JP2008171535A - Optical information recording medium - Google Patents

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Kiyoto Shibata
清人 柴田
Masataka Mori
匡貴 毛利
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical information recording medium causing no deterioration of writing and reading characteristics after preservation over an extended period of time and having high reliability. <P>SOLUTION: (1) In the optical information recording medium which includes a substrate, an information recording layer including a recording layer and a cover layer and wherein information is written and read on the information recording layer by irradiation with a laser beam via the cover layer, the cover layer includes an ultraviolet curing resin and an inner hardness Hi defined as hardness H of the cover layer on a side of the information recording layer satisfies the following relationship: 3.8≤Hi≤5.5, when H=3.8584×F/(h×h), wherein h represents an indented depth in a state in which a triangular pyramid indenter with a tip angle of 115° is pressed under F=9.8 mN. (2) In the optical recording medium described in (1), the optical curing resin comprises 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropane-1-on as an optical polymerization initiator. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は光情報記録媒体に関する。   The present invention relates to an optical information recording medium.

青色レーザ波長以下の短波長でも記録再生が可能な追記型光記録媒体として、本出願人は、特許文献1〜3において、金属又は半金属の酸化物、とりわけ酸化ビスマスを主成分とする記録層の有用性を提案している。また、特願2005−064328において、構成元素の主成分がビスマスであり、かつ酸化ビスマスを含有する記録層を有し、該記録層が更にB、P、Ga、As、Se、Tc、Pd、Ag、Sb、Te、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Tl、Po、At、Cdから選択される一種以上の元素Xを含有することを特徴とする追記型光記録媒体について開示している。
一方、青色レーザ世代の光ディスクシステムとして、405nmの青色レーザと開口数NA=0.85の光学系を用いたBlu−ray disc規格が提案され、既に商品化が始まっている。この規格では、高NAの光学系においてチルトマージンを確保するために、記録・再生光を従来の基板側からではなく、0.1mm程度の厚さに設定されたカバー層を通して照射するように設計されている。
As a write-once type optical recording medium capable of recording / reproducing even at a short wavelength equal to or shorter than the blue laser wavelength, the present applicant described in Patent Documents 1 to 3 as a recording layer mainly composed of a metal or metalloid oxide, particularly bismuth oxide. Proposes usefulness. In Japanese Patent Application No. 2005-064328, the main component of the constituent element is bismuth, and the recording layer further includes bismuth oxide. The recording layer further includes B, P, Ga, As, Se, Tc, Pd, Write-once type optical recording medium comprising one or more elements X selected from Ag, Sb, Te, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg, Tl, Po, At, and Cd Disclosure.
On the other hand, as an optical disk system of the blue laser generation, a Blu-ray disc standard using a 405 nm blue laser and an optical system with a numerical aperture NA = 0.85 has been proposed, and commercialization has already started. In this standard, in order to ensure a tilt margin in a high NA optical system, the recording / reproducing light is not irradiated from the conventional substrate side but is designed to be irradiated through a cover layer set to a thickness of about 0.1 mm. Has been.

しかし、カバー層の厚さが0.1mm程度である場合、従来のように、ポリカーボネート等の射出成形法によってこれを成形すると、十分な機械的強度や板厚分布、光学特性の面内均一性等が確保できなくなるという問題が新たに生じる。このため特許文献4では、従来の基板とは反対側にカバー層を設ける構造が提案されている。即ち、ポリカーボネート等からなる基板上に反射層、第1誘電体層、相変化記録層、第2誘電体層及びカバー層をこの順に形成することによって、カバー層が薄膜化された相変化記録媒体を作製する。かかる方法においては、まずスタンパを用いてプリグルーブを有する基板を射出成形し、次に、プリグルーブが形成されている基板表面に、スパッタリング法等によって反射層、第1誘電体層、相変化記録層、第2誘電体層をこの順に成膜する。そして、第2誘電体層の表面に紫外線硬化型樹脂のスピンコートや、フィルムシートの貼り合わせによってカバー層を形成する。膜厚均一性の高いカバー層を得る方法としては、特許文献5のように、中心孔を塞いだスピンコート法で紫外線硬化樹脂を塗布する方法や、特願2006−48496のように、基板に同心円状に温度分布を付与し、紫外線硬化樹脂の粘度を半径方向に変化させてスピンコートする方法などがある。   However, when the cover layer thickness is about 0.1 mm, if it is molded by an injection molding method such as polycarbonate as before, sufficient mechanical strength, plate thickness distribution, and in-plane uniformity of optical characteristics A new problem arises that it becomes impossible to secure the above. For this reason, Patent Document 4 proposes a structure in which a cover layer is provided on the side opposite to the conventional substrate. That is, a phase change recording medium in which a cover layer is thinned by forming a reflective layer, a first dielectric layer, a phase change recording layer, a second dielectric layer, and a cover layer in this order on a substrate made of polycarbonate or the like. Is made. In such a method, a substrate having a pregroove is first injection molded using a stamper, and then a reflective layer, a first dielectric layer, a phase change recording are formed on the surface of the substrate on which the pregroove is formed by a sputtering method or the like. A layer and a second dielectric layer are formed in this order. Then, a cover layer is formed on the surface of the second dielectric layer by spin coating with an ultraviolet curable resin or bonding of a film sheet. As a method for obtaining a cover layer with high film thickness uniformity, a method of applying an ultraviolet curable resin by a spin coating method in which a central hole is closed as in Patent Document 5, or a method of obtaining a cover layer as in Japanese Patent Application No. 2006-48496. There is a method of spin coating by concentrically providing a temperature distribution and changing the viscosity of the ultraviolet curable resin in the radial direction.

このようにして作製された光記録媒体においては、基板の反対側から記録・再生レーザが入射するため、基板の厚みを十分に厚くすることができる。また、基板には透過率や複屈折等の光学特性が要求されないため、溝の転写性や媒体の機械特性のみに着目した基板成形を行えばよく、このようなタイプの光記録媒体を用いれば、基板の機械的強度を十分に確保しつつ、高NAの光記録媒体用ヘッドを利用することが可能となる。
ところが、紫外線硬化樹脂を用いてカバー層を形成した場合、光情報記録媒体の信頼性が悪化するという問題点があった。具体的には、80℃、85%RH、300hの高温高湿加速試験において、初期に記録した部分の再生ジッタ(以下、アーカイバルジッタと記す)が悪化したり、試験後の未記録部に記録した時の記録ジッタ(以下、シェルフジッターと記す)が悪化してしまうことがあった。
In the thus manufactured optical recording medium, the recording / reproducing laser is incident from the opposite side of the substrate, so that the thickness of the substrate can be sufficiently increased. Also, since the substrate is not required to have optical characteristics such as transmittance and birefringence, it is only necessary to perform substrate molding that focuses only on the transferability of the grooves and the mechanical characteristics of the medium. If such an optical recording medium is used, Therefore, it is possible to use a high NA optical recording medium head while sufficiently securing the mechanical strength of the substrate.
However, when the cover layer is formed using an ultraviolet curable resin, there is a problem that the reliability of the optical information recording medium deteriorates. Specifically, in a high-temperature, high-humidity accelerated test at 80 ° C., 85% RH, and 300 h, the reproduction jitter (hereinafter referred to as “archival jitter”) of the recorded part at the initial stage deteriorates, or the unrecorded part after the test Recording jitter (hereinafter referred to as shelf jitter) at the time of recording sometimes deteriorated.

これに対し、特許文献6〜9では、DVDの貼り合わせ用紫外線硬化接着剤において、400nm付近を超える長波長域に比較的大きな吸光係数を有する光重合開始剤を用いることで、内部硬化性が高まって信頼性の高い接着構造が得られることが開示されている。しかしながら、何れの文献にも本発明が対象とするカバー層を通して光入射する構成の光記録媒体におけるカバー層への適用についての記載はない。また、何れの文献も再生専用媒体に関するものであり、本発明が解決しようとする課題である記録系媒体のアーカイバル特性やシェルフ特性の改善に関しては何ら技術開示はない。加えて、本発明の主題である内部硬度の望ましい範囲が存在しうることを示唆するような記載もない。   On the other hand, in Patent Documents 6 to 9, in the UV curable adhesive for bonding DVDs, by using a photopolymerization initiator having a relatively large absorption coefficient in a long wavelength region exceeding about 400 nm, the internal curability is increased. It is disclosed that a highly reliable adhesive structure can be obtained. However, none of the documents describes the application to the cover layer in the optical recording medium having a configuration in which light is incident through the cover layer targeted by the present invention. Each of the documents relates to a read-only medium, and there is no technical disclosure regarding improvement of archival characteristics and shelf characteristics of a recording medium, which is a problem to be solved by the present invention. In addition, there is no description that suggests that there may be a desirable range of internal hardness that is the subject of the present invention.

特開2003−48375号公報JP 2003-48375 A 特開2005−161831号公報JP 2005-161831 A 特開2005−108396号公報JP 2005-108396 A 特許第3241560号公報Japanese Patent No. 3241560 特開平11−213459号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-213459 特開2001−49198 号公報JP 2001-49198 A 特開平10−120982号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-120982 特開平10−8018号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-8018 特開平9−169956号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-169956

本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされたものであり、長期保存後も記録再生特性の悪化がなく信頼性の高い光情報記録媒体の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a highly reliable optical information recording medium that does not deteriorate recording and reproduction characteristics even after long-term storage.

上記課題は次の1)〜2)の発明(以下、本発明1〜2という)によって解決される。
1) 基板上に記録層を含む情報記録層とカバー層を備え、該カバー層を介して情報記録層にレーザ光を照射することにより、データの記録及び/又は再生が行われる光情報記録媒体であって、前記カバー層は光硬化性樹脂で構成され、稜間角115°の三角錐圧子をF=9.8mNで押し込んだ状態での押し込み深さをhとして、硬度H=3.8584×F/(h×h)としたとき、情報記録層と接する側のカバー層の硬度Hである内部硬度Hiが、3.8≦Hi≦5.5を満たすことを特徴とする光情報記録媒体。
2) 光硬化性樹脂が、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンを光重合開始剤として含むことを特徴とする1)記載の光情報記録媒体。
The above problems are solved by the following inventions 1) to 2) (hereinafter referred to as the present invention 1 and 2).
1) An optical information recording medium that includes an information recording layer including a recording layer and a cover layer on a substrate, and records and / or reproduces data by irradiating the information recording layer with laser light through the cover layer The cover layer is made of a photo-curing resin, and the indentation depth in the state in which a triangular pyramid indenter with an inter-ridge angle of 115 ° is indented at F = 9.8 mN is h, and the hardness H = 3.8584. The optical information recording is characterized in that the internal hardness Hi, which is the hardness H of the cover layer in contact with the information recording layer, satisfies 3.8 ≦ Hi ≦ 5.5 when × F / (h × h). Medium.
2) The optical information according to 1), wherein the photocurable resin contains 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one as a photopolymerization initiator. recoding media.

以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明は、基板上に、少なくとも、記録層を含む情報記録層とカバー層とを備え、該カバー層を介して情報記録層にレーザ光を照射することにより、データの記録及び/又は再生が行われ、該カバー層が、基板上に光硬化性樹脂を供給する工程、遠心力により光硬化性樹脂を展延させる工程、光照射により光硬化性樹脂を硬化させる工程を含むスピンコート法により形成された光情報記録媒体を対象としている。
そして、このような光情報記録媒体のアーカイバル特性やシェルフ特性の改善について検討した結果、後述するように、カバー層の内部硬度Hiが重要であることを見出し本発明に至った。ここでいう内部硬度Hiとは、カバー層を、記録層を含む情報記録層との界面から剥離し、ガラス基板などの平坦な基板上に、剥離面を上にして接着剤等で固定して測定した値であるが、界面での剥離がうまくできない場合には、2液硬化性の樹脂にカバー層を含む媒体の一部を埋め込み、カバー層と垂直な方向に研磨を行ってカバー層の断面が露出した試料を作製し、情報記録層から10μm程度離れた部分の硬度で代用することができる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The present invention comprises at least an information recording layer including a recording layer and a cover layer on a substrate, and data is recorded and / or reproduced by irradiating the information recording layer with laser light through the cover layer. By spin coating, wherein the cover layer includes a step of supplying a photocurable resin onto the substrate, a step of spreading the photocurable resin by centrifugal force, and a step of curing the photocurable resin by light irradiation. The optical information recording medium thus formed is targeted.
As a result of studying improvements in archival characteristics and shelf characteristics of such an optical information recording medium, the present inventors have found that the internal hardness Hi of the cover layer is important as will be described later. The internal hardness Hi as used herein means that the cover layer is peeled off from the interface with the information recording layer including the recording layer, and fixed on a flat substrate such as a glass substrate with an adhesive or the like with the peeled surface facing up. If it is a measured value but peeling at the interface is not successful, a part of the medium including the cover layer is embedded in a two-component curable resin, and polishing is performed in a direction perpendicular to the cover layer to remove the cover layer. A sample having an exposed cross section can be prepared, and the hardness at a portion about 10 μm away from the information recording layer can be substituted.

