JP2008165845A - Tape-shaped optical recording medium, its manufacturing method and manufacturing device - Google Patents

Tape-shaped optical recording medium, its manufacturing method and manufacturing device Download PDF

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広 平野
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真 宮本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tape-shaped optical recording medium having less output variation and excellent durability with satisfactory manufacturing efficiency. <P>SOLUTION: In the tape-shaped optical recording medium having at least a reflection layer, a first protective layer, a recording layer and a second protective layer in this order on one principal surface of a flexible supporting body, each of the first and the second protective layers is composed of a metal oxide of at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr and Al, each composition of the metal oxide of the first and the second protective layers has a lower oxygen content on the recording layer side and a higher oxygen content on the side opposite to the recording layer in a thickness direction and the oxygen content on the recording layer side is 10 to 55 at% or lower and the oxygen content on the side opposite to the recording layer is 66 at% or lower. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、テープ状光記録媒体、その製造方法及び製造装置に関する。   The present invention relates to a tape-shaped optical recording medium, a manufacturing method thereof, and a manufacturing apparatus.

レーザ光の照射により情報の記録再生を行う光記録媒体としては、デジタル・オーディオ・ディスク(いわゆるコンパクト・ディスク)、光学式データディスク(いわゆるデジタル・バーサタイル・ディスク)等のディスク状の光記録媒体が広く普及している。
このようなディスク状光記録媒体はその用途に応じて再生専用型、追記型、及び書換型の3種類に分類され、中でも書換型の光記録媒体は記録済みの情報を消去して書き換えることができるため有用性が高い。書換型の光記録媒体としては、相変化型の光記録媒体が良く知られている。この種の光記録媒体においては、レーザ光を相変化型光記録材料を有する記録層に照射し、光記録材料を結晶質相と非晶質相との間で可逆的に相変化させることにより、記録マークの形成及び消去が行われる。すなわち、記録時には、結晶状態にある記録層にレーザ光を照射して、その照射部分を融点以上に加熱し部分的に溶融した後、その溶融部分を熱拡散により急速に冷却(急冷)して固化することによって非晶質化を行い、記録信号に応じた記録マークを形成する。また、消去時には、非晶質状態にある記録層にレーザ光を照射して、その照射部分を結晶化温度以上に加熱した後、徐々に冷却(徐冷)することによって結晶化を行い、記録マークを消去する。再生時には、再生用のレーザ光(例えば波長が405nmで、記録時よりも低パワのレーザ光)を照射し、非晶質相と結晶質相との間の反射率の差を利用してデータの再生を行う。
Optical recording media that record and reproduce information by laser light irradiation include disk-shaped optical recording media such as digital audio discs (so-called compact discs) and optical data discs (so-called digital versatile discs). Widely used.
Such disc-shaped optical recording media are classified into three types according to their uses: read-only type, write once type, and rewritable type. Among them, rewritable type optical recording media can be rewritten by erasing recorded information. Highly useful because it can. As a rewritable optical recording medium, a phase change optical recording medium is well known. In this type of optical recording medium, laser light is irradiated to a recording layer having a phase change optical recording material, and the optical recording material is reversibly changed between a crystalline phase and an amorphous phase. Recording marks are formed and erased. That is, at the time of recording, the recording layer in a crystalline state is irradiated with a laser beam, and the irradiated portion is heated to a melting point or higher and partially melted, and then the molten portion is rapidly cooled (rapidly cooled) by thermal diffusion. Amorphization is performed by solidification, and a recording mark corresponding to a recording signal is formed. When erasing, the recording layer in an amorphous state is irradiated with laser light, and the irradiated portion is heated to a temperature equal to or higher than the crystallization temperature, and then gradually cooled (slow cooling) to perform crystallization and recording. Erase the mark. During reproduction, data is reproduced using a difference in reflectance between the amorphous phase and the crystalline phase by irradiating a reproduction laser beam (for example, a laser beam having a wavelength of 405 nm and lower power than that during recording). Play back.

また、このようなディスク状光記録媒体を書換型の光記録媒体として使用する場合、上記のように記録層はレーザ光による急速な加熱と冷却が繰り返されるため、記録層の熱的、機械的劣化や、基体に設けられた案内溝の熱変形が生じる。このため、記録層の両面に保護層を設けた多層構造の光記録媒体が採用されている。例えば、金属または半金属の酸化物等を母材とし、この母材に金属元素を記録層側で多くなるように添加した保護層を有するディスク状光記録媒体や、金属のカルコゲン化物と、前記カルコゲン化物と互いに固溶しない化合物とを主成分とした保護層を有し、前記保護層の組成比が厚さ方向に変化し且つ記録層と接する界面付近で前記非固溶化合物の割合が大きいディスク状光記録媒体が提案されている(例えば、特許文献1及び2)。   Further, when such a disk-shaped optical recording medium is used as a rewritable optical recording medium, the recording layer is repeatedly heated and cooled by laser light as described above, and therefore the thermal and mechanical properties of the recording layer are reduced. Deterioration or thermal deformation of the guide groove provided in the base occurs. For this reason, an optical recording medium having a multilayer structure in which protective layers are provided on both sides of the recording layer is employed. For example, a disk-shaped optical recording medium having a protective layer in which a metal or metalloid oxide or the like is used as a base material, and a metal element is added to the base material so as to increase on the recording layer side, a metal chalcogenide, It has a protective layer mainly composed of chalcogenide and a compound that does not dissolve in each other, the composition ratio of the protective layer changes in the thickness direction, and the proportion of the non-solid solution compound is large in the vicinity of the interface contacting the recording layer Disc-shaped optical recording media have been proposed (for example, Patent Documents 1 and 2).

一方、上記のような汎用のディスク状光記録媒体において記録容量を増大させるためには、ディスク自体の大きさを大きくすること、あるいは記録密度を高くすること等が必要となり、装置の大型化やエラー発生を招きやすいという問題がある。そこで、記録媒体の形状として、ディスク状ではなく、記録面積を大きく取ることができるテープ状の光記録媒体の検討が進められている。例えば、高分子基体の一方の面に記録層を、他方の面にバックコート層を有し、前記高分子基体とバックコート層との間に放熱補強層を設けたテープ状光記録媒体が提案されている(例えば、特許文献3)
特開昭62−289937号公報 特開平2−177141号公報 特開2004−118960号公報
On the other hand, in order to increase the recording capacity in the general-purpose disc-shaped optical recording medium as described above, it is necessary to increase the size of the disc itself or to increase the recording density. There is a problem that an error is likely to occur. In view of this, a tape-like optical recording medium capable of taking a large recording area is being studied as the shape of the recording medium, instead of a disk. For example, a tape-like optical recording medium having a recording layer on one surface of a polymer substrate and a backcoat layer on the other surface and a heat radiation reinforcing layer provided between the polymer substrate and the backcoat layer is proposed. (For example, Patent Document 3)
Japanese Patent Laid-Open No. 62-289937 JP-A-2-177141 JP 2004-118960 A

ところが、特許文献3のテープ状光記録媒体は、記録層を保護するための放熱補強層が可撓性支持体の記録層を有する面と反対面のバックコート層との間に設けられているため、記録、消去時に生じる記録層の熱変形を十分に抑制できない。
このため、特許文献1及び2に記載されているようなディスク状光記録媒体で用いられている保護層をテープ状光記録媒体に適用し、記録層の上下両面に保護層を形成することが考えられる。
However, in the tape-shaped optical recording medium of Patent Document 3, the heat radiation reinforcing layer for protecting the recording layer is provided between the surface having the recording layer of the flexible support and the back coat layer on the opposite surface. Therefore, thermal deformation of the recording layer that occurs during recording and erasing cannot be sufficiently suppressed.
For this reason, it is possible to apply a protective layer used in a disk-shaped optical recording medium as described in Patent Documents 1 and 2 to a tape-shaped optical recording medium, and form protective layers on both upper and lower surfaces of the recording layer. Conceivable.

しかしながら、テープ状光記録媒体は記録面積を大きく取ることができ、記録容量を大きくすることができる反面、製造時には大面積の可撓性支持体上に記録層や他の層を積層して形成しなければならない。このため、このようなテープ状光記録媒体を効率よく生産するためには、高速で保護層を形成する必要があるが、特許文献1や特許文献2に記載の従来のディスク状光記録媒体の保護層の形成に用いられているスパッタ法は層形成速度が非常に遅い。また、長尺のテープ状光記録媒体では、出力変動を抑え、高耐久性を得るため厚み及び組成が均一な保護層を長距離に渡って設けることが重要となる。従って、生産効率及び保護層の特性の観点からも上記のようなディスク状光記録媒体で使用されている保護層をテープ状光記録媒体に適用することができない。   However, the tape-shaped optical recording medium can take a large recording area and can increase the recording capacity. On the other hand, it is formed by laminating a recording layer and other layers on a flexible support having a large area at the time of manufacture. Must. For this reason, in order to efficiently produce such a tape-shaped optical recording medium, it is necessary to form a protective layer at a high speed, but the conventional disk-shaped optical recording medium described in Patent Document 1 or Patent Document 2 The sputtering method used for forming the protective layer has a very slow layer formation rate. Further, in a long tape-shaped optical recording medium, it is important to provide a protective layer having a uniform thickness and composition over a long distance in order to suppress output fluctuation and obtain high durability. Therefore, the protective layer used in the disk-shaped optical recording medium as described above cannot be applied to the tape-shaped optical recording medium from the viewpoint of production efficiency and the characteristics of the protective layer.

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、記録層の両面に厚み及び組成がテープ長手方向について均一な保護層を効率よく形成し、もって、出力変動の少ない、耐久性に優れたテープ状光記録媒体を生産効率よく提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above problems, and efficiently forms a protective layer having a uniform thickness and composition in the longitudinal direction of the tape on both sides of the recording layer, thereby having little output fluctuation and excellent durability. Another object is to provide a tape-shaped optical recording medium with high production efficiency.

本発明者等は、第1保護層及び第2保護層を有するテープ状光記録媒体について鋭意検討した結果、テープ状光記録媒体、その製造方法及び製造装置の構成を下記の様にすれば上記目的を達成できることを見いだし、本発明をなすに至った。   As a result of intensive studies on the tape-shaped optical recording medium having the first protective layer and the second protective layer, the present inventors have found that the configuration of the tape-shaped optical recording medium, the production method and the production apparatus is as follows. It has been found that the object can be achieved, and the present invention has been made.

すなわち、本発明は、可撓性支持体の一方の主面に少なくとも反射層、第1保護層、記録層、第2保護層をこの順に有するテープ状光記録媒体であって、前記第1保護層及び前記第2保護層はそれぞれ、Sn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物よりなり、前記第1保護層及び前記第2保護層の金属の酸化物の組成はそれぞれ、厚さ方向において、記録層側で酸素の含有量が少なく、記録層と反対側で酸素の含有量が多く、且つ前記記録層側の酸素の含有量が10at%以上、55at%以下で、前記記録層と反対側の酸素の含有量が66at%以下のテープ状光記録媒体である。   That is, the present invention is a tape-shaped optical recording medium having at least a reflective layer, a first protective layer, a recording layer, and a second protective layer in this order on one main surface of a flexible support, wherein the first protection The layer and the second protective layer are each made of an oxide of at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al, and the metal of the first protective layer and the second protective layer. Each of the oxide compositions has a small oxygen content on the recording layer side in the thickness direction, a large oxygen content on the side opposite to the recording layer, and an oxygen content of 10 at% on the recording layer side. The tape-shaped optical recording medium has a content of oxygen of 55 at% or less and an oxygen content opposite to the recording layer of 66 at% or less.

