JP2008177081A - Image display device - Google Patents
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Description
本発明は、画像表示装置に係り、特に内部を密閉容器とした平面パネル型の画像表示装置に適用するのに好適な画像表示装置に関する。 The present invention relates to an image display device, and more particularly to an image display device suitable for application to a flat panel type image display device having a sealed container inside.
高輝度及び高精細に優れた画像表示装置として、従来からのカラー陰極線管に代えて液晶表示装置やプラズマ表示装置等が実用化されている。また、特に高輝度化が可能なものとして、電子放出型表示装置や低消費電力化を特徴とする有機EL表示装置等、種々の型式のパネル型表示装置が実用化され、もしくは実用化準備段階にある。 As an image display device excellent in high luminance and high definition, a liquid crystal display device, a plasma display device, and the like have been put into practical use in place of the conventional color cathode ray tube. In addition, various types of panel type display devices such as an electron emission display device and an organic EL display device characterized by low power consumption have been put into practical use or are in a preparatory stage for practical use, particularly as those capable of achieving high brightness. It is in.
電子放出型表示装置に関するものとしては、特許文献1、特許文献2、特許文献3等を挙げることができる。この種の表示装置は、第1のガラス基板の内面に複数の電子源が形成された背面パネルと、第1のガラス基板の電子源形成面と対向する第2のガラス基板の内面に陽極(アノード)及び蛍光体が形成された前面パネルを有する。前面パネルと背面パネルは所定の間隔をもって対向配置され、背面パネルを構成する第1のガラス基板と前面パネルを構成する第2のガラス基板との外周内縁部に、ガラスを好適とする封止枠を介在させて貼り合され、密閉容器が構成される。この容器は、真空容器とも称される。
背面パネルを構成する第1のガラス基板と、前面パネルを構成する第2のガラス基板との外周内縁部に封止枠を介在させ、貼り合せて密閉容器を構成する際には、封止枠と第1のガラス基板との接着部、および封止枠と第2のガラス基板との接着部に、ガラスを主成分とする接着層(シールフリットガラス)の塗布・乾燥がなされる。 When a sealed frame is formed by interposing a sealing frame between the first glass substrate constituting the back panel and the second glass substrate constituting the front panel at the inner peripheral edge of the first glass substrate, An adhesive layer (seal frit glass) containing glass as a main component is applied and dried at the adhesive portion between the first glass substrate and the adhesive portion between the sealing frame and the second glass substrate.
平面パネル型の画像表示装置では、一般に前面および背面のパネルガラスと封止枠(枠ガラス)との熱膨張係数を合わせている。従って、多くの場合、パネルガラスと枠ガラスには同一の素材が用いられる。また、封着部は融点が低温の接着ガラスで接着され、一般的には鉛ガラス等を用いて接着される。 In the flat panel type image display device, generally, the thermal expansion coefficients of the front and back panel glasses and the sealing frame (frame glass) are matched. Therefore, in many cases, the same material is used for the panel glass and the frame glass. Further, the sealing portion is bonded with adhesive glass having a low melting point, and is generally bonded using lead glass or the like.
上記の構成を有する画像表示装置において、量産性を向上させるために封着時の冷却速度を大きくする、或いは環境問題対応のために鉛ガラス以外のガラスを封着に使用すると、枠ガラスにクラックが発生しやすい。その結果、パネル内を高真空に保つことが難しくなり、製造歩留まりが低くなる。 In the image display device having the above configuration, if the cooling rate at the time of sealing is increased in order to improve mass productivity, or glass other than lead glass is used for sealing to cope with environmental problems, the frame glass is cracked. Is likely to occur. As a result, it becomes difficult to maintain the inside of the panel at a high vacuum, and the manufacturing yield is lowered.
この原因について検討したところ、接着部に挟まれた枠ガラスが、封着工程における冷却の際に、前面および背面のパネルガラスより冷えにくいためであることが判明した。 When this cause was examined, it was found that the frame glass sandwiched between the bonded portions was less likely to cool than the front and back panel glasses during cooling in the sealing step.
