JP2008133244A - Method for producing difluorobenzene derivative and production intermediate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はジフルオロベンゼン誘導体の製造方法及び製造中間体に関する。 The present invention relates to a method for producing a difluorobenzene derivative and a production intermediate.
液晶表示素子は、低電圧作動、薄型表示等の優れた特徴から現在広く用いられている。従来の液晶表示素子の表示方式にはTN(ねじれネマチック)、STN(超ねじれネマチック)、又はTNをベースにしたアクティブマトリックス(TFT:薄膜トランジスタ)等があり、これらは誘電率異方性値が正の液晶組成物を利用するものである。しかし、これら表示方式の欠点の一つとして視野角の狭さがあり、近年高まっている液晶パネルの大型化の要求に伴い、その改善が大きな課題となっている。 Liquid crystal display elements are currently widely used because of their excellent features such as low voltage operation and thin display. Conventional liquid crystal display element display methods include TN (twisted nematic), STN (super twisted nematic), or active matrix (TFT: thin film transistor) based on TN, and these have positive dielectric anisotropy values. The liquid crystal composition is used. However, one of the disadvantages of these display methods is a narrow viewing angle, and with the increasing demand for larger liquid crystal panels in recent years, the improvement has become a major issue.
この解決策として近年、垂直配向方式、IPS(インプレインスイッチング)等の表示方式が新たに実用化されてきた。垂直配向方式は液晶分子の垂直配向を利用して視野角の改善を図った方式であり、誘電異方性値が負の液晶組成物が使用される。またIPSは、ガラス基板に対して水平方向の横電界を用いて液晶分子をスイッチングさせることで視野角の改善を図った方法であり、誘電異方性値が正又は負の液晶組成物が使用される。このように、視野角改善のために有効な表示方式である垂直配向方式及びIPSには誘電率異方性値が負である液晶化合物ならびに液晶組成物が必要であり、強く要望されるようになってきた。 In recent years, display methods such as vertical alignment and IPS (in-plane switching) have been newly put to practical use as a solution. The vertical alignment method is a method in which the viewing angle is improved by utilizing the vertical alignment of liquid crystal molecules, and a liquid crystal composition having a negative dielectric anisotropy value is used. IPS is a method of improving viewing angle by switching liquid crystal molecules using a horizontal electric field in the horizontal direction with respect to a glass substrate, and a liquid crystal composition having a positive or negative dielectric anisotropy value is used. Is done. As described above, the vertical alignment method and the IPS, which are effective display methods for improving the viewing angle, require a liquid crystal compound and a liquid crystal composition having a negative dielectric anisotropy value. It has become.
誘電率異方性が負の液晶組成物に使用される液晶化合物としては、2,3-ジフルオロベンゼン誘導体が挙げられる(特許文献1参照)。しかしながら、特許文献1は側鎖がアルキル基の化合物のみが開示されており、側鎖にアルケニル基を有する化合物の開示は全くなく、製造方法は知られていなかった。また、ベンゼン環の1位および4位にシクロヘキシルメトキシ基を有する化合物は化学的に不安定で液晶材料として使用できないとの知見(非特許文献1参照)により、当該化合物の製造方法の開発は進行していなかった。 Examples of the liquid crystal compound used in the liquid crystal composition having a negative dielectric anisotropy include 2,3-difluorobenzene derivatives (see Patent Document 1). However, Patent Document 1 discloses only a compound having an alkyl group in the side chain, and does not disclose any compound having an alkenyl group in the side chain, and the production method has not been known. In addition, the development of a method for producing the compound has progressed due to the knowledge that a compound having a cyclohexylmethoxy group at the 1-position and 4-position of the benzene ring is chemically unstable and cannot be used as a liquid crystal material (see Non-Patent Document 1). I did not.
側鎖にアルケニル基を有するジフルオロベンゼン誘導体の製造方法を提供することである。また、側鎖にアルケニル基を有するジフルオロベンゼン誘導体の製造に有用な中間体化合物を提供することである。 It is to provide a method for producing a difluorobenzene derivative having an alkenyl group in the side chain. Another object of the present invention is to provide an intermediate compound useful for the production of a difluorobenzene derivative having an alkenyl group in the side chain.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本件発明を完成するに至った。
本発明は、一般式(1)
As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention.
The present invention relates to general formula (1)
本発明の製造方法は、ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法として有用である。また、本発明の化合物は、ジフルオロベンゼン誘導体の製造中間体として有用である。 The production method of the present invention is useful as a production method of a difluorobenzene derivative. In addition, the compound of the present invention is useful as an intermediate for producing a difluorobenzene derivative.
