JP2008153237A - Organic light-emitting element and display device equipped with it - Google Patents

Organic light-emitting element and display device equipped with it Download PDF

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登 野口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element capable of displaying images with high luminance and few luminance unevenness. <P>SOLUTION: An auxiliary electrode 150 of an organic light-emitting element 100 is installed at a portion of a wall-shape insulating layer 140, and the portion of the wall-shape insulating layer 140 on which the auxiliary electrode 150 is installed is wider than the portion having no auxiliary electrode 150 installed. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機発光素子、及び、それを備えた表示装置に関する。   The present invention relates to an organic light emitting device and a display device including the same.

平面表示装置は従来一般に使用されている陰極線管(CRT)よりも消費電力が少なく、薄型化が可能である。このため、近年の情報処理機器の多様化に伴って、平面表示装置に対する需要が高まってきている。平面表示装置としては、例えば、液晶表示装置やエレクトロルミネッセント表示装置(以下、「EL表示装置」と略称する。)が挙げられる。その中でも有機EL表示装置は、低電圧駆動、全固体型、高速応答性、自発光性という特徴を有するため、特に研究開発が盛んに行われている。   A flat display device consumes less power than a conventionally used cathode ray tube (CRT) and can be thinned. For this reason, with the recent diversification of information processing equipment, the demand for flat display devices has increased. Examples of the flat display device include a liquid crystal display device and an electroluminescent display device (hereinafter abbreviated as “EL display device”). Among them, the organic EL display device has features such as low voltage driving, all solid-state type, high-speed response, and self-luminous property, and therefore, research and development are particularly actively performed.

有機EL表示装置は、その駆動方式により、パッシブマトリクス方式(以下、「PM方式」と略称する。)と、アクティブマトリクス方式(以下、「AM方式」と略称する。)とに大別される。   Organic EL display devices are roughly classified into a passive matrix system (hereinafter abbreviated as “PM system”) and an active matrix system (hereinafter abbreviated as “AM system”) depending on the driving system.

PM方式の有機EL素子は線順次駆動される。よって、PM方式で高輝度な有機EL素子を実現するためには、各画素(発光層)に大きな瞬間電力を印加しなければならない。従って、PM方式の有機EL素子では、発光層の劣化が激しい。その結果、PM方式の有機EL素子は製品寿命が短いという問題がある。特に、走査電極数が多い(高精細な)有機EL素子では各画素に印加される電圧が大きくなる。このため、高精細な有機EL素子は特に製品寿命が短い。   The PM organic EL elements are line-sequentially driven. Therefore, in order to realize a high luminance organic EL element by the PM method, a large instantaneous power must be applied to each pixel (light emitting layer). Accordingly, in the PM type organic EL element, the light emitting layer is severely deteriorated. As a result, the PM organic EL element has a problem that the product life is short. In particular, in an organic EL element having a large number of scanning electrodes (high definition), the voltage applied to each pixel increases. For this reason, a high-definition organic EL element has a particularly short product life.

一方、AM方式の有機EL素子では、各画素ごとにスイッチング素子(例えば、TFT)が設けられているため、各画素ごとにスイッチングを行うことができる。そのため、AM方式の有機EL素子では、原理的に走査電極数に制約がなく、1フレーム期間のほぼ100%に近い表示が可能である。このため、AM方式の有機EL素子によれば、PM方式の有機EL素子に比べて瞬間輝度を低くした場合であっても、高輝度で高品位な表示を実現することができる。また、AM方式の有機EL素子では、PM方式の有機EL素子よりも瞬間輝度を低くすることができるので、低い駆動電圧、及び、長い製品寿命を実現することができる。従って、近年は、AM方式の有機EL素子の研究開発が特に盛んに行われている。   On the other hand, in the AM organic EL element, since a switching element (for example, TFT) is provided for each pixel, switching can be performed for each pixel. Therefore, in the AM organic EL element, the number of scanning electrodes is not limited in principle, and display close to almost 100% of one frame period is possible. For this reason, according to the AM type organic EL element, even when the instantaneous luminance is lower than that of the PM type organic EL element, a high luminance and high quality display can be realized. In addition, the AM type organic EL element can lower the instantaneous luminance as compared with the PM type organic EL element, so that a low driving voltage and a long product life can be realized. Therefore, in recent years, research and development of AM-type organic EL elements have been particularly active.

図14は、従来の有機EL素子600の概略断面図である。   FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of a conventional organic EL element 600.

有機EL素子600は、基板601と、基板601の上に設けられた発光有機層603と、発光有機層603を狭持するように設けられた第1電極602及び第2電極604とを有する。   The organic EL element 600 includes a substrate 601, a light emitting organic layer 603 provided on the substrate 601, and a first electrode 602 and a second electrode 604 provided so as to sandwich the light emitting organic layer 603.

第1電極602は発光有機層603にホールを注入する。第2電極604は発光有機層603に電子を注入する。第1電極602から注入されたホールと、第2電極604から注入された電子とが発光有機層603において再結合することにより、発光有機層603が発光する。有機EL素子600では、基板601及び第1電極602は光透過性を有する。第2電極604は光反射性を有する。発光有機層603の発光は第1電極602及び基板601を透過して有機EL素子600から出射される(ボトムエミッション方式)。   The first electrode 602 injects holes into the light emitting organic layer 603. The second electrode 604 injects electrons into the light emitting organic layer 603. When the holes injected from the first electrode 602 and the electrons injected from the second electrode 604 are recombined in the light emitting organic layer 603, the light emitting organic layer 603 emits light. In the organic EL element 600, the substrate 601 and the first electrode 602 are light transmissive. The second electrode 604 has light reflectivity. Light emission of the light emitting organic layer 603 is emitted from the organic EL element 600 through the first electrode 602 and the substrate 601 (bottom emission method).

AM方式の有機EL素子600では、基板601上にTFTや電極(画素電極、ゲート電極、ソース電極等)を配設する必要がある。一般的に、TFTや電極は光透過性の低い材料で形成される。具体的には、TFTは光透過率の低いシリコン等で形成される。このため、有機EL素子600では、画素面積に対する発光面積の割合(開口率)が小さいという問題がある。   In the AM organic EL element 600, it is necessary to dispose TFTs and electrodes (pixel electrode, gate electrode, source electrode, etc.) on the substrate 601. In general, TFTs and electrodes are formed of a material having low light transmittance. Specifically, the TFT is formed of silicon having a low light transmittance. For this reason, the organic EL element 600 has a problem that the ratio (aperture ratio) of the light emitting area to the pixel area is small.

AM方式の有機EL素子は、さらに電流駆動方式の有機EL素子と電圧駆動方式の有機EL素子とに分けることができる。電流駆動方式の有機EL素子は各画素の表示性能のばらつきを抑制し、発光材料の劣化による表示性能の劣化を効果的に抑制することができる。しかし、電流駆動方式の有機EL素子では、電圧駆動方式の有機EL素子と比較して、各画素に配設されるTFTの個数が多くなる。このため、電流駆動方式の有機EL素子では、さらに開口率が小さくなるという問題がある。   The AM organic EL element can be further divided into a current driven organic EL element and a voltage driven organic EL element. The current-driven organic EL element can suppress variation in display performance of each pixel, and can effectively suppress display performance deterioration due to deterioration of a light emitting material. However, in the current drive type organic EL element, the number of TFTs arranged in each pixel is larger than that in the voltage drive type organic EL element. For this reason, the current-driven organic EL element has a problem that the aperture ratio is further reduced.

係る問題に鑑み、上面発光方式の有機EL素子が提案されている(例えば、特許文献1等)。上面発光方式の有機EL素子では、第2電極が光透過性を有し、第1電極が光反射性を有する。このため、光透過率が低いTFTや電極が配設された基板とは反対側の第2電極側から発光有機層の発光を取り出すことができる。従って、上面発光方式の有機EL素子は下面発光方式の有機EL素子よりも大きな開口率を有する。その結果、上面発光方式を採用することによって、高輝度な有機素子を実現することができる。
特開2004−127551号公報
In view of the problem, a top emission type organic EL element has been proposed (for example, Patent Document 1). In the top emission type organic EL element, the second electrode has light transmissivity and the first electrode has light reflectivity. For this reason, light emission of the light emitting organic layer can be taken out from the second electrode side opposite to the substrate on which the TFT and the electrode having low light transmittance are arranged. Therefore, the top emission organic EL element has a larger aperture ratio than the bottom emission organic EL element. As a result, a high-luminance organic element can be realized by employing the top emission method.
JP 2004-127551 A

上面発光方式の有機EL表示装置では、発光有機層からの発光は第2電極側から取り出される。このため、第2電極は光透過率の高い透明電極材料により形成されていることが好ましい。透明導電材料としては、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)等が挙げられる。   In the top emission type organic EL display device, light emitted from the light emitting organic layer is extracted from the second electrode side. For this reason, it is preferable that the 2nd electrode is formed with the transparent electrode material with a high light transmittance. Examples of the transparent conductive material include indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

しかし、ITO等の透明導電材料は、従来電極材料として用いられてきた銀(Ag)やアルミニウム(Al)等の低抵抗金属材料と比較して高い電気抵抗を有する。そのため、透明導電材料により形成された第2電極は大きな面抵抗を有する。従って、駆動電圧が高いという問題がある。   However, a transparent conductive material such as ITO has a higher electric resistance than a low resistance metal material such as silver (Ag) or aluminum (Al) that has been conventionally used as an electrode material. Therefore, the second electrode formed of a transparent conductive material has a large surface resistance. Therefore, there is a problem that the drive voltage is high.

また、第2電極の面抵抗が高い場合、第2電極の一部で電圧低下が発生する。このため、電気抵抗の大きな透明導電材料により形成された第2電極には均一な電圧が印加されない。従って、均一性の高い画像表示をすることができないという問題がある。   Further, when the surface resistance of the second electrode is high, a voltage drop occurs in a part of the second electrode. For this reason, a uniform voltage is not applied to the second electrode formed of a transparent conductive material having a large electrical resistance. Therefore, there is a problem that it is impossible to display an image with high uniformity.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、高輝度かつ輝度ムラのない画像表示が可能である有機EL素子を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide an organic EL element capable of displaying an image with high luminance and no luminance unevenness.

本発明にかかる有機発光素子は、基板と、基板上にマトリクス状に配列された複数の第1電極と、基板上に設けられ、複数の第1電極をそれぞれに区画する壁状絶縁層と、複数の第1電極のそれぞれの上に設けられた発光有機層と、壁状絶縁層の上に設けられた補助電極と、壁状絶縁層、補助電極、及び発光有機層の表面全体を被覆するように設けられ、補助電極に電気的に接続された、発光有機層の光を透過させる第2電極とを備え、補助電極が壁状絶縁層の一部分に設けられており、補助電極が設けられた壁状絶縁層の部分は補助電極が設けられていない部分よりも幅広である。   An organic light-emitting device according to the present invention includes a substrate, a plurality of first electrodes arranged in a matrix on the substrate, a wall-shaped insulating layer provided on the substrate and partitioning the plurality of first electrodes, Covering the entire surface of the light emitting organic layer provided on each of the plurality of first electrodes, the auxiliary electrode provided on the wall-like insulating layer, and the wall-like insulating layer, auxiliary electrode, and light-emitting organic layer And a second electrode that is electrically connected to the auxiliary electrode and transmits the light of the light-emitting organic layer, the auxiliary electrode is provided in a part of the wall-like insulating layer, and the auxiliary electrode is provided. The portion of the wall-like insulating layer is wider than the portion where the auxiliary electrode is not provided.

