JP2008177318A - Solid-state image pickup device and its manufacturing method, and image pickup device - Google Patents

Solid-state image pickup device and its manufacturing method, and image pickup device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem of discoloration by dispersing a singlet oxygen quencher in a color filter without deteriorating lithography characteristics when the color filter is formed. <P>SOLUTION: A solid-state image pickup device has a plurality of pixel parts respectively having a photoelectric conversion part 21 for converting an incident light amount into an electrical signal, a dye-based color filter 31 formed on the light incident side of each pixel part, and organic films 41, 42 that are formed in contact with the color filter 31 while including a singlet oxygen quencher. The singlet oxygen quencher is dispersed in the color filter 31. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、固体撮像装置およびその製造方法、ならびに撮像装置に関する。   The present invention relates to a solid-state imaging device, a manufacturing method thereof, and an imaging device.

監視カメラ、ビデオカメラ等、屋内、屋外で用いられる撮影機等には、カラー固体撮像素子（ＣＣＤ（Charge Coupled Device ）、ＣＭＯＳセンサ）が多く用いられている。例えば、図１４に示すように、固体撮像装置２０１は、光電変換部２２１の受光領域上に光を分光するためのカラーフィルター２３１、光を集光するためのマイクロレンズ２５１が形成された構成が採られている。   A color solid-state imaging device (CCD (Charge Coupled Device), CMOS sensor) is often used in a camera or the like used indoors and outdoors, such as a surveillance camera and a video camera. For example, as shown in FIG. 14, the solid-state imaging device 201 has a configuration in which a color filter 231 for separating light and a microlens 251 for collecting light are formed on a light receiving region of a photoelectric conversion unit 221. It is taken.

固体撮像装置のカラーフィルターに染料含有型カラーフィルターを用いた場合、顔料含有型カラーフィルターと比較して、画質ざらつき感が少ないという長所があるが、耐光性に劣るという短所がある。具体的には、例えば太陽光線や蛍光灯などに長時間曝されると退色し、本来の色が再現されなくなり、固体撮像装置として色再現性の悪化を招く問題がある。   When a dye-containing color filter is used as the color filter of the solid-state imaging device, there is an advantage that the image quality is less rough than the pigment-containing color filter, but there is a disadvantage that the light resistance is inferior. Specifically, for example, when exposed to sunlight or fluorescent lamps for a long time, the color fades, the original color is not reproduced, and the color reproducibility of the solid-state imaging device is deteriorated.

一方、カラーフィルター材に一重項酸素クエンチャーを添加することにより耐光性を向上させる技術である（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、カラーフィルター材（もしくはマイクロレンズ材）に一重項酸素クエンチャーを添加した場合、通常通りのフォトリソ法にてパタ−ン形成を行うと、形成機構における反応開始種（酸発生剤・重合開始剤・感光剤など）等の励起もクエンチングしてしまい、添加量によってはリソグラフィ−特性を大幅に低下させるという問題がある。従って、実状としては、耐光性を大幅向上するに必要な適切量を添加することができないという問題がある。   On the other hand, it is a technique for improving light resistance by adding a singlet oxygen quencher to a color filter material (see, for example, Patent Document 1). However, when a singlet oxygen quencher is added to the color filter material (or microlens material), if the pattern is formed by the usual photolithography method, the reaction initiation species (acid generator / polymerization start) in the formation mechanism Excitation of the agent / photosensitive agent etc. is also quenched, and there is a problem that the lithography characteristics are greatly deteriorated depending on the addition amount. Accordingly, the actual situation is that an appropriate amount necessary for greatly improving the light resistance cannot be added.

また、マイクロレンズに紫外線吸収剤を含有することにより、カラーフィルターの耐光性を向上するという技術がある（例えば、特許文献２参照。）。具体的には紫外線吸収剤はベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系のいずれかでもよく、特に紫外線(２００〜３８０ｎｍ)の吸収が大きく可視光領域(３８０〜７８０ｎｍ)に吸収のないものであればよいと記載されている。ただし、染料色素の光褪色による主メカニズムは、光により生成した一重項酸素による色素発色団の結合解離であることが知られており（例えば、特許文献３参照。）、紫外線照射起因による退色劣化の影響は少ないと考えられることから、本技術では十分に耐光性を向上することは難しい。   Further, there is a technique for improving the light resistance of a color filter by containing an ultraviolet absorber in a microlens (see, for example, Patent Document 2). Specifically, the ultraviolet absorber may be either a benzophenone-based or benzotriazole-based one, particularly as long as it absorbs ultraviolet rays (200 to 380 nm) and does not absorb in the visible light region (380 to 780 nm). Are listed. However, it is known that the main mechanism due to light fading of dye pigments is bond dissociation of pigment chromophores due to light-generated singlet oxygen (see, for example, Patent Document 3), and fading deterioration due to ultraviolet irradiation. Therefore, it is difficult to sufficiently improve the light resistance with this technology.

上記説明したように、固体撮像装置のカラーフィルターに染料系カラーフィルターを用いた場合、耐光性が弱いために、太陽光線などに長時間曝されると、本来の色再現特性を損なうという問題がある。染料色素の光退色メカニズムは、光により生成した一重項酸素による色素発色団の結合解離であることが知られている。そこで、カラーフィルター材料に一重項酸素クエンチャーを添加することにより耐光性を向上する技術が提案されている。しかし、カラーフィルター材（やマイクロレンズ材）に一重項酸素クエンチャーを添加した場合、リソグラフィ−特性を低下させるという問題があり、添加量に制限があるという課題がある。   As described above, when a dye-based color filter is used as the color filter of the solid-state imaging device, the light resistance is weak, so that there is a problem that the original color reproduction characteristic is impaired when exposed to sunlight for a long time. is there. It is known that the photobleaching mechanism of dye pigments is bond dissociation of pigment chromophores by singlet oxygen generated by light. Therefore, a technique for improving light resistance by adding a singlet oxygen quencher to a color filter material has been proposed. However, when a singlet oxygen quencher is added to a color filter material (or a microlens material), there is a problem that the lithography characteristics are deteriorated, and there is a problem that the addition amount is limited.

特開平１１−２２３７２０号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-223720 特開２０００−１８３３２２号公報JP 2000-183322 A 特開平１１−２２３７２０号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-223720

解決しようとする問題点は、カラーフィルター材に一重項酸素クエンチャーを添加した場合、リソグラフィー特性を低下させるという問題があり、添加量に制限があるという課題がある点である。   The problem to be solved is that when a singlet oxygen quencher is added to the color filter material, there is a problem that the lithography properties are deteriorated, and there is a problem that the addition amount is limited.

本発明は、カラーフィルター形成時のリソグラフィー特性を低下させることなく、一重項酸素クエンチャーをカラーフィルター内に導入することで、退色の問題を解決することを課題とする。   An object of the present invention is to solve the problem of fading by introducing a singlet oxygen quencher into a color filter without deteriorating the lithography characteristics when forming the color filter.