本発明の目的は、封着工程での枠ガラスの破損を防止でき、かつ量産性の高い画像表示装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an image display device that can prevent the frame glass from being damaged in the sealing step and has high productivity.
本発明は、前面パネルガラスに画像形成部材を形成したアノード基板と、背面パネルガラスに複数の電子放出素子を形成したカソード基板とが、複数のスペーサおよび枠ガラスを介して対向し、アノード基板と枠ガラスとカソード基板とがガラスフリットにより気密封着されたパネル構造を有する画像表示装置において、枠ガラスの熱膨張係数が前面及び背面のパネルガラスのそれより小さいことを特徴とするものである。 In the present invention, an anode substrate in which an image forming member is formed on a front panel glass and a cathode substrate in which a plurality of electron-emitting devices are formed on a back panel glass are opposed to each other with a plurality of spacers and a frame glass. In an image display device having a panel structure in which a frame glass and a cathode substrate are hermetically sealed with a glass frit, the thermal expansion coefficient of the frame glass is smaller than that of the front and back panel glasses.
本発明において、枠ガラスの熱膨張係数は、パネルガラスの熱膨張係数の80〜96%が好ましく、さらに80〜96%、特に85〜90%がよい。枠ガラスに熱膨張係数が小さいガラスを使用するほど、封着工程の冷却速度を早くすることが可能である。 In the present invention, the thermal expansion coefficient of the frame glass is preferably 80 to 96%, more preferably 80 to 96%, particularly 85 to 90% of the thermal expansion coefficient of the panel glass. The cooling rate of the sealing step can be increased as the glass having a smaller thermal expansion coefficient is used for the frame glass.
本発明では、封着部に鉛を含有しないPbフリー低温ガラスフリットを使用することが可能である。Pbフリー低温ガラスフリットとしては、酸化バナジウムを主成分とするガラスフリットが好ましく、特に酸化バナジウム、酸化リン、酸化アンチモン、酸化バリウムを含むものが好ましい。低熱膨張フィラー入りガラスフリットを使用することもできる。この場合の低熱膨張フィラーには、セラミックス粉末や高融点ガラス粉末を用いることが好ましい。好適な低熱膨張フィラーの例を挙げると、チタン酸鉛(PbTiO3)、チタン酸アルミニウム(Al2TiO5)、石英ガラス(SiO2)などである。 In the present invention, it is possible to use a Pb-free low-temperature glass frit that does not contain lead in the sealing portion. As the Pb-free low-temperature glass frit, a glass frit containing vanadium oxide as a main component is preferable, and those containing vanadium oxide, phosphorus oxide, antimony oxide, and barium oxide are particularly preferable. A glass frit with a low thermal expansion filler can also be used. In this case, it is preferable to use ceramic powder or high melting point glass powder as the low thermal expansion filler. Examples of suitable low thermal expansion fillers include lead titanate (PbTiO 3 ), aluminum titanate (Al 2 TiO 5 ), and quartz glass (SiO 2 ).
ガラスフリットは、枠ガラスの前面および背面パネルガラスと封着される接着面に形成するだけではなく、接着面以外のパネル内面側やパネル外面側或いはその両方にも形成することが好ましい。その結果、枠ガラスにクラックが入った場合の真空度の低下を防止し、信頼性を向上させることができる。また、歩留まりの向上を図ることができる。 The glass frit is preferably formed not only on the front and rear panel glass of the frame glass but also on the inner surface of the panel, the outer surface of the panel, or both. As a result, it is possible to prevent a decrease in the degree of vacuum when the frame glass is cracked and to improve the reliability. In addition, the yield can be improved.
枠ガラスの熱膨張係数を前面および背面のパネルガラスのそれよりも小さくすることによって、枠ガラスの破損を防止し、鉛ガラス以外の封着ガラスを使用した際の量産性・歩留まりを向上させることができる。また、封着部の信頼性を確保でき、画像表示装置の信頼性、耐久性が向上する。 By making the thermal expansion coefficient of the frame glass smaller than that of the front and back panel glass, it prevents damage to the frame glass and improves mass productivity and yield when using sealed glass other than lead glass. Can do. Further, the reliability of the sealing portion can be ensured, and the reliability and durability of the image display device are improved.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明に係る画像表示装置の全体構造を示したものであり、図1(a)は前面パネルガラス側から見た平面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A線に沿って切断された断面図である。 FIG. 1 shows the overall structure of an image display device according to the present invention. FIG. 1 (a) is a plan view seen from the front panel glass side, and FIG. 1 (b) is FIG. 1 (a). It is sectional drawing cut | disconnected along the AA line | wire.
