JP2008158204A - Antireflection film, molding die and manufacturing methods therefor, and optical member having the antireflection film - Google Patents

Antireflection film, molding die and manufacturing methods therefor, and optical member having the antireflection film Download PDF

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Shoichi Kiso
曽 正 一 木
Masahiro Goto
藤 正 浩 後
Hiroshi Yamamoto
本 浩 山
Toshiyuki Hasegawa
俊 幸 長谷川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film which has an anti-reflectiveness and is restrained from deteriorating in the anti-reflectiveness due to adhesion of contaminants and to easily mass-produce the antireflection film inexpensively. <P>SOLUTION: The antireflection film has irregularities of 1 to 30 μm arithmetic mean roughness (Ra). A recessed secondary surface shape is formed of a recessed basic shape which may be connected with each other, the basic shape has 30 to 200 nm average depth and 80 to 400 nm average diameter and arrangement of the basic shapes at an antireflection surface is substantially irregular. A protruded secondary surface shape is formed of a protruded basic shape which may be connected with each other, the basic shape has 30 to 200 nm average height and 80 to 400 nm average diameter and arrangement of the basic shapes at the antireflection surface is substantially irregular. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射防止膜、賦型用型およびこれらの製造方法、ならびにこの反射防止膜を有する光学部材に関するものである。   The present invention relates to an antireflection film, a mold for molding, a production method thereof, and an optical member having the antireflection film.

交互吸着法を用いて数十〜数百nm程度の直径の微粒子を透明基材の表面に付着させ、表面に微細な凹凸が形成された反射防止材を得る技術については、本出願人が出願し、既に公知である(特許文献1:特開2002−6126号公報)。
特開2002−6126号公報
The applicant filed for the technology to obtain an antireflection material with fine irregularities formed on the surface by attaching fine particles with a diameter of about several tens to several hundreds of nanometers on the surface of the transparent substrate using the alternating adsorption method. However, it is already known (Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2002-6126).
JP 2002-6126 A

上記特許文献1に記載された技術は、優れた反射防止性を有する反射防止材を得ることができる点で好ましいものであり、そして、特許文献2および3に記載された技術は、そのような優れた反射防止性を有する反射防止材を容易かつ効率的に製造することができる点で好ましいものである。   The technique described in Patent Document 1 is preferable in that an antireflection material having excellent antireflection properties can be obtained, and the techniques described in Patent Documents 2 and 3 are This is preferable in that an antireflection material having excellent antireflection properties can be produced easily and efficiently.

上記の反射防止材は、主として、表面に存在する微細な凹凸形状によって反射防止性がもたらされているものである。このことから、反射防止材の表面に汚染物資が付着した場合、その付着面における微細な凹凸形状が変化あるいは消失して、その優れた反射防止性が低下したり反射防止性の均一性が損なわれる場合があった。   The above-mentioned antireflection material is mainly provided with antireflection properties by a fine uneven shape existing on the surface. Therefore, when contaminants adhere to the surface of the antireflection material, the fine uneven shape on the adhesion surface changes or disappears, and the excellent antireflection property is deteriorated or the uniformity of the antireflection property is impaired. There was a case.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、複数の表面形状が複合した所定の反射防止面を形成することによって、優れた反射防止性を有するとともに反射防止性の変化や不均一化が抑制された反射防止膜、およびこの反射防止膜を効率的に製造する方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of the above problems, and by forming a predetermined antireflection surface in which a plurality of surface shapes are combined, it has excellent antireflection properties and changes in antireflection properties or unevenness. The present invention provides an antireflection film in which the formation of the antireflection film is suppressed, and a method for efficiently producing the antireflection film.

本発明による第一の反射防止膜は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有することを特徴とするもの、である。   The first antireflection film according to the present invention has a primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm, and the following concave secondary surface shape formed on the primary surface shape. It is characterized by having an antireflection surface with a composite contour shape on the surface.

凹状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。   Concave secondary surface shape: consisting of concave basic shapes which may be interconnected, the basic shape having an average depth of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the antireflection surface of the basic shape A surface shape whose placement in is substantially irregular.

そして、本発明による第二の反射防止膜は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有することを特徴とするもの、である。   And the 2nd anti-reflective film by this invention is a primary surface shape which has the unevenness | corrugation whose arithmetic mean roughness (Ra) is 1 micrometer-30 micrometers, and the following convex secondary surface formed on this primary surface shape. It has an antireflection surface having a contour shape combined with the shape on the surface.

凸状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。   Convex secondary surface shape: Consists of convex basic shapes which may be connected to each other, and the basic shape has an average height of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the reflection of the basic shape Surface shape that is substantially irregular in arrangement on the prevention surface.

上記の本発明による第一の反射防止膜および第二の反射防止膜は、好ましい態様として、前記の一次表面形状が、隣接する凸間の平均間隔(Sm)が3μm〜200μmのもの、を包含する。   The first antireflection film and the second antireflection film according to the present invention include, as a preferred embodiment, the primary surface shape having an average interval (Sm) between adjacent convexities of 3 μm to 200 μm. To do.

そして、本発明による反射防止材は、基材と、上記いずれかの反射防止膜とからなることを特徴とするもの、である。   The antireflection material according to the present invention comprises a base material and any one of the above antireflection films.

また、本発明による第一の賦型用型は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有することを特徴とするもの、である。   The first mold for molding according to the present invention has a primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm, and the following convex secondary formed on the primary surface shape. It is characterized by having a contour shape combined with the surface shape on the shaping surface.

凸状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。   Convex secondary surface shape: Consists of convex basic shapes which may be connected to each other, and the basic shape has an average height of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the reflection of the basic shape Surface shape that is substantially irregular in arrangement on the prevention surface.

このような本発明による第一の賦型用型は、好ましい態様として、ローラ状形態の賦型用型を包含する。   Such a first mold for molding according to the present invention includes, as a preferred mode, a mold for molding in the form of a roller.

また、本発明による第二の賦型用型は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有することを特徴とするもの、である。   The second mold for molding according to the present invention comprises a primary surface shape having irregularities with an arithmetic mean roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm, and the following concave secondary surface formed on the primary surface shape. It has a contour shape combined with the shape on the shaping surface.

凹状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。   Concave secondary surface shape: consisting of concave basic shapes which may be interconnected, the basic shape having an average depth of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the antireflection surface of the basic shape A surface shape whose placement in is substantially irregular.

このような本発明による第二の賦型用型は、好ましい態様として、フィルム状形態の賦型用型を包含する。   Such a second mold for mold according to the present invention includes a film-shaped mold for mold as a preferred embodiment.

そして、本発明によるローラ状形態の賦型用型の製造方法は、前記の一次表面形状を有するローラ周面に、交互吸着法を用いて下地層を形成し、次いで、前記下地層上に微粒子を固定化することによって、ローラ周面上に、前記の一次表面形状と前記の二次表面形状とが複合した輪郭形状を形成させる工程を含むことを特徴とするもの、である。   According to the method for manufacturing a mold for roller-shaped form according to the present invention, a base layer is formed on the peripheral surface of the roller having the primary surface shape by using an alternate adsorption method, and then fine particles are formed on the base layer. And a step of forming a contour shape in which the primary surface shape and the secondary surface shape are combined on the circumferential surface of the roller.

そして、本発明によるフィルム状形態の賦型用型の製造方法は、フィルム基材と上記のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型用型によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とするもの、である。   And the manufacturing method of the shaping type | mold of the film form by this invention applies the curable resin composition which can be shaped between a film base material and the shaping type | mold of said roller shape, The moldable curable resin composition is shaped by the roller-shaped mold for molding, and further includes a step of curing the molded product of the curable resin composition. Stuff.

また、本発明による第一の反射防止膜の製造方法は、フィルム基材と上記のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型材によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とするもの、である。   In addition, the first method for producing an antireflection film according to the present invention applies a moldable curable resin composition between a film substrate and the above-mentioned mold for molding in the form of a roller. The moldable curable resin composition is shaped by the roller-shaped molding material, and further includes a step of curing the molded product of the curable resin composition. .

また、本発明による第二の反射防止膜の製造方法は、フィルム基材と上記のフィルム状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のフィルム状形態の賦型用型によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とするもの、である。   In addition, the second method for producing an antireflection film according to the present invention applies a moldable curable resin composition between a film substrate and the above-mentioned film-shaped mold for molding. A moldable curable resin composition is shaped by the above-described film-shaped mold for molding, and further includes a step of curing the molded product of the curable resin composition, It is.

さらに、本発明による光学部材は、上記のいずれかの反射防止膜を有することを特徴とするもの、である。   Furthermore, an optical member according to the present invention has any one of the above-described antireflection films.

本発明による反射防止膜は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された微細な所定の凹状または凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有するものであることから、優れた反射防止性を示すものである。   The antireflection film according to the present invention has a primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm, and a fine predetermined concave or convex secondary surface shape formed on the primary surface shape. Since the surface has an antireflection surface having a contour shape combined with the above, it exhibits excellent antireflection properties.

このような本発明による反射防止膜は、顕微鏡程度の微視的観察によればその凹部また凸部の配置が実質的に不規則であると同時に、肉眼による巨視的観察によれば前記凸部または凹部の配置が実質的に均一であって、そしてこの凹部また凸部が特定Raの一次表面形状上に形成されていることから、反射防止特性のレベルおよびその均質度において特に優れたものである。そして、各種の汚染物質(例えば、人の指との接触による汚れや、大気中の汚染物質等)が付着しても、反射防止特性の低下が抑制されたものである。   Such an antireflection film according to the present invention is substantially irregular in the arrangement of the concave portions or convex portions according to microscopic observation of a microscope, and at the same time, the convex portions according to macroscopic observation with the naked eye. Or, since the arrangement of the recesses is substantially uniform and the recesses or projections are formed on the primary surface shape of the specific Ra, it is particularly excellent in the level of antireflection characteristics and the homogeneity thereof. is there. And even if various pollutants (for example, dirt by contact with a human finger, pollutants in the atmosphere, etc.) are attached, the deterioration of the antireflection property is suppressed.

このような優れた反射防止性は、主として、(イ)一次表面形状の基づく反射防止性と、(ロ)凹状の二次表面形状に基づく反射防止性と、(ハ)一次表面形状と凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状に基づく反射防止性との、相乗的な作用・効果によるものと考えられる。特に、(ハ)一次表面形状と凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状であることにより、二次元ないし三次元的に、凹状の基本形状の開口向きが一次表面形状に基づいて多方向に分散されること、および凹状の基本形状の開口位置が一次表面形状に基づいて分散配置されること、ならびに凹状の基本形状の開口向きおよび存在位置が一次表面形状に基づいて連続的に変化していることによる、反射防止性向上効果によるものと考えられる。   Such excellent antireflection properties mainly include (a) antireflection properties based on primary surface shapes, (b) antireflection properties based on concave secondary surface shapes, and (c) primary surface shapes and concave shapes. This is considered to be due to a synergistic action and effect with the antireflection property based on the contour shape combined with the secondary surface shape. In particular, (c) the contour shape is a composite of the primary surface shape and the concave secondary surface shape, so that the opening direction of the concave basic shape is multidirectional based on the primary surface shape in two or three dimensions. And the opening position of the concave basic shape is distributed based on the primary surface shape, and the opening direction and position of the concave basic shape change continuously based on the primary surface shape. This is considered to be due to the antireflection improvement effect.

一方、本発明において反射防止特性の低下が抑制されるのは、反射防止面に汚染物質が付着して表面の微細な凹状の基本形状に基づく反射防止機能が低下したとしても、一次表面形状に基づく反射防止機能については汚染物質が付着後においても依然として高レベルに維持されることから、反射防止膜全体としての反射防止性低下が抑制されることによるものと考えられる。   On the other hand, in the present invention, the deterioration of the antireflection property is suppressed even if the antireflection function based on the fine concave basic shape of the surface is deteriorated due to the adhesion of contaminants to the antireflection surface, the primary surface shape is reduced. The antireflection function based on this is thought to be due to the fact that the contaminants are still maintained at a high level even after adhering, so that the antireflection degradation of the entire antireflection film is suppressed.