一般式(1)で表される化合物の酸化は、有機金属試薬により脱プロトン化した後ほう酸トリアルキルと反応させてほう素化合物とし、その後酸化剤を作用させることによって行うことができる。反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒および炭化水素系溶媒等を挙げることができる。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。有機金属試薬としてはn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウム ジイソプロピルアミドおよびリチウム 2,2,4,4-テトラメルピペリジド等を挙げることができ、入手および取り扱いの容易さからn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウムおよびリチウムジイソプロピルアミドが好ましく、効率的に脱プロトン化が可能であるsec-ブチルリチウムおよびリチウムジイソプロピルアミドがより好ましい。また、脱プロトン化の際には、上記有機金属試薬と共にカリウム-t-ブトキシド、テトラメチルエチレンジアミン等の塩基を添加剤として用いてもよい。脱プロトン化の際の反応温度は-100℃から-20℃が好ましく、-78℃から-40℃がより好ましい。 The oxidation of the compound represented by the general formula (1) can be carried out by deprotonation with an organometallic reagent and then reacting with a trialkyl borate to form a boron compound, followed by the action of an oxidizing agent. Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably, and examples thereof include ether solvents and hydrocarbon solvents. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and t-butyl methyl ether. Examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane, and octane. Of these, tetrahydrofuran is preferred. Examples of organometallic reagents include n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, methyllithium, lithium diisopropylamide, and lithium 2,2,4,4-tetramerpiperidide. N-Butyllithium, sec-butyllithium and lithium diisopropylamide are preferable from the viewpoint of ease of handling, and sec-butyllithium and lithium diisopropylamide which can be efficiently deprotonated are more preferable. In the deprotonation, a base such as potassium tert-butoxide or tetramethylethylenediamine may be used as an additive together with the organometallic reagent. The reaction temperature at the time of deprotonation is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C.
ほう酸トリアルキルとしては、ほう酸トリメチル、ほう酸トリエチル、ほう酸トリプロピルおよびほう酸トリイソプロピルを用いるのが好ましいが、入手および取り扱いの容易さからほう酸トリメチルおよびほう酸トリイソプロピルがより好ましい。ほう酸トリアルキルと有機金属試薬の組み合わせとしては、上記で挙げたいずれの組み合わせも可能であるが、sec-ブチルリチウムとほう酸トリメチルの組み合わせ、およびリチウム ジイソプロピルアミドとほう酸トリイソプロピルの組み合わせが好ましく、リチウム ジイソプロピルアミドとほう酸トリイソプロピルの組み合わせがより好ましい。ほう素化の際の反応温度は-100℃から-20℃が好ましく、-78℃から-40℃がより好ましい。得られたほう素化合物は一度単離してもよく、単離せずそのまま酸化剤と反応させてもよい。また、得られたほう素化合物を加水分解してほう酸化合物へと変換した後に酸化剤と反応させても構わない。 As the trialkyl borate, trimethyl borate, triethyl borate, tripropyl borate and triisopropyl borate are preferably used, but trimethyl borate and triisopropyl borate are more preferred from the viewpoint of availability and handling. As the combination of trialkyl borate and organometallic reagent, any of the above-mentioned combinations are possible, but the combination of sec-butyl lithium and trimethyl borate, and the combination of lithium diisopropylamide and triisopropyl borate are preferable, and lithium diisopropyl A combination of amide and triisopropyl borate is more preferred. The reaction temperature during boriding is preferably from -100 ° C to -20 ° C, more preferably from -78 ° C to -40 ° C. The obtained boron compound may be isolated once or may be reacted with an oxidizing agent without isolation. Further, the obtained boron compound may be hydrolyzed and converted into a boric acid compound and then reacted with an oxidizing agent.
酸化剤としては、過酸化水素水、過酢酸または過ギ酸を用いるのが好ましい。反応温度は-78℃から70℃が好ましく、0℃から50℃がより好ましい。また、酸化剤との反応時には、溶媒に水が含まれていても構わない。 As the oxidizing agent, it is preferable to use hydrogen peroxide, peracetic acid or performic acid. The reaction temperature is preferably -78 ° C to 70 ° C, more preferably 0 ° C to 50 ° C. Moreover, water may be contained in the solvent at the time of reaction with an oxidizing agent.
一般式(2)で表される化合物に一般式(3)で表される化合物と反応させることによって一般式(4)で表される化合物を得るが、一般式(3)におけるX1の置換基の選択により幾つかの反応を用いることが可能である。 By reacting the compound represented by the general formula (2) with the compound represented by the general formula (3), the compound represented by the general formula (4) is obtained, and the substitution of X 1 in the general formula (3) is obtained. Several reactions can be used depending on the choice of group.
X1が塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す化合物を用いた場合、一般式(2)の水酸基を塩基によりフェノラートとして一般式(3)と反応させる方法を用いることができる。この場合に使用する塩基としては金属水素化物、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、金属カルボン酸塩、金属アミド及び金属等を挙げることができ、中でもアルカリ金属水素化物、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アミド及びアルカリ金属が好ましく、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水素化物及びアルカリ金属炭酸塩は更に好ましい。アルカリ金属水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウム及び水素化カリウムを、アルカリ金属リン酸塩としてはリン酸三カリウムを、アルカリ金属炭酸塩としては炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム及び炭酸水素カリウムをそれぞれ好ましく挙げることができる。 When a compound in which X 1 represents chlorine, bromine, iodine, a benzenesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group or a trifluoromethanesulfonyloxy group, the hydroxyl group of the general formula (2) is replaced with a base. As the phenolate, a method of reacting with the general formula (3) can be used. Examples of the base used in this case include metal hydrides, metal carbonates, metal phosphates, metal hydroxides, metal carboxylates, metal amides and metals, among which alkali metal hydrides and alkali metals. Phosphate, alkali metal phosphate, alkali metal carbonate, alkali metal hydroxide, alkali metal amide and alkali metal are preferred, and alkali metal phosphate, alkali metal hydride and alkali metal carbonate are more preferred. Lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride as alkali metal hydrides, tripotassium phosphate as alkali metal phosphates, sodium carbonate, sodium bicarbonate, cesium carbonate, potassium carbonate as alkali metal carbonates And potassium hydrogen carbonate can be preferably mentioned.