上記構成によれば、第1保護層及び第2保護層がそれぞれ、Sn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物から形成されているため、上記金属と酸素との反応性蒸着により各保護層を形成することができる。また、上記金属は蒸着時の電子線照射による溶融性に優れるとともに、上記金属は反応性蒸着を行う場合の酸素との反応性に優れる。このため、スパッタ法に比べ保護層を高速に形成することができるとともに、テープ長手方向において、膜厚が均一で、且つ所定の酸素の含有量を均一な組成で有する金属の酸化物からなる保護層が得られる。さらに、前記第1保護層及び第2保護層の金属の酸化物の組成がそれぞれ、厚さ方向において記録層側で酸素の含有量が少なく、記録層と反対側で酸素の含有量が多いため、記録層側には酸素の含有量が少ない金属の酸化物が形成され、記録層と反対側には酸素の含有量が多い金属の酸化物が形成される。このため、記録層側においては、記録、消去時に記録層の熱変形が生じた場合、酸素の含有量が少ない金属の酸化物からなる部分は酸素の含有量の多い酸化物からなる部分に比べて熱膨張係数が記録層に近いため記録層の体積変化に追随でき、保護層と記録層との界面の耐剥離性に優れるとともに、熱伝導率も高いため冷却効果にも優れる。一方、記録層の反対側においては、酸素の含有量の多い酸化物が形成されているため、保護層全体として透過率の低下が抑えられる。また、前記記録層側の酸素の含有量が10at%以上に規制されているため、金属の含有量の増加による透過率の低下を抑制できるとともに、酸素の含有量が55at%以下に規制されているため、保護層と記録層との熱膨張係数の差を小さくでき、酸素の含有量の多い金属の酸化物のみからなる保護層に比べ耐剥離性を十分に向上させることができる。そして、記録層側には酸素の含有量の少ない金属の酸化物を形成し、記録層と反対側に66at%以下の酸素の含有量の多い金属の酸化物を形成するが、両者が一定の範囲に規制されているため、組成の違いによる内部応力が緩和されるとともに、高い透過率を有する保護層が得られる。このため、出力変動の少ない、耐久性に優れたテープ状光記録媒体を効率よく生産することができる。   According to the above configuration, the first protective layer and the second protective layer are each formed of an oxide of at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al. Each protective layer can be formed by reactive vapor deposition of metal and oxygen. In addition, the metal is excellent in meltability by electron beam irradiation during vapor deposition, and the metal is excellent in reactivity with oxygen when reactive vapor deposition is performed. Therefore, the protective layer can be formed at a higher speed than the sputtering method, and the protective layer is made of a metal oxide having a uniform film thickness and a predetermined oxygen content in the tape longitudinal direction. A layer is obtained. Further, the composition of the metal oxides of the first protective layer and the second protective layer is such that the oxygen content is low on the recording layer side in the thickness direction and the oxygen content is high on the side opposite to the recording layer. A metal oxide with a low oxygen content is formed on the recording layer side, and a metal oxide with a high oxygen content is formed on the side opposite to the recording layer. Therefore, on the recording layer side, when thermal deformation of the recording layer occurs during recording and erasing, the portion made of a metal oxide with a low oxygen content is compared with the portion made of an oxide with a high oxygen content. Since the thermal expansion coefficient is close to that of the recording layer, it can follow the volume change of the recording layer, and has excellent peeling resistance at the interface between the protective layer and the recording layer, and also has excellent cooling effect due to high thermal conductivity. On the other hand, since the oxide having a high oxygen content is formed on the opposite side of the recording layer, a decrease in the transmittance of the entire protective layer can be suppressed. In addition, since the oxygen content on the recording layer side is regulated to 10 at% or more, a decrease in transmittance due to an increase in the metal content can be suppressed, and the oxygen content is regulated to 55 at% or less. Therefore, the difference in thermal expansion coefficient between the protective layer and the recording layer can be reduced, and the peel resistance can be sufficiently improved as compared with a protective layer made of only a metal oxide having a high oxygen content. Then, a metal oxide with a low oxygen content is formed on the recording layer side, and a metal oxide with a high oxygen content of 66 at% or less is formed on the side opposite to the recording layer. Since it is regulated by the range, the internal stress due to the difference in composition is relieved and a protective layer having high transmittance can be obtained. For this reason, it is possible to efficiently produce a tape-like optical recording medium with little output fluctuation and excellent durability.

上記金属の酸化物は、Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物が好ましい。Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物は、蒸着時の電子線照射で優れた溶融性を示すとともに、短波長のレーザ光に対して高い透過率を示すため、上記構成によれば、高密度記録可能なテープ状光記録媒体が得られる。   The metal oxide is preferably an oxide of at least one metal selected from the group consisting of Ti, Si, Zr, and Al. An oxide of at least one metal selected from the group consisting of Ti, Si, Zr, and Al exhibits excellent meltability when irradiated with an electron beam and has a high transmittance for short-wavelength laser light. Therefore, according to the above configuration, a tape-shaped optical recording medium capable of high-density recording can be obtained.

上記第1保護層及び第2保護層の金属の酸化物の組成は、厚さ方向において、連続的に記録層側に向かって酸素の含有量が減少することが好ましい。上記構成によれば、金属の酸化物の組成が、厚さ方向において、記録層側に向かって連続的に酸素の含有量が減少するため、組成の違いにより発生する内部応力をさらに緩和することができる。   In the composition of the metal oxides of the first protective layer and the second protective layer, it is preferable that the oxygen content decreases continuously toward the recording layer side in the thickness direction. According to the above configuration, since the composition of the metal oxide continuously decreases in the thickness direction toward the recording layer, the internal stress generated by the difference in composition can be further relaxed. Can do.

また、上記第1保護層及び第2保護層の金属の酸化物の組成は、厚さ方向において、一定領域で記録層側に向かって酸素の含有量が連続的に減少することが好ましい。上記構成によれば、一定領域で組成の相違による内部応力を緩和できるとともに、記録層の反対側では酸素の含有量の多い金属の酸化物を一定量形成できるため、さらに保護層での透過率の低下が抑えられる。   Further, in the composition of the metal oxides of the first protective layer and the second protective layer, it is preferable that the oxygen content continuously decreases toward the recording layer in a certain region in the thickness direction. According to the above configuration, the internal stress due to the difference in composition can be relieved in a certain region, and a certain amount of metal oxide with a high oxygen content can be formed on the opposite side of the recording layer. Can be prevented from decreasing.

さらに、本発明は、上記に記載のテープ状光記録媒体の製造方法であって、Sn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の蒸気流に、酸素ガスを吹出して、前記金属と前記酸素とを反応させながら、前記金属の酸化物を蒸着することにより前記第1保護層と前記第2保護層とをそれぞれ形成するテープ状光記録媒体の製造方法である。   Furthermore, the present invention is a method for producing a tape-shaped optical recording medium as described above, wherein an oxygen gas is applied to a vapor stream of at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al. In the method of manufacturing a tape-shaped optical recording medium, the first protective layer and the second protective layer are formed by depositing an oxide of the metal while allowing the metal and oxygen to react with each other. is there.

上記構成によれば、Sn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属は蒸着時の電子線照射による溶融性に優れるとともに、反応性蒸着を行う場合の酸素との反応性に優れるため、上記金属の蒸気流に酸素を吹出すことにより、テープの長手方向において膜厚及び組成の均一な金属の酸化物からなる保護層を形成することができる。   According to the above configuration, at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al is excellent in meltability by electron beam irradiation during vapor deposition, and oxygen in the case of reactive vapor deposition. Therefore, a protective layer made of a metal oxide having a uniform film thickness and composition in the longitudinal direction of the tape can be formed by blowing oxygen into the metal vapor stream.

また、本発明は、上記のテープ状光記録媒体の第1保護層を形成するための製造装置であって、真空チャンバと、可撓性支持体を搬送する搬送手段とを有し、前記真空チャンバは、前記可撓性支持体がドラム上で搬送される第1冷却ドラムと、前記第1冷却ドラムに対してSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第1蒸気流を射出する第1蒸気流発生手段と、前記可撓性支持体の搬送方向に対して上流側から前記第1蒸気流に酸素ガスを吹出す第1酸素ガス吹出し手段と、を備えるテープ状光記録媒体の製造装置である。   The present invention is also a manufacturing apparatus for forming the first protective layer of the tape-shaped optical recording medium, comprising a vacuum chamber and a transport means for transporting a flexible support, wherein the vacuum The chamber includes at least one selected from the group consisting of a first cooling drum on which the flexible support is conveyed on a drum, and Sn, Ti, Si, Zr, and Al with respect to the first cooling drum. First vapor flow generating means for injecting a first vapor flow of metal, and first oxygen gas blowing means for blowing oxygen gas from the upstream side to the first vapor flow with respect to the conveying direction of the flexible support; Is a manufacturing apparatus of a tape-shaped optical recording medium.

上記構成によれば、第1蒸気流発生手段から射出されたSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第1蒸気流に、前記可撓性支持体の搬送方向に対して上流側から酸素ガスを吹出す第1酸素ガス吹出し手段を設けたから、蒸気流の上流側では酸素の含有量の多い状態で金属と酸素とが反応し、蒸気流の下流側では酸素の含有量の少ない状態で金属と酸素とが反応する。このため、記録層側で酸素の含有量の少ない金属の酸化物が蒸着され、記録層と反対側で酸素の含有量の多い金属の酸化物が蒸着された第1保護層が得られる。   According to the above-described configuration, the flexible support is applied to the first vapor flow of at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al injected from the first vapor flow generation means. Since the first oxygen gas blowing means for blowing oxygen gas from the upstream side with respect to the transport direction of the gas is provided, the metal and oxygen react with each other in a state where the oxygen content is high on the upstream side of the steam flow, and the downstream of the steam flow. On the side, the metal and oxygen react with a low oxygen content. For this reason, a metal oxide having a low oxygen content is deposited on the recording layer side, and a first protective layer is obtained in which a metal oxide having a high oxygen content is deposited on the side opposite to the recording layer.

またさらに、本発明は、上記のテープ状光記録媒体の第2保護層を形成するための製造装置であって、真空チャンバと、可撓性支持体を搬送する搬送手段と、を有し、前記真空チャンバは、前記可撓性支持体がドラム上で搬送される第2冷却ドラムと、前記第2冷却ドラムに対してSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第2蒸気流を射出する第2蒸気流発生手段と、前記可撓性支持体の搬送方向に対して下流側から前記第2蒸気流に酸素ガスを吹出す第2酸素ガス吹出し手段と、を備えるテープ状光記録媒体の製造装置である。   Furthermore, the present invention is a manufacturing apparatus for forming the second protective layer of the tape-shaped optical recording medium, comprising a vacuum chamber and a conveying means for conveying a flexible support, The vacuum chamber is at least one selected from the group consisting of a second cooling drum on which the flexible support is conveyed on a drum, and Sn, Ti, Si, Zr, and Al with respect to the second cooling drum. Second steam flow generating means for injecting a second steam flow of a metal of the second type, and a second oxygen gas blow-off for blowing oxygen gas into the second steam flow from the downstream side with respect to the conveying direction of the flexible support And a tape-shaped optical recording medium manufacturing apparatus.

上記構成によれば、第2蒸気流発生手段から射出されたSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第2蒸気流に、前記可撓性支持体の搬送方向に対して下流側から酸素ガスを吹出す第2酸素ガス吹出し手段を設けたから、蒸気流の上流側では酸素の含有量の少ない状態で金属と酸素とが反応し、蒸気流の下流側で酸素の含有量の多い状態で金属と酸素とが反応する。このため、記録層側で酸素の含有量の少ない金属の酸化物が蒸着され、記録層と反対側で酸素の含有量の多い金属の酸化物が蒸着された第2保護層が得られる。   According to the above-described configuration, the flexible support is applied to the second vapor flow of at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al injected from the second vapor flow generation means. Since the second oxygen gas blowing means for blowing oxygen gas from the downstream side with respect to the conveying direction is provided, the metal and oxygen react in a state where the oxygen content is low on the upstream side of the steam flow, and the downstream of the steam flow. On the side, the metal and oxygen react with a high oxygen content. Therefore, a second protective layer is obtained in which a metal oxide having a low oxygen content is deposited on the recording layer side and a metal oxide having a high oxygen content is deposited on the side opposite to the recording layer.

