JP2008171090A - Failure analyzing device, failure analyzing method, and failure analyzing program - Google Patents

Failure analyzing device, failure analyzing method, and failure analyzing program Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a failure analyzing device for detecting any failure, and for performing correlation analysis in a short time. <P>SOLUTION: Inspection results 4, 6, 8, 12, and 14 for every product and every inspection are stored as pre-conversion data so as to be associated with the product lot number of each product and the inspection item of each inspection, and the set of a plurality of inspection items is generated from the combination of a pair of inspection items, and a data conversion formula for converting a pair of pre-conversion data corresponding to inspection items composing the set of the inspection items into converted data capable of calculating correlation strength is stored so as to be associated with each of inspection items composing the set of the corresponding inspection items, and the pre-conversion data are converted into the converted data by the data conversion formula for each of the inspection items composing the set of the corresponding inspection items, and the correlation strength is calculated between the converted data for each set of the inspection items, and a sequence is given to the set of the inspection items in the order of the stronger correlation strength, and the inspection items composing the set of the inspection items are read as defective factor items in the order of the earlier sequence. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、製品の製造工程内と完成後に行われる検査の検査結果をもとに製品に発生した不良の解析を行う不良解析装置、不良解析方法および不良解析プログラムに関する。   The present invention relates to a defect analysis apparatus, a defect analysis method, and a defect analysis program for analyzing defects generated in a product based on inspection results of inspections performed during and after the product manufacturing process.

製品、例えば、半導体装置やパーソナルコンピュータは、数百の製造工程を経て製造されている。これらの製造工程の前後では、検査が行われ、不良品はその都度排除されている。しかし、製品の完成後の検査で不良が判明する場合がある。このような不良は、ある製造工程で軽微な異常が生じ、製品としては不良品でないので製品は軽微な異常を含むまま良品として次の製造工程を実施したが、複数の製造工程を経るうちに異常が不良に発展したものと考えられる。このとき、複数の製造工程の前後で行われている複数の検査の検査結果は互いに、軽微な異常に起因する微小な変化をとらえているはずである。この微小な変化の有無は複数の検査結果の相関分析により検出することができる。そして、この相関分析を繰り返し、製造工程の着工履歴をさかのぼるように分析対象の検査をさかのぼれば最終的に、不良の発生原因となった軽微な異常を発生させた製造工程および製造装置を特定することができる。   Products such as semiconductor devices and personal computers are manufactured through hundreds of manufacturing processes. Before and after these manufacturing processes, inspections are performed and defective products are excluded each time. However, a defect may be found by inspection after the product is completed. Such a defect causes a minor abnormality in a certain manufacturing process, and since the product is not a defective product, the product was subjected to the next manufacturing process as a non-defective product with minor abnormalities. It is thought that the abnormality developed into a defect. At this time, the inspection results of the plurality of inspections performed before and after the plurality of manufacturing processes should capture a minute change caused by a slight abnormality. The presence or absence of this minute change can be detected by correlation analysis of a plurality of inspection results. Then, if this correlation analysis is repeated and the inspection of the analysis target is traced back to the start history of the manufacturing process, the manufacturing process and the manufacturing apparatus that have caused the minor abnormality that caused the failure are finally identified. be able to.

しかし、数百の製造工程に対応して、検査も数百におよぶため、一対の検査の組すべてに対し相関分析を実施すると、相関分析の回数が1万回を超え異常を発生させた製造工程を特定するのに時間がかかっていた。   However, since there are hundreds of inspections corresponding to hundreds of manufacturing processes, if correlation analysis is performed on all pairs of inspections, the number of correlation analyzes exceeds 10,000 and manufacturing that has caused abnormalities. It took time to identify the process.

このような相関分析を支援する技術として、例えば過去の分析パターンを元に分析実行する技術(例えば、特許文献1参照)と、歩留まり分析に回帰木分析を適用する技術(例えば、特許文献2参照)が提案されている。
特開2003−397882号公報 特開2000−284578号公報
As a technique for supporting such correlation analysis, for example, a technique for performing analysis based on past analysis patterns (for example, see Patent Document 1) and a technique for applying regression tree analysis to yield analysis (for example, see Patent Document 2). ) Has been proposed.
Japanese Patent Laid-Open No. 2003-379882 JP 2000-284578 A

相関分析に時間がかかるのは、回数が多いからであるが、その1回の相関分析毎にも時間がかかっていることがわかった。個々の検査の検査結果がそのままでは、相関分析にかけられず、相関分析毎に検査結果を加工する時間が必要であった。   The time taken for the correlation analysis is that the number of times is large, but it has been found that it takes time for each correlation analysis. If the inspection results of the individual inspections are left as they are, they cannot be subjected to correlation analysis, and it is necessary to process the inspection results for each correlation analysis.

本発明は前記の問題点を解決しようとするもので、その目的は、不良の検出後、短時間で相関分析が行える不良解析装置、不良解析方法および不良解析プログラムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a failure analysis apparatus, a failure analysis method, and a failure analysis program capable of performing correlation analysis in a short time after detection of a failure.

前記目的を達成するために、本発明の不良解析装置は、製品毎の製品ロット番号と検査毎の検査項目とに関係付けて、前記製品毎前記検査毎の検査結果を変換前データとして記憶する変換前データ記憶部と、
一対の検査項目の組み合わせから複数の検査項目の組を生成する組生成部と、
前記検査項目の組を構成する検査項目それぞれに対応する一対の前記変換前データを相関強度を算出可能な変換済データに変換するデータ変換式を、対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に関係付けて、記憶する変換式記憶部と、
対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に、変換前データを前記データ変換式により変換済データに変換するデータ変換部と、
前記検査項目の組毎に前記変換済データ間で相関強度を算出する相関強度算出部と、
相関強度の強い順に前記検査項目の組に順番を付与する順番付与部と、
前記順番の早い順に検査項目の組を構成する検査項目を不良原因項目として読み出す不良原因項目読み出し部とを有することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the defect analysis apparatus of the present invention stores the inspection result for each product as the pre-conversion data in relation to the product lot number for each product and the inspection item for each inspection. A pre-conversion data storage unit;
A set generation unit that generates a set of a plurality of inspection items from a combination of a pair of inspection items;
A data conversion formula for converting a pair of pre-conversion data corresponding to each of the inspection items constituting the set of inspection items into converted data capable of calculating the correlation strength, for each inspection item constituting the corresponding set of inspection items A conversion-type storage unit for storing in relation to
A data conversion unit that converts pre-conversion data into converted data by the data conversion formula for each inspection item that constitutes a set of corresponding inspection items;
A correlation strength calculator for calculating a correlation strength between the converted data for each set of inspection items;
An order assigning unit for assigning an order to the set of inspection items in order of strong correlation strength;
And a failure cause item reading unit that reads out the inspection items constituting the set of inspection items in the order from the earliest as a failure cause item.

また、本発明の不良解析方法は、
製品毎の製品ロット番号と検査毎の検査項目とに関係付けて、前記製品毎前記検査毎の検査結果を変換前データとして記憶し、
一対の検査項目の組み合わせから複数の組を生成し、
前記検査項目の組を構成する検査項目それぞれに対応する一対の前記変換前データを相関強度を算出可能な変換済データに変換するデータ変換式を、対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に関係付けて、記憶し、
対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に、変換前データを前記データ変換式により変換済データに変換し、
前記検査項目の組毎に前記変換済データ間で相関強度を算出し、
相関強度の強い順に前記検査項目の組に順番を付与し、
前記順番の早い順に検査項目の組を構成する検査項目を不良原因項目として読み出すことを特徴とする。
Further, the defect analysis method of the present invention is
In relation to the product lot number for each product and the inspection item for each inspection, the inspection result for each inspection for each product is stored as pre-conversion data,
Generate multiple sets from a combination of a pair of inspection items,
A data conversion formula for converting a pair of pre-conversion data corresponding to each of the inspection items constituting the set of inspection items into converted data capable of calculating the correlation strength, for each inspection item constituting the corresponding set of inspection items Relate to, remember,
For each inspection item constituting the set of corresponding inspection items, the pre-conversion data is converted into converted data by the data conversion formula,
Calculate the correlation strength between the converted data for each set of inspection items,
Give order to the set of inspection items in order of strong correlation strength,
Inspection items constituting a set of inspection items are read out as failure cause items in order from the earlier order.

また、本発明の不良解析プログラムは、
コンピュータに、
製品毎の製品ロット番号と検査毎の検査項目とに関係付けて、前記製品毎前記検査毎の検査結果を変換前データとして記憶する変換前データ記憶手順と、
一対の検査項目の組み合わせから複数の検査項目の組を生成する組生成手順と、
前記検査項目の組を構成する検査項目それぞれに対応する一対の前記変換前データを相関強度を算出可能な変換済データに変換するデータ変換式を、対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に関係付けて、記憶する変換式記憶手順と、
対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に、変換前データを前記データ変換式により変換済データに変換するデータ変換手順と、
前記検査項目の組毎に前記変換済データ間で相関強度を算出する相関強度算出手順と、
相関強度の強い順に前記検査項目の組に順番を付与する順番付与手順と、
前記順番の早い順に検査項目の組を構成する検査項目を不良原因項目として読み出す不良原因項目読み出し手順とを実行させることを特徴とする。
The defect analysis program of the present invention is
On the computer,
In relation to the product lot number for each product and the inspection item for each inspection, the pre-conversion data storage procedure for storing the inspection results for each inspection as the pre-conversion data for each product,
A set generation procedure for generating a set of a plurality of inspection items from a combination of a pair of inspection items;
A data conversion formula for converting a pair of pre-conversion data corresponding to each of the inspection items constituting the set of inspection items into converted data capable of calculating the correlation strength, for each inspection item constituting the corresponding set of inspection items A conversion formula storage procedure for storing in relation to
A data conversion procedure for converting the pre-conversion data into converted data by the data conversion formula for each inspection item constituting a set of corresponding inspection items,
Correlation strength calculation procedure for calculating correlation strength between the converted data for each set of inspection items;
An order assignment procedure for assigning an order to the set of inspection items in order of strong correlation strength;
A failure cause item reading procedure for reading the inspection items constituting the set of inspection items as the failure cause item in the order from the earliest is performed.

