JP2008158353A - Cleaning device, process cartridge, and image forming apparatus - Google Patents

Cleaning device, process cartridge, and image forming apparatus Download PDF

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Naoki Ota
直己 太田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning device capable of preventing swarf remaining on the surface of a cleaning roll during its manufacturing process from sticking to an image carrier, thereby removing local charging failure and image defects resulting from the sticking of swarf, and to provide a process cartridge and image forming apparatus that use the cleaning device. <P>SOLUTION: The cleaning device includes a first roll capable of being brought into contact with the image carrier, and a second roll capable of being brought into contact with the first roll. The second roll has a resin foam body on the outer periphery of a core material. The surface of the resin foam body contains a material having releasing property. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、クリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。特に本発明は、電子写真複写機・レーザービームプリンター等の画像形成装置の帯電部材表面に付着したトナーを除去するのに好適に使用可能なクリーニング装置、前記クリーニング装置を備えたプロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。   The present invention relates to a cleaning device, a process cartridge, and an image forming apparatus. In particular, the present invention relates to a cleaning device that can be suitably used to remove toner adhering to the surface of a charging member of an image forming apparatus such as an electrophotographic copying machine or a laser beam printer, a process cartridge including the cleaning device, and an image The present invention relates to a forming apparatus.

電子写真方式の画像形成装置は、像保持体(以下、場合により「電子写真感光体」又は「感光体」という)の大幅な感度向上と長寿命化により、従来使用されている領域よりさらに高速、高画質の領域にその用途が広がってきている。   An electrophotographic image forming apparatus is faster than a conventionally used area by greatly improving the sensitivity and extending the life of an image carrier (hereinafter sometimes referred to as “electrophotographic photosensitive member” or “photosensitive member”). , Its application is spreading to high-quality areas.

画像形成装置においては、感光体を用いて、帯電、露光、現像、転写、クリーニングなどの工程を経て画像形成が行われる。画像形成装置のクリーニングシステムには高性能化が望まれており、例えば、特許文献1においては、クリーニング対象物との当接部分がメラミン樹脂発泡体からなるクリーニング部材が提案されている。   In an image forming apparatus, image formation is performed using a photosensitive member through processes such as charging, exposure, development, transfer, and cleaning. For example, Patent Document 1 proposes a cleaning member in which a contact portion with a cleaning object is made of a melamine resin foam.

また、特許文献2には、像保持体に接触する接触帯電ロール等のロール表面のクリーニングに関して、多孔状スポンジロール(以下クリーニングロール)のような樹脂発泡体を連れ周りで接触帯電ロールに接触させ、接触帯電ロール表面に付着した付着物を除去することが開示されている。しかしながら、樹脂発泡体を有するロール(スポンジロール)の製造工程において、ロールの切削粉がロール上に残留してしまうと、画像形成工程においてその切削粉がロールへ転移し、その結果ロール表面の局所的帯電不良を起こし、色点などの画像欠陥を引き起こす。   Further, in Patent Document 2, regarding cleaning of the surface of a roll such as a contact charging roll that comes into contact with the image carrier, a resin foam such as a porous sponge roll (hereinafter referred to as a cleaning roll) is brought into contact with the contact charging roll around. In addition, it is disclosed to remove deposits attached to the surface of the contact charging roll. However, in the manufacturing process of a roll (sponge roll) having a resin foam, if the cutting powder of the roll remains on the roll, the cutting powder is transferred to the roll in the image forming process, and as a result, the roll surface is locally localized. Cause poor charging and image defects such as color spots.

特開2003−66807号公報JP 2003-66807 A 特開平5−297690号公報JP-A-5-297690

本発明は、上記の諸問題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、クリーニングロール製造工程時にロール表面に残留する切削粉の帯電部材及び像保持体への付着を防止し、それに伴う局所的帯電不良及び画像欠陥を改善することができるクリーニング装置を提供することを目的とする。さらに本発明は、上記クリーニング装置を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することを目的とする。   The present invention aims to solve the above problems. That is, the present invention provides a cleaning device capable of preventing adhesion of cutting powder remaining on the roll surface during the cleaning roll manufacturing process to the charging member and the image holding member, and to improve local charging defects and image defects associated therewith. The purpose is to provide. Another object of the present invention is to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the cleaning device.

本発明は以下の<1>、<5>、<6>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>から<4>と共に以下に記載する。
<1> 像保持体に接触可能な第1のロールと、該第1のロールに接触可能な第2のロールとを備え、該第2のロールは芯材の外周に樹脂発泡体を有し、かつ、該樹脂発泡体表面が離型性を有する材料を含有することを特徴とするクリーニング装置、
<2> 該第1のロールが接触帯電ロールである<1>に記載のクリーニング装置、
<3> 該離型性を有する材料がフッ素を含む樹脂である<1>又は<2>に記載のクリーニング装置、
<4> 該像保持体表面がシロキサン系樹脂を含有する<1>から<3>いずれか1つに記載のクリーニング装置、
<5> 少なくとも像担持体と、帯電ロールと、該帯電ロール表面に付着した現像剤を除去するクリーニング手段とを具備すると共に、画像形成装置に対して脱着可能なプロセスカートリッジであって、前記クリーニング手段が、<1>から<4>いずれか1つに記載のクリーニング装置であることを特徴とするプロセスカートリッジ、
<6> 少なくとも像担持体と、前記像担持体の表面を帯電する帯電手段と、前記像担持体表面を露光し潜像を形成する露光手段と、前記潜像を現像剤担持体に担持した現像剤で現像する現像手段と、現像像を被転写体に転写する転写手段と、帯電部材の残留トナーを除去するクリーニング手段とを具備する画像形成装置であって、前記クリーニング手段が、<1>から<4>いずれか1つに記載のクリーニング装置であることを特徴とする画像形成装置。
The present invention has been solved by means described in the following <1>, <5>, and <6>. It is described below together with <2> to <4> which are preferred embodiments.
<1> A first roll that can contact the image holding member and a second roll that can contact the first roll, and the second roll has a resin foam on the outer periphery of the core member. And a cleaning device characterized in that the surface of the resin foam contains a releasable material,
<2> The cleaning device according to <1>, wherein the first roll is a contact charging roll,
<3> The cleaning device according to <1> or <2>, wherein the material having releasability is a resin containing fluorine,
<4> The cleaning device according to any one of <1> to <3>, wherein the surface of the image carrier contains a siloxane-based resin,
<5> A process cartridge that includes at least an image carrier, a charging roll, and a cleaning unit that removes the developer attached to the surface of the charging roll, and is detachable from an image forming apparatus. A process cartridge, wherein the means is the cleaning device according to any one of <1> to <4>;
<6> At least the image carrier, charging means for charging the surface of the image carrier, exposure means for exposing the surface of the image carrier to form a latent image, and the latent image carried on the developer carrier. An image forming apparatus comprising: a developing unit that develops with a developer; a transfer unit that transfers a developed image to a transfer target; and a cleaning unit that removes residual toner on the charging member. > To <4> An image forming apparatus according to any one of the above.

本発明によれば、クリーニングロール製造工程時にロール表面に残留する切削粉の帯電部材への付着を防止し、それに伴う局所的帯電不良及び画像欠陥を改善することのできるクリーニング装置を提供することができる。さらに本発明によれば、前記クリーニング装置を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a cleaning device capable of preventing adhesion of cutting powder remaining on a roll surface to a charging member during a cleaning roll manufacturing process and improving local charging failure and image defect associated therewith. it can. Furthermore, according to the present invention, a process cartridge and an image forming apparatus using the cleaning device can be provided.

(クリーニング装置)
本発明のクリーニング装置は、像保持体に接触可能な第1のロールと、該第1のロールに接触可能な第2のロールとを備え、該第2のロールは芯材の外周に樹脂発泡体を有し、かつ、該樹脂発泡体表面が離型性を有する材料を含有することを特徴とする。
本発明において、第1ロールは接触帯電ロールであることが好ましい。
(Cleaning device)
The cleaning device of the present invention includes a first roll that can contact the image carrier and a second roll that can contact the first roll, and the second roll is foamed with resin on the outer periphery of the core material. And the resin foam surface contains a material having releasability.
In the present invention, the first roll is preferably a contact charging roll.

本発明は、像保持体に接触可能な接触帯電ロール等のロール表面のクリーニングに関するものである。従来、このような像保持体に接触可能なロール部材(第1のロール)をクリーニングするために、樹脂発泡体(好ましくは、多孔状スポンジロールのような連続気泡構造を有する樹脂発泡体)(第2のロール)を、連れ周りで接触帯電ロールに接触させ、該接触帯電ロール表面に付着した付着物を除去することが行われている。しかし、樹脂発泡体を有する第2のロールの製造工程において、研磨粉等の切削粉がロール上及び発泡体内部に残留する。第2のロール上の切削粉が画像形成工程において第1のロールへ転移すると、第1のロールが帯電ロールである場合には、表面の局所的帯電不良を起こし、色点などの画像欠陥等を引き起こす。また、さらに第1のロールから像保持体へと切削粉が転移すれば、現像不良を起こし、結果的に画像欠陥を引き起こす。
また、特に帯電履歴によって接触帯電ロールの離型性が低下した場合に、このような切削粉の転移が生じ、連れ周り式のクリーニングロールでは、このような切削粉の除去が困難であった。
本発明では、第2のロール表面が離型性を有する材料を含有するので、第2のロール表面に残留する切削粉が第1のロール及び/又は像保持体に付着することを大幅に抑制することができ、局所帯電不良や現像不良に基づく画像欠陥を軽減することができる。その結果、長期に渡って安定した画像を得ることが可能である。
The present invention relates to cleaning of the surface of a roll such as a contact charging roll that can come into contact with an image carrier. Conventionally, a resin foam (preferably a resin foam having an open cell structure such as a porous sponge roll) (in order to clean a roll member (first roll) that can come into contact with such an image carrier ( The second roll) is brought into contact with the contact charging roll around the door and the deposits adhered to the surface of the contact charging roll are removed. However, in the manufacturing process of the second roll having the resin foam, cutting powder such as abrasive powder remains on the roll and inside the foam. When the cutting powder on the second roll is transferred to the first roll in the image forming step, when the first roll is a charging roll, a local charge failure occurs on the surface, and image defects such as a color point, etc. cause. Further, if the cutting powder further transfers from the first roll to the image carrier, development failure occurs, and as a result, image defects are caused.
In particular, when the releasability of the contact charging roll is lowered due to the charging history, such cutting powder transfer occurs, and it is difficult to remove such cutting powder with the accompanying cleaning roller.
In the present invention, since the second roll surface contains a material having releasability, it is greatly suppressed that the cutting powder remaining on the second roll surface adheres to the first roll and / or the image carrier. Image defects based on local charging failure and development failure can be reduced. As a result, it is possible to obtain a stable image over a long period of time.

図1は、本発明のクリーニング装置の好適な一実施形態を示す説明図である。また、図2は図1に示されるクリーニング装置の第2のロールを示す斜視図である。また、図3は、図2に示される第2のロールのII−II線方向の概略断面図である。
図1に示すように、本発明のクリーニング装置10は、像保持体12に接触可能な第1のロール14と該第1のロールに接触可能な第2のロール16を有する。本発明において、像保持体12は、円筒形であることが好ましく、第1のロール14及び第2のロール16は、それぞれ追従して回転するように配置されていることが好ましい。
FIG. 1 is an explanatory view showing a preferred embodiment of the cleaning device of the present invention. 2 is a perspective view showing a second roll of the cleaning device shown in FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the second roll shown in FIG. 2 in the II-II line direction.
As shown in FIG. 1, the cleaning device 10 of the present invention has a first roll 14 that can contact the image carrier 12 and a second roll 16 that can contact the first roll. In the present invention, the image carrier 12 is preferably cylindrical, and the first roll 14 and the second roll 16 are preferably arranged to rotate following each other.

図2及び図3を参照すれば、本発明において、第2のロール16は、棒状の支持部3と、該支持部3の外周面上に形成された当接部5とを備える。
支持部3は、円柱状の棒状の部材である。支持部3の材質は特に制限されず、例えば金属又は樹脂等の材料が挙げられる。なお、支持部3が樹脂から構成される場合には、目的に応じて導電性物質を含有させるなどして、導電性を付与してもよい。支持部3としては、例えば、シャフトが使用される。
Referring to FIGS. 2 and 3, in the present invention, the second roll 16 includes a rod-like support portion 3 and a contact portion 5 formed on the outer peripheral surface of the support portion 3.
The support part 3 is a columnar rod-shaped member. The material in particular of the support part 3 is not restrict | limited, For example, materials, such as a metal or resin, are mentioned. In addition, when the support part 3 is comprised from resin, according to the objective, you may provide electroconductivity, for example by containing an electroconductive substance. As the support part 3, for example, a shaft is used.

当接部5は、支持部3の外周面上に略均一な膜厚で形成され、略円筒状である。当接部5は、樹脂発泡体で構成され、さらに本発明において、該樹脂発泡体表面が離型性を有する材料を含有する。また、本発明において、樹脂発泡体は、連続気泡構造を有する樹脂発泡体であることが好ましい。
当接部5の膜厚は目的に応じて適宜選択することができるが、1mm以上50mm以下であることが好ましく、1mm以上15mm以下であることがより好ましい。
第2のロール全体の半径は2mm以上100mm以下であることが好ましく、2mm以上40mm以下であることがさらに好ましい。
The contact portion 5 is formed on the outer peripheral surface of the support portion 3 with a substantially uniform film thickness and has a substantially cylindrical shape. The contact portion 5 is made of a resin foam, and in the present invention, the surface of the resin foam contains a material having releasability. In the present invention, the resin foam is preferably a resin foam having an open cell structure.
Although the film thickness of the contact part 5 can be suitably selected according to the objective, it is preferable that they are 1 mm or more and 50 mm or less, and it is more preferable that they are 1 mm or more and 15 mm or less.
The radius of the entire second roll is preferably 2 mm or more and 100 mm or less, and more preferably 2 mm or more and 40 mm or less.

本発明において、離型性を有する材料としては、一般に離型性を向上させる目的で使用される公知の材料を適宜使用することができる。本発明において、離型性を有する材料は一種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
離型性を有する材料として、離型樹脂、離型剤及びその他の材料を例示することができる。
In the present invention, as the material having releasability, a known material generally used for the purpose of improving releasability can be appropriately used. In this invention, the material which has mold release property may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
Examples of the material having releasability include a release resin, a release agent, and other materials.

<離型樹脂>
離型樹脂としてはポリオレフィン系樹脂、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレン及びクロロスルホン化ポリエチレン;ポリビニル及びポリビニリデン系樹脂、例えばポリスチレン、アクリル樹脂(例えばポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコ−ル、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルエーテル及びポリビニルケトン;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体;スチレン−アクリル酸共重合体;オルガノシロキサン結合からなるストレートシリコーン樹脂のようなシリコン樹脂又はその変性品(例えばアルキッド樹脂、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン等による変性品);フッ素樹脂、例えばポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン等の重合体又は共重合体;が挙げられる。
<Release resin>
Examples of the release resin include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, chlorinated polyethylene and chlorosulfonated polyethylene; polyvinyl and polyvinylidene resins such as polystyrene and acrylic resins (for example, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol). , Polyvinyl butyral, polyvinyl chloride, polyvinyl carbazole, polyvinyl ether and polyvinyl ketone; vinyl chloride-vinyl acetate copolymer; styrene-acrylic acid copolymer; silicone resin such as straight silicone resin composed of organosiloxane bond or its Modified products (for example, modified products by alkyd resin, polyester, epoxy resin, polyurethane, etc.); Fluorine resin, for example polytetrafluoroethylene Ren, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, and copolymers such as polychlorotrifluoroethylene; and the like.

<離型剤>
離型剤としては、一般に離型剤として使用されている各種ワックスが使用できる。
離型剤の具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類;加熱により軟化点を有するシリコーン類;オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪酸アミド類;カルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス;ミツロウ等の動物系ワックス;モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物・石油系ワックス;脂肪酸エステル、モンタン酸エステル、カルボン酸エステル等のエステル系ワックスなどが挙げられる。本発明において、これらの離型剤は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Release agent>
As the release agent, various waxes generally used as a release agent can be used.
Specific examples of the release agent include low molecular weight polyolefins such as polyethylene, polypropylene and polybutene; silicones having a softening point by heating; fatty acid amides such as oleic acid amide, erucic acid amide, ricinoleic acid amide and stearic acid amide Plant waxes such as carnauba wax, rice wax, candelilla wax, tree wax, jojoba oil; animal waxes such as beeswax; minerals such as montan wax, ozokerite, ceresin, paraffin wax, microcrystalline wax, and Fischer-Tropsch wax -Petroleum waxes; ester waxes such as fatty acid esters, montanic acid esters, and carboxylic acid esters. In this invention, these mold release agents may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

<その他の材料>
その他の材料としてはグラファイト、二硫化モリブデン、加熱により軟化点を有するシリコーン類、及びそれらの変性物が使用でき、これらを単独で使用するか、あるいは併用してもよい。
<Other materials>
As other materials, graphite, molybdenum disulfide, silicones having a softening point by heating, and modified products thereof may be used alone or in combination.