上記の本発明による反射防止膜を有する光学部材は、光反射が有効に防止されて、例えばディスプレイ装置のような情報表示のための光学部材の場合にはその視認性が向上し、また、太陽電池パネルのような受光用光学部材の場合には光利用効率が向上する。   In the optical member having the antireflection film according to the present invention, light reflection is effectively prevented, and in the case of an optical member for information display such as a display device, the visibility is improved. In the case of a light receiving optical member such as a battery panel, the light utilization efficiency is improved.

このような本発明による反射防止膜は、所定の賦型用型から容易に製造することができる。即ち、前記の所定の反射防止面を形成可能な賦型用型を用意し、この賦型用型を用いることによって、特定の反射防止面を有する光学部材を多数複製することができる。このような方法によれば、単一の複製用型から実質的に同一形状の反射防止構造を有する光学部材を製造することができる。   Such an antireflection film according to the present invention can be easily produced from a predetermined mold. That is, by preparing a shaping mold capable of forming the predetermined antireflection surface and using this shaping mold, a large number of optical members having a specific antireflection surface can be duplicated. According to such a method, an optical member having an antireflection structure having substantially the same shape can be manufactured from a single replication mold.

よって、製品ごとにコーティングや蒸着あるいは回折格子を作製する方法に比べて、極めて安定して、容易かつ低コストで所定の反射防止構造を有する光学部材を製造することができる。   Therefore, an optical member having a predetermined antireflection structure can be manufactured very stably, easily and at a low cost as compared with a method for producing a coating, vapor deposition or diffraction grating for each product.

さらに、本発明では、特定の輪郭形状をローラ周面上に形成させ、このローラ周面上の輪郭形状を利用して目的とする反射防止膜を得ていることから、大きな表面積を有する平面上に輪郭形状を形成させる場合に比較して、精密な輪郭形状を反射防止面の全面にわたって均一に形成させることが容易である。   Furthermore, in the present invention, since a specific contour shape is formed on the roller peripheral surface and the target antireflection film is obtained by using the contour shape on the roller peripheral surface, the surface has a large surface area. Compared with the case where the contour shape is formed, it is easy to form a precise contour shape uniformly over the entire surface of the antireflection surface.

<反射防止膜(第一の反射防止膜)>
本発明による第一の反射防止膜は、所定の一次表面形状と所定の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有する反射防止膜であって、具体的には、
算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有する反射防止膜である。
<Antireflection film (first antireflection film)>
A first antireflection film according to the present invention is an antireflection film having an antireflection surface having a contour shape in which a predetermined primary surface shape and a predetermined concave secondary surface shape are combined, and specifically, ,
An antireflection surface having a contour shape in which a primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm and the following concave secondary surface shape formed on the primary surface shape is combined on the surface. An antireflection film.

凹状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。   Concave secondary surface shape: consisting of concave basic shapes which may be interconnected, the basic shape having an average depth of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the antireflection surface of the basic shape A surface shape whose placement in is substantially irregular.

図1は、このような本発明による第一の反射防止膜の断面を模式的に示すものである。   FIG. 1 schematically shows a cross section of the first antireflection film according to the present invention.

本発明による第一の反射防止膜10は、図1に示されるように、凹凸の大きさおよび隣接する凸部間の距離Zの両方が相対的に大きい一次表面形状11と、この一次表面形状11上に形成された凹状の二次表面形状12とが複合した輪郭形状を表面に有するものとして、捉えることができる。この第一の反射防止膜10は、透明性材料、好ましくは透明性樹脂材料、特に好ましくは透明性の紫外線硬化型樹脂材料によって形成することができる。   As shown in FIG. 1, the first antireflection film 10 according to the present invention includes a primary surface shape 11 in which both the size of the unevenness and the distance Z between adjacent convex portions are relatively large, and the primary surface shape. 11 having a contour shape formed by combining the concave secondary surface shape 12 formed on the surface 11. The first antireflection film 10 can be formed of a transparent material, preferably a transparent resin material, particularly preferably a transparent ultraviolet curable resin material.

なお、第一の反射防止膜10の反射防止面が形成されていない面には、必要に応じて、基材13が形成されていてもよい。 In addition, the base material 13 may be formed in the surface in which the antireflection surface of the 1st antireflection film 10 is not formed as needed.

前記の凹状の二次表面形状12は、凹状の基本形状からなり、そして、この凹状の基本形状は、前記の一次表面形状上に実質的に不規則に配置されている。図2は、本発明の凹部を構成する基本形状を模式的に示す図であって、図2(a)および(c)は、基本形状を上面側から観察した場合の平面図であり、図2(b)および(d)、基本形状の側面を示す断面図である。これらの図2(a)〜(d)には、基本形状が完全に独立した場合、複数の基本形状が連結して一塊になっている場合あるいは帯状になっている場合における、基本形状の直径および基本形状の深さYが示されている。図2(a)〜(d)における基準面が、本発明における一次表面形状に相当する。   The concave secondary surface shape 12 comprises a concave basic shape, and the concave basic shape is arranged substantially irregularly on the primary surface shape. FIG. 2 is a diagram schematically showing a basic shape constituting the concave portion of the present invention, and FIGS. 2A and 2C are plan views when the basic shape is observed from the upper surface side. 2 (b) and (d) are cross-sectional views showing side surfaces of a basic shape. 2 (a) to 2 (d) show the diameter of the basic shape when the basic shape is completely independent, when a plurality of basic shapes are connected together and formed into a lump or a band shape. And the depth Y of the basic shape is shown. The reference planes in FIGS. 2A to 2D correspond to the primary surface shape in the present invention.

本発明による反射防止膜の一次表面形状は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μm、好ましくは3μm〜20μm、特に好ましくは5μm〜10μm、の凹凸を有するものである。算術平均粗さ(Ra)が1μm未満である場合には、アンチグレア効果不足で あり、一方30μm超過の場合には、外光に対してのコントラスト低下が激しい点で好ましくない。   The primary surface shape of the antireflection film according to the present invention has irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm, preferably 3 μm to 20 μm, particularly preferably 5 μm to 10 μm. When the arithmetic average roughness (Ra) is less than 1 μm, the antiglare effect is insufficient. On the other hand, when the arithmetic average roughness (Ra) is more than 30 μm, it is not preferable in that the contrast with respect to external light is severely lowered.

そして、本発明による反射防止膜の一次表面形状は、隣接する凹間の平均間隔(Sm)が3μm〜200μm、特に30μm〜100μm、のものが好ましい。ここで、隣接する凸間の平均間隔(Sm)は、凸部のほぼ中央付近の存在する頂部と、それに隣接する他の凸部のほぼ中央付近の存在する頂部部との間の距離を意味する(図1中のZ)。このSmは、例えば表面粗さ計等によって求めることができる。   The primary surface shape of the antireflection film according to the present invention is preferably such that the average interval (Sm) between adjacent recesses is 3 μm to 200 μm, particularly 30 μm to 100 μm. Here, the average interval (Sm) between adjacent protrusions means the distance between the apex that is near the center of the protrusion and the apex that is near the center of the other protrusions adjacent to it. (Z in FIG. 1). This Sm can be determined by, for example, a surface roughness meter.

本発明による反射防止膜の二次表面形状は、相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状である。ここで、基本形状とは、前記平均深さならびに前記平均直径で規定される凹部の要素のことをいう。   The secondary surface shape of the antireflection film according to the present invention is a concave basic shape which may be interconnected, and the basic shape has an average depth of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm. It is a surface shape in which the arrangement of the shape on the antireflection surface is substantially irregular. Here, the basic shape means an element of a recess defined by the average depth and the average diameter.

ここで、実質的に不規則であるとは、凹部の基本形状が、計算された人為的な分布で基材表面に形成されているわけでは無く、また、凹部の基本形状が、マクロな光学特性を発現するほどの大きさで人為的にまたは自己組織化により回折格子状やフォトニック結晶状に分布しているわけでも無く、凹部の基本形状が実質的にランダムに基材表面に分布していることを指す。本発明の凹部の基本形状の実質的に不規則な配置の中には、マイクロメートルスケールで部分的に、かつ低頻度で数個から数十個の凹部の基本形状が、たまたま回折格子様やフォトニック結晶様に分布している場合があるが、それはマクロな光の回折効果やフォトニック結晶構造由来の光学的効果を示す程度の大きさよりはるかに小さい偶然の産物である。   Here, “substantially irregular” does not mean that the basic shape of the concave portion is formed on the surface of the substrate with a calculated artificial distribution, and the basic shape of the concave portion is a macro optical. It is not large enough to exhibit characteristics, and is not distributed artificially or by self-organization in the form of a diffraction grating or photonic crystal, but the basic shape of the recesses is distributed virtually randomly on the substrate surface. It points to that. Among the substantially irregular arrangements of the basic shapes of the recesses of the present invention, the basic shape of several to several tens of recesses partially and infrequently on a micrometer scale happens to be a diffraction grating-like pattern. Although it may be distributed like a photonic crystal, it is a coincidence product that is much smaller than a magnitude that exhibits a macroscopic light diffraction effect or an optical effect derived from a photonic crystal structure.

この凹部を構成する基本形状は、各々が実質的に独立して凹部を形成する場合と、例えば帯のように、あるいは一塊に相互に実質的に連結して凹部を形成する場合がある。基本形状からなる要素が独立しているのか連結しているのかは、走査型電子顕微鏡により撮影された表面像と断面像から得られる要素間の形状から判定する。   There are cases where the basic shapes constituting the recesses each form the recesses substantially independently, and there are cases where the recesses are formed by being substantially connected to each other, for example, like a band. Whether the elements having the basic shape are independent or connected is determined from the shape between the elements obtained from the surface image and the cross-sectional image taken by the scanning electron microscope.

基本形状の平均深さと平均直径は、表面粗さ計やプローブ顕微鏡や顕微干渉計などを用いて求めることができるが、実際の形状をより正しく反映すると考えられることから走査型電子顕微鏡を用いて求めるのが好ましい。平均深さと平均直径は共に算術平均(相加平均)値であり、最低3つの基本形状を各1回ずつ測定する必要があり、基本形状の分布の度合いにもよるが、好ましくは5つ以上の基本形状を各1回以上測定して平均値を求めるとよく、より好ましくは20以上の基本形状を各1回以上測定して平均値を求めることができる。   The average depth and average diameter of the basic shape can be determined using a surface roughness meter, probe microscope, microscopic interferometer, etc., but it is considered that the actual shape will be reflected more correctly, so use a scanning electron microscope. It is preferable to obtain. Both the average depth and the average diameter are arithmetic average (arithmetic mean) values, and at least three basic shapes must be measured once, preferably 5 or more depending on the degree of distribution of the basic shapes. The basic shape may be measured once or more each time, and the average value may be obtained. More preferably, 20 or more basic shapes may be measured once or more times to obtain the average value.