請求項１に係る本発明は、入射光量を電気信号に変換する光電変換部を有する複数の画素部と、前記各画素部の光入射側に形成された染料系のカラーフィルターと、前記カラーフィルターに接触して形成された一重項酸素クエンチャーを含む有機膜とを有し、前記一重項酸素クエンチャーが前記カラーフィルターに拡散されていることを特徴とする。   The present invention according to claim 1 includes a plurality of pixel units having a photoelectric conversion unit that converts an incident light amount into an electric signal, a dye-based color filter formed on a light incident side of each pixel unit, and the color filter. And an organic film containing a singlet oxygen quencher formed in contact with the singlet, and the singlet oxygen quencher is diffused in the color filter.

請求項１に係る本発明では、カラーフィルターに接触して形成された一重項酸素クエンチャーを含む有機膜とを有し、一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター層に拡散されていることから。カラーフィルターが染料系のものであっても退色が抑制される。しかも、カラーフィルターを形成した後に一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成して、一重項酸素クエンチャーがカラーフィルターに拡散されるので、カラーフィルターを形成する際のリソグラフィー特性を低下させることがない。   The present invention according to claim 1 has an organic film containing a singlet oxygen quencher formed in contact with the color filter, and the singlet oxygen quencher is diffused in the color filter layer. Even if the color filter is dye-based, fading is suppressed. In addition, an organic film containing a singlet oxygen quencher is formed after the color filter is formed, and the singlet oxygen quencher is diffused into the color filter, so that the lithography characteristics when forming the color filter may be reduced. Absent.

請求項３に係る本発明は、入射光量を電気信号に変換する光電変換部を有する複数の画素部を備え、前記各画素部の光入射側にカラーフィルターが形成された固体撮像装置の製造方法において、前記カラーフィルターに接触するように一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成する工程と、前記有機膜中の一重項酸素クエンチャーを前記カラーフィルターに拡散する工程とを備えたことを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a solid-state imaging device including a plurality of pixel units having a photoelectric conversion unit that converts an incident light amount into an electric signal, and a color filter formed on a light incident side of each pixel unit. The method includes: forming an organic film containing a singlet oxygen quencher so as to contact the color filter; and diffusing a singlet oxygen quencher in the organic film into the color filter. And

請求項３に係る本発明では、カラーフィルターに接触して一重項酸素クエンチャーを含む有機膜が形成され、一重項酸素クエンチャーがカラーフィルターに拡散されることから。カラーフィルター、特に染料系のカラーフィルターの退色が抑制される。しかも、カラーフィルターを形成した後に一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成して、一重項酸素クエンチャーがカラーフィルターに拡散されるので、すなわち、カラーフィルターの形成時にはカラーフィルターに一重項酸素クエンチャーが導入されていないので、カラーフィルターを形成する際のリソグラフィー特性を低下させることがない。   In the present invention according to claim 3, an organic film containing a singlet oxygen quencher is formed in contact with the color filter, and the singlet oxygen quencher is diffused into the color filter. Fading of color filters, particularly dye-based color filters, is suppressed. In addition, an organic film containing a singlet oxygen quencher is formed after the color filter is formed, and the singlet oxygen quencher is diffused into the color filter, that is, when the color filter is formed, the singlet oxygen quencher is added to the color filter. Since no char is introduced, the lithography characteristics when forming the color filter are not deteriorated.

請求項６に係る本発明は、入射光を集光する集光光学部と、前記集光光学部で集光した光を受光して光電変換する固体撮像装置と、光電変換された信号を処理する信号処理部とを備え、前記固体撮像装置は、入射光量を電気信号に変換する光電変換部を有する複数の画素部と、前記各画素部の光入射側に形成されたカラーフィルターと、前記カラーフィルターに接触して形成された一重項酸素クエンチャーを含む有機膜とを有し、前記一重項酸素クエンチャーが前記カラーフィルターに拡散されていることを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a condensing optical unit that condenses incident light, a solid-state imaging device that receives and condenses light collected by the condensing optical unit, and processes the photoelectrically converted signal The solid-state imaging device includes a plurality of pixel units having a photoelectric conversion unit that converts an incident light amount into an electrical signal, a color filter formed on a light incident side of each pixel unit, and And an organic film containing a singlet oxygen quencher formed in contact with the color filter, wherein the singlet oxygen quencher is diffused in the color filter.

請求項６に係る本発明では、本願発明の固体撮像装置を用いることから、上記説明したのと同様に、カラーフィルターの退色が抑制されるので、退色に係わる画質の劣化が抑制される。   In the present invention according to claim 6, since the solid-state imaging device of the present invention is used, the color filter fading is suppressed as described above, so that the deterioration of the image quality related to fading is suppressed.

請求項１に係る本発明によれば、カラーフィルターに一重項酸素クエンチャーが拡散されているため、カラーフィルターの耐光性が向上できるので、固体撮像装置の品質の向上が図れるという利点がある。   According to the first aspect of the present invention, since the singlet oxygen quencher is diffused in the color filter, the light resistance of the color filter can be improved, so that there is an advantage that the quality of the solid-state imaging device can be improved.

請求項３に係る本発明によれば、カラーフィルターを形成してから一重項酸素クエンチャーを拡散するため、カラーフィルターの耐光性が向上できるので、固体撮像装置の品質の向上が図れるという利点がある。また、リソグラフィー特性を低下させることなく、カラーフィルターの加工ができる。よって高精度の加工ができるという利点がある。   According to the third aspect of the present invention, since the singlet oxygen quencher is diffused after the color filter is formed, the light resistance of the color filter can be improved, so that the quality of the solid-state imaging device can be improved. is there. In addition, the color filter can be processed without deteriorating the lithography characteristics. Therefore, there is an advantage that high-precision processing can be performed.

請求項６に係る本発明によれば、本願発明の固体撮像装置を用いることから、上記説明したのと同様に、カラーフィルター作製時のリソグラフィー特性を劣化させることなく、カラーフィルターの耐光性を高めることが可能になるので、画質の向上が図れるという利点がある。   According to the sixth aspect of the present invention, since the solid-state imaging device of the present invention is used, the light resistance of the color filter is improved without deteriorating the lithography characteristics at the time of manufacturing the color filter, as described above. Therefore, there is an advantage that the image quality can be improved.

請求項１に係る本発明の一実施の形態（実施例）を、図１の概略構成断面図および図２の平面レイアウト図によって説明する。なお、図１は図２中のＡ−Ａ’線断面を示す。   An embodiment (example) of the present invention according to claim 1 will be described with reference to a schematic sectional view of FIG. 1 and a plan layout view of FIG. 1 shows a cross section taken along line A-A ′ in FIG. 2.