また、離型性を有する材料として、各種微粒子を使用することもできる。
前記微粒子としては、4弗化エチレン、3弗化エチレン、6弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系微粒子や、「第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集」、89頁に示されるような、後述するフッ素樹脂(フッ素を含む樹脂)と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる微粒子が例示できる。
また、ZnO−Al23、SnO2−Sb23、In23−SnO2、ZnO−TiO2、ZnO−TiO2、MgO−Al23、FeO−TiO2、TiO2、SnO2、In23、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物を例示することができる。
Various fine particles can also be used as a material having releasability.
Examples of the fine particles include fluorine-based fine particles such as ethylene tetrafluoride, trifluoride ethylene, propylene hexafluoride, vinyl fluoride, vinylidene fluoride, and the “Proceedings of the 8th Polymer Materials Forum Lecture”, page 89. Examples thereof include fine particles made of a resin obtained by copolymerizing a fluororesin (resin containing fluorine) described later and a monomer having a hydroxyl group.
Also, ZnO—Al 2 O 3 , SnO 2 —Sb 2 O 3 , In 2 O 3 —SnO 2 , ZnO—TiO 2 , ZnO—TiO 2 , MgO—Al 2 O 3 , FeO—TiO 2 , TiO 2 , Examples thereof include semiconductive metal oxides such as SnO 2 , In 2 O 3 , ZnO, and MgO.

これらの中でも、離型性を有する材料がフッ素を含む樹脂であることが好ましい。
フッ素を含む樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、テトラフルオロエチレン(TFE)樹脂、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)樹脂、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、CTFE−エチレン共重合体、PFA(TFE−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体)、FEP(TFE−ヘキサフルオロプロピレン(HFP)共重合体)、EPE(TFE−HFP−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体)、等が挙げられる。
上記フッ素を含む樹脂(フッ素樹脂)の粒子を樹脂材料中に分散させて用いられるが、この樹脂材料としては、ポリマーセグメントが直鎖状に結合した脂肪族ポリエステル樹脂、分子内にソフトセグメントを有するポリウレタン樹脂、フッ素ゴム等が挙げられる。これらの樹脂材料は、それ自体柔軟性を有するので、樹脂発泡体表面に柔軟性を付与することができる。
また上記フッ素樹脂の粒子を樹脂発泡体中に分散させて用いることも可能である。
Among these, it is preferable that the material having releasability is a resin containing fluorine.
The fluorine-containing resin is not particularly limited. For example, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride (PVDF), tetrafluoroethylene (TFE) resin, chlorotrifluoroethylene (CTFE) resin, ethylene-tetrafluoro Ethylene copolymer (ETFE), CTFE-ethylene copolymer, PFA (TFE-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer), FEP (TFE-hexafluoropropylene (HFP) copolymer), EPE (TFE-HFP-par) Fluoroalkyl vinyl ether copolymer) and the like.
The fluorine-containing resin (fluorine resin) particles are used by being dispersed in a resin material. The resin material includes an aliphatic polyester resin in which polymer segments are linearly bonded, and a soft segment in the molecule. Examples thereof include polyurethane resin and fluororubber. Since these resin materials have flexibility in themselves, the resin foam surface can be provided with flexibility.
It is also possible to use the fluororesin particles dispersed in a resin foam.

樹脂発泡体は、通常よく知られる合成樹脂を原料として構成される。原料となる樹脂として好適なものとしては、例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ビスコース、アイオノマー等の熱可塑性樹脂、又はウレタン樹脂、ラバー、エポキシ樹脂、フェノール/ユリア樹脂、メラミン樹脂、ピラニル樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。
原料となる樹脂としては、その硬度や耐久性の点で熱硬化性樹脂が好ましく、熱硬化性樹脂の中でもウレタン樹脂、メラミン樹脂等がより好ましい。
The resin foam is formed from a generally well-known synthetic resin. Examples of suitable resins as raw materials include thermoplastic resins such as polyethylene, polyvinyl chloride, polystyrene, polyvinyl alcohol, viscose and ionomer, or urethane resins, rubbers, epoxy resins, phenol / urea resins, and melamine resins. , Thermosetting resins such as pyranyl resin, silicone resin, and acrylic resin.
As the raw material resin, a thermosetting resin is preferable in terms of its hardness and durability, and among the thermosetting resins, a urethane resin, a melamine resin, and the like are more preferable.

ここで、原料がウレタン樹脂である場合、ポリオール成分としては疎水性及び親水性のいかなるポリオールでも使用できるが、経済性、取扱性の点で、ポリプロピレングリコール及びエチレンオキサイド付加体のポリエーテル系のポリオール等が好ましく用いられる。
一方、イソシアネート成分としては、2,6−トルエンジイソシアネート(TDI)、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、パラフェニルメタンジイソシアネート(PPMDI)、パラフェニレンジイソシアネート(PPDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート(NDI)、3,3−ジメチルジフェニル−4,4’−ジイソシアネート(TODI)等を挙げることができる。中でも経済性、取扱性の点からMDI、TDIが好ましく使用される。
Here, when the raw material is a urethane resin, any hydrophobic or hydrophilic polyol can be used as the polyol component, but from the viewpoint of economy and handling properties, polypropylene glycol and an ethylene oxide adduct polyether-based polyol. Etc. are preferably used.
On the other hand, as the isocyanate component, 2,6-toluene diisocyanate (TDI), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), paraphenylmethane diisocyanate (PPMDI), paraphenylene diisocyanate (PPDI), 1,5-naphthalene diisocyanate ( NDI), 3,3-dimethyldiphenyl-4,4′-diisocyanate (TODI) and the like. Of these, MDI and TDI are preferably used from the viewpoints of economy and handleability.

樹脂発泡体には、その効果を増進するために、上述した構成材料に加えて、その他各種の添加剤を含有させることが好ましい。例えば、樹脂発泡体の網目構造中に取り込まれた酸化性物質の影響を低減するための酸化防止剤、劣化防止剤、第2のクリーニングロール16と第1のクリーニングロール14とのすべり性を向上させるための潤滑剤等が挙げられる。   In order to enhance the effect, the resin foam preferably contains various other additives in addition to the above-described constituent materials. For example, an antioxidant for reducing the influence of an oxidizing substance incorporated in the network structure of the resin foam, an anti-degradation agent, and improved slipperiness between the second cleaning roll 16 and the first cleaning roll 14 And a lubricant for the purpose.

酸化防止剤、劣化防止剤としては、耐酸化性の向上の目的で一般に画像形成装置の感光体中に添加されるものと同様の酸化防止剤や劣化防止剤を用いることができる。具体的には、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられ、フェノール系酸化防止剤が比較的よく使用される。   As the antioxidant and the deterioration preventing agent, the same antioxidant and deterioration preventing agent as those generally added to the photoreceptor of the image forming apparatus for the purpose of improving the oxidation resistance can be used. Specifically, examples of the antioxidant include hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, arylalkane, hydroquinone, spirochroman, spiroidanone and their derivatives, organic sulfur compounds, organic phosphorus compounds, and the like. Antioxidants are relatively often used.

より具体的には、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、スチレン化フェノール、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−t−ブチル−6−(3’−t−ブチル−5’−メチル−2’−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、4,4’−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−t−ブチル−フェノール)、4,4’−チオ−ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート]−メタン等が挙げられる。これらの酸化防止剤、劣化防止剤は、樹脂発泡体の総重量を基準として、0.01重量%以上20重量%以下の範囲で添加されることが好ましい。   More specifically, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, styrenated phenol, n-octadecyl-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) -Propionate, 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-t-butyl-6- (3'-t-butyl-5'-methyl-2'-hydroxybenzyl) ) -4-methylphenyl acrylate, 4,4′-butylidene-bis- (3-methyl-6-tert-butyl-phenol), 4,4′-thio-bis- (3-methyl-6-tert-butylphenol) ), 1,3,5-tris (4-t-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) isocyanurate, tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-) 4'-hydroxy - phenyl) propionate] - methane, and the like. These antioxidants and deterioration inhibitors are preferably added in the range of 0.01 wt% to 20 wt% based on the total weight of the resin foam.

上記潤滑剤としては、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸銅、パルチミン酸マグネシウム、オレイン酸亜鉛等の固体潤滑剤を利用することができる。   As the lubricant, solid lubricants such as zinc stearate, copper stearate, magnesium palmitate and zinc oleate can be used.

樹脂発泡体を製造する際には、まず、上述した樹脂、及びその他の必要な材料(無機粒子、酸化防止剤など)を混合する。
そして、得られた混合物を金型に注入し、加熱硬化させて樹脂発泡体を製造する。なお、第2のロールは、シャフトがセットされた金型や円筒状の金型を使用して製造することができる。このように、樹脂発泡体の製造と共に所定の形状に形成された場合には、そのままの形状で当接部5として使用することが可能である。
また、必要に応じて、成形体を切削、研磨するなど加工処理を施すことが行われる。
When manufacturing a resin foam, first, the above-described resin and other necessary materials (inorganic particles, antioxidant, etc.) are mixed.
And the obtained mixture is inject | poured into a metal mold | die and it heat-hardens and manufactures a resin foam. The second roll can be manufactured using a mold in which a shaft is set or a cylindrical mold. Thus, when formed into a predetermined shape together with the production of the resin foam, it can be used as the contact portion 5 in the same shape.
Further, if necessary, a processing such as cutting and polishing the molded body is performed.

また、樹脂発泡体がウレタン樹脂フォームの場合には、ワンショット法やプレポリマー法を用いることができる(例えば、最新ポリウレタン材料と応用技術、シーエムシー出版、松永勝治監修、参照)。
例えば、ワンショット法ならば、ポリオール、トリレンジイソシアネート、触媒、界面活性剤及び水、並びに必要に応じて導電性を付与するための導電性材料、その他の添加剤を同時に混合撹拌する。起泡した反応混合物を金型に注入し、50℃以上90℃以下程度で数時間加熱硬化を行うことにより、樹脂発泡体は製造される。
また、プレポリマー法では、まず、ポリオール及びトリレンジイソシアネートからプレポリマーを調製する。次に、得られたプレポリマー、プレポリマー調製時と同じ又は異なるポリオール、触媒、界面活性剤及び水、並びに、必要に応じてその他の添加剤を同時に混合撹拌する。そして、この起泡した反応混合物を用い、以降ワンショット法と同様の方法にて樹脂発泡体を製造する。
When the resin foam is a urethane resin foam, a one-shot method or a prepolymer method can be used (for example, see the latest polyurethane material and applied technology, CM Publishing, supervised by Katsuharu Matsunaga).
For example, in the one-shot method, a polyol, tolylene diisocyanate, a catalyst, a surfactant and water, and a conductive material for imparting conductivity, if necessary, and other additives are mixed and stirred at the same time. The foamed reaction mixture is poured into a mold and heat-cured at about 50 ° C. to 90 ° C. for several hours to produce a resin foam.
In the prepolymer method, first, a prepolymer is prepared from a polyol and tolylene diisocyanate. Next, the resulting prepolymer, the same or different polyol, catalyst, surfactant and water as in the prepolymer preparation, and other additives as necessary are mixed and stirred at the same time. Then, using this foamed reaction mixture, a resin foam is produced in the same manner as the one-shot method.

また、樹脂発泡体がメラミン樹脂発泡体の場合には、一般的には主原料であるメラミン及びホルムアルデヒド等に、触媒及び乳化剤等を配合し、さらに発泡剤を添加して混合する。その後、電子線を照射する等の方法により製造することができる。   When the resin foam is a melamine resin foam, a catalyst, an emulsifier and the like are generally blended with melamine and formaldehyde which are main raw materials, and a foaming agent is added and mixed. Then, it can manufacture by methods, such as irradiating an electron beam.

樹脂発泡体としては、さらに特開2003−66807号公報に記載されるように、発泡構造を三次元網目状構造にすることがより好ましい。ここで、「三次元網目状構造」とは、微細なサブミクロンオーダーの繊維状の樹脂がきめ細かく絡み合った状態で三次元的に結びついており、微細なセルが形成された構造をいう。   As the resin foam, it is more preferable that the foam structure is a three-dimensional network structure as described in JP-A-2003-66807. Here, the “three-dimensional network structure” refers to a structure in which fine sub-micron order fibrous resins are three-dimensionally linked in a finely intertwined state to form fine cells.

なお、樹脂発泡体を三次元網目状構造とする場合には、例えば、以下のようにして形成することができる。すなわち、発泡させる樹脂と特定の溶剤に溶解する樹脂とを十分に混練し熱硬化させた後、特定の溶剤に浸漬することで発泡樹脂部分だけが残った三次元網目構造とすることができる。   In addition, when making a resin foam into a three-dimensional network structure, it can form as follows, for example. That is, the resin to be foamed and the resin dissolved in the specific solvent are sufficiently kneaded and thermally cured, and then immersed in the specific solvent to obtain a three-dimensional network structure in which only the foamed resin portion remains.

本発明において、樹脂発泡体表面は離型性を有する材料を含有する。
離型性を有する材料は、樹脂発泡体を形成する際に樹脂材料に混合することもできるし、樹脂発泡体を形成した後に、離型性を有する材料をコーティングすることもできる。
樹脂発泡体を形成する際に離型性を有する材料を添加する場合は、樹脂発泡体の樹脂100重量部に対して、10重量部以上50重量部以下添加することが好ましく、10重量部以上40重量部以下添加することがより好ましい。離型性を有する材料の添加量が上記範囲内であると、第2のロールの離型性が良好であり、切削粉等の第1のロールへの付着が効果的に抑制できるので好ましい。
In the present invention, the resin foam surface contains a material having releasability.
The material having releasability can be mixed with the resin material when forming the resin foam, or the material having releasability can be coated after forming the resin foam.
When adding a material having releasability when forming the resin foam, it is preferable to add 10 parts by weight or more and 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin of the resin foam. It is more preferable to add 40 parts by weight or less. It is preferable that the addition amount of the material having releasability is within the above range since the releasability of the second roll is good and adhesion of cutting powder or the like to the first roll can be effectively suppressed.

樹脂発泡体表面に離型性を有する材料をコーティングする方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
例えばスプレー法により、好ましくは3μm以上60μm以下の厚み、より好ましくは5μm以上30μm以下の厚みの層を形成することができる。膜厚が3μm以上であると、表面層の摩耗による前記樹脂発泡体の露出が生じないので好ましい。また表面層を塗布法で形成する場合、均一な膜厚を形成することができるので好ましい。一方、膜厚が60μm以下であると、表面に液たまりが生じ難く、三次元網目構造に沿った平滑かつ均一な塗膜を安定して形成することができるので好ましい。
As a method for coating a resin foam surface with a releasable material, a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, etc. This method can be used.
For example, a layer having a thickness of preferably 3 μm or more and 60 μm or less, more preferably 5 μm or more and 30 μm or less can be formed by a spray method. When the film thickness is 3 μm or more, the resin foam is not exposed due to abrasion of the surface layer, which is preferable. Moreover, when forming a surface layer with the apply | coating method, since a uniform film thickness can be formed, it is preferable. On the other hand, it is preferable that the film thickness is 60 μm or less because a liquid pool hardly forms on the surface and a smooth and uniform coating film along the three-dimensional network structure can be stably formed.

スプレーコーティング用の組成物としては、樹脂中にフッ素樹脂、アクリル樹脂などの離型性・潤滑性微粒子を分散させたものや、シリコンや、アクリルなどのハードコート剤を使用することができる。
具体的には、離型性・潤滑性微粒子としては、上述したものを使用することができる。
さらに、樹脂表面に対し、フッ素系樹脂を必須成分とする改質樹脂の水性分散液を塗布、あるいは浸漬処理こともできる。
As the composition for spray coating, a resin in which releasable / lubricating fine particles such as a fluororesin and an acrylic resin are dispersed in a resin, or a hard coating agent such as silicon or acrylic can be used.
Specifically, as the releasable / lubricating fine particles, those described above can be used.
Further, an aqueous dispersion of a modified resin containing a fluororesin as an essential component can be applied or dipped on the resin surface.

表面層を処理するフッ素系樹脂を必須成分とする改質樹脂の水性分散液について説明する。
フッ素系樹脂としては、テトラフルオロエチレンのホモポリマー又はテトラフルオロエチレンとオレフィン、含フッ素オレフィン、パーフルオロオレフィン、フルオロアルキルビニルエーテルなどとのコポリマー、フッ化ビニリデンのホモポリマー又はフッ化ビニリデンとオレフィン、含フッ素オレフィン、パーフルオロオレフィン、フルオロアルキルビニルエーテルなどとのコポリマー、クロロトリフルオロエチレンのホモポリマー又はクロロトリフルオロエチレンとオレフィン、含フッ素オレフィン、パーフルオロオレフィン、フルオロアルキルビニルエーテルなどとのコポリマーなどが挙げられる。特に、テトラフルオロエチレンのホモポリマー又はコポリマーが好ましく、また、テトラフルオロエチレンのホモポリマーと各種コポリマーを重量比で95:5から10:90で混合して用いることも好ましい。
フッ素系樹脂を必須成分とする改質樹脂は、水性分散液として用いられるが、この水性分散液にはさらにワックス及び/又はシリコーンを含有させることもできる。ワックス及び/又はシリコーンを含有させることにより、フッ素系樹脂が樹脂発泡体内部に浸透することを促進するため好ましい。ここで、ワックスとしては、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペロトラタムなど、シリコーンとしては、シリコーンオイル、シリコーングリス、オイルコンパウンド、シリコーンワニスなどが挙げられる。
フッ素系樹脂を必須成分とする改質樹脂の水性分散液には、必要によって、フッ素系あるいはその他ノニオン系、カチオン系、アニオン系又は両性界面活性剤、pH調整剤、溶剤、多価アルコール、柔軟剤、粘度調整剤、光安定剤、酸化防止剤などを混合することもできる。
An aqueous dispersion of a modified resin containing a fluororesin for treating the surface layer as an essential component will be described.
Fluorocarbon resins include tetrafluoroethylene homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene and olefins, fluorine-containing olefins, perfluoroolefins, fluoroalkyl vinyl ethers, vinylidene fluoride homopolymers or vinylidene fluoride and olefins, fluorine-containing Examples thereof include copolymers with olefins, perfluoroolefins, fluoroalkyl vinyl ethers, homopolymers of chlorotrifluoroethylene, and copolymers of chlorotrifluoroethylene with olefins, fluorine-containing olefins, perfluoroolefins, fluoroalkyl vinyl ethers, and the like. In particular, a homopolymer or copolymer of tetrafluoroethylene is preferable, and it is also preferable to use a mixture of tetrafluoroethylene homopolymer and various copolymers in a weight ratio of 95: 5 to 10:90.
The modified resin containing a fluorine-based resin as an essential component is used as an aqueous dispersion, and the aqueous dispersion may further contain a wax and / or silicone. By containing wax and / or silicone, it is preferable to promote the penetration of the fluororesin into the resin foam. Here, examples of the wax include paraffin wax, microcrystalline wax, and perotratam. Examples of the silicone include silicone oil, silicone grease, oil compound, and silicone varnish.
For aqueous dispersions of modified resins containing fluorine resin as an essential component, fluorine-based or other nonionic, cationic, anionic or amphoteric surfactants, pH adjusters, solvents, polyhydric alcohols, flexible An agent, a viscosity modifier, a light stabilizer, an antioxidant and the like can also be mixed.