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒及び極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル及びt-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン及び四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン及びオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン及びジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはN,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒及びN,N-ジメチルホルムアミド等の極性溶媒がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。 Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably. Ether solvents, chlorine solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, polar solvents, and the like can be preferably used. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and t-butyl methyl ether.Examples of chlorine solvents include dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and carbon tetrachloride. Examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane, and octane, aromatic solvents include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, and polar solvents include N, N-dimethylformamide, Preferable examples include N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane. Among these, ether solvents such as tetrahydrofuran and diethyl ether and polar solvents such as N, N-dimethylformamide are more preferable. Each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から150℃が好ましく、30℃から120℃がより好ましい。なお、生成したフェノラートを一度単離してから一般式(3)で表される化合物と反応させてもよく、単離せずに反応させてもよいが、作業の容易さから単離せずに反応させたほうがよい。 The reaction temperature can be in the range from the freezing point of the solvent to the reflux temperature, but is preferably 0 ° C to 150 ° C, more preferably 30 ° C to 120 ° C. The generated phenolate may be isolated once and then reacted with the compound represented by the general formula (3), or may be reacted without isolation, but it is allowed to react without isolation for ease of work. Better.
X1が水酸基を表す化合物を用いた場合、光延反応を用いることが可能である。光延反応はアルコールと活性プロトンを持つ多種多様な求核剤とを脱水的に縮合させる反応であり、トリフェニルホスフィンとアゾジカルボン酸誘導体又はマレイン酸誘導体を組み合わせて用いる。具体的には、一般式(2)で表される化合物と一般式(3)で表されるアルコール誘導体を三置換ホスフィン誘導体及びアゾジカルボン酸誘導体存在下に反応させることにより一般式(4)で表される化合物を得る。 When a compound in which X 1 represents a hydroxyl group is used, Mitsunobu reaction can be used. The Mitsunobu reaction is a reaction in which an alcohol and a wide variety of nucleophiles having active protons are dehydrated and used in combination with triphenylphosphine and an azodicarboxylic acid derivative or maleic acid derivative. Specifically, by reacting the compound represented by the general formula (2) and the alcohol derivative represented by the general formula (3) in the presence of a trisubstituted phosphine derivative and an azodicarboxylic acid derivative, The compound represented is obtained.
三置換ホスフィン誘導体としては、トリアルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン等が挙げられるがトリフェニルホスフィンが好ましい。又、アゾジカルボン酸誘導体としては種々の化合物が用いられており、アゾジカルボン酸誘導体に替えてマレイン酸誘導体を用いることが可能であるが、取り扱いの容易さよりトリフェニルホスフィンとアゾジカルボン酸誘導体の組み合わせが望ましい。アゾジカルボン酸誘導体としてはジエチル アゾジカルボキシレート、ジイソプロピル アゾジカルボキシレート、テトラメチル アゾジカルボキシアミド、テトラプロピル アゾジカルボキシアミド、1,1’-(アゾジカルボニル)ジピペリジンが挙げられるが、入手の容易さよりジエチル アゾジカルボキシレートおよびジイソプロピル アゾジカルボキシレートが好ましく、取り扱いの容易さよりジイソプロピル アゾジカルボキシレートがより好ましい。 Examples of the trisubstituted phosphine derivative include trialkylphosphine and triphenylphosphine, and triphenylphosphine is preferable. Various compounds are used as azodicarboxylic acid derivatives, and it is possible to use maleic acid derivatives instead of azodicarboxylic acid derivatives, but the combination of triphenylphosphine and azodicarboxylic acid derivatives is easier to handle. Is desirable. Examples of azodicarboxylic acid derivatives include diethyl azodicarboxylate, diisopropyl azodicarboxylate, tetramethyl azodicarboxyamide, tetrapropyl azodicarboxyamide, 1,1 '-(azodicarbonyl) dipiperidine. Diethyl azodicarboxylate and diisopropyl azodicarboxylate are preferable from the viewpoint of ease, and diisopropyl azodicarboxylate is more preferable from the viewpoint of ease of handling.
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒および芳香族系溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2-ジクロロエタンおよび四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒およびトルエン等の芳香族系溶媒等がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。 Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably, but ether solvents, chlorine solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, and the like can be preferably used. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether and t-butyl methyl ether. Examples of chlorine solvents include dichloromethane, 1,2-dichloroethane and carbon tetrachloride. Preferable examples of the hydrocarbon solvent include pentane, hexane, cyclohexane, heptane and octane, and examples of the aromatic solvent include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. Of these, ether solvents such as tetrahydrofuran and aromatic solvents such as toluene are more preferable. Each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から150℃が好ましく、0℃から30℃がより好ましい。 The reaction temperature can be in the range from the freezing point of the solvent to the reflux temperature, but is preferably 0 ° C to 150 ° C, more preferably 0 ° C to 30 ° C.
一般式(4)で表される化合物の脱保護は、酸性条件下で行うことが好ましい。使用する酸としては、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、しゅう酸、p-トルエンスルホン酸等のプロトン酸および三フッ化ほう素等のルイス酸等が挙げられるが、ギ酸を用いるのが好ましい。 The deprotection of the compound represented by the general formula (4) is preferably performed under acidic conditions. Examples of the acid used include protonic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, and p-toluenesulfonic acid, and Lewis acids such as boron trifluoride. Formic acid is preferably used.
