に断りのない限り有効固形分換算のアミン価を表し、分散剤の固形分1gあたりの塩基量と当量のKOHの重量で表される値である。なお測定方法については後述する。   In the present invention, the “amine value” means an amine value in terms of effective solid content, unless otherwise specified, and is a value represented by the weight of KOH equivalent to the amount of base per 1 g of the solid content of the dispersant. . The measuring method will be described later.

[光重合性組成物]
まず、本発明の光重合性組成物(以下、「レジスト」または「レジスト液」と称することがある。)について説明する。
[Photopolymerizable composition]
First, the photopolymerizable composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “resist” or “resist liquid”) will be described.

本発明の光重合性組成物は、(A)有機結合剤、(B)光重合開始剤、および(C)光重合性単量体を含有する光重合性組成物において、(B)光重合開始剤として特定の化合物を含むものである。   The photopolymerizable composition of the present invention is a photopolymerizable composition containing (A) an organic binder, (B) a photopolymerization initiator, and (C) a photopolymerizable monomer. It contains a specific compound as an initiator.

{配合成分}
(A)有機結合剤
本発明の光重合性組成物に用いる有機結合剤は特に限定されるものではないが、特にカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂が好ましく用いられる。
{Formulation ingredients}
(A) Organic binder Although the organic binder used for the photopolymerizable composition of this invention is not specifically limited, Especially the epoxy acrylate resin which has a carboxyl group is used preferably.

上記エポキシアクリレート樹脂は、エポキシ樹脂(a)に、α,β−不飽和モノカルボン酸および/またはエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b)を付加させ、さらに、多塩基酸無水物(c)を反応させることにより合成される。かかる反応生成物は化学構造上、実質的にエポキシ基を有さず、かつ「アクリレート」に限定されるものではないが、エポキシ樹脂が原料であり、かつ「アクリレート」が代表例であるので、慣用に従いこのように命名したものである。   The epoxy acrylate resin is obtained by adding an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester (b) having a carboxyl group to the ester moiety to the epoxy resin (a), and Synthesize | combined by making a polybasic acid anhydride (c) react. Such a reaction product has substantially no epoxy group in terms of chemical structure and is not limited to “acrylate”, but epoxy resin is a raw material, and “acrylate” is a representative example. It is named like this according to common usage.

原料となるエポキシ樹脂(a)として、(o,m,p−)クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、下記一般式(X)で示されるエポキシ樹脂等を好適に用いることができる。   As the raw material epoxy resin (a), (o, m, p-) cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, The epoxy resin etc. which are shown by general formula (X) can be used conveniently.

Figure 2008179611
〔式中、pおよびqは各々独立に0〜4の整数を表し、R11およびR12は各々独立してアルキル基またはハロゲン基を表す。R13およびR14は各々独立してアルキレン基を表す。mおよびnは各々独立して0以上の整数を表す。〕
Figure 2008179611
[Wherein, p and q each independently represent an integer of 0 to 4, and R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group or a halogen group. R 13 and R 14 each independently represents an alkylene group. m and n each independently represents an integer of 0 or more. ]

中でも、ノボラック型エポキシ樹脂であるか、或いは前記一般式(X)で表されるエポキシ樹脂が好ましく、特に耐アルカリ現像液適性と現像性のバランスの観点から、不飽和結合濃度が高く、また、カルボン酸濃度が適性で、母核の堅牢な樹脂が好ましく、上記一般式(X)で表されるエポキシ樹脂が特に好ましい。   Among these, a novolak type epoxy resin or an epoxy resin represented by the above general formula (X) is preferable, and in particular, from the viewpoint of a balance between resistance to alkali developer and developability, the unsaturated bond concentration is high, A resin having a suitable carboxylic acid concentration and a solid core is preferable, and an epoxy resin represented by the general formula (X) is particularly preferable.

上記一般式(X)において、R11およびR12のアルキル基としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、ハロゲン基としてはCl、Br、F等が挙げられる。R11およびR12としては、各々独立に炭素数1〜5のアルキル基が特に好ましい。
11およびR12のアルキル基、ハロゲン基の作用機構の詳細は明らかではないが、3次元構造に影響を与え、現像液に対しての溶解しやすさを制御しているものと推測される。
従って上記観点からは、前記一般式(X)におけるpおよびqは各々独立して0〜4の整数を表すが、好ましくは1または2である。
In the general formula (X), the alkyl group of R 11 and R 12 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the halogen group includes Cl, Br, F and the like. R 11 and R 12 are particularly preferably each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
Although the details of the mechanism of action of the alkyl groups and halogen groups of R 11 and R 12 are not clear, it is assumed that they affect the three-dimensional structure and control the ease of dissolution in the developer. .
Therefore, from the above viewpoint, p and q in the general formula (X) each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 1 or 2.

11およびR12のベンゼン環への結合位置は、特に制限は無いが、

Figure 2008179611
または
Figure 2008179611
に対してo−位が好ましい。 The bonding position of R 11 and R 12 to the benzene ring is not particularly limited,
Figure 2008179611
Or
Figure 2008179611
The o-position is preferred.

なお、R11およびR12は同じ基であっても異なる基であっても良いが、製造上のコストの点から、同じ基であることが好ましい。 R 11 and R 12 may be the same group or different groups, but are preferably the same group from the viewpoint of production cost.

13およびR14のアルキレン基としては、炭素数1〜10のアルキレン基が挙げられ、特に各々独立してエチレン基またはプロピレン基である場合が好ましい。 Examples of the alkylene group for R 13 and R 14 include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and it is particularly preferable that they are each independently an ethylene group or a propylene group.

mおよびnは、各々独立して0以上の整数を表すが、通常0〜6程度であり、好ましくは0〜3程度である。一般にmおよびnは大きいほど溶解性が高いが、大きすぎる場合には、感度が低下する可能性がある。   m and n each independently represents an integer of 0 or more, but is usually about 0 to 6, preferably about 0 to 3. In general, the larger m and n are, the higher the solubility is, but if too large, the sensitivity may be lowered.

なお、R13およびR14は同じ基であっても異なる基であっても良いが、製造上のコストの点から、同じ基であることが好ましい。 R 13 and R 14 may be the same group or different groups, but are preferably the same group from the viewpoint of production cost.

これらのエポキシ樹脂(a)の分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量として、通常200〜20万、好ましくは300〜100000の範囲である。分子量が上記範囲未満であると皮膜形成性に問題を生じる場合が多く、逆に、上記範囲を超えた樹脂ではα,β−不飽和モノカルボン酸の付加反応時にゲル化が起こりやすく製造が困難となるおそれがある。   The molecular weight of these epoxy resins (a) is usually in the range of 200 to 200,000, preferably 300 to 100,000 as the weight average molecular weight in terms of polystyrene as measured by gel permeation chromatography (GPC). If the molecular weight is less than the above range, there are many cases where a problem occurs in the film forming property. Conversely, if the resin exceeds the above range, gelation easily occurs during the addition reaction of the α, β-unsaturated monocarboxylic acid, and the production is difficult. There is a risk of becoming.

α,β−不飽和モノカルボン酸としては、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられ、好ましくは、アクリル酸およびメタクリル酸であり、特にアクリル酸が反応性に富むため好ましい。   Examples of the α, β-unsaturated monocarboxylic acid include itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, acrylic acid, methacrylic acid and the like, preferably acrylic acid and methacrylic acid, and particularly acrylic acid is highly reactive. Therefore, it is preferable.

エステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステルとしては、アクリル酸−2−サクシノイルオキシエチル、アクリル酸−2−マレイノイルオキシエチル、アクリル酸−2−フタロイルオキシエチル、アクリル酸−2−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、メタクリル酸−2−サクシノイルオキシエチル、メタクリル酸−2−マレイノイルオキシエチル、メタクリル酸−2−フタロイルオキシエチル、メタクリル酸−2−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、クロトン酸−2−サクシノイルオキシエチル等を挙げられ、好ましくは、アクリル酸−2−マレイノイルオキシエチルおよびアクリル酸−2−フタロイルオキシエチルであり、特にアクリル酸−2−マレイノイルオキシエチルが好ましい。   The α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group in the ester portion includes acrylic acid-2-succinoyloxyethyl, acrylic acid-2-malenoyloxyethyl, acrylic acid-2-phthaloyloxyethyl, Acrylic acid-2-hexahydrophthaloyloxyethyl, methacrylic acid-2-succinoyloxyethyl, methacrylic acid-2-malenoyloxyethyl, methacrylic acid-2-phthaloyloxyethyl, methacrylic acid-2-hexahydrophthalo Yloxyethyl, crotonic acid-2-succinoyloxyethyl, and the like. Preferred are acrylic acid-2-malenoyloxyethyl acrylate and 2-phthaloyloxyethyl acrylate, and particularly acrylic acid-2-maleic acid. Noyloxyethyl is preferred.

α,β−不飽和モノカルボン酸および/またはそのエステル(b)とエポキシ樹脂(a)との付加反応は、公知の手法を用いることができる。例えば、エステル化触媒の存在下、50〜150℃の温度で、α,β−不飽和モノカルボン酸および/またはそのエステル(b)とエポキシ樹脂(a)とを反応させることができる。ここで用いるエステル化触媒としては、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルジエチルアミン等の3級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩等を用いることができる。   A known method can be used for the addition reaction of the α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or its ester (b) with the epoxy resin (a). For example, the α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or its ester (b) and the epoxy resin (a) can be reacted at a temperature of 50 to 150 ° C. in the presence of an esterification catalyst. As the esterification catalyst used here, tertiary amines such as triethylamine, trimethylamine, benzyldimethylamine, and benzyldiethylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, dodecyltrimethylammonium chloride, and the like can be used. .

なお、エポキシ樹脂(a)、α,β−不飽和モノカルボン酸および/またはエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b)、エステル化触媒は、いずれも1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   The epoxy resin (a), the α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or the α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester (b) having a carboxyl group in the ester portion, and the esterification catalyst are all one kind. May be used alone, or two or more may be mixed and used.

α,β−不飽和モノカルボン酸および/またはそのエステル(b)の使用量は、原料エポキシ樹脂(a)のエポキシ基1当量に対し0.5〜1.2当量の範囲が好ましく、さらに好ましくは0.7〜1.1当量の範囲である。α,β−不飽和モノカルボン酸および/またはそのエステル(b)の使用量が少ないと不飽和基の導入量が不足し、引き続く多塩基酸無水物(c)との反応も不十分となる。また、多量のエポキシ基が残存することも有利ではない。一方、該使用量が多いとα,β−不飽和モノカルボン酸および/またはそのエステルが未反応物として残存する。いずれの場合も硬化特性が悪化する傾向が認められる。   The amount of α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or its ester (b) used is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents, more preferably 1 equivalent of the epoxy group of the raw material epoxy resin (a). Is in the range of 0.7 to 1.1 equivalents. If the amount of α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or ester (b) used is small, the amount of unsaturated groups introduced is insufficient, and the subsequent reaction with polybasic acid anhydride (c) becomes insufficient. . Also, it is not advantageous that a large amount of epoxy groups remain. On the other hand, when the amount used is large, α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or ester thereof remains as an unreacted product. In either case, there is a tendency for the curing properties to deteriorate.

α,β−不飽和カルボン酸および/またはそのエステル(b)が付加したエポキシ樹脂(a)に、さらに付加させる多塩基酸無水物(c)としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等の1種または2種以上が挙げられ、好ましくは、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、特に好ましい化合物は、無水テトラヒドロフタル酸およびビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。   The polybasic acid anhydride (c) to be further added to the epoxy resin (a) to which the α, β-unsaturated carboxylic acid and / or its ester (b) is added includes maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride. Acid, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, methyl hexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, anhydrous Examples thereof include one or more of chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic anhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, etc., preferably maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride Acid, hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, tri Mellitic acid, biphenyltetracarboxylic dianhydride, and particularly preferred compounds are tetrahydrophthalic anhydride and biphenyltetracarboxylic dianhydride.

多塩基酸無水物(c)の付加反応に関しても公知の手法を用いることができ、エポキシ樹脂(a)へのα,β−不飽和カルボン酸および/またはそのエステル(b)の付加反応と同様な条件下で継続反応させることにより得ることができる。多塩基酸無水物(c)の付加量は、生成するエポキシアクリレート樹脂の酸価が10〜150mg−KOH/gの範囲となるような程度であることが好ましく、さらに20〜140mg−KOH/gが特に好ましい。樹脂酸価が上記範囲未満であるとアルカリ現像性に乏しくなり、また、上記範囲を超えると硬化性能に劣る傾向が認められる。   A known method can also be used for the addition reaction of the polybasic acid anhydride (c), which is the same as the addition reaction of the α, β-unsaturated carboxylic acid and / or its ester (b) to the epoxy resin (a). Can be obtained by continuing the reaction under various conditions. The addition amount of the polybasic acid anhydride (c) is preferably such that the acid value of the resulting epoxy acrylate resin is in the range of 10 to 150 mg-KOH / g, more preferably 20 to 140 mg-KOH / g. Is particularly preferred. When the resin acid value is less than the above range, alkali developability is poor, and when it exceeds the above range, a tendency to be inferior in curing performance is recognized.

なお、この多塩基酸無水物の付加反応時に、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの多官能アルコールを添加し、多分岐構造を導入したものとしてもよい。   In addition, it is good also as what introduce | transduced polyfunctional alcohol, such as a trimethylol propane, a pentaerythritol, dipentaerythritol, and introduce | transduced the multibranched structure at the time of this addition reaction of a polybasic acid anhydride.

(A)有機結合剤として用いられるカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂のゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常1,000以上、好ましくは1,500以上であり、通常30,000以下、好ましくは20,000以下、さらに好ましくは10,000以下、特に好ましくは8,000以下である。分子量が大きすぎると現像性が悪化するおそれがあり、逆に小さすぎると耐アルカリ性に劣る可能性がある。   (A) The weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) measurement of an epoxy acrylate resin having a carboxyl group used as an organic binder is usually 1,000 or more, preferably 1,500 or more. Usually, it is 30,000 or less, preferably 20,000 or less, more preferably 10,000 or less, and particularly preferably 8,000 or less. If the molecular weight is too large, the developability may be deteriorated. On the other hand, if the molecular weight is too small, the alkali resistance may be inferior.

(A)有機結合剤としては、上述のようにして得られるカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂以外に、次のような樹脂も使用することができる。なお、以下に説明する樹脂にはエポキシアクリレート樹脂に属するものも一部重複的に含んでおり、完全に異なる別物質という分類ではない。   As the organic binder (A), in addition to the epoxy acrylate resin having a carboxyl group obtained as described above, the following resins can also be used. In addition, some of the resins described below partially overlap with those belonging to the epoxy acrylate resin, and are not classified as different substances.

即ち、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、マレイン酸、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等の単独重合体または共重合体、またはカルボキシル基含有ビニル系樹脂、並びに、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アセチルセルロース等も好適に挙げられる。
中でも、アルカリ現像性と画像形成性の面から、上記カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂およびカルボキシル基含有ビニル系樹脂が好ましく、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂がさらに好ましい。
That is, a homopolymer or copolymer such as (meth) acrylic acid, (meth) acrylic ester, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, maleic acid, styrene, vinyl acetate, vinylidene chloride, maleimide, or a carboxyl group Preferable examples include a vinyl-containing resin, polyamide, polyester, polyether, polyurethane, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and acetyl cellulose.
Among these, from the viewpoint of alkali developability and image formability, the epoxy acrylate resin having a carboxyl group and the carboxyl group-containing vinyl resin are preferable, and the epoxy acrylate resin having a carboxyl group is more preferable.

そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α−メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイルモルホリン、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニル等のビニル化合物との共重合体等が挙げられる。   As the carboxyl group-containing vinyl resin, for example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, citraconic acid, and other unsaturated carboxylic acids, styrene, α-methylstyrene , Hydroxystyrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ( (Meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, N, N-dimethyl Aminoethyl (meth) acrylate, N- (meth) acryloylmorpholine, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminoethyl And copolymers with vinyl compounds such as (meth) acrylamide and vinyl acetate.

上記の共重合体の中では、スチレン−(メタ)アクリレート−(メタ)アクリル酸共重合体が好ましく、スチレン3〜30モル%、(メタ)アクリレート10〜70モル%、(メタ)アクリル酸10〜60モル%からなる共重合体がさらに好ましく、スチレン5〜25モル%、(メタ)アクリレート20〜60モル%、(メタ)アクリル酸15〜55モル%からなる共重合体が特に好ましい。また、これらカルボキシル基含有ビニル系樹脂の酸価は通常30〜250mg−KOH/g、好ましくは50〜200mg−KOH/g、さらに好ましくは70〜150mg−KOH/gである。   Among the above copolymers, a styrene- (meth) acrylate- (meth) acrylic acid copolymer is preferable, and 3-30 mol% styrene, 10-70 mol% (meth) acrylate, 10 (meth) acrylic acid. A copolymer consisting of ˜60 mol% is more preferred, and a copolymer consisting of 5 to 25 mol% styrene, 20 to 60 mol% (meth) acrylate, and 15 to 55 mol% (meth) acrylic acid is particularly preferred. The acid value of these carboxyl group-containing vinyl resins is usually 30 to 250 mg-KOH / g, preferably 50 to 200 mg-KOH / g, more preferably 70 to 150 mg-KOH / g.

さらに、上記カルボキシル基含有ビニル系樹脂として、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するものが好適であり、例えば、カルボキシル基含有重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート、α−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、または、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2,3−エポキシシクロペンチルメチル(メタ)アクリレート、7,8−エポキシ〔トリシクロ[5.2.1.0]デシ−2−イル〕オキシメチル(メタ)アクリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を、カルボキシル基含有重合体の有するカルボキシル基の5〜90モル%、好ましくは30〜70モル%程度を反応させて得られた反応生成物、および、アリル(メタ)アクリレート、3−アリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、シンナミル(メタ)アクリレート、クロトニル(メタ)アクリレート、メタリル(メタ)アクリレート、N,N−ジアリル(メタ)アクリルアミド等の2種以上の不飽和基を有する化合物、または、ビニル(メタ)アクリレート、1−クロロビニル(メタ)アクリレート、2−フェニルビニル(メタ)アクリレート、1−プロペニル(メタ)アクリレート、ビニルクロトネート、ビニル(メタ)アクリルアミド等の2種以上の不飽和基を有する化合物と、(メタ)アクリル酸等の不飽和カルボン酸、またはさらに不飽和カルボン酸エステルとを、前者の不飽和基を有する化合物の全体に占める割合を10〜90モル%、好ましくは30〜80モル%程度となるように共重合させて得られた反応生成物等が挙げられる。   Furthermore, as the carboxyl group-containing vinyl resin, those having an ethylenically unsaturated bond in the side chain are suitable. For example, allyl glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate, α-ethylglycidyl is added to the carboxyl group-containing polymer. (Meth) acrylate, glycidyl crotonate, glycidyl isocrotonate, crotonyl glycidyl ether, itaconic acid monoalkyl monoglycidyl ester, fumaric acid monoalkyl monoglycidyl ester, maleic acid monoalkyl monoglycidyl ester, etc. Saturated compounds, or 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2,3-epoxycyclopentylmethyl (meth) acrylate, 7,8-epoxy [tricyclo [5.2.1.0] deci 2-yl] an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound such as oxymethyl (meth) acrylate is reacted with 5 to 90 mol%, preferably about 30 to 70 mol% of the carboxyl group of the carboxyl group-containing polymer. Reaction products obtained and allyl (meth) acrylate, 3-allyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, cinnamyl (meth) acrylate, crotonyl (meth) acrylate, methallyl (meth) acrylate, N, N -Compounds having two or more unsaturated groups such as diallyl (meth) acrylamide, or vinyl (meth) acrylate, 1-chlorovinyl (meth) acrylate, 2-phenylvinyl (meth) acrylate, 1-propenyl (meta ) Acrylate, vinyl crotonate, vinyl (meth) acryl The ratio of the compound having two or more kinds of unsaturated groups such as luamide and the unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid, or further unsaturated carboxylic acid ester to the whole compound having the unsaturated group. The reaction product etc. which were copolymerized so that it may become 10-90 mol%, preferably about 30-80 mol% are mentioned.

カルボキシル基含有ビニル系樹脂のゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常1,000以上、好ましくは1500以上、さらに好ましくは2000以上であり、通常100,000以下、好ましくは50,000以下、さらに好ましくは20,000以下、特に好ましくは10,000以下である。分子量が大きすぎると現像性が悪化するおそれがあり、逆に小さすぎると耐アルカリ性が不十分となる可能性がある。 The weight average molecular weight in terms of polystyrene as measured by gel permeation chromatography (GPC) of the carboxyl group-containing vinyl resin is usually 1,000 or more, preferably 1500 or more, more preferably 2000 or more, and usually 100,000 or less. preferably 50,00 0 hereinafter, more preferably 20,000 or less, particularly preferably 10,000 or less. If the molecular weight is too large, the developability may be deteriorated. On the other hand, if the molecular weight is too small, the alkali resistance may be insufficient.

なお、本発明の光重合性化合物を液晶分割配向突起の形成に用いる場合、(A)有機結合剤としてのカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂のゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常1,000以上、好ましくは1,500以上であり、通常30,000以下、好ましくは20,000以下、さらに好ましくは10,000以下、特に好ましくは5,000以下である。また、カルボキシル基含有ビニル系樹脂のゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常1,000以上、好ましくは1500以上、さらに好ましくは2000以上であり、通常100,000以下、好ましくは50,000以下、さらに好ましくは20,000以下、特に好ましくは10,000以下である。
上記分子量範囲の有機結合剤を含有する場合は、光重合性組成物の加熱時の変形が大きいため、液晶分割配向突起の良好な形状であるアーチ状の突起が形成されるので好ましい。
In addition, when using the photopolymerizable compound of this invention for formation of a liquid crystal division | segmentation alignment protrusion, it is polystyrene conversion by the gel permeation chromatography (GPC) measurement of the epoxy acrylate resin which has a carboxyl group as an (A) organic binder. The weight average molecular weight is usually 1,000 or more, preferably 1,500 or more, usually 30,000 or less, preferably 20,000 or less, more preferably 10,000 or less, and particularly preferably 5,000 or less. . The weight average molecular weight in terms of polystyrene as measured by gel permeation chromatography (GPC) of the carboxyl group-containing vinyl resin is usually 1,000 or more, preferably 1500 or more, more preferably 2000 or more, and usually 100, 000 or less, preferably 50,00 0 hereinafter, more preferably 20,000 or less, particularly preferably 10,000 or less.
When the organic binder having the molecular weight range is contained, the photopolymerizable composition is preferably deformed at the time of heating, so that an arch-shaped protrusion having a good shape of the liquid crystal split alignment protrusion is formed.