第2のロールの好適な他の実施形態を図4を用いて説明する。図4は、本発明に使用できる第2のロールの他の好適な実施形態を示す概略断面図である。
図4に示される第2のロールは、支持部3と、該支持部3の外周面上に形成された接着部4と、該接着部4の外周面上に形成された当接部5とを備える。
図4に示す第2のロールの支持部3及び当接部5は、図2に示される支持部3及び当接部5と同様の構成とすることができる。また、接着部4は、通常使用される樹脂を用いて構成することができる。かかる接着部4により、支持部3と当接部5との接着性の向上、また第2のロールの弾性を調整することが可能となる。なお、接着部4は、複数の層から構成されていてもよい。
本発明おいて、離型性を有する材料を少なくとも当接部5の表面に含有していればよい。また、離型性を有する材料は、接着部4及び当接部5の双方が含有していてもよい。また、接着部を有する第2のロールを形成後、上述したスプレーコーティング法により、離型性を有する材料を第2のロール表面にコートしてもよい。
Another preferred embodiment of the second roll will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another preferred embodiment of the second roll that can be used in the present invention.
The second roll shown in FIG. 4 includes a support portion 3, an adhesive portion 4 formed on the outer peripheral surface of the support portion 3, and a contact portion 5 formed on the outer peripheral surface of the adhesive portion 4. Is provided.
The support part 3 and the contact part 5 of the second roll shown in FIG. 4 can have the same configuration as the support part 3 and the contact part 5 shown in FIG. Moreover, the adhesion part 4 can be comprised using resin normally used. Such an adhesive part 4 makes it possible to improve the adhesion between the support part 3 and the contact part 5 and to adjust the elasticity of the second roll. In addition, the adhesion part 4 may be comprised from several layers.
In the present invention, the material having releasability may be contained at least on the surface of the contact portion 5. Moreover, the material which has mold release property may contain both the adhesion part 4 and the contact part 5. FIG. Moreover, after forming the 2nd roll which has an adhesion part, you may coat the material which has mold release property on the 2nd roll surface by the spray coating method mentioned above.

第2のロールとしては、上記の実施形態に限定されず、例えば、離型性を有する材料、あるいはさらに無機粒子を含有する樹脂発泡体をシート状に形成し、かかるシート状の樹脂発泡体を、樹脂含有層を形成したシャフト上に巻きつけるなどして構成してもよい。また、シート状の樹脂発泡体を切断した細条を、シャフト上に巻きつけてロール形状に構成してもよい。   The second roll is not limited to the above-described embodiment. For example, a resin foam containing a releasable material or further containing inorganic particles is formed into a sheet shape, and the sheet-shaped resin foam is used as the second roll. Alternatively, it may be configured by wrapping around a shaft on which a resin-containing layer is formed. Moreover, you may comprise the strip which cut | disconnected the sheet-like resin foam on the shaft, and you may comprise in roll shape.

(画像形成装置及びプロセスカートリッジ)
図5及び図6は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を示す模式図である。図5に示す画像形成装置100は、感光体(像保持体)110と、感光体110を接触方式により帯電させる帯電装置120と、帯電した電子写真感光体110を露光して静電潜像を形成させる露光装置130と、静電潜像を現像してトナー像を形成させる現像装置140と、現像装置140により感光体110に現像されたトナー像を被転写媒体に転写する転写装置150と、転写後の感光体110をクリーニングする感光体クリーニング装置(以下、単にクリーニング装置ともいう。)170と、定着装置160とを備える。なお、画像形成装置100において、感光体110は円筒形状であり、露光装置130、現像装置140、転写装置150及びクリーニング装置170は、感光体110の周方向に沿って、この順に配置されている。また、被転写材は搬送ロール180により転写装置へ搬送される。
(Image forming apparatus and process cartridge)
5 and 6 are schematic views showing the basic configuration of a preferred embodiment of the image forming apparatus of the present invention. An image forming apparatus 100 shown in FIG. 5 exposes a photosensitive member (image holding member) 110, a charging device 120 that charges the photosensitive member 110 by a contact method, and the charged electrophotographic photosensitive member 110 to form an electrostatic latent image. An exposure device 130 for forming, a developing device 140 for developing a toner image by developing an electrostatic latent image, a transfer device 150 for transferring a toner image developed on the photoconductor 110 by the developing device 140 to a transfer medium, A photoconductor cleaning device (hereinafter also simply referred to as a cleaning device) 170 for cleaning the photoconductor 110 after transfer and a fixing device 160 are provided. In the image forming apparatus 100, the photoconductor 110 has a cylindrical shape, and the exposure device 130, the developing device 140, the transfer device 150, and the cleaning device 170 are arranged in this order along the circumferential direction of the photoconductor 110. . Further, the transfer material is transported to a transfer device by a transport roll 180.

図6を参照すれば、像担持体である感光体110は、矢印R1方向に所定の周速度を持って回転駆動される。直接帯電部材として帯電ロール122は、この感光体110の外周面に対して所定の押圧力を持って当接しており、本例のものは感光体110の矢印R1方向の回転駆動に伴い矢印R2方向に従動回転する。帯電ロール122は、電源(不図示)によって所定のバイアス電圧が印加されている。このようにして帯電ロール122により感光体110の外周面全体が所定の電位に均一帯電される。   Referring to FIG. 6, the photoconductor 110, which is an image carrier, is rotationally driven with a predetermined peripheral speed in the arrow R1 direction. The charging roll 122 as a direct charging member is in contact with the outer peripheral surface of the photoconductor 110 with a predetermined pressing force. In this example, the rotation of the photoconductor 110 in the direction of arrow R1 causes the arrow R2 to rotate. Rotate following direction. A predetermined bias voltage is applied to the charging roll 122 by a power source (not shown). In this way, the entire outer peripheral surface of the photoconductor 110 is uniformly charged to a predetermined potential by the charging roll 122.

次いで、この感光体110の外周の均一帯電処理面に対して、露光装置130からの露光レーザー(レーザー露光路を135に示す)により光像露光がなされ、これにより帯電処理面には、目的画像情報に対応した静電潜像が形成される。
この静電潜像は次いで、現像装置140において現像剤(トナー)が付着されてトナーが現像される。このトナー像は、不図示の給紙部から搬送ロール180により搬送された被記録材に感光体110から転写装置150によって適切なタイミングで転写される。また、転写装置を経た被記録材は、定着装置160へ搬送される。
像転写後の感光体110は、感光体クリーニング装置170によって転写残りトナー等の付着汚染物の除去を受けて清浄面化されて、繰り返して作像に供される。
Next, the uniformly charged surface on the outer periphery of the photoconductor 110 is exposed to an optical image by an exposure laser from the exposure device 130 (laser exposure path is indicated by 135). An electrostatic latent image corresponding to the information is formed.
Next, the developer (toner) is attached to the electrostatic latent image in the developing device 140 to develop the toner. This toner image is transferred from the photosensitive member 110 to the recording material conveyed by the conveyance roll 180 from a paper supply unit (not shown) by the transfer device 150 at an appropriate timing. Further, the recording material that has passed through the transfer device is conveyed to the fixing device 160.
After the image transfer, the photoconductor 110 is cleaned by the photoconductor cleaning device 170 to remove adhering contaminants such as residual toner, and is repeatedly used for image formation.

図5及び図6において、感光体クリーニング装置は、ブレードクリーニング方式であり、クリーニングブレード171の先端エッジ部を感光体110の面移動方向に対してカウンタの方向に所定の押圧力を持って当接させてある。このブレード171の当接エッジ部によって、感光体110はその外周面の転写残りトナーなどが拭掃除去されて感光体110面が清浄面化される。クリーニングブレード171には一般に製造時に固体潤滑剤であるポリ弗化ビニリデンが塗布されており、装置の初期使用時のいわゆるブレードめくれの発生を防止するようにしている。   5 and 6, the photoconductor cleaning device is a blade cleaning system, and the front edge portion of the cleaning blade 171 is brought into contact with the surface movement direction of the photoconductor 110 with a predetermined pressing force in the counter direction. I'm allowed. The contact edge portion of the blade 171 wipes and removes toner remaining on the outer peripheral surface of the photoconductor 110 to clean the surface of the photoconductor 110. The cleaning blade 171 is generally coated with polyvinylidene fluoride, which is a solid lubricant at the time of manufacture, so as to prevent so-called blade turning during initial use of the apparatus.

前述の帯電ロール122は、クリーニング装置の底部に設けた凹部に回転自在に軸受支持させて収容配設されており、その近傍に帯電ロールのクリーニング部材としてクリーニングロール123が配設されている。なお、本例の画像形成装置は、感光体110、帯電ロール122、現像装置140及び感光体クリーニング装置170の4つのプロセス機器を画像形成装置本体に対して一括して着脱自在なプロセスカートリッジ200として構成し、装置のメンテナンスを簡素化することが好ましい。   The above-described charging roll 122 is accommodated and accommodated in a concave portion provided at the bottom of the cleaning device so as to be rotatably supported by a bearing, and a cleaning roll 123 is disposed in the vicinity thereof as a cleaning member for the charging roll. In the image forming apparatus of this example, four process devices including the photosensitive member 110, the charging roller 122, the developing device 140, and the photosensitive member cleaning device 170 are collectively attached to the main body of the image forming device as a process cartridge 200 that is detachable. It is preferable to simplify the maintenance of the apparatus.

以下、像保持体(感光体)110について詳述する。図7及び図8はそれぞれ感光体の好適な一例を示す模式断面図である。図7に示す感光体は、電荷発生物質を含有する層(電荷発生層115)と電荷輸送物質を含有する層(電荷輸送層116)とに機能が分離された感光層113を備えるものである。また、図8は、電荷発生物質と電荷輸送物質とを同一の層(単層型感光層118)に含有するものである。なお、感光層は、基本的には単層構造であっても、電荷発生層115と電荷輸送層116とに機能が分離された積層構造であってもよい。積層構造の場合、電荷発生層115と電荷輸送層116の積層順序はいずれが上層であってもよい。   Hereinafter, the image carrier (photoconductor) 110 will be described in detail. 7 and 8 are schematic cross-sectional views each showing a preferred example of the photoreceptor. The photoreceptor shown in FIG. 7 includes a photosensitive layer 113 in which functions are separated into a layer containing a charge generation material (charge generation layer 115) and a layer containing a charge transport material (charge transport layer 116). . In FIG. 8, the charge generation material and the charge transport material are contained in the same layer (single-layer type photosensitive layer 118). The photosensitive layer may basically have a single-layer structure or a laminated structure in which functions are separated into the charge generation layer 115 and the charge transport layer 116. In the case of a stacked structure, the charge generation layer 115 and the charge transport layer 116 may be stacked in any order.

図7に示す電子写真感光体110は、導電性支持体112上に下引層114、電荷発生層115、電荷輸送層116及び保護層117が順次積層された構造を有するものである。また、図8に示す感光体110は、導電性支持体112上に下引層114、単層型感光層118、保護層117が順次積層された構造を有するものである。なお、電子写真感光体110としては、下引層114及び/又は保護層117がないものでもよい。
以下、感光体110の各要素について説明する。
The electrophotographic photoreceptor 110 shown in FIG. 7 has a structure in which an undercoat layer 114, a charge generation layer 115, a charge transport layer 116 and a protective layer 117 are sequentially laminated on a conductive support 112. 8 has a structure in which an undercoat layer 114, a single-layer type photosensitive layer 118, and a protective layer 117 are sequentially laminated on a conductive support 112. The photoconductor 110 shown in FIG. The electrophotographic photosensitive member 110 may be one without the undercoat layer 114 and / or the protective layer 117.
Hereinafter, each element of the photoreceptor 110 will be described.

導電性支持体112としては、アルミニウム、銅、鉄、ステンレス、亜鉛、ニッケル等の金属で構成される金属ドラム又は金属シート;シート、紙、プラスチック、ガラス等の基体上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、銅−インジウム等の金属を蒸着し導電処理したもの;上記基体上に酸化インジウム、酸化錫等の導電性金属化合物を蒸着したもの、金属箔をラミネートし導電処理したもの;上記基体上にカーボンブラック、酸化インジウム、酸化錫−酸化アンチモン粉、金属粉、沃化銅等を結着樹脂に分散し、塗布することによって導電処理したものが挙げられる。これらの導電性支持体112は、ドラム状、シート状、プレート状等の形状で使用されるが、ドラム状であることが好ましい。   As the conductive support 112, a metal drum or metal sheet made of a metal such as aluminum, copper, iron, stainless steel, zinc, or nickel; aluminum, copper, gold, or the like on a substrate such as a sheet, paper, plastic, or glass; Metals such as silver, platinum, palladium, titanium, nickel-chromium, stainless steel, copper-indium, etc. deposited and conductively treated; Conductive metal compounds such as indium oxide and tin oxide deposited on the substrate, metal Conductive treatment by laminating foil; conductive treatment by dispersing and applying carbon black, indium oxide, tin oxide-antimony oxide powder, metal powder, copper iodide, etc. on a binder resin on the substrate. Can be mentioned. The conductive support 112 is used in a drum shape, a sheet shape, a plate shape, or the like, and is preferably a drum shape.

また、導電性支持体112としては、結着樹脂中にカーボンブラック粒子、金属微粉末、金属酸化物微粒子等の導電性微粒子を分散し、遠心成型や押し出し成型等によりパイプ状に形成した導電性プラスチック基材も用いることができる。
導電性支持体112として金属パイプ基材を用いる場合、その表面は素管のままであってもよい。なお、金属パイプ基材に対して、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング等の処理が行われていてもよい。
また、導電性支持体112としては、アルミニウム合金で構成される金属パイプが好ましい。導電性支持体112として用いられるアルミニウム合金には、陽極酸化処理を行うことができる。アルミニウムは、純アルミ系又はアルミニウム合金のいずれも使用可能である。例えば、JIS1000番台、3000番台、6000番台のアルミニウム又はアルミニウム合金が好適である。陽極酸化被膜は、各種金属、各種合金を電解質溶液中において陽極酸化処理したものである。かかる被膜としては、アルミニウム若しくはアルミニウム合金を電解質溶液中で陽極酸化処理を行った際に形成されるアルマイトと呼ばれる被膜が好適である。アルマイト被膜は、高いキャリアブロッキング性を有し、特に、反転現像(ネガ・ポジ現像)に用いた際に発生する点欠陥(黒ポチ、地汚れ)を防止する点で優れている。また、接触帯電時に生じやすい接触帯電器からの電流リーク現象を防止することができる点でも優れている。
In addition, as the conductive support 112, conductive fine particles such as carbon black particles, metal fine powder, and metal oxide fine particles dispersed in a binder resin are formed into a pipe shape by centrifugal molding or extrusion molding. Plastic substrates can also be used.
When a metal pipe substrate is used as the conductive support 112, the surface thereof may remain as a raw tube. Note that the metal pipe base material may be subjected in advance to a process such as mirror cutting, etching, anodizing, rough cutting, centerless grinding, sand blasting, wet honing, and the like.
The conductive support 112 is preferably a metal pipe made of an aluminum alloy. The aluminum alloy used as the conductive support 112 can be anodized. As the aluminum, either a pure aluminum system or an aluminum alloy can be used. For example, JIS 1000 series, 3000 series, 6000 series aluminum or aluminum alloy is suitable. The anodized film is obtained by anodizing various metals and various alloys in an electrolyte solution. As such a film, a film called alumite formed when aluminum or an aluminum alloy is anodized in an electrolyte solution is suitable. The alumite film has a high carrier blocking property, and is particularly excellent in preventing point defects (black spots and background stains) that occur when used in reversal development (negative / positive development). Further, it is also excellent in that a current leakage phenomenon from a contact charger that easily occurs during contact charging can be prevented.