前記反射防止面を占める前記凹部の割合は、前記反射防止面の有効面積に対して、10%〜90%であることが好ましく、25%〜75%であることが特に好ましい。10%未満である場合には凹部が少なすぎて十分な反射防止性が得られにくく、一方、90%超過の場合には凹部が多すぎて反射防止膜としての機能が低下するので、好ましくない。前記基本形状の平均深さ30nm未満の場合には凹部の高さが小さすぎて実質的に反射防止構造として機能せず、一方200nm超過の場合、凹部の深さが大きすぎて不要な光散乱性を発現することから好ましくない。平均直径が80nm未満の場合には凹部の直径が小さすぎて反射防止能が不十分であり、一方、400nm超過の場合には凹部の直径が大きすぎて不要な光散乱性を発現することから好ましくない。前記平均深さを前記平均直径で割った値は、好ましくは0.075〜2.5、特に好ましくは0.2〜1.8の範囲である。この値が0.075未満の場合には反射防止構造としての機能が不十分であり、一方、製造上理由から2.5超過のものを作ることは難しい。   The ratio of the concave portion occupying the antireflection surface is preferably 10% to 90%, particularly preferably 25% to 75%, with respect to the effective area of the antireflection surface. If it is less than 10%, it is difficult to obtain sufficient antireflection properties because there are too few recesses. On the other hand, if it exceeds 90%, there are too many recesses and the function as an antireflection film is lowered. . When the average depth of the basic shape is less than 30 nm, the height of the concave portion is too small to function substantially as an antireflection structure. On the other hand, when the average depth exceeds 200 nm, the depth of the concave portion is too large to cause unnecessary light scattering. It is not preferable because it exhibits sex. When the average diameter is less than 80 nm, the diameter of the recesses is too small and the antireflection performance is insufficient, whereas when it exceeds 400 nm, the diameter of the recesses is too large and an unnecessary light scattering property is expressed. It is not preferable. The value obtained by dividing the average depth by the average diameter is preferably in the range of 0.075 to 2.5, particularly preferably 0.2 to 1.8. When this value is less than 0.075, the function as an antireflection structure is insufficient. On the other hand, it is difficult to make a product exceeding 2.5 for manufacturing reasons.

また、この凹部は大きさがそろっていること、即ち前記凹部の直径の頻度分布が狭いこと、が好ましい。従って、この凹部は、直径の頻度分布が、頻度が最も高い凹部との直径の差が75nm以内である凹部の個数が、頻度が最も高い凹部との直径の差が300nm以内である凹部の個数の70%以上、特に80%以上、の狭いものであることが好ましい。   Further, it is preferable that the recesses have the same size, that is, the frequency distribution of the diameters of the recesses is narrow. Therefore, the number of recesses having a diameter frequency distribution within 75 nm and the number of recesses having a diameter difference within 300 nm with respect to the highest frequency is about 300 nm. It is preferable that it is 70% or more, especially 80% or more.

そして、前記凹部の総数に対する、相互に連結されていない前記凹部の割合が、10%以上、特に20%以上、であることが好ましい。   And it is preferable that the ratio of the said recessed part which is not mutually connected with respect to the total number of the said recessed part is 10% or more, especially 20% or more.

このような反射防止構造は、顕微鏡程度の微視的観察によればその凹部の配置が実質的に不規則であると同時に、肉眼による巨視的観察によれば前記凹部の配置が実質的に均一であることから、反射防止特性のレベルおよびその均質度において特に優れたものである。   In such an antireflection structure, the arrangement of the recesses is substantially irregular according to microscopic observation on the order of a microscope, and at the same time, the arrangement of the recesses is substantially uniform according to macroscopic observation with the naked eye. Therefore, it is particularly excellent in the level of antireflection characteristics and its homogeneity.

<反射防止膜(第二の反射防止膜)>
また、本発明による第二の反射防止膜は、所定の一次表面形状と所定の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有する反射防止膜であって、具体的には、
算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有する反射防止膜である。
<Antireflection film (second antireflection film)>
The second antireflection film according to the present invention is an antireflection film having a contoured antireflection surface on the surface, which is a composite of a predetermined primary surface shape and a predetermined convex secondary surface shape. In terms of
An antireflection surface having a contour shape in which the primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm and the following convex secondary surface shape formed on the primary surface shape is combined. An antireflection film.

凸状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。   Convex secondary surface shape: Consists of concave basic shapes which may be connected to each other, the basic shape has an average height of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the antireflection of the basic shape A surface shape whose placement on a surface is substantially irregular.

図3は、このような本発明による第一の反射防止膜の断面を模式的に示すものである。   FIG. 3 schematically shows a cross section of the first antireflection film according to the present invention.

本発明による第二の反射防止膜20は、図3に示されるように、凹凸の大きさおよび隣接する凸部間の距離Zの両方が相対的に大きい一次表面形状21と、この一次表面形状21上に形成された凸状の二次表面形状22とが複合した輪郭形状を表面に有するものとして、捉えることができる。   As shown in FIG. 3, the second antireflection film 20 according to the present invention includes a primary surface shape 21 in which both the size of the unevenness and the distance Z between adjacent convex portions are relatively large, and the primary surface shape. 21 can be regarded as having a contour shape on the surface that is a composite of the convex secondary surface shape 22 formed on the surface 21.

この第二の反射防止膜20は、透明性材料、好ましくは透明性樹脂材料、特に好ましくは透明性の紫外線硬化型樹脂材料によって形成することができる。なお、第二の反射防止膜20の反射防止面が形成されていない面には、必要に応じて、基材23が形成されていてもよい。   The second antireflection film 20 can be formed of a transparent material, preferably a transparent resin material, particularly preferably a transparent ultraviolet curable resin material. In addition, the base material 23 may be formed in the surface in which the antireflection surface of the 2nd antireflection film 20 is not formed as needed.

この凸状の基本形状は、相互に連結されていてもよい。そして、この凸状の基本形状は、前記の一次表面形状上に実質的に不規則に配置されている。図4は、本発明の凸部を構成する基本形状を模式的に示す図であって、図4(a)および(c)は、基本形状を上面側から観察した場合の平面図であり、図4(b)および(d)は、基本形状の側面を示す断面図である。これらの図4(a)〜(d)には、基本形状が完全に独立した場合、複数の基本形状が連結して一塊になっている場合あるいは帯状になっている場合における、基本形状の直径おとび基本形状の深さYが示されている。図4(a)〜(d)における基準面が、本発明における一次表面形状に相当する。   The convex basic shapes may be connected to each other. And this convex-shaped basic shape is arrange | positioned substantially irregularly on the said primary surface shape. FIG. 4 is a diagram schematically showing a basic shape constituting the convex portion of the present invention, and FIGS. 4A and 4C are plan views when the basic shape is observed from the upper surface side. FIGS. 4B and 4D are cross-sectional views showing the side surfaces of the basic shape. 4 (a) to 4 (d) show the diameter of the basic shape when the basic shape is completely independent, when a plurality of basic shapes are connected to form a lump, or in the form of a strip. The depth Y of the basic shape is shown. The reference planes in FIGS. 4A to 4D correspond to the primary surface shape in the present invention.

本発明による反射防止膜の一次表面形状は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μm、好ましくは3μm〜20μm、特に好ましくは5μm〜10μm、の凹凸を有するものである。算術平均粗さ(Ra)が1μm未満である場合には、アンチグレア効果不足であり、一方30μm超過の場合には、外光に対してのコントラスト低下が激しい点で好ましくない。そして、本発明による反射防止膜の一次表面形状は、隣接する凸間の平均間隔(Sm)が3μm〜200μm、特に30μm〜100μm、のものが好ましい。ここで、隣接する凸間の平均間隔(Sm)は、凸部のほぼ中央付近の存在する頂部と、それに隣接する他の頂部のほぼ中央付近の存在する頂部との間の距離を意味する(図2中のZ)。このSmは、例えば表面粗さ計等によって求めることができる。   The primary surface shape of the antireflection film according to the present invention has irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm, preferably 3 μm to 20 μm, particularly preferably 5 μm to 10 μm. When the arithmetic average roughness (Ra) is less than 1 μm, the antiglare effect is insufficient. On the other hand, when the arithmetic average roughness (Ra) is more than 30 μm, it is not preferable in terms of severe contrast reduction with respect to external light. The primary surface shape of the antireflection film according to the present invention is preferably such that the average distance (Sm) between adjacent convexities is 3 μm to 200 μm, particularly 30 μm to 100 μm. Here, the average interval (Sm) between adjacent convexities means the distance between the apex that is near the center of the protuberance and the apex that is near the center of the other apex adjacent to it ( Z in FIG. This Sm can be determined by, for example, a surface roughness meter.

本発明による反射防止膜の二次表面形状は、相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状である。ここで、基本形状とは、前記平均高さならびに前記平均直径で規定される凹部の要素のことをいう。   The secondary surface shape of the antireflection film according to the present invention is composed of convex basic shapes which may be connected to each other, and the basic shape has an average height of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, The basic shape is a surface shape whose arrangement on the antireflection surface is substantially irregular. Here, the basic shape means an element of a recess defined by the average height and the average diameter.

ここで、実質的に不規則であるとは、凸部の基本形状が、計算された人為的な分布で基材表面に形成されているわけでは無く、また、凸部の基本形状が、マクロな光学特性を発現するほどの大きさで人為的にまたは自己組織化により回折格子状やフォトニック結晶状に分布しているわけでも無く、凸部の基本形状が実質的にランダムに基材表面に分布していることを指す。本発明の凸部の基本形状の実質的に不規則な配置の中には、マイクロメートルスケールで部分的に、かつ低頻度で数個から数十個の凸部の基本形状が、たまたま回折格子様やフォトニック結晶様に分布している場合があるが、それはマクロな光の回折効果やフォトニック結晶構造由来の光学的効果を示す程度の大きさよりはるかに小さい偶然の産物である。   Here, being substantially irregular means that the basic shape of the convex portion is not formed on the surface of the substrate with the calculated artificial distribution, and the basic shape of the convex portion is macroscopic. The basic shape of the convex part is virtually random, and is not distributed artificially or by self-organization in the form of a diffraction grating or a photonic crystal. It means that it is distributed. Among the substantially irregular arrangement of the basic shape of the convex portion of the present invention, the basic shape of several to several tens of convex portions happens to be a diffraction grating partly and infrequently on a micrometer scale. Although it is distributed like a photonic crystal, it is a coincidence product that is much smaller than a magnitude that exhibits a macroscopic light diffraction effect or an optical effect derived from a photonic crystal structure.

この凸部を構成する基本形状は、各々が実質的に独立して凸部を形成する場合と、例えば帯のように、あるいは一塊に相互に実質的に連結して凸部を形成する場合がある。基本形状からなる要素が独立しているのか連結しているのかは、走査型電子顕微鏡により撮影された表面像と断面像から得られる要素間の形状から判定する。   The basic shape that constitutes the convex part may be a case where the convex part is formed substantially independently, and a case where the convex part is formed by being substantially connected to each other, for example, like a band. is there. Whether the elements having the basic shape are independent or connected is determined from the shape between the elements obtained from the surface image and the cross-sectional image taken by the scanning electron microscope.

基本形状の平均高さと平均直径は、表面粗さ計やプローブ顕微鏡や顕微干渉計などを用いて求めることができるが、実際の形状をより正しく反映すると考えられることから走査型電子顕微鏡を用いて求めるのが好ましい。平均深さと平均直径は共に算術平均(相加平均)値であり、最低3つの基本形状を各1回ずつ測定する必要があり、基本形状の分布の度合いにもよるが、好ましくは5つ以上の基本形状を各1回以上測定して平均値を求めるとよく、より好ましくは20以上の基本形状を各1回以上測定して平均値を求めることができる。   The average height and average diameter of the basic shape can be obtained using a surface roughness meter, probe microscope, microscopic interferometer, etc. It is preferable to obtain. Both the average depth and the average diameter are arithmetic average (arithmetic mean) values, and at least three basic shapes must be measured once, preferably 5 or more depending on the degree of distribution of the basic shapes. The basic shape may be measured once or more each time, and the average value may be obtained. More preferably, 20 or more basic shapes may be measured once or more times to obtain the average value.

