JP2008147586A - 有機el表示装置 - Google Patents

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tfts
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伸一 木村
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Abstract

【課題】TFTの劣化を改善してアモルファスSiで駆動する安価な有機EL表示装置を得る。
【解決手段】有機ELの画素駆動回路として、画素選択スイッチング用の第1のTFTと、有機ELを駆動するためのドライブ用第2のTFTとを備える有機EL表示装置であって、前記第1と第2のTFTは、1つのゲート電極10上に、アモルファスSiでなる半導体層20が形成され、当該半導体層20の上に、ドレイン電極の終端のない円形でなる電極先端部30a,30b,・・・とソース電極40の終端のない円形でなる電極先端部40a,40b,・・・とが複数配列されてそれぞれ形成された。
【選択図】図2

Description

この発明は、有機EL液晶表示装置に関し、特にTFT劣化を改善する有機EL液晶表示装置に関するものである。
従来から、有機ELをTFTで駆動するためには、最低限2個のトランジスタを使うことが知られている(例えば、特許文献1参照)。すなわち、前段の画素選択スイッチング用TFTと後段のドライブ用TFTとが用いられる。特に、有機ELは、ダイオード特性を持ち、電流に比例した輝度を出すことから、後段に電流駆動をするドライブ用TFTが必要であるとされている。ここで、TFT、特にアモルファスSi TFTが液晶ディスプレイでは主流であり、これを使うことはコスト的に大きなメリットがある。
特開2002−176063号公報
しかしながら、アモルファスSi TFTはバイアス条件によってVthシフトを起こすので、この改善は大きな課題となっている。すなわち、ソース電極及びソース電極と対向するドレイン電極にはチャネル幅方向の終端部が存在し、1フレーム期間の間、画素に電流を流し続けるので、電流ストレスによって劣化が生じ、Vthシフトが起こる。このような劣化は、ソースまたはドレイン電極に終端部がない断面構造が円状のTFTの場合にも、円形の中に島を作るので終端部はわずかに残り、ソースドレインの端起因による劣化を起こすことが知られている。
この発明は上述した点に鑑みてなされたもので、TFTの劣化を改善してアモルファスSiで駆動する安価な有機EL表示装置を得ることを目的とする。
この発明に係る有機EL表示装置は、有機ELの画素駆動回路として、画素選択スイッチング用の第1のTFTと、有機ELを駆動するためのドライブ用第2のTFTとを備える有機EL表示装置であって、前記第1と第2のTFTは、1つのゲート電極上に、アモルファスSiでなる半導体層が形成され、当該半導体層の上に、ドレイン電極の円形でなる電極先端部とソース電極の円形でなる電極先端部とが複数配列されてそれぞれ形成されたことを特徴とする。
この発明によれば、ドレイン電極及びソース電極に終端部画存在しないことから終端部の存在に起因する劣化を防止でき、TFTの劣化を改善してアモルファスSiで駆動する安価な有機EL表示装置を得ることができる。
図1は、一般的な有機EL表示装置の画素駆動回路の等価回路図である。有機EL表示装置の画素駆動回路の等価回路図としては、図1に示すように、二つのTFT、すなわち、1フレーム期間の間、画素に電流を流し続けるための画素選択スイッチング用のTFT1と、有機EL3を駆動するためのドライブ用TFT2とを備えている。
図2と図3は、この発明の実施の形態に係る有機EL表示装置における前記TFT1及び2として用いられるTFTの1つのゲート電極上に形成されるソース電極とドレイン電極の配置構成を示す平面図と等価回路図である。図2に示すように、1つのゲート電極10上に、アモルファスSiでなる半導体層20が形成され、半導体層20の上に、ドレイン電極30の終端のない構造の円形でなる電極先端部30a,30b,・・・とソース電極40の終端のない円形でなる電極先端部40a,40b,・・・とが複数配列されてなり、後述する図3に示す如く、ソース電極の電極先端部が次のTFTのドレイン電極にもなるように構成されており、複数のTFT、例えばT1,T2,T3,T4が直列接続される。また、左右隣接するTFTは並列接続される。
すなわち、等価回路図としては、図2に示すドレイン電極30とソース電極40の円形でなる電極先端部の間に形成される半導体層20によってTFTの機能を持ち、図3に示すように、チャネルドレイン電極30とソース電極40との間に、ソースとドレインが共通接続された複数のTFT、例えばT1,T2,T3及びT4が直列接続され、左右隣接するTFT、例えばT1,T5,T9が並列接続されている。
従って、図2及び図3に示す実施の形態によれば、画素選択スイッチング用の第1のTFTと、有機ELを駆動するためのドライブ用第2のTFTとを、1つのゲート電極上に形成された、アモルファスSiでなる半導体層上に、ドレイン電極の円形でなる電極先端部とソース電極の円形でなる電極先端部とを複数配列してそれぞれ形成し、前記ドレイン電極とソース電極との間に、ソースとドレインが共通接続された複数のTFTを直列接続し、かつ左右隣接するTFT同士を並列接続して構成したので、終端部の存在に起因する劣化を防止でき、また、ドレインからソースに流れる電流を複数のTFTで分散させることで面積当たりの電流密度を小さくして劣化が生じてもその影響を少なくすることができ、TFTの劣化を改善してアモルファスSiで駆動する安価な有機EL表示装置を得ることができる。
一般的な有機EL表示装置の画素駆動回路の等価回路図である。 この発明の実施の形態に係る有機EL表示装置におけるTFT1及び2として用いられるTFTの1つのゲート電極上に形成されるソース電極とドレイン電極の配置構成を示す平面図である。 図2の等価回路図である。
符号の説明
1 画素選択スイッチング用のTFT、2 ドライブ用TFT、3 有機EL、10 ゲート電極、20 半導体層、30 ドレイン電極、30a,30b,・・・ 電極先端部、40 ソース電極、40a,40b,・・・ 電極先端部、T1,T2,T3及びT4 直列接続されたTFT、T1,T5,T9 並列接続された隣接するTFT。

Claims (2)

  1. 有機ELの画素駆動回路として、画素選択スイッチング用の第1のTFTと、有機ELを駆動するためのドライブ用第2のTFTとを備える有機EL表示装置であって、
    前記第1と第2のTFTは、1つのゲート電極上に、アモルファスSiでなる半導体層が形成され、当該半導体層の上に、ドレイン電極の円形でなる電極先端部とソース電極の円形でなる電極先端部とが複数配列されてそれぞれ形成された
    ことを特徴とする有機EL表示装置。
  2. 請求項1に記載の有機EL表示装置において、
    前記ドレイン電極とソース電極との間に、ソースとドレインが共通接続された複数のTFTが直列接続され、かつ左右隣接するTFT同士が並列接続されてなる
    ことを特徴とする有機EL表示装置。
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