下引層114は、結着樹脂及び有機金属化合物を含有して構成される。下引層114は、上層塗布時の濡れ性改善や、ブロッキング性の強化等の機能を有する。
下引層14に使用される結着樹脂としては、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物が挙げられる。下引層14に使用される有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン原子等を含有する有機金属化合物等が挙げられる。これらの化合物は、1種を単独で又は複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。
The undercoat layer 114 includes a binder resin and an organometallic compound. The undercoat layer 114 has functions such as improvement of wettability when the upper layer is applied and enhancement of blocking property.
Examples of the binder resin used for the undercoat layer 14 include acetal resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, and polyvinyl chloride. Examples thereof include polymer resin compounds such as resins, polyvinyl acetate resins, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resins, silicone resins, silicone-alkyd resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins. Examples of the organometallic compound used for the undercoat layer 14 include organometallic compounds containing zirconium, titanium, aluminum, manganese, silicon atoms, and the like. These compounds can be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

有機金属化合物としては、上記の中でも、ジルコニウム若しくはシリコンを含有する有機金属化合物が好ましい。ジルコニウム若しくはシリコンを含有する有機金属化合物は、残留電位が低く、環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れている。
有機金属化合物は、単独又は2種以上を混合して、或いは上述した結着樹脂と混合して用いることが可能である。
なお、有機シリコン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
特に好ましく用いられる有機シリコン化合物としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシシラン)、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。
Among the above, the organometallic compound is preferably an organometallic compound containing zirconium or silicon. An organometallic compound containing zirconium or silicon is excellent in performance such as low residual potential, little potential change due to environment, and little potential change due to repeated use.
The organometallic compounds can be used alone or in admixture of two or more or with the binder resin described above.
Examples of the organic silicon compound include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxy. Propyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) ) -Γ-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, and the like.
Particularly preferable organic silicon compounds include vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxysilane), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4- Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, Examples include silane coupling agents such as N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and 3-chloropropyltrimethoxysilane.

有機ジルコニウム化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。   Examples of the organic zirconium compound include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.

有機チタン化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。   Examples of the organic titanium compound include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, and titanium lactate ammonium salt. , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate and the like.

有機アルミニウム化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。   Examples of the organoaluminum compound include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, and aluminum tris (ethyl acetoacetate).

なお、下引層114としては、結着樹脂に適度な抵抗値の金属酸化物を分散して適度に塗膜の抵抗値を調整し、残留電荷の蓄積を防ぎつつ且つ一定の膜厚を持つことで感光体の耐リーク性、特に接触帯電時のリーク防止能力を上げたタイプの下引層(分散型下引層)もある。この場合には、抵抗制御剤を分散することにより、上述の構成より厚膜化が可能となりより厚い膜厚で使用することができる。
この分散型下引層としては、アルミニウム、銅、ニッケル、銀等の金属粉体、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛等の導電性金属酸化物、カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末等の導電性物質を結着樹脂に分散し、導電性支持体12上に塗布して形成したものが挙げられる。
As the undercoat layer 114, a metal oxide having an appropriate resistance value is dispersed in the binder resin to appropriately adjust the resistance value of the coating film, thereby preventing the accumulation of residual charges and having a certain film thickness. There is also a type of undercoat layer (dispersion type undercoat layer) that improves the leak resistance of the photoreceptor, particularly the ability to prevent leaks during contact charging. In this case, by dispersing the resistance control agent, the film can be made thicker than the above-described structure, and can be used with a thicker film thickness.
Examples of the dispersion-type undercoat layer include metal powders such as aluminum, copper, nickel, and silver, conductive metal oxides such as antimony oxide, indium oxide, tin oxide, and zinc oxide, carbon fiber, carbon black, and graphite powder. And a conductive material dispersed in a binder resin and applied on the conductive support 12.

導電性金属酸化物としては、平均粒径0.5μm以下の微粒子が好ましく用いられる。ここで、粒径とは平均1次粒径を意味する。下引層は、リーク耐性獲得のために適切な抵抗を得ることが必要であり、そのため金属酸化物微粒子としては102Ω・cm以上1011Ω・cm以下程度の粉体抵抗が必要である。
金属酸化物粒子の中でも上記抵抗値を有する酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛等の金属酸化物微粒子を用いることが好ましい。なお、上記範囲の下限値よりも金属酸化物微粒子の抵抗値が低いと十分なリーク耐性が得られ難くなる傾向がある。他方、上記範囲の上限値よりも高いと残留電位上昇を引き起こしてしまう懸念がある。
また、金属酸化物微粒子は、2種以上混合して用いることもできる。さらに、金属酸化物微粒子へカップリング剤による表面処理を行うことで、粉体の抵抗を制御することができる。表面処理に使用可能なカップリング剤としては、上述の非分散型下引層の説明に記述したものと同様の材料を用いることができる。
As the conductive metal oxide, fine particles having an average particle size of 0.5 μm or less are preferably used. Here, the particle size means an average primary particle size. The undercoat layer needs to have an appropriate resistance for obtaining leak resistance. Therefore, the metal oxide fine particles need a powder resistance of about 10 2 Ω · cm to 10 11 Ω · cm. .
Among metal oxide particles, it is preferable to use metal oxide fine particles such as tin oxide, titanium oxide, and zinc oxide having the above resistance values. In addition, when the resistance value of the metal oxide fine particles is lower than the lower limit value of the above range, sufficient leak resistance tends to be difficult to obtain. On the other hand, if the value is higher than the upper limit of the above range, there is a concern that the residual potential is increased.
Moreover, 2 or more types of metal oxide fine particles can also be mixed and used. Furthermore, the resistance of the powder can be controlled by subjecting the metal oxide fine particles to a surface treatment with a coupling agent. As the coupling agent that can be used for the surface treatment, the same materials as those described in the description of the non-dispersed undercoat layer can be used.

具体的なカップリング剤としては特に限定されないが、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。また、これらのカップリング剤は2種以上を混合して用いることもできる。   Although it does not specifically limit as a specific coupling agent, For example, vinyl trimethoxysilane, (gamma) -methacryloxypropyl-tris ((beta) -methoxyethoxy) silane, (beta)-(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- Examples include silane coupling agents such as β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, and γ-chloropropyltrimethoxysilane. It is done. Moreover, these coupling agents can also be used in mixture of 2 or more types.

表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法又は湿式法を用いることができる。乾式法にて表面処理を施す場合には、金属酸化物微粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒若しくは水に溶解させたカップリング剤を滴下し、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理される。添加又は噴霧する際には、50℃以上の温度で行われることが好ましい。添加又は噴霧した後、さらに100℃以上で焼き付けを行うことができる。
焼き付けは、所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。乾式法においては、金属酸化物微粒子をカップリング剤による表面処理前に加熱乾燥して表面吸着水を除去することができる。この表面吸着水を処理前に除去することによって、金属酸化物微粒子表面に均一にカップリング剤を吸着させることができる。
As the surface treatment method, any known method can be used, but a dry method or a wet method can be used. When surface treatment is performed by a dry method, while stirring metal oxide fine particles with a mixer having a large shearing force or the like, a coupling agent dissolved directly or in an organic solvent or water is added dropwise to dry air or nitrogen gas. It is processed uniformly by spraying together. The addition or spraying is preferably performed at a temperature of 50 ° C. or higher. After addition or spraying, baking can be performed at 100 ° C. or higher.
Baking can be carried out in an arbitrary range as long as the temperature and the time at which desired electrophotographic characteristics are obtained. In the dry method, the surface adsorbed water can be removed by heating and drying the metal oxide fine particles before the surface treatment with the coupling agent. By removing the surface adsorbed water before the treatment, the coupling agent can be uniformly adsorbed on the surface of the metal oxide fine particles.

湿式法としては、金属酸化物微粒子を溶剤中に攪拌、又は超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散する。カップリング剤溶液をさらに添加し攪拌又は分散した後、溶剤除去することで均一に処理される。溶剤除去した後、さらに100℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においても、金属酸化物微粒子をカップリング剤による表面処理前に表面吸着水を除去することができる。この表面吸着水除去方法としては、乾式法と同様の加熱乾燥の他に、表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法等が実施できる。   As a wet method, the metal oxide fine particles are stirred in a solvent, or dispersed using ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, or the like. After further adding a coupling agent solution and stirring or dispersing, it is uniformly processed by removing the solvent. After removing the solvent, baking can be performed at 100 ° C. or higher. Baking can be carried out in an arbitrary range as long as the temperature and time allow the desired electrophotographic characteristics to be obtained. Even in the wet method, the surface adsorbed water can be removed before the surface treatment of the metal oxide fine particles with the coupling agent. As the surface adsorbed water removal method, in addition to heat drying similar to the dry method, a method of removing while stirring and heating in a solvent used for the surface treatment, a method of removing azeotropically with the solvent, and the like can be performed.

金属酸化物微粒子に対する表面処理剤の量は、所望の電子写真特性が得られる量であることが必須である。
電子写真特性は、表面処理処理後に金属酸化物微粒子に付着している量によって影響され、シランカップリング剤の場合、その付着量は蛍光X線分析におけるSi強度と該金属酸化物の主たる金属元素強度から求められる。蛍光X線分析における好ましいSi強度は、該金属酸化物の主たる金属元素強度の1.0×10-5以上1.0×10-3以下の範囲である。この範囲を下回った場合、かぶり等の画質欠陥が発生しやすくなる傾向があり、この範囲を上回った場合には残留電位の上昇による濃度低下が発生しやすくなる傾向がある。
It is essential that the amount of the surface treatment agent with respect to the metal oxide fine particles is an amount capable of obtaining desired electrophotographic characteristics.
The electrophotographic characteristics are affected by the amount attached to the metal oxide fine particles after the surface treatment. In the case of a silane coupling agent, the amount attached is determined by the Si intensity in the fluorescent X-ray analysis and the main metal element of the metal oxide. Calculated from strength. The preferable Si intensity in the fluorescent X-ray analysis is in the range of 1.0 × 10 −5 or more and 1.0 × 10 −3 or less of the main metal element strength of the metal oxide. When the value falls below this range, image quality defects such as fogging tend to occur, and when the value exceeds this range, the density tends to decrease due to an increase in residual potential.

この分散型下引層用の結着樹脂としては、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物が挙げられる。また、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いることもできる。上記の中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特に、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。   Examples of the binder resin for the dispersion type undercoat layer include acetal resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, and polyvinyl chloride. Examples thereof include known polymer resin compounds such as resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, and urethane resin. In addition, a charge transporting resin having a charge transporting group, a conductive resin such as polyaniline, or the like can be used. Among these, resins that are insoluble in the upper coating solvent are preferably used, and phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, epoxy resins, and the like are particularly preferably used.

下引層114は、上述した各構成材料を溶媒に溶解及び/又は分散させた下引層形成用塗布液を導電性支持体112上に塗布して形成される。なお、分散型下引層を形成する際には、分散型下引層形成用塗布液中の金属酸化物微粒子と結着樹脂との比率は所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定できる。   The undercoat layer 114 is formed by applying an undercoat layer forming coating solution in which the above-described constituent materials are dissolved and / or dispersed in a solvent onto the conductive support 112. When forming the dispersion-type undercoat layer, the ratio of the metal oxide fine particles to the binder resin in the dispersion-type undercoat layer-forming coating solution is arbitrary as long as desired electrophotographic photoreceptor characteristics can be obtained. Can be set.

下引層形成用塗布液に使用される溶媒としては、公知の有機溶剤を使用することができる。例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、2−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状又は直鎖状エーテル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル系溶剤が挙げられる。また、これらの溶剤は単独又は2種以上混合して用いることができる。
なお、2種以上を混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かすことができる溶剤であればいかなるものでも使用することが可能である。
As the solvent used for the coating solution for forming the undercoat layer, a known organic solvent can be used. For example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and chlorobenzene, aliphatic alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol and n-butanol, ketone solvents such as acetone, cyclohexanone and 2-butanone, Halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride, cyclic or linear ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol and diethyl ether, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and n-butyl acetate System solvents. These solvents can be used alone or in combination of two or more.
In addition, when mixing 2 or more types, any solvent can be used as long as it can dissolve the binder resin as a mixed solvent.

下引層形成用塗布液には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いることができる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールや2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。シランカップリング剤は金属酸化物微粒子の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いることもできる。   Various additives can be used in the coating liquid for forming the undercoat layer in order to improve electrical characteristics, environmental stability, and image quality. Additives include quinone compounds such as chloranil, bromoanil and anthraquinone, tetracyanoquinodimethane compounds, fluorenones such as 2,4,7-trinitrofluorenone and 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone Compounds, 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole and 2,5-bis (4-naphthyl) -1,3,4-oxadi Azoles, oxadiazole compounds such as 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, xanthone compounds, thiophene compounds, 3,3 ′, 5,5′-tetra- Electron transport materials such as diphenoquinone compounds such as t-butyldiphenoquinone, electron transport pigments such as polycyclic condensation systems and azo systems, zirconium chelate compounds, Hexafluorophosphate chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, there can be used a known material such as a silane coupling agent. The silane coupling agent is used for the surface treatment of the metal oxide fine particles, but it can also be added to the coating solution as an additive.

ここで用いられるシランカップリング剤の具体例として、金属酸化物微粒子の表面処理に用いるカップリング剤の具体例と同様なものを用いることができる。ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent used here may be the same as the specific examples of the coupling agent used for the surface treatment of the metal oxide fine particles. Examples of the zirconium chelate compound include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。   Examples of titanium chelate compounds include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate ammonium salt. , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate and the like.

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。これらの化合物は、単独に又は複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。   Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like. These compounds can be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

金属酸化物微粒子を塗布液中に分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用できる。さらに、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。   As a method of dispersing the metal oxide fine particles in the coating solution, a media dispersion machine such as a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, a medialess dispersion such as a stirring, an ultrasonic dispersion machine, a roll mill, a high-pressure homogenizer, etc. A machine is available. Furthermore, examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which the dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high-pressure state, and a penetration method in which a fine flow path is dispersed in a high-pressure state.

下引層114を形成する際の塗布方法としては、浸漬塗布法、リング塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。
下引層114の膜厚は、0.1μm以上3μm以下が好ましい。下引層114は、上層の濡れ性改善の他に、電気的なブロキング層としての役割も果たすが、膜厚が3μmを超える場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こす傾向がある。
また、分散型下引層の膜厚は、3μm以上が好ましく、さらに好ましくは5μm以上30μm以下である。さらに分散型下引層は、リーク耐性向上のためにはビッカース強度が35以上になるような樹脂及びフィラー構成となることが好ましい。
また、下引層の表面粗さはレーザ光源による干渉縞像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの1/4n倍(nは上層の屈折率)からλ程度の粗度を有するように調整する場合もある。表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加することもできる。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型PMMA(ポリメチルメタクリレート)樹脂粒子等を用いることができる。また、表面粗さ調整のために下引層を研磨することもできる。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることもできる。
As a coating method for forming the undercoat layer 114, a usual method such as a dip coating method, a ring coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a blade coating method, a knife coating method, or a curtain coating method is used. Can do.
The thickness of the undercoat layer 114 is preferably 0.1 μm or more and 3 μm or less. In addition to improving the wettability of the upper layer, the undercoat layer 114 also serves as an electrical blocking layer. However, when the film thickness exceeds 3 μm, the electrical barrier becomes too strong due to desensitization and repetition. It tends to cause an increase in potential.
Further, the film thickness of the dispersion type undercoat layer is preferably 3 μm or more, more preferably 5 μm or more and 30 μm or less. Furthermore, it is preferable that the dispersion type undercoat layer has a resin and filler structure that makes the Vickers strength 35 or more in order to improve leak resistance.
Further, the surface roughness of the undercoat layer has a roughness of about λ from ¼n times the exposure laser wavelength λ used (n is the refractive index of the upper layer) in order to prevent interference fringe images by the laser light source. It may be adjusted as follows. Resin particles can be added to the undercoat layer for adjusting the surface roughness. As the resin particles, silicone resin particles, cross-linked PMMA (polymethyl methacrylate) resin particles, and the like can be used. In addition, the undercoat layer can be polished to adjust the surface roughness. As a polishing method, buffing, sand blasting, wet honing, grinding, or the like can be used.

電荷発生層115は、電荷発生物質を含んで構成される。電荷発生層115は、電荷発生物質を真空蒸着により、又は電荷発生物質及び結着樹脂を含む電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷発生層115に使用される電荷発生物質としては、非晶質セレン、結晶性セレン、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、その他のセレン化合物及びセレン合金、アモルファスシリコン、硫化カドミウム等の無機系光導電体及びこれらを色素増感したもの、無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、銅フタロシアニン、錫フタロシアニン、ガリウムフタロシアニン等の各種フタロシアニン顔料、ナフタロシアニン顔料、スクエアリウム系、アントアントロン系、ペリレン系、アゾ系、トリスアゾ系、アントラキノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の各種有機顔料及び染料が用いられる。
また、これらの有機顔料は一般に数種の結晶型を有しており、特にフタロシアニン顔料ではα型、β型等をはじめとしてさまざまな結晶型が知られている。なお、目的にあった感度その他の特性が得られる顔料であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることが可能である。
The charge generation layer 115 includes a charge generation material. The charge generation layer 115 is formed by vacuum deposition of a charge generation material or using a charge generation layer forming coating liquid containing a charge generation material and a binder resin.
Examples of the charge generation material used for the charge generation layer 115 include amorphous selenium, crystalline selenium, selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, other selenium compounds and selenium alloys, amorphous silicon, cadmium sulfide and the like. Photoconductors and dye-sensitized photoconductors, various phthalocyanine pigments such as metal-free phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, copper phthalocyanine, tin phthalocyanine, gallium phthalocyanine, naphthalocyanine pigment, squalium, anthanthrone, perylene, azo Various organic pigments and dyes such as trisazo, anthraquinone, pyrene, pyrylium salt and thiapyrylium salt are used.
In addition, these organic pigments generally have several crystal types, and in particular, phthalocyanine pigments are known in various crystal types including α type and β type. Note that any of these crystal types can be used as long as it is a pigment capable of obtaining sensitivity and other characteristics suitable for the purpose.