この表示装置は、背面パネルガラスに薄膜電子源を形成したカソード基板101と、前面ガラスパネルに蛍光体およびアノードを形成したアノード基板102を、封止ガラス枠103で一体化して密閉容器を形成した電子放出型表示装置である。背面ガラスパネルと前面ガラスパネルは、所定の間隔で対向させて配置される。背面ガラスパネルの内面には、多数の電子放出源(陰極、以下、カソードとも称する)が形成されている。背面ガラスパネルと相対する前面ガラスパネルの対向面には、ブラックマトリックス膜で互いに区画された複数色の蛍光体とアノード(陽極)が形成されている。前面ガラスパネルは光透過性である。
In this display device, a
カソード基板101とアノード基板102は、間隔保持部材であるスペーサ104を介して対向配置される。カソード基板101とアノード基板102の内周縁部に、接着層としてシールフリットガラス105を塗布し、封止ガラス枠103を介挿して焼成し、固定して密閉容器を形成する。この密閉容器の内部を図示しない排気管を通して真空排気する。画像は、表示領域ARにて形成される。
The
以下、具体例を示して、さらに詳細に説明する。 Hereinafter, a specific example is shown and it demonstrates in detail.
パネルガラスには、PDP(プラズマディスプレイパネル)で使用されている熱膨張係数が83×10−7/℃の高歪点パネルガラス(板厚:2.8mm)を使用した。 As the panel glass, a high strain point panel glass (plate thickness: 2.8 mm) having a thermal expansion coefficient of 83 × 10 −7 / ° C. used in PDP (plasma display panel) was used.
封着ガラスフリットペーストには、これもPDPで使用されている熱膨張係数が72×10−7/℃の低熱膨張フィラー含有のPb系低温ガラスフリットペーストを使用した。Pb系低温ガラスは、PbOとB2O3とSiO2とAl2O3を含む80%PbO−14%B2O3−3%SiO2−3%Al2O3系ガラス(表示は重量%)とした。低熱膨張フィラーには、チタン酸鉛PbTiO3を使用した。 As the sealing glass frit paste, a Pb-based low-temperature glass frit paste containing a low thermal expansion filler having a thermal expansion coefficient of 72 × 10 −7 / ° C., also used in PDP, was used. Pb-based low-temperature glass is 80% PbO-14% B 2 O 3 -3% SiO 2 -3% Al 2 O 3 based glass containing PbO, B 2 O 3 , SiO 2 and Al 2 O 3 %). As the low thermal expansion filler, lead titanate PbTiO 3 was used.
枠ガラスには、以下の(1)〜(6)に示した6種類のガラスを使用した。
(1)熱膨張係数が90×10−7/℃のソーダライムガラス
(2)熱膨張係数が83×10−7/℃の上記PDP用高歪点ガラス
(3)熱膨張係数が80×10−7/℃のアルミノシリケートガラス
(4)熱膨張係数が75×10−7/℃のアルミノシリケートガラス
(5)熱膨張係数が70×10−7/℃のアルミノホウケイ酸ガラス
(6)熱膨張係数が66×10−7/℃のホウケイ酸ガラス
枠ガラス棒を図2に示すリドロー法により製作した。リドロー法は、枠ガラス棒プリフォームを線引き炉で加熱し、巻取り機で引張り、切断機で所定の長さに切断することからなる。線引き炉では、炉出口における枠ガラス棒の粘度が106ポイズ程度になる温度まで加熱した。また、巻取り機で引張る前に形状寸法を測定し、寸法フィードバックシステムにて巻取り機の線引き速度を制御するようにした。この方法により、縦、横の寸法がそれぞれ2.80mm、6.0mmの長方形の枠ガラス棒を製作した。
Six types of glasses shown in the following (1) to (6) were used for the frame glass.