そして、本発明は、上記のテープ状光記録媒体の第1保護層及び第2保護層を形成するための製造装置であって、第1保護層形成室と第2保護層形成室とを備える真空チャンバと、可撓性支持体を搬送する搬送手段とを有し、前記第1保護層形成室は、前記可撓性支持体がドラム上で搬送される第1冷却ドラムと、前記第1冷却ドラムに対してSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第1蒸気流を射出する第1蒸気流発生手段と、前記可撓性支持体の搬送方向に対して上流側から前記第1蒸気流に酸素ガスを吹出す第1酸素ガス吹出し手段と、を備え、前記第2保護層形成室は、前記可撓性支持体がドラム上で搬送される第2冷却ドラムと、前記第2冷却ドラムに対してSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第2蒸気流を射出する第2蒸気流発生手段と、前記可撓性支持体の搬送方向に対して下流側から前記第2蒸気流に酸素ガスを吹出す第2酸素ガス吹出し手段と、を備えるテープ状光記録媒体の製造装置である。   And this invention is a manufacturing apparatus for forming the 1st protective layer and 2nd protective layer of said tape-shaped optical recording medium, Comprising: A 1st protective layer formation chamber and a 2nd protective layer formation chamber are provided. The first protective layer forming chamber includes a first cooling drum on which the flexible support is transported on the drum, and the first cooling layer. First vapor flow generating means for injecting a first vapor flow of at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al to the cooling drum, and transporting the flexible support First oxygen gas blowing means for blowing oxygen gas into the first vapor flow from the upstream side with respect to the direction, and the second protective layer forming chamber has the flexible support conveyed on the drum. A second cooling drum, and Sn, Ti, Si, Zr, Second vapor flow generating means for injecting a second vapor flow of at least one metal selected from the group consisting of Al and Al, and the second vapor flow from the downstream side with respect to the conveying direction of the flexible support. And a second oxygen gas blowing means for blowing oxygen gas.

上記構成によれば、記録層側で酸素の含有量の少ない金属の酸化物が蒸着され、記録層と反対側で酸素の含有量の多い金属の酸化物が蒸着される第1保護層及び第2保護層を形成するための単一の製造装置を提供できる。このため、さらにテープ状光記録媒体の生産効率を向上することができる。   According to the above configuration, the first protective layer in which the metal oxide having a low oxygen content is vapor-deposited on the recording layer side and the metal oxide having a high oxygen content is vapor-deposited on the opposite side to the recording layer. A single manufacturing apparatus for forming two protective layers can be provided. For this reason, the production efficiency of the tape-shaped optical recording medium can be further improved.

本発明の上記テープ状光記録媒体によれば、テープ長手方向において、均一な膜厚で、金属の酸化物の組成が均一な第1保護層及び第2保護層を効率よく形成することができる。従って、出力変動の少ない、耐久性に優れたテープ状光記録媒体を効率よく生産することができる。また、本発明の上記テープ状光記録媒体の製造方法によれば、反応性蒸着により第1保護層及び第2保護層が形成されるため、効率よく上記テープ状光記録媒体を製造することができる。さらに、本発明の上記テープ状光記録媒体の製造装置によれば、所定の組成を有する金属の酸化物からなる第1保護層及び第2保護層を効率よく製造することができる。   According to the tape-shaped optical recording medium of the present invention, it is possible to efficiently form the first protective layer and the second protective layer having a uniform film thickness and a uniform metal oxide composition in the longitudinal direction of the tape. . Therefore, it is possible to efficiently produce a tape-like optical recording medium with little output fluctuation and excellent durability. Moreover, according to the method for producing the tape-shaped optical recording medium of the present invention, the first protective layer and the second protective layer are formed by reactive vapor deposition, and therefore the tape-shaped optical recording medium can be produced efficiently. it can. Furthermore, according to the apparatus for manufacturing a tape-shaped optical recording medium of the present invention, the first protective layer and the second protective layer made of a metal oxide having a predetermined composition can be efficiently manufactured.

図1は、本発明の実施の形態に係るテープ状光記録媒体の一例を模式的に示す断面図である。このテープ状光記録媒体1は、可撓性支持体2の一方の主面上にトラッキング層3、反射層4、第1保護層5、記録層6、及び第2保護層7が順に積層形成されており、可撓性支持体2の他方の主面上にバック層8が形成されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a tape-shaped optical recording medium according to an embodiment of the present invention. In this tape-shaped optical recording medium 1, a tracking layer 3, a reflective layer 4, a first protective layer 5, a recording layer 6, and a second protective layer 7 are sequentially laminated on one main surface of a flexible support 2. The back layer 8 is formed on the other main surface of the flexible support 2.

本実施の形態のテープ状光記録媒体1は、第1保護層5及び第2保護層7がそれぞれ、Sn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物よりなり、前記第1保護層5及び第2保護層7の金属の酸化物の組成はそれぞれ、厚さ方向において、記録層6側で酸素の含有量が少なく、記録層6と反対側で酸素の含有量が多く、且つ前記記録層6側の酸素の含有量が10at%以上、55at%以下であり、前記記録層6と反対側の酸素の含有量が66at%以下であることを特徴とする。   In the tape-shaped optical recording medium 1 of the present embodiment, the first protective layer 5 and the second protective layer 7 are each oxidized with at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al. The composition of the metal oxides of the first protective layer 5 and the second protective layer 7 has a small oxygen content on the recording layer 6 side in the thickness direction, and on the side opposite to the recording layer 6. The oxygen content is large, the oxygen content on the recording layer 6 side is 10 at% or more and 55 at% or less, and the oxygen content on the side opposite to the recording layer 6 is 66 at% or less. And

本実施の形態における保護層形成のために、まず高速で層形成が可能な方法について検討が行われた。すなわち、従来のディスク状光記録媒体の保護層形成のために使用されているスパッタ法は層形成速度が5m/min以下と低速である。また、スパッタ法よりも高速で保護層を形成可能な蒸着法も検討されたが、単一母材料を用いる蒸着法では、金属酸化物を母材料に用いる必要がある。しかしながら、金属酸化物は電気抵抗が高いために電子線がアースに流れ難く、母材料に蓄積された電荷によって母材料が飛散するために電子銃のパワを上げることが困難であり、スパッタ法と同程度の5m/min以下の層形成速度までしか利用できないことが確認された。従って、スパッタ法や金属酸化物を単一母材料として用いた蒸着法では長尺で層形成を行なう必要があるテープ状光記録媒体には不適である。このため、金属を母材料とし、金属と酸素とを反応させながら蒸着を行う反応性蒸着法であれば、高速で金属の酸化物からなる保護層を均一に形成できるとの観点から検討が行われた。   In order to form the protective layer in this embodiment, first, a method capable of forming a layer at high speed was studied. That is, the sputtering method used for forming the protective layer of the conventional disk-shaped optical recording medium has a low layer formation speed of 5 m / min or less. Further, an evaporation method capable of forming a protective layer at a higher speed than the sputtering method has been studied. However, in the evaporation method using a single base material, it is necessary to use a metal oxide as the base material. However, since metal oxide has high electrical resistance, it is difficult for the electron beam to flow to the ground, and it is difficult to increase the power of the electron gun because the base material is scattered by the charge accumulated in the base material. It was confirmed that only a layer formation speed of about 5 m / min or less could be used. Therefore, the sputtering method or the vapor deposition method using a metal oxide as a single base material is not suitable for a tape-like optical recording medium that requires a long layer formation. For this reason, the reactive vapor deposition method in which metal is used as a base material and vapor deposition is performed while reacting metal and oxygen is studied from the viewpoint that a protective layer made of metal oxide can be uniformly formed at high speed. It was broken.

反応性蒸着法により保護層を形成する場合、ルツボ内の金属に電子線が照射されるが、金属の溶融状態が不均一な場合、電子線が照射された一部のみで溶融が進行する。このため、ルツボ内で蒸発による金属の減少割合が電子線の照射部分及びその近傍と、他の部分とで異なってくる。この結果、ルツボ内の蒸発源の位置や温度が変動して均一な保護層が得られないこととなる。従って、反応性蒸着法ではルツボ内で金属が均一に溶融する必要があり、この観点から従来光ディスク状光記録媒体の保護層に使用されている種々の金属について溶融性を検討した結果、Sn,Ti,Si,Zr,Al,及びInであれば、電子線照射によって均一に溶融されることが確認された。一方、従来スパッタ法で使用されている、ZnあるいはCr等の金属は、反応性蒸着法に適用した場合、電子線が照射されている部分及びその近傍のみが溶融し、他の部分では溶融が不完全となる。   When the protective layer is formed by the reactive vapor deposition method, the metal in the crucible is irradiated with an electron beam. However, when the molten state of the metal is not uniform, melting proceeds only in a part irradiated with the electron beam. For this reason, the reduction rate of the metal due to evaporation in the crucible differs between the electron beam irradiated portion and its vicinity and other portions. As a result, the position and temperature of the evaporation source in the crucible vary and a uniform protective layer cannot be obtained. Accordingly, in the reactive vapor deposition method, the metal needs to be uniformly melted in the crucible. From this point of view, as a result of examining the meltability of various metals conventionally used for the protective layer of the optical disk-shaped optical recording medium, Sn, It has been confirmed that Ti, Si, Zr, Al, and In are uniformly melted by electron beam irradiation. On the other hand, when metals such as Zn or Cr used in the conventional sputtering method are applied to the reactive vapor deposition method, only the portion irradiated with the electron beam and the vicinity thereof melt and the other portions melt. Become imperfect.

図2は金属の溶融性を示す図であり、図2(a)は、Alの溶融、冷却後の状態を示す写真、図2(b)は、Znの溶融、冷却後の状態を示す写真である。図2(a)及び(b)に示されるように、Alは表面全体が滑らかに溶融されているのに対して、Znは一部のみが溶融されていることが分かる。このため、Zn等のように不均一な溶融状態を示す金属を反応性蒸着法に適用した場合、均一な膜厚の保護層が得られない。   2A and 2B are diagrams showing the meltability of a metal. FIG. 2A is a photograph showing a state after melting and cooling of Al, and FIG. 2B is a photograph showing a state after melting and cooling of Zn. It is. As shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), it can be seen that the entire surface of Al is smoothly melted, whereas only a part of Zn is melted. For this reason, when the metal which shows a non-uniform molten state like Zn etc. is applied to the reactive vapor deposition method, the protective layer of a uniform film thickness cannot be obtained.

また、上記金属と酸素とを反応させながら金属の酸化物を反応性蒸着法により形成する場合、母材料である金属と酸素との反応性も重要となる。すなわち、酸素との反応性に劣る金属の場合、保護層中に酸素が十分に取り込まれず、金属リッチな組成を有する部分が生じ、その部分で保護層の透過率の低下を招きやすい。このため、記録再生時に上記部分でレーザ光の吸収が大きくなり、出力が低下する傾向がある。前記観点から上記溶融性に優れた各金属を母材料として、これらの金属の蒸気流に酸素ガスを吹出して、金属と酸素とを反応させながら蒸着を行った結果、Sn,Ti,Si,Zr,及びAlの金属であれば、金属リッチな組成となることなく透過率に優れた金属の酸化物からなる保護層が得られることが確認された。   In addition, when a metal oxide is formed by a reactive vapor deposition method while reacting the metal and oxygen, the reactivity between the base metal and oxygen is also important. That is, in the case of a metal inferior in reactivity with oxygen, oxygen is not sufficiently taken into the protective layer, and a portion having a metal-rich composition is generated, and the transmittance of the protective layer tends to be lowered at that portion. For this reason, at the time of recording / reproducing, the absorption of the laser beam is increased at the above portion, and the output tends to decrease. From the above viewpoint, each metal having excellent meltability is used as a base material, and oxygen gas is blown into the vapor flow of these metals, and vapor deposition is performed while reacting the metal and oxygen. As a result, Sn, Ti, Si, Zr , And Al metal, it was confirmed that a protective layer made of a metal oxide having excellent transmittance was obtained without a metal-rich composition.