カバー層の内部硬度Hiは、島津製作所製超微小硬度計DUH−211等により測定することができる。この方法は、一定の割合で荷重を増加させながら圧子を荷重Fまで押し込んでいき、その時の押し込み深さhとの関係から次式により硬度を求めるものである。
硬度H=a×F/(h×h)
ここで、aは圧子の形状に依存する定数であり、稜間角115°の三角錐圧子の場合、a=3.8584である。押し込み力をF=9.8mNとすれば、カバー層への押し込み深さは2〜4μmとなり、厚さ約75〜100μmのカバー層に対して十分に浅いので、下地のガラスや接着層の物性の影響を受けずに、情報記録層との界面付近の硬化物性を評価することができる(通常、押し込み深さの10倍程度の厚さがあれば、下地の影響が無視できると言われている)。押し込み力が過度に小さいと、システムのドリフトや環境の振動、試料の固定方法による影響等を受け易くなってしまい好ましくなく、押し込み力が大きすぎると、前記のように深さ方向の影響が出易くなるため好ましくない。
The internal hardness Hi of the cover layer can be measured with an ultra-micro hardness meter DUH-211 manufactured by Shimadzu Corporation. In this method, the indenter is pushed down to the load F while increasing the load at a constant rate, and the hardness is obtained by the following equation from the relationship with the pushing depth h at that time.
Hardness H = a × F / (h × h)
Here, a is a constant depending on the shape of the indenter, and in the case of a triangular pyramid indenter having an inter-ridge angle of 115 °, a = 3.8585. If the indentation force is F = 9.8 mN, the indentation depth into the cover layer is 2 to 4 μm, which is sufficiently shallow with respect to the cover layer with a thickness of about 75 to 100 μm. The cured physical properties in the vicinity of the interface with the information recording layer can be evaluated without being influenced by (in general, if the thickness is about 10 times the indentation depth, the influence of the base is said to be negligible. ) If the indentation force is excessively small, it is not preferable because it tends to be affected by system drift, environmental vibration, and the sample fixing method. If the indentation force is too large, the influence in the depth direction will appear as described above. Since it becomes easy, it is not preferable.

本発明1では、稜間角115°の三角錐圧子をF=9.8mNで押し込んだ状態での押し込み深さをhとして、硬度H=3.8584×F/(h×h)としたとき、情報記録層と接する側のカバー層の内部硬度Hiを、3.8≦Hi≦5.5とする。
3.8≦Hiであれば、アーカイバルジッターの劣化が少ない媒体が得られる。一方、Hiが5.5を超えるとシェルフジッターが悪化するため、Hi≦5.5とする必要がある。即ち、3.8≦Hi≦5.5のときに、アーカイバルジッター及びシェルフジッターの双方が良好な信頼性の高い媒体が得られる。
情報記録層と接する側のカバー層の内部硬度Hiを、3.8≦Hi≦5.5とするためには、光硬化性樹脂を構成するオリゴマー、モノマー(反応性希釈剤)、光重合開始剤の種類及びこれらの組成比を適宜調整すればよい。一般に、モノマーの組成比を増やすと架橋密度が上がるため硬度が高くなる。更には硬化条件(紫外線の強度、照度、波長等)を適宜調整してもよい。
なお、本発明における情報記録層とは、基板とカバー層以外の各層の積層部を指し、例えば後述する図6では、反射層、第1誘電体層、記録層、第2誘電体層を指すが、このような情報記録層を中間層などを介して2層以上有する多層光情報記録媒体も本発明に含まれる。
In the present invention 1, when the indentation depth in a state in which a triangular pyramid indenter with an inter-ridge angle of 115 ° is indented at F = 9.8 mN is h, hardness H = 3.8484 × F / (h × h) The internal hardness Hi of the cover layer on the side in contact with the information recording layer is set to 3.8 ≦ Hi ≦ 5.5.
If 3.8 ≦ Hi, a medium with little deterioration of archival jitter can be obtained. On the other hand, if Hi exceeds 5.5, shelf jitter deteriorates, so it is necessary to satisfy Hi ≦ 5.5. That is, when 3.8 ≦ Hi ≦ 5.5, a highly reliable medium with good archival jitter and shelf jitter can be obtained.
In order to set the internal hardness Hi of the cover layer on the side in contact with the information recording layer to 3.8 ≦ Hi ≦ 5.5, an oligomer, a monomer (reactive diluent) constituting the photocurable resin, and photopolymerization start What is necessary is just to adjust the kind of agent and these composition ratios suitably. Generally, when the composition ratio of the monomer is increased, the crosslink density is increased, so that the hardness is increased. Furthermore, curing conditions (ultraviolet light intensity, illuminance, wavelength, etc.) may be adjusted as appropriate.
The information recording layer in the present invention refers to a laminated portion of each layer other than the substrate and the cover layer. For example, in FIG. 6 to be described later, it refers to a reflective layer, a first dielectric layer, a recording layer, and a second dielectric layer. However, a multilayer optical information recording medium having two or more such information recording layers via an intermediate layer or the like is also included in the present invention.

本発明者らは、カバー層の内部硬度Hiと光記録媒体の信頼性との関係について、以下のように考えている。
まず、本発明者らが鋭意研究したところによれば、厚さ約100μmの紫外線硬化樹脂からなるカバー層に表裏の硬度差があることが分かった。ここで言う表裏の硬度差とは、カバー層を硬化させる際に紫外線を入射する側の面(記録再生ビームを入射する側であるカバー層の表面)と、情報記録層と接する側であるカバー層の裏面との硬度差である。
一般的に硬度は、圧子の押し込みに対する弾塑性的な変形抵抗を表しているので、紫外線硬化樹脂膜の場合、硬度を硬化物の架橋密度や弾性率などの硬化物性を反映した特性値と捉えることができる。即ち、硬度が大きく硬い硬化物は、弾性率や架橋密度が大きく、ガラス転移温度が高い傾向がある。逆に、硬度が小さいと、弾性率や架橋密度が小さく、ガラス転移温度が低く、したがって耐熱性が低い傾向がある。
The inventors consider the relationship between the internal hardness Hi of the cover layer and the reliability of the optical recording medium as follows.
First, as a result of intensive studies by the present inventors, it was found that there is a difference in hardness between the front and back sides of a cover layer made of an ultraviolet curable resin having a thickness of about 100 μm. The difference in hardness between the front and back surfaces here means that the surface on the side where ultraviolet rays are incident when the cover layer is cured (the surface of the cover layer on which the recording / reproducing beam is incident) and the cover on the side in contact with the information recording layer It is the hardness difference from the back side of the layer.
In general, hardness represents elasto-plastic deformation resistance against indentation of the indenter, so in the case of an ultraviolet curable resin film, the hardness is regarded as a characteristic value that reflects the cured physical properties such as the crosslinking density and elastic modulus of the cured product. be able to. That is, a hardened product having a large hardness tends to have a high elastic modulus and crosslinking density and a high glass transition temperature. On the other hand, when the hardness is small, the elastic modulus and the crosslinking density are small, the glass transition temperature is low, and therefore the heat resistance tends to be low.

本発明で対象とするような微小荷重による硬度で、カバー層の表裏に硬度差があるということは、深さ方向に上記のような硬化物性が変化していることを示している。一般にカバー層の表裏硬度差は、硬化時の酸素阻害によって表面側が硬化不足になる場合を除き、裏面側の硬度の方が低くなる傾向がある。図1に、三菱レーヨン製紫外線硬化樹脂RQ6107について測定した例を示す。図1(b)は、図1(a)の平均値をグラフ化して示したものである。このように、カバー層裏面側の硬度が表面の硬度よりも低くなるのは、図2に示したウレタン(メタ)アクリレート化合物からなる一般的な紫外線硬化樹脂硬化物の透過スペクトルから分るように、紫外線硬化樹脂自身が400nm以下の紫外線領域に吸収を有するため、膜の内部で紫外線強度が弱くなり、光重合開始剤のラジカル生成反応が抑えられた結果、裏面側の架橋密度が低くなるためである。このような深さ方向の硬化物性の変化は、使用する光源の種類(分光特性)や強度、照度(=積算強度)の違い、紫外線硬化樹脂の成分である重合性オリゴマーやモノマー、光重合開始剤の種類やそれらの濃度の違いにより異なるものと考えられる。   A hardness difference between the front and back surfaces of the cover layer at a hardness due to a minute load that is the subject of the present invention indicates that the above-described cured physical properties are changing in the depth direction. In general, the difference in hardness between the front and back surfaces of the cover layer tends to be lower on the back side than the case where the front side becomes insufficiently cured due to oxygen inhibition during curing. FIG. 1 shows an example of measurement for Mitsubishi Rayon UV curable resin RQ6107. FIG. 1B is a graph showing the average value of FIG. Thus, the hardness of the back surface side of the cover layer is lower than the hardness of the surface, as can be seen from the transmission spectrum of a general UV curable resin cured product composed of a urethane (meth) acrylate compound shown in FIG. Since the ultraviolet curable resin itself has absorption in the ultraviolet region of 400 nm or less, the ultraviolet intensity is weakened inside the film, and the radical generation reaction of the photopolymerization initiator is suppressed, resulting in a lower crosslink density on the back side. It is. Such changes in the cured physical properties in the depth direction are due to differences in the type of light source (spectral characteristics), intensity, and illuminance (= integrated intensity), polymerizable oligomers and monomers that are components of UV curable resins, and photopolymerization initiation. It is thought that it varies depending on the type of agent and the difference in concentration.

本発明者らは、上記のような知見に基づき、カバー層表面の硬化性や膜としてのバルク的な硬化物性ではなく、情報記録層に接する付近のカバー層の硬化物性が、媒体の信頼性に重要であろうとの観点から鋭意検討を試み、本発明の完成に至った。即ち、情報記録層に接する付近のカバー層の硬化物性を硬度という代用特性で評価し、内部硬度Hiとアーカイバルジッター及びシェルフジッターについて、以下の関係を見出した。
図3及び図5は、後述する実施例と同様にして作製した追記型光記録媒体について、カバー層の内部硬度Hiとアーカイバルジッター及びシェルフジッターの関係を示したものである。また、図4は、内部硬度Hiが3.5の追記型光記録媒体に係るものである。
図3から分るように、3.8≦Hiの場合、80℃、85%RH、300時間の信頼性試験において、アーカイバルジッターをBlu−ray disc規格の6.5%以下に抑えることが可能となる。内部硬度Hiが3.8より小さい場合は、カバー層内部の樹脂の架橋密度が低く、分子鎖が疎で水分を透過し易いために、水に対する十分なバリア性が得にくい。このため、カバー層を透過した水分が記録層や反射層を侵してしまうものと考えられる。このような媒体では、例えば図4のように、記録信号振幅にスパイク状態の欠陥が発生し、再生ジッターやエラー率が上昇してしまう。
Based on the above knowledge, the inventors have determined that the reliability of the medium is not the cured property of the cover layer surface but the cured physical property of the cover layer in contact with the information recording layer, rather than the bulk cured physical property as a film. From the viewpoint of being important, the present invention has been completed. That is, the cured physical properties of the cover layer in contact with the information recording layer were evaluated by a substitute characteristic called hardness, and the following relationship was found for internal hardness Hi, archival jitter, and shelf jitter.
3 and 5 show the relationship between the internal hardness Hi of the cover layer, archival jitter, and shelf jitter for a write-once optical recording medium manufactured in the same manner as in the examples described later. FIG. 4 relates to a write-once type optical recording medium having an internal hardness Hi of 3.5.
As can be seen from FIG. 3, in the case of 3.8 ≦ Hi, the archival jitter can be suppressed to 6.5% or less of the Blu-ray disc standard in the reliability test at 80 ° C., 85% RH and 300 hours. It becomes possible. When the internal hardness Hi is smaller than 3.8, the cross-linking density of the resin inside the cover layer is low, the molecular chain is sparse and water easily permeates, so that it is difficult to obtain a sufficient barrier property against water. For this reason, it is considered that the moisture transmitted through the cover layer erodes the recording layer and the reflective layer. In such a medium, for example, as shown in FIG. 4, a defect in a spike state occurs in the recording signal amplitude, and the reproduction jitter and error rate increase.