(B)光重合開始剤
本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤として下記一般式(I)で表されるオキシムエステル系化合物(以下「オキシムエステル系化合物(I)」と称す場合がある。)を含有する。
(B) Photopolymerization initiator The photopolymerizable composition of the present invention is an oxime ester compound represented by the following general formula (I) (hereinafter referred to as “oxime ester compound (I)”) as a photopolymerization initiator. Contain).

Figure 2008179611
Figure 2008179611

〔式中、R1は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のヘテロアリール基または炭素数4〜25のヘテロアリールアルキル基を示し、これらはいずれも置換基を有していてもよい。あるいは、R1はXまたはYと結合し、環を形成してもよい。
2は、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数3〜25のアルケノイル基、炭素数4〜8のシクロアルカノイル基、炭素数7〜20のアリーロイル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基、炭素数7〜20のアリールオキシカルボニル基、炭素数2〜20のヘテロアリール基、炭素数3〜20のヘテロアリーロイル基または炭素数2〜20のアルキルアミノカルボニル基を示し、これらはいずれも置換基を有していてもよい。
Xは、置換基を有していてもよい、2個以上の環が縮合してなる、2価の芳香族炭化水素基および/または芳香族複素基を示す。
Yは、フェニル基または芳香族複素環単環由来の1価の基に、1以上の環が縮合してなる縮合環基を表し、該縮合環基は置換基を有していてもよい。〕
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, or a heteroarylalkyl group having 4 to 25 carbon atoms. These may all have a substituent. Alternatively, R 1 may be bonded to X or Y to form a ring.
R 2 is an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkanoyl group having 4 to 8 carbon atoms, an aryloyl group having 7 to 20 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms. , An aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an alkylaminocarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, It may have a substituent.
X represents a divalent aromatic hydrocarbon group and / or an aromatic hetero group formed by condensation of two or more rings which may have a substituent.
Y represents a condensed ring group formed by condensing one or more rings to a monovalent group derived from a phenyl group or an aromatic heterocyclic monocycle, and the condensed ring group may have a substituent. ]

上記オキシムエステル系化合物(I)において、Y−C(=O)−X部分は吸光部を形成し、オキシム構造部:−C(−R1)=N−OR2部分がラジカル発生部位となる。吸光部:Y−C(=O)−Xが効率よく光を吸収し、吸収したエネルギーをオキシム構造部に効率的に移動させることにより高感度が達成される。Y−C(=O)−X部分で表されるような吸光部は、特に組成物中に高濃度で添加される場合には、分子同士が会合し、見かけ上複数分子が単分子として振る舞うことにより、吸光度および吸収効率が低下する傾向があると考えられる。本発明のオキシムエステル系化合物(I)は、Yの部分を嵩高い基とすることにより、高濃度で添加した場合にも高い吸光度を有することができる。 In the oxime ester compound (I), the Y-C (= O) -X moiety forms a light-absorbing part, and the oxime structure part: -C (-R 1 ) = N-OR 2 part becomes a radical generating site. . Absorbing part: Y—C (═O) —X efficiently absorbs light, and the absorbed energy is efficiently transferred to the oxime structure part to achieve high sensitivity. In the light absorption part represented by the YC (= O) -X part, particularly when added at a high concentration in the composition, the molecules associate with each other, and apparently a plurality of molecules behave as a single molecule. Therefore, it is considered that the absorbance and the absorption efficiency tend to decrease. The oxime ester-based compound (I) of the present invention can have a high absorbance even when added at a high concentration by making the Y portion a bulky group.

また、オキシム構造部でラジカル発生に活用しやすい三重項エネルギーを、Y−C(=O)−X部分が高効率で生成することが重要であり、分子内での効率的なエネルギー移動を達成するべく、なるべくY−C(=O)−X部分とオキシム構造部を空間的に近接させることが重要である。   In addition, it is important that the YC (= O) -X moiety generates high-efficiency triplet energy that can be easily used for radical generation in the oxime structure part, achieving efficient energy transfer within the molecule. Therefore, it is important to make the YC (═O) —X portion and the oxime structure portion spatially close as much as possible.

前記一般式(I)で表される化合物は、Y−C(=O)−X部分に、一重項状態から三重項状態への状態変化の効率の高いベンゾフェノン構造またはこれに類似の構造を含有するため、吸収した光を効率よく三重項エネルギーに変換することができる。
さらに前記一般式(I)で表される化合物は、ベンゾフェノン構造またはこれに類似の構造が、分子内での空間的回転により、オキシム構造部とオーバーラップしやすい化合物であるため、分子内での効率的なエネルギー移動が可能となり、より高感度を達成することができる。
The compound represented by the general formula (I) contains a benzophenone structure having a high efficiency of state change from a singlet state to a triplet state or a similar structure in the YC (= O) -X moiety. Therefore, the absorbed light can be efficiently converted into triplet energy.
Furthermore, the compound represented by the general formula (I) is a compound in which the benzophenone structure or a similar structure is likely to overlap with the oxime structure portion due to spatial rotation in the molecule. Efficient energy transfer is possible and higher sensitivity can be achieved.

一般式(I)において、Xは置換基を有していてもよい、2個以上の環が縮合してなる、2価の芳香族炭化水素基および/または芳香族複素基の基を表す。
Xとして、具体的には、ナフタレン環、アントラセン環、クリセン環、フェナントレン環、アズレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、インデン環等の芳香族炭化水素環からなる縮合環由来の基;アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、カルバゾール環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、ベンゾチアゾール環等の芳香族炭化水素環と芳香族複素環からなる縮合環由来の基などが挙げられる。
これらはいずれも、任意の置換基を有していてもよい。この「任意の置換基」については後述する。
In the general formula (I), X represents a divalent aromatic hydrocarbon group and / or an aromatic heterocyclic group, which may have a substituent and is formed by condensation of two or more rings.
X is specifically a group derived from a condensed ring composed of an aromatic hydrocarbon ring such as a naphthalene ring, anthracene ring, chrysene ring, phenanthrene ring, azulene ring, fluorene ring, acenaphthylene ring or indene ring; Examples thereof include a group derived from a condensed ring composed of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring such as a nanthridine ring, a xanthene ring, a carbazole ring, a phenazine ring, a phenothiazine ring, a phenoxazine ring and a benzothiazole ring.
Any of these may have an arbitrary substituent. This “optional substituent” will be described later.

一般式(I)で表される化合物の中でも、特に下記一般式(i)で表される化合物、すなわち一般式(I)におけるX基が、一般式(i)におけるベンゼン環Xおよびこれに縮合する環Xで表される構造である化合物が好ましい。 Among the compounds represented by the general formula (I), in particular, a compound represented by the following general formula (i), that is, the X group in the general formula (I) is a benzene ring X 1 in the general formula (i) and A compound having a structure represented by ring X 2 to be condensed is preferable.

Figure 2008179611
〔式中、R、RおよびYは、前記一般式(I)におけると同義である。環Xは、ベンゼン環Xに縮合した環を表し、単環でも、2以上の環からなる縮合環でもよい。また環Xは、ベンゼン環Xのどの位置に縮合していてもよい。ベンゼン環Xおよびこれに縮合する環Xは、さらに置換基を有していてもよい。〕
Figure 2008179611
[Wherein, R 1 , R 2 and Y have the same meaning as in the general formula (I). Ring X 2 represents a ring condensed with benzene ring X 1 , and may be a single ring or a condensed ring composed of two or more rings. Ring X 2 may be condensed at any position of benzene ring X 1 . The benzene ring X 1 and the ring X 2 condensed thereto may further have a substituent. ]

一般式(i)で表される化合物は、ベンゼン環Xが−C(=O)−Yと共にベンゾフェノン構造またはその類似構造を形成しうるため、吸光度が高いと共に、一重項状態から3重項状態への励起効率が高いので好ましい。 In the compound represented by the general formula (i), the benzene ring X 1 can form a benzophenone structure or a similar structure together with —C (═O) —Y. This is preferable because the excitation efficiency to the state is high.

一般式(I)におけるXとしては芳香族複素環を含む基が好ましく、特に一般式(i)においてベンゼン環Xに縮合する環Xが複素環である場合が好ましい。 X in the general formula (I) is preferably a group containing an aromatic heterocycle, and particularly preferred is the case where the ring X 2 fused to the benzene ring X 1 in the general formula (i) is a heterocycle.

また、Xは通常2〜4縮合環由来の2価の基であり、分子量が比較的小さくなる点から2または3縮合環由来の2価の基が好ましく、後述する光重合性組成物の光硬化に使用する照射光の波長に適合しやすい点からは、3縮合環由来の2価の基がより好ましい。   X is usually a divalent group derived from 2 to 4 condensed rings, and is preferably a divalent group derived from 2 or 3 condensed rings from the viewpoint of relatively low molecular weight. From the viewpoint of easily adapting to the wavelength of irradiation light used for curing, a divalent group derived from a tri-fused ring is more preferable.

一般式(I)におけるX、および一般式(i)においてベンゼン環Xおよび環Xが形成する構造として、特に好ましいのはカルバゾール環由来の基である。Xがカルバゾール基由来の基である場合は、露光時の照射光への適合性に加えて、堅牢な骨格であるため、好ましい。 As the structure formed by X in general formula (I) and benzene ring X 1 and ring X 2 in general formula (i), a group derived from a carbazole ring is particularly preferable. When X is a group derived from a carbazole group, it is preferable because it is a robust skeleton in addition to the compatibility with irradiation light during exposure.

一般式(I)において、R1は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のヘテロアリール基または炭素数4〜25のヘテロアリールアルキル基を示し、これらのアルキル基、アルケニル基、ヘテロアリール基、ヘテロアリールアルキル基はいずれも置換基を有していてもよい。Rをこのような基とすることにより、Rがフェニル基等である化合物に比べて、光に対する感度が高くなる。また化合物の合成も容易であるため、工業的な観点からも好ましい。 In the general formula (I), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl having 4 to 25 carbon atoms. Represents an alkyl group, and these alkyl groups, alkenyl groups, heteroaryl groups, and heteroarylalkyl groups may all have a substituent. By making R 1 such a group, the sensitivity to light is higher than that of a compound in which R 1 is a phenyl group or the like. Moreover, since the synthesis | combination of a compound is also easy, it is preferable also from an industrial viewpoint.

1の炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは1〜6のアルキル基である。
1の炭素数2〜25のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基等が挙げられ、好ましくはプロペニル基等の炭素数3〜12のアルケニル基、より好ましくは2〜5のアルケニル基である。
1の炭素数3〜20のヘテロアリール基としては、チオニル基、フリル基、イミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基などが挙げられ、好ましくは炭素数3〜15、より好ましくは炭素数4〜10のヘテロアリール基である。
1の炭素数4〜25のヘテロアリールアルキル基としては、チオニルメチル基、フルフリル基、イミダゾリルメチル基、ベンズチアゾリルメチル基、ベンズオキサゾリルメチル基などが挙げられ、好ましくは炭素数4〜18、より好ましくは炭素数4〜10のヘテロアリールアルキル基である。
Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms for R 1 include a vinyl group and a propenyl group, preferably an alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms such as a propenyl group, more preferably an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms. .
Examples of the heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms of R 1 include a thionyl group, a furyl group, an imidazolyl group, a benzthiazolyl group, a benzoxazolyl group, preferably 3 to 15 carbon atoms, more preferably a carbon number. 4 to 10 heteroaryl groups.
Examples of the heteroarylalkyl group having 4 to 25 carbon atoms of R 1 include thionylmethyl group, furfuryl group, imidazolylmethyl group, benzthiazolylmethyl group, benzoxazolylmethyl group, and preferably 4 carbon atoms. -18, more preferably a heteroarylalkyl group having 4 to 10 carbon atoms.

なお、上述した各基はいずれも置換基を有していてもよい。該置換基については後述する。   In addition, each group mentioned above may have a substituent. The substituent will be described later.

としては、置換基を有していてもよいアルキル基が特に好ましい。中でも、製造上の容易さの点からは、無置換のアルキル基が好ましい。また、後述するように一般式(I)で表される化合物を光重合性組成物に使用した場合、該組成物の基板への密着性の観点からは、置換アミノ基で置換されたアルキル基が好ましく、N−アセチル−N−アセトキシアミノ基で置換されたアルキル基が最も好ましい。 R 1 is particularly preferably an alkyl group which may have a substituent. Among these, an unsubstituted alkyl group is preferable from the viewpoint of ease of production. Moreover, when the compound represented by general formula (I) is used for a photopolymerizable composition so that it may mention later, the alkyl group substituted by the substituted amino group from a viewpoint of the adhesiveness to the board | substrate of this composition. And an alkyl group substituted with an N-acetyl-N-acetoxyamino group is most preferable.

一般式(I)におけるR2の炭素数2〜20のアルカノイル基としては、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基等が挙げられ、好ましくはアセチル等の炭素数2〜12、より好ましくは炭素数2〜7のアルカノイル基である。
2の炭素数3〜25のアルケノイル基としては、クロトノイル基、アクリロイル基等が挙げられ、好ましくはクロトノイル等の炭素数3〜12、より好ましくは炭素数3〜7のアルケノイル基である。
2の炭素数4〜8のシクロアルカノイル基としては、シクロヘキシルカルボニル基、メチルシクロヘキシルカルボニル基、シクロペンチルカルボニル基等が挙げられ、好ましくはシクロヘキシルカルボニル等の炭素数4〜8、より好ましくは炭素数4〜7のシクロアルカノイル基である。
2の炭素数7〜20のアリーロイル基としては、ベンゾイル基、メチルベンゾイル基、ナフトイル基等が挙げられ、好ましくはナフトイル等の炭素数7〜12、より好ましくは炭素数7〜10のアリーロイル基である。
2の炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポシキカルボニル基等が挙げられ、好ましくはメトキシカルボニル基等の炭素数2〜10、より好ましくは炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基である。
2の炭素数7〜20のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル基、p−メチルフェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基等が挙げられ、好ましくはナフトキシカルボニル基等の炭素数7〜15、より好ましくは炭素数7〜10のアリールオキシカルボニル基である。
2の炭素数2〜20のヘテロアリール基としては、チオフェニル基、ピロリル基、ピリジル基等が挙げられ、好ましくはチオフェニル基等の炭素数2〜12、より好ましくは炭素数2〜7のヘテロアリール基である。
2の炭素数3〜20のヘテロアリーロイル基としては、チオフェンカルボニル基、ピロリルカルボニル基、ピリジンカルボニル基等が挙げられ、好ましくはチオフェンカルボニル基等の炭素数5〜15、より好ましくは炭素数7〜10のヘテロアリーロイル基である。
2の炭素数2〜20のアルキルアミノカルボニル基としては、モホリノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基等が挙げられ、好ましくはジメチルアミノカルボニル等の炭素数2〜12、より好ましくは炭素数2〜10のアルキルアミノカルボニル基である。
Examples of the alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms of R 2 in the general formula (I) include an acetyl group, a propanoyl group, a butanoyl group, and the like, preferably 2 to 12 carbon atoms such as acetyl, more preferably 2 carbon atoms. -7 alkanoyl groups.
Examples of the alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms of R 2 include a crotonoyl group and an acryloyl group, preferably an alkenoyl group having 3 to 12 carbon atoms, such as crotonoyl, and more preferably 3 to 7 carbon atoms.
Examples of the cycloalkanoyl group having 4 to 8 carbon atoms of R 2 include a cyclohexylcarbonyl group, a methylcyclohexylcarbonyl group, and a cyclopentylcarbonyl group, preferably 4 to 8 carbon atoms such as cyclohexylcarbonyl, and more preferably 4 carbon atoms. A cycloalkanoyl group of ˜7.
Examples of the aryloyl group having 7 to 20 carbon atoms of R 2 include a benzoyl group, a methylbenzoyl group, and a naphthoyl group. Preferably, the aryloyl group has 7 to 12 carbon atoms, such as naphthoyl, and more preferably 7 to 10 carbon atoms. It is.
Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms of R 2 include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a propoxycarbonyl group, preferably 2 to 10 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, more preferably a carbon number. 2 to 8 alkoxycarbonyl groups.
Examples of the aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms of R 2 include phenoxycarbonyl group, p-methylphenoxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group and the like, preferably 7 to 15 carbon atoms such as naphthoxycarbonyl group, More preferred is an aryloxycarbonyl group having 7 to 10 carbon atoms.
Examples of the heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms of R 2 include a thiophenyl group, a pyrrolyl group, and a pyridyl group, and preferably a heterocycle having 2 to 12 carbon atoms, such as a thiophenyl group, and more preferably 2 to 7 carbon atoms. An aryl group.
Examples of the hetero aryloyl group having 3 to 20 carbon atoms of R 2 include a thiophenecarbonyl group, a pyrrolylcarbonyl group, and a pyridinecarbonyl group, preferably 5 to 15 carbon atoms such as a thiophenecarbonyl group, more preferably carbon. It is a hetero aryloyl group of several 7 to 10.
The alkylamino group of a carbon number 2 to 20 R 2, molar morpholinocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, and the like methylaminocarbonyl group, preferably 2 to 12 carbon atoms such as dimethylaminocarbonyl, More preferred is an alkylaminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms.

上述した各基のうち、露光感度の点から、Rとしてはアカノイル基、シクロアルカノイル、アリーロイル基が好ましく、アカノイル基、アリーロイル基がより好ましい。 Among the groups described above, from the viewpoint of exposure sensitivity, A Le as R 2 Kanoiru groups, cycloalkanoyl, preferably aryloyl group, Akanoiru group, aryloyl group is more preferable.

なお、R2として上述した各基が有しうる置換基については後述するが、上述した各基としては、置換基を有さないものが特に好ましい。 In addition, although the substituent which each group mentioned above as R < 2 > may have is mentioned later, as each group mentioned above, what does not have a substituent is especially preferable.

一般式(I)において、Yはフェニル基または芳香族複素環単環由来の1価の基に、1以上の環が縮合してなる縮合環基を表し、該縮合環基は置換基を有していてもよい。一般式(I)で表される化合物は、前述したように、−(C=O)−基を介してYに含まれるフェニル基または芳香族複素環の部分とXの一部とで、ベンゾフェノン構造またはその類似構造を形成するため、好ましい。   In general formula (I), Y represents a condensed ring group formed by condensing one or more rings to a monovalent group derived from a phenyl group or an aromatic heterocyclic monocycle, and the condensed ring group has a substituent. You may do it. As described above, the compound represented by the general formula (I) is a benzophenone having a phenyl group or an aromatic heterocyclic part contained in Y via a — (C═O) — group and a part of X. This is preferable because it forms a structure or a similar structure.

また前述したように、一般式(I)で表される化合物は、ベンゾフェノン構造またはこれに類似の構造が、分子内での空間的回転により、オキシム構造部とオーバーラップしやすい化合物であるため、分子内での効率的なエネルギー移動が可能となり、より高感度を達成することができるので好ましい。   In addition, as described above, the compound represented by the general formula (I) is a compound in which the benzophenone structure or a similar structure is likely to overlap with the oxime structure portion due to spatial rotation in the molecule. It is preferable because efficient energy transfer within the molecule is possible and higher sensitivity can be achieved.

Yが、フェニル基に1以上の環が縮合してなる縮合環基である場合、該フェニル基の2,3−位、3,4−位および4,5−位から選ばれた少なくとも1箇所に、5または6員環が1〜3個縮合してなる2〜4縮合環由来の基であることが好ましい。また、Yにおけるフェニル基に縮合する環は、炭化水素環であるか、芳香族炭化水素環および/または芳香族複素環であることが好ましい。Yにおけるフェニル基に縮合する環は、量子収率が高い点からは、炭化水素環であることが好ましく、また吸光波長が幅広くなる点からは芳香族環であることが好ましい。   When Y is a condensed ring group formed by condensing one or more rings to a phenyl group, at least one position selected from 2,3-position, 3,4-position and 4,5-position of the phenyl group In addition, a group derived from 2 to 4 condensed rings formed by condensing 1 to 5 5- or 6-membered rings is preferable. Further, the ring condensed with the phenyl group in Y is preferably a hydrocarbon ring, an aromatic hydrocarbon ring and / or an aromatic heterocyclic ring. The ring condensed with the phenyl group in Y is preferably a hydrocarbon ring from the viewpoint of high quantum yield, and is preferably an aromatic ring from the viewpoint of widening the absorption wavelength.

Yの具体例としては、ナフタレン環、アントラセン環、クリセン環、フェナントレン環、アズレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、インデン環等の2縮合環以上の芳香族炭化水素環由来の基、またはアクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、カルバゾール環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、ベンゾチアゾール環等の芳香族炭化水素環と芳香族複素環からなる縮合環由来の基が挙げられる。   Specific examples of Y include a naphthalene ring, anthracene ring, chrysene ring, phenanthrene ring, azulene ring, fluorene ring, acenaphthylene ring, a group derived from an aromatic hydrocarbon ring such as an indene ring, or an acridine ring, Examples thereof include a group derived from a condensed ring composed of an aromatic hydrocarbon ring such as a phenanthridine ring, a xanthene ring, a carbazole ring, a phenazine ring, a phenothiazine ring, a phenoxazine ring and a benzothiazole ring, and an aromatic heterocycle.

またYは、芳香族複素環由来の1価の基に、1以上の環が縮合してなる縮合環基であってもよい。この場合、「芳香族炭化水素環と芳香族複素環からなる縮合環」由来の基であり、芳香族複素環から結合手が伸びている基が挙げられる。   Y may be a condensed ring group obtained by condensing one or more rings to a monovalent group derived from an aromatic heterocycle. In this case, a group derived from “a condensed ring composed of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle” and a group in which a bond extends from the aromatic heterocycle can be mentioned.

Yとしては、2〜4縮合環基が好ましく、分子量が大きくなりすぎない点からは、2〜3縮合環基がより好ましく、2縮合環基が特に好ましい。なお、Yが3〜4縮合環由来の基である場合には、吸収波長域が比較的長波長化し、安価な光源にも適応するため、工業的には好ましい。
Yとしては、2縮合環基の中でも、ナフチル基が最も好ましい。
Y is preferably a 2-4 condensed ring group, more preferably a 2-3 condensed ring group, and particularly preferably a 2 condensed ring group from the viewpoint that the molecular weight does not become too large. In addition, when Y is a group derived from a 3-4 condensed ring, it is industrially preferable because the absorption wavelength region becomes relatively long and adapts to an inexpensive light source.
Y is most preferably a naphthyl group among the two condensed ring groups.