上述した電荷発生物質の中でも、優れた性能が得られる電荷発生物質として以下の化合物が特に好適である。Cukα線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)において、少なくとも7.6°、10.0°、25.2°及び28.0°の位置に回折ピークを有する結晶型に代表されるヒドロキシガリウムフタロシアニン。Cukα線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)において、少なくとも7.3°、16.5°、25.4°及び28.1°の位置に回折ピークを有する結晶型に代表されるクロルガリウムフタロシアニン。Cukα線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)において、少なくとも9.5°、24.2°及び27.3°の位置に回折ピークを有する結晶型に代表されるチタニルフタロシアニン。
なお、結晶の形状や測定方法により、これらのピーク強度の位置が微妙にこれらの値から外れることもあるが、X線回折パターンが基本的に一致しているものであれば同じ結晶型であると判断できる。
Among the charge generation materials described above, the following compounds are particularly suitable as charge generation materials that can provide excellent performance. Crystals having diffraction peaks at positions of at least 7.6 °, 10.0 °, 25.2 ° and 28.0 ° in the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα rays Hydroxygallium phthalocyanine represented by molds. A crystal having diffraction peaks at positions of at least 7.3 °, 16.5 °, 25.4 ° and 28.1 ° in the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα rays. Chlorgallium phthalocyanine represented by mold. Represented by crystal forms having diffraction peaks at positions of at least 9.5 °, 24.2 ° and 27.3 ° in the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα rays. Titanyl phthalocyanine.
Depending on the shape of the crystal and the measurement method, the positions of these peak intensities may slightly deviate from these values. However, if the X-ray diffraction patterns are basically the same, they are the same crystal type. It can be judged.

電荷発生層115に使用される結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプ又はビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂及びその共重合体、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール等が挙げられる。これらの結着樹脂は、1種を単独で又は2種以上混合して用いることが可能である。   Examples of the binder resin used for the charge generation layer 115 include polycarbonate resins such as bisphenol A type or bisphenol Z type and copolymers thereof, polyarylate resins, polyester resins, methacrylic resins, acrylic resins, and polyvinyl chloride resins. , Polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer resin, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, Examples thereof include styrene-alkyd resin and poly-N-vinylcarbazole. These binder resins can be used singly or in combination of two or more.

電荷発生層115を電荷発生層形成用塗布液を用いて形成する場合、電荷発生物質と結着樹脂との配合比(重量比)は、10:1から1:10の範囲が望ましい。
電荷発生物質を樹脂中に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、ダイノーミル、サンドミル、コロイドミル等を用いる方法が挙げられる。
電荷発生層115の膜厚は、0.01μm以上5μm以下が好ましく、0.05μm以上2.0μm以下がより好ましい。
When the charge generation layer 115 is formed using a charge generation layer forming coating solution, the blending ratio (weight ratio) between the charge generation material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10.
Examples of the method for dispersing the charge generating substance in the resin include a method using a roll mill, a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a dyno mill, a sand mill, a colloid mill and the like.
The film thickness of the charge generation layer 115 is preferably 0.01 μm or more and 5 μm or less, and more preferably 0.05 μm or more and 2.0 μm or less.

電荷輸送層116は、電荷輸送物質及び結着樹脂を含んで構成される。
電荷輸送層116に用いられる電荷輸送物質としては、下記に示すものが例示できる。2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5−トリフェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ(p−メチル)フェニルアミン、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン、ジベンジルアニリン、9,9−ジメチル−N,N−ジ(p−トリル)フルオレノン−2−アミン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジアミン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3−(4’−ジメチルアミノフェニル)−5,6−ジ−(4’−メトキシフェニル)−1,2,4−トリアジン等の1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン、4−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン、[p−(ジエチルアミノ)フェニル](1−ナフチル)フェニルヒドラゾン、1−ピレンジフェニルヒドラゾン、9−エチル−3−[(2−メチル−1−インドリニルイミノ)メチル]カルバゾール、4−(2−メチル−1−インドリニルイミノメチル)トリフェニルアミン、9−メチル−3−カルバゾールジフェニルヒドラゾン、1,1−ジ−(4,4’−メトキシフェニル)アクリルアルデヒドジフェニルヒドラゾン、β,β−ビス(メトキシフェニル)ビニルジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−2,3−ジ(p−メトキシフェニル)−ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p−(2,2−ジフェニルビニル)−N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール及びその誘導体等の正孔輸送物質。
クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールや2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチルジフェノキノン、3,5−ジメチル−3’,5’−ジ−t−ブチル−4,4’−ジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送物質。また、以上に示した化合物から誘導される基を主鎖又は側鎖に有する重合体等が挙げられる。これらの電荷輸送物質は、1種を単独で又は2種以上を組み合せて使用できる。
The charge transport layer 116 includes a charge transport material and a binder resin.
Examples of the charge transport material used for the charge transport layer 116 include the following. Oxadiazole derivatives such as 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 1,3,5-triphenyl-pyrazoline, 1- [pyridyl- (2)]-3 -(P-diethylaminostyryl) -5- (p-diethylaminostyryl) pyrazoline and other pyrazoline derivatives, triphenylamine, tri (p-methyl) phenylamine, N, N-bis (3,4-dimethylphenyl) biphenyl- Aromatic tertiary amino compounds such as 4-amine, dibenzylaniline, 9,9-dimethyl-N, N-di (p-tolyl) fluorenon-2-amine, N, N′-diphenyl-N, N ′ Aromatic tertiary diamino compounds such as bis (3-methylphenyl)-[1,1-biphenyl] -4,4′-diamine, 3- (4′-dimethylaminophenyl)- 1,2,4-triazine derivatives such as 5,6-di- (4′-methoxyphenyl) -1,2,4-triazine, 4-diethylaminobenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone, 4-diphenylaminobenzaldehyde 1,1-diphenylhydrazone, [p- (diethylamino) phenyl] (1-naphthyl) phenylhydrazone, 1-pyrenediphenylhydrazone, 9-ethyl-3-[(2-methyl-1-indolinylimino) methyl] carbazole 4- (2-methyl-1-indolinyliminomethyl) triphenylamine, 9-methyl-3-carbazole diphenylhydrazone, 1,1-di- (4,4′-methoxyphenyl) acrylaldehyde diphenylhydrazone, β , Β-bis (methoxyphenyl) vinyldiphenylhydrazone, etc. Hydrazone derivatives, quinazoline derivatives such as 2-phenyl-4-styryl-quinazoline, benzofuran derivatives such as 6-hydroxy-2,3-di (p-methoxyphenyl) -benzofuran, p- (2,2-diphenylvinyl)- Hole transport materials such as α-stilbene derivatives such as N, N-diphenylaniline, enamine derivatives, carbazole derivatives such as N-ethylcarbazole, poly-N-vinylcarbazole and derivatives thereof.
Quinone compounds such as chloranil, bromoanil, anthraquinone, tetracyanoquinodimethane compounds, fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2- ( 4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (4-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5 -Oxadiazole compounds such as bis (4-diethylaminophenyl) 1,3,4-oxadiazole, xanthone compounds, thiophene compounds, 3,3 ', 5,5'-tetra-t-butyldiphenoquinone Electron transport materials such as diphenoquinone compounds such as 3,5-dimethyl-3 ′, 5′-di-t-butyl-4,4′-diphenoquinone. Moreover, the polymer etc. which have the group induced | guided | derived from the compound shown above in the principal chain or a side chain are mentioned. These charge transport materials can be used alone or in combination of two or more.

積層型感光体では電荷輸送物質の電荷輸送極性により感光体の帯電極性が異なる。正孔輸送物質を用いた場合には感光体は負帯電で用いられ、電子輸送物質を用いた場合には正帯電で用いられる。両者を混合した場合には両帯電極性の感光体が可能である。電荷輸送層16に用いられる結着樹脂には任意のものを用いることができるが、特に電荷輸送物質と相溶性を有し適当な強度を有することが望ましい。   In a multilayer photoreceptor, the charge polarity of the photoreceptor varies depending on the charge transport polarity of the charge transport material. When a hole transport material is used, the photoreceptor is used with negative charge, and when an electron transport material is used, it is used with positive charge. When both are mixed, a photoconductor having both charged polarities is possible. Any binder resin can be used for the charge transport layer 16, but it is particularly desirable that the binder resin is compatible with the charge transport material and has an appropriate strength.

結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAやビスフェノールZ、ビスフェノールC、ビスフェノールTP等からなる各種のポリカーボネート樹脂やその共重合体、ポリアリレート樹脂やその共重合体、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノールーホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アクリル共重合体樹脂、アチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独又は2種以上の混合物として使用することができる。   Examples of the binder resin include various polycarbonate resins and copolymers thereof, such as bisphenol A, bisphenol Z, bisphenol C, and bisphenol TP, polyarylate resins and copolymers thereof, polyester resins, methacrylic resins, acrylic resins, Polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin, silicone Resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-acrylic copolymer resin, ethylene-alkyd resin, poly-N-vinylcarbazole resin, polyvinyl butyral resin, polyphenylene ether resin, etc. It is below. These resins can be used alone or as a mixture of two or more.

電荷輸送層116は、上述した電荷輸送物質及び結着樹脂、並びにその他の構成材料を適当な溶媒に溶解させた電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層115上に塗布し、乾燥させることによって形成することができる。なお、電荷輸送物質と上記重合体との配合比は、10:1から1:5が好ましい。   The charge transport layer 116 is formed by applying a charge transport layer forming coating solution in which the above-described charge transport material, binder resin, and other constituent materials are dissolved in an appropriate solvent on the charge generation layer 115 and drying it. Can be formed. The blending ratio between the charge transport material and the polymer is preferably 10: 1 to 1: 5.

電荷輸送層116の形成に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或るいは直鎖状エーテル等、又はこれらの混合溶剤を用いることができる。
また、塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としては、シリコーンオイルを微量添加することもできる。
Examples of the solvent used for forming the charge transport layer 116 include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and chlorobenzene, ketones such as acetone and 2-butanone, and halogens such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride. Cycloaliphatic hydrocarbons, cyclic or linear ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol and diethyl ether, or a mixed solvent thereof can be used.
A small amount of silicone oil can be added to the coating solution as a leveling agent for improving the smoothness of the coating film.

電荷輸送層形成用塗布液を塗布する際には、浸漬塗布法、リング塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、ブレード塗布法、ローラ塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の塗布法を用いることができる。また、乾燥は、室温での指触乾燥の後に加熱乾燥することが好ましい。加熱乾燥は、30℃以上200℃以下の温度で5分以上2時間以下の範囲で行うことが望ましい。
電荷輸送層116の膜厚は、5μm以上50μm以下が好ましく、10μm以上40μm以下がより好ましい。
When applying the charge transport layer forming coating solution, dip coating method, ring coating method, spray coating method, bead coating method, blade coating method, roller coating method, knife coating method, curtain coating method, etc. Can be used. Moreover, it is preferable that drying is heat-dried after finger-drying at room temperature. The heat drying is desirably performed at a temperature of 30 ° C. or more and 200 ° C. or less for 5 minutes or more and 2 hours or less.
The thickness of the charge transport layer 116 is preferably 5 μm to 50 μm, and more preferably 10 μm to 40 μm.

また、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、又は光・熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層13中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を含有させることが好ましい。
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
酸化防止剤としてより具体的には、フェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、スチレン化フェノール、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−t−ブチル−6−(3’−t−ブチル−5’−メチル−2’−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、4,4’−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−t−ブチル−フェノール)、4,4’−チオ−ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート]−メタン、3,9−ビス[2−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、3−3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリル等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1−[2−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]−4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,5]ウンデカン−2,4−ジオン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイミル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,3,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]、2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン−2,4−ビス[N−ブチル−N−(1,2,2,6,6,−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ]−6−クロロ−1,3,5−トリアジン縮合物等が挙げられる。
Further, additives such as an antioxidant, a light stabilizer, and a heat stabilizer are added to the photosensitive layer 13 for the purpose of preventing deterioration of the photoreceptor due to ozone, oxidizing gas, or light / heat generated in the image forming apparatus. It is preferable to contain.
Examples of the antioxidant include hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, arylalkane, hydroquinone, spirochroman, spiroidanone and derivatives thereof, organic sulfur compounds, and organic phosphorus compounds.
More specifically, antioxidants include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, styrenated phenol, n-octadecyl-3- (3 ′, 5′-) as phenolic antioxidants. Di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-t-butyl-6- (3'-t- Butyl-5'-methyl-2'-hydroxybenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 4,4'-butylidene-bis- (3-methyl-6-tert-butyl-phenol), 4,4'-thio- Bis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,3,5-tris (4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) isocyanurate, tetrakis- [methylene-3- ( 3 ', 5 '-Di-t-butyl-4'-hydroxy-phenyl) propionate] -methane, 3,9-bis [2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 3-3 ′, 5′-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl) stearyl propionate Etc.
Examples of hindered amine antioxidants include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1- [ 2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy ] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 8-benzyl-7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] undecane-2,4 -Dione, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpi-succinate Lysine polycondensate, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diimyl} {(2,2,6,6-tetra Methyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,3,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)- 2-n-butylmalonate bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl), N, N′-bis (3-aminopropyl) ethylenediamine-2,4-bis [N-butyl- N- (1,2,2,6,6, -pentamethyl-4-piperidyl) amino] -6-chloro-1,3,5-triazine condensate and the like.

有機硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオプロピオネート)、ジトリデシル−3,3’−チオジプロピオネート、2−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。有機燐系酸化防止剤としては、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−フォスフィート等が挙げられる。
有機硫黄系及び有機燐系酸化防止剤は2次酸化防止剤と言われ、フェノール系又はアミン系等の1次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
Examples of organic sulfur-based antioxidants include dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis. -(Β-lauryl-thiopropionate), ditridecyl-3,3′-thiodipropionate, 2-mercaptobenzimidazole and the like. Examples of the organophosphorus antioxidant include trisnonylphenyl phosfte, triphenyl phosfte, tris (2,4-di-t-butylphenyl) -phosfte, and the like.
The organic sulfur-based and organic phosphorus-based antioxidants are referred to as secondary antioxidants, and a synergistic effect can be obtained by using them together with a primary antioxidant such as a phenol-based or amine-based antioxidant.

光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系等の光安定剤が挙げられる。
ベンゾフェノン系光安定剤としては、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3’−(3’’,4’’,5’’,6’’−テトラヒドロフタルイミド−メチル)−5’−メチルフェニル]−ベンゾトリアゾール、2−(−2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル−)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル−)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−t−ブチルフェニル−)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−アミルフェニル)−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。その他の化合物としては、2,4,ジ−t−ブチルフェニル−3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート等が挙げられる。
Examples of the light stabilizer include benzophenone-based, benzotriazole-based, dithiocarbamate-based, and tetramethylpiperidine-based light stabilizers.
Examples of the benzophenone light stabilizer include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2,2′-di-hydroxy-4-methoxybenzophenone, and the like.
Examples of the benzotriazole light stabilizer include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) -benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ″). , 6 ″ -tetrahydrophthalimido-methyl) -5′-methylphenyl] -benzotriazole, 2-(-2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl-)-5-chlorobenzotriazole 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl-)-5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-t-butylphenyl-) -Benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) -benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl) -benzotriazole and the like Can be mentioned. Examples of other compounds include 2,4, di-t-butylphenyl-3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxybenzoate, nickel dibutyl-dithiocarbamate, and the like.

また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも1種の電子受容性物質を含有させることができる。使用可能な電子受容性物質としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クローラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル酸等を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Cl,CN,NO2等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。 In addition, at least one electron accepting substance can be contained for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential, reducing fatigue during repeated use, and the like. Usable electron accepting substances include, for example, succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m -Dinitrobenzene, crawranyl, dinitroanthraquinone, trinitrofluorenone, picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, phthalic acid and the like. Of these, fluorenone-based, quinone-based, and benzene derivatives having an electron-withdrawing substituent such as Cl, CN, NO 2 are particularly preferable.

保護層117の形態としては、絶縁性の樹脂層、金属酸化物等の抵抗制御剤を分散した抵抗制御型保護層、電荷輸送性を付与した高分子化合物による電荷輸送性保護層等が挙げられる。保護層117は、感光体の耐磨耗性を向上させ感光体寿命を向上させたり、現像剤とのマッチングを向上させたり、電子写真感光体の帯電時の電荷輸送層116の化学的変化を防止する等の機能を有する。そして、保護層117により、画像形成装置の高速化、長寿命化を実現することができる。
本発明においてはこれらの中でも感光体110が電荷輸送性保護層を有することが好ましく、特に、電荷輸送性保護層がポリシラン等のシロキサン樹脂を含有することが好ましい。
Examples of the form of the protective layer 117 include an insulating resin layer, a resistance control type protective layer in which a resistance control agent such as a metal oxide is dispersed, a charge transporting protective layer made of a polymer compound imparted with charge transporting properties, and the like. . The protective layer 117 improves the wear resistance of the photosensitive member to improve the life of the photosensitive member, improves matching with the developer, and changes the chemical change of the charge transport layer 116 when the electrophotographic photosensitive member is charged. It has functions such as prevention. Further, the protective layer 117 can realize an increase in the speed and life of the image forming apparatus.
In the present invention, among these, the photoreceptor 110 preferably has a charge transporting protective layer, and in particular, the charge transporting protective layer preferably contains a siloxane resin such as polysilane.