(1) Soda lime glass having a thermal expansion coefficient of 90 × 10 −7 / ° C. (2) High strain point glass for PDP having a thermal expansion coefficient of 83 × 10 −7 / ° C. (3) Thermal expansion coefficient of 80 × 10 Aluminosilicate glass with −7 / ° C. (4) Aluminosilicate glass with a thermal expansion coefficient of 75 × 10 −7 / ° C. (5) Aluminoborosilicate glass with a thermal expansion coefficient of 70 × 10 −7 / ° C. (6) Thermal expansion A borosilicate glass frame glass rod having a coefficient of 66 × 10 −7 / ° C. was produced by the redraw method shown in FIG. The redraw method comprises heating a frame glass rod preform in a drawing furnace, pulling it with a winder, and cutting it into a predetermined length with a cutting machine. In the wire drawing furnace, it was heated to a temperature at which the viscosity of the frame glass rod at the furnace outlet was about 10 6 poise. In addition, the shape dimensions were measured before pulling with a winder, and the drawing speed of the winder was controlled with a dimension feedback system. By this method, rectangular frame glass rods having vertical and horizontal dimensions of 2.80 mm and 6.0 mm were produced.
枠ガラス棒を図3(a)に示すように配置して枠ガラスを組み立て、枠ガラス棒同士が接触するコーナー部分を熱溶着により接着した。ここでは、熱溶着を採用したが、封着ガラスフリットよりも高融点のガラスを用いて接着しても良い。 The frame glass rods were arranged as shown in FIG. 3A to assemble the frame glass, and the corner portions where the frame glass rods were in contact with each other were bonded by thermal welding. Here, heat welding is employed, but glass having a melting point higher than that of the sealing glass frit may be used for bonding.
組み立てられた枠ガラスの上下面すなわちパネルガラスと接着される面に、図3(b)に示したように封着ガラスフリットをディスペンサー法にて塗布し、450℃前後の温度で焼成して、枠ガラスに封着ガラスフリットを形成した。 On the upper and lower surfaces of the assembled frame glass, that is, the surface to be bonded to the panel glass, a sealing glass frit is applied by a dispenser method as shown in FIG. 3B, and baked at a temperature of about 450 ° C. A sealing glass frit was formed on the frame glass.
封着ガラスフリットを形成した枠ガラスを、多数のスペーサとともに、アノード基板とカソード基板の間に設置し、430℃前後の温度に加熱して気密封着した。その後、パネル内部を加熱しながら排気し、パネル内部の真空度を10−6Paとした。 The frame glass on which the sealing glass frit was formed was placed between the anode substrate and the cathode substrate together with a number of spacers, and heated to a temperature of about 430 ° C. to be hermetically sealed. Thereafter, the inside of the panel was evacuated while being heated, and the degree of vacuum inside the panel was set to 10 −6 Pa.
アノード基板およびカソード基板と枠ガラスとの封着条件は、6種類の枠ガラスのいずれも430℃、0.5時間加熱とし、封着後の冷却過程における冷却速度を1℃/分、3℃/分および5℃/分の3通りに変えた。280℃に冷却された後は炉冷とした。 The sealing conditions for the anode substrate and the cathode substrate and the frame glass were all 6 types of frame glass, 430 ° C. and 0.5 hour heating, and the cooling rate in the cooling process after sealing was 1 ° C./min, 3 ° C. / Min and 5 ° C./min. After cooling to 280 ° C., furnace cooling was performed.
製作したパネルの数は、6種類の枠ガラスごとに3個で、合計18個である。 The number of panels produced is 3 for each of the six types of frame glass, for a total of 18.
図4に、パネル破損率と枠ガラスの熱膨張係数との関係を示した。パネル破損が生じているものは、一部分を除いて、枠ガラスに破損が見られた。封着時に枠ガラスやパネルガラスが割れると、前記した真空度を達成することはできないことから、真空度を測ることでパネル破損率を求めることができる。 FIG. 4 shows the relationship between the panel breakage rate and the thermal expansion coefficient of the frame glass. In the case where the panel was broken, the frame glass was broken except for a part. If the frame glass or the panel glass is broken at the time of sealing, the degree of vacuum cannot be achieved. Therefore, the panel breakage rate can be determined by measuring the degree of vacuum.