本発明にかかる有機発光素子は、基板と、基板上にマトリクス状に配列された複数の第1電極と、基板上に設けられ、複数の第1電極をそれぞれに区画する壁状絶縁層と、複数の第1電極のそれぞれの上に設けられた発光有機層と、壁状絶縁層の上に設けられた補助電極と、壁状絶縁層、補助電極、及び発光有機層の表面全体を被覆するように設けられ、補助電極に電気的に接続された、発光有機層の光を透過させる第2電極とを備え、補助電極が壁状絶縁層上において断片的に設けられており、補助電極が設けられた壁状絶縁層の部分は補助電極が設けられていない部分よりも幅広である。   An organic light-emitting device according to the present invention includes a substrate, a plurality of first electrodes arranged in a matrix on the substrate, a wall-shaped insulating layer provided on the substrate and partitioning the plurality of first electrodes, Covering the entire surface of the light emitting organic layer provided on each of the plurality of first electrodes, the auxiliary electrode provided on the wall-like insulating layer, and the wall-like insulating layer, auxiliary electrode, and light-emitting organic layer And a second electrode that is electrically connected to the auxiliary electrode and transmits the light of the light-emitting organic layer. The auxiliary electrode is provided in pieces on the wall-like insulating layer. The portion of the wall-like insulating layer provided is wider than the portion where the auxiliary electrode is not provided.

本発明に係る有機発光素子では、補助電極が設けられた壁状絶縁層の部分の幅は補助電極が設けられていない部分の幅の2倍以上であってもよい。   In the organic light emitting device according to the present invention, the width of the portion of the wall-like insulating layer provided with the auxiliary electrode may be twice or more the width of the portion where the auxiliary electrode is not provided.

本発明に係る有機発光素子では、発光有機層が、各々、発光色の異なる複数種類の発光材料のいずれかで形成されており、発光有機層はその発光色によって相互に発光面積が異なり、補助電極が、壁状絶縁層のうち発光面積が最も小さい発光有機層に隣接する幅広部分の上に設けられていてもよい。   In the organic light-emitting device according to the present invention, the light-emitting organic layer is formed of any of a plurality of types of light-emitting materials each having a different emission color, and the light-emitting organic layer has a different emission area depending on the emission color, and is The electrode may be provided on a wide portion adjacent to the light emitting organic layer having the smallest light emitting area in the wall-shaped insulating layer.

本発明にかかる有機発光素子は、補助電極が、最も大きな発光面積を有する発光有機層と最も小さな発光面積を有する発光有機層との間に設けられた壁状絶縁層の幅広部分の上に設けられている。   In the organic light emitting device according to the present invention, the auxiliary electrode is provided on the wide portion of the wall-like insulating layer provided between the light emitting organic layer having the largest light emitting area and the light emitting organic layer having the smallest light emitting area. It has been.

本発明に係る有機発光素子は、補助電極と第2電極との間に設けられ、補助電極と第2電極とを連通させるスルーホールが形成された發液層をさらに有し、第2電極はスルーホールを経由して補助電極に電気的に接続されていてもよい。   The organic light emitting device according to the present invention further includes a liquid crystal layer provided between the auxiliary electrode and the second electrode, in which a through hole for communicating the auxiliary electrode and the second electrode is formed. It may be electrically connected to the auxiliary electrode via a through hole.

本発明に係る有機発光素子は補助電極と第2電極との間に設けられた単分子層からなる發液層をさらに有していてもよい。   The organic light emitting device according to the present invention may further include a liquid crystal layer composed of a monomolecular layer provided between the auxiliary electrode and the second electrode.

本発明に係る有機発光素子では、発光有機層が有機エレクトロルミネッセンス発光材料を含んでいてもよい。   In the organic light emitting device according to the present invention, the light emitting organic layer may contain an organic electroluminescent light emitting material.

本発明に係る表示装置は本発明に係る有機発光素子を備えている。   The display device according to the present invention includes the organic light emitting element according to the present invention.

本発明によれば、電気導電率の高い補助電極により第2電極の電圧降下の発生を効果的に抑制することができるので、高輝度かつ輝度ムラの少ない画像表示をすることができる。   According to the present invention, it is possible to effectively suppress the voltage drop of the second electrode by the auxiliary electrode having a high electric conductivity, and thus it is possible to display an image with high luminance and less luminance unevenness.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(実施形態1)図1は実施形態1に係る有機EL素子100の概略平面図である。   Embodiment 1 FIG. 1 is a schematic plan view of an organic EL element 100 according to Embodiment 1. FIG.

図2は図1中の切り出し線II−IIによって切り出された部分の概略断面図である。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a portion cut out by a cut line II-II in FIG.

有機EL素子100は、薄膜トランジスタ(TFT)基板110と、TFT基板110上に所定配列で(例えば、マトリクス状に)配設された複数の第1電極120と、複数の第1電極120をそれぞれに区画する壁状絶縁層140と、第1電極120のそれぞれの上に設けられた発光有機層130と、壁状絶縁層140の上に設けられた補助電極150と、壁状絶縁層140、補助電極150、及び発光有機層130の表面全体を被覆するように設けられ、補助電極150に電気的に接続された第2電極160とを備えている。第2電極160は発光有機層130の光を透過させる。尚、説明の便宜上、図1には、第2電極160は描画していない。   The organic EL element 100 includes a thin film transistor (TFT) substrate 110, a plurality of first electrodes 120 arranged in a predetermined arrangement (for example, in a matrix) on the TFT substrate 110, and a plurality of first electrodes 120, respectively. The partition wall insulating layer 140, the light emitting organic layer 130 provided on each of the first electrodes 120, the auxiliary electrode 150 provided on the wall insulating layer 140, the wall insulating layer 140, and the auxiliary The electrode 150 and the second electrode 160 provided so as to cover the entire surface of the light emitting organic layer 130 and electrically connected to the auxiliary electrode 150 are provided. The second electrode 160 transmits the light of the light emitting organic layer 130. For convenience of explanation, the second electrode 160 is not drawn in FIG.

TFT基板110は、絶縁基板111と、所定配列で配設された複数の第1電極120のそれぞれに接続されたTFT114と、TFT114に電気的に接続されたソース電極112及びゲート電極113と、TFT基板110の発光有機層130側表面を平坦にする平坦化膜115とを有する。   The TFT substrate 110 includes an insulating substrate 111, a TFT 114 connected to each of the plurality of first electrodes 120 arranged in a predetermined arrangement, a source electrode 112 and a gate electrode 113 electrically connected to the TFT 114, and a TFT A planarizing film 115 for planarizing the surface of the substrate 110 on the light emitting organic layer 130 side.

絶縁基板111は有機EL素子100の機械的強度を担保でき、絶縁性を有するものであることが好ましい。例えば、絶縁基板111は、石英、ソーダガラス等のガラス、セラミックス等の無機材料、又は、ポリイミド、ポリエステル等の有機材料からなる基板により構成することができる。   The insulating substrate 111 can ensure the mechanical strength of the organic EL element 100 and preferably has an insulating property. For example, the insulating substrate 111 can be composed of a substrate made of glass such as quartz or soda glass, an inorganic material such as ceramics, or an organic material such as polyimide or polyester.

TFT114は、ゲート電極113と、ゲート電極113の上に設けられたゲート絶縁膜117と、ゲート絶縁膜117によりゲート電極113と絶縁された島状半導体118と、島状半導体118の周辺部分を覆うように中抜き形状に形成されたTFT電極119とを有する(ボトムゲート構造)。尚、本発明において、TFTはボトムゲート構造を有するのものに限定されない。TFTは、例えばトップゲート構造を有するものであってもよい。   The TFT 114 covers the gate electrode 113, the gate insulating film 117 provided on the gate electrode 113, the island-shaped semiconductor 118 insulated from the gate electrode 113 by the gate insulating film 117, and the peripheral portion of the island-shaped semiconductor 118. The TFT electrode 119 is formed in a hollow shape as described above (bottom gate structure). In the present invention, the TFT is not limited to one having a bottom gate structure. The TFT may have a top gate structure, for example.

第1電極120はTFT基板110の上に所定配列で(例えば、マトリクス状に)配設されている。第1電極120は、平坦化膜115に設けられた電気接続部(スルーホール)121を経由してTFT電極119に接続されている。第1電極120は、TFT114から入力される信号に応じて、発光有機層130にホールを注入する。   The first electrodes 120 are arranged in a predetermined arrangement (for example, in a matrix) on the TFT substrate 110. The first electrode 120 is connected to the TFT electrode 119 via an electrical connection part (through hole) 121 provided in the planarizing film 115. The first electrode 120 injects holes into the light emitting organic layer 130 in accordance with a signal input from the TFT 114.

第1電極120はゲート電極113、ソース電極112等と重畳しないように設けることが好ましい。第1電極120と電極112、113等が重畳する場合、大きな寄生容量が生じるため、表示品位が低下するためである。   The first electrode 120 is preferably provided so as not to overlap with the gate electrode 113, the source electrode 112, and the like. This is because when the first electrode 120 and the electrodes 112 and 113 are overlapped, a large parasitic capacitance is generated, so that display quality is deteriorated.

第1電極120の材料としては、銀(Ag)やアルミニウム(Al)等の金属材料、インジウム錫酸化物(ITO)やインジウム亜鉛酸化物(IZO)等の導電性酸化物などが挙げられる。   Examples of the material of the first electrode 120 include metal materials such as silver (Ag) and aluminum (Al), and conductive oxides such as indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

発光有機層130への高いホール注入効率を実現する観点から、第1電極120は、インジウム錫酸化物(ITO)等の高い仕事関数を有する材料により形成することがより好ましい。また、有機EL素子100では、発光層130の発光は第2電極160を透過させて取り出されるため、第1電極120は光反射性であることが好ましい。言い換えれば、第1電極120を銀(Ag)やアルミニウム(Al)等の光反射性を有する材料により形成することが好ましい。   From the viewpoint of realizing high hole injection efficiency into the light emitting organic layer 130, the first electrode 120 is more preferably formed of a material having a high work function such as indium tin oxide (ITO). Moreover, in the organic EL element 100, since the light emission of the light emitting layer 130 is taken out through the second electrode 160, the first electrode 120 is preferably light reflective. In other words, the first electrode 120 is preferably formed of a light reflective material such as silver (Ag) or aluminum (Al).

第1電極120を、高い導電性と高い光反射率を有するアルミニウム(Al)等の金属層と、大きな仕事関数を有するインジウム錫酸化物(ITO)等の電極層とを含む多層構造としてもよい。この構成によれば、第1電極120の高い光反射率と高いホール注入効率とを同時に実現することができる。従って、より高輝度な有機EL素子100を実現することができる。   The first electrode 120 may have a multilayer structure including a metal layer such as aluminum (Al) having high conductivity and high light reflectance and an electrode layer such as indium tin oxide (ITO) having a large work function. . According to this configuration, the high light reflectivity and high hole injection efficiency of the first electrode 120 can be realized simultaneously. Therefore, the organic EL element 100 with higher brightness can be realized.