以下、抵抗制御型保護層について説明する。抵抗制御剤(抵抗制御用粒子)としては、カーボンブラックや金属、金属酸化物等を用いることができる。金属酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン被覆酸化スズ、酸化ケイ素、酸化鉄、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化銅、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化タングステン、硫酸バリウムと酸化アンチモンとの固溶体、上記金属酸化物の混合物、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛又は硫酸バリウムの単一粒子中に上記の金属酸化物を混合したもの、或いは、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛又は硫酸バリウムの単一粒子中に上記の金属酸化物を被覆したものが挙げられる。
また、N,N’−ジメチルフェロセン等のメタロセン化合物、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン等の芳香族アミン化合物等も抵抗制御剤として用いることができる。
これらの金属酸化物には、必要に応じて分散性等の諸特性の改善のためシランカップリング剤やチタンカップリング剤、ジルコニウムカップリング剤等の有機化合物で表面処理を行うことも可能である。
Hereinafter, the resistance control type protective layer will be described. As the resistance control agent (resistance control particles), carbon black, metal, metal oxide, or the like can be used. Examples of the metal oxide include titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide-coated tin oxide, silicon oxide, iron oxide, aluminum oxide, cerium oxide, yttrium oxide, silicon oxide, zirconium oxide, iron oxide, magnesium oxide, Copper oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, solid solution of barium sulfate and antimony oxide, mixture of the above metal oxides, the above metal oxides in a single particle of titanium oxide, tin oxide, zinc oxide or barium sulfate Or a mixture of the above metal oxides in single particles of titanium oxide, tin oxide, zinc oxide or barium sulfate.
Further, metallocene compounds such as N, N′-dimethylferrocene, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine, etc. Aromatic amine compounds and the like can also be used as resistance control agents.
These metal oxides can be surface treated with an organic compound such as a silane coupling agent, a titanium coupling agent, or a zirconium coupling agent to improve various properties such as dispersibility, if necessary. .

かかる抵抗制御剤は、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の高分子樹脂化合物(結着樹脂)等に分散して成膜される。   Such resistance control agents include acetal resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride. -Vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, epoxy resin, polyketone resin, polycarbonate resin, polyvinyl ketone resin, polystyrene resin, polyacrylamide resin, polyimide resin The film is dispersed in a polymer resin compound (binder resin) such as polyamideimide resin.

なお、顔料は結着樹脂に分散して成膜されるが、適当な塗膜抵抗を得るために顔料の添加量は調整される。顔料の添加量として固形分中に好ましくは10体積%以上60体積%以下、より好ましくは20体積%以上50体積%以下が含有される。
また、外部から感光体に貫入する導電性異物を保護層117で阻止するために、ある程度以上の高い硬度を有する樹脂を用いると、より効果的である。
In addition, although a pigment is disperse | distributed to binder resin and formed into a film, in order to obtain appropriate coating-film resistance, the addition amount of a pigment is adjusted. The amount of pigment added is preferably 10% by volume to 60% by volume, more preferably 20% by volume to 50% by volume in the solid content.
It is more effective to use a resin having a certain degree of hardness in order to prevent the conductive foreign matter penetrating into the photoreceptor from the outside with the protective layer 117.

抵抗制御型保護層は100nm以下の粒径の金属酸化物を用いるために透明性に富み、厚膜を形成しても透過率の低下が少ないために感度の減少が少ない。そのため、耐摩耗強度が高いのに加えて、厚膜化が可能な効果を併せて有しており、感光体寿命の向上が一層可能である。   Since the resistance control type protective layer uses a metal oxide having a particle size of 100 nm or less, the resistance control type protective layer is rich in transparency. Therefore, in addition to the high wear resistance strength, it also has the effect of increasing the film thickness, and the life of the photoreceptor can be further improved.

次に、電荷輸送性保護層について説明する。かかる保護層は、電荷輸送性高分子化合物により形成することができる。この電荷輸送性高分子化合物としては、ポリビニカルバゾール等の電荷輸送能を有する基を側鎖に含む高分子化合物、特開平5−232727号公報等に開示されているような電荷輸送能を有する基を主鎖に含む高分子化合物、及びポリシラン等を挙げることができる。また、かかる保護層は、電荷輸送層としても機能する。   Next, the charge transporting protective layer will be described. Such a protective layer can be formed of a charge transporting polymer compound. Examples of the charge transporting polymer compound include a polymer compound having a side chain containing a group having a charge transporting ability such as polyvinylcarbazole, and a charge transporting ability disclosed in JP-A-5-232727. Examples thereof include a polymer compound containing a group in the main chain, polysilane, and the like. Such a protective layer also functions as a charge transport layer.

また、電荷輸送性高分子化合物として、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックよりなるブロック共重合体又はグラフト共重合体を使用することもできる。電荷輸送性高分子化合物が、トリアリールアミン構造を繰り返し単位として含有する場合は、高い電荷輸送能と好ましい機械的特性を有しているので好ましく、また、トリアリールアミン構造がペンダント型ではなく、主鎖中に含有している場合は、さらに好ましい。ペンダント型であると、ペンダント同士が会合し、電荷トラップを形成し電荷輸送性を悪化する場合が多いが、主鎖中に含有されていることでこのような問題を回避できる。   Moreover, a block copolymer or a graft copolymer comprising a charge transporting block and an insulating block can also be used as the charge transporting polymer compound. When the charge transporting polymer compound contains a triarylamine structure as a repeating unit, it is preferable because it has a high charge transporting ability and favorable mechanical properties, and the triarylamine structure is not a pendant type, More preferably, it is contained in the main chain. In the case of the pendant type, pendants are often associated with each other to form charge traps and deteriorate the charge transport property, but such problems can be avoided by being contained in the main chain.

以上説明した電荷輸送性高分子化合物を含有する電荷輸送性保護層は、上述した構成材料を含有する電荷輸送性保護層形成用塗布液を用いて形成される。この保護層を形成するための塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、リングコーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。   The charge transporting protective layer containing the charge transporting polymer compound described above is formed using the coating liquid for forming a charge transporting protective layer containing the constituent materials described above. Examples of coating methods for forming the protective layer include blade coating method, wire bar coating method, spray coating method, dip coating method, ring coating method, bead coating method, air knife coating method, curtain coating method, etc. The usual method can be used.

また、保護層を形成するための塗布液に用いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン、アルコール等の通常の有機溶剤を単独又は2種以上混合して用いることができるが、できるだけこの塗布液が塗布される感光層を溶解しにくい溶剤を用いることが好ましい。   Moreover, as a solvent used for the coating liquid for forming a protective layer, normal organic solvents, such as a dioxane, tetrahydrofuran, a methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, toluene, alcohol, can be used individually or in mixture of 2 or more types. However, it is preferable to use a solvent that hardly dissolves the photosensitive layer to which the coating solution is applied.

また、電荷輸送性保護層の膜厚は、0.1μm以上20μm以下であることが好ましく、より好ましくは1μm以上10μm以下に設定される。   The thickness of the charge transporting protective layer is preferably 0.1 μm or more and 20 μm or less, more preferably 1 μm or more and 10 μm or less.

シロキサン系樹脂(ポリシリコン)は単独で使用してもよいし、膜の成膜性、可とう性を調整する等の目的から、上記の最も好ましい化合物や、他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いてもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコン系ハードコート剤を用いることができる。   A siloxane-based resin (polysilicon) may be used alone, or for the purpose of adjusting the film formability and flexibility of the film, the most preferred compounds described above, other coupling agents, fluorine compounds and You may mix and use. As such a compound, various silane coupling agents and commercially available silicon-based hard coat agents can be used.

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等を用いることができる。市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−40−2239(以上、信越シリコーン社製)、及びAY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等を用いることができる。   As silane coupling agents, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxy Silane, dimethyldimethoxysilane, or the like can be used. Commercially available hard coat agents include KP-85, X-40-9740, X-40-2239 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), and AY42-440, AY42-441, AY49-208 (manufactured by Toray Dow Corning). Etc.) can be used.

また、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。シランカップリング剤は任意の量で使用できるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して重量で0.25%以下とすることが望ましい。これを越えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。   In order to impart water repellency and the like, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, 3- (hepta) Fluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoroalkyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl Fluorine-containing compounds such as triethoxysilane may be added. The silane coupling agent can be used in any amount, but the amount of the fluorine-containing compound is preferably 0.25% or less by weight with respect to the compound not containing fluorine. Beyond this, there may be a problem with the film formability of the crosslinked film.

上述した保護層の保護層形成用塗布液(コーティング液)の調製は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等が使用できるが、好ましくは沸点が100℃以下のものであり、任意に混合しての使用もできる。溶剤量は任意に設定できるが、少なすぎると光機能性有機けい素化合物が析出しやすくなるため、光機能性有機けい素化合物1重量部に対し好ましくは0.5重量部以上30重量部以下、より好ましくは1重量部以上20重量部以下で使用される。   Preparation of the protective layer-forming coating solution (coating solution) for the protective layer described above is carried out in the absence of a solvent or, if necessary, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; tetrahydrofuran , Ethers such as diethyl ether and dioxane can be used, but preferably have a boiling point of 100 ° C. or less, and can be used by arbitrarily mixing them. The amount of the solvent can be arbitrarily set, but if it is too small, the photofunctional organosilicon compound is likely to be precipitated. Therefore, it is preferably 0.5 parts by weight or more and 30 parts by weight or less with respect to 1 part by weight of the photofunctional organosilicon compound. More preferably, it is used in an amount of 1 to 20 parts by weight.

反応温度及び時間は原料の種類によっても異なるが、通常、0℃以上100℃以下、好ましくは10℃以上70℃以下、特に好ましくは15℃以上50℃以下の温度で行うことが好ましい。反応時間に特に制限はないが、反応時間が長くなるとゲル化を生じ易くなるため、10分から100時間の範囲で行うことが好ましい。   The reaction temperature and time vary depending on the type of raw material, but it is usually preferably 0 to 100 ° C., preferably 10 to 70 ° C., particularly preferably 15 to 50 ° C. Although there is no restriction | limiting in particular in reaction time, Since it will become easy to produce gelation when reaction time becomes long, it is preferable to carry out in 10 minutes to 100 hours.

ここで、系に不溶な固体触媒とは、触媒成分が上述した化合物や、他のカップリング剤、含フッ素化合物、水、反応生成物及び溶媒のいずれにも不溶であるものであれば、特に限定されない。このような固体触媒の具体例を以下に例示する。
陽イオン交換樹脂:アンバーライト15、アンバーライト200C、アンバーリスト15(以上、ローム・アンド・ハース社製);ダウエックスMWC−1−H、ダウエックス88、ダウエックスHCR−W2(以上、ダウ・ケミカル社製);レバチットSPC−108、レバチットSPC−118(以上、バイエル社製);ダイヤイオンRCP−150H(三菱化成社製);スミカイオンKC−470、デュオライトC26−C、デュオライトC−433、デュオライト−464(以上、住友化学工業社製);ナフィオン−H(デュポン社製)等。
陰イオン交換樹脂:アンバーライトIRA−400、アンバーライトIRA−45(以上、ローム・アンド・ハース社製)等。
プロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体:Zr(O3PCH2CH2SO3H)2,Th(O3PCH2CH2COOH)2等。
プロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン:スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサン等。
ヘテロポリ酸:コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸等。
イソポリ酸:ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸等。
単元系金属酸化物:シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、CaO、MgO等。
複合系金属酸化物:シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類等。
粘土鉱物:酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイト等。
金属硫酸塩:LiSO4,MgSO4等。
金属リン酸塩:リン酸ジルコニア、リン酸ランタン等。
金属硝酸塩:LiNO3,Mn(NO32等。
アミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体:シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体等。
アミノ基を含有するポリオルガノシロキサン:アミノ変性シリコーン樹脂等。
Here, the solid catalyst insoluble in the system is particularly if the catalyst component is insoluble in any of the above-mentioned compounds, other coupling agents, fluorine-containing compounds, water, reaction products and solvents. It is not limited. Specific examples of such a solid catalyst are illustrated below.
Cation exchange resin: Amberlite 15, Amberlite 200C, Amberlist 15 (above, manufactured by Rohm and Haas); Dowex MWC-1-H, Dowex 88, Dowex HCR-W2 (above, Dow Chemical Company); Lebatit SPC-108, Lebatit SPC-118 (above, Bayer); Diaion RCP-150H (Mitsubishi Kasei); Sumikaion KC-470, Duolite C26-C, Duolite C-433 Duolite-464 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.); Nafion-H (manufactured by DuPont) and the like.
Anion exchange resin: Amberlite IRA-400, Amberlite IRA-45 (above, manufactured by Rohm and Haas) and the like.
Inorganic solid in which a group containing a proton acid group is bonded to the surface: Zr (O 3 PCH 2 CH 2 SO 3 H) 2 , Th (O 3 PCH 2 CH 2 COOH) 2, etc.
Polyorganosiloxane containing a protonic acid group: polyorganosiloxane having a sulfonic acid group.
Heteropoly acid: cobalt tungstic acid, phosphomolybdic acid, etc.
Isopolyacid: niobic acid, tantalum acid, molybdic acid, etc.
Unitary metal oxides: silica gel, alumina, chromia, zirconia, CaO, MgO and the like.
Composite metal oxides: silica-alumina, silica-magnesia, silica-zirconia, zeolites and the like.
Clay minerals: acid clay, activated clay, montmorillonite, kaolinite, etc.
Metal sulfate: LiSO 4 , MgSO 4 and the like.
Metal phosphate: zirconia phosphate, lanthanum phosphate, etc.
Metal nitrate: LiNO 3 , Mn (NO 3 ) 2 etc.
Inorganic solid in which an amino group-containing group is bonded to the surface: a solid obtained by reacting aminopropyltriethoxysilane on silica gel.
Polyorganosiloxane containing amino groups: amino-modified silicone resin and the like.

これらの触媒のうち、少なくとも1種を用いて加水分解縮合反応を行わせる。これらの触媒は、固定床中に設置し反応を流通式に行うこともできるし、バッチ式に行うこともできる。触媒の使用量は、特に限定されないが、加水分解性ケイ素置換基を含有する材料の合計量に対して0.1重量%以上20重量%以下が好ましい。   Of these catalysts, at least one kind is used to cause the hydrolysis condensation reaction. These catalysts can be installed in a fixed bed and the reaction can be carried out in a flow system or batchwise. Although the usage-amount of a catalyst is not specifically limited, 0.1 to 20 weight% is preferable with respect to the total amount of the material containing a hydrolyzable silicon substituent.

加水分解縮合させる際の水の添加量は特に限定されないが、生成物の保存安定性やさらに重合に供する際のゲル化抑制に影響するため、好ましくは加水分解性ケイ素置換基を含有する材料の加水分解性基をすべて加水分解するに必要な理論量に対して30モル%以上500モル%以下、さらに好ましくは50モル%以上300モル%以下の範囲の割合で使用することが好ましい。水の量が500モル%以下であると、生成物の保存安定性が良好であり、光機能性有機けい素化合物が析出しにくいので好ましい。一方、水の量が30モル%以上であると、未反応の化合物が少なく、コーティング液を塗布、硬化時に相分離を生じることが無いので好ましい。また良好な強度を得ることができるので好ましい。   The amount of water added during the hydrolytic condensation is not particularly limited. However, since it affects the storage stability of the product and the suppression of gelation when subjected to polymerization, it is preferable that the material containing a hydrolyzable silicon substituent is used. It is preferably used in a proportion of 30 mol% or more and 500 mol% or less, more preferably 50 mol% or more and 300 mol% or less, based on the theoretical amount required to hydrolyze all the hydrolyzable groups. When the amount of water is 500 mol% or less, the storage stability of the product is good, and the photofunctional organosilicon compound is difficult to precipitate, which is preferable. On the other hand, when the amount of water is 30 mol% or more, it is preferable because there are few unreacted compounds and phase separation does not occur during coating and curing. Moreover, since favorable intensity | strength can be obtained, it is preferable.

さらに、硬化触媒としては、以下の様なものを挙げることができる。塩酸、酢酸、リン酸、硫酸等のプロトン酸、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクトエート、オクエ酸第一錫等の有機錫化合物、テトラ−n−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、アルミニウムトリブトキシド、アルミニウムトリアセチルアセトナート等の有機アルミニウム化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩等。なお、保存安定性の点で金属化合物が好ましく、さらに、金属のアセチルアセトナート、又は、アセチルアセテートが好ましい。   Further, examples of the curing catalyst include the following. Protic acids such as hydrochloric acid, acetic acid, phosphoric acid and sulfuric acid, bases such as ammonia and triethylamine, organotin compounds such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctoate and stannous oxalate, tetra-n-butyl titanate, tetraisopropyl titanate Organic titanium compounds such as aluminum tributoxide, aluminum triacetylacetonate, etc., organic carboxylic acid iron salts, manganese salts, cobalt salts, zinc salts, zirconium salts and the like. In terms of storage stability, a metal compound is preferable, and metal acetylacetonate or acetylacetate is more preferable.