上述したYにおける縮合環基が有していてもよい置換基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基等の炭素数1〜20のアルキルチオ基;−SOR(但し、Rはメチル基、エチル基等の炭素数1〜20のアルキル基)で表されるスルホン酸アルキルエステル基;ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等の炭素数5〜20のアルコキシ基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数5〜20のシクロアルキル基;シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数5〜20のシクロアルキルオキシ基;モルホリノ基、ピペリジノ基等の原子数5〜20の環状アミノ基;ジイソプロピルアミノ基、ジ−t−ブチルアミノ基等の炭素数4〜20であるジアルキルアミノ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;ピリジル基等のヘテロアリール基;Cl、Br、I、F等のハロゲン原子、等が挙げられる。
この中でもアルコキシ基、−SOR、環状アミノ基またはジアルキルアミノ基が好ましく、より感度が向上する点から、環状アミノ基またはジアルキルアミノ基が特に好ましい。
Examples of the substituent which the condensed ring group in Y described above may have include, for example, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms such as a methylthio group and an ethylthio group; —SO 3 R (where R is a methyl group or an ethyl group) Alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; alkoxy group having 5 to 20 carbon atoms such as pentyloxy group and hexyloxy group; and 5 to 5 carbon atoms such as cyclopentyl group and cyclohexyl group. A cycloalkyloxy group having 20 to 20 carbon atoms such as a cyclopentyloxy group and a cyclohexyloxy group; a cyclic amino group having 5 to 20 atoms such as a morpholino group and a piperidino group; a diisopropylamino group and a di-t A dialkylamino group having 4 to 20 carbon atoms such as a butylamino group; an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group; Heteroaryl group such; Cl, Br, I, halogen atom such as F, and the like.
Among these, an alkoxy group, —SO 3 R, a cyclic amino group, or a dialkylamino group is preferable, and a cyclic amino group or a dialkylamino group is particularly preferable from the viewpoint of improving sensitivity.

一般式(I)で表される化合物のうち特に好ましい形態である、Xが置換基を有していてもよいカルバゾール環由来の基である化合物は、例えば下記一般式(III)で表される。   Among the compounds represented by the general formula (I), a compound in which X is a group derived from a carbazole ring which may have a substituent, which is a particularly preferred form, is represented by, for example, the following general formula (III) .

Figure 2008179611
〔式中、R1、R2およびYは、前記一般式(I)におけると同義である。R3〜R9は各々独立に水素原子または後述する任意の置換基Zを表す。〕
Figure 2008179611
[Wherein, R 1 , R 2 and Y have the same meanings as in the general formula (I). R 3 to R 9 each independently represent a hydrogen atom or an optional substituent Z described later. ]

前述した一般式(I)におけるXが有しうる置換基(一般式(i)におけるベンゼン環Xとこれに縮合する環Xが有しうる置換基)、一般式(I)、(i)および(III)におけるR1およびR2が有しうる置換基、並びに一般式(III)におけるR3〜R9としては、各々独立に、次の置換基Zから選ばれるものが挙げられる。 Substituents that X in the general formula (I) can have (substituents that the benzene ring X 1 in general formula (i) and the ring X 2 condensed thereto can have), general formulas (I), (i ) And (III) R 1 and R 2 may have a substituent, and R 3 to R 9 in the general formula (III) are each independently selected from the following substituents Z.

[置換基群Z]
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;水酸基;ニトロ基;シアノ基;任意の有機基などを挙げることができる。
その任意の有機基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、アミル基、t−アミル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、t−オクチル基等の炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数3〜18のシクロアルキル基;ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数2〜18の直鎖または分岐のアルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数3〜18のシクロアルケニル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−アミルオキシ基、t−アミルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、t−オクチルオキシ基等の炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、n−ブチルチオ基、s−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−アミルチオ基、t−アミルチオ基、n−ヘキシルチオ基、n−ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、t−オクチルチオ基等の炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキルチオ基;フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数6〜18のアルキル基で置換されていてもよいアリール基;ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜18のアラルキル基;ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等の炭素数2〜18の直鎖または分岐のアルケニルオキシ基;ビニルチオ基、プロペニルチオ基、ヘキセニルチオ基等の炭素数2〜18の直鎖または分岐のアルケニルチオ基;−COR17で表されるアシル基;カルボキシル基;−OCOR18で表されるアシルオキシ基;−NR1920で表されるアミノ基;−NHCOR21で表されるアシルアミノ基;−NHCOOR22で表されるカーバメート基;−CONR2324で表されるカルバモイル基;−COOR25で表されるカルボン酸エステル基;−SO3NR2627で表されるスルファモイル基;−SO328で表されるスルホン酸エステル基;2−チエニル基、2−ピリジル基、フリル基、オキサゾリル基、ベンゾキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリノ基、ピロリジニル基、テトラヒドロチオフェンジオキサイド基等の飽和もしくは不飽和の芳香族複素環基、トリメチルシリル基などのトリアルキルシリル基等が挙げられる。
[Substituent group Z]
Halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom; hydroxyl group; nitro group; cyano group; any organic group.
The arbitrary organic groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, amyl group, t-amyl group, n-hexyl group, n- C1-C18 linear or branched alkyl groups such as heptyl, n-octyl and t-octyl; C3-C18 such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and adamantyl A linear or branched alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms such as a vinyl group, a propenyl group or a hexenyl group; a cycloalkenyl group having 3 to 18 carbon atoms such as a cyclopentenyl group or a cyclohexenyl group; a methoxy group Ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, t-butoxy group, n-amyloxy group a linear or branched alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms such as a t-amyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, t-octyloxy group; methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, isopropylthio group, n-butylthio group, s-butylthio group, t-butylthio group, n-amylthio group, t-amylthio group, n-hexylthio group, n-heptylthio group, n-octylthio group, t A linear or branched alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms such as an octylthio group; an aryl group optionally substituted with an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, or a mesityl group; Aralkyl groups having 7 to 18 carbon atoms such as benzyl group and phenethyl group; vinyloxy group, propenyloxy group, hexenyloxy group Linear or branched alkenyloxy group having 2 to 18 carbon atoms; represented by -COR 17; vinylthio group, propenylthio group, alkenylthio group linear or branched 2 to 18 carbon atoms such as hexenyl thio group Carboxyl group; acyloxy group represented by —OCOR 18 ; amino group represented by —NR 19 R 20 ; acylamino group represented by —NHCOR 21 ; carbamate group represented by —NHCOOR 22 ; A carbamoyl group represented by 23 R 24 ; a carboxylic acid ester group represented by —COOR 25 ; a sulfamoyl group represented by —SO 3 NR 26 R 27 ; a sulfonic acid ester group represented by —SO 3 R 28 ; 2-thienyl, 2-pyridyl, furyl, oxazolyl, benzoxazolyl, thiazolyl, benzothiazolyl, morpholino, pyrrolidi Examples thereof include saturated or unsaturated aromatic heterocyclic groups such as nyl group and tetrahydrothiophene dioxide group, and trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl group.

なお、前記のR17〜R28は、各々水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルカノイル基、置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基、または置換されていてもよいアラルキル基を表す。これらの位置関係は特に限定されず、複数の置換基を有する場合、同種でも異なっていてもよい。 R 17 to R 28 are each a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkanoyl group, an optionally substituted alkylcarbonyloxy group, or optionally substituted. An alkenyl group, an optionally substituted aryl group, or an optionally substituted aralkyl group is represented. These positional relationships are not particularly limited, and when they have a plurality of substituents, they may be the same or different.

上記において、複数の置換基同士が結合して環を形成してもよく、形成された環は飽和あるいは不飽和の芳香族炭化水素環あるいは芳香族複素環であってもよく、環上にさらに各々置換基を有していてよく、置換基がさらに環を形成してもよい。   In the above, a plurality of substituents may be bonded to each other to form a ring, and the formed ring may be a saturated or unsaturated aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring, and further on the ring. Each may have a substituent, and the substituent may further form a ring.

一般式(III)において、R3〜R9は各々独立に水素原子または上記置換基群Zから選ばれるものであるが、置換基群Zのうち、好ましくは、置換基を有していてもよい、メチル基、エチル基等の炭素数1〜20のアルキル基;置換基を有していてもよいフェニル基等の炭素数6〜20のアリール基;置換基を有していてもよいピリジル基等の炭素数3〜20のヘテロアリール基;置換基を有していてもよい炭素数7〜18のアラルキル基;置換基を有していてもよいトリアルキルシリル基が挙げられ、特に好ましくは、アルキル基である。 In the general formula (III), R 3 to R 9 are each independently selected from a hydrogen atom or the above substituent group Z, and among the substituent group Z, it may preferably have a substituent. An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group; an aryl group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group which may have a substituent; pyridyl which may have a substituent A heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms such as a group; an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms which may have a substituent; and a trialkylsilyl group which may have a substituent are particularly preferable. Is an alkyl group.

なお、前記一般式(I)におけるXが有しうる置換基(一般式(i)におけるベンゼン環Xとこれに縮合する環Xが有しうる置換基)として好ましいものは、上記R3〜R9として好ましいものと同様である。 In addition, what is preferable as the substituent which X in the general formula (I) may have (the benzene ring X 1 in the general formula (i) and the ring X 2 condensed thereto) may have the above R 3. it is the same as those preferred to R 9.

が有しうる置換基としては、−NR1920で表されるアミノ基およびアリール基が好ましく、R19およびR20としては置換されていてもよいアルカノイル基、置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基が好ましい。前述したように、組成物の密着性向上にも有効であることから、N−アセチル−N−アセトキシアミノ基などの−NR1920で表されるアミノ基が特に好ましい。 As the substituent that R 1 may have, an amino group and an aryl group represented by —NR 19 R 20 are preferable, and R 19 and R 20 may be an alkanoyl group that may be substituted, or may be substituted. An alkylcarbonyloxy group is preferred. As described above, an amino group represented by —NR 19 R 20 such as an N-acetyl-N-acetoxyamino group is particularly preferable because it is effective for improving the adhesion of the composition.

本発明の一般式(I)で表される化合物のうち、最も好ましいのは、下記一般式(II)で表される化合物である。   Of the compounds represented by the general formula (I) of the present invention, the compound represented by the following general formula (II) is most preferable.

Figure 2008179611
Figure 2008179611

〔式中、R1は、炭素数1〜3のアルキル基、または下記式(IIa)で表される基を表す。

Figure 2008179611
(式中、R101およびR102は各々独立に、水素原子、フェニル基またはN−アセチル−N−アセトキシアミノ基を表す。)
2は、炭素数2〜4のアルカノイル基を示し、Xは、窒素原子が炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい2価のカルバゾリル基を表す。Yaは、モルホリノ基で置換されていてもよいナフチル基を示す。〕 [Wherein, R 1 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a group represented by the following formula (IIa).
Figure 2008179611
(Wherein R 101 and R 102 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or an N-acetyl-N-acetoxyamino group.)
R 2 represents an alkanoyl group having 2 to 4 carbon atoms, and X represents a divalent carbazolyl group in which a nitrogen atom may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Y a represents a naphthyl group which may be substituted with a morpholino group. ]

本発明に好適な光重合開始剤の具体例を以下に例示するが、本発明で用いる光重合開始剤は、何ら以下のものに限定するものではない。なお、以下において、Meはメチル基を表す。   Specific examples of the photopolymerization initiator suitable for the present invention are illustrated below, but the photopolymerization initiator used in the present invention is not limited to the following. In the following, Me represents a methyl group.

Figure 2008179611
Figure 2008179611

Figure 2008179611
Figure 2008179611

Figure 2008179611
Figure 2008179611

本発明の光重合開始剤としては、前記一般式(I)で表されるオキシムエステル系化合物の1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。また、これらのオキシムエステル系化合物(I)と、他の光重合開始剤とを併用することもでき、場合によっては併用による高感度化が期待できる。本発明に係るオキシムエステル系化合物(I)と併用し得る他の光重合開始剤化合物としては、以下のような化合物を挙げることができる。   As a photoinitiator of this invention, 1 type of the oxime ester type compound represented by the said general formula (I) may be used independently, and 2 or more types may be used together. In addition, these oxime ester compounds (I) and other photopolymerization initiators can be used in combination, and in some cases, high sensitivity can be expected by the combined use. Examples of other photopolymerization initiator compounds that can be used in combination with the oxime ester compound (I) according to the present invention include the following compounds.

例えば、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシカルボニルナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等のハロメチル化トリアジン誘導体、2−トリクロロメチル−5−(2′−ベンゾフリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−〔β−(2′−ベンゾフリル)ビニル〕−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−〔β−(2′−(6″−ベンゾフリル)ビニル)〕−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−フリル−1,3,4−オキサジアゾール等のハロメチル化オキサジアゾール誘導体、2−(2′−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(2′−クロロフェニル)−4,5−ビス(3′−メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2−(2′−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(2′−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、(4′−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体等のイミダゾール誘導体、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル類、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチル−(4′−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、9−フェニルアクリジン、9−(p−メトキシフェニル)アクリジン等のアクリジン誘導体、9,10−ジメチルベンズフェナジン等のフェナジン誘導体、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ジクロライド、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル)、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル)、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル)、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ビス−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル)、ビス−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル)、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−ジ−フルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル等のチタノセン誘導体等が挙げられる。   For example, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- Halomethylated triazine derivatives such as (4-ethoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxycarbonylnaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 2-trichloromethyl-5- (2′-benzofuryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [β- (2′-benzofuryl) vinyl] -1,3,4- Oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [β- (2 '-(6 "-benzofuryl) vinyl)]-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl Halomethylated oxadiazole derivatives such as -5-furyl-1,3,4-oxadiazole, 2- (2'-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'-chlorophenyl) -4,5-bis (3'-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (2'-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'-methoxyphenyl) -4, 5-diphenylimidazole dimer, imidazole derivatives such as (4'-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, benzoin alkyl ethers such as benzoin methyl ether, benzoin phenyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin isopropyl ether 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, -Anthraquinone derivatives such as t-butylanthraquinone and 1-chloroanthraquinone, benzanthrone derivatives, benzophenone, Michler's ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2- Benzophenone derivatives such as carboxybenzophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1- Methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-mol Acetophenone derivatives such as holino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone Thioxanthone derivatives such as 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone, benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 9- (p- Acridine derivatives such as methoxyphenyl) acridine, phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, bis-cyclopentadienyl-Ti-dichloride, bis-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, Su-cyclopentadienyl-Ti-bis- (2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-bis- (2,3,5,6 -Tetrafluorophen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-bis- (2,4,6-trifluorophen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-2,6- Di-fluorophen-1-yl, bis-cyclopentadienyl-Ti-2,4-di-fluorophen-1-yl, bis-methylcyclopentadienyl-Ti-bis- (2,3,4, 5,6-pentafluorophen-1-yl), bis-methylcyclopentadienyl-Ti-bis- (2,6-di-fluorophen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-2 , 6-Di-fluoro-3 (Pill-1-yl) - titanocene derivatives of 1-yl and the like, and the like.

本発明の光重合性組成物には、上記光重合開始剤成分以外に、さらに増感色素を加えることもできる。高遮光性の樹脂組成物中で光重合反応を起こさせるためには、増感色素を添加するのは好ましい。   In addition to the photopolymerization initiator component, a sensitizing dye can be further added to the photopolymerizable composition of the present invention. In order to cause a photopolymerization reaction in a highly light-shielding resin composition, it is preferable to add a sensitizing dye.

このような増感色素としては、例えば特開平3−239703号公報、特開平5−289335号公報に記載の複素環を有するクマリン化合物、特開昭63−221110号公報に記載の3−ケトクマリン化合物、特開平4−221958号公報、特開平4−219756号公報に記載のキサンテン色素、特開平6−19240号公報に記載のピロメテン色素、特開昭47−2528号公報、特開昭54−155292号公報、特開昭56−166154号公報、特開昭59−56403号公報に記載の(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトン、スチリル系色素、特開平6−295061号公報に記載のジュロリジル基を有する増感色素、特開平11−326624号公報に記載のジアミノベンゼン化合物等を挙げることができる。   Examples of such a sensitizing dye include a coumarin compound having a heterocyclic ring described in JP-A-3-239703 and JP-A-5-289335, and a 3-ketocoumarin compound described in JP-A 63-221110. Xanthene dyes described in JP-A-4-221958 and JP-A-4-219756, pyromethene dyes described in JP-A-6-19240, JP-A-47-2528, JP-A-54-155292. (P-dialkylaminobenzylidene) ketone and styryl dye described in JP-A-56-166154 and JP-A-59-56403, and a julolidyl group described in JP-A-6-295061. Examples thereof include sensitizing dyes and diaminobenzene compounds described in JP-A No. 11-326624.

これらの増感色素のなかで特に好ましいのは、アミノ基含有増感色素およびキサンテン色素である。   Of these sensitizing dyes, amino group-containing sensitizing dyes and xanthene dyes are particularly preferable.

(C)光重合性単量体
本発明で用いる光重合性単量体としては、エチレン性不飽和基を一個以上有する化合物(以下、エチレン性化合物という)が使用される。具体的には、脂肪族(ポリ)ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、芳香族(ポリ)ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物により得られるエステル、芳香族ポリヒドロキシ化合物のエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加物と不飽和カルボン酸とのエステル化反応物、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のエチレンオキシド、カプロラクトン変性多価アルコールと不飽和カルボン酸とのエステル、多価アルコールと多価イソシアナートと不飽和カルボン酸との反応物、スチリル末端化合物、含リン酸不飽和化合物、ポリエポキシと不飽和カルボン酸との付加物等が挙げられる。
(C) Photopolymerizable monomer As the photopolymerizable monomer used in the present invention, a compound having one or more ethylenically unsaturated groups (hereinafter referred to as an ethylenic compound) is used. Specifically, ester of aliphatic (poly) hydroxy compound and unsaturated carboxylic acid, ester of aromatic (poly) hydroxy compound and unsaturated carboxylic acid, unsaturated carboxylic acid, polyvalent carboxylic acid and aliphatic poly Esters obtained from hydroxy compounds, ethylene oxide of aromatic polyhydroxy compounds, esterification reaction products of propylene oxide adducts and unsaturated carboxylic acids, ethylene oxides of aliphatic polyhydroxy compounds, caprolactone-modified polyhydric alcohols and unsaturated carboxylic acids Esters, polyhydric alcohols, polyisocyanates and unsaturated carboxylic acids, styryl-terminated compounds, phosphoric acid unsaturated compounds, polyepoxy and unsaturated carboxylic acid adducts, and the like.

これらのうち、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては具体的には、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等のアクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロトネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等が挙げられる。   Among these, specific examples of the ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, hexanediol diacrylate, trimethylol propane tri Acrylate esters such as acrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, glycerol acrylate, etc. Methacrylic acid with the acrylate of the exemplified compound replaced with methacrylate Ether, similarly itaconic acid ester instead itaconate, maleic acid esters, and the like was replaced with crotonic acid ester or maleate was replaced crotonate.

芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げられる。   Examples of the ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate.

不飽和カルボン酸と多価カルボン酸および多価ヒドロキシ化合物との反応により得られるエステルの、代表的な具体例としては、(メタ)アクリル酸、フタル酸およびエチレングリコールの縮合物、(メタ)アクリル酸、マレイン酸およびジエチレングリコールの縮合物、(メタ)アクリル酸、テレフタル酸およびペンタエリスリトールの縮合物、(メタ)アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオールおよびグリセリンの縮合物等が挙げられる。これらは、必ずしも単一物では無く、複数の類似構造をもつ化合物の混合物である場合もある。   Typical examples of esters obtained by reacting unsaturated carboxylic acids with polyvalent carboxylic acids and polyvalent hydroxy compounds include (meth) acrylic acid, phthalic acid and ethylene glycol condensates, (meth) acrylic. Examples include condensates of acids, maleic acid and diethylene glycol, condensates of (meth) acrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, condensates of (meth) acrylic acid, adipic acid, butanediol and glycerin. These are not necessarily a single substance, but may be a mixture of compounds having a plurality of similar structures.

その他、本発明に用いられるエチレン性化合物の例としては、エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物なども有用である。   In addition, as examples of the ethylenic compound used in the present invention, acrylamides such as ethylene bisacrylamide; allyl esters such as diallyl phthalate; vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate are also useful.

以上挙げたエチレン性化合物の中で好ましいものは、(メタ)アクリロイル基、さらに好ましくはアクリロイル基を有するものである。このような化合物としてトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。   Among the ethylenic compounds listed above, preferred are those having a (meth) acryloyl group, more preferably an acryloyl group. Such compounds include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc. Is mentioned.

これらの光重合性単量体は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   These photopolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

(D)色材
本発明の光重合性組成物において色材は必須の成分ではないが、多くの用途において色材を組合わせて利用する。ここで、色材とは光重合性組成物を着色する成分をいう。
(D) Coloring material In the photopolymerizable composition of the present invention, a coloring material is not an essential component, but is used in combination in many applications. Here, the colorant refers to a component that colors the photopolymerizable composition.

色材としては、染顔料が使用できるが、耐熱性、耐光性等の点から顔料が好ましい。顔料としては青色顔料、緑色顔料、赤色顔料、黄色顔料、紫色顔料、オレンジ顔料、ブラウン顔料、黒色顔料等各種の色の顔料を使用することができる。また、その構造としてはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、インダンスレン系、ペリレン系等の有機顔料の他に種々の無機顔料等も利用可能である。以下、使用できる顔料の具体例をピグメントナンバーで示す。以下に挙げる「C.I.ピグメントレッド2」等の用語は、カラーインデックス(C.I.)を意味する。   As the coloring material, dyes and pigments can be used, but pigments are preferable from the viewpoint of heat resistance, light resistance and the like. As the pigment, various color pigments such as a blue pigment, a green pigment, a red pigment, a yellow pigment, a purple pigment, an orange pigment, a brown pigment, and a black pigment can be used. In addition to organic pigments such as azo, phthalocyanine, quinacridone, benzimidazolone, isoindolinone, dioxazine, indanthrene, and perylene, various inorganic pigments can be used. It is. Hereinafter, specific examples of usable pigments are indicated by pigment numbers. Terms such as “CI Pigment Red 2” mentioned below mean the color index (CI).