このような本発明によれば、不良の検出後、短時間で相関分析が行える不良解析装置、不良解析方法および不良解析プログラムを提供することができる。   According to the present invention as described above, it is possible to provide a failure analysis apparatus, a failure analysis method, and a failure analysis program capable of performing correlation analysis in a short time after detection of a failure.

次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。   Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. In each figure, common portions are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図1に示すように、不良解析装置30は、受信部15、検査結果記憶部31、被検査対象記憶部29と、変換式作成支援部17、変換式記憶部18、データ変換部19、変換済データ記憶部20、相関分析処理部21、相関分析結果記憶部22、出力部25、マスクデータベース記憶部24、マスクデータベース作成支援部23、不良原因項目抽出支援部27、不良原因製造装置抽出支援部28を有している。なお、不良解析装置30は、着工履歴10を出力する着工履歴作成装置9を含んでいてもよいし、着工履歴作成装置9を外部において接続してもよい。また、検査結果記憶部31は、変換前データ記憶部32と、正常時データ記憶部33とを有している。   As shown in FIG. 1, the failure analysis apparatus 30 includes a receiving unit 15, an inspection result storage unit 31, an inspection target storage unit 29, a conversion formula creation support unit 17, a conversion formula storage unit 18, a data conversion unit 19, a conversion Completed data storage unit 20, correlation analysis processing unit 21, correlation analysis result storage unit 22, output unit 25, mask database storage unit 24, mask database creation support unit 23, defect cause item extraction support unit 27, defect cause manufacturing apparatus extraction support A portion 28 is provided. The defect analysis device 30 may include a start history creation device 9 that outputs the start history 10 or may connect the start history creation device 9 externally. The inspection result storage unit 31 includes a pre-conversion data storage unit 32 and a normal time data storage unit 33.

不良解析装置30の外部には、製造工程内検査装置群1として、製品の部品であるデバイスの検査を行いデバイス寸法検査結果4を出力するデバイス寸法検査装置3、デバイスの検査を行いデバイス電気特性検査結果6を出力するデバイス電気特性検査装置5、製品の検査を行い製造工程内製品検査結果8を出力する製造工程内製品検査装置7が配置されている。また、不良解析装置30の外部には、完成後検査装置群2として、デバイスの検査を行い完成後デバイス検査結果12を出力する完成後デバイス検査装置11、製品の検査を行い完成後製品検査結果14を出力する完成後製品検査装置13が配置されている。   Outside the defect analysis apparatus 30, as an in-process inspection apparatus group 1, a device dimension inspection apparatus 3 that inspects a device that is a part of a product and outputs a device dimension inspection result 4; A device electrical characteristic inspection device 5 that outputs the inspection result 6 and a product in-process product inspection device 7 that inspects the product and outputs the product inspection result 8 in the manufacturing process are arranged. Further, outside the defect analysis apparatus 30, as a post-completion inspection apparatus group 2, a post-completion device inspection apparatus 11 that inspects a device and outputs a post-completion device inspection result 12, a product inspection and a post-completion product inspection result A post-completion product inspection device 13 that outputs 14 is arranged.

図2に示すように、変換式作成支援部17は、組生成部41、正常時データ読み出し部42、正常時項目間散布図作成部43、正常時項目間散布図表示部44、エラー判定基準値設定支援部45、エラー変換式設定支援部46、文字データ変換式設定支援部47、数値データ変換式設定支援部48、正常時データ変換部49、正常時項目間散布図記憶部50を有している。   As shown in FIG. 2, the conversion formula creation support unit 17 includes a set generation unit 41, a normal data reading unit 42, a normal item scatter diagram creation unit 43, a normal item scatter diagram display unit 44, and an error determination criterion. A value setting support unit 45, an error conversion formula setting support unit 46, a character data conversion formula setting support unit 47, a numerical data conversion formula setting support unit 48, a normal data conversion unit 49, and a normal inter-item scatter diagram storage unit 50 are provided. is doing.

図3に示すように、マスクデータベース作成支援部23は、正常時相関強度算出部51、相関強度判定部52、相関ラベル付与部53を有している。   As shown in FIG. 3, the mask database creation support unit 23 includes a normal correlation strength calculation unit 51, a correlation strength determination unit 52, and a correlation label assignment unit 53.

図4に示すように、相関分析処理部21は、組抽出部55、検査項目読み出し部56、変換済データ読み出し部57、相関強度算出部58、順番付与部59を有している。   As shown in FIG. 4, the correlation analysis processing unit 21 includes a set extraction unit 55, an inspection item reading unit 56, a converted data reading unit 57, a correlation strength calculation unit 58, and an order assignment unit 59.

図5に示すように、不良原因項目抽出支援部27は、不良原因項目読み出し部61、変換済データ読み出し部62、原因・出現項目間散布図作成部63、原因・出現項目間散布図表示部64、正常時項目間散布図抽出部65、正常時項目間散布図の重ね表示部66、不良原因項目指定支援部67を有している。   As shown in FIG. 5, the failure cause item extraction support unit 27 includes a failure cause item reading unit 61, a converted data reading unit 62, a cause / appearance item scatter diagram creation unit 63, and a cause / appearance item scatter diagram display unit. 64, a normal item scatter diagram extraction unit 65, a normal item scatter diagram overlap display unit 66, and a defect cause item designation support unit 67.

図6に示すように、不良原因製造装置抽出支援部28は、着工履歴抽出部71、着工履歴一覧表示部72、マーカー表示部73、被検査対象表示部74、不良原因製造装置指定支援部75を有している。   As shown in FIG. 6, the failure cause manufacturing apparatus extraction support unit 28 includes a start history extraction unit 71, a start history list display unit 72, a marker display unit 73, an inspection target display unit 74, and a failure cause manufacturing apparatus designation support unit 75. have.

次に、前記で説明した不良解析装置30を用いた不良解析方法について説明する。製品が製造工程を流れ、複数の製品が順次製造されているとする。   Next, a failure analysis method using the failure analysis apparatus 30 described above will be described. Assume that a product flows through a manufacturing process, and a plurality of products are manufactured sequentially.

図7に示すように、本発明の実施形態に係る不良解析方法では、まず、ステップS1で、着工履歴作成装置9(図1参照)において、製品ごとの着工履歴10を作成する。ステップS2で、着工履歴作成装置9が、製品毎の着工履歴10を、製品を識別可能な製品ロット番号に関係付けて記憶する。   As shown in FIG. 7, in the failure analysis method according to the embodiment of the present invention, first, a start history 10 for each product is created in a start history creating apparatus 9 (see FIG. 1) in step S1. In step S2, the construction history creation device 9 stores the construction history 10 for each product in relation to the product lot number that can identify the product.

次に、ステップS3で、被検査対象記憶部29において、各検査、例えば、図1のデバイス寸法検査装置3によって行われる検査等によって、不良と判定された場合に、不良の原因となっている部品名と、その部品を直接製造している製造工程名と製造装置を、被検査対象として、その検査の検査項目に関係付けて記憶する。   Next, in step S3, if it is determined as defective in each inspection, for example, the inspection performed by the device dimension inspection apparatus 3 in FIG. The name of the part, the name of the manufacturing process that directly manufactures the part, and the manufacturing apparatus are stored in relation to the inspection item of the inspection as an inspection target.

ステップS4で、製造工程内検査装置群1のデバイス寸法検査装置3、デバイス電気特性検査装置5、製造工程内製品検査装置7、完成後検査装置群2の完成後デバイス検査装置11、完成後製品検査装置13において、製品毎に検査項目毎の検査を実施する。   In step S4, the device size inspection device 3, the device electrical property inspection device 5, the product inspection device 7 in the manufacturing process, the device inspection device 11 after completion of the inspection device group 2 after completion, and the product after completion The inspection device 13 performs inspection for each inspection item for each product.

ステップS5で、製造工程内検査装置群1のデバイス寸法検査装置3、デバイス電気特性検査装置5、製造工程内製品検査装置7、完成後検査装置群2の完成後デバイス検査装置11、完成後製品検査装置13のそれぞれにおいて、デバイス寸法検査結果4、デバイス電気特性検査結果6、製造工程内製品検査結果8、完成後デバイス検査結果12、完成後製品検査結果14を、検査した製品の製品ロット番号と、検査した検査項目とに関係付けて記憶する。   In step S5, the device size inspection device 3, the device electrical property inspection device 5, the product inspection device 7 in the manufacturing process, the device inspection device 11 after completion of the inspection device group 2 after completion, and the product after completion In each of the inspection apparatuses 13, a device lot inspection result 4, a device electrical property inspection result 6, a product inspection result 8 in the manufacturing process, a device inspection result 12 after completion, and a product inspection result 14 after completion are inspected. And stored in relation to the inspected inspection item.

ステップS6で、強相関強度の組の検出支援方法(前処理)を実施する。ここでは、製品の不良の発生に備えて、事前の前処理を行う。この前処理により、一対の検査項目を組(検査項目の組)として、複数の組の相関強度の迅速な算出が可能になり、この複数の組の中から強相関強度の組を検出できる。   In step S6, a strong correlation strength pair detection support method (pre-processing) is performed. Here, pre-processing is performed in preparation for the occurrence of a product defect. By this preprocessing, a pair of inspection items can be set as a set (a set of inspection items), and the correlation strength of a plurality of sets can be quickly calculated, and a set of strong correlation strengths can be detected from the plurality of sets.

例えば、強相関強度の組の例としては、図8の項目間分散図を上げることができる。このような強相関強度は、不良の発生原因によってもたらされていると考えられる。検査項目Aと検査項目Bとが不良の発生原因からともに影響を受けている表れであると考えられる。一方、弱相関強度の組の例としては、図9の項目間分散図を上げることができる。このような弱相関強度は、検査項目Aと検査項目Bとの少なくとも一方が不良の発生原因から影響を受けていない表れであると考えられる。   For example, as an example of a strong correlation strength set, the inter-item scatter diagram of FIG. 8 can be raised. Such a strong correlation strength is considered to be caused by the cause of the occurrence of defects. It is considered that the inspection item A and the inspection item B are both affected by the cause of the occurrence of the defect. On the other hand, as an example of a set of weak correlation strengths, the inter-item scatter diagram of FIG. 9 can be raised. Such a weak correlation strength is considered to be an indication that at least one of the inspection item A and the inspection item B is not affected by the cause of the failure.