尚、本実施形態1に係る有機EL素子100では、第1電極120の各々が矩形に構成されているが、第1電極120の各々は種々の形状(円形、楕円形等)に形成してもよい。   In the organic EL element 100 according to the first embodiment, each of the first electrodes 120 is formed in a rectangular shape, but each of the first electrodes 120 is formed in various shapes (circular, elliptical, etc.). Also good.

発光有機層130をインクジェット法やスピンコート法等の有機溶媒を用いた湿式塗布法により形成する場合は、第1電極120にUV/O処理等により、第1電極120の表面を親液化(インクになじむ性質を付与)しておくことが好ましい。これにより、第1電極120と発光有機層130を形成するためのインクとの親和性が向上するので、より均一な発光有機層130を形成することができる。よって、欠損の少ない有機EL素子100を実現することができる。 When the light emitting organic layer 130 is formed by a wet coating method using an organic solvent such as an ink jet method or a spin coating method, the surface of the first electrode 120 is made lyophilic by UV / O 3 treatment or the like ( It is preferable to impart a property compatible with ink). Thereby, the affinity between the first electrode 120 and the ink for forming the light emitting organic layer 130 is improved, so that a more uniform light emitting organic layer 130 can be formed. Therefore, the organic EL element 100 with few defects can be realized.

壁状絶縁層140は、所定配列で(マトリクス状に)配列された複数の第1電極120をそれぞれに区画するように格子状に設けられている。壁状絶縁層140は加熱による形状・特性等の変化が少ない材料により形成することが好ましい。壁状絶縁層140の材料としては、感光性ポリイミド、アクリル系樹脂、メタリル系樹脂、又は、ノボラック系樹脂等が挙げられる。
壁状絶縁層140は、感光性樹脂により形成することがより好ましい。壁状絶縁層140の材料として感光性樹脂を用いることによって、フォトリゾグラフィー工程による壁状絶縁層140のパターニングが可能となる。従って、壁状絶縁層140をエッチングや剥離プロセス等を行うことなく容易にパターニングできる。
The wall-like insulating layer 140 is provided in a lattice shape so as to partition each of the plurality of first electrodes 120 arranged in a predetermined arrangement (in a matrix form). The wall-like insulating layer 140 is preferably formed of a material that hardly changes in shape and characteristics due to heating. Examples of the material for the wall-shaped insulating layer 140 include photosensitive polyimide, acrylic resin, methallyl resin, or novolac resin.
The wall-like insulating layer 140 is more preferably formed of a photosensitive resin. By using a photosensitive resin as the material of the wall-like insulating layer 140, the wall-like insulating layer 140 can be patterned by a photolithography process. Therefore, the wall-like insulating layer 140 can be easily patterned without performing etching or a peeling process.

発光有機層130を湿式塗布法(インクジェット法やスピンコート法等)により形成する場合は、壁状絶縁層140を有機溶媒(インク)をはじく性質(以下、「發液性」と称呼する。)を有する材料により形成することが好ましい。この構成によれば、湿式塗布法により発光有機層130を形成する場合においても、供給されたインクが壁状絶縁層140に付着することが抑制される。このため、均一な発光有機層130を形成することができる。   When the light emitting organic layer 130 is formed by a wet coating method (such as an ink jet method or a spin coating method), the wall-like insulating layer 140 has a property of repelling an organic solvent (ink) (hereinafter referred to as “liquid-repellent”). It is preferable to form with the material which has. According to this configuration, even when the light-emitting organic layer 130 is formed by a wet coating method, the supplied ink is suppressed from adhering to the wall-like insulating layer 140. For this reason, the uniform light emitting organic layer 130 can be formed.

また、供給されるインク液滴の着弾位置がずれ、壁状絶縁層140の斜面部分にインク液滴が落ちた場合であっても、インク液滴は壁状絶縁層140の斜面部分を滑り落ち、所望の滴下位置にインクが配置される。このため、ムラの少ない発光有機層130を形成することができる。發液性を有する壁状絶縁層140の材料としては、ポリイミドやアクリル樹脂等の有機材料にフッ素やシリコン系の添加物をドープした材料が挙げられる。   Further, even when the landing position of the supplied ink droplet is shifted and the ink droplet falls on the slope portion of the wall-like insulating layer 140, the ink droplet slides down the slope portion of the wall-like insulating layer 140. Ink is disposed at a desired dropping position. For this reason, the light-emitting organic layer 130 with less unevenness can be formed. Examples of the material of the wall-like insulating layer 140 having a liquid-repelling property include a material obtained by doping an organic material such as polyimide or acrylic resin with fluorine or a silicon-based additive.

尚、壁状絶縁層140を形成した後に、壁状絶縁層140に發液性を付与してもよい。發液性を付与する方法としては、例えば、酸素プラズマ処理、4フッ化炭素プラズマ処理等が挙げられる。   In addition, after the wall-like insulating layer 140 is formed, the wall-like insulating layer 140 may be given a liquid-repelling property. Examples of the method for imparting liquid-repelling properties include oxygen plasma treatment and carbon tetrafluoride plasma treatment.

発光有機層130は格子状に形成された壁状絶縁層140によりそれぞれに区画された第1電極120の上に設けられている。発光有機層130はホール輸送層131と発光層132とを有する。但し、本発明はこの構成に限定されるものではない。すなわち、発光有機層130は発光層132のみからなるものであってもよい。発光有機層130を、発光層132と、ホール注入層、ホール輸送層131、電子輸送層、及び、電子注入層のうちのいずれか1種以上の層とにより構成してもよい。   The light emitting organic layer 130 is provided on the first electrode 120 partitioned by the wall-like insulating layer 140 formed in a lattice shape. The light emitting organic layer 130 has a hole transport layer 131 and a light emitting layer 132. However, the present invention is not limited to this configuration. That is, the light emitting organic layer 130 may be composed of only the light emitting layer 132. The light emitting organic layer 130 may be composed of the light emitting layer 132 and any one or more of a hole injection layer, a hole transport layer 131, an electron transport layer, and an electron injection layer.

ホール輸送層131は、第1電極120から注入されたホールを発光層132に輸送する。ホール輸送層131は高いホール輸送効率を有することが好ましい。高い輸送効率を有し、ホール輸送層131に好適な低分子材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物、ヒドラゾン化合物、キナクドリン化合物、スチルアミン化合物等が挙げられる。具体的に、芳香族第3級アミン化合物としては、N,N’−ビス−(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス−(フェニル)−ベンジジン(TPD)、N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン(NPD)等が挙げられる。   The hole transport layer 131 transports holes injected from the first electrode 120 to the light emitting layer 132. The hole transport layer 131 preferably has high hole transport efficiency. Examples of the low molecular weight material having high transport efficiency and suitable for the hole transport layer 131 include porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, hydrazone compounds, quinacdrine compounds, and stilamine compounds. Specifically, aromatic tertiary amine compounds include N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine (TPD), N, N′-di (Naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (NPD) and the like.

ホール輸送層131に好適な高分子材料としては、ポリアニリン、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンサルフォネート(PEDT/PSS)、ポリ(トリフェニルアミン誘導体)、ポリビニルカルバゾール(PVCz)等が挙げられる。ホール輸送層131に好適な高分子材料前駆体としては、ポリ(P−フェニレンビニレン)前駆体、ポリ(P−ナフタレンビニレン)前駆体等が挙げられる。   Suitable polymer materials for the hole transport layer 131 include polyaniline, 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (PEDT / PSS), poly (triphenylamine derivative), polyvinyl carbazole (PVCz), and the like. It is done. Suitable polymer material precursors for the hole transport layer 131 include poly (P-phenylene vinylene) precursors, poly (P-naphthalene vinylene) precursors, and the like.

ホール輸送層131は単層構造に限定されない。ホール輸送層131は多層構造であってもよい。また、ホール輸送層131と発光層132との間にホール注入層をさらに設けてもよい。ホール注入層を設けることによって、発光層132へのホール注入効率を向上させることができる。従って、より高輝度な有機EL素子100を実現することができる。   The hole transport layer 131 is not limited to a single layer structure. The hole transport layer 131 may have a multilayer structure. Further, a hole injection layer may be further provided between the hole transport layer 131 and the light emitting layer 132. By providing the hole injection layer, the efficiency of hole injection into the light emitting layer 132 can be improved. Therefore, the organic EL element 100 with higher brightness can be realized.

第1電極120から注入されたホールと第2電極160から注入された電子とは発光層132において再結合され、発光層132中に励起子が形成される。励起子が基底状態へ失活する際に発光層132から光が出射される。   The holes injected from the first electrode 120 and the electrons injected from the second electrode 160 are recombined in the light emitting layer 132, and excitons are formed in the light emitting layer 132. Light is emitted from the light emitting layer 132 when excitons are deactivated to the ground state.

発光層132は、低分子発光材料を含むものであっても、高分子発光材料を含むものであってもよい。発光層132が低分子発光材料を含むものである場合は、真空蒸着法等の方法により成膜することができる。一方、発光層132が高分子発光材料を含むものである場合は、インクジェット法やスピンコート法等の湿式塗布法により成膜することができる。湿式塗布法によれば、高精度かつ大面積TFT基板110を有する有機EL素子100を少ない工程で安価に製造することができる。   The light emitting layer 132 may include a low molecular light emitting material or a high molecular light emitting material. In the case where the light emitting layer 132 includes a low molecular light emitting material, the light emitting layer 132 can be formed by a method such as a vacuum evaporation method. On the other hand, in the case where the light emitting layer 132 includes a polymer light emitting material, the light emitting layer 132 can be formed by a wet coating method such as an inkjet method or a spin coating method. According to the wet coating method, the organic EL element 100 having the high-precision and large-area TFT substrate 110 can be manufactured at low cost with a small number of steps.

発光層132の材料としては、ポリ(2−デシルオキシ−1、4−フェニレン)(DO−PPP)、ポリ[2、5−ビス−[2−(N,N,N−トリエチルアンモニウム)エトキシ]−1、4−フェニル−アルト−1、4−フェニレン]ジブロマイド(PPP−NEt3+)、ポリ[2−(2’−エチルヘキシルオキシ)−5−メトキシ−1、4−フェニレンビニレン](MEH−PPV)等が挙げられる。 As a material of the light emitting layer 132, poly (2-decyloxy-1,4-phenylene) (DO-PPP), poly [2,5-bis- [2- (N, N, N-triethylammonium) ethoxy]- 1,4-phenyl-alt-1,4-phenylene] dibromide (PPP-NEt 3+ ), poly [2- (2′-ethylhexyloxy) -5-methoxy-1,4-phenylenevinylene] (MEH-PPV) ) And the like.