前記反射防止面を占める前記凸部の割合は、前記反射防止面の有効面積に対して、10%〜90%であることが好ましく、25%〜75%であることが特に好ましい。10%未満である場合には凸部が少なすぎて十分な反射防止性が得られにくく、一方、90%超過の場合には凸部が多すぎて反射防止膜としての機能が低下するので、好ましくない。前記基本形状の平均深さ30nm未満の場合には凸部の高さが小さすぎて実質的に反射防止構造として機能せず、一方200nm超過の場合、凸部の深さが大きすぎて不要な光散乱性を発現することから好ましくない。平均直径が80nm未満の場合には凸部の直径が小さすぎて反射防止能が不十分であり、一方、400nm超過の場合には凸部の直径が大きすぎて不要な光散乱性を発現することから好ましくない。前記平均深さを前記平均直径で割った値は、好ましくは0.075〜2.5、特に好ましくは0.2〜1.8の範囲である。この値が0.075未満の場合には反射防止構造としての機能が不十分であり、一方、製造上理由から2.5超過のものを作ることは難しい。   The ratio of the convex portion occupying the antireflection surface is preferably 10% to 90%, particularly preferably 25% to 75%, with respect to the effective area of the antireflection surface. If it is less than 10%, it is difficult to obtain sufficient antireflection properties because there are too few projections, while if it exceeds 90%, there are too many projections and the function as an antireflection film is reduced. It is not preferable. When the average depth of the basic shape is less than 30 nm, the height of the convex portion is too small to substantially function as an antireflection structure. On the other hand, when it exceeds 200 nm, the depth of the convex portion is too large and unnecessary. It is not preferable because it exhibits light scattering properties. When the average diameter is less than 80 nm, the diameter of the convex portion is too small and the antireflection performance is insufficient. On the other hand, when the average diameter exceeds 400 nm, the convex portion has a too large diameter and expresses unnecessary light scattering. That is not preferable. The value obtained by dividing the average depth by the average diameter is preferably in the range of 0.075 to 2.5, particularly preferably 0.2 to 1.8. When this value is less than 0.075, the function as an antireflection structure is insufficient. On the other hand, it is difficult to make a product exceeding 2.5 for manufacturing reasons.

また、この凸部は大きさがそろっていること、即ち前記凸部の直径の頻度分布が狭いこと、が好ましい。従って、この凸部は、直径の頻度分布が、頻度が最も高い凹部との直径の差が75nm以内である凸部の個数が、頻度が最も高い凸部との直径の差が300nm以内である凸部の個数の70%以上、特に80%以上、の狭いものであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the convex portions have the same size, that is, the frequency distribution of the diameters of the convex portions is narrow. Therefore, this convex part has a frequency distribution of diameters, the number of convex parts whose diameter difference is within 75 nm with respect to the concave part with the highest frequency, and the difference in diameter between convex parts with the highest frequency is within 300 nm. It is preferably 70% or more, particularly 80% or more of the number of convex portions.

そして、前記凸部の総数に対する、相互に連結されていない前記凸部の割合が、10%以上、特に20%以上、であることが好ましい。   And it is preferable that the ratio of the said convex part which is not mutually connected with respect to the total number of the said convex part is 10% or more, especially 20% or more.

このような反射防止構造は、顕微鏡程度の微視的観察によればその凸部の配置が実質的に不規則であると同時に、肉眼による巨視的観察によれば前記凸部の配置が実質的に均一であることから、反射防止特性のレベルおよびその均質度において特に優れたものである。   In such an antireflection structure, the arrangement of the projections is substantially irregular according to microscopic observation of a microscope, and at the same time, the arrangement of the projections is substantially according to macroscopic observation with the naked eye. And is particularly excellent in the level of antireflection properties and its homogeneity.

<賦型用型>
本発明による反射防止膜は、好ましくは所定の賦型用型を用い、これにより所定の反射防止面が得られるように樹脂組成物を賦型し、硬化を行うことによって、得ることができる。
<Molding mold>
The antireflection film according to the present invention can be obtained by preferably using a predetermined shaping mold, shaping the resin composition so as to obtain a predetermined antireflection surface, and curing.

上記の第一の反射防止膜を得る場合の賦型用型としては下記の第一の賦型用型が好ましく、上記の第二の反射防止膜を得る場合の賦型用型としては下記の第二の賦型用型が好ましい。   As the mold for shaping when obtaining the first antireflection film, the following first mold for molding is preferable, and as the mold for shaping when obtaining the second antireflection film, the following mold is used. A second mold is preferred.

<<第一の賦型用型>>
本発明による第一の賦型用型は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有する賦型用型である。
<< First mold for mold >>
The first mold for molding according to the present invention has a primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm, and the following convex secondary surface shape formed on the primary surface shape. Is a mold for molding having a contour shape on the molding surface.

凸状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。   Convex secondary surface shape: Consists of convex basic shapes which may be connected to each other, and the basic shape has an average height of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the reflection of the basic shape Surface shape that is substantially irregular in arrangement on the prevention surface.

このような第一の賦型用型は、上記の第一の反射防止膜を得るための賦型用型として好ましいものであって、上記の第一の反射防止膜を賦型するのに適した形態、好ましくはローラ状形態、のものである。   Such a first shaping mold is preferable as a shaping mold for obtaining the first antireflection film, and is suitable for shaping the first antireflection film. , Preferably in the form of a roller.

<<ローラ状形態の賦型用型の製造方法>>
本発明によるローラ状形態の賦型用型の製造方法は、
前記の一次表面形状を有するローラ周面に、交互吸着法を用いて下地層を形成し、次いで、前記下地層上に微粒子を固定化することによって、ローラ周面上に、前記の一次表面形状と前記の二次表面形状とが複合した輪郭形状を形成させる工程を含むもの、である。
<< Method for manufacturing roller-shaped molds >>
The manufacturing method of the mold for roller-shaped form according to the present invention is as follows:
A primary layer is formed on the peripheral surface of the roller by forming a base layer on the peripheral surface of the roller having the primary surface shape using an alternate adsorption method and then immobilizing fine particles on the base layer. And a step of forming a contour shape in which the secondary surface shape is combined.

(1)一次表面形状を有するローラ周面
本発明では、各種材料からなるローラを用いることができる。このようなローラとしては、金属材料、例えばニッケル、銅等からなるものが好ましいが、無機材料、例えばガラス等や、各種の高分子化合物等の有機材料からなるものを用いることができる。
(1) Roller peripheral surface having primary surface shape In the present invention, rollers made of various materials can be used. Such a roller is preferably made of a metal material such as nickel or copper, but an inorganic material such as glass or an organic material such as various polymer compounds can be used.

前記の一次表面形状を有するローラ周面を得る方法は任意であって、例えばローラの材質等に応じて適宜決定することができる。ローラが金属、好ましくはニッケル、銅である場合、そのローラ周面に前記の一次表面形状を形成させる好ましい方法としては、例えばサンドブラスト法、マット鍍金法および腐食法による方法等を挙げることができる。   The method for obtaining the roller peripheral surface having the primary surface shape is arbitrary, and can be appropriately determined according to, for example, the material of the roller. When the roller is made of metal, preferably nickel or copper, examples of a preferable method for forming the primary surface shape on the peripheral surface of the roller include a sand blast method, a mat plating method, and a corrosion method.

以下に、本発明において採用可能な好ましいサンドブラスト法、マット鍍金法および腐食法について示す。   The preferred sand blasting method, mat plating method and corrosion method which can be employed in the present invention will be described below.

サンドドブラスト法:金属ロールにシリカ粒子を噴射し、ロール表面に物理的に凹凸を形成する。   Sanded blasting method: Silica particles are jetted onto a metal roll to physically form irregularities on the roll surface.

マット鍍金法:金属ロール表面への鍍金工程で鍍金条件を調整することで表面を鏡面でなくマット面とする。   Matt plating method: By adjusting the plating conditions in the plating process on the metal roll surface, the surface is not a mirror surface but a mat surface.

腐食法:金属ロールの表面を酸化力のある溶液に浸漬し、表面に凹凸を形成する。   Corrosion method: The surface of the metal roll is immersed in a solution having oxidizing power to form irregularities on the surface.

(2)交互吸着法
下地層の形成は、交互吸着法を用いて行うことができる。ここで、交互吸着法とは、基材を正の電解質ポリマー水溶液と負の電解質ポリマー水溶液に交互に浸漬することによって、基板上に、正の電解質ポリマーからなる薄膜と負の電解質ポリマーからなる薄膜を交互に生成させることからなる方法をいう。このような交互吸着法では、通常、必要であれば浸漬に先立って表面に初期電荷を与えた基板を、正の電解質ポリマー水溶液と負の電解質ポリマー水溶液に交互に浸漬することにより、その浸漬回数に応じた層数の多層構造物が形成させることが可能になる。
(2) Alternate adsorption method The underlayer can be formed using an alternate adsorption method. Here, the alternating adsorption method refers to a thin film composed of a positive electrolyte polymer and a thin film composed of a negative electrolyte polymer on a substrate by alternately immersing the base material in a positive electrolyte polymer aqueous solution and a negative electrolyte polymer aqueous solution. Is a method consisting of alternately generating. In such an alternate adsorption method, the number of times of immersion is usually determined by alternately immersing a substrate having an initial charge on the surface prior to immersion, if necessary, in a positive electrolyte polymer aqueous solution and a negative electrolyte polymer aqueous solution. It becomes possible to form a multilayer structure having the number of layers according to the above.

正の電解質ポリマー水溶液に浸漬する回数および負の電解質ポリマー水溶液に浸漬する回数は、下地層としての要求性能および下地層の厚さ等に応じて適宜定めることができる。   The number of immersions in the positive electrolyte polymer aqueous solution and the number of immersions in the negative electrolyte polymer aqueous solution can be appropriately determined according to the required performance as the underlayer, the thickness of the underlayer, and the like.

ここで下地層としての要求性能とは、主に後述する微粒子を必要量付着させるだけの電荷を基材に付与する性能のことである。一般に、下地層の厚さが厚いほど、即ち電解質ポリマー水溶液への浸漬回数が多いほど、微粒子の付着量を多くすることができる傾向が見られる。   Here, the required performance as the underlayer is a performance that imparts to the base material an electric charge sufficient for adhering a necessary amount of fine particles to be described later. In general, the thicker the underlayer, that is, the greater the number of immersions in the aqueous electrolyte polymer solution, the greater the amount of fine particles attached.

下地層の厚さは薄いほど、すなわち電解質ポリマーへの浸漬回数が少ないほど生産性の観点からは好ましい。しかし、経験上、吸着力が弱い微粒子を使用する場合は下地層は厚めが良いという傾向があることがわかっている。下地層の厚さを厚くするには浸漬回数を増やす方法以外に電解質ポリマー水溶液の水素イオン濃度やイオン強度を調整することによって浸漬一回あたりの膜厚を高める方法が知られている。   The thinner the underlayer, that is, the smaller the number of immersions in the electrolyte polymer, the better from the viewpoint of productivity. However, experience has shown that when using fine particles with weak adsorption power, the underlayer tends to be thicker. In order to increase the thickness of the underlayer, other than the method of increasing the number of immersions, a method of increasing the film thickness per immersion by adjusting the hydrogen ion concentration or ionic strength of the electrolyte polymer aqueous solution is known.

一般的に下地層の厚さは50nm以下、特に30nm以下が好ましい。また、正の電解質ポリマー水溶液の浸漬回数および負の電解質ポリマー水溶液の浸漬回数は、それぞれ、20回以下、特に10回以下が好ましい。   In general, the thickness of the underlayer is preferably 50 nm or less, particularly preferably 30 nm or less. The number of immersions in the positive electrolyte polymer aqueous solution and the number of immersions in the negative electrolyte polymer aqueous solution are each preferably 20 times or less, particularly preferably 10 times or less.

正の電解質ポリマーとしては、ポリアリルアミン塩酸塩、ポリピロール、ポリアニリン、ポリエチレンイミン、ポリリジン、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDDA)、ポリビニルピリジンおよびこれらのモノマー成分が含まれる共重合体等が好ましく、負の電解質ポリマーとしては、ポリアクリル酸、ポリスチレンスルホン酸(PSS)、ポリメタクリル酸およびこれらのモノマー成分が含まれる共重合体等が好ましい。   As the positive electrolyte polymer, polyallylamine hydrochloride, polypyrrole, polyaniline, polyethyleneimine, polylysine, polydiallyldimethylammonium chloride (PDDA), polyvinylpyridine and a copolymer containing these monomer components are preferable, and negative electrolyte As the polymer, polyacrylic acid, polystyrene sulfonic acid (PSS), polymethacrylic acid, and a copolymer containing these monomer components are preferable.