赤色顔料としては、C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、7、8、9、12、14、15、16、17、21、22、23、31、32、37、38、41、47、48、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、50:1、52:1、52:2、53、53:1、53:2、53:3、57、57:1、57:2、58:4、60、63、63:1、63:2、64、64:1、68、69、81、81:1、81:2、81:3、81:4、83、88、90:1、101、101:1、104、108、108:1、109、112、113、114、122、123、144、146、147、149、151、166、168、169、170、172、173、174、175、176、177、178、179、181、184、185、187、188、190、193、194、200、202、206、207、208、209、210、214、216、220、221、224、230、231、232、233、235、236、237、238、239、242、243、245、247、249、250、251、253、254、255、256、257、258、259、260、262、263、264、265、266、267、268、269、270、271、272、273、274、275、276を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントレッド48:1、122、168、177、202、206、207、209、224、242、254、さらに好ましくはC.I.ピグメントレッド177、209、224、254を挙げることができる。   Examples of red pigments include C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53, 53: 1, 53: 2, 53: 3, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 4, 60, 63, 63: 1, 63: 2, 64, 64: 1, 68, 69, 81, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 81: 4, 83, 88, 90: 1, 101, 101: 1, 104, 108, 108: 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 17 , 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276. Of these, C.I. I. Pigment Red 48: 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, more preferably C.I. I. Pigment red 177, 209, 224, 254.

青色顔料としては、C.I.ピグメントブルー1、1:2、9、14、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、17、19、25、27、28、29、33、35、36、56、56:1、60、61、61:1、62、63、66、67、68、71、72、73、74、75、76、78、79を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、さらに好ましくはC.I.ピグメントブルー15:6を挙げることができる。   Examples of blue pigments include C.I. I. Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56: 1, 60, 61, 61: 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79. Of these, C.I. I. Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, more preferably C.I. I. Pigment blue 15: 6.

緑色顔料としては、C.I.ピグメントグリーン1、2、4、7、8、10、13、14、15、17、18、19、26、36、45、48、50、51、54、55を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントグリーン7、36を挙げることができる。   Examples of green pigments include C.I. I. Pigment green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55. Of these, C.I. I. And CI Pigment Green 7 and 36.

黄色顔料としては、C.I.ピグメントイエロー1、1:1、2、3、4、5、6、9、10、12、13、14、16、17、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、41、42、43、48、53、55、61、62、62:1、63、65、73、74、75,81、83、87、93、94、95、97、100、101、104、105、108、109、110、111、116、117、119、120、126、127、127:1、128、129、133、134、136、138、139、142、147、148、150、151、153、154、155、157、158、159、160、161、162、163、164、165、166、167、168、169、170、172、173、174、175、176、180、181、182、183、184、185、188、189、190、191、191:1、192、193、194、195、196、197、198、199、200、202、203、204、205、206、207、208を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントイエロー83、117、129、138、139、150、154、155、180、185、さらに好ましくはC.I.ピグメントイエロー83、138、139、150、180を挙げることができる。   Examples of yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62: 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 17 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191: 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202 , 203, 204, 205, 206, 207, 208. Of these, C.I. I. Pigment yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, more preferably C.I. I. Pigment yellow 83, 138, 139, 150, 180.

オレンジ顔料としては、C.I.ピグメントオレンジ1、2、5、13、16、17、19、20、21、22、23、24、34、36、38、39、43、46、48、49、61、62、64、65、67、68、69、70、71、72、73、74、75、77、78、79を挙げることができる。この中でも、好ましくは、C.I.ピグメントオレンジ38、71を挙げることができる。   Examples of orange pigments include C.I. I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79. Of these, C.I. I. And CI pigment oranges 38 and 71.

紫色顔料としては、C.I.ピグメントバイオレット1、1:1、2、2:2、3、3:1、3:3、5、5:1、14、15、16、19、23、25、27、29、31、32、37、39、42、44、47、49、50を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントバイオレット19、23、さらに好ましくはC.I.ピグメントバイオレット23を挙げることができる。   Examples of purple pigments include C.I. I. Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50. Of these, C.I. I. Pigment violet 19, 23, more preferably C.I. I. And CI Pigment Violet 23.

黒色顔料としては、単独の黒色顔料、または赤、緑、青色等の混合による黒色顔料が使用可能である。これら黒色顔料は、無機または有機の顔料、染料の中から適宜選択することができ、単独使用もしくは複数種混合して使用することができる。   As the black pigment, a single black pigment or a black pigment obtained by mixing red, green, blue, or the like can be used. These black pigments can be appropriately selected from inorganic or organic pigments and dyes, and can be used alone or in combination.

単独の黒色顔料としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラック等が挙げられる。これらの中で、特にカーボンブラック、チタンブラックが遮光率、画像特性の観点から好ましい。カーボンブラックの市販品の例としては、以下のような銘柄が挙げられる。   Examples of the single black pigment include carbon black, acetylene black, lamp black, bone black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black, and titanium black. Among these, carbon black and titanium black are particularly preferable from the viewpoints of light shielding rate and image characteristics. Examples of commercially available carbon black include the following brands.

三菱化学社製:MA7、MA8、MA11、MA100、MA220、MA230、#52、#50、#47、#45、#2700、#2650、#2200、#1000、#990、#900等。   Mitsubishi Chemical Corporation: MA7, MA8, MA11, MA100, MA220, MA230, # 52, # 50, # 47, # 45, # 2700, # 2650, # 2200, # 1000, # 990, # 900, etc.

デグサ社製:Printex95、Printex90、Printex85、Printex75、Printex55、Printex45、Printex40、Printex30、Printex3、PrintexA、PrintexG、Special Black550、Special Black350、Special Black250、Special Black100等。   Made by Degussa: Printex95, Printex90, Printex85, Printex75, Printex55, Printex45, Printex40, Printex30, Printex3, PrintexA, PrintexG, Special BlackS, 350c, p

キャボット社製:Monarch460、Monarch430、Monarch280、Monarch120、Monarch800、Monarch4630、REGAL99、REGAL99R、REGAL415、REGAL415R、REGAL250、REGAL250R、REGAL330、BLACK PEARLS480、PEARLS130等。   Manufactured by Cabot Corporation: Monarch 460, Monarch 430, Monarch 280, Monarch 120, Monarch 800, Monarch 4630, REGAL99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, BLACK PEARLS480, PEARLS480, etc.

コロンビヤンカーボン社製:RAVEN11、RAVEN15、RAVEN30、RAVEN35、RAVEN40、RAVEN410、RAVEN420、RAVEN450、RAVEN500、RAVEN780、RAVEN850、RAVEN890H、RAVEN1000、RAVEN1020、RAVEN1040等。   Made by Colombian Carbon: Raven11, Raven15, Raven30, Raven35, Raven40, Raven410, Raven420, Raven450, Raven500, Raven780, Raven850, Raven890H, Raven1000, Raven1020, Raven1040 and the like.

次に、混合による黒色顔料について説明する。混合のベースとなる色材の具体例としては、ビクトリアピュアブルー(42595)、オーラミンO(41000)、カチロンブリリアントフラビン(ベーシック13)、ローダミン6GCP(45160)、ローダミンB(45170)、サフラニンOK70:100(50240)、エリオグラウシンX(42080)、No.120/リオノールイエロー(21090)、リオノールイエローGRO(21090)、シムラーファーストイエロー8GF(21105)、ベンジジンイエロー4T−564D(21095)、シムラーファーストレッド4015(12355)、リオノールレッド7B4401(15850)、ファーストゲンブルーTGR−L(74160)、リオノールブルーSM(26150)、リオノールブルーES(ピグメントブルー15:6)、リオノーゲンレッドGD(ピグメントレッド168)、リオノールグリーン2YS(ピグメントグリーン36)等が挙げられる(なお、上記の( )内の数字は、カラーインデックス(C.I.)を意味する)。   Next, the black pigment by mixing will be described. Specific examples of the color material used as a base for mixing include Victoria Pure Blue (42595), Auramine O (41000), Catillon Brilliant Flavin (Basic 13), Rhodamine 6GCP (45160), Rhodamine B (45170), Safranin OK70: 100 (50240), Erioglaucine X (42080), no. 120 / Lionol Yellow (21090), Lionol Yellow GRO (21090), Shimla First Yellow 8GF (21105), Benzidine Yellow 4T-564D (21095), Shimler First Red 4015 (12355), Lionol Red 7B4401 (15850), Fast Gen Blue TGR-L (74160), Lionol Blue SM (26150), Lionol Blue ES (Pigment Blue 15: 6), Lionogen Red GD (Pigment Red 168), Lionol Green 2YS (Pigment Green 36), etc. (The numbers in parentheses above mean the color index (CI)).

また、さらに他の混合使用可能な顔料についてC.I.ナンバーにて示すと、例えば、C.I.黄色顔料20,24,86,93,109,110,117,125,137,138,147,148,153,154,166、C.I.オレンジ顔料36,43,51,55,59,61、C.I.赤色顔料9,97,122,123,149,168,177,180,192,215,216,217,220,223,224,226,227,228,240、C.I.バイオレット顔料19,23,29,30,37,40,50、C.I.青色顔料15,15:1,15:4,22,60,64、C.I.緑色顔料7、C.I.ブラウン顔料23,25,26等を挙げることができる。   In addition, other pigments that can be used in combination are C.I. I. For example, C.I. I. Yellow pigments 20, 24, 86, 93, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 147, 148, 153, 154, 166, C.I. I. Orange pigments 36, 43, 51, 55, 59, 61, C.I. I. Red pigments 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, C.I. I. Violet pigments 19, 23, 29, 30, 37, 40, 50, C.I. I. Blue pigment 15, 15: 1, 15: 4, 22, 60, 64, C.I. I. Green pigment 7, C.I. I. Examples thereof include brown pigments 23, 25, and 26.

なお、上記のカーボンブラックは、他の黒色または有色の無機、有機顔料と併用してもよい。他の顔料は、カーボンブラックより遮光性または画像特性が低いため自ずと混合比率は制限される。   The carbon black may be used in combination with other black or colored inorganic or organic pigments. Other pigments naturally have a light shielding property or image characteristic lower than that of carbon black, so the mixing ratio is naturally limited.

チタンブラックの製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法(特開昭49−5432号公報)、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを水素を含む還元雰囲気中で還元する方法(特開昭57−205322号公報)、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法(特開昭60−65069号公報、特開昭61−201610号公報)、二酸化チタンまたは水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法(特開昭61−201610号公報)などがあるが、これらに限定されるものではない。   Titanium black is produced by heating a mixture of titanium dioxide and metal titanium in a reducing atmosphere (Japanese Patent Laid-Open No. 49-5432), ultrafine dioxide obtained by high-temperature hydrolysis of titanium tetrachloride. A method of reducing titanium in a reducing atmosphere containing hydrogen (Japanese Patent Laid-Open No. 57-205322), a method of reducing titanium dioxide or titanium hydroxide at a high temperature in the presence of ammonia (Japanese Patent Laid-Open No. 60-65069, Japanese Patent Laid-Open No. Sho 61-201610), a method in which a vanadium compound is attached to titanium dioxide or titanium hydroxide and reduced at a high temperature in the presence of ammonia (Japanese Patent Laid-Open No. 61-201610), etc. is not.

チタンブラックの市販品の例としては、三菱マテリアル社製チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M−Cなどが挙げられる。   Examples of commercially available titanium black include Titanium Black 10S, 12S, 13R, 13M, and 13M-C manufactured by Mitsubishi Materials Corporation.

これらの色材は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   These color materials may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光重合性組成物は、前述したように様々な用途に使用することができるが、その照射光に対する高い感度や、優れた画像形成性は、カラーフィルター用ブラックマトリックスの形成に使用した場合に、特に効果的である。ブラックマトリックス形成に使用する場合には、(D)色材として、前述したカーボンブラックやチタンブラック等の黒色顔料を使用するか、黒色以外の顔料を複数種類混合し、黒色に調整して使用すればよい。   As described above, the photopolymerizable composition of the present invention can be used for various applications, but its high sensitivity to irradiation light and excellent image forming properties were used for forming a black matrix for a color filter. It is particularly effective when. When using for black matrix formation, (D) Use the black pigments such as carbon black and titanium black described above as the color material, or mix multiple types of pigments other than black and adjust to black. That's fine.

(E)溶剤
本発明の光重合性組成物は、通常、(A)有機結合剤、(B)光重合開始剤、(C)光重合性単量体と、必要に応じて配合される(D)色材や後述する任意成分を(E)溶剤に溶かした状態で使用される。
(E) Solvent The photopolymerizable composition of the present invention is usually blended with (A) an organic binder, (B) a photopolymerization initiator, (C) a photopolymerizable monomer, if necessary ( D) Used in a state in which a coloring material and optional components described later are dissolved in (E) a solvent.

(E)溶剤としては、組成物を構成する各成分を溶解または分散させることができるもので、沸点が100〜200℃の範囲のものを選択するのが好ましい。より好ましくは120〜170℃の沸点をもつものである。   (E) As a solvent, it is possible to dissolve or disperse each component constituting the composition, and it is preferable to select a solvent having a boiling point in the range of 100 to 200 ° C. More preferably, it has a boiling point of 120-170 ° C.

このような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3−メチル−3−メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチルエーテルのようなグリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルのようなグリコールジアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテートのようなグリコールアルキルエーテルアセテート類;
ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテルのようなエーテル類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトンのようなケトン類;
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリンのような1価または多価アルコール類;
n−ペンタン、n−オクタン、ジイソブチレン、n−ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカンのような脂肪族炭化水素類;
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシルのような脂環式炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンのような芳香族炭化水素類;
アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトンのような鎖状または環状エステル類;
3−メトキシプロピオン酸、3−エトキシプロピオン酸のようなアルコキシカルボン酸類;
ブチルクロライド、アミルクロライドのようなハロゲン化炭化水素類;
メトキシメチルペンタノンのようなエーテルケトン類;
アセトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル類;
等が挙げられる。
Examples of such solvents include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, profile propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol -t- butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol mono Glycol monoalkyl ethers such as ethyl ether, methoxymethylpentanol, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, tripropylene glycol methyl ether;
Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether;
Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3- Glycol alkyl ether acetates such as methyl-3-methoxybutyl acetate;
Ethers such as diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, butyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether, dihexyl ether;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methyl hexyl ketone, methyl nonyl ketone;
Mono- or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin;
aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene, dodecane;
Cycloaliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene, bicyclohexyl;
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene;
Amyl formate, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, ethyl caprylate, butyl stearate Rate, ethyl benzoate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate, γ-butyrolactone Linear or cyclic esters such as
Alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid;
Halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride;
Ether ketones such as methoxymethylpentanone;
Nitriles such as acetonitrile and benzonitrile;
Etc.

上記に該当する溶剤としては、ミネラルスピリット、バルソル#2、アプコ#18ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントNo.1およびNo.2、ソルベッソ#150、シェルTS28 ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジグライムのような商品名の市販品が挙げられる。   Solvents corresponding to the above include mineral spirit, Valsol # 2, Apco # 18 Solvent, Apco Thinner, Soal Solvent No. 1 and no. 2, Solvesso # 150, Shell TS28 Solvent, carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, diglyme and other commercial products.

上述した各種溶剤の中でも、揮発性、安定性、各成分の溶解性などの点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトンが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトンがより好ましい。   Among the various solvents described above, from the viewpoint of volatility, stability, solubility of each component, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol mono Propyl ether acetate, methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, ethylene glycol acetate, ethyl pro Pionate, propylpropionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, ethyl caprylate, butyl Tearate, ethyl benzoate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate, γ-butyrolactone Are preferred, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, butyl acetate, propyl acetate , Amyl acetate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, 3-ethoxypropio More preferred are methyl acetate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate and γ-butyrolactone.

これらの溶剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   These solvents may be used alone or in combination of two or more.

(F)その他の成分(任意成分)
本発明の光重合性組成物は、(A)有機結合剤、(B)光重合開始剤、および(C)光重合性単量体、必要に応じて含有される(D)色材の他、さらに必要に応じて任意成分が加えられるが、該任意成分としては、例えば顔料分散剤、密着向上剤、塗布性向上剤、現像改良剤等が挙げられる。特に、本発明の組成物では黒色顔料等の色材を微細に分散し、且つ、その分散状態を安定化させることが品質安定上重要なため顔料分散剤を配合するのが望ましい。
(F) Other ingredients (optional ingredients)
The photopolymerizable composition of the present invention comprises (A) an organic binder, (B) a photopolymerization initiator, (C) a photopolymerizable monomer, and (D) a colorant contained as necessary. Further, optional components are added as necessary. Examples of the optional components include pigment dispersants, adhesion improvers, coatability improvers, development improvers and the like. In particular, in the composition of the present invention, it is desirable to blend a pigment dispersant because it is important for quality stability to finely disperse a color material such as a black pigment and stabilize the dispersion state.

顔料分散剤は、(D)黒色顔料等の色材および(A)有機結合剤の双方に親和性を有するものであり、ノニオン、カチオン、アニオン等の界面活性剤、高分子分散剤等が挙げられる。中でも高分子分散剤が好ましく、特に1級、2級、若しくは3級アミノ基や、ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環等の、塩基性官能基を有する高分子分散剤が有利に使用される。   The pigment dispersant has affinity for both (D) a colorant such as a black pigment and (A) an organic binder, and includes surfactants such as nonions, cations and anions, polymer dispersants, and the like. It is done. Among them, polymer dispersants are preferable, and polymer dispersants having basic functional groups such as primary, secondary, or tertiary amino groups, and nitrogen-containing heterocycles such as pyridine, pyrimidine, and pyrazine are particularly advantageously used. Is done.

塩基性官能基を有する高分子分散剤として好ましい化学構造を具体的に例示するならば、例えば、ポリイソシアネート化合物、分子内に水酸基を1個または2個有する化合物、および同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物を反応させることによって得られる樹脂等が挙げられる。   Specific examples of a chemical structure preferable as a polymer dispersant having a basic functional group include, for example, a polyisocyanate compound, a compound having one or two hydroxyl groups in the molecule, and active hydrogen in the same molecule. Examples thereof include resins obtained by reacting a compound having a tertiary amino group.

上記のポリイソシアネート化合物の例としては、パラフェニレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、ω,ω′−ジイソシネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、α,α,α′,α′−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニルメタン)、トリス(イソシアネートフェニル)チオホスフェート等のトリイソシアネート、およびこれらの三量体、水付加物、およびこれらのポリオール付加物等が挙げられる。ポリイソシアネートとして好ましいのは有機ジイソシアネートの三量体で、最も好ましいのはトリレンジイソシアネートの三量体とイソホロンジイソシアネートの三量体である。これらは単独で用いても、併用してもよい。 Examples of the polyisocyanate compound include paraphenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, and tolidine diisocyanate. Aromatic diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, dimer acid diisocyanate and other aliphatic diisocyanates, isophorone diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), ω, ω Alicyclic diisocyanates such as '-diisocyanate dimethylcyclohexane, xylylene diisocyanate, α, α, α', α'-tetramethyl Aliphatic diisocyanates having aromatic rings such as luxylylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate , bicycloheptane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl methane), tris (isocyanate phenyl) thiophosphate, etc. triisocyanate, and trimers of these, hydrogen adducts, and these polyols adducts. Preferred as the polyisocyanate are trimers of organic diisocyanate, and most preferred are trimerene of tolylene diisocyanate and trimer of isophorone diisocyanate. These may be used alone or in combination.

イソシアネートの三量体の製造方法としては、前記ポリイソシアネート類を適当な三量化触媒、例えば第3級アミン類、ホスフィン類、アルコキシド類、金属酸化物、カルボン酸塩類等を用いてイソシアネート基の部分的な三量化を行い、触媒毒の添加により三量化を停止させた後、未反応のポリイソシアネートを溶剤抽出、薄膜蒸留により除去して目的のイソシアヌレート基含有ポリイソシアネートを得る方法が挙げられる。   As a method for producing an isocyanate trimer, the polyisocyanate may be converted into an isocyanate group using an appropriate trimerization catalyst such as tertiary amines, phosphines, alkoxides, metal oxides, carboxylates and the like. And the trimerization is stopped by adding a catalyst poison, and then the unreacted polyisocyanate is removed by solvent extraction and thin-film distillation to obtain the desired isocyanurate group-containing polyisocyanate.

同一分子内に水酸基を1個または2個有する化合物としては、ポリエーテルグリコール、ポリエステルグリコール、ポリカーボネートグリコール、ポリオレフィングリコール等、およびこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数1〜25のアルキル基でアルコキシ化されたものなどが挙げられる。また、これらの2種類以上の混合物も挙げられる。   Examples of compounds having one or two hydroxyl groups in the same molecule include polyether glycol, polyester glycol, polycarbonate glycol, polyolefin glycol, and the like, and one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms. And the like. Moreover, these 2 or more types of mixtures are also mentioned.

ポリエーテルグリコールとしては、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、およびこれら2種類以上の混合物が挙げられる。
ポリエーテルジオールとしては、アルキレンオキシドを単独または共重合させて得られるもの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレン−プロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシヘキサメチレングリコール、ポリオキシオクタメチレングリコールおよびそれらの2種以上の混合物が挙げられる。
Polyether glycols include polyether diols, polyether ester diols, and mixtures of two or more of these.
Examples of polyether diols are those obtained by homopolymerizing or copolymerizing alkylene oxides, such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene-propylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, polyoxyoctamethylene glycol and the like. The mixture of 2 or more types of these is mentioned.

ポリエーテルエステルジオールとしては、エーテル基含有ジオールもしくは他のグリコールとの混合物をジカルボン酸とまたはそれらの無水物と反応させるか、またはポリエステルグリコールにアルキレンオキシドを反応させることによって得られるもの、例えばポリ(ポリオキシテトラメチレン)アジペート等が挙げられる。
ポリエーテルグリコールとして最も好ましいのはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールまたはこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数1〜25のアルキル基でアルコキシ化された化合物である。
Polyether ester diols include those obtained by reacting a mixture of an ether group-containing diol or other glycol with a dicarboxylic acid or an anhydride thereof, or reacting a polyester glycol with an alkylene oxide, such as poly ( And polyoxytetramethylene) adipate.
Most preferred as the polyether glycol is polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol or a compound in which one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms.