硬化触媒の使用量は任意に設定できるが、保存安定性、特性、強度等の点で加水分解性ケイ素置換基を含有する材料の合計量に対して0.1重量%以上20重量%以下が好ましく、0.3重量%以上10重量%以下がより好ましい。硬化温度は、任意に設定できるが、所望の強度を得るためには60℃以上であることが好ましく、より好ましくは80℃以上に設定される。   The amount of the curing catalyst used can be arbitrarily set, but it is 0.1% by weight or more and 20% by weight or less with respect to the total amount of materials containing hydrolyzable silicon substituents in terms of storage stability, characteristics, strength, and the like. Preferably, 0.3% by weight or more and 10% by weight or less is more preferable. The curing temperature can be arbitrarily set, but is preferably 60 ° C. or higher, and more preferably 80 ° C. or higher in order to obtain a desired strength.

硬化時間は、必要に応じて任意に設定できるが、10分以上5時間以下が好ましい。また、硬化反応を行ったのち、高湿度状態に保ち、特性の安定化を図ることも有効である。さらに、用途によっては、ヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロロシラン等を用いて表面処理を行い、疎水化することもできる。   Although hardening time can be arbitrarily set as needed, 10 minutes or more and 5 hours or less are preferable. It is also effective to stabilize the characteristics after the curing reaction by maintaining a high humidity state. Furthermore, depending on the application, it can be hydrophobized by surface treatment with hexamethyldisilazane, trimethylchlorosilane, or the like.

塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。また、膜厚は、0.1μm以上100μm以下程度とすることが好ましい。   As a coating method, a normal method such as a blade coating method, a Meyer bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, or a curtain coating method can be used. The film thickness is preferably about 0.1 μm to 100 μm.

以下、図8に示される単層型感光層118について説明する。単層型感光層118は、電荷発生物質、電荷輸送物質及び結着樹脂を含有して構成される。
電荷発生物質としては、非晶質セレン、結晶性セレン、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、その他のセレン化合物及びセレン合金、アモルファスシリコン、硫化カドミウム等の無機系光導電体及びこれらを色素増感したもの、無金属フタロシアニン,チタニルフタロシアニン,銅フタロシアニン,錫フタロシアニン,ガリウムフタロシアニン等の各種フタロシアニン顔料、ナフタロシアニン顔料、スクエアリウム系、アントアントロン系、ペリレン系、アゾ系、トリスアゾ系、アントラキノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の各種有機顔料及び染料が用いられる。また、これらの有機顔料は一般に数種の結晶型を有しており、特にフタロシアニン顔料ではα型、β型等をはじめとしてさまざまな結晶型が知られているが、目的にあった感度その他の特性が得られる顔料であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることが可能である。
Hereinafter, the single-layer type photosensitive layer 118 shown in FIG. 8 will be described. The single-layer type photosensitive layer 118 includes a charge generation material, a charge transport material, and a binder resin.
Examples of charge generating materials include amorphous selenium, crystalline selenium, selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, other selenium compounds and selenium alloys, amorphous silicon, cadmium sulfide and other inorganic photoconductors, and dye-sensitized materials Sensitive, various phthalocyanine pigments such as metal-free phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, copper phthalocyanine, tin phthalocyanine, gallium phthalocyanine, naphthalocyanine pigment, squalium, anthrone, perylene, azo, trisazo, anthraquinone, pyrene Various organic pigments and dyes, such as those based on the color, pyrylium salt and thiapyrylium salt, are used. In addition, these organic pigments generally have several types of crystals. In particular, phthalocyanine pigments have various crystal types including α type, β type, etc. Any of these crystal forms can be used as long as it is a pigment capable of obtaining characteristics.

ここで、優れた性能が得られる電荷発生物質として以下の化合物が特に好適である。Cukα線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)において、少なくとも7.6°、10.0°、25.2°及び28.0°の位置に回折ピークを有する結晶型に代表されるヒドロキシガリウムフタロシアニン。Cukα線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)において、少なくとも7.3°、16.5°、25.4°、28.1°の位置に回折ピークを有する結晶型に代表されるクロルガリウムフタロシアニン。Cukα線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)において、少なくとも9.5°、24.2°、27.3°の位置に回折ピークを有する結晶型に代表されるチタニルフタロシアニン。
なお、結晶の形状や測定方法により、これらのピーク強度が位置が微妙にこれらの値から外れることも有るが、X線回折パタンが基本的に一致しているものであれば同じ結晶型であると判断できる。
上記例示の電荷発生物質は、光源のスペクトルにあわせて所望の領域に吸収波長を有するように、単独又は2種以上をブレンドして使用できる。
Here, the following compounds are particularly suitable as the charge generating material that can provide excellent performance. Crystals having diffraction peaks at positions of at least 7.6 °, 10.0 °, 25.2 ° and 28.0 ° in the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα rays Hydroxygallium phthalocyanine represented by molds. A crystal having diffraction peaks at positions of at least 7.3 °, 16.5 °, 25.4 °, and 28.1 ° in the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα rays. Chlorgallium phthalocyanine represented by mold. Represented by crystal types having diffraction peaks at positions of at least 9.5 °, 24.2 °, and 27.3 ° in the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα rays. Titanyl phthalocyanine.
Depending on the crystal shape and measurement method, these peak intensities may slightly deviate from these values. However, if the X-ray diffraction patterns are basically the same, they are the same crystal type. It can be judged.
The charge generating materials exemplified above can be used alone or in combination of two or more so as to have an absorption wavelength in a desired region in accordance with the spectrum of the light source.

上記例示の電荷発生物質のうち、特に半導体レーザー等の光源を使用したレーザービームプリンタやファクシミリ等のデジタル光学系の画像形成装置には、700nm以上の波長領域に感度を有する感光体が必要となるため、例えばガリウムフタロシアニンやオキシチタニウムフタロシアニン等のフタロシニン系顔料が好適に使用される。また400nm以上500nm以下の領域の青色領域に発振波長を有するブルーレーザーに対しては、Se系顔料はアゾ顔料、芳香族多環化合物等が好適である。   Among the charge generating materials exemplified above, in particular, a laser beam printer using a light source such as a semiconductor laser or an image forming apparatus of a digital optical system such as a facsimile requires a photosensitive member having sensitivity in a wavelength region of 700 nm or more. Therefore, phthalosinine pigments such as gallium phthalocyanine and oxytitanium phthalocyanine are preferably used. For a blue laser having an oscillation wavelength in the blue region of 400 nm or more and 500 nm or less, the Se pigment is preferably an azo pigment or an aromatic polycyclic compound.

電荷輸送物質としては、従来公知の電子輸送材料及び正孔(ホール)輸送材料が挙げられる。単層型感光層においては、感光層中に電子輸送材料とホール輸送材料をブレンドして含有させることが好ましいが、電子輸送材料を用いない場合もある。   Examples of the charge transport material include conventionally known electron transport materials and hole transport materials. In the single-layer type photosensitive layer, it is preferable to blend and contain an electron transport material and a hole transport material in the photosensitive layer, but there are cases where an electron transport material is not used.

単層型感光層118に使用可能な電子輸送材料としては、ジフェノキノン誘導体、ベンゾキノン誘導体のほか、アントラキノン誘導体、マロノニトリル誘導体、チオピラン誘導体、トリニトロチオキサントン誘導体、3,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン誘導体、ジニトロアントラセン誘導体、ジニトロアクリジン誘導体、ニトロアントアラキノン誘導体、ジニトロアントラキノン誘導体、テトラシアノエチレン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、ジニトロベンゼン、ジニトロアントラセン、ジニトロアクリジン、ニトロアントラキノン、ジニトロアントラキノン、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸等の、電子受容性を有する種々の化合物が挙げられる。特に、3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチルジフェノキノン、3,5−ジメチル−3’,5’−ジ−t−ブチル−4,4’−ジフェノキノン等のキノン誘導体が好適に使用される。   Electron transport materials that can be used for the single-layer photosensitive layer 118 include diphenoquinone derivatives, benzoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, malononitrile derivatives, thiopyran derivatives, trinitrothioxanthone derivatives, 3,4,5,7-tetranitro-9-. Fluorenone derivative, dinitroanthracene derivative, dinitroacridine derivative, nitroantharaquinone derivative, dinitroanthraquinone derivative, tetracyanoethylene, 2,4,8-trinitrothioxanthone, dinitrobenzene, dinitroanthracene, dinitroacridine, nitroanthraquinone, dinitroanthraquinone, Examples include various compounds having electron accepting properties such as succinic anhydride, maleic anhydride, and dibromomaleic anhydride. In particular, quinone derivatives such as 3,3 ′, 5,5′-tetra-t-butyldiphenoquinone and 3,5-dimethyl-3 ′, 5′-di-t-butyl-4,4′-diphenoquinone are used. Preferably used.

電子輸送材料は1種のみを使用する他、2種以上をブレンドして使用してもよい。電子写真感光体に使用可能なホール輸送剤としては、例えばN,N,N’,N’−テトラフェニルベンジジン誘導体、N,N,N’,N’−テトラフェニルフェニレンジアミン誘導体、N,N,N’,N’−テトラフェニルナフチレンジアミン誘導体、N,N,N’,N’−テトラフェニルフェナントリレンジアミン誘導体、2,5−ジ(4−メチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、9−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセン等のスチリル系化合物、ポリビニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物、有機ポリシラン化合物、1−フェニル−3−(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン系化合物、ヒドラゾン系化合物、インドール系化合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環式化合物や、縮合多環式化合物が挙げられる。
また、正孔輸送材料は1種のみならず、2種以上をブレンドして使用してもよい。
Only one type of electron transport material may be used, or two or more types may be blended. Examples of the hole transporting agent that can be used for the electrophotographic photosensitive member include N, N, N ′, N′-tetraphenylbenzidine derivatives, N, N, N ′, N′-tetraphenylphenylenediamine derivatives, N, N, N ′, N′-tetraphenylnaphthylenediamine derivative, N, N, N ′, N′-tetraphenylphenanthrylenediamine derivative, 2,5-di (4-methylaminophenyl) -1,3,4 Oxadiazole compounds such as oxadiazole, styryl compounds such as 9- (4-diethylaminostyryl) anthracene, carbazole compounds such as polyvinylcarbazole, organic polysilane compounds, 1-phenyl-3- (p-dimethylaminophenyl) ) Pyrazoline compounds such as pyrazoline, hydrazone compounds, indole compounds, oxazole compounds, iso Kisazoru compounds, thiazole compounds, thiadiazole compounds, imidazole compounds, pyrazole compounds, and nitrogen-containing cyclic compounds such as triazole compounds, and condensed polycyclic compounds.
Further, not only one kind of hole transport material but also two or more kinds may be blended and used.

結着樹脂としては、ビスフェノールZやビスフェノールA、ビスフェノールC等のビスフェノール類を骨格とする各種ポリカーボネート樹脂やその共重合体、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、アイオノマー、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アルキド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスルホン、ジアリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂等の熱可塑性樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、その他架橋性の熱硬化性樹脂、エポキシアクリレート、ウレタン−アクリレート等の光硬化型樹脂等の樹脂が使用可能である。
また、これらの結着樹脂は、1種を単独で又は2種以上をブレンド又は共重合して使用できる。以上の結着樹脂の重量平均分子量は、好ましくは5,000以上200,000以下、より好ましくは15,000以上100,000以下の重量平均分子量のものが用いられる。
The binder resin includes various polycarbonate resins having skeletons of bisphenols such as bisphenol Z, bisphenol A, and bisphenol C, copolymers thereof, polyester resins, polyarylate resins, styrene-butadiene copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers. Polymer, styrene-maleic acid copolymer, acrylic copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, chlorinated polyethylene, polyvinyl chloride, polypropylene, ionomer, vinyl chloride-vinyl acetate Copolymers, alkyd resins, polyamides, polyurethanes, polysulfones, diallyl phthalate resins, ketone resins, polyvinyl butyral resins, polyether resins and other thermoplastic resins, silicone resins, epoxy resins, phenol resins, urea Fat, melamine resins, and other crosslinkable thermosetting resin, epoxy acrylate, urethane - resin such as photocurable resin such as acrylate can be used.
In addition, these binder resins can be used singly or in a blend or copolymer of two or more. The weight average molecular weight of the above binder resin is preferably 5,000 or more and 200,000 or less, more preferably 15,000 or more and 100,000 or less.

単層型感光層118において、電荷発生物質は全結着樹脂重量に対して0.1重量%以上50重量%以下、さらには0.5重量%以上30重量%以下含有させることが好ましい。電子輸送剤は全結着樹脂重量に対して5重量%以上100重量%以下、さらには10重量%以上80重量%以下含有させることが好ましい。ホール輸送材料は全結着樹脂重量に対して5重量%以上500重量%以下含有させることが好ましく、25重量%以上200重量%以下含有させることがより好ましい。電子輸送材料と正孔輸送材料とをブレンドして使用する場合、電子輸送材料とホール輸送材料との総量は、全結着樹脂に対して20重量%以上500重量%以下含有させることが好ましく、30重量%以上200重量%以下含有させることがより好ましい。
単層型感光層118の膜厚は、好ましくは5μm以上100μm以下、より好ましくは10μm以上50μm以下である。
In the single-layer type photosensitive layer 118, the charge generation material is preferably contained in an amount of 0.1% by weight to 50% by weight, and more preferably 0.5% by weight to 30% by weight, based on the total weight of the binder resin. The electron transfer agent is preferably contained in an amount of 5% by weight to 100% by weight, more preferably 10% by weight to 80% by weight, based on the total weight of the binder resin. The hole transport material is preferably contained in an amount of 5% by weight or more and 500% by weight or less, and more preferably 25% by weight or more and 200% by weight or less based on the total weight of the binder resin. When the electron transport material and the hole transport material are used in a blend, the total amount of the electron transport material and the hole transport material is preferably 20% by weight or more and 500% by weight or less based on the total binder resin. More preferably, the content is 30% by weight or more and 200% by weight or less.
The film thickness of the single-layer type photosensitive layer 118 is preferably 5 μm or more and 100 μm or less, more preferably 10 μm or more and 50 μm or less.

感光層113には、前述の各成分のほかに、電子写真特性に悪影響を与えない範囲で、従来公知の種々の添加剤、例えば、酸化防止剤、ラジカル補足剤、一重項クエンチャー、紫外線吸収剤等の劣化防止剤、軟化剤、可塑剤、表面改質剤、増量剤、増粘剤、分散安定剤、ワックス、アクセプター、ドナー等を配合することができる。また、感光層の感度を向上させるために、例えば、テルフェニル、ハロナフトキノン類、アセナフチレン等の公知の増感剤を電荷発生物質と併用してもよい。   In the photosensitive layer 113, in addition to the above-described components, various conventionally known additives, for example, an antioxidant, a radical scavenger, a singlet quencher, and an ultraviolet absorption, as long as the electrophotographic characteristics are not adversely affected. Deterioration preventing agents such as agents, softeners, plasticizers, surface modifiers, extenders, thickeners, dispersion stabilizers, waxes, acceptors, donors, and the like can be blended. In order to improve the sensitivity of the photosensitive layer, for example, a known sensitizer such as terphenyl, halonaphthoquinones, acenaphthylene and the like may be used in combination with the charge generating substance.

感光層113を塗布法により形成する場合には、上記例示の電荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂等を適当な溶剤とともに、公知の方法、例えば、ロールミル、ボールミル、アトライター、ペイントシエーカー、超音波分散機等を用いて分散ブレンドして分散液を調製し、これを公知の手段により塗布して乾燥させればよい。   When the photosensitive layer 113 is formed by a coating method, the charge generating material, charge transporting material, binder resin, and the like exemplified above are combined with a suitable solvent together with a known method such as a roll mill, a ball mill, an attritor, a paint shaker. Then, a dispersion liquid may be prepared by dispersion blending using an ultrasonic disperser or the like, and this may be applied and dried by a known means.

上記分散液を作製するための溶剤としては、種々の有機溶剤が使用可能であり、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、n−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で又は2種以上ブレンドして用いられる。
さらに、電荷発生物質、電荷輸送物質等の分散性、感光層表面の平滑性を向上させるために、界面活性剤、レベリング剤等を使用してもよい。
As the solvent for preparing the dispersion, various organic solvents can be used, for example, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and butanol, and aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, octane and cyclohexane. , Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, chlorobenzene, ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and methyl acetate, dimethylformaldehyde, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide And the like. These solvents are used alone or in combination of two or more.
Further, a surfactant, a leveling agent or the like may be used in order to improve the dispersibility of the charge generation material, the charge transport material and the like and the smoothness of the photosensitive layer surface.

このようにして得られる感光体110は、ライトレンズ系複写機、近赤外光若しくは可視光に発光するレーザービームプリンター、デジタル複写機、LEDプリンター、レーザーファクシミリ等の画像形成装置に用いることもできる。また、感光体110は一成分系、二成分系の現像剤とも合わせて用いることができる。また、以上説明した感光体110は帯電ローラや帯電ブラシを用いた接触帯電方式においても利用可能である。   The photoconductor 110 thus obtained can also be used in image forming apparatuses such as light lens copying machines, laser beam printers that emit near-infrared light or visible light, digital copying machines, LED printers, and laser facsimiles. . The photoreceptor 110 can be used in combination with a one-component or two-component developer. The photoconductor 110 described above can also be used in a contact charging system using a charging roller or a charging brush.