一方、図5のように、内部硬度Hiが5.5を超えると、シェルフジッターが悪化してしまう。これは、カバー層の内部硬度が高くなり、密着力が不十分になるためと考えられる。記録時には、情報記録層とカバー層との界面に熱的な応力が作用するため、カバー層の密着性が不十分な場合にはミクロな剥離が起こり、カバー層への熱伝導性が変化するため、信号長の揺らぎを生じてジッターが悪化するものと考えられる。例えば、記録エネルギーが集中するようなロングマークの場合、隣接トラックへのクロスライトが起こり易くなる。また、ロングマークに続くスペース信号も影響を受け易い。
光記録媒体は本質的に光を用いた熱記録であり、記録層を挟む誘電体層(保護層)の熱容量や熱伝導率などの熱特性が変わると、記録マーク部の加熱温度や冷却速度が変化し、更に前後マーク間あるいは隣接トラック間の熱干渉などが変化して、記録マークの形状や記録ジッターに影響を与えることはよく知られている。これと同様の熱特性の変化が、情報記録層とカバー層との密着性不良により起きているものと考えられる。
上記の結果から、内部硬度Hiが3.8≦Hi≦5.5のときに、アーカイバルジッター及びシェルフジッターの双方が良好な信頼性の高い媒体が得られることが分った。
On the other hand, as shown in FIG. 5, when the internal hardness Hi exceeds 5.5, the shelf jitter is deteriorated. This is presumably because the internal hardness of the cover layer is increased and the adhesion is insufficient. During recording, thermal stress acts on the interface between the information recording layer and the cover layer, so if the adhesion of the cover layer is insufficient, micro peeling occurs and the thermal conductivity to the cover layer changes. Therefore, it is considered that the jitter deteriorates due to the fluctuation of the signal length. For example, in the case of a long mark in which recording energy is concentrated, cross writing to adjacent tracks is likely to occur. In addition, the space signal following the long mark is also easily affected.
An optical recording medium is essentially a thermal recording that uses light. When the thermal characteristics such as the heat capacity and thermal conductivity of the dielectric layer (protective layer) that sandwiches the recording layer change, the heating temperature and cooling rate of the recording mark portion are changed. It is well known that the change in the temperature and the thermal interference between the front and rear marks or between adjacent tracks change to affect the shape of the recording mark and the recording jitter. It is considered that the same change in thermal characteristics is caused by poor adhesion between the information recording layer and the cover layer.
From the above results, it was found that when the internal hardness Hi is 3.8 ≦ Hi ≦ 5.5, a highly reliable medium with good archival jitter and shelf jitter can be obtained.

本発明の好ましい形態としては、カバー層が、少なくとも、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート及び/又はポリエステル(メタ)アクリレートからなるラジカル重合性オリゴマーと、(メタ)アクリレートモノマーからなる反応性希釈剤と、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン及び/又は2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンと、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンからなる光重合開始剤を用いて得られる光硬化性樹脂の組成物からなる光情報記録媒体を挙げることができる。
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン及び/又は2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンを光重合開始剤として用いることにより、経時的な黄変(400nm近辺の青波長域に光吸収を有する物質が形成されて、硬化物が黄色に変色して見える現象)の少ない硬化膜が得られる。逆に硬化膜の黄変が起こると、405nmの透過率が変化してしまい、媒体の記録再生特性が変化するため好ましくない。
更に、上記開始剤に2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンを加えることで、膜の表面硬化性を高め、表面欠陥のない平坦なカバー層を得ることができる。
As a preferred embodiment of the present invention, the cover layer has at least a radical polymerizable oligomer composed of urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate and / or polyester (meth) acrylate, and reactivity composed of (meth) acrylate monomer. Diluent and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and / or 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propane It consists of the composition of the photocurable resin obtained using the photoinitiator which consists of -1-one and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one. An optical information recording medium can be mentioned.
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and / or 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one Is used as a photopolymerization initiator to obtain a cured film with little yellowing over time (a phenomenon in which a substance having light absorption in the blue wavelength region around 400 nm is formed and the cured product appears to turn yellow). It is done. On the other hand, yellowing of the cured film is not preferable because the transmittance at 405 nm changes and the recording / reproducing characteristics of the medium change.
Furthermore, by adding 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one to the above initiator, the surface hardenability of the film is enhanced and a flat cover free from surface defects A layer can be obtained.

図8にZygo社製の干渉型表面形状測定器NewView6000を用いて計測した典型的なカバー層の表面欠陥像を示す。図8(a)は表面形状、図8(b)はそのラインプロファイルである。光硬化性樹脂の表面硬化性が悪かったり、用いる紫外線照射強度が低かったりすると、図8のような表面欠陥がディスク面内に数十〜数百発生してしまう。このような欠陥は、記録線速が遅いときにはあまり問題にならないが、記録線速が4〜8倍速と高速になるに従いサーボエラーを引き起こし、欠陥率の増大やトラッキング不良の原因となる。
このような表面欠陥は、光硬化性樹脂中に溶け込んだガス成分が、硬化中に凝集し破泡することによって生ずるものと考えられる。一般に、紫外線照射により光硬化性樹脂中に生じたラジカルは、膜表面雰囲気で酸素との反応により消失するため、膜表面での硬化反応が内部よりも緩やかになる傾向がある(光重合反応の酸素阻害)。このような酸素阻害の影響や、紫外線照射強度が十分でなく表面での硬化反応が緩やかな場合に、図8のような表面欠陥を生じ易い。
そこで、表面硬化性に優れた2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンを加えて、表面での硬化反応を促進するようにすれば、図8のような表面欠陥を減らすことができ、更に図9のように、サーボに影響のないレベルにまで欠陥サイズを小さくすることができる。図9は、図8と同様にして計測した表面欠陥像であり、図9(a)は表面形状、図9(b)はそのラインプロファイルである。
好適な光重合開始剤の添加量は、総量で1〜8重量%である。2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンは、添加量が多いと黄変の原因となるため、好ましい添加量は0.01〜0.5重量%である。
FIG. 8 shows a surface defect image of a typical cover layer measured by using an interference type surface profile measuring instrument NewView 6000 manufactured by Zygo. FIG. 8A shows the surface shape, and FIG. 8B shows the line profile. If the surface curability of the photocurable resin is poor or the ultraviolet irradiation intensity used is low, surface defects such as those shown in FIG. Such a defect does not cause much problem when the recording linear velocity is low, but causes a servo error as the recording linear velocity becomes 4 to 8 times faster, leading to an increase in defect rate and a tracking failure.
Such surface defects are considered to be caused by the gas components dissolved in the photocurable resin being aggregated and broken during curing. Generally, radicals generated in the photocurable resin by ultraviolet irradiation disappear due to the reaction with oxygen in the film surface atmosphere, and therefore the curing reaction on the film surface tends to be slower than the inside (the photopolymerization reaction). Oxygen inhibition). When the influence of such oxygen inhibition and the ultraviolet irradiation intensity are insufficient and the curing reaction on the surface is slow, surface defects as shown in FIG. 8 are likely to occur.
Therefore, if 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one having excellent surface curability is added to accelerate the curing reaction on the surface, 8 can be reduced, and the defect size can be reduced to a level that does not affect the servo as shown in FIG. FIG. 9 is a surface defect image measured in the same manner as FIG. 8, FIG. 9A shows the surface shape, and FIG. 9B shows the line profile.
A suitable addition amount of the photopolymerization initiator is 1 to 8% by weight in total. Since 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one causes yellowing when added in a large amount, the preferred added amount is 0.01 to 0.5. % By weight.

更に本発明の好ましい形態として、記録層が酸化ビスマス、及び、B、Ga、Pd、Ag、Sb、Te、W、Pt、Au、Al、Cr、Mn、In、Co、Fe、Cu、Ni、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Mo、V、及びNbから選択される少なくとも一種類(元素X)を含有する追記型光記録媒体を挙げることができる。即ち、記録再生特性及び保存安定性の改良のため、酸化ビスマスを含有する記録層中にビスマス以外の元素Xを添加することを特徴とする。通常、酸化ビスマスが記録層材料全体の50〜95モル%程度を占めるようにすることが好ましい。
酸化ビスマス及び元素Xは、完全に酸化させる必要はなく、化学量論組成に対して酸素欠損の状態で記録層を構成しても良い。ここでいう化学量論組成とは、常温、常圧下で安定に存在する化合物の持っている組成を指す。例えば、Bi、B、Al、TiO、Inなどの酸化物が化学量論組成と言える。化学量論組成よりも酸素の少ない酸素欠損状態とは、Biについて言えば、BiOxの形でx<1.5の場合、つまり、BiO1.48などである。酸素欠損のない化学量論組成の場合であれば、BiO1.5になる。
記録層が酸化ビスマスのみからなる場合には、再生光による劣化が顕著に起こったり、保存信頼性においてアーカイバルジッターが上昇してしまうため実用的でない。そこで、前述した元素Xを少なくとも一種類添加すると、記録膜の熱伝導率や吸収特性、記録感度、再生光や温度に対する記録マークの安定性などを改善することができる。
Further, as a preferred embodiment of the present invention, the recording layer is bismuth oxide, and B, Ga, Pd, Ag, Sb, Te, W, Pt, Au, Al, Cr, Mn, In, Co, Fe, Cu, Ni, A write-once type optical recording medium containing at least one kind (element X) selected from Zn, Li, Si, Ge, Zr, Ti, Hf, Sn, Mo, V, and Nb can be given. That is, in order to improve recording / reproduction characteristics and storage stability, an element X other than bismuth is added to the recording layer containing bismuth oxide. Usually, it is preferable that bismuth oxide accounts for about 50 to 95 mol% of the entire recording layer material.
Bismuth oxide and element X do not have to be completely oxidized, and the recording layer may be configured in an oxygen deficient state with respect to the stoichiometric composition. The stoichiometric composition here refers to a composition possessed by a compound that exists stably at normal temperature and normal pressure. For example, an oxide such as Bi 2 O 3 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , TiO 2 , and In 2 O 3 can be said to have a stoichiometric composition. The oxygen deficient state with less oxygen than the stoichiometric composition is BiOx in the case of x <1.5, that is, BiO 1.48 . In the case of a stoichiometric composition without oxygen deficiency, BiO 1.5 is obtained.
When the recording layer is made only of bismuth oxide, it is not practical because deterioration due to reproduction light occurs remarkably or archival jitter increases in storage reliability. Therefore, the addition of at least one element X described above can improve the thermal conductivity, absorption characteristics, recording sensitivity, stability of the recording mark with respect to reproducing light and temperature, and the like.

例えば、記録感度に関しては、添加元素XがBiと同等な酸化物生成エンタルピーを有するGe、Sn、Liなどの場合、これらの酸化物が、スパッタ成膜後に酸素を離して単体元素として記録膜中に存在し易くなるため、光の吸収率が向上し、感度の向上を図ることが可能となる。Li、Na、Mg、K、Ca、Pなどの元素は、酸化ビスマスと共存することによりガラス化し易くなる性質を有する。メカニズムは明らかでないが、準安定なガラス状態が感度向上と関係している可能性がある。また、Cu、Ag、Pdなどの比較的酸化し難い元素は、それ自身が金属として存在することになり、感度の向上が図られると考えている。La系列の元素は、Biと比較すると酸化し易いため、Biが単体金属として存在し易くなり、感度向上に関与していると考えられる。   For example, regarding the recording sensitivity, when the additive element X is Ge, Sn, Li or the like having an oxide generation enthalpy equivalent to that of Bi, these oxides separate oxygen in the recording film as a single element after sputtering film formation. Therefore, the light absorption rate is improved, and the sensitivity can be improved. Elements such as Li, Na, Mg, K, Ca, and P have the property of being easily vitrified by coexisting with bismuth oxide. Although the mechanism is not clear, a metastable glass state may be associated with increased sensitivity. In addition, elements that are relatively difficult to oxidize, such as Cu, Ag, and Pd, exist as metals themselves, and are considered to improve sensitivity. Since La elements are more easily oxidized than Bi, Bi is likely to exist as a single metal, and is considered to be involved in improving sensitivity.