図3はこの検討結果を示すものであり、反応性蒸着法により形成した各種金属の酸化物からなる保護層のレーザ光波長と透過率との関係を示す図である。なお、検討は条件を合わせるために基板としてガラス基板を用い、真空チャンバ内を5×10−3Paまで真空排気し、電子銃パワを1.6kWまで少しずつ上昇させながら母材料の溶かし込みを行なった後、真空度1×10−1Paまで酸素ガスを装置内に導入して、膜厚200nmの各金属の酸化物からなる膜をガラス基板上に形成した試料を用いて行ったものである。図3に示されるように、Sn,Ti,Si,Zr,及びAlの酸化物は600nm以上の波長で優れた透過率を示し、特にTi,Si,Zr,及びAlの酸化物は長波長から短波長のいずれの領域においても優れた透過性を示すことが確認された。これに対して、Inは溶融性には優れていたが、図3に示されるように波長依存特性が大きく、特に短波長領域で透過率が低下する。これはInが酸素との反応性に劣り、透過率の低い金属リッチな保護層が形成されるためと考えられる。このため、このような反応性に劣る金属を母材料とすると、テープ状光記録媒体のような長距離の層形成が必要な媒体では、低透過率部分が形成され、高密度記録のために例えば650nm以下の短波長のレーザ光が用いられる記録再生装置においては、十分な出力が得られないこととなる。 FIG. 3 shows the results of this study, and is a diagram showing the relationship between the laser beam wavelength and the transmittance of a protective layer made of various metal oxides formed by reactive vapor deposition. In order to match the conditions, a glass substrate was used as the substrate, the inside of the vacuum chamber was evacuated to 5 × 10 −3 Pa, and the electron gun power was gradually increased to 1.6 kW while the mother material was dissolved. After performing, it was performed using the sample which introduce | transduced oxygen gas in the apparatus to the vacuum degree of 1 * 10 < -1 > Pa, and formed the film | membrane which consists of an oxide of each metal with a film thickness of 200 nm on the glass substrate. is there. As shown in FIG. 3, the oxides of Sn, Ti, Si, Zr, and Al exhibit excellent transmittance at wavelengths of 600 nm or more. In particular, the oxides of Ti, Si, Zr, and Al have long wavelengths. It was confirmed that excellent transmittance was exhibited in any short wavelength region. In contrast, In was excellent in meltability, but has a large wavelength dependence characteristic as shown in FIG. 3, and the transmittance is lowered particularly in a short wavelength region. This is presumably because In is inferior in reactivity with oxygen and a metal-rich protective layer with low transmittance is formed. For this reason, when such a metal having poor reactivity is used as a base material, a medium having a long distance such as a tape-like optical recording medium has a low transmittance portion, and is used for high density recording. For example, in a recording / reproducing apparatus using a laser beam having a short wavelength of 650 nm or less, sufficient output cannot be obtained.

上記のようにして、反応性蒸着法により金属の酸化物からなる保護層を形成するための金属種が決定されたが、単一組成の金属の酸化物のみからなる保護層では記録層の熱変形に起因する耐剥離性あるいは透過率が十分得られず、テープ状光記録媒体として使用する場合の耐久性及び出力のいずれも十分改善されない。この理由は、記録、消去時に記録層の熱変形が生じた場合、保護層の記録層側ではその変形への追随性や冷却効果等が要求されるのに対し、保護層全体としては高い透過率が要求されるためである。上記観点から、第1保護層及び第2保護層の金属の酸化物の組成について検討した結果、厚み方向において、記録層側と記録層と反対側で酸素の含有量の異なる金属の酸化物の組成とすればよいことが見出された。すなわち、記録層側に酸素の含有量が少ない金属の酸化物を形成すれば、金属の含有量の多い金属の酸化物が記録層側に形成されるため、記録、消去の多数回の繰り返しによる耐久性の低下、具体的には、レーザ光による急速な加熱・冷却の繰り返し時の熱膨張係数の違いに起因して発生する応力による記録層と保護層との界面での剥離を防止することができる。一方、記録層と反対側に酸素の含有量の多い金属の酸化物を形成すれば、透過率の低下が抑えられた保護層が得られる。   As described above, the metal species for forming the protective layer made of the metal oxide was determined by the reactive vapor deposition method. However, in the protective layer made only of the metal oxide of the single composition, the heat of the recording layer was determined. Peeling resistance or transmittance due to deformation cannot be sufficiently obtained, and neither durability nor output when used as a tape-shaped optical recording medium is sufficiently improved. The reason for this is that when the recording layer undergoes thermal deformation during recording and erasing, the recording layer side of the protective layer is required to follow the deformation and have a cooling effect. This is because a rate is required. From the above viewpoint, as a result of examining the composition of the metal oxides of the first protective layer and the second protective layer, the metal oxides having different oxygen contents on the recording layer side and the opposite side of the recording layer in the thickness direction It has been found that the composition is sufficient. That is, if a metal oxide with a low oxygen content is formed on the recording layer side, a metal oxide with a high metal content is formed on the recording layer side. Deterioration in durability, specifically, preventing peeling at the interface between the recording layer and the protective layer due to stress generated due to the difference in thermal expansion coefficient when repeated rapid heating and cooling with laser light Can do. On the other hand, if a metal oxide having a high oxygen content is formed on the side opposite to the recording layer, a protective layer in which a decrease in transmittance is suppressed can be obtained.

そして、上記保護層の金属の酸化物の組成において、耐久性と透過率とを両立させるため、保護層全体の透過率、記録層側での記録、消去時における記録層の変形への追随性、及び組成の異なる金属の酸化物の熱膨張係数の違いに起因する内部応力の緩和の観点から検討した結果、各保護層における記録層側及び記録層と反対側の酸素の含有量をそれぞれ一定範囲に規制すればよいことが見出された。すなわち、前記金属の酸化物の組成において、記録層側の酸素の含有量が10at%以上、好ましくは15at%以上、55at%以下であれば、透過率の低下が抑えられ、記録層の変形に十分に追随可能な保護層が得られる。10at%未満では、金属の含有量が多くなりすぎ、透過率が低下し、一方、55at%より多いと、酸素を多く含む金属の酸化物が記録層側に形成されるため、記録層と保護層との熱膨張係数の差が大きくなり、耐剥離性が低下する。また、記録層と反対側の酸素の含有量が66at%以下であれば、組成の違いによる内部応力が緩和されるとともに、高い透過率を有する保護層が得られる。なお、記録層と反対側の酸素の含有量は、記録層側の酸素の含有量より多ければその下限は特に限定されないが、好ましくは50at%以上であり、より好ましくは60at%より上である。   And in the composition of the metal oxide of the protective layer, in order to achieve both durability and transmittance, the transmittance of the entire protective layer, recording on the recording layer side, followability to deformation of the recording layer during erasure As a result of examination from the viewpoint of relaxation of internal stress caused by differences in thermal expansion coefficients of metal oxides having different compositions, the oxygen content on the recording layer side and the opposite side of the recording layer in each protective layer is constant. It was found that the range should be regulated. That is, in the composition of the metal oxide, if the oxygen content on the recording layer side is 10 at% or more, preferably 15 at% or more and 55 at% or less, a decrease in transmittance can be suppressed and deformation of the recording layer can be prevented. A sufficiently followable protective layer is obtained. If it is less than 10 at%, the metal content becomes too high and the transmittance is lowered. On the other hand, if it exceeds 55 at%, a metal oxide containing a large amount of oxygen is formed on the recording layer side. The difference in coefficient of thermal expansion from the layer increases, and the peel resistance decreases. Further, if the oxygen content on the side opposite to the recording layer is 66 at% or less, the internal stress due to the difference in composition is alleviated and a protective layer having high transmittance can be obtained. The lower limit of the oxygen content on the side opposite to the recording layer is not particularly limited as long as it is higher than the oxygen content on the recording layer side, but it is preferably 50 at% or more, more preferably above 60 at%. .

また、上記第1保護層及び第2保護層の金属の酸化物の組成は、厚さ方向において、記録層側に向かって連続的に酸素の含有量が減少することが好ましい。上記組成を有する金属の酸化物からなる保護層であれば、厚さ方向において、記録層側に向かって連続的に酸素の含有量が減少するため、組成の違いにより発生する内部応力をさらに緩和することができる。また、記録層と反対側から一定領域のみで記録層側に向かって酸素の含有量が連続的に減少するようにしてもよい。この場合、記録層の反対側では酸素の含有量の多い金属の酸化物を一定厚さ形成できるため、さらに高い透過率を有する保護層が得られる。なお、第1保護層及び第2保護層の厚みは、特に限定されるものではないが、それぞれ10〜80nmが好ましい。   Further, in the composition of the metal oxides of the first protective layer and the second protective layer, it is preferable that the oxygen content continuously decreases toward the recording layer side in the thickness direction. If the protective layer is made of a metal oxide having the above composition, the oxygen content continuously decreases in the thickness direction toward the recording layer side, so the internal stress generated by the difference in composition is further alleviated. can do. Further, the oxygen content may be continuously decreased from the side opposite to the recording layer toward the recording layer only in a certain region. In this case, a metal oxide having a high oxygen content can be formed at a constant thickness on the opposite side of the recording layer, so that a protective layer having a higher transmittance can be obtained. In addition, although the thickness of a 1st protective layer and a 2nd protective layer is not specifically limited, 10-80 nm is respectively preferable.

本実施の形態のテープ状光記録媒体において、可撓性支持体としては、従来公知の透明な可撓性高分子材料を用いることができる。具体的には、例えば、磁気テープに用いられるポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド等の適度の強度と平滑性を備えたフィルムが挙げられる。可撓性支持体の厚さとしては3〜10μmが好ましい。3μm以上の厚みを有する可撓性支持体であれば、テープ強度が高くなり、信頼性を向上できるとともに、10μm以下の厚みを有する可撓性支持体であれば、テープの容積を低減でき、コンピュータテープ等で使用される記録容量の大きなテープ状光記録媒体が得られる。   In the tape-shaped optical recording medium of the present embodiment, a conventionally known transparent flexible polymer material can be used as the flexible support. Specifically, for example, films having appropriate strength and smoothness such as polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate used for magnetic tapes, polyamides and polyimides can be mentioned. The thickness of the flexible support is preferably 3 to 10 μm. If it is a flexible support having a thickness of 3 μm or more, the tape strength can be increased and the reliability can be improved, and if it is a flexible support having a thickness of 10 μm or less, the volume of the tape can be reduced. A tape-like optical recording medium having a large recording capacity used for a computer tape or the like can be obtained.

記録層としては、公知の光記録材料が使用できる。具体的には、例えば、Ge−Te、Ge−Sb−Te、In−Sb−Te、Bi−Ge−Te等の無機光記録材料が挙げられる。これらの光記録材料は単独で、または混合あるいは化合させて用いることができる。記録層は、スパッタ法により形成することが好ましい。このような2成分系あるいは3成分系の金属を用いて蒸着法で記録層を形成する場合、それぞれの金属元素の飽和蒸気圧の違いによって蒸発速度が異なり、所望の成分比率の層を安定して得るのが困難となる傾向にある。記録層の厚みは、通常、3〜20nmである。   As the recording layer, known optical recording materials can be used. Specifically, inorganic optical recording materials, such as Ge-Te, Ge-Sb-Te, In-Sb-Te, Bi-Ge-Te, are mentioned, for example. These optical recording materials can be used singly or in combination or combination. The recording layer is preferably formed by sputtering. When a recording layer is formed by vapor deposition using such a two-component or three-component metal, the evaporation rate varies depending on the saturation vapor pressure of each metal element, and the layer having a desired component ratio is stabilized. Tend to be difficult to obtain. The thickness of the recording layer is usually 3 to 20 nm.

反射層としては、反射率が高く、化学的に安定な、Al,Ti,V,Cr,Co,Ni,Cu,Zn,Zr,Nb,Mo,Ta,W,Pt等の金属またはこれらの合金を使用することができる。これらの中でもAl,Ti,Cr,Zn等は材料コストの点でも優れている。このような反射層は、蒸着法により形成することが好ましい。反射層の厚みは、通常、20〜150nmである。   As the reflective layer, highly reflective and chemically stable metals such as Al, Ti, V, Cr, Co, Ni, Cu, Zn, Zr, Nb, Mo, Ta, W, and Pt, or alloys thereof Can be used. Among these, Al, Ti, Cr, Zn and the like are excellent in terms of material cost. Such a reflective layer is preferably formed by a vapor deposition method. The thickness of the reflective layer is usually 20 to 150 nm.