帯電装置120としては特に制限されないが、接触型帯電器を使用することができる。接触型帯電器は、、帯電補償能力に優れる点で好ましい。
接触帯電方式は、感光体110表面に接触させた帯電ロールに電圧を印加することにより感光体110表面を帯電させるものである。通常、帯電ロールは外側から抵抗層とそれらを支持する弾性層と芯材とから構成される。さらに必要に応じて抵抗層の外側に保護層を設けてもよい。
これらの帯電ロール用122を用いて感光体110を帯電させるには、帯電ロール122に電圧を印加すればよい。印加電圧は、直流電圧又は直流電圧に交流電圧を重畳したものが好ましい。電圧の範囲としては、直流電圧は要求される感光体帯電電位に応じて正又は負の50V以上2,000V以下が好ましく、特に100V以上1,500V以下が好ましい。交流電圧を重畳する場合は、ピーク間電圧が400V以上1,800V以下であることが好ましく、より好ましくは800V以上1,600V以下、さらに好ましくは1,200V以上1,600V以下である。交流電圧の周波数は50Hz以上20,000Hz以下であることが好ましく、より好ましくは100Hz以上5,000Hz以下である。
The charging device 120 is not particularly limited, but a contact charger can be used. The contact-type charger is preferable in that it has excellent charge compensation capability.
In the contact charging method, the surface of the photoconductor 110 is charged by applying a voltage to a charging roll brought into contact with the surface of the photoconductor 110. Usually, the charging roll is composed of a resistance layer, an elastic layer that supports them, and a core material from the outside. Further, a protective layer may be provided outside the resistance layer as necessary.
In order to charge the photoreceptor 110 using these charging rolls 122, a voltage may be applied to the charging roll 122. The applied voltage is preferably a DC voltage or a DC voltage superimposed with an AC voltage. As the voltage range, the DC voltage is preferably positive or negative 50 V or more and 2,000 V or less, particularly preferably 100 V or more and 1,500 V or less, depending on the required photosensitive member charging potential. When the AC voltage is superimposed, the peak-to-peak voltage is preferably 400 V or more and 1,800 V or less, more preferably 800 V or more and 1,600 V or less, and further preferably 1,200 V or more and 1,600 V or less. The frequency of the AC voltage is preferably 50 Hz or more and 20,000 Hz or less, and more preferably 100 Hz or more and 5,000 Hz or less.

露光装置130は特に制限されないが、例えば、感光体110表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光できる光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下の近傍に発振波長を有するレーザーも利用できる。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力が可能なタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。   The exposure apparatus 130 is not particularly limited, and examples thereof include optical equipment that can expose the surface of the photoreceptor 110 with light such as semiconductor laser light, LED light, and liquid crystal shutter light in a desired image manner. The wavelength of the light source is in the spectral sensitivity region of the photoreceptor. As the wavelength of the semiconductor laser, near infrared having an oscillation wavelength near 780 nm is the mainstream. However, the present invention is not limited to this wavelength, and an oscillation wavelength laser in the 600 nm range or a laser having an oscillation wavelength in the vicinity of 400 nm to 450 nm as a blue laser can be used. For color image formation, a surface-emitting laser light source capable of multi-beam output is also effective.

現像装置140は、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行うことができる。そのような現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ロール等を用いて感光体10に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。
図5及び図6においては、トナー収容部146からトナー供給部材144により現像剤収容部145に搬送されたトナーは、現像剤撹拌及び搬送部材142、143によって現像剤担持体に搬送される。
The developing device 140 can be performed using, for example, a general developing device that performs development by bringing a magnetic or non-magnetic one-component developer or two-component developer into contact or non-contact. Such a developing device is not particularly limited as long as it has the functions described above, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of attaching the one-component developer or the two-component developer to the photoreceptor 10 using a brush, a roll, or the like can be used.
In FIGS. 5 and 6, the toner transported from the toner storage unit 146 to the developer storage unit 145 by the toner supply member 144 is transported to the developer carrier by the developer agitation and transport members 142 and 143.

現像装置140では、種々の現像剤を使用することができる。重合法により形成された球形トナーは、球状(好ましい球形化度(形状係数):100以上135以下)で、且つその粒径は非常に均一であるため、被転写媒体への転写効率が高く鮮明な画像を形成することができる。   In the developing device 140, various developers can be used. The spherical toner formed by the polymerization method has a spherical shape (preferred sphericity (shape factor): 100 or more and 135 or less) and has a very uniform particle size, so that the transfer efficiency to the transfer medium is high and clear. An image can be formed.

画像形成装置100においては、トナーとして球形トナーを用いた場合でも、クリーニングロール123を備えることにより、帯電ロール122を好適にクリーニングすることが可能となる。   In the image forming apparatus 100, even when spherical toner is used as the toner, the charging roll 122 can be suitably cleaned by providing the cleaning roll 123.

転写装置150としては特に制限はなく、例えば、ベルト、ロール、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。これらの中でも、転写帯電補償能力に優れる点で接触型転写帯電器が好ましい。なお、本実施形態においては、上記転写帯電器のほか、剥離帯電器等を併用することもできる。
また、転写の際に、転写装置150から感光体110に付与される転写電流には、通常直流電流が使用されるが、本実施形態においては、さらに交流電流を重畳させて使用してもよい。転写装置150における設定条件としては、帯電すべき画像領域幅、転写帯電器の形状、開口幅、プロセススピード(周速)等により異なり一概に規定することはできないが、例えば、転写電流としては+100μA以上+400μA以下、転写電圧としては+500V以上+2,000V以下を設定値とすることができる。
The transfer device 150 is not particularly limited. For example, a contact transfer charger using a belt, roll, film, rubber blade, etc., a scorotron transfer charger using a corona discharge, a corotron transfer charger, and the like are known per se. Examples include a transfer charger. Among these, a contact type transfer charger is preferable in that it has excellent transfer charge compensation capability. In the present embodiment, a peeling charger or the like can be used in combination with the transfer charger.
In addition, a direct current is normally used as a transfer current applied from the transfer device 150 to the photoconductor 110 during transfer, but in the present embodiment, an alternating current may be further superimposed. . The setting conditions in the transfer device 150 differ depending on the width of the image area to be charged, the shape of the transfer charger, the opening width, the process speed (peripheral speed), etc., and cannot be specified unconditionally. The set value can be +400 μA or less and the transfer voltage can be +500 V or more and +2,000 V or less.

定着装置160としては特に限定されず、熱ロール定着器、オーブン定着器等の通常使用される装置を使用できる。定着装置160により、被転写媒体上に転写したトナー像を定着することができる。   The fixing device 160 is not particularly limited, and a commonly used device such as a heat roll fixing device or an oven fixing device can be used. The toner image transferred onto the transfer medium can be fixed by the fixing device 160.

画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、感光体110に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。
上記光除電装置としては、例えば、タングステンランプ、LED等が挙げられ、該光除電プロセスに用いる光質としては、例えば、タングステンランプ等の白色光、LED光等の赤色光等が挙げられる。該光除電プロセスにおける照射光強度としては、通常、電子写真感光体の半減露光感度を示す光量の数倍以上30倍以下程度になるように出力設定される。なお、上記の装置を使用することで、光除電工程等が好適に実施できる。
In addition to the above-described devices, the image forming apparatus 100 may include, for example, an optical static elimination device that performs optical static elimination on the photoconductor 110.
Examples of the light neutralization device include tungsten lamps and LEDs. Examples of the light quality used in the light neutralization process include white light such as tungsten lamps and red light such as LED light. The irradiation light intensity in the photostatic process is usually set so that it is several times to 30 times the amount of light showing the half exposure sensitivity of the electrophotographic photosensitive member. In addition, an optical static elimination process etc. can be implemented suitably by using said apparatus.

また、画像形成装置100は、中間転写方式を採用してもよく、その場合には、中間転写体、上記中間転写体をクリーニングする中間転写体クリーナ等を備える。   Further, the image forming apparatus 100 may adopt an intermediate transfer method, and in this case, includes an intermediate transfer member, an intermediate transfer member cleaner for cleaning the intermediate transfer member, and the like.

以下、本発明を実施例を参照して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated with reference to an Example, this invention is not limited to this.

(実施例1)
クリーニングロールの樹脂発泡体として、株式会社イノアックコーポレーション社製のRSM−50を97部、ダイキン工業(社)製のユニダインTG470B(フッ素樹脂)を3部混合したものを用いた。
<スプレー塗布液の調液・塗布>
日本アチソン(株)製のアクリル変性ウレタン樹脂にカーボンブラックとフッ素樹脂粉末を添加してなる水−エマルジョン塗料(エムラロンJYL−804ESD:固形分30重量%)をスプレー塗装した。その後、70℃で70分間加熱して、膜厚20μmの表面層を形成した。
(Example 1)
As the resin foam of the cleaning roll, 97 parts of RSM-50 manufactured by Inoac Corporation and 3 parts of Unidyne TG470B (fluorine resin) manufactured by Daikin Industries, Ltd. were used.
<Preparation and application of spray coating liquid>
A water-emulsion paint (Emulalon JYL-804 ESD: solid content 30% by weight) obtained by adding carbon black and fluororesin powder to acrylic modified urethane resin manufactured by Nippon Atchison Co., Ltd. was spray-coated. Then, it heated at 70 degreeC for 70 minutes, and formed the surface layer with a film thickness of 20 micrometers.

(実施例2)
<樹脂発泡体の作製>
ユニダインTG470B(フッ素樹脂)を添加しない以外は実施例1と同様にして樹脂発泡体からなるクリーニングロールを作製した。その後、実施例1と同様にして、フッ素樹脂を含む水−エマルジョン塗料をスプレー塗装し、70℃で70分間加熱して、膜厚20μmの表面層を形成した。
(Example 2)
<Production of resin foam>
A cleaning roll made of a resin foam was produced in the same manner as in Example 1 except that Unidyne TG470B (fluororesin) was not added. Thereafter, in the same manner as in Example 1, a water-emulsion paint containing a fluororesin was spray-coated and heated at 70 ° C. for 70 minutes to form a surface layer having a thickness of 20 μm.

(実施例3)
ユニダインTG470Bの代わりに、東レ−ダウコーニングシリコーン社製のn−デシルトリメトキシシラン(AX43−045)を用いた以外は実施例1と同様にロールを作製した。その後、実施例1と同様にして、フッ素樹脂を含む水−エマルジョン塗料をスプレー塗装し、70℃で70分間加熱して、膜厚20μmの表面層を形成した。
(Example 3)
A roll was prepared in the same manner as in Example 1 except that n-decyltrimethoxysilane (AX43-045) manufactured by Toray Dow Corning Silicone was used instead of Unidyne TG470B. Thereafter, in the same manner as in Example 1, a water-emulsion paint containing a fluororesin was spray-coated and heated at 70 ° C. for 70 minutes to form a surface layer having a thickness of 20 μm.

(比較例1)
フッ素樹脂粒子を添加しない水−エマルジョン塗料を使用した以外は、実施例1と同様にしてクリーニングロールを作製した。
(Comparative Example 1)
A cleaning roll was produced in the same manner as in Example 1 except that a water-emulsion paint without adding fluororesin particles was used.

(画像形成装置)
DocuPrint205のプロセスカートリッジをを改造し、高温高湿(28℃/85%RH)及び低温低湿(10℃/15%RH)条件下で各20,000枚の走行試験を行い、ハーフトーン画像上での局所的画質欠陥(色点)の発生有無を確認した。なお色点が発生する枚数を評価の基準とした。基準は以下の通りであり、悪い結果の方を基準とした。
◎:20,000枚で発生しない。
○:17,000枚以上20,000枚未満で発生する。
△:15,000枚以上17,000枚未満で発生する。
×:15,000枚未満で発生する。
結果を以下の表に示す。
(Image forming device)
The DocuPrint 205 process cartridge was remodeled, and a running test of 20,000 sheets was performed under high temperature and high humidity (28 ° C / 85% RH) and low temperature and low humidity (10 ° C / 15% RH) conditions. The presence or absence of local image quality defects (color points) was confirmed. Note that the number of color points generated was used as a criterion for evaluation. The criteria are as follows, and the worse results were used as the criteria.
A: Not generated with 20,000 sheets.
○: Occurs at 17,000 or more and less than 20,000.
Δ: Generated when the number is 15,000 or more and less than 17,000.
X: Occurs in less than 15,000 sheets.
The results are shown in the table below.

Figure 2008158353
Figure 2008158353

本発明のクリーニング装置の好適な一実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows suitable one Embodiment of the cleaning apparatus of this invention. 図1に示されるクリーニング装置の第2のロールを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the 2nd roll of the cleaning apparatus shown by FIG. 図2に示される第2のロールのII−II線方向の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the II-II line direction of the 2nd roll shown by FIG. 本発明に使用できる第2のロールの他の実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows other embodiment of the 2nd roll which can be used for this invention. 本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を示す模式図である。1 is a schematic diagram illustrating a basic configuration of a preferred embodiment of an image forming apparatus of the present invention. 本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を示す模式図である。1 is a schematic diagram illustrating a basic configuration of a preferred embodiment of an image forming apparatus of the present invention. 感光体の好適な一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view showing a preferred example of a photoreceptor. 感光体の好適な一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view showing a preferred example of a photoreceptor.

符号の説明Explanation of symbols

3 支持部
4 接着部
5 当接部
10 クリーニング装置
12 像保持体
14 第1のロール
16 第2のロール
100 画像形成装置
110 感光体(像保持体)
112 導電性支持体
113 感光層
114 下引層
115 電荷発生層
116 電荷輸送層
117 保護層
118 単層型感光層
120 帯電装置
122 帯電ロール
123 クリーニングロール
130 露光装置
135 レーザー露光路
140 現像装置
141 現像剤担持体
142 現像剤撹拌及び搬送部材
143 現像剤撹拌及び搬送部材
144 トナー供給部材
145 現像剤供給部
146 トナー収容部
150 転写装置
160 定着装置
170 感光体クリーニング装置
171 クリーニングブレード
172 クリーニング済みトナー回収部
180 搬送ロール
200 プロセスカートリッジ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Support part 4 Adhesion part 5 Contact part 10 Cleaning apparatus 12 Image holding body 14 1st roll 16 2nd roll 100 Image forming apparatus 110 Photosensitive body (image holding body)
112 conductive support 113 photosensitive layer 114 undercoat layer 115 charge generation layer 116 charge transport layer 117 protective layer 118 single layer type photosensitive layer 120 charging device 122 charging roll 123 cleaning roll 130 exposure device 135 laser exposure path 140 developing device 141 development Developer carrier 142 Developer agitation and conveyance member 143 Developer agitation and conveyance member 144 Toner supply member 145 Developer supply unit 146 Toner storage unit 150 Transfer device 160 Fixing device 170 Photoconductor cleaning device 171 Cleaning blade 172 Cleaned toner recovery unit 180 Transport roll 200 Process cartridge

Claims (6)

像保持体に接触可能な第1のロールと、
該第1のロールに接触可能な第2のロールとを備え、
該第2のロールは芯材の外周に樹脂発泡体を有し、かつ、
該樹脂発泡体表面が離型性を有する材料を含有することを特徴とする
クリーニング装置。
A first roll that can contact the image carrier;
A second roll that can contact the first roll;
The second roll has a resin foam on the outer periphery of the core, and
A cleaning device, wherein the surface of the resin foam contains a material having releasability.
該第1のロールが接触帯電ロールである請求項1に記載のクリーニング装置。   The cleaning device according to claim 1, wherein the first roll is a contact charging roll. 該離型性を有する材料がフッ素を含む樹脂である請求項1又は2に記載のクリーニング装置。   The cleaning device according to claim 1, wherein the material having releasability is a resin containing fluorine. 該像保持体表面がシロキサン系樹脂を含有する請求項1から3いずれか1つに記載のクリーニング装置。   The cleaning device according to claim 1, wherein the surface of the image carrier contains a siloxane-based resin. 少なくとも像担持体と、帯電ロールと、該帯電ロール表面に付着した現像剤を除去するクリーニング手段とを具備すると共に、画像形成装置に対して脱着可能なプロセスカートリッジであって、
前記クリーニング手段が、請求項1から4いずれか1つに記載のクリーニング装置であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
A process cartridge that includes at least an image carrier, a charging roll, and a cleaning unit that removes the developer attached to the surface of the charging roll, and is detachable from the image forming apparatus;
The process cartridge according to claim 1, wherein the cleaning unit is the cleaning device according to claim 1.
少なくとも像担持体と、前記像担持体の表面を帯電する帯電手段と、前記像担持体表面を露光し潜像を形成する露光手段と、前記潜像を現像剤担持体に担持した現像剤で現像する現像手段と、現像像を被転写体に転写する転写手段と、帯電部材の残留トナーを除去するクリーニング手段とを具備する画像形成装置であって、
前記クリーニング手段が、請求項1から4いずれか1つに記載のクリーニング装置であることを特徴とする画像形成装置。
At least an image carrier, a charging unit for charging the surface of the image carrier, an exposure unit for exposing the surface of the image carrier to form a latent image, and a developer carrying the latent image on the developer carrier. An image forming apparatus comprising: a developing unit that develops; a transfer unit that transfers a developed image to a transfer target; and a cleaning unit that removes residual toner on the charging member.
5. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the cleaning unit is the cleaning apparatus according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017167294A (en) * 2016-03-15 2017-09-21 株式会社イノアックコーポレーション Cleaner and method for manufacturing the same
JP2020101839A (en) * 2020-04-01 2020-07-02 株式会社イノアックコーポレーション Cleaner and method for manufacturing the same

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