反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、ケトン系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒および極性溶媒等を好ましく用いることができ、無溶媒で反応させてもよい。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルムおよび四塩化炭素等を、ケトン系溶媒としてはアセトンおよび2-ブタノン等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはアセトニトリルおよびジメチルスルホキシド等を好例として挙げることができる。中でも、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等の炭化水素系溶媒およびベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒等がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。 Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed appropriately, but ether solvents, chlorine solvents, ketone solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, polar solvents, and the like are preferably used. And may be reacted without solvent. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and t-butyl methyl ether. Examples of chlorine solvents include dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. Acetone, 2-butanone and the like as ketone solvents, pentane, hexane, cyclohexane, heptane and octane as hydrocarbon solvents, and benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dibenzene as aromatic solvents. Preferable examples include chlorobenzene and acetonitrile, dimethyl sulfoxide and the like as polar solvents. Of these, hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane and octane, and aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene are more preferable. Each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から100℃が好ましく、30℃から60℃がより好ましい。 The reaction temperature can be in the range from the freezing point of the solvent to the reflux temperature, but is preferably 0 ° C to 100 ° C, more preferably 30 ° C to 60 ° C.
こうして得られる式(5)で表される化合物は、シクロヘキサン環に関するシス体およびトランス体の混合物として得られる場合があるが、液晶化合物の中間体として使用するためにはトランス体であることが好ましい。式(5)で表される化合物のシクロヘキサン環に関しては、必要に応じて塩基を作用させることによりシス−トランス異性化を行うことができ、トランス体を過剰に得ることができる。この際使用する塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が好ましく、反応溶媒はメタノール、エタノールおよびテトラヒドロフラン等が好ましく、反応温度は-40℃から20℃が好ましく、-20℃から10℃がより好ましい。 The compound represented by the formula (5) thus obtained may be obtained as a mixture of a cis isomer and a trans isomer relating to a cyclohexane ring, but is preferably a trans isomer for use as an intermediate of a liquid crystal compound. . Regarding the cyclohexane ring of the compound represented by the formula (5), cis-trans isomerization can be carried out by allowing a base to act as necessary, and an excess of the trans isomer can be obtained. The base used at this time is preferably sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like, the reaction solvent is preferably methanol, ethanol or tetrahydrofuran, the reaction temperature is preferably -40 ° C to 20 ° C, more preferably -20 ° C to 10 ° C. preferable.
式(5)で表される化合物にアルキルリンイリドを反応させることによって一般式(6)で表される化合物を得ることができる。リンイリドはホスホニウム塩、ホスホン酸エステル等から調整することができるが、アルキルトリフェニルホスホニウム塩から調整することが好ましい。 The compound represented by the general formula (6) can be obtained by reacting the compound represented by the formula (5) with an alkyl phosphorus ylide. The phosphorus ylide can be adjusted from a phosphonium salt, a phosphonic acid ester or the like, but is preferably adjusted from an alkyltriphenylphosphonium salt.
アルキルトリフェニルホスホニウム塩を用いてイリドを調整する場合塩基を作用させて行うが、使用する塩基としてはカリウム-t-ブトキシド、n-ブチルリチウム、フェニルリチウム、水素化ナトリウム等が好ましく、カリウム-t-ブトキシドがより好ましい。反応溶媒はエーテル系溶媒、芳香族系溶媒および極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等を、極性溶媒としてはN,N-ジメチルホルムアミド等を好例として挙げることができる。テトラヒドロフランおよびトルエンがより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、-40℃から30℃が好ましく、-20℃から20℃がより好ましい。得られたイリドは単離することなく式(5)で表される化合物と反応させるのが好ましい。また、アルキルトリフェニルホスホニウム塩および式(5)で表される化合物の混合物に対して塩基を加えてもよい。アルキルトリフェニルホスホニウム塩としてはメチルトリフェニルホスホニウム塩が好ましい。 When adjusting an ylide using an alkyltriphenylphosphonium salt, a base is allowed to act. As the base to be used, potassium-t-butoxide, n-butyllithium, phenyllithium, sodium hydride and the like are preferable, and potassium-t -Butoxide is more preferred. As the reaction solvent, ether solvents, aromatic solvents, polar solvents and the like can be preferably used. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and t-butyl methyl ether. Examples of aromatic solvents include benzene, toluene, xylene, mesitylene, and the like as polar solvents. A good example is N, N-dimethylformamide. Tetrahydrofuran and toluene are more preferred. Each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used. The reaction temperature can be in the range from the freezing point of the solvent to the reflux temperature, but is preferably -40 ° C to 30 ° C, more preferably -20 ° C to 20 ° C. The obtained ylide is preferably reacted with the compound represented by the formula (5) without isolation. Further, a base may be added to the mixture of the alkyltriphenylphosphonium salt and the compound represented by the formula (5). As the alkyltriphenylphosphonium salt, methyltriphenylphosphonium salt is preferable.