ポリエステルグリコールとしては、ジカルボン酸(コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、フタル酸等)またはそれらの無水物とグリコール(エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジーオル、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、1,8−オクタメチレングリコール、2−メチル−1,8−オクタメチレングリコール、1,9−ノナンジオール等の脂肪族グリコール、ビスヒドロキシメチルシクロヘキサン等の脂環族グリコール、キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコール、N−メチルジエタノールアミン等のN−アルキルジアルカノールアミン等)とを重縮合させて得られたもの、例えばポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリエチレン/プロピレンアジペート等、または前記ジオール類または炭素数1〜25の1価アルコールを開始剤として用いて得られるポリラクトンジオールまたはポリラクトンモノオール、例えばポリカプロラクトングリコール、ポリメチルバレロラクトンおよびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
ポリエステルグリコールとして最も好ましいのはポリカプロラクトングリコールまたは炭素数1〜25のアルコールを開始剤としたポリカプロラクトンである。
Polyester glycols include dicarboxylic acids (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, phthalic acid, etc.) or their anhydrides and glycols (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, Dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-methyl-2,4 Pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,8-octamethylene glycol, Aliphatic glycols such as 2-methyl-1,8-octamethylene glycol and 1,9-nonanediol, alicyclic glycols such as bishydroxymethylcyclohexane, aromatic glycols such as xylylene glycol and bishydroxyethoxybenzene, N -N-alkyl dialkanolamines such as methyldiethanolamine) obtained by polycondensation, such as polyethylene adipate, polybutylene adipate, polyhexamethylene adipate, polyethylene / propylene adipate, etc., or the diols or carbon number 1-25 Polylactone diol or polylactone monool obtained by using a monovalent alcohol as an initiator, for example, polycaprolactone glycol, poly methyl valerolactone and mixtures of two or more thereof.
Most preferred as the polyester glycol is polycaprolactone glycol or polycaprolactone starting with an alcohol having 1 to 25 carbon atoms.

ポリカーボネートグリコールとしては、ポリ(1,6−ヘキシレン)カーボネート、ポリ(3−メチル−1,5−ペンチレン)カーボネート等が挙げられ、ポリオレフィングリコールとしてはポリブタジエングリコール、水素添加型ポリブタジエングリコール、水素添加型ポリイソプレングリコール等が挙げられる。
同一分子内に水酸基を1個または2個有する化合物の数平均分子量は300〜10,000、好ましくは500〜6,000、さらに好ましくは1,000〜4,000である。
Examples of the polycarbonate glycol include poly (1,6-hexylene) carbonate and poly (3-methyl-1,5-pentylene) carbonate. Polyolefin glycols include polybutadiene glycol, hydrogenated polybutadiene glycol, and hydrogenated poly. Examples include isoprene glycol.
The number average molecular weight of the compound having one or two hydroxyl groups in the same molecule is 300 to 10,000, preferably 500 to 6,000, and more preferably 1,000 to 4,000.

本発明に用いられる、同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物について説明する。
活性水素、即ち、酸素原子、窒素原子またはイオウ原子に直接結合している水素原子としては、水酸基、アミノ基、チオール基等の官能基中の水素原子が挙げられ、中でもアミノ基、特に1級アミノ基の水素原子が好ましい。3級アミノ基は、特に限定されないが、例えば炭素数1〜4のアルキル基を有するアミノ基、またはヘテロ環構造、より具体的にはイミダゾール環またはトリアゾール環、などが挙げられる。
The compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule used in the present invention will be described.
Examples of the active hydrogen, that is, a hydrogen atom directly bonded to an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom include a hydrogen atom in a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, and a thiol group. A hydrogen atom of an amino group is preferred. The tertiary amino group is not particularly limited, and examples thereof include an amino group having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a heterocyclic structure, more specifically, an imidazole ring or a triazole ring.

このような、同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物を例示するならば、N,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジエチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジプロピル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジブチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、N,N−ジプロピルエチレンジアミン、N,N−ジブチルエチレンジアミン、N,N−ジメチル−1,4−ブタンジアミン、N,N−ジエチル−1,4−ブタンジアミン、N,N−ジプロピル−1,4−ブタンジアミン、N,N−ジブチル−1,4−ブタンジアミン等が挙げられる。   Examples of such compounds having active hydrogen and tertiary amino group in the same molecule are N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, N, N-dipropyl-1,3-propanediamine, N, N-dibutyl-1,3-propanediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N-dipropylethylenediamine, N, N-dibutylethylenediamine, N, N-dimethyl-1,4-butanediamine, N, N-diethyl-1,4-butanediamine, N, N-dipropyl-1,4-butanediamine, N, N-dibutyl- 1,4-butanediamine and the like can be mentioned.

また、3級アミノ基がN含有ヘテロ環であるものとして、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、インドール環、カルバゾール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチアジアゾール環等のN含有ヘテロ5員環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、アクリジン環、イソキノリン環、等のN含有ヘテロ6員環が挙げられる。これらのN含有ヘテロ環として好ましいものはイミダゾール環またはトリアゾール環である。   In addition, the tertiary amino group is an N-containing heterocycle, such as pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, indole ring, carbazole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzo Examples thereof include N-containing hetero 5-membered rings such as thiazole ring and benzothiadiazole ring, N-containing hetero 6-membered rings such as pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, acridine ring, and isoquinoline ring. Preferred as these N-containing heterocycles are an imidazole ring or a triazole ring.

これらのイミダゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、1−(3−アミノプロピル)イミダゾール、ヒスチジン、2−アミノイミダゾール、1−(2−アミノエチル)イミダゾール等が挙げられる。また、トリアゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール、5−(2−アミノ−5−クロロフェニル)−3−フェニル−1H−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−4H−1,2,4−トリアゾール−3,5−ジオール、3−アミノ−5−フェニル−1H−1,3,4−トリアゾール、5−アミノ−1,4−ジフェニル−1,2,3−トリアゾール、3−アミノ−1−ベンジル−1H−2,4−トリアゾール等が挙げられる。   Specific examples of these compounds having an imidazole ring and an amino group include 1- (3-aminopropyl) imidazole, histidine, 2-aminoimidazole, 1- (2-aminoethyl) imidazole and the like. Further, specific examples of the compound having a triazole ring and an amino group include 3-amino-1,2,4-triazole, 5- (2-amino-5-chlorophenyl) -3-phenyl-1H-1 , 2,4-triazole, 4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diol, 3-amino-5-phenyl-1H-1,3,4-triazole, 5-amino-1 , 4-diphenyl-1,2,3-triazole, 3-amino-1-benzyl-1H-2,4-triazole and the like.

なかでも、N,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジエチル−1,3−プロパンジアミン、1−(3−アミノプロピル)イミダゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾールが好ましい。   Among them, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, 1- (3-aminopropyl) imidazole, 3-amino-1,2,4-triazole Is preferred.

分散剤原料の好ましい配合比率はポリイソシアネート化合物100重量部に対し、同一分子内に水酸基を1個または2個有する数平均分子量300〜10,000の化合物が10〜200重量部、好ましくは20〜190重量部、さらに好ましくは30〜180重量部、同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物は0.2〜25重量部、好ましくは0.3〜24重量部である。   A preferable blending ratio of the dispersant raw material is 10 to 200 parts by weight, preferably 20 to 200 parts by weight of a compound having a number average molecular weight of 300 to 10,000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule with respect to 100 parts by weight of the polyisocyanate compound. 190 parts by weight, more preferably 30 to 180 parts by weight, and the compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule is 0.2 to 25 parts by weight, preferably 0.3 to 24 parts by weight.

塩基性官能基を有する高分子分散剤のゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は1,000〜200,000、好ましくは2,000〜100,000、より好ましくは3,000〜50,000の範囲である。塩基性官能基を有する高分子分散剤の分子量が1,000未満では分散性および分散安定性が劣り、200,000を超えると溶解性が低下し分散性が劣ると同時に反応の制御が困難となる。高分子分散剤の製造はポリウレタン樹脂製造の公知の方法に従って行われる。   The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of the polymer dispersant having a basic functional group is 1,000 to 200,000, preferably 2,000 to 100,000, more preferably. It is in the range of 3,000 to 50,000. If the molecular weight of the polymeric dispersant having a basic functional group is less than 1,000, the dispersibility and dispersion stability are poor, and if it exceeds 200,000, the solubility is lowered and the dispersibility is poor and the control of the reaction is difficult. Become. The polymer dispersant is produced according to a known method for producing a polyurethane resin.

塩基性官能基を有する高分子分散剤を製造する際の溶媒としては、通常、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン等の炭化水素類、ダイアセトンアルコール、イソプロパノール、第二ブタノール、第三ブタノール等一部のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム等の塩化物、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキサイド等の非プロトン性極性溶媒等が用いられる。   As a solvent for producing a polymer dispersant having a basic functional group, usually, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, isophorone, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, etc. Esters, hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, hexane, diacetone alcohol, isopropanol, sec-butanol, tert-butanol and some other alcohols, chlorides such as methylene chloride and chloroform, tetrahydrofuran, diethyl ether An aprotic polar solvent such as ethers such as dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, and dimethylsulfoxide is used.

上記製造に際して、通常、ウレタン化反応触媒が用いられる。ウレタン化反応触媒としては例えば、ジブチルチンジラウレート、ジオクチルチンジラウレート、ジブチルチンジオクトエート、スタナスオクトエート等の錫系、鉄アセチルアセトナート、塩化第二鉄等の鉄系、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン等の3級アミン系等が挙げられる。   In the above production, a urethanization reaction catalyst is usually used. Examples of urethanation reaction catalysts include dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin dioctoate, stannous octoate and other tin-based iron acetylacetonates, ferric chloride and other iron-based, triethylamine, triethylenediamine and the like. Tertiary amine system etc. are mentioned.

同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物の導入量は反応後のアミン価で1〜100mg−KOH/gの範囲に制御するのが好ましい。より好ましくは5〜95mg−KOH/gの範囲である。アミン価は、塩基性アミノ基を酸により中和滴定し、酸価に対応させてKOHのmg数で表した値である。アミン価が上記範囲未満であると分散能力が低下する傾向があり、また、上記範囲を超えると現像性が低下しやすくなる。
なお、以上の反応で高分子分散剤にイソシアネート基が残存する場合にはさらに、アルコールやアミノ化合物でイソシアネート基を潰すと生成物の経時安定性が高くなるので好ましい。
The introduction amount of the compound having active hydrogen and tertiary amino group in the same molecule is preferably controlled in the range of 1 to 100 mg-KOH / g in terms of the amine value after the reaction. More preferably, it is the range of 5-95 mg-KOH / g. The amine value is a value obtained by neutralizing and titrating a basic amino group with an acid, and representing the acid value in mg of KOH. When the amine value is less than the above range, the dispersing ability tends to decrease, and when it exceeds the above range, the developability tends to decrease.
In addition, when an isocyanate group remains in a polymer dispersing agent by the above reaction, it is preferable to crush the isocyanate group with an alcohol or an amino compound because the stability of the product with time increases.

{配合割合}
本発明の光重合性組成物において、(B)光重合開始剤は、(A)有機結合剤100重量部に対して通常0.1〜50重量部、好ましくは1〜45重量部、(C)光重合性単量体は(A)有機結合剤100重量部に対して通常0〜200重量部、好ましくは3〜180重量部の範囲で用いられるが、特に、本発明では、前記オキシムエステル系化合物(I)を(A)有機結合剤と(C)光重合性単量体の合計100重量部に対して5重量部以上、特に8〜20重量部含むことが好ましい。
{Mixing ratio}
In the photopolymerizable composition of the present invention, the (B) photopolymerization initiator is usually 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 45 parts by weight, based on 100 parts by weight of the (A) organic binder (C ) The photopolymerizable monomer is usually used in an amount of 0 to 200 parts by weight, preferably 3 to 180 parts by weight, based on 100 parts by weight of the organic binder (A). The compound (I) is preferably contained in an amount of 5 parts by weight or more, particularly 8 to 20 parts by weight, based on a total of 100 parts by weight of the (A) organic binder and the (C) photopolymerizable monomer.

また、黒色顔料等の(D)色材の配合量は、(E)溶剤を除いた全固形分中、通常30〜70重量%、好ましくは35〜65重量%である。
さらに前述の増感色素の配合量は、(A)有機結合剤100重量部に対して通常0〜30重量部、好ましくは0〜10重量部である。
また、顔料分散剤として高分子分散剤を使用する場合、その使用割合は(D)色材に対して0.1〜30重量%が好ましく、特に0.5〜25重量%が好ましい。
Moreover, the compounding quantity of (D) coloring materials, such as a black pigment, is 30 to 70 weight% normally in the total solid content except (E) solvent, Preferably it is 35 to 65 weight%.
Furthermore, the compounding quantity of the above-mentioned sensitizing dye is 0-30 weight part normally with respect to 100 weight part of (A) organic binders, Preferably it is 0-10 weight part.
Further, when a polymer dispersant is used as the pigment dispersant, its use ratio is preferably 0.1 to 30% by weight, particularly preferably 0.5 to 25% by weight, based on the color material (D).

(B)光重合開始剤が上記範囲未満であると低感度となり作業効率の点で劣る場合があり、また、上記範囲を超えると塗膜形成機能に悪影響を与えやすい。
(C)光重合性単量体が上記未満であると架橋密度低下による耐久性、耐熱性等に問題が出やすく、また、上記範囲を超えると現像性が低下する問題が発生することがある。
(D)色材が上記範囲未満であると、遮光性等の着色性が低下するため、特にBM用光重合性組成物の場合には、充分な光学濃度を有する樹脂BMを形成するのが困難となる場合がある。逆に、上記範囲を超えると感度、解像性、現像性等の低下が激しくなるため画像形成が困難となる傾向がある。
(B) If the photopolymerization initiator is less than the above range, the sensitivity may be low and the work efficiency may be poor, and if it exceeds the above range, the coating film forming function tends to be adversely affected.
(C) If the photopolymerizable monomer is less than the above, problems such as durability and heat resistance due to a decrease in crosslinking density are likely to occur, and if it exceeds the above range, developability may be deteriorated. .
(D) If the colorant is less than the above range, the colorability such as the light shielding property is deteriorated. Therefore, particularly in the case of the photopolymerizable composition for BM, the resin BM having a sufficient optical density is formed. It can be difficult. On the other hand, if the above range is exceeded, the sensitivity, resolution, developability and the like are drastically deteriorated, so that image formation tends to be difficult.

なお、本発明の光重合性組成物は、前述の(E)溶剤を用いて、その固形分濃度が5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%の範囲となるように調液されることが望ましい。   In addition, the photopolymerizable composition of this invention is prepared so that the solid content concentration may be 5 to 50% by weight, preferably 10 to 30% by weight, using the above-mentioned solvent (E). It is desirable.

{製造方法}
次に本発明の光重合性組成物の製造方法について説明する。
本発明の光重合性組成物が色材として顔料を含有する場合、通常、色材はあらかじめペイントコンディショナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザー等を用いて分散処理するのが好ましい。分散処理により色材が微粒子化されるためレジストの塗布特性の向上が達成される。また、色材として黒色顔料を使用した場合は遮光能力の向上に寄与する。
{Production method}
Next, the manufacturing method of the photopolymerizable composition of this invention is demonstrated.
When the photopolymerizable composition of the present invention contains a pigment as a coloring material, the coloring material is usually dispersed in advance using a paint conditioner, a sand grinder, a ball mill, a roll mill, a stone mill, a jet mill, a homogenizer, or the like. preferable. Since the color material is finely divided by the dispersion treatment, the coating characteristics of the resist are improved. Moreover, when a black pigment is used as a color material, it contributes to the improvement of light-shielding capability.

分散処理においては黒色顔料と溶剤または分散機能を有する有機結合剤、あるいは前記した顔料分散剤をさらに併用した系にて処理するのが好ましい。特に高分子分散剤を用いると経時の分散安定性に優れるので好ましい。また、レジスト液として配合する全成分を同時に混合した液での分散処理は、分散時に生じる発熱のため高反応性の成分が変性するおそれがあるので好ましくない。   In the dispersion treatment, the treatment is preferably carried out in a system in which a black pigment and a solvent or an organic binder having a dispersion function or the above-described pigment dispersant are further used in combination. In particular, it is preferable to use a polymer dispersant because it is excellent in dispersion stability over time. Dispersion treatment with a solution in which all components to be blended as a resist solution are mixed at the same time is not preferable because a highly reactive component may be denatured due to heat generated during dispersion.

サンドグラインダーで分散させる場合には、0.1〜8mm径のガラスビーズまたはジルコニアビーズが好ましく用いられる。分散させる条件は、通常、温度は0℃から100℃であり、好ましくは、室温から80℃の範囲である。分散時間はインキの組成(色材、溶剤、分散剤)およびサンドグラインダーの装置サイズ等により適正時間が異なるため適宜調節する。レジストの20度光沢値が100〜200の範囲となるようにインキの光沢を制御するのが分散の目安である。レジスト光沢が低い場合には分散処理が十分でなく荒い顔料粒子が残っていることが多く、現像性、密着性、解像性等の点で不十分である。また、光沢値を上記範囲を超えるまで分散処理すると超微粒子が多数生じるために却って分散安定性が損なわれることになりやすい。   When dispersed with a sand grinder, glass beads or zirconia beads having a diameter of 0.1 to 8 mm are preferably used. The conditions for the dispersion are usually that the temperature is from 0 ° C. to 100 ° C., and preferably from room temperature to 80 ° C. The dispersion time is appropriately adjusted because the appropriate time varies depending on the composition of the ink (coloring material, solvent, dispersant) and the size of the sand grinder. The standard of dispersion is to control the gloss of the ink so that the 20-degree gloss value of the resist is in the range of 100 to 200. When the resist gloss is low, the dispersion treatment is not sufficient and rough pigment particles often remain, which is insufficient in terms of developability, adhesion, resolution, and the like. Further, when the dispersion treatment is carried out until the gloss value exceeds the above range, a large number of ultrafine particles are produced, so that the dispersion stability tends to be impaired.

次に上記分散処理により得られたインキとレジスト成分として必要な上記の他の成分を添加、混合し均一な溶液とする。製造工程においては微細なゴミが感光液に混じることが多いため、得られたレジスト感光液はフィルター等により濾過処理するのが望ましい。   Next, the ink obtained by the above dispersion treatment and the above-mentioned other components necessary as a resist component are added and mixed to obtain a uniform solution. In the manufacturing process, fine dust is often mixed with the photosensitive solution. Therefore, the obtained resist photosensitive solution is preferably filtered through a filter or the like.

[カラーフィルター]
次に、本発明の光重合性組成物を用いたカラーフィルターについて、その製造方法に従って説明する。
なお、本発明の光重合性組成物は、カラーフィルターにおけるブラックマトリックスのみならず、画素の形成にも用いることができ、また液晶表示装置におけるフォトスペーサーやリブ(液晶分割配向突起)等の形成に使用することもできる。
以下の説明は、本発明の光重合性組成物を、カラーフィルターにおけるブラックマトリックスの形成に使用する場合を例に説明する。
[Color filter]
Next, a color filter using the photopolymerizable composition of the present invention will be described according to its production method.
The photopolymerizable composition of the present invention can be used not only for forming a black matrix in a color filter but also for forming pixels, and for forming photo spacers, ribs (liquid crystal dividing alignment protrusions) and the like in a liquid crystal display device. It can also be used.
In the following description, the case where the photopolymerizable composition of the present invention is used for forming a black matrix in a color filter will be described as an example.

本発明のカラーフィルターを製造するには、まず、透明基板上に、本発明の光重合性組成物を塗布して乾燥した後、該試料の上にフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して画像露光、現像、必要に応じて熱硬化或いは光硬化により遮光用樹脂BM画像を形成し、さらにこの操作をRGB3色について各々繰り返し、カラーフィルター画像を形成する。   In order to produce the color filter of the present invention, first, the photopolymerizable composition of the present invention is applied on a transparent substrate and dried, then a photomask is placed on the sample, and the photomask is passed through the photomask. A light-blocking resin BM image is formed by image exposure, development, and heat curing or photocuring as necessary, and this operation is repeated for each of the three RGB colors to form a color filter image.

{透明基板}
ここで用いる透明基板は、カラーフィルター用の透明基板であり、その材質は特に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン等の熱可塑性プラスチックシート、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル樹脂等の熱硬化性プラスチックシート、或いは各種ガラス板等を挙げることができる。特に、耐熱性の点からガラス板、耐熱性プラスチックシートが好ましく用いられる。
{Transparent substrate}
The transparent substrate used here is a transparent substrate for a color filter, and its material is not particularly limited. For example, polyester such as polyethylene terephthalate, polypropylene, polyolefin such as polyethylene, polycarbonate, polymethyl methacrylate, A thermoplastic plastic sheet such as polysulfone, an epoxy resin, a polyester resin, a thermosetting plastic sheet such as poly (meth) acrylic resin, or various glass plates can be used. In particular, a glass plate and a heat-resistant plastic sheet are preferably used from the viewpoint of heat resistance.

このような透明基板には、表面の接着性等の物性を改良するために、予め、コロナ放電処理、オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各種ポリマーの薄膜処理等を行うこともできる。   In order to improve physical properties such as surface adhesion, such a transparent substrate can be previously subjected to corona discharge treatment, ozone treatment, thin film treatment of various polymers such as silane coupling agents and urethane polymers, and the like. .

{光重合性組成物の塗布および乾燥}
透明基板への光重合性組成物の塗布方法は特に限定されないが、通常、スピナー,ワイヤーバー,フローコーター,ダイコーター,ロールコーター,スプレー等の塗布装置を用いて行われる。
塗布後の乾燥においてはホットプレート、IRオーブン、コンベクションオーブン等を用いることができ、好ましい乾燥条件は40〜150℃、乾燥時間は10秒〜60分の範囲である。
{Coating and drying of photopolymerizable composition}
The method for applying the photopolymerizable composition to the transparent substrate is not particularly limited, but is usually performed using an application apparatus such as a spinner, a wire bar, a flow coater, a die coater, a roll coater, or a spray.
In the drying after the application, a hot plate, IR oven, convection oven or the like can be used. Preferred drying conditions are 40 to 150 ° C., and the drying time is in the range of 10 seconds to 60 minutes.

塗布、乾燥後の樹脂BMの膜厚は、0.1〜2μm、好ましくは0.1〜1.5μm、さらに好ましくは0.1〜1μmの範囲とするのがよい。なお、本発明のカラーフィルターの樹脂BMは、遮光性の点から膜厚1μmにおいて、光学濃度が3.0以上であるのが好ましい。また、顔料等の固型分の分散状態の指標として、BMの20度光沢値が100〜200であるのが有利である。   The film thickness of the resin BM after coating and drying is 0.1 to 2 μm, preferably 0.1 to 1.5 μm, and more preferably 0.1 to 1 μm. The resin BM of the color filter of the present invention preferably has an optical density of 3.0 or more at a film thickness of 1 μm from the viewpoint of light shielding properties. Moreover, it is advantageous that the 20 degree gloss value of BM is 100 to 200 as an indicator of the dispersion state of solid components such as pigments.