より具体的な例として、半導体装置が製品であり、半導体装置の回路パターンが検査の対象である場合を考える。図10に示すように、製造工程内検査項目として、「配線1寸法」「配線1異物数」「配線1外観」「配線1抵抗」などの検査が行われているとする。相関分析の対象となる一対の製造工程内検査項目の組としては、「配線1寸法」と「配線1異物数」の組、「配線1寸法」と「配線1外観」の組、「配線1外観」と「配線1異物数」の組、「配線1抵抗」と「配線1寸法」の組、「配線1抵抗」と「配線1異物数」の組、「配線1抵抗」と「配線1外観」の組の6組が生成できる。なお、「配線1寸法」と「配線1寸法」の組のような同一の検査項目の組も組み合わせ的には構成できるが相関強度を求めることに物理的意義がないので対象外にしている。また、「配線1寸法」と「配線1異物数」の組と、検査項目の順番を逆にした「配線1異物数」と「配線1寸法」の組も、組み合わせ的には2組とカウントできるが、相関強度は互いに等しくなり一方のみを求めれば十分であるので他方は対象外にしている。   As a more specific example, consider a case where the semiconductor device is a product and the circuit pattern of the semiconductor device is an object to be inspected. As shown in FIG. 10, it is assumed that inspections such as “wiring 1 dimension”, “wiring 1 foreign object number”, “wiring 1 appearance”, and “wiring 1 resistance” are performed as inspection items in the manufacturing process. As a pair of inspection items in a manufacturing process to be subjected to correlation analysis, a set of “wiring 1 dimension” and “wiring 1 foreign matter”, a set of “wiring 1 dimension” and “wiring 1 appearance”, and “wiring 1 “Appearance” and “Wiring 1 foreign matter” set, “Wiring 1 resistance” and “Wiring 1 dimension” set, “Wiring 1 resistance” and “Wiring 1 foreign matter count” set, “Wiring 1 resistance” and “Wiring 1” Six sets of “appearance” sets can be generated. Note that the same set of inspection items such as “wiring 1 dimension” and “wiring 1 dimension” can be combined, but they are excluded because they have no physical significance in obtaining the correlation strength. In addition, the combination of “wiring 1 dimension” and “wiring 1 foreign substance” and the combination of “wiring 1 foreign substance count” and “wiring 1 dimension” in which the order of the inspection items is reversed are counted as two sets in combination. Although the correlation intensities are equal to each other and it is sufficient to obtain only one of them, the other is excluded.

そして、図11は、「配線1抵抗」と「配線1寸法」の組の項目間散布図である。横軸の「配線1寸法」と縦軸の「配線1抵抗」は対数表記している。正常時においても配線1寸法と配線1抵抗は比例関係を有するが、異常が生じ、さらに配線寸法が細くなりさらには断線(オープン)すると配線抵抗は高抵抗から測定範囲を超え上限値となる高抵抗を示す。すなわち、正常時よりも寸法が細くなることにより、相関強度が強くなることが判る。そして、この「配線1抵抗」と「配線1寸法」の組のように、「製品の合否」を含む組による相関分析だけでなく、各製造工程内検査項目間での相関分析も不良原因項目の抽出に有効であることがわかる。   FIG. 11 is an inter-item scatter diagram of a set of “wiring 1 resistance” and “wiring 1 dimensions”. The “wiring 1 dimension” on the horizontal axis and the “wiring 1 resistance” on the vertical axis are logarithmically expressed. Even when the wiring is normal, the wiring 1 dimension and the wiring 1 resistance have a proportional relationship. However, if an abnormality occurs, the wiring dimension becomes narrower and further disconnected (open), the wiring resistance increases from the high resistance to the upper limit exceeding the measurement range. Indicates resistance. That is, it can be seen that the correlation strength increases as the dimensions become smaller than normal. In addition to the correlation analysis by the combination including “product pass / fail” such as the “wiring 1 resistance” and “wiring 1 dimension”, the correlation analysis between inspection items in each manufacturing process is also a cause of failure. It can be seen that it is effective for extraction.

また、別の具体的な例として、半導体装置を有したパーソナルコンピュータが製品であり、検査の対象が、パーソナルコンピュータの完成後検査項目と、半導体装置の製造工程内検査項目とである場合を考える。   As another specific example, a case is considered in which a personal computer having a semiconductor device is a product, and inspection targets are inspection items after completion of the personal computer and inspection items in the manufacturing process of the semiconductor device. .

図12に示すように、製造工程内検査項目として、「配線1寸法」「配線1異物数」「配線1外観」「配線1抵抗」「配線2寸法」「配線2異物数」「配線2外観」「配線2抵抗」の検査が行われているとする。完成後検査項目として、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値の評価による「電源OFFショートチェック」「電源ONショートチェック」「OS起動チェック」「CPU動作チェック」「メモリ動作チェック」「マージンチェック」「製品合否」の検査が行われているとする。そして、部品の半導体装置は配線1と配線2の2層構造である場合に、説明を簡単にするため、例えば、配線2は製造上不良が発生しない構造であると仮定できれば、検査項目に「配線2寸法」「配線2異物数」「配線2外観」「配線2抵抗」を含む組を相関分析の対象外にすることができる。   As shown in FIG. 12, the inspection items in the manufacturing process include “wiring 1 dimension” “wiring 1 foreign object number” “wiring 1 appearance” “wiring 1 resistance” “wiring 2 dimension” “wiring 2 foreign object number” “wiring 2 external appearance” It is assumed that an inspection of “Wiring 2 resistance” is performed. “Power-off short check”, “Power-on short check”, “OS activation check”, “CPU operation check”, “Memory operation check”, “Margin” by binary evaluation of pass or fail as inspection items after completion It is assumed that a check and a “product pass / fail” inspection are performed. When the component semiconductor device has a two-layer structure of the wiring 1 and the wiring 2, for the sake of simplicity, for example, if it can be assumed that the wiring 2 has a structure that does not cause a manufacturing defect, the inspection item “ A set including “wiring 2 dimension”, “wiring 2 foreign substance count”, “wiring 2 appearance”, and “wiring 2 resistance” can be excluded from the correlation analysis target.

そして、図13は、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の組の項目間散布図である。縦軸の「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」は、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値で評価されているので、パスは数値の1に変換し、フェイルは数値の0に変換している。図13に示すように、「配線1寸法」が大であると、配線1にショートが発生し、待機電流の増加や、異常電流が発生するため、「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」でフェイルになる。したがって、配線1のショートが、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」で判定できる。逆に、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線のショートが不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。そこで、話が戻るが、ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。   FIG. 13 is an inter-item scatter diagram of a set of “wiring 1 dimension” and “power supply OFF short check (power ON short check)”. Since the “power OFF short check (power ON short check)” on the vertical axis is evaluated with two values of pass (pass) or fail (fail), the pass is converted to the numerical value 1 and the fail is the numerical value 0. Has been converted. As shown in FIG. 13, if the “wiring 1 dimension” is large, a short circuit occurs in the wiring 1 and an increase in standby current or an abnormal current occurs. Therefore, “Power OFF short check (power ON short check)” "Fail. Therefore, the short circuit of the wiring 1 can be determined by the “wiring 1 dimension” and the “power OFF short check (power ON short check)”. On the contrary, if the correlation strength of the set of “wiring 1 dimension” and “power supply short-circuit check (power-on short circuit check)” is strong, it can be estimated that the short circuit of the first wiring, which is a component, is the cause of the failure. Then, it can be considered that the manufacturing process and the manufacturing apparatus of the first wiring are the cause of the failure. Therefore, in step S3, if the correlation strength between the “wiring 1 dimension” and the “power supply OFF short check (power ON short check)” is strong in the inspected storage unit 29, the cause of the failure In order to be able to extract the first wiring and the manufacturing process of the first wiring as the part name, the “wiring 1 dimension” and the “power-off short check” (power-on short check), It is convenient to store one wiring and the manufacturing process of the first wiring in association with each other.

図14は、「配線1寸法」と「OS起動チェック」の組の項目間散布図である。縦軸の「OS起動チェック」は、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値で評価されているので、パスは数値の1に変換し、フェイルは数値の0に変換している。図14に示すように、「配線1寸法」が小であると、配線1にオープンが発生し、OSが起動しないため、「OS起動チェック」でフェイルになる。したがって、配線1のオープンが、「配線1寸法」と「OS起動チェック」で判定できる。逆に、「配線1寸法」と「OS起動チェック」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線のオープンが不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1寸法」と「OS起動チェック」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1寸法」と「OS起動チェック」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。   FIG. 14 is a scatter diagram between items of a set of “wiring 1 dimension” and “OS activation check”. Since the “OS startup check” on the vertical axis is evaluated with a binary value of pass or fail, the path is converted to a numerical value 1 and fail is converted to a numerical value 0. As shown in FIG. 14, if the “wiring 1 dimension” is small, an open occurs in the wiring 1 and the OS does not start, so that “OS start check” fails. Therefore, the opening of the wiring 1 can be determined by the “wiring 1 dimension” and the “OS activation check”. On the contrary, if the correlation strength of the set of “wiring 1 dimension” and “OS activation check” is strong, it can be estimated that the opening of the first wiring as a component is the cause of the failure. Then, it can be considered that the manufacturing process and the manufacturing apparatus of the first wiring are the cause of the failure. In step S3, if the correlation strength of the set of “wiring 1 dimension” and “OS activation check” is strong in the inspected object storage unit 29, the first wiring and the first wiring are used as the part names that cause the failure. It is convenient if a set of “wiring 1 dimension” and “OS activation check” and the first wiring of the part name and the manufacturing process of the first wiring are stored in association with each other so that the manufacturing process can be extracted. is there.