図１および図２に示すように、半導体基板１１には画素を分離する画素分離領域１２が形成されている。上記半導体基板１１には、例えばＳＯＩ（Silicon on insulator）基板のシリコン層もしくはシリコン基板が用いられる。また、画素分離領域１２は、例えばｐ型ウエル領域で形成されている。上記画素分離領域１２によって区分される領域には、光電変換部２１が形成されている。光電変換部２１の一方側には上記画素分離領域１２が形成され、他方側に読み出し領域２２を介して垂直転送部２３が形成されている。上記垂直転送部２３条にはゲート絶縁膜２４を介して転送電極２５（２５−１、２５−２）が形成されている。この転送電極２５は上記読み出し領域２２上に延長形成されていて、読み出しゲートを構成していてもよい。上記転送電極２５を被覆するように、絶縁膜２６を介して遮光膜２７が形成されている。上記光電変換部２１上の上記遮光膜２７には開口部２８が形成されている。さらに、上記遮光膜２７を被覆するようにパッシベーション膜２９、平坦化膜３０が形成されている。そして、平坦化膜３０上にカラーフィルター３１が形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, a pixel separation region 12 for separating pixels is formed in the semiconductor substrate 11. For example, a silicon layer or a silicon substrate of an SOI (Silicon on insulator) substrate is used for the semiconductor substrate 11. The pixel isolation region 12 is formed of, for example, a p-type well region. A photoelectric conversion unit 21 is formed in a region divided by the pixel separation region 12. The pixel separation region 12 is formed on one side of the photoelectric conversion unit 21, and the vertical transfer unit 23 is formed on the other side via a readout region 22. Transfer electrodes 25 (25-1, 25-2) are formed on the vertical transfer section 23 through a gate insulating film 24. The transfer electrode 25 may be extended on the readout region 22 to constitute a readout gate. A light shielding film 27 is formed through an insulating film 26 so as to cover the transfer electrode 25. An opening 28 is formed in the light shielding film 27 on the photoelectric conversion unit 21. Further, a passivation film 29 and a planarizing film 30 are formed so as to cover the light shielding film 27. A color filter 31 is formed on the planarizing film 30.

このカラーフィルター３１は、例えば、赤色（Ｒ）のカラーフィルター３１Ｒ、緑色（Ｇ）のカラーフィルター３１Ｇ、青色（Ｂ）のカラーフィルター３１Ｂの３色からなり、例えば、図３の平面レイアウト図に示すように、市松状に配置されている。例えば、カラーフィルター３１Ｒ、のカラーフィルター３１Ｇが交互に配列された列と、カラーフィルター３１Ｂ、のカラーフィルター３１Ｇが交互に配列された列とが、行方向に同色が隣接しないように、列方向に１列毎に交互に配置されている。   The color filter 31 includes, for example, three colors of a red (R) color filter 31R, a green (G) color filter 31G, and a blue (B) color filter 31B. For example, the color filter 31 is shown in the plan layout diagram of FIG. So that they are arranged in a checkered pattern. For example, a column in which the color filters 31G of the color filter 31R are alternately arranged and a column in which the color filters 31G of the color filter 31B are alternately arranged are arranged in the column direction so that the same color is not adjacent in the row direction. Alternatingly arranged for each column.

また、上記平坦化膜２８と上記カラーフィルター３１との間には、一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４１が形成されている。また、カラーフィルター３１間およびカラーフィルター３１上にも一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４２が形成されている。上記有機膜４１、４２からの一重項酸素クエンチャーの拡散によって、上記各カラーフィルター３１には一重項酸素クエンチャーが導入されている。このように、カラーフィルター３１が形成された後に一重項酸素クエンチャーが導入されていることに特徴がある。   An organic film 41 containing a singlet oxygen quencher is formed between the planarizing film 28 and the color filter 31. An organic film 42 including a singlet oxygen quencher is also formed between the color filters 31 and on the color filters 31. A singlet oxygen quencher is introduced into each color filter 31 by the diffusion of the singlet oxygen quencher from the organic films 41 and 42. As described above, the singlet oxygen quencher is introduced after the color filter 31 is formed.

上記一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４１、４２は両方が形成されていてもよく、もしくはどちらか一方が形成されていてもよい。要するに、有機膜４１、４２中の一重項酸素クエンチャーが適切な量だけ、カラーフィルター３１に拡散されて導入されればよい。上記一重項酸素クエンチャーは、分光特性として、透過率が十分に高く、可視光領域に吸収がない、もしくはほとんどない（例えば９０％以上の可視光透過率を有する）ものであればよい。例えば、ジアルキルホスフェイト、ジアルキルジチオカルバネ−ト、ベンゼンジチオ−ル等の金属錯体がよく、その金属としては、ニッケル、銅またはコバルトが良い。例えば、化学式（１）、（２）に表すようなものがある。なお、一重項酸素クエンチャーは、紫外線吸収剤のように、紫外線(２００ｎｍ〜３８０ｎｍ)に吸収が大きいなどの分光特性を有する必要は無い。   Both of the organic films 41 and 42 containing the singlet oxygen quencher may be formed, or one of them may be formed. In short, a singlet oxygen quencher in the organic films 41 and 42 may be diffused and introduced into the color filter 31 by an appropriate amount. The singlet oxygen quencher may have any spectral characteristic that is sufficiently high in transmittance and has no or almost no absorption in the visible light region (for example, having a visible light transmittance of 90% or more). For example, a metal complex such as dialkyl phosphate, dialkyl dithiocarbarate, and benzenedithiol is preferable, and the metal is nickel, copper, or cobalt. For example, there are those represented by chemical formulas (1) and (2). The singlet oxygen quencher does not need to have spectral characteristics such as a large absorption in ultraviolet rays (200 nm to 380 nm) unlike an ultraviolet absorber.

Figure 2008177318
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Figure 2008177318
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さらに、上記有機膜４２上の所望に位置に、上記各光電変換部２１に入射光を集光する集光レンズ５１が形成されている。上記集光レンズ５１を被覆するように、一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４３が形成されている。このように、集光レンズ５１上にも一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４３が形成されることで、集光レンズ５１を通してカラーフィルター３１に一重項酸素クエンチャーを拡散させることができる。   Further, a condensing lens 51 that condenses incident light on each of the photoelectric conversion units 21 is formed at a desired position on the organic film 42. An organic film 43 containing a singlet oxygen quencher is formed so as to cover the condenser lens 51. As described above, the organic film 43 including the singlet oxygen quencher is also formed on the condenser lens 51, whereby the singlet oxygen quencher can be diffused into the color filter 31 through the condenser lens 51.

請求項１に係る本発明では、カラーフィルターに接触して形成された一重項酸素クエンチャーを含む有機膜とを有し、一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター層に拡散されていることから。カラーフィルターが染料系のものであっても退色が抑制される。しかも、カラーフィルターを形成した後に一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成して、一重項酸素クエンチャーがカラーフィルターに拡散されるので、カラーフィルターを形成する際のリソグラフィー特性を低下させることがない。よって、カラーフィルターに一重項酸素クエンチャーが拡散されているため、カラーフィルターの耐光性が向上できるので、固体撮像装置の品質の向上が図れるという利点がある。   The present invention according to claim 1 has an organic film containing a singlet oxygen quencher formed in contact with the color filter, and the singlet oxygen quencher is diffused in the color filter layer. Even if the color filter is dye-based, fading is suppressed. In addition, an organic film containing a singlet oxygen quencher is formed after the color filter is formed, and the singlet oxygen quencher is diffused into the color filter, so that the lithography characteristics when forming the color filter may be reduced. Absent. Therefore, since the singlet oxygen quencher is diffused in the color filter, the light resistance of the color filter can be improved, so that the quality of the solid-state imaging device can be improved.