本願発明は、一般式(1)で表される化合物を出発原料として、一般式(2)、一般式(4)及び一般式(5)で表される化合物を経由して一般式(6)で表される化合物を製造するものであるが、一般式(2)で表される化合物を出発原料として、一般式(4)及び一般式(5)で表される化合物を経由して一般式(6)で表される化合物を製造することも好ましく、一般式(4)で表される化合物を出発原料として、一般式(5)で表される化合物を経由して一般式(6)で表される化合物を製造することも好ましく、一般式(5)で表される化合物を出発原料として、一般式(6)で表される化合物を製造することも好ましい。 The present invention uses the compound represented by the general formula (1) as a starting material, the general formula (6) via the compound represented by the general formula (2), the general formula (4) and the general formula (5). A compound represented by general formula (2) is used as a starting material, and a compound represented by general formula (4) and general formula (5) is passed through the compound represented by general formula (4). It is also preferable to produce the compound represented by (6), using the compound represented by the general formula (4) as a starting material and the compound represented by the general formula (5) via the compound represented by the general formula (5). It is also preferable to produce the compound represented by the formula (6), and it is also preferred to produce the compound represented by the formula (6) using the compound represented by the formula (5) as a starting material.
又、本願発明の製造中間である一般式(2)で表される化合物の製造方法として、一般式(1)で表される化合物を酸化することによる一般式(2)で表される化合物の製造方法としても好ましい。 In addition, as a method for producing the compound represented by the general formula (2), which is an intermediate product of the present invention, the compound represented by the general formula (2) obtained by oxidizing the compound represented by the general formula (1) It is also preferable as a manufacturing method.
一般式(1)及び一般式(2)において、R1及びR2はそれぞれ独立的にメチル基、エチル基又はプロピル基を表すか又は、R1及びR2は-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-又は-CH2C(CH3)2CH2-を表すが、R1及びR2が共にメチル基であるか、R1及びR2が-CH2CH2-又は-CH2CH2CH2-であることが好ましい。一般式(1)は具体的には次に記載する一般式(1-1)から一般式(1-3)で表される化合物が好ましい。 In the general formula (1) and the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, or R 1 and R 2 are —CH 2 CH 2 —, — CH 2 CH 2 CH 2 — or —CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 —, wherein R 1 and R 2 are both methyl groups, or R 1 and R 2 are —CH 2 CH 2 — or -CH 2 CH 2 CH 2- is preferred. Specifically, the general formula (1) is preferably a compound represented by the following general formula (1-1) to general formula (1-3).
一般式(2)は具体的には次に記載する一般式(2-1)から一般式(2-6)で表される化合物が好ましい。 Specifically, the general formula (2) is preferably a compound represented by the following general formula (2-1) to general formula (2-6).
一般式(3)において、X1は水酸基、塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表すが、一般式(2)のフェノラートと反応させる場合、臭素又はメタンスルホニルオキシ基を表すことが好ましく、光延反応を用いて一般式(2)と反応させる場合、X1は水酸基を表すことが好ましい。 In the general formula (3), X 1 represents a hydroxyl group, chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group. In the case of reaction with phenolate, it is preferable to represent bromine or methanesulfonyloxy group, and in the case of reaction with general formula (2) using Mitsunobu reaction, X 1 preferably represents a hydroxyl group.
R3は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表すが、炭素原子数1から12のアルキル基又は炭素原子数2から12のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1から7のアルキル基を表す化合物の製造が特に好ましい。 R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms, An alkyl group having 1 to 12 or an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms is preferred, and production of a compound representing an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms is particularly preferred.
一般式(4)において、R1及びR2はそれぞれ独立的にメチル基、エチル基又はプロピル基を表すか又は、R1及びR2は-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-又は-CH2C(CH3)2CH2-を表すが、R1及びR2が共にメチル基であるか、R1及びR2が-CH2CH2-又は-CH2CH2CH2-であることが好ましい。 In the general formula (4), R 1 and R 2 each independently represent a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, or R 1 and R 2 are —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 -Or -CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2- , wherein R 1 and R 2 are both methyl groups, or R 1 and R 2 are -CH 2 CH 2 -or -CH 2 CH 2 CH 2- is preferred.
R3は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表すが、炭素原子数1から12のアルキル基又は炭素原子数2から12のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1から7のアルキル基を表す化合物が特に好ましい。 R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms, A 1 to 12 alkyl group or an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms is preferred, and a compound representing an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms is particularly preferred.
一般式(4)は具体的には次に記載する一般式(4-1)から一般式(4-6)で表される化合物が好ましい。 Specifically, the general formula (4) is preferably a compound represented by the following general formula (4-1) to general formula (4-6).
(式中、R3は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表す。)
一般式(4)においてR3が炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基又は炭素原子数2から12のアルケニルオキシ基を表し、nが1を表す場合、またはR3が炭素原子数2から12のアルケニル基又は炭素原子数2から12のアルケニルオキシ基を表し、nが0を表す場合が更に好ましい。
(Wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms. )
In the general formula (4), R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms. More preferably, n represents 1, or R 3 represents an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, and n represents 0.
一般式(5)において、R3は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表すが、炭素原子数1から12のアルキル基又は炭素原子数2から12のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1から7のアルキル基を表す化合物が特に好ましい。 In the general formula (5), R 3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms. However, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms is preferable, and a compound representing an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms is particularly preferable.
一般式(5)は具体的には次に記載する一般式(5-1)から一般式(5-2)で表される化合物が好ましい。 Specifically, the general formula (5) is preferably a compound represented by the following general formula (5-1) to general formula (5-2).