本発明のより好ましい別の形態として、記録層の主成分がBi、B、Ge及びOからなる光情報記録媒体が挙げられる。Geを添加した記録層は、光吸収が大きくなり感度が向上し、特に高線速記録において良好な特性を示す。そのメカニズムは明らかではないが、Geを添加することにより、Biの酸化が抑制され、Bi金属が析出し易くなることにより、光の吸収が大きくなり、感度が向上すると考えている。また、Geを添加元素として用いたものは、感度の向上とともに記録パワーマージンも広くでき、安定した記録再生が可能となる。望ましいGeの含有量は、原子比で0.01≦Ge/(Bi+B+Ge)≦0.1である。Ge/(Bi+B+Ge)が0.01よりも小さいと、十分なGe添加効果が得られない。逆にGe/(Bi+B+Ge)が0.1よりも大きいと、記録ジッターが高くなってしまい好ましくない。   Another preferred embodiment of the present invention is an optical information recording medium in which the main component of the recording layer is Bi, B, Ge, and O. The recording layer to which Ge is added increases the light absorption and improves the sensitivity, and exhibits good characteristics particularly in high linear velocity recording. Although the mechanism is not clear, it is believed that addition of Ge suppresses Bi oxidation and facilitates precipitation of Bi metal, thereby increasing light absorption and improving sensitivity. In addition, when Ge is used as an additive element, sensitivity can be improved and a recording power margin can be widened, and stable recording and reproduction can be performed. Desirable Ge content is 0.01 <= Ge / (Bi + B + Ge) <= 0.1 by atomic ratio. When Ge / (Bi + B + Ge) is smaller than 0.01, a sufficient Ge addition effect cannot be obtained. Conversely, if Ge / (Bi + B + Ge) is larger than 0.1, the recording jitter becomes high, which is not preferable.

本発明の光情報記録媒体の構成例を図6に示す。記録再生のための光入射面は図の上側になる。
基板はポリカーボネート、アクリル、ポリオレフィンなどの樹脂の射出成形により製造され、情報記録層積層側に螺旋状のグルーブ溝を有する。図6の媒体では、記録再生用のレーザビームの入射がカバー層側から行われるので、基板材料は必ずしも透光性である必要はなく、グルーブ溝の転写性や反り等の機械特性の良好な成形材料から選択しうるが、一般には、CDやDVDにおいて実績があり安価なポリカーボネート樹脂が選択される。
情報記録層は、相変化型記録材料を含む相変化型情報記録層、あるいは色素材料や無機材料からなる追記型情報記録層である。情報記録層が相変化型情報記録層あるいは無機材料からなる追記型情報記録層の場合、前記基板上に、情報記録層として反射層、第1誘電体層、記録層、第2誘電体層を公知のスパッタ法等により、この順に形成する。
A configuration example of the optical information recording medium of the present invention is shown in FIG. The light incident surface for recording and reproduction is on the upper side of the figure.
The substrate is manufactured by injection molding of a resin such as polycarbonate, acrylic, or polyolefin, and has a spiral groove on the information recording layer lamination side. In the medium of FIG. 6, since the recording / reproducing laser beam is incident from the cover layer side, the substrate material does not necessarily need to be translucent, and has good mechanical properties such as groove groove transferability and warpage. Although it can be selected from molding materials, in general, an inexpensive polycarbonate resin that has a proven record in CDs and DVDs is selected.
The information recording layer is a phase change type information recording layer containing a phase change type recording material, or a write-once information recording layer made of a dye material or an inorganic material. When the information recording layer is a phase change information recording layer or a write-once information recording layer made of an inorganic material, a reflective layer, a first dielectric layer, a recording layer, and a second dielectric layer are provided on the substrate as the information recording layer. They are formed in this order by a known sputtering method or the like.

反射層の材料としては、再生光の波長で反射率が十分高いもの、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Pdなどの金属を単独で或いは合金にして用いることができる。中でもAu、Al、Agは反射率が高く、熱伝導性も良好なので、反射層の材料として適している。また、上記金属を主成分として他の元素を含んでいても良く、他の元素としては、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及び半金属を挙げることができる。金属以外の材料で低屈折率層と高屈折率層を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
反射層の好ましい膜厚は、20〜300nmである。
As the material of the reflective layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, a metal such as Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Pd, alone or in an alloy is used. Can be used. Among these, Au, Al, and Ag are suitable as a material for the reflective layer because of their high reflectivity and good thermal conductivity. Further, the above metal may be the main component and other elements may be included. Examples of other elements include Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Mention may be made of metals and metalloids such as Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi. It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking a low refractive index layer and a high refractive index layer with a material other than metal, and use it as a reflective layer.
The preferred film thickness of the reflective layer is 20 to 300 nm.

第1誘電体層及び第2誘電体層は、金属や半導体の酸化物、硫化物、窒化物、炭化物等の透明性が高い高融点材料を用いることができる。具体的には、SiOx、ZnO、SnO、Al、TiO、In、MgO、ZrO、Ta等の酸化物、Si、AlN、TiN、BN、ZrN等の窒化物、ZnS、TaS等の硫化物、SiC、TaC、BC、WC、TiC、ZrC等の炭化物が挙げられ、単体又は混合物として、また2層以上からなる多層構造として用いることができる。
誘電体層に最適な材料は、屈折率、熱伝導率、化学的安定性、機械的強度、密着性等に留意して決定される。中でも、ZnSを60〜90モル%含むSiOとの混合膜は、高温環境下での膜自身の結晶化や記録層との化学変化、膜変形がないため望ましい。また、熱伝導率が0.5W/mK以下と低いため、記録マーク部の加熱温度を高く保つことができ、変調度の高いマークの形成に有利である点などからも、記録層に接する誘電体層として最も適している。
第1誘電体層は、記録層と反射層との反応を抑え、反射膜への熱伝導性を適切に制御する機能を有し、好ましい膜厚は5〜30nmである。
第2誘電体層は、カバー層側からの水分や酸素等の透過を防ぎ、過度なカバー層の熱変形を抑える機能を有し、好ましい膜厚は5〜100nmである。
For the first dielectric layer and the second dielectric layer, a high-melting-point material having high transparency such as metal, semiconductor oxide, sulfide, nitride, and carbide can be used. Specifically, SiOx, ZnO, SnO 2, Al 2 O 3, TiO 2, In 2 O 3, MgO, ZrO 2, Ta oxides such 2 O 5, Si 3 N 4 , AlN, TiN, BN, Examples include nitrides such as ZrN, sulfides such as ZnS and TaS 4 , and carbides such as SiC, TaC, B 4 C, WC, TiC, and ZrC, and are used as a single body or a mixture, or as a multilayer structure composed of two or more layers. be able to.
The optimum material for the dielectric layer is determined in consideration of the refractive index, thermal conductivity, chemical stability, mechanical strength, adhesion, and the like. Among them, a mixed film with SiO 2 containing 60 to 90 mol% of ZnS is desirable because there is no crystallization of the film itself, chemical change with the recording layer, and film deformation under a high temperature environment. In addition, since the thermal conductivity is as low as 0.5 W / mK or less, the heating temperature of the recording mark portion can be kept high, which is advantageous for forming a mark with a high degree of modulation. Most suitable as a body layer.
The first dielectric layer has a function of suppressing the reaction between the recording layer and the reflective layer and appropriately controlling the thermal conductivity to the reflective film, and the preferred film thickness is 5 to 30 nm.
The second dielectric layer has a function of preventing moisture and oxygen from permeating from the cover layer side and suppressing excessive thermal deformation of the cover layer, and a preferable film thickness is 5 to 100 nm.

記録層には、前述したように、酸化ビスマス及び元素Xを含有する材料が好ましく用いられる。更に好ましくは、主成分がBi、B及びOからなる材料や、主成分がBi、B、O及びGeからなる材料がが用いられる。このような記録層は、例えば、BiターゲットとBターゲット、或いは更にGeOターゲットを備えたコスパッタ法や、BiとB、或いは更にGeOを加えて一体成形したターゲットを用いたスパッタ法等により形成される。
Bの含有量を原子比で0.1≦B/(Bi+B)≦0.5とするために、コスパッタ法ではそれぞれのターゲットに印加する投入電力を調整する。一体成形したターゲットを用いる場合は、ターゲットと膜の組成ずれを考慮してターゲット組成を決めればよい。
Bi及び/又はBが化学量論組成に対して酸素欠損となる状態を作るには、ターゲットを還元雰囲気で焼結して酸素欠損の状態にしたり、化学量論組成のターゲットを用い成膜レートやスパッタ圧力等の成膜条件を調整して酸素欠損量を調整したり、或いはスパッタ雰囲気に水素等の還元性ガスを添加して反応性スパッタを行なったりすれば良い。
望ましい記録層の膜厚は、5〜30nmである。
As described above, a material containing bismuth oxide and element X is preferably used for the recording layer. More preferably, a material composed mainly of Bi, B, and O or a material composed mainly of Bi, B, O, and Ge is used. Such a recording layer is formed by adding, for example, a co-sputtering method including a Bi 2 O 3 target and a B 2 O 3 target, or further a GeO 2 target, Bi 2 O 3 and B 2 O 3 , or further adding GeO 2. It is formed by a sputtering method using an integrally formed target.
In order to set the B content to 0.1 ≦ B / (Bi + B) ≦ 0.5 in terms of atomic ratio, the input power applied to each target is adjusted in the co-sputtering method. In the case of using an integrally formed target, the target composition may be determined in consideration of the composition deviation between the target and the film.
In order to create a state in which Bi and / or B are oxygen deficient with respect to the stoichiometric composition, the target is sintered in a reducing atmosphere to be in an oxygen deficient state, or a film formation rate is obtained using a target having a stoichiometric composition. The film formation conditions such as sputtering pressure may be adjusted to adjust the amount of oxygen deficiency, or reactive sputtering may be performed by adding a reducing gas such as hydrogen to the sputtering atmosphere.
A desirable recording layer thickness is 5 to 30 nm.

カバー層に用いる光硬化性樹脂としては、少なくとも、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート及び/又はポリエステル(メタ)アクリレートからなるラジカル重合性オリゴマーと、(メタ)アクリレートモノマーからなる反応性希釈剤と、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン及び/又は2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンと、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンからなる光重合開始剤を含む紫外線硬化樹脂である。
上記ウレタン(メタ)アクリレートとしては、ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反応させて得られるものが挙げられる。具体的なポリオール化合物としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、分子中に2個以上の水酸基を有する脂肪族炭化水素、分子中に2個以上の水酸基を有する脂環式炭化水素、分子中に2個以上の水酸基を有する不飽和炭化水素等が挙げられる。これらのポリオールは単独で用いることも、2種類以上併用することもできる。
The photocurable resin used for the cover layer is at least a radically polymerizable oligomer composed of urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate and / or polyester (meth) acrylate, and reactive dilution composed of (meth) acrylate monomer. Agent, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and / or 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propane- It is an ultraviolet curable resin containing a photopolymerization initiator composed of 1-one and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one.
As said urethane (meth) acrylate, what is obtained by making a polyol compound, a polyisocyanate compound, and a hydroxyl-containing (meth) acrylate compound react is mentioned. Specific polyol compounds include polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, polycaprolactone polyols, aliphatic hydrocarbons having two or more hydroxyl groups in the molecule, and alicyclic compounds having two or more hydroxyl groups in the molecule. Examples thereof include hydrocarbons and unsaturated hydrocarbons having two or more hydroxyl groups in the molecule. These polyols can be used alone or in combination of two or more.

上記ポリエーテルポリオールとしては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環式ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオールが挙げられる。脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、及びトリメチロールプロパンのエチレンオキシド付加トリオール、トリメチロールプロパンのプロピレンオキシド付加トリオール、トリメチロールプロパンのエチレンオキシドとプロピレンオキシド付加トリオール、ペンタエリスリトールのエチレンオキシド付加テトラオール、ジペンタエリスリトールのエチレンオキシド付加ヘキサオール等のアルキレンオキシド付加ポリオール等の多価アルコール、或いは2種類以上のイオン重合性環状化合物を開環重合させて得られるポリエーテルポリオール等が挙げられる。
脂環式ポリエーテルポリオールとしては、例えば水添ビスフェノールAのアルキレンオキシド付加ジオール、水添ビスフェノールFのアルキレンオキシド付加ジオール、1,4−シクロヘキサンジオールのアルキレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。
芳香族ポリエーテルポリオールとしては、例えばビスフェノールAのアルキレンオキシド付加ジオール、ビスフェノールFのアルキレンオキシド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール、ナフトハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール、アントラハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。
Examples of the polyether polyol include aliphatic polyether polyols, alicyclic polyether polyols, and aromatic polyether polyols. Examples of the aliphatic polyether polyol include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polyhexamethylene glycol, polyheptamethylene glycol, polydecamethylene glycol, pentaerythritol, dipentaerythritol, trimethylolpropane, and trimethylolpropane. A number of alkylene oxide addition polyols such as ethylene oxide addition triols of trimethylol propane, propylene oxide addition triols of trimethylol propane, ethylene oxide and propylene oxide addition triols of trimethylol propane, ethylene oxide addition tetraols of pentaerythritol, ethylene oxide addition hexaols of dipentaerythritol, etc. Dihydric alcohol or two or more types of Io Polyether polyols obtained by polymerizing cyclic compound by ring-opening polymerization.
Examples of the alicyclic polyether polyol include hydrogenated bisphenol A alkylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol F alkylene oxide addition diol, 1,4-cyclohexanediol alkylene oxide addition diol, and the like.
Examples of the aromatic polyether polyol include alkylene oxide addition diol of bisphenol A, alkylene oxide addition diol of bisphenol F, alkylene oxide addition diol of hydroquinone, alkylene oxide addition diol of naphthohydroquinone, alkylene oxide addition diol of anthrahydroquinone, etc. It is done.