下地層をこのような交互吸着法によって形成した場合、この下地層と後述する微粒子との付着強度が向上するとともに、この下地層に対する微粒子の付着状況が反射防止構造として好ましいものにすることができる。例えば、電荷を持たせた微粒子を使用した場合には、下地層表面の電荷と微粒子の電荷との相互作用によりその付着強度が向上することが認められる。   When the underlayer is formed by such an alternate adsorption method, the adhesion strength between the underlayer and the fine particles described later is improved, and the adhesion state of the fine particles to the underlayer can be made preferable as an antireflection structure. . For example, when fine particles having a charge are used, it is recognized that the adhesion strength is improved by the interaction between the charge on the surface of the underlayer and the charge of the fine particles.

なお、正負どちらか一方の電解質ポリマー水溶液に一度浸漬するだけで下地層として機能するポリマー吸着層が基材に形成される場合もある。実際、この場合が最も生産性が高いといえる。本発明では、このような一度の浸漬で済む場合も、便宜上、交互吸着法に含めている。   In some cases, a polymer adsorbing layer that functions as a base layer may be formed on a substrate only by being immersed once in either the positive or negative electrolyte polymer aqueous solution. In fact, this is the most productive. In the present invention, such a single immersion is included in the alternate adsorption method for convenience.

前記の一次表面形状を有するローラ周面に交互吸着法によって下地層を形成させる方法としては、下地層の形成に使用される電解質ポリマー水溶液に前記ローラのローラ周面の少なくとも一部を接触ないし浸漬した状態でローラをその軸を中心に回転させる方法が便利である。   As a method of forming a base layer on the roller peripheral surface having the primary surface shape by an alternate adsorption method, at least a part of the roller peripheral surface of the roller is contacted or immersed in an electrolyte polymer aqueous solution used for forming the base layer. In this state, it is convenient to rotate the roller around its axis.

(3)微粒子
本願発明において使用可能な微粒子(3)としては、例えば有機または無機の各種微粒子材料をすることができる。本発明では、好ましくはシリカ微粒子、(メタ)アクリル系高分子微粒子、スチレン系高分子微粒子、スチレン−ブタジエン系高分子微粒子等を使用することができる。ここで、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」および「メタクリル」の両者を意味する。この微粒子は、本発明による反射防止膜および賦型用型に形成される微細な基本形状の素になることから、その大きさおよび形状は、目的とする反射防止膜および原型に応じて決定することができる。基本形状の大きさがそろっている本発明による反射防止膜および賦型用型を得る場合には、粒径がそろった微粒子を使用することが好ましい。大きさが異なる二種の基本形状が混在した反射防止構造を目的とするときは、粒径がそろった比較的大きな微粒子と粒径がそろった比較的小さな微粒子とを併用することができる。
(3) Fine particles As the fine particles (3) usable in the present invention, for example, various organic or inorganic fine particle materials can be used. In the present invention, silica fine particles, (meth) acrylic polymer fine particles, styrene polymer fine particles, styrene-butadiene polymer fine particles and the like can be preferably used. Here, “(meth) acryl” means both “acryl” and “methacryl”. Since the fine particles are elements of a fine basic shape formed in the antireflection film and the shaping mold according to the present invention, the size and shape thereof are determined according to the target antireflection film and the prototype. be able to. When obtaining the antireflection film and the shaping mold according to the present invention having the same basic shape, it is preferable to use fine particles having a uniform particle size. When aiming at an antireflection structure in which two basic shapes having different sizes are mixed, relatively large particles having a uniform particle size and relatively small particles having a uniform particle size can be used in combination.

複数の微粒子が凝集したり連続することを防止するために各粒子間に反発力が生じさせ、そして微粒子と下地層との付着力を向上させることを目的として、各微粒子に電荷を持たせることが好ましい。   In order to prevent multiple particles from aggregating or continuing, a repulsive force is generated between the particles, and each particle is charged for the purpose of improving the adhesion between the particles and the underlying layer. Is preferred.

(4)加熱処理およびオーバーコート処理
微粒子の付着後に、微粒子が付着した表面に対して、加熱処理および/またはオーバーコート処理を行うことが好ましい。このことによって、微粒子の付着強度が向上するとともに、微粒子によって構成される凸部の裾部の逆テーパ形状が解消されて、樹脂組成物を賦型することが容易になる。加熱条件およびオーバーコート処理の条件は、微粒子および/または下地の種類や内容および付着強度等を考慮して定めることができる。例えば、微粒子として高分子微粒子を用いる場合の加熱条件としては、200℃以下、特に、40℃〜150℃が好ましい。
(4) Heat treatment and overcoat treatment After adhering the fine particles, it is preferable to perform a heat treatment and / or an overcoat treatment on the surface to which the fine particles have adhered. As a result, the adhesion strength of the fine particles is improved, and the reverse taper shape of the skirt portion of the convex portion constituted by the fine particles is eliminated, so that it becomes easy to mold the resin composition. Heating conditions and overcoat treatment conditions can be determined in consideration of the type and content of fine particles and / or the base, adhesion strength, and the like. For example, heating conditions when using polymer fine particles as the fine particles are preferably 200 ° C. or lower, particularly 40 ° C. to 150 ° C.

オーバーコート処理において用いられるオーバーコート材としては、ポリマー材料、金属クロライドの縮合物、金属アルコキシドの縮合物、交互吸着膜、好ましくは、膜厚制御性が高く、付き回り性(即ち、付着対象物の表面形状に沿って、むら無くまつわりつく性質)も優れた交互吸着膜を用いることができる。そのような好ましい交互吸着膜は、例えば前記した正の電解質ポリマーおよび負の電解質ポリマーを使用した前記交互吸着法によって形成することができる。   As the overcoat material used in the overcoat treatment, a polymer material, a metal chloride condensate, a metal alkoxide condensate, an alternately adsorbed film, preferably a high film thickness controllability and a throwing power (that is, an object to be adhered) Alternately adsorbing membranes having excellent properties that can be followed by a uniform surface) can be used. Such a preferable alternate adsorption film can be formed by the alternate adsorption method using, for example, the positive electrolyte polymer and the negative electrolyte polymer described above.

特にオーバーコート材としては、フッ素系ポリマー材料、フッ素系金属クロライド縮合物、フッ素系交互吸着膜などのフッ素系材料が好ましい。このようなフッ素系材料からなるオーバーコート材は、上記基材に極めて良好な防汚性や、剥離性付与できる点で特に好ましいものである。また、逆テーパー形状を解消するための各種交互吸着膜の上に防汚性や剥離性を付与するためのフッ素系シランカップリング剤をコートする等の二層タイプのオーバーコート層であっても良い。なお、オーバーコート処理は、1回または複数回行うことができる。特にフッ素系材料によって複数回のオーバーコート処理を行うことによって、防汚性や剥離性ならびに耐久性を著しく向上させることができる。   In particular, the overcoat material is preferably a fluorine-based material such as a fluorine-based polymer material, a fluorine-based metal chloride condensate, or a fluorine-based alternating adsorption film. An overcoat material made of such a fluorine-based material is particularly preferable in that it can impart very good antifouling properties and peelability to the above-mentioned base material. Moreover, even if it is a two-layer type overcoat layer, such as coating a fluorine-based silane coupling agent for imparting antifouling properties and peelability onto various alternating adsorption films for eliminating the reverse taper shape good. The overcoat treatment can be performed once or a plurality of times. In particular, antifouling property, releasability and durability can be remarkably improved by performing the overcoat treatment with a fluorine material a plurality of times.

以上のようにして、本発明によるローラ状形態の賦型用型を得ることができる。   As described above, it is possible to obtain a shaping mold having a roller shape according to the present invention.

<<第二の賦型用型>>
本発明による第二の賦型用型は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有する賦型用型である。
<< Second mold type >>
The second mold for molding according to the present invention has a primary surface shape having irregularities with an arithmetic mean roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm, and the following concave secondary surface shape formed on the primary surface shape: Is a mold for molding having a contoured shape with a composite surface on the molding surface.

凹状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。   Concave secondary surface shape: consisting of concave basic shapes which may be interconnected, the basic shape having an average depth of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the antireflection surface of the basic shape A surface shape whose placement in is substantially irregular.

このような第二の賦型用型は、上記の第二の反射防止膜を得る賦型材として好ましいものであって、上記の第二の反射防止膜を賦型するのに適した形態、好ましくはフィルム状形態のものである。   Such a second mold for molding is preferable as a molding material for obtaining the above-mentioned second antireflection film, and is suitable for molding the above-mentioned second antireflection film, preferably Is in the form of a film.

<<フィルム状形態の賦型用型の製造方法>>
本発明によるフィルム状形態の賦型用型の製造方法は、フィルム基材と上記のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型用型によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むもの、である。
<< Method for manufacturing film-shaped molds >>
According to the method for producing a film-shaped mold according to the present invention, a moldable curable resin composition is applied between the film substrate and the above-described roller-shaped mold. A moldable curable resin composition is molded by the above-described mold for molding in the form of a roller, and further includes a step of curing the molded product of the curable resin composition.

下記は、好ましいローラ状形態の賦型用型の製造方法の具体例を、必要に応じて図5を参照しながら示すものである。   The following shows a specific example of a method for manufacturing a mold for mold having a preferable roller shape, with reference to FIG. 5 as necessary.

図5において、30はフィルム基材である。31は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された所定の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有するローラ状形態の賦型用型である。なお、このローラ状形態の賦型用型およびその製造方法の詳細は前記した通りである。   In FIG. 5, 30 is a film substrate. 31 is formed with a contour shape in which a primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm and a predetermined convex secondary surface shape formed on the primary surface shape are combined. It is a mold for shaping in a roller form on the surface. The details of the roller-shaped mold and its manufacturing method are as described above.

このローラ状形態の賦型用型31は、そのローラ中心軸を中心に左回転しており、その賦型用型の回転に伴って、ローラの左側のフィルム基材30がローラ状形態の賦型用型31のローラ周面の少なくとも一部分に沿って移動したのちに、ローラ周面から剥離され、ローラの右側方向に移動するようになっている。32および33は、押圧ローラである。この押圧ローラ32および押圧ローラ33ならびにフィルム基材30の張力等によって、フィルム基材30がローラ状形態の賦型用型31の回転にあわせローラ周面に沿って移動する期間中、フィルム基材30と賦型用型31との間に押圧が生じるようになっている。なお、図5には、2つの押圧ローラ32および33がローラ状形態の賦型用型31の対向位置に設けられ、フィルム基材が賦型用型のローラ周面の半周面(中心角180°)に押圧される場合が示されているが、本発明はそのような場合のみに限定されない。また、押圧ローラの数は2個が好ましいが、必要に応じて3個以上設けることもできる。押圧ローラの数は、場合により1または0個であってもよい。また、押圧ローラは、必ずしもローラ状形態の賦型用型31に接している必要はなく、賦型用型から離れた位置に設けることができる。   The shaping mold 31 in the form of a roller is rotated counterclockwise about the roller central axis, and the film base 30 on the left side of the roller is shaped in the form of a roller in accordance with the rotation of the shaping mold. After moving along at least a part of the roller peripheral surface of the mold for mold 31, it is peeled off from the roller peripheral surface and moved in the right direction of the roller. 32 and 33 are pressing rollers. During the period in which the film base 30 moves along the roller peripheral surface in accordance with the rotation of the shaping mold 31 in the form of a roller due to the tension of the pressure roller 32, the pressure roller 33, and the film base 30, the film base A pressure is generated between 30 and the shaping mold 31. In FIG. 5, two pressing rollers 32 and 33 are provided at positions opposed to the shaping mold 31 in the form of a roller, and the film base is a half circumferential surface (center angle 180) of the circumferential surface of the shaping mold roller. Although the case where it is pressed is shown in (°), the present invention is not limited to such a case. The number of pressing rollers is preferably two, but three or more can be provided as necessary. The number of pressing rollers may be 1 or 0 depending on circumstances. Further, the pressing roller does not necessarily have to be in contact with the shaping mold 31 in the form of a roller, and can be provided at a position away from the shaping mold.