(式中、R3は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表す。)
一般式(6)において、R3は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表すが、炭素原子数1から12のアルキル基又は炭素原子数2から12のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1から7のアルキル基を表す化合物が特に好ましい。R4は水素原子又は炭素原子数1から5のアルキル基を表すが、水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
(Wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms. )
In the general formula (6), R 3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms. However, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms is preferable, and a compound representing an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms is particularly preferable. R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom.
一般式(5)は具体的には次に記載する一般式(6-1)から一般式(6-4)で表される化合物の製造が好ましい。 Specifically, the general formula (5) is preferably a compound represented by the following general formula (6-1) to general formula (6-4).
(式中、R4は水素原子又は炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
一般式(6-1)から一般式(6-12)で表される化合物において、R3は、炭素原子数1から12のアルキル基又は炭素原子数2から12のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1から7のアルキル基を表す化合物が特に好ましく、R4は、水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
(In the formula, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
In the compounds represented by the general formulas (6-1) to (6-12), R 3 is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, A compound representing an alkyl group of 1 to 7 is particularly preferred, and R 4 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom.
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。化合物の構造は、核磁気共鳴スペクトル(NMR)、質量スペクトル(MS)等により確認した。
化合物記載に下記の略号を使用する。
THF :テトラヒドロフラン
LDA :リチウム ジイソプロピルアミド
i-Pr :イソプロピル
DIAD :ジイソプロピル アゾジカルボキシレート
Ph :フェニル
(実施例1)4-(トランス,トランス-4'-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビシクロヘキシル-4-イルメトキシ)-2,3-ジフルオロフェノール (Ib)の合成
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is further explained in full detail, this invention is not limited to these Examples. The structure of the compound was confirmed by nuclear magnetic resonance spectrum (NMR), mass spectrum (MS) and the like.
The following abbreviations are used in compound descriptions.
THF: tetrahydrofuran
LDA: Lithium diisopropylamide
i-Pr: Isopropyl
DIAD: Diisopropyl azodicarboxylate
Ph: Phenyl (Example 1) Synthesis of 4- (trans, trans-4 '-(1,3-dioxolan-2-yl) bicyclohexyl-4-ylmethoxy) -2,3-difluorophenol (Ib)
LDA(0.37 M、135 mL、THF: hexane = 75:25)を調整し、1-(トランス,トランス-4'-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビシクロヘキシル-4-イルメトキシ)-2,3-ジフルオロベンゼン(Ia、14.0 g)のTHF(42mL)溶液を内温-40〜-55℃で滴下し、内温を保ったまま2時間攪拌した。ほう酸トリイソプロピル(10.5 g)を内温-50〜-55℃で滴下し、0℃まで昇温した。塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、有機層を分取後、水層をトルエンで抽出した。合わせた有機層に15%過酸化水素水(12.7g)をゆっくり加え、40℃で2時間攪拌した。水を加えてしばらく攪拌し、トルエンで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して、4-(トランス,トランス-4'-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビシクロヘキシル-4-イルメトキシ)-2,3-ジフルオロフェノール (Ib、13.1 g)を得た。化合物(Ib)は、液晶化合物の製造中間体として有用である。
MS m/z : 397 (M++1)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 0.90 1.15 (m, 10 H), 1.44 1.54 (m, 1 H), 1.65 1.96 (m, 9 H), 3.75 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 3.83 3.89 (m, 2 H), 3.90 3.96 (m, 2 H), 4.60 (d, J = 4.8 Hz, 1 H), 6.59 6.68 (m, 2 H).
(実施例2)6-(3-ブテニルオキシ)-3-(トランス,トランス-4’-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビシクロヘキシル-4-イルメトキシ)-1,2-ジフルオロベンゼン (Ic)の合成
LDA (0.37 M, 135 mL, THF: hexane = 75: 25) was prepared and 1- (trans, trans-4 ′-(1,3-dioxolan-2-yl) bicyclohexyl-4-ylmethoxy) -2 , 3-Difluorobenzene (Ia, 14.0 g) in THF (42 mL) was added dropwise at an internal temperature of −40 to −55 ° C., and the mixture was stirred for 2 hours while maintaining the internal temperature. Triisopropyl borate (10.5 g) was added dropwise at an internal temperature of −50 to −55 ° C., and the temperature was raised to 0 ° C. The reaction was stopped by adding an aqueous ammonium chloride solution, the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with toluene. To the combined organic layers, 15% hydrogen peroxide (12.7 g) was slowly added and stirred at 40 ° C. for 2 hours. Water was added, stirred for a while, and extracted with toluene. The organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give 4- (trans, trans-4 '-(1,3-dioxolan-2-yl) bicyclohexyl. 4-ylmethoxy) -2,3-difluorophenol (Ib, 13.1 g) was obtained. Compound (Ib) is useful as an intermediate for producing a liquid crystal compound.
MS m / z: 397 (M + +1)
1 H-NMR (60 MHz, CDCl 3 )
δ: 0.90 1.15 (m, 10 H), 1.44 1.54 (m, 1 H), 1.65 1.96 (m, 9 H), 3.75 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 3.83 3.89 (m, 2 H) , 3.90 3.96 (m, 2 H), 4.60 (d, J = 4.8 Hz, 1 H), 6.59 6.68 (m, 2 H).