上記ポリエーテルポリオールの市販品としては、脂肪族ポリエーテルポリオールとして、PTMG650、PTMG1000、PTMG2000〔以上、三菱化学(株)製〕、PPG1000、EXCENOL1020、EXCENOL2020、EXCENOL3020、EXCENOL4020〔以上、旭硝子(株)製〕、PEG1000、ユニセーフDC1100、ユニセーフDC1800、ユニセーフDCB1100、ユニセーフDCB1800〔以上、日本油脂(株)製〕、PPTG1000、PPTG2000、PPTG4000、PTG400、PTG650、PTG2000、PTG3000、PTGL1000、PTGL2000〔以上、保土谷化学工業(株)製〕、Z−3001−4、Z−3001−5、PBG2000、PBG2000B〔以上、第一工業製薬(株)製〕、TMP30、PNT4グリコール、EDAP4、 EDA P8〔以上、日本乳化剤(株)製〕、クオドロール〔旭電化(株)製〕が挙げられる。また、芳香族ポリエーテルポリオールとして、ユニオールDA400、DA700、DA1000、DB400〔以上、日本油脂(株)製〕等が挙げられる。   Commercially available products of the above polyether polyols include, as aliphatic polyether polyols, PTMG650, PTMG1000, PTMG2000 [more, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation], PPG1000, EXCENOL1020, EXCENOL2020, EXCENOL3020, EXCENOL4020 [more, Asahi Glass Co., Ltd.] ], PEG1000, Unisafe DC1100, Unisafe DC1800, Unisafe DCB1100, Unisafe DCB1800 [above, manufactured by NOF Corporation], PPTG1000, PPTG2000, PPTG4000, PTG400, PTG650, PTG2000, PTG3000, PTGL1000, PTGL2000 [above, Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.], Z-3001-4, Z-3001-5, PBG200 , PBG2000B [above, Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.], TMP30, PNT4 glycol, EDAP4, EDA P8 [more Nippon Emulsifier Co., Ltd.], include Kuodororu [manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.]. In addition, examples of the aromatic polyether polyol include Uniol DA400, DA700, DA1000, DB400 [manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.].

上記ポリエステルポリオールは、多価アルコールと多塩基酸とを反応させて得られる。ここで、多価アルコールとしては、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,2−ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド付加体、トリメチロールプロパンのプロピレンオキシド付加体、トリメチロールプロパンのエチレンオキシドとプロピレンオキシド付加体、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、アルキレンオキシド付加ポリオール等が挙げられる。また、多塩基酸としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、セバシン酸、等が挙げられる。
これらのポリエステルポリオールの市販品としては、クラポールP1010、クラポールP2010、PMIPA、PKA−A、PKA−A2、PNA−2000〔以上、(株)クラレ製〕等を使用することができる。
The polyester polyol is obtained by reacting a polyhydric alcohol and a polybasic acid. Here, as the polyhydric alcohol, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-bis (hydroxyethyl) cyclohexane, 2,2-diethyl -1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, glycerin, trimethylolpropane, ethyleneoxy of trimethylolpropane Adducts, propylene oxide adducts of trimethylol propane, ethylene oxide and propylene oxide adducts of trimethylol propane, sorbitol, pentaerythritol, dipentaerythritol, alkylene oxide addition polyol, and the like. Examples of the polybasic acid include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, adipic acid, sebacic acid, and the like.
As a commercially available product of these polyester polyols, Kurapol P1010, Kurapol P2010, PMIPA, PKA-A, PKA-A2, PNA-2000 [manufactured by Kuraray Co., Ltd.] and the like can be used.

上記ポリカーボネートポリオールとしては、例えば下記〔化1〕で示されるポリカーボネートジオールが挙げられる。
式中、Rは炭素数2〜20のアルキレン基、(ポリ)エチレングリコール残基、(ポリ)プロピレングリコール残基、(ポリ)テトラメチレングリコール残基を表し、mは1〜30の整数である。
の具体例としては、次の化合物から両末端水酸基を除いた残基、即ち、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール等から水酸基を除いた残基が挙げられる。
該ポリカーボネートポリオールの市販品としては、DN−980、DN−981、DN−982、DN−983〔以上、日本ポリウレタン工業(株)製〕、PC−8000(PPG社製)、PNOC1000、PNOC2000、PMC100、PMC2000〔以上、(株)クラレ製〕、プラクセルCD−205、CD−208、CD−210、CD−220、CD−205PL、CD−208PL、CD−210PL、CD−220PL、CD−205HL、CD−208HL、CD−210HL、CD−220HL、CD−210T、CD−221T〔以上、ダイセル化学工業(株)製〕等を使用することができる。
Examples of the polycarbonate polyol include polycarbonate diols represented by the following [Chemical Formula 1].
In the formula, R 1 represents an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, a (poly) ethylene glycol residue, a (poly) propylene glycol residue, or a (poly) tetramethylene glycol residue, and m is an integer of 1 to 30. is there.
Specific examples of R 1 include residues obtained by removing both terminal hydroxyl groups from the following compounds, that is, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentylglycol, 1,6-hexanediol, 1, 4-cyclohexanedimethanol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol And residues obtained by removing a hydroxyl group from tetrapropylene glycol and the like.
Commercially available products of the polycarbonate polyol include DN-980, DN-981, DN-982, DN-983 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), PC-8000 (manufactured by PPG), PNOC1000, PNOC2000, PMC100. PMC2000 [above, manufactured by Kuraray Co., Ltd.], Plaxel CD-205, CD-208, CD-210, CD-220, CD-205PL, CD-208PL, CD-210PL, CD-220PL, CD-205HL, CD -208HL, CD-210HL, CD-220HL, CD-210T, CD-221T [above, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.] can be used.

上記ポリカプロラクトンポリオールとしては、ε−カプロラクトンを、例えばエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオール等のジオールに付加反応させて得られるポリカプロラクトンジオールが挙げられる。これらの市販品としては、プラクセル205、205AL、212、212AL、220、220AL〔以上、ダイセル化学工業(株)製〕等を使用することができる。   Examples of the polycaprolactone polyol include ε-caprolactone such as ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, neo Examples include polycaprolactone diols obtained by addition reaction with diols such as pentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and 1,4-butanediol. As these commercial products, Plaxel 205, 205AL, 212, 212AL, 220, 220AL (above, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and the like can be used.

分子中に2個以上の水酸基を有する脂肪族炭化水素としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等が挙げられる。
分子中に2個以上の水酸基を有する脂環式炭化水素としては、例えば1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,2−ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。
分子中に2個以上の水酸基を有する不飽和炭化水素としては、例えばヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端ポリイソプレン等が挙げられる。
更にまた、上記以外のポリオールとしては、例えばβ−メチル−δ−バレロラクトンジオール、ひまし油変性ジオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ジオール等が挙げられる。
これらのポリオール化合物の好ましい平均分子量は50〜15000、特に好ましくは100〜8000である。
Examples of the aliphatic hydrocarbon having two or more hydroxyl groups in the molecule include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, , 7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, neopentyl glycol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2- Examples include methyl-1,8-octanediol, hydroxy-terminated hydrogenated polybutadiene, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, and sorbitol.
Examples of the alicyclic hydrocarbon having two or more hydroxyl groups in the molecule include 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-bis (hydroxyethyl) cyclohexane, dimethylol such as dicyclopentadiene. Compound, tricyclodecane dimethanol and the like.
Examples of the unsaturated hydrocarbon having two or more hydroxyl groups in the molecule include hydroxy-terminated polybutadiene and hydroxy-terminated polyisoprene.
Furthermore, examples of polyols other than the above include β-methyl-δ-valerolactone diol, castor oil-modified diol, terminal diol compound of polydimethylsiloxane, polydimethylsiloxane carbitol-modified diol, and the like.
The preferred average molecular weight of these polyol compounds is 50 to 15000, particularly preferably 100 to 8000.

また、上記ポリイソシアネート化合物としてはジイソシアネート化合物が好ましく、例えば2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。これらのうち、特に2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネートが好ましい。これらのジイソシアネートは単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。   The polyisocyanate compound is preferably a diisocyanate compound, such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,5- Naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dimethylphenylene diisocyanate, 4,4'- Biphenylene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanatoethyl) Rate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, and the like. Among these, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and hydrogenated diphenylmethane diisocyanate are particularly preferable. These diisocyanates can be used alone or in combination of two or more.

また、上記水酸基含有(メタ)アクリレートはエステル残基に水酸基を有する(メタ)アクリレートであり、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイルホスフェート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、或いは下記〔化2〕で表される(メタ)アクリレート等が挙げられ(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、nは1〜15、好ましくは1〜4の整数を示す)、更にアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物も挙げることができる。これらのうち、特に2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートが好ましい。
The hydroxyl group-containing (meth) acrylate is a (meth) acrylate having a hydroxyl group in the ester residue. For example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) Acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, 1,6 -Hexanediol mono (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolethane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (me ) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, or represented by the following general formula [2] (meth) acrylate and the like (wherein, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl radical, n is 1 to 15 , Preferably an integer of 1 to 4), and compounds obtained by addition reaction of glycidyl group-containing compounds such as alkyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid. it can. Of these, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate are particularly preferable.

本発明に用いられる光硬化性樹脂に好適なウレタン(メタ)アクリレートの合成方法は特に制限されないが、例えば次の(i)〜(iii)の方法に従って行われる。
(i)ポリイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオールの順に反応させる方法。
(ii)ポリオール、ポリイソシアネート、水酸基含有(メタ)アクリレートを一括に仕込んで反応させる方法。
(iii)ポリオール及びポリイソシアネートを反応させ、次いで水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させる方法。
ウレタン(メタ)アクリレートの合成においては通常、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ジラウリル酸ジ−n−ブチルスズ、トリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オクタン、1,4−ジアザ−2−メチルビシクロ〔2.2.2〕オクタン等のウレタン化触媒を、反応物の総量100重量部に対して0.01〜1重量部用いて反応を行うのが好ましい。この反応における反応温度は、通常、0〜90℃、好ましくは10〜80℃である。
また、ウレタン(メタ)アクリレートの好ましい数平均分子量は、400〜40000であり、特に好ましいのは600〜20000である。
Although the synthesis | combining method of urethane (meth) acrylate suitable for the photocurable resin used for this invention is not restrict | limited in particular, For example, it performs according to the method of following (i)-(iii).
(I) A method in which a polyisocyanate and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are reacted and then reacted in the order of polyol.
(Ii) A method in which a polyol, a polyisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are charged together and reacted.
(Iii) A method of reacting a polyol and a polyisocyanate and then reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylate.
In the synthesis of urethane (meth) acrylate, copper naphthenate, cobalt naphthenate, zinc naphthenate, di-n-butyltin dilaurate, triethylamine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,4 The reaction is preferably carried out using 0.01 to 1 part by weight of a urethanization catalyst such as diaza-2-methylbicyclo [2.2.2] octane with respect to 100 parts by weight of the total amount of the reactants. The reaction temperature in this reaction is usually 0 to 90 ° C, preferably 10 to 80 ° C.
Moreover, the preferable number average molecular weights of urethane (meth) acrylate are 400-40000, and 600-20000 are especially preferable.

本発明に用いられる光硬化性樹脂に好適なラジカル重合性オリゴマーのうち、エポキシ(メタ)アクリレートとしては、グリシジルエーテル型エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸を反応させて得られるものが挙げられる.
グリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル、ビスフェノールFあるいはそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールFあるいはそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、へキサンジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。
Among the radical polymerizable oligomers suitable for the photocurable resin used in the present invention, examples of the epoxy (meth) acrylate include those obtained by reacting a glycidyl ether type epoxy compound with (meth) acrylic acid.
Examples of the glycidyl ether type epoxy compound include diglycidyl ether of bisphenol A or its alkylene oxide adduct, diglycidyl ether of bisphenol F or its alkylene oxide adduct, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adduct, hydrogen Diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, hexanediol diglycidyl ether, cyclohexanedimethanol di Glycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, etc. That.