次に、請求項３に係る本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第１実施例）を、図４〜図７の製造工程断面図によって説明する。   Next, an embodiment (first example) of a method for manufacturing a solid-state imaging device according to a third aspect of the present invention will be described with reference to manufacturing process cross-sectional views of FIGS.

図４（１）に示すように、半導体基板１１には画素を分離する画素分離領域１２が形成されている。上記半導体基板１１には、例えばＳＯＩ（Silicon on insulator）基板のシリコン層もしくはシリコン基板が用いられる。また、画素分離領域１２は、例えばｐ型ウエル領域で形成されている。上記画素分離領域１２によって区分される領域には、光電変換部２１が形成されている。光電変換部２１の一方側には上記画素分離領域１２が形成され、他方側に読み出し領域２２を介して垂直転送部２３が形成されている。上記垂直転送部２３条にはゲート絶縁膜２４を介して転送電極２５が形成されている。この転送電極２５は上記読み出し領域２２上に延長形成されていて、読み出しゲートを構成していてもよい。上記転送電極２５を被覆するように、絶縁膜２６を介して遮光膜２７が形成されている。上記光電変換部２１上の上記遮光膜２７には開口部２８が形成されている。さらに、上記遮光膜２７を被覆するようにパッシベーション膜２９、平坦化膜３０が形成されている。   As shown in FIG. 4A, a pixel separation region 12 for separating pixels is formed on the semiconductor substrate 11. For example, a silicon layer or a silicon substrate of an SOI (Silicon on insulator) substrate is used for the semiconductor substrate 11. The pixel isolation region 12 is formed of, for example, a p-type well region. A photoelectric conversion unit 21 is formed in a region divided by the pixel separation region 12. The pixel separation region 12 is formed on one side of the photoelectric conversion unit 21, and the vertical transfer unit 23 is formed on the other side via a readout region 22. A transfer electrode 25 is formed on the vertical transfer portion 23 via a gate insulating film 24. The transfer electrode 25 may be extended on the readout region 22 to constitute a readout gate. A light shielding film 27 is formed through an insulating film 26 so as to cover the transfer electrode 25. An opening 28 is formed in the light shielding film 27 on the photoelectric conversion unit 21. Further, a passivation film 29 and a planarizing film 30 are formed so as to cover the light shielding film 27.

このような状態で上記平坦化膜２８上に一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４１を形成する。一重項酸素クエンチャーとしては、分光特性として、透過率が十分に高く、可視光領域に吸収がない、もしくはほとんどない（例えば９０％以上の可視光透過率を有する）ものであればよい。例えば、ジアルキルホスフェイト、ジアルキルジチオカルバネ−ト、ベンゼンジチオ−ル等の金属錯体がよく、その金属としては、ニッケル、銅またはコバルトが良い。例えば、前記化学式（１）、（２）に表すようなものがある。また、有機膜４１を構成する樹脂、硬化剤、溶媒等は、分光特性としては透過率が十分に高く、可視光領域に吸収がほとんどない（例えば９０％以上の可視光透過率を有する）ものであればよい。またカラーフィルタ材やマイクロレンズ材等の塗布による溶け出しなどが起こらない程度の硬化密度を得られる組成で有している必要がある。例えば、ノボラック樹脂、硬化剤はメラミン系硬化剤などを用いることができる。   In such a state, an organic film 41 containing a singlet oxygen quencher is formed on the planarizing film 28. The singlet oxygen quencher may have any spectral characteristics that are sufficiently high in transmittance and have no or almost no absorption in the visible light region (for example, having a visible light transmittance of 90% or more). For example, a metal complex such as dialkyl phosphate, dialkyl dithiocarbarate, and benzenedithiol is preferable, and the metal is nickel, copper, or cobalt. For example, there are those represented by the chemical formulas (1) and (2). In addition, the resin, the curing agent, the solvent, and the like constituting the organic film 41 have sufficiently high transmittance as spectral characteristics, and hardly absorb in the visible light region (for example, have a visible light transmittance of 90% or more). If it is. In addition, it is necessary to have a composition that can obtain a curing density that does not cause dissolution by application of a color filter material or a microlens material. For example, a novolak resin and a curing agent may be a melamine curing agent.

次に、図４（２）に示すように、上記有機膜４１上に、例えば、緑色のカラーフィルター３１Ｇを形成するためのカラーフィルター層３２Ｇを形成する。   Next, as shown in FIG. 4B, a color filter layer 32G for forming, for example, a green color filter 31G is formed on the organic film 41.

次に、図５（３）に示すように、前記カラーフィルター層３２Ｇをパターニングして、所望の位置に、緑色のカラーフィルター３１（３１Ｇ）を上記カラーフィルター層３２Ｇで形成する。   Next, as shown in FIG. 5 (3), the color filter layer 32G is patterned to form a green color filter 31 (31G) with the color filter layer 32G at a desired position.

次に、図５（４）に示すように、上記有機膜４１上に、例えば、赤色のカラーフィルター３１Ｒを形成するためのカラーフィルター層を形成し、それをパターニングして、所望の位置に、赤色のカラーフィルター３１（３１Ｒ）を上記カラーフィルター層で形成する。同様に、上記有機膜４１上に、例えば、青色のカラーフィルター３１Ｂを形成するためのカラーフィルター層を形成し、それをパターニングして、所望の位置に、青色のカラーフィルター３１（３１Ｂ）を上記カラーフィルター層で形成する。上記カラーフィルター３１Ｒ、３１Ｇ、３１Ｂの作製順は限定されず、どのカラーフィルターを先に形成してもよい。上記カラーフィルター３１Ｒ、３１Ｇ、３１Ｂを形成する際に、隣接するカラーフィルター間隔に隙間３３を形成しておく。   Next, as shown in FIG. 5 (4), on the organic film 41, for example, a color filter layer for forming a red color filter 31R is formed, and patterned to be in a desired position. A red color filter 31 (31R) is formed of the color filter layer. Similarly, a color filter layer for forming, for example, a blue color filter 31B is formed on the organic film 41, and is patterned to place the blue color filter 31 (31B) at a desired position. It is formed with a color filter layer. The production order of the color filters 31R, 31G, and 31B is not limited, and any color filter may be formed first. When forming the color filters 31R, 31G, and 31B, a gap 33 is formed between adjacent color filters.

次に、図６（５）に示すように、上記カラーフィルター３１Ｒ、３１Ｇ、３１Ｂを被覆するように、一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４２を形成する。この一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４２は、上記有機膜４１と同様なる材質のものを用いる。この有機膜４２は上記隙間３３内部を埋め込むように形成される。   Next, as shown in FIG. 6 (5), an organic film 42 containing a singlet oxygen quencher is formed so as to cover the color filters 31R, 31G, and 31B. The organic film 42 containing the singlet oxygen quencher is made of the same material as the organic film 41. The organic film 42 is formed so as to fill the gap 33.