第2電極160は、補助電極150、発光有機層130、及び壁状絶縁層140の表面全体を覆うように面状に形成されている。第2電極160は発光有機層130に電子を注入する。第2電極160は発光層132の光を透過させるため、第2電極160が高い光透過率を有することが好ましい。光透過率が高く、第2電極160に好適な材料としては、インジウム錫酸化物(ITO)やインジウム亜鉛酸化物(IZO)等が挙げられる。   The second electrode 160 is formed in a planar shape so as to cover the entire surface of the auxiliary electrode 150, the light emitting organic layer 130, and the wall-like insulating layer 140. The second electrode 160 injects electrons into the light emitting organic layer 130. Since the second electrode 160 transmits the light of the light emitting layer 132, the second electrode 160 preferably has a high light transmittance. Examples of a material having high light transmittance and suitable for the second electrode 160 include indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

発光有機層130への高い電子注入効率を実現する観点から、第2電極160を仕事関数の小さな材料により形成することが好ましい。仕事関数が小さい材料としてはカルシウム(Ca)やアルミニウム(Al)等が挙げられる。また、第2電極160を小さな仕事関数を有するカルシウム(Ca)やアルミニウム(Al)からなる金属層と、高い光透過率を有するインジウム錫酸化物(ITO)等からなる透明電極層との積層により構成してもよい。この構成によれば、第2電極160の高い電子注入効率と、高い光透過率を同時に実現することができる。従って、より高輝度な有機EL素子100を実現することができる。   From the viewpoint of realizing high electron injection efficiency into the light emitting organic layer 130, the second electrode 160 is preferably formed of a material having a small work function. Examples of the material having a small work function include calcium (Ca) and aluminum (Al). Further, the second electrode 160 is formed by stacking a metal layer made of calcium (Ca) or aluminum (Al) having a small work function and a transparent electrode layer made of indium tin oxide (ITO) or the like having a high light transmittance. It may be configured. According to this configuration, high electron injection efficiency and high light transmittance of the second electrode 160 can be realized at the same time. Therefore, the organic EL element 100 with higher brightness can be realized.

第2電極160は、金属等からなる極薄の薄膜により形成してもよい。   The second electrode 160 may be formed of an extremely thin thin film made of metal or the like.

尚、本実施形態1において、第2電極160は発光有機層130の表面全体を被覆するように設けられるが、第2電極160を2つ以上の面状電極によって構成してもよい。   In the first embodiment, the second electrode 160 is provided so as to cover the entire surface of the light emitting organic layer 130, but the second electrode 160 may be composed of two or more planar electrodes.

第2電極160は、その下に形成された補助電極150と電気的に接続されている。補助電極150は第2電極160と比べて低い電気抵抗を有する。このため、第2電極160の面抵抗を低下させることができる。従って、第2電極160が電圧降下することによる画像表示ムラの発生を効果的に抑制することができるので、均一な画像表示が可能な有機EL素子100を実現することができる。また、補助電極150により第2電極160の面抵抗を低下させることができるため、駆動電圧の低い有機EL素子100を実現することができる。   The second electrode 160 is electrically connected to the auxiliary electrode 150 formed therebelow. The auxiliary electrode 150 has a lower electrical resistance than the second electrode 160. For this reason, the sheet resistance of the second electrode 160 can be reduced. Therefore, since the occurrence of image display unevenness due to the voltage drop of the second electrode 160 can be effectively suppressed, the organic EL element 100 capable of uniform image display can be realized. Moreover, since the surface resistance of the second electrode 160 can be reduced by the auxiliary electrode 150, the organic EL element 100 having a low driving voltage can be realized.

補助電極150の材料としては低抵抗金属材料等が挙げられる。低抵抗金属材料の具体例としては、銅(Cu)、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、クロム(Cr)、アルミニウム(Al)や銀(Ag)等が挙げられる。   Examples of the material of the auxiliary electrode 150 include a low resistance metal material. Specific examples of the low resistance metal material include copper (Cu), tantalum (Ta), titanium (Ti), chromium (Cr), aluminum (Al), silver (Ag), and the like.

図1に示すように、本実施形態1では補助電極150は壁状絶縁層140の全体の上に設けられている。しかし、本発明は何らこの構成に限定されるものではない。   As shown in FIG. 1, in the first embodiment, the auxiliary electrode 150 is provided on the entire wall-like insulating layer 140. However, the present invention is not limited to this configuration.

図3〜5は、補助電極150の形成例を示す概略平面図である。   3 to 5 are schematic plan views illustrating examples of forming the auxiliary electrode 150.

図3、図4、及び図5に示すように、補助電極150が壁状絶縁層140の一部分に形成されていてもよい。また、図5に示すように、補助電極150が断片的に形成されていてもよい。図3〜5に示した構成によっても、第2電極160の面抵抗を低下することができるので、第2電極160の電圧降下の発生を抑制することができる。   As shown in FIGS. 3, 4, and 5, the auxiliary electrode 150 may be formed on a part of the wall-shaped insulating layer 140. Further, as shown in FIG. 5, the auxiliary electrode 150 may be formed in pieces. 3 to 5 can also reduce the surface resistance of the second electrode 160, so that the voltage drop of the second electrode 160 can be suppressed.

補助電極150を壁状絶縁層140の一部分に形成する場合、補助電極150を形成しない壁状絶縁層140の部分を、補助電極150を形成する壁状絶縁層140の部分よりも幅狭に形成してもよい。言い換えれば、補助電極150が設けられた壁状絶縁層140の部分は補助電極150が設けられていない部分よりも幅広であってもよい。この構成によれば、有機EL素子100のうち、画像表示領域に対する、壁状絶縁層140の占める面積、すなわち、非発光領域の面積の比をより小さくすることができる。従って、より開口率が高く、高輝度な有機EL素子100を実現することができる。   When the auxiliary electrode 150 is formed on a part of the wall-like insulating layer 140, the part of the wall-like insulating layer 140 that does not form the auxiliary electrode 150 is formed to be narrower than the part of the wall-like insulating layer 140 that forms the auxiliary electrode 150. May be. In other words, the portion of the wall-like insulating layer 140 where the auxiliary electrode 150 is provided may be wider than the portion where the auxiliary electrode 150 is not provided. According to this configuration, the ratio of the area occupied by the wall-like insulating layer 140 to the image display area, that is, the area of the non-light-emitting area in the organic EL element 100 can be further reduced. Therefore, the organic EL element 100 having a higher aperture ratio and higher luminance can be realized.

補助電極150が設けられている壁状絶縁層140の部分の幅は補助電極150が設けられていない壁状絶縁層140の部分の幅の2倍以上であることがより好ましい。壁状絶縁層140は、発光有機層130を形成する際に、隣接する発光有機層130が混じり合うことが抑制される。例えば、インクジェット法により発光有機層130を形成する場合、壁状絶縁層140の幅は、一般的に、インク液滴の着弾位置ずれが発生した場合であっても隣接する発光有機層130にインク液滴が混入しないような最低幅に設定されている。従って、補助電極150を形成する壁状絶縁層140の部分の幅を隣接する発光有機層130にインク液滴が混入しないような幅の2倍以上に設定することにより、発光有機層130を形成する際に、インク液滴の着弾位置ずれによって壁状絶縁層140の上の補助電極150がインクによって覆われてしまうことを抑止することができる。よって、補助電極150と第2電極160とが確実に電気的に接続された、製造容易な有機EL素子100を実現することができる。   More preferably, the width of the portion of the wall-like insulating layer 140 where the auxiliary electrode 150 is provided is at least twice the width of the portion of the wall-like insulating layer 140 where the auxiliary electrode 150 is not provided. When the light-emitting organic layer 130 is formed, the wall-shaped insulating layer 140 is prevented from mixing adjacent light-emitting organic layers 130. For example, when the light emitting organic layer 130 is formed by the ink jet method, the width of the wall-like insulating layer 140 is generally set so that the ink does not adhere to the adjacent light emitting organic layer 130 even when the ink droplet landing position shift occurs. The minimum width is set so as not to mix the droplets. Therefore, the light emitting organic layer 130 is formed by setting the width of the portion of the wall-like insulating layer 140 forming the auxiliary electrode 150 to be not less than twice the width so that ink droplets do not enter the adjacent light emitting organic layer 130. In this case, it is possible to prevent the auxiliary electrode 150 on the wall-like insulating layer 140 from being covered with ink due to the deviation of the landing position of the ink droplet. Therefore, the easily manufactured organic EL element 100 in which the auxiliary electrode 150 and the second electrode 160 are reliably electrically connected can be realized.

有機EL素子100が、それぞれ赤色(R)発光、緑色(G)発光、青色(B)発光である副画素(絵素)を有するカラー有機EL素子である場合は、壁状絶縁層140のうち、発光色が赤色(R)である副画素、緑色(G)である副画素、及び青色(B)である副画素により構成される画素を各々に区画する部分の上にのみ補助電極150を設けてもよい。   When the organic EL element 100 is a color organic EL element having sub-pixels (picture elements) that emit red (R) light, green (G) light, and blue (B) light, respectively, The auxiliary electrode 150 is provided only on a portion that divides a pixel composed of a sub-pixel whose emission color is red (R), a sub-pixel that is green (G), and a sub-pixel that is blue (B). It may be provided.

尚、本明細書において、画素は2つ以上の副画素を含むものであり、相互に発光色の異なる3つの副画素で構成されているものに限定されるものではない。ひとつの画素に含まれる2つ以上の副画素のそれぞれは同一の発光色を有するものであってもよい。また、ひとつの画素に含まれる2つ以上の副画素のそれぞれは相互に異なる発光色を有するものであってもよい。例えば、各々発光色が赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、白色(W)である4つによってひとつの画素を構成してもよい。副画素とはひとつの発光有機層130によって構成されるものである。   Note that in this specification, a pixel includes two or more subpixels, and is not limited to one composed of three subpixels having different emission colors. Each of two or more subpixels included in one pixel may have the same emission color. Further, each of two or more sub-pixels included in one pixel may have a different emission color. For example, one pixel may be constituted by four light emission colors of red (R), green (G), blue (B), and white (W). A subpixel is composed of one light emitting organic layer 130.

図6は、壁状絶縁層140のうち、画素を各々に区画する部分の上に補助電極150を設けた場合の有機EL素子100の概略断面図である。   FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the organic EL element 100 when the auxiliary electrode 150 is provided on the portion of the wall-like insulating layer 140 that divides the pixel.