この実施例から、以下の知見が得られた。 From this example, the following findings were obtained.
(1)冷却速度を大きくし、量産効率を向上させるためには、枠ガラスの熱膨張係数をパネルガラスの熱膨張係数よりも小さくした方がよい。 (1) In order to increase the cooling rate and improve the mass production efficiency, it is better to make the thermal expansion coefficient of the frame glass smaller than the thermal expansion coefficient of the panel glass.
(2)枠ガラスの熱膨張係数は80×10−7/℃以下、すなわちパネルガラスの96%以下が良い。更に好ましくは75×10−7/℃以下、すなわちパネルガラスの90%以下が良い。 (2) The thermal expansion coefficient of the frame glass is preferably 80 × 10 −7 / ° C. or less, that is, 96% or less of the panel glass. More preferably, it is 75 × 10 −7 / ° C. or less, that is, 90% or less of the panel glass.
(3)枠ガラスの熱膨張係数が小さすぎると封着ガラスフリットが破損することから、66×10−7/℃以上、好ましくは70×10−7/℃以上、すなわちパネルガラスの80%以上、好ましくは85%以上が良い。 (3) Since the sealing glass frit is damaged when the thermal expansion coefficient of the frame glass is too small, it is 66 × 10 −7 / ° C. or more, preferably 70 × 10 −7 / ° C. or more, that is, 80% or more of the panel glass. Preferably, 85% or more is good.
本実施例では、封着材にPbを含まない、酸化バナジウムを主成分とするPbフリー低温ガラスを用いた。 In this example, Pb-free low-temperature glass containing vanadium oxide as a main component and containing no Pb in the sealing material was used.
パネルガラスと枠ガラスには、実施例1と同じものを使用した。封着ガラスフリットペーストとしては、下記の2種類の低熱膨張フィラー含有のPbフリーV系低温ガラスフリットペーストを使用した。 The same panel glass and frame glass as in Example 1 were used. As the sealing glass frit paste, the following two types of low thermal expansion filler-containing Pb-free V-based low-temperature glass frit pastes were used.
(A)ガラス組成が58%V2O5−22%P2O5−15%Sb2O3−5%BaO(表示は重量%)であり、低熱膨張フィラーがチタン酸アルミニウムAl2TiO5である、熱膨張係数が73×10−7/℃のフィラー入りガラスフリット。 (A) The glass composition is 58% V 2 O 5 -22% P 2 O 5 -15% Sb 2 O 3 -5% BaO (indicated by weight%), and the low thermal expansion filler is aluminum titanate Al 2 TiO 5 A glass frit with a filler having a thermal expansion coefficient of 73 × 10 −7 / ° C.
(B)ガラス組成が55%V2O5−23%P2O5−12%Sb2O3−5%BaO−5%TeO2(表示は重量%)であり、低熱膨張フィラーが石英ガラスSiO2である、熱膨張係数が65×10−7/℃のフィラー入りガラスフリット。 (B) a glass composition 55% V 2 O 5 -23% P 2 O 5 -12% Sb 2 O 3 -5% BaO-5% TeO 2 ( display wt%), and low thermal expansion filler is silica glass SiO 2 filled glass frit with a filler having a coefficient of thermal expansion of 65 × 10 −7 / ° C.
パネルの試作は、実施例1と同様の条件で行った。但し、封着後、430℃から280℃までの冷却条件は、3℃/分と5℃/分の2通りとした。試作したパネル数は24個である。 The trial manufacture of the panel was performed on the same conditions as Example 1. However, after sealing, the cooling conditions from 430 ° C. to 280 ° C. were set at 2 ° C./min and 5 ° C./min. The number of prototype panels is 24.
図5に、封着後のパネル破損率と枠ガラスの熱膨張係数との関係を示した。パネルの破損が生じたものは、一部にパネルガラスでの破損が見られたほかは、枠ガラスで破損が生じていた。 FIG. 5 shows the relationship between the panel breakage rate after sealing and the thermal expansion coefficient of the frame glass. In the case where the panel was damaged, the panel glass was damaged in addition to the panel glass.