本発明に用いられる光硬化性樹脂に好適なエポキシ(メタ)アクリレートは、例えば、上記グリシジルエーテル型エポキシ化合物のエポキシ基1当量に対して(メタ)アクリル酸を0.9〜1.5モル、より好ましくは0.95〜1.1モルの比率で反応させて得られる。反応温度は80〜120℃が好ましく、反応時間は10〜35時間程度である。
反応を促進させるために、例えば、トリフェニルフォスフィン、TAP〔2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール〕、トリエタノールアミン、テトラエチルアンモニウムクロリド等の触媒を使用するのが好ましい。また、反応中の重合を防止するために重合禁止剤(例えば、パラメトキシフェノール、メチルハイドロキノン等)を使用することもできる。
エポキシ(メタ)アクリレートの分子量は400〜10000が好ましい。
また、エポキシ(メタ)アクリレートは1種又は2種以上を混合して使用することができる。エポキシ(メタ)アクリレートを紫外線硬化型樹脂組成物に含有させる場合、その含有量は通常1〜30重量%、好ましくは5〜20重量%である。
本発明に用いられる光硬化性樹脂に好適なエポキシ(メタ)アクリレートとしては、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレートや、フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレートが挙げられる。これに用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えばエピコート828、エピコート1001、エピコート1004等(何れも油化シェルエポキシ社の商品名)のビスフェノールA型エポキシ樹脂や,エピコート4001P、エピコート4002P、エピコート4003P(何れも油化シェルエポキシ社の商品名)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂等が挙げられる。
The epoxy (meth) acrylate suitable for the photocurable resin used in the present invention is, for example, 0.9 to 1.5 mol of (meth) acrylic acid with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the glycidyl ether type epoxy compound. More preferably, it is obtained by reacting at a ratio of 0.95 to 1.1 mol. The reaction temperature is preferably 80 to 120 ° C., and the reaction time is about 10 to 35 hours.
In order to accelerate the reaction, for example, a catalyst such as triphenylphosphine, TAP [2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol], triethanolamine, tetraethylammonium chloride is preferably used. In addition, a polymerization inhibitor (for example, paramethoxyphenol, methylhydroquinone, etc.) can be used to prevent polymerization during the reaction.
The molecular weight of the epoxy (meth) acrylate is preferably 400 to 10,000.
Moreover, epoxy (meth) acrylate can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. When the epoxy (meth) acrylate is contained in the ultraviolet curable resin composition, the content is usually 1 to 30% by weight, preferably 5 to 20% by weight.
Examples of the epoxy (meth) acrylate suitable for the photocurable resin used in the present invention include bisphenol A type epoxy (meth) acrylate and phenol novolac type epoxy (meth) acrylate. Examples of the bisphenol type epoxy resin used for this include bisphenol A type epoxy resins such as Epicoat 828, Epicoat 1001, Epicoat 1004, etc. (all trade names of Yuka Shell Epoxy), Epicoat 4001P, Epicoat 4002P, Epicoat 4003P ( Examples thereof include bisphenol F-type epoxy resins such as the product name of Yuka Shell Epoxy.

本発明に用いられる光硬化性樹脂に好適なラジカル重合性オリゴマーのうち、ポリエステル(メタ)アクリレートとしては、例えば多価アルコールと多塩基酸との反応によって得られるポリエステルポリオールと(メタ)アクリル酸との反応物が挙げられる。ここで使用される多価アルコールとしては、例えばネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン等が挙げられ、多塩基酸としては、例えばコハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。   Among the radically polymerizable oligomers suitable for the photocurable resin used in the present invention, as the polyester (meth) acrylate, for example, a polyester polyol obtained by a reaction between a polyhydric alcohol and a polybasic acid, (meth) acrylic acid, These reactants can be mentioned. Examples of the polyhydric alcohol used here include neopentyl glycol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,6-hexanediol, and trimethylolpropane. Examples of the polybasic acid include succinic acid, phthalic acid, Examples include hexahydrophthalic anhydride, adipic acid, azelaic acid, and tetrahydrophthalic anhydride.

本発明に用いられる光硬化性樹脂に好適な(メタ)アクリレートモノマーからなる反応性希釈剤として、一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも一個有する(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。これらの成分としては、(メタ)アクリロイル基を一つだけ有する単官能化合物と、二つ以上有する多官能化合物の何れの化合物を用いてもよく、適当な比率で併用してもよい。
上記単官能化合物としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートが光ディスクの耐湿熱性向上の点から好ましく用いられる。また、その他の単官能化合物として、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ジフェニルホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート等が挙げられる。
Examples of the reactive diluent composed of a (meth) acrylate monomer suitable for the photocurable resin used in the present invention include (meth) acrylate compounds having at least one (meth) acryloyl group in one molecule. As these components, any of a monofunctional compound having only one (meth) acryloyl group and a polyfunctional compound having two or more may be used, or they may be used in combination at an appropriate ratio.
As the monofunctional compound, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate are used from the viewpoint of improving the moisture and heat resistance of the optical disc. Preferably used. Other monofunctional compounds include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth). Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ( (Meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl ( Acrylate), octadecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Phenoxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (Meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, dicyclope Tadienyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, Dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- ( (Meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyltetrahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxy Propylhexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, hepta Decafluorodecyl (meth) acrylate, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] diphenyl phosphate, mono [2- (meth) acryloyloxypropyl] phosphate, etc. It is done.

これらの市販品としては、アロニックス M101、M102、M110、M111、M113、M114、M117、M120、M152、M154、M5300、M5400、M5500、M5600〔以上、東亞合成(株)製〕、KAYARAD TC−110S、R−128H、R629、R644〔以上、日本化薬(株)製〕、IPAA、AIB、SBAA、TBA、IAAA、HEXA、CHA、NOAA、IOAA、INAA、LA、TDA、MSAA、CAA、HDAA、LTA、STA、ISAA−1、ODAA、NDAA、IBXA、ADAA、TCDA、2−MTA、DMA、ビスコート #150、#150D、#155、#158、#160、#190、#190D、#192、#193、#220、#320、#2311HP、#2000、#2100、#2150、#2180、MTG〔以上、大阪有機化学工業(株)製〕、NKエステル M−20G、M−40G、M−90G、M−230G、CB−1、SA、S、AMP−10G、AMP−20G、AMP−60G、AMP−90G、A−SA、NLA〔以上、新中村化学工業(株)製〕、ACMO〔(株)興人製〕、ライトアクリレート IA−A、L−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、DPM−A、PO−A、P−200A、THF−A、IB−XA、HOA−MS、HOA−MPL、HOA−MPE、HOA−HH、IO−A、BZ−A、NP−EA、NP−10EA、HOB−A、FA−108、エポキシエステルM−600A、ライトエステルP−M〔以上、共栄社化学(株)製〕、FA−511、FA−512A、FA−513A〔以上、日立化成工業(株)製〕、AR−100、MR−100、MR−200、MR−260〔以上、大八化学(株)製〕、JAMP−100、JAMP−514、JPA−514〔以上、城北化学(株)製〕等が挙げられる。   As these commercial products, Aronix M101, M102, M110, M111, M113, M114, M117, M120, M152, M154, M5300, M5400, M5500, M5600 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), KAYARAD TC-110S , R-128H, R629, R644 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), IPAA, AIB, SBAA, TBA, IAAA, HEXA, CHA, NOAA, IOAA, IAA, LA, TDA, MSAA, CAA, HDAA, LTA, STA, ISAA-1, ODAA, NDAA, IBXA, ADAA, TCDA, 2-MTA, DMA, Biscote # 150, # 150D, # 155, # 158, # 160, # 190, # 190D, # 192, # 193, # 220, # 320, # 311HP, # 2000, # 2100, # 2150, # 2180, MTG [manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.], NK ester M-20G, M-40G, M-90G, M-230G, CB-1, SA, S, AMP-10G, AMP-20G, AMP-60G, AMP-90G, A-SA, NLA [above, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.], ACMO [produced by Kojin Co., Ltd.], light acrylate IA-A, LA, SA, BO-A, EC-A, MTG-A, DPM-A, PO-A, P-200A, THF-A, IB-XA, HOA-MS, HOA- MPL, HOA-MPE, HOA-HH, IO-A, BZ-A, NP-EA, NP-10EA, HOB-A, FA-108, epoxy ester M-600A, light ester P-M [above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. FA-511, FA-512A, FA-513A [above, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.], AR-100, MR-100, MR-200, MR-260 [above, Daihachi Chemical ( Co., Ltd.], JAMP-100, JAMP-514, JPA-514 [above, manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.] and the like.

また、上記多官能化合物としては、例えばエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシプロピル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジエポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジエポキシジ(メタ)アクリレート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート、トリス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート等の多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of the polyfunctional compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di ( (Meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopenty Glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane polyoxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxypropyl (meth) acrylate, trimethylolpropane polyoxyethyl (meta) ) Acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) L) Isocyanurate tri (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol F di (meth) acrylate, propylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, propylene oxide-added bisphenol F di (meth) Acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, bisphenol A diepoxy di (meth) acrylate, bisphenol F diepoxy di (meth) acrylate, bis [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate, bis [2- (meth) acryloyl And polyfunctional (meth) acrylates such as oxypropyl] phosphate and tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate.

これらの市販品としては、SA−1002、SA−2006、SA−2007、SA−4100、SA−5001、SA−6000、SA−7600、SA−8000、SA−9000〔以上、三菱化学(株)製〕、ビスコート #195、#195D、#214HP、#215、#215D、#230、#230D、#260、#295、#295D、#300、#310HP、#310HG、#312、#335HP、#335D、#360、GPT、#400、V#540、#700、GPT〔以上、大阪有機化学工業(株)製〕、KAYARADMANDA、R−526、NPGDA、PEG400DA、R−167、HX−220、HX−620、R−551、R−712、R−604、R−684、GPO−303、TMPTA、THE−330、TPA−320、TPA−330、PET−30、RP−1040、T−1420、DPHA、D−310、D−330、DPCA−20、DPCA−30、DPCA−60、DPCA−120〔以上、日本化薬(株)製〕、アロニックス M−210、M−208、M−215、M−220、M−225、M−233、M−240、M−245、M−260、M−270、M−305、M−309、M−310、M−315、M−320、M−350、M−360、M−400、M−408、M−450〔以上、東亞合成(株)製〕、SR−212、SR−213、SR−355(以上、サートマー社製)、SP−1506、SP−1507、SP−1509、SP−1519−1、SP−1563、SP−2500、VR60、VR77、VR90〔以上、昭和高分子(株)製〕、ライトエステルP−2M〔以上、共栄社化学(株)製〕、ビスコート3PA〔大阪有機化学工業(株)製〕、EB−169、EB−179、EB−3603、R−DX63182〔以上、ダイセルUCB(株)製〕等が挙げられる。   As these commercial products, SA-1002, SA-2006, SA-2007, SA-4100, SA-5001, SA-6000, SA-7600, SA-8000, SA-9000 [above, Mitsubishi Chemical Corporation] Manufactured by], Biscote # 195, # 195D, # 214HP, # 215, # 215D, # 230, # 230D, # 260, # 295, # 295D, # 300, # 310HP, # 310HG, # 312, # 335HP, # 335D, # 360, GPT, # 400, V # 540, # 700, GPT [above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.], KAYARADMANDA, R-526, NPGDA, PEG400DA, R-167, HX-220, HX -620, R-551, R-712, R-604, R-684, GPO-303, TMPTA THE-330, TPA-320, TPA-330, PET-30, RP-1040, T-1420, DPHA, D-310, D-330, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 [ As described above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.], Aronix M-210, M-208, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M- 270, M-305, M-309, M-310, M-315, M-320, M-350, M-360, M-400, M-408, M-450 [above, manufactured by Toagosei Co., Ltd. SR-212, SR-213, SR-355 (above, manufactured by Sartomer), SP-1506, SP-1507, SP-1509, SP-1519-1, SP-1563, SP-2500, V 60, VR77, VR90 [above, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.], Light Ester P-2M [above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.], Biscoat 3PA [Osaka Organic Chemical Co., Ltd.], EB-169, EB-179, EB-3603, R-DX63182 [manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.] and the like.