図6に示した構成では、発光色が赤色(R)である発光有機層130Rと、発光色が緑色(G)である発光有機層130Gと、発光色が青色(B)である発光有機層130Bとにより各々の画素が構成されている。そして、画素を各々に区画する部分、すなわち、発光有機層130Rと発光有機層130Bとの間に設けられた壁状絶縁層140aの上にのみ補助電極150が設けられている。発光有機層130Rと発光有機層130Gとの間に設けられた壁状絶縁層140b、及び発光有機層130Gと発光有機層130Bとの間に設けられた壁状絶縁層140bには補助電極150が設けられていない。補助電極150を壁状絶縁層140の全体に形成した場合は、補助電極150を形成しない場合と比べると、プロセス的に制約を受けることが多く、壁状絶縁層140の幅を広げることを余儀なくされることがあり、画素ひとつあたりの発光面積が小さくなる場合がある。しかしながら、この構成によれば、画素ひとつあたりの発光面積が小さくなることを必要最小限に抑えることができる。よって、高輝度な有機EL素子100を実現することができる。尚、図6に示した構成によっても、補助電極150による第2電極160の面抵抗を低減する効果が得られる。   In the configuration shown in FIG. 6, the light emitting organic layer 130 </ b> R whose emission color is red (R), the light emitting organic layer 130 </ b> G whose emission color is green (G), and the light emitting organic layer whose emission color is blue (B). Each pixel is composed of 130B. The auxiliary electrode 150 is provided only on the portion partitioning the pixels, that is, on the wall-like insulating layer 140a provided between the light emitting organic layer 130R and the light emitting organic layer 130B. An auxiliary electrode 150 is provided on the wall-like insulating layer 140b provided between the light-emitting organic layer 130R and the light-emitting organic layer 130G, and on the wall-like insulating layer 140b provided between the light-emitting organic layer 130G and the light-emitting organic layer 130B. Not provided. When the auxiliary electrode 150 is formed on the entire wall-like insulating layer 140, the process is often more restricted than when the auxiliary electrode 150 is not formed, and the width of the wall-like insulating layer 140 must be increased. In some cases, the emission area per pixel may be small. However, according to this configuration, it is possible to minimize the reduction in the light emission area per pixel. Therefore, a high-brightness organic EL element 100 can be realized. Note that the configuration shown in FIG. 6 also has the effect of reducing the surface resistance of the second electrode 160 by the auxiliary electrode 150.

補助電極150を発光面積が最も小さい発光有機層130に隣接する壁状絶縁層140の部分の上に設けてもよい。具体的には、発光有機層130Gと発光有機層130Rとの間に設けられた壁状絶縁層140の部分の上に補助電極150を設けてもよい。尚、発光効率、色度、寿命特性の相互関係を考慮した場合、発光有機層130Gが最も小さい発光面積になり、次に発光有機層130Rが小さな発光面積になる。   You may provide the auxiliary electrode 150 on the part of the wall-shaped insulating layer 140 adjacent to the light emitting organic layer 130 with the smallest light emission area. Specifically, the auxiliary electrode 150 may be provided on a portion of the wall-like insulating layer 140 provided between the light emitting organic layer 130G and the light emitting organic layer 130R. In consideration of the correlation among the light emission efficiency, chromaticity, and life characteristics, the light emitting organic layer 130G has the smallest light emitting area, and the light emitting organic layer 130R has the next smallest light emitting area.

図7は発光有機層130Gと発光有機層130Rとの間に設けられた壁状絶縁層140aの上に補助電極150を設けた場合の有機EL素子100の概略断面図である。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the organic EL element 100 when the auxiliary electrode 150 is provided on the wall-like insulating layer 140a provided between the light emitting organic layer 130G and the light emitting organic layer 130R.

一般的に、発光材料のうち発光色が緑色(G)である発光材料が最も発光効率が高く、発光色が赤色(R)である発光材料が最も発光輝度が低い。発光色が青色(B)である発光材料は発光色が緑色(G)である発光材料の発光輝度と発光色が赤(R)である発光材料の発光輝度との間の発光輝度を有する。このため、赤色(R)の発光材料を含む発光有機層130R、緑色(G)の発光材料を含む発光有機層130G、青色(B)の発光材料を含む発光有機層130Bのそれぞれが同じ発光面積を有する有機EL素子では、すべての発光有機層130を同一輝度で発光させる場合、発光有機層130Rに他の発光有機層130G、130Bよりも大きな電流を流す必要がある。一方、素子寿命に関しては、発光有機層130Bが最も輝度減衰率が速い。このため、経時的に色バランスが変化し、表示画像に色ずれが発生する。   In general, among the luminescent materials, the luminescent material whose emission color is green (G) has the highest luminous efficiency, and the luminescent material whose emission color is red (R) has the lowest emission luminance. The light emitting material whose emission color is blue (B) has an emission luminance between the emission luminance of the light emitting material whose emission color is green (G) and the emission luminance of the light emitting material whose emission color is red (R). Therefore, each of the light emitting organic layer 130R including the red (R) light emitting material, the light emitting organic layer 130G including the green (G) light emitting material, and the light emitting organic layer 130B including the blue (B) light emitting material has the same light emitting area. In the organic EL element having the above, when all the light emitting organic layers 130 emit light with the same luminance, it is necessary to pass a larger current through the light emitting organic layer 130R than the other light emitting organic layers 130G and 130B. On the other hand, regarding the element lifetime, the light emitting organic layer 130B has the fastest luminance attenuation rate. For this reason, the color balance changes with time, and a color shift occurs in the display image.

そこで、発光有機層130Bを最も大きな発光面積とし、発光有機層130Gを最も小さな発光面積とすることによって、発光有機層130R,130Gに対する発光有機層130Bの相対的劣化速度を低減することができる。言い換えれば、発光有機層130R、130G、130Bの各々の輝度減衰速度を略同一にすることができる。このため、表示画像の色バランスが経時的に変化しにくく、製品寿命の長い有機EL素子100を実現することができる。
発光有機層130Bを最も大きな発光面積とし、発光有機層130Gを最も小さな発光面積とした場合、TFT基板110の設計上の制約から、発光面積の小さな発光有機層130Gと発光有機層130Rとの間の非発光領域が相対的に幅広になることがある。そこで、発光有機層130Gと発光有機層130Rとの間の幅の広い非発光領域に幅広の壁状絶縁層140を形成し、その上に補助電極150を形成することによって、開口率をほとんど犠牲にすることなく補助電極150を設けることができる。よって、この構成によれば、表示画像の色バランスが経時的に変化しにくく、製品寿命が長く、かつ、開口率が高い、高輝度な有機EL素子100を実現することができる。
Therefore, the relative deterioration rate of the light emitting organic layer 130B with respect to the light emitting organic layers 130R and 130G can be reduced by setting the light emitting organic layer 130B to the largest light emitting area and the light emitting organic layer 130G to the smallest light emitting area. In other words, the luminance decay rates of the light emitting organic layers 130R, 130G, and 130B can be made substantially the same. Therefore, it is possible to realize the organic EL element 100 having a long product life because the color balance of the display image hardly changes over time.
When the light emitting organic layer 130B has the largest light emitting area and the light emitting organic layer 130G has the smallest light emitting area, the light emitting organic layer 130G having a small light emitting area is disposed between the light emitting organic layer 130R due to design restrictions of the TFT substrate 110. In some cases, the non-light emitting region of the light emitting device becomes relatively wide. Therefore, a wide wall-like insulating layer 140 is formed in a wide non-light-emitting region between the light-emitting organic layer 130G and the light-emitting organic layer 130R, and an auxiliary electrode 150 is formed thereon, so that the aperture ratio is almost sacrificed. The auxiliary electrode 150 can be provided without the need for the above. Therefore, according to this configuration, it is possible to realize a high-luminance organic EL element 100 in which the color balance of the display image hardly changes with time, the product life is long, and the aperture ratio is high.

以下、有機EL素子100の製造方法について説明する。   Hereinafter, a method for manufacturing the organic EL element 100 will be described.

図8は有機EL素子100の製造工程の一部を表すフォローチャートである。   FIG. 8 is a follow chart showing a part of the manufacturing process of the organic EL element 100.

まず、絶縁基板111の上にソース電極112、ゲート電極113、TFT114、及び平坦化膜115を形成する。ソース電極112、ゲート電極113、TFT114、及び平坦化膜115の成膜方法及びパターニング方法は限定されない。平坦化膜115の上に、アルミニウム(Al)等の導電性材料を、スパッタ法等により成膜する。成膜した導電膜をフォトリゾグラフィー技術等により所望の形状にパターニングすることにより第1電極120を形成する(ステップ1)。発光有機層130を湿式塗布法(インクジェット法、スピンコート法等)により形成する場合は、UV/O処理等により、第1電極120の表面を親液化(インクジェット法等に用いる有機溶媒に馴染みやすく)しておくことが好ましい(ステップ2)。親液化しておくことによって、第1電極120と発光有機層130との親和性が向上し、より均一な発光有機層130を形成することができる。従って、欠損の少ない有機EL素子100を実現することができる。 First, the source electrode 112, the gate electrode 113, the TFT 114, and the planarization film 115 are formed over the insulating substrate 111. The deposition method and patterning method of the source electrode 112, the gate electrode 113, the TFT 114, and the planarization film 115 are not limited. A conductive material such as aluminum (Al) is formed over the planarization film 115 by a sputtering method or the like. The first electrode 120 is formed by patterning the formed conductive film into a desired shape using a photolithographic technique or the like (step 1). When the light-emitting organic layer 130 is formed by a wet coating method (inkjet method, spin coating method, etc.), the surface of the first electrode 120 is made lyophilic (according to the organic solvent used for the inkjet method etc.) by UV / O 3 treatment or the like. (Step 2). By making it lyophilic, the affinity between the first electrode 120 and the light emitting organic layer 130 is improved, and a more uniform light emitting organic layer 130 can be formed. Therefore, the organic EL element 100 with few defects can be realized.

第1電極120を形成したTFT基板110上に、壁状絶縁層140を形成する(ステップ3)。壁状絶縁層140は、例えば以下に示す方法により形成することができる。まず、スピンコート法等を用いて、感光性ポリイミド等からなる薄膜を成膜する。形成したポリイミド等の薄膜を、フォトレジスト塗布、プリベーク、露光、現像、ポストベーク、エッチング、及び、フォトレジスト剥離という一連のフォトレジスト工程により所望の形状にパターニングすることにより壁状絶縁層140を形成することができる。発光有機層130をインクジェット法やスピンコート法等の有機溶媒を用いた湿式塗布法により形成する場合は、例えば、壁状絶縁層140をフッ素やシリコン系の添加物をドープした、發液性を有する材料により形成することが好ましい。壁状絶縁層140を發液性材料により形成するかわりに、壁状絶縁層140の表面を發液化する処理(発光有機層130の材料を含んだ液体(インク)をはじく性質を付与する処理)を行ってもよい。發液化処理としては、酸素プラズマ処理、4フッ化炭素プラズマ処理等が挙げられる。このように壁状絶縁層140の表面を發液性にしておくことによって、発光有機層130の材料を含んだインク液滴の着弾位置ずれを効果的に防止することができる。   A wall-like insulating layer 140 is formed on the TFT substrate 110 on which the first electrode 120 is formed (step 3). The wall-like insulating layer 140 can be formed by the following method, for example. First, a thin film made of photosensitive polyimide or the like is formed using a spin coating method or the like. The wall-like insulating layer 140 is formed by patterning the formed thin film of polyimide or the like into a desired shape by a series of photoresist processes such as photoresist coating, pre-baking, exposure, development, post-baking, etching, and photoresist peeling. can do. In the case where the light emitting organic layer 130 is formed by a wet coating method using an organic solvent such as an ink jet method or a spin coating method, for example, the wall-like insulating layer 140 is doped with fluorine or a silicon-based additive and has a liquid-repellent property. It is preferable to form with the material which has. Instead of forming the wall-like insulating layer 140 from a lyophobic material, a process for liquefying the surface of the wall-like insulating layer 140 (a process for imparting the property of repelling the liquid (ink) containing the material of the light-emitting organic layer 130) May be performed. Examples of the liquefaction treatment include oxygen plasma treatment and carbon tetrafluoride plasma treatment. Thus, by making the surface of the wall-like insulating layer 140 liquid-repellent, it is possible to effectively prevent the landing position deviation of the ink droplets containing the material of the light-emitting organic layer 130 from being effectively prevented.