{露光および現像}
露光に用いる光源は、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯等のランプ光源やアルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、エキシマーレーザー、窒素レーザー等のレーザー光源等が挙げられる。特定の照射光の波長のみを使用する場合には光学フィルターを利用することもできる。
{Exposure and development}
Light sources used for exposure are, for example, xenon lamps, halogen lamps, tungsten lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, medium-pressure mercury lamps, low-pressure mercury lamps, and the like, argon ion lasers, YAG lasers, excimer lasers, nitrogen lasers. And the like. In the case where only the wavelength of specific irradiation light is used, an optical filter can also be used.

現像処理に用いる溶剤は、未露光部のレジスト膜を溶解させる能力のある溶剤であれば特に制限は受けない。例えばアセトン、塩化メチレン、トリクレン、シクロヘキサノン等の有機溶剤を使用することができる。しかしながら、有機溶剤は環境汚染、人体に対する有害性、火災危険性などをもつものが多いため、このような危険性の無いアルカリ現像液を使用するのが好ましい。   The solvent used for the development treatment is not particularly limited as long as it is a solvent capable of dissolving the resist film in the unexposed area. For example, an organic solvent such as acetone, methylene chloride, trichlene, and cyclohexanone can be used. However, since many organic solvents have environmental pollution, harmfulness to human body, fire risk, etc., it is preferable to use an alkaline developer without such danger.

このようなアルカリ現像液として、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機のアルカリ剤、或いはジエタノールアミン、トリエタノールアミン、水酸化テトラアルキルアンモニウム塩等の有機のアルカリ剤を含有した水溶液が挙げられる。
アルカリ現像液には、必要に応じ、界面活性剤、水溶性の有機溶剤、水酸基またはカルボキシル基を有する低分子化合物等を含有させることもできる。特に、界面活性剤は現像性、解像性、地汚れなどに対して改良効果をもつものが多いため添加するのは好ましい。
Examples of such an alkali developer include inorganic alkali agents such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or diethanolamine, triethanolamine, tetraalkylammonium hydroxide salt, etc. And an aqueous solution containing an organic alkali agent.
If necessary, the alkaline developer may contain a surfactant, a water-soluble organic solvent, a low molecular compound having a hydroxyl group or a carboxyl group, and the like. In particular, it is preferable to add a surfactant since many surfactants have an improving effect on developability, resolution, and background stains.

例えば、現像液用の界面活性剤としては、ナフタレンスルホン酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウム基を有するアニオン性界面活性剤、ポリアルキレンオキシ基を有するノニオン性界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム基を有するカチオン性界面活性剤等を挙げることができる。   For example, as a surfactant for a developer, an anionic surfactant having a sodium naphthalenesulfonate group, a sodium benzenesulfonate group, a nonionic surfactant having a polyalkyleneoxy group, a cation having a tetraalkylammonium group Can be mentioned.

現像処理方法については特に制限は無いが、通常、10〜50℃、好ましくは15〜45℃の現像温度で、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法により行われる。   Although there is no restriction | limiting in particular about the image development processing method, Usually, it is carried out by methods, such as immersion image development, spray image development, brush image development, ultrasonic wave development, at 10-50 degreeC, Preferably it is 15-45 degreeC.

上記光重合性組成物の塗布、乾燥、露光、現像をBMおよびRGB3色について行って、カラーフィルターを作製する。この際、本発明の光重合性組成物はBMの形成にもRGBの画素形成にも用いることができる。
なお、本発明の光重合性組成物を用いてカラーフィルターの画素を形成する場合には、非常に高感度、高解像力であるため、ポリビニルアルコール等の酸素遮断層を設けることなしに露光、現像して画像を形成することが可能である。
The photopolymerizable composition is applied, dried, exposed, and developed for BM and RGB three colors to produce a color filter. At this time, the photopolymerizable composition of the present invention can be used for BM formation and RGB pixel formation.
In addition, when forming a pixel of a color filter using the photopolymerizable composition of the present invention, since it has very high sensitivity and high resolution, exposure and development can be performed without providing an oxygen blocking layer such as polyvinyl alcohol. Thus, an image can be formed.

[液晶表示装置(パネル)]
本発明の液晶表示装置は、前記のカラーフィルターを使用して、次の様にして製造することができる。
まず、カラーフィルター上に配向膜を形成し、この配向膜上にスペーサーを配置した後、対向基板と貼り合わせて液晶セルを形成する。次いで、形成した液晶セルに液晶を注入し、対向電極に結線して完成する。
[Liquid Crystal Display (Panel)]
The liquid crystal display device of the present invention can be manufactured using the color filter as follows.
First, an alignment film is formed on a color filter, a spacer is disposed on the alignment film, and then a liquid crystal cell is formed by being attached to a counter substrate. Next, liquid crystal is injected into the formed liquid crystal cell and connected to the counter electrode to complete.

配向膜は、ポリイミド等の樹脂膜が好適である。配向膜の形成には、通常、グラビア印刷法やフレキソ印刷法が採用され、配向膜の厚さは、通常、10〜100nmとされる。熱焼成によって配向膜の硬化処理を行った後、紫外線の照射やラビング布による処理によって表面処理し、液晶の傾きを調節し得る表面状態に加工される。   The alignment film is preferably a resin film such as polyimide. For the formation of the alignment film, a gravure printing method or a flexographic printing method is usually employed, and the thickness of the alignment film is usually 10 to 100 nm. After the alignment film is cured by thermal baking, it is surface-treated by irradiation with ultraviolet rays or a rubbing cloth to be processed into a surface state capable of adjusting the tilt of the liquid crystal.

スペーサーは、対向基板とのギャップ(隙間)に応じた大きさのものが使用され、通常2〜8μmのものが好適である。カラーフィルター基板上に、フォトリソグラフィー法によって透明樹脂膜のフォトスペーサー(PS)を形成し、これをスペーサーの代わりに活用することもできる。対向基板としては、通常、アレイ基板が使用され、特にTFT(薄膜トランジスター)基板が好適である。   A spacer having a size corresponding to a gap (gap) with the counter substrate is used, and a spacer of 2 to 8 μm is usually preferable. A photo spacer (PS) of a transparent resin film can be formed on the color filter substrate by photolithography, and this can be used instead of the spacer. As the counter substrate, an array substrate is usually used, and a TFT (thin film transistor) substrate is particularly preferable.

対向基板との貼り合わせのギャップは、液晶表示装置の用途によって異なるが、通常2〜8μmの範囲で選ばれる。対向基板と貼り合わせた後、液晶注入口以外の部分は、エポキシ樹脂などのシール材によって封止する。シール材は、UV照射および/または加熱によって硬化させ、液晶セル周辺がシールされる。   The gap for bonding to the counter substrate varies depending on the use of the liquid crystal display device, but is usually selected in the range of 2 to 8 μm. After bonding to the counter substrate, the portion other than the liquid crystal injection port is sealed with a sealing material such as an epoxy resin. The sealing material is cured by UV irradiation and / or heating, and the periphery of the liquid crystal cell is sealed.

周辺がシールされた液晶セルは、パネル単位に切断した後、真空チャンバー内で減圧とし、上記の液晶注入口を液晶に浸漬した後、チャンバー内をリークすることによって、液晶セル内に液晶を注入する。液晶セル内の減圧度は、通常1×10-2〜1×10-7Pa、好ましくは1×10-3〜1×10-6Paである。また、減圧時に液晶セルを加温するのが好ましく、加温温度は、通常30〜100℃、好ましくは50〜90℃である。減圧時の加温保持は、通常10〜60分間の範囲とされ、その後に液晶中に浸漬される。液晶が注入された液晶セルは、UV硬化樹脂の硬化により、液晶注入口を封止することによって、液晶表示装置(パネル)が完成する。 The liquid crystal cell whose periphery is sealed is cut into panel units, then the pressure is reduced in the vacuum chamber, the liquid crystal injection port is immersed in the liquid crystal, and then the liquid crystal is injected into the liquid crystal cell by leaking in the chamber. To do. The degree of vacuum in the liquid crystal cell is usually 1 × 10 −2 to 1 × 10 −7 Pa, preferably 1 × 10 −3 to 1 × 10 −6 Pa. Moreover, it is preferable to heat a liquid crystal cell at the time of pressure reduction, and heating temperature is 30-100 degreeC normally, Preferably it is 50-90 degreeC. The warming holding at the time of depressurization is usually in the range of 10 to 60 minutes, and then immersed in the liquid crystal. In the liquid crystal cell into which the liquid crystal is injected, a liquid crystal display device (panel) is completed by sealing the liquid crystal injection port by curing the UV curable resin.

液晶の種類は、特に制限されず、芳香族系、脂肪族系、多環状化合物など、従来公知の液晶であって、リオトロピック液晶、サーモトロピック液晶などの何れでもよい。サーモトロピック液晶には、ネマティック液晶、スメティック液晶、コレステリック液晶などが知られているが、これらの何れであってもよい。 The type of the liquid crystal is not particularly limited, and is a conventionally known liquid crystal such as an aromatic, aliphatic, or polycyclic compound, and may be any of a lyotropic liquid crystal, a thermotropic liquid crystal, and the like. The thermotropic liquid crystal, nematic liquid crystal, smelling click ticks liquid crystal, but such a cholesteric liquid crystal are known, may be any of these.

[その他の用途]
本発明の光重合性組成物は、上述のようなカラーフィルターの樹脂BMやRGB3色画素以外に、フォトスペーサーやリブ(液晶分割配向突起)の形成にも用いることができる。
以下、この使用形態について説明する。
[Other uses]
The photopolymerizable composition of the present invention can be used to form photo spacers and ribs (liquid crystal split alignment protrusions) in addition to the resin BM and RGB three-color pixels of the color filter as described above.
Hereinafter, this usage pattern will be described.

<フォトスペーサー>
フォトスペーサーは、本発明の光重合性組成物を基板に塗布、乾燥、露光、現像、熱硬化処理することにより形成される。
フォトスペーサーの形成に当たり、本発明の光重合性組成物は、通常溶剤に溶解或いは分散された状態で、基板上へ供給される。その供給方法としては、従来公知の方法、例えば、スピナー法、ワイヤーバー法、フローコート法、ダイコート法、ロールコート法、スプレーコート法などによって行うことができる。中でも、ダイコート法によれば、塗布液使用量が大幅に削減され、かつ、スピンコート法によった際に付着するミストなどの影響が全くない、異物発生が抑制されるなど、総合的な観点から好ましい。
塗布量は、乾燥膜厚として、通常0.5〜10μm、好ましくは1〜8μm、特に好ましくは1〜5μmの範囲である。また乾燥膜厚あるいは最終的に形成されたスペーサーの高さが、基板全域に渡って均一であることが重要である。ばらつきが大きい場合には、液晶パネルにムラ欠陥を生ずることとなる。またインクジェット法や印刷法などにより、パターン状に供給されてもよい。
<Photo spacer>
The photospacer is formed by applying the photopolymerizable composition of the present invention to a substrate, drying, exposing, developing, and thermosetting.
In forming the photospacer, the photopolymerizable composition of the present invention is usually supplied onto the substrate in a state dissolved or dispersed in a solvent. As the supply method, a conventionally known method such as a spinner method, a wire bar method, a flow coating method, a die coating method, a roll coating method, a spray coating method, or the like can be used. Above all, according to the die coating method, the amount of coating solution used is greatly reduced, there is no influence of mist adhering to the spin coating method, and the generation of foreign matter is suppressed. To preferred.
The coating amount is usually in the range of 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 8 μm, particularly preferably 1 to 5 μm as a dry film thickness. In addition, it is important that the dry film thickness or the height of the finally formed spacer is uniform over the entire area of the substrate. When the variation is large, a nonuniformity defect occurs in the liquid crystal panel. Further, it may be supplied in a pattern by an inkjet method or a printing method.

基板上に光重合性組成物を供給した後の乾燥は、ホットプレート、IRオーブン、コンベクションオーブンを使用した乾燥法によるのが好ましい。また温度を高めず、減圧チャンバー内で乾燥を行う、減圧乾燥法を組み合わせてもよい。乾燥の条件は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて適宜選択することができる。乾燥条件は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて、通常は、40〜100℃の温度で15秒〜5分間の範囲で選ばれ、好ましくは50〜90℃の温度で30秒〜3分間の範囲で選ばれる。   The drying after supplying the photopolymerizable composition onto the substrate is preferably performed by a drying method using a hot plate, an IR oven, or a convection oven. Moreover, you may combine the reduced pressure drying method of drying in a reduced pressure chamber, without raising temperature. Drying conditions can be appropriately selected according to the type of solvent component, the performance of the dryer used, and the like. The drying conditions are usually selected in the range of 15 to 5 minutes at a temperature of 40 to 100 ° C., preferably 50 to 90 ° C., depending on the type of solvent component and the performance of the dryer used. It is selected in the range of 30 seconds to 3 minutes.

露光は、光重合性組成物の塗布膜上に、ネガのマスクパターンを重ね、このマスクパターンを介し、紫外線または可視光線の光源を照射して行う。またレーザー光による走査露光方式によってもよい。この際、必要に応じ、酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐため、光重合性層上にポリビニルアルコール層などの酸素遮断層を形成した後に露光を行ってもよい。上記の露光に使用される光源は、特に限定されるものではない。光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプなどのランプ光源や、アルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、青紫色半導体レーザー、近赤外半導体レーザーなどのレーザー光源などが挙げられる。特定の波長の光を照射して使用する場合には、光学フィルターを利用することもできる。 The exposure is performed by overlaying a negative mask pattern on the coating film of the photopolymerizable composition and irradiating an ultraviolet light source or a visible light source through the mask pattern. Further, a scanning exposure method using laser light may be used. At this time, if necessary, exposure may be performed after an oxygen blocking layer such as a polyvinyl alcohol layer is formed on the photopolymerizable layer in order to prevent a decrease in sensitivity of the photopolymerizable layer due to oxygen. The light source used for said exposure is not specifically limited. As the light source, for example, a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a fluorescent lamp, a lamp light source, an argon ion laser, a YAG laser, excimer lasers, nitrogen laser, Heriumukado Miu Mureza, blue-violet semiconductor laser, and the like laser light source such as a near infrared semiconductor laser. An optical filter can also be used when used by irradiating light of a specific wavelength.

上記の露光を行った後、アルカリ性化合物と界面活性剤とを含む水溶液、または有機溶剤を用いる現像によって、基板上に画像パターンを形成することができる。この水溶液には、さらに有機溶剤、緩衝剤、錯化剤、染料または顔料を含ませることができる。   After performing the exposure described above, an image pattern can be formed on the substrate by development using an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant or an organic solvent. This aqueous solution may further contain an organic solvent, a buffering agent, a complexing agent, a dye or a pigment.

アルカリ性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、水酸化アンモニウムなどの無機アルカリ性化合物や、モノ−・ジ−またはトリエタノールアミン、モノ−・ジ−またはトリメチルアミン、モノ−・ジ−またはトリエチルアミン、モノ−またはジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ−・ジ−またはトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、コリンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられる。これらのアルカリ性化合物は、2種以上の混合物であってもよい。   Alkaline compounds include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate Inorganic alkaline compounds such as sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, ammonium hydroxide, mono-di- or triethanolamine, mono-di- or trimethylamine Mono-di- or triethylamine, mono- or diisopropylamine, n-butylamine, mono-di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), co The organic alkaline compound such emissions and the like. These alkaline compounds may be a mixture of two or more.

界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類などのアニオン性界面活性剤、アルキルベタイン類、アミノ酸類などの両性界面活性剤が挙げられる。   Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, monoglyceride alkyl esters, and alkylbenzene sulfonic acids. Examples include anionic surfactants such as salts, alkylnaphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl sulfonates, and sulfosuccinate esters, and amphoteric surfactants such as alkylbetaines and amino acids.

有機溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。有機溶剤は、単独でも水溶液と併用して使用することもできる。   Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol and the like. The organic solvent can be used alone or in combination with an aqueous solution.

現像の後の基板には、熱硬化処理を施すのが好ましい。この際の熱硬化処理条件は、温度は100〜280℃の範囲、好ましくは150〜250℃の範囲で選ばれ、時間は5〜60分間の範囲で選ばれる。   The substrate after development is preferably subjected to a thermosetting treatment. The thermosetting treatment conditions at this time are selected such that the temperature is in the range of 100 to 280 ° C, preferably 150 to 250 ° C, and the time is in the range of 5 to 60 minutes.

<リブ(液晶分割配向突起)>
リブ(液晶分割配向突起)とは、液晶表示装置の視野角を改善するために、透明電極上に形成する突起をいい、前記突起のスロープを利用して液晶を局所的に傾け、一画素内で液晶を多方向に分割させるものである。
<Rib (Liquid crystal alignment protrusion)>
Ribs (liquid crystal split alignment protrusions) are protrusions formed on a transparent electrode in order to improve the viewing angle of a liquid crystal display device, and the liquid crystal is locally tilted by using the slope of the protrusions within one pixel. The liquid crystal is divided in multiple directions.

本発明の光重合性組成物によりリブを形成するには、BMとRBGの3色画素を形成し、カラーフィルター、さらにその上に150nm厚のITOを蒸着した通常0.1〜2mm厚の透明基板上に、本発明の光重合性組成物をスピナー、ワイヤーバー、フローコーター、ダイコーター、ロールコーター、スプレー等の塗布装置を用いて塗布する。組成物の塗布膜厚は通常0.5〜5μmである。該組成物からなる塗布膜を乾燥した後、乾燥塗膜上にフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して画像露光する。露光後、未露光の未硬化部分を現像にて除去することにより、画素を形成する。通常、現像後得られる画像は、5〜20μmの巾の細線再現性が求められ、高画質のディスプレーの要求からより高精細な細線再現性が要求される傾向にある。高精細な細線を安定し再現する上で、現像後の細線画像の断面形状は、非画像と画像部のコントラストが明瞭な矩形型が、現像時間、現像液経時、現像シャワーの物理刺激などの現像マージンが広く好ましい。   In order to form ribs with the photopolymerizable composition of the present invention, three color pixels of BM and RBG are formed, a color filter, and 150 nm thick ITO is vapor-deposited thereon, usually 0.1 to 2 mm thick transparent The photopolymerizable composition of the present invention is applied onto a substrate using an application device such as a spinner, a wire bar, a flow coater, a die coater, a roll coater, or a spray. The coating film thickness of the composition is usually 0.5 to 5 μm. After the coating film made of the composition is dried, a photomask is placed on the dried coating film, and image exposure is performed through the photomask. After exposure, an unexposed uncured portion is removed by development to form a pixel. Usually, an image obtained after development is required to have a fine line reproducibility of a width of 5 to 20 μm, and there is a tendency that a finer fine line reproducibility is required due to a demand for a high-quality display. In order to stably reproduce high-definition fine lines, the cross-sectional shape of the fine line image after development is a rectangular shape with a clear contrast between the non-image and the image area, such as development time, developer aging, physical stimulation of the development shower, etc. A wide development margin is preferable.

本発明の光重合性組成物を用いた場合、現像後の画像は、矩形型に近い断面形状を有している。リブの形状に必要なアーチ状の形状を得るために、通常150℃以上、好ましくは180℃以上、さらに好ましくは200℃以上、通常400℃以下、好ましくは300℃以下、さらに好ましくは280℃以下で、且つ、通常10分以上、好ましくは15分以上、さらに好ましくは20分以上、通常120分以下、好ましくは60分以下、さらに好ましくは40分以下の加熱処理を施し、矩形状の断面形状をアーチ状の形状に変形させ、巾0.5〜20μm高さ0.2〜5μmのリブを形成させる。
この加熱時の変形の範囲としては光重合性組成物と加熱条件を適宜調整し、加熱前の細線画像(矩形画像断面形状)の側面と基板平面から形成される接触角(W1)が上記加熱処理後の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角(W2)を比較した場合、W1/W2が通常1.2以上、好ましくは1.3以上、さらに好ましくは1.5以上、通常10以下、好ましくは8以下になるようにする。加熱温度が高い程、または加熱時間が長い程変形率が大きく、反対に加熱温度が低い程、または加熱時間が短い程その変形率は低い。
When the photopolymerizable composition of the present invention is used, the developed image has a cross-sectional shape close to a rectangular shape. In order to obtain an arched shape necessary for the rib shape, it is usually 150 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher, usually 400 ° C. or lower, preferably 300 ° C. or lower, more preferably 280 ° C. or lower. And a heat treatment for 10 minutes or more, preferably 15 minutes or more, more preferably 20 minutes or more, usually 120 minutes or less, preferably 60 minutes or less, more preferably 40 minutes or less, and a rectangular cross-sectional shape. Is deformed into an arch shape to form ribs having a width of 0.5 to 20 μm and a height of 0.2 to 5 μm.
As the range of deformation during heating, the photopolymerizable composition and heating conditions are adjusted as appropriate, and the contact angle (W1) formed from the side surface of the thin line image (rectangular image cross-sectional shape) before heating and the substrate plane is the above heating. When the contact angle (W2) formed from the side surface of the thin line image after processing and the substrate plane is compared, W1 / W2 is usually 1.2 or more, preferably 1.3 or more, more preferably 1.5 or more, usually It should be 10 or less, preferably 8 or less. The higher the heating temperature or the longer the heating time, the larger the deformation rate. Conversely, the lower the heating temperature or the shorter the heating time, the lower the deformation rate.

以下実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated further in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.