前記のフィルム基材30とローラ状形態の賦型用型材との間には、賦型可能な硬化性樹脂組成物34が適用される。このフィルム基材30とローラ状形態の賦型用型31との間に適用された硬化性樹脂組成物34は、押圧ローラ32の押圧部ないしその周辺部において層状に圧延され、フィルム基材30とローラ状形態の賦型用型31との間に介在した状態で、フィルム基材30がローラ状形態の賦型用型31の回転にあわせローラ周面に沿って移動する期間中、前記のローラ状形態の賦型用型31によって賦型される。賦型された硬化性樹脂組成物35は、フィルム基材30と共にローラ状形態の賦型用型31から剥離される。   A moldable curable resin composition 34 is applied between the film substrate 30 and the mold material for molding in a roller shape. The curable resin composition 34 applied between the film base 30 and the shaping mold 31 in the form of a roller is rolled into a layer at the pressing portion of the pressing roller 32 or its peripheral portion, and the film base 30 In a state where the film base 30 moves along the roller peripheral surface in accordance with the rotation of the roller-shaped mold 31 in a state of being interposed between the roller-shaped mold 31 and the roller-shaped mold 31, It is formed by a forming mold 31 in the form of a roller. The shaped curable resin composition 35 is peeled off from the shaping mold 31 in a roller shape together with the film base 30.

本発明によるフィルム状形態の賦型用型は、上記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させることによって、製造することができる。硬化性樹脂組成物の賦型物の硬化は、フィルム基材30および賦型された硬化性樹脂組成物がローラ状形態の賦型材31の回転にあわせてローラ周面に沿って移動する間に行うことが好ましい。なお、賦型された硬化性樹脂組成物の硬化は、ローラ状形態の賦型材31から剥離された後に行うこともできるし、また、ローラ周面に沿って移動する間に硬化処理の少なくとも一部を行い、ローラ状形態の賦型材から剥離された後に更なる硬化処理を行うこともできる。   The film-shaped mold for molding according to the present invention can be produced by curing the mold of the curable resin composition. Curing of the molded product of the curable resin composition is performed while the film substrate 30 and the molded curable resin composition move along the roller peripheral surface in accordance with the rotation of the molding material 31 in the form of a roller. Preferably it is done. The molded curable resin composition can be cured after being peeled from the molding material 31 in the form of a roller, or at least one of the curing treatments while moving along the roller peripheral surface. It is also possible to perform a further curing treatment after the part has been peeled off from the roller-shaped shaping material.

硬化性樹脂組成物31としては、各種の紫外線硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。本発明では、紫外線硬化性樹脂組成物が好ましい。そのような紫外線硬化性樹脂組成物の特に好ましい具体例としては、例えばエポキシアクリレート系樹脂や、ウレタンアクリレート系樹脂に型剥離性を向上させるフッ素化合物やシリコン化合物を添加することも可能である。紫外線は、フィルム基材30ならびに紫外線硬化性樹脂組成物がローラ状形態の賦型用型31の回転にあわせローラ周面に沿って移動する途中で、紫外線照射装置36によって照射することが好ましい。この場合、フィルム基材30は、紫外線透過性が良い物が好ましい。なお、紫外線樹脂組成物の硬化物は、賦型用型として利用されるものであるから透明である必要はない。   As the curable resin composition 31, various ultraviolet curable resin compositions and thermosetting resin compositions can be used. In the present invention, an ultraviolet curable resin composition is preferred. As a particularly preferable specific example of such an ultraviolet curable resin composition, it is also possible to add, for example, a fluorine compound or a silicon compound that improves mold releasability to an epoxy acrylate resin or a urethane acrylate resin. The ultraviolet rays are preferably irradiated by the ultraviolet irradiation device 36 while the film base material 30 and the ultraviolet curable resin composition move along the roller peripheral surface in accordance with the rotation of the shaping mold 31 in the form of a roller. In this case, the film substrate 30 is preferably a material having good ultraviolet transparency. The cured product of the ultraviolet resin composition is not necessarily transparent because it is used as a mold for shaping.

以上のようにして得られたフィルム状形態の賦型用型には、各種の処理を施すことができる。そのような表面処理の好ましい具体例としては、例えば、剥離性を向上させたり、離型物の耐摩耗性や、耐汚染性を向上させる様にフッ素化合物やシリコン化合物をコートするともを挙げることができる。   Various treatments can be applied to the film-shaped mold for molding obtained as described above. Preferable specific examples of such surface treatment include, for example, coating with a fluorine compound or a silicon compound so as to improve releasability or to improve the wear resistance and stain resistance of a release product. Can do.

<反射防止膜の製造方法(第一の反射防止膜の製造方法)>
本発明による第一の反射防止膜の製造方法は、フィルム基材と上記のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記フィルム基材上において前記のローラ状形態の賦型材によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むもの、である。
<Method for producing antireflection film (first method for producing antireflection film)>
In the first method for producing an antireflection film according to the present invention, a moldable curable resin composition is applied between a film base and the above-mentioned mold for molding in the form of a roller. A curable resin composition is formed on the film substrate by the above-mentioned molding material in the form of a roller, and further includes a step of curing the molded product of the curable resin composition.

このような本発明による反射防止膜の製造方法は、図5および前記の<<フィルム状形態の賦型用型の製造方法>>の関連記載を参照して説明することができる。   Such a method for producing an antireflection film according to the present invention can be described with reference to FIG. 5 and the related description of << Method for producing a mold for film-like shape >>.

本発明による第一の反射防止膜の製造方法における、フィルム基材、ローラ状形態の賦型用型、賦型可能な硬化性樹脂組成物、その賦型方法ないし硬化方法の内容等は、図5および<<フィルム状形態の賦型用型の製造方法>>に関連して前記したものを用いることができる。ただし、第一の反射防止膜が得られる点で、前記とは異なっている。   In the first method for producing an antireflection film according to the present invention, the film substrate, the mold for molding in the form of a roller, the moldable curable resin composition, the contents of the molding method or the curing method, etc. 5 and << the manufacturing method of the film-shaped mold-making mold >> can be used. However, it differs from the above in that the first antireflection film is obtained.

このことから、第一の反射防止膜の製造で用いられる賦型可能な硬化性樹脂組成物は、透明性が良好な樹脂硬化物となるものが好ましい。本発明による反射防止膜の製造方法において用いることができる樹脂組成物としては、例えばポリオキシアクリレート系樹脂およびウレタナクリレート系樹脂に必要に応じて各種添加剤を加える事が好ましい。   For this reason, the moldable curable resin composition used in the production of the first antireflection film is preferably a cured resin having good transparency. As a resin composition that can be used in the method for producing an antireflection film according to the present invention, for example, it is preferable to add various additives to a polyoxyacrylate resin and a uretanacrylate resin as necessary.

<反射防止膜の製造方法(第二の反射防止膜の製造方法)>
本発明による第二の反射防止膜の製造方法は、フィルム基材と上記のフィルム状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のフィルム状形態の賦型用型によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むもの、である。
<Method for producing antireflection film (second method for producing antireflection film)>
The second method for producing an antireflection film according to the present invention can be applied by applying a moldable curable resin composition between the film base and the above-mentioned mold-shaped mold. A curable resin composition is molded by the above-mentioned mold for molding and further includes a step of curing the molded product of the curable resin composition.

下記は、好ましい第二の反射防止膜の製造方法の具体例を、必要に応じて図6を参照しながら示すものである。   The following shows a specific example of a preferable method for producing the second antireflection film with reference to FIG. 6 as necessary.

図6において、40は基材である。この基材40は、板状のものであってもフィルム状のものであってもよい。また、屈曲性が乏しいものであっても、高度の屈曲性示すものであってもよい。本発明において好ましい基材としては、透明性が優れたもの、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂からなる基材を挙げることができる。   In FIG. 6, 40 is a base material. The substrate 40 may be plate-shaped or film-shaped. Moreover, even if it has poor flexibility, it may show high flexibility. In the present invention, preferable base materials include those having excellent transparency, for example, base materials made of polyethylene terephthalate (PET) resin, acrylic resin, and polyolefin resin.

41は、算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有するフィルム状形態の賦型用型である。なお、フィルム状形態の賦型用型の詳細およびその製造方法は前記した通りである。   No. 41 has on the shaping surface a contour shape in which a primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm and a concave secondary surface shape formed on the primary surface shape are combined. It is a mold for film-like form. The details of the film-shaped mold and the manufacturing method thereof are as described above.

図6において、基材40およびフィルム状形態の賦型用型41は、押圧ローラ42から押圧ローラ43までの領域において、共に水平に右方向に実質的に速度差が生じないように移動している。   In FIG. 6, the base material 40 and the mold-shaped mold 41 are moved in the region from the pressing roller 42 to the pressing roller 43 so that there is substantially no speed difference in the right direction horizontally. Yes.

前記の基材40とフィルム状形態の賦型用型41との間には、賦型可能な硬化性樹脂組成物44が適用される。この基材40とフィルム状形態の賦型用型41との間に適用された硬化性樹脂組成物44は、押圧ローラ42の押圧部ないしその周辺部において層状に圧延され、基材40とフィルム状形態の賦型用型41との間に介在した状態で、押圧ローラ42の押圧部から押圧ローラ43の押圧部まで移動する期間中、前記のフィルム状形態の賦型用型41によって賦型される。押圧ローラ43の押圧部においてフィルム状形態の賦型用型41が剥離される。   A moldable curable resin composition 44 is applied between the substrate 40 and the film-shaped mold mold 41. The curable resin composition 44 applied between the base material 40 and the film-shaped shaping mold 41 is rolled into a layer at the pressing portion of the pressing roller 42 or its peripheral portion, and the base material 40 and the film are formed. During the period of movement from the pressing part of the pressing roller 42 to the pressing part of the pressing roller 43 in a state of being interposed between the forming mold 41 in the shape of the film, the forming is performed by the forming mold 41 of the film-like form. Is done. The forming die 41 in the form of a film is peeled off at the pressing portion of the pressing roller 43.

本発明による第二の反射防止膜46は、上記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させることによって、製造することができる。硬化性樹脂組成物の賦型物の硬化は、フィルム状形態の賦型用41が剥離される前に行うことが好ましい。なお、硬化処理はフィルム状形態の賦型用型41が剥離された後に行うこともできるし、また、硬化処理はフィルム状形態の賦型用型が剥離される前に硬化処理の少なくとも一部を行い、フィルム状形態の賦型用が剥離された後に更なる硬化処理を行うこともできる。   The second antireflection film 46 according to the present invention can be produced by curing the shaped product of the curable resin composition. It is preferable to perform the curing of the molded article of the curable resin composition before the film-shaped form molding 41 is peeled off. The curing process can also be performed after the film-shaped mold 41 is peeled off, and the curing process is at least part of the curing process before the film-shaped mold is peeled off. It is also possible to perform a further curing treatment after the film-shaped form is peeled off.

硬化性樹脂組成物としては、各種の紫外線硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。本発明では、紫外線硬化性樹脂組成物が好ましい。そのような紫外線硬化性樹脂組成物の特に好ましい具体例としては、例えばポリオキシアクリレート系樹脂や、ウレタナクリレート系樹脂に必要に応じて剥離性、耐摩耗性や、耐汚染性を向上させる様にフッ素化合物やシリコン化合物を添加したものを挙げることができる。紫外線は、硬化性樹脂組成物が基材40と共に押圧ローラ42から押圧ローラ43まで移動する途中において、紫外線照射装置45によって照射することが好ましい。この場合、基材40は紫外線透過性が良い物が好ましい。   As the curable resin composition, various ultraviolet curable resin compositions and thermosetting resin compositions can be used. In the present invention, an ultraviolet curable resin composition is preferred. As a particularly preferable specific example of such an ultraviolet curable resin composition, for example, a polyoxyacrylate resin or a uretana acrylate resin may be improved in peelability, abrasion resistance, and contamination resistance as necessary. And a compound obtained by adding a fluorine compound or a silicon compound. It is preferable to irradiate the ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation device 45 while the curable resin composition moves from the pressing roller 42 to the pressing roller 43 together with the substrate 40. In this case, the base material 40 is preferably a material having good ultraviolet transmittance.