トラッキング層は、従来公知の放射線硬化型樹脂を用いて形成することができる。中でも、硬化性が良好な2官能以上の放射線硬化型樹脂が好ましい。具体的には、例えば、アクリル酸エステル、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル、ビニルエステル類等が挙げられる。トラッキング層は、例えば搬送される可撓性支持体に放射線硬化型樹脂組成物を塗布し、樹脂層を形成した後、表面上に凹凸形状を有するエンボスロールと支持ロールとの間に可撓性支持体を搬送し、可撓性支持体に形成された樹脂層がエンボスロールに押し当てられた状態で、活性エネルギー線を照射し、樹脂層を賦型、硬化させて製造することが好ましい。トラッキング層の厚みは、通常、0.1〜5μmである。   The tracking layer can be formed using a conventionally known radiation curable resin. Of these, a bifunctional or higher radiation curable resin having good curability is preferable. Specific examples include acrylic acid esters, acrylamides, methacrylic acid esters, methacrylic acid amides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters and the like. The tracking layer is flexible between an embossing roll having a concavo-convex shape on a surface and a support roll after, for example, applying a radiation curable resin composition to a flexible support to be conveyed to form a resin layer. It is preferable that the support is transported and the resin layer formed on the flexible support is pressed against the embossing roll and irradiated with active energy rays, and the resin layer is shaped and cured. The thickness of the tracking layer is usually 0.1 to 5 μm.

本実施の形態のテープ状光記録媒体は、上記の各層以外に、必要に応じて、記録層と反射層との間にさらに別の保護層を設けてもよい。   In the tape-shaped optical recording medium of the present embodiment, in addition to the above layers, another protective layer may be provided between the recording layer and the reflective layer as necessary.

また、テープ状光記録媒体は上記のような各層を可撓性支持体上に形成した後、可撓性支持体の記録層等を設けた面と反対面にバック層を形成することが好ましい。バック層は従来公知のいかなる形態のものであってもよく、例えばCVD法、スパッタ法、蒸着法等の従来公知の薄膜形成プロセスにより形成したり、カーボンブラックを樹脂中に分散させたものを塗布によりバックコート層として形成してもよい。また、バック層にはレーザ照射等でバック層を削り、他の部分と反射率の異なるパターン部分を形成し、サーボトラックを形成してもよい、サーボトラックを設けることにより、記録、再生トラックの正確なトレースが可能になりエラーの少ない記録再生ができる。   In the tape-shaped optical recording medium, it is preferable to form the back layer on the surface opposite to the surface on which the recording layer or the like of the flexible support is provided after each layer as described above is formed on the flexible support. . The back layer may be in any conventionally known form, for example, formed by a conventionally known thin film forming process such as CVD, sputtering, or vapor deposition, or coated with carbon black dispersed in a resin. May be formed as a backcoat layer. In addition, the back layer may be scraped by laser irradiation or the like to form a pattern portion having a reflectance different from that of other portions, and a servo track may be formed. Accurate tracing is possible, and recording and playback with few errors can be performed.

次に、本実施の形態のテープ状光記録媒体を製造するための製造装置について説明する。図4は、本実施の形態に係るテープ状光記録媒体の製造装置の一例を示す概略構成図である。なお、この実施の形態の製造装置40は、真空チャンバ41内に、反射層形成室50、第1保護層形成室60、記録層形成室70、第2保護層形成室80、及びフィルム搬送室90を備えているが、これら各層は必ずしも同一製造装置内で連続して形成する必要はなく、それぞれ単独の層を形成するための製造装置としてもよい。ただし、生産効率、塵埃の影響等を考慮すれば、単一装置内で全層を形成することが好ましい。   Next, a manufacturing apparatus for manufacturing the tape-shaped optical recording medium of the present embodiment will be described. FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing an example of a tape-shaped optical recording medium manufacturing apparatus according to the present embodiment. The manufacturing apparatus 40 of this embodiment includes a reflective layer forming chamber 50, a first protective layer forming chamber 60, a recording layer forming chamber 70, a second protective layer forming chamber 80, and a film transfer chamber in a vacuum chamber 41. However, these layers are not necessarily formed continuously in the same manufacturing apparatus, and each layer may be a manufacturing apparatus for forming a single layer. However, it is preferable to form all layers in a single apparatus in consideration of production efficiency, the influence of dust, and the like.

真空チャンバ41は、各層形成室に不図示の排気手段を備えており、内部を所定の真空度まで排気できるようになっている。フィルム搬送室90は、可撓性支持体2を搬送する搬送手段91としてフィルム巻き出し部91a及び搬送された可撓性支持体を巻き取るフィルム巻き取り部91bと、ガイドロール92とを備えている。また、反射層形成室50及び第1保護層形成室60は、可撓性支持体2が外周面に巻き付けられて搬送される第1冷却ドラム101を共有している。同様に、記録層形成室70及び第2保護層形成室80は、第2冷却ドラム102を共有している。これらの冷却ドラムは、それぞれの層形成室で独立して設けてもよいが、1つの冷却ドラムを複数の層形成室で共有することにより、搬送部材を低減できるため装置の簡略化を図ることができる。従って、例えば単一の冷却ドラムを設け、この冷却ドラムの周囲に各層形成室を配置するようにして、単一冷却ドラム上で全層が形成されるようにしてもよい。この場合、第1冷却ドラムが第2冷却ドラムの役割も果たすこととなる。   The vacuum chamber 41 includes an exhaust unit (not shown) in each layer forming chamber so that the inside can be exhausted to a predetermined degree of vacuum. The film transfer chamber 90 includes a film unwinding portion 91 a as a transfer means 91 for transferring the flexible support 2, a film take-up portion 91 b for winding the transferred flexible support, and a guide roll 92. Yes. The reflective layer forming chamber 50 and the first protective layer forming chamber 60 share the first cooling drum 101 on which the flexible support 2 is wound around the outer peripheral surface and conveyed. Similarly, the recording layer forming chamber 70 and the second protective layer forming chamber 80 share the second cooling drum 102. These cooling drums may be provided independently in each layer forming chamber. However, by sharing one cooling drum among a plurality of layer forming chambers, the number of conveying members can be reduced, thereby simplifying the apparatus. Can do. Therefore, for example, a single cooling drum may be provided, and each layer forming chamber may be disposed around the cooling drum so that all layers are formed on the single cooling drum. In this case, the first cooling drum also serves as the second cooling drum.

反射層形成室50は、反射層形成用蒸着手段51としてルツボ51aと電子銃51bを備えている。第1保護層形成室60は、第1蒸気流発生手段61であるルツボ61aと電子銃61b、及び第1蒸気流63に酸素ガスを吹出すための第1酸素ガス吹出し手段62を備えている。この第1酸素ガス吹出し手段62は、第1冷却ドラム101の外周面を搬送されてくる可撓性支持体2の搬送方向に対して上流側から第1蒸気流63に酸素ガスを吹出すように第1冷却ドラム101の隣接位置に配置されている。記録層形成室70は、スパッタ手段として複数のマグネトロンカソード71を備えている。第2保護層形成室80は、第2蒸気流発生手段81であるルツボ81aと電子銃81b、及び第2蒸気流83に酸素ガスを吹出すための第2酸素ガス吹出し手段82を備えている。この第2酸素ガス吹出し手段82は、第2冷却ドラム102の外周面を搬送されてくる可撓性支持体2の搬送方向に対して下流側から第2蒸気流83に酸素ガスを吹出すように第2冷却ドラム102の隣接位置に配置されている。なお、図中、第1保護層形成室60及び第2保護層形成室80内の各酸素ガス吹出し手段A,Bは、後述する比較例で使用した酸素ガス吹出し手段を設けた位置を示すためのものである。   The reflective layer forming chamber 50 includes a crucible 51 a and an electron gun 51 b as the reflective layer forming vapor deposition means 51. The first protective layer forming chamber 60 includes a crucible 61a and an electron gun 61b, which are first vapor flow generating means 61, and a first oxygen gas blowing means 62 for blowing oxygen gas to the first vapor flow 63. . The first oxygen gas blowing means 62 blows oxygen gas from the upstream side to the first vapor flow 63 with respect to the conveyance direction of the flexible support 2 conveyed on the outer peripheral surface of the first cooling drum 101. Are disposed adjacent to the first cooling drum 101. The recording layer forming chamber 70 includes a plurality of magnetron cathodes 71 as sputtering means. The second protective layer forming chamber 80 includes a crucible 81 a and an electron gun 81 b as second vapor flow generating means 81, and second oxygen gas blowing means 82 for blowing oxygen gas to the second vapor flow 83. . The second oxygen gas blowing means 82 blows oxygen gas from the downstream side to the second steam flow 83 with respect to the conveyance direction of the flexible support 2 conveyed on the outer peripheral surface of the second cooling drum 102. Are disposed adjacent to the second cooling drum 102. In the drawing, the oxygen gas blowing means A and B in the first protective layer forming chamber 60 and the second protective layer forming chamber 80 indicate positions where oxygen gas blowing means used in comparative examples described later are provided. belongs to.

テープ状光記録媒体の製造にあたっては、まずフィルム搬送室90内のフィルム巻き出し部91aから可撓性支持体2を冷却ドラム101、102の外周面に沿わせ、フィルム巻き取り部91bで巻き取るようにセットした後、真空チャンバ41内を不図示の排気手段で所定の真空度まで排気する。なお、可撓性支持体2の一面側にはトラッキング層が形成されており、このトラッキング層を設けた面が外周面となるように搬送される。次に、所定の速度で反射層形成室50に可撓性支持体2が搬送される。反射層形成室50内では、電子銃51bより発せられた電子線Eをルツボ51aに照射する。これによりルツボ51aから反射層材料であるAl等が蒸発して、それが可撓性支持体2上に蒸着される。   In the production of the tape-shaped optical recording medium, first, the flexible support 2 is placed along the outer peripheral surface of the cooling drums 101 and 102 from the film unwinding portion 91a in the film transport chamber 90 and wound by the film winding portion 91b. After being set as described above, the inside of the vacuum chamber 41 is exhausted to a predetermined degree of vacuum by an exhaust means (not shown). A tracking layer is formed on one surface side of the flexible support 2, and the surface provided with the tracking layer is conveyed so as to be an outer peripheral surface. Next, the flexible support 2 is conveyed to the reflection layer forming chamber 50 at a predetermined speed. In the reflection layer forming chamber 50, the crucible 51a is irradiated with the electron beam E emitted from the electron gun 51b. As a result, Al or the like, which is a reflective layer material, evaporates from the crucible 51a and is deposited on the flexible support 2.

反射層が形成された可撓性支持体2は、第1冷却ドラム101の外周面に沿って第1保護層形成室60に搬送される。第1保護層形成室60内では、電子銃61bから電子線Eが照射されてルツボ61a内に配置された金属が蒸発することにより第1蒸気流63を発生させる。そして、発生された第1蒸気流63に上流側から第1酸素ガス吹出し手段62で酸素ガスを吹出させる。これにより、第1蒸気流63の上流側で酸素濃度が高く、下流側で酸素濃度が低い状態を形成することができる。そして、第1蒸気流63中の金属と酸素とが反応しながら、金属の酸化物が反射層上に形成される。このため、第1保護層中の金属の酸化物の組成は、厚さ方向において、連続的に、反射層側(記録層と反対側)で酸素の含有量が多く、次に形成される記録層側で酸素の含有量が少なくなる。   The flexible support 2 on which the reflective layer is formed is conveyed to the first protective layer forming chamber 60 along the outer peripheral surface of the first cooling drum 101. In the first protective layer forming chamber 60, the first vapor flow 63 is generated by irradiating the electron beam E from the electron gun 61b and evaporating the metal disposed in the crucible 61a. Then, oxygen gas is blown out by the first oxygen gas blowing means 62 from the upstream side to the generated first vapor flow 63. Thereby, it is possible to form a state in which the oxygen concentration is high on the upstream side of the first vapor flow 63 and the oxygen concentration is low on the downstream side. A metal oxide is formed on the reflective layer while the metal and oxygen in the first vapor stream 63 react. For this reason, the composition of the metal oxide in the first protective layer has a continuous oxygen content on the reflective layer side (opposite side of the recording layer) in the thickness direction, and the recording to be formed next. The oxygen content is reduced on the layer side.