次に、図６（６）に示すように、上記有機膜４２上の所望に位置に、上記各光電変換部２１に入射光を集光する集光レンズ５１を形成する。   Next, as shown in FIG. 6 (6), a condenser lens 51 that condenses incident light on each of the photoelectric conversion units 21 is formed at a desired position on the organic film 42.

次に、図７（７）に示すように、上記集光レンズ５１を被覆するように、一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４３を形成する。このように、集光レンズ５１上にも一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４３を形成することで、集光レンズ５１を通してカラーフィルター３１に一重項酸素クエンチャーを拡散させることができる。   Next, as shown in FIG. 7 (7), an organic film 43 containing a singlet oxygen quencher is formed so as to cover the condenser lens 51. In this manner, the singlet oxygen quencher can be diffused to the color filter 31 through the condenser lens 51 by forming the organic film 43 including the singlet oxygen quencher on the condenser lens 51.

次に、上記有機膜４１〜４３を加熱処理することで、有機膜４１〜４３中の一重項酸素クエンチャーをカラーフィルター３１内に拡散させる。この一重項酸素クエンチャーの拡散処理は、加熱処理の他に、光照射、超音波照射、マイクロ波照射等によっても行うことができる。上記一重項酸素クエンチャーは、例えば熱拡散によってカラーフィルター３１に拡散されるので、有機膜４１〜４２を加熱する処理であれば有効である。また、熱処理と光照射とを併用することもできる。例えば紫外線キュア処理により行うことができる。   Next, the organic films 41 to 43 are subjected to heat treatment to diffuse the singlet oxygen quencher in the organic films 41 to 43 into the color filter 31. This singlet oxygen quencher diffusion treatment can be performed by light irradiation, ultrasonic irradiation, microwave irradiation, or the like in addition to the heat treatment. Since the singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31 by, for example, thermal diffusion, any treatment that heats the organic films 41 to 42 is effective. Moreover, heat treatment and light irradiation can be used in combination. For example, it can be performed by ultraviolet curing.

また、上記一重項酸素クエンチャーの拡散処理は、カラーフィルター３１を形成した後に行うこともできる。すなわち、有機膜４２を形成した後に行うこともできる。また、有機膜４１で十分な一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター３１に拡散される場合には、有機膜４２、４３を形成する必要はない。同様に、有機膜４２で十分な一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター３１に拡散される場合には、有機膜４１、４３を形成する必要はない。有機膜４１、４２で十分な一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター３１に拡散される場合には、有機膜４３を形成する必要はない。   Further, the diffusion treatment of the singlet oxygen quencher can be performed after the color filter 31 is formed. That is, it can be performed after the organic film 42 is formed. Further, when sufficient singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31 by the organic film 41, it is not necessary to form the organic films 42 and 43. Similarly, when sufficient singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31 by the organic film 42, it is not necessary to form the organic films 41 and 43. When sufficient singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31 by the organic films 41 and 42, it is not necessary to form the organic film 43.

次に、請求項３に係る本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第２実施例）を、図８〜図１２の製造工程断面図によって説明する。   Next, an embodiment (second example) of a method for manufacturing a solid-state imaging device according to a third aspect of the present invention will be described with reference to manufacturing process cross-sectional views of FIGS.

図８（１）に示すように、半導体基板１１には画素を分離する画素分離領域１２が形成されている。上記半導体基板１１には、例えばＳＯＩ（Silicon on insulator）基板のシリコン層もしくはシリコン基板が用いられる。また、画素分離領域１２は、例えばｐ型ウエル領域で形成されている。上記画素分離領域１２によって区分される領域には、光電変換部２１が形成されている。光電変換部２１の一方側には上記画素分離領域１２が形成され、他方側に読み出し領域２２を介して垂直転送部２３が形成されている。上記垂直転送部２３条にはゲート絶縁膜２４を介して転送電極２５が形成されている。この転送電極２５は上記読み出し領域２２上に延長形成されていて、読み出しゲートを構成していてもよい。上記転送電極２５を被覆するように、絶縁膜２６を介して遮光膜２７が形成されている。上記光電変換部２１上の上記遮光膜２７には開口部２８が形成されている。さらに、上記遮光膜２７を被覆するようにパッシベーション膜２９、平坦化膜３０が形成されている。   As shown in FIG. 8A, a pixel separation region 12 for separating pixels is formed in the semiconductor substrate 11. For example, a silicon layer or a silicon substrate of an SOI (Silicon on insulator) substrate is used for the semiconductor substrate 11. The pixel isolation region 12 is formed of, for example, a p-type well region. A photoelectric conversion unit 21 is formed in a region divided by the pixel separation region 12. The pixel separation region 12 is formed on one side of the photoelectric conversion unit 21, and the vertical transfer unit 23 is formed on the other side via a readout region 22. A transfer electrode 25 is formed on the vertical transfer portion 23 via a gate insulating film 24. The transfer electrode 25 may be extended on the readout region 22 to constitute a readout gate. A light shielding film 27 is formed through an insulating film 26 so as to cover the transfer electrode 25. An opening 28 is formed in the light shielding film 27 on the photoelectric conversion unit 21. Further, a passivation film 29 and a planarizing film 30 are formed so as to cover the light shielding film 27.

このような状態で上記平坦化膜２８上に一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４１を形成する。一重項酸素クエンチャーとしては、分光特性として、透過率が十分に高く、可視光領域に吸収がない、もしくはほとんどない（例えば９０％以上の可視光透過率を有する）ものであればよい。例えば、ジアルキルホスフェイト、ジアルキルジチオカルバネ−ト、ベンゼンジチオ−ル等の金属錯体がよく、その金属としては、ニッケル、銅またはコバルトが良い。例えば、前記化学式（１）、（２）に表すようなものがある。また、有機膜４１を構成する樹脂、硬化剤、溶媒等は、分光特性としては透過率が十分に高く、可視光領域に吸収がほとんどない（例えば９０％以上の可視光透過率を有する）ものであればよい。またカラーフィルタ材やマイクロレンズ材等の塗布による溶け出しなどが起こらない程度の硬化密度を得られる組成で有している必要がある。例えば、ノボラック樹脂、硬化剤はメラミン系硬化剤などを用いることができる。   In such a state, an organic film 41 containing a singlet oxygen quencher is formed on the planarizing film 28. The singlet oxygen quencher may have any spectral characteristics that are sufficiently high in transmittance and have no or almost no absorption in the visible light region (for example, having a visible light transmittance of 90% or more). For example, a metal complex such as dialkyl phosphate, dialkyl dithiocarbarate, and benzenedithiol is preferable, and the metal is nickel, copper, or cobalt. For example, there are those represented by the chemical formulas (1) and (2). In addition, the resin, the curing agent, the solvent, and the like constituting the organic film 41 have sufficiently high transmittance as spectral characteristics, and hardly absorb in the visible light region (for example, have a visible light transmittance of 90% or more). If it is. In addition, it is necessary to have a composition that can obtain a curing density that does not cause dissolution by application of a color filter material or a microlens material. For example, a novolak resin and a curing agent may be a melamine curing agent.