図15は、「配線1寸法」と「製品合否」の組の項目間散布図である。縦軸の「製品合否」は、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値で評価されているので、パスは数値の1に変換し、フェイルは数値の0に変換している。図15に示すように、「配線1寸法」が小であると配線1にオープンが発生し、「配線1寸法」が大であると配線1にショートが発生し、「製品合否」でフェイルになる。したがって、配線1のオープンとショートが、「配線1寸法」と「製品合否」で判定できる。逆に、「配線1寸法」と「製品合否」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線のオープンとショートが不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1寸法」と「製品合否」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1寸法」と「製品合否」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。   FIG. 15 is a scatter diagram between items of a set of “wiring 1 dimension” and “product pass / fail”. Since the “product pass / fail” on the vertical axis is evaluated by a binary value of pass or fail, the pass is converted to a numerical value of 1 and the fail is converted to a numerical value of 0. As shown in FIG. 15, if the “wiring 1 dimension” is small, the wiring 1 is open, and if the “wiring 1 dimension” is large, a short circuit occurs in the wiring 1 and a “product pass / fail” failure occurs. Become. Therefore, whether the wiring 1 is open or short can be determined by “wiring 1 dimension” and “product pass / fail”. On the contrary, if the correlation strength of the set of “wiring 1 dimension” and “product pass / fail” is strong, it can be inferred that the opening and short-circuiting of the first wiring as a component is the cause of the failure. Then, it can be considered that the manufacturing process and the manufacturing apparatus of the first wiring are the cause of the failure. In step S3, if the correlation strength of the set of “wiring 1 dimension” and “product pass / fail” is strong in the inspected object storage unit 29, the names of the first wiring and the first wiring as the part names causing the failure are displayed. It is convenient to store a set of “wiring 1 dimension” and “product pass / fail”, and the first wiring of the part name and the manufacturing process of the first wiring so that the manufacturing process can be extracted.

図16は、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の項目間散布図である。図16に示すように、「配線1異物数」が多くなると配線1にオープンが発生し、OSおよび製品は起動しないため、「OS起動チェック(製品合否)」でフェイルになる。したがって、配線1のオープンが、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」で判定できる。逆に、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線のオープンが不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。   FIG. 16 is a scatter diagram between items of a set of “number of foreign matters for wiring 1” and “OS start check (product pass / fail)”. As shown in FIG. 16, when the “number of foreign objects in the wiring 1” increases, the wiring 1 is opened, and the OS and the product do not start. Therefore, “OS startup check (product pass / fail)” fails. Therefore, the opening of the wiring 1 can be determined by “the number of foreign objects in the wiring 1” and “OS activation check (product pass / fail)”. On the other hand, if the correlation strength of the set of “number of foreign objects per wiring” and “OS startup check (product pass / fail)” is strong, it can be estimated that the opening of the first wiring as a component is the cause of the failure. Then, it can be considered that the manufacturing process and the manufacturing apparatus of the first wiring are the cause of the failure. In step S3, if the correlation strength of the combination of “number of foreign objects in wiring 1” and “OS activation check (product acceptance / rejection)” is strong in the inspected storage unit 29, the name of the part causing the failure is the first. In order to be able to extract the manufacturing process of the wiring and the first wiring, a set of “the number of foreign objects in wiring 1” and “OS activation check (product pass / fail)”, and the manufacturing process of the first wiring and the first wiring of the part name It is convenient if you associate and remember.

図17は、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の項目間散布図である。図17に示すように、「配線1抵抗」が大きくなると、動作タイミングに遅延が発生するため、「OS起動チェック(製品合否)」でフェイルになる。したがって、配線1の動作タイミングの遅延が、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」で判定できる。逆に、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線の動作タイミングの遅延が不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。   FIG. 17 is an inter-item scatter diagram of a set of “Wiring 1 resistance” and “OS activation check (product pass / fail)”. As shown in FIG. 17, when “Wiring 1 resistance” increases, a delay occurs in the operation timing, so that “OS startup check (product pass / fail)” fails. Therefore, the delay of the operation timing of the wiring 1 can be determined by “wiring 1 resistance” and “OS activation check (product pass / fail)”. On the contrary, if the correlation strength of the set of “wiring 1 resistance” and “OS start check (product pass / fail)” is strong, it can be estimated that the delay of the operation timing of the first wiring as a component is the cause of the failure. Then, it can be considered that the manufacturing process and the manufacturing apparatus of the first wiring are the cause of the failure. In step S3, if the correlation strength of the set of “wiring 1 resistance” and “OS activation check (product pass / fail)” is strong in the inspected storage unit 29, the first wiring is identified as the name of the component causing the failure. And the first wiring manufacturing process, the set of “wiring 1 resistance” and “OS activation check (product pass / fail)” and the first wiring of the part name and the manufacturing process of the first wiring are related to each other. It is convenient to memorize it.

次に、図7に戻り、ステップS6の後に、製品の不良が検出されたとする。製品の不良の発生が、例えば、完成後製品検査装置13で検出されると、ステップS7で、完成後製品検査装置13において、不良発生信号が送信され、受信部15において、不良発生信号が受信される。なお、ステップS7は、必ずしも必要でない。   Next, returning to FIG. 7, it is assumed that a product defect is detected after step S6. When the occurrence of a product defect is detected by, for example, the completed product inspection device 13, a failure occurrence signal is transmitted to the completed product inspection device 13 in step S7, and the failure occurrence signal is received by the receiving unit 15. Is done. Note that step S7 is not necessarily required.

ステップS8で、受信部15が、不良を検出した完成後製品検査装置13から不良品の製品ロット番号を取得する。なお、製品ロット番号の取得は、完成後製品検査装置13等の検査装置による必要はなく、オペレータの受信部15(入力装置)への入力によってもよい。   In step S8, the receiving unit 15 acquires the product lot number of the defective product from the post-completion product inspection apparatus 13 that has detected the defect. The product lot number need not be acquired by an inspection device such as the product inspection device 13 after completion, but may be input by an operator to the receiving unit 15 (input device).

ステップS9で、受信部15が、不良を検出した完成後製品検査装置13から不良を検出した検査の検査項目、すなわち不良出現項目を取得する。なお、不良出現項目の取得は必ずしも必要ではないが、不良出現項目を取得することによって、相関分析を行う組には、不良出現項目を含んだ組を選べばよいので、相関分析を行う組の数を減らすことができる。   In step S <b> 9, the receiving unit 15 acquires the inspection item of the inspection in which the defect is detected, that is, the defect appearance item from the post-completion product inspection apparatus 13 that has detected the defect. Although it is not always necessary to acquire defect appearance items, it is sufficient to select a group including a defect appearance item as a group for performing correlation analysis by acquiring defect appearance items. The number can be reduced.

ステップS10で、強相関強度の組の検出支援方法(メイン処理)を実施する。ここでは、既に発生した製品の不良に対して、事後のメイン処理を行う。このメイン処理により、一対の検査項目を組として、複数の組の相関強度の迅速な算出が可能になり、この複数の組の中から強相関強度の組を検出できる。なお、詳細は後述する。   In step S10, a strong correlation strength pair detection support method (main process) is performed. Here, a post-main processing is performed for a defective product that has already occurred. By this main processing, it becomes possible to quickly calculate a plurality of sets of correlation strengths using a pair of inspection items as a set, and a set of strong correlation strengths can be detected from the plurality of sets. Details will be described later.

ステップS11で、不良原因項目抽出支援部27において、不良原因項目の抽出支援方法を実施する。具体的には、強相関強度の組を構成する検査項目の中から不良原因項目を抽出する支援をする。   In step S11, the defect cause item extraction support unit 27 implements a defect cause item extraction support method. Specifically, it assists in extracting defect cause items from inspection items constituting a set of strong correlation strengths.

ステップS12で、不良原因製造装置抽出支援部28において、不良原因製造装置の抽出支援方法を実施する。具体的には、不良原因項目で検出された軽微な異常を形成した不良原因製造装置を、着工履歴10を用いて抽出する支援をする。   In step S12, the defect cause manufacturing apparatus extraction support unit 28 implements a defect cause manufacturing apparatus extraction support method. Specifically, the failure cause manufacturing apparatus in which a minor abnormality detected in the failure cause item is formed is supported using the start history 10.

次に、図7のステップS6の強相関強度の組の検出支援方法(前処理)の詳細について説明する。この前処理は不良検出前の処理である。検査結果は、正常時データとして扱われる。   Next, details of the strong correlation strength pair detection support method (pre-processing) in step S6 of FIG. 7 will be described. This pre-processing is processing before defect detection. Inspection results are treated as normal data.

図18に示すように、まず、ステップS21で、受信部15において、製品の製品ロット番号毎かつ検査項目毎に、検査結果として、デバイス寸法検査結果4(図1参照)、デバイス電気特性検査結果6、製造工程内製品検査結果8、完成後デバイス検査結果12、完成後製品検査結果14を受信する。   As shown in FIG. 18, first, in step S21, in the receiving unit 15, for each product lot number and for each inspection item, as a test result, a device dimension inspection result 4 (see FIG. 1), a device electrical characteristic test result. 6. Receive product inspection result 8 in manufacturing process, device inspection result 12 after completion, and product inspection result 14 after completion.

次に、ステップS22で、正常時データ記憶部33において、検査項目ごとの検査結果4、6、8、12、14を、正常時データとして、検査項目と関係付けて記憶する。   Next, in step S22, the normal data storage unit 33 stores the inspection results 4, 6, 8, 12, and 14 for each inspection item in association with the inspection item as normal data.

ステップS23で、変換式作成支援部17において、正常時データを相関分析可能なデータに変換可能な複数のデータ変換式を、オペレータが作成する支援をする。ステップS23は、ステップS24乃至S33からなっており、以下、順に説明する。   In step S23, the conversion formula creation support unit 17 assists the operator in creating a plurality of data conversion formulas that can convert normal data into data that can be subjected to correlation analysis. Step S23 includes steps S24 to S33, which will be described in order below.

ステップS24で、組生成部41(図2参照)において、一対の検査項目を順次読み出し、組を生成する。   In step S24, the pair generation unit 41 (see FIG. 2) sequentially reads a pair of inspection items and generates a pair.

ステップS25で、正常時データ読み出し部42において、組を構成するそれぞれの検査項目に対応する正常時データを読み出す。   In step S25, the normal data reading unit 42 reads normal data corresponding to each inspection item constituting the set.

ステップS26で、正常時項目間散布図作成部43において、組毎に、組を構成する一対の検査項目による正常時項目間散布図を作成する。   In step S26, the normal inter-item scatter diagram creation unit 43 creates a normal inter-item scatter diagram for each set by a pair of inspection items.

ステップS27で、正常時項目間散布図表示部44において、正常時項目間散布図を表示部に画面表示し、オペレータに変換を促す。   In step S27, the normal inter-item scatter diagram display unit 44 displays the normal inter-item scatter diagram on the display unit to prompt the operator to convert it.