<光学部材>
本発明による光学部材は、前記の反射防止膜を有するものである。
このような本発明による光学部材は、反射防止特性のレベルおよびその均質度において特に優れたものであり、かつ各種の汚染物質が付着しても反射防止特性の低下が抑制されたものである。
<Optical member>
The optical member according to the present invention has the antireflection film described above.
Such an optical member according to the present invention is particularly excellent in the level of the antireflection characteristic and the homogeneity thereof, and even when various contaminants are adhered, the decrease in the antireflection characteristic is suppressed.

よって、例えばディスプレイ装置のような情報表示のための光学部材として用いられた場合にはその視認性を向上させ、そして、太陽電池パネルのような受光用光学部材に適用された場合には光利用効率を著しく向上させることができるものである。   Therefore, for example, when used as an optical member for displaying information such as a display device, the visibility is improved, and when applied to a light receiving optical member such as a solar battery panel, light is used. The efficiency can be remarkably improved.

<実施例1>
直径300mm、長さ1500mmの鉄製のローラに、下記方法により、下地層形成、粒子膜の形成およびオーバーコート層の形成を行って、本発明によるローラ状形態の賦型用型を製造した。
<Example 1>
An underlay layer, a particle film, and an overcoat layer were formed on an iron roller having a diameter of 300 mm and a length of 1500 mm by the following method to produce a mold for forming a roller according to the present invention.

このローラ状形態の賦型用型は、下記の一次表面形状と二次表面形状が輪郭形状を表面に有するものであった。
一次表面形状:算術平均粗さ(Ra)5μmの凹凸が形成。凸間の平均間隔(Sm)50μm
二次表面形状:基本形状の平均高さ97nm、平均直径138nmの凸部が形成
In the roller-shaped form, the following primary surface shape and secondary surface shape have contour shapes on the surface.
Primary surface shape: Concavities and convexities with arithmetic average roughness (Ra) of 5 μm are formed. Average interval between convexes (Sm) 50 μm
Secondary surface shape: a convex portion having an average height of 97 nm and an average diameter of 138 nm of the basic shape is formed.

A.下地層形成
1.準備作業
・洗浄済みのロールを準備。
・2種類のポリマー溶液を準備。
・PDDAポリマー溶液(+):PDDA(分子量400,000-500,000)0.4wt%、0.1MNacl
(PDDA:Aldrich Chemical Company.inc製)
・PSSポリマー溶液(−):PSS(分子量1,000,000)0.4wt%、0.1MNacl
(PSS:Aldrich Chemical Company.inc製)
A. Underlayer formation 1. Prepare pre-cleaned and cleaned rolls.
・ Prepare two types of polymer solutions.
PDDA polymer solution (+): PDDA (molecular weight 400,000-500,000) 0.4 wt%, 0.1 MNacl
(PDDA: manufactured by Aldrich Chemical Company.inc)
-PSS polymer solution (-): PSS (molecular weight 1,000,000) 0.4 wt%, 0.1 MNacl
(PSS: Aldrich Chemical Company.inc)

2.PDDAポリマー溶液のコーティング処理
2-1 インキパンにPDDAポリマー溶液を約2リットル入れる。
2-2 PDDAポリマー溶液インキパンにロールを直径の1/3程度浸漬し、ロールを回転させなが約2分間コーティング処理。
2-3 インキパンの交換(PDDA用インキパンを洗浄用インキパンへ交換)。
2-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間2分30秒。
2. Coating treatment of PDDA polymer solution
2-1 Put about 2 liters of PDDA polymer solution into the ink pan.
2-2 Immerse the roll in a PDDA polymer solution ink pan about 1/3 of the diameter and rotate the roll for about 2 minutes.
2-3 Replacing the ink pan (Replace the PDDA ink pan with a cleaning ink pan).
2-4 Immerse the roll in the prepared ink pan for pure water cleaning, rotate the roll, and wash it with shower pure water. Washing time 2 minutes 30 seconds.

3.PSSポリマー溶液のコーティング処理
3-1 インキパンにPSSポリマー溶液を約2リットル入れる。
3-2 PSSポリマー溶液インキパンにロールを1/3程度浸漬、ロールを回転させながら約2分間コーティング処理。
3-3 インキパンの交換(PSS用インキパンを洗浄用インキパンへ交換)。
3-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間2分30秒。
以上のPDDAポリマー溶液コーティング処理およびPSSポリマー溶液のコーティング処理工程を交互に計6回繰り返した。
3. Coating treatment of PSS polymer solution
3-1 Put about 2 liters of PSS polymer solution into the ink pan.
3-2 Immerse the roll about 1/3 in the PSS polymer solution ink pan, and coat for about 2 minutes while rotating the roll.
3-3 Replacing the ink pan (Replace the PSS ink pan with a cleaning ink pan).
3-4 Immerse the roll in the prepared ink pan for pure water cleaning, rotate the roll and wash it with shower pure water. Washing time 2 minutes 30 seconds.
The PDDA polymer solution coating process and the PSS polymer solution coating process described above were alternately repeated a total of 6 times.

4.ポリマー溶液PDDAのコーティング処理
4-1 インキパンにPDDAポリマー溶液を約2リットル入れる。
4-2 PDDA溶液インキパンにロールを直径の1/3程度浸漬、ロールを回転させながら約10分間コーティング処理。
4-3 インキパンの交換(PDDA用インキパンを洗浄用インキパンへ交換)
4-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間2分30秒。
4). Coating treatment of polymer solution PDDA
4-1 Put about 2 liters of PDDA polymer solution into the ink pan.
4-2 Immerse the roll in a PDDA solution ink pan about 1/3 of the diameter, and apply the coating for about 10 minutes while rotating the roll.
4-3 Replacing the ink pan (Replace the PDDA ink pan with a cleaning ink pan)
4-4 Immerse the roll in the prepared ink pan for pure water cleaning, rotate the roll and wash it with shower pure water. Washing time 2 minutes 30 seconds.

5.後処理
・洗浄終了後、空気を弱めにをかけ、ある程度水気をよくとる。
・次いで、自然乾燥させる。
5. After finishing the post-treatment and cleaning, weaken the air and get some moisture.
-Then let it air dry.

B.下地層形成
1.準備作業
・下地層形成済みのロールを準備。
・粒子液を準備。スフェリカスラリー120(触媒化成工業(株))、粒子濃度約18.2%を用意。粒子径0.11μ(カタログ値)
B. Underlayer formation 1. Preparatory work / prepared roll with base layer formed.
・ Prepare the particle liquid. Spherica slurry 120 (Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.), particle concentration of about 18.2% is prepared. Particle size 0.11μ (catalog value)

2.粒子膜のコーティング
2−1 インキパンに粒子溶液を約2リットル入れる。
2−2 粒子溶液インキパンにロールを1/3程度浸漬、ロールを回転させながら1分間コーティング処理。
2−3 インキパンの交換(粒子用インキパンを洗浄用インキパンへ交換)
2−4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間4分。
2−5 洗浄終了後、空気を弱めにをかけ、水気をよくとる。
あとは自然乾燥させる。
2. Particle Film Coating 2-1 Put about 2 liters of particle solution into an ink pan.
2-2 The roll is immersed in the particle solution ink pan for about 1/3, and the roll is rotated for 1 minute.
2-3 Ink pan replacement (Replace the particle ink pan with a cleaning ink pan)
2-4 Immerse the roll in the prepared pure water washing ink pan, rotate the roll and wash it with shower pure water. Washing time 4 minutes.
2-5 After cleaning, apply weak air to remove moisture.
After that, let it air dry.

C.オーバーコート層形成
1.準備作業
・ 粒子成膜済み(熱処理済み)サンプルを準備。
・ 2種類のポリマー溶液を準備。
1-1 PDDAポリマー溶液(+)→PDDA(分子量400,000-500,000)0.4wt%、0.2MNacl
1-2 PSSポリマー溶液(−)→PSS(分子量1,000,000)0.4wt% 0.2MNacl
C. Overcoat layer formation Preparatory work ・ Prepared a sample with particles formed (heat treated).
・ Prepare two types of polymer solutions.
1-1 PDDA polymer solution (+) → PDDA (molecular weight 400,000-500,000) 0.4wt%, 0.2MNacl
1-2 PSS polymer solution (-)-> PSS (molecular weight 1,000,000) 0.4wt% 0.2MNacl

2.ポリマー溶液PDDAのコーティング
2-1 インキパンにPDDAポリマー溶液を約2リットル入れる。
2-2 PDDA溶液インキパンにロールを1/3程度浸漬、ロールを回転させながら約2分間右コーティング処理。
2-3 インキパンの交換(PDDA用インキパンを洗浄用インキパンへ交換)
2-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間2分30秒。
2. Coating of polymer solution PDDA
2-1 Put about 2 liters of PDDA polymer solution into the ink pan.
2-2 Immerse the roll about 1/3 in a PDDA solution ink pan, and rotate the roll for about 2 minutes.
2-3 Ink pan replacement (Replace PDDA ink pan with cleaning ink pan)
2-4 Immerse the roll in the prepared ink pan for pure water cleaning, rotate the roll, and wash it with shower pure water. Washing time 2 minutes 30 seconds.

3.ポリマー溶液PSSのコーティング
3-1 インキパンにPSSポリマー溶液を約2リットル入れる。
3-2 PSS溶液インキパンにロールを1/3程度浸漬、ロールを回転させながら約2分間コーティング処理。
3-3 インキパンの交換(PSS用インキパンを洗浄用インキパンへ交換)
3-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間2分30秒。
以上の工程を計6回繰り返す。
3. Coating of polymer solution PSS
3-1 Put about 2 liters of PSS polymer solution into the ink pan.
3-2 Immerse the roll in PSS solution ink pan about 1/3, and rotate the roll for about 2 minutes.
3-3 Ink pan replacement (Replace PSS ink pan with cleaning ink pan)
3-4 Immerse the roll in the prepared ink pan for pure water cleaning, rotate the roll and wash it with shower pure water. Washing time 2 minutes 30 seconds.
The above process is repeated a total of 6 times.

4.ポリマー溶液PDDAのコーティング
4-1 インキパンにPDDAポリマー溶液を約2リットル入れる。
4-2 PDDA溶液インキパンにロールを1/3程度浸漬、ロールを回転させながら約2分間コーティング処理。
4-3 インキパンの交換(PDDA用インキパンを洗浄用インキパンへ交換)
4-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間2分30秒。
4). Coating of polymer solution PDDA
4-1 Put about 2 liters of PDDA polymer solution into the ink pan.
4-2 Immerse the roll in a PDDA solution ink pan about 1/3 and rotate the roll for about 2 minutes.
4-3 Replacing the ink pan (Replace the PDDA ink pan with a cleaning ink pan)
4-4 Immerse the roll in the prepared ink pan for pure water cleaning, rotate the roll and wash it with shower pure water. Washing time 2 minutes 30 seconds.

5.後処理
・洗浄終了後、空気を弱めにをかけ、ある程度水気をよくとる。
・次いで、自然乾燥させる。
洗浄終了後、空気を弱めにをかけ、ある程度水気をよくとる。あとは自然乾燥させる。
5. After finishing the post-treatment and cleaning, weaken the air and get some moisture.
-Then let it air dry.
After cleaning, apply some air to the surface to weaken the air. After that, let it air dry.

<実施例2>
実施例1で得られたローラ状形態の賦型用型ならびに図5に示される装置を用い、本発明による反射防止膜を製造した。
フィルム基材30としては厚さ100μmのPET製基材を用い、紫外線硬化性樹脂組成物34としては、エポキシアクリレート系樹脂にフッ素化合物を添加したものを用いた。
<Example 2>
The antireflection film according to the present invention was manufactured using the shaping mold in the form of a roller obtained in Example 1 and the apparatus shown in FIG.
As the film substrate 30, a PET substrate having a thickness of 100 μm was used, and as the ultraviolet curable resin composition 34, an epoxy acrylate resin added with a fluorine compound was used.