次に、図８（２）に示すように、上記有機膜４１上に、例えば、緑色のカラーフィルター３１Ｇを形成するためのカラーフィルター層３２Ｇを形成する。   Next, as shown in FIG. 8B, a color filter layer 32G for forming a green color filter 31G is formed on the organic film 41, for example.

次に、図９（３）に示すように、前記カラーフィルター層３２Ｇをパターニングして、所望の位置に、緑色のカラーフィルター３１（３１Ｇ）を上記カラーフィルター層３２Ｇで形成する。   Next, as shown in FIG. 9 (3), the color filter layer 32G is patterned to form a green color filter 31 (31G) with the color filter layer 32G at a desired position.

次に、図９（４）に示すように、上記カラーフィルター３１Ｇを被覆するように、一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４４を形成する。この一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４４は、上記有機膜４１と同様なる材質のものを用いる。   Next, as shown in FIG. 9 (4), an organic film 44 containing a singlet oxygen quencher is formed so as to cover the color filter 31G. The organic film 44 containing the singlet oxygen quencher is made of the same material as the organic film 41.

次に、図１０（５）に示すように、上記有機膜４４上に、例えば、赤色のカラーフィルター３１Ｒを形成するためのカラーフィルター層を形成し、それをパターニングして、所望の位置に、赤色のカラーフィルター３１（３１Ｒ）を上記赤色のカラーフィルター層で形成する。同様に、上記有機膜４１上に、例えば、青色のカラーフィルター３１Ｂを形成するためのカラーフィルター層を形成し、それをパターニングして、所望の位置に、青色のカラーフィルター３１（３１Ｂ）を上記青色のカラーフィルター層で形成する。上記カラーフィルター３１（３１Ｒ、３１Ｇ、３１Ｂ）の作製順は限定されず、どのカラーフィルター３１を先に形成してもよい。   Next, as shown in FIG. 10 (5), for example, a color filter layer for forming a red color filter 31R is formed on the organic film 44, and is patterned to be in a desired position. A red color filter 31 (31R) is formed of the red color filter layer. Similarly, a color filter layer for forming, for example, a blue color filter 31B is formed on the organic film 41, and is patterned to place the blue color filter 31 (31B) at a desired position. It is formed with a blue color filter layer. The production order of the color filters 31 (31R, 31G, 31B) is not limited, and any color filter 31 may be formed first.

次に、図１０（６）に示すように、上記各カラーフィルター３１Ｒ、３１Ｇ、３１Ｂを被覆するように、一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４５を形成する。この一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４５は、上記有機膜４１と同様なる材質のものを用いる。この有機膜４５はカラーフィルター３１間に隙間が形成されている場合には、その隙間を埋め込むように形成される。   Next, as shown in FIG. 10 (6), an organic film 45 containing a singlet oxygen quencher is formed so as to cover the color filters 31R, 31G, and 31B. The organic film 45 containing the singlet oxygen quencher is made of the same material as the organic film 41. When a gap is formed between the color filters 31, the organic film 45 is formed so as to fill the gap.

次に、図１１（７）に示すように、上記有機膜４５上の所望に位置に、上記各光電変換部２１に入射光を集光する集光レンズ５１を形成する。   Next, as shown in FIG. 11 (7), a condensing lens 51 that condenses incident light on each of the photoelectric conversion units 21 is formed at a desired position on the organic film 45.

次に、図１２（８）に示すように、上記集光レンズ５１を被覆するように、一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４３を形成する。このように、集光レンズ５１上にも一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４３を形成することで、集光レンズ５１を通してカラーフィルター３１に一重項酸素クエンチャーを拡散させることができる。   Next, as shown in FIG. 12 (8), an organic film 43 containing a singlet oxygen quencher is formed so as to cover the condenser lens 51. In this manner, the singlet oxygen quencher can be diffused to the color filter 31 through the condenser lens 51 by forming the organic film 43 including the singlet oxygen quencher on the condenser lens 51.

次に、上記有機膜４１、４３〜４５を加熱処理することで、有機膜４１、４３〜４５中の一重項酸素クエンチャーをカラーフィルター３１内に拡散させる。この一重項酸素クエンチャーの拡散処理は、加熱処理の他に、光照射、超音波照射、マイクロ波照射等によっても行うことができる。上記一重項酸素クエンチャーは、例えば熱拡散によってカラーフィルター３１に拡散されるので、有機膜４１、４３〜４５を加熱する処理であれば有効である。また、熱処理と光照射とを併用することもできる。例えば紫外線キュア処理により行うことができる。   Next, the organic films 41 and 43 to 45 are subjected to heat treatment to diffuse the singlet oxygen quencher in the organic films 41 and 43 to 45 into the color filter 31. This singlet oxygen quencher diffusion treatment can be performed by light irradiation, ultrasonic irradiation, microwave irradiation, or the like in addition to the heat treatment. Since the singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31 by, for example, thermal diffusion, any treatment that heats the organic films 41 and 43 to 45 is effective. Moreover, heat treatment and light irradiation can be used in combination. For example, it can be performed by ultraviolet curing.

また、上記一重項酸素クエンチャーの拡散処理は、カラーフィルター３１を形成した後に行うこともできる。すなわち、有機膜４５を形成した後に行うこともできる。また、有機膜４１で十分な一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター３１に拡散される場合には、有機膜４３〜４５を形成する必要はない。同様に、有機膜４４で十分な一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター３１に拡散される場合には、有機膜４１、４３、４５を形成する必要はない。有機膜４１、４５で十分な一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター３１に拡散される場合には、有機膜４３、４４を形成する必要はない。   Further, the diffusion treatment of the singlet oxygen quencher can be performed after the color filter 31 is formed. That is, it can be performed after the organic film 45 is formed. Further, when sufficient singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31 by the organic film 41, it is not necessary to form the organic films 43 to 45. Similarly, when sufficient singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31 by the organic film 44, it is not necessary to form the organic films 41, 43, and 45. When sufficient singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31 by the organic films 41 and 45, it is not necessary to form the organic films 43 and 44.

上記製造方法では、カラーフィルター３１に接触して一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４１、４４、４５が形成され、一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター３１に拡散されることから。カラーフィルター３１、特に染料系のカラーフィルターの退色が抑制される。しかも、カラーフィルター３１を形成した後に一重項酸素クエンチャーを含む有機膜４１、４４，４５から一重項酸素クエンチャーがカラーフィルター３１に拡散されるので、すなわち、カラーフィルター３１の形成時にはカラーフィルター３１に一重項酸素クエンチャーが導入されていないので、カラーフィルター３１を形成する際のリソグラフィー特性を低下させることがない。   In the above manufacturing method, the organic films 41, 44, and 45 containing the singlet oxygen quencher are formed in contact with the color filter 31, and the singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31. Color fading of the color filter 31, particularly a dye-based color filter, is suppressed. In addition, since the singlet oxygen quencher is diffused into the color filter 31 from the organic films 41, 44, and 45 containing the singlet oxygen quencher after the color filter 31 is formed, that is, when the color filter 31 is formed, the color filter 31 is formed. Since no singlet oxygen quencher is introduced, the lithographic characteristics when forming the color filter 31 are not deteriorated.