この実施例から、以下の知見が得られた。 From this example, the following findings were obtained.
(1)枠ガラスの熱膨張係数は66〜80×10−7/℃、好ましくは70〜75×10−7/℃、すなわちパネルガラスの熱膨張係数に対して80〜96%、好ましくは85〜90%がよい。 (1) The thermal expansion coefficient of the frame glass is 66 to 80 × 10 −7 / ° C., preferably 70 to 75 × 10 −7 / ° C., that is, 80 to 96%, preferably 85 with respect to the thermal expansion coefficient of the panel glass. ~ 90% is good.
(2)気密封着にPbフリーバナジウム系低温ガラスフリットが適用可能であり、RoHS規約に対応できる。 (2) Pb-free vanadium-based low-temperature glass frit can be applied to the hermetic seal and can comply with the RoHS regulations.
(3)バナジウムガラスを用いた封着部は、ブラックマトリックス同様に均一な光沢黒色であるので、有効画面面積の割合を大きくとれる。 (3) Since the sealing portion using vanadium glass is uniform glossy black like the black matrix, the ratio of the effective screen area can be increased.
本実施例では、リドロー法による枠ガラスと、ガラス板からの切り出し品による枠ガラスを用いて、その評価を行った。 In the present Example, the evaluation was performed using the frame glass by the redraw method and the frame glass by the cut-out goods from a glass plate.
パネルガラスには、PDPで使用されている熱膨張係数が83×10−7/℃の高歪点パネルガラス(板厚:2.8mm)を使用した。封着ガラスフリットペーストには、低熱膨張フィラー含有のPbフリーバナジウム系低温ガラスフリットペーストを使用した。封着ガラスは55%V2O5−22%P2O5−14%Sb2O3−5%BaO−4%TeO2系の酸化バナジウムを主成分とする低温ガラス(表示は重量%)であり、低熱膨張フィラーは石英ガラス(SiO2)、ガラスの熱膨張係数は67×10−7/℃である。 As the panel glass, a high strain point panel glass (plate thickness: 2.8 mm) having a thermal expansion coefficient of 83 × 10 −7 / ° C. used in the PDP was used. As the sealing glass frit paste, a Pb-free vanadium-based low-temperature glass frit paste containing a low thermal expansion filler was used. The sealing glass is 55% V 2 O 5 -22% P 2 O 5 -14% Sb 2 O 3 -5% BaO-4% TeO 2 based low temperature glass (indicated by weight%) The low thermal expansion filler is quartz glass (SiO 2), and the thermal expansion coefficient of the glass is 67 × 10 −7 / ° C.
枠ガラスは、下記の5種類のリドロー品と切り出し品である。 The frame glass is the following five types of redraw products and cut products.
(1)熱膨張係数が90×10−7/℃のソーダライムガラスのリドロー品と切り出し品
(2)熱膨張係数が83×10−7/℃の上記PDP用高歪点ガラスのリドロー品と切り出し品
(3)熱膨張係数が80×10−7/℃のアルミノシリケートガラスのリドロー品と切り出し品
(4)熱膨張係数が75×10−7/℃のアルミノシリケートガラスのリドロー品と切り出し品
(5)熱膨張係数が70×10−7/℃のアルミノホウケイ酸ガラスのリドロー品と切り出し品
パネルの試作は、実施例1と同様の条件で行った。但し、枠ガラス封着後に、430℃から280℃まで冷却するときの冷却速度は3℃/分とした。試作パネル数は10個である。
(1) A soda lime glass redraw product having a thermal expansion coefficient of 90 × 10 −7 / ° C. and a cut-out product (2) A redraw product of the above high strain point glass for PDP having a thermal expansion coefficient of 83 × 10 −7 / ° C. Cut-out product (3) Aluminosilicate glass redraw product and cut-out product with a thermal expansion coefficient of 80 × 10 −7 / ° C. (4) Aluminosilicate glass redraw product and cut-out product with a thermal expansion coefficient of 75 × 10 −7 / ° C. (5) Aluminoborosilicate glass redraw product and cut-out product having a thermal expansion coefficient of 70 × 10 −7 / ° C. Panels were prototyped under the same conditions as in Example 1. However, the cooling rate when cooling from 430 ° C. to 280 ° C. after sealing the frame glass was 3 ° C./min. The number of prototype panels is ten.