壁状絶縁層140の上に補助電極150を形成する。補助電極150は、例えば、スパッタ法等により形成することができる。壁状絶縁層140によりマトリクス状に区画されたそれぞれの第1電極120上に、湿式塗布法(インクジェット法、スピンコート法等)を用いて、ホール輸送層131及び発光層132をそれぞれ成膜することにより、発光有機層130を形成する。発光有機層130をインクジェット法やスピンコート法等の湿式塗布法を用いて形成することにより、比較的少ない製造工程で安価に発光有機層130を形成することができる。   An auxiliary electrode 150 is formed on the wall-like insulating layer 140. The auxiliary electrode 150 can be formed by sputtering, for example. A hole transport layer 131 and a light-emitting layer 132 are formed on each first electrode 120 partitioned in a matrix by the wall-shaped insulating layer 140 by using a wet coating method (inkjet method, spin coating method, etc.). Thus, the light emitting organic layer 130 is formed. By forming the light emitting organic layer 130 using a wet coating method such as an ink jet method or a spin coating method, the light emitting organic layer 130 can be formed at a low cost with a relatively small number of manufacturing steps.

湿式塗布法を用いて発光有機層130を形成する場合、具体的には発光有機層130の原料を含むインクを塗布する工程(ステップ4)及び塗布したインクを乾燥させる工程(ステップ5)を行う。以下、詳細に発光有機層130の形成工程を説明する。まず、ホール輸送層131の原料を含むインクを第1電極120上に塗布する(ステップ4)。塗布したインクを乾燥させることによってホール輸送層131を形成する(ステップ5)。次に、ホール輸送層131の上に、発光層132の原料を含むインクを塗布する(ステップ4)。塗布したインクを乾燥させることによって発光層132を形成する(ステップ5)。   When the light-emitting organic layer 130 is formed using the wet coating method, specifically, a step of applying an ink containing a raw material of the light-emitting organic layer 130 (step 4) and a step of drying the applied ink (step 5) are performed. . Hereinafter, the formation process of the light emitting organic layer 130 will be described in detail. First, an ink containing the material for the hole transport layer 131 is applied on the first electrode 120 (step 4). The hole transport layer 131 is formed by drying the applied ink (step 5). Next, an ink containing a material for the light emitting layer 132 is applied on the hole transport layer 131 (step 4). The light emitting layer 132 is formed by drying the applied ink (step 5).

発光有機層130の表面全体を被覆するように第2電極160を形成する。第2電極160はスパッタ法等により形成することができる。   The second electrode 160 is formed so as to cover the entire surface of the light emitting organic layer 130. The second electrode 160 can be formed by a sputtering method or the like.

図9は有機EL素子100を備えた有機EL表示装置Dの模式図である。   FIG. 9 is a schematic diagram of an organic EL display device D including the organic EL element 100.

上述のように、有機EL素子100は、高輝度かつ輝度ムラの少ない画像表示が可能であり、少ない製造工程により安価に製造することができるものである。従って、有機EL素子100を用いた有機EL表示装置Dもまた、高輝度かつ輝度ムラの少ない画像表示が可能であり、少ない製造工程により安価に製造することができる。   As described above, the organic EL element 100 can display an image with high luminance and little luminance unevenness, and can be manufactured at low cost by a small number of manufacturing steps. Therefore, the organic EL display device D using the organic EL element 100 can also display an image with high luminance and little luminance unevenness, and can be manufactured at low cost with a small number of manufacturing steps.

(実施形態2)
実施形態2に係る有機EL素子200は、補助電極のパターン及び画素の構成を除いては実施形態1に係る有機EL素子100と同様の構成を有する。ここでは、実施形態2に係る有機EL素子200の補助電極パターン及び画素Pの構成について、図面を参照しながら詳細に説明する。
(Embodiment 2)
The organic EL element 200 according to the second embodiment has the same configuration as the organic EL element 100 according to the first embodiment except for the pattern of the auxiliary electrode and the configuration of the pixels. Here, the configuration of the auxiliary electrode pattern and the pixel P of the organic EL element 200 according to Embodiment 2 will be described in detail with reference to the drawings.

図10は本実施形態2に係る有機EL素子200の構成を表す平面図である。   FIG. 10 is a plan view showing the configuration of the organic EL element 200 according to the second embodiment.

有機EL素子200は、発光色が青色(B)の発光有機層230Bと、発光色が赤色(R)の発光有機層230Rと、発光色が緑色(G)の発光有機層230Gとを有する。発光有機層230B、230R、230G中、発光有機層230Bの発光面積が最も大きく、発光有機層230Gの発光面積が最も小さい。発光有機層230Rの発光面積は発光有機層230Bの発光面積よりも小さく、発光有機層230Gの発光面積よりも大きい。例えば、各色の発光材料の特性等を考慮した上で、発光有機層630Gの発光面積S、発光有機層630Rの発光面積S、発光有機層630Bの発光面積Sの比、S:S:Sを1:2:10とすることができる。 The organic EL element 200 includes a light emitting organic layer 230B whose emission color is blue (B), a light emitting organic layer 230R whose emission color is red (R), and a light emitting organic layer 230G whose emission color is green (G). Among the light emitting organic layers 230B, 230R, and 230G, the light emitting organic layer 230B has the largest light emitting area, and the light emitting organic layer 230G has the smallest light emitting area. The light emitting area of the light emitting organic layer 230R is smaller than the light emitting area of the light emitting organic layer 230B and larger than the light emitting area of the light emitting organic layer 230G. For example, in consideration of the characteristics of each color of light emitting material, the light emitting area S G of the light-emitting organic layer 630G, light-emitting area S R of the light-emitting organic layer 630R, the ratio of the light emission area S B of the light-emitting organic layer 630B, S G: S R : S B can be 1: 2: 10.

上述のように、一般的に、発光材料のうち発光色が緑色(G)である発光材料が最も発光効率が高く、発光色が赤色(R)である発光材料が最も発光輝度が低い。また、素子寿命に関しては、発光有機層230Bが最も輝度減衰率が速い。このため、経時的に色バランスが変化し、表示画像に色ずれが発生する。   As described above, in general, among the light emitting materials, the light emitting material whose emission color is green (G) has the highest emission efficiency, and the light emission material whose emission color is red (R) has the lowest emission luminance. Regarding the element lifetime, the light emitting organic layer 230B has the fastest luminance decay rate. For this reason, the color balance changes with time, and a color shift occurs in the display image.

本実施形態2に係る有機EL素子200のように、発光色によって発光有機層230の発光寿命(輝度減衰速度)及び発光効率が異なることを考慮して、本実施形態2に係る有機EL素子200のように発光有機層230B、230R、230Gのそれぞれの発光面積を異ならしめることによって、経時的な色バランスの変化が抑制され、製品寿命の長い有機EL素子200を実現することができる。特に、各色の発光材料の特性を考慮すると、本実施形態3のように、発光有機層230Bの発光面積を最大とし、発光有機層230Gの発光面積を最小とすることが好ましい。   Considering that the light emission lifetime (luminance decay rate) and the light emission efficiency of the light emitting organic layer 230 are different depending on the emission color as in the organic EL element 200 according to the second embodiment, the organic EL element 200 according to the second embodiment. As described above, by making the light emitting areas of the light emitting organic layers 230B, 230R, and 230G different, the change in color balance with time can be suppressed, and the organic EL element 200 having a long product life can be realized. In particular, in consideration of the characteristics of the light emitting materials of the respective colors, it is preferable to maximize the light emitting area of the light emitting organic layer 230B and minimize the light emitting area of the light emitting organic layer 230G as in the third embodiment.

有機EL素子200では、各々の画素Pが、発光有機層230B、230R、230Gを各々ひとつずつ備えている。ひとつの画素P内において、発光有機層230Bは発光有機層230R及び発光有機層230Gに隣接しており、発光有機層230Gは発光有機層230R及び発光有機層230Bに隣接している。言い換えれば、発光有機層230B、230R、230Gが略デルタ配列されている。本明細書において、「略デルタ配列」とは3つの発光領域の重心が三角形を形成する配列をいう。   In the organic EL element 200, each pixel P includes one light emitting organic layer 230B, 230R, and 230G. In one pixel P, the light emitting organic layer 230B is adjacent to the light emitting organic layer 230R and the light emitting organic layer 230G, and the light emitting organic layer 230G is adjacent to the light emitting organic layer 230R and the light emitting organic layer 230B. In other words, the light emitting organic layers 230B, 230R, and 230G are substantially delta arranged. In this specification, “substantially delta arrangement” refers to an arrangement in which the centers of gravity of three light emitting regions form a triangle.

図10に示す有機EL素子200の場合、TFT基板の設計上の制約(特にスルーホールの位置的制約)から、発光面積が最も小さい発光有機層230Gの周辺に相対的に幅広の間隔が生じることがある。具体的には、発光有機層230Bと発光有機層230R及び230Gとの間に相対的に幅広の間隔が生じることがある。本実施形態2に係る有機EL素子200では、その幅広部分に設ける壁状絶縁層の幅を他の部分と比べて相対的に広くしている。そして、その壁状絶縁層の幅広部分に補助電極250を設けている。このような構成にすることによって、開口率をほとんど低下させることなく、補助電極250を設けることができる。従って、高輝度であり、表示ムラの少ない有機EL素子200を実現することができる。   In the case of the organic EL element 200 shown in FIG. 10, a relatively wide space is generated around the light emitting organic layer 230G having the smallest light emitting area due to the restrictions on the design of the TFT substrate (particularly the positional restrictions on the through holes). There is. Specifically, a relatively wide space may occur between the light emitting organic layer 230B and the light emitting organic layers 230R and 230G. In the organic EL element 200 according to the second embodiment, the width of the wall-like insulating layer provided in the wide portion is relatively wide as compared with other portions. And the auxiliary electrode 250 is provided in the wide part of the wall-shaped insulating layer. With such a configuration, the auxiliary electrode 250 can be provided with almost no decrease in the aperture ratio. Accordingly, it is possible to realize the organic EL element 200 having high luminance and little display unevenness.

(実施形態3)
実施形態3に係る有機EL素子300は、補助電極のパターン及び画素の構成を除いては実施形態1に係る有機EL素子100と同様の構成を有する。ここでは、実施形態3に係る有機EL素子300の補助電極パターン及び画素Pの構成について、図面を参照しながら詳細に説明する。
(Embodiment 3)
The organic EL element 300 according to the third embodiment has the same configuration as the organic EL element 100 according to the first embodiment except for the pattern of the auxiliary electrode and the configuration of the pixels. Here, the configuration of the auxiliary electrode pattern and the pixel P of the organic EL element 300 according to Embodiment 3 will be described in detail with reference to the drawings.

図11は本実施形態3に係る有機EL素子300の構成を表す平面図である。   FIG. 11 is a plan view showing the configuration of the organic EL element 300 according to the third embodiment.