ステップS28で、エラー判定基準値設定支援部45において、正常時データからエラーデータを削除したり、特定数値に変換したりする前段階として、エラーデータか否かの判定基準値の設定の支援をする。そして、エラー判別式が設定される。   In step S28, the error determination reference value setting support unit 45 supports the setting of a determination reference value as to whether or not it is error data as a stage before deleting the error data from the normal data or converting it to a specific numerical value. To do. Then, an error discriminant is set.

具体的には、図19の正常時項目間散布図が表示部に画面表示されているとする。オペレータは、データaを相関分析の対象にすべきデータであり、データbは相関分析の対象にすべきでないエラーデータであると判断したとする。すなわち、データaのみでは正しい相関関数dが得られるが、データbも含めると誤った相関関数cが得られてしまう。エラー判定基準値設定支援部45は、エラーデータを判別可能な判定基準値35の指定を促す。オペレータによって、判定基準値35がGUIにより入力されると、判定基準値35の設定が完了する。   Specifically, the normal inter-item scatter diagram of FIG. 19 is displayed on the screen. It is assumed that the operator determines that data a is data to be subjected to correlation analysis, and data b is error data that should not be subjected to correlation analysis. That is, the correct correlation function d can be obtained only with the data a, but if the data b is also included, an incorrect correlation function c is obtained. The error determination reference value setting support unit 45 prompts the specification of a determination reference value 35 that can determine error data. When the determination reference value 35 is input by the operator through the GUI, the setting of the determination reference value 35 is completed.

ステップS29で、エラー変換式設定支援部46において、エラーデータの変換式(変換方法)の設定の支援をする。具体的には、判定基準値35によって判別されたエラーデータを、図20に示すように削除したり、特定数値に変換したりする。   In step S29, the error conversion formula setting support unit 46 supports setting of a conversion formula (conversion method) for error data. Specifically, the error data determined by the determination reference value 35 is deleted or converted into a specific numerical value as shown in FIG.

ステップS30で、文字データ変換式設定支援部47において、正常時データ内の文字データを数値データに変換する変換式(変換方法)の設定を支援する。具体的には、図23に示すように、検査項目Bが「製品合否」のように、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値で評価されている場合に、パスは数値の1に変換し、フェイルは数値の0に変換できるように、オペレータの変換式の設定の支援をする。   In step S30, the character data conversion equation setting support unit 47 supports setting of a conversion equation (conversion method) for converting character data in normal data into numerical data. Specifically, as shown in FIG. 23, when the inspection item B is evaluated with a binary value of pass or fail as in “product pass / fail”, the pass is set to a numerical value of 1. The operator can set the conversion formula so that the value can be converted to zero.

ステップS31で、数値データ変換式設定支援部48において、正常時データの数値データの符号変換や対数変換を行う変換式(変換方法)の設定を支援する。具体的には、符号変換では、正負の符号を入れ替えたり、どちらか一方の符号に統一したりする。対数変換では、図21の自然数表記のように、強相関強度が得られない場合であっても、図22の対数表記では、強相関強度が得られる場合がある。これは、データ群a1がデータ群a2に変換され、データ群b1がデータ群b2に変換されているからである。   In step S31, the numerical data conversion equation setting support unit 48 supports setting of a conversion equation (conversion method) for performing code conversion and logarithmic conversion of numerical data of normal data. Specifically, in code conversion, positive and negative signs are exchanged or unified into one of the signs. In the logarithmic conversion, even when the strong correlation strength cannot be obtained as in the natural number notation in FIG. 21, the strong correlation strength may be obtained in the logarithmic notation in FIG. This is because the data group a1 is converted into the data group a2 and the data group b1 is converted into the data group b2.

ステップS32で、正常時データ変換部49において、正常時データを設定したデータ変換式に基づいて変換し、正常時項目間散布図を修正する。なお、前記のステップS28からS32は、繰り返し実行してもよい。   In step S32, the normal data converter 49 converts the normal data based on the set data conversion formula, and corrects the normal inter-item scatter diagram. Note that steps S28 to S32 may be repeatedly executed.

ステップS33で、正常時項目間散布図記憶部50において、修正された正常時項目間散布図を組に関係付けて記憶する。   In step S33, the normal inter-item scatter diagram storage unit 50 stores the corrected normal inter-item scatter diagram in association with the set.

次に、ステップS34で、変換式記憶部18(図1参照)において、変換式を、検査項目と組とに関係付けて記憶する。なお、変換式は、1つの検査項目に対して1つに定まるのではなく、組が異なれば、1つの検査項目に対して異なる変換式が設定されてもよい。   Next, in step S34, the conversion formula storage unit 18 (see FIG. 1) stores the conversion formula in association with the inspection item and the set. Note that one conversion formula is not determined for one inspection item, and different conversion formulas may be set for one inspection item as long as the pairs are different.

ステップS35で、マスクデータベース作成支援部23(図1参照)において、相関分析の対象外とする組のマスクデータの作成を支援する。ステップS35は、ステップS36乃至S38から構成されている。   In step S35, the mask database creation support unit 23 (see FIG. 1) supports creation of a set of mask data that is not subject to correlation analysis. Step S35 includes steps S36 to S38.

ステップS36で、正常時相関強度算出部51(図3参照)において、変換式を用いた変換をした正常時データの検査項目間で相関強度を算出する。   In step S36, the normal correlation strength calculator 51 (see FIG. 3) calculates the correlation strength between the inspection items of the normal data converted using the conversion formula.

ステップS37で、相関強度判定部52において、相関強度が閾値以上か未満かを判定する。   In step S37, the correlation strength determination unit 52 determines whether the correlation strength is greater than or less than a threshold value.

ステップS38で、相関ラベル付与部53において、閾値以上の相関強度を有する組に「強相関」のラベルを付し、閾値未満の相関強度を有する組に「弱相関」のラベルを付し、マスクデータベースを生成する。マスクデータベースとしては、具体的には、図24に示すように、行が検査項目1〜nのn行からなり、列も検査項目1〜nのn列からなるマトリックス表として表すことができる。行と列の交差する領域が組を表している。組の個数は、n×(n−1)/2になる。すなわち、領域40は、検査項目nと検査項目nの組のような同一の検査項目の組は組み合わせ的には構成できるが相関強度を求めることに物理的意義がないので対象外にしている。また、領域39は、検査項目nと検査項目1の組と、検査項目の順番を逆にした検査項目1と検査項目nの組も、組み合わせ的には2組とカウントできるが、相関強度は互いに等しくなり一方のみを求めれば十分であるので他方は対象外にしている。さらに、ステップS37で相関強度が閾値以上であったマスク組の対応する領域38は、不良の発生する以前から強相関関係を有しているので、不良の検出には用いることができないので、相関分析の対象外にしている。最終的に残った領域37に対応するマスク組に相関分析が実施されることになる。   In step S38, the correlation label assigning unit 53 attaches a label of “strong correlation” to a group having a correlation strength equal to or higher than the threshold, attaches a label of “weak correlation” to a group having a correlation strength less than the threshold, and masks Create a database. Specifically, as shown in FIG. 24, the mask database can be expressed as a matrix table in which rows are composed of n rows of inspection items 1 to n and columns are also composed of n columns of inspection items 1 to n. The region where the rows and columns intersect represents a set. The number of sets is n × (n−1) / 2. That is, the region 40 is excluded from the target because the same inspection item set such as the combination of the inspection item n and the inspection item n can be combined, but there is no physical significance in obtaining the correlation strength. In the region 39, the combination of the inspection item n and the inspection item 1 and the combination of the inspection item 1 and the inspection item n in which the order of the inspection items is reversed can be counted as two sets in combination, but the correlation strength is Since it is sufficient to obtain only one of them because they are equal to each other, the other is excluded. Further, since the corresponding region 38 of the mask set whose correlation strength is equal to or greater than the threshold value in step S37 has a strong correlation before the occurrence of the defect, it cannot be used for detection of the defect. Not subject to analysis. Correlation analysis is performed on the mask set corresponding to the finally remaining region 37.

ステップS39で、マスクデータベース記憶部24(図1参照)において、ラベル「不実施」「実施」を組に関係付けたマスクデータベースを記憶する。   In step S39, the mask database storage unit 24 (see FIG. 1) stores a mask database in which the labels “not implemented” and “implemented” are associated with the set.

以上で、不良の検知前にすべき前処理が終了する。そして、図25(a)に示すように、製品のパーソナルコンピュータが電源ONで動作しないというような、不良が検知されたとする。具体的には、図7のステップS7で、完成後製品検査装置13において、不良発生信号が送信され、受信部15において、不良発生信号が受信される。なお、ステップS7は、必ずしも、完成後製品検査装置13による必要はない。さらに、図25(b)に示すように、不良は、パーソナルコンピュータ内の回路基盤で起きたことが、完成後デバイス検査装置11(図1参照)により明らかにされる。   This completes the preprocessing that should be performed before the failure is detected. Then, as shown in FIG. 25A, it is assumed that a defect is detected such that the personal computer of the product does not operate when the power is turned on. Specifically, in step S7 in FIG. 7, the completed product inspection apparatus 13 transmits a defect occurrence signal, and the receiving unit 15 receives the defect occurrence signal. Note that step S7 is not necessarily required by the post-completion product inspection apparatus 13. Further, as shown in FIG. 25B, it is clarified by the post-completion device inspection apparatus 11 (see FIG. 1) that the defect has occurred in the circuit board in the personal computer.

ステップS8で、受信部15が、不良を検出した完成後製品検査装置13から不良品の製品ロット番号を取得する。ステップS9で、受信部15が、不良を検出した完成後製品検査装置13から不良を検出した検査の検査項目、すなわち不良出現項目を取得する。   In step S8, the receiving unit 15 acquires the product lot number of the defective product from the post-completion product inspection apparatus 13 that has detected the defect. In step S <b> 9, the receiving unit 15 acquires the inspection item of the inspection in which the defect is detected, that is, the defect appearance item from the post-completion product inspection apparatus 13 that has detected the defect.

次に、図7のステップS10の強相関強度の組の検出支援方法(メイン処理)の詳細について説明する。このメイン処理は不良検出後の処理である。検査結果4、6、8、12、14は、異常を含んだデータとして扱われる。   Next, details of the strong correlation strength pair detection support method (main process) in step S10 of FIG. 7 will be described. This main process is a process after defect detection. Inspection results 4, 6, 8, 12, and 14 are treated as data including abnormality.