Example 2 6- (3-Butenyloxy) -3- (trans, trans-4 ′-(1,3-dioxolan-2-yl) bicyclohexyl-4-ylmethoxy) -1,2-difluorobenzene (Ic )
4-(トランス,トランス-4'-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビシクロヘキシル-4-イルメトキシ)-2,3-ジフルオロフェノール (Ib、12.9 g)、3-ブテノール(2.81 g)、トリフェニルホスフィン(10.6 g)およびTHF(58 mL)を混合し、5℃でジイソプロピル アゾジカルボキシレート(7.88 g)を滴下した。室温で1時間攪拌した後、濃縮してTHFを除去した。67%メタノール水溶液を加えて固形物を分散させ、結晶をろ別、乾燥し、6-(3-ブテニルオキシ)-3-(トランス,トランス-4’-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビシクロヘキシル-4-イルメトキシ)-1,2-ジフルオロベンゼン(Ic、14.3 g)を得た。化合物(Ic)は、液晶化合物の製造中間体として有用である。
MS m/z : 450 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 0.94 1.16 (m, 10 H), 1.43 1.53 (m, 1H), 1.70 1.95 (m, 9 H), 2.54 (dt, J = 1.2 Hz, 6.8 Hz, 1 H), 3.75 (d, J = 6.4Hz, 2 H), 3.82 3.88 (m, 1 H), 3.89 3.95 (m, 1 H), 4.02 (t, J = 6.8 Hz, 2 H), 4.59 (d, J = 5.2 Hz, 1 H), 5.11 (dd, J = 3.0 Hz, 10.0 Hz, 1 H), 5.17 (dd, J = 2.4 Hz, 17.2 Hz, 1 H), 5.89 (ddd, J = 6.4 Hz, 10.8 Hz, 16.8 Hz, 1 H), 6.57 6.65 (m, 2 H).
(実施例3)6-(3-ブテニルオキシ)-3-(トランス,トランス-4’-ホルミルビシクロヘキシル-4-イルメトキシ)-1,2-ジフルオロベンゼン (Id)の合成
4- (trans, trans-4 ′-(1,3-dioxolan-2-yl) bicyclohexyl-4-ylmethoxy) -2,3-difluorophenol (Ib, 12.9 g), 3-butenol (2.81 g), Triphenylphosphine (10.6 g) and THF (58 mL) were mixed, and diisopropyl azodicarboxylate (7.88 g) was added dropwise at 5 ° C. After stirring at room temperature for 1 hour, it was concentrated to remove THF. Add a 67% aqueous methanol solution to disperse the solid, filter the crystals, and dry, 6- (3-butenyloxy) -3- (trans, trans-4 '-(1,3-dioxolan-2-yl) Bicyclohexyl-4-ylmethoxy) -1,2-difluorobenzene (Ic, 14.3 g) was obtained. Compound (Ic) is useful as an intermediate for producing a liquid crystal compound.
MS m / z: 450 (M + )
1 H-NMR (60 MHz, CDCl 3 )
δ: 0.94 1.16 (m, 10 H), 1.43 1.53 (m, 1H), 1.70 1.95 (m, 9 H), 2.54 (dt, J = 1.2 Hz, 6.8 Hz, 1 H), 3.75 (d, J = 6.4Hz, 2 H), 3.82 3.88 (m, 1 H), 3.89 3.95 (m, 1 H), 4.02 (t, J = 6.8 Hz, 2 H), 4.59 (d, J = 5.2 Hz, 1 H) , 5.11 (dd, J = 3.0 Hz, 10.0 Hz, 1 H), 5.17 (dd, J = 2.4 Hz, 17.2 Hz, 1 H), 5.89 (ddd, J = 6.4 Hz, 10.8 Hz, 16.8 Hz, 1 H ), 6.57 6.65 (m, 2 H).
Example 3 Synthesis of 6- (3-butenyloxy) -3- (trans, trans-4′-formylbicyclohexyl-4-ylmethoxy) -1,2-difluorobenzene (Id)
6-(3-ブテニルオキシ)-3-(トランス,トランス-4’-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビシクロヘキシル-4-イルメトキシ)-1,2-ジフルオロベンゼン (Ic、14.3 g)をトルエン(70 mL)に溶解し、ギ酸(28 mL)を加えて50℃で5時間攪拌した。室温まで冷却後、水および飽和食塩水を加えて有機層を分取し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去して、6-(3-ブテニルオキシ)-3-(トランス,トランス-4’-ホルミルビシクロヘキシル-4-イルメトキシ)-1,2-ジフルオロベンゼン (Id、12.8 g)を得た。化合物(Id)は、液晶化合物の製造中間体として有用である。
MS m/z : 406 (M+)
δ: 0.95 1.16 (m, 8 H), 1.25 (q, J = 12.4Hz, 2 H), 1.70 2.05 (m, 9 H), 2.10 2.20 (m, 1H), 2.54 (tq, J = 1.4 Hz, 6.8 Hz, 2 H), 3.76 (d, J = 6.4Hz, 2 H), 4.03 (t, J = 6.8 Hz, 2 H), 5.11 (dd, J = 1.6 Hz, 10.4 Hz, 1 H), 5.18 (dd, J = 1.6 Hz, 18.8 Hz, 1 H), 5.89 (ddd, J = 6.8 Hz, 10.0 Hz, 20.0 Hz, 1 H), 6.57 6.65 (m, 2 H).