[合成例1(カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂の合成)]
500mL四つ口フラスコ中に、下記式(a−1)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂245g(エポキシ当量245)とテトラメチルアンモニウムクロライド110mg、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール100mgおよびアクリル酸72.0gと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート300gを仕込み、これに25mL/分の速度で空気を吹き込みながら90〜100℃で加熱溶解した。
次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、120℃に加熱して完全溶解させた。ここで溶液は次第に透明粘稠になったがそのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、1.0mg−KOH/g未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標に達するまで12時間を要した。そして室温まで冷却し、ビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。
次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート617.0gにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート300gを加えて溶解した後、ビフェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二酸無水物73.5gおよび臭化テトラエチルアンモニウム1gを混合し、徐々に昇温して110〜115℃で4時間反応させた。
酸無水物基の消失を確認した後、1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸38.0gを混合し、90℃で6時間反応させ、酸価100mg−KOH/g、分子量(ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量、以下同様)4200の樹脂を得た。
[Synthesis Example 1 (Synthesis of epoxy acrylate resin having carboxyl group)]
In a 500 mL four-necked flask, 245 g (epoxy equivalent 245) of bisphenolfluorene type epoxy resin represented by the following formula (a-1), 110 mg of tetramethylammonium chloride, 2,6-di-t-butyl-4-methyl 100 mg of phenol and 72.0 g of acrylic acid and 300 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were charged, and heated and dissolved at 90 to 100 ° C. while blowing air at a rate of 25 mL / min.
Next, the temperature was gradually raised while the solution was clouded, and the solution was heated to 120 ° C. to be completely dissolved. Here, although the solution gradually became transparent and viscous, stirring was continued as it was. During this time, the acid value was measured, and heating and stirring were continued until the acid value was less than 1.0 mg-KOH / g. It took 12 hours for the acid value to reach the target. And it cooled to room temperature and obtained the bisphenol fluorene type epoxy acrylate.
Next, after adding 300 g of propylene glycol monomethyl ether acetate to 617.0 g of the bisphenolfluorene type epoxy acrylate thus obtained, biphenyl-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid diacid is dissolved. 73.5 g of anhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide were mixed, gradually heated to react at 110 to 115 ° C. for 4 hours.
After confirming the disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90 ° C. for 6 hours to give an acid value of 100 mg-KOH / g, molecular weight (gel per A polystyrene-reduced weight average molecular weight (MPC) measurement 4200 was obtained.

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[合成例2(カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂の合成)]
式(a−1)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂の代わりに、下記式(a−2)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量261)261gを用いた以外は、合成例1と同様に合成し、酸価103mg−KOH/g、分子量4400の樹脂を得た。
[Synthesis Example 2 (Synthesis of epoxy acrylate resin having carboxyl group)]
Synthesis Example 1 except that 261 g of a bisphenolfluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 261) represented by the following formula (a-2) was used instead of the bisphenolfluorene type epoxy resin represented by the formula (a-1) And a resin having an acid value of 103 mg-KOH / g and a molecular weight of 4400 was obtained.

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[合成例3(カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂の合成)]
式(a−1)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂の代わりに、上記式(a−2)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量261)261gを用い、ビフェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二酸無水物の添加量73.5gのところを28.3g、1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸の添加量38.0gのところを117gと変更した以外は合成例1と同様に合成し、酸価109mg−KOH/g、分子量2600の樹脂を得た。
[Synthesis Example 3 (Synthesis of epoxy acrylate resin having carboxyl group)]
Instead of the bisphenolfluorene type epoxy resin represented by the formula (a-1), 261 g of a bisphenolfluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 261) represented by the above formula (a-2) was used, and biphenyl-3,3 ′ , 4,4'-Tetracarboxylic acid dianhydride added 73.5 g when changed to 28.3 g, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride added 38.0 g changed to 117 g A resin having an acid value of 109 mg-KOH / g and a molecular weight of 2600 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that.

[合成例4(カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂の合成)]
式(a−1)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂の代わりに、下記式(a−3)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量235)235gを用いた以外は合成例1と同様に合成し、酸価100mg−KOH/g、分子量3900の樹脂を得た。
[Synthesis Example 4 (Synthesis of epoxy acrylate resin having carboxyl group)]
Synthesis Example 1 except that 235 g of a bisphenolfluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 235) represented by the following formula (a-3) was used instead of the bisphenolfluorene type epoxy resin represented by the formula (a-1) Synthesis was performed in the same manner to obtain a resin having an acid value of 100 mg-KOH / g and a molecular weight of 3900.

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[合成例5(高分子分散剤溶液の調製)]
トリレンジイソシアネートの三量体(三菱化学社製、マイテックGP750A、樹脂固形分50重量%、酢酸ブチル溶液)32gと触媒としてジブチルチンジラウレート0.02gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)47gで希釈溶解した。
攪拌下に、これに、片末端がメトキシ基となっている数平均分子量1,000のポリエチレングリコール(日本油脂社製、ユニオックスM−1000)14.4gと数平均分子量1,000のポリプロピレングリコール(三洋化成工業社製、サンニックスPP−1000)9.6gとの混合物を滴下した後、70℃でさらに3時間反応させた。
次に、N,N−ジメチルアミノ−1,3−プロパンジアミン1gを加え、40℃でさらに1時間反応させた。このようにして得られた高分子分散剤を含有する溶液のアミン価を中和滴定によりもとめたところ14mg−KOH/gであった。また、樹脂含有量をドライアップ法(150℃で30分間、ホットプレート上で溶剤を除去し重量変化量により樹脂濃度を算出)により求めたところ40重量%であった。
[Synthesis Example 5 (Preparation of Polymer Dispersant Solution)]
32 g of tolylene diisocyanate trimer (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., Mytec GP750A, resin solid content 50 wt%, butyl acetate solution) and 0.02 g of dibutyltin dilaurate as a catalyst were diluted with 47 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) Dissolved.
While stirring, 14.4 g of polyethylene glycol (manufactured by NOF Corporation, UNIOX M-1000) having a methoxy group at one end and polypropylene glycol having a number average molecular weight of 1,000. A mixture of 9.6 g (Sanix PP-1000, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) was dropped, and the mixture was further reacted at 70 ° C. for 3 hours.
Next, 1 g of N, N-dimethylamino-1,3-propanediamine was added, and the mixture was further reacted at 40 ° C. for 1 hour. The amine value of the solution containing the polymer dispersant thus obtained was determined by neutralization titration to be 14 mg-KOH / g. The resin content was 40% by weight as determined by the dry-up method (at 150 ° C. for 30 minutes, the solvent was removed on a hot plate and the resin concentration was calculated from the weight change).

[合成例6(オキシムエステル系化合物B−1の合成)]
<ジケトン体>

Figure 2008179611
[Synthesis Example 6 (Synthesis of Oxime Ester Compound B-1)]
<Diketone body>
Figure 2008179611

エチルカルバゾール(5g、25.61mmol)と−ナフトイルクロリド(5.13g、26.89mmol)を30mlのジクロロメタンに溶解し、氷水バスにて2℃に冷却して攪拌し、AlCl3(3.41g、25.61mmol)を添加した。さらに室温にて3時間攪拌後、反応液にアセチルクロリド(2.11g、26.89mmol)の15mlジクロロメタン溶液を加え、AlCl3(4.1g、30.73mmol)を添加し、さらに1時間30分攪拌した。反応液を氷水200mlにあけ、ジクロロメタン200mlを添加し有機層を分液した。回収した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートし、白色固体(10g)を得た。 Ethylcarbazole (5 g, 25.61 mmol) and l -naphthoyl chloride (5.13 g, 26.89 mmol) are dissolved in 30 ml of dichloromethane, cooled to 2 ° C. with an ice-water bath and stirred, and then AlCl 3 (3. 41 g, 25.61 mmol) was added. Further, after stirring at room temperature for 3 hours, a 15 ml dichloromethane solution of acetyl chloride (2.11 g, 26.89 mmol) was added to the reaction solution, AlCl 3 (4.1 g, 30.73 mmol) was added, and another 1 hour 30 minutes. Stir. The reaction solution was poured into 200 ml of ice water, 200 ml of dichloromethane was added, and the organic layer was separated. The collected organic layer was dried over magnesium sulfate and then evaporated to obtain a white solid (10 g).

<オキシム体>

Figure 2008179611
<Oxime body>
Figure 2008179611

ジケトン体(1.4g、3.59mmol)、NH2OH・HCl(0.261g、3.76mmol)、および酢酸ナトリウム(0.32g、3.9mmol)をイソプロパノール15mlに混合し、3時間還流した。
全体をエバポレートし、酢酸エチル30mlを加え、飽和食塩水30mlで洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートして固体1.82gを得た。これをカラムクロマトグラフィーにて精製して、結晶1.09gを得た。
Diketone (1.4 g, 3.59 mmol), NH 2 OH · HCl (0.261 g, 3.76 mmol), and sodium acetate (0.32 g, 3.9 mmol) were mixed with 15 ml of isopropanol and refluxed for 3 hours. .
The whole was evaporated, 30 ml of ethyl acetate was added, washed with 30 ml of saturated brine, dried over magnesium sulfate and evaporated to give 1.82 g of a solid. This was purified by column chromatography to obtain 1.09 g of crystals.

<オキシムエステル体>

Figure 2008179611
<Oxime ester body>
Figure 2008179611

オキシム体(1.09g、2.67mmol)とアセチルクロリド(1.04g、13.4mmol)をジクロロメタン20gに溶解して氷冷し、トリエチルアミン(1.35g、13.4mmol)を滴下して、さらに室温で4時間反応した。薄層クロマトグラフィーにより原料の消失を確認した後、水を入れジクロロメタン30gを入れて有機層を分液し、NH4Cl水溶液で2回、5%Na2CO3水溶液で3回洗浄後、飽和食塩水で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、エバポレートした。残渣を酢酸エチル/ヘキサン=2/1のカラムで精製して0.79gの白色結晶を得た。 The oxime (1.09 g, 2.67 mmol) and acetyl chloride (1.04 g, 13.4 mmol) were dissolved in 20 g of dichloromethane and ice-cooled, and triethylamine (1.35 g, 13.4 mmol) was added dropwise. The reaction was performed at room temperature for 4 hours. After confirming the disappearance of the raw materials by thin layer chromatography, water was added, 30 g of dichloromethane was added, the organic layer was separated, washed with NH 4 Cl aqueous solution twice, and 5% Na 2 CO 3 aqueous solution three times, and then saturated. Washed twice with brine, dried over sodium sulfate and evaporated. The residue was purified by a column of ethyl acetate / hexane = 2/1 to obtain 0.79 g of white crystals.

NMR σ1.50(t,3H),2.30(s,3H),2.50(s,3H),4.45(q,2H),7.45−7.7(m,6H),7.95−8.1(m,4H),8.18(dd,1H),8.39(d,1H),8.63(d,1H)   NMR σ 1.50 (t, 3H), 2.30 (s, 3H), 2.50 (s, 3H), 4.45 (q, 2H), 7.45-7.7 (m, 6H), 7.95-8.1 (m, 4H), 8.18 (dd, 1H), 8.39 (d, 1H), 8.63 (d, 1H)

[合成例7(オキシムエステル系化合物B−2の合成)]
合成例6と同様にして下記オキシムエステル系化合物(B−2)を合成した。
NMR σ1.20(t,3H),1.51(t,3H),2.19(s,3H),2.33(s,3H),3.15−3.75(m,2H),4.45(q,2H),7.45−7.7(m,6H),7.95−8.1(m,4H),8.17(dd,1H),8.45(d,1H),8.67(d,1H)
[Synthesis Example 7 (Synthesis of Oxime Ester Compound B-2)]
The following oxime ester compound (B-2) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 6.
NMR σ 1.20 (t, 3H), 1.51 (t, 3H), 2.19 (s, 3H), 2.33 (s, 3H), 3.15-3.75 (m, 2H), 4.45 (q, 2H), 7.45-7.7 (m, 6H), 7.95-8.1 (m, 4H), 8.17 (dd, 1H), 8.45 (d, 1H), 8.67 (d, 1H)

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[合成例8(オキシムエステル系化合物B−7の合成)]
合成例6と同様にして下記オキシムエステル系化合物(B−7)を合成した。
NMR σ1.50(t,3H),1.18(d,3H),1.50(t,3H),1.83(s、3H),2.20(s,3H),2.32(s,3H),3.6−3.83(m,2H),4.43(q,2H),4.9(br,1H),7.22−7.33(m,4H),7.44−7.68(m,6H),7.87−8.1(m,4H),8.16(dd,1H),8.23(d,1H),8.60(d,1H)
[Synthesis Example 8 (Synthesis of Oxime Ester Compound B-7)]
In the same manner as in Synthesis Example 6, the following oxime ester compound (B-7) was synthesized.
NMR σ 1.50 (t, 3H), 1.18 (d, 3H), 1.50 (t, 3H), 1.83 (s, 3H), 2.20 (s, 3H), 2.32 ( s, 3H), 3.6-3.83 (m, 2H), 4.43 (q, 2H), 4.9 (br, 1H), 7.22-7.33 (m, 4H), 7 .44-7.68 (m, 6H), 7.87-8.1 (m, 4H), 8.16 (dd, 1H), 8.23 (d, 1H), 8.60 (d, 1H) )

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[合成例9(オキシムエステル系化合物B−10の合成)]
合成例6と同様にして下記オキシムエステル系化合物(B−10)を合成した。
NMR σ1.21(d,3H),1.51(t,3H),1.84(s、3H),2.20(s,3H),2.32(s,3H),3.2−3.4(m,2H),4.43(q,2H),4.9(br,1H),7.4−7.6(m,4H),7.92−8.0(m,3H),8.02(dd,1H),8.18(dd,1H),8.60(s,1H),8.83(d,1H)
[Synthesis Example 9 (Synthesis of Oxime Ester Compound B-10)]
In the same manner as in Synthesis Example 6, the following oxime ester compound (B-10) was synthesized.
NMR σ1.21 (d, 3H), 1.51 (t, 3H), 1.84 (s, 3H), 2.20 (s, 3H), 2.32 (s, 3H), 3.2 3.4 (m, 2H), 4.43 (q, 2H), 4.9 (br, 1H), 7.4-7.6 (m, 4H), 7.92-8.0 (m, 3H), 8.02 (dd, 1H), 8.18 (dd, 1H), 8.60 (s, 1H), 8.83 (d, 1H)

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[合成例10(オキシムエステル系化合物B−3の合成)]
合成例6と同様にして下記オキシムエステル系化合物(B−3)を合成した。
NMR σ1.48(t,3H),2.27(s,3H),2.48(s,3H),3.23(t,4H),4.03(t,4H),4.42(q,2H),7.13(d,1H),7.43−7.57(m,4H),7.61(d,1H),7.94−7.97(dd,1H),8.15−8.2(m,2H),8.3(d,1H),8.39(d,1H),8.59(d,1H).
[Synthesis Example 10 (Synthesis of Oxime Ester Compound B-3)]
The following oxime ester compound (B-3) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 6.
NMR σ1.48 (t, 3H), 2.27 (s, 3H), 2.48 (s, 3H), 3.23 (t, 4H), 4.03 (t, 4H), 4.42 ( q, 2H), 7.13 (d, 1H), 7.43-7.57 (m, 4H), 7.61 (d, 1H), 7.94-7.97 (dd, 1H), 8 15-8.2 (m, 2H), 8.3 (d, 1H), 8.39 (d, 1H), 8.59 (d, 1H).

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[合成例11(オキシムエステル系化合物B−4の合成)]
合成例6と同様にして下記オキシムエステル系化合物(B−4)を合成した。
NMR σ1.18(d,3H),1.48(t,3H),1.82(s,3H),2.18(s,3H),2.30(s,3H),3.22(t,4H),3.29(m,1H),4.03(t,4H),4.41(q,2H),7.12(d,1H),7.43−7.56(m,4H),7.61(d,1H),7.93(dd,1H),8.14(dd,1H),8.18−8.22(m,1H),8.27−8.32(m,1H),8.45(d,1H),8.64(d,1H)
[Synthesis Example 11 (Synthesis of Oxime Ester Compound B-4)]
The following oxime ester compound (B-4) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 6.
NMR σ 1.18 (d, 3H), 1.48 (t, 3H), 1.82 (s, 3H), 2.18 (s, 3H), 2.30 (s, 3H), 3.22 ( t, 4H), 3.29 (m, 1H), 4.03 (t, 4H), 4.41 (q, 2H), 7.12 (d, 1H), 7.43-7.56 (m , 4H), 7.61 (d, 1H), 7.93 (dd, 1H), 8.14 (dd, 1H), 8.18-8.22 (m, 1H), 8.27-8. 32 (m, 1H), 8.45 (d, 1H), 8.64 (d, 1H)

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[合成例12(オキシムエステル系化合物B−6の合成)]
合成例6と同様にして下記オキシムエステル系化合物(B−6)を合成した。
NMR σ1.48(t,3H),1.84(s,3H),2.04(s,3H),2.26(s,3H),2.96(t,4H),3.26(t,4H),4.6−4.8(m,1H),4.41(quartet,2H),7.11(doublet,1H),7.17(t,1H),7.25−7.30(m,5H),7.39−7.52(m,4H),7.86(dd,1H),8.00(dd,1H),8.30(d,1H),8.56(d,1H).
[Synthesis Example 12 (Synthesis of Oxime Ester Compound B-6)]
The following oxime ester compound (B-6) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 6.
NMR σ1.48 (t, 3H), 1.84 (s, 3H), 2.04 (s, 3H), 2.26 (s, 3H), 2.96 (t, 4H), 3.26 ( t, 4H), 4.6-4.8 (m, 1H), 4.41 (quartet, 2H), 7.11 (doublet, 1H), 7.17 (t, 1H), 7.25-7 .30 (m, 5H), 7.39-7.52 (m, 4H), 7.86 (dd, 1H), 8.00 (dd, 1H), 8.30 (d, 1H), 8. 56 (d, 1H).

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[合成例13(オキシムエステル系化合物B−5の合成)]
合成例6と同様にして下記オキシムエステル系化合物(B−5)を合成した。
NMR σ1.46(t,3H),2.26(s,3H),2.46(s,3H),3.87(s,3H),4.39(q,2H),7.10(s,1H),7.3(s,1H),7.4−7.5(m,3H),7.55−7.60(m,1H),7.84(t,1H),7.88(s,1H),8.1−8.2(dd,2H),8.61(d,1H),8.65(d,1H).
[Synthesis Example 13 (Synthesis of Oxime Ester Compound B-5)]
The following oxime ester compound (B-5) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 6.
NMR σ 1.46 (t, 3H), 2.26 (s, 3H), 2.46 (s, 3H), 3.87 (s, 3H), 4.39 (q, 2H), 7.10 ( s, 1H), 7.3 (s, 1H), 7.4-7.5 (m, 3H), 7.55-7.60 (m, 1H), 7.84 (t, 1H), 7 .88 (s, 1H), 8.1-8.2 (dd, 2H), 8.61 (d, 1H), 8.65 (d, 1H).

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[有機結合剤の種類]
以下の実施例および比較例では、有機結合剤として以下のものを用いた。
[Type of organic binder]
In the following examples and comparative examples, the following were used as organic binders.

A−1;合成例1で合成したカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂
A−2;合成例2で合成したカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂
A−3;合成例1で合成したカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂と合成例3で合成したカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂の1:1(重量比)混合物
A−4;重量平均分子量2000、酸価100mg−KOH/gの下記有機結合剤

Figure 2008179611
A−5;ACA200M(ダイセル化学工業社製。アクリル系ポリマーのカルボン酸基に、エポキシ基を有したアクリルモノマーを付加させてなるポリマー。すなわち側鎖にアクリル基を有するアクリル系ポリマー)
A−6;合成例4で合成したカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂 A-1; Epoxy acrylate resin having a carboxyl group synthesized in Synthesis Example 1 A-2; Epoxy acrylate resin having a carboxyl group synthesized in Synthesis Example 2 A-3; Epoxy acrylate having a carboxyl group synthesized in Synthesis Example 1 1: 1 (weight ratio) mixture of resin and epoxy acrylate resin having a carboxyl group synthesized in Synthesis Example 3 A-4; organic binder shown below having weight average molecular weight of 2000 and acid value of 100 mg-KOH / g
Figure 2008179611
A-5; ACA200M (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., a polymer obtained by adding an acrylic monomer having an epoxy group to a carboxylic acid group of an acrylic polymer, that is, an acrylic polymer having an acrylic group in a side chain)
A-6: Epoxy acrylate resin having a carboxyl group synthesized in Synthesis Example 4

[光重合開始剤の種類]
以下の実施例および比較例では、光重合開始剤として以下のものを用いた。
[Types of photopolymerization initiator]
In the following examples and comparative examples, the following were used as photopolymerization initiators.

Figure 2008179611
Figure 2008179611

なお、B−8:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「OXE−02」、B−9:特開平2006−36750号公報記載の化合物、である。   B-8: “OXE-02” manufactured by Ciba Specialty Chemicals, B-9: a compound described in JP-A No. 2006-36750.

[実施例1〜12および比較例1〜2(ブラックレジストの評価)]
<カーボンブラックの分散>
カラー用カーボンブラック(三菱化学社製、MA−220)50重量部、合成例5で調製した高分子分散剤を固形分として5重量部の割合で、かつ固形分濃度が50重量%となるようにカーボンブラック、高分子分散剤溶液およびPGMEAを加えた。分散液の全重量は50gであった。これを攪拌機によりよく攪拌しプレミキシングを行った。
次に、ペイントシェーカーにより25〜45℃の範囲で6時間分散処理を行った。ビーズは0.5mmφのジルコニアビーズを用い、分散液と同じ重量を加えた。分散終了後、フィルターによりビーズと分散液を分離した。
[Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 (Evaluation of Black Resist)]
<Dispersion of carbon black>
Carbon black for color (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., MA-220) 50 parts by weight, the polymer dispersant prepared in Synthesis Example 5 as a solid content in a ratio of 5 parts by weight, and the solid content concentration becomes 50% by weight Were added with carbon black, polymer dispersant solution and PGMEA. The total weight of the dispersion was 50 g. This was thoroughly stirred with a stirrer and premixed.
Next, the dispersion process was performed in the range of 25-45 degreeC with the paint shaker for 6 hours. As beads, 0.5 mmφ zirconia beads were used, and the same weight as the dispersion was added. After the completion of dispersion, the beads and the dispersion were separated by a filter.

<レジスト液の調合>
上述したカーボンブラックの分散インキを用いて固形分として下記の配合割合となるように各成分を加えスターラーにより攪拌、溶解させ、ブラックレジスト感光液を調製した。
<Preparation of resist solution>
Using the carbon black dispersion ink described above, each component was added so as to have the following blending ratio as a solid content, and stirred and dissolved with a stirrer to prepare a black resist photosensitive solution.