これらの反応性希釈剤のうち、前述のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと多官能(メタ)アクリレートを組み合わせて用いるのが特に好ましい。
本発明に用いられる光硬化性樹脂の成分組成としては、ラジカル重合性オリゴマーを30〜70重量%、反応性希釈剤を30〜70重量%、光重合開始剤を総量で1〜8重量%配合するのが好ましい。更に、数%程度の添加剤(酸化防止剤、重合禁止剤等)を含んでもよい。
本発明に好適な光重合開始剤は、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン及び/又は2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンと、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンからなる光重合開始剤であるが、これらに、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパノン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン等をブレンドして用いてもよい。
また、硬化物の内部硬化性を高めるために、400nm以上の波長域に感度を有する光重合開始剤を含めても良い。このような光重合開始剤としては、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル(405nmにおける吸光係数=24ml/g・cm)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(同900ml/g・cm)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1(同280ml/g・cm)、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチル−ベンジル)−1−(4−モルフォリン−4−イル−フェニル)ブタン−1−オン(同280ml/g・cm)、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド(同165ml/g・cm)等が挙げられる。
Of these reactive diluents, it is particularly preferable to use a combination of the aforementioned hydroxyalkyl (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate.
The component composition of the photocurable resin used in the present invention is 30 to 70% by weight of radical polymerizable oligomer, 30 to 70% by weight of reactive diluent, and 1 to 8% by weight of the total amount of photopolymerization initiator. It is preferable to do this. Furthermore, about several percent of additives (antioxidants, polymerization inhibitors, etc.) may be included.
Suitable photoinitiators for the present invention are 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and / or 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl. } -2-methyl-propan-1-one and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, which are photopolymerization initiators, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl]- 2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-chlorothioxanthone, , 4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, may be blended isopropylthioxanthone and the like.
Moreover, in order to improve the internal curability of the cured product, a photopolymerization initiator having sensitivity in a wavelength region of 400 nm or more may be included. As such a photopolymerization initiator, phenylglyoxylic acid methyl ester (absorption coefficient at 405 nm = 24 ml / g · cm), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (900 ml / g · cm), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 (280 ml / g · cm), 2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) butan-1-one (280 ml / g · cm), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide (165 ml / g · cm) and the like. .

カバー層の形成は、中心孔を塞いで紫外線硬化樹脂をスピンコートする公知の方法や、基板を加熱して樹脂の粘度を半径方向にコントロールしてスピンコートする本出願人の方法を用いればよい。
カバー層の形成方法の一例について図7を用いて説明する。
まず、図7(a)に示すように、媒体の中心孔をφ19mmの中心孔マスクで閉塞し、マスクの中心付近に紫外線硬化樹脂を供給する。次に、使用する樹脂の粘度に応じて800〜1500rpmで基板を回転させて樹脂を展延する。この際、図7(b)のような集光光学系を用いてハロゲンランプ光を媒体外周に集光し、部分的な加熱を行って、この部分の樹脂溜りを平坦化するとよい。次に、中心孔マスクを取り外し、図7(c)のように紫外線光源により樹脂層を硬化させ、図6の構造の光情報記録媒体を得る。
The cover layer may be formed by using a known method in which the center hole is closed and the UV curable resin is spin-coated, or the method of the present applicant in which the viscosity of the resin is controlled in the radial direction by heating the substrate and spin-coated. .
An example of the method for forming the cover layer will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 7A, the center hole of the medium is closed with a center hole mask of φ19 mm, and an ultraviolet curable resin is supplied near the center of the mask. Next, the substrate is rotated at 800 to 1500 rpm according to the viscosity of the resin to be used to spread the resin. At this time, it is preferable to condense the halogen lamp light on the outer periphery of the medium using a condensing optical system as shown in FIG. 7B and perform partial heating to flatten the resin reservoir in this part. Next, the center hole mask is removed, and the resin layer is cured by an ultraviolet light source as shown in FIG. 7C, whereby an optical information recording medium having the structure shown in FIG. 6 is obtained.

照射するエネルギー線の照射量は50〜2000mJ/cmが好ましく、特に好ましくは200〜1500mJ/cmである。硬化に使用するエネルギー線を照射できるランプであれば光源を問わず、例えば低圧、高圧又は超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、(パルス)キセノンランプ又は無電極放電ランプ等を用いることができる。紫外線硬化型樹脂組成物の硬化に使用できるエネルギー線の波長は150〜450nmである。
更に、図6には示していないが、カバー層の上(光入射側)に、同様のスピンコート法によって、表面の耐擦傷性や防汚性を付与するためのハードコート層(紫外線硬化樹脂層や無機物を分散させた光硬化樹脂層、あるいは無機物層等)を設けても良い。この場合、Blu−ray disc規格では、カバー層とハードコート層を含めた光透過層全体の膜厚は、屈折率nをn=1.6として、100±2μmである。
以上、本発明による相変化型光情報記録媒体の構成例として、情報記録層が1層の例を示したが、中間層を介して情報記録層を2層以上有するような多層光情報記録媒体であってもよい。
Irradiation of energy beam to be irradiated is preferably 50~2000mJ / cm 2, particularly preferably 200~1500mJ / cm 2. Any lamp that can irradiate energy rays used for curing can be used, for example, a low-pressure, high-pressure or ultrahigh-pressure mercury lamp, metal halide lamp, (pulse) xenon lamp, or electrodeless discharge lamp. The wavelength of energy rays that can be used for curing the ultraviolet curable resin composition is 150 to 450 nm.
Furthermore, although not shown in FIG. 6, a hard coat layer (ultraviolet curable resin) for imparting surface scratch resistance and antifouling properties by the same spin coating method on the cover layer (light incident side). A photocurable resin layer in which a layer or an inorganic substance is dispersed, an inorganic layer, or the like may be provided. In this case, according to the Blu-ray disc standard, the film thickness of the entire light transmission layer including the cover layer and the hard coat layer is 100 ± 2 μm where the refractive index n is n = 1.6.
As described above, the configuration example of the phase-change optical information recording medium according to the present invention has been described as an example in which one information recording layer is provided. However, a multilayer optical information recording medium having two or more information recording layers through an intermediate layer. It may be.

本発明1によれば、3.8≦Hiであるため、アーカイバルジッターが良好な多層光情報記録媒体が得られ、更に、Hi≦5.5であるため、シェルフジッターが良好な多層光情報記録媒体が得られる。
本発明2によれば、光硬化性樹脂が、光重合開始剤として2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンを含むことにより、カバー層の表面硬化性を高めることができる。このため、カバー層の表面欠陥を抑制でき(図8のような欠陥をなくし図9のような状態にできる)、その結果、カバー層の表面欠陥に起因する高速(4倍速)記録時の残留エラーを小さくすることができる。
According to the first aspect of the present invention, since 3.8 ≦ Hi, a multilayer optical information recording medium with good archival jitter can be obtained, and furthermore, since Hi ≦ 5.5, multilayer optical information with good shelf jitter can be obtained. A recording medium is obtained.
According to the second aspect of the present invention, the photocurable resin contains 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one as a photopolymerization initiator. Surface curability can be improved. For this reason, the surface defect of the cover layer can be suppressed (the defect as shown in FIG. 8 can be eliminated and the state as shown in FIG. 9 can be obtained). Errors can be reduced.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により制限されるものではない。なお、実施例、比較例、表1、表2において、特に断りのない限り部は重量部である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In Examples, Comparative Examples, Tables 1 and 2, parts are parts by weight unless otherwise specified.

実施例1〜5、比較例1〜2
まず、溝深さ20nm、トラックピッチ0.32μmの案内溝を有する厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート基板(製品名ST3000、帝人バイエルポリテック社製)上に、以下の組成のターゲットを用いて積層膜をスパッタリング法により順次形成し、情報記録層とした。
(1)反射層 Al−1.0重量%Ti(膜厚35nm)
(2)第1誘電体層 Si(膜厚10nm)
(3)相変化記録層 Bi−35モル%B(膜厚16nm)
(4)第2誘電体層 ZnS−20モル%SiO(膜厚10nm)
次に、情報記録層上に、表1の組成からなる紫外線硬化樹脂をスピンコート法により形成し、フュージョンUVシステム社製のUVランプHP−6を用いて、窒素環境下400mW/cm、3.5秒の紫外線照射により膜を硬化させ、厚さ約1.2mmのカバー層として本発明の追記型光記録媒体(いわゆるBlu−ray disc規格対応の追記型光記録媒体)を作製した。
なお、表1に示す実施例及び比較例で用いた紫外線硬化樹脂は、ビスフェノールAグリシジルエーテルジアクリレート(日本化薬社製EPA)15重量%、ポリエステル系ウレタンアクリレート(日本化薬社製UX−4101)30重量%に、ヒドロキシエチルメタクリレート(東亞合成社製HEMA)、ヒドロヒバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート(日本化薬社製MANDA)、トリメチロールプロパントリアクリレート(東亞合成社製TMPTA)の3種類のモノマーを表1に示す比率で加え、光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン(チバスペシャルティケミカルズ製IRGACURE184)と2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(IRGACURE369)を合計5重量%加えて反応させたものである。表1では、比較例1、実施例1〜5、比較例2の順にカバー層の内部硬度Hiが大きくなるように、硬化性の高いモノマーや光重合開始剤の組成を調整した。
Examples 1-5, Comparative Examples 1-2
First, on a polycarbonate substrate (product name ST3000, manufactured by Teijin Bayer Polytech Co., Ltd.) having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm having a guide groove with a groove depth of 20 nm and a track pitch of 0.32 μm, a target having the following composition was used. The laminated film was sequentially formed by a sputtering method to form an information recording layer.
(1) Reflective layer Al-1.0 wt% Ti (film thickness 35 nm)
(2) First dielectric layer Si 3 N 4 (film thickness 10 nm)
(3) Phase change recording layer Bi 2 O 3 -35 mol% B 2 O 3 (film thickness 16 nm)
(4) Second dielectric layer ZnS-20 mol% SiO 2 (film thickness 10 nm)
Next, an ultraviolet curable resin having the composition shown in Table 1 is formed on the information recording layer by a spin coating method, and 400 mW / cm 2 in a nitrogen environment using a UV lamp HP-6 manufactured by Fusion UV System. The film was cured by ultraviolet irradiation for 5 seconds to produce a write-once optical recording medium (so-called Blu-ray disc standard-compliant write-once optical recording medium) of the present invention as a cover layer having a thickness of about 1.2 mm.
The UV curable resins used in the examples and comparative examples shown in Table 1 are 15% by weight of bisphenol A glycidyl ether diacrylate (EPA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), polyester urethane acrylate (UX-4101 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). ) 30% by weight of 3 monomers of hydroxyethyl methacrylate (HEMA manufactured by Toagosei Co., Ltd.), neopentyl glycol diacrylate hydrohybalate (MANDA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) At a ratio shown in Table 1, and as a photopolymerization initiator, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone (IRGACURE 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)- Butanone-1 ( RGACURE369) is obtained by reaction, in total 5% by weight. In Table 1, the composition of the highly curable monomer and the photopolymerization initiator was adjusted so that the internal hardness Hi of the cover layer increased in the order of Comparative Example 1, Examples 1 to 5, and Comparative Example 2.

上記各追記型光記録媒体に対し、パルステック工業社製の光ディスク評価装置ODU−1000(波長:405nm、NA:0.85)を用いて、追記型Blu−rayディスク規格(BD−R Version1.1)に準拠した1倍速の記録条件で記録を行い、温度80℃、湿度85%RH、300時間の信頼性試験後のアーカイバルジッターとシェルフジッターの値を評価し、規格値のジッター6.5%以下を満足するものを「○」、6.5%を超えてしまったものを「×」とした。
表1から分るように、内部硬度Hiが3.8≦Hi≦5.5の実施例1〜5の媒体は、アーカイバルジッター、シェルフジッター共に6.5%以下であり、信頼性の高い媒体であった。
一方、比較例1の媒体は、Hi<3.8なのでシェルフジッターは問題なかったが、アーカイバルジッターが7.2%と上昇してしまった。
また、比較例2の媒体は、5.5<Hiなのでアーカイバルジッターは問題なかったが、シェルフジッターが7.8%と悪化してしまった。
以上から、3.8≦Hi≦5.5の場合に、アーカイバルジッター及びシェルフジッターの両方の規格値を満足する信頼性の高い媒体が得られることが分る。
For each write-once optical recording medium, write-once Blu-ray disc standard (BD-R Version 1...) Using an optical disc evaluation apparatus ODU-1000 (wavelength: 405 nm, NA: 0.85) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. 1. Recording is performed under 1 × speed recording conditions conforming to 1), and the values of archival jitter and shelf jitter after a reliability test at a temperature of 80 ° C., a humidity of 85% RH, and 300 hours are evaluated. Those satisfying 5% or less were rated as “◯”, and those exceeding 6.5% were rated as “X”.
As can be seen from Table 1, the media of Examples 1 to 5 having an internal hardness Hi of 3.8 ≦ Hi ≦ 5.5 have both archival jitter and shelf jitter of 6.5% or less, and are highly reliable. It was a medium.
On the other hand, since the medium of Comparative Example 1 had Hi <3.8, there was no problem with the shelf jitter, but the archival jitter increased to 7.2%.
Further, since the medium of Comparative Example 2 had 5.5 <Hi, there was no problem with archival jitter, but the shelf jitter deteriorated to 7.8%.
From the above, it can be seen that when 3.8 ≦ Hi ≦ 5.5, a highly reliable medium satisfying both the standard values of archival jitter and shelf jitter can be obtained.