有機EL素子300は、発光色が青色(B)の発光有機層330Bと、発光色が赤色(R)の発光有機層330Rと、発光色が緑色(G)の発光有機層330Gとを有する。発光有機層330B、330R、330G中、発光有機層330Bの発光面積が最も大きく、発光有機層330Gの発光面積が最も小さい。発光有機層330Rの発光面積は発光有機層330Bの発光面積よりも小さく、発光有機層330Gの発光面積よりも大きい。このため、本実施形態3に係る有機EL素子300は経時的な色バランスの変化が少なく、長い製品寿命を有する。   The organic EL element 300 includes a light emitting organic layer 330B whose emission color is blue (B), a light emitting organic layer 330R whose emission color is red (R), and a light emitting organic layer 330G whose emission color is green (G). Among the light emitting organic layers 330B, 330R, and 330G, the light emitting organic layer 330B has the largest light emitting area, and the light emitting organic layer 330G has the smallest light emitting area. The light emitting area of the light emitting organic layer 330R is smaller than the light emitting area of the light emitting organic layer 330B and larger than the light emitting area of the light emitting organic layer 330G. For this reason, the organic EL element 300 according to Embodiment 3 has little change in color balance over time, and has a long product life.

有機EL素子300では、各々の画素Pが、発光有機層330B、330R、330Gを各々ひとつずつ備えている。ひとつの画素P内において、発光有機層330B、330R、330Gが略デルタ配列されている
図11に示す有機EL素子300の場合、TFT基板の設計上の制約(特にスルーホールの位置的制約)から、発光面積が最も小さい発光有機層330Gの周辺に相対的に幅広の間隔が生じることがある。本実施形態3に係る有機EL素子300では、発光有機層330Gと発光有機層330Rとの間、及び発光有機層330Gと発光有機層330Bとの間に補助電極350が設けられている。このような構成にすることによって、開口率をほとんど低下させることなく、補助電極350を設けることができる。従って、高輝度であり、表示ムラの少ない有機EL素子300を実現することができる。
In the organic EL element 300, each pixel P includes one light emitting organic layer 330B, 330R, 330G. In one pixel P, the light emitting organic layers 330B, 330R, and 330G are arranged in a substantially delta arrangement. In the case of the organic EL element 300 shown in FIG. 11, due to restrictions on the design of the TFT substrate (especially, positional restrictions on the through holes). A relatively wide interval may occur around the light emitting organic layer 330G having the smallest light emitting area. In the organic EL element 300 according to Embodiment 3, auxiliary electrodes 350 are provided between the light emitting organic layer 330G and the light emitting organic layer 330R and between the light emitting organic layer 330G and the light emitting organic layer 330B. With such a configuration, the auxiliary electrode 350 can be provided with almost no decrease in the aperture ratio. Therefore, it is possible to realize the organic EL element 300 with high luminance and little display unevenness.

尚、本実施形態3では、複数の補助電極350が断片的に形成されているが、この場合であっても第2電極(上部共通電極)の面抵抗を低下させる効果が得られる。   In the third embodiment, the plurality of auxiliary electrodes 350 are formed in pieces. However, even in this case, the effect of reducing the surface resistance of the second electrode (upper common electrode) can be obtained.

(実施形態4)
実施形態4に係る有機EL素子400は、補助電極のパターン及び画素の構成を除いては実施形態1に係る有機EL素子100と同様の構成を有する。ここでは、実施形態4に係る有機EL素子400の補助電極パターン及び画素Pの構成について、図面を参照しながら詳細に説明する。
(Embodiment 4)
The organic EL element 400 according to the fourth embodiment has the same configuration as that of the organic EL element 100 according to the first embodiment except for the pattern of the auxiliary electrode and the configuration of the pixels. Here, the configuration of the auxiliary electrode pattern and the pixel P of the organic EL element 400 according to Embodiment 4 will be described in detail with reference to the drawings.

図12は本実施形態4に係る有機EL素子400の構成を表す平面図である。   FIG. 12 is a plan view showing the configuration of the organic EL element 400 according to the fourth embodiment.

有機EL素子400は、発光色が青色(B)の発光有機層430Bと、発光色が赤色(R)の発光有機層430Rと、発光色が緑色(G)の発光有機層430Gとを有する。発光有機層430B、430R、430G中、発光有機層430Bの発光面積が最も大きく、発光有機層430Gの発光面積が最も小さい。発光有機層430Rの発光面積は発光有機層430Bの発光面積よりも小さく、発光有機層430Gの発光面積よりも大きい。このため、本実施形態4に係る有機EL素子400は経時的な色バランスの変化が少なく、長い製品寿命を有する。   The organic EL element 400 includes a light emitting organic layer 430B whose emission color is blue (B), a light emitting organic layer 430R whose emission color is red (R), and a light emitting organic layer 430G whose emission color is green (G). Among the light emitting organic layers 430B, 430R, and 430G, the light emitting organic layer 430B has the largest light emitting area, and the light emitting organic layer 430G has the smallest light emitting area. The light emitting area of the light emitting organic layer 430R is smaller than the light emitting area of the light emitting organic layer 430B and larger than the light emitting area of the light emitting organic layer 430G. For this reason, the organic EL element 400 according to Embodiment 4 has little change in color balance over time, and has a long product life.

有機EL素子400では、各々の画素Pが、発光有機層430B、430R、430Gを各々ひとつずつ備えている。ひとつの画素P内において、発光有機層430B、430R、430Gがストライプ配列されている。具体的には、それぞれ細長形状に形成された発光有機層430B、430R、430Gが相互に並行に配列されている。   In the organic EL element 400, each pixel P includes one light emitting organic layer 430B, 430R, and 430G. In one pixel P, the light emitting organic layers 430B, 430R, and 430G are arranged in stripes. Specifically, the light emitting organic layers 430B, 430R, and 430G formed in an elongated shape are arranged in parallel to each other.

図12に示す有機EL素子400の場合、TFT基板の設計上の制約(特にスルーホールの位置的制約)から、発光面積が最も小さい発光有機層430Gの周辺に相対的に幅広の間隔が生じることがある。具体的には、発光有機層430Gと発光有機層430Rとの間に相対的に幅広の間隔が生じることがある。本実施形態4に係る有機EL素子400では、その幅広部分に設ける壁状絶縁層の幅を他の部分と比べて相対的に広くしている。そして、その壁状絶縁層の幅広部分に補助電極450を設けている。このような構成にすることによって、開口率をほとんど低下させることなく、補助電極450を設けることができる。従って、高輝度であり、表示ムラの少ない有機EL素子400を実現することができる。   In the case of the organic EL element 400 shown in FIG. 12, a relatively wide space is generated around the light emitting organic layer 430G having the smallest light emitting area due to the restrictions on the design of the TFT substrate (particularly the positional restrictions on the through holes). There is. Specifically, a relatively wide space may be generated between the light emitting organic layer 430G and the light emitting organic layer 430R. In the organic EL element 400 according to the fourth embodiment, the width of the wall-like insulating layer provided in the wide portion is relatively wide as compared with other portions. And the auxiliary electrode 450 is provided in the wide part of the wall-shaped insulating layer. With such a configuration, the auxiliary electrode 450 can be provided with almost no decrease in the aperture ratio. Therefore, it is possible to realize the organic EL element 400 with high luminance and little display unevenness.

以上、実施形態1〜4として補助電極の種々のパターンについて説明したが、これらは一例であって、本発明は何らこれらの構成に限定されるものではない。   As mentioned above, although various patterns of the auxiliary electrode have been described as the first to fourth embodiments, these are merely examples, and the present invention is not limited to these configurations.

(実施形態5)図13は実施形態5に係る有機EL素子500の概略断面図である。   Embodiment 5 FIG. 13 is a schematic sectional view of an organic EL element 500 according to Embodiment 5.

本実施形態5に係る有機EL素子500は、実施形態1に係る有機EL素子100の補助電極150と第2電極160との間にさらに發液層が設けられた構成となっている。   The organic EL element 500 according to the fifth embodiment has a configuration in which a liquid crystal layer is further provided between the auxiliary electrode 150 and the second electrode 160 of the organic EL element 100 according to the first embodiment.

具体的には、有機EL素子500は、TFT基板510と、TFT基板510上に所定配列で(例えば、マトリクス状に)配設された複数の第1電極520と、複数の第1電極520をそれぞれに区画する壁状絶縁層540と、第1電極520のそれぞれの上に設けられた発光有機層530と、壁状絶縁層540の上に設けられた補助電極550と、補助電極550を被覆する發液層570と、發液層570、壁状絶縁層540、及び発光有機層530の表面全体を被覆するように設けられ、スルーホール571を経由して補助電極550に電気的に接続された第2電極560とを備えている。発光有機層530はホール輸送層531と発光層532とを有する。第2電極560は発光層532の光を透過させる。   Specifically, the organic EL element 500 includes a TFT substrate 510, a plurality of first electrodes 520 arranged in a predetermined arrangement (for example, in a matrix) on the TFT substrate 510, and a plurality of first electrodes 520. Each of the wall-shaped insulating layers 540 partitioned, the light emitting organic layer 530 provided on each of the first electrodes 520, the auxiliary electrode 550 provided on the wall-shaped insulating layer 540, and the auxiliary electrode 550 are covered. The soot layer 570, the soot layer 570, the wall-like insulating layer 540, and the light emitting organic layer 530 are provided so as to cover the entire surface, and are electrically connected to the auxiliary electrode 550 through the through hole 571. The second electrode 560 is provided. The light emitting organic layer 530 includes a hole transport layer 531 and a light emitting layer 532. The second electrode 560 transmits the light of the light emitting layer 532.

TFT基板510は、絶縁基板511と、所定配列で配設された複数の第1電極520のそれぞれに接続されたTFT514と、TFT514に電気的に接続されたソース電極512及びゲート電極513と、TFT基板510の発光有機層530側を平坦にする平坦化膜515とを有する。   The TFT substrate 510 includes an insulating substrate 511, a TFT 514 connected to each of the plurality of first electrodes 520 arranged in a predetermined arrangement, a source electrode 512 and a gate electrode 513 electrically connected to the TFT 514, and a TFT A flattening film 515 for flattening the light-emitting organic layer 530 side of the substrate 510.

發液層570は發液性を有する。このため、例えば、インクジェット法により発光有機層530を形成する際に、インク液滴の着弾ずれが起こり、發液層570の上にインク液滴が着弾した場合であっても、所望の位置に滑り落ちる。よって、インク液滴が發液層570の上に残留することが抑止される。従って、本実施形態5では、補助電極550と第2電極560との確実な電気的接続を確保することができる。   The liquid smoke layer 570 has liquid repellency. For this reason, for example, when the light emitting organic layer 530 is formed by the inkjet method, the landing deviation of the ink droplets occurs, and even when the ink droplets land on the liquid droplet layer 570, the desired position can be obtained. Slide down. Therefore, the ink droplets are prevented from remaining on the liquid smoke layer 570. Therefore, in the fifth embodiment, a reliable electrical connection between the auxiliary electrode 550 and the second electrode 560 can be ensured.