図26に示すように、まず、ステップS41で、受信部15(図1参照)において、取得された製品ロット番号に関係付けられた検査項目の検査結果4、6、8、12、14を受信する。また、この製造ロット番号の製品に前後して製造された製品の製造ロット番号も着工履歴10から取得する。   As shown in FIG. 26, first, in step S41, the receiving unit 15 (see FIG. 1) receives the inspection results 4, 6, 8, 12, and 14 of the inspection items related to the acquired product lot number. To do. Further, the production lot number of the product manufactured before and after the product of this production lot number is also acquired from the start history 10.

次に、ステップS42で、変換前データ記憶部32において、検査項目ごとの検査結果4、6、8、12、14を、変換前データとして、検査項目と関係付けて記憶する。   Next, in step S42, the pre-conversion data storage unit 32 stores the inspection results 4, 6, 8, 12, and 14 for each inspection item in association with the inspection item as pre-conversion data.

ステップS43で、データ変換部19(図1参照)において、組毎に、検査項目に対応する変換前データとデータ変換式を読み出し、変換前データをデータ変換式により変換済データに変換する。   In step S43, the data conversion unit 19 (see FIG. 1) reads the pre-conversion data and the data conversion formula corresponding to the inspection item for each set, and converts the pre-conversion data into converted data by the data conversion formula.

ステップS44で、変換済データ記憶部20において、変換済データを検査項目に関係付けて記憶する。   In step S44, the converted data storage unit 20 stores the converted data in association with the inspection item.

ステップS45で、組抽出部55(図4参照)において、図24の領域37と領域38に相当する分析対象のマスク組を抽出する。なお、領域37に相当するマスク組のみを抽出してもよい。   In step S45, the set extraction unit 55 (see FIG. 4) extracts the mask set to be analyzed corresponding to the regions 37 and 38 in FIG. Only the mask set corresponding to the region 37 may be extracted.

ステップS46で、検査項目読み出し部56において、抽出された組を構成する検査項目を読み出す。   In step S46, the inspection item reading unit 56 reads the inspection items constituting the extracted set.

ステップS47で、変換済データ読み出し部57において、抽出された組とその組を構成する検査項目に対応する変換済データを読み出す。   In step S47, the converted data reading unit 57 reads the converted data corresponding to the extracted set and the inspection items constituting the set.

ステップS48で、相関強度算出部58において、抽出された組を構成する一対の検査項目に対応する変換済データ間で相関強度を算出する。   In step S48, the correlation strength calculation unit 58 calculates the correlation strength between the converted data corresponding to the pair of inspection items constituting the extracted set.

ステップS49で、相関分析結果記憶部22(図1参照)において、算出した相関強度を対応する組に関係付けて記憶する。   In step S49, the correlation analysis result storage unit 22 (see FIG. 1) stores the calculated correlation strength in association with the corresponding group.

ステップS50で、順番付与部59において、相関強度の強い順番で組へ順番を付与する。   In step S50, the order assigning unit 59 assigns the order to the set in the order of strong correlation strength.

ステップS51で、出力部25において、順番を付与した順番に組を画面表示や帳票出力する。   In step S51, the output unit 25 outputs a set to a screen display or a form in the order in which the order is given.

ステップS52で、出力部25において、マスクデータベースを用いて画面表示等した組にラベル「強相関」が付してあれば、他の組と区別して、組の表示に合わせて「強相関」も表示する。ここで、「強相関」の表示無しに表示された組は、不良の発生により強相関関係が生じたものと考えられる。なお、ステップS45で、領域37に相当するマスク組のみを抽出していれば、その段階で強相関関係の組を除外することができる。   In step S52, if the label “strong correlation” is attached to the group displayed on the screen using the mask database in the output unit 25, the “strong correlation” is also distinguished from the other groups to match the display of the group. indicate. Here, it is considered that the group displayed without the display of “strong correlation” is that a strong correlation has occurred due to the occurrence of a defect. Note that if only the mask set corresponding to the region 37 is extracted in step S45, the strong correlation set can be excluded at that stage.

次に、図7のステップS11の不良原因項目の抽出支援方法の詳細について説明する。   Next, details of the defect cause item extraction support method in step S11 of FIG. 7 will be described.

図27に示すように、まず、ステップS61で、不良原因項目読み出し部61において、付与された順番の早い順に組を構成する一対の検査項目を読み出す。読み出された検査項目は不良原因項目の候補となる。   As shown in FIG. 27, first, in step S61, the defect cause item reading unit 61 reads a pair of inspection items constituting a set in order of the assigned order. The read inspection item becomes a candidate for a defect cause item.

次に、ステップS62で、変換済データ読み出し部62において、その組と読み出した検査項目に対応する変換済データを読み出す。   Next, in step S62, the converted data reading unit 62 reads the converted data corresponding to the set and the read inspection item.

ステップS63で、原因・出現項目間散布図作成部63において、一対の読み出した変換済データにより原因・出現項目間散布図を作成する。   In step S63, the cause / appearance item scatter diagram creation unit 63 creates a cause / appearance item scatter diagram from the pair of read converted data.

一対の変換済データの内、一方は不良が検出された(出現した)検査項目に関し、他方は、不良の原因となった軽微な異常を発生させた製造工程の異常を検出している検査項目に関する場合もあると考えられる。例えば、図28に示すように、説明を簡単化するため、相関分析を検査項目の全項目間ではなく、完成後検査項目と、製造工程内検査項目、例えば、「OS起動チェック」、「製品合否」との相関分析をするとする。そして、不良が検出された検査項目は、例えば、「OS起動チェック」と「製品合否」であるとする。「OS起動チェック」「製品合否」と、製造工程内検査項目のすべてとの間で、相関分析を行う。相関分析を行った組を、相関強度の強い順番にソートし、相関が強いものから順番に原因・出現項目間散布図を生成する。   Of the pair of converted data, one relates to the inspection item in which the defect is detected (appears), and the other is the inspection item that detects the abnormality in the manufacturing process that caused the minor abnormality that caused the defect. It is thought that there is also a case. For example, as shown in FIG. 28, in order to simplify the explanation, the correlation analysis is not performed between all the inspection items, but the inspection items after completion and the inspection items in the manufacturing process, for example, “OS startup check”, “product” Assume that a correlation analysis with “pass / fail” is performed. The inspection items in which defects are detected are, for example, “OS startup check” and “product pass / fail”. Correlation analysis is performed between “OS startup check”, “product pass / fail”, and all inspection items in the manufacturing process. The pairs subjected to correlation analysis are sorted in the order of strong correlation strength, and a scatter diagram between cause and appearance items is generated in descending order of correlation.

この結果、例えば、図29に示すように、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の間で強相関関係が得られれば、図31のように配線1パターン36の部分的高抵抗gのためにオープンが生じたと考えられる。逆に、図30に示すように、「配線1寸法」と「OS起動チェック(製品合否)」の間で強相関関係が得られていないので、図31のように配線1パターン36の断線fで配線1の寸法が細くなっているようなことはないので、「配線1寸法」は不良に関与していないと考えられる。   As a result, for example, as shown in FIG. 29, if a strong correlation is obtained between “Wiring 1 resistance” and “OS startup check (product pass / fail)”, a partial wiring 1 pattern 36 as shown in FIG. It is considered that an open occurred due to the high resistance g. On the contrary, as shown in FIG. 30, since a strong correlation is not obtained between the “wiring 1 dimension” and the “OS activation check (product pass / fail)”, the disconnection f of the wiring 1 pattern 36 as shown in FIG. Therefore, it is considered that the “wiring 1 dimension” does not contribute to the defect.

ステップS64で、原因・出現項目間散布図表示部64において、原因・出現項目間散布図を表示部に画面表示する。   In step S64, the cause / appearance item scatter diagram display unit 64 displays the cause / appearance item scatter diagram on the screen.

ステップS65で、正常時項目間散布図抽出部65において、その組に対応する正常時項目間散布図を図2の正常時項目間散布図記憶部50から抽出する。   In step S65, the normal-time item scatter diagram extraction unit 65 extracts the normal-time item scatter diagram corresponding to the set from the normal-time item scatter diagram storage unit 50 of FIG.

ステップS66で、正常時項目間散布図重ね表示部66において、抽出した正常時項目間散布図を原因・出現項目間散布図に重ねて表示する。オペレータは、正常時項目間散布図と原因・出現項目間散布図とを比較して、相関強度が原因・出現項目間散布図において強くなっている理由が、不良に起因しているか否かを判断する。   In step S66, the normal scatter diagram between items is displayed in the normal scatter diagram overlap display unit 66 in a superimposed manner on the cause / appearance item scatter diagram. The operator compares the normal item scatter diagram with the cause / appearance item scatter diagram to determine whether the reason why the correlation strength is strong in the cause / appearance item scatter diagram is due to defects. to decide.

ステップS67で、不良原因項目指定支援部67において、画面上でのGUIにより、オペレータが不良原因項目の候補を不良原因項目として指定をする、支援をする。   In step S67, the cause-of-failure item designation support unit 67 assists the operator to designate the cause of the cause of failure item as the cause of failure item using a GUI on the screen.

最後に、図7のステップS12の不良原因製造装置の抽出支援方法の詳細について説明する。   Finally, the details of the defect cause manufacturing apparatus extraction support method in step S12 of FIG. 7 will be described.

図32に示すように、まず、ステップS71で、着工履歴抽出部71(図6参照)において、不良の検出された製品の製品ロット番号に対応する着工履歴を、着工履歴作成装置9(図1参照)より抽出する。   As shown in FIG. 32, first, in step S71, a start history corresponding to the product lot number of the product in which a defect is detected is indicated in the start history extracting unit 71 (see FIG. 6). Extract from (see).

次に、ステップS72で、着工履歴一覧表示部72において、抽出した着工履歴を表示部に一覧表示する。   Next, in step S72, the start history list display unit 72 displays a list of the extracted start history on the display unit.

ステップS73で、マーカー表示部73において、不良原因項目に対応する着工履歴の検査項目上へ、「不良原因項目」のマーカーを表示する。   In step S <b> 73, the marker display unit 73 displays a “defect cause item” marker on the inspection history inspection item corresponding to the defect cause item.