フィルム基材30の水平方向への移動速度は20m/mであり、この速度に対応してローラ状形態の賦型用型31、押圧ローラ32および押圧ローラ33が回転している。フィルム基材30とローラ状形態の賦型用型31との間に適用された硬化性樹脂組成物34は、押圧ローラ32の押圧部ないしその周辺部において層状に圧延され、フィルム基材30とローラ状形態の賦型用型31との間に介在した状態で、フィルム基材30がローラ状形態の賦型用型31の回転にあわせローラ周面に沿って移動する期間中、前記のローラ状形態の賦型用型31によって賦型される。賦型された硬化性樹脂組成物35は、フィルム基材30と共にローラ状形態の賦型用型31から剥離される。   The moving speed of the film substrate 30 in the horizontal direction is 20 m / m, and the shaping mold 31, the pressing roller 32, and the pressing roller 33 in the form of a roller are rotated corresponding to this speed. The curable resin composition 34 applied between the film base 30 and the shaping mold 31 in the form of a roller is rolled into a layer at the pressing portion of the pressing roller 32 or its peripheral portion, During the period in which the film substrate 30 moves along the roller peripheral surface in accordance with the rotation of the roller-shaped mold 31 while being interposed between the roller-shaped mold 31 and the roller, It is shaped by the shaped mold 31 for shaping. The shaped curable resin composition 35 is peeled off from the shaping mold 31 in a roller shape together with the film base 30.

賦型された硬化性樹脂組成物35は、厚さが10μmのものであって、下記の一次表面形状と二次表面形状が輪郭形状を表面に有するものであった。
一次表面形状:算術平均粗さ(Ra)5μmの凹凸が形成。凹間の平均間隔(Sm)50μm。
二次表面形状:基本形状の平均高さ97nm、平均直径138nmの凹部が形成
The molded curable resin composition 35 had a thickness of 10 μm, and the following primary surface shape and secondary surface shape had contour shapes on the surface.
Primary surface shape: Concavities and convexities with arithmetic average roughness (Ra) of 5 μm are formed. Average spacing (Sm) between recesses is 50 μm.
Secondary surface shape: Concavities with an average height of 97 nm and an average diameter of 138 nm of the basic shape are formed

<実施例3>
実施例2で得られた本発明の反射防止膜を、図6に示される装置においてフィルム状形態の賦型用型41として用い、本発明による反射防止膜を製造した。
<Example 3>
The antireflection film according to the present invention was produced by using the antireflection film of the present invention obtained in Example 2 as the shaping mold 41 in the form of a film in the apparatus shown in FIG.

基材40としては厚さ50μmのPET製基材を用いた。基材40の水平方向への移動速度は30m/mであって、この速度に対応してフィルム状形態の賦型用型41が移動し、そして、押圧ローラ42および押圧ローラ43が回転している。   As the substrate 40, a PET substrate having a thickness of 50 μm was used. The moving speed of the base material 40 in the horizontal direction is 30 m / m, and the shaping mold 41 in the form of a film moves corresponding to this speed, and the pressing roller 42 and the pressing roller 43 rotate. Yes.

基材40とフィルム状形態の賦型用型41との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物44を適用して、押圧ローラ42の押圧部ないしその周辺部において層状に圧延し、基材40とフィルム状形態の賦型用型41との間に介在した状態で、押圧ローラ42の押圧部から押圧ローラ43の押圧部まで移動する期間中、前記のフィルム状形態の賦型用型41によって賦型し、押圧ローラ43の押圧部においてフィルム状形態の賦型用型41を剥離して、本発明による反射防止膜46を製造した。   A moldable curable resin composition 44 is applied between the base material 40 and the film-shaped mold 41 and rolled into a layer at the pressing portion of the pressing roller 42 or its peripheral portion. During the period of movement from the pressing part of the pressing roller 42 to the pressing part of the pressing roller 43 in a state of being interposed between the material 40 and the molding mold 41 in the film-like form, the above-mentioned forming mold in the film-like form is used. The anti-reflection film 46 according to the present invention was manufactured by peeling the film-shaped forming die 41 at the pressing portion of the pressing roller 43.

この反射防止膜46は、下記の一次表面形状と二次表面形状が輪郭形状を表面に有するものであった。
一次表面形状:算術平均粗さ(Ra)5μmの凹凸が形成。凸間の平均間隔(Sm)50μm。
二次表面形状:基本形状の平均高さ97nm、平均直径138nmの凸部が形成
The antireflection film 46 had the following primary surface shape and secondary surface shape having a contour shape on the surface.
Primary surface shape: Concavities and convexities with arithmetic average roughness (Ra) of 5 μm are formed. Average spacing (Sm) between convexes is 50 μm.
Secondary surface shape: a convex portion having an average height of 97 nm and an average diameter of 138 nm of the basic shape is formed.

本発明による第一の反射防止膜の断面図Sectional view of the first antireflective coating according to the present invention 本発明による第一の反射防止膜における凹状の二次表面形状の概要を示す断面図Sectional drawing which shows the outline of the concave secondary surface shape in the 1st antireflection film by this invention 本発明による第二の反射防止膜の断面図Sectional view of a second antireflective coating according to the invention 本発明による第二の反射防止膜における凸状の二次表面形状の概要を示す断面図Sectional drawing which shows the outline | summary of the convex secondary surface shape in the 2nd antireflection film by this invention 本発明による好ましい第一の賦型用型の製造方法の概要を示す図The figure which shows the outline | summary of the manufacturing method of the preferable 1st mold for shaping | molding by this invention. 本発明による好ましい第二の賦型用型の製造方法の概要を示す図The figure which shows the outline | summary of the manufacturing method of the preferable mold for 2nd shaping | molding by this invention. 本発明の実施例2で得られた一次表面形状と二次表面形状との輪郭形状を表面に有するフィルムの反射率を示すグラフThe graph which shows the reflectance of the film which has the contour shape of the primary surface shape and secondary surface shape which were obtained in Example 2 of this invention on the surface 本発明の実施例2で得られた一次表面形状と二次表面形状との輪郭形状を表面に有するフィルムの透過率を示すグラフThe graph which shows the transmittance | permeability of the film which has the contour shape of the primary surface shape and secondary surface shape which were obtained in Example 2 of this invention on the surface

符号の説明Explanation of symbols

10、20 反射防止膜
11、21 一次表面形状
12、22 二次表面形状
30、40 基材
31 ローラ状形態の賦型用型
41 フィルム状形態の賦型用型
32、33、42、43 押圧ローラ
34 44 硬化性樹脂組成物
36、45 紫外線照射装置
10, 20 Anti-reflective coating 11, 21 Primary surface shape 12, 22 Secondary surface shape 30, 40 Base material 31 Molding mold 41 in roller form Forming mold 32, 33, 42, 43 in film form Roller 34 44 Curable resin composition 36, 45 UV irradiation device

Claims (13)

算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有することを特徴とする、反射防止膜。
凹状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。
An antireflection surface having a contour shape in which a primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm and the following concave secondary surface shape formed on the primary surface shape is combined on the surface. An antireflection film comprising:
Concave secondary surface shape: Consists of concave basic shapes that may be interconnected, and the basic shape has an average depth of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the antireflection surface of the basic shape A surface shape whose placement in is substantially irregular.
算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有することを特徴とする、反射防止膜。
凸状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。
An antireflection surface having a contour shape in which the primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm and the following convex secondary surface shape formed on the primary surface shape is combined. An antireflective film characterized by comprising:
Convex secondary surface shape: Consists of convex basic shapes which may be connected to each other, and the basic shape has an average height of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the reflection of the basic shape Surface shape that is substantially irregular in arrangement on the prevention surface.
前記の一次表面形状が、隣接する凸間の平均間隔(Sm)が3μm〜200μmのものである、請求項1または2に記載の反射防止膜。   The antireflection film according to claim 1, wherein the primary surface shape has an average interval (Sm) between adjacent convexities of 3 μm to 200 μm. 基材と、請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止膜とからなることを特徴とする、反射防止材。   An antireflection material comprising a base material and the antireflection film according to any one of claims 1 to 3. 算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有することを特徴とする、賦型用型。
凸状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。
The molded surface has a contour shape in which a primary surface shape having irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm and the following convex secondary surface shape formed on the primary surface shape are combined. Molding mold characterized by that.
Convex secondary surface shape: Consists of convex basic shapes which may be connected to each other, and the basic shape has an average height of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the reflection of the basic shape Surface shape that is substantially irregular in arrangement on the prevention surface.
ローラ状形態の請求項5に記載の賦型用型。   The mold for shaping according to claim 5 in a roller form. 算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有することを特徴とする、賦型用型。
凹状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。
The molded surface has a contour shape in which the primary surface shape having irregularities with an arithmetic mean roughness (Ra) of 1 μm to 30 μm and the following concave secondary surface shape formed on the primary surface shape are combined. A mold for shaping.
Concave secondary surface shape: consisting of concave basic shapes which may be interconnected, the basic shape having an average depth of 30 nm to 200 nm and an average diameter of 80 nm to 400 nm, and the antireflection surface of the basic shape A surface shape whose placement in is substantially irregular.
フィルム状形態の請求項7に記載の賦型用型。   The mold for shaping according to claim 7 in a film form. 請求項6に記載のローラ状形態の賦型用型の製造方法であって、
前記の一次表面形状を有するローラ周面に、交互吸着法を用いて下地層を形成し、
次いで、前記下地層上に微粒子を固定化することによって、ローラ周面上に、前記の一次表面形状と前記の二次表面形状とが複合した輪郭形状を形成させる工程を含むことを特徴とする、ローラ状形態の賦型用型の製造方法。
It is a manufacturing method of the shaping type | mold of the roller-shaped form of Claim 6, Comprising:
On the peripheral surface of the roller having the primary surface shape, an underlayer is formed using an alternate adsorption method.
Next, the method includes a step of forming a contour shape in which the primary surface shape and the secondary surface shape are combined on the peripheral surface of the roller by fixing fine particles on the base layer. The manufacturing method of the mold for roller-shaped forms.
請求項8に記載のフィルム状形態の賦型用型の製造方法であって、
フィルム基材と請求項6に記載のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、
この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型用型によって賦型し、
さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とする、フィルム状形態の賦型用型の製造方法。
It is a manufacturing method of the shaping type | mold of the film-form form of Claim 8, Comprising:
Applying a moldable curable resin composition between the film substrate and the mold for molding in the roller form according to claim 6;
This moldable curable resin composition is molded by the above-mentioned mold for molding in the form of a roller,
Furthermore, the manufacturing method of the shaping | molding type | mold with a film-form form characterized by including the process of hardening the molding of the said curable resin composition.
請求項1に記載の反射防止膜の製造方法であって、
フィルム基材と請求項6に記載のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、
この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型材によって賦型し、
さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とする、反射防止膜の製造方法。
It is a manufacturing method of the antireflection film according to claim 1,
Applying a moldable curable resin composition between the film substrate and the mold for molding in the roller form according to claim 6;
This moldable curable resin composition is molded by the above-mentioned molding material in the form of a roller,
Furthermore, the manufacturing method of the anti-reflective film characterized by including the process of hardening the molding of the said curable resin composition.
請求項2に記載の反射防止膜の製造方法であって、
フィルム基材と請求項8に記載のフィルム状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、
この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のフィルム状形態の賦型用型によって賦型し、
さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とする、反射防止膜の製造方法。
It is a manufacturing method of the antireflection film according to claim 2,
Applying a moldable curable resin composition between the film substrate and the mold for molding in the film form according to claim 8;
This moldable curable resin composition is molded by the above-mentioned film-shaped mold for molding,
Furthermore, the manufacturing method of the anti-reflective film characterized by including the process of hardening the molding of the said curable resin composition.
請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜を有することを特徴とする、光学部材。   An optical member comprising the antireflection film according to claim 1.
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