次に、第1保護層が形成された可撓性支持体2は、一旦フィルム搬送室90に搬送された後、第2冷却ドラム102の外周面に沿って記録層形成室70に搬送される。記録層形成室70内では、不図示の不活性ガス導入部から不活性ガスを導入しながら、マグネトロンカソード71に高電圧をかけ、プラズマを発生させる。これによりプラズマ中の陽イオンがマグネトロンカソード71上に配置された光記録材料からなるターゲットに叩きつけられ、飛び出したターゲット物質が可撓性支持体2にスパッタされる。   Next, the flexible support 2 on which the first protective layer is formed is once transported to the film transport chamber 90 and then transported to the recording layer forming chamber 70 along the outer peripheral surface of the second cooling drum 102. . In the recording layer forming chamber 70, plasma is generated by applying a high voltage to the magnetron cathode 71 while introducing an inert gas from an inert gas introduction section (not shown). As a result, positive ions in the plasma are struck against a target made of an optical recording material disposed on the magnetron cathode 71, and the target material that has jumped out is sputtered onto the flexible support 2.

最後に、記録層が形成された可撓性支持体2は、第2冷却ドラム102の外周面に沿って第2保護層形成室80に搬送される。第2保護層形成室80内では、電子銃81bから電子線Eが照射されてルツボ81a内に配置された金属が蒸発することにより第2蒸気流83を発生させる。そして、発生された第2蒸気流83に下流側から第2酸素ガス吹出し手段82で酸素ガスを吹出させる。これにより、第2蒸気流83の下流側で酸素濃度が高く、上流側で酸素濃度が低い状態を形成することができる。そして、第2蒸気流83中の金属と酸素とが反応しながら、金属の酸化物が記録層上に形成される。このため、第2保護層中の金属の酸化物の組成は、厚さ方向において、連続的に、記録層側で酸素の含有量が少なく、記録層と反対側で酸素の含有量が多くなる。   Finally, the flexible support 2 on which the recording layer is formed is conveyed to the second protective layer forming chamber 80 along the outer peripheral surface of the second cooling drum 102. In the second protective layer forming chamber 80, the electron beam E is irradiated from the electron gun 81b, and the metal disposed in the crucible 81a evaporates to generate the second vapor flow 83. Then, oxygen gas is blown out from the downstream side of the generated second vapor flow 83 by the second oxygen gas blowing means 82. Thereby, it is possible to form a state in which the oxygen concentration is high on the downstream side of the second vapor flow 83 and the oxygen concentration is low on the upstream side. Then, a metal oxide is formed on the recording layer while the metal in the second vapor flow 83 reacts with oxygen. Therefore, in the composition of the metal oxide in the second protective layer, the oxygen content continuously decreases in the thickness direction on the recording layer side and increases on the opposite side to the recording layer in the thickness direction. .

以上のようにして、可撓性支持体上に各層が形成されたテープ状光記録媒体が作製される。本実施の形態のテープ状光記録媒体への情報の記録、消去にあたっては、可撓性支持体の記録層が設けられている側からレーザ光が投射され、第2保護層を介して記録層に光学的変化を起こさせることにより所定の情報の記録、消去が行なわれる。また、情報の再生にあたっては、同様にレーザ光が投射され、第2保護層を介して記録層の光学的変化を読み取ることにより所定の情報が再生される。
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでない。
As described above, a tape-shaped optical recording medium in which each layer is formed on a flexible support is produced. In recording and erasing information on the tape-shaped optical recording medium of the present embodiment, a laser beam is projected from the side of the flexible support on which the recording layer is provided, and the recording layer is interposed via the second protective layer. Recording and erasing of predetermined information is performed by causing an optical change in the information. Further, in reproducing information, laser light is similarly projected, and predetermined information is reproduced by reading an optical change of the recording layer through the second protective layer.
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited to these Examples.

(実施例1)
可撓性支持体として厚み6μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。このポリエチレンテレフタレートフィルムの一面側にロールコート法によりライン速度20m/minで放射線硬化型樹脂(DPE−6A:共栄社化学社製,ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート,6官能)を厚さ1μmになるように塗布し、樹脂層を形成した。その後、樹脂層に凹凸を有するエンボスロール(凹凸間隔:0.8μm,凹凸高さ:0.05μm)が押圧され、樹脂層表面に凹凸形状を成形させながら、紫外線照射機で紫外線(300mJ/cm)を照射することにより、樹脂層を硬化し、トラッキング層を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを作製した。
(Example 1)
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 6 μm was used as the flexible support. One surface of this polyethylene terephthalate film is coated with a radiation curable resin (DPE-6A: manufactured by Kyoeisha Chemical Co., dipentaerythritol hexaacrylate, hexafunctional) at a line speed of 20 m / min by a roll coating method so as to have a thickness of 1 μm. And a resin layer was formed. After that, an embossing roll having unevenness on the resin layer (irregularity interval: 0.8 μm, unevenness height: 0.05 μm) is pressed to form an uneven shape on the surface of the resin layer, and ultraviolet rays (300 mJ / cm) with an ultraviolet irradiation machine. By irradiating 2 ), the resin layer was cured and a polyethylene terephthalate film having a tracking layer was produced.

図4に示す製造装置を用い、トラッキング層が形成された可撓性支持体上に以下のようにして、反射層、第1保護層、記録層、及び第2保護層を順次形成した。まず、反射層形成室50のルツボ51a内にはAlを、第1保護層形成室60のルツボ61a内には顆粒状のSiを、記録層形成室70のマグネトロンスパッタ上にはスパッタ源としてGeSbTeを、第2保護層形成室80のルツボ81a内には顆粒状のZrを、それぞれセットした。次に、真空チャンバ41を、排気手段により5×10−3Paまで排気した。 Using the manufacturing apparatus shown in FIG. 4, a reflective layer, a first protective layer, a recording layer, and a second protective layer were sequentially formed on the flexible support on which the tracking layer was formed as follows. First, Al is contained in the crucible 51a of the reflective layer forming chamber 50, Si in granular form is contained in the crucible 61a of the first protective layer forming chamber 60, and Ge is used as a sputtering source on the magnetron sputter in the recording layer forming chamber 70. 2 Sb 2 Te 5 and granular Zr were set in the crucible 81a of the second protective layer forming chamber 80, respectively. Next, the vacuum chamber 41 was evacuated to 5 × 10 −3 Pa by an evacuation unit.

反射層形成室50内では、ルツボ51aに電子銃51bから電子線を照射し、Alを蒸発させてAlの反射層を50nmの厚さで蒸着した。第1保護層形成室60内では、ルツボ61aに電子銃61bから電子線を照射し、Siの蒸気流を発生させるとともに、この蒸気流に第1酸素ガス吹出し手段62として配置したノズルから酸素ガスを2800sccm(standard cc/min)(1atm,0℃雰囲気中で0.168m/h)で吹出し、反射層上にSiの酸化物からなる第1保護層を25nmの厚さで蒸着した。記録層形成室70内では、マグネトロンカソード71にDC電圧を印加し、GeSbTeを5nmの厚さでスパッタした。第2保護層形成室80内では、ルツボ81aに電子銃81bから電子線を照射し、Zrの蒸気流を発生させるとともに、この蒸気流に第2酸素ガス吹出し手段82として配置したノズルから酸素ガスを2800sccm(standard cc/min)(1atm,0℃雰囲気中で0.168m/h)で吹出し、記録層上にZrの酸化物からなる第2保護層を20nmの厚さで蒸着した。なお、第1保護層と第2保護層の層形成速度は、いずれも52m/minで行い、各保護層及び反射層の厚みは、各電子銃のパワ及び搬送速度により調節した。上記のようにして各層が形成された可撓性支持体の反対面に、カーボンブラックを樹脂中に分散させたバックコート層をグラビアコータで0.5μmの厚さに塗布し、1/2インチ幅にスリットしてテープ状光記録媒体を作製した。 In the reflection layer forming chamber 50, the crucible 51a was irradiated with an electron beam from the electron gun 51b to evaporate Al and deposit a reflective layer of Al with a thickness of 50 nm. In the first protective layer forming chamber 60, the crucible 61a is irradiated with an electron beam from an electron gun 61b to generate a vapor stream of Si, and oxygen gas is emitted from a nozzle arranged as the first oxygen gas blowing means 62 in this vapor stream. Was blown at 2800 sccm (standard cc / min) (1 atm, 0.168 m 3 / h in an atmosphere of 0 ° C.), and a first protective layer made of an oxide of Si was deposited on the reflective layer to a thickness of 25 nm. In the recording layer forming chamber 70, a DC voltage was applied to the magnetron cathode 71, and Ge 2 Sb 2 Te 5 was sputtered to a thickness of 5 nm. In the second protective layer forming chamber 80, the crucible 81 a is irradiated with an electron beam from an electron gun 81 b to generate a Zr vapor flow, and oxygen gas is emitted from a nozzle arranged as the second oxygen gas blowing means 82 to this vapor flow. Was blown at 2800 sccm (standard cc / min) (1 atm, 0.168 m 3 / h in 0 ° C. atmosphere), and a second protective layer made of an oxide of Zr was deposited on the recording layer to a thickness of 20 nm. The first protective layer and the second protective layer were formed at a rate of 52 m / min, and the thickness of each protective layer and the reflective layer was adjusted by the power and transport speed of each electron gun. A back coat layer in which carbon black is dispersed in a resin is applied to the opposite surface of the flexible support on which each layer is formed as described above to a thickness of 0.5 μm with a gravure coater. A tape-shaped optical recording medium was produced by slitting in the width.

(実施例2)
実施例1のテープ状光記録媒体の作製において、第1酸素ガス吹出し手段62及び第2酸素ガス吹出し手段82からの酸素ガス吹出し量をそれぞれ2400sccm(standard cc/min)(1atm,0℃雰囲気中で0.144m/h)とした以外は、実施例1と同様にしてテープ状光記録媒体を作製した。
(Example 2)
In the production of the tape-shaped optical recording medium of Example 1, the oxygen gas blowing amounts from the first oxygen gas blowing means 62 and the second oxygen gas blowing means 82 were 2400 sccm (standard cc / min) (1 atm, 0 ° C. atmosphere), respectively. A tape-shaped optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 0.144 m 3 / h).

(比較例1)
実施例1のテープ状光記録媒体の作製において、反射層形成用蒸着手段51、第1蒸気流発生手段61、及び第2蒸気流発生手段81の代わりに、マグネトロンカソードを配置し、全層をスパッタ法により形成した以外は、実施例1と同様にしてテープ状光記録媒体を作製した。なお、実施例1と同厚みとするため、第1保護層及び第2保護層の層形成速度は、4m/minとした。
(Comparative Example 1)
In the production of the tape-shaped optical recording medium of Example 1, a magnetron cathode is disposed in place of the reflective layer forming vapor deposition means 51, the first vapor flow generation means 61, and the second vapor flow generation means 81, and all the layers are formed. A tape-shaped optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that it was formed by sputtering. In addition, in order to set it as the same thickness as Example 1, the layer formation speed | rate of the 1st protective layer and the 2nd protective layer was 4 m / min.

(比較例2)
実施例1のテープ状光記録媒体の作製において、ルツボ81a内にZrの代わりにZnをセットし、Znの酸化物からなる第2保護層を形成した以外は、実施例1と同様にしてテープ状光記録媒体を作製した。
(Comparative Example 2)
In the production of the tape-shaped optical recording medium of Example 1, the tape was formed in the same manner as in Example 1 except that Zn was set in the crucible 81a instead of Zr and a second protective layer made of an oxide of Zn was formed. An optical recording medium was produced.

(比較例3)
実施例1のテープ状光記録媒体の作製において、ルツボ61a内にSiの代わりにInをセットし、Inの酸化物からなる第1保護層を形成した以外は、実施例1と同様にしてテープ状光記録媒体を作製した。
(Comparative Example 3)
In the production of the tape-shaped optical recording medium of Example 1, the tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that In was set in place of Si in the crucible 61a and the first protective layer made of an oxide of In was formed. An optical recording medium was produced.