ステップS74で、不良原因製造装置指定支援部75において、被検査対象記憶部29(図1参照)から不良原因項目(検査項目)に基づいて、被検査対象、すなわち、不良の原因となっている部品名と、その部品を直接製造している製造工程名と製造装置とを表示する。不良原因製造装置指定支援部75は、画面上でのGUIにより、オペレータが表示された製造装置を不良原因製造装置として指定をする、支援をする。   In step S74, in the defect cause manufacturing apparatus designation support unit 75, based on the defect cause item (inspection item) from the inspected object storage unit 29 (see FIG. 1), it is the object to be inspected, that is, the cause of the defect. The part name, the name of the manufacturing process that directly manufactures the part, and the manufacturing apparatus are displayed. The failure cause manufacturing apparatus designation support unit 75 supports the designation of the manufacturing apparatus displayed by the operator as the defect cause manufacturing apparatus using a GUI on the screen.

本発明の実施形態によれば、不良の検出前に、変換式等を用意しておくので、不良の検出後、短時間で相関分析が行える。このため、不良原因項目と不良原因製造装置を早期に発見することで、製品不良を低減することができる。なお、実施形態の不良解析装置30は、コンピュータに不良解析プログラムを実行させることにより実現してもよい。   According to the embodiment of the present invention, since a conversion equation or the like is prepared before the failure is detected, the correlation analysis can be performed in a short time after the failure is detected. For this reason, a product defect can be reduced by discovering a defect cause item and a defect cause manufacturing apparatus at an early stage. Note that the failure analysis apparatus 30 of the embodiment may be realized by causing a computer to execute a failure analysis program.

本発明の実施形態に係る不良解析装置の構成図である。It is a lineblock diagram of a failure analysis device concerning an embodiment of the present invention. 変換式作成支援部の構成図である。It is a block diagram of a conversion type | formula creation assistance part. マスクデータベース作成支援部の構成図である。It is a block diagram of a mask database creation assistance part. 相関分析処理部の構成図である。It is a block diagram of a correlation analysis processing unit. 不良原因項目抽出支援部の構成図である。It is a block diagram of a defect cause item extraction assistance part. 不良原因製造装置抽出支援部の構成図である。It is a block diagram of a defect cause manufacturing apparatus extraction assistance part. 本発明の実施形態に係る不良解析方法のフローチャートである。3 is a flowchart of a failure analysis method according to an embodiment of the present invention. 強い相関強度を示す項目間分散図の例である。It is an example of the dispersion | distribution chart between items which shows strong correlation strength. 弱い相関強度を示す項目間分散図の例である。It is an example of the dispersion | distribution chart between items which shows weak correlation strength. 項目間分散図を描くための検査項目の組み合わせ表(その1)である。It is the combination table | surface (1) of the inspection item for drawing the dispersion | distribution chart between items. 検査項目「配線1寸法」と「配線1抵抗」の項目間分散図である。It is an inter-item dispersion | distribution figure of the inspection item "wiring 1 dimension" and "wiring 1 resistance." 項目間分散図を描くための検査項目の組み合わせ表(その2)である。It is the combination table | surface (2) of the inspection item for drawing the dispersion | distribution chart between items. 検査項目「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の項目間分散図である。It is a dispersion | distribution diagram between items of the inspection item "wiring 1 dimension" and "a power supply OFF short check (power ON short check)." 検査項目「配線1寸法」と「電源起動チェック」の項目間分散図である。It is an inter-item dispersion | distribution figure of inspection item "wiring 1 dimension" and "power supply start check". 検査項目「配線1寸法」と「製品合否」の項目間分散図である。It is an inter-item dispersion | distribution figure of inspection item "wiring 1 dimension" and "product pass / fail". 検査項目「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の項目間分散図である。It is an inter-item dispersion diagram of inspection items “number of foreign objects in wiring 1” and “OS startup check (product pass / fail)”. 検査項目「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の項目間分散図である。It is an inter-item dispersion diagram of inspection items “Wiring 1 resistance” and “OS startup check (product pass / fail)”. 強相関強度の組の検出支援方法(前処理)のフローチャートである。It is a flowchart of the detection assistance method (preprocessing) of the group of strong correlation strength. エラーデータを含む項目間分散図の例である。It is an example of the dispersion | distribution chart between items containing error data. 図19の項目間分散図からエラーデータを除いて描きなおした項目間分散図の例である。FIG. 20 is an example of an inter-item scatter diagram that is redrawn from the inter-item scatter diagram of FIG. 19 by removing error data. 対数表記していない数値データによる項目間分散図の例である。It is an example of the dispersion | distribution chart between items by the numerical data which are not logarithmically described. 図21の項目間分散図の数値データを対数表記して描きなおした項目間分散図の例である。FIG. 22 is an example of an inter-item dispersion diagram in which numerical data of the inter-item dispersion diagram of FIG. 文字データ(パス/フェイル)を数値データ(1/0)に変換して描きなおした項目間分散図の例である。It is an example of an inter-item scatter diagram in which character data (pass / fail) is converted into numerical data (1/0) and redrawn. マスクデータベースの構成を示す表(その1)である。It is a table | surface (the 1) which shows the structure of a mask database. (a)は製品における不良発生の状況を示す図であり、(b)は回路基盤で不良が発生したことを示す図である。(A) is a figure which shows the condition of the defect generation | occurrence | production in a product, (b) is a figure which shows that the defect generate | occur | produced in the circuit board. 強相関強度の組の検出支援方法(本処理)のフローチャートである。It is a flowchart of the detection assistance method (this process) of the group of strong correlation strength. 不良原因項目の抽出支援方法のフローチャートである。It is a flowchart of the extraction assistance method of a defect cause item. マスクデータベースの構成を示す表(その2)である。It is a table | surface (the 2) which shows the structure of a mask database. 検査項目「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の項目間分散図である。It is an inter-item dispersion diagram of inspection items “Wiring 1 resistance” and “OS startup check (product pass / fail)”. 検査項目「配線1寸法」と「OS起動チェック(製品合否)」の項目間分散図である。It is an inter-item dispersion diagram of inspection items “wiring 1 dimension” and “OS startup check (product pass / fail)”. 回路基盤を構成する配線1パターンで、不良が発生したことを示す図である。It is a figure which shows that the defect generate | occur | produced with the wiring 1 pattern which comprises a circuit board. 不良原因製造装置の抽出支援方法のフローチャートである。It is a flowchart of the extraction assistance method of a defect cause manufacturing apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1 製造工程内検査装置群
2 完成後検査装置群
3 デバイス寸法検査装置
4 デバイス寸法検査結果
5 デバイス電気特性検査装置
6 デバイス電気特性検査結果
7 製造工程内製品検査装置
8 製造工程内製品検査結果
9 着工履歴作成装置
10 着工履歴
11 完成後デバイス検査装置
12 完成後デバイス検査結果
13 完成後製品検査装置
14 完成後製品検査結果
15 受信部
17 変換式作成支援部
18 変換式記憶部
19 データ変換部
20 変換済データ記憶部
21 相関分析処理部
22 相関分析結果記憶部
23 マスクデータベース作成支援部
24 マスクデータベース記憶部
25 出力部
26 各種帳票
27 不良原因項目抽出支援部
28 不良原因製造装置抽出支援部
29 被検査対象記憶部
30 不良解析装置
31 検査結果記憶部
32 変換前データ記憶部
33 正常時データ記憶部
35 判定基準値
36 配線1パターン
41 組生成部
42 正常時データ読み出し部
43 正常時項目間散布図作成部
44 正常時項目間散布図表示部
45 エラー判定基準値設定支援部
46 エラー変換式設定支援部
47 文字データ変換式設定支援部
48 数値データ変換式設定支援部
49 正常時データ変換部
50 正常時項目間散布図記憶部
51 正常時相関強度算出部
52 相関強度判定部
53 相関ラベル付与部
55 組抽出部
56 検査項目読み出し部
57 変換済データ読み出し部
58 相関強度算出部
59 順番付与部
61 不良原因項目読み出し部
62 変換済データ読み出し部
63 原因・出現項目間散布図作成部
64 原因・出現項目間散布図表示部
65 正常時項目間散布図抽出部
66 正常時項目間散布図の重ね表示部
67 不良原因項目指定支援部
71 着工履歴抽出部
72 着工履歴一覧表示部
73 マーカー表示部
74 被検査対象表示部
75 不良原因製造装置指定支援部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inspection device group in manufacturing process 2 Inspection device group after completion 3 Device dimension inspection apparatus 4 Device dimension inspection result 5 Device electrical property inspection apparatus 6 Device electrical property inspection result 7 Product inspection device in manufacturing process 8 Product inspection result in manufacturing process 9 Construction history creation device 10 Construction history 11 Device inspection device after completion 12 Device inspection result after completion 13 Product inspection device after completion 14 Product inspection result after completion 15 Receiving unit 17 Conversion formula creation support unit 18 Conversion formula storage unit 19 Data conversion unit 20 Converted data storage unit 21 Correlation analysis processing unit 22 Correlation analysis result storage unit 23 Mask database creation support unit 24 Mask database storage unit 25 Output unit 26 Various forms 27 Defect cause item extraction support unit 28 Defect cause manufacturing device extraction support unit 29 Subject Inspection object storage unit 30 Defect analysis device 31 Inspection result storage unit 2 Pre-conversion data storage unit 33 Normal data storage unit 35 Judgment reference value 36 Wiring 1 pattern 41 Pair generation unit 42 Normal data reading unit 43 Normal item scatter diagram creation unit 44 Normal item scatter diagram display unit 45 Error Judgment reference value setting support unit 46 Error conversion formula setting support unit 47 Character data conversion formula setting support unit 48 Numerical data conversion formula setting support unit 49 Normal data conversion unit 50 Normal item scatter diagram storage unit 51 Normal correlation strength calculation Unit 52 Correlation strength determination unit 53 Correlation label assignment unit 55 Set extraction unit 56 Inspection item read unit 57 Converted data read unit 58 Correlation strength calculation unit 59 Order assignment unit 61 Defect cause item read unit 62 Converted data read unit 63 Cause / Scatter chart creation part between appearance items 64 Cause / appearance item scatter chart display part 65 Normal item scatter chart extraction Unit 66 Normal item scatter diagram overlap display unit 67 Failure cause item designation support unit 71 Start history extraction unit 72 Start history list display unit 73 Marker display unit 74 Inspected object display unit 75 Failure cause manufacturing device designation support unit

Claims (8)