図6に、封着後のパネル破損率と枠ガラスの熱膨張係数の関係を示した。パネルの破損は、全て枠ガラスで見られた。 FIG. 6 shows the relationship between the panel breakage rate after sealing and the thermal expansion coefficient of the frame glass. All panel breakage was seen in the frame glass.
本実施例の結果、リドロー法による枠ガラスの方が、切り出し加工による枠ガラスよりも、枠ガラス破損率が小さく有効であることが分かった。これは、リドロー法による枠ガラスの方が、切り出し品に比べて欠けや傷が少ないためと思われる。リドロー法による枠ガラスは、切り出し加工による枠ガラスよりも低コストで作製可能であるので、この点からもリドロー法による枠ガラスが好ましい。 As a result of the present example, it was found that the frame glass by the redraw method is more effective than the frame glass by the cutting process because the frame glass breakage rate is small. This seems to be because the frame glass by the redraw method has fewer chips and scratches than the cut out product. Since the frame glass by the redraw method can be produced at a lower cost than the frame glass by the cutting process, the frame glass by the redraw method is preferable from this point.
本実施例では、枠ガラスの全体に封着ガラスをつける方法とその効果について説明する。 In the present embodiment, a method for attaching a sealing glass to the entire frame glass and the effect thereof will be described.
図7に、リドロー法による枠ガラス棒への封着ガラスフリットのコート方法を示した。図2に示すリドロー法による枠ガラス棒の製法との違いは、線引き炉と巻取り機の間に、封着ガラスフリットペーストをダイス法で塗布する工程と、その後、フリットを焼成する工程を設けたことである。リドロー法では、枠ガラス棒の製造ライン上で、枠ガラス全体に封着ガラスを被覆することができるので、量産性とコストの面でも有利である。 FIG. 7 shows a method of coating the sealing glass frit on the frame glass rod by the redraw method. The difference from the redraw method shown in FIG. 2 is that a sealing glass frit paste is applied by a die method between a drawing furnace and a winder, and then a frit is fired. That is. The redraw method is advantageous in terms of mass productivity and cost because the entire frame glass can be coated on the frame glass rod production line.
また、封着ガラスフリットを、枠ガラスのアノード基板およびカソード基板と接着される接着面だけでなく、側面部分すなわちパネル内面側やパネル外面側に当たる部分にも形成することによって、枠ガラスが封着時に割れても封着ガラスがそれを埋めてくれるため、パネルのリークを防止できる。また、パネルガラスより熱膨張係数が小さい枠ガラスのパネル内面側或いは/及びパネル外面側に封着ガラスフリットを形成することによって、枠ガラスが割れにくくなり、信頼性を向上できる。 In addition, the frame glass is sealed by forming the sealing glass frit not only on the bonding surface to be bonded to the anode substrate and the cathode substrate of the frame glass but also on the side surface portion, that is, on the panel inner surface side or the panel outer surface side. Even if it breaks, the sealing glass fills it, preventing panel leaks. Moreover, by forming the sealing glass frit on the panel inner surface side and / or the panel outer surface side of the frame glass having a smaller thermal expansion coefficient than that of the panel glass, the frame glass is hardly broken and the reliability can be improved.
101…カソード基板、102…アノード基板、103…封止ガラス枠、104…スペーサ、105…シールガラスフリット。
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ID=39703945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007009980A Pending JP2008177081A (en) | 2007-01-19 | 2007-01-19 | Image display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008177081A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014079930A (en) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Nippon Carbide Ind Co Inc | Laser transfer marking film and laser marked product using the same |
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2007
- 2007-01-19 JP JP2007009980A patent/JP2008177081A/en active Pending
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JP2014079930A (en) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Nippon Carbide Ind Co Inc | Laser transfer marking film and laser marked product using the same |
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