(比較例4)
実施例1のテープ状光記録媒体の作製において、第1酸素ガス吹出し手段62及び第2酸素ガス吹出し手段82の代わりに、図4中のA,Bの位置に酸素ガス吹出し手段としてノズルを配置し、酸素ガス吹出し量を4000sccm(standard cc/min)(1atm,0℃雰囲気中で0.240m/h)とした以外は、実施例1と同様にしてテープ状光記録媒体を作製した。
上記のようにして作製された各テープ状光記録媒体について、下記の評価を行った。表1はこれらの結果を示す。
(Comparative Example 4)
In the production of the tape-shaped optical recording medium of Example 1, nozzles are arranged as oxygen gas blowing means at positions A and B in FIG. 4 instead of the first oxygen gas blowing means 62 and the second oxygen gas blowing means 82. Then, a tape-shaped optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the oxygen gas blowing rate was 4000 sccm (standard cc / min) (1 atm, 0.240 m 3 / h in 0 ° C. atmosphere).
The following evaluation was performed on each tape-shaped optical recording medium manufactured as described above. Table 1 shows these results.

<C/N>
C/Nは、図5の概略構成図に示す記録再生試験機を用いて測定した。任意波形ゼネレータ201により所定の信号を発生させ、レーザドライバ202を介してサーボ回路206で移動制御されるピックアップヘッド203に信号を入力し、モータコントローラ207で回転制御されるスピンドルモータ205でドラム204に巻き付けたテープ状光記録媒体1を回転させながら、テープ状光記録媒体1に信号を書き込んだ。
<C / N>
C / N was measured using the recording / reproducing tester shown in the schematic block diagram of FIG. The arbitrary waveform generator 201 generates a predetermined signal, inputs the signal to the pickup head 203 that is controlled to move by the servo circuit 206 via the laser driver 202, and the spindle motor 205 that is rotationally controlled by the motor controller 207 to the drum 204. A signal was written on the tape-shaped optical recording medium 1 while rotating the wound tape-shaped optical recording medium 1.

次に、ピックアップヘッド203、信号回路208、信号処理回路209を介してオシロスコープ210に信号を取り込み、スペクトラムアナライザ211で信号(C)とノイズ(N)とを求めて、C/Nを測定した。書き込み/再生条件は、速度3.5m/s、ビット長0.267μm、レーザ光の波長650nm、NA0.65、レーザの書き込みパワ10mW、再生パワ0.7mW、書き込み信号3T(記録周波数8.75MHz)とした。   Next, a signal was taken into the oscilloscope 210 via the pickup head 203, the signal circuit 208, and the signal processing circuit 209, the signal (C) and the noise (N) were obtained by the spectrum analyzer 211, and C / N was measured. The writing / reproducing conditions are: speed 3.5 m / s, bit length 0.267 μm, laser light wavelength 650 nm, NA 0.65, laser writing power 10 mW, reproducing power 0.7 mW, writing signal 3T (recording frequency 8.75 MHz). ).

<膜厚>
膜厚測定は、フィルメトリクス社製分光光度計F20−UVを用いて測定した。各テープ状光記録媒体50mについて波長400〜800nmの範囲で反射率を26点測定し、予め同分光光度計で測定したそれぞれの保護層の複素屈折率を用いて光の多重干渉の基本式(「薄膜」第5章,P.197〜200,金原粲・藤原英夫著,昭和62年,裳書房)から平均膜厚を測定した。この平均膜厚を用いて、以下の式により膜厚変動(%)を算出した。
膜厚変動(%)=[(膜厚の最大値−膜厚の最小値)/膜厚の平均値]×100
<Film thickness>
The film thickness was measured using a spectrophotometer F20-UV manufactured by Filmetrics. For each tape-shaped optical recording medium 50 m, 26 points of reflectance are measured in the wavelength range of 400 to 800 nm, and the complex refractive index of each protective layer measured in advance with the same spectrophotometer is used as a basic equation for multiple interference of light ( The average film thickness was measured from “Thin Film”, Chapter 5, P. 197-200, written by Satoshi Kanehara and Hideo Fujiwara, 1987, Tsuji Shobo). Using this average film thickness, the film thickness variation (%) was calculated by the following equation.
Film thickness variation (%) = [(maximum value of film thickness−minimum value of film thickness) / average value of film thickness] × 100

<酸素の含有量>
各保護層の酸素の含有量は、アルバックファイ社製オージェ電子分光計model680を用いて測定した。各テープ状光記録媒体の保護層をArプラズマでエッチングしながら第1保護層と反射層及び記録層との界面部分、及び第2保護層と記録層との界面部分及び第2保護層の表層部分について、厚さ方向の酸素原子の含有量を測定した。5ヶ所を測定して、その平均値を各位置での酸素の含有量とした。なお、測定箇所により酸素の含有量が変化したテープ状光記録媒体については、その変動幅を合せて表1に示した。
<Oxygen content>
The oxygen content of each protective layer was measured using an Auger electron spectrometer model 680 manufactured by ULVAC-PHI. While etching the protective layer of each tape-shaped optical recording medium with Ar plasma, the interface portion between the first protective layer, the reflective layer and the recording layer, the interface portion between the second protective layer and the recording layer, and the surface layer of the second protective layer About the part, content of the oxygen atom of the thickness direction was measured. Five locations were measured, and the average value was defined as the oxygen content at each position. The tape-like optical recording medium in which the oxygen content changed depending on the measurement location is shown in Table 1 together with the fluctuation range.

<耐久性>
耐久性は、C/N測定で用いた図5に示す装置を使用して測定した。C/N測定と同条件で信号を繰り返し記録再生し、初回と5万回書換え後の再生信号の出力変化を測定し、以下の式から再生信号の変化率を測定した。
再生信号の変化率(%)=[(初回信号出力−5万回後の信号出力)/初回信号出力]×100
<Durability>
The durability was measured using the apparatus shown in FIG. 5 used in C / N measurement. The signal was repeatedly recorded and reproduced under the same conditions as in the C / N measurement, the change in the output of the reproduction signal after the first and 50,000 rewrites was measured, and the change rate of the reproduction signal was measured from the following equation.
Change rate of reproduction signal (%) = [(initial signal output−signal output after 50,000 times) / initial signal output] × 100

表1に示されるように、実施例1及び2のテープ状光記録媒体は、C/Nが良好で記録再生特性に優れ、また、耐久性にも優れることが分る。また、これら実施例は、層形成速度も速く生産性も良好であることが分る。これに対して、両保護層の形成にスパッタ法が用いられた比較例1は、層形成速度が遅く、高速での層形成に適さないことが分かる。また、スパッタ法では発生するプラズマイオンの影響により冷却ドラム上の上流側と下流側とで酸素濃度差が小さくなる。このため、各保護層中の厚さ方向の酸素の含有量の差が小さくなる。この結果、各保護層の記録層側の界面での酸素原子の含有量が多くなり、耐久性が低下している。また、Znの酸化物からなる第2保護層が形成された比較例2は、Znが電子線によって均一に溶融されないために膜厚変動が大きいだけでなく、記録層側の酸素の含有量も変動が大きいために、C/Nの変動が大きく、耐久性も低下している。さらに、Inの酸化物からなる第1保護層が形成された比較例3は、Inと酸素との反応性が低いため、Inの酸化物が良好に生成されず、このため透過性が低下してC/Nが低下している。また、酸素の含有量が多く、厚さ方向に酸素の含有量が変化しないSi及びZrの酸化物からなる第1保護層及び第2保護層が形成された比較例4は、記録層と保護層との界面が剥離しやすいため、耐久性が低下している。 As shown in Table 1, it can be seen that the tape-shaped optical recording media of Examples 1 and 2 have good C / N, excellent recording / reproduction characteristics, and excellent durability. In addition, these examples show that the layer formation speed is high and the productivity is good. On the other hand, it can be seen that Comparative Example 1 in which the sputtering method is used for forming both protective layers has a low layer forming speed and is not suitable for forming a layer at a high speed. Further, in the sputtering method, the oxygen concentration difference between the upstream side and the downstream side on the cooling drum becomes small due to the influence of the generated plasma ions. For this reason, the difference in the oxygen content in the thickness direction in each protective layer is reduced. As a result, the oxygen atom content at the recording layer side interface of each protective layer is increased, and the durability is lowered. Further, in Comparative Example 2 in which the second protective layer made of the oxide of Zn was formed, not only the film thickness variation was large because Zn was not melted uniformly by the electron beam, but also the oxygen content on the recording layer side. Since the fluctuation is large, the C / N fluctuation is large and the durability is also lowered. Furthermore, in Comparative Example 3 in which the first protective layer made of the In oxide was formed, the reactivity between In and oxygen was low, so that the In oxide was not generated well, and the permeability was lowered. C / N has decreased. Further, Comparative Example 4 in which the first protective layer and the second protective layer made of oxides of Si and Zr, which have a large oxygen content and the oxygen content does not change in the thickness direction, was formed in the recording layer and the protective layer. Since the interface with the layer is easily peeled off, the durability is lowered.

図6は、実施例1と比較例2の各保護層のテープ長50mにわたるテープ長手方向の膜厚変動を示す図であり、同図(a)は第1保護層の膜厚変動を、同図(b)は第2保護層の膜厚変動を示す。図6(a)に示されるように、実施例1及び比較例2とも、第1保護層の形成において、いずれも溶融性に優れるSiが用いられているため、厚みの均一な保護層が得られている。これに対して、図6(b)に示されるように、第2保護層の形成において、溶融性に優れるZrが用いられた実施例1は厚さの均一な保護層が得られているが、溶融性に劣るZnが用いられた比較例2は、テープ長手方向において膜厚変動が大きな保護層が形成されることが分る。   FIG. 6 is a diagram showing the film thickness variation in the tape longitudinal direction over the tape length of 50 m of each protective layer of Example 1 and Comparative Example 2, and FIG. 6A shows the film thickness variation of the first protective layer. FIG. 5B shows the film thickness variation of the second protective layer. As shown in FIG. 6A, both Example 1 and Comparative Example 2 use Si having excellent meltability in forming the first protective layer, so that a protective layer having a uniform thickness is obtained. It has been. On the other hand, as shown in FIG. 6B, in the formation of the second protective layer, the protective layer having a uniform thickness was obtained in Example 1 in which Zr having excellent meltability was used. In Comparative Example 2 in which Zn having poor meltability was used, it can be seen that a protective layer having a large film thickness variation in the longitudinal direction of the tape is formed.

図7は、実施例1〜2、及び比較例4の保護層のテープ長50mにわたる各保護層の厚み方向での酸素原子含有量を示す図であり、同図(a)は第1保護層の酸素原子含有量を、同図(b)は第2保護層の酸素原子含有量を示す。これらの図に示されるように、第1保護層の形成において上流側から、第2保護層の形成において下流側から、それぞれ酸素ガスが吹出され、金属蒸気流の上流側と下流側とで酸素濃度に勾配を持たせた状態で各保護層が形成された実施例1及び2では、酸素ガスの吹出し量に応じて、厚さ方向において記録層と反対側から記録層側に向かって保護層厚さの略半分の一定領域で酸素の含有量が連続的に減少する保護層が得られることが分かる。これに対して、酸素濃度の勾配のない状態で各保護層が形成された比較例4では、保護層の全厚さ範囲にわたって、酸素の含有量の多い酸化物からなる保護層が形成されていることが分る。   FIG. 7 is a diagram showing the oxygen atom content in the thickness direction of each protective layer over the tape length of 50 m of the protective layers of Examples 1 and 2 and Comparative Example 4 (a) is the first protective layer. FIG. 4B shows the oxygen atom content of the second protective layer. As shown in these drawings, oxygen gas is blown out from the upstream side in the formation of the first protective layer and from the downstream side in the formation of the second protective layer, respectively, and oxygen is generated at the upstream side and the downstream side of the metal vapor flow. In Examples 1 and 2 in which each protective layer is formed with a gradient in concentration, the protective layer is directed from the opposite side of the recording layer toward the recording layer in the thickness direction according to the amount of oxygen gas blown out. It can be seen that a protective layer can be obtained in which the oxygen content continuously decreases in a constant region of approximately half the thickness. On the other hand, in Comparative Example 4 in which each protective layer was formed without an oxygen concentration gradient, a protective layer made of an oxide having a high oxygen content was formed over the entire thickness range of the protective layer. You can see that

図8は、実施例1〜2、及び比較例4のテープ状光記録媒体を繰り返し記録再生したときの再生出力の変化を示す図である。図に示されるように、厚さ方向に酸素の含有量を変化させた第1保護層及び第2保護層を有する実施例1及び2では、再生出力の変化が少なく耐久性が良好であることが分かる。特に、第1保護層、第2保護層の金属の酸化物の組成が、いずれにおいても、記録層と反対側の酸素の含有量が66at%で、記録層側の酸素の含有量が15at%であり、厚さ方向において記録層と反対側から記録層側に向かって酸素の含有量の減少割合の勾配が大きな保護層が形成された実施例2は、再生出力の低下が極めて少ない。これに対し、比較例4は、1万回を超えた時点から大きく出力が低下する。   FIG. 8 is a diagram showing changes in reproduction output when the tape-shaped optical recording media of Examples 1 and 2 and Comparative Example 4 are repeatedly recorded and reproduced. As shown in the figure, in Examples 1 and 2 having the first protective layer and the second protective layer in which the oxygen content is changed in the thickness direction, the reproduction output is little changed and the durability is good. I understand. In particular, in any of the compositions of the metal oxides of the first protective layer and the second protective layer, the oxygen content on the side opposite to the recording layer is 66 at%, and the oxygen content on the recording layer side is 15 at%. In Example 2 in which the protective layer having a large gradient of the decreasing rate of the oxygen content from the side opposite to the recording layer to the recording layer side in the thickness direction is formed, the decrease in reproduction output is extremely small. On the other hand, in Comparative Example 4, the output greatly decreases from the time when it exceeds 10,000 times.