發液層570の材料としては、例えばフッ素やシリコン系の材料をドープしたポリイミド樹脂等が挙げられる。   Examples of the material of the liquid smoke layer 570 include a polyimide resin doped with fluorine or a silicon-based material.

また、スピンコート法等を用いて、發液性を有さない膜を形成した後、その膜に發液処理を行うことによって發液性の發液層570を形成してもよい。發液処理としては、例えば酸素プラズマ処理、4フッ素プラズマ処理等が挙げられる。酸素プラズマ処理と4フッ素プラズマ処理とを併用してもよい。   Alternatively, after forming a film having no liquid-repelling property using a spin coating method or the like, the liquid-liquid liquid-repelling layer 570 may be formed by performing a liquid-liquid treatment on the film. Examples of the soot treatment include oxygen plasma treatment and tetrafluorine plasma treatment. Oxygen plasma treatment and 4-fluorine plasma treatment may be used in combination.

先に形成した補助電極550の表面に酸素プラズマ処理、4フッ素プラズマ処理等の發液処理を施すことにより補助電極550の表層に發液層570を形成してもよい。   The liquid crystal layer 570 may be formed on the surface layer of the auxiliary electrode 550 by subjecting the surface of the auxiliary electrode 550 formed earlier to liquid crystal treatment such as oxygen plasma treatment or tetrafluorine plasma treatment.

尚、發液層570を単分子層としてもよい。単分子層は非常に薄く、電気導電性を有する。このため、単分子層により發液層570を構成した場合は、發液層570にスルーホール571を設けることなく、補助電極550と第2電極560とを電気的に接続をすることができる。従って、より製造が容易な有機EL素子500を実現することができる。   The liquid smoke layer 570 may be a monomolecular layer. Monolayers are very thin and have electrical conductivity. Therefore, when the liquid crystal layer 570 is formed of a monomolecular layer, the auxiliary electrode 550 and the second electrode 560 can be electrically connected without providing the through hole 571 in the liquid crystal layer 570. Accordingly, it is possible to realize the organic EL element 500 that is easier to manufacture.

尚、単分子層の材料としてはステアリン酸等が挙げられる。   In addition, a stearic acid etc. are mentioned as a material of a monomolecular layer.

実施形態1に係る有機EL素子の概略平面図である。1 is a schematic plan view of an organic EL element according to Embodiment 1. FIG. 図1中の切り出し線II−IIによって切り出された部分の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the part cut out by the cutting line II-II in FIG. 補助電極の形成例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the example of formation of an auxiliary electrode. 補助電極の形成例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the example of formation of an auxiliary electrode. 補助電極の形成例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the example of formation of an auxiliary electrode. 壁状絶縁層のうち、画素を各々に区画する部分の上に補助電極を設けた場合の有機EL素子の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the organic EL element at the time of providing an auxiliary electrode on the part which divides a pixel into each in a wall-like insulating layer. 発光有機層と発光有機層との間に設けられた壁状絶縁層の上に補助電極を設けた場合の有機EL素子の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the organic EL element at the time of providing an auxiliary electrode on the wall-shaped insulating layer provided between the light emitting organic layer and the light emitting organic layer. 有機EL素子の製造工程の一部を表すフォローチャートである。It is a follow chart showing a part of manufacturing process of an organic EL element. 有機EL素子を備えた有機EL表示装置Dの模式図である。It is a schematic diagram of the organic EL display apparatus D provided with the organic EL element. 本実施形態2に係る有機EL素子の構成を表す平面図である。It is a top view showing the structure of the organic EL element which concerns on this Embodiment 2. FIG. 本実施形態3に係る有機EL素子の構成を表す平面図である。It is a top view showing the structure of the organic EL element which concerns on this Embodiment 3. FIG. 本実施形態4に係る有機EL素子の構成を表す平面図である。It is a top view showing the structure of the organic EL element which concerns on this Embodiment 4. 実施形態5に係る有機EL素子の概略断面図である。7 is a schematic cross-sectional view of an organic EL element according to Embodiment 5. FIG. 従来の有機EL素子の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the conventional organic EL element.

符号の説明Explanation of symbols

100、200、300、400、500、600 有機EL素子
110、510 TFT基板
111、511 絶縁基板
112、512 ソース電極
113、513 ゲート電極
114、514 TFT
115、515 平坦化膜
117 ゲート絶縁膜
118 島状半導体
119 TFT電極
120、520、620 第1電極
130、230、330、430、530、630 発光有機層
131、531、631 ホール輸送層
132、532、632 発光層
140、540、640 壁状絶縁層
150、250、350、450、550、650 補助電極
160、560 第2電極
570 發液層
571、680 スルーホール
100, 200, 300, 400, 500, 600 Organic EL element
110, 510 TFT substrate
111,511 Insulating substrate
112, 512 Source electrode
113, 513 Gate electrode
114, 514 TFT
115, 515 Planarization film
117 Gate insulation film
118 Island Semiconductor
119 TFT electrode
120, 520, 620 First electrode
130, 230, 330, 430, 530, 630 Light-emitting organic layer
131, 531, 631 Hole transport layer
132, 532, 632 Light emitting layer
140, 540, 640 Wall insulation layer
150, 250, 350, 450, 550, 650 Auxiliary electrode
160, 560 Second electrode
570 Liquid layer
571, 680 Through hole

Claims (9)

基板と、
上記基板上にマトリクス状に配列された複数の第1電極と、
上記基板上に設けられ、上記複数の第1電極をそれぞれに区画する壁状絶縁層と、
上記複数の第1電極のそれぞれの上に設けられた発光有機層と、
上記壁状絶縁層の上に設けられた補助電極と、
上記壁状絶縁層、上記補助電極、及び上記発光有機層の表面全体を被覆するように設けられ、該補助電極に電気的に接続された、上記発光有機層の光を透過させる第2電極と、
を備え、
上記補助電極は、上記壁状絶縁層の一部分に設けられており、
上記補助電極が設けられた壁状絶縁層の部分は該補助電極が設けられていない部分よりも幅広である有機発光素子。
A substrate,
A plurality of first electrodes arranged in a matrix on the substrate;
A wall-like insulating layer provided on the substrate and partitioning the plurality of first electrodes,
A light emitting organic layer provided on each of the plurality of first electrodes;
An auxiliary electrode provided on the wall-like insulating layer;
A second electrode that is provided so as to cover the entire surface of the wall-like insulating layer, the auxiliary electrode, and the light-emitting organic layer, and that is electrically connected to the auxiliary electrode and transmits light of the light-emitting organic layer; ,
With
The auxiliary electrode is provided on a part of the wall-like insulating layer,
An organic light-emitting element in which a portion of the wall-like insulating layer provided with the auxiliary electrode is wider than a portion where the auxiliary electrode is not provided.
基板と、
上記基板上にマトリクス状に配列された複数の第1電極と、
上記基板上に設けられ、上記複数の第1電極をそれぞれに区画する壁状絶縁層と、
上記複数の第1電極のそれぞれの上に設けられた発光有機層と、
上記壁状絶縁層の上に設けられた補助電極と、
上記壁状絶縁層、上記補助電極、及び上記発光有機層の表面全体を被覆するように設けられ、該補助電極に電気的に接続された、上記発光有機層の光を透過させる第2電極と、
を備え、
上記補助電極は、上記壁状絶縁層上において断片的に設けられており、
上記補助電極が設けられた壁状絶縁層の部分は該補助電極が設けられていない部分よりも幅広である有機発光素子。
A substrate,
A plurality of first electrodes arranged in a matrix on the substrate;
A wall-like insulating layer provided on the substrate and partitioning the plurality of first electrodes,
A light emitting organic layer provided on each of the plurality of first electrodes;
An auxiliary electrode provided on the wall-like insulating layer;
A second electrode that is provided so as to cover the entire surface of the wall-like insulating layer, the auxiliary electrode, and the light-emitting organic layer, and that is electrically connected to the auxiliary electrode and transmits light of the light-emitting organic layer; ,
With
The auxiliary electrode is provided in pieces on the wall-like insulating layer,
An organic light-emitting element in which a portion of the wall-like insulating layer provided with the auxiliary electrode is wider than a portion where the auxiliary electrode is not provided.
請求項1又は2に記載された有機発光素子において、
上記補助電極が設けられた壁状絶縁層の部分の幅は上記補助電極が設けられていない部分の幅の2倍以上である有機発光素子。
The organic light emitting device according to claim 1 or 2,
The organic light-emitting device wherein the width of the portion of the wall-like insulating layer provided with the auxiliary electrode is at least twice the width of the portion where the auxiliary electrode is not provided.
請求項1又は2に記載された有機発光素子において、
上記発光有機層は、各々、発光色の異なる複数種類の発光材料のいずれかで形成されており、
上記発光有機層はその発光色によって相互に発光面積が異なり、
上記補助電極は、上記壁状絶縁層のうち発光面積が最も小さい発光有機層に隣接する幅広部分の上に設けられている有機発光素子。
The organic light emitting device according to claim 1 or 2,
Each of the light-emitting organic layers is formed of any of a plurality of types of light-emitting materials having different emission colors.
The light-emitting organic layers have different light-emitting areas depending on the color of light emitted,
The auxiliary electrode is an organic light emitting device provided on a wide portion adjacent to the light emitting organic layer having the smallest light emitting area in the wall-like insulating layer.
請求項4に記載された有機発光素子において、
上記補助電極は、最も大きな発光面積を有する上記発光有機層と最も小さな発光面積を有する上記発光有機層との間に設けられた上記壁状絶縁層の幅広部分の上に設けられている有機発光素子。
The organic light emitting device according to claim 4,
The auxiliary electrode is an organic light emitting device provided on a wide portion of the wall-like insulating layer provided between the light emitting organic layer having the largest light emitting area and the light emitting organic layer having the smallest light emitting area. element.
請求項1又は2に記載された有機発光素子において、
上記補助電極と上記第2電極との間に設けられ、該補助電極と該第2電極とを連通させるスルーホールが形成された發液層をさらに有し、
上記第2電極は上記スルーホールを経由して上記補助電極に電気的に接続されている有機発光素子。
The organic light emitting device according to claim 1 or 2,
Further comprising a liquid crystal layer provided between the auxiliary electrode and the second electrode, in which a through hole is formed to communicate the auxiliary electrode and the second electrode;
The organic light emitting device, wherein the second electrode is electrically connected to the auxiliary electrode through the through hole.
請求項1又は2に記載された有機発光素子において、
上記補助電極と上記第2電極との間に設けられた単分子層からなる發液層をさらに有する有機発光素子。
The organic light emitting device according to claim 1 or 2,
The organic light emitting element which further has a liquid-crystal layer which consists of a monomolecular layer provided between the said auxiliary electrode and the said 2nd electrode.
請求項1又は2に記載された有機発光素子において、
上記発光有機層が有機エレクトロルミネッセンス発光材料を含む有機発光素子。
The organic light emitting device according to claim 1 or 2,
The organic light emitting element in which the said light emitting organic layer contains an organic electroluminescent light emitting material.
請求項1又は2に記載された有機発光素子を備えた表示装置。

A display device comprising the organic light-emitting element according to claim 1.

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