製品毎の製品ロット番号と検査毎の検査項目とに関係付けて、前記製品毎前記検査毎の検査結果を変換前データとして記憶する変換前データ記憶部と、
一対の検査項目の組み合わせから複数の検査項目の組を生成する組生成部と、
前記検査項目の組を構成する検査項目それぞれに対応する一対の前記変換前データを相関強度を算出可能な変換済データに変換するデータ変換式を、対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に関係付けて、記憶する変換式記憶部と、
対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に、変換前データを前記データ変換式により変換済データに変換するデータ変換部と、
前記検査項目の組毎に前記変換済データ間で相関強度を算出する相関強度算出部と、
相関強度の強い順に前記検査項目の組に順番を付与する順番付与部と、
前記順番の早い順に検査項目の組を構成する検査項目を不良原因項目として読み出す不良原因項目読み出し部とを有することを特徴とする不良解析装置。
In relation to the product lot number for each product and the inspection item for each inspection, the pre-conversion data storage unit that stores the inspection result for each inspection for each product as pre-conversion data,
A set generation unit that generates a set of a plurality of inspection items from a combination of a pair of inspection items;
A data conversion formula for converting a pair of pre-conversion data corresponding to each of the inspection items constituting the set of inspection items into converted data capable of calculating the correlation strength, for each inspection item constituting the corresponding set of inspection items A conversion-type storage unit for storing in relation to
A data conversion unit that converts pre-conversion data into converted data by the data conversion formula for each inspection item that constitutes a set of corresponding inspection items;
A correlation strength calculator for calculating a correlation strength between the converted data for each set of inspection items;
An order assigning unit for assigning an order to the set of inspection items in order of strong correlation strength;
A failure analysis apparatus comprising: a failure cause item reading unit that reads out the inspection items that constitute a set of inspection items in the order from the earlier order as a failure cause item.
前記順番の付与の対象外とする組をマスク組として記録するマスクデータベースの作成を支援するマスクデータベース作成支援部をさらに有し、
前記順番付与部において、前記マスク組に前記順番を付与しないか、あるいは、
前記不良原因項目読み出し部において、前記マスク組を構成する検査項目を不良原因項目として読み出さないことを特徴とする請求項1に記載の不良解析装置。
A mask database creation support unit that supports creation of a mask database that records a set that is not a target of the order as a mask set;
In the order giving unit, do not give the order to the mask set, or
The defect analysis apparatus according to claim 1, wherein the defect cause item reading unit does not read inspection items constituting the mask set as defect cause items.
前記マスクデータベース作成支援部においては、前記製品の不良の発生の以前から、所定値以上の相関強度のある前記組を、前記マスク組とすることを特徴とする請求項2に記載の不良解析装置。   3. The failure analysis apparatus according to claim 2, wherein the mask database creation support unit sets the set having a correlation strength equal to or greater than a predetermined value as the mask set before the occurrence of a defect in the product. . 前記データ変換式には、
前記変換前データに含まれるエラーデータを判別するエラー判別式と、
前記エラーデータを相関強度を算出可能なデータに変換するエラー変換式とが含まれることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の不良解析装置。
The data conversion formula includes
An error discriminant for discriminating error data included in the pre-conversion data;
The failure analysis apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising: an error conversion formula for converting the error data into data capable of calculating a correlation strength.
前記データ変換式には、
前記変換前データに含まれる文字データを、相関強度を算出可能な数値データに変換する文字データ変換式が含まれることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の不良解析装置。
The data conversion formula includes
5. The defect according to claim 1, further comprising: a character data conversion formula that converts character data included in the pre-conversion data into numerical data capable of calculating a correlation strength. Analysis device.
前記データ変換式には、
前記変換前データに含まれる数値データを、符号変換と対数変換の少なくとも一方を含み相関強度を算出可能な数値データに変換する数値データ変換式が含まれることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の不良解析装置。
The data conversion formula includes
The numerical data conversion formula for converting numerical data included in the pre-conversion data into numerical data that includes at least one of code conversion and logarithmic conversion and that can calculate the correlation strength is included. The defect analysis apparatus according to any one of 5.
製品毎の製品ロット番号と検査毎の検査項目とに関係付けて、前記製品毎前記検査毎の検査結果を変換前データとして記憶し、
一対の検査項目の組み合わせから複数の検査項目の組を生成し、
前記検査項目の組を構成する検査項目それぞれに対応する一対の前記変換前データを相関強度を算出可能な変換済データに変換するデータ変換式を、対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に関係付けて、記憶し、
対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に、変換前データを前記データ変換式により変換済データに変換し、
前記検査項目の組毎に前記変換済データ間で相関強度を算出し、
相関強度の強い順に前記検査項目の組に順番を付与し、
前記順番の早い順に検査項目の組を構成する検査項目を不良原因項目として読み出すことを特徴とする不良解析方法。
In relation to the product lot number for each product and the inspection item for each inspection, the inspection result for each inspection for each product is stored as pre-conversion data,
Generate a set of multiple inspection items from a pair of inspection items,
A data conversion formula for converting a pair of pre-conversion data corresponding to each of the inspection items constituting the set of inspection items into converted data capable of calculating the correlation strength, for each inspection item constituting the corresponding set of inspection items Relate to, remember,
For each inspection item constituting the set of corresponding inspection items, the pre-conversion data is converted into converted data by the data conversion formula,
Calculate the correlation strength between the converted data for each set of inspection items,
Give order to the set of inspection items in order of strong correlation strength,
A failure analysis method, wherein inspection items constituting a set of inspection items are read out as failure cause items in the order from the earlier order.
コンピュータに
製品毎の製品ロット番号と検査毎の検査項目とに関係付けて、前記製品毎前記検査毎の検査結果を変換前データとして記憶する変換前データ記憶手順と、
一対の検査項目の組み合わせから複数の検査項目の組を生成する組生成手順と、
前記検査項目の組を構成する検査項目それぞれに対応する一対の前記変換前データを相関強度を算出可能な変換済データに変換するデータ変換式を、対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に関係付けて、記憶する変換式記憶手順と、
対応する検査項目の組を構成する検査項目毎に、変換前データを前記データ変換式により変換済データに変換するデータ変換手順と、
前記検査項目の組毎に前記変換済データ間で相関強度を算出する相関強度算出手順と、
相関強度の強い順に前記検査項目の組に順番を付与する順番付与手順と、
前記順番の早い順に検査項目の組を構成する検査項目を不良原因項目として読み出す不良原因項目読み出し手順とを実行させることを特徴とする不良解析プログラム。
A pre-conversion data storage procedure for storing in the computer the product lot number for each product and the inspection item for each inspection, and storing the inspection result for each inspection as the pre-conversion data for each product;
A set generation procedure for generating a set of a plurality of inspection items from a combination of a pair of inspection items;
A data conversion formula for converting a pair of pre-conversion data corresponding to each of the inspection items constituting the set of inspection items into converted data capable of calculating the correlation strength, for each inspection item constituting the corresponding set of inspection items A conversion formula storage procedure for storing in relation to
A data conversion procedure for converting the pre-conversion data into converted data by the data conversion formula for each inspection item constituting a set of corresponding inspection items,
Correlation strength calculation procedure for calculating correlation strength between the converted data for each set of inspection items;
An order assignment procedure for assigning an order to the set of inspection items in order of strong correlation strength;
A failure analysis program for executing a failure cause item reading procedure for reading out inspection items constituting a set of inspection items as a failure cause item in order from the earlier order.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011022857A (en) * 2009-07-16 2011-02-03 Tokyo Women's Medical College Apparatus for analyzing and displaying clinical test data
JP2011180677A (en) * 2010-02-26 2011-09-15 Hitachi East Japan Solutions Ltd Inventory control device
JP2013174980A (en) * 2012-02-24 2013-09-05 Daifuku Co Ltd Improper work prevention device and sorting facility including improper work prevention device

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61253573A (en) * 1985-05-02 1986-11-11 Hitachi Ltd Method and device for selection of manufacturing process data
JP2001167203A (en) * 1999-09-30 2001-06-22 Fuji Electric Co Ltd Marketing analysis supporting system and recording medium
JP2002176651A (en) * 2000-09-09 2002-06-21 Markany Inc Digital image watermarking apparatus and method
JP2003114713A (en) * 2001-10-09 2003-04-18 Nippon Steel Corp Method for analyzing cause for quality degradation
JP2003216718A (en) * 2002-01-17 2003-07-31 Dentsu Inc Enterprise value analysis system with function for analyzing total market value of stock component
JP2005284664A (en) * 2004-03-29 2005-10-13 Toshiba Corp Data analysis program and data analysis method
JP2006261253A (en) * 2005-03-15 2006-09-28 Omron Corp Process data collecting apparatus, model forming apparatus, and model forming system
JP2006297603A (en) * 2005-04-15 2006-11-02 Sumitomo Heavy Ind Ltd Molding machine and its monitoring and displaying method

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61253573A (en) * 1985-05-02 1986-11-11 Hitachi Ltd Method and device for selection of manufacturing process data
JP2001167203A (en) * 1999-09-30 2001-06-22 Fuji Electric Co Ltd Marketing analysis supporting system and recording medium
JP2002176651A (en) * 2000-09-09 2002-06-21 Markany Inc Digital image watermarking apparatus and method
JP2003114713A (en) * 2001-10-09 2003-04-18 Nippon Steel Corp Method for analyzing cause for quality degradation
JP2003216718A (en) * 2002-01-17 2003-07-31 Dentsu Inc Enterprise value analysis system with function for analyzing total market value of stock component
JP2005284664A (en) * 2004-03-29 2005-10-13 Toshiba Corp Data analysis program and data analysis method
JP2006261253A (en) * 2005-03-15 2006-09-28 Omron Corp Process data collecting apparatus, model forming apparatus, and model forming system
JP2006297603A (en) * 2005-04-15 2006-11-02 Sumitomo Heavy Ind Ltd Molding machine and its monitoring and displaying method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011022857A (en) * 2009-07-16 2011-02-03 Tokyo Women's Medical College Apparatus for analyzing and displaying clinical test data
JP2011180677A (en) * 2010-02-26 2011-09-15 Hitachi East Japan Solutions Ltd Inventory control device
JP2013174980A (en) * 2012-02-24 2013-09-05 Daifuku Co Ltd Improper work prevention device and sorting facility including improper work prevention device

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