よって、特に染料系のカラーフィルター３１の耐光性が向上できるので、固体撮像装置１の品質の向上が図れるという利点がある。また、リソグラフィー特性を低下させることなく、カラーフィルター３１の加工ができる。よって高精度の加工ができるという利点がある。   Therefore, since the light resistance of the dye-based color filter 31 can be improved, there is an advantage that the quality of the solid-state imaging device 1 can be improved. Further, the color filter 31 can be processed without deteriorating the lithography characteristics. Therefore, there is an advantage that high-precision processing can be performed.

次に、上記一重項酸素クエンチャーの効果を説明する。石英ガラス基板上にカラーフィルター形成膜を塗布し、露光、現像、キュア処理を行い、試料１を形成した。この形成方法で、緑、赤、青の３色のカラーフィルター形成膜の試料１を形成した。また、石英ガラス基板上にカラーフィルター形成膜を塗布し、露光、現像、キュア処理を行い、カラーフィルター上に一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成し、その後キュアを行って、有機膜中の一重項酸素クエンチャーをカラーフィルター中に拡散させて、試料２を形成した。この形成方法で、緑、赤、青の３色のカラーフィルター形成膜の試料２を形成した。ここで用いた一重項酸素クエンチャーを含む有機膜は、ポリヒドロシキスチレン樹脂１００部に対して前記化学式（１）に示した一重項酸素クエンチャー５部を添加したものである。   Next, the effect of the singlet oxygen quencher will be described. A color filter forming film was applied on a quartz glass substrate, and exposure, development, and curing were performed to form Sample 1. By this forming method, a sample 1 of three color filter forming films of green, red, and blue was formed. In addition, a color filter forming film is applied on a quartz glass substrate, exposed, developed, and cured to form an organic film containing a singlet oxygen quencher on the color filter, and then cured to form an organic film in the organic film. A singlet oxygen quencher was diffused into the color filter to form Sample 2. By this forming method, a sample 2 of three color filter forming films of green, red, and blue was formed. The organic film containing a singlet oxygen quencher used here is obtained by adding 5 parts of a singlet oxygen quencher shown in the chemical formula (1) to 100 parts of a polyhydroxystyrene resin.

上記試料１、２に１００万ｌｘｓの光を照射した後、透過分光を測定した。波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域の分光透過率変化を差分（積分値）を合計し、平均化した。その結果、試料１では、緑のカラーフィルター形成膜では８．３、赤のカラーフィルター形成膜では３．９、青のカラーフィルター形成膜では５．１という値となった。一方、試料２では、緑のカラーフィルター形成膜では２．１、赤のカラーフィルター形成膜では１．０、青のカラーフィルター形成膜では１．４という値となった。いずれも、一重項酸素クエンチャーが拡散されたカラーフィルターの耐光性が向上されたことが確認できた。なお、値が０となれば、全く耐光性が劣化していないことになる。   After the samples 1 and 2 were irradiated with 1 million lxs of light, transmission spectroscopy was measured. The spectral transmittance change in the wavelength region of 400 nm to 700 nm was averaged by summing the differences (integrated values). As a result, Sample 1 had a value of 8.3 for the green color filter forming film, 3.9 for the red color filter forming film, and 5.1 for the blue color filter forming film. On the other hand, Sample 2 had a value of 2.1 for the green color filter forming film, 1.0 for the red color filter forming film, and 1.4 for the blue color filter forming film. In both cases, it was confirmed that the light resistance of the color filter in which the singlet oxygen quencher was diffused was improved. When the value is 0, the light resistance is not deteriorated at all.

次に、請求項６の発明に係る撮像装置に係る一実施の形態（実施例）を、図１３のブロック図によって説明する。   Next, an embodiment (example) according to an imaging apparatus according to the invention of claim 6 will be described with reference to the block diagram of FIG.

図１３に示すように、撮像装置１００は、撮像部１０１に固体撮像装置（図示せず）を備えている。この撮像部１０１の集光側には像を結像させる結像光学系１０２が備えられ、また、撮像部１０１には、それを駆動する駆動回路、固体撮像装置で光電変換された信号を画像に処理する信号処理回路等を有する信号処理部１０３が接続されている。また上記信号処理部によって処理された画像信号は画像記憶部（図示せず）によって記憶させることができる。このような撮像装置１００において、上記固体撮像素子には、前記実施の形態で説明した固体撮像装置１ないし固体撮像装置４を用いることができる。   As illustrated in FIG. 13, the imaging device 100 includes a solid-state imaging device (not shown) in the imaging unit 101. An image forming optical system 102 for forming an image is provided on the light condensing side of the image pickup unit 101. The image pickup unit 101 has an image obtained by driving a drive circuit for driving the image pickup unit 101 and a signal photoelectrically converted by a solid-state image pickup device. A signal processing unit 103 having a signal processing circuit or the like for processing is connected. The image signal processed by the signal processing unit can be stored by an image storage unit (not shown). In such an imaging device 100, the solid-state imaging device 1 to the solid-state imaging device 4 described in the above embodiment can be used as the solid-state imaging device.

本発明の撮像装置１００では、本願発明の固体撮像装置１を用いることから、固体撮像装置１に上記説明したのと同様な効果を得ることができ、耐光性に優れた固体撮像装置を備えた撮像装置を提供することができるという利点がある。よって、退色による画質の劣化がない高品質は画質を得ることができる。   Since the imaging device 100 of the present invention uses the solid-state imaging device 1 of the present invention, the solid-state imaging device 1 can have the same effects as described above, and includes a solid-state imaging device excellent in light resistance. There is an advantage that an imaging device can be provided. Therefore, it is possible to obtain a high quality image without deterioration of image quality due to fading.

なお、本発明の撮像装置１００は、上記構成に限定されることはなく、固体撮像装置を用いる撮像装置であれば如何なる構成のものにも適用することができる。   Note that the imaging apparatus 100 of the present invention is not limited to the above configuration, and can be applied to any configuration as long as the imaging apparatus uses a solid-state imaging device.

上記固体撮像装置１はワンチップとして形成された形態であってもよいし、撮像部と、信号処理部または光学系とがまとめてパッケージングされた撮像機能を有するモジュール状の形態であってもよい。また、本発明は、固体撮像装置のみではなく、撮像装置にも適用可能である。この場合、撮像装置として、高画質化の効果が得られる。ここで、撮像装置は、例えば、カメラや撮像機能を有する携帯機器のことを示す。また「撮像」は、通常のカメラ撮影時における像の撮りこみだけではなく、広義の意味として、指紋検出なども含むものである。   The solid-state imaging device 1 may be formed as a single chip, or may be a module-shaped configuration having an imaging function in which an imaging unit and a signal processing unit or an optical system are packaged together. Good. Further, the present invention can be applied not only to a solid-state imaging device but also to an imaging device. In this case, an effect of improving the image quality can be obtained as the imaging device. Here, the imaging device indicates, for example, a camera or a portable device having an imaging function. “Imaging” includes not only capturing an image during normal camera shooting but also includes fingerprint detection in a broad sense.