(配合割合)
(1)黒色顔料
カーボンブラック(三菱化学社製、MA−220) 50g
(2)有機結合剤
表1に記載の化合物 25g
(3)光重合性単量体:エチレン性化合物
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 14g
(4)光重合開始剤
表1に記載の光重合開始剤 14g
(5)有機溶剤
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 300g
(6)高分子分散剤(合成例5で調製したもの) 5g
(7)界面活性剤(住友3M社製、FC−430) 100ppm
(Mixing ratio)
(1) Black pigment Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MA-220) 50 g
(2) Organic binder 25g of the compounds listed in Table 1
(3) Photopolymerizable monomer: ethylenic compound dipentaerythritol hexaacrylate 14 g
(4) Photopolymerization initiator 14 g of the photopolymerization initiator described in Table 1
(5) Organic solvent 300 g of propylene glycol monomethyl ether acetate
(6) Polymer dispersant (prepared in Synthesis Example 5) 5 g
(7) Surfactant (Sumitomo 3M, FC-430) 100 ppm

<レジストの評価>
ブラックレジスト感光液をスピンコーターにてガラス基板(コーニング社製、7059)に塗布し、ホットプレートで80℃、1分間乾燥した。乾燥後のレジストの膜厚を触針式膜厚計(テンコール社製、α−ステップ)で測定したところ1μmであった。次に、このサンプルをマスクを通して高圧水銀灯で露光量を変えて像露光した。温度25℃、濃度0.8重量%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像することによりレジストパターンを得た。
感度、解像力および遮光性を下記の基準で評価し、表1に示す結果を得た。
<Evaluation of resist>
A black resist photosensitive solution was applied to a glass substrate (Corning Corp., 7059) with a spin coater, and dried on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute. The film thickness of the resist after drying was measured with a stylus type film thickness meter (manufactured by Tencor, α-step) and found to be 1 μm. Next, this sample was image-exposed through a mask while changing the exposure amount with a high-pressure mercury lamp. A resist pattern was obtained by spray development using an aqueous sodium carbonate solution having a temperature of 25 ° C. and a concentration of 0.8 wt%.
Sensitivity, resolving power and light shielding properties were evaluated according to the following criteria, and the results shown in Table 1 were obtained.

1.感度
20μmのマスクパターンを寸法通り形成できる適正露光量(mj/cm2)をもって表示した。すなわち、露光量の少ないレジストは低露光量で画像形成が可能であるため高感度であることを示す。
1. Sensitivity A 20 μm mask pattern was displayed with an appropriate exposure amount (mj / cm 2 ) that can be formed according to dimensions. That is, a resist with a small exposure amount has high sensitivity because an image can be formed with a low exposure amount.

2.残渣
未露光部が溶解する時間において、レジストが完全に現像除去されているべき、未露光部の詳細観察を行い、下記基準で評価した。
完全に膜がみられない。:○
白い膜が薄くみられるが、さらに時間を2倍に延長することにより、完全に膜がみ
られなくなる。:△
白い膜がみられる。時間を2倍に延長しても膜は残っている。:×
2. Residue During the time when the unexposed portion is dissolved, the resist was completely developed and removed, and the unexposed portion was observed in detail and evaluated according to the following criteria.
There is no complete film. : ○
The white film is thin, but if the time is further doubled, the film cannot be seen completely. : △
A white film is seen. Even if the time is extended twice, the membrane remains. : ×

3.耐アルカリ性
20μmのマスクパターンを忠実に再現する露光量において、現像時間を80秒とした解像可能なレジスト最小パターン寸法を200倍の倍率で顕微鏡観察し、下記基準で評価した。
最小パターン寸法が10μm以下 :◎
最小パターン寸法が10〜15μ :○
最小パターン寸法が15μmを超える :×
3. Alkali resistance At a light exposure that faithfully reproduces a 20 μm mask pattern, the minimum resist pattern size that can be resolved with a development time of 80 seconds was observed with a microscope at a magnification of 200 × and evaluated according to the following criteria.
Minimum pattern dimension is 10μm or less: ◎
Minimum pattern size is 10~15μ m:
Minimum pattern dimension exceeds 15 μm: ×

4.遮光性
画線部の光学濃度(OD)をマクベス反射濃度計(コルモルグン社製、TR927)で測定した。なお、OD値は遮光能力を示す数値であり数値が大きい程高遮光性であることを示す。
4). Light-shielding property The optical density (OD) of the image area was measured with a Macbeth reflection densitometer (TR927, manufactured by Kolmorgun). The OD value is a numerical value indicating the light shielding ability, and the larger the numerical value, the higher the light shielding property.

Figure 2008179611
Figure 2008179611

[実施例13、14、参考例1,2、および比較例3〜6(クリアレジストの評価)]
固形分として下記の配合割合となるように各成分を加え、スターラーにより攪拌、溶解させ、クリアレジスト感光液を調製した。
[Examples 13 and 14, Reference Examples 1 and 2, and Comparative Examples 3 to 6 (clear resist evaluation)]
Each component was added so that it might become the following mixture ratio as solid content, it stirred and melt | dissolved with the stirrer, and the clear resist photosensitive solution was prepared.

(配合割合)
有機結合剤(A−4) 46.6重量部
光重合性単量体(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)6.5重量部
クリスタルバイオレット 0.1重量部
フッ素系界面活性剤(大日本インキ社製) 0.0015重量部
光重合開始剤(表2に記載)
有機溶剤
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 300重量部
(Mixing ratio)
Organic binder (A-4) 46.6 parts by weight Photopolymerizable monomer (dipentaerythritol hexaacrylate) 6.5 parts by weight Crystal violet 0.1 part by weight Fluorosurfactant (Dainippon Ink Co., Ltd.) 0.0015 parts by weight Photopolymerization initiator (described in Table 2)
300 parts by weight of organic solvent (propylene glycol monomethyl ether acetate)

上記クリアレジスト感光液をスピンコーターにてガラス基板(コーニング社製、7059)に塗布し、ホットプレートで80℃で1分間乾燥した。乾燥後のレジストの膜厚を触針式膜厚計(テンコール社製、α−ステップ)で測定したところ1μmであった。温度25℃、濃度0.8%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像することによりレジストパターンを得た。
次に、このサンプルをマスクを通して高圧水銀灯でステップタブレットを用いて200mJ/cm2の露光量で像露光した。ステップタブレットは0段目を透過率100%とし、2段上がるごとに透過率が50%低下するものを用い、画像が形成される段数で感度を表現した。
The clear resist sensitizing solution was applied to a glass substrate (Corning Corp., 7059) with a spin coater and dried on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute. The film thickness of the resist after drying was measured with a stylus type film thickness meter (manufactured by Tencor, α-step) and found to be 1 μm. A resist pattern was obtained by spray development using a sodium carbonate aqueous solution having a temperature of 25 ° C. and a concentration of 0.8%.
Next, this sample was image-exposed through a mask with a high-pressure mercury lamp using a step tablet at an exposure amount of 200 mJ / cm 2 . For the step tablet, the transmittance at the 0th step was 100%, and the transmittance decreased by 50% for every second step, and the sensitivity was expressed by the number of steps at which an image was formed.

Figure 2008179611
Figure 2008179611

Claims (19)

下記一般式(I)で表されるオキシムエステル系化合物から成る光重合開始剤。
Figure 2008179611
〔式中、R1は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のヘテロアリール基または炭素数4〜25のヘテロアリールアルキル基を示し、これらはいずれも置換基を有していてもよい。あるいは、R1はXまたはYと結合し、環を形成してもよい。
2は、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数3〜25のアルケノイル基、炭素数4〜8のシクロアルカノイル基、炭素数7〜20のアリーロイル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基、炭素数7〜20のアリールオキシカルボニル基、炭素数2〜20のヘテロアリール基、炭素数3〜20のヘテロアリーロイル基または炭素数2〜20のアルキルアミノカルボニル基を示し、これらはいずれも置換基を有していてもよい。
Xは、置換基を有していてもよい、2個以上の環が縮合してなる、2価の芳香族炭化水素基および/または芳香族複素基を示す。
Yは、フェニル基または芳香族複素環単環由来の1価の基に、1以上の環が縮合してなる縮合環基を表し、該縮合環基は置換基を有していてもよい。〕
A photopolymerization initiator composed of an oxime ester compound represented by the following general formula (I).
Figure 2008179611
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, or a heteroarylalkyl group having 4 to 25 carbon atoms. These may all have a substituent. Alternatively, R 1 may be bonded to X or Y to form a ring.
R 2 is an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkanoyl group having 4 to 8 carbon atoms, an aryloyl group having 7 to 20 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms. , An aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an alkylaminocarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, It may have a substituent.
X represents a divalent aromatic hydrocarbon group and / or an aromatic hetero group formed by condensation of two or more rings which may have a substituent.
Y represents a condensed ring group formed by condensing one or more rings to a monovalent group derived from a phenyl group or an aromatic heterocyclic monocycle, and the condensed ring group may have a substituent. ]
前記一般式(I)において、Yが、フェニル基に1以上の環が縮合してなる縮合環基であり、該縮合環基は置換基を有していてもよい、請求項1に記載の光重合開始剤。   2. The general formula (I) according to claim 1, wherein Y is a condensed ring group obtained by condensing one or more rings to a phenyl group, and the condensed ring group may have a substituent. Photopolymerization initiator. 前記一般式(I)において、Yが、フェニル基の2,3−位、3,4−位および4,5−位から選ばれた少なくとも1箇所に、5または6員環が1〜3個縮合してなる2〜4縮合環由来の基であり、該基は置換基を有していてもよい、請求項2に記載の光重合開始剤。   In the general formula (I), Y is 1 to 3 5- or 6-membered rings in at least one position selected from the 2,3-position, 3,4-position, and 4,5-position of the phenyl group. The photopolymerization initiator according to claim 2, which is a group derived from a condensed ring having 2 to 4 condensed rings, and the group may have a substituent. 前記一般式(I)において、Yにおけるフェニル基に縮合する環が炭化水素環である、請求項2または3に記載の光重合開始剤。   The photopolymerization initiator according to claim 2 or 3, wherein in the general formula (I), the ring condensed with the phenyl group in Y is a hydrocarbon ring. 前記一般式(I)において、Yにおけるフェニル基に縮合する環が芳香族炭化水素環および/または芳香族複素環である、請求項2または3に記載の光重合開始剤。   The photopolymerization initiator according to claim 2 or 3, wherein, in the general formula (I), the ring condensed with the phenyl group in Y is an aromatic hydrocarbon ring and / or an aromatic heterocyclic ring. 前記一般式(I)において、Yが、芳香族複素環由来の1価の基に、1以上の環が縮合してなる縮合環基であり、該基は置換基を有していてもよい、請求項1に記載の光重合開始剤。   In the general formula (I), Y is a condensed ring group formed by condensing one or more rings to a monovalent group derived from an aromatic heterocyclic ring, and the group may have a substituent. The photopolymerization initiator according to claim 1. 前記一般式(I)において、Yが、置換基を有していてもよい2〜4縮合環基である、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の光重合開始剤。   The photopolymerization initiator according to any one of claims 1 to 6, wherein in the general formula (I), Y is a 2-4 condensed ring group which may have a substituent. 前記一般式(I)で表される化合物が、下記構造式(i)で表される化合物である、請求項1ないし7のいずれか1項に記載の光重合開始剤。
Figure 2008179611
〔式中、R、RおよびYは、前記一般式(I)におけると同義である。環Xは、ベンゼン環Xに縮合した環を表し、単環でも、2以上の環からなる縮合環でもよい。また環Xは、ベンゼン環Xのどの位置に縮合していてもよい。ベンゼン環Xおよびこれに縮合する環Xは、さらに置換基を有していてもよい。〕
The photopolymerization initiator according to any one of claims 1 to 7, wherein the compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following structural formula (i).
Figure 2008179611
[Wherein, R 1 , R 2 and Y have the same meaning as in the general formula (I). Ring X 2 represents a ring condensed with benzene ring X 1 , and may be a single ring or a condensed ring composed of two or more rings. Ring X 2 may be condensed at any position of benzene ring X 1 . The benzene ring X 1 and the ring X 2 condensed thereto may further have a substituent. ]
前記一般式(i)において、環Xが複素環である、請求項8に記載の光重合開始剤。 Wherein In the general formula (i), the ring X 2 is a heterocyclic, a photopolymerization initiator according to claim 8. 前記一般式(i)における、ベンゼン環Xおよび環Xからなる縮合環基が、2または3縮合環由来の2価の基である、請求項8または9に記載の光重合開始剤。 Wherein in formula (i), fused ring group consisting of a benzene ring X 1 and ring X 2 is a divalent group derived from 2 or 3 fused rings, the photopolymerization initiator according to claim 8 or 9. (A)有機結合剤、(B)光重合開始剤、および(C)光重合性単量体を含有する光重合性組成物において、(B)光重合開始剤が、請求項1ないし10のいずれか1項に記載の光重合開始剤を含有する、光重合性組成物。   The photopolymerizable composition containing (A) an organic binder, (B) a photopolymerization initiator, and (C) a photopolymerizable monomer, wherein (B) the photopolymerization initiator is according to claims 1 to 10. The photopolymerizable composition containing the photoinitiator of any one. 前記一般式(I)で表されるオキシムエステル系化合物の含有量が、(A)有機結合剤と(C)光重合性単量体の総量100重量部に対して5重量部以上である、請求項11に記載の光重合性組成物。   The content of the oxime ester compound represented by the general formula (I) is 5 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the total amount of (A) the organic binder and (C) the photopolymerizable monomer. The photopolymerizable composition according to claim 11. (A)有機結合剤が、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂である請求項11または12に記載の光重合性組成物。   The photopolymerizable composition according to claim 11 or 12, wherein the organic binder (A) is an epoxy acrylate resin having a carboxyl group. カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂が、ノボラック型エポキシ樹脂であるか、或いは下記一般式(X)で表されるエポキシ樹脂(a)と、α,β−不飽和モノカルボン酸および/またはエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b)との反応生成物に、多塩基酸無水物(c)を反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂である、請求項13に記載の光重合性組成物。
Figure 2008179611
〔式中、pおよびqは各々独立に0〜4の整数を表し、R11およびR12は各々独立してアルキル基またはハロゲン基を表す。R13およびR14は各々独立してアルキレン基を表す。mおよびnは各々独立して0以上の整数を表す。〕
The epoxy acrylate resin having a carboxyl group is a novolak type epoxy resin or an epoxy resin (a) represented by the following general formula (X) and an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or ester moiety The epoxy acrylate resin obtained by reacting a polybasic acid anhydride (c) with a reaction product with an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester (b) having a carboxyl group. Photopolymerizable composition.
Figure 2008179611
[Wherein, p and q each independently represent an integer of 0 to 4, and R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group or a halogen group. R 13 and R 14 each independently represents an alkylene group. m and n each independently represents an integer of 0 or more. ]
更に(D)色材を含有する、請求項11ないし14のいずれか1項に記載の光重合性組成物。   Furthermore, (D) The photopolymerizable composition of any one of Claim 11 thru | or 14 containing a coloring material. 更に(E)溶剤を含有する、請求項11ないし15のいずれか1項に記載の光重合性組成物。   The photopolymerizable composition according to any one of claims 11 to 15, further comprising (E) a solvent. 請求項11ないし16のいずれか1項に記載の光重合性組成物により形成された画像を有する、カラーフィルター。   A color filter having an image formed by the photopolymerizable composition according to claim 11. 請求項17に記載のカラーフィルターを用いて形成された、液晶表示装置。   A liquid crystal display device formed using the color filter according to claim 17. 下記一般式(II)の構造を有するオキシムエステル系化合物。
Figure 2008179611
〔式中、R1は、炭素数1〜3のアルキル基、または下記式(IIa)で表される基を表す。
Figure 2008179611
(式中、R101およびR102は各々独立に、水素原子、フェニル基またはN−アセチル−N−アセトキシアミノ基を表す。)
2は、炭素数2〜4のアルカノイル基を示し、Xは、窒素原子が炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい2価のカルバゾリル基を表す。Yaは、モルホリノ基で置換されていてもよいナフチル基を示す。〕
An oxime ester compound having the structure of the following general formula (II).
Figure 2008179611
[Wherein, R 1 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a group represented by the following formula (IIa).
Figure 2008179611
(Wherein R 101 and R 102 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or an N-acetyl-N-acetoxyamino group.)
R 2 represents an alkanoyl group having 2 to 4 carbon atoms, and X represents a divalent carbazolyl group in which a nitrogen atom may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Y a represents a naphthyl group which may be substituted with a morpholino group. ]
JP2007316038A 2006-12-20 2007-12-06 Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device Active JP5151433B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007316038A JP5151433B2 (en) 2006-12-20 2007-12-06 Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006343065 2006-12-20
JP2006343065 2006-12-20
JP2007316038A JP5151433B2 (en) 2006-12-20 2007-12-06 Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008179611A JP2008179611A (en) 2008-08-07
JP2008179611A5 true JP2008179611A5 (en) 2010-06-24
JP5151433B2 JP5151433B2 (en) 2013-02-27

Family

ID=39536197

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007316038A Active JP5151433B2 (en) 2006-12-20 2007-12-06 Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5151433B2 (en)
KR (3) KR101370818B1 (en)
CN (2) CN101528693B (en)
TW (1) TWI448453B (en)
WO (1) WO2008075564A1 (en)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4855312B2 (en) * 2007-03-27 2012-01-18 東京応化工業株式会社 Photosensitive composition
JP2009040762A (en) * 2007-08-09 2009-02-26 Ciba Holding Inc Oxime ester photo-initiator
KR101947474B1 (en) * 2008-07-09 2019-02-13 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 Colored photosensitive resin composition and oxime-based photopolymerization initiator
CN102459171B (en) * 2009-06-17 2014-07-09 东洋油墨Sc控股株式会社 Oxime ester compound, radical polymerization initiator, polymerizable composition, negative resist and image pattern
WO2011069947A1 (en) 2009-12-07 2011-06-16 Agfa-Gevaert Photoinitiators for uv-led curable compositions and inks
BR112012013777A2 (en) 2009-12-07 2018-05-08 Agfa Gevaert UV curable compositions and inks.
WO2011152066A1 (en) * 2010-06-04 2011-12-08 ダイトーケミックス株式会社 Oxime ester compound, process for producing oxime ester compound, photopolymerization initiator, and photosensitive composition
JP2013101337A (en) * 2011-10-20 2013-05-23 Mitsubishi Chemicals Corp Colored resin composition, color filter, liquid crystal display device, and organic el display device
JP6175259B2 (en) * 2012-03-26 2017-08-02 大阪ガスケミカル株式会社 Acid anhydride-modified fluorene-containing acrylic resin and method for producing the same
KR101664121B1 (en) 2012-12-13 2016-10-10 제일모직 주식회사 Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same
KR101609634B1 (en) 2012-12-26 2016-04-06 제일모직 주식회사 Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
KR102281546B1 (en) * 2013-08-05 2021-07-27 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 Pigment dispersion, photosensitive resin composition therewith, and dispersion aids
JP6530410B2 (en) * 2013-09-10 2019-06-12 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se Oxime ester photoinitiator
TWI668210B (en) * 2013-11-28 2019-08-11 塔可馬科技股份有限公司 Photoinitiator and photosensitive composition including the same
CN106796396B (en) * 2015-11-02 2018-12-11 互应化学工业株式会社 Photosensitive polymer combination, dry film and printed wiring board
CN107325206B (en) * 2016-04-12 2018-12-18 常州强力先端电子材料有限公司 One kind oxime ester lightlike initiating agent containing nitrocarbazole and its preparation method and application
JP6713112B2 (en) * 2016-04-27 2020-06-24 東京応化工業株式会社 Compound and method for producing the same
JP7151215B2 (en) * 2017-07-06 2022-10-12 三菱ケミカル株式会社 Photopolymerizable composition, cured product, image display device and oxime ester compound
KR102532379B1 (en) * 2018-06-12 2023-05-12 후지필름 가부시키가이샤 Manufacturing method of optically anisotropic layer
CN109233540A (en) * 2018-08-13 2019-01-18 宁波高新区诠宝绶新材料科技有限公司 A kind of preparation method of the polyether-ether-ketone enamel new material with superior heat-stability
US20220185775A1 (en) 2019-06-21 2022-06-16 IGM (Anqing) High Technology Development Co., Ltd. Novel diaroyl carbazole compound and use thereof as sensitising agent
CN112111028A (en) 2019-06-21 2020-12-22 江苏英力科技发展有限公司 Photoinitiator composition containing acylcarbazole derivative and carbazolyl oxime ester and application of photoinitiator composition in photocuring composition

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3044142B2 (en) * 1992-10-29 2000-05-22 キヤノン株式会社 EL device
ATE420877T1 (en) * 2002-12-03 2009-01-15 Ciba Holding Inc OXIMESTERS CONTAINING HETEROAROMATIC GROUPS AS PHOTOINTIATORS
JP2004359639A (en) * 2003-06-06 2004-12-24 Asahi Denka Kogyo Kk Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
JP3754065B2 (en) * 2003-06-10 2006-03-08 三菱化学株式会社 Photopolymerizable composition and color filter using the same
TWI285297B (en) * 2004-02-09 2007-08-11 Chi Mei Corp Light-sensitive resin composition for black matrix
JP4830310B2 (en) * 2004-02-23 2011-12-07 三菱化学株式会社 Oxime ester-based compound, photopolymerizable composition, and color filter using the same
JP4839710B2 (en) * 2004-08-09 2011-12-21 三菱化学株式会社 Photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display device
CN101014569B (en) * 2004-08-18 2013-01-02 西巴特殊化学品控股有限公司 Oxime ester initiators
JP4641861B2 (en) * 2005-05-11 2011-03-02 株式会社Adeka Alkali developable resin composition
ATE496027T1 (en) * 2005-12-01 2011-02-15 Basf Se OXIMESTER PHOTO INITIATORS

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5151433B2 (en) Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device
JP2008179611A5 (en)
JP4830310B2 (en) Oxime ester-based compound, photopolymerizable composition, and color filter using the same
JP3754065B2 (en) Photopolymerizable composition and color filter using the same
JP5790824B2 (en) Color filter pigment dispersion, color filter coloring composition, color filter, and liquid crystal display device
JP5092326B2 (en) Color material dispersion, colored resin composition, color filter, and liquid crystal display device
JP4442292B2 (en) Photopolymerizable composition, color filter and liquid crystal display device
JP5760374B2 (en) Ketoxime ester compounds and uses thereof
JP5018691B2 (en) Pigment dispersion, coloring composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic EL display
TWI431053B (en) Light-shielding resin composition, color filter and liquid crystal display device
JP2005025169A (en) Photopolymerizable composition and color filter using the same
JP5316034B2 (en) Coloring composition for color filter, color filter, and liquid crystal display device
JP6620743B2 (en) Resin, photosensitive resin composition, cured product, color filter, and image display device
JP2005148717A (en) Coloring composition for color filter, color filter and liquid crystal display device
JP4911205B2 (en) Photopolymerizable composition, color filter and liquid crystal display device
JP5040807B2 (en) Colored resin composition, color filter, and liquid crystal display device
JP4572624B2 (en) Coloring composition for color filter, color filter, and liquid crystal display device
JP2008040109A (en) Colored composition, color filter and liquid crystal display device
JP4725122B2 (en) Curable resin composition, color filter, and liquid crystal display device