JP2008174835A - ウェットエッチング用レジストインク、および金属層のパターン形成方法、および回路基板製造方法。 - Google Patents
ウェットエッチング用レジストインク、および金属層のパターン形成方法、および回路基板製造方法。 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】バインダー樹脂と、特定のケイ酸化合物を含む構造を持つ化合物(A)を含有するウェットエッチング用レジストインク。
【選択図】なし
Description
[1]バインダー樹脂と、下記(1)〜(6)からなる群より選ばれる少なくとも1種以上の構造を持つ化合物(A)を含有するウェットエッチング用レジストインク。
である。
[3]基材上に設けた金属層上に、上記[1]または[2]に記載のウェットエッチング用レジストインクでパターン形状を積層し、次いで、該レジストインクを硬化させ、しかるのち、ウェットエッチングにより金属層からなるパターンを形成させるパターン形成方法。
[4]前記レジストインクの硬化後の厚みが0.1〜20μmである上記[3]に記載のパターン形成方法。
[5]前記基材がポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、およびナイロンフィルムからなる群より選ばれる1つである上記[3]または[4]に記載のパターン形成方法。
[6]前記金属層が蒸着により形成される上記[3]〜[5]のいずれかに記載のパターン形成方法。
[7]前記金属蒸着層の表面抵抗値が100mΩ/□以下である上記[6]に記載のパターン形成方法。
[8]金属層をベースとした回路基板の製造方法において、上記[3]〜[7]のいずれかに記載のパターン形成方法を用いた回路基板の製造方法。
である。
本発明に係るバインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、光あるいはUV硬化性樹脂のいずれを用いてもよい。熱硬化性樹脂としては、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂などの樹脂に溶剤を混合したバインダーに混合撹拌したものを用いることができ、また、熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポレスチロール樹脂などの樹脂に溶剤を混合撹拌したものを用いることができ、また、光またはUV硬化性樹脂としては、例えば不飽和ポリエステル樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、シリコーンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、などのうちから選択された1種以上と、必要な場合に、その光開始剤などを混合したものを用いてもよい。これらの樹脂には当然のことながら、その必要に応じて、硬化剤、硬化促進剤、粘結剤、印刷性改善するフィラ−などの粘度調整剤、顔料や可塑剤などを混合してもよい。なお、パターン積層された該レジストインクの硬化は、自然乾燥、熱風または赤外線ヒータによる加熱乾燥、紫外線等の活性線照射による硬化が通常用いられる。
(1)バインダー樹脂
・DTL RX001:エポキシ系樹脂
(2)化合物(A)
・A−11:構造式(5)を含む化合物
・A−21:構造式(5)を含む化合物
・A−41:構造式(5)を含む化合物
・Polarite 102A:構造式(5)を含む化合物
・Polarite 200P:構造式(5)を含む化合物
・Eckalite 120:構造式(5)を含む化合物
・PDM−5B:構造式(5)を含む化合物
・PDM−5B(T):構造式(5)を含む化合物。
1.[金属層の表面抵抗値]
基材に金属層を設け、レジストインク塗布する前のサンプルについて、JIS−K−6911に基づいた測定を6サンプル実施し、最大値と最小値を除いた4サンプルの算術平均値を金属層の表面抵抗値とした。
なお、レジストインク層も形成されたサンプルの場合は、金属層上のレジストインクを樹脂剥離剤(横浜油脂工業社製DF−7)を用いて30℃の温度に浸積後、水洗し、該レジストインク層を除去し、上記と同様にして測定できる。
刷版T−250メッシュのスクリーン印刷法にて、金属層上にレジストインクをパターン印刷した後、該レジストインクを100℃で30分間加熱硬化させてサンプルを作製した。次いで作製したサンプルを55℃の7%水酸化ナトリウム水溶液に3分間漬けて、金属層上のレジストパターンを印刷していない部分を溶解除去して、所望のパターンを得た。このようにして得られた所望のパターンの不良率を下記(1)式にて算出し、不良率1%以下を密着性良好とした。
・不良率(%)=(欠落が見られるパターンの個数/パターン100個)×100 (1)式。
評価方法2で得られたパターンにおいて、パターンの断面を10000倍のSEMを用いて観察し、金属層の厚み並びにレジストインクの厚みを測定した。測定は、1視野あたり5点の厚み測定を行い、その平均値を金属層厚み並びにレジストインク)の厚みとした。
Claims (8)
- 前記化合物(A)の配合割合が、バインダー樹脂100重量部に対して1〜200重量部である請求項1に記載のウェットエッチング用レジストインク。
- 基材上に設けた金属層上に、請求項1または2に記載のウェットエッチング用レジストインクでパターン形状を積層し、次いで、該レジストインクを硬化させ、しかるのち、ウェットエッチングにより金属層からなるパターンを形成させるパターン形成方法。
- 前記レジストインクの硬化後の厚みが0.1〜20μmである請求項3に記載のパターン形成方法。
- 前記基材がポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、およびナイロンフィルムからなる群より選ばれる1つである請求項3または4に記載のパターン形成方法。
- 前記金属層が蒸着により形成される請求項3〜5のいずれかに記載のパターン形成方法。
- 前記金属蒸着層の表面抵抗値が100mΩ/□以下である請求項6に記載のパターン形成方法。
- 金属層をベースとした回路基板の製造方法において、請求項3〜7のいずれかに記載のパターン形成方法を用いた回路基板の製造方法。
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