請求項１に係る本発明の固体撮像装置の一実施の形態（実施例）を示した概略構成断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment (example) of a solid-state imaging device according to a first aspect of the present invention. 本発明の固体撮像装置の平面レイアウト図である。1 is a plan layout view of a solid-state imaging device of the present invention. カラーフィルターの配置の一例を示した平面レイアウト図である。FIG. 6 is a plan layout diagram illustrating an example of an arrangement of color filters. 請求項３に係る本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第１実施例）を示した製造工程断面図である。It is manufacturing process sectional drawing which showed one Embodiment (1st Example) of the manufacturing method of the solid-state imaging device of this invention concerning Claim 3. 本発明の固体撮像装置の製造方法の第１実施例を示した製造工程断面図である。It is manufacturing process sectional drawing which showed 1st Example of the manufacturing method of the solid-state imaging device of this invention. 本発明の固体撮像装置の製造方法の第１実施例を示した製造工程断面図である。It is manufacturing process sectional drawing which showed 1st Example of the manufacturing method of the solid-state imaging device of this invention. 本発明の固体撮像装置の製造方法の第１実施例を示した製造工程断面図である。It is manufacturing process sectional drawing which showed 1st Example of the manufacturing method of the solid-state imaging device of this invention. 請求項３に係る本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第２実施例）を示した製造工程断面図である。It is manufacturing process sectional drawing which showed one Embodiment (2nd Example) of the manufacturing method of the solid-state imaging device of this invention concerning Claim 3. 本発明の固体撮像装置の製造方法の第２実施例を示した製造工程断面図である。It is manufacturing process sectional drawing which showed 2nd Example of the manufacturing method of the solid-state imaging device of this invention. 本発明の固体撮像装置の製造方法の第２実施例を示した製造工程断面図である。It is manufacturing process sectional drawing which showed 2nd Example of the manufacturing method of the solid-state imaging device of this invention. 本発明の固体撮像装置の製造方法の第２実施例を示した製造工程断面図である。It is manufacturing process sectional drawing which showed 2nd Example of the manufacturing method of the solid-state imaging device of this invention. 本発明の固体撮像装置の製造方法の第２実施例を示した製造工程断面図である。It is manufacturing process sectional drawing which showed 2nd Example of the manufacturing method of the solid-state imaging device of this invention. 請求項６の発明に係る撮像装置に係る一実施の形態（実施例）を示したブロック図である。It is the block diagram which showed one Embodiment (Example) which concerns on the imaging device which concerns on invention of Claim 6. 従来の固体撮像装置の一例を示した略構成断面図である。It is a general | schematic structure sectional drawing which showed an example of the conventional solid-state imaging device.

符号の説明Explanation of symbols

１…固体撮像装置、２１…光電変換部、３１…カラーフィルター、４１，４２…有機膜   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Solid-state imaging device, 21 ... Photoelectric conversion part, 31 ... Color filter, 41, 42 ... Organic film

Claims (6)

入射光量を電気信号に変換する光電変換部を有する複数の画素部と、
前記各画素部の光入射側に形成された染料系のカラーフィルターと、
前記カラーフィルターに接触して形成された一重項酸素クエンチャーを含む有機膜とを有し、
前記一重項酸素クエンチャーが前記カラーフィルターに拡散されている
ことを特徴とする固体撮像装置。 A plurality of pixel units having a photoelectric conversion unit that converts an incident light amount into an electrical signal;
A dye-based color filter formed on the light incident side of each pixel unit;
An organic film containing a singlet oxygen quencher formed in contact with the color filter,
The solid-state imaging device, wherein the singlet oxygen quencher is diffused in the color filter. 前記カラーフィルターは複数色からなり、
前記各色のカラーフィルターを包含するように前記有機膜が形成されている
ことを特徴とする請求項１記載の固体撮像装置。 The color filter comprises a plurality of colors,
The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the organic film is formed so as to include the color filters of the respective colors. 入射光量を電気信号に変換する光電変換部を有する複数の画素部を備え、
前記各画素部の光入射側にカラーフィルターが形成された固体撮像装置の製造方法において、
前記カラーフィルターに接触するように一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成する工程と、
前記有機膜中の一重項酸素クエンチャーを前記カラーフィルターに拡散する工程と
を備えたことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。 A plurality of pixel units having a photoelectric conversion unit that converts an incident light amount into an electrical signal,
In the method of manufacturing a solid-state imaging device in which a color filter is formed on the light incident side of each pixel unit,
Forming an organic film containing a singlet oxygen quencher so as to be in contact with the color filter;
And a step of diffusing a singlet oxygen quencher in the organic film to the color filter. 前記一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成する工程は、
前記カラーフィルターを形成する前に、前記カラーフィルターの下地層として一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成する
ことを特徴とする請求項３記載の固体撮像装置の製造方法。 Forming the organic film containing the singlet oxygen quencher,
The method for manufacturing a solid-state imaging device according to claim 3, wherein an organic film containing a singlet oxygen quencher is formed as a base layer of the color filter before forming the color filter. 前記一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成する工程は、
前記カラーフィルターを形成した後に、前記カラーフィルターを被覆するように前記一重項酸素クエンチャーを含む有機膜を形成する
ことを特徴とする請求項３記載の固体撮像装置の製造方法。 Forming the organic film containing the singlet oxygen quencher,
The method for manufacturing a solid-state imaging device according to claim 3, wherein after forming the color filter, an organic film containing the singlet oxygen quencher is formed so as to cover the color filter. 入射光を集光する集光光学部と、
前記集光光学部で集光した光を受光して光電変換する固体撮像装置と、
光電変換された信号を処理する信号処理部とを備え、
前記固体撮像装置は、
入射光量を電気信号に変換する光電変換部を有する複数の画素部と、
前記各画素部の光入射側に形成されたカラーフィルターと、
前記カラーフィルターに接触して形成された一重項酸素クエンチャーを含む有機膜とを有し、
前記一重項酸素クエンチャーが前記カラーフィルターに拡散されている
ことを特徴とする撮像装置。 A condensing optical unit that condenses incident light;
A solid-state imaging device that receives and photoelectrically converts light collected by the condensing optical unit; and
A signal processing unit for processing the photoelectrically converted signal,
The solid-state imaging device
A plurality of pixel units having a photoelectric conversion unit that converts an incident light amount into an electrical signal;
A color filter formed on the light incident side of each pixel unit;
An organic film containing a singlet oxygen quencher formed in contact with the color filter,
The imaging device, wherein the singlet oxygen quencher is diffused in the color filter.
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