(実施例4)6-(3-ブテニルオキシ)-3-(トランス、トランス-4'-ビニルビシクロヘキシル‐4‐イル)メトキシ-1,2-ジフルオロベンゼン(Ie)の合成
6- (3-Butenyloxy) -3- (trans, trans-4 '-(1,3-dioxolan-2-yl) bicyclohexyl-4-ylmethoxy) -1,2-difluorobenzene (Ic, 14.3 g) It melt | dissolved in toluene (70 mL), formic acid (28 mL) was added, and it stirred at 50 degreeC for 5 hours. After cooling to room temperature, water and saturated brine were added, and the organic layer was separated, washed with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give 6- (3-butenyloxy) -3- (trans, trans-4′-formylbicyclohexyl-4-ylmethoxy) -1,2-difluorobenzene (Id, 12.8 g) was obtained. The compound (Id) is useful as an intermediate for producing a liquid crystal compound.
MS m / z: 406 (M + )
δ: 0.95 1.16 (m, 8 H), 1.25 (q, J = 12.4Hz, 2 H), 1.70 2.05 (m, 9 H), 2.10 2.20 (m, 1H), 2.54 (tq, J = 1.4 Hz, 6.8 Hz, 2 H), 3.76 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.03 (t, J = 6.8 Hz, 2 H), 5.11 (dd, J = 1.6 Hz, 10.4 Hz, 1 H), 5.18 (dd, J = 1.6 Hz, 18.8 Hz, 1 H), 5.89 (ddd, J = 6.8 Hz, 10.0 Hz, 20.0 Hz, 1 H), 6.57 6.65 (m, 2 H).
Example 4 Synthesis of 6- (3-butenyloxy) -3- (trans, trans-4′-vinylbicyclohexyl-4-yl) methoxy-1,2-difluorobenzene (Ie)
相転移温度 C 64.5 N 119.5 I
MS m/z : 404 (M+), 55 (100)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ: 0.95-1.15 (m, 10H), 1.65-2.00 (m, 10H), 2.50 2.60 (m, 2H), 3.76 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.03 (t, J = 6.8 Hz, 2 H), 4.80 5.30 (m, 4 H), 5.79 (ddd, J = 6.4 Hz, 10.4 Hz, 17.2 Hz, 1 H), 5.83 5.95 (m, 1 H), 6.55 6.70 (m, 2 H).
Phase transition temperature C 64.5 N 119.5 I
MS m / z: 404 (M + ), 55 (100)
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 )
δ: 0.95-1.15 (m, 10H), 1.65-2.00 (m, 10H), 2.50 2.60 (m, 2H), 3.76 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.03 (t, J = 6.8 Hz, 2 H), 4.80 5.30 (m, 4 H), 5.79 (ddd, J = 6.4 Hz, 10.4 Hz, 17.2 Hz, 1 H), 5.83 5.95 (m, 1 H), 6.55 6.70 (m, 2 H).
本発明の製造方法は、液晶化合物の製造方法として有用である。また、本発明の化合物は、液晶化合物の製造中間体として有用である。 The production method of the present invention is useful as a production method of a liquid crystal compound. Moreover, the compound of this invention is useful as a manufacturing intermediate of a liquid crystal compound.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010006742A (en) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Dic Corp | Method for producing fluorochromanol derivative |
JP2010018540A (en) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Dic Corp | Method for producing fluorophenol derivative |
JP2017210409A (en) * | 2016-05-23 | 2017-11-30 | Dic株式会社 | Polymerizable compound and optical anisotropic body |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006233182A (en) * | 2004-12-15 | 2006-09-07 | Dainippon Ink & Chem Inc | Nematic liquid crystal composition and liquid crystal display element using the same |
WO2006093102A1 (en) * | 2005-02-28 | 2006-09-08 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Difluorobenzene derivative and nematic liquid crystal composition using the same |
WO2006098366A1 (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-21 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Difluorobenzene derivative and nematic liquid crystal composition making use of the same |
JP2006282544A (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Dainippon Ink & Chem Inc | Difluorobenzene derivative |
JP2007119423A (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | Method for producing difluorobenzene derivative |
JP2007176818A (en) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Dainippon Ink & Chem Inc | Manufacturing method of difluorobenzene derivative |
JP2007291093A (en) * | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Dainippon Ink & Chem Inc | Method for producing difluorobenzene derivative |
-
2006
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006233182A (en) * | 2004-12-15 | 2006-09-07 | Dainippon Ink & Chem Inc | Nematic liquid crystal composition and liquid crystal display element using the same |
WO2006093102A1 (en) * | 2005-02-28 | 2006-09-08 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Difluorobenzene derivative and nematic liquid crystal composition using the same |
WO2006098366A1 (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-21 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Difluorobenzene derivative and nematic liquid crystal composition making use of the same |
JP2006282544A (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Dainippon Ink & Chem Inc | Difluorobenzene derivative |
JP2007119423A (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | Method for producing difluorobenzene derivative |
JP2007176818A (en) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Dainippon Ink & Chem Inc | Manufacturing method of difluorobenzene derivative |
JP2007291093A (en) * | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Dainippon Ink & Chem Inc | Method for producing difluorobenzene derivative |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010006742A (en) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Dic Corp | Method for producing fluorochromanol derivative |
JP2010018540A (en) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Dic Corp | Method for producing fluorophenol derivative |
JP2017210409A (en) * | 2016-05-23 | 2017-11-30 | Dic株式会社 | Polymerizable compound and optical anisotropic body |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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