本発明の実施の形態に係るテープ状光記録媒体の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the tape-shaped optical recording medium which concerns on embodiment of this invention. 金属の溶融性を示す図であり、同図(a)は、Alの溶融、冷却後の状態を示し、同図(b)は、Znの溶融、冷却後の状態を示す。It is a figure which shows the meltability of a metal, The figure (a) shows the state after melting and cooling of Al, and the figure (b) shows the state after melting and cooling of Zn. 反応性蒸着法により形成した各種金属の酸化物からなる保護層のレーザ光波長と透過率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the laser beam wavelength and the transmittance | permeability of the protective layer which consists of various metal oxides formed by the reactive vapor deposition method. 本発明の実施の形態に係るテープ状光記録媒体の製造装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the manufacturing apparatus of the tape-shaped optical recording medium which concerns on embodiment of this invention. 実施例で評価に用いた記録再生試験機を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the recording / reproducing test machine used for evaluation in the Example. 実施例1と比較例2の各保護層のテープ長50mにわたるテープ長手方向の膜厚変動を示す図であり、同図(a)は第1保護層の膜厚変動を、同図(b)は第2保護層の膜厚変動を示す。It is a figure which shows the film thickness fluctuation | variation of the tape longitudinal direction over the tape length of 50 m of each protective layer of Example 1 and Comparative Example 2, The figure (a) shows the film thickness fluctuation | variation of a 1st protective layer, the figure (b). Indicates the film thickness variation of the second protective layer. 実施例1〜2、及び比較例4の各保護層のテープ長50mにわたる厚み方向での酸素原子含有量を示す図であり、同図(a)は第1保護層の酸素原子含有量を、同図(b)は第2保護層の酸素原子含有量を示す。It is a figure which shows oxygen atom content in the thickness direction over tape length 50m of each protective layer of Examples 1-2 and Comparative Example 4, The figure (a) shows oxygen atom content of the 1st protective layer, FIG. 4B shows the oxygen atom content of the second protective layer. 実施例1〜2、及び比較例4のテープ状光記録媒体を繰り返し記録再生したときの再生出力の変化を示す図である。It is a figure which shows the change of the reproduction output when the tape-shaped optical recording medium of Examples 1-2 and the comparative example 4 are repeatedly recorded and reproduced.

符号の説明Explanation of symbols

1 テープ状光記録媒体
2 可撓性支持体
3 トラッキング層
4 反射層
5 第1保護層
6 記録層
7 第2保護層
8 バック層
40 製造装置
41 真空チャンバ
60 第1保護層形成室
61 第1蒸気流発生手段
62 第1酸素ガス吹出し手段
63 第1蒸気流
80 第2保護層形成室
81 第2蒸気流発生手段
82 第2酸素ガス吹出し手段
83 第2蒸気流
91 搬送手段
101 第1冷却ドラム
102 第2冷却ドラム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Tape-shaped optical recording medium 2 Flexible support body 3 Tracking layer 4 Reflective layer 5 1st protective layer 6 Recording layer 7 2nd protective layer 8 Back layer 40 Manufacturing apparatus 41 Vacuum chamber 60 1st protective layer formation chamber 61 1st Steam flow generating means 62 First oxygen gas blowing means 63 First steam flow 80 Second protective layer forming chamber 81 Second steam flow generating means 82 Second oxygen gas blowing means 83 Second steam flow 91 Conveying means 101 First cooling drum 102 Second cooling drum

Claims (8)

可撓性支持体の一方の主面に少なくとも反射層、第1保護層、記録層、第2保護層をこの順に有するテープ状光記録媒体であって、
前記第1保護層及び前記第2保護層はそれぞれ、Sn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物よりなり、
前記第1保護層及び第2保護層の金属の酸化物の組成はそれぞれ、厚さ方向において、記録層側で酸素の含有量が少なく、記録層と反対側で酸素の含有量が多く、且つ前記記録層側の酸素の含有量が10at%以上、55at%以下であり、前記記録層と反対側の酸素の含有量が66at%以下であるテープ状光記録媒体。
A tape-shaped optical recording medium having at least a reflective layer, a first protective layer, a recording layer, and a second protective layer in this order on one main surface of a flexible support,
Each of the first protective layer and the second protective layer is made of an oxide of at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al,
Each of the metal oxide compositions of the first protective layer and the second protective layer has a low oxygen content on the recording layer side and a high oxygen content on the opposite side of the recording layer in the thickness direction, and A tape-shaped optical recording medium in which the oxygen content on the recording layer side is 10 at% or more and 55 at% or less, and the oxygen content on the side opposite to the recording layer is 66 at% or less.
前記金属の酸化物が、Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物である請求項1に記載のテープ状光記録媒体。   2. The tape-shaped optical recording medium according to claim 1, wherein the metal oxide is an oxide of at least one metal selected from the group consisting of Ti, Si, Zr, and Al. 前記第1保護層及び第2保護層の金属の酸化物の組成は、厚さ方向において、記録層側に向かって酸素の含有量が連続的に減少する請求項1または2に記載のテープ状光記録媒体。   The tape-like composition according to claim 1 or 2, wherein in the composition of the metal oxides of the first protective layer and the second protective layer, the oxygen content continuously decreases toward the recording layer side in the thickness direction. Optical recording medium. 第1保護層及び第2保護層の金属の酸化物の組成は、厚さ方向において、一定領域で記録層側に向かって酸素の含有量が連続的に減少する請求項1または2に記載のテープ状光記録媒体。   3. The composition of the metal oxides of the first protective layer and the second protective layer according to claim 1, wherein the oxygen content continuously decreases toward the recording layer in a certain region in the thickness direction. Tape-shaped optical recording medium. 請求項1〜4のいずれか1項に記載のテープ状光記録媒体の製造方法であって、
Sn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の蒸気流に、酸素ガスを吹出して、前記金属と前記酸素とを反応させながら、前記金属の酸化物を蒸着することにより前記第1保護層と前記第2保護層とをそれぞれ形成するテープ状光記録媒体の製造方法。
It is a manufacturing method of the tape-shaped optical recording medium given in any 1 paragraph of Claims 1-4,
The metal oxide is vapor-deposited while oxygen gas is blown into a vapor stream of at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al, and the metal and the oxygen react with each other. A method for manufacturing a tape-shaped optical recording medium, in which the first protective layer and the second protective layer are respectively formed.
請求項1〜4のいずれか1項に記載のテープ状光記録媒体の第1保護層を形成するための製造装置であって、
真空チャンバと、可撓性支持体を搬送する搬送手段とを有し、
前記真空チャンバは、前記可撓性支持体がドラム上で搬送される第1冷却ドラムと、前記第1冷却ドラムに対してSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第1蒸気流を射出する第1蒸気流発生手段と、前記可撓性支持体の搬送方向に対して上流側から前記第1蒸気流に酸素ガスを吹出す第1酸素ガス吹出し手段と、を備えるテープ状光記録媒体の製造装置。
A manufacturing apparatus for forming the first protective layer of the tape-shaped optical recording medium according to any one of claims 1 to 4,
A vacuum chamber and a transport means for transporting the flexible support;
The vacuum chamber is at least one selected from the group consisting of a first cooling drum in which the flexible support is conveyed on a drum, and Sn, Ti, Si, Zr, and Al with respect to the first cooling drum. A first vapor flow generating means for injecting a first vapor flow of a metal of the kind, and a first oxygen gas blowout for blowing oxygen gas into the first vapor flow from the upstream side with respect to the conveying direction of the flexible support. And a tape-shaped optical recording medium manufacturing apparatus.
請求項1〜4のいずれか1項に記載のテープ状光記録媒体の第2保護層を形成するための製造装置であって、
真空チャンバと、可撓性支持体を搬送する搬送手段と、を有し、
前記真空チャンバは、前記可撓性支持体がドラム上で搬送される第2冷却ドラムと、前記第2冷却ドラムに対してSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第2蒸気流を射出する第2蒸気流発生手段と、前記可撓性支持体の搬送方向に対して下流側から前記第2蒸気流に酸素ガスを吹出す第2酸素ガス吹出し手段と、を備えるテープ状光記録媒体の製造装置。
It is a manufacturing apparatus for forming the 2nd protective layer of the tape-shaped optical recording medium of any one of Claims 1-4,
A vacuum chamber and transport means for transporting the flexible support;
The vacuum chamber is at least one selected from the group consisting of a second cooling drum on which the flexible support is conveyed on a drum, and Sn, Ti, Si, Zr, and Al with respect to the second cooling drum. Second steam flow generating means for injecting a second steam flow of a metal of the second type, and a second oxygen gas blow-off for blowing oxygen gas into the second steam flow from the downstream side with respect to the conveying direction of the flexible support And a tape-shaped optical recording medium manufacturing apparatus.
請求項1〜4のいずれか1項に記載のテープ状光記録媒体の第1保護層及び第2保護層を形成するための製造装置であって、
第1保護層形成室と第2保護層形成室とを備える真空チャンバと、可撓性支持体を搬送する搬送手段とを有し、
前記第1保護層形成室は、前記可撓性支持体がドラム上で搬送される第1冷却ドラムと、前記第1冷却ドラムに対してSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第1蒸気流を射出する第1蒸気流発生手段と、前記可撓性支持体の搬送方向に対して上流側から前記第1蒸気流に酸素ガスを吹出す第1酸素ガス吹出し手段と、を備え、
前記第2保護層形成室は、前記可撓性支持体がドラム上で搬送される第2冷却ドラムと、前記第2冷却ドラムに対してSn,Ti,Si,Zr,及びAlからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の第2蒸気流を射出する第2蒸気流発生手段と、前記可撓性支持体の搬送方向に対して下流側から前記第2蒸気流に酸素ガスを吹出す第2酸素ガス吹出し手段と、を備えるテープ状光記録媒体の製造装置。
A manufacturing apparatus for forming the first protective layer and the second protective layer of the tape-shaped optical recording medium according to any one of claims 1 to 4,
A vacuum chamber comprising a first protective layer forming chamber and a second protective layer forming chamber; and a transport means for transporting the flexible support.
The first protective layer forming chamber includes a first cooling drum on which the flexible support is conveyed on a drum, and a group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al with respect to the first cooling drum. First vapor flow generating means for injecting a first vapor flow of at least one selected metal, and oxygen gas blown out into the first vapor flow from the upstream side with respect to the conveying direction of the flexible support. 1 oxygen gas blowing means,
The second protective layer forming chamber includes a second cooling drum on which the flexible support is conveyed on a drum, and a group consisting of Sn, Ti, Si, Zr, and Al with respect to the second cooling drum. Second vapor flow generating means for injecting a second vapor flow of at least one selected metal; and oxygen gas blown out into the second vapor flow from the downstream side with respect to the conveying direction of the flexible support. A tape-shaped optical recording medium manufacturing apparatus comprising: 2 oxygen gas blowing means.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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