・EPA… ビスフェノールAグリシジルエーテルジアクリレート(日本化薬社製)
・UX−4101… ポリエステル系ウレタンアクリレート(日本化薬社製)
・HEMA… ヒドロキシエチルメタクリレート(東亞合成社製)
・MANDA… ヒドロヒバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート(日本化薬社製)
・TMPTA… トリメチロールプロパントリアクリレート(東亞合成社製)
・IRGACURE184… 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン
・IRGACURE369… 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1
・ EPA… Bisphenol A glycidyl ether diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・ UX-4101 ... Polyester urethane acrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・ HEMA ... Hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
・ MANDA… Hydropentylic acid neopentyl glycol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・ TMPTA: Trimethylolpropane triacrylate (Toagosei Co., Ltd.)
IRGACURE184 ... 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone IRGACURE369 ... 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1

実施例6〜8、比較例3〜4
実施例1で用いたのと同じ基板の上に、以下の組成のターゲットを用いて5層の積層膜をスパッタリング法により順次形成し、情報記録層とした。
(1)反射層 Ag−0.5重量%Bi(膜厚60nm)
(2)第1誘電体層 Si(膜厚4nm)
ZnS−20モル%SiO(膜厚14nm)
(3)相変化記録層 Bi−25モル%B−5モル%GeO
(膜厚14nm)
(4)第2誘電体層 ZnS−20モル%SiO(膜厚55nm)
次に、情報記録層上に、表2の組成からなる紫外線硬化樹脂をスピンコート法により形成し、フュージョンUVシステム社製のUVランプHP−6を用いて、窒素環境下400mW/cm、3.5秒の紫外線照射により膜を硬化させ、厚さ約1.2mmのカバー層として本発明の追記型光記録媒体(いわゆるBlu−ray disc規格対応の追記型光記録媒体)を作製した。
Examples 6-8, Comparative Examples 3-4
On the same substrate as used in Example 1, a five-layered film was sequentially formed by sputtering using a target having the following composition to form an information recording layer.
(1) Reflective layer Ag-0.5 wt% Bi (film thickness 60 nm)
(2) First dielectric layer Si 3 N 4 (film thickness 4 nm)
ZnS-20 mol% SiO 2 (film thickness 14 nm)
(3) Phase change recording layer Bi 2 O 3 -25 mol% B 2 O 3 -5 mol% GeO 2
(Film thickness 14 nm)
(4) Second dielectric layer ZnS-20 mol% SiO 2 (film thickness 55 nm)
Next, an ultraviolet curable resin having the composition shown in Table 2 was formed on the information recording layer by a spin coating method, and 400 mW / cm 2 in a nitrogen environment using a UV lamp HP-6 manufactured by Fusion UV System. The film was cured by ultraviolet irradiation for 5 seconds to produce a write-once optical recording medium (so-called Blu-ray disc standard-compliant write-once optical recording medium) of the present invention as a cover layer having a thickness of about 1.2 mm.

上記各追記型光記録媒体に対し、パルステック工業社製の光ディスク評価装置ODU−1000(波長:405nm、NA:0.85)を用いて、追記型Blu−rayディスク規格(BD−R Version1.2)に準拠した4倍速の記録条件で記録を行い、温度80℃、湿度85%RH、300時間の信頼性試験後のアーカイバルジッターとシェルフジッターの値を評価し、表1と同様に規格値のジッター6.5%以下を満足するものをジッター特性「○」、6.5%を超えてしまったものを「×」とした。また、後述する<3.2kHz帯の残留フォーカスエラーが、規格の<80nmを満足できたものを残留エラー「○」、規格を超えてしまったものを「×」とした。
表2から分かるように、内部硬度Hiが3.8≦Hi≦5.5の実施例6〜8の媒体は、アーカイバルジッター、シェルフジッター共に6.5%以下であり、信頼性の高い媒体であった。
一方、比較例3の媒体は、Hi<3.8なので、シェルフジッターは問題なかったが、アーカイバルジッターが7.0%と上昇してしまった。
また、比較例4の媒体は、5.5<Hiなので、アーカイバルジッターは問題なかったが、シェルフジッターが8.0%と悪化してしまった。
なお、実施例1〜5の媒体に対し4倍速の記録条件で記録を行ったところ、最適記録パワー10.2mWでジッターが6.2〜6.4%となり、ジッター≦6.5%を満足できる記録パワー域(パワーマージン)が極めて狭かった。
これに対し、実施例6〜8の媒体は、最適記録パワーが8.0mWでジッターが5.3〜5.5であり、高感度な上、高速記録においてパワーマージンが広い媒体であった。このように、主成分がBi、B、O及びGeからなる記録材料により、高速記録において、感度及びパワーマージンが良好な媒体が得られることが分かる。
For each write-once optical recording medium, write-once Blu-ray disc standard (BD-R Version 1...) Using an optical disc evaluation apparatus ODU-1000 (wavelength: 405 nm, NA: 0.85) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. Recorded under 4x speed recording conditions according to 2), evaluated the values of archival jitter and shelf jitter after a reliability test at a temperature of 80 ° C, humidity of 85% RH, and 300 hours. A value satisfying a jitter value of 6.5% or less was defined as a jitter characteristic “◯”, and a value exceeding 6.5% was defined as “X”. Further, the residual error in the <3.2 kHz band, which will be described later, that satisfied the standard <80 nm was evaluated as a residual error “◯”, and the residual error that exceeded the standard was “×”.
As can be seen from Table 2, the media of Examples 6 to 8 having an internal hardness Hi of 3.8 ≦ Hi ≦ 5.5 have both archival jitter and shelf jitter of 6.5% or less, and are highly reliable media. Met.
On the other hand, since the medium of Comparative Example 3 had Hi <3.8, there was no problem with the shelf jitter, but the archival jitter increased to 7.0%.
Further, since the medium of Comparative Example 4 was 5.5 <Hi, there was no problem with archival jitter, but the shelf jitter deteriorated to 8.0%.
When recording was performed on the media of Examples 1 to 5 at a recording speed of 4 ×, the jitter was 6.2 to 6.4% at an optimum recording power of 10.2 mW, and the jitter ≦ 6.5% was satisfied. The possible recording power range (power margin) was very narrow.
On the other hand, the media of Examples 6 to 8 were media having an optimum recording power of 8.0 mW and jitter of 5.3 to 5.5, and having high sensitivity and a wide power margin in high-speed recording. Thus, it can be seen that a recording material composed mainly of Bi, B, O and Ge can provide a medium with good sensitivity and power margin in high-speed recording.

次に、実施例6〜8、比較例3〜4の媒体について、Dr.Schenk社ISM.blue+検査機のニア・ダーク・フィールド法を使ってカバー層の表面欠陥を検査した。
その結果、実施例6及び比較例3〜4の媒体には、図8のような表面欠陥が数十個以上検出された。なお、このような欠陥は、記録線速が遅いときにはあまり問題にならない。しかし、光ディスク評価装置ODU−1000を用いて、4倍速でこの欠陥を横切るようにトラッキングをかけて残留エラーを測ったところ、<3.2kHzの残留フォーカスエラーが75〜135nmとなり、規格の<80nmを満足することができなかった。
一方、光重合開始剤として、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンを0.05%含む実施例7と8の媒体では、図8のようなサイズの欠陥は検出されず、顕微鏡下で稀に図9のような欠陥が観察された。
同様に欠陥部分にトラッキングをかけて残留エラーを測ったところ、<3.2kHzの残留フォーカスエラーは65nm以下であり、規格の<80nmを満足できた。
このように、表面硬化性の高い2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンを光重合開始剤として含むことにより、カバー層表面の欠陥を抑制し、残留エラーの小さいサーボ特性に優れた媒体を得ることができる。
Next, for the media of Examples 6-8 and Comparative Examples 3-4, Dr. Schenk ISM. The surface defect of the cover layer was inspected using the near dark field method of a blue + inspection machine.
As a result, several tens of surface defects as shown in FIG. 8 were detected in the media of Example 6 and Comparative Examples 3 and 4. Such a defect is not a problem when the recording linear velocity is low. However, when the residual error was measured by tracking across this defect at 4 × speed using the optical disk evaluation apparatus ODU-1000, the residual focus error of <3.2 kHz was 75 to 135 nm, and the standard <80 nm. Could not be satisfied.
On the other hand, in the media of Examples 7 and 8 containing 0.05% of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one as a photopolymerization initiator, A defect having such a size was not detected, and a defect as shown in FIG. 9 was rarely observed under a microscope.
Similarly, when the residual error was measured by tracking the defective portion, the residual focus error of <3.2 kHz was 65 nm or less, and the standard <80 nm was satisfied.
Thus, by including 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one having high surface curability as a photopolymerization initiator, defects on the surface of the cover layer are suppressed. In addition, it is possible to obtain a medium having a small residual error and excellent servo characteristics.

・EPA、UX−4101、HEMA、MANDA、TMPTAは表1と同じ。
・IRGACURE127… 2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオニル)ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン
・IRGACURE907… 2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2
−モルフォリノプロパン−1−オン
-EPA, UX-4101, HEMA, MANDA, TMPTA are the same as Table 1.
IRGACURE127 ... 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-
2-methylpropionyl) benzyl] phenyl} -2-methylpropan-1-one IRGACURE907 ... 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2
Morpholinopropan-1-one

カバー層の表裏硬度差の一例を示す図。(a)測定データ、(b)平均値をグラフ化したもの。The figure which shows an example of the front-back hardness difference of a cover layer. (A) Measurement data, (b) A graph of average values. 一般的な紫外線硬化樹脂硬化物の透過スペクトルを示す図。The figure which shows the transmission spectrum of a general ultraviolet curing resin hardened | cured material. カバー層の内部硬度Hiとアーカイバルジッターの関係を示す図。The figure which shows the relationship between the internal hardness Hi of a cover layer, and archival jitter. 記録部に欠陥が発生した信号波形の一例を示す図。(a)信頼性試験前、(b)信頼性試験後。The figure which shows an example of the signal waveform which the defect generate | occur | produced in the recording part. (A) Before reliability test, (b) After reliability test. カバー層の内部硬度Hiとシェルフジッターの関係を示す図。The figure which shows the relationship between the internal hardness Hi of a cover layer, and shelf jitter. 本発明の光情報記録媒体の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the optical information recording medium of this invention. カバー層の形成方法の一例を示す図。(a)媒体の中心孔をマスクで閉塞し、マスクの中心付近に紫外線硬化樹脂を供給した後、基板を回転させて樹脂を展延する工程。(b)集光光学系を用いてハロゲンランプ光を媒体外周に集光し、樹脂溜りを平坦化する工程。(c)中心孔マスクを取り外し、紫外線により樹脂層を硬化させる工程。The figure which shows an example of the formation method of a cover layer. (A) A step of closing the center hole of the medium with a mask, supplying an ultraviolet curable resin near the center of the mask, and then rotating the substrate to spread the resin. (B) A step of condensing halogen lamp light on the outer periphery of the medium using a condensing optical system to flatten the resin reservoir. (C) A step of removing the center hole mask and curing the resin layer with ultraviolet rays. 典型的なカバー層の表面欠陥像を示す図。(a)表面形状、(b)そのラインプロファイル。The figure which shows the surface defect image of a typical cover layer. (A) Surface shape, (b) Line profile. サーボに影響のないレベルにまで欠陥サイズを小さくしたカバー層の表面欠陥像を示す図。(a)表面形状、(b)そのラインプロファイル。The figure which shows the surface defect image of the cover layer which reduced the defect size to the level which does not affect a servo. (A) Surface shape, (b) Line profile.

Claims (2)

基板上に記録層を含む情報記録層とカバー層を備え、該カバー層を介して情報記録層にレーザ光を照射することにより、データの記録及び/又は再生が行われる光情報記録媒体であって、前記カバー層は光硬化性樹脂で構成され、稜間角115°の三角錐圧子をF=9.8mNで押し込んだ状態での押し込み深さをhとして、硬度H=3.8584×F/(h×h)としたとき、情報記録層と接する側のカバー層の硬度Hである内部硬度Hiが、3.8≦Hi≦5.5を満たすことを特徴とする光情報記録媒体。   An optical information recording medium having an information recording layer including a recording layer and a cover layer on a substrate, and recording and / or reproducing data by irradiating the information recording layer with laser light through the cover layer. The cover layer is made of a photo-curing resin, and the indentation depth in a state in which a triangular pyramid indenter having an inter-ridge angle of 115 ° is indented at F = 9.8 mN is h, and the hardness is H = 3.8854 × F. / (H × h), an optical information recording medium characterized in that the internal hardness Hi, which is the hardness H of the cover layer on the side in contact with the information recording layer, satisfies 3.8 ≦ Hi ≦ 5.5. 光硬化性樹脂が、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンを光重合開始剤として含むことを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。   2. The optical information recording according to claim 1, wherein the photocurable resin contains 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one as a photopolymerization